DE60317744T2 - Infrarot-empfindliche Zusammensetzung und lithographischer Druckplattenvorläufer - Google Patents

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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine infrarot-empfindliche Zusammensetzung und einen lithographischen Druckplattenvorläufer und insbesondere eine infrarot-empfindliche Zusammensetzung, die für die Bildbildungsschicht eines Lithographie-Druckplatten-Vorläufers vom Positiv-Typ für die sogenannte direkte Plattenherstellung verwendbar ist, die direkt mit Hilfe von digitalen Signalen von Computern und dergleichen erhalten werden kann.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Bekannte Systeme der direkten Plattenherstellung, die durch die Verwendung von digitalen Daten aus Computern durchgeführt werden, schließen (1) ein System gemäß der elektrophotographischen Technologie, (2) photoinduzierte Polymerisationsmaterialien auf Basis einer Kombination einer Belichtung mit einem Laser mit Strahlen im sichtbaren Bereich oder Ultraviolettstrahlen von 523 nm, 488 nm, 405 nm oder dergleichen und Nacherwärmen, (3) Silbersalz-empfindliche Materialien, laminiert auf photoempfindliche Harze, (4) ein System vom Silber-Original-Typ und (5) ein System, bezogen auf den Abbau einer Silicon-Kautschuck-Schicht durch Entladungsabbau oder durch Laserstrahlen ein.
  • Allerdings benötigt das System gemäß der elektrophotographischen Technologie (1) komplizierte Behandlungen, wie Elektrifizierung, Belichtung und Entwicklung, und eine komplizierte und großflächige Vorrichtung. Das System (2) benötigt eine Nacherwärmungsbehandlung und darüber hinaus ein hochempfindliches Formmaterial, welches die Handhabung in einem beleuchteten Raum schwierig macht. Die Systeme (3) und (4) leiden an dem Nachteil, dass die Verwendung der Silbersalze Behandlungen schwierig macht, was bewirkt, dass die Kosten steigen. Und das System (5) bringt ein Problem des Entfernens von Silikon-Rückständen, die auf der Oberfläche der Form verbleiben, mit sich, obwohl es ein Verfahren mit einem vergleichsweise hohem Ausmaß an Perfektion ist.
  • Auf der anderen Seite ist die Entwicklung von Lasern in den letzten Jahren beträchtlich, und insbesondere Feststofflaser mit hohem Output und geringer Größe und Halbleiterlaser, die Strahlen in Nah-Infrarot- und Infrarotbereichen emittieren, wurden leicht erhältlich. Diese Laser sind als Belichtungsquellen für die direkte Plattenherstellung, die durch die Verwendung von digitalen Daten von Computern durchgeführt wird, angesichts der Miniaturisierung der Plattenherstellungssysteme, des Umgebungslichts bei der Plattenherstellung und der Kosten der Formmaterialien sehr geeignet.
  • Als ein herkömmliches Lithographie-Druckplattenmaterial beschreibt JP-B-46-27919 ein Verfahren für die Bilderzeugung, bei dem ein Aufzeichnungsmaterial, das eine Aufzeichnungsschicht enthält, die mit einer Polymerverbindung oder einer Zusammensetzung, die unlöslich oder leicht löslich ist, bevor sie erwärmt wird, gemischt ist, in einem Lösemittel unter dem Einfluss von Wärme löslich gemacht werden kann, gemäß der Information zur Erzeugung eines Bildes erwärmt wird. Darüber hinaus offenbart JP-A-56-69192 ein wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer wärmeempfindlichen Schicht, die ein phenolisches Harz vom Novolak-Typ und Ruß enthält. Allerdings offenbaren diese Patentliteraturen nur Beispiele, bei denen Bilder ohne Verwendung von Laserstrahlen aufgezeichnet werden, und wenn die Bilder mit Laser-emittierenden Strahlen in Nah-Infrarot- und Infrarotbereichen als Belichtungsquellen für die direkte Plattenherstellung, die durch die Verwendung von digitalen Daten von Computern ausgeführt wird, aufgezeichnet werden können gut gedruckte Gegenstände aufgrund einer Schaumbildung und einer Verschlechterung bei dem Druckeindruck nicht notwendigerweise erhalten werden. Um gut gedruckte Gegenstände zu erhalten, ist es notwendig, dass in einer Behandlung mit einem alkalischen Entwickler nach der Belichtung Bereiche, die einer Bestrahlung mit Licht (Nicht-Bildbereiche) unterzogen wurden, leicht aufgelöst werden, und Bereiche, die keiner Bestrahlung mit Licht unterzogen wurden (Bildbereiche) verbleiben, und darüber hinaus, dass diese verbleibenden Bildbereiche eine gute Dauerhaftigkeit aufweisen. Das heißt, es wird bei diesen bekannten Techniken angenommen, dass die Verwendung von Laserstrahlen bei guten bilderzeugenden Eigenschaften versagt, d. h., die Nicht-Bildflächen tendieren unter Schwierigkeiten zu einer Auflösung, und die Bildflächen tendieren mit Leichtigkeit zu einer Auflösung.
  • Um diese Probleme der zuvor genannten bekannten Techniken zu lösen, offenbart JP-A-7-285275 , dass ein System, bei dem die direkte Plattenherstellung durch Verwendung von digitalen Daten von Computern durchgeführt wird, und dass gute Aufzeichnungseigenschaften trotz der Verwendung von herkömmlichen Behandlungsvorrichtungen und Druckvorrichtungen aufweist, durch Verwendung eines Bildaufzeichnungsmaterials bereitgestellt werden können, das in der Bildbildungsschicht davon ein Bindemittel, eine Substanz, die Licht absorbiert und Wärme emittiert, und eine Substanz, die thermisch zersetzbar ist, enthält und es der Alkalilöslichkeit des Bindemittels ermöglicht wird, dass sie sich im nichtzersetzten Zustand weitgehend verringert.
  • JP-A-10-282643 offenbart, dass bei der alkalischen Entwicklung der Faktor der Rückstandsmembran in nicht belichteten Bereichen verbessert wird, indem eine organische Säure zu einer photoempfindlichen Zusammensetzung vom Positiv-Typ zugegeben wird, die eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz und ein alkalilösliches Harz enthält. Darüber hinaus offenbart JP-A-2001-324808 eine photoempfindliche Zusammensetzung vom Positiv-Typ, die eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz und ein besonderes Massenverhältnis eines Novolak-Harzes und eines Acrylharzes enthält, wodurch ein System mit einer hohen Sensibilität und einem verbesserten Faktor der Rückstandsmembran in dem nicht belichteten Bereichen erhalten wird. Darüber hinaus offenbaren JP-A-11-143076 , JP-A-11-190903 und dergleichen, dass eine Kombination eines alkalilöslichen Harzes mit phenolischen Hydroxylgruppen und einem sauren Farbentwicklungs-Farbstoff oder einem basischen Farbentwicklungs-Farbstoff die Verbesserung bei dem Faktor der Rückstandsmembran der nicht belichteten Bereiche und dem Kontrast zwischen den nicht belichteten und den belichteten Bereichen verbessert.
  • Allerdings ist auch in den oben offenbarten Techniken der Unterschied bei der Alkalilöslichkeit zwischen den belichteten und nicht belichteten Bereichen (die sogenannte Auflösungsdiskriminierung) nicht hoch, wodurch eine unzureichende Entwicklungsbreite erhalten wird.
  • Zusätzlich ist auch ferner eine Verbesserung bei der Sensibilität erwünscht, um die Produktivität bei der Plattenherstellung der Lithographie-Druckplatte zu erhöhen.
  • US-A-6 143 471 offenbart eine infrarot-empfindliche Zusammensetzung, die ein alkalilösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz und einen Leucohydroxy-Farbstoff umfasst.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die Aufgabe der Erfindung liegt darin, die Nachteile der zuvor angegebenen herkömmlichen Techniken zu überwinden, und eine infrarot-empfindliche Zusammensetzung bereitzustellen, die einen großen Unterschied bei der Alkalilöslichkeit zwischen belichteten und nicht belichteten Bereichen (Auflösungsdiskriminierung), eine herausragende Entwicklungsbreite und eine hohe Sensibilität aufweist, wenn die Zusammensetzung für die Bildbildungsschicht des lithographischen Druckplattenvorläufers verwendet wird, und die Bereitstellung eines lithographischen Druckplattenvorläufers, der einen großen Unterschied bei der Alkalilöslichkeit zwischen den belichteten und nicht belichteten Bereichen (Auflösungsdiskriminierung), eine herausragende Entwicklungsbreite und eine hohe Sensibilität bereitstellt.
  • Die zuvor genannten Probleme der Erfindung wurden durch die folgenden Mittel gelöst.
