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Gebiet der
Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine lithographische Druckplattenvorstufe
und auf ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich spezifischer auf eine positiv
arbeitende lithographische Druckplattenvorstufe zur Verwendung bei
der sogenannten direkten Plattenherstellung, die fähig ist,
eine Druckplatte direkt nach digitalen Signalen eines Computers
oder dgl. mit einem Infrarotlaser herzustellen, und auf ein Verfahren
zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte aus der Druckplattenvorstufe.
Im besonderen bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine lithographische Druckplattenvorstufe,
die sowohl bezüglich
der Kratzbeständigkeit
wie auch der Empfindlichkeit ausgezeichnet ist, und auf ein Verfahren
zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte aus der Druckplattenvorstufe.
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Hintergrund
der Erfindung
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Mit
der beachtlichen Weiterentwicklung von Lasern in den letzten Jahren
wird ein Hochleistungs- und kompakter Festkörperlaser oder Halbleiterlaser
mit einer Lichtemissionsregion vom nahen Infrarot bis Infrarot leicht
verfügbar.
Diese Laser sind als Lichtquelle zur Belichtung bei der Herstellung
einer Druckplatte direkt aus digitalen Daten eines Computers oder
dgl. sehr nützlich.
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Das
positiv arbeitende lithographische Druckplattenmaterial zur Verwendung
mit einem Infrarotlaser enthält
als wesentliche Komponenten ein in wäßriger Alkalilösung lösliches
Bindemittelharz und einen IR-Farbstoff oder dgl., der fähig ist
Licht unter Erzeugung von Wärme
zu absorbieren, bei dem sich der belichtete Bereich (Nicht-Bildbereich)
in einem Alkalientwickler unter Bildung einer lithographischen Druckplatte
auflöst.
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Allerdings
hat ein solches positiv arbeitendes lithographisches Druckplattenmaterial
zur Verwendung mit einem Infrarotlaser das Problem, daß keine
ausreichend große
Differenz zwischen der Auflösungsbeständigkeit
des nicht-belichteten
Bereichs (Bildbereich) gegenüber
einem Entwickler und der Löslichkeit
des belichteten Bereichs (Nicht-Bildbereich)
unter verschiedenen Verwendungsbedingungen erreicht wird; daher
ist die Empfindlichkeit gering und eine Überentwicklung oder ein Entwicklungsversagen
treten infolge der Änderung
der Verwendungsbedingungen leicht auf. Darüber hinaus schwankt der Oberflächenzustand
leicht, zum Beispiel werden feine Kratzer selbst bei der Berührung der
Oberfläche
bei der Handhabung erzeugt; und solche feinen Kratzer oder eine
leichte Veränderung
an der Oberfläche
bewirkt eine Erhöhung
der Löslichkeit,
als Resultat löst
sich der nicht-belichtete
Bereich (Bildbereich) bei der Entwicklung unter Zurücklassung
von Kratzspuren und dies führt
zu einer Verschlechterung beim Eindruckvermögen oder zu einem Versagen
bei der Farbgebung.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Eine
Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Überwindung
der Probleme herkömmlicher Techniken
und in der Bereitstellung einer positiv arbeitenden lithographischen
Druckplattenvorstufe, die sowohl bezüglich der Kratzfestigkeit als
auch der Empfindlichkeit ausgezeichnet ist, die mit einem Infrarotlaser insbesondere
bei der sogenannten direkten Plattenherstellung verwendet wird,
die fähig
ist, direkt eine Druckplatte auf der Basis von digitalen Signalen
eines Computers oder dgl. zu produzieren.
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Eine
andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung
eines Verfahrens zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte.
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Als
Resultat ausgiebiger Untersuchungen haben die Erfinder der vorliegenden
Erfindung festgestellt, daß,
wenn die Aufzeichnungsschicht durch eine Mehrschichtenstruktur konstruiert
ist, die obere Schicht der Mehrschichtenstruktur einen Infrarotabsorber,
ein alkalilösliches
Harz und einen Inhibitor enthält,
der das alkalilösliche
Harz daran hindert, sich in dem alkalischen wäßrigen Entwickler zu lösen, und
dessen Entwicklung mit einem Alkalientwickler, der kein Silicat
enthält
und hauptsächlich
eine Base und eine organische Verbindung mit Pufferaktivität umfaßt, sowohl
Kratzbeständigkeit
als auch hohe Empfindlichkeit erzielt werden können. Auf der Basis dieser
Feststellung wurde die vorliegende Erfindung vollendet.
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Die
vorliegende Erfindung umfaßt
spezifischer die folgenden Punkte.
- (1) Lithographische
Druckplattenvorstufe, die einen hydrophilen Träger, eine alkalilösliche Schicht
und eine auf der alkalilöslichen
Schicht vorgesehene Aufzeichnungsschicht umfaßt, die einen Infrarotabsorber,
ein alkalilösliches
Harz und einen Inhibitor enthält,
der das alkalilösliche
Harz daran hindert, sich in einem alkalischen wäßrigen Entwickler zu lösen und
dessen Löslichkeit
in einer alkalischen wäßrigen Lösung beim Bestrahlen
mit Infrarotlicht erhöht.
- (2) Die lithographische Druckplattenvorstufe, wie sie in (1)
oben beschrieben wurde, wobei der Inhibitor eine quaternäre Ammoniumsalz-Verbindung
ist.
- (3) Ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte,
welches umfaßt:
das Belichten einer lithographischen Druckplattenvorstufe, die einen
hydrophilen Träger,
eine alkalilösliche
Schicht und eine auf der alkalilöslichen
Schicht vorgesehene Aufzeichnungsschicht umfaßt, die einen Infrarotabsorber,
ein alkalilösliches
Harz und einen Inhibitor enthält,
der das alkalilösliche
Harz daran hindert, sich in einem alkalischen wäßrigen Entwickler zu lösen, und
dessen Löslichkeit
in einer alkalischen wäßrigen Lösung beim Bestrahlen
mit Infrarotlicht aus einem Infrarotlaser erhöht; und das Entwickeln der
belichteten lithographischen Druckplattenvorstufe mit einem alkalischen
Entwickler, der kein Silicat enthält und eine organische Verbindung
mit Pufferaktivität
und eine Base umfaßt.
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Detaillierte
Beschreibung der Erfindung
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Nach
ausgiebigen Studien haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung
gefunden, daß,
wenn ein alkalilösliches
Harz und ein Inhibitor, der das alkalilösliche Harz daran hindert,
sich in einem alkalischen wäßrigen Entwickler
zu lösen,
der Aufzeichnungsschicht zugesetzt werden, die Kratzbeständigkeit
bzw. Kratzfestigkeit verbessert ist. Allerdings gab es das Problem,
daß, wenn
der Inhibitor nur der Aufzeichnungsschicht zugesetzt wird, die Empfindlichkeit
abnimmt, obgleich die Kratzfestigkeit verbessert ist.
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Es
wurde davon ausgegangen, daß dies
auftritt, weil im Fall einer Aufzeichnungsschicht vom Einschichtentyp
die Wärmeenergie,
die durch den Infrarotabsorber umgewandelt wird, in den Träger, zum
Beispiel Aluminium, das eine hohe Wärmeleitfähigkeit hat, entweicht. Dementsprechend
wird in der vorliegenden Erfindung die alkalilösliches Harz enthaltene Schicht
auf einem Träger
angeordnet, um so eine Mehrschichtenstruktur zu haben, und ein Infrarotabsorber,
ein alkalilösliches
Harz und der oben beschriebene Inhibitor werden in die obere Schicht
eingebaut, wodurch die bei Belichtung erzeugte Wärme effektiv für die Wechselwirkungsauflösung zwischen
dem Inhibitor und der oberen Schicht eingesetzt werden kann, wobei
als Resultat die Empfindlichkeitsverringerung verhindert werden
kann, während
die Kratzbeständigkeit
verbessert wird.
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Wenn
eine lithographische Druckplattenvorstufe nach Belichtung mit einem
Entwickler entwickelt wird, vermindert sich die Kratzbeständigkeit
manchmal, was aus der Entwicklerermüdung infolge der alkalilöslichen Harzkomponenten,
die aus der Aufzeichnungsschicht gelöst wurden oder dgl. resultiert.
Daher wird bei der Plattenherstellung einer lithographischen Druckplatte
aus der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
ein Alkalientwickler verwendet, der kein Silicat enthält und hauptsächlich eine
Base und eine organische Verbindung mit Pufferaktivität umfaßt, nämlich ein
Nicht-Silicat-Entwickler
verwendet. Der Nicht-Silicat-Entwickler enthält ursprünglich ein organisches Material
und es wird davon ausgegangen, daß er kein Problem bezüglich der
Entwicklermüdigkeit
durch die Bindemittelkomponenten verursacht.
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Die
vorliegende Erfindung wird nachfolgend detailliert beschrieben.
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Die
lithographische Druckplattenvorstufe der Erfindung hat eine positiv
arbeitende Aufzeichnungsschicht mit einer Zweischichtenstruktur.
Eine wärmeempfindliche
Schicht, die im oberen Teil positioniert ist, enthält einen
Infrarot-absorbierenden
Farbstoff, ein alkalilösliches
Harz und einen Inhibitor, der das Harz daran hindert, sich in einem
alkalischen wäßrigen Entwickler
zu lösen.
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Die
positiv arbeitende Aufzeichnungsschicht der lithographischen Druckplattenvorstufe
der vorliegenden Erfindung wird unten beschrieben.
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In
der vorliegenden Erfindung ist die positiv arbeitende Aufzeichnungsschicht
dadurch gekennzeichnet, daß sie
eine Mehrschichtenstruktur hat, in der eine Aufzeichnungsschicht
(auch obere Schicht genannt) in der der Oberfläche näher liegenden Position (Belichtungsoberfläche) bereitgestellt
wird und eine untere Schicht, die ein alkalilösliches Harz enthält, an der
Seite, die dem Träger
näher liegt,
bereitgestellt wird.
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Diese
Schichten enthalten jeweils ein wasserunlösliches und alkalilösliches
Harz und gleichzeitig muß die
Aufzeichnungsschicht, die im oberen Teil positioniert ist, einen
Infrarot-absorbierenden Farbstoff und einen Inhibitor, der das alkalilösliche Harz
daran hindert, in einem alkalischen wäßrigen Entwickler gelöst zu werden, enthalten.
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Nachfolgend
werden die entsprechenden am Aufbau der lithographischen Druckplattenvorstufe
der vorliegenden Erfindung beteiligten Komponenten beschrieben.
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<Inhibitor>
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Die
Aufzeichnungsschicht (auch obere Schicht genannt), die im oberen
Teil der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden
Erfindung positioniert ist, enthält
einen Inhibitor zur Inhibierung der Löslichkeit von alkalilöslichem
Harz, um so die Kratzbeständigkeit
zu erhöhen.
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Der
Inhibitor ist nicht besonders limitiert und Beispiele des Inhibitors,
die üblicherweise
verwendet werden, umfassen ein Ammoniumsalz, eine Sulfonsäure-Verbindung,
eine Sulfonsäureester,
eine Keton-Verbindung und eine Polyethylenglykol-Verbindung.
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Beispiele
für das
Ammoniumsalz umfassen ein Tetraalkylammoniumsalz, ein Trialkylarylammoniumsalz,
ein Dialkyldiarylammoniumsalz, ein Alkyltriarylammoniumsalz, ein
Tetraarylammoniumsalz, ein cyclisches Ammoniumsalz und ein bicyclisches
Ammoniumsalz.
