DE60125432T3

DE60125432T3 - Verfahren zur Herstellung einer Flachdruck- Originalplatte

Info

Publication number: DE60125432T3
Application number: DE60125432.5T
Authority: DE
Inventors: Ippei Nakamura; Kazuto Kunita
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-01-27
Filing date: 2001-01-26
Publication date: 2017-01-12
Anticipated expiration: 2021-01-27
Also published as: EP1120246B1; EP1120246A2; DE60125432T2; DE60125432D1; EP1120246A3; JP2001209172A; ATE349319T1; EP1120246B2

Description

Hintergrund der Erfindung
Gebiet der Erfindung
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer Flachdruckplatte unter Verwendung einer Flachdruck-Originalplatte vom positiven Typ.
Beschreibung des Standes der Technik
Laser wurden in den letzten Jahren deutlich entwickelt, und Feststofflaser und Halbleiterlaser, die Infrarotstrahlen in einem Wellenlängenbereich besonders von 760 bis 1200 nm emittieren (manchmal nachfolgend als ”Infrarotlaser” bezeichnet), die eine hohe Ausstoßleistung und eine kleine Größe aufweisen, sind leicht verfügbar. Diese Infrarotlaser sind sehr nützlich als Aufzeichnungslichtquelle zur direkten Erzeugung einer Druckplatte von digitalen Daten von Computern oder dgl. Gegenwärtig gibt es daher ein erhöhtes Bedürfnis für Bildaufzeichnungsmaterialien mit hoher Empfindlichkeit für eine solche Infrarot-Aufzeichnungslichtquelle, nämlich Bildaufzeichnungsmaterialien, deren Löslichkeit sich in einer Entwicklungslösung durch Bestrahlung mit Infrarotstrahlen ändert.
Bildgebungsmaterialien mit einer lichtempfindlichen Schicht, umfassend einen Säureerzeuger und ein durch Säure zersetzbares Material als lichtempfindliche Schicht vom positiven Typ, die durch Bestrahlung mit aktivierten Licht löslich gemacht wird, sind bekannt. Eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine Verbindung mit einer Orthocarbonsäure- oder Carbonsäureamidacetal-Gruppe ist in der Beschreibung von US-Patent 3,779,779 offenbart, eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine Verbindung mit einer Acetal- oder Ketal-Gruppe in der Hauptkette ist in der Veröffentlichung der japanischen offengelegten Patentanmeldung JP-A-53-133429 ( US 4,247,611 ) offenbart, und eine Zusammensetzung mit einer Verbindung mit einer Silylether-Gruppe ist in der Veröffentlichung von JP-A-60-37549 offenbart.
Diese lichtempfindlichen Zusammensetzungen haben eine Empfindlichkeit für Ultraviolettstrahlen und werden in einem Alkali durch Belichtung mit UV-Strahlen unter Bildung eines Nicht-Bildbereiches löslich gemacht und erlauben keine Belichtung unter Anwendung von Infrarotstrahlen wie solchen von einem kostengünstigen und kompakten Halbleiterlaser. Mit anderen Worten haben Infrarotstrahlen eine niedrigere Energie als Ultraviolettstrahlen, die gegenwärtig als Lichtquelle für die Belichtung verwendet werden, wodurch das Problem verursacht wird, daß es schwer ist, eine Photoreaktion oder dgl. zu verursachen, wodurch die Löslichkeit eines Bildaufzeichnungsmaterials in einer Entwicklungslösung durch Belichtung mit Infrarotstrahlen geändert wird.
Als Technik, die eine Bildbelichtung durch Infrarotstrahlen ermöglicht, wie die Strahlen eines Halbleiterlasers ist eine Technik bezüglich eines Bildgebungsmaterials, das eine lichtempfindliche Schicht mit einem Säureerzeuger, einem Resolharz, Novolakharz und Infrarotabsorber aufweist und zur Bildung eines Bildes von Negativtyp verwendet wird, indem die Wärmebehandlung vor der Entwicklungsbehandlung und nach Bildbelichtung durchgeführt wird, in der Beschreibung von US 5,340,699 offenbart. Diese Materialien führen zu dem Problem, daß kein positives Bild gebildet wird, wenn die erwähnte Wärmebehandlung nicht durchgeführt wird, und haben weiterhin den Nachteil, daß die Empfindlichkeit beim negativen und positiven Typ niedrig ist.
Ein Bildgebungsmaterial mit einer lichtempfindlichen Schicht, umfassend einen Säureerzeuger, eine durch Säure zersetzbare Verbindung und einen Infrarotstrahlungsabsorber, ist in JP-A-9-171254 in den letzten Jahren offenbart. Bei diesem System wird die durch Säure zersetzbare Verbindung zersetzt, zur Bildung eines Bildes vom positiven Typ, indem als Katalysator eine Säure verwendet wird, die durch Bestrahlung mit aktiviertem Licht erzeugt wird. Daher wird eine chemisch stark amplifizierende Wirkung erhalten und die Oberfläche des Materials, das mit einem Laser bestrahlt ist, hat eine stark positive Wirkung (die Entwicklung wird in einem nicht-belichteten Bereich verzögert und eine Beschränkung der Entwicklung wird aufgehoben oder verschwindet in einem belichteten Bereich), die von der Licht-Wärme-Umwandlung resultiert. Die in der Nähe der Oberfläche erzeugte Wärme erreicht unzureichend den tiefen Bereich des Materials. Daher gibt es das Problem bezüglich der Wärmediffusion in der Nähe des Trägers, und nur eine unzureichende Wirkung wird in dem tiefen Bereich erhalten, wenn ein Träger aus üblichem Aluminium verwendet wird.
Selbst wenn folglich das Bildgebungsmaterial unter Verwendung eines Alkali entwickelt wird, wird eine klare Diskriminierung zwischen einem nicht-belichteten und einem belichteten Bereich schwierig erhalten. Daher ist eine Verbesserung bezüglich der Empfindlichkeit gewünscht.
Ebenso gibt es das Problem, daß ein Silicat, das in einem verwendeten Alkali-Entwicklungsmittel enthalten ist wenn diese Bildgebungsmaterialien nach der Bildbelichtung entwickelt werden, mit den eluierten Komponenten des Bildgebungsmaterials reagiert, unter Bildung eines unlöslichen Materials, das an der Oberfläche des Bildgebungsmaterials haftet, wodurch die Oberfläche des Bildgebungsmaterials beschädigt wird, wenn es in einen Entwicklungsbehälter geführt wird.
EP-A-0 949 539 offenbart eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, umfassend eine hochmolekulare Verbindung mit zumindest a) einer fluoraliphatischen Gruppe und b) einer Gruppe mit der Formel L-P (worin L eine bivalente organische Gruppe ist, die an das Gerüst der hochmolekularen Verbindung gebunden ist, und P eine aromatische Gruppe mit einer Carboxyl-Gruppe an der ortho-Position ist).
EP-A-0 965 887 offenbart eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, umfassend einen Aluminiumträger, der nach der anodischen Oxidation hydrophilisiert ist, eine Zwischenschicht, die darauf vorgesehen ist und ein alkalilösliches Polymer mit einem Molekulargewicht im Zahlenmittel (Mn) umfaßt, das auf dem Bereich von 300 bis 5000 eingestellt ist, indem ein Initiator in Kombination mit einem Kettenübertragungsmittel bei der radikalischen Polymerisation verwendet wird, und eine lichtempfindliche Schicht, die auf der Zwischenschicht vorgesehen ist.
Zusammenfassung der Erfindung
Das Verfahren dieser Erfindung verwendet eine Flachdruck-Originalplatte vom positiven Typ, die die direkte Plattenerzeugung unter Verwendung eines Feststofflasers oder Halbleiterlasers ermöglicht, der Infrarotstrahlen emittiert, indem ein Bild von digitalen Daten von Computern oder dgl. aufgezeichnet wird. Das Verfahren zur Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte vom Positivtyp ist gegenüber Beschädigung resistent.
Demzufolge wird das obige Ziel durch folgende Mittel erreicht.
Ein Verfahren zur Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser Erfindung umfaßt: einen Belichtungsschritt zum Belichten eines Bildes auf einer Flachdruck-Originalplatte durch einen Infrarotlaser, wobei die Flachdruck-Originalplatte mit einer ersten Schicht, die ein Polymer enthält, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser löslich ist, und einer zweiten Schicht versehen ist, die einen Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, das in eine alkalische Entwicklungslösung nicht eindringen kann, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten enthält und im wesentlichen frei von Siliziumdioxid ist und kein Silicat enthält, und deren Löslichkeit sich in der Alkali-Entwicklungslösung durch Wirkung von Licht oder Wärme erhöht, wobei die Schichten aufeinander folgend auf einem Träger vorgesehen sind; und einen Entwicklungsschritt zur Entfernung eines belichteten Bereichs der zweiten Schicht, wobei der belichtete Bereich eine erhöhte Löslichkeit in der Alkali-Entwicklungslösung durch Bildbelichtung aufweist, durch die Alkali-Entwicklungslösung, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten enthält und im wesentlichen frei von Siliziumdioxid ist und kein Silicat enthält, wodurch ein Bereich der ersten Schicht durch die Alkali-Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt wird, der einem entfernten Bereich der zweiten Schicht entspricht.
Es ist festzustellen, daß in dieser Erfindung das Polymer, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser löslich ist, gegebenenfalls einfach als alkalisches wasserlösliches Polymer bezeichnet wird. Ebenso umfaßt der Ausdruck ”durch Wirkung von Licht oder Wärme” die Bedeutung ”durch Wirkung sowohl von Licht als auch von Wärme”.
Bei dem Verfahren der Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser Erfindung wird überlegt, daß die Empfindlichkeit gegenüber einem Infrarotlaser durch Anordnen der zweiten Schicht, die eine Infrarot-empfindliche Schicht ist, deren Löslichkeit sich in einer Alkali-Entwicklungslösung durch Belichtung erhöht, auf einer Belichtungsoberfläche oder in der Nähe davon verbessert wird, obwohl die Wirkung nicht geklärt ist. Die durch Belichtung mit dem Infrarotlaser erzeugte Wärme diffundiert nicht zum Träger und wird effektiv verwendet, um die erste Schicht löslich zu machen, indem die erste Schicht, die aus dem Polymer erzeugt ist, zwischen den dem Träger und der Infrarot-empfindlichen Schicht angeordnet wird, die als Isolationsschicht wirkt, wodurch die Empfindlichkeit verbessert wird. Im nicht belichteten Verhältnis fungiert die zweite Schicht, die nicht in die Alkali-Entwicklungslösung eindringt, als Schutzschicht für die erste Schicht, wodurch die Entwicklungsstabilität verbessert und ein Bild mit hoher Diskriminierung gebildet wird.
Beim Verfahren zur Erzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser Erfindung wird überlegt, daß die verbesserte Entwicklungsstabilität, die die Flachdruck-Originalplatte charakterisiert, sicherstellt, daß eine zufriedenstellende Entwicklung durchgeführt werden kann, selbst wenn eine Alkali-Entwicklungslösung, die eine organische Verbindung mit Pufferwirkung und eine Base als Hauptbestandteile und kein Silicat enthält, verwendet wird, kein unlösliches Material durch das Silicat erzeugt wird und eine Plattenerzeugung ermöglicht wird, die durch Resistenz gegenüber Mängeln gekennzeichnet ist.
Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
Die Flachdruck-Originalplatte, die in dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendet wird, wird nachfolgend detailliert erläutert.
Die Flachdruck-Originalplatte umfaßt eine erste Schicht (nachfolgend als ”alkalische wasserlösliche Polymerschicht” oder einfach als ”Polymerschicht” nach Bedarf bezeichnet), die ein Polymer enthält, das in Wasser unlöslich und im alkalischen Wasser löslich ist, und eine zweite Schicht (nachfolgend als ”Infrarot-empfindliche Schicht” nach Bedarf bezeichnet), die einen Infrarotstrahlungsabsorber und ein Bindemittel enthält, die nicht in die Alkali-Entwicklungslösung eindringt, die eine organische Verbindung mit Pufferwirkung und eine Base als Hauptbestandteile enthält, und deren Löslichkeit in einer Alkali-Entwicklungslösung durch Wirkung von Licht und/oder Wärme erhöht wird, wobei die Schichten aufeinanderfolgend auf einem Träger vorgesehen sind.
Diese Schichten können in dieser Reihenfolge gebildet sein und die Flachdruck-Originalplatte kann weiterhin bekannte Schichten wie eine Oberflächenschicht, Zwischenschicht und eine Rückschicht enthalten, solange die Wirkung dieser Erfindung nicht beeinträchtigt wird.
(Erste Schicht, die ein Polymer enthält, das in Wasser unlöslich und im alkalischen Wasser löslich ist <Polymerschicht, die in alkalischem Wasser löslich ist>)
Erfindungsgemäß umfaßt die in alkalischem Wasser lösliche Polymerschicht ein Polymer, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser löslich ist, als Hauptkomponente. Weil dieses Polymer eine ausgezeichnete Beschichtungsfähigkeit aufweist, kann das Polymer selbst eine Schicht bilden.
Das im alkalischen Wasser lösliche Polymer gemäß dieser Erfindung umfaßt Homopolymere mit einer Säuregruppe an der Haupt- oder Seitenkette eines Polymers, Copolymere aus diesen Homopolymeren und Mischungen dieser Homopolymere und Copolymere. Demzufolge ist die im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht in dieser Erfindung eine mit solchen Eigenschaften, daß sie sich auflöst, wenn sie mit einer alkalischen Entwicklungslösung kontaktiert wird.
Unter den erwähnten Polymeren, die im alkalischen Wasser löslich sind, sind solche mit einer sauren Gruppe gemäß den folgenden Punkten (1) bis (6) angesichts der Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung bevorzugt.