    • 1. Infrarotempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A) ein alkalilösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (B) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz; und (C) einen Leucohydroxy-Farbstoff, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I):
      Figure 00050001
      worin Ar1 und Ar2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Arylgruppe oder Heteroarylgruppe sind, die eine Substituentengruppe haben können; R1 bis R4 jeweils gleich oder verschieden sein können und ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe sind, die einen Substituenten haben kann; Y ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Aryl- oder Heteroarylgruppe ist, die einen Substituenten haben können; wenn zumindest eines von Art und Ar2 oder Y eine Arylgruppe ist, hat zumindest eines von Ar1, Ar2 und Y als Substituent eine Hydroxygruppe, Aminogruppe, Monoalkylaminogruppe oder Dialkylaminogruppe an der ortho- oder para-Position; zwei von Ar1, Ar2 und Y können zusammen durch eine Bindegruppe zur Bildung eines Rings binden; m und n sind jeweils 0 oder 1.
    • 2. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach Punkt 1, umfassend das alkalilösliche Harz (A) in einer Menge von 30 bis 99 Gew.%.
    • 3. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach Punkt 1 oder 2, umfassend die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz (B) in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.%.
    • 4. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Punkte 1 bis 3, umfassend den Leucohydroxyfarbstoff (C) in einer Menge von 0,01 bis 15 Gew.%.
    • 5. Lithographischer Druckplattenvorläufer, umfassend einen Träger und eine Bildbildungsschicht, worin die Bildbildungsschicht umfasst: (A) ein alkalilösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (B) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz; und (C) einen Leucohydroxyfarbstoff, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I):
      Figure 00060001
      worin Ar1 und Ar2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Arylgruppe oder Heteroarylgruppe sind, die eine Substituentengruppe haben können; R1 bis R4 jeweils gleich oder verschieden sein können und ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe sind, die einen Substituenten haben kann; Y ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Aryl- oder Heteroarylgruppe ist, die einen Substituenten haben können; wenn zumindest eines von Ar1 und Ar2 oder Y eine Arylgruppe ist, hat zumindest eines von Ar1, Ar2 und Y als Substituent eine Hydroxygruppe, Aminogruppe, Monoalkylaminogruppe oder Dialkylaminogruppe an der ortho- oder para-Position; zwei von Ar1, Ar2 und Y können zusammen durch eine Bindegruppe zur Bildung eines Rings binden; m und n sind jeweils 0 oder 1.
    • 6. Lithographischer Druckplattenvorläufer, wie beschrieben unter Punkt 5, worin die Bildbildungsschicht das alkalilösliche Harz (A) in einer Menge von 30 bis 99 Gew.% umfasst.
    • 7. Lithographischer Druckplattenvorläufer, wie beschrieben unter einem der Punkte 5 oder 6, worin die Bildbildungsschicht die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz (B) in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.% umfasst.
    • 8. Lithographischer Druckplattenvorläufer, wie beschrieben unter einem der Punkte 5 bis 7, worin die Bildbildungsschicht den Leucohydroxyfarbstoff (C) in einer Menge von 0,01 bis 15 Gew.% umfasst.
  • Obwohl der Mechanismus dieser Erfindung in einigen Punkten noch immer doppeldeutig ist, wird von der Wirkung der eingeführten Leucohydroxy-Farbstoffe (C) angenommen, dass sie die Alkaliauflösung der nicht belichteten Bereiche behindern und die Alkalilöslichkeit der belichteten Bereiche fördern.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Die Bestandteile der infrarot-empfindlichen Zusammensetzung der Erfindung werden nachfolgend im Detail veranschaulicht.
  • [Alkalilösliche Harze mit einer phenolischen Hydroxylgruppe (A)]
  • Alkalilösliche Harze, die in der Erfindung (im nachhinein gelegentlich als "alkalilösliche Polymere" bezeichnet) verwendet werden, sind wasserunlösliche und alkalilösliche polymere Verbindungen, einschließlich Homopolymere, Copolymere oder Mischungen davon, die eine phenolische Hydroxylgruppe an der Hauptkette und/oder Seitenkette davon aufweisen. Dementsprechend weist die wärmeempfindliche Schicht, die zu der Erfindung gehört, die Eigenschaft des Auflösens in Kontakt mit einem alkalischen Entwickler nach der Belichtung mit einem Infrarot-Laser auf.
  • Die alkalilöslichen Polymere, die in der Erfindung verwendet werden, sind nicht besonders beschränkt, solange die Polymere bis jetzt bekannt sind, und schließen beispielsweise die folgenden Polymere ein, sind aber nicht auf die Polymere beschränkt.
  • (1) Novolak- oder Resolharze
  • Novolakharze und Resolharze sind eingeschlossen, bei denen Phenol, Cresole (o-, m- und p-Derivate), Xylenole (2,3-, 2,5-, 3,5-Derivate usw.), Resorcin und Pyrogallol geeignet gemischt werden und mit Formaldehyd kondensiert werden. Von diesen Harzen sind Novolakharze bevorzugt, und Beispiele davon schließen Novolakharze, wie Phenolformaldehydharze, m-Cresolformaldehydharze, p-Cresolformaldehydharze, m-/p-gemischtes Cresolformaldehydharz, Phenol/Cresol-(entweder m-, p- oder m-/p-gemischte)-gemischte Formaldehydharze, Phenol/Xylenol-(entweder 2,3-, 2,5-, 3,5- oder eine Mischung davon)gemischte Formaldehydharze, Phenol/Cresol-(entweder m-, p- oder m-/p-gemischte)/Xylenol-(entweder 2,3-, 2,5-, 3,5- oder eine Mischung davon)-gemischte Formaldehydharze, Phenol/Xylenol-(entweder 2,3-, 2,5-, 3,5- oder eine Mischung davon)/Resorcin- oder Pyrogallol-gemischte Formaldehydharze und Cresol/Xylenol-(entweder 2,3-, 2,5-, 3,5- oder eine Mischung davon)/Resorcin- oder Pyrogallol-gemischte Formaldehydharze und darüber hinaus Resorcin- oder Pyrogallolacetonharze, ein.
  • (2) Polymere Verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen an den Seitenketten
  • Die polymeren Verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen an den Seitenketten schließen polymere Verbindungen ein, die durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers, welches eine Verbindung von geringem Molekulargewicht ist, mit einer oder mehreren phenolischen Hydroxylgruppen bzw. einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Bindungen hergestellt werden und Copolymerisation des Monomers mit einem anderen polymerisierbaren Monomer.
  • Das polymerisierbare Monomer mit einer phenolischen Hydroxylgruppe schließt Acrylamide, Methacrylamide, Acrylester und Methacrylester ein, die eine phenolische Hydroxylgruppe, Hydroxystyrole und dergleichen aufweisen. Spezielle Beispiele der polymerisierbaren Monomere, die bevorzugt verwendet werden, schließen vorzugsweise N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 3-Methyl-p-hydroxystyrol, 3-Methoxy-p-hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und dergleichen ein. Polyhydroxystyrole (o-, m- und p-Hydroxystyrole, 3-substituierte 4-Hydroxystyrole und Copolymere davon) sind stärker geeignet.
  • In der Erfindung enthält die polymere Verbindung vorzugsweise das Monomer mit einer phenolischen Hydroxylgruppe in einem Verhältnis von 10 Mol% oder höher und stärker bevorzugt 20 Mol% oder höher, wenn die polymere Verbindung mit phenolischen Hydroxylgruppen an den Seitenketten ein Copolymer des polymerisierbaren Monomers mit einer phenolischen Hydroxylgruppe und einem anderen polymerisierbaren Monomer ist. Das Verhältnis von weniger als 10 Mol% führt zu einer unzureichenden Alkalilöslichkeit in einigen Fällen, wobei ein ausreichender Effekt der Vergrößerung der Entwicklungsbreite nicht ausgeführt werden kann.
  • Das andere polymerisierbare Monomer, das mit dem polymerisierbaren Monomer mit einer phenolischen Hydroxylgruppe copolymerisierbar ist, schließt Verbindungen ein, die in den folgenden Punkten (m1) bis (m12) gezeigt werden, ist aber nicht auf diese Verbindungen beschränkt.
    • (m1) Acrylester und Methacrylester mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe, einschließend 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dergleichen.
    • (m2) Alkylacrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat und Glycidylacrylat.
    • (m3) Alkylmethacrylate, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat und Glycidylmethacrylat.
    • (m4) Acrylamide und Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
    • (m5) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
    • (m6) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat und Vinylbenzoat.
    • (m7) Styrole, wie Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrole und Chlormethylstyrole.
    • (m8) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
    • (m9) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
    • (m10) N-Vinylpyrrolidon, Acrylnitril und Methacrylnitril und dergleichen.
    • (m11) Ungesättigte Imide, wie Maleimid, N-Methylmaleimid, N-Cyclohexylmaleimid und N-Phenylmaleimid.
    • (m12) Ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.
  • Die alkalilöslichen polymeren Verbindungen können durch bekannte Pfropf-Copolymerisation, Block-Copolymerisation, statistische Copolymerisation und dergleichen hergestellt werden.
  • Was das Molekulargewicht der alkalilöslichen Harze mit phenolischen Hydroxylgruppen der Erfindung betrifft, beträgt in dem Fall der zuvor angegebenen Novolakharze oder Resolharze das Gewichtsmittel des Molekulargewichts Mw davon vorzugsweise 500 bis 20.000 und stärker bevorzugt 1.000 bis 10.000, und das zahlengemittelte Molekulargewicht Mn davon beträgt vorzugsweise 200 bis 5.000 und stärker bevorzugt 500 bis 3.000. Die Dispersion (Mw/Mn) liegt im Bereich von 3 bis 12. Im Fall der polymeren Verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen an den Seitenketten ist es bevorzugt, dass das Gewichtsmittel des Molekulargewichts höher als 2.000 ist und das zahlengemittelte Molekulargewicht höher als 500 ist. Es ist ferner bevorzugt, dass das Gewichtsmittel des Molekulargewichts 5.000 bis 300.000 beträgt, das zahlengemittelte Molekulargewicht 800 bis 100.000 beträgt und die Dispersion (Mw/Mn) 1,1 bis 8 beträgt. Ein zu kleines Molekulargewicht versagt bei der Herstellung von ausreichenden Filmen und ein zu hohes Molekulargewicht tendiert zu einer Bewirkung der Verschlechterung der Entwicklungseigenschaften.
  • Diese alkalilöslichen Harze mit phenolischen Hydroxylgruppen können allein oder als Mischungen von zwei oder mehr davon verwendet werden.
  • Der Gehalt der alkalilöslichen Harze in dem Gesamt-Feststoffgehalt der Zusammensetzung beträgt vorzugsweise 30 bis 99 Massen-%, starker bevorzugt, 40 bis 95 Massen-% und besonders bevorzugt 50 bis 90 Massen-%. Der Gehalt von weniger als 30 Massen-% verursacht eine Verschlechterung der Haltbarkeit der wärmeempfindlichen Schicht und ein Überschreiten von 99 Massen-% führt zu einer Verschlechterung sowohl der Empfindlichkeit als auch der Haltbarkeit.
  • [Licht-Wärme-Umwandlungssubstanzen (B)]
  • Die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanzen, die in der Erfindung verwendet werden, sind nicht besonders beschränkt, solange die Substanzen Infrarotstrahlen absorbieren und Wärme emittieren, und verschiedene Pigmente, die als infrarot-absorbierende Pigmente bekannt sind, können verwendet werden, wie auch infrarot-absorbierende Farbstoffe. Die infrarot-absorbierenden Farbstoffe sind bevorzugt. Die folgenden Farbstoffe werden beispielhaft angegeben, aber verwendbare Farbstoffe sind nicht auf diese Farbstoffe beschränkt.
  • Als infrarot-absorbierende Farbstoffe, die zu der Erfindung gehören, können kommerziell erhältliche Farbstoffe und bekannte Farbstoffe, wie in den Literaturen beschrieben (z. B. "Senryo Binran" (Handbook of Dyes), herausgegeben von Yukigoseikagaku-kyokai, 1970), verwendet werden. Spezielle Beispiele solcher Farbstoffe schließen Azofarbstoffe, Metall-Komplex-Azofarbstoffe, Pyrazolon-Azofarbstoffe, Anthrachinon-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe, Methin-Farbstoffe, Cyanin-Farbstoffe und dergleichen ein. Von diesen Farbstoffen sind Farbstoffe, die Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen absorbieren, von dem Gesichtspunkt der Verwendung für Laser-emittierende Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen besonders bevorzugt.
  • Beispiele der Farbstoffe, die Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen absorbieren, schließen Cyanin-Farbstoffe ein, wie es in JP-A-58-125246 , JP-A-59-84356 , JP-A-59-202829 , JP-A-60-78787 und dergleichen beschrieben ist, Methin-Farbstoffe, wie es in JP-A-58-173696 , JP-A-58-181690 , JP-A-58-194595 und dergleichen beschrieben ist, Naphthochinon-Farbstoffe, wie es in JP-A-58-112793 , JP-A-58-224793 , JP-A-59-48187 , JP-A-59-73996 , JP-A-60-52940 , JP-A-60-63744 und dergleichen beschrieben ist, Squarylium-Farbstoffe, wie es in JP-A-58-112792 und dergleichen beschrieben ist, Cyanin-Farbstoffe, wie es in dem Britischen Patent 434,875 und dergleichen beschrieben ist.
  • Ferner können als Farbstoffe auch Nah-Infrarot-absorbierende Sensibilisatoren, wie beschrieben in dem US-Patent Nr. 5,156,938 , geeignet verwendet werden, substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, wie in US-Patent Nr. 3,881,924 beschrieben, Trimethinthiapyryliumsalze, wie beschrieben in JP-A-57-142645 ( US-Patent Nr. 4,327,169 ), Pyryliumverbindungen, wie beschrieben in JP-A-58-181051 , JP-A-58-220143 , JP-A-59-41363 , JP-A-59-84248 , JP-A-59-84249 , JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061 , Cyanin-Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-59-216146 , Pentamethinthiopyryliumsalze und dergleichen, wie beschrieben in US-Patent Nr. 4,283,475 , Pyryliumverbindungen und dergleichen, wie offenbart in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702 , und als kommerziell erhältliche Produkte werden Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 und dergleichen, hergestellt von Epolin Co., besonders bevorzugt verwendet.
  • Darüber hinaus schließen andere Beispiele von besonders bevorzugten Farbstoffen Nah-Infrarot-absorbierende Farbstoffe ein, die durch die Formeln (I) und (II) dargestellt sind, wie es in dem US-Patent Nr. 4,756,993 beschrieben ist.
  • Die infrarot-absorbierenden Pigmente, die verwendbar sind, schließen kommerziell erhältliche Pigmente und Pigmente ein, die in "Color Index (C.I.) Binran" (Handbook of Color Indexes); "Saishin Ganryo Binran" (Handbook of the Latest Pigments), herausgegeben von Nippon Ganryogijutsu-kyokai, 1977; "Saishin Ganryo Oyo Gijutsu" (The Latest Applied Techniques of Pigments), veröffentlicht von CMC Shuppan, 1986; und "Insatsu Ink Gijutsu" (Techniques of Printing Ink), veröffentlicht von CMC Shuppan, 1984, beschrieben sind.
  • Die Pigmente schließen Schwarzpigmente, Gelbpigmente, Orangepigmente, Braunpigmente, Rotpigmente, Purpurpigmente, Blaupigmente, Grünpigmente, fluoreszierende Pigmente, metallische Pulverpigmente und Polymer-verbundene Farbmittelmaterialien ein. Spezielle Beispiele der Pigmente schließen unlösliche Azopigmente, Azolackpigmente, kondensierte Azopigmente, Chelatazopigmente, Phthalocyaninpigmente, Anthrachinonpigmente, Perylen- und Perylenonpigmente, Thioindigopigmente, Chinacridonpigmente, Dioxazinpigmente, Isoindolinonpigmente, Chinophthalonpigmente, In-mould-dekorierende Lackpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente, Ruß und dergleichen ein.
  • Diese Pigmente können ohne dem Unterziehen einer Oberflächenbehandlung verwendet werden, oder solche, die Oberflächenbehandlungen unterzogen wurden, können auch verwendet werden. Für die Oberflächenbehandlungen gibt es ein Verfahren der Beschichtung der Oberflächen der Pigmente mit Harz oder Wachs, ein Verfahren des Ermöglichens eines Tensids, an die Oberflächen davon anzuhaften und ein Verfahren des Ermöglichens, eine reaktive Substanz (z. B. Silan-Kupplungsmittel, Epoxyverbindungen oder Polyisocyanate) an die Oberfläche davon anzuhaften. Diese Verfahren sind in "Kinzokusekken no Seishitu to Oyo" (Nature and Application of Metal Soap), veröffentlicht von Saiwai Shobo, "Insatsu Ink Gijutsu" (Techniques of Printing Ink), veröffentlicht von CMC Shuppan, 1984, und "Saishin Ganryo Oyo Gijutsu" (The Latest Applied Techniques of Pigments), veröffentlicht von CMC Shuppan, 1986, beschrieben.
  • Die Teilchengröße der Pigmente fällt vorzugsweise in den Bereich von 0,01 bis 10 μm, stärker bevorzugt von 0,05 bis 1 μm und besonders bevorzugt von 0,1 bis 1 μm. Die Teilchengröße von weniger als 0,01 μm ist angesichts der Stabilität der Dispersion in einer Beschichtungsflüssigkeit für eine Aufzeichnungsschicht nicht bevorzugt, und das Überschreiten von 10 μm ist angesichts der Gleichförmigkeit der Aufzeichnungsschicht nicht bevorzugt.
  • Zum Dispergieren der Pigmente können bekannte Dispersionstechniken zum Herstellen von Tinte und Toner angewendet werden. Dispergiervorrichtungen, die verwendet werden, schließen Ultraschall-Dispersionsvorrichtungen, Sandmühlen, Attritoren, Kugelmühlen, Supermühlen, Kugelmühlen, Flügelradmühlen, Dispergatoren, KD-Mühlen, Kolloidmühlen, Dynatronmühlen, Dreifachwalzenmühlen, Pressknetvorrichtungen und dergleichen ein. Details über diese Techniken sind in "Saishin Ganryo Oyo Gijutsu" (The Latest Applied Techniques for Pigments) veröffentlicht von CMC Shuppan, 1986, beschrieben.
  • In der Erfindung beträgt der Gehalt der Licht-Wärme-Umwandlungssubstanzen in dem gesamten Feststoffgehalt der photoempfindlichen Zusammensetzungen vorzugsweise 0,01 bis 50 Massen-%, stärker bevorzugt 0,1 bis 10 Massen-% und ferner bevorzugt 0,5 bis 10 Massen-%. Der Gehalt von weniger als 0,01 Massen-% tendiert dazu, eine Verminderung der Sensibilität zu bewirken, und ein Überschreiten von 50 Massen-% führt zu einem Verlust der Gleichförmigkeit der wärmeempfindlichen Schicht und tendiert zu einer Verschlechterung der Haltbarkeit der wärmeempfindlichen Schicht.
  • [Leucohydroxy-Farbstoffe (C)]
  • Die Leucohydroxy-Farbstoffe (C) der Erfindung sind Farbstoffe, bei denen eine Hydroxygruppe mit dem Kohlenstoffatom des Konjugationszenters anstelle eines Wasserstoffatoms in den sogenannten Leuco-Farbstoffen (Farbstoffe vom Reduktions-Typ) verbunden ist und Strukturen aufweist, dargestellt durch die allgemeine Formel (I):
    Figure 00170001
  • In der Formel können Ar1 und Ar2 jeweils gleich oder verschieden sein und stellen eine Arylgruppe oder eine Heteroarylgruppe dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann, R1 bis R4 können jeweils gleich oder verschieden sein und stellen ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann, und Y stellt ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Heteroarylgruppe dar, die eine Substituentengruppe aufweisen können. Hierin, wenn wenigstens eines von Ar1 und Ar2 oder Y eine Arylgruppe ist, weist wenigstens eines von Ar1, Ar2 und Y als eine Substituentengruppe eine Hydroxygruppe, eine Aminogruppe, eine Monoalkylgruppe oder eine Dialkylaminogruppe an der ortho- oder para-Position auf. Ferner sind zwei von Ar1, Ar2 und Y miteinander über eine Bindegruppe verbunden, um einen Ring zu bilden. m und n stellen 0 oder 1 dar.
  • Die zuvor genannte Alkylkgruppe ist beispielsweise eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, und bevorzugte Beispiele davon schließen eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine n-Butylgruppe, eine sec-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe und eine Octylgruppe ein, die eine Substituentengruppe aufweisen können.
  • Die Arylgruppe ist beispielsweise eine Arylgruppe mit 6 bis 15 Kohlenstoffatomen, und bevorzugte Beispiele davon schließen eine Phenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Dimethylphenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe ein, die eine Substituentengruppe aufweisen können.
  • Die Heteroarylgruppe ist vorzugsweise ein 5- oder 6-gliedriger Heterocyclus mit Aromatizität, und Beispiele davon schließen einen Furanring, einen Benzofuranring, einen Thiophenring, einen Benzothiophenring, einen Pyrrolring, einen Indolring, einen Pyrrolidinring, einen Pyridinring und einen Piperazinring ein.
  • Die Ringe, die das Verbinden von zwei von Ar1, Ar2 und Y durch eine Bindegruppe ermöglichen, schließen 5- bis 7-gliedrige Ringe ein, die durch ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, ein Stickstoffatom oder eine Alkylengruppe gebildet werden.
  • Substituentengruppen, durch die die zuvor genannten Gruppen substituiert werden können, schließen Gruppen mit einem aktiven Wasserstoff, wie eine Amidogruppe, eine Ureidogruppe und eine Hydroxylgruppe, Halogenatome (Fluoratom, Chloratom, Bromatom und Iodatom), Alkoxygruppen (Methoxygruppe, Ethoxygruppe, Propoxygruppe, Butoxygruppe usw.), Thioethergruppen, Acylgruppen (Acetylgruppe, Propanoylgruppe, Benzoylgruppe usw.), eine Aminogruppe, Alkylaminogruppen (Methylaminogruppe, Ethylaminogruppe usw.), Dialkylaminogruppen (Dimethylaminogruppe, Diethylaminogruppe, Dipropylaminogruppe, Pyrrolidylgruppe), eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe und dergleichen, ein.
  • Die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt werden, können Verbindungen sein, die zahlreiche Leucohydroxy-Farbstoffstrukturen durch eine Y-Gruppe in einem Molekül (d. h., eine Multimer-Struktur) enthalten.
  • Die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt werden, können beispielsweise durch Zugabe eines Grignard-Reagenz, eines lithiumorganischen Reagenzes oder dergleichen zu einem Diarylketon mit einer Substituentengruppe synthetisiert werden.
  • Obwohl spezielle Beispiele der Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt werden, unten angegeben werden, ist die Erfindung nicht so auszulegen, auf diese Beispiele beschränkt zu werden.
  • Figure 00200001
  • Figure 00210001
  • In der Erfindung beträgt der Gehalt der Leucohydroxy-Farbstoffe (C), die durch die allgemeine Formel (I) in dem Gesamt-Feststoffgehalt der photoempfindlichen Zusammensetzungen dargestellt werden, vorzugsweise 0,01 bis 15 Massen-%, stärker bevorzugt 0,05 bis 7 Massen-% und ferner vorzugsweise 0,3 bis 5 Massen-%.
  • [Andere Bestandteile]
  • Bei der Bildung der infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung können zahlreiche Zusatzstoffe, die sich von den zuvor genannten wesentlichen Bestandteilen unterscheiden, zugegeben werden, solange der Effekt der Erfindung nicht verschlechtert wird. Beispiele solcher Bestandteile sind unten veranschaulicht.
  • Beispielsweise ist eine gemeinsame Verwendung von Substanzen, wie Oniumsalze, o-Chinondiazidverbindungen, aromatischen Sulfonverbindungen und aromatischen Sulfonsäureestern, die thermisch zersetzbar sind, aber im wesentlichen die Löslichkeit der alkalilöslichen polymeren Verbindungen in einen nicht-zersetzten Zustand verringern, angesichts der Verbeserung der Fähigkeit, die Auflösung der Bildbereiche in den Entwicklern zu verhindern, bevorzugt. Beispiele der Oniumsalze schließen Diazoniumsalze, Ammoniumsalze, Phosphoniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze, Selenoniumsalze, Arsoniumsalze und dergleichen ein.
  • Beispiele der Oniumsalze, die vorzugsweise in der Erfindung verwendet werden, schließen Diazoniumsalze ein, wie beispielsweise beschrieben in S.I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), T.S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980), und JP-A-5-158230 , Ammoniumsalze, wie beschrieben in den US-Patenten Nr. 4,069,055 und 4,069,056 und JP-A-3-140140 , die Phosphoniumsalze, wie beschrieben in D.C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.S. Wen et al., The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokio, Okt. (1988), und die US-Patente Nr. 4,069,055 und 4,069,056 , die Iodoniumsalze, wie beschrieben in J.V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. Neves, 28. Nov., S. 31 (1988), Europäisches Patent Nr. 104,143 , US-Patente Nr. 339,049 und 410,201 , JP-A-2-150848 und JP-A-2-296514 , Sulfoniumsalze, wie beschrieben in J.V. Crivello et al., Polymer J. 17, 73 (1985), J.V. Crivello et al., J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), W.R. Watt et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem., Ausgabe 22, 1789 (1984), J.V. Crivello et al., Polymer Bull., 14, 279 (1985), J.V. Crivello et al., Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ausgabe 17, 2877 (1979), Europäische Patente Nr. 370,693 , 233,567, 297,443 und 297,442 , US-Patente Nr. 4,933,377 , 3,902,114 , 410,201 , 339,049 , 4,760,013 , 4,734,444 und 2,833,827 , und Deutsche Patente Nr. 2,904,626 , 3,605,580 und 3,604,581 , die Selenoniumsalze, wie beschrieben in J.V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), 1307 (1977), J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ausgabe 17, 1047 (1979), die Arsoniumsalze, wie beschrieben in C.S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S. 478, Tokio, Okt. (1988), und dergleichen.
  • Von diesen Oniumsalzen sind die Diazoniumsalze besonders bevorzugt. Besonders bevorzugte Diazoniumsalze sind solche, die in JP-A-5-158230 beschrieben sind.
  • Beispiele der Gegenionen in den Oniumsalzen schließen Anionen von Tetrafluorborsäure, Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 5-Nitro-o-toluolsulfonsäure, 5-Sulfosalicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfonsäure und dergleichen ein. Von diesen Säuren sind alkylaromatische Sulfonsäuren, wie hexafluorinierte Phosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure geeignet.
  • Geeignete Chinondiazide schließen o-Chinondiazidverbindungen ein. Die o-Chinondiazide, die in der Erfindung verwendet werden, sind Verbindungen mit wenigstens einer o-Chinondiazidgruppe und einer erhöhten Alkalilöslichkeit in Abhängigkeit von der thermischen Zersetzung, und solche Verbindungen mit verschiedenen Strukturen können verwendet werden. Das heißt, die o-Chinondiazide mit beiden Effekten des Verlierens einer Fähigkeit des Bindemittel, die Auflösung zu verhindern, und es ermöglicht wird, dass die o-Chinondiazide selbst in die alkalilöslichen Substanzen durch thermische Zersetzung umgewandelt werden können, wodurch somit die Löslichkeit der empfindlichen Materialien gefördert wird. Die o-Chinondiazidverbindungen, die in der Erfindung verwendet werden, schließen z. B. Verbindungen ein, die in J. Kosar, "Light-Sensitive Systems", S. 339-352, John Wiley & Sons, Inc., beschrieben sind, und die Sulfonester oder Sulfonamide von o-Chinondiazide, denen es ermöglicht wird, mit verschiedenen aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminoverbindungen zu reagieren, sind besonders geeignet. Ester aus Pyrogallolacetonharzen mit Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonchlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonchlorid, wie beschrieben in JP-B-43-28403 , und Ester aus Phenolformaldehydharzen mit Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonchlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazid-5-sulfonchlorid, wie beschrieben in den US-Patenten Nr. 3,046,120 und 3,188,210 , werden auch geeignet verwendet.
  • Darüber hinaus werden auch Ester aus Naphthochinon-(1,2)-diazid-4-sulfonchlorid mit Phenolformaldehydharzen oder Cresolformaldehydharzen und Ester aus Naphthochinon-(1,2)-diazid-4-sulfonchlorid mit Pyrogallolacetonharzen geeignet verwendet. Andere geeignete o-Chinondiazidverbindungen sind in einer Anzahl von Patenten offenbart und bekannt.
  • Die anderen geeigneten o-Chinondiazidverbindungen sind beispielsweise in JP-A-47-5303 , JP-A-48-63802 , JP-A-48-63803 , JP-A-48-96575 , JP-A-49-38701 , JP-A-48-13354 , JP-B-41-11222 , JP-B-45-9610 , JP-B-49-17481 , US-Patenten Nr. 2,797,213 , 3,454,400 , 3,544,323 , 3,573,917 , 3,674,495 und 3,785,825 , Britischen Patenten Nr. 1,227,602 , 1,251,345 , 1,267,005 , 1,329,888 und 1,330,932 , im Deutschen Patent 854,890 , und dergleichen beschrieben.
  • Der Gehalt der o-Chinondiazidverbindungen in dem Gesamt-Feststoffgehalt der Zusammensetzungen der Erfindung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 Massen-%, stärker bevorzugt von 5 bis 30 Massen-% und besonders bevorzugt von 10 bis 30 Massen-%. Dies Verbindungen können alleine oder als Mischungen von mehreren davon verwendet werden.
  • Die Gehalte von anderen Zusatzstoffen als die o-Chinondiazidverbindungen in dem Gesamt-Feststoffgehalt der Erfindung betragen vorzugsweise 1 bis 50 Massen-%, stärker bevorzugt 5 bis 30 Massen-% und besonders bevorzugt 10 bis 30 Massen-%.
  • Um die Auflösung der Bilder und die Beständigkeit der Oberflächen gegenüber einem Ankratzen zu verstärken, ist eine gemeinsame Verwendung eines Polymers bevorzugt, welches als ein Polymerisationsbestandteil aus einem (Meth)acrylatmonomer hergestellt wird, das zwei oder drei Perfluoralkylgruppen mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen in einem Molekül enthält, wie in JP-A-2000-187318 beschrieben. Der Gehalt des Polymers in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,1 bis 10 Massen-% und stärker bevorzugt 0,5 bis 5 Massen-%.
  • In der infrarot-empfindlichen Zusammensetzung der Erfindung kann eine Verbindung zum Vermindern des Reibbeiwerts der Ruhe in der Oberfläche zugegeben werden, um die Beständigkeit gegenüber einem Ankratzen zu verleihen. Spezielle Beispiele der Verbindung schließen Alkylester aus langkettigen Carbonsäuren ein, wie in dem US-Patent Nr. 6,117,913 beschrieben. Der Gehalt der Verbindung in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,1 bis 10 Massen-% und stärker bevorzugt 0,5 bis 5 Massen-%.
  • Darüber hinaus können die infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung eine Verbindung mit geringem Molekulargewicht mit einer sauren Gruppe, die benötigt wird, um die Löslichkeit zu fördern, enthalten. Die saure Gruppe schließt Gruppen mit einem pKa-Wert von 7 bis 11, wie eine Thiolgruppe, eine phenolische Hydroxylgruppe, eine Sulfonamidogruppe und eine aktive Methylengruppe ein.
  • Der Gehalt der Verbindung in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,05 bis 5 Massen-% und stärker bevorzugt 0,1 bis 3 Massen-%. Das Überschreiten von 5 Massen-% neigt unvorteilhafterweise dazu, die Löslichkeit der jeweiligen Schichten in einem Entwickler zu erhöhen.
  • Darüber hinaus können in der Erfindung zahlreiche Mittel zum Verhindern der Auflösung enthalten sein, um die Löslichkeit zu steuern. Disulfonverbindungen und Sulfonverbindungen, wie beschrieben in JP-A-11-119418 , werden geeignet als Mittel verwendet, und insbesondere wird vorzugsweise 4,4'-Bishydroxyphenylsulfon verwendet.
  • Der Gehalt der Mittel zum Verhindern der Auflösung in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,05 bis 20 Massen-% und stärker bevorzugt 0,5 bis 10 Massen-%.
  • Zum Zweck der Verbesserung der Sensibilität können cyclische Säureanhydride, Phenole oder organische Säuren gleichzeitig verwendet werden. Beispiele der cyclischen Säureanhydride, die verwendbar sind, schließen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxo-Δ4-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Succinsäureanhydrid, Pyrromellitsäureanhydrid und dergleichen ein, die in dem US-Patent Nr. 4,115,128 beschrieben sind.
  • Beispiele der Phenole schließen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan, 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan und dergleichen ein.
  • Die organischen Säuren schließen Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylsulfate, Phosphonsäuren, Phosphorsäureester, Carbonsäuren und dergleichen ein, die in JP-A-60-88942 und JP-A-2-96755 beschrieben sind, insbesondere p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, p-Toluolsulfonsäure, Ethylsulfat, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluylsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure, Ascorbinsäure und dergleichen ein.
  • Der Gehalt dieser cyclischen Säureanhydride, Phenole oder organischen Säuren in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,05 bis 20 Massen-%, stärker bevorzugt 0,1 bis 15 Massen-% und besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Massen-%.
  • Zum Zweck der Erhöhung der Stabilität der Behandlung der Entwicklung können die infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung nicht-ionische Tenside enthalten, wie es in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 beschrieben ist, ampholytische Tenside, wie es in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 beschrieben ist, Siloxanverbindungen, wie es in dem Europäischen Patent 950,517 beschrieben ist, und Copolymere, die aus fluorhaltigen Monomeren hergestellt werden, wie es in JP-A-11-288093 beschrieben ist. Ferner, um die Qualität der beschichteten Oberflächen zu verbessern, können die Zusammensetzungen Tenside, wie Tenside von Fluor-Serien, wie es in JP-A-62-170950 beschrieben ist, enthalten.
  • Beispiele von nicht-ionischen Tensiden schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Monoglyceridstearat, Polyoxyethylennonylphenylether und dergleichen ein. Spezielle Beispiele der ampholytischen Tenside schließen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betaine ein (z. B. "Amorgen K" (Handelsname), hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
  • Bevorzugte Beispiele von Siloxanverbindungen sind Block-Copolymere von Dimethylsiloxan und Polyalkylenoxiden, insbesondere schließen sie Polyalkylenoxid-modifizierte Silikone, wie DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732 und DBP-534, hergestellt von Chisso K.K., und Tego Glide 100, hergestellt von Tego Co. (Deutschland), ein.
  • Der Gehalt der zuvor angegebenen Tenside in den Zusammensetzungen beträgt vorzugsweise 0,05 bis 15 Massen-% und stärker bevorzugt 0,1 bis 5 Massen-%.
  • Die infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung können Farbstoffe und Pigmente als Ausdruck-Mittel oder Bildfarbstoffe enthalten, um ein sichtbares Bild unmittelbar nach dem Erwärmen in Abhängigkeit von der Belichtung mit einem Strahl zu erzeugen.
  • Die Ausdruck-Mittel werden durch eine Kombination einer Verbindung beispielhaft angegeben, die eine Säure durch Erwärmen in Abhängigkeit von der Belichtung mit einem Strahl (Photosäuregenerator) und einen salzbildbaren organischen Farbstoff emittiert. Spezielle Beispiele der Mittel schließen Kombinationen aus o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenide und salzbildbare organische Farbstoffe ein, wie es in JP-A-50-36209 und in JP-A-53-8128 beschrieben ist, und Kombinationen aus Trihalogenmethylverbindungen und salzbildbaren organischen Farbstoffen, wie es in JP-A-53-36223 , JP-A-54-74728 , JP-A-60-3626 , JP-A-61-143748 , JP-A-61-151644 und JP-A-63-58440 beschrieben ist. Solche Trihalogenmethylverbindungen schließen Oxazolverbindungen und Triazinverbindungen ein, die eine herausragende Alterungsstabilität aufweisen bzw. klare ausgedruckte Bilder erzeugen.
  • Andere Farbstoffe als die zuvor genannten salzbildbaren organischen Farbstoffe können auch als Bildfarbmittel verwendet werden. Geeignete Farbstoffe sind öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe wie auch salzbildbare organische Farbstoffe.
  • Spezielle Beispiele der Bildfarbmittel schließen Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 ein (die oben angegebenen Farbstoffe werden von Orient Kagaku Kogyo K.K. hergestellt), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI142535), Ethyl Violet, Rhodamin B (CI145170B), Malachitgrün (0142000), Methylenblau (CI52015) und dergleichen. Darüber hinaus sind Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-62-293247 , besonders bevorzugt.
  • Der Gehalt dieser Farbstoffe in dem Gesamtfeststoffgehalt der Zusammensetzungen der Erfindung beträgt 0,01 bis 10 Massen-% und vorzugsweise 0,1 bis 3 Massen-%.
  • Weichmacher werden, falls notwending, zu den Zusammensetzungen der Erfindung zugegeben, um den Beschichtungen eine Flexibilität zu verleihen. Beispiele der Weichmacher, die verwendet werden, schließen Butylphthalyl, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Oliogmere und Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure ein.
  • Zum Zweck der Verbesserung der Tintenaufnahmefähigkeit von Bildern kann eine Vielzahl von Harzen mit hydrophoben Gruppen zu den Zusammensetzungen der Erfindung zugegeben werden, einschließlich beispielsweise Octylphenolformaldehydharze, t-Butylphenolformaldehydharze, t-Butylphenolbenzaldehydharze, Kolophonium-modifizierte Novolakharze und o-Naphthochinondiazidsulfonester von diesen modifizierten Novolakharzen. Der Gehalt dieser Harze in der Gesamtmasse der Zusammensetzungen liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 30 Massen-%.
  • Um weiter die Abriebfestigkeit der Beschichtungen zu verbessern, können bekannte Harze zu diesen Zusammensetzungen zugegeben werden. Beispiele der Harze schließen Polyvinylacetalharze, Polyurethanharze, Epoxyharze, Vinylchloridharze, Nylon, Polyesterharze, Acrylharze und dergleichen ein. Diese Harze können allein oder als Mischungen davon verwendet werden. Der Gehalt der Harze in der Gesamtmasse der Zusammensetzungen liegt vorzugsweise im Bereich von 2 bis 40 Massen-%.
  • Die Zusammensetzung der Erfindung wird vorzugsweise für eine Bildbildungsschicht (im nachhinein gelegentlich als eine "photoempfindliche Schicht") für den lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet.
  • Wenn ein photoempfindliches Material für den lithographischen Druckplattenvorläufer aus der infrarot-empfindlichen Zusammensetzung der Erfindung hergestellt wird, wird zunächst die Zusammensetzung als Bildbildungsschicht auf einen geeigneten Träger bereitgestellt.
  • Der Fall, bei dem die photoempfindliche Zusammensetzung der Erfindung als Bildbildungsschicht für den lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet wird, wird unten angegeben.
  • Die photoempfindliche Harzzusammensetzung wird in den folgenden organischen Lösemitteln, die allein oder als Mischungen davon verwendet werden, aufgelöst oder dispergiert, auf den Träger beschichtet und getrocknet.
  • Obwohl alle bekannten herkömmlichen organischen Lösemittel verwendet werden können, werden Lösemittel mit einem Siedepunkt im Bereich von 40 bis 200°C und insbesondere von 60 bis 160°C, aufgrund des Vorteils beim Trocknen, ausgewählt.
  • Beispiele der organischen Lösemittel schließen Alkohole, wie Methylalkohol, Ethylalkohol, n- oder Isopropylalkohol, n- oder Isobutylalkohol und Diacetonalkohol, Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylbutylketon, Methylamylketon, Methylhexylketon, Diethylketon, Diisobutylketon, Cyclohexanon, Methylcyclohexanon und Acetylaceton, Kohlenwasserstoffe, wie Benzol, Toluol, Xylol, Cyclohexan und Methoxybenzol, Essigsäureester, wie Ethylacetat, n- oder Isopropylacetat, n- oder Isobutylacetat, Ethylbutylacetat und Hexylacetat, Halogenide, wie Methylendichlorid, Ethylendichlorid und Monochlorbenzol, Ether, wie Isopropylether, n-Butylether, Dioxan, Dimethyldioxan und Tetrahydrofuran, mehrwertige Alkohole und deren Derivate, wie Ethylenglykol, Methylcellosolve, Methylcellosolveacetat, Ethylcellosolve, Diethylcellosolve, Cellosolveacetat, Butylcellosolve, Butylcellosolveacetat, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykolmethylethylether, Diethylenglykoldiethylether, Propylenglykol, Propylenglykolmonomethylether, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethylether, Propylenglykolmonoethyletheracetat, Propylenglykolmonobutylether und 3-Methyl-3-methoxybutanol, und spezielle Lösemittel, wie Dimethylsulfoxid und N,N-Dimethylformamid ein. Diese Lösemittel können geeignet allein oder als Mischungen davon verwendet werden. Die Konzentration des Feststoffgehalts in den Zusammensetzungen beträgt geeigneterweise von 2 bis 50 Massen-%.
  • Beispiele der Verfahren zum Beschichten der Zusammensetzungen der Erfindung schließen Walzenbeschichten, Eintauchbeschichten, Luftrakelbeschichten, Gravurbeschichten, Offset-Gravurbeschichten, Trichterbeschichten, Rakelstreichverfahren, Drahtrakelbeschichten, Sprühbeschichten und dergleichen ein. Die Menge der Beschichtung beträgt nach dem Trocknen vorzugsweise 0,3 bis 4,0 g/m2. Wenn die Beschichtungsmenge abnimmt, nimmt auch die Menge der Belichtung, um ein Bild zu erhalten, ab, aber die Festigkeit der Beschichtung nimmt auch ab. Obwohl eine erhöhte Menge der Beschichtung eine erhöhte Menge an Belichtung erfordert, wird die photoempfindliche Beschichtung gestärkt, um eine Druckform zu erhalten, wodurch eine hohe Anzahl an gedruckten Blättern erhalten wird (hoch in der Plattenabriebfestigkeit).
  • Das Trocknen der photoempfindlichen Zusammensetzung, die auf dem Träger beschichtet ist, wird im allgemeinen durch erwärmte Luft durchgeführt. Das Erwärmen wird vorzugsweise im Bereich von 30 bis 200°C und insbesondere von 40 bis 140°C durchgeführt. Wie ein Verfahren, bei dem die Temperatur für das Trocknen konstant gehalten wird, während dem Trocknen, kann auch ein Verfahren, bei dem die Temperatur stufenweise erhöht werden kann, während das Trocknen durchgeführt wird, durchgeführt werden. Ferner kann Trocknungsluft ein gutes Ergebnis bei dem Entfernen von Feuchtigkeit davon in einigen Fällen erreichen. Die erwärmte Luft wird vorzugsweise beschichteten Oberflächen in einer Geschwindigkeit von 0,1 bis 30 m/s zugeführt und stärker bevorzugt von 0,5 bis 20 m/s zugeführt.
  • [Träger]
  • Die Träger, die für die photoempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet werden, sind dimensionsstabile plattenartige Substanzen und schließen die Träger für herkömmliche Druckformen ein, welche vorzugsweise auch für den vorliegenden Zweck verwendet werden können. Beispiele solcher Träger schließen Papier und Papier, laminiert mit Kunststoffen (z. B. Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol), Metallplatten, wie Aluminium (enthaltend Aluminiumlegierungen), Zink, Eisen und Kupfer, Kunststofffolien, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloselactat, Celluloselactatacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat, Papier- oder Kunststofffolien, laminiert oder abgeschieden mit Metallen, wie oben beschrieben, ein. Allerdings sind Aluminiumplatten besonders bevorzugt. Die Aluminiumplatten enthalten darin reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungen. Verschiedene Aluminiumlegierungen, die Metalle, wie Silizium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Bismut und Nickel enthalten werden verwendet. Diese Legierungen sind mit Eisen und Titan und darüber hinaus mit einer vernachlässigbaren Menge anderer Verunreinigungen kontaminiert.
  • Die Träger werden, falls notwendig, Oberflächenbehandlungen unterzogen. Beispielsweise werden in dem photoempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufer die Träger einer hydrophilen Oberflächen-Erzeugungsbehandlung unterzogen. Es ist bevorzugt, dass die Träger, die die Oberfläche eines Metalls, insbesondere Aluminium, aufweisen, Oberflächenbehandlungen, wie Sandabbeizen, Eintauchen in eine wässerige Lösung aus Natriumsilikat, Kaliumfluorzirkonat, Phosphorsäuresalz oder dergleichen, oder Anodisieren unterzogen werden. Eine Aluminiumplatte, die Behandlungen der Sandabbeizung und dann dem Eintauchen in eine wässerige Lösung von Natriumsilikat unterzogen wurde, wie in dem US-Patent Nr. 2,714,066 beschrieben, und eine Aluminiumplatte, die Behandlungen der Anodisierung und dem Eintauchen in eine wässerige Lösung aus Alkalisilikat unterzogen wurde, wie in US-Patent Nr. 3,181,461 beschrieben, werden auch bevorzugt verwendet.
  • Die Anodisierungsbehandlung wird durchgeführt, indem es durch Elektrizität ermöglicht wird, durch eine Aluminiumplatte als eine Anode in einem Elektrolyt durchgeleitet zu werden, der aus einem oder einer Kombination von zwei oder mehr wässerigen Lösungen oder nicht-wässerigen Lösungen aus anorganischen Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure, organischen Säuren, wie Oxalsäure und Sulfaminsäure, und Salzen davon, hergestellt ist.
  • Die elektrolytische Abscheidung auf einem Silikat, wie beschrieben in dem US-Patent Nr. 3,658,662 , ist auch wirksam. Diese hydrophilen Oberflächen-erzeugenden Behandlungen werden für die Zwecke der Verhinderung von schädlichen Reaktionen bei den Oberflächen der Träger mit photoempfindlichen Zusammensetzungen, die darauf bereitgestellt sind, ausgeführt, und zur Verbesserung der Adhäsion der photoempfindlichen Schicht wie auch zum Zweck, die Oberflächen der Träger hydrophil einzustellen. Vor der Sandabbeizung der Aluminiumplatten ist es möglich, das Entfernen von Walzenöl von den Oberflächen und eine Vorbehandlung der Oberflächen durchzuführen, um reine Aluminiumoberflächen, falls benötigt, zu entwickeln.
  • Für die zuerst genannte Behandlung werden Lösemittel, wie Trichlen, Tenside oder dergleichen, verwendet. Für die zuletzt genannte Behandlung werden in einem weiten Bereich alkalische Ätzmittel, wie Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid, verwendet.
  • Für die Sandabbeizung sind alle mechanischen, chemischen und elektrochemischen Verfahren wirksam. Für mechanische Verfahren gibt es eine Kugelabschleifung, Schleifmittelbestrahlung und Bürstenschleifbehandlung, wobei die wässerige Aufschlämmung eines Schleifmittels, wobei Bimsteinpulver mit einer Nylonbürste gegen die Oberflächen gerieben wird, als chemisches Verfahren ist es geeignet, in eine gesättigte wässerige Lösung des Aluminiumsalzes einer Mineralsäure einzutauchen, und als elektrochemisches Verfahren ist es bevorzugt, eine Wechselstrom-Elektrolyse in einer sauren elektrolytischen Lösung, wie Salzsäure, Salpetersäure oder kombinierte Säuren davon, durchzuführen. Von diesen Oberflächen-Aufrauverfahren ist eine Kombination einer mechanischen Oberflächenaufrauung und eine elektrochemische Oberflächenaufrauung, wie in JP-A-55-137993 beschrieben, bevorzugt, aufgrund der starken Adhäsion von fettempfindlichen Bildern zu den Trägern. Es ist bevorzugt, die Sandabbeizung gemäß dem vorgenannten Verfahren derart durchzuführen, dass der Oberflächen-Mittenrauhwert (Ra) der Aluminiumoberflächen in den Bereich von 0,3 bis 1,0 μm fällt. Die Aluminiumplatten, die der Sandabbeizbehandlung unterzogen wurden, werden einem Waschen mit Wasser und einem chemischen Ätzen, falls benötigt, unterzogen.
  • Die Ätzmittel werden im allgemeinen aus wässerigen Lösungen aus Basen oder Säuren ausgewählt, die Aluminium auflösen. In diesem Fall sollten die Ätzmittel keine Filme bilden, die von Komponenten von Ätzlösungen auf den geätzten Oberflächen abgeleitet werden und sich von Aluminium unterscheiden. Bevorzugte Beispiele der Ätzmittel schließen als basische Substanzen Natriumhyroxid, Kaliumhydroxid, Trinatriumphosphat, Dinatriumphosphat, Trikaliumphosphat und Dikaliumphosphat und als saure Substanzen Schwefelsäure, Perschwefelsäure, Phosphorsäure, Salzsäure und Salze davon ein. Die Salze von Metallen, die in der Ionisierungstendenz geringer sind als Aluminium, beispielsweise Salze von Zink, Chrom, Kobalt, Nickel, Kupfer und dergleichen, sind nicht bevorzugt, da sie unnötige Filme auf den geätzten Oberflächen bilden. In diesen Ätzmitteln ist es am stärksten bevorzugt, die Auflösegeschwindigkeit von Aluminium oder Legierungen, die verwendet werden, auf 0,3 bis 40 g/m2 pro Minute in einer Eintauchzeit durch die Steuerung der Betriebskonzentration und Temperatur einzustellen. Allerdings können Auflösegeschwindigkeiten höher oder niedriger als der zuvor genannte Bereich auch ermöglicht werden.
  • Bei dem Ätzen werden die Aluminiumplatten eingetaucht oder mit den zuvor genannten Ätzlösungen beschichtet, vorzugsweise derart, dass die Ätzmenge in den Bereich von 0,5 bis 10 g/m2 fällt. Es ist wünschenswert, wässerige Lösungen von Basen als Ätzmittel aufgrund einer schnelleren Ätzgeschwindigkeit zu verwenden. In diesem Fall wird im allgemeinen eine Reinigungsbehandlung durchgeführt, da sich Schmutz bildet. Säuren, die für die Reinigungsbehandlung verwendet werden, sind Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure, Borfluorsäure und dergleichen. Die Aluminiumplatten, die der Ätzbehandlung unterzogen wurden, werden einem Waschen mit Wasser unterzogen und einer Anodisierung, falls notwendig. Die Anodisierung kann gemäß den herkömmlichen Verfahren auf diesem Gebiet durchgeführt werden.
  • Insbesondere wird es ermöglicht, dass Wechselstrom oder Gleichstrom durch eine Aluminiumplatte in einer wässerigen Lösung oder einer nicht-wässerigen Lösung, enthaltend Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfaminsäure, Benzolsulfonsäure und dergleichen, oder kombinierte Säuren, die aus zwei oder mehr davon bestehen, durchgeleitet werden, um einen anodisierten Film auf der Oberfläche des Aluminiumträgers zu bilden.
  • Obwohl Bedingungen der Anodisierungsbehandlung in Abhängigkeit von den verwendeten elektrolytischen Lösungen variieren und bei der eindeutigen Bestimmung schwierig sind, ist es geeignet, dass im allgemeinen die Konzentration der elektrolytischen Lösungen in einem Bereich von 1 bis 80 Massen-% liegt, die Temperatur davon in einem Bereich von 5 bis 70°C liegt, die Stromdichte von 0,5 bis 60 A/dm2 liegt, die Spannung von 1 bis 100 V beträgt und die Elektrolysezeit 30 s bis 50 min beträgt. Von den Anodisierungsbehandlungen wird das Verfahren, wie beschrieben in dem Britischen Patent 1,412,768 , bei dem eine hohe Stromdichte in Schwefelsäure verwendet wird, und das Verfahren, wie beschrieben in dem US-Patent Nr. 3,511,661 , bei dem Phosphorsäure als ein elektrolytisches Bad verwendet wird, vorzugsweise eingesetzt. Die Aluminiumplatten, die einem Oberflächenaufrauen unterzogen werden, und ferner einem Anodisieren, können einer hydrophilen Oberflächenerzeugungsbehandlung unterzogen werden, falls notwendig. Bevorzugte Beispiele der Behandlung schließen eine Behandlung mit einem Alkalimetallsilikat, beispielsweise eine wässerige Lösung aus Natriumsilikat, wie es in den US-Patenten Nr. 2,714,066 und 3,181,461 offenbart ist, eine Behandlung mit Kaliumfluorzirkonat, wie es in JP-B-36-22063 offenbart ist, und eine Behandlung mit einer Polyvinylphosphonsäure, wie es in dem US-Patent Nr. 4,153,461 offenbart ist, ein.
  • [Matte Schichten]
  • Es ist bevorzugt, matte Schichten auf den Oberflächen der photoempfindlichen Schichten, die wie oben beschrieben bereitgestellt werden, zu erzeugen, um die Zeit der Evakuierung bei der Kontaktbelichtung zu verkürzen, bei der ein Vakuumdruckgerüst verwendet wird, und um ein Druckausbluten zu verhindern. Insbesondere gibt es Verfahren zur Bildung von matten Schichten, wie es in JP-A-50-125805 , JP-B-57-6582 und JP-B-61-28986 beschrieben ist, und Verfahren des thermischen Schmelzens von Feststoffpulvern, wie in JP-B-62-62337 beschrieben.
  • [Organische Unterschichten]
  • Bei der Herstellung des photoempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers durch Verwendung der Zusammensetzungen der Erfindung ist es bevorzugt, eine organische Unterschicht vor der Beschichtung der photoempfindlichen Schicht, wie oben beschrieben, bereitzustellen, um die verbleibende photoempfindliche Schicht auf den Nicht-Bildbereichen zu verringern. Beispiele von organischen Verbindungen, die für die organischen Unterschichten verwendet werden, schließen Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummiarabikum, Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe, wie 2-Aminoethylphosphonsäure, organische Phosphonsäuren, wie Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und Ethylendiphosphonsäure, ein, die eine Substituentengruppe aufweisen können, organische Phosphorsäuren, wie Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerophosphorsäure, die eine Substituentengruppe aufweisen können, organische Phosphinsäuren, wie Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und Glycerophosphinsäure, die eine Substituentengruppe aufweisen können, Aminosäuren, wie Glycin und β-Alanin, Hydrochloride von Aminen mit einer Hydroxylgruppe, wie Triethanolaminhydrochlorid, und dergleichen. Diese organischen Verbindungen können als Mischungen davon verwendet werden.
  • Es ist bevorzugt, dass die organischen Unterschichten Verbindungen mit einer Oniumgruppe enthalten. Die Verbindungen mit einer Oniumgruppe sind detailliert in JP-A-2000-10292 und JP-A-2000-108538 beschrieben.
  • Darüber hinaus kann zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus polymeren Verbindungen mit einer Struktureinheit, die durch Poly(p-vinylbenzoesäure) in einem Molekül dargestellt wird, verwendet werden. Spezielle Beispiele der polymeren Verbindungen schließen ein Copolymer aus p-Vinylbenzoesäure und ein Vinylbenzyltriethylammoniumsalz, ein Copolymer aus p-Vinylbenzoesäure und Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid und dergleichen ein.
  • Die organischen Unterschichten können gemäß den folgenden Verfahren bereitgestellt werden. Das heißt, die zuvor genannten organischen Verbindungen werden in Wasser, organischen Lösemitteln, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder Mischungen davon, aufgelöst, um Lösungen herzustellen, und eine Aluminiumplatte wird mit den Lösungen beschichtet und getrocknet, um die organische Unterschicht bereitzustellen, oder als ein anderes Verfahren wird eine Aluminiumplatte in die Lösungen, hergestellt durch Auflösen der organischen Verbindungen in Wasser, organischen Lösemitteln, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder Mischungen davon, eingetaucht, um den organischen Verbindungen zu ermöglichen, dass sie adsorbieren, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, um eine organische Unterschicht bereitzustellen.
  • In dem zuerst genannten Verfahren kann die Lösung der organischen Verbindungen mit einer Konzentration von 0,005 bis 10 Massen-% durch verschiedene Verfahren beschichtet werden. Beispielsweise können alle Verfahren, einschließlich Stabbeschichterbeschichten, Drehbeschichten, Sprühbeschichten, Rakelbeschichten und dergleichen auf die Beschichtung angewendet werden. In dem zuletzt genannten Verfahren beträgt die Konzentration der Lösung 0,01 bis 20 Massen-% und vorzugsweise 0,05 bis 5 Massen-% die Temperatur des Eintauchens beträgt 20 bis 90°C und vorzugsweise 25 bis 50°C, und die Zeit des Eintauchens beträgt 0,1 s bis 20 min und vorzugsweise 2 s bis 1 min.
  • Die hier verwendeten Lösungen können auch auf einen pH-Wert von 1 bis 12 durch die Verwendung von basischen Substanzen, wie Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid, und sauren Substanzen, wie Salzsäure und Phosphorsäure, eingestellt werden. Gelbe Farbstoffe können auch zu den Lösungen zugegeben werden, um die Farbton-Reproduzierbarkeit des photoempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers zu verbessern. Darüber hinaus können auch Verbindungen, die durch die folgende allgemeine Formel (a) dargestellt werden, zu den Lösungen zugegeben werden: (HO)x-R5-(COOH)y (a)worin R5 eine Arylengruppe mit 14 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellt, und x und y unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 1 bis 3 darstellen.
  • Spezielle Beispiele der Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (a) dargestellt werden, schließen 3-Hydroxybenzoesäure, 4-Hydroxybenzoesäure, Salicylsäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 2-Hydroxy-3-naphthoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, 10-Hydroxy-9-anthracencarbonsäure und dergleichen ein.
  • Die Menge der beschichteten organischen Unterschicht nach dem Trocknen beträgt geeigneterweise 1 bis 100 mg/m2 und vorzugsweise 2 bis 70 mg/m2. Die Menge von weniger als 2 mg/m2 macht es schwierig, eine ausreichende Drucklebensdauer zu erhalten. Das Überschreiten von 100 mg/m2 trägt auch zu einem ähnlichen Problem bei.
  • [Rückbeschichtung]
  • Eine Rückbeschichtung wird auf der Rückoberfläche des Trägers, falls notwendig, bereitgestellt. Die verwendeten Rückschichten, die vorzugsweise verwendet werden, sind Bedeckungsschichten, die aus organischen polymeren Verbindungen bestehen, wie es in JP-A-5-45885 beschrieben ist, und Metalloxiden, die durch Hydrolyse und Polykondensation von organischen oder anorganischen Metallverbindungen hergestellt werden, wie es in JP-A-6-35174 beschrieben ist. Von diesen Bedeckungsschichten sind Alkoxyverbindungen aus Silizium, wie Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OC3H7)4 oder Si(OC4H9)4, billig und leicht erhältlich, und die Bedeckungsschichten aus Metalloxiden, die davon erhalten werden, sind aufgrund der herausragenden Beständigkeit gegenüber den Entwicklern besonders bevorzugt.
  • Die so hergestellten lithographischen Druckplattenvorläufer werden im allgemeinen einer Bildbelichtung und einer Entwicklungsbehandlung unterzogen. Die Quellen für aktive Strahlen, die für die Bildbelichtung verwendet werden, sind vorzugsweise solche mit Wellenlängen im Nah-Infrarot- bis Infrarotbereich, und Feststofflaer und Halbleiterlaser sind besonders bevorzugt.
  • [Alkali-Entwickler]
  • Für die lithographischen Druckplattenvorläufer, bei denen infrarot-empfindliche Harzzusammensetzungen der Erfindung verwendet werden, werden Entwickler, die (a) wenigstens einen Zucker, ausgewählt von nicht-reduzierenden Zuckern, und (b) wenigstens eine Base und mit einem pH-Wert in einen Bereich von 9,0 bis 13,5 vorzugsweise verwendet. Die Entwickler werden im nachhinein im Detail veranschaulicht. In der vorliegenden Beschreibung bedeuten Entwickler Entwicklungs-initiierende Lösungen (Entwickler in einem engen Sinn) und Wiederauffüller, falls nicht anders angegeben.
  • Es ist bevorzugt, dass die Entwickler als Hauptbestandteile wenigstens eine Verbindung umfassen, die aus den nichtreduzierenden Zuckern ausgewählt ist, und zumindest eine Base, und dass der pH-Wert der Entwickler in einem Bereich von 9,0 bis 13,5 liegt. Die nicht-reduzierenden Zucker sind solche ohne freie Aldehydgruppe oder Ketongruppe und die keine reduzierenden Eigenschaften aufweisen und die in Oligosaccharide vom Trehalose-Typ eingeteilt werden, worin reduzierbare Gruppen miteinander verbinden, Glykoside, wobei die reduzierenden Gruppen des Zuckers mit Nicht-Zuckern verbinden, und Zuckeralkohole, geformt von Reduktion von Zuckern durch Hydrierung. Alle diese nicht-reduzierenden Zucker können vorzugsweise verwendet werden. Die Oligosaccharide vom Trehalose-Typ schließen Saccharose und Trehalose ein, und die Glykoside schließen Alkylglykosikde, phenolische Glykoside, Senfölglykoside und dergleichen ein. Die Zuckeralkohole schließen D,L-Arabitol, Ribitol, Xylitol, D,L-Sorbitol, D,L-Mannitol, D,L-Iditol, D,L-Talitol, Dulcitol, Allodulcitol und dergleichen ein. Ferner wird Maltitol, hergestellt durch Hydrierung von Disacchariden und Reduktionsmitteln (reduzierendes Mizuam) durch Hydrierung der Oligosaccharide, bevorzugt verwendet. Davon sind besonders bevorzugte nicht-reduzierende Zucker Zuckeralkohole und Saccharose und insbesondere D-Sorbitol, Saccharose und reduzierendes Mizuam bevorzugt, da diese nicht-reduzierenden Zucker die Pufferwirkung in einem geeigneten pH-Wertbereich aufweisen und zu verminderten Kosten erhältlich sind.
  • Diese nicht-reduzierenden Zucker können allein oder als Mischungen von zwei oder mehr davon verwendet werden, und der Gehalt davon in den Entwicklern beträgt vorzugsweise 0,1 bis 30 Massen-% und stärker bevorzugt 1 bis 20 Massen-%.
  • Wenn der Gehalt diesen Bereich nicht erreicht, ist es nicht möglich, eine ausreichende Pufferwirkung aufzuweisen, und eine Konzentration, die diesen Bereich übersteigt, ist schwierig zu erreichen und bringt auch ein Problem