DE69913908T2

DE69913908T2 - Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE69913908T2
Application number: DE1999613908
Authority: DE
Inventors: Ikuo Yoshida-cho Kawauchi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1999-10-06
Publication date: 2004-11-18
Anticipated expiration: 2019-10-07
Also published as: ATE257081T1; JP2000108538A; EP0992850B1; US6440633B1; EP0992850A2; JP3635203B2; DE69913908D1; EP0992850A3

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine planografische Originaldruckplatte, die als Offsetdruckform verwendet werden kann, und insbesondere eine planografische Originaldruckplatte (die durch ein sogenanntes direktes Plattenherstellungsverfahren hergestellt werden kann), die auf Basis digitaler Signale eines Computers oder dergleichen unter Verwendung eines Infrarotlasers direkt beschrieben werden kann.
Beschreibung des Standes der Technik
In der letzten Zeit hat sich die Aufmerksamkeit auf ein System fokusiert, worin eine Druckplatte auf Basis digitaler Signale eines Computers und dergleichen ohne Verwendung eines lithografischen Films direkt hergestellt wird. In diesem System sind Laser als Strahlungslichtquellen nützlich. Hochenergie- und Klein-Laser, wie Festkörperlaser und Halbleiterlaser, die Strahlen im Nahinfrarot- bis Infrarotbereich emittieren, welche Laser in der letzten Zeit bemerkenswert verbessert wurden, sind besonders nützlich.
Als Bildaufzeichnungsmaterial, das zum Schreiben unter Verwendung solcher Laser geeignet ist, wird z. B. ein positives Bildaufzeichnungsmaterial, offenbart in JP-OS (JP-A) 7-285 275, verwendet. Das darin offenbarte positive Bildaufzeichnungsmaterial umfasst einen Binder, wie ein Kresolharz, eine Substanz, die Licht zur Erzeugung von Wärme absorbiert, und eine Substanz, die thermisch zersetzt wird, wie ein Chinondiazid, und das in einem nicht-zersetzten Zustand die Löslichkeit des Binders wesentlich reduziert. Wenn das positive Bildaufzeichnungsmaterial mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird, im bestrahlten Bereich des positiven Bildaufzeichnungsmaterials, erzeugt die Substanz, die zur Wärmeerzeugung durch Lichtabsorption bereitgestellt wird, Wärme, und die Löslichkeit wird dadurch offenbart. Wenn das positive Bildaufzeichnungsmaterial mit einer wässrigen alkalischen Lösung entwickelt wird, wird anschliessend lediglich der oben beschriebene bestrahlte Bereich gelöst und entfernt, und eine Basisoberfläche wird freigelegt. Im oben beschriebenen bestrahlten Bereich (Nichtbildbereiche) wird eine hydrophile Oberfläche der Basis bestrahlt. Entsprechend hält der bestrahlte Bereich Wasser fest und bildet einen tintenabweisenden Bereich. Andererseits bleibt in einem nicht-bestrahlten Bereich, anders als dem oben genannten, bestrahlten Bereich (Bildbereich) eine lipophile lichtempfindliche Schicht zurück und deshalb wird der nicht-bestrahlte Bereich zum tintenaufnehmenden Bereich. Als Ergebnis kann die gewünschte Bildaufzeichnung erzielt werden.
Jedoch weist nicht nur solch ein Bildaufzeichnungsmaterial, sondern auch lichtempfindliche positive Originaldruckplatten, die üblicherweise weitverbreitet verwendet werden, die folgenden Probleme auf. Üblicherweise wird nämlich ein Aluminiumbasismaterial, das einer Oberflächenaufrauhung, einer alkalischen Ätzbehandlung oder einer anodischen Oxidationsbehandlung unterworfen wird, als Träger verwendet. Jedoch besitzt die Oberfläche des Aluminiumträgers nicht notwendigerweise genügend Hydrophilie, und deshalb wird im Nichtbildbereich keine ausreichende Tintenabstossungskraft erhalten und der Nichtbildbereich wird dadurch mit Tinte befleckt (d. h. Verschmutzung tritt auf). Als Ergebnis wird kein Bild mit hoher Bildqualität erhalten.
Ferner wird im bestrahlten Bereich (Nichtbildbereiche) erzeugte Wärme in den Aluminiumträger absorbiert und die thermische Effizient wird niedrig. Entsprechend wird in einem Entwicklungsverfahren die Löslichkeit des bestrahlten Bereichs in einer alkalischen Entwicklungslösung nicht ausreichend erhalten, und eine oleophile lichtempfindliche Schicht wird nicht gelöst, und ein Anteil davon verbleibt im bestrahlten Bereich nach dem Entwicklungsverfahren, wodurch die Verschmutzung verursacht wird. Als Ergebnis wird kein Bild mit hoher Bildqualität erhalten.
Um das oben genannte Problem, bei dem die Verschmutzung verursacht wird, zu lösen, war üblicherweise ein Verfahren bekannt, worin die hydrophile Eigenschaft auf einer Oberfläche des oben genannten Aluminiumträgers verbessert wird, um den bestrahlten Bereich (Nichtbildbereiche) hydrophil machen zu können. Wenn jedoch eine oleophile, lichtempfindliche, positive Schicht direkt auf dem hydrophilen Träger bereitgestellt wird, ist die Schicht-Schicht-Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht schlecht und deshalb entsteht das Problem, bei dem die Beständigkeit beim Drucken (d. h. die Fähigkeit normalen Druckens) sich verschlechtert.
Deshalb wird lediglich der bestrahlte Bereich (Nichtbildbereiche) durch Verwendung einer Entwicklungslösung, enthaltend Silicat, wie Kaliumsilicat und Natriumsilicat, während des Entwicklungsverfahrens hydrophil gemacht. Wenn jedoch die silicathaltige Entwicklungslösung verwendet wird, neigen von SiO₂ stammende Feststoffe zum Ausfallen. Wenn die Abfallflüssigkeit des Entwicklers neutralisiert wird, kann ferner von SiO₂ stammendes Gel erzeugt werden.
Entsprechend gab es einen Bedarf nach einem Verfahren, worin, selbst wenn eine oleophile, lichtempfindliche, positive Schicht direkt auf einem Träger, dessen Oberfläche zuvor hydrophil gemacht wurde, bereitgestellt wird, die Schicht-Schicht-Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schichte und die Beständigkeit beim Drucken beide hervorragend sind, was darin resultiert, dass keine Verschmutzung verursacht wird.
Unter diesen Umständen wird in US-PS 3 136 636 vorgeschlagen, dass eine Zwischenschicht, umfassend ein wasserlösliches Polymer, wie Polyacrylsäure und Carboxymethylhydroxyethylcellulose bereitgestellt wird. In diesem Fall existiert das Problem, dass keine ausreichende Beständigkeit erhalten wird. Ferner wird in US-PS 4 483 913 vorgeschlagen, dass eine Zwischenschicht, umfassend eine quaternäre Ammoniumverbindung, wie Poly(dimethyldiarylammoniumchlorid) bereitgestellt wird, aber in diesem Fall existiert das Problem, dass die oben genannte Verschmutzung auftritt.
Um verschiedene Probleme in den üblichen Bereichen zu lösen, haben die Erfinder eine planografische Druckplatte verwirklicht, die hervorragende Druckbeständigkeit besitzt und das Verschmutzen durch Bereitstellen einer Zwischenschicht verhindert, die eine Polymerverbindung mit einer bestimmten Struktureinheit, wie p-Vinylbenzoat enthält (JP-A-10-69 092).
Die oben genannte Zwischenschicht hat eine hervorragende Wirkung zur Verbesserung der Druckbeständigkeit, aber es besteht noch Raum für weitere Verbesserungen unter dem Gesichtspunkt das Auftreten von Verschmutzung zu verhindern. Wenn beispielsweise die Zwischenschicht mit einer Trägerschicht mit hervorragender Hydrophilie kombiniert wird, bewirkt dieses Gemisch, dass hervorragende Druckbeständigkeit erhalten wird und die oben genannte Verschmutzung nicht auftritt. Deshalb gab es ein Verlangen zu weiterer Verbesserung dahingehend, dass keine Verschmutzung auftritt, was eine Funktion der Zwischenschicht selbst ist.
Die vorliegende Erfindung wird bereitgestellt, um die oben genannten verschiedenen Probleme in den üblichen Bereichen zu lösen und um folgende Aufgabe zu lösen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist nämlich die Bereitstellung einer planografischen Originaldruckplatte, die mit einem Prozessor oder einem Drucker, der als solcher verwendet werden kann, direkt auf Basis digitaler Signale eines Computers usw. beschrieben werden kann und hervorragende Druckbeständigkeit besitzt und keine Verschmutzung verursacht.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die oben beschriebene Aufgabe wird durch eine erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte erreicht. Die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte umfasst nämlich eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das als Monomereinheit mindestens ein Monomer mit einer Säuregruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe einschliesst; und eine lichtempfindliche Schicht, bestehend aus einer lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser, umfassend: (A) mindestens eine im Basischen lösliche, polymere Verbindung; (B) eine Verbindung, die die Funktion besitzt, die Löslichkeit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung in einer wässrigen alkalischen Lösung aufgrund der Kompatibilität mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung zu verschlechtern, worin sich die Funktion durch erwärmen der Verbindung (B) verschlechtert; und (C) eine Verbindung, die Wärme durch Absorption von Licht erzeugt; worin die Zwischenschicht und die lichtempfindliche Schicht der Reihe nach auf einen Träger, der einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen worden war, gebildet werden.
In der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte werden bevorzugt bereitgestellt: ein Aspekt, worin das in der Zwischenschicht enthaltene Polymer eine polymere Verbindung ist, ein Aspekt, worin das Polymer in alkalischem Wasser löslich ist, ein Aspekt, worin das Zahlenmittel des Molekulargewichts des Polymers im Bereich von 300 bis 5.000 liegt, und ein Aspekt, worin das Polymer erhalten wird durch gemeinsame Verwendung eines Polymerisationsinitiators und eines Kettenübertragungsmittels während der Radikalpolymerisation. Ferner wird ebenfalls bevorzugt ein Aspekt, worin die Hydrophilisierungsbehandlung eine Oberflächenbehandlung mit einem Silicat ist, bereitgestellt.
In der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte wird, da die Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das als Monomereinheit ein Monomer mit einer Säuregruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe zwischen einem Träger und einer lichtempfindlichen Schicht bereitstellt, verglichen mit einer üblichen planografischen Originaldruckplatte, worin eine oleophile lichtempfindliche Schicht direkt auf einem Träger gebildet wird, einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen wird, die Schicht-Schicht-Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht verbessert, und die Druckbeständigkeit verbessert sich bemerkenswert.
Ferner neigt in den Nichtbildbereichen die Säuregruppe des in der Zwischenschicht enthaltenen Polymers zur Dissoziation in einer alkalischen Entwicklungslösung und deshalb wird das Polymer gelöst und aus der Oberfläche des Trägers entfernt. Ferner besitzt das Polymer auch die Oniumgruppe und deren Löslichkeit ist grösser als die eines Polymers mit lediglich einer Säuregruppe, welches Polymer in einer Zwischenschicht einer planografischen Originaldruckplatte, beschrieben in JP-A-10-69 092, enthalten ist. Entsprechend neigt in der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte die Oberfläche des Trägers, die der Hydrophilisierungsbehandlung in einem Entwicklungsverfahren unterworfen wurde, dazu, freigelegt zu werden, und das Verhindern des Auftretens einer Verschmutzung wird bemerkenswert verbessert.
BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Eine erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte wird nachstehend detailliert beschrieben. Die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte umfasst auf einem Träger davon mindestens eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das als Monomereinheit ein Monomer mit einer Säuregruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe einschliesst, und eine lichtempfindliche Schicht, enthaltend eine lichtempfindliche positive Zusammensetzung für einen Infrarotlaser (nachstehend lediglich als "lichtempfindliche Zusammensetzung" bezeichnet) und ferner andere Schichten, abhängig vom Verwendungszweck.
Zwischenschicht
Die in der Zwischenschicht enthaltene Zusammensetzung wird nachstehend beschrieben.
Die oben genannte Zusammensetzung wird durch Polymerisation mindestens eines Monomers mit einer Säuregruppe und eines Monomers mit einer Oniumgruppe zur Bildung einer Verbindung mit diesen Monomeren als Monomereinheit erhalten.
Die oben beschriebene Säuregruppe besitzt vorzugsweise einen Säuredissoziationsindex (pKa) von 7 oder weniger und -COOH, -SO₃H, -OSO₃H, -PO₃H₂, -OPO₃H₂, -CONHSO₂, -SO₂NHSO₂ und dergleichen sind weiter bevorzugt. Unter diesen ist -COOH besonders bevorzugt.
Die oben beschriebene Oniumgruppe umfasst vorzugsweise Atome der 5. oder 6. Gruppe des Periodensystems und eine Oniumgruppe, enthaltend Stickstoffatom, Phosphoratome oder Schwefelatome, ist weiter bevorzugt. Unter diesen ist die Oniumgruppe, enthaltend Stickstoffatome, besonders bevorzugt.
Unter den oben genannten Polymeren ist eine Hauptkettenstruktur davon vorzugsweise von einem Acrylharz, Methacrylharz, Polymer auf Vinylbasis, wie Polystyrol, Urethanharz, Polyester und Polyamid, und die Hauptkettenstruktur ist weiter bevorzugt die eines Vinylpolymers. Ferner ist es besonders bevorzugt, dass das Monomer mit einer Säuregruppe eine Verbindung ist, dargestellt durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (1) und (2) und das Monomer mit einer Oniumgruppe eine Verbindung ist, dargestellt durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (3), (4) und (5)
In den oben beschriebenen allgemeinen Formeln (1) und (2) stellt A eine divalente Verknüpfungsgruppe dar. B stellt eine substituierte oder unsubstituierte aromatische Gruppe dar. D und E stellen jeweils eine divalente Verknüpfungsgruppe dar. G stellt eine trivalente Verknüpfungsgruppe dar. X und X' stellen jeweils eine Säuregruppe mit einem pKa von 7 oder weniger oder ein alkalisches Metallsalz oder Ammoniumsalz davon dar. R¹ stellt ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom dar. a, b, d und e stellen jeweils 0 oder 1 dar. t stellt eine ganze Zahl von 1 bis 3 dar.
Unter den Monomeren mit einer Säuregruppe, die durch die oben beschriebenen allgemeinen Formeln (1) und (2) dargestellt sind, ist die folgende Verbindung weiter bevorzugt. Das heisst, in der Verbindung ist A -COO- oder -CONH-, B ist eine substituierte oder unsubstituierte Phenylgruppe, deren Substituenten eines aus einer Hydroxygruppe, einem Halogenatom und einer Alkylgruppe ist, D und E sind jeweils eine Alkylengruppe oder eine divalente Verknüpfungsgruppe, dargestellt durch C_nH_2nO, C_nH_2nS oder C_nH_2n+1N, G ist eine trivalente Verknüpfungsgruppe, dargestellt durch C_nH_2n–1, C_nH_2n–1O, C_nH_2n–1S oder C_nH_2nN, n ist eine ganze Zahl von 1 bis 12, X und X' stellen jeweils Carbonsäure, Sulfonsäure, Phosphonsäure, Schwefelsäuremonoester oder Phosphorsäuremonoester dar, R₁ stellt ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe dar, und a, b, d und e stellen jeweils 0 oder 1 dar (in diesem Fall stellen a und b nicht gleichzeitig 0 dar).
In der vorliegenden Erfindung ist unter den oben beschriebenen Monomeren mit einer Säuregruppe die Verbindung der allgemeinen Formel (1) weiter bevorzugt. Es ist besonders bevorzugt, eine Verbindung, worin B eine substituierte oder unsubstituierte Phenylengruppe ist, dessen Substituent eine aus einer Hydroxygruppe oder einer Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen ist, D und E jeweils eine Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen oder eine Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen, verknüpft durch Sauerstoffatome, darstellen, R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe ist, X eine Carbonsäuregruppe ist, a 0 ist und b 1 ist, zu verwenden.
Konkrete Beispiele dieser Monomere mit einer Säuregruppe sind nachstehend gezeigt. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese beschränkt. Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Itaconsäure, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid und dergleichen können nämlich verwendet werden. Ferner werden auch folgende Verbindungen verwendet.
Das oben beschriebene Monomer mit einer Oniumgruppe ist vorzugsweise eine Verbindung, dargestellt durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (3), (4) und (5):
In den oben beschriebenen allgemeinen Formeln (3), (4) und (5) stellt J eine divalente Verknüpfungsgruppe dar. K stellt eine substituierte oder unsubstituierte aromatische Gruppe dar. M stellt eine divalente Verknüpfungsgruppe dar. Y₁ stellt ein Atom der 5. Gruppe des Periodensystems dar. Y₂ stellt ein Atom der 6. Gruppe des Periodensystems dar. Z^– stellt ein Gegenanion dar. R₂ stellt ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom dar. R₃, R₃, R₅ und R₇ stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eines aus einer Alkylgruppe, einer aromatischen Gruppe und einer Aralkylgruppe, an die eine Substituentengruppe gebunden sein kann, dar. R₆ stellt substituiertes oder unsubstituiertes Alkyliden dar. R₄ und R₄, und R₆ und R₇ sind jeweils zur Bildung eines Rings miteinander verbunden. j, k und m stellen jeweils 0 oder 1 dar. u stellt eine ganze Zahl von 1 bis 3 dar.
Ein bevorzugteres Beispiel der oben beschriebenen Monomere mit einer Oniumgruppe ist eine Verbindung, worin J -COO- oder -CONH- ist, K eine substituierte oder unsubstituierte Phenylengruppe darstellt, worin eine Substituentengruppe in der substituierten Phenylgruppe eine Hydroxygruppe, Halogengruppe oder Alkylgruppe ist, M eine divalente Gruppe, dargestellt durch eine Alkylengruppe, C_nH_2nO, C_nH_2nS oder C_nH_2n+1N, ist; n eine ganze Zahl von 1 bis 12 ist; Y₁ ein Stickstoffatom oder ein Phosphoratom darstellt; Y₂ ein Schwefelatom darstellt; Z^– ein Halogenion, PF₆ ^–, BF₄ ^– oder RgSO₃ ^– darstellt, R₂ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellt; R₃, R₄, R₅ und R₇ jeweils eines aus einer Alkylgruppe, einer aromatischen Gruppe und einer Aralkylgruppe darstellen, die jeweils 1 bis 10 Kohlenstoffatome aufweisen und an die ein Wasserstoffatom oder eine Substituentengruppe gebunden sein kann, R₆ eine Alkylidengruppe oder substituiertes Alkyliden mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen (worin R₃ und R₄ oder R₆ und R₇ miteinander zur Bildung eines Rings verbunden sein können) darstellt, j, k und m jeweils 0 oder 1 darstellen (worin j und k nicht gleichzeitig 0 sind), und R₃ eines aus einer Alkylgruppe, einer aromatischen Gruppe und einer Aralkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, an welches eine Substituentengruppe gebunden sein kann, darstellt.
Ein besonders bevorzugtes Beispiel der oben beschriebenen Monomere mit einer Oniumgruppe ist eine Verbindung, worin K eine substituierte oder unsubstituierte Phenylengruppe ist, worin eine Substituentengruppe der substituierten Phenylengruppe ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen ist, M eine Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen oder eine Alkylengruppe mit 1 bis 2 Kohlenstoffatomen, die durch Sauerstoffatome miteinander verbunden sind, darstellt, Z^– ein Chlorion oder R₈SO₃ ^– darstellt, R₂ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt, j 0 ist, k 0 ist, und R₃ eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen darstellt.
Konkrete Beispiele des oben beschriebenen Monomers mit einer Oniumgruppe sind nachstehend beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf diese Beispiele beschränkt.
Die oben beschriebenen Polymere können jeweils die Monomer mit einer Säuregruppe, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr, enthalten, oder können die Monomere mit einer Oniumgruppe, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr, enthalten.
Wenn die oben beschriebenen Polymere die Monomere mit einer Säuregruppe enthalten, ist der Anteil der Monomere mit einer Säuregruppe üblicherweise 1 mol.-% oder mehr, vorzugsweise 5 mol.-% oder mehr. Wenn die Polymere die Monomere mit einer Oniumgruppe enthalten, ist der Gehalt der Monomere mit einer Oniumgruppe üblicherweise 1 mol.-% oder mehr, vorzugsweise 5 mol.-% oder mehr. Wenn der Gehalt der Monomere mit einer Säuregruppe 20 mol.-% oder mehr beträgt, werden Lösen und Entfernen der Verbindung während der alkalischen Entwicklung weiter gefördert. Wenn der Gehalt der Monomere mit einer Oniumgruppe 1 mol.-% oder mehr ist, wird die Schicht-Schicht-Haftung zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht aufgrund eines synergistischen Effekts mit der Säuregruppe weiter verbessert.
Das oben beschriebene Polymer kann auch als Copolymerisationskomponente mindestens eines, ausgewählt aus polymeren Monomeren, beschrieben in den folgenden Monomeren (1) bis (14), enthalten.

(1) Acrylamide, Methacrylamide, Acrylate, Methacrylate und Hydroxystyrole, die jeweils eine aromatische Hydroxygruppe, wie N-(4-Hydroxyphenyl)-acrylamide oder N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamide, o-, m- oder p-Hydroxystyrol, o- oder m-Brom-p-hydroxystyrol, o-, m- oder m-Chlor-p-hydroxystyrol oder o-, m- oder p-Hydroxyphenylacrylat oder -methacrylat, aufweisen;
(2) ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid und Halbester davon, Itaconsäure, Itaconsäureanhydrid und Halbester davon;
(3) Acrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)-acrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid, N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]acrylamid und N-(2-Aminosulfonyletherl)acrylamid, Methacrylamide, wie N-(o-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, N-[1-(3-Aminosulfonyl)naphthyl]methacrylamid und N-(2-Aminosulfonylethyl)methacrylamid, ungesättigte Sulfonamide, wie Acrylate, z. B. o-Aminosulfonylphenylacrylat, m-Aminosulfonylphenylacrylat, p-Aminosulfonylphenylacrylat und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)acrylat, und ungesättigte Sulfonamide, wie Methacrylate, z. B. o-Aminosulfonylphenylmethacrylat, m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, p-Aminosulfonylphenylmethacrylat und 1-(3-Aminosulfonylphenylnaphthyl)methacrylat;
(4) Phenylsulfonylacrylamid, das möglicherweise eine Substituentengruppe, wie Tosylacrylamid, aufweist, und Phenylsulfonylmethacrylamid, das möglicherweise eine Substituentengruppe, wie Tosylmethacrylamid, aufweist;
(5) Acrylate und Methacrylate, die jeweils eine aliphatische Hydroxygruppe aufweisen, z. B. 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dergleichen;
(6) (substituierte) Acrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Phenylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, Glycyzylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat;
(7) (substituierte) Methacrylate, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Octylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Glycyzylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat;
(8) Acrylamide oder Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Hexylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid, N-Nitrophenylmethacrylamid, N-Ethyl-N-phenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylmethacrylamid;
(9) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether;
(10) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat und Vinylbenzoat;
(11) Styrole, wie Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol;
(12) Vinylketone, wie Methylethylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon;
(13) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren;
(14) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril.

Durch richtiges Verändern der Art, des Zusammensetzungsverhältnisses und des Molekulargewichts der Monomere in den oben beschriebenen Polymeren können verschiedene Polymere erhalten werden.
Typische Beispiele der Polymere sind nachstehend beschrieben. Das Zusammensetzungsverhältnis einer Polymerstruktur bedeutet mol.-%.
BEISPIELE TYPISCHER POLYMERER VERBINDUNGEN
Die oben beschriebenen Polymere können im allgemeinen durch Radikalkettenpolymerisation hergestellt werden (siehe "Textbook of Polymer Science", 3. Auflage (1984), F. W. Billmeyer, eine Wiley-Interscience-Veröffentlichung).
Das Molekulargewicht aller oben beschriebenen Polymere kann in einem weiten Bereich sein, aber wenn es unter Verwendung des Lichtstreuungsverfahrens gemessen wird, ist das durchschnittliche Polymerisations-Molekulargewicht (Mw) vorzugsweise im Bereich von 500 bis 2.000.000, weiter bevorzugt 1.000 bis 600.000. Ferner ist das Zahlenmittel des Molekulargewichts (Mn), berechnet aus der integrierten Intensität einer Endgruppe und einer funktionellen Gruppe einer Seitenkette in einer NMR-Messung, vorzugsweise im Bereich von 300 bis 500.000, weiter bevorzugt im Bereich von 500 bis 100.000.
Wenn das Molekulargewicht des oben genannten Polymers geringer als die obere Grenze des oben genannten numerischen Bereichs ist, wird die Schicht-Schicht-Haftungsfestigkeit des Trägers und der lichtempfindlichen Schicht schwach und die Druckbeständigkeit kann sich verschlechtern. wenn andererseits das Molekulargewicht die Obergrenze des numerischen Bereichs übersteigt, wird die Schicht-Schicht-Haftungsfestigkeit des Trägers und der lichtempfindlichen Schicht besonders stark und es tritt die Möglichkeit auf, dass Reste der lichtempfindlichen Schicht in Nichtbildbereichen nicht ausreichend entfernt werden können.
Ferner kann die Menge an im oben beschriebenen Polymer enthaltenem nicht-umgesetzten Monomer in einem grossen numerischen Bereich sein, aber sie ist vorzugsweise 20 Gew.-% oder weniger, weiter bevorzugt 10 Gew.-% oder weniger.
Ein Polymer, dessen Molekulargewicht im oben genannten numerischen Bereich liegt, wird erhalten durch gemeinsame Verwendung eines Kettenübertragungsmittels und eines Polymerisationsinitiators, wenn es mit einem entsprechenden Monomer copolymerisiert wird, und durch Einstellen der zugegebenen Menge des Monomers.
Das oben genannte Kettenübertragungsmittel ist eine Substanz, die eine aktive Reaktionsstelle aufgrund einer Kettenübertragungsreaktion in der Polymerisationsreaktion überträgt und die Geschwindigkeit der Übertragungsreaktionsfrequenz wird durch die Kettenübertragungskonstante (Cs) ausgedrückt.
Die Kettenübertragungskonstante Cs × 10⁴ (60°C) des Kettenübertragungsmittels ist vorzugsweise 0,01 oder mehr, weiter bevorzugt 0,1 oder mehr, und am bevorzugtesten 1 oder mehr.
Konkrete Beispiele des Kettenübertragungsmittels sind Halogenverbindungen, wie Tetrachlorkohlenstoff und Tetrabromkohlenstoff, Alkohole, wie Isopropylalkohol oder Isobutylalkohol, Olefine, wie 2-Methyl-1-buten, 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-penten oder dergleichen, schwefelhaltige Verbindungen, wie Ethanthiol, Butanthiol, Dodecanthiol, Mercaptoethanol, Mercaptopropanol, Mercaptomethylpropionat, Mercaptoethylpropionat, Mercaptopropionat, Thioglykolat, Ethyldisulfid, sek-Butyldisulfid, 2-Hydroxyethyldisulfid, Thiosalicylat, Thiophenol, Thiokresol, Benzylmercaptan und Phenethylmercaptan. Unter diesen werden Ethanthiol, Butanthiol, Dodecanthiol, Mercaptoethanol, Mercaptopropanol, Mercaptomethylpropionat, Mercaptoethylpropionat, Mercaptopropionat, Thioglykolat, Ethyldisulfid, sek-Butyldisulfid, 2-Hydroxyethyldisulfid, Thiosalicylat, Thiophenol, Thiokresol, Benzylmercaptan und Phenethylmercaptan bevorzugt verwendet. Ferner werden Ethanthiol, Butanthiol, Dodecanthiol, Mercaptoethanol, Mercaptopropanol, Mercaptomethylpropionat, Mercaptoethylpropionat, Mercaptopropionat, Thioglykolat, Ethyldisulfid, sek-Butyldisulfid und 2-Hydroxyethyldisulfid besonders bevorzugt verwendet.
Als oben beschriebener Polymerisationsinitiator können ein Peroxid, eine Azoverbindung und ein Redoxinitiator, die üblicherweise häufig bei der Radikalpolymerisation verwendet werden, als solche verwendet werden. Unter diesen ist eine Azoverbindung besonders bevorzugt.
Als nächstes werden Synthesebeispiele jedes der oben genannten Polymere beschrieben.
SYNTHESE 1 – Synthese von Polymer Nr. 1
50,4 g p-Vinylbenzoat (hergestellt von Hokko Chemical Industry Co., Ltd.), 15,2 g Triethyl(p-vinylbenzil)-ammoniumchlorid, 1,9 g Mercaptoethanol und 153,1 g Methanol wurden in einen 2 l-Dreihalskolben gegeben, auf 60°C erwärmt und bei dieser Temperatur gehalten, während unter einem Stickstoffstrom gerührt wurde. Zu dieser Lösung wurden 2,8 g 2,2'-Azobis(isobuttersäure)dimethyl gegeben, gefolgt von 30-minütigem Rühren. Anschliessend wurde eine Lösung aus einer Mischung von 201,5 g p-Vinylbenzoat, 60,9 g Triethyl(p-vinylbenzil)ammoniumchlorid, 7,5 g Mercaptomethanol und 11,1 g 2,2'-Azobis(isobuttersäure), gelöst in 612,3 g Methanol, zur Reaktionsmischung während 2 Stunden zugetropft. Nach Vervollständigung der Umsetzung wurde die Reaktionsmischung 10 Stunden bei 65°C unter einem Stickstoffstrom gerührt. Nach der Umsetzung wurde die Mischung zum Abkühlen auf Raumtemperatur stehengelassen. Die Ausbeute der Reaktionsmischung betrug 1.132 g und die Dichte an Feststoffen betrug 30,5 Gew.-%.
Das Zahlenmittel des Molekulargewichts (Mn) des erhaltenen Polymers betrug 2.100 gemäss ¹³C-NMR-Spektrum.
SYNTHESE 2 – Synthese von Polymer Nr. 2
Ein Polymer mit einem Zahlenmittel des Molekulargewichts (Mn) von 4.800 wurde erhalten durch Durchführung des Verfahrens der Synthese 1, ausser dass Triethyl-(p-vinylbenzil)ammoniumchlorid durch eine m/p (2/1)-Mischung von Triethyl(vinylbenzil)ammoniumchlorid und Mercaptoethanol durch Mercaptoethylpropionat ersetzt wurden.
SYNTHESE 3 – Synthese von Polymer Nr. 25
146,9 g (0,99 mol) p-Vinylbenzoat (hergestellt von Hokko Chemical Industry Co., Ltd.), 44,2 g (0,21 mol) Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und 446 g 2-Methoxyethanol wurden in einen 1 l-Dreihalskolben gegeben, auf 75°C erwärmt und bei dieser Temperatur gehalten, während unter einem Stickstoffstrom gerührt wurde. Zu dieser Lösung wurden 2,76 g (12 mmol) 2,2-Azobis(isobuttersäure)dimethyl gegeben, gefolgt von Rühren. Nach 2 Stunden wurden zur Mischung 2,76 g (12 mmol) 2,2-Azobis(isobuttersäure)dimethyl gegeben. Ferner wurden nach 2 Stunden noch einmal 2,76 g (12 mmol) 2,2-Azobis(isobuttersäure)dimethyl zugegeben. Dann wurde die Mischung 2 Stunden gerührt und anschliessend zum Abkühlen auf Raumtemperatur stehengelassen. Die Reaktionsmischung wurde in 12 l Ethylacetat unter Rühren gegossen. Ein ausgefälltes Polymer wurde abfiltriert und getrocknet. Die Ausbeute des Polymers betrug 189,5 g. Die massegemittelte Molekularmasse (Mw) des erhaltenen Polymers betrug 32.000 entsprechend einer Molekulargewichtsmessung unter Verwendung des Lichtstreuungsverfahrens.
Ferner kann erfindungsgemäss zusätzlich zu obigem Polymer eine Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (6), zur Zwischenschicht gegeben werden: (HO)_m-R₁-(COOH)_n (6)
In der obigen allgemeinen Formel (6) stellt R₁ eine Arylengruppe mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen dar, und m und n sind jeweils eine ganze Zahl von 1 bis 3.
Die durch die allgemeine Formel (6) dargestellte Verbindung wird nachstehend beschrieben.
Die durch R₁ dargestellte Arylengruppe besitzt vorzugsweise 6 bis 10 Kohlenstoffatome und konkret werden eine Phenylengruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe, eine Phenanthrylgruppe und dergleichen verwendet.
Die durch R₁ dargestellte Arylengruppe kann substituiert sein durch eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Alkenylgruppe mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Alkinylgruppe mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine Carbonsäureestergruppe, eine Alkoxygruppe, eine Phenoxygruppe, eine Sulfonatgruppe, eine Phosphonsäureestergruppe, eine Sulfonylamidgruppe, eine Nitrogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Aminogruppe, eine Hydroxygruppe, ein Halogenatom, eine Ethylenoxidgruppe, eine Propylenoxidgruppe oder eine Triethylammoniumchloridgruppe.
Konkrete Beispiele der durch obige allgemeine Formel (6) dargestellte Verbindungen schliessen ein: 3-Hydroxybenzoat, 4-Hydroxybenzoat, Salicylsäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 2-Hydroxy-3-naphthoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoat, 10-Hydroxy-9-anthracencarbonsäure und dergleichen. Diese Verbindungen können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
Die Zwischenschicht, enthaltend das oben genannte Polymer, und die durch die allgemeine Formel (6) dargestellte Verbindung, die abhängig vom Bedarf zugegeben wird, werden auf einem Aluminiumträger gebildet, der einer Hydrophilisierungsbehandlung, die später beschrieben wird, durch verschiedene Beschichtungsverfahren unterworfen wird.
Die Zwischenschicht kann durch jedes der nachstehend beschriebenen Verfahren gebildet werden. Beispielsweise werden das Polymer und die durch die allgemeine Formel (6) dargestellte Verbindung, die abhängig vom Bedarf zugegeben wird, in einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder in einer Mischung davon, oder in einem Lösungsmittel, enthaltend das organische Lösungsmittel und beigefügtes Wasser, zur Herstellung einer Lösung, gelöst, und anschliessend wird die Lösung auf einem Aluminiumträger zur Bereitstellung einer Schicht aufgebracht, die dann getrocknet wird. Alternativ werden das Polymer und die durch die allgemeine Formel (6) dargestellte Verbindung, die abhängig vom Bedarf zugegeben wird, in einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder einer Mischung davon, oder in einem Lösungsmittel, enthaltend das organische Lösungsmittel und beigefügtes Wasser, zur Herstellung einer Lösung, gelöst, und anschliessend wird ein Aluminiumträger in die Lösung eingetaucht, zur Bereitstellung einer Schicht, die dann mit Wasser gespült und getrocknet wird.
Im vorangegangen Verfahren kann eine Lösung, enthaltend 0,005 bis 10 Gew.-% der Verbindung, durch verschiedene Verfahren aufgebracht werden. Beispiele der Verfahren schliessen Stabbeschichten, Rotationsbeschichten, Sprühbeschichten, Vorhangbeschichten und dergleichen ein.
Im letzteren Verfahren liegen die Konzentration der Lösung im Bereich von 0,005 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, die Eintauchtemperatur im Bereich von 0 bis 70°C, vorzugsweise im Bereich von 5 bis 60°C, und die Eintauchzeit im Bereich von 1 Sekunde bis 5 Minuten, vorzugsweise im Bereich von 0,5 Sekunden bis 2 Minuten.
Der pH der aufzubringenden Lösung wird auf einen Wert von 0 bis 12, vorzugsweise 0 bis 6 eingestellt, durch Verwendung einer Base, wie Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid, einer anorganischen Säure, wie Salzsäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure, verschiedener organischer Säuren, wie organisches Sulfonat, z. B. Nitrobenzolsulfonsäure oder Naphthalinsulfonsäure, organischem Phosphonat, z. B. Phenylphosphonsäure, und organischer Carbonsäure, z. B. Benzoat, Cumarinsäure oder Äpfelsäure, organischem Chlorid, wie Naphthalinsulfonylchlorid oder Benzolsulfonylchlorid oder dergleichen. Ferner kann eine Substanz, die ultraviolettes Licht, sichtbares Licht oder Infrarotlicht absorbiert, zu der oben genannten Lösung gegeben werden, um die Reproduzierbarkeit der Oberflächeneigenschaften der planografischen Originaldruckplatte zu verbessern.
Die geeignete Beschichtungsmenge nach dem Trocknen der Beschichtungslösung liegt im Bereich von insgesamt 1 bis 100 mg/m², vorzugsweise im Bereich von 2 bis 70 mg/m².
Falls die Beschichtungsmenge weniger als 1 mg/m² beträgt oder 100 mg/m² übersteigt, kann der gewünschte Effekt nicht erhalten werden.
Lichtempfindliche Schicht
Die lichtempfindliche positive Zusammensetzung für einen Infrarotlaser, die in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist, schliesst mindestens ein: (A) im Basischen lösliche polymere Verbindungen, (B) Verbindungen, die die Funktion besitzen, die Löslichkeit der im Basischen löslichen polymeren Verbindungen in einer wässrigen alkalischen Lösung aufgrund der Kompatibilität mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung zu verschlechtern, und worin sich verschiedene Funktionen verschlechtern; und (C) Verbindungen, die Wärme durch Absorption von Licht erzeugen, und schliesst ferner andere Komponenten, abhängig vom Bedarf ein.
(A) Im Basischen lösliche polymere Verbindungen (nachstehend als "Komponente (A)" bezeichnet)
Die im Basischen löslichen polymeren Verbindungen sind nicht besonders beschränkt, so lange sie im allgemeinen wohl bekannt sind. Vorzugsweise schliessen sie jeweils in einem Molekül davon ein: eine funktionelle Gruppe, ausgewählt aus (1) einer phenolischen Hydroxygruppe, (2) einer Sulfonamidgruppe und (3) einer aktiven Imidgruppe. Als im Basischen lösliche polymere Verbindungen können folgende Verbindungen verwendet werden. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese beschränkt.
(1) Beispiele der polymeren Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxygruppe schliessen ein: Novolakharze, wie ein Phenol/Formaldehyd-Harz, m-Kresol/Formaldehyd-Harz, p-Kresol/Formaldehyd-Harz, gemischtes m-Kresol/p-Kresol-Formaldehyd-Harz und Phenol/Kresol (das m-Kresol, p-Kresol oder eine Mischung von m- und p-Kresol sein kann) gemischtes Formaldehydharz; und ein Pyrogallol/Aceton-Harz.
Als polymere Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxygruppe können auch vorzugsweise polymere Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxygruppe in einer Seitenkette verwendet werden. Beispiele der polymeren Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxygruppe in einer Seitenkette schliessen polymere Verbindungen ein, die erhalten werden durch Homopolymerisation eines polymeren Monomers, umfassend niedermolekulare Verbindungen mit jeweils mindestens einer ungesättigten Bindung, die polymerisiert werden kann mit einer phenolischen Hydroxygruppe oder durch Copolymerisation des obigen polymeren Monomers mit einem anderen polymeren Monomer.
Beispiele der polymeren Monomere mit einer phenolischen Hydroxygruppe schliessen ein: phenolische Hydroxygruppe enthaltendes Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat, Hydroxystyrol und dergleichen. Konkrete Beispiele dieser Monomere schliessen ein: N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)-acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)-methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)-ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)-ethylmethacrylat und dergleichen. Diese Harze können einzeln oder in einer Kombination von zwei oder mehr verwendet werden. Ferner kann jedes dieser Harze kombiniert werden mit einem Kondensationspolymerisationsprodukt aus einem Phenol, substituiert mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen und Formaldehyd, wie ein t-Butylphenol/Formaldehyd-Harz oder Octylphenol/Formaldehyd-Harz, wie in US-PS 4 123 279 beschrieben.
(2) Eine polymere Verbindung, die eine Sulfonamidgruppe aufweist und in alkalischem Wasser löslich ist, wird erhalten durch Homopolymerisation eines polymeren Monomers mit einer Sulfonamidgruppe oder durch Copolymerisation des Monomers mit einem anderen polymeren Monomer.
Beispiele der polymeren Monomere mit einer Sulfonamidgruppe schliessen ein Monomer ein, enthaltend eine Verbindung, die ein niedriges Molekulargewicht besitzt und in einem Molekül davon mindestens eine Sulfonamidgruppe (-NH-SO₂-) mit mindestens einem Wasserstoffatom, geknüpft an ein Stickstoffatom, zusammen mit mindestens einer ungesättigten Bindung, die zur Polymerisation fähig ist, besitzt. Unter diesen polymeren Monomeren wird eine Verbindung mit einem niedrigen Molekulargewicht und mit einer Acryloylgruppe, einer Allylgruppe oder einer Vinyloxygruppe, zusammen mit einer substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonylgruppe oder einer substituierten Sulfonyliminogruppe, bevorzugt verwendet.
Beispiele dieser Verbindungen schliessen die durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (I) bis (V) dargestellten Verbindungen ein.
In den allgemeinen Formeln (I) bis (V) stellen X¹ und X² jeweils -O- oder -NR⁷- dar. R¹ und R⁴ stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH₃ dar. R², R⁵, R⁹, R¹² und R¹⁶ stellen jeweils eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe dar, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und möglicherweise eine Substituentengruppe aufweist. R³, R⁷ und R¹³ stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder alternativ eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe dar, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und möglicherweise eine Substituentengruppe aufweist. R⁶ und R⁷ stellen jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe und eine Aralkylgruppe dar, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und möglicherweise eine Substituentengruppe aufweist. R⁸, R¹⁰ und R¹⁴ stellen jeweils Wasserstoff oder -CH₃ dar. R¹¹ und R¹⁵ stellen jeweils eine Einfachbindung oder alternativ eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe dar, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und möglicherweise eine Substituentengruppe aufweist. Y¹ und Y² stellen jeweils eine Einfachbindung oder -CO- dar.
Konkrete Beispiele der Verbindungen schliessen ein: m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid und N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid.
(3) Eine polymere Verbindung, die eine aktive Imidgruppe aufweist und in alkalischem Wasser löslich ist, besitzt vorzugsweise in einem Molekül davon eine aktive Imidgruppe, dargestellt durch folgende Formel. Die polymere Verbindung wird erhalten durch Homopolymerisation eines polymeren Monomers, umfassend eine Verbindung mit einem niedrigen Molekulargewicht und mit in einem Molekül davon mindestens einer aktiven Amidgruppe, dargestellt durch die nachstehend angegebene Formel, zusammen mit mindestens einer ungesättigten Verbindung, die zur Polymerisation fähig ist, oder durch Copolymerisation des obigen Monomers mit einem anderen polymeren Monomer:
Bevorzugte spezifische Beispiele der Verbindungen schliessen N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid ein.
In der vorliegenden Erfindung werden als oben genannte, im Basischen lösliche, polymere Verbindungen eine polymere Verbindung, erhalten durch Polymerisation von zwei oder mehr des polymeren Monomers mit einer phenolischen Hydroxygruppe, des polymeren Monomers mit einer Sulfonamidgruppe und des polymeren Monomers mit einer aktiven Imidgruppe, oder alternativ einer polymeren Verbindung, erhalten durch Copolymerisation von zwei oder mehr dieser polymeren Monomere mit einem anderen polymeren Monomer, vorzugsweise verwendet.
Wenn das polymere Monomer mit einer Sulfonamidgruppe und/oder das polymere Monomer mit einer aktiven Imidgruppe mit dem polymeren Monomer mit einer phenolischen Hydroxygruppe copolymerisiert wird, ist das Gewichtsverhältnis der Monomere vorzugsweise im Bereich von 50 : 50 bis 5 : 95, weiter bevorzugt 40 : 60 bis 10 : 90.
In der vorliegenden Erfindung, wenn die im Basischen lösliche polymere Verbindung ein Copolymer ist, das das polymere Monomer mit einer phenolischen Hydroxygruppe oder das polymere Monomer mit einer Sulfonamidgruppe oder das polymere Monomer mit einer aktiven Imidgruppe einschliesst, und ebenfalls ein anderes polymeres Monomer einschliesst, ist der Gehalt des Monomers, das Löslichkeit in alkalischem Wasser vermittelt, vorzugsweise im Bereich von 10 mol.-% oder mehr, weiter bevorzugt im Bereich von 20 mol.-% oder mehr. Wenn der Gehalt des Monomers, das Löslichkeit in alkalischem Wasser vermittelt, geringer als 10 mol.-% ist, neigt die Löslichkeit in alkalischem Wasser dazu, ungenügend zu werden, und die Verbesserung der Entwicklungstiefe wird möglicherweise nicht ausreichend erzielt.
Beispiele von Monomeren, die als Monomerkomponente verwendet werden können, um mit dem polymeren Monomer mit einer phenolischen Hydroxygruppe, dem polymeren Monomer mit einer Sulfonamidgruppe oder dem polymeren Monomer mit einer aktiven Imidgruppe copolymerisiert zu werden, schliessen Monomere der nachstehend aufgeführten Punkte (1) bis (12) ein, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese beschränkt.

(1) Acrylate und Methacrylate, die jeweils eine aliphatische Hydroxygruppe aufweisen und durch 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dergleichen veranschaulicht werden;
(2) Alkylacrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat;
(3) Alkylmethacrylate, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat;
(4) Acrylamide oder Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid;
(5) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether;
(6) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyral und Vinylbenzoat;
(7) Styrole, wie α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol;
(8) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon;
(9) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren;
(10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril und dergleichen;
(11) ungesättigte Imide, wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)-methacrylamid;
(12) ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.

Wenn in der vorliegenden Erfindung die im Basischen lösliche polymere Verbindung ein Homopolymer, umfassend das polymere Monomer mit einer phenolischen Hydroxygruppe, das polymere Monomer mit einer Sulfonamidgruppe oder das polymere Monomer mit einer aktiven Imidgruppe, oder alternativ ein Copolymer ist, ist die massegemittelte Molekularmasse davon vorzugsweise 2.000 oder mehr, weiter bevorzugt 500 bis 300.000. Das Zahlenmittel des Molekulargewichts der polymeren Verbindung ist vorzugsweise 500 oder mehr, weiter bevorzugt 800 bis 250.000. Der Index des Polydispersionsgrades (massegemittelte Molekularmasse/Zahlenmittel des Molekulargewichts) der polymeren Verbindung liegt vorzugsweise im Bereich von 1,1 bis 10.
Ferner ist in der vorliegenden Erfindung, wenn die im Basischen lösliche polymere Verbindung ein Harz, wie ein Phenol/Formaldehyd-Harz oder Kresol/Aldehyd-Harz, ist, die massegemittelte Molekularmasse des Harzes vorzugsweise im Bereich von 500 bis 20.000, und das Zahlenmittel des Molekulargewichts des Harzes liegt vorzugsweise im Bereich von 200 bis 10.000.
Die oben genannten, im Basischen löslichen polymeren Verbindungen können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
Die Menge der im Basischen löslichen polymeren Verbindung, enthalten in der lichtempfindlichen Schicht, liegt üblicherweise im Bereich von 30 bis 99 Gew.-%, vorzugsweise im Bereich von 40 bis 95 Gew.-%, und weiter bevorzugt im Bereich von 50 bis 90 Gew.-%, auf Basis des Gesamtgewichts der Feststoffe der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Falls die Menge der im Basischen löslichen polymeren Verbindung geringer als 30 Gew.-% ist, kann die Beständigkeit der lichtempfindlichen Schicht verschlechtert werden. Falls die Menge 99 Gew.-% übersteigt, können sowohl die Empfindlichkeit als auch die Haltbarkeit ungenügend werden.
(B) Verbindungen, die die Funktion besitzen, die Löslichkeit der im Basischen löslichen polymeren Verbindungen in einer wässrigen alkalischen Lösung aufgrund der Kompatibilität mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindungen zu verschlechtern, und worin sich verschiedene Funktionen durch Erwärmen verschlechtern (nachstehend als "Komponente (B)" bezeichnet)
Die Komponente (B) besitzt eine hervorragende Kompatibilität mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung (Komponente (A)) durch die Wirkung einer in einem Molekül davon vorhandenen Wasserstoff-bindenden funktionellen Gruppe, was dadurch die Bildung einer gleichmässigen Beschichtungsflüssigkeit erlaubt, und sie ist eine Verbindung, die die Funktion besitzt, die Löslichkeit der im Basischen löslichen, polymeren Verbindung in alkalischem Wasser aufgrund einer Wechselwirkung mit der Komponente (A) zurückzuhalten. Ferner verschlechtert sich (verschwindet) die oben genannte Funktion der Komponente (B) beim Erwärmen. Wenn die Komponente (B) selbst eine Verbindung ist, die durch Erwärmen zersetzt wird, es sei denn dass genügend Energie zur Zersetzung, abhängig von den Bedingungen, wie Laseroutput, Bestrahlungszeit und dergleichen, bereitgestellt wird, wird die oben genannte Funktion nicht ausreichend unterdrückt und die Empfindlichkeit kann sich dadurch verschlechtern. Entsprechend ist die thermische Zersetzungstemperatur der Komponente (B) vorzugsweise 150°C oder mehr.
Bevorzugte spezifische Beispiele der Komponente (B) schliessen Verbindungen ein, die mit der Komponente (A) Wechselwirken, wie eine Sulfonverbindung, ein Ammoniumsalz, ein Phosphoniumsalz und eine Amidverbindung.
Komponente (B) muss unter Berücksichtigung der Wechselwirkung mit Komponente (A) geeignet ausgewählt werden. Konkret wird, wenn beispielsweise ein Novolakharz einzeln als Komponente (A) verwendet wird, ein Cyaninfarbstoff (A), der nachstehend veranschaulicht wird, in geeigneter Weise verwendet.
Das Mischungsverhältnis der Komponente (A) zur Komponente (B) liegt vorzugsweise im Bereich von 99 : 1 bis 75 : 25.
Wenn die Menge der Komponente (B) geringer als 99 : 1 ist, wird keine ausreichende Wechselwirkung mit der Komponente (A) erhalten und die Löslichkeit in alkalischem Wasser kann nicht inhibiert werden. Deshalb ist es schwierig, ein zufriedenstellendes Bild zu erhalten. Wenn die Menge der Komponente (B) grösser als 75 : 25 ist, wird die Wechselwirkung übermässig gross und die Empfindlichkeit verschlechtert sich auffällig. Beide Fälle sind nicht bevorzugt.
(C) Verbindungen, die Wärme durch Absorption von Licht erzeugen (nachstehend als "Komponente (C)" bezeichnet)
Verbindungen, die Wärme durch Absorption von Licht erzeugen, sind diejenigen mit einer Lichtabsorption in einem Infrarotbereich von üblicherweise 700 nm oder mehr, vorzugsweise 750 bis 1.200 nm, und zeigen eine Licht/Wärme-Umwandlungsfunktion durch Licht der Wellenlänge im obigen Bereich. Konkrete Beispiele der Verbindungen schliessen verschiedene Pigmente und Farbstoffe ein, die jeweils Wärme durch Absorption von Licht im oben genannten Wellenlängenbereich erzeugen.
Die obigen Pigmente schliessen kommerziell erhältliche Pigmente und die Pigmente, beschrieben in "Color Index (C. I.) Handbook", "The Handbook of the Latest Pigments" (Saishin Ganryo Binran), herausgegeben von der Japan Association of Pigment Technologies (Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai) (1977), "latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo, Gijutsu), CMC, 1986, und "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMC, 1984, ein.
Beispiele der Arten von Pigmenten schliessen schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orangefarbene Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente und Polymere, enthaltend chemisch kombinierte Farbstoffe ein. Spezifische Beispiele der Pigmente schliessen unlösliche Azopigmente, Azolackpigmente, kondensierte Azopigmente, chelatisierte Azopigmente, Pigmente auf Phthalocyaninbasis, Pigmente auf Anthrachinonbasis, Pigmente auf Perylen- und Perinonbasis, Pigmente auf Thioindigobasis, Pigmente auf Chinacridonbasis, Pigmente auf Dioxazinbasis, Pigmente auf Isoindolinonbasis, Pigmente auf Chinophthalonbasis, gefärbte Lackpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente, Russ und dergleichen ein.
Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung oder nach einer Oberflächenbehandlung verwendet werden. Die obige Oberflächenbehandlung ist nicht besonders beschränkt und Beispiele davon schliessen ein Verfahren, worin ein Harz oder Wachs auf die Oberfläche des Pigments beschichtet wird, ein Verfahren, worin ein Tensid auf der Oberfläche des Pigments angehaftet wird, und ein Verfahren, worin eine reaktive Substanz (z. B. ein Silan-Kupplungsmittel, eine Epoxyverbindung oder ein Polyisocyanat) mit der Oberfläche des Pigments verknüpft wird, ein. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind beispielsweise beschrieben in "Properties and Applications of Metal Soaps" (Saiwai Shobo Co., Ltd.), "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMC, 1984, und "latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986.
Der Durchmesser der Pigmente liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 μm, weiter bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 1 μm und am bevorzugtesten im Bereich von 0,1 bis 1 μm.
Falls der Durchmesser geringer als 0,1 μm ist, ist die Dispersionsstabilität der Pigmente in einer zur Herstellung der lichtempfindlichen Schicht verwendeten Beschichtungsflüssigkeit ungenügend, und falls der Durchmesser grösser als 10 μm ist, ist die Gleichmässigkeit der lichtempfindlichen Schicht schlecht.
Zur Herstellung von Tinte, Toner und dergleichen angewendete, bekannte Dispersionstechnologien können zum Dispergieren der Pigmente verwendet werden. Bekannte Dispergiermaschinen können zur Dispersion der Pigmente verwendet werden, und Beispiele der Dispergiermaschinen schliessen eine Ultraschall-Dispergiermaschine, eine Sandmühle, eine Reibmühle, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, eine Dispergiermaschine, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, einen Druckkneter und dergleichen ein. Details dieser Dispergiertechnologien sind in "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986, beschrieben.
Die obigen Farbstoffe schliessen kommerziell erhältliche Farbstoffe und Farbstoffe, beschrieben in "Handbook of Dyes", herausgegeben von der Association of Organic Synthesis (Yuki Gosei Kagaku Kyokai) (1970), ein. Spezifische Beispiele der Farbstoffe schliessen Azofarbstoffe, Azofarbstoffe in Form eines metallischen Komplexsalzes, Pyrazolonazofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe ein.
Unter diesen Pigmenten und Farbstoffen sind die Pigmente und Farbstoffe, die Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren, besonders zur erfindungsgemässen Verwendung unter Berücksichtigung der Geeignetheit zur Verwendung in Kombination mit einem Laser, der Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlen emittiert, geeignet.
Russ kann geeigneterweise als Pigment verwendet werden, das Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlen absorbiert. Beispiele der Farbstoffe, die Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren und geeignet verwendet werden können, schliessen ein: Cyaninfarbstoffe, beispielsweise beschrieben in JP-A Nrn. 58-125 246, 59-84 356, 59-202 829 und 60-78 787; Methinfarbstoffe, beispielsweise beschrieben in JP-A Nrn. 58-173 696, 58-181 690 und 58-194 595; Naphthochinonfarbstoffe, beispielsweise beschrieben in JP-A Nrn. 58-112 793, 58-224 793, 59-48 187, 59-73 96, 60-52 940 und 60-63 744; Squaryliumfarbstoffe, beispielsweise beschrieben in JP-A Nr. 58-112 792; Cyaninfarbstoffe, beschrieben in GB-PS 434 875; und Dihydropyrimidinsquaryliumfarbstoffe, beschrieben in US-PS 5 380 635 .
Andere Verbindungen, die geeigneterweise als Farbstoffe verwendet werden können, schliessen einen Nahinfrarot-Absorptionssensibilisator, beschrieben in US-PS 5 156 938 , ein. Ausserdem schliessen besonders geeignete Verbindungen ein: ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, beschrieben in US-PS 3 881 924 ; Trimethinthiopyryliumsalz, beschrieben in JP-A-57-142 645 ( US-PS 4 327 169 ); auf Pyrylium basierende Verbindungen, beschrieben in in JP-A Nrn. 58-181 051, 58-220 143, 59-41 363, 59-84 248, 59-84 249, 59-146 063 und 59-146 061; einen Cyaninfarbstoff, beschrieben in JP-A-59-216,146; ein Pentamethinthiopyryliumsalz, beschrieben in US-PS 4 283 475; Pyriliumverbindungen, beschrieben in JP-B Nrn. 5-13 514 und 5-19 702; Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125, Epolight IV-62A und dergleichen.
Weitere Beispiele besonders bevorzugter Farbstoffe schliessen die in US-PS 4 756 993 durch die Formeln (I) und (II) dargestellten nahinfrarotabsorbierenden Farbstoffe ein.
Die zugegebene Menge des Pigments oder der Farbstoffe beträgt üblicherweise 0,01 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 10 Gew.-%, auf Basis des Gesamtgewichts der Feststoffe in der lichtempfindlichen Schicht. Die Menge der Farbstoffe liegt weiter bevorzugt im Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-%, und die Menge des Pigments liegt weiter bevorzugt im Bereich von 3,1 bis 10 Gew.-%.
Wenn die zugegebene Menge des Pigments oder der Farbstoffe geringer als 0,01 Gew.-% ist, kann die Empfindlichkeit verschlechtert werden. Wenn die zugegebene Menge des Pigments oder der Farbstoffe grösser als 50 Gew.-% ist, kann die Gleichmässigkeit der lichtempfindlichen Schicht nicht aufrecht erhalten werden und die Haltbarkeit der lichtempfindlichen Schicht kann schlechter werden.
Diese Pigmente oder Farbstoffe können zusammen mit anderen Komponenten zur gleichen Schicht oder alternativ zu einer anderen Schicht gegeben werden. Wenn die Pigmente oder Farbstoffe zu einer anderen Schicht gegeben werden, werden sie vorzugsweise zu einer Schicht, benachbart zu der, die die Komponente (B) enthält, gegeben. Ferner werden das obige Pigment oder die Farbstoffe vorzugsweise zur gleichen Schicht gegeben, die die Komponente (A) enthält, kann aber auch zu einer unterschiedlichen Schicht gegeben werden.
In der vorliegenden Erfindung können die obigen Komponenten (B) und (C) ersetzt werden durch eine Verbindung mit den Eigenschaften beider Komponenten (nachstehend als "Komponente (B + C)" bezeichnet) und die Verbindung wird z. B. durch die folgende allgemeine Formel (Z) dargestellt:
In der obigen allgemeinen Formel (Z) stellen R₁ bis R₄ jeweils ein Wasserstoffatom oder alternativ eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Cycloalkylgruppe oder eine Arylgruppe dar, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und möglicherweise eine Substituentengruppe aufweist. R₁ und R₂, und R₃ und R₄ können sich jeweils zur Bildung einer cyclischen Struktur vereinigen. R₁ bis R₄ werden jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Wasserstoffatom, einer Methylgruppe, einer Ethylgruppe, einer Phenylgruppe, einer Dodecylgruppe, einer Naphthylgruppe, einer Vinylgruppe, einer Allylgruppe und einer Cyclohexylgruppe. Wenn diese Gruppen jeweils eine Substituentengruppe aufweisen, schliessen Beispiele der Substituentengruppe ferner ein Halogenatom, eine Carbonylgruppe, eine Nitrogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Carboxygruppe, einen Carbonsäureester und einen Sulfonester ein.
R₅ bis R₁₀ stellen jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen und möglicherweise einer Substituentengruppe dar. R₅ bis R₁₀ werden jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einer Methylgruppe, einer Ethylgruppe, einer Phenylgruppe, einer Dodecylgruppe, einer Naphthylgruppe, einer Vinylgruppe, einer Allylgruppe und einer Cyclohexylgruppe. Wenn diese Gruppen jeweils eine Substituentengruppe aufweisen, schliessen Beispiele der Substituentengruppe ferner ein Halogenatom, eine Carbonylgruppe, eine Nitrogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Carboxygruppe, einen Carbonsäureester und einen Sulfonsäureester ein.
R₁₁ bis R₁₃ stellen jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen und möglicherweise eine Substituentengruppe dar. R₁₂ kann verknüpft sein mit R₁₁ oder R₁₃ zur Bildung einer cyclischen Struktur, und wenn m > 2, können mehrere R₁₂ sich auch miteinander zur Bildung einer cyclischen Struktur verbinden. R₁₁ bis R₁₃ werden jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Chloratom, einer Cyclohexylgruppe, einem Cyclopentylring, umfassend mehrere verbundene R₁₂, und einem Cyclohexylring. Wenn diese Gruppen jeweils eine Substituentengruppe aufweisen, schliessen Beispiele der Substituentengruppe ein Halogenatom, eine Carbonlgruppe, eine Nitrogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Carboxygruppe, einen Carbonsäureester und einen Sulfonsäureester ein. Ferner stellt m eine ganze Zahl von 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 3 dar.
R₁₄ und R₁₅ stellen jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen und möglicherweise einer Substituentengruppe dar. R₁₄ kann mit R₁₅ zur Bildung einer cyclischen Struktur verknüpft sein, und wenn m > 2, können sich mehrere R₁₄ zur Bildung einer cyclischen Struktur verbinden. R₁₄ und R₁₅ werden jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Chloratom, einer Cyclohexylgruppe, einem Cyclopentylring, umfassend mehrere verbundene R₁₄, und Cyclohexylring. Wenn diese Gruppen jeweils eine Substituentengruppe aufweisen, schliessen Beispiele der Substituentengruppe ein Halogenatom, ein Carbonylatom, eine Nitrogruppe, eine Nitrilgruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Carboxygruppe, einen Carbonsäureester und einen Sulfonsäureester ein. Ferner stellt m eine ganze Zahl von 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 3, dar.
In der obigen allgemeinen Formel (Z) stellt X^– ein Anion dar. Konkrete Beispiele des Anions schliessen Perchlorsäure, Borsäuretetrafluorid, Phosphorsäurehexafluorid, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 5-Sulfonsalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure ein. Unter diesen sind Phosphorsäurehexafluorid oder alkylaromatische Sulfonate, wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure oder 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, besonders bevorzugt.
Die durch die allgemeine Formel (Z) dargestellte Verbindung ist eine üblicherweise als Cyaninfarbstoff bezeichnete Verbindung. Konkret werden die nachstehend gezeigten Verbindungen geeigneterweise verwendet. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Beispiele beschränkt.
Cyaninfarbstoff A
Cyaninfarbstoff B
Cyaninfarbstoff C
Cyaninfarbstoff D
Cyaninfarbstoff F
Die obige Komponente (B + C) besitzt die Eigenschaft, dass sie Wärme durch Absorption von Licht erzeugt (d. h. die Eigenschaft der Komponente (C)) und einen Lichtabsorptionsbereich im Infrarotbereich von 700 bis 1.200 nm besitzt, und ferner zufriedenstellend mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung kompatibel ist. Die obige Komponente ist ein basischer Farbstoff und besitzt in einem Molekül davon eine Gruppe, die mit der im Basischen löslichen, polymeren Verbindung wechselwirkt, wie eine Ammoniumgruppe oder eine Iminiumgruppe (d. h. die Eigenschaft der Komponente (B)). Entsprechend wechselwirkt die Komponente (B + C) mit der im Basischen löslichen, polymeren Verbindung, um die alkalische Löslichkeit zu kontrollieren, und kann deshalb in der vorliegenden Erfindung geeignet verwendet werden.
Wenn die Komponente (B + C) anstelle der Komponente (B) und der Komponente (C) verwendet wird, ist in der vorliegenden Erfindung das Additionsverhältnis der Komponente (B + C) zur Komponente (A) vorzugsweise im Bereich von 99 : 1 bis 70 : 30, unter dem Gesichtspunkt der Empfindlichkeit, und weiter bevorzugt im Bereich von 99 : 1 bis 75 : 25.
Andere Komponenten
Verschiedene Additive können in die lichtempfindliche positive Zusammensetzung für einen Infrarotlaser, abhängig vom Bedarf, eingeschlossen werden. Beispielsweise können cyclische Säureanhydride, Phenole, organische Säuren und eine Sulfonylverbindung zur Verbesserung der Empfindlichkeit verwendet werden.
Beispiele des cyclischen Säureanhydrids schliessen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ⁴-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid, wie in US-PS 4 115 128 beschrieben, ein.
Beispiele der Phenole schliessen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan und dergleichen ein.
Beispiele der organischen Säuren schliessen Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphate und Carbonsäuren, wie beispielsweise in JP-A Nrn. 60-88 942 und 2-96 755 beschrieben, ein. Konkrete Beispiele dieser organischen Säuren schliessen p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure, Ascorbinsäure, Bishydroxyphenylsulfon, Methylphenylsulfon, Diphenyldisulfon und dergleichen ein.
Die Menge des in der lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser enthaltenen cyclischen Säureanhydrids, Phenols oder der organischen Säure liegt vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 20 Gew.-%, bevorzugter im Bereich von 0,1 bis 15 Gew.-%, und am bevorzugtesten im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%, auf Basis des Gesamtfeststoffgewichts der Zusammensetzung.
Ferner kann zur Verbreiterung der Stabilität beim Verarbeiten bezüglich der Entwicklungsbedingungen die lichtempfindliche positive Zusammensetzung für einen Infrarotlaser ein nicht-ionisches Tensid, wie in JP-A Nrn. 62-251 740 und 3-203 514 beschrieben, oder ein amphoteres Tensid, wie in JP-A Nrn. 59-121 044 und 4-13 149 beschrieben, enthalten.
Spezifische Beispiele des nicht-ionischen Tensids schliessen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether und dergleichen ein.
Spezifische Beispiele des amphoteren Tensids schliessen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Salzsäuresalz von Alkylpolyaminoethylglycin, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain, N-Tetradecyl-N,N-betain [z. B. Amogen K (Warenname), hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) und dergleichen ein.
Die Menge des nicht-ionischen Tensids oder des amphoteren Tensids, die in der lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser enthalten ist, liegt vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-%, auf Basis des Gesamtfeststoffgewichts der Zusammensetzung.
Ferner kann die lichtempfindliche positive Zusammensetzung für einen Infrarotlaser einen Farbstoff oder ein Pigment als Auskopiermittel (printing-out agent), was die Herstellung eines sichtbaren Bildes sofort nach bestrahlungserzeugtem Erwärmen ermöglicht, oder als Bildfärbemittel enthalten.
Als typisches Beispiele des Auskopiermittels kann eine Kombination einer Verbindung, die eine Säure beim bestrahlungsinduzierten Erwärmen freisetzt (d. h. ein Fotosäure freisetzendes Mittel) und eines organischen Farbstoffs, der ein Salz bilden kann, genannt werden.
Spezifische Beispiele des Auskopiermittels schliessen eine Kombination von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonylhalogenid und einem organischen Farbstoff, der ein Salz bildet, wie in JP-A Nrn. 50-36 209 und 53-8 128 beschrieben, und eine Kombination einer Trihalogenmethylverbindung und eines organischen Farbstoffs, der ein Salz bildet, wie in JP-A Nrn. 53-36 223, 54-74 728, 60-3 626, 61-143 748, 61-151 644 und 63-58 440 beschrieben, ein. Beispiele der Trihalogenmethylverbindung schliessen eine Verbindung auf Oxazolbasis und eine Verbindung auf Triazinbasis ein, die beide zur Bereitstellung einer guten zeitlichen Lagerfähigkeit und eines klaren Auskopierbildes wirksam sind.
Ein anderer Farbstoff als die oben genannten salzbildenden Farbstoffe kann ebenfalls als Färbemittel verwendet werden. Geeignete Farbstoffe schliessen öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe zusätzlich zu den salzbildenden organischen Farbstoffen ein.
Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe schliessen Ölgelb Nr. 101, Ölgelb Nr. 103, Ölpink Nr. 312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau Nr. 603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS, Ölschwarz T-505 (Warennamen, alle hergestellt von Orient Chemical Industries, Co., Ltd.), Victoriareinblau, Kristallviolett (C. I. 42555), Methylviolett (C. I. 42535), Ethylviolett, Rhodamin B (C. I. 145170B), Malachitgrün (C. I. 42000), Methylenblau (C. I. 52015) und dergleichen ein. Die in JP-A Nrn. 62-293 247 und 5-313 359 beschriebenen Farbstoffe sind besonders bevorzugt. Die Menge des in der lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser enthaltenen Farbstoffs liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 3 Gew.-%, auf Basis des Gesamtfeststoffgewichts der Zusammensetzung.
Ferner kann, falls notwendig, ein Weichmacher zur lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser zur Verleihung von Flexibilität für eine Beschichtungsschicht zugegeben werden.
Beispiele des Weichmachers schliessen Butylphthalyl, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, ein Oligomer oder ein Polymer von Acrylsäure oder Methacrylsäure und dergleichen ein.
Ferner kann, falls notwendig, eine Verbindung, die durch Licht zersetzt wird, wie Chinondiazide oder Diazoverbindungen, zur lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser gegeben werden.
Die zur lichtempfindlichen positiven Zusammensetzung für einen Infrarotlaser zugegebene Menge der Verbindung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 5 Gew.-%, auf Basis des Gesamtfeststoffgewichts der Zusammensetzung.
Herstellung einer lichtempfindlichen Schicht
Die oben genannte, lichtempfindliche Schicht kann üblicherweise hergestellt werden durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit, worin die oben genannten Komponenten in einem Lösungsmittel gelöst sind, auf einen geeigneten Träger.
Beispiele des erfindungsgemäss verwendeten Lösungsmittels schliessen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton, Toluol und dergleichen ein. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
Die Konzentration der Komponenten (Gesamtfeststoffe, einschliesslich Additive) im Lösungsmittel liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%. Die Menge an Beschichtung (Feststoffen) nach dem Beschichten und Trocknen auf dem Träger variiert in Abhängigkeit von den Verwendungen, aber die gewünschte Menge liegt üblicherweise im Bereich von 0,5 bis 5,0 g/m² für eine lichtempfindliche Druckplatte.
Das Beschichtungsverfahren ist nicht besonders beschränkt und es können verschiedene Verfahren verwendet werden. Beispiele dieser Verfahren schliessen Stabbeschichten, Rotationsbeschichten, Sprühbeschichten, Vorhangbeschichten, Tauchbeschichten, Luftmesserbeschichten, Klingenbeschichten, Walzenbeschichten und dergleichen ein.
Wenn die Beschichtungsmenge abnimmt, nimmt offensichtlich die Empfindlichkeit zu, aber die Beschichtungseigenschaften der lichtempfindlichen Schicht werden verschlechtert.
Um die Beschichtungseigenschaften zu verbessern, kann ein Tensid zur lichtempfindlichen Schicht zugegeben werden. Ein Beispiel dieses Tensids ist ein Tensid auf Fluorbasis, wie in JP-A-62-170 950 beschrieben. In diesem Fall liegt die Menge des zugegebenen Tensids vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 1 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, auf Basis des Gesamtfeststoffgewichts der lichtempfindlichen Schicht.
Träger
Der Träger, der erfindungsgemäss verwendet wird, ist ein formbeständiges plattenähnliches Material. Spezifische Beispiele des Substrats schliessen Papier, kunststofflaminiertes Papier (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol oder dergleichen), Metallplatten (wie Aluminium, Zink und Kupfer), Kunststoffilme (wie Diacetylcellulose, Triacetylcellulose, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal) und Papier oder Kunststoffilme, laminiert oder dampfbeschichtet mit den oben beschriebenen Metallen, ein.
Unter diesen Materialien sind ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte bevorzugt. Die Aluminiumplatte ist besonders bevorzugt, da sie eine gute Formbeständigkeit aufweist und relativ billig ist.
Bevorzugte Beispiele der Aluminiumplatte schliessen eine reine Aluminiumplatte und eine Platte einer Aluminiumlegierung, enthaltend Aluminium als Hauptkomponente zusammen mit Spuren anderer Elemente, ein.
Ein weiteres Beispiel des Substrats ist ein Kunststoffilm, der mit Aluminium laminiert oder dampfbeschichtet ist. Beispiele der in der Aluminiumlegierung enthaltenen anderen Elemente schliessen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismut, Nickel und Titan ein. Die Gesamtmenge der in der Aluminiumlegierung enthaltenen anderen Elemente beträgt 10 Gew.-% oder weniger.
Obwohl das Aluminium, das erfindungsgemäss besonders bevorzugt verwendet wird, reines Aluminium ist, kann das erfindungsgemäss verwendete Aluminium eine geringe Menge anderer Elemente enthalten, da Einschränkungen in den Veredelungstechnologien die Herstellung von perfekt reinem Aluminium schwierig machen. Entsprechend ist die Zusammensetzung der erfindungsgemäss verwendeten Aluminiumplatte nicht besonders beschränkt, und eine Aluminiumplatte aus einem üblicherweise bekannten Material kann erfindungsgemäss geeignet verwendet werden.
Die Dicke der erfindungsgemäss verwendeten Aluminiumplatte beträgt ca. 0,1 bis 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 bis 0,4 mm, und am bevorzugtesten 0,2 bis 0,3 mm.
Vor der Oberflächenaufrauhung der Aluminiumplatte wird, falls gewünscht, eine Säuberungsbehandlung durchgeführt, um Walzöl von der Oberfläche der Aluminiumplatte durch beispielsweise ein Tensid, ein organisches Lösungsmittel, eine wässrige alkalische Lösung oder dergleichen zu entfernen.
Die Oberflächenaufrauhung der Aluminiumplatte kann durch verschiedene Verfahren durchgeführt werden. Beispiele dieser Verfahren schliessen ein Verfahren ein, worin die Oberfläche mechanisch aufgerauht wird, ein Verfahren, worin die Oberfläche durch elektrochemisches Lösen aufgerauht wird, und ein Verfahren, worin die Oberfläche auf selektive Weise chemisch aufgerauht wird.
Das mechanische Verfahren kann ein üblicherweise bekanntes Verfahren, wie Kugelabrieb, Bürsten, Strahlen und Polieren sein. Ein Beispiel des elektrochemischen Verfahrens ist die Elektrolyse der Aluminiumplatte in einer Elektrolytlösung, wie Salzsäure oder Salpetersäure, unter Verwendung von Wechselstrom oder Gleichstrom. Eine Kombination eines mechanischen Verfahrens und eines elektrochemischen Verfahrens kann ebenfalls verwendet werden, wie in JP-A-54-63 902 beschrieben.
Falls erforderlich, wird die oberflächenaufgerauhte Aluminiumplatte dann einer Alkaliätzbehandlung und einer Neutralisierungsbehandlung unterworfen, und anschliessend wird die Aluminiumplatte einer Anodisierungsbehandlung unterworfen, um die Wasserretention und den Abriebwiderstand der Oberfläche zu erhöhen.
Verschiedene Elektrolyte, die eine poröse Oxidschicht hervorbringen können, können als Elektrolyt für die Anodisierungsbehandlung verwendet werden, und im allgemeinen können Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine Mischung dieser Säuren als Elektrolyte verwendet werden. Die Konzentration des Elektrolyten kann in Abhängigkeit vom Typ des Elektrolyten geeignet bestimmt werden.
Die Bedingungen für die Anodisierungsbehandlung variieren in Abhängigkeit vom angewendeten Elektrolyten und können nicht uneingeschränkt festgelegt werden. Die im allgemeinen angewendeten Bedingungen sind wie folgt: Konzentration der Elektrolytlösung: 1 bis 80 Gew.-%; Temperatur der Lösung: 5 bis 70°C; Stromdichte: 5 bis 60 A/dm²; Spannung: 1 bis 100 V; Elektrolysedauer: 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Die durch die Anodisierungsbehandlung gebildete Schicht beträgt vorzugsweise 1,0 g/m² oder mehr, weiter bevorzugt im Bereich von 2,0 bis 6,0 g/m².
Wenn die Menge der durch die Anodisierungsbehandlung gebildeten Schicht 1,0 g/m² beträgt, besitzt die Oberfläche keine ausreichende Druckbeständigkeit und die Nichtbildbereiche neigen zur Bildung von Kratzern, die Drucktinte während des Druckens sammeln, wodurch "Kratzschmutz" gebildet wird.
Obwohl eine zu bedruckende Oberfläche einer Anodisierungsbehandlung unterworfen wird, wird im allgemeinen eine Schicht von 0,01 bis 3 g/m² auch durch die Anodisierungsbehandlung auf der Rückseite des Trägers aufgrund einer rückseitigen elektrischen Kraftlinie gebildet.
Die Oberfläche des Trägers kann nach der Anodisierungsbehandlung hydrophil gemacht werden und die Hydrophilisierungsbehandlung kann ein übliches bekanntes Verfahren sein.
Beispiele der Hydrophilisierungs-Oberflächenbehandlung schliessen eine Behandlung der Oberfläche mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilicats (wie Natriumsilicat), wie in den US-PSen 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902 734 beschrieben, ein, worin der Träger eingetaucht wird in oder elektrolytisch behandelt wird mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilicat. Weitere Beispiele sind die Oberflächenbehandlung mit einem Kaliumfluorzirconat, wie in JP-B-36-22 063 beschrieben, und eine Oberflächenbehandlung mit einer Polyvinylphosphonsäure, wie in den US-PSen 3 276 868, 4 153 461 und 4 689 272 beschrieben.
Unter diesen Behandlungen ist erfindungsgemäss die Hydrophilisierungs-Oberflächenbehandlung mit einem Silicat besonders bevorzugt.
Die Oberflächenbehandlung mit einem Silicat wird nachstehend beschrieben. Die Aluminiumplatte, worauf die Schicht durch die Anodisierungsbehandlung gebildet wird, wird in eine wässrige Lösung mit 0,1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 10 Gew.-% Alkalimetallsilicat und einem pH von 10 bis 13 bei 25°C für 0,5 bis 120 Sekunden bei ca. 15 bis 80°C eingetaucht.
Wenn der pH der wässrigen Lösung des Alkalimetallsilicats geringer als 10 ist, gelatisiert die wässrige Lösung, und falls der pH grösser als 13,0 ist, wird die durch die Anodisierungsbehandlung gebildete Schicht gelöst.
Beispiele des Alkalimetallsilicats schliessen Natriumsilicat, Kaliumsilicat und Lithiumsilicat ein.
Beispiele des zur Erhöhung des pH-Werts der wässrigen Lösung von Alkalimetallsilicat verwendeten Hydroxids schliessen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein.
Ein Erdalkalimetallsalz oder ein Metallsalz der Gruppe IVB des Periodensystems kann mit der oben beschriebenen Lösung vermischt werden.
Beispiele des Erdalkalimetallsalzes schliessen wasserlösliche Salze ein, z. B. Nitrat, wie Calciumnitrat, Strontiumnitrat, Magnesiumnitrat oder Bariumnitrat, Sulfat, Hydrochlorid, Phosphat, Acetat, Oxalat und Borat.
Beispiele des Metallsalzes der Gruppe IVB des Periodensystems schliessen Titantetrachlorid, Titantrichlorid, Kaliumtitanfluorid, Kaliumtitanoxalat, Titansulfat, Titantetraiodid, Zirkonoxidchlorid, Zirkondioxid, Zirkonoxychlorid und Zirkontetrachlorid ein.
Das Erdalkalimetallsalz und das Metallsalz der Gruppe IVB des Periodensystems können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden. Die Menge des zur obigen Lösung gegebenen Metallsalzes liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 5,0 Gew.-%.
Die oben beschriebene Oberflächenbehandlung mit einem Silicat erlaubt die weitere Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Aluminiumplattenoberfläche und deshalb neigt die Tinte nicht dazu, während des Druckens an Nichtbildbereichen anzuhaften, was in einer verbesserten Fleckenbeständigkeitsfähigkeit resultiert.
Falls erforderlich, kann eine Rückseitenschicht auf der Rückseite des Trägers gebildet werden.
Bevorzugte Beispiele der Rückseitenschicht sind eine Überzugsschicht, erhalten durch eine organische Polymerverbindung, beschrieben in JP-A-5-45 885, und eine Überzugsschicht, umfassend ein Metalloxid und erhalten durch Hydrolysieren einer organischen oder anorganischen metallischen Verbindung und Polykondensieren des resultierenden Produkts, wie in JP-A-6-35 174 beschrieben.
Unter diesen Überzugsschichten sind Schichten aus Alkoxyverbindungen von Silicium, wie Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄ und Si(OC₄H₉)₄, besonders bevorzugt, da diese Verbindungen billig sind und die aus diesen Verbindungen hergestellten Überzugsschichten von Metalloxiden hervorragende Beständigkeit bei der Entwicklung aufweisen.
Bei der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte kann, falls erforderlich, eine Überzugsschicht auf dem Träger gebildet werden.
Die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte wird bildweise mit einem Festkörperlaser oder Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen der Wellenlängen von 760 bis 1.200 nm emittiert, bestrahlt. In der vorliegenden Erfindung kann sofort nach Laserbestrahlung die Entwicklungsbehandlung durchgeführt werden, aber es ist bevorzugt, eine thermische Behandlung zwischen dem Laserbestrahlungsverfahren und dem Entwicklungsverfahren durchzuführen. In diesem Fall wird die thermische Behandlung vorzugsweise bei 80 bis 150°C und für 10 Sekunden bis 5 Minuten durchgeführt. Diese thermische Behandlung ermöglicht die Reduzierung der Laserenergiemenge, was zum Aufzeichnen während der Laserbestrahlung notwendig ist. Nach der oben beschriebenen thermischen Behandlung wird in Abhängigkeit vom Bedarf die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte einer Entwicklungsverarbeitung mit einer wässrigen alkalischen Lösung unterworfen.
Eine allgemein bekannte, wässrige alkalische Lösung kann zur Entwicklung der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte als Entwickler und als Auffrischlösung verwendet werden. Beispielsweise umfasst die als Entwickler und Auffrischlösung verwendete, wässrige alkalische Lösung ein anorganisches Alkalisalz, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natrium-tert-phosphat, Kalium-tert-phosphat, Ammonium-tert-phosphat, Natrium-sek-phosphat, Kalium-sek-phosphat, Ammonium-sek-phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid oder Lithiumhydroxid. Zusätzlich kann ebenfalls eine organische Base zur Herstellung der wässrigen alkalischen Lösung verwendet werden. Beispiele der organischen Base schliessen Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin sind Pyridin ein.
Diese Basen können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden. Unter den oben genannten Basen ist ein besonders bevorzugter Entwickler eine wässrige Lösung eines Silicats, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat oder dergleichen. Dies ist durch Einstellung der Entwicklungsleistung des Entwicklers und durch Variieren des Verhältnisses von Siliciumoxid (SiO₂) zu Alkalimetalloxid (M₂O), die jeweils ein Element des Silicats sind, und durch Veränderung von deren Konzentrationen in der Lösung möglich. Beispielsweise werden die in JP-A-54-62 004 und in JP-B-57-7 427 beschriebenen Alkalimetallsilicate effektiv in der vorliegenden Erfindung verwendet.
Wenn ein automatischer Entwickler verwendet wird, kann eine wässrige Lösung (eine Auffrischlösung), deren Basenstärke grösser als die des Entwicklers im Tank ist, für den Entwickler im Tank aufgefrischt werden. Als Ergebnis kann die Basenstärke der alkalischen Entwicklungsverarbeitungslösung erhöht werden, und deshalb kann eine grosse Menge an planografischen Originaldruckplatten ohne Austausch des Entwicklers im Tank für eine lange Zeitdauer verarbeitet werden. Konkret kann lediglich die oben genannte Base zum alkalischen Entwickler gegeben werden, so dass der pH des alkalischen Entwicklers ca. 12,5 bis 13,5, vorzugsweise 12,8 bis 13,3, beträgt.
Ferner kann der alkalische Entwickler, falls erforderlich, erfindungsgemäss ein Tensid oder ein organisches Lösungsmittel enthalten.
Beispiele der Tenside schliessen anionische Tenside, kationische Tenside, nicht-ionische Tenside und amphotere Tenside ein, und unter diesen sind nicht-ionische Tenside besonders bevorzugt. So lange der alkalische Entwickler die nicht-ionischen Tenside enthält, wird die Löslichkeitsbeständigkeit der Bildbereiche im alkalischen Entwickler aufrecht erhalten. Entsprechend können, selbst wenn die Druckplatte einer Entwicklungsverarbeitung mit einem Entwickler, dessen wässrige Lösung mit einer hohen Basenstärke aufgefrischt wird, unterworfen wird, stabile Entwicklungen realisiert werden. Dies wird erreicht durch eine Wechselwirkung zwischen der im Basischen löslichen polymeren Verbindung und den nicht-ionischen Tensiden.
Ferner wird die oben beschriebene Wechselwirkung stark, wenn die nicht-ionischen Tenside eine Ethylenoxidkette oder Propylenoxidkette einschliessen. Wenn sie die Ethylenoxidkette einschliessen, wirkt die Wechselwirkung besonders stark. Es wird vermutet, dass dies durch die starke Wechselwirkung einer im Basischen löslichen Gruppe, insbesondere einer phenolischen Hydroxygruppe und der Ethylenoxidkette, verursacht wird.
Die nicht-ionischen Tenside sind nicht besonders beschränkt und es können alle üblicherweise bekannten verwendet werden. Zum Beispiel können Polyoxyethylenalkylether, Polyoxyethylenalkylphenylether, Polyoxyethylenpolystyrylphenylether, Polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylether, Ester von Glycerin-Fettsäuren, Ester von Sorbitan-Fettsäuren, Ester von Pentaerythrit-Fettsäuren, Ester von Propylenglykol-Monofettsäuren, Ester von Saccharose-Fettsäuren, Ester von Polyoxyethylensorbitan-Fettsäuren, Ester von Polyoxyethylensorbitol-Fettsäuren, Ester von Polyethylenglykol-Fettsäuren, Ester von Polyglycerin-Fettsäuren, Polyoxyethylen-Castoröl, Ester von Polyoxyethylenglycerin-Fettsäuren, Fettsäure-Diethanolamide, N,N-Bis-2-hydroxyalkylamine, Polyoxyethylenalkylamin, Triethanolamin-Fettsäureester, Trialkylaminoxid und dergleichen verwendet werden.
Die Menge dieser zu dem alkalischen Entwickler gegebenen, nicht-ionischen Tenside liegt vorzugsweise im Bereich von 0,001 bis 5 Gew.-%, weiter bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 3 Gew.-%, und am bevorzugtesten im Bereich von 0,1 bis 3 Gew.-%.
Wenn die zugegebene Menge geringer als 0,001 Gew.-% ist, können die nicht-ionischen Tenside nicht wirksam arbeiten, und falls die zugegebene Menge grösser als 5% ist, wirkt die Wechselwirkung übermässig stark und die Entwicklung kann unmöglich werden.
Die massegemittelte Molekularmasse der nicht-ionischen Tenside liegt vorzugsweise im Bereich von 300 bis 50.000, besonders bevorzugt im Bereich von 500 bis 5.000. Diese nicht-ionischen Tenside können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
In der vorliegenden Erfindung kann zur Beschleunigung der Entwicklung, Dispersion von Schmutz, resultierend aus der Entwicklung, und Vergrösserung der Affinität der Bildbereiche der planografischen Originaldruckplatte für Tinte, falls erforderlich, der oben genannte alkalische Entwickler als andere Komponenten ein Reduktionsmittel, wie Hydrochinon, Resorcin und ein Salz einer anorganischen Säure, z. B. Natrium- oder Kaliumsulfit, und Natrium- oder Kaliumhydrogensulfit; einen Entwicklungsstabilisator; eine organische Carbonsäure, ein Entschäumungsmittel, andere Tenside als nicht-ionische Tenside, ein Mittel zur Umwandlung von hartem Wasser zu weichem Wasser; und ein organisches Lösungsmittel enthalten, und kann ferner ein übliches bekanntes Antiseptikum, Färbemittel, Verdicker und Entschäumungsmittel aufweisen.
Die Druckplatte, die mit dem oben beschriebenen Entwickler und der Auffrischlösung entwickelt wurde, wird einer Nachbehandlung unterworfen, wie Behandlung mit Spülwasser, Behandlung mit einer Spüllösung, enthaltend ein Tensid oder dergleichen, oder Behandlung mit einer Desensibilisierungslösung, enthaltend Gummi arabicum oder ein Stärkederivat. Eine Kombination dieser Behandlungen kann als Nachbehandlung angewandt werden, wenn die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte verwendet wird.
In den letzten Jahren werden in der Plattenherstellungs- und Druckindustrie automatische Prozessoren zur Verarbeitung von Druckplatten zur Rationalisierung und Standardisierung der Plattenherstellung verwendet. Der automatische Prozessor umfasst im allgemeinen ein Entwicklungsteil und einen Nachbehandlungsteil, die jeweils eine Vorrichtung zum Transferieren der Druckplatte, mit Verarbeitungslösungen gefüllte Tanks und eine Sprühvorrichtung umfassen. Eine belichtete Druckplatte wird horizontal transportiert und gleichzeitig durch Besprühen mit Verarbeitungslösungen aus Düsen entwickelt, nachdem diese aus den Tanks hochgepumpt wurden.
Es ist auch ein Verfahren bekannt, worin eine Druckplatte in einen Verarbeitungstank eingetaucht wird, der mit einer Verarbeitungslösung gefüllt ist, und durch diesen mittels eingetauchter Führungswalzen oder dergleichen transportiert wird. Bei dieser Art automatischer Verarbeitung kann die Verarbeitung durch Bereitstellung von Auffrischlösungen für jede der Verarbeitungslösungen in Übereinstimmung mit der verarbeiteten Menge, der Betriebsdauer oder dergleichen durchgeführt werden. Ferner kann erfindungsgemäss auch ein sogenanntes Einzelbehandlungs-Verarbeitungssystem, worin eine Druckplatte mit einer im wesentlichen unbenutzten Verarbeitungslösung verarbeitet wird, angewandt werden.
Die durch Entwicklung der erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatte erhaltene planografische Druckplatte wird, falls erforderlich, mit einem Desensibilisierungsgummi, beschichtet und kann in einem Druckverfahren verwendet werden. Falls es gewünscht ist, einen höheren Grad an Druckbeständigkeit zu verleihen, wird die Druckplatte einer Brennbehandlung unterworfen.
Wenn die Druckplatte der Brennbehandlung unterworfen wird, ist es wünschenswert, dass die Druckplatte vor der Brennbehandlung mit einer Oberflächenanpassungslösung behandelt wird, die z. B. in JP-B Nrn. 61-2 518 und 55-28 062 und JP-A Nrn. 62-31 859 und 61-159 655 beschrieben ist. Gemäss diesen Behandlungsverfahren wird die planografische Druckplatte mit einer Oberflächenanpassungslösung unter Verwendung eines Schwamms oder absorbierender Baumwolle, die mit der Lösung getränkt ist, beschichtet; die planografische Druckplatte wird in eine mit der Oberflächenanpassungslösung gefüllte Wanne getaucht; oder die planografische Druckplatte wird mit der Oberflächenanpassungslösung unter Verwendung eines automatischen Beschichters beschichtet. Ferner wird durch Homogenisieren der Beschichtungsmenge nach dem Beschichten unter Verwendung eines Quetschers oder von Quetschwalzen ein bevorzugtes Ergebnis erhalten.
Eine geeignete Beschichtungsmenge der Oberflächenanpassungslösung liegt im allgemeinen im Bereich von 0,003 bis 0,8 mg/m² (Trockengewicht). Die mit der Oberflächenanpassungslösung beschichtete planografische Druckplatte wird getrocknet und anschliessend, falls erforderlich, mittels eines Brennprozessors (z. B. Burning Processor BP-1300, Warenname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) auf eine hohe Temperatur erwärmt. Temperatur und Zeit variieren in Abhängigkeit von den das Bild bildenden Komponenten, aber die Druckplatte wird vorzugsweise auf eine Temperatur im Bereich von 180 bis 300°C für 1 bis 20 Minuten erwärmt.
Nach der Brennbehandlung kann die planografische Druckplatte, falls erforderlich, üblicherweise angewandten Behandlungen, wie Wasserspülen und Gummibeschichten, unterworfen werden. Wenn jedoch die Oberflächenanpassungslösung eine wasserlösliche polymere Verbindung oder dergleichen enthält, können sogenannte Desensibilisierungsbehandlungen, wie eine Gummibeschichtung, weggelassen werden.
Die so hergestellte planografische Druckplatte wird auf einer Offset-Druckmaschine oder dergleichen angebracht und dann zum Drucken einer grossen Zahl von Blättern verwendet.
Als nächstes werden erfindungsgemässe Beispiele erläutert, es sollte jedoch beachtet werden, dass die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt ist.
Synthese der im Basischen löslichen polymeren Verbindung
31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen 500 ml-Dreihalskolben, ausgestattet mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Tropftrichter, gegeben. Die resultierende Reaktionsmischung wurde unter Kühlung auf einem Eiswasserbad gerührt. Dann wurden 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin durch den Tropftrichter zur Reaktionsmischung über eine Zeitdauer von etwa 1 Stunde zugetropft. Nach Vervollständigen der Addition wurde das Eiswasserbad entfernt und die Reaktionsmischung bei Raumtemperatur 30 Minuten gerührt.
Dann wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zur Reaktionsmischung gegeben und die Reaktionsmischung für ca. 1 Stunde bei 70°C auf einem Ölbad gerührt. Nach der Umsetzung wurde die Reaktionsmischung unter Rühren in 1 l Wasser gegossen und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um den Niederschlag zu sammeln, der in 500 ml Wasser aufgeschlämmt wurde. Die Aufschlämmung wurde zum Erhalt eines Feststoffs filtriert, der dann getrocknet wurde. Die so erhaltene weisse feste Substanz war N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (die Ausbeute betrug 46,9 g).
Anschliessend wurden 5,04 g (0,0210 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g (0,0180 mol) Ethylmethacrylat, 1,11 g (0,021 mol) Acrylnitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen 100 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Kondensatorrohr ausgerüstet war, gegeben. Die resultierende Reaktionsmischung wurde bei 65°C auf einem Warmwasserbad gerührt. Zur Reaktionsmischung wurden 0,15 g V-65 (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) gegeben und die Reaktionsmischung wurde 2 Stunden bei 65°C unter einem Stickstoffstrom gerührt. Ferner wurde eine Mischung aus 5,04 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g Ethylmethacrylat, 1,11 g Acrylnitril, 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 über den Tropftrichter während 2 Stunden zur Reaktionsmischung zugetropft. Nach Vervollständigung der Zugabe wurde die Reaktionsmischung weitere 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach der Umsetzung wurden 40 g Methanol zur Reaktionsmischung zugegeben und die Mischung abgekühlt und dann unter Rühren in 2 l Wasser gegossen, und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um den Niederschlag zu sammeln, der dann getrocknet wurde. Auf diese Weise wurden 15 g einer weissen festen Substanz erhalten. Die massegemittelte Molekularmasse (unter Verwendung von Polystyrol als Standard) der im Basischen löslichen polymeren Verbindung betrug 53.000 gemäss Gelpermeationschromatografie.
Herstellung des Trägers (Aluminiumplatte)
Eine Aluminiumplatte (Materialtyp: 1050) mit einer Dicke von 0,3 mm wurde mit Trichlorethylen gereinigt und gesäubert und anschliessend wurde die Platte mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von Bimssteinpulver mit einer Maschenzahl von 400 aufgerauht. Nach gründlichem Abspülen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte durch ein Verfahren geätzt, das die folgenden Schritte umfasste: Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige Lösung von 25 Natriumhydroxid bei 45°C für 9 Sekunden, Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser, Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige Lösung von 20% Salpetersäure für 20 Sekunden, und Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser. In diesem Verfahren betrug die geätzte Menge der gekörnten Aluminiumplatte ca. 3 g/m². Anschliessend wurde die Aluminiumplatte einem Anodisierungsverfahren unterworfen, umfassend das Eintauchen der Aluminiumplatte in eine 7%-ige Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung, durch die ein Gleichstrom mit einer Dichte von 15 A/dm² geleitet wurde. Durch dieses Verfahren wurde ein anodisierter Film von 3 g/m² hergestellt. Dann wurde die oberflächenbehandelte Aluminiumplatte mit Wasser gespült und anschliessend getrocknet, wodurch ein Substrat (A) erhalten wurde. Dann wurde das Substrat (A) mit einer wässrigen Lösung, enthaltend 2 Gew.-% Natriumsilicat, 15 Sekunden bei 25°C verarbeitet und anschliessend mit Wasser gespült. Auf diese Weise wurde ein Substrat (B) als Träger (Aluminiumplatte) erhalten.
Dann wurde das Substrat (B) mit einer Lösung mit der folgenden Zusammensetzung beschichtet und die Überzugsschicht wurde 15 Sekunden bei 80°C getrocknet, wodurch eine Zwischenschicht hergestellt wurde. Nach dem Trocknen betrug die Beschichtungsmenge des Polymers 15 mg/m².
TABELLE 1
Eine eine lichtempfindliche Schicht bildende Beschichtungsflüssigkeit (1) mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die obige Zwischenschicht in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² aufgebracht und eine planografische Originaldruckplatte (1) wurde erhalten (Beispiele 1 und 2).
Auf eine wie oben beschriebene Weise wurde eine eine lichtempfindliche Schicht bildende Beschichtungsflüssigkeit (2) mit der folgenden Zusammensetzung auf obige Zwischenschicht in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² aufgebracht und eine planografische Druckplatte (2) wurde erhalten (Beispiele 3 und 4).
Der im Entwicklungsverfahren verwendete alkalische Entwickler wurde wie folgt hergestellt:
Für Vergleichszwecke wurde das Substrat (A) ohne darauf gebildete Zwischenschicht hergestellt und mit der oben genannten, eine lichtempfindliche Schicht bildenden Beschichtungsflüssigkeit (1) in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet und es wurden planografische Originaldruckplatten erhalten (Vergleichsbeispiele 1 und 2).
Für weitere Vergleichszwecke wurde Substrat (B) ohne darauf gebildeter Zwischenschicht hergestellt und mit der oben genannten, eine lichtempfindliche Schicht bildenden Beschichtungsflüssigkeit (1) in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet, wodurch eine planografische Originaldruckplatte erhalten wurde (Vergleichsbeispiel 3).
Ausserdem wurde das Substrat (B) dann mit einer Lösung mit dem folgenden Polymer (P-1), das in JP-A-10-69 092 beschrieben ist, beschichtet und der Überzug wurde für 15 Sekunden bei 80°C getrocknet, um dadurch eine Zwischenschicht herzustellen. Nach dem Trocknen betrug die Beschichtungsmenge 1,5 mg/m². Anschliessend wurde das erhaltene Substrat mit der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit (1) in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet und eine planografische Originaldruckplatte wurde erhalten (Vergleichsbeispiel 4).
Die erhaltenen planografischen Originaldruckplatten wurden mit einem Halbleiterlaser mit einer Leistung von 500 mW, einer Wellenlänge von 830 nm und einem Strahldurchmesser von 17 μm (1/e²) mit einer Hauptrastergeschwindigkeit von 5 m/sek bestrahlt. Die bestrahlten Druckplatten wurden unter Verwendung eines automatischen Prozessors (PS-Processor 900VR, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), der mit dem oben beschriebenen Entwickler und einer Spüllösung FR-3 (1 : 7) beladen war, entwickelt und dann auf die nachstehend beschriebene Weise ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
Löslichkeit von Nichtbildbereichen
Der im bestrahlten Bereich zurückbleibende Film wurde visuell untersucht und auf Basis der folgenden Kriterien bewertet.
O: kein verbleibender Film
x: es existiert zum Teil ein verbleibender Film in dem bestrahlten Bereich
Druckbeständigkeit
Wenn die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte auf einer Druckmaschine Rislon, hergestellt von Komori Printing Machine K. K., befestigt und zum Drucken von Blättern verwendet wurde, wurde die Druckbeständigkeit auf Basis der in normalem Zustand bedruckbaren Blättern bewertet. Eine planografische Originaldruckplatte, die es erlaubt, eine grössere Anzahl an Blättern in normalem Zustand zu drucken, wurde als mit besserer Druckbeständigkeit bewertet.
Verschmutzung bei der Lagerung
Die erfindungsgemässe planografische Originaldruckplatte wurde auf einer Druckmaschine (Hidel SOR-M) befestigt und es wurden 2.000 Blätter unter Verwendung der Druckplatte gedruckt und anschliessend wurde die Druckplatte aus der Druckmaschine entfernt und 60 Minuten gelagert. Nach dem Lagern wurde das Drucken unter Verwendung der Druckplatte wieder aufgenommen, und der Zustand, in dem die Tinte in den Nichtbildbereichen entfernt wird, wurde untersucht und auf Basis der folgenden Kriterien bewertet.
O: nach Wiederaufnahme des Druckens wird die an Nichtbildbereichen anhaftete Tinte sofort entfernt
Δ: es dauert einige Zeit bis die Tinte entfernt ist
x: es dauert beträchtlich lange bis die Tinte entfernt ist
TABELLE 2
Wie aus Tabelle 2 ersichtlich, besitzen die erfindungsgemässen planografischen Originaldruckplatten eine hohe Löslichkeit von Nichtbildbereichen in einem alkalischen Entwickler, sind frei von Verschmutzung beim Lagern und besitzen hervorragende Druckbeständigkeit. Andererseits ist in den planografischen Originaldruckplatten der Vergleichsbeispiele 1 und 2 ohne Zwischenschicht die Löslichkeit von Nichtbildbereichen schlecht und es wird beim Lagern Verschmutzung verursacht, obwohl hervorragende Druckbeständigkeit erhalten wird. In Vergleichsbeispiel 3, in dem eine lichtempfindliche Schicht direkt auf einem mit Silicat beschichteten Substrat gebildet wird, ist die Druckbeständigkeit schlecht. Ferner tritt in Vergleichsbeispiel 4, worin eine Zwischenschicht, umfassend das in JP-A-10-69 092 beschriebene Polymer, verwendet wird, das Problem einer Verschmutzung beim Lagern auf, obwohl die Druckbeständigkeit leicht verbessert wird.
Wie oben beschrieben, kann die vorliegende Erfindung eine planografische Originaldruckplatte bereitstellen, die mit einem üblichen Prozessor oder Drucker, der als solcher verwendet werden kann, direkt auf Basis digitaler Signale eines Computers oder dergleichen verarbeitet werden kann, die hervorragende Druckbeständigkeit besitzt und keine Verschmutzung verursacht.

Claims

Planografische Originaldruckplatte, umfassend: eine Zwischenschicht, die ein Polymer enthält, das als Monomereinheit mindestens ein Monomer mit einer Säuregruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe einschliesst; und eine lichtempfindliche Schicht, bestehend aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung vom Positivtyp für einen Infrarotlaser, die enthält: (A) mindestens eine im Basischen lösliche polymere Verbindung; (B) eine Verbindung, die die Funktion besitzt, die Löslichkeit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung in einer wässrigen alkalischen Lösung aufgrund der Kompatibilität mit der im Basischen löslichen polymeren Verbindung zu verschlechtern, worin sich die Funktion durch Erwärmen der Verbindung (B) verschlechtert; und (C) eine Verbindung, die Wärme durch Absorption von Licht erzeugt; worin die Zwischenschicht und die lichtempfindliche Schicht der Reihe nach auf einem Träger, der einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen worden war, gebildet werden.
Planografische Originaldruckplatte gemäss Anspruch 1, worin das in der Zwischenschicht enthaltene Polymer eine polymere Verbindung ist.
Planografische Originaldruckplatte gemäss Anspruch 1, worin das in der Zwischenschicht enthaltene Polymer in alkalischem Wasser löslich ist.
Planografische Originaldruckplatte gemäss Anspruch 3, worin das Zahlenmittel des Molekulargewichts (Mn) des in der Zwischenschicht enthaltenen Polymers im Bereich von 300 bis 5.000 ist.
Planografische Originaldruckplatte gemäss Anspruch 4, worin das in der Zwischenschicht enthaltene Polymer erhalten wird durch gemeinsame Verwendung eines Polymerisationsinitiators und eines Kettenübertragungsmittels während der radikalischen Polymerisation.
Planografische Originaldruckplatte gemäss Anspruch 1, worin die Hydrophilisierungsbehandlung eine Oberflächenbehandlung mit einem Silicat ist.