(1) Phenolische Hydroxyl-Gruppe (-Ar-OH)
(2) Sulfonamid-Gruppe (-SO₂NH-R)
(3) Substituierte Sulfonamid-Säuregruppe (nachfolgend als ”aktivierte Imid-Gruppe” gezeichnet) -(SO₂NHCOR, SO₂NHSO₂R und -CONHSO₂R)
(4) Carbonsäure-Gruppe
(5) Sulfonsäure-Gruppe
(6) Phosphorsäure-Gruppe

Bei den obigen Punkten (1) bis (6) bedeutet Ar eine bivalente Aryl-Verbindungsgruppe, die einen Substituenten haben kann, und R ist eine Kohlenwasserstoff-Gruppe, die einen Substituenten haben kann.
Unter in alkalischen Wasser löslichen Polymeren mit einer Säuregruppe, ausgewählt aus den obigen (1) bis (6) sind die im alkalischen Wasser löslichen Polymer mit (1) einer Phenol-Gruppe, (2) einer Sulfonamid-Gruppe und (3) aktivierten Imid-Gruppe bevorzugt und besonders sind im alkalischen Wasser lösliches Polymer mit (1) einer Phenol-Gruppe und (2) einer Sulfonamid-Gruppe am meisten bevorzugt, um die Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung und eine ausreichende Filmstärke sicherzustellen.
Als im alkalischen Wasser lösliches Polymer mit einer Säuregruppe, ausgewählt aus den obigen (1) bis (6) können die folgenden Verbindungen veranschaulicht werden.

(1) Beispiele des im alkalischen Wasser löslichen Polymers mit einer Phenol-Gruppe umfassend Novolakharze wie Kondensationspolymere von Phenol und Formaldehyd, Kondensationspolymere von m-Cresol und Formaldehyd, Kondensationspolymere von p-Cresol und Formaldehyd, Kondensationspolymere einer m/p-Cresolmischung und Formaldehyd und Kondensationspolymere von Phenol, Cresol (das eine m-, p- oder m/p-Mischung sein kann) und Formaldehyd, Kondensationspolymere von Pyrogallol und Aceton. Weiterhin können Copolymere als Beispiel genannt werden, die durch Copolymerisation einer Verbindung mit einer Phenol-Gruppe an der Seitenkette erhalten sind.

Als Beispiele der Verbindung mit einer Phenol-Gruppe können Acrylamide, Methacrylamide, Acrylate, Methacrylate oder Hydroxystyrole mit einer Phenol-Gruppe genannt werden.
Spezifische Beispiele der Verbindung mit einer Phenol-Gruppe umfassen N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrlamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenlacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat.
Diese Polymere können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Bei Kombinieren dieser Verbindungen können Kondensationspolymere aus einem Phenol mit einer Alkyl-Gruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituenten und Formaldehyd wie Kondensationspolymere von t-Butylphenol und Formaldehyd und Kondensationsprodukte von Octylphenol und Formaldehyd, wie in US 4,123,279 beschrieben zusammen verwendet werden.

(2) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Sulfonamid-Gruppe können Polymere genannt werden, die durch eine minimale strukturelle Einheit, die von einer Verbindung mit einer Sulfonamid-Gruppe stammt, als hauptstrukturelle Komponente strukturiert sind.

Beispiele der Verbindung umfassen Verbindungen, die eine oder mehrere Sulfonamid-Gruppen enthalten, worin zumindest ein Wasserstoffatom an ein Stickstoffatom gebunden ist und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Gruppe im Molekül vorhanden sind. Unter diesen Verbindungen sind niedermolekulare Verbindungen mit einer Acryloyl-Gruppe, Aryl-Gruppe oder Vinyloxy-Gruppe und einer substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonyl-Gruppe oder substituierten Sulfonylimino-Gruppe in einem Molekül bevorzugt. Als Beispiele werden Verbindungen mit den folgenden Formeln 1 bis 5 angegeben.
worin X¹ und X² jeweils -O- oder -NR²⁷- sind, R²¹ und R²⁴ jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH₃ sind, R²², R²⁵, R²⁹, R³² und R³⁶ jeweils eine Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylen-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen sind, die einen Substituenten haben können, R²³, R²⁷ und R³³ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, gegebenenfalls mit einem Substituenten sind, R²⁶ und R²⁷ jeweils eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen sind, die einen Substituenten haben können, R²⁸, R³⁰ und R³⁴ jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH₃ sind, R³¹ und R³⁵ jeweils eine Einfachbindung oder eine Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylen-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen sind, die einen Substituenten haben können, und Y³ und Y⁴ jeweils eine Einfachbindung oder -CO- sind.
Unter den Verbindungen mit den Formeln 1 bis 5 sind besonders m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid oder dgl. in der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung bevorzugt.

(3) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer aktivierten Imid-Gruppe können Polymere veranschaulicht werden, die durch eine minimale strukturelle Einheit, die von einer Verbindung mit einer aktivierten Amid-Gruppe stammt, als Hauptstrukturkomponente strukturiert sind.

Beispiele der Verbindung umfassen Verbindungen mit einer oder mehreren aktivierten Imid-Gruppen, dargestellt durch die folgende Formel
und einer oder mehrerer polymerisierbaren ungesättigten Gruppen in einem Molekül.
Spezifisch können bevorzugt N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid oder N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid verwendet werden.

(4) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Carbonsäure-Gruppe können Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstrukturkomponente eine minimale strukturelle Einheit ist, die von einer Verbindung mit einer oder mehreren Carbonsäure-Gruppen oder einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen in einem Molekül stammt.
(5) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Sulfonsäure-Gruppe können Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstruktureinheit eine minimale Struktureinheit ist, die von einer Verbindung mit einer oder mehreren Sulfonsäure-Gruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen im Molekül stammt.
(6) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Phosphorsäure-Gruppe können Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstrukturkomponente eine minimale strukturelle Einheit ist, die von einer Verbindung mit einer oder mehreren Phosphorsäure-Gruppe und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen im Molekül stammt.

Unter den genannten im alkalischen Wasser löslichen Polymeren sind besonders (1) im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe bevorzugt, weil eine starke Wechselwirkung zwischen diesen Polymeren und der genannten polyfunktionellen Amin-Verbindung erhalten werden kann.
Die minimale Struktureinheit, die das im alkalischen Wasser lösliche Polymer ausmacht, das für die Flachdruck-Originalplatte vom positiven Typ gemäß dieser Erfindung verwendet wird und eine saure Gruppe aufweist, ausgewählt aus den obigen (1) bis (6) ist insbesondere nicht notwendigerweise nur ein Typ, aber im alkalischen Wasser lösliche Polymere können verwendet werden, die durch Copolymerisation von zwei oder mehreren dieser minimalen Struktureinheiten mit den gleichen oder verschiedenen Säuregruppen erzeugt sind.
Als obiges Copolymerisationsverfahren können die konventionell bekannten Pfropfcopolymersiationsverfahren, Blockcopolymerisationsverfahren oder statistische Copolymerisationsverfahren verwendet werden.
Als genanntes Copolymer sind solche mit der Verbindung, die copolymerisiert wird und eine saure Gruppe, ausgewählt aus den obigen (1) bis (6) in einer Menge von 10 mol% oder mehr aufweist, bevorzugt, und solche, die die Verbindung in einer Menge von 20 mol% oder mehr enthalten, sind mehr bevorzugt. Wenn die Menge dieser Verbindung weniger als 10 mol% ist, gibt es die Tendenz, daß die Entwicklungsfreiheit unzureichend verbessert werden kann.
Wenn erfindungsgemäß die Verbindung copolymerisiert wird, zur Bildung eines Copolymers, können andere Verbindungen die keine saure Gruppe der obigen Punkte (1) bis (6) enthält als Verbindung verwendet werden. Beispiele dieser Verbindung ohne die saure Gruppe der obigen Punkte (1) bis (6) umfassen die folgenden Verbindungen (m1) bis (m12).

(m1) Beispielsweise Acrylate oder Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxyl-Gruppe wie 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxyethylmethacrylat.
(m2) Alkylacrylate wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat, und N-Dimethylaminoethylacrylat.
(m3) Alkylmethacrylate wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
(m4) Acrylamide oder Methacrylamide wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexalmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
(m5) Vinylether wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
(m6) Vinylester wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat und Vinylbenzoat.
(m7) Styrole wie Styrol-α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
(m8) Vinylketone wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
(m9) Olefine wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
(m10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril.
(m11) Ungesättigte Imide wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
(m12) Ungesättigte Carbonsäuren wie Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.

Als im alkalischen Wasser lösliches Polymer, das für die Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung verwendet wird, sind solche, die Homopolymere oder Copolymere mit einem Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 2000 oder mehr und einem Gewichtsmittel im Zahlenmittel von 500 oder mehr aufweisen, angesichts der Empfindlichkeit und Entwicklungsfreiheit bevorzugt. Solche mit einem Molekulargewicht im Gewichtsmittel im Bereich von 5000 bis 300000 und einem Molekulargewicht im Zahlenmittel im Bereich von 800 bis 250000 sind mehr bevorzugt. Solche mit einem Polydispersionsindex, der das Molekulargewicht im Gewichtsmittel dividiert durch das Molekulargewicht im Zahlenmittel ist, im Bereich von 1,1 bis 10 sind bevorzugt.
Wenn das Copolymer erfindungsgemäß verwendet wird, sind Copolymere, bei denen das Gewichtsverhältnis der minimalen Struktureinheit, die von der Verbindung mit einer Säuregruppe, ausgewählt aus den Punkten (1) bis (6), stammt und die Hauptkette und/oder Nebenkette davon ausmacht, zur minimalen Struktureinheit ohne Säuregruppe (1) bis (6), die die Hauptkette oder Seitenkette davon ausmacht, in einem Bereich von 50:50 bis 5:95 liegt bevorzugt, und Copolymere, bei denen das obige Verhältnis im Bereich von 40:60 bis 10:90 liegt, sind mehr bevorzugt.
Die erwähnten im alkalischen Wasser löslichen Polymere können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
Obwohl das genannte im alkalischen wasserlösliche Polymer 100% des gesamten Feststoffgehaltes des Materials ausmacht, das eine im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht ausmacht, wird es in einer Menge von bevorzugt 30 bis 99 Gew.% und mehr bevorzugt 45 bis 95 Gew.% verwendet, weil andere Komponenten zur Verbesserung der Schichtbildungsfähigkeit und Filmeigenschaften verwendet werden.
Wenn die Menge des im alkalischen Wasser löslichen Polymers weniger als 30 Gew.% ist, gibt es die Tendenz, daß die Schichtbildungsfähigkeit und die Filmeigenschaften der Polymerschicht verschlechtert werden und somit ist eine deutlich kleinere Menge nicht bevorzugt.
Beispiele eines Lösungsmittels, das bei der Synthese des im alkalischen Wasser löslichen Polymers, das erfindungsgemäß verwendet wird, eingesetzt wird, können Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser umfassen. Diese Lösungsmittel können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
Die Schicht aus dem alkalischen Wasser löslichen Polymer kann weiterhin einen Infrarotstrahlungsabsorber zur Verbesserung der Empfindlichkeit enthalten. Als Infrarotstrahlungsabsorber kann die gleiche Verbindung wie der Infrarotstrahlungsabsorber verwendet werden, detailliert in den Erläuterungen der Infrarot-empfindlichen Schichten beschrieben wird.
Eine bevorzugte Menge des Infrarotabsorbers, der in der im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht enthalten ist, ist 0,01 bis 50 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoff.
Als Materialien, die die im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht gemäß dieser Erfindung ausmachen, können neben den obigen Materialien verschiedene Additive nach Bedarf verwendet werden.
Beispielsweise sind Oniumsalze und thermisch zersetzbare Verbindungen wie aromatische Sulfonate, die als andere Komponenten beschrieben sind, die zu einer lichtempfindlichen Zusammensetzung vom positiven Typ gemäß der Beschreibung von JP-A-11-174681 ( US 6,132,929 ) im Abschnitt 0067 und folgende gegeben werden können, bevorzugt, um die Antiauflösungsfähigkeit eines Bildbereiches zu steuern. Zusätzlich zu den obigen Additiven können Additive wie cyclische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren, die zur Verbesserung der Empfindlichkeit nützlich sind, Tenside, Ausdruckmittel und Farbstoffe und Pigmente als Bildfärbemittel, die in der gleichen Publikation als andere Additive beschrieben sind, gleichermaßen erfindungsgemäß verwendet werden.
Beispielsweise können Epoxy-Verbindungen, Vinylether-Verbindungen, Phenol-Verbindungen mit einer Hydroxymethyl-Gruppe gemäß JP-A-8-276558 ( US 6,132,935 ) und vernetzbare Verbindungen, die in der Veröffentlichung von JP-A-11-160860 ( EP 919,868 A1 ) beschrieben sind und die Fähigkeit aufweisen, die Alkalilöslichkeit zurückzuhalten, nach Wunsch angemessen zugegeben werden.
(Zweite Schicht <Infrarot-empfindliche Schicht>, die eine Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, die nicht in eine alkalische Entwicklungslösung eindringt, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten enthält und deren Löslichkeit in der alkalischen Entwicklungslösung durch Wirkung von Licht und/oder Wärme erhöht wird)
Die Flachdruck-Originalplatte, die in dem Verfahren dieser Erfindung verwendet wird, umfaßt eine zweite Schicht, die einen Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, die nicht in eine alkalische Entwicklungslösung eindringt, umfassend eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten und im wesentlichen frei von Siliziumdioxid ist und kein Silicat enthält, und deren Löslichkeit in einer alkalischen Entwicklungslösung durch Wirkung von Licht und/oder Wärme erhöht wird, auf dem erwähnten im alkalischen Wasser löslichen Polymer, das auf dem Träger gebildet ist.
Die obige Infrarot-empfindliche Schicht wird bevorzugt auf der freiliegenden Oberfläche der äußersten Schicht der Flachdruck-Originalplatte gebildet. Im belichteten Bereich der Infrarot-empfindlichen Schicht erzeugt der erwähnte Infrarot-Strahlungsabsorber Wärme durch Bestrahlung mit einem Infrarotlaser. Durch die Wärme erhöht sich die Löslichkeit des Bindemittels, das die Schicht bildet, während im nicht-belichteten Bereich die Unfähigkeit der Eindringung in eine Alkali-Entwicklungslösung aufrechterhalten und nur der belichtete Bereich löslich gemacht wird, zur Bildung eines Bildes vom positiven Typ.
Als Bindemittel, das die obige infrarotempfindliche Schicht ausmacht, kann das im alkalischen Wasser lösliche Polymer, das detailliert für die Schicht aus dem im alkalischen Wasser löslichen Polymer erwähnt ist, bevorzugt verwendet werden.
Erfindungsgemäß fungiert die Infrarot-empfindliche Schicht als Film, der gegenüber einer Alkali-Entwicklungslösung in der im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht resistent ist, die zwischen dem Träger und der Infrarot-empfindlichen Schicht vorhanden sind, und es ist daher gewünscht, Polymere, die gegenseitig unlöslich sind, als im alkalischen Wasser lösliches Polymer auszuwählen, das in der Infrarot-empfindlichen Schicht und in der im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht verwendet wird.
Der Ausdruck ”wechselseitig unlöslich” bedeutet, daß eine Kombination von zwei oder mehreren Polymeren (einschließlich der Fall, bei dem jedes ein Copolymer oder eine Phase aus einer Mischung aus zwei oder mehreren Arten ist) keine Phase aus einem Feststoff oder einer Flüssigkeit bildet. Dies kann bestätigt werden durch ein Verfahren, bei dem die beiden gemischt werden und der Bereich visuell oder durch ein Photo dieses Bereiches beobachtet wird, das unter Verwendung einen Elektronenabtastmikroskopes aufgenommen wird.
Beispiele der Polymere, die in Kombination von zwei oder mehreren Arten von Verbindungen verwendet werden, die wechselseitig unlöslich sind, umfassen Polymerverbindungen vom Urethan-Typ, Acryl-Polymerverbindungen, Polymerverbindungen vom Styrol-Typ, Novolakharze, Diazoharze, Polymerverbindungen vom Amid-Typ und Polyether-Verbindungen. Diese Polymere können in einer alkalischen Entwicklungslösung durch Einfügen der obigen Säuregruppe in diese Polymere löslich gemacht werden. Als bevorzugte Beispiele der Kombination von zwei oder mehreren Polymeren, die wechselseitig unlöslich sind, werden Kombinationen aus einer Polymerverbindung vom Acryl- oder Urethan-Typ und ein Novolak und eine Kombination aus einem Novolakharz und einem Diazoharz ebenso wie eine Kombination einer Polymerverbindung vom Acryl- oder Urethantyp und einem Diazotyp genannt.
Die genannten im alkalischen Wasser löslichen Polymere können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden und werden in einer Menge im Bereich von bevorzugt 30 bis 99 Gew.% und mehr bevorzugt 40 bis 95 Gew.% auf der Basis des Gesamtfeststoffgehaltes des Materials verwendet, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung ausmacht.
Wenn die Menge des im alkalischen wasserlöslichen Polymer weniger als 30 Gew.% ist, kann die Dauerhaftigkeit der Infrarot-empfindlichen Schicht sich vermindern, während dann, wenn die Menge 99 Gew.% übersteigt, die Empfindlichkeit und die Dauerhaftigkeit erniedrigt werden können und die Menge außerhalb des obigen Bereiches sind daher nicht bevorzugt.
Ein Infrarot-Strahlungsabsorber muß in der Infrarot-empfindlichen Schicht der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung angesichts der Empfindlichkeit enthalten sein. Der Infrarotabsorber, der hier verwendet werden kann, wird bevorzugt auch für die obige im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht verwendet.
Keine besondere Beschränkung gibt es bezüglich des Infrarotabsorbers, der erfindungsgemäß verwendet werden kann, solange er die Fähigkeit hat, durch Bestrahlung mit einem Infrarotlaser Wärme zu erzeugen. Es ist jedoch bevorzugt, einen Infrarotabsorber mit einer Oniumsalzstruktur angesichts der notwendigen Bewirkung einer positiven Wirkung (Entwicklung in einen nicht-belichteten Bereich wird verzögert und eine Beschränkung bezüglich der Entwicklung wird freigesetzt oder verschwindet in einen belichteten Bereich, wodurch der belichtete Bereich in einem alkalischen Wasser löslich wird) zwischen den strukturellen Einheiten der Polymere zu verwenden. Spezifisch können vorteilhaft Farbstoffe wie Cyanin-Farbstoff und Pyryliumsalz verwendet werden.
Bevorzugte Beispiele des obigen Farbstoffes umfassen Cyanin-Farbstoffe, die jeweils in JP-A-58-125246 , 59-84356 , 59-202829 und 60-78787 beschrieben sind und Cyanin-Farbstoffe gemäß UK-Patent 434,875 .
Nahe Infrarot-Absorptionssensibilisatoren gemäß US 5,156,938 werden bevorzugt verwendet. Weiterhin werden substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze gemäß US 3,881,924 , Trimethinthiapyryliumsalze gemäß JP-A-57-142645 ( US 4,327,169 ), Pyrylium-Verbindungen gemäß JP-A-58-181051 , 58-220143 , 59-41363 , 59-84248 , 59-84249 , 59-146063 ( US 4,55,472 ) und JP-A-59-146061 , Cyanin-Farbstoffe gemäß JP-A-59-216146 ( US 4,617,247 ), Pentamethinthiopyryliumsalze gemäß US 4,283,475 und dgl. und Pyryliumsalze gemäß der japanischen offengelegten Patentanmeldung ( JP-B) 5-13514 und 5-19702 ( US 4,663,260 ) bevorzugt verwendet.
Nahe Infrarot-Absorptionsfarbstoffe mit den Formeln (I) und (II) gemäß der Beschreibung von US 4,756,993 können ebenfalls als bevorzugte Beispiele des Farbstoffes angegeben werden.
Darüber hinaus werden anionische Infrarotabsorber gemäß JP-A-11-338131 ( EP 945,264A ) bevorzugt verwendet. Die anionischen Infrarotabsorber zeigen solche an, worin der Mutterkern eines Farbstoffes, der im wesentlichen Infrarotstrahlen absorbiert, keine kationische Struktur, sondern eine anionische Struktur aufweist.
Beispiele dieser anionischen Infrarotabsorber umfassen (cI) anionische Metallkomplexe, (c2) anionischen Ruß, (c3) anionisches Phthalocyanin und weiter (c4) Verbindungen mit der folgenden 6. Das Gegenkation dieser anionischen Infrarotabsorber ist ein monovalentes Kation mit einem Proton oder einem polyvalenten Kation.
worin Ga^– ein anionischer Substituent ist, Gb ein neutraler Substituent ist X_m+ ein Kation mit ein bis m-Valenzen und einem Proton ist und m eine ganze Zahl von 1 bis 6 ist.
Hierin bedeuten die (c1) anionische Metallkomplexe solche, worin ein zentrales Metall im Komplexbereich, der im wesentlichen Licht absorbiert, und ein Ligand einer anionischen Natur insgesamt entfalten.
Ein Beispiel von (c2) dem anionischen Ruß ist Ruß mit einer anionischen Gruppe wie Sulfonsäure, Carbonsäure oder Phosphorsäure-Gruppe, die als Substituent gebunden ist. Zum Einfügen einer jeden dieser Gruppen können beispielsweise Maßnahmen zum Oxidieren von Ruß unter Verwendung einer vorbestimmten Säure angewandt werden wie in ”Carbon Black Handbook”, dritte Ausgabe (herausgegeben von Carbon Black Association, 5. April 1995, veröffentlicht von Carbon Black Association) beschrieben ist.
Anionische Infrarotabsorber, erzeugt durch ionisches Binden eines Oniumsalzes als Gegenkation mit einer anionischen Gruppe des anionischen Rußes werden erfindungsgemäß bevorzugt verwendet. Jedoch ist ein Adsorptionsmaterial, bei dem ein Oniumsalz an Ruß absorbiert ist, von diesen anionischen Infrarotabsorbern ausgeschlossen, die erfindungsgemäß bevorzugt verwendet werden. Ebenso kann die Wirkung dieser Erfindung nicht erhalten werden durch ein einfaches Absorptionsmaterial.
Das (c3) anionische Phthalocyanin ist ein solches, bei dem eine anionische Gruppe, veranschaulicht als Substituent bei der vorherigen Erläuterung von (c2) an ein Phthalocyanin-Gerüst gebunden ist und insgesamt eine anionische Natur entfaltet.
Nachfolgend werden die Verbindungen mit der Formel 6 gemäß (c4) detailliert erläutert. In der Formel 6 bedeutet M eine Konjugatkette, die einen Substituenten oder eine cyclische Struktur aufweisen kann. Die Konjugatkette M kann durch folgende Formel dargestellt sein.
worin R¹, R² und R³ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyano-, Alkyl-, Aryl-, Alkenyl-, Alkinyl-, Carbonyl-, Thio-, Sulfonyl-, Sulfinyl-, Oxy- oder Amino-Gruppe ist, worin diese Gruppen kombiniert sein können, unter Bildung einer cyclischen Struktur, und n eine ganze Zahl von 1 bis 8 ist.
Spezifische bevorzugte Beispiele des anionischen Infrarotabsorbers mit der obigen Formel 6 sind in der Beschreibung von JP-A-11-338131 ( EP-Patent 945,264 A ), Absätze 0094 bis 0105, beschrieben.
Beispiele des Infrarotabsorbers mit einer Oniumsalzstruktur, die bevorzugte Beispiele des Infrarotabsorbers gemäß dieser Erfindung sind, sind solche, die als spezifische Beispiele (A-20 bis A-75) in der Beschreibung der japanischen Patentanmeldung 11-231399 , Absätze 0046 bis 0061 beschrieben sind.
Jeder dieser Farbstoffe, die Infrarotabsorber sind, kann zum Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht, in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.%, bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.% und besonders bevorzugt 0,5 bis 10 Gew.%, bezogen auf den Feststoffgehalt, zugegeben werden. Wenn die Menge des Farbstoffes weniger als 0,01 Gew.% ist, wird die Empfindlichkeit vermindert, während dann, wenn die Menge 50 Gew.% übersteigt, die Möglichkeit für das Auftreten einer Kontamination in einem Nicht-Bildbereich und die Erzeugung von Mängeln während des Drucks ergibt.
Das Material, das die Infrarot-empfindliche in der erfindungsgemäßen Flachdruck-Originalplatte ausmacht, kann weiterhin andere Farbstoffe und Pigmente enthalten, um die Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite zu verbessern.
Als anderer Farbstoff können kommerziell erhältliche Farbstoff und bekannte Farbstoffe, die ein der Literatur beschrieben sind, beispielsweise ”Dye Handbook” (herausgegeben von Organic Synthetic Chemical Assiciation, 1970) verwendet werden. Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe umfassen Azo-Farbstoffe, Azo-Farbstoffe von Metallkomplexsalzen, Pyrazolonazo-Farbstoffe, Naphthochinon-Farbstoff, Anthrachinon-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe, Methin-Farbstoffe, Diimmonium-Farbstoffe, Aminium-Farbstoffe, Squarylium-Farbstoffe und Metallthiolatkomplexe.
Als andere Pigmente können kommerziell erhältliche Pigmente und Pigmente verwendet werden, die in ”Color Index (C. I.) Handbook, ”The Newest Pigment Handbook” (herausgegeben vom Japan Pigment Technical Association, veröffentlicht 1988), ”The newest Pigment Applied Technology” (CMC Shuppan, veröffentlicht 1986) und ”Printing Ink Technology” (CMC Shuppan, veröffentlicht 1984) beschrieben sind.
Beispiele der Art des Pigmentes, das verwendet werden kann sind schwarz, gelbe, orangefarbene, braune, rote, violette, blaue, grüne, Fluoreszenz-, Metallpulver-, andere Pigmente und polymergebundene Farbstoffe. Spezifisch können unlösliche Azo-Pigmente, Azoschüppchenpigmente, kondensierte Azo-Pigmente, Chelatazo-Pigmente, Phthalocyanin-Pigment, Anthrachinon-Pigmente, Perylen- und Perinon-Pigmente, Thioindigo-Pigmente, Chinacridon-Pigmente, Dioxazin-Pigmente, Isoindolinon-Pigmente, Chinophthalon-Pigmente, Farbschüppchen-Pigmente, Azin-Pigmente, Nitroso-Pigmente, Nitro-Pigmente, natürliche Pigment, Fluoreszenz-Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß verwendet werden. Unter diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung oder nach Oberflächenbehandlung verwendet werden. Als Verfahren für die Oberflächenbehandlung wird ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche mit einem Harz oder Wachs, ein Verfahren zum Anhaften eines Tensides und ein Verfahren zum Binden eines reaktiven Materials (z. B. Silan-Kupplungsmittel, Epoxy-Verbindung und Polyisocyanat) an die Oberfläche eines Pigmentes erwähnt. Die genannten Verfahren für die Oberflächenbehandlung sind in ”Qualities and Applican of Metal Soap” (Saiwai Shobo), ”Printing Ink Technology” (CMC Shuppan, veröffentlicht 1984) und ”The newest Pigment Applied Technology” (CMC Shuppan, veröffentlicht 1986) beschrieben.
Der Teilchendurchmesser des obigen Pigmentes liegt im Bereich von bevorzugt 0,01 bis 10 μm, mehr bevorzugt 0,05 bis 1 μm und besonders bevorzugt 0,1 bis 1 μm. Wenn der Teilchendurchmesser des Pigmentes weniger als 0,01 μm ist, ist dies angesichts der Stabilität der Dispersion in der Beschichtungslösung für die Infrarot-empfindliche Schicht nicht bevorzugt. Wenn auf der anderen Seite der Teilchendurchmesser 10 μm übersteigt, ist dies angesichts der Gleichmäßigkeit der gebildeten Schicht nicht bevorzugt.
Als Verfahren zum Dispergieren des obigen Pigmentes können bekannte Dispergiertechniken, die zur Produktion von Tinte oder eines Toners verwendet werden, eingesetzt werden. Als Beispiele von Dispergiermaschinen können eine Ultraschall-Dispergiermaschine, Sandmühle, Attritor, Perlmühle, Supermühle, Kugelmühle, Impeller, Dispergiermaschine, KD-Mühle, Kolloidmühle, Dynatron, Dreiwalzenmühle und Druckkneter genannt werden. Die Details dieser Dispergiermaschine sind in ”The newest Pigment Applied Technology” (CMC Shuppan, veröffentlicht 1986) beschrieben.
Die Menge des obigen Pigmentes ist 0,01 bis 50 Gew.% und mehr bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht. Wenn die Menge des Pigmentes weniger als 0,01 Gew.% ist, wird nur eine unzureichende Wirkung zur Verbesserung der Empfindlichkeit erhalten, während dann, wenn die Menge 50 Gew.% übersteigt, die Gefahr des Auftretens von Kontaminationen bei einem Nicht-Bildbereich und einer verminderten Dauerhaftigkeit der Schicht auftritt.
Unter den genannten Farbstoffen und Pigmenten sind solche, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbieren, besonders bevorzugt. Ebenso können die Pigmente und Farbstoffe in Kombinationen von zwei oder mehreren verwendet werden.
Verschiedene Additive können zum Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung ausmacht gegeben werden.
Beispielsweise kann eine polyfunktionelle Amin-Verbindung enthalten sein. Diese polyfunktionelle Amin-Verbindung hat die Fähigkeit (Vernetzungsfähigkeit), die Filmstruktur der Infrarot-empfindlichen Schicht zu stabilisieren, indem ermöglicht wird, daß die polyfunktionelle Amin-Verbindung zusammen mit den erwähnten im alkalischen Wasser löslichen Copolymer coexistiert, weil die Amin-Verbindung stark mit einer alkalilöslichen Gruppe wechselwirkt, die in dem Polymer vorhanden ist. Eine solche polyfunktionelle Amin-Verbindung bedeutet Amin-Verbindungen mit zumindest zwei oder mehreren funktionellen Gruppen. Wenn die Anzahl der funktionellen Gruppen 1 ist, wird keine Vernetzungswirkdung erzeugt und daher wird keine zusätzliche Wirkung erhalten. Die untere Grenze der Anzahl der funktionellen Gruppen ist bevorzugt 3 oder mehr angesichts der Bildungsmöglichkeit eines stärkeren Netzwerkes. Die obere Grenze der Anzahl der funktionellen Gruppen ist bevorzugt 10 oder weniger und mehr bevorzugt 6 oder weniger angesichts der Anpassungsfähigkeit für die Produktion und damit kein unlöslicher Komplex gebildet wird, der durch eine starke Wechselwirkung zwischen polyfunktionellen Gruppen gebildet wird.
Die polyfunktionelle Amin-Verbindung des Additivs ist bevorzugt in Wasser löslich oder dispergierbar. Wenn die polyfunktionelle Amin-Verbindung eine Wasserlöslichkeit oder Wasserdispergierbarkeit aufweist, die in dem sogenannten neutralen Wasser ausreichend ist, dringt eine Entwicklungslösung schnell in das Innere der Infrarot-empfindlichen Schicht ein, wodurch die Infrarot-empfindliche Schicht entfernt und die Polymerschicht hierdurch mit der Entwicklungslösung in Kontakt gebracht wird, und das im alkalischen Wasser lösliche Polymer, das die Polymerschicht ausmacht, wird in einer Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt, wenn die später erläuterte Alkalientwicklung durchgeführt wird, wodurch eine hohe Entwicklungsfähigkeit ohne Beeinträchtigung der Diskriminierung eines Bildes verursacht wird. Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, daß die Amin-Verbindung in Wasser in einer Menge von 0,5 g/l oder mehr gelöst wird, so daß die wasserlösliche Fähigkeit entfaltet wird, und in Wasser in einer Menge von 0,5 g/l oder mehr dispergiert wird, um die Wasserdispergierfähigkeit zu entfalten.
Es ist nicht bevorzugt, daß die erwähnte polyfunktionelle Amin-Verbindung, die erfindungsgemäß verwendet wird, eine Oniumstruktur aufweist, angesichts der Entwicklungsfähigkeit. Beispiele der polyfunktionellen Verbindung, die bevorzugt erfindungsgemäß verwendet werden, sind Verbindungen, die durch Zugabe einer Amin-Verbindung zu einem konventionell erhältlichen polyfunktionellen polymerisierbaren Monomer erhalten sind.
Die erfindungsgemäß verwendeten polyfunktionellen Amin-Verbindungen können alleine oder durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet werden.
Wenn die obige polyfunktionelle Amin-Verbindung zur Infrarot-empfindlichen Schicht in dieser Erfindung gegeben wird, liegt die Zugabemenge in einem Bereich von bevorzugt 3 Gew.% bis 50 Gew.%, mehr bevorzugt 10 und 10 Gew.%, bezogen auf das obige im alkalischen Wasser lösliche Polymer. Wenn die Menge weniger als 3 Gew.% ist, wird die erfindungsgemäße Wirkung unzureichend erzeugt und daher ist eine solche Menge außerhalb des obigen Bereiches nicht bevorzugt. Wenn auf der anderen Seite die Menge 50 Gew.% übersteigt, werden die Anwendungsmöglichkeit und die Beschichtbarkeit erniedrigt und daher ist eine solche Menge außerhalb des obigen Bereiches nicht bevorzugt.
Darüber hinaus fungieren auch beispielsweise andere Oniumsalze, aromatische Sulfon-Verbindungen und aromatische Sulfonat-Verbindungen als thermisch zersetzbare Materialien. Wenn diese Materialien zugegeben werden, kann daher die Fähigkeit, die Auflösung eines Bildbereiches zu erzielen, verbessert werden. Somit ist die Zugabe dieser Materialien bevorzugt.
Als obiges Oniumsalz können Diazoniumsalze, Ammoniumsalze, Phosphoniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze, Selenoniumsalze und Arsoniumsalze angegeben werden. Bevorzugte Beispiele des erfindungsgemäß verwendeten Oniumsalzes umfassen Diazoniumsalze, beschrieben in der Veröffentlichung von JP-A-5-158230 ( US 5,370,965 ), Ammoniumsalze gemäß der Beschreibung von US 4,069,055 und 4,069,056 oder der Veröffentlichung von JP-A-3-140140 , Phosphoniumsalze gemäß der Beschreibung von US 4,069,055 oder 4,069,056 , Iodoniumsalze gemäß EP-Patent 104,143 , der Beschreibung von US 339,049 und 410,201 und der Beschreibung von JP-A-2-150848 oder 2-296514 , Sulfoniumsalze gemäß der Beschreibung von EP-Patenten 370,693 , 233,567 , 297,443 und 297,442 , US 4,933,377 , 3,902,114 , 410,201 , 339,049 , 4,760,013 , 4,734,444 und 2,833,827 , DE-Patente 2,904,626 , 3,604,580 und 3,604,581 , Selenoniumsalze, beschrieben in J. V. Crivello et al., Macromelecules, 10(6), 1307 (1977) oder J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg. 17, 1047 (1979) und Arsoniumsalze beschrieben in C. S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokyo, Okt. (1988).
Als Gegenion des obigen Oniumsalzes können Hexafluorphosphorsäure und alkylaromatische Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure als Beispiele genannt werden, obwohl auch ein übliches verwendet werden kann.
Die Menge des obigen Oniumsalzes ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.%, bevorzugt 5 bis 30 Gew.% und besonders bevorzugt 10 bis 30 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte ausmacht.
Ebenso können Farbstoffe mit großer Absorption im sichtbaren Bereich als Färbemittel für ein Bild verwendet werden. Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe sind Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS und Oil Black T-505 (die obigen Produkte werden von Orient Chemical Industries hergestellt), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methylviolett (CI42535), Ethylviolett, Rhodamin B (C1145170B), Malachitgrün (CI42000), Methylenblau (CI52015), Aizen Spiron Blue C-RH (hergestellt von Hodogaya Chemical) und Farbstoffe, die in JP-A-62-293247 beschrieben sind.
Die Zugabe dieser Farbstoffe stellt sicher, daß die Diskriminierung zwischen einem Bildbereich und einem Nicht-Bildbereich nach Bildung eines Bildes klar wird und ist daher bevorzugt. Die Zugabemenge ist bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte ausmacht.
Ebenso können cyclische Anhydride, Phenole und organische Säuren zur weiteren Verbesserung der Empfindlichkeit zugegeben werden. Als cyclisches Anhydrid können Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalanhydrid, Hexyhydrophthalanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalanhydrid, Tetrachlorphthalanhydrid, Maleinanhydrid, Chlormaleinanhydrid, α-Phenylmaleinanhydrid, Succinanhydrid, Pyromellitdianhydrid oder dgl. verwendet werden.
Als Beispiele der obigen Phenole werden Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4'4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-Tetramethyltriphenylmethan genannt.
Beispiele der genannten organischen Säuren umfassen Sulfonsäure, Sulfinsäuren, Alkylsulfate, Phosphonsäure, Phosphate und Carbonsäuren, beschrieben in der Veröffentlichung von JP-A-60-88942 und 2-96755 , spezifisch p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure und p-Toluolsulfinsäure, Ethylsulfat, Phenylphosphonsäure, Phosphorphosphinsäure, Phosphorphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluolsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure.
Der Anteil des obigen cyclischen Säureanhydrides, der Phenole und der organischen Säuren im gesamten Feststoff des Materials das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte ausmacht, ist bevorzugt 0,05 bis 20 Gew.%, mehr bevorzugt 0,1 bis 15 Gew.% und besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.%.
Im Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung ausmacht, können nichtionische Tenside gemäß der Beschreibung von JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 und amphotere Tenside gemäß der Beschreibung von JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 zugegeben werden, um die Verarbeitungsstabilität für die Entwicklungsbedingungen zu verbessern.
Spezifische Beispiele des obigen nichtionischen Tensides umfassen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid und Polyoxyethylennonylphenylether.
Spezifische Beispiele des obigen amphoteren Tensides umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboyethyl-N-hydroxyimidazoliniumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain-Typen (z. B. Amorgen K (Marke), hergestellt von Daiichi Kogyo).
Der Anteil des nichtionischen und des amphoteren Tensides im gesamten Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte ausmacht, ist bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.%, und mehr bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.%.
Im Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte ausmacht, kann ein Ausdruckmittel für den Erhalt eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach Erwärmen nach Belichtung und Farbstoffe und Pigment als Bildfarbmittel zugegeben werden.
Ein typisches Beispiel des obigen Ausdruckmittels ist eine Kombination einer Verbindung (lichtempfindlicher Säureerzeuger), die eine Säure durch Wäre, die durch Belichtung verursacht wird, freisetzt, und ein organischer Farbstoff, der ein Salz ergeben kann. Spezifische Beispiele dieser Kombinationen umfassen eine Kombination aus einer o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid und eines organischen Farbstoffes, der ein Salz bilden kann, wie in der Veröffentlichung von JP-A-50-36209 und 53-8128 beschrieben ist, und eine Kombination einer Trihalomethyl-Verbindung und eines organischen Farbstoffes, der ein Salz bilden kann, wie in der Veröffentlichung von JP-A-53-36223 , 54-74728 , 60-3626 , 61-143748 , 61-151644 und 63-58440 beschrieben ist.
Als Beispiele der obigen Trihalomethyl-Verbindung sind eine Verbindung vom Oxazoltyp und vom Triazintyp, die beide eine hohe Stabilität im Verlaufe der Zeit haben und einen klaren Bildausdruck ergeben.
Die Zugabe einer Epoxy-Verbindung, Vinylether-Verbindung, Phenol-Verbindung mit einer Hydroxymethyl-Gruppe oder Alkoxymethyl-Gruppe wie in JP-A-8-276558 beschrieben, und einer vernetzbaren Verbindung mit einer Beibehaltungsfähigkeit für die Alkaliauflösung, wie in der Veröffentlichung von JP-A-11-160860 beschrieben, ist angesichts der Lagerungsstabilität erwünscht.
Darüber hinaus wird in das Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht, ein Plastifizierer nach Bedarf gegeben, um dem Film eine Flexibilität zu verleihen. Beispielsweise werden Butylphthalyl, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dicotylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat oder Oligomere oder Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure bevorzugt verwendet.
Ebenso kann ein Tensid zur Verbesserung der Beschichtungsfähigkeit, beispielsweise ein Tensid vom Fluortyp gemäß der Veröffentlichung von JP-A-62-170950 zugegeben werden. Die Menge des Tensides ist bevorzugt 0,01 bis 1 Gew.% und mehr bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.%, bezogen auf die Gesamtmenge der Infrarot-empfindlichen Schicht.
(Verfahren der Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte)
Unter Verwendung der Flachdruck-Originalplatte kann eine Flachdruckplatte vom Positivtyp gemäß dem folgenden Plattenerzeugungsverfahren hergestellt werden.
Die Flachdruckplatte wird hergestellt durch Auflösen des Materials, das die im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung ausmacht, umfassend die genannten Komponenten in einem Lösungsmittel, Auftragen der resultierenden Lösung auf einen angemessenen Träger, anschließendes Auflösen des Materials, das in Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht, in einem Lösungsmittel und Auftragen der resultierenden Lösung auf die obige im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht.
Beispiele des hier zu verwendenden Lösungsmittels umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methylethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfonan, γ-Butyrolacton, Toluol und Wasser, obwohl diesbezüglich keine Beschränkung existiert.
Diese Lösungsmittel werden alleine oder durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet. Die Konzentration der obigen Komponenten (gesamter Feststoffgehalt einschließlich Additiven) ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.%.
Die Menge (Feststoffgehalt) der im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht, die auf dem Träger gebildet ist, nach dem Auftragen und Trocknen ist bevorzugt im allgemeinen 0,1 bis 5,0 g/m², wenn die Druckplatte als lichtempfindliche Druckplatte verwendet wird, obwohl dies in Abhängigkeit von der Verwendung verschieden ist. Ebenso ist die Menge der aufzutragenden Infrarot-empfindlichen Schicht bevorzugt 0,1 bis 3,0 g/m², wenn die Filmfestigkeit berücksichtigt wird, obwohl die Infrarot-empfindliche Schicht bevorzugt dünn ist, solange sie die Fähigkeit hat, die obige im alkalischen lösliche Polymerschicht vor der Entwicklungslösung zu schützen.
Als Auftragungsverfahren können verschiedene Verfahren angewandt werden. Beispiele dieser Verfahren können eine Stangenbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserstreichbeschichtung, Blattbeschichtung und Walzenbeschichtung umfassen.
Beispiele des obigen Trägers können dimensionsstabile Plattenmaterialien wie Papier, Papier, auf dem Kunststoffe (z. B. Polyethylen, Polypropylen und Polystyrol) laminiert sind, Metallplatten (z. B. Aluminium, Zink oder Kupfer), Kunststofffilme (z. B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal) und Papier- oder Kunststofffilme umfassen, auf denen ein Metall wie Aluminium, Zink oder Kupfer niedergeschlagen oder laminiert ist.
Als obiger Träger, der erfindungsgemäß verwendet wird, sind Polyesterfilme oder Aluminiumplatten bevorzugt. Unter diesen Materialien sind Aluminiumplatten, die sehr dimensionsstabil sind und verhältnismäßig kostengünstig sind, besonders bevorzugt.
Eine bevorzugte Aluminiumplatte ist eine reine Aluminiumplatte und eine Legierungsplatte, umfassend Aluminium als Hauptkomponente und andere geringfügige Elemente oder kann ein Kunststofffilm sein, auf dem Aluminium laminiert oder niedergeschlagen ist.
Diese unterschiedlichen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, umfassen Silicium, Eisen, Mangen, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan. Die Menge der anderen Elemente in der Aluminiumlegierung ist 10 Gew.% oder weniger.
Obwohl besonders bevorzugt Aluminium in dieser Erfindung reines Aluminium ist, ist Aluminium, das andere geringfügige Elemente enthält, akzeptabel, weil die Produktion von perfekt reinem Aluminium angesichts der Raffiniertechnologie schwierig ist. Die Zusammensetzung der erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatte ist nicht auf diese Weise spezifiziert, und eine Aluminiumplatte, die eine konventionell bekannte und ein allgemeines Material ist, kann wahlweise verwendet werden.
Die Dicke der Aluminiumplatte, die erfindungsgemäß verwendet wird, ist etwa 0,1 bis 0,6 mm, bevorzugt 0,15 bis 0,4 mm und besonders bevorzugt 0,2 bis 0,3 mm.
Die Aluminiumplatte wird aufgerauht und verwendet. Eine Entfettungsbehandlung, beispielsweise unter Verwendung eines Tensides, organischen Lösungsmittels oder einer wäßrigen alkalischen Lösungsmittel wird nach Wunsch zur Entfernung von Walzenöl, das auf der Oberfläche zurückbleibt, vor dem Aufrauhen der Oberfläche der Aluminiumplatte durchgeführt.
Die Behandlung zum Aufrauhen der Oberfläche der Aluminiumplatte wird unter Verwendung von verschiedenen Verfahren durchgeführt, beispielsweise einem Verfahren, bei dem die Oberfläche mechanisch aufgerauht wird, ein Verfahren, bei dem die Oberfläche elektrochemisch durch Auflösen der Oberfläche aufgerauht wird und ein Verfahren, bei dem die Oberfläche selektiv chemisch aufgelöst wird.
Als obiges mechanisches Verfahren kann ein bekanntes Verfahren wie Kugelpolierverfahren, Bürstenpolierverfahren, Blaspolierverfahren oder Schwabbelpolierverfahren verwendet werden. Als elektrochemisches Oberflächenaufrauhverfahren gibt es ein Verfahren, bei dem die Aufrauhbehandlung in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten durch Verwendung eines a. c. oder d. c. Stroms durchgeführt wird. Ebenso kann ein Verfahren aus einer Kombination der beiden verwendet werden, wie in JP-A-54-63902 offenbart ist.
Die auf diese Weise aufgerauhte Aluminiumplatte wird einer anodischen Oxidationsbehandlung nach Wunsch unterworfen, um das Wasserrückhaltevermögen und die Abriebsresistenz der Oberfläche zu verbessern, nachdem eine Alkaliätzbehandlung und Neutralisierbehandlung nach Bedarf durchgeführt ist.
Als Elektrolyt, der für die anodische Oxidationsbehandlung der Aluminiumplatte verwendet wird, können verschiedene Elektrolyte verwendet werden, die einen porösen Oxidfilm bilden. Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure oder Chromsäure oder eine gemischte Säure aus diesen Säuren wird im allgemeinen als Elektrolyt verwendet. Die Konzentration eines jeden Elektrolyten wird in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten angemessen bestimmt.
Obwohl die Behandlungsbedingungen für die anodische Oxidation insgesamt nicht spezifiziert werden können, weil sie in Abhängigkeit von der Art des zu verwendenden Elektrolyten variieren, ist ein angemessener Bereich für jede Bedingung im allgemeinen wie folgt: Konzentration eines Elektrolyten in einer Lösung: 1 bis 80 Gew.%, Lösungstemperatur: 5 bis 70°C, Stromdichte: 6 bis 60 A/dm², Spannung: 1 bis 100 V, elektrolytische Zeit: 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Wenn die Menge des anodischen Oxidationsfilmes kleiner als 1,0 g/m² ist, wird nur eine unzureichende Druckdauerhaftigkeit erhalten. Ebenso wird ein Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte leicht beschädigt und die sogenannten Fleckenmängel, nämlich ein Phänomen, das Tinte an einen Mangelbereich während des Drucks haftet, kann auftreten.
Die Oberfläche des Aluminiums wird einer hydrophilen Behandlung nach Bedarf unterworfen, nachdem eine anodische Oxidationsbehandlung durchgeführt ist. Als hydrophile Behandlung, die erfindungsgemäß angewendet wird, gibt es ein Verfahren unter Verwendung eines Alkalimetallsilicates (z. B. eines wäßrigen Natriumsilicates), wie in der Beschreibung der US-Patente 2,714,066 , 3,181,461 , 3,280,734 und 3,902,734 angegeben ist. Bei diesem Verfahren wird der Träger einer Tauch- oder elektrolytischen Behandlung unter Verwendung einer wäßrigen Natriumsilicat-Lösung unterworfen.
Zusätzlich zu diesem Verfahren werden ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung von fluoriertem Kaliumzirkonat gemäß der Veröffentlichung von JP-B 36-22063 und ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung von Polyvinylphosphonsäure gemäß der Beschreibung von US 3,276,868 , 4,153,461 und 4,689,272 verwendet.
Bei der Flachdruck-Originalplatte kann eine Unterschicht nach Bedarf zwischen dem obigen Träger und der obigen Schicht aus dem im alkalischen Wasser löslichen Polymer gebildet sein.
Als Komponente für die Unterschicht wird eine Vielzahl von organischen Verbindungen verwendet. Die organische Verbindung wird ausgewählt auf Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäure mit einer Amino-Gruppe wie 2-Aminoethylphosphonsäure, organischen Phosphonsäuren wie Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und Ethylendiphosphonsäure, die einen Substituenten haben können, organischen Phosphorsäuren wie Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerophosphorsäure, die einen Substituenten haben können, organischen Phosphinsäure, wie Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und Glycerophosphinsäure, die einen Substituenten haben können, Aminosäuren wie Glycin und β-Alanin und Hydrochloride eines Amines mit einer Hydroxyl-Gruppe wie ein Hydrochlorid von Triethanolamin. Diese Säuren können durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet werden.
Ebenso können die erwähnten polyfunktionellen Amin-Verbindungen zur Unterschicht wie oben erwähnt gegeben werden. In diesem Fall kann die Unterschicht unter Verwendung der polyfunktionellen Amin-Verbindung zusammen mit der genannten organischen Verbindung oder nur durch Verwendung der polyfunktionellen Amin-Verbindung gebildet werden.
Die obige Unterschicht kann durch das folgende Verfahren gebildet werden.
Spezifisch gibt es ein Verfahren, bei dem eine Lösung, erhalten durch Auflösen der obigen organischen Verbindung und/oder der polyfunktionellen Amin-Verbindung in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol und Methylethylketon oder einer Mischung aus diesen Lösungsmitteln, auf die Aluminiumplatte aufgetragen und getrocknet wird, zur Bildung einer Unterschicht, und ein Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte in eine Lösung getränkt wird, erhalten durch Auflösen der obigen organischen Verbindung und/oder der polyfunktionellen Amin-Verbindung in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder eine gemischten Lösungsmittel aus diesen Lösungsmitteln, so daß diese Verbindungen an die Aluminiumplatte adsorbieren können, mit anschließendem Waschen mit Wasser oder dgl. und Trocken zur Bildung einer Unterschicht.
Bei dem zuerst genannten Verfahren kann die Lösung mit der organischen Verbindung und/oder der polyfunktionellen Amin-Verbindung in einer Konzentration von 0,005 bis 10 Gew.% durch Anwendung verschiedener Verfahren aufgetragen werden.
Beim zuletztgenannten Verfahren ist die Konzentration der Lösung 0,01 bis 20 Gew.% und bevorzugt 0,05 bis 5 Gew.%, die Tränktemperatur ist 20 bis 90°C und bevorzugt 25 bis 50°C, die Tränkzeit ist 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, bevorzugt 2 Sekunden bis 1 Minute. Als Beispiele der hierfür verwendeten Lösung werden basische Materialen wie Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid und saure Materialien wie Salzsäure und Phosphorsäure genannt. Jede dieser Lösungen wird zum Einstellen des pHs im Bereich von 1 bis 12 verwendet. Ein gelber Farbstoff kann ebenfalls zugegeben werden, um die Reproduzierbarkeit des Farbtons der Flachdruck-Originalplatte zu verbessern.
Die Menge der Unterschicht ist angemessen 2 bis 200 mg/m² und bevorzugt 5 bis 100 mg/m². Wenn die obige Menge weniger als 2 mg/m² ist, wird nur eine unzureichende Druckdauerhaftigkeit erhalten, während dann, wenn die Menge 200 mg/m² übersteigt, das gleiche Ergebnis erhalten wird.
Die erzeugte Flachdruckplatte wird üblicherweise einer Bildbelichtung und Entwicklungsbehandlung zur Bildung eines Bildes unterworfen. Als Lichtquelle für aktivierte Strahlen, die bei der Bildbelichtung verwendet werden, ist eine Lichtquelle, die in einem Wellenlängenbereich vom nahen Infrarotbereich bis zum Infrarotbereich emittiert, und ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser besonders bevorzugt.
Als Entwicklungslösung und Auffülllösung, die bei der Entwicklung der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung verwendet werden, wird eine konventionell bekannte Alkali-Entwicklungslösung, die als Hauptbestandteile eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base enthält und im wesentlich Siliciumdioxid ausschließt und kein Silicat enthält, verwendet. Erfindungsgemäß wird eine solche Entwicklungslösung nachfolgend als ”Nicht-Silicat-Entwicklungslösung” bezeichnet. Der Ausdruck ”im wesentlichen” bedeutet, daß das Vorhandensein von nicht-vermeidbaren Verunreinigungen und geringfügigem Siliciumdioxid als Nebenprodukt toleriert wird.
Beim Entwicklungsschritt der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung wird die Wirkung der Zurückhaltung des Auftretens von Mängeln verbessert, indem die obige Nicht-Silicat-Entwicklungslösung aufgetragen wird. Als wäßrige Alkali-Lösung sind solche mit einem pH von 12,5 bis 13,5 bevorzugt.
Die ”Nicht-Silicat-Entwicklungslösung”, die bei der Plattenerzeugung der Flachdruckplatte dieser Erfindung verwendet wird, umfaßt eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptbestandteile, wie oben erwähnt. Als Beispiele oder organischen Verbindung mit einer Pufferwirkung werden Saccharide (insbesondere solche mit der Formel (I) und (II)) gemäß der Veröffentlichung von JP-A-8-220775 als Verbindungen mit einer Pufferwirkung, Oxime (besonders solche mit der Formel (III)), Phenole (insbesondere solche mit der vorzugsweise (IV)) und fluorierte Alkohole (insbesondere solche mit der Formel (VI)) genannt.
Unter den Verbindungen mit den Formeln (I) bis (V) sind bevorzugte Verbindungen Saccharide mit der Formel (I), oder (II) und Phenole mit der Formel (V), und mehr bevorzugte Verbindungen sind nicht-reduzierende Zucker wie Saccharose oder Sulfosalicylsäure unter den Sacchariden mit der Formel (I) oder (II). Die nicht-reduzierenden Zucker umfassen Oligosaccharide vom Trehalose-Typ, bei denen reduzierende Gruppen unter diesen gebunden sind, Glycoside, worin eine reduzierende Gruppe von Zuckern mit Nicht-Sacchariden gebunden ist und Zuckeralkohole, erhalten durch Zugabe von Wasserstoff zur Reduktion von Zucker.
Beispiele der obigen Oligosaccharide vom Trehalose-Typ umfassen Saccharose und Trehalose und Beispiele der obigen Glycoside umfassen Alkylglycoside und Phenolglycoside und Senfölglycoside.
Beispiele der obigen Zuckeralkohole umfassen D,L-Arabit, Ribit, Xylit, D,L-Sorbit, D,L-Anethol, D,L-Iditol, D,L-Talitol, Dulcitol und Allodulcitol.
Darüber hinaus kann Maltit, erhalten durch Hydrieren eines Disaccharides und Reduktionsmitteln (reduzierter Stärkesirup) erhalten durch Hydrieren eines Oligosaccharides, als bevorzugtes Beispiel genannt werden.
Unter den obigen nicht-reduzierenden Zuckern sind Zuckeralkohole und Saccharose bevorzugt und insbesondere sind D-Sorbit, Saccharose und reduzierter Stärkesirup mehr bevorzugt, weil diese Zucker eine Pufferwirkung in einem angemessenen pH-Bereich haben.
Die oben erwähnten organischen Verbindungen mit einer Pufferwirkung können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Der durch den Zucker in einer Entwicklungslösung besetzte Anteil ist bevorzugt 0,1 bis 30 Gew.% und mehr bevorzugt 1 bis 20 Gew.%.
Ein Alkalimittel als Base kann angemessen aus konventionell bekannten Alkalimitteln ausgewählt werden und mit der obigen organischen Verbindung mit einer Pufferwirkung kombiniert werden.
Beispiele des obigen Alkalimittels umfassen anorganische Alkalimittel wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat, Diammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat und Ammoniumborat, Kaliumcitrat, Trikaliumcitrat und Natriumcitrat.
Ebenso können organische Alkalimittel wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin als bevorzugte Beispiele des Alkalimittels angegeben werden.
Diese Alkalimittel werden alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet.
Unter den obigen Alkalimitteln sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid bevorzugt. Denn der pH kann in einem breiten pH-Bereich eingestellt werden, indem die Menge des zum nicht-reduzierenden Zucker zu gebenden Alkalimittels gesteuert wird.
Ebenso sind Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat bevorzugt, weil jedes selbst eine Pufferwirkung hat.
Weiterhin ist bekannt, daß bei der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine eine große Anzahl von Flachdruckplatten ohne Austausch der Entwicklungslöung in einem Entwicklungsbehälter für eine lange Zeitperiode behandelt werden kann, indem eine wäßrige Lösung (nachfolgend gegebenenfalls als ”Auffülllösung” bezeichnet) mit einer höheren Alkalinität als die Entwicklungslösung zugegeben wird. Erfindungsgemäß wird dieses Auffüllsystem bevorzugt verwendet.
Verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel können nach Bedarf zur obigen Entwicklungslösung und Auffüllösung gegeben werden, um die Förderung oder die Zurückhaltung der Entwicklung zu erzielen und die Dispersion der Entwicklungsreste und die Affinität des graphischen Druckbereiches zur Tinte zur verbessern. Als bevorzugte Beispiele des Tensides werden anionische, kationische, nichtionische und amphotere Tenside genannt.
Weiterhin können Hydrochinon, Resorcin und reduzierende Zucker wie Natrium- und Kaliumsalze von anorganischen Säuren wie Schwefelsäure oder Hydroschwefelsäure und weiterhin organische Carbonsäure, Antischäumungsmittel und Wasserweichmacher zugegeben werden.
Die Flachdruckplatte, die unter Verwendung der obigen Entwicklungslösung und Auffüllösung entwickelt ist, wird unter Verwendung von Waschwasser, einer Spüllösung, umfassend ein Tensid und dgl. und desensibilisierenden Lösung, umfassend Gummi arabicum oder ein Stärkederivat nachbehandelt. Diese Behandlungen werden verschieden durch Kombinieren als Nachbehandlung bei einer Druckplatte verwendet, die entsprechend dem obigen Verfahren unter Verwendung der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung erzeugt ist.
Bei der Plattenerzeugung und dem Druckgebiet in den letzten Jahren wird eine automatische Entwicklungsmaschine für Druckplatten in großem Umfang für die Rationalisierung und Standardisierung der Plattenerzeugung eingesetzt. Die Flachdruckplatte, die durch diese Erfindung erhalten wird, kann in dieser automatischen Entwicklungsmaschine behandelt werden. Diese automatische Entwicklungsmaschine besteht üblicherweise aus einem Entwicklungsbereich und einem Nachbehandlungsbereich, umfassend ein System zum Zuführen einer Druckplatte, die entsprechenden Verarbeitungslösungsbehälter und ein Sprühsystem. Bei der Entwicklungsmaschine wird jede Arbeitslösung durch eine Pumpe abgezogen und von einer Sprühdüse gesprüht, während eine belichtete Druckplatte horizontal geführt wird, zur Durchführung der Entwicklung. Ebenso ist heutzutage ein Verfahren bekannt, bei dem eine Druckplatte in einen Arbeitslösungsbehälter getaucht und gezogen wird, der mit einer Arbeitslösung gefüllt wird, indem beispielsweise eine eingetauchte Führungswalze verwendet wird. Bei einem solchen automatischen Verfahren kann die Druckplatte behandelt werden, während eine Auffülllösung zu jeder Verfahrenslösung entsprechend einem Durchlauf und einer Arbeitszeit zugeführt wird. Ebenso kann das sogenannte nicht-zurückführbare Behandlungssystem unter Verwendung einer im wesentlichen nicht verwendeten Arbeitslösung zur Durchführung der Behandlung angewandt werden.
Wenn nicht notwendige Bildbereiche (z. B. ein Filmkantenzeichen eines Originalfilmes) auf der Flachdruckplatte nach der Bildbelichtung vorhanden sind, werden die Entwicklung, das Waschen mit Wasser und/oder Spülen und/oder Gummiziehen durchgeführt, und Maßnahmen können zum Löschen von nicht-notwendigen Bildbereichen durchgeführt werden.
Als obiges Löschverfahren ist ein Verfahren, bei dem eine Löschlösung auf dem nicht-notwendigen Bildbereich aufgetragen und für eine bestimmte Zeit stehengelassen wird, mit anschließendem Waschen mit Wasser, beschrieben in der Veröffentlichung von JP-B 2-13293 , bevorzugt. Jedoch kann ebenso ein Verfahren verwendet werden, bei dem aktivierte Lichtstrahlen, die durch eine optische Faser geleitet werden, auf den nicht-notwendigen Bildbereich aufgetragen werden, mit anschließender Entwicklung, wie in der Veröffentlichung von JP-A-59-174842 beschrieben ist.
Die Flachdruckplatte, die die obigen Behandlungen erfahren hat, kann einem Druckvorgang unterworfen werden, nachdem ein desensibilisierender Gummi nach Wunsch auf die Druckplatte aufgetragen ist. Eine Brennbehandlung kann durchgeführt werden, um die Druckdauerhaftigkeit zu verbessern. Wenn die Flachdruckplatte durch Brennen behandelt wird, ist es bevorzugt, die Flachdruckplatte durch Verwendung einer Oberflächenregulationslösung vor dem Brennen zu behandeln wie in der Veröffentlichung von JP-B-61-2518 , 55-28062 , 62-31859 und 61-159655 beschrieben ist. Als Behandlungsverfahren kann ein Verfahren, bei dem die Oberflächenregulationslösung auf die Oberfläche der Flachdruckplatte durch Verwendung eines Schwamms oder absorbierender Baumwolle, die mit der Lösung imprägniert ist, aufgetragen wird, ein Verfahren, bei dem Flachdruckplatte in einen Behälter getaucht wird, der mit der Oberflächenregulationslösung gefüllt ist, zum Auftragen der Lösung auf die Flachdruckplatte, und ein Verfahren zum Auftragen unter Verwendung eines automatischen Beschichters verwendet werden. Ebenso ist es mehr bevorzugt, die aufgetragene Menge durch eine Quetschwalze oder Rakel nach Beendigung der Auftragung gleichmäßig zu machen. Die Menge der Oberflächenregulationslösung, die aufgetragen wird, ist ungefähr 0,03 bis 0,8 g/m² (Trockengewicht).
Die Flachdruckplatte, die mit der Oberflächenbeschichtungslösung beschichtet ist, wird getrocknet und dann bei hohen Temperaturen erwärmt, indem ein Brennverarbeiter (z. B. Burining Processor: BP-1300) verwendet wird, der von Fuji Photo Film kommerziell erhältlich ist. Die Heiztemperatur und -zeit in diesem Fall sind bevorzugt in einem Bereich von 180 bis 300°C bzw. 1 bis 20 Minuten, obwohl diese Bedingungen in Abhängigkeit von der Art der Komponente abhängen, die ein Bild bilden.
Die Flachdruckplatte, die durch Brennen behandelt worden ist, kann angemessen Behandlungen unterworfen werden, die konventionell durchgeführt werden, wie Waschen und Gummiabziehen, je nach Bedarf. Wenn eine Oberflächenrefluationsbehandlung, umfassend eine wäßrige Polymerverbindung und dgl. verwendet wird, kann die sogenannte Desensibilisierungsbehandlung wie das Gummiabziehen weggelassen werden.
Die Flachdruckplatte, die durch die oben erwähnte Behandlungen erhalten wird, wird in einen Offsetprinter eingeführt und zum Druck von Blättern verwendet.
Beispiele
Diese Erfindung wird nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die Beispiele erläutert, die jedoch diese Erfindung nicht beschränken sollen.
(Synthese eines spezifischen Copolymers)
Synthesebeispiel <spezifisches Copolymer I>
Ein 500 ml-Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, Kondensationsrohr und Tropftrichter, wurde mit 31,0 g (0,36 mol) mit Acrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril beladen und die Mischung wurde unter Kühlen in einem Eiswasserbad gerührt. Zu der Mischung wurde tropfenweise 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin durch Verwendung des Tropftrichters über eine Stunde zugegeben. Nach Vollendung der Zugabe wurde das Eiswasserbad abgezogen und die Mischung wurde bei Umgebungstemperatur 30 Minuten gerührt.
Zur Reaktionsmischung wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid gegeben und die Mischung eine Stunde unter Erwärmen bei 70°C in einem Ölbad gerührt. Nach Beendigung der Reaktion wurde die Mischung in 1 1 Wasser unter Rühren des Wassers gegossen, und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde durch Filtration behandelt, zum Entfernen des Präzipitates, aus dem dann eine Aufschlämmung durch Zugabe von 500 ml Wasser erzeugt wurde. Die Aufschlämmung wurde filtriert und der resultierende Feststoff wurde getrocknet, unter Erhalt von N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid als weißen Feststoff (Ausbeute: 46,9 g).
Dann wurde ein 20 ml Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, Kondensationsrohr und Tropftrichter, mit 4,61 g (0,192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylnitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid beladen und die Mischung unter Wärmen bei 65°C in einem Heißwasserbad gerührt. 0,15 g, ”V-65” (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries) wurden zur Mischung gegeben, die dann 2 Stunden in einem Stickstoffstrom gerührt wurde, während die Temperatur bei 65°C gehalten wurde. Zur Reaktionsmischung wurden weiterhin tropfenweise 4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g Ethylmethacrylat, 0,80 g Acrylnitril und 0,15 g einer Mischung aus N,N-Dimethylacetamid und ”V5” über 2 Stunden durch Verwendung des Tropftrichters zugegeben. Nach Vollendung der Zugabe wurde die resultierende Mischung weiterhin 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach Beendigung der Reaktion wurden 40 mg Methanol zur Mischung gegeben, mit anschließendem Kühlen. Die resultierende Mischung wurde in 2 l Wasser gegossen, während das Wasser gerührt wurde. Die Mischung wurde 30 Minuten gerührt und dann wurde das Präzipitat durch Filtration herausgenommen, mit anschließendem Trocknen, unter Erhalt von 15 g eines weißen Feststoffes.
Das Molekulargewicht im Gewichtsmittel (Polystyrolstandard) dieses spezifischen Copolymer 1 wurde durch Gelpermeationschromatographie gemessen. Als Ergebnis war das Molekulargewicht im Gewichtsmittel 53000.
(Herstellung eines Substrates)
Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte (Material 1050) wurde mit Trichlorethylen zum Entfetten gewaschen. Dann wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte unter Verwendung einer Nylonbürste und einer 400 mesh Bimsstein/Wassersuspension gekörnt und dann sorgfältig mit Wasser gewaschen. Diese Platte wurde in eine wäßrige 25%ige Natriumhydroxid-Lösung bei 45°C 9 Sekunden getaucht, zum Ätzen, mit anschließendem Waschen. Die Platte wurde weiterhin in 20%ige Salpetersäure 20 Sekunden getaucht und dann gewaschen. Dann war die Menge des Ätzens der gekörnten Oberfläche etwa 3 g/m². Dann wurde die Platte mit einem 3 g/m² d. c. anodischen Oxidationsfilm durch Verwendung von 7%iger Schwefelsäure als Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm² gebildet. Danach wurde die Platte mit Wasser gewaschen und getrocknet. Weiterhin wurde die folgende Unterschichtlösung 1 auf die Platte aufgetragen und dann wurde der Film 1 Minute bei 90°C getrocknet. die Menge der getrockneten Beschichtung war 10 mg/m². <Unterschichtlösung 1>

– β-Alanin 0,5 g

– Methanol 95 g

– Wasser 5 g
Darüber hinaus wurde die resultierende Platte in einer wäßrigen Lösung aus 2,5 Gew.% Natriumsilicat 10 Sekunden bei 30°C behandelt. Die folgende Unterschichtlösung 2 wurde auf die Platte aufgetragen und der Film wurde bei 80°C 15 Sekunden getrocknet, unter Erhalt eines Substrates. Die Menge der getrockneten Beschichtung war 15 mg/m². <Unterschichtlösung 2>

– Unten beschriebene Verbindung 0,3 g

– Methanol 100 g

– Wasser 1 g
Molekulargewicht 28000
(Beispiel 1)
(Bildung einer ersten Schicht (Schicht aus im alkalischen Wasser löslichen Polymer))

Die folgende lichtempfindlich Lösung 1-A wurde hergestellt. Die lichtempfindliche Lösung 1-A wurde auf das resultierende Substrat aufgetragen, so daß die aufgetragene Menge 0,3/m² war, zur Bildung einer ersten Schicht. <Lichtempfindliche Lösung 1-A>

– Spezifisches Copolymer 1	0,75 g
– Tensid vom Fluor-Typ (Megafac F-177;
Dainippon Ink and Chemicals)	0,05 g
– γ-Butyrolacton	10 g
– Methylethylketon	10 g
– 1-Methoxy-2-propanol	1 g

(Bildung einerzweiten Schicht (Infrarot-empfindliche Schicht)

Die folgende lichtempfindliche Lösung 1-B wurde hergestellt. Die unten beschriebene lichtempfindliche Lösung 1-B wurde auf die erste Schicht aufgetragen, so daß die Auftragemenge 1,5 g/m² war, zur Bildung einer zweiten Schicht. <Lichtempfindliche Lösung 1-B>

– m,p-Cresolnovolak (Verhältnis von m zu p =
6/4, Molekulargewicht im Gewichtsmittel:
3500, 0,5 Gew.% nicht-reagiertes Cresol
waren enthalten)	1,00 g
– p-Toluolsulfonsäure	0,003 g
– Tetrahydrophthalsäureanhydrid	0,03 g
– Cyanin-Farbstoff A (folgende Struktur)	0,017 g
– Farbstoff, bei dem das Gegenion von
Victoria Pure Blue BOH 1-Naphthalinsulfonsäure-Anion ist	0,015 g
– Tensid vom Fluortyp (Megafac F-177;
– Dainippon Ink and Chemicals)	0,05 g
– γ-Butyrolacton	10 g
– Methylethylketon	10 g
– 1-Methoxy-2-propanol	1 g

Cyanin-Farbstoff A
Die resultierende Flachdruckplatte wurde bei einer Hauptabtastgeschwindigkeit von 5 m/s durch Verwendung eines Halbleiterlasers mit einer Ausstoßleistung von 500 mW, einer Wellenlänge von 830 nm und einem Strahldurchmesser von 17 μm (1/e²) belichtet. Die Platte wurde dann unter Verwendung eines PS-Prozessors 900 VR, hergestellt von Fuji Photo Film, entwickelt, wobei der Prozessor mit zwei Arten von Entwicklungslösungen (Entwicklungslösungen 1 und) versehen war, die die folgenden Zusammensetzungen (ohne Silicat) hatten und sich bezüglich der Verdünnung unterschieden und eine Spüllösung FR-3 (verdünnt bei einem Verhältnis von 1:7) aufwiesen.
Dann wurden Belichtungswerte, die zur Bildung eines Bildes durch jede Entwicklungslösung erforderlich waren, und ein Unterschied (Entwicklungsbreite) zwischen diesen Belichtungswerten aufgezeichnet. Ebenso wurden 60 Flachdruckplatten (30 cm × 65 cm) unter Verwendung der Entwicklungslösung 1 behandelt und danach wurde der Bildbereich der behandelten Platte visuell beobachtet, zur Bestätigung des Vorhandenseins oder der Abwesenheit von Mängeln, die vermutlich durch unlösliche Substanzen in der Entwicklungslösung verursacht waren. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. <Entwicklungslösung 1>

– D-Sorbit 5,1 Gew.-Teile

– Natriumhydroxid 1,1 Gew.-Teile

– Triethanolamin/Ethylenoxid-Addukt

(30 mol) 0,03 Gew.-Teile

– Wasser 93,9 Gew.-Teile

<Entwicklungslösung 2>

– D-Sorbit 5,1 Gew.-Teile

– Natriumhydroxid 1,1 Gew.-Teile

– Triethanolamin/Ethylenoxid-Addukt

(30 mol) 0,03 Gew.-Teile

– Wasser 140,7 Gew.-Teile
(Beispiel 2)
Eine Flachdruckplatte wurde als Beispiel 2 auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der für die lichtempfindliche Lösung 1-B von Beispiel 1 verwendet wurde, durch einen Cyanin-Farbstoff B ersetzt wurde. Die Flachdruckplatte von Beispiel 2 wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnisse sind unten in Tabelle 1 gezeigt.
Cyanin-Farbstoff B
(Beispiel 3)
Eine Flachdruckplatte wurde als Beispiel 3 auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der für die lichtempfindliche Lösung 1-b bei Beispiel 1 verwendet wurde, durch Ruß (Printex L6, hergestellt von Degussa) ersetzt wurde. Die Flachdruckplatte von Beispiel 3 wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
(Vergleichsbeispiel 1)

Eine Flachdruckplatte wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 erzeugt, mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der für die lichtempfindliche Lösung 1-B von Beispiel 1 verwendet wurde, nicht verwendet wurde, und wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnisse sind unten in Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1

	Infrarotabsorber	Empfindlichkeit		Entwicklungsbreite	Mängel bei den Bildbereichen
	Infrarotabsorber	Entwicklungslösung 1	Entwicklungslösung 2	Entwicklungsbreite	Mängel bei den Bildbereichen
Bsp. 1	Cyanin-Farbstoff A	120	125	5	nichts
Bsp. 2	Cyanin-Farbstoff B	130	140	10	nichts
Bsp. 3	Ruß	135	140	5	nichts
Vgl.-bsp. 1	nichts	kein Bild wurde gebildet
Vgl.-bsp. 2	Cyanin-Farbstoff A	115	120	5	vorhanden

(Vergleichsbeispiel 2)
Die gleiche Flachdruckplatte wie bei Beispiel 1 wurde hergestellt und auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 belichtet. Die Platte wurde dann unter Verwendung eines PS-Prozessors 900 VR, hergestellt von Fuji Photo Film, entwickelt, wobei der Prozessor mit einer Entwicklungslösung DP-4 (umfassend ein Silicat), hergestellt von Fuji Photo-Film und einer Spüllösung FR-3 (verdünnt bei einem Verhältnis von 1:7) versehen war. Als DP-4 wurden die beiden folgenden Arten gestellt, die sich bezüglich des Verdünnungsgehaltes unterschieden: eine Art (Entwicklungslösung 1 genannt), verdünnt bei einem Verhältnis von 1:8, und eine andere Art (Entwicklungslösung 2), verdünnt bei einem Verhältnis von 1:12. Belichtungswerte, die zur Bildung eines Bildes durch jede Entwicklungslösung erforderlich waren, und ein Unterschied (Entwicklungsbreite) zwischen diesen Belichtungswerten wurden aufgezeichnet. Ebenso wurden 60 Flachdruckplatten (30 cm × 65 cm) unter Verwendung der Entwicklungslösung 1 (verdünnt bei einem Verhältnis von 1:8) behandelt und danach wurde der Bildbereich der behandelten Platte beobachtet, um das Vorhandensein oder die Abwesenheit von Mängeln visuell zu beobachten, die durch unlösliche Substanzen in der Entwicklungslösung verursacht wurden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Wie aufgrund von Tabelle 1 ersichtlich ist, ergibt das Verfahren dieser Erfindung eine ausgezeichnete Empfindlichkeit und Entwicklungsbreite, und in einem Bildbereich wurden keine Mängel beobachtet. Auf der anderen Seite bildet die Flachdruck-Originalplatte von Vergleichsbeispiel 1, die keinen Infrarotabsorber in der Infrarot-empfindlichen Schicht enthielt, kein Bild. Ebenso hatte die Flachdruck-Originalplatte von Vergleichsbeispiel 2, die zur Plattenerzeugung durch Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung mit einem Silicat behandelt worden war, Mängel, die im Bildbereich erzeugt waren.
Diese Erfindung stellt sicher, daß die Plattenerzeugung direkt von digitalen Daten von Computern oder dgl. unter Verwendung eines Feststofflasers oder Halbleiterlasers, der Infrarotstrahlen emittiert, und einer Flachdruck-Originalplatte vom positiven Typ, die eine hohe Empfindlichkeit für den obigen Infrarotlaser und eine hohe Stabilität für eine Entwicklungsbehandlung aufweist, durch ein Verfahren erzielt werden kann, das das Auftreten von Mängeln reduziert.

Claims

Verfahren zur Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte, wobei das Verfahren umfasst: einen Belichtungsschritt zum Belichten eines Bildes auf einer Flachdruck-Originalplatte durch einen Infrarotlaser, wobei die Flachdruck-Originalplatte mit einer ersten Schicht, die ein Polymer enthält, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser löslich ist, und einer zweiten Schicht versehen ist, die einen Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, das in eine alkalische Entwicklungslösung nicht eindringen kann, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten enthält, und die im Wesentlich frei ist von Siliciumoxid und kein Silicat enthält, und deren Löslichkeit sich in der Alkali-Entwicklungslösung durch Wirkung von Licht oder Wärme erhöht, wobei die Schichten aufeinanderfolgend auf einem Träger vorgesehen sind; und einen Entwicklungsschritt zur Entfernung eines belichteten Bereichs der zweiten Schicht, wobei der belichtete Bereich eine erhöhte Löslichkeit in der Alkali-Entwicklungslösung durch Bildbelichtung aufweist, durch die Alkali-Entwicklungslösung, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten enthält, und die im Wesentlich frei ist von Siliciumoxid und kein Silicat enthält, wodurch ein Bereich der ersten Schicht durch die Alkali-Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt wird, der einem entfernten Bereich der zweiten Schicht entspricht.
Verfahren nach Anspruch 1, worin die organische Verbindung mit der Pufferwirkung eine Verbindung ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Sacchariden, Oximen, Phenolen und fluorierten Alkoholen.