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Spezifische
Beispiele dafür
umfassen Tetrabutylammoniumbromid, Tetrapentylammoniumbromid, Tetrahexylammoniumbromid,
Tetraoctylammoniumbromid, Tetralaurylammoniumbromid, Tetraphenylammoniumbromid,
Tetranphthylammoniumbromid, Tetrabutylammoniumchlorid, Tetrabutylammoniumiodid,
Tetrastearylammoniumbromid, Lauryltrimethylammoniumbromid, Stearyltrimethylammoniumbromid,
Behenyltrimethylammoniumbromid, Lauryltriethylammoniumbromid, Phenyltrimethylammoniumbromid,
3-Trifluormethylphenyltrimethylammoniumbromid, Benzyltrimethylammoniumbromid,
Dibenzyldimethylammoniumbromid, Distearyldimethylammoniumbromid,
Trioctylmethylammoniumbromid, Tristearylmethylammoniumbromid, Benzyltriethylammoniumbromid,
Hydroxyphenyltrimethylammoniumbromid und N-Methylpyridiniumbromid.
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Beispiele
für den
Sulfonsäureester
umfassen Methyl-para-toluolsulfonat,
Phenyl-para-toluolsulfonat und Methylnaphthalinsulfonat. Beispiele
für die
Keton-Verbindung umfassen Benzophenon, 3,4,5-Trihydroxybenzophenon
und 2,2'-Dihydroxy-4,4'-dihexoxybenzophenon.
Beispiele für
die Polyethylenglykol-Verbindung umfassen Polyethylenglykol 1000,
Polyethylenglykol 4000, Polyethylenglykol 10 000 und Polyethylenglykol 1000-distearoylester.
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Unter
diesen Verbindungen sind Ammoniumsalz-Verbindungen, insbesondere
quaternäre
Ammoniumsalz-Verbindungen bevorzugt, da sie ausgezeichnete Eigenschaften
bei der Wechselwirkung mit dem alkalilöslichen Harz und bei der Wechselwirkungsauflösung nach
Belichtung aufweisen.
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Die
zugesetzte Menge des Inhibitors ist 0,1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise
0,5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt der
oberen Schicht. Wenn die zugesetzte Menge weniger als 0,1 Gew.-% ist,
ist die Wechselwirkung unzureichend, wohingegen, wenn sie 30 Gew.-% übersteigt,
der Inhibitor, der nicht mit dem alkalilöslichen Harz wechselwirkt,
die Permeation des Entwicklers beschleunigt, wodurch ein Problem bei
dem Filmbildungseigenschaften verursacht wird.
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<Alkalilösliches Harz, das mit dem Inhibitor
wechselwirkt>
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Die
obere Schicht der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden
Erfindung enthält
ein alkalilösliches
Harz, das mit dem Inhibitor wechselwirkt. Beispiele für das alkalilösliche Harz
umfassen ein Novolak-Harz (insbesondere Xylenol-Novolak) und ein
Polymer mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe.
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Spezifische
Beispiele für
das Novolakharz (insbesondere Xylenol-Novolak) und das Polymer,
das eine phenolische Hydroxyl-Gruppe hat, umfassen 2,3-Xylenol/m-Cresol/p-Cresol/Phenol-Novolak,
2,5-Xylenol/m-Cresol/p-Cresol/Phenol-Novolak, 3,5-Xylenol/m-Cresol/p-Cresol/Phenol-Novolak,
2,5-Xylenol/Phenol-Novolak, 3,5-Xylenol/m-Cresol/p-Cresol-Novolak, 2,3-Xylenol/m-Cresol/Phenol-Novolak,
m,p-Cresol- Novolak,
o,p-Cresol-Novolak, o-Cresol-Novolak, m-Cresol-Novolak, p-Cresol-Novolak, Phenol-Novolak,
Poly(p-hydroxystyrol)
und Polyhydroxyphenylmethacrylamid.
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<Infrarot-absorbierender Farbstoff>
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Der
Infrarot-absorbierende Farbstoff, der in der oberen Schicht der
lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
enthalten ist, ist nicht besonders limitiert, solange es ein Farbstoff
ist, der infrarotes Licht unter Erzeugung von Wärme absorbiert, und es können verschiedene
Farbstoffe, die als Infrarot-absorbierende Farbstoffe bekannt sind,
verwendet werden.
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Beispiele
für den
Infrarot-absorbierenden Farbstoff, die in der vorliegenden Erfindung
verwendet werden können,
umfassen im Handel erhältliche
Farbstoffe und bekannte Farbstoffe, die in Publikationen beschrieben
sind (z.B. Senryo Binran (Handbook of Dyes), verfaßt von Yuki
Gosei Kagaku Kyokai (1970)). Spezifische Beispiele dafür umfassen
Farbstoffe, zum Beispiel Azo-Farbstoff, Metallkomplexsalz-Azofarbstoff,
Pyrazolonazo-Farbstoff, Anthrachinon-Farbstoff, Phthalocyanin-Farbstoff,
Carbonium-Farbstoff, Chinonimin-Farbstoff,
Methin-Farbstoff und Cyanin-Farbstoff. Unter diesen Farbstoffen
sind in der vorliegenden Erfindung insbesondere die bevorzugt, die
infrarotes Licht oder Licht des nahen Infrarots absorbieren, da
sie zur Verwendung mit einem Laser, der infrarotes Licht oder Licht
des nahen Infrarots emittiert, geeignet sind.
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Beispiele
für den
Farbstoff, der infrarotes Licht und Licht des nahem Infrarots absorbiert,
umfassen Cyanin-Farbstoffe, die in JP-A-58-125246 (der Ausdruck "JP-A", wie er hierin verwendet
wird, meint eine "ungeprüfte veröffentlichte
japanische Patentanmeldung"),
JP-A-59-84356, JP-A-59-202829 und JP-A-60-78787 beschrieben sind;
Methin-Farbstoffe, die in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690 und JP-A-58-194595
beschrieben sind; Naphthochinon-Farbstoffe, die in JP-A-58-112793,
JP-A-58-224793,
JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744 beschrieben
sind; Squarylium-Farbstoffe, die in JP-A-58-112792 beschrieben sind,
und Cyanin-Farbstoffe, die im britischen Patent 434,875 beschrieben
sind.
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Andere
Beispiele für
den Farbstoff, die vorzugsweise verwendet werden können, umfassen
nahes Infrarot-absorbierende
Sensibilisatoren, die im US-Patent 5,156,938 beschrieben werden,
substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die im US-Patent 3,881,924
beschrieben werden; Trimethinthiapyryliumsalze, die in JP-A-57-142645 (US-Patent
4,327,169) beschrieben werden; Pyrylium-Verbindungen, die in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143,
JP-A-59-41363, JP-A-59-84248,
JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061 beschrieben werden; Cyanin-Farbstoffe,
die in JP-A-59-216146
beschrieben werden; Pentamethinthiopyryliumsalze, die im US-Patent
Nr. 4,283,475 beschrieben werden; Pyrylium-Verbindungen, die JP-B-5-13514 (der Ausdruck "JP-B", wie er hierin verwendet
wird, meine eine "geprüfte japanische
Patentpublikation")
und JP-B-5-19702 beschrieben werden, und im Handel verfügbare Produkte,
zum Beispiel Epolight III-178, Epolight III-130 und Epolight III-125
(produziert von Epolin Inc.).
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Andere
bevorzugte Beispiele für
den Farbstoff umfassen nahes Infrarot-absorbierende Farbstoffe,
die durch die Formeln (I) und (II) des US-Patents 4,756,993 dargestellt
werden.
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Der
Infrarot-absorbierende Farbstoff kann nicht nur der oberen Schicht,
sondern auch der unteren Schicht zugesetzt werden. Wenn der Infrarot-absorbierende
Farbstoff der unteren Schicht zugesetzt wird, kann die untere Schicht
auch wie die obere Schicht fungieren. Im Fall des Zusetzens des
Infrarot-absorbierenden Farbstoffs
zu der unteren Schicht kann der Farbstoff wie der, der der oberen
Schicht zugesetzt wurde, oder kann ein anderer Farbstoff sein.
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Der
Infrarot-absorbierende Farbstoff kann auch einer Schicht, die andere
Komponenten enthält,
oder einer anderen Schicht, die zum Zusatz des Infrarot-absorbierenden
Farbstoffs angeordnet ist, zugesetzt werden. Im Fall der Bereitstellung
einer unterschiedlichen Schicht, ist die Schicht vorzugsweise eine
Schicht, die der oberen Schicht benachbart ist. Der Farbstoff und
das alkalilösliche
Harz, die später
beschrieben werden, sind vorzugsweise in derselben Schicht enthalten,
können
aber auch in verschiedenen Schichten enthalten sein.
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Die
Menge des Infrarot-absorbierenden Farbstoffs, die der oberen Schicht
zugesetzt wird, ist 0,01 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 10
Gew.-%, bevorzugter 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt
der oberen Schicht. Wenn die Menge des zugesetzten Farbstoffs weniger
als 0,01 Gew.-% ist, nimmt die Empfindlichkeit ab, wohingegen, wenn
sie 50 Gew.-% übersteigt,
die Gleichmäßigkeit
der oberen Schicht verlorengeht und die Haltbarkeit der oberen Schicht
verschlechtert wird.
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Außerdem kann
die obere Schicht der lithographischen Druckplattenvorstufe der
vorliegenden Erfindung eine alkalilösliche Polymer-Verbindung,
die dieselbe ist wie eine, die in der unteren Schicht enthalten
ist, in einem solchen Ausmaß enthalten,
daß die
Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht gehemmt wird. Die alkalilösliche Polymer-Verbindung
wird später
beschrieben.
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Die
alkalilösliche
Schicht (untere Schicht) der lithographischen Druckplattenvorstufe
der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend beschrieben.
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<Alkalilösliche Polymer-Verbindung>
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Die
untere Schicht der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden
Erfindung enthält
eine wasserunlösliche
und alkalilösliche
Polymer-Verbindung (nachfolgend manchmal als alkalilösliches
Polymer oder alkalilösliches
Harz bezeichnet). Das alkalilösliche
Polymer enthält
ein Homopolymer oder Copolymer, das eine saure Gruppe in Hauptkomponente
und/oder Seitenkette davon enthält,
das Polymer und ein Gemisch davon. Dementsprechend hat die untere
Schicht zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung das Merkmal,
daß sie
sich bei Kontakt mit einem alkalischen Entwickler auflöst.
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Das
alkalilösliche
Polymer zur Verwendung in der unteren Schicht der vorliegenden Erfindung
ist nicht besonders beschränkt
und es kann ein herkömmliches
bekanntes alkalilösliches
Polymer verwendet werden. Eine Polymer-Verbindung, die eine beliebige funktionelle
Gruppe von (1) einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe, (2) einer Sulfonamid-Gruppe und (3) einer
aktiven Amido-Gruppe in ihrem Molekül hat, ist bevorzugt. Beispiele dafür werden
unten beschrieben, allerdings wird die vorliegende Erfindung nicht
darauf beschränkt.
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Beispiele
für die
Polymer-Verbindung, die (a) eine phenolische Hydroxyl-Gruppe hat,
umfassen Novolakharze, zum Beispiel Phenolformaldehydharz, m-Cresolformaldehydharz,
p-Cresolformaldehydharz, m-/p-gemischtes Cresolformaldehydharz und
Phenol/Cresol (das Cresol kann ein beliebiges sein, m-Cresol, p-Cresol
und m-/p-gemischtes Cresol)-gemischtes Formaldehydharz und Pyrogallolacetonharze.
Eine Polymer-Verbindung, die eine phenolische Hydroxyl-Gruppe in
der Seitenkette hat, wird ebenfalls als Polymer-Verbindung, die eine phenolische Hydroxyl-Gruppe
hat, bevorzugt verwendet. Beispiele der Polymer-Verbindung, die eine
phenolische Hydroxyl-Gruppe in der Seitenkette hat, umfassen Polymer-Verbindungen,
die durch Homopolymerisieren eines polymerisierbaren Monomers aus
einer niedermolekularen Verbindung, die eine oder mehrere phenolische
Hydroxyl-Gruppen,
und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Bindungen hat, oder
durch Copolymerisieren eines solchen Monomers mit einem anderen
polymerisierbaren Monomer erhalten werden.
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Beispiele
für das
polymerisierbare Monomer, das eine phenolische Gruppe hat, umfassen
ein Acrylamid, ein Methacrylamid, einen Acrylsäureester und einen Methacrylsäureester,
die jeweils eine phenolische Hydroxyl-Gruppe haben, und ein Hydroxystyrol.
Spezifische Beispiele umfassen N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid,
N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat,
p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat,
p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol,
2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,
2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat
und 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat. Diese Harze, die eine phenolische
Hydroxyl-Gruppe haben, können
in Kombination aus zwei oder mehr verwendet werden. Außerdem können ein
Kondensationspolymerisationsprodukt eines Phenols, das eine Alkyl-Gruppe
mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituent enthält, mit
Formaldehyd, zum Beispiel tert-Butylphenolformaldehydharz
oder Octylphenolformaldehydharz, die im US-Patent 4,123,279 beschrieben
sind, zusammen verwendet werden.
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Beispiele
für die
alkalilösliche
Polymer-Verbindung, die (2) eine Sulfonamido-Gruppe hat, umfassen Polymerverbindungen,
die durch Homopolymerisieren eines polymerisierbaren Monomers, das
eine Sulfonamid-Gruppe hat, oder durch Copolymerisieren eines solchen
Monomers mit einem anderen polymerisierbaren Monomer erhalten werden.
Beispiele für
das polymerisierbare Monomer, das eine Sulfonamido-Gruppe hat, umfassen
ein polymerisierbares Monomer aus einer niedermolekularen Verbindung,
die eine oder mehrere Sulfonamido-Gruppen hat, die an das Stickstoffatom
wenigstens eine Wasserstoffatom gebunden hat, die durch -NH-SO2- dargestellt
wird, und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Bindungen
hat. Unter diesen Verbindungen sind niedermolekulare Verbindungen,
die eine Acryloyl-Gruppe, eine Allyl-Gruppe oder eine Vinyloxy-Gruppe
und eine unsubstituierte oder monosubstituierte Aminosulfonyl-Gruppe
oder eine substituierte Sulfonylimino-Gruppe haben, bevorzugt.
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Die
alkalilösliche
Polymer-Verbindung, die (3) eine aktive Imido-Gruppe hat, hat vorzugsweise
die aktive Imido-Gruppe in ihrem Molekül. Beispiele für eine solche
Polymer-Verbindung umfassen Polymer-Verbindungen, die durch Homopolymerisieren
eines polymerisierbaren Monomers aus einer niedermolekularen Verbindung,
die eine oder mehrere aktive Amido-Gruppen und eine oder mehrere
polymerisierbare ungesättigte Bindungen
in ihrem Molekül
hat, oder durch Copolymerisieren des oben beschriebenen Monomers
mit einem anderen polymerisierbaren Monomer erhalten werden.
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Spezifische
Beispiele für
eine solche Verbindung, die geeigneterweise verwendet werden können, umfassen
N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid.
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Die
alkalilösliche
Polymer-Verbindung zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung
ist vorzugsweise eine Polymer-Verbindung,
die durch Polymerisieren von zwei oder mehr aus dem polymerisierbaren
Monomer, das eine phenolische Hydroxyl-Gruppe hat, dem polymerisierbaren Monomer,
das eine Sulfonamido-Gruppe hat, und dem polymerisierbaren Monomer,
das eine aktive Imino-Gruppe hat, erhalten wurde, oder eine Polymer-Verbindung,
die durch Copolymerisieren von zwei oder mehr dieser polymerisierbaren
Monomeren mit einem anderem polymerisierbaren Monomer erhalten wurde.
Im Fall eines Copolymerisierens des polymerisierbaren Monomers,
das eine phenolische Hydroxyl-Gruppe hat, mit dem polymerisierbaren
Monomer, das eine Sulfonamido-Gruppe hat, und/oder dem polymerisierbaren
Monomer, das eine aktive Imido-Gruppe hat, ist das Gewichtsverhältnis des
erstgenannten Monomers zu dem letztgenannten Monomer (den zuletzt
genannten Monomeren) vorzugsweise 50:50 bis 5:95, bevorzugt 40:60
bis 10:90.
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Wenn
in der vorliegenden Erfindung das alkalilösliche Polymer ein Copolymer
aus dem polymerisierbaren Monomer, das eine phenolische Hydroxyl-Gruppe
hat, dem polymerisierbaren Monomer, das eine Sulfonamido-Gruppe
hat, oder dem polymerisierbaren Monomer, das eine aktive Imido-Gruppe
hat, mit einem anderen polymerisierbaren Monomer ist, ist das Monomer,
das Alkalilöslichkeit
verleiht, vorzugsweise in einer Menge von 10 mol% oder mehr, bevorzugt
20 mol% oder mehr enthalten. Wenn die Monomer-Komponente, die Alkalilöslichkeit
verleiht, weniger als 10 mol% ist, resultiert wahrscheinlich eine
unzureichende Alkalilöslichkeit
und der Effekt der Verbesserung der Entwicklung Latitude kann nicht
zufriedenstellend erreicht werden.
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Beispiele
für die
Monomer-Komponente, die mit dem polymerisierbaren Monomer, das eine
phenolische Hydroxyl-Gruppe
hat, dem polymerisierbaren Monomer, das eine Sulfonamido-Gruppe
hat, oder dem polymerisierbaren Monomer, das eine aktive Imido-Gruppe
hat, copolymerisiert wird, umfassen die Verbindungen, die in den
folgenden (m1) bis (m12) angegeben sind, allerdings ist die vorliegende
Erfindung nicht darauf beschränkt.
- (m1) Acrylsäureester
und Methacrylsäureester,
die eine aliphatische Hydroxyl-Gruppe haben, zum Beispiel 2-Hydroxyethylacrylat
und 2-Hydroxyethylmethacrylat.
- (m2) Alkylacrylate, zum Beispiel Methylacrylat, Ethylacrylat,
Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat,
Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat und Glycidylacrylat.
- (m3) Alkylmethacrylate, zum Beispiel Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat
und Glycidylmethacrylat.
- (m4) Acrylamide und Methacrylamide, zum Beispiel Acrylamid,
Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid,
N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid,
N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
- (m5) Vinylether, zum Beispiel Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether,
Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether
und Phenylvinylether.
- (m6) Vinylester, zum Beispiel Vinylacetat, Vinylchloracetat,
Vinylbutyrat und Vinylbenzoat.
- (m7) Styrole, zum Beispiel Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrol
und Chlormethylstyrol.
- (m8) Vinylketone, zum Beispiel Methylvinylketon, Ethylvinylketon,
Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
- (m9) Olefine, zum Beispiel Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien
und Isopren.
- (m10) N-Vinylpyrrolidon, Acrylnitril und Methacrylonitril.
- (m11) Ungesättigte
Imide, zum Beispiel Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid,
N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
- (m12) Ungesättigte
Carbonsäuren,
zum Beispiel, Acrylsäure,
Methacrylsäure,
Maleinsäureanhydrid
und Itaconsäure.
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Die
alkalilösliche
Polymer-Verbindung hat vorzugsweise eine phenolische Hydroxyl-Gruppe
und bevorzugte Beispiele dafür
umfassen Novolakharze, zum Beispiel Phenolformaldehydharz, m-Cresolformaldehydharz,
p-Cresolformaldehydharz, m-/p-gemischtes Cresolformaldehydharz und
Phenol/Cresol (das Cresol kann m-Cresol, p-Cresol oder m-/p-gemischtes
Cresol sein)-gemischtes Formaldehydharz und Pyrogallolacetonharze.
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Andere
Beispiele für
die alkalilösliche
Polymer-Verbindung, die eine phenolische Hydroxyl-Gruppe hat, umfassen
Kondensationspolymerisationsprodukte von Aldehyd mit einem Phenol,
das eine Alkyl-Gruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituent
hat, zum Beispiel tert-Butylphenolformaldehydharz
und Octylphenolformaldehydharz, die im US-Patent 4,123,279 beschrieben
sind.
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Als
Copolymerisationsverfahren zur Bildung der alkalilöslichen
Polymer-Verbindung können
herkömmlicherweise bekannte
Pfropfcopolymerisation, Blockcopolymerisation, Radom-Copolymerisation
oder dgl. eingesetzt werden.
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Wenn
in der vorliegenden Erfindung das alkalilösliche Polymer ein Homopolymer
oder Copolymer des polymerisierbaren Monomers, das eine phenolische
Hydroxyl-Gruppe hat, des polymerisierbaren Monomers, das eine Sulfonamido-Gruppe
hat, oder des polymerisierbaren Monomers, das ein aktive Imido-Gruppe hat, ist,
hat das Polymer vorzugsweise ein gewichtsmittleres Molekulargewicht
von 2000 oder mehr und zahlenmittleres Molekulargewicht von 500
oder mehr, bevorzugter ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von
5000 bis 300 000, ein zahlenmittleres Molekulargewicht von 800 bis
250 000 und einen Dispersionsgrad (gewichtsmittleres Molekulargewicht/zahlenmittleres
Molekulargewicht) von 1,1 bis 10.
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Wenn
in der vorliegenden Erfindung das alkalilösliche Polymer ein Harz, zum
Beispiel Phenolformaldehydharz oder Cresolaldehydharz ist, hat das
Polymer vorzugsweise ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von
500 bis 20 000 und ein zahlenmittleres Molekulargewicht von 200
bis 10 000.
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Im
Hinblick auf die Bilderzeugung bei der Entwicklung ist das alkalilösliche Polymer
zur Verwendung in der unteren Schicht vorzugsweise ein Acrylharz,
da die untere Schicht eine gute Löslichkeit in einem alkalischen
Entwickler, der hauptsächlich
eine organische Verbindung mit Pufferaktivität und eine Base umfaßt, aufrecht
halten kann. Das Acrylharz ist vorzugsweise ein Acrylharz, das eine
Sulfonamido-Gruppe hat.
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Die
alkalilöslichen
Polymer-Verbindungen können
einzeln oder als Kombination von zwei oder mehreren davon eingesetzt
werden. Die Menge der alkalilöslichen
Polymer-Verbindung, die zugesetzt wird, ist 30 bis 99 Gew.-%, vorzugsweise
40 bis 95 Gew.-%, bevorzugter 50 bis 90 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt
der unteren Schicht. Wenn die Menge des zugesetzten alkalilöslichen
Polymers weniger als 30 Gew.-% ist, wird die Haltbarkeit der unteren
Schicht verschlechtert, wohingegen, wenn sie 99 Gew.-% übersteigt,
ein Problem sowohl bezüglich
der Empfindlichkeit als auch der Haltbarkeit auftritt.
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<Andere Komponenten>
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Bei
der Bildung der oberen oder unteren Schicht können zusätzlich zu den oben beschriebenen
essentiellen Komponenten, wenn dies gewünscht wird, außerdem verschiedene
Additive zugesetzt werden, sofern der Effekt der vorliegenden Erfindung
nicht verschlechtert wird. Das Additiv kann nur in die untere Schicht, nur
in die obere Schicht oder in beide Schichten eingearbeitet werden.
Beispiele der Additive werden unten beschrieben.
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Zur
Verbesserung des Effektes der Inhibierung der Auflösung des
Bildbereichs in einen Entwickler wird vorzugsweise gleichzeitig
eine Substanz, die in der Wärme
zersetzbar ist, und im nicht-zersetzten Zustand im wesentlichen
die Löslichkeit
der alkalilöslichen
Polymer-Verbindung verringert, zum Beispiel Oniumsalz, o-Chinindiazid-Verbindung, aromatische
Sulfon-Verbindung und aromatische Sulfonester-Verbindung, verwendet.
Beispiele für
das Oniumsalz umfassen Diazoniumsalz, Ammoniumsalz, Phosphoniumsalz,
Iodoniumsalz, Sulfoniumsalz, Selenoniumsalz und Arsoniumsalz.
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Geeignete
Beispiele für
das Oniumsalz, zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung umfassen
Diazoniumsalze, die bei S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18,
387 (1974), T. S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980) und JP-A-5-158230
beschrieben werden; Ammoniumsalze, die in den US-Patenten 4,069,055
und 4,069,056 und in JP-A-3-140140 beschrieben werden; Phosphoniumsalze,
die in D. C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.
S. Wen et al., Teh. Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokyo,
Okt. (1988) und in den US-Patenten
4,069,055 und 4,069,056 beschrieben werden; Iodoniumsalze, die in
J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov.
28, S. 31 (1988), Europ. Patent 104,143, in den US-Patenten 339,049
und 410,201, JP-A-2-150848 und JP-A-2-296514 beschrieben werden;
Sulfoniumsalze, die in J. V. Crivello et al., Polymer J., 17, 13
(1985), J. V. Crivello et al., J. Org. Chem , 43, 3055 (1978), W.
R. Watt et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
J. V. Crivello et al., Polymer Bull., 14, 279 (1985), J. V. Crivello
et al., Macromolecules 14(5), 1141 (1981), J. V. Crivello et al.,
J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), europäischen Patenten
370,693, 233,567, 297,443 imd 297,442, US-Patenten 4,933,377, 3,902,114,
410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444 und 2,833,827 und den deutschen
Patenten 2,904,626, 3,604,580 und 3,604,581 beschrieben werden;
Seleniumsalze, die in J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6),
1307 (1977) und J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 17, 1047 (1979) beschrieben werden und Arsoniumsalze,
die in C. S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478,
Tokyo, Okt. (1988) beschrieben werden.
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Unter
den Oniumsalzen ist Diazoniumsalz bevorzugt. Besonders bevorzugte
Beispiele des Diazoniumsalzes umfassen die, die in JP-A-5-158230
beschrieben werden.
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Beispiele
für das
Gegenion des Oniumsalzes umfassen Tetrafluorborsäure, Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 5-Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure, und
para-Toluolsulfonsäure.
Unter diesen Verbindungen sind Alkyl-aromatische Sulfonsäuren bevorzugt,
zum Beispiel Hexafluorphosphorsäure,
Triisopropylnaphthalinsulfonsäure
und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure.
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Das
Oniumsalz kann entweder oberen Schicht oder der unteren Schicht
zugesetzt werden, im Hinblick auf die Bilderzeugungseigenschaften
wird es vorzugsweise der unteren Schicht zugesetzt.
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Bevorzugte
Beispiele für
die Chinondiazide umfassen o-Chinondiazid-Verbindungen. Die o-Chinondiazid-Verbindung
zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung ist eine Verbindung,
die wenigstens eine o-Chinondiazido-Gruppe hat, die die Alkalilöslichkeit
bei thermischer Zersetzung erhöht;
und es können
Verbindungen mit verschiedenen Strukturen eingesetzt werden. Mit
anderen Worten, o-Chinondiazid unterstützt die Auflösung des
lichtempfindlichen Systems durch seine zwei Effekte, nämlich das
o-Chinondiazid verliert die Fähigkeit,
die Auflösung
des Bindemittels bei thermischer Zusammensetzung zu inhibieren,
und das o-Chinondiazid selbst geht in einer alkalilösliche Substanz über. Beispiele
für die
o-Chinondiazid-Verbindung, die in der vorliegenden Erfindung eigesetzt
werden können,
umfassen die Verbindungen, die in J. Kosar, Light-Sensitive-Systems,
S. 339–352,
John Wiley & Sons,
Inc. beschrieben werden. Bevorzugt sind insbesondere Sulfonsäureester
oder Sulfonsäureamide
von o-Chinondiazid, die durch Umsetzung verschiedener aromatischer Polyhydroxy-Verbindungen oder
aromatischer Amin-Verbindungen erhalten werden. Vorzugsweise werden auch
ein Ester von Benzochinon-(1,2)-diazidosulfonsäurechlorid
oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonsäurechlorid
mit einem Pyrogallol-Aceton-Harz, das in JP-B-43-28403 beschrieben
ist, und ein Ester von Benzochinon-(1,2)-diazidosulfonsäurechlorid
oder Naphthochinon-(1,2)-diazido-5-sulfonsäurechlorid mit einem Phenol-Formaldehyd-Harz,
das in den US-Patenten 3,046,1250 und 3,188,210 beschrieben ist,
verwendet.
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Darüber hinaus
werden bevorzugt auch ein Ester von Naphthochinon-(1,2)-diazido-4-sulfonsäurechlorid
mit einem Phenol-Formaldehyd-Harz oder Cresol-Formaldehyd-Harz und
ein Ester von Naphthochinon-(1,2)-diazido-4-sulfonsäurechlorid
mit einem Pyrogallol-Aceton-Harz verwendet. Andere einsetzbare o-Chinondiazid-Verbindungen
werden in einer ganzen Reihe von Patenten beschrieben, zum Beispiel
in JP-A-47-5303,
JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222,
JP-B-45-9610, JP-B-49-17481,
US-Patenten 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495
und 3,785,825, GB-Patenten 1,227,602, 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888
und 1,330,932 und dem deutschen Patent 854,890.
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Die
Menge der o-Chinondiazid-Verbindung, die zugesetzt wird, ist vorzugsweise
1 bis 50 Gew.-%, bevorzugter 5 bis 30 Gew.-%, noch bevorzugt 10
bis 30 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Schicht.
Diese Verbindungen können
einzeln oder als Gemisch einer Vielzahl von Verbindungen eingesetzt werden.
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Die
Menge des anderen Additivs als der o-Chinondiazid-Verbindung ist vorzugsweise
1 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 5 bis 30 Gew.-%, noch bevorzugter 10
bis 30 Gew.-%. Das Additiv und das alkalilösliche Polymer zur Verwendung
in der vorliegenden Erfindung werden vorzugsweise in dieselbe Schicht
eingearbeitet.
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Zur
Intensivierung der Bildschärfe
oder zur Erhöhung
der Beständigkeit
der Oberfläche
gegenüber Kratzern
wird vorzugsweise gleichzeitig ein Polymer, das als Polymerisationskomponente
ein (Meth)acrylat-Monomer, das zwei oder drei Perfluoralkyl-Gruppen
mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen im Molekül enthält, hat, das in JP-A-2000-187318 beschrieben
ist, verwendet. Ein solches Polymer kann entweder in die obere Schicht
oder die untere Schicht eingearbeitet werden, zur Erreichung eines
höheren
Effekts wird es allerdings in die obere Schicht eingearbeitet.
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Das
Polymer wird vorzugsweise in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-%,
bevorzugter von 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt
der oberen Schicht, zugesetzt.
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In
der Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung kann eine Verbindung,
die fähig
ist, den Koeffizienten der statischen Reibung an der Oberfläche zu verringern,
zu Zwecken der Verleihung von Kratzfestigkeit zugesetzt werden.
Spezifische Beispiele dafür
umfassen langkettige Alkylcarbonsäureester, die im US-Patent
Nr. 6,117,913 beschrieben sind. Die Verbindung kann entweder in
die untere Schicht oder die obere Schicht eingearbeitet werden,
zur Erreichung eines höheren
Effekts wird sie allerdings in die obere Schicht eingearbeitet.
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Die
Verbindung wird vorzugsweise in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-%,
bevorzugter von 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt
der Schicht, zugesetzt.
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In
der vorliegenden Erfindung kann die untere Schicht oder die obere
Schicht, wenn dies gewünscht wird,
eine niedermolekulargewichtige Verbindung mit einer sauren Gruppe
enthalten. Beispiele für
die saure Gruppe umfassen eine Sulfonsäure-Gruppe, eine Carbonsäure-Gruppe
und eine Phosphorsäure-Gruppe.
Unter diesen Verbindungen ist eine Verbindung, die eine Sulfonsäure-Gruppe
hat, bevorzugt. Spezifische Beispiele dafür umfassen aromatische Sulfonsäuren, z.B.
p-Toluolsulfonsäure
oder Naphthalinsulfonsäure
und aliphatische Sulfonsäuren.
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Die
Verbindung kann entweder in die untere Schicht oder die obere Schicht
eingearbeitet werden. Die Verbindung wird vorzugsweise in einer
Menge von 0,05 bis 5 Gew.-%, bevorzugter von 0,1 bis 3 Gew.-%, bezogen
auf Gesamtfeststoffgehalt der Schicht, zugesetzt. Wenn die Menge
5 Gew.-% übersteigt,
nimmt die Löslichkeit
der Schicht ungünstigerweise
in einem Entwickler zu.
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Darüber hinaus
können
in der vorliegenden Erfindung verschiedene Auflösungsinhibitoren zum Zwecke
einer Kontrolle der Löslichkeit
der unteren Schicht oder der oberen Schicht eingearbeitet werden.
Bevorzugte Beispiele für
den Auflösungsinhibitor
umfassen Disulfon-Verbindungen und Sulfon-Verbindungen, die in JP-A-11-119418
offenbart sind. Spezifische Beispiele für den Auflösungsinhibitor, der vorzugsweise
verwendet wird, umfassen 4,4'-Bishydroxyphenylsulfon.
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Die
Verbindung kann entweder in die untere Schicht oder die obere Schicht
eingearbeitet werden. Die Verbindung wird vorzugsweise in einer
Menge von 0,05 bis 20 Gew.-%, bevorzugter von 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen
auf den Feststoffgehalt der Schicht, zugesetzt.
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Um
die Empfindlichkeit weiter zu erhöhen kann gleichzeitig ein cyclisches
Säureanhydrid,
ein Phenol oder eine organische Säure verwendet werden. Beispiele
für das
cyclische Säureanhydrid,
das verwendet werden kann, umfassen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Tetrachlorphthalsäureanhydrid,
Maleinsäureanhydrid,
Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid,
Bernsteinsäureanhydrid
und Pyromellitsäureanhydrid, die
im US-Patent 4,115,128 beschrieben werden. Beispiele für das Phenol
umfassen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-eo Bisphenol A, p-Nitrophenol,
p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon,
2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan.
Beispiele für
die organische Säure
umfassen Sulfonsäuren,
Sulfinsäuren,
Alkylschwefelsäuren,
Phosphonsäuren,
Phosphorsäureester
und Carbonsäuren,
die in JP-A-60-88942 und JP-A-2-96755 beschrieben werden. Spezifische
Beispiele dafür
umfassen p-Toluolsulfonsäure,
Dodecylbenzolsulfonsäure,
p-Toluolsulfinsäure,
Ethylschwefelsäure,
Phosphorphosphonsäure,
Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat,
Diphenylphosphat, Benzoesäure,
Isophthalsäure,
Adipinäsure,
p-Toluylsäure,
3,4-Dimethoxybenzoesäure,
Phthalsäure,
Terephthalsäure,
4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure,
Erucasäure,
Laurinsäure, n-Undecansäure und
Ascorbinsäure.
Der Gehalt an cyclischem Säureanhydrid,
Phenol oder organischer Säure
in der Schicht ist vorzugsweise 0,05 bis 20 Gew.-%, bevorzugter
0,1 bis 15 Gew.-%, noch bevorzugter 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf
der Gesamtfeststoffgehalt der Schicht.
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Zur
Erhöhung
der Stabilität
der Bearbeitung zu Entwicklungsbedingungen kann die Beschichtungslösung für die untere
Schicht oder die obere Schicht zur Verwendung in der vorliegenden
Erfindung ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel, wie es
in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 beschrieben ist, ein amphoteres
oberflächenaktives
Mittel, wie es in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 beschrieben ist,
eine Siloxan-Verbindung, die in
EP
950517 beschrieben ist oder ein fluorhaltiges Copolymer,
das JP-A-11-288093 beschrieben ist, enthalten.
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Spezifische
Beispiele für
das nichtionische oberflächenaktive
Mittel umfassen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat,
Stearinsäuremonoglycerid
und Polyoxyethylennonylphenylether. Spezifische Beispiele für das amphotere
oberflächenaktive
Mittel umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid
und 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliumbetain
oder oberflächenaktives
Mittel vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ (z.B. Amorgen K, Handelsbezeichnung,
produziert von Dai-ich Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
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Die
Siloxan-Verbindung ist vorzugsweise ein Blockcopolymer von Dimethylsiloxan
und Polyalkylenoxid. Spezifische Beispiele dafür umfassen Polyalkylenoxid-modifizierte
Silicone, z.B. DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534 (alle
produziert von Chisso Corp.) und Tego Glide 100 (produziert von
Tego A. G.).
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Der
Gehalt an nichtionischem oberflächenaktivem
Mittel oder amphoteren oberflächenaktiven
Mittel ist vorzugsweise 0,05 bis 15 Gew.-%, bevorzugter 0,1 bis
5 Gew.-% in der Beschichtungslösung.
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Die
untere Schicht oder die obere Schicht zur Verwendung in der vorliegenden
Erfindung können
ein Ausdruckmittel zum Erhalt eines sichtbaren Bildes unmittelbar
nach Erwärmung
bei Belichtung oder einen Farbstoff oder ein Pigment, das als Bildfärbemittel
dient, enthalten.
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Ein
typisches Beispiel für
ein Ausdruckmittel umfaßt
eine Kombination einer Verbindung, die zur Freisetzung einer Säure unter
Erwärmung
bei Belichtung (Photosäure-freisetzendes
Mittel) und einem organischen Farbstoff, der zur Bildung eines Salzes
fähig ist.
Spezifische Beispiele dafür
umfassen eine Kombination aus o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid
und einem salzbildenden organischen Farbstoff, beschrieben in JP-A-50-36209
und JP-A-53-8128, und eine Kombination aus einer Trihalogenmethyl-Verbindung und
einem salzbildenden organischen Farbstoff, beschrieben in JP-A-53-36223,
JP-A-54-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61-143748, JP-A-61-151644 und
JP-A-63-58440. Die Trihalogenmethyl-Verbindung umfaßt eine Oxazol-Verbindung und
eine Triazol-Verbindung
und beide Verbindungen haben ausgezeichnete Lagerstabilität und ergeben
ein klares Ausdruckbild.
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Beispiele
für das
bildfärbende
Mittel, das verwendet werden kann, umfassen die oben beschriebenen salzbildenden
organischen Farbstoffe und andere Farbstoffe. Bevorzugte Farbstoffe
umfassen einen öllöslichen
Farbstoff und einen basischen Farbstoff wie auch den salzbildenden
organischen Farbstoff. Spezifische Beispiele dafür umfassen Ölgelb #101, Ölgelb #103,
Oil Ping #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz
BY, Ölschwarz
BS, Ölschwarz
T-505 (alle produziert von Orient Chemical Industry Co., Ltd.),
Viktoriareinblau, Kristallviolett (CI42555), Methylviolett (CI42535),
Ethylviolett, Rhodamin B (CI45170B), Malachitgrün (CI42000) und Methylblau
(CI52015). Die in JP-A-62-293247 beschriebenen Farbstoffe sind besonders bevorzugt.
Der Farbstoff kann der Druckplattenvorstufe in einer Menge von 0,01
bis 10 Gew.-%, vorzugsweise von 0,1 bis 3 Gew.-%, bezogen auf den
Gesamtfeststoffgehalt der Druckplattenvorstufe, zugesetzt werden.
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Der
Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung kann, wenn dies
gewünscht
wird, ein Weichmacher zugesetzt werden, um so dem Beschichtungsfilm
Flexibilität
oder dgl. zu verleihen. Beispiele für den Weichmacher umfassen
Butylphthalyl, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalt,
Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat,
Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, Oligomere
und Polymere von Acrylsäure
oder Methacrylsäure.
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Die
obere Schicht und die untere Schicht der lithographischen Druckplattenvorstufe
der vorliegenden Erfindung können
jeweils durch Auflösen
der oben beschriebenen Komponenten in einem Lösungsmittel und Auftragen der
resultierenden Lösung
auf einen geeigneten Träger
gebildet werden.
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Beispiele
für das
verwendete Lösungsmittel
umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol,
Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat,
1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat,
N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff,
N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton und Toluol, allerdings
wird die vorliegende Erfindung nicht darauf beschränkt. Diese
Lösungsmittel
können
einzeln oder als Gemisch eingesetzt werden.
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Das
Lösungsmittel,
das zur Beschichtung verwendet wird, wird vorzugsweise so gewählt, daß sein Lösungsvermögen für das alkalilösiche Polymer,
das in der oberen Schicht verwendet wird, anders ist als sein Lösungvermögen für das alkalilösliche Polymer,
das in der unteren Schicht verwendet wird. Spezifischer ausgedrückt, wenn
die untere Schicht aufgetragen wird und danach die obere Schicht
angrenzend dazu auf getragen wird, kann, wenn ein Lösungsmittel,
das zum Lösen
des alkalilöslichen
Polymers der unteren Schicht fähig
ist, als Lösungsmittel
zur Beschichtung der oberen Schicht verwendet wird, das Vermischen
an der Grenzfläche
zwischen den Schichten nicht vernachlässigt werden und im Extremfall
wird eine einheitliche einzelne Schicht ohne Bildung von mehreren
Schichten ausgebildet. Wenn zwei benachbarte Schichten an der Grenzfläche vermischt
werden oder sich miteinander vermischen, um ein Verhalten ähnlich einer
einheitlichen Schicht zu zeigen, wird der Effekt der vorliegenden
Erfindung, der durch das Vorliegen von zwei Schichten erreicht wird,
ungünstigerweise
beeinträchtigt.
Dementsprechend ist das Lösungsmittel,
das zum Auftragen der oberen Schicht verwendet wird, vorzugsweise
ein schlechtes Lösungsmittel
für das
alkalilösliche
Polymer, das in der unteren Schicht enthalten ist.
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In
der Lösung,
die zum Auftragen jeder Schicht verwendet wird, ist die Konzentration
der oben beschriebenen Komponenten (Gesamtfeststoffgehalt, einschließlich Additive)
vorzugsweise 1 bis 50 Gew.-%.
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Die
aufgetragene Menge (Feststoffbasis) der oberen Schicht oder der
unteren Schicht auf den Träger, nach
Auftragen und Trocknen, kann in Abhängigkeit von der Endverwendung
variieren, ist aber vorzugsweise 0,05 bis 1,0 g/m2 für die obere
Schicht und 0,3 bis 3,0 g/m2 für die untere
Schicht. Wenn die aufgetragene Menge an oberer Schicht weniger als
0,05 g/m2 ist, können sich die Bilderzeugungseigenschaften
verschlechtern, wohingegen, wenn sie 1,0 g/m2 übersteigt,
die Empfindlichkeit abnehmen kann. Wenn die aufgetragene Menge der
unteren Schicht weniger als oder mehr als der oben beschriebene
Bereich ist, können
sich die Bilderzeugungseigenschaften verschlechtern. Die aufgetragene
Gesamtmenge der zwei Schichten ist vorzugsweise 0,5 bis 3,0 g/m2. Wenn die aufgetragene Gesamtmenge weniger
als 0,5 g/m2 ist, können die Filmeigenschaften reduziert
werden, wohingegen, wenn sie 3,0 g/m2 übersteigt,
die Empfindlichkeit abnehmen kann. Wenn die aufgetragene Menge kleiner
ist, wird die scheinbare Empfindlichkeit höher, aber die Filmeigenschaften
der oberen und unteren Schichten sind verringerter.
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Zum
Auftragen können
verschiedene Verfahren angewendet werden und Beispiele dafür umfassen Beschichtung
mit Stabbeschichter, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung,
Tauchbeschichtung, Luftrakelbeschichtung, Rakelbeschichtung und
Walzenbeschichtung.
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Die
obere Schicht und die untere Schicht zur Verwendung in der vorliegenden
Erfindung können
jeweils ein oberflächenaktives
Mittel zur Verbesserung der Auftragbarkeit enthalten; und Beispiele
für das
oberflächenaktive
Mittel umfassen fluorhaltige oberflächenaktive Mittel, die in JP-A-62-170950 beschrieben
sind. Die zugesetzte Menge des oberflächenaktiven Mittels ist vorzugsweise
0,01 bis 1 Gew.-%, bevorzugter 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf
den Gesamtfeststoffgehalt der unteren oder der oberen Schicht.
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<Träger>
-
Der
Träger,
die für
die lithographische Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
verwendet wird, ist ein dimensionsstabiles plattenartiges Material,
das die notwendige Festigkeit und Haltbarkeit hat. Beispiele dafür umfassen,
Papier, Papier, das mit Kunststoff laminiert ist (zum Beispiel Polyethylen,
Polypropylen oder Polystyrol), eine Metallplatte (z.B. Aluminium-,
Zink- oder Kupferplatte), eine Kunststofffolie (z.B. Cellulosediacetat-,
Celluloseltriacetat-, Cellulosepropionat-, Cellulosebutyrat-, Celluloseacetatbutyrat-,
Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polystyrol-,
Polypropylen-, Polycarbonat-, oder Polyvinylacetalfolie) und Papier
oder Kunststofffolie mit darauf abgeschiedenem oder laminierten
Metall, das oben beschrieben wurde.
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Der
Träger
zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung ist vorzugsweise eine
Polyesterfolie oder eine Aluminiumplatte. Unter diese ist die Aluminiumplatte
bevorzugter, das dimensionsstabil und relativ billig ist. Die Aluminiumplatte
ist vorzugsweise eine Platte aus reinem Aluminium oder eine Legierungsplatte,
die hauptsächlich
Aluminium umfaßt
und eine Spurenmenge eines Fremdelements enthält. Es kann auch eine Kunststofffolie
mit darauf laminiertem oder abgeschiedenen Aluminium verwendet werden.
Beispiele für
das Fremdelement, das in der Aluminiumlegierung enthalten ist, umfassen
Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut,
Nickel und Titan. Der Gehalt an Fremdelement in der Legierung ist
höchstens 10
Gew.-% oder weniger. In der vorliegenden Erfindung ist reines Aluminium
besonders bevorzugtes Aluminium, da aber vollständig reines Aluminium im Hinblick
auf eine Reinigungstechnik schwierig zu produzieren ist, kann das
Aluminium eine Spur an Fremdelement enthalten.
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Die
Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung ist
bezüglich
der Zusammensetzung nicht besonders beschränkt und eine herkömmlicherweise
bekannte und üblicherweise
verwendete Aluminiumplatte kann geeigneterweise eingesetzt werden.
Die Dicke der Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden
Erfindung ist etwa 0,1 bis 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 bis 0,4 mm,
bevorzugter 0,2 bis 0,3 mm.
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Vor
einem Oberflächenaufrauhen
einer Aluminiumplatte wird eine Entfettungsbehandlung unter Verwendung
zum Beispiel eines oberflächenaktiven
Mittels, eines organischen Lösungsmittels
oder einer alkalischen wäßrigen Lösung durchgeführt, wenn
dies gewünscht
wird, um so das Walzenöl
an der Oberfläche
zu entfernen. Die Oberflächenaufrauhbehandlung
der Aluminiumplatte wird durch verschiedene Verfahren durchgeführt, zum
Beispiel durch ein Verfahren des mechanischen Aufrauhens der Oberfläche, ein
Verfahren des elektrochemischen Auflösens und Aufrauhens der Oberfläche oder
ein Verfahren des chemischen selektiven Lösens der Oberfläche. Bei
dem mechanischen Verfahren kann ein bekanntes Verfahren, zum Beispiel
Kugelkörnen,
Bürstenkörnen, Gebläsekörnen oder
Schwabbelschleifen verwendet werden. Das Verfahren des elektrochemischen
Oberflächenaufrauhens
umfaßt
ein Verfahren der Durchführung
der Behandlung, in dem Wechselstrom oder Gleichstrom durch eine
Elektrolytlösung
geleitet wird, die Salzsäure
oder Salpetersäure
enthält. Ein
Verfahren unter Verwendung dieser zwei Behandlungen in Kombination,
das in JP-A-54-63902 offenbart ist, kann auch verwendet werden.
Nach einem Oberflächenaufrauhen
wird die Aluminiumplatte, wenn dies gewünscht wird, einer Alkaliätzbehandlung
und einer Neutralisierungsbehandlung unterworfen und dann auf Wunsch
einer Anodisierungsbehandlung unterzogen, um so das Wasserretentionsvermögen oder
die Abriebfestigkeit an der Oberfläche zu erhöhen. Der Elektrolyt, der in
der Anodisierungsbehandlung der Aluminiumplatte eingesetzt werden
kann, umfaßt
verschiedene Elektrolyte, die zur Bildung eine porösen Oxidfilms
geeignet sind, und üblicherweise
werden Schwefelsäure,
Phosphorsäure,
Oxalsäure,
Chromsäure
oder eine gemischte Säure
dieser verwendet. Die Konzentration des Elektrolyts wird geeignetetweise
in Abhängigkeit
von der Art des Elektrolyten bestimmt.
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Die
Bedingungen der Anodisierungsbehandlung variieren in Abhängigkeit
vom verwendeten Elektrolyten und können daher nicht willkürlich spezifiziert
werden; allerdings sind geeignete Bedingungen üblicherweise so, daß die Elektrolyt-Konzentration 1 bis
80 Gew.-% ist, die Flüssigkeitstemperatur
5 bis 70% ist, die Stromdichte 5 bis 60 A/dm2 ist,
die Spannung 1 bis 100 V ist und die Elektrolysezeit 10 Sekunden
bis 5 Minuten ist. Wenn die Menge des anodischen Oxidfilms weniger
als 1,0 g/m2 ist, kann eine unzureichende
Pressenlebenszeit resultieren oder der Nicht-Bildbereich der lithographischen
Druckplatte wird leicht verkratzt, wodurch ein sogenanntes "scratch toning" verursacht wird,
nämlich
eine Adhäsion
von Tinte an dem verkratzten Teil beim drucken. Nach der Anodisierungsbehandlung
wird die Aluminiumoberfläche,
wenn dies gewünscht
wird, einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen. Beispiele für die Hydrophilisierungsbehandlung
zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung umfassen ein Verfahren
der Verwendung eines Alkalimetallsilicats (zum Beispiel eine wäßrige Natriumsilicat-Lösung), das
in den US-Patenten 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 und 3,902,734
offenbart ist. Nach dem Verfahren wird der Träger in eine wäßrige Natriumsilicat-Lösung eingetaucht oder darin
elektrolysiert. Außerdem
kann ein Verfahren zur Behandlung des Trägers mit Kaliumfluorzirkonat, das
in JP-B-36-22063 offenbart ist, oder mit Polyvinylphosphonsäure, das
in den US-Patenten 3,276,869, 4,153,461 und 4,689,272 offenbart
ist, verwendet werden.
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Die
lithographische Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
umfaßt
wenigstens zwei Schichten einer positiv arbeitenden Aufzeichnungsschicht
und einer unteren Schicht auf einem Träger, allerdings kann auf Wunsch
eine Grundierungsschicht zwischen dem Träger und der unteren Schicht
angeordnet sein.
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Als
Komponenten für
die Grundierungsschicht können
verschiedene organische Verbindungen verwendet werden und Beispiele
dafür umfassen
Carboxymethylcellulose; Dextrin; Gummi arabicum; Phosphonsäuren mit
einer Amino-Gruppe, z.B. 2-Aminoethylphosphonsäure; organische Phosphonsäuren, z.B.
Phenylphosphonsäure,
Naphthylphosphonsäure,
Alkylphosphonsäure,
Glycerophosphonsäure,
Methylendiphosphonsäure
und Ethylendiphosphonsäure,
die jeweils einen Substituenten haben können; organische Phosphorsäuren, z.B.
Phenylphosphorsäure,
Naphthylphosphorsäure,
Alkylphosphorsäure
und Glycerophosphorsäure,
die jeweils einen Substituenten haben können; organische Phosphinsäuren, z.B.
Phosphorphosphinsäure,
Naphthylphosphinsäure,
Alkylphosphinsäure
und Glycerophosphinsäure,
die jeweils einen Substituenten haben können; Aminosäuren, z.B.
Glycin und β-Alanin;
und Hydrochloride von Amin, die eine Hydroxy-Gruppe haben, z.B. Triethanolaminhydrochlorid.
Die Verbindungen können
als Gemisch aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
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Eine
organische Grundierungsschicht, die wenigstens eine Verbindung enthält, die
aus organischen Polymerverbindungen mit einer Struktureinheit, welche
durch die folgende Formel dargestellt wird, ausgewählt ist,
ist auch bevorzugt.
worin R
1 ein
Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkyl-Gruppe darstellt;
R
2 und R
3 jeweils
unabhängig ein
Wasserstoffatom, eine Hydroxyl-Gruppe, ein Halogenatom, eine Alkyl-Gruppe,
eine substituierte Alkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe, eine substituierte Aryl-Gruppe,
-OR
4, -COOR
5, -CONHR
6, -COR
7 oder -CN
darstellen, oder R
2 und R
3 sich
unter Bildung eines Rings kombinieren können; R
4 bis
R
7 jeweils unabhängig eine Alkyl-Gruppe oder
eine Aryl-Gruppe darstellen; X ein Wasserstoffatom, ein Metallatom
oder -NR
8R
9R
10R
11 darstellt;
R
8 bis R
11 jeweils
unabhängig
ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-Gruppe, eine substituierte Alkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe
oder eine substituierte Aryl-Gruppe darstellen, oder R
8 und
R
9 sich unter Bildung eines Rings kombinieren
können,
und m eine ganze Zahl von 1 bis 3 darstellt.
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Die
organische Grundierungsschicht kann durch ein Verfahren des Auflösens der
oben beschriebenen organischen Verbindung in Wasser, einem organischen
Lösungsmittel,
zum Beispiel Methanol, Ethano oder Methylethylketon, oder einem
gemischten Lösungsmittel
davon, Auftragen der Lösung
auf eine Aluminiumplatte und Trocknen dieser, oder ein Verfahren
des Auflösens
der organischen Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel,
zum Beispiel Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder einem
gemischten Lösungsmittel
davon, Eintauchen einer Aluminiumplatte in die Lösung, um die Verbindung zu
absorbieren, Waschen der Aluminiumplatte mit Wasser oder dgl. und
Trocknen bereitgestellt werden. In dem erstgenannten Verfahren kann
die Lösung,
die die organische Verbindung in einer Konzentration von 0,005 bis
10 Gew.-% enthält,
nach verschiedenen Verfahren aufgetragen werden. In dem letztgenannten
Verfahren ist die Konzentration der Lösung 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise
0,05 bis 5 Gew.-%, die Eintauchtemperatur ist 20 bis 90°C, vorzugsweise
25 bis 50°C,
und die Eintauchzeit ist 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, vorzugsweise
2 Sekunden bis 1 Minute. Die verwendete Lösung kann auch in ihrem pH
auf einen Bereich von 1 bis 12 mit einer basischen Substanz, z.B.
Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid, oder durch eine saure
Substanz, z.B. Salzsäure
oder Phosphorsäure,
eingestellt werden.
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Die
Bedeckung der organischen Grundierungsschicht ist geeigneterweise
2 bis 200 mg/m2, vorzugsweise 5 bis 100
mg/m2. Wenn die Bedeckung weniger als 2
mg/m2 ist, kann keine ausreichend hohe Durckhaltbarkeit
erhalten werden, und wenn sie 200 mg/m2 übersteigt,
tritt dasselbe auf.
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Die
positiv arbeitende lithographische Druckplattenvorstufe wird bildweise
belichtet und dann einer Entwicklung unterzogen.
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Beispiele
für die
Lichtquelle, die aktives Licht zur Verwendung bei der bildweisen
Belichtung emittiert, umfassen Quecksilberlampe, Metallhalogenidlampe,
Xenonlampe, chemische Lampe und Kohlenstoffbogenlampe. Beispiele
für die
Strahlung umfassen Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen, Ionenstrahlen
und Strahlen des fernen Infrarots. Es können auch g-Linien-, i-Linien-,
tiefes UV-Licht und hochdichte Energiestrahlen (Laserstrahl) verwendet
werden.
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Beispiele
für den
Laserstrahl umfassen Helium-Neon-Laser, Argonlaser, Kryptonlaser,
Helium·Cadmium-Laser
und KrF-Exzimer-Laser.
In der vorliegenden Erfindung ist eine Lichtquelle mit einer Emissionswellenlänge im Bereich
von nahem Infrarot bis Infrarot bevorzugt und ein Festkörperlaser
oder ein Halbleiterlaser ist bevorzugter.
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Ein
Entwickler und eine Nachfüllösung dafür, die bei
der Entwicklung der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, ist vorzugsweise ein herkömmlicherweise
bekannter Alkalientwickler, der hauptsächlich eine organische Verbindung
mit Pufferwirkung und eine Base umfaßt und im wesentlichen kein
Siliciumdioxid enthält.
Ein derartiger Entwickler wird nachfolgend als "Nicht-Silicat-Entwickler" bezeichnet. Der
Ausdruck "enthält im wesentlichen
kein Siliciumdioxid",
wie er hierin verwendet wird, bedeutet, daß eine geringe Menge an Siliciumdioxid
als unvermeidliche Verunreinigung oder Nebenprodukt vorliegen kann.
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Durch
Verwendung des Nicht-Silicatentwicklers im Schritt der Entwicklung
der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
wird der Effekt der Verhinderung der Erzeugung von Kratzern erreicht
und es kann eine gute lithographische Druckplatte ohne Fehler im
Bildbereich erhalten werden. Der Entwickler hat vorzugsweise einen
pH von 12,5 bis 13,5.
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Der "Nicht-Silicatentwickler" zur Verwendung im
Plattenherstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung umfaßt hauptsächlich eine
organische Verbindung mit Pufferwirkung und eine Base, wie es oben
beschrieben wurde. Beispiele für
die organische Verbindung mit Pufferaktivität umfassen die Verbindungen
mit Pufferaktivität,
die in JP-A-8-220775
beschrieben sind, zum Beispiel Zucker (insbesondere solche, die
durch die Formel (I) und (II) dargestellt werden), Oxime (insbesondere
die, die durch die Formel (III) dargestellt werden), Phenole (insbesondere
die, durch die Formel (IV) dargestellt werden) und fluorierte Alkohole
(insbesondere die, die durch die Formel (V) dargestellt werden).
Unter den Verbindungen, die durch die Formeln (I) bis (V) dargestellt
werden, sind bevorzugte Zucker, die durch die Formel (I) und (II)
dargestellt werden, und Phenole, die durch die Formel (V) dargestellt
werden, und bevorzugter sind nicht-reduzierende Zucker, zum Beispiel
Saccharose, unter den Zuckern, die durch die Formel (I) und (II)
dargestellt werden, und Sulfosalicylsäure. Der nicht-reduzierende
Zucker umfaßt
Oligosaccharide des Trehalose-Typs, in denen reduzierende Gruppen
aneinander gebunden sind, Glycoside, in denen eine reduzierende
Gruppe des Zuckers an einern Nicht-Zucker gebunden ist, und Zuckeralkohole,
die durch Reduzieren eines Zuckers durch Hydrierung erhalten werden.
Beliebige dieser Verbindungen werden in der vorliegenden Erfindung
bevorzugt verwendet.
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Beispiele
für das
Oligosaccharid vom Trehalose-Typ umfassen Saccharose und Trehalose.
Beispiele für
die Glycoside umfassen Alkylglycosid, Phenolglycosid und Mustartölglycosid.
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Beispiele
für den
Zuckeralkohol umfassen, D,L-Arabitol, Ribitol, Xylitol, D,L-Sorbitol,
D,L-Mannitol, D,L-Iditol, D,L-Talitol, Dulcitol und Allodulcitol.
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Außerdem können Maltitol,
das durch Disaccharidhydrirung, und ein Reduktionsprodukt (reduzierter Stärkesirup),
das durch Oligosaccharidhydrierung erhalten wird, vorzugsweise eingesetzt
werden.
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Unter
diesen nicht-reduzierenden Zuckern sind Zuckeralkohol und Saccharose
bevorzugt und D-Sorbitol, Saccharose und reduzierter Stärkesirup
sind bevorzugter, da sie Pufferaktivitä in einer geeigneten pH-Region
haben.
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Die
nicht-reduzierenden Zucker können
einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehreren eingesetzt werden.
Die Menge des nicht-reduzierenden Zuckers im Entwickler ist vorzugsweise
0,1 bis 30 Gew.-%, bevorzugter 1 bis 20 Gew.-%.
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Die
Base, die in Kombination mit der organischen Verbindung mit Pufferaktivität verwendet
wird, kann geeigneterweise aus herkömmlicherweise bekannten Alkalimitteln
ausgewählt
werden.
-
Beispiele
für das
Alkalimittel umfassen anorganische Alkalimittel, zum Beispiel Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat,
Triammoniumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat, Diammoniumphosphat,
Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat,
Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat,
Kaliumborat und Ammoniumborat und Kaliumcitrat, Trikaliumcitrat
und Natriumcitrat.
-
Andere
Beispiele für
das Alkalimittel, die vorzugsweise verwendet werden können, umfassen
organische Alkalimittel, zum Beispiel Monomethylamin, Dimethylamin,
Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin,
Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin,
Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin,
Ethylendiamin, Ethylendiamin und Pyridin.
-
Die
Alkalimittel können
einzeln oder als Kombination aus zwei oder mehreren eingesetzt werden.
-
Unter
diesen Verbindungen sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid bevorzugt,
da der pH in einem weiten pH-Bereich
eingestellt werden kann, indem die dafür zugesetzte Menge auf der
Basis der Menge an nicht-reduzierendem Zucker kontrolliert wird.
-
Drüber hinaus
sind Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Natriumcarbonat und
Kaliumcarbonat bevorzugt, da sie selbst Pufferaktivität haben.
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Es
ist bekannt, daß im
Fall der Durchführung
der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine
durch Zugabe einer wäßrigen Lösung (Nachfüllösung) mit
höherer
Alkalinität
ein der Entwickler zu dem Entwickler, eine große Menge an lithographischen
Druckplatten ohne Austausch des Entwicklers im Entwicklungstank
für einen
langen Zeitraum bearbeitet werden kann. In der vorliegenden Erfindung wird
ein solches Nachfüllsystem
auch vorzugsweise eingesetzt. In den Entwickler und die Nachfüllösung können verschiedene
oberflächenaktive
Mittel und organische Lösungsmittel,
wenn dies gewünscht
wird, zum Zwecke der Beschleunigung oder Inhibierung der Entwicklung,
zum Dispergieren des Entwicklungsschlamms oder zur Verstärkung des
Tinteaufnahmevermögens
des Bildbereichs der lithographischen Druckplatte zugegeben werden.
Bevorzugte Beispiele für
das oberflächenaktive
Mittel umfassen anionische, kationische, nichtionisch und amphotere
oberflächenaktive
Mittel. Darüber
hinaus kann der Entwickler oder kann die Nachfüllösung auf Wunsch ein reduzierendes
Mittel, zum Beispiel Hydrochinon, Resorcin oder ein Natriumsalz
oder Kaliumsalz einer anorganischen Säure (z.B. schweflige Säure, Schwefelwasserstoffsäure), eine
organische Carbonsäure,
eine Entschäumer
und einen Weichmacher für
Wasser enthalten.
-
Die
Druckplatte, die unter Verwendung des oben beschriebenen Entwicklers
und der Nachfüllösung entwickelt
wurde, wird einer Nachbehandlung durch Waschen mit Wasser, einer
Spüllösung, die
ein oberflächenaktives
Mittel enthält,
und dgl. oder mit einer Desensibilisierungslösung, die Gummi arabicum oder
ein Stärkederivat
enthält,
unterworfen. Diese Behandlungen können in verschiedenen Kombinationen
für die Nachbehandlung
der lithographischen Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
verwendet werden.
-
Seit
kurzem wird eine automatische Entwicklungsmaschine für Druckplatten
in großem
Umfang in der Plattenherstellung und der Druckindustrie verwendet,
um so den Vorgang der Plattenherstellung zur rationalisieren und
zu standardisieren. Im allgemeinen hat die automatische Entwicklungsmaschine
einen Entwicklungsteil und einen Nachbehandlungsteil und umfaßt eine
Vorrichtung zum Transport einer Druckplatte und Tanks für die entsprechenden
Bearbeitungslösungen
und eine Sprühvorrichtung.
Bei der in JP-A-59-174842 beschriebenen Entwicklung wird der unnötige Bildbereich
mit einem aktiven Strahl bestrahlt, der durch eine optische Faser
gelenkt wird, und dann einer Entwicklung unterworfen.
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Die
so erhaltene lithographische Druckplatte wird, wenn es gewünscht wird,
mit einem Desensibilisierungsgummi überzogen und dann kann die
Platte zum Drucken verwendet werden. Wenn allerdings eine lithographische
Druckplatte mit einer höheren
Druckhaltbarkeit gewünscht
wird, wird die Druckplatte einer Brennbehandlung unterzogen. Im
Fall des Brennens der lithographischen Druckplatte wird die Platte
vor dem Brennen vorzugsweise mit einem Plattenbrennkonditionierer
behandelt, wie er zum Beispiel in in JP-B-61-2518, JP-B-55-28062,
JP-A-62-31859 und
JP-A-61-159655 beschrieben ist.
-
Die
Behandlung kann durch ein Verfahren des Auftragens des Plattenbrennkonditionierers
auf die lithographische Druckplatte unter Verwendung eines Schwamms
oder eines Absorbens-Baumwollteils, das mit dem Plattenbrennkonditionierer
imprägniert
ist, ein Verfahren des Auftragens des Plattenbrennkonditionierers durch
Eintauchen der Druckplatte in einen Bottich, der mit dem Plattenbrennkonditionierer
gefüllt
ist, oder ein Verfahren des Auftragens des Plattenbrennkonditionierers
unter Verwendung eines automatischen Beschichters durchgeführt werden.
Wenn die aufgebrachte Menge durch einen Gummiquetscher oder eine
Quetschwalze nach dem Auftragen gleichmäßig gemacht wird, können bevorzugterer
Resultate erzielt werden.
-
Die
Menge des Plattenbrennkonditionierers, die aufgetragen wird, ist
normalerweise 0,03 bis 0,8 g/m2 (Trockengewicht).
Die lithographische Druckplatte, die mit dem Plattenbrennkonditionierer
beschichtet ist, wird getrocknet und wenn gewünscht dann bei hoher Temperatur
mit einem Brennprozessor erhitzt (zum Beispiel ein Brennprozessor "BP-1300", im Handel verfügbar von
Fuji Photo Film Co., Ltd.). Die Erhitzungstemperatur und die Erhitzungszeit
sind vorzugsweise 180 bis 300°C
bzw. 1 bis 20 Minuten, obgleich diese in Abhängigkeit von den Komponenten,
die das Bild bilden, variiert werden können.
-
Die
lithographische Druckplatte kann nach der Brennbehandlung, wenn
es gewünscht
ist, einer herkömmlichen
Behandlung unterzogen werden, zum Beispiel einem Waschen mit Wasser
und einer Gummierung; wenn allerdings ein Plattenbrennkonditionierer,
der eine wasserlösliche
Polymer-Verbindung
oder dgl. enthält,
verwendet wird, kann eine sogenannte Desensibilisierungsbehandlung,
z.B. eine Gummierung weggelassen werden. Die durch eine solche Behandlung
erhaltene lithographische Druckplatte wird auf eine Offsetdruckvorrichtung
montiert und zum Drucken einer großen Zahl von Blättern verwendet.
-
Die
vorliegende Erfindung wird detaillierter anhand der folgenden Beispiele
beschrieben, allerdings sollte die vorliegende Erfindung nicht als
darauf beschränkt
konstruiert werden.
-
<<Herstellung
einer lithographischen Druckplattenvorstufe>>
-
<Substratvorbereitung>
-
Eine
0,3 mm dicke Aluminiumplatte (JIS 1050) wurde durch waschen mit
Trichlorethylen entfettet und die Oberfläche derselben wurde unter Verwendung
einer Nylonbürste
und einer wäßrigen Suspension
von 400 mesh-Bimsstein gekörnt
und dann gründlich
mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde durch Eintauchen in eine
25%ige wäßrige Natriumhydroxid-Lösung mit
45°C für 9 Sekunden
geätzt,
mit Wasser gewaschen, für
20 Sekunden in 20%ige Salpetersäure
getaucht und dann mit Wasser gewaschen. Die geätzte Menge der gekörnten Oberfläche war
etwa 3 g/m
3. Danach wurde die Platte in
7%ige Schwefelsäure
als Elektrolyt anodisiert, indem ein Gleichstrom bei einer Stromdichte
von 15 S/dm
2 durchgeleitet wurde, um einen
anodischen Oxidfilm in einer Menge von 3 g/m
2 bereitzustellen.
Die Platte wurde dann mit Wasser gewaschen, getrocknet und außerdem mit
einer 2,5 Gew.-%igen wäßrign Natriumsilicat-Lösung bei
30°C für 10 Sekunden
behandelt. Die folgende Grundierungsschichtlösung wurde auf die Platte aufgeschichtet
und der Beschichtungsfilm wurde bei 80°C für 15 Sekunden unter Erhalt
eines Substrats getrocknet. Die Trockenbedeckung des Beschichtungsfilms war
15 mg/m
2. <Grundierungslösung>
| Unten
gezeigte Polymer-Verbindung | 0,3
g |
| Methanol | 100
g |
| Wasser | 1
g |
Molekulargewicht:
28 000
-
<Bildung einer Aufzeichnungsschicht
1>
-
Auf
das Substrat wurde die folgende Beschichtungslösung für die untere Schicht aufgetragen,
so daß eine
aufgetragene Menge von 0,85 g/m
2 erhalten
wurde, danach wurde für
50 Sekunden bei 140°C
getrocknet, wobei ein PERFECT OVEN PH200, hergestellt von Tabai
Corp. verwendet wurde, und zwar bei der Einstellung Wind Control
7. Danach wurde die folgende Beschichtungslösung für eine wärmeempfindliche Schicht aufgetragen,
so daß eine
aufgetragene Menge von 0,15 g/m
2 erhalten
wurde, und dann wurde bei 120°C
für 1 Minute getrocknet,
wobei die lithographischen Druckplattenvorstufen 1 bis 10 erhalten
wurden. <Beschichtungslösung für die untere
Schicht>
| N-(4-Aminosulfonyllphenyl)methacrylamid/Acrylonitril/Methylmethacrylat
(36/34/30, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 50 000) | 2,133
g |
| 3-Methoxy-4-diazodiphenylaminhexafluorphosphat | 0,030
g |
| Cyanin-Farbstoff
A (mit der unten gezeigten Struktur) | 0,109
g |
| 4,4'-Bishydroxyphenylsulfon | 0,063
g |
| Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,190
g |
| p-Toluolsulfonsäure | 0,008
g |
| Verbindung,
erhalten durch Ersetzen des Gegenions von Ethylviolett mit 6-Hydroxynaphthalinsulfonat | 0,05
g |
| Fluorhaltiges
oberflächenaktives
Mittel (Megafac F-176, hergestellt von Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc.) | 0,035
g |
| Methylethylketon | 26,6
g |
| 1-Methoxy-2-propanol | 13,6
g |
| γ-Butyrolacton | 13,8
g |
Cyanin-Farbstoff
A
<Beschichtungslösung für wärmeempfindliche
Schicht>
| m,p-Cresol-Novolak
(m/p-Verhältnis:
6/4, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 4500, enthaltend 0,8 Gew.-%
nicht-umgesetztes
Cresol | 0,237
g |
| Cyanin-Farbstoff
A (mit der oben gezeigten Struktur) | 0,047
g |
| Dodecylstearat | 0,060
g |
| 3-Methoxy-4-diazodiphenylamhexafluorphosphat | 0,030
g |
| Fluorhaltiges
oberflächenaktives
Mittel (Megafac F-176, hergestellt von Dai-Nippon Ing & Chemicals, Inc.) | 0,110
g |
| Fluorhaltiges
oberflächenaktives
Mittel (Megafac MCF-312 (30%, hergestellt von Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc.) | 0,120
g |
| Methylethylketon | 15,1
g |
| 1-Methoxy-2-propanol | 7,7
g |
| Inhibitor,
in Tabelle 1 unten gezeigt | X
g |
-
<Bildung der Aufzeichnungsschicht 2>
-
Auf
demselben Substrat wie oben beschrieben, wurde die folgende Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht
2 aufgetragen, um eine aufgetragene Menge von 1,0 g/m
2 zu
erhalten, und dann bei 140°C für 50 Sekunden
getrocknet, um lithographische Druckplattenvorstufen 11 und 12 zu
erhalten, die jeweils eine einzelne Aufzeichnungsschicht haben. <Beschichtungslösung für wärmeempfindliche
Schicht>
| N-(4-Aminosulfonyllphenyl)methacrylamid/Acrylonitril/Methylmethacrylat
(35/35/30, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 50 000) | 1,896
g |
| Cresol-Novolak
(m/p = 6/4, gewichtsmittleres Molekulargewicht: 4500, restliches
Monomer: 0,5 Gew.-%) | 0,332
g |
| Cyanin-Farbstoff
A (mit der oben gezeigten Struktur) | 0,155
g |
| 4,4'-Bishydroxyphenylsulfon | 0,063
g |
| Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,190
g |
| p-Toluolsulfonsäure | 0,008
g |
| Verbindung,
erhalten durch Ersetzen des Gegenions von Ethylviolett durch 6-Hydroxynaphthalinsulfonat | 0,05
g |
| Fluorhaltiges
oberflächenaktives
Mittel (Megafac F-176, produziert durch Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc.) | 0,145
g |
| Fluorhaltiges
oberflächenaktives
Mittel (Megafac MCF-312 (30%, produziert durch Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc. | 0,120
g |
| Methylethylketon | 26,6
g |
| 1-Methoxy-2-propanol | 13,6
g |
| γ-Butyrolacton | 13,8
g |
| Inhibitor,
der in Tabelle 1 unten gezeigt ist | X
g |
-
<<Beurteilung
der lithographischen Druckplattenvorstufe>>
-
Mit
jeder er erhaltenen lithographischen Druckplattenvorstufen wurde
die Kratzfestigkeit mit einem verbrauchten Entwickler und die Empfindlichkeit
beurteilt. Der verbrauchte Entwickler wurde in der folgenden Weise
hergestellt. Spezifisch ausgedrückt,
50 Folien (jeweils mit einer Größe von 1030 × 800 mm)
der lithographischen Druckplattenvorstufe 1 wurden einer Belichtung
bei einer Bildflächenrate
von 20% unter Verwendung von Trendsetter, hergestellt von Creo Co.,
unter den Bedingungen einer Strahlleistung von 9 W und eine Trommeldrehzahl
von 150 Upm unterworfen. Dann wurden 50 Folien der belichteten lithographischen
Druckplattenvorstufen unter Verwendung eines PS-Processor 940H,
hergestellt von Fuji Photo Film Co., ltd. ausgestattet mit einem
ersten Bad, das einen Entwickler enthält, der durch Verdünnen der
Entwicklerstammlösung,
die unten angegeben ist, hergestellt wurde, so daß eine Empfindlichkeit
von 95 mJ/cm
2 erhalten wurde, einem zweiten Bad,
das Wasser enthielt und einem dritten Bad, das Finisher FP-2W, hergestellt
von Fuji Photo Film Co., Ltd. enthielt, bei einer Entwicklertemperatur
von 30°C
und einer Entwicklungszeit von 12 Sekunden entwickelt, wobei die
Entwicklerstammlösung
regelmäßig nachgefüllt wurde,
um die Empfindlichkeit aufrechtzuerhalten. Entwicklerstammlösung
| Kaliumhydroxid
(49 Gew.-%ige wäßrige Lösung) | 75
g |
| Sorbitol
(65 Gew.-%ige wäßrige Lösung) | 100
g |
| Sorbitol-Ethylenoxid-Addukt
(30 Einheiten Ethylenoxid) | 1,0
g |
| Dispergiermittel
(DQ-2066) | 0,50
g |
| Mononatrium-diphenylether-4,4'-disulfonat | 1,0
g |
| Wasser | 1000
g |
-
<Beurteilung der Kratzbeständigkeit
mit verbrauchtem Entwickler>
-
Die
lithographische Druckplatte wurde durch Reiben mit einem Handschuh
gekratzt und dann mit der verbrauchten oben beschriebenen Entwicklerlösung entwickelt.
Der Grad des Filmverlusts wurde visuell betrachtet.
-
Die
Kratzbeständigkeit
wurde nach den folgenden Kriterien beurteilt und die Beurteilungsresultate
sind in Tabelle 1 unten angegeben.
- :
- Es konnten keine Kratzspuren
erkannt werden
- O:
- Kratzspuren wurden
schwach erkannt
- Δ:
- Kratzspruren wurden
mäßig erkannt
- X:
- Es wurden Kratzspuren
entwickelt
-
<Beruteilung der Empfindlichkeit>
-
Die
lithographische Druckplattenvorstufe wurden einem bildweisen Zeichnen
eines Testmusters unter Verwendung von Trendsetter, hergestellt
von Creo Co., unterworfen, wobei die Belichtungsenergie variiert
wurde und danach mit einem Entwickler, hergestellt durch Verdünnen eines
Entwicklers DT-1, produziert von Fuji Photo Film Co., Ltd., so daß die elektrische
Leitfähigkeit
45 mS/cm war, entwickelt. Die Belichtungsenergie, die fähig ist,
den Nicht-Bildbereich mit dem Entwickler zu entwickeln, wurde gemessen
und der Energiewert wurde als die Empfindlichkeit definiert. Wenn
der numerische Wert kleiner ist, wird die Empfindlichkeit als höher beurteilt.
Die Resultate sind in Tabelle 1 angegeben.
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Tabelle
1 Effekt
der Zugabe von Inhibitor
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Aus
den in Tabelle 1 angegebenen Resultaten ist zu erkennen, daß die lithographische
Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung bezüglich der
Kratzbeständigkeit
mit einem verbrauchten Entwickler hervorragend ist und gute Empfindlichkeit
hat.
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Andererseits
weist die lithographische Druckplattenvorstufe, in der die Aufzeichnungsschicht
keinen Inhibitor enthält,
schlechte Kratzbeständigkeit
auf und die lithographische Druckplattenvorstufe, in der die Aufzeichnungsschicht
eine Einzelschichtstruktur hat, hat niedrige Empfindlichkeit.
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Die
lithographische Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung
hat eine positiv arbeitende Aufzeichnungsschicht, die eine alkalilösliche untere
Schicht und eine obere Schicht, die einen Infrarotabsorber, ein
alkalilösliches
Harz und einen Inhibitor, der das alkalilösliche Harz daran hindert,
in einem alkalischen wäßrigen Entwickler
gelöst
zu werden und die Löslichkeit
in der alkalischen wäßrigen Lösung nach
Bestrahlung mit Infrarotlicht erhöht. Die lithographische Druckplattenvorstufe
wird mit einem alkalischen Entwickler entwickelt, der kein Silicat
enthält
und hauptsächlich
eine organische Verbindung mit Pufferaktivität und eine Base umfaßt, wobei
sowohl gute Kratzbeständigkeit
als auch hohe Empfindlichkeit erzielt werden können, selbst wenn ein verbrauchter
Entwickler verwendet wird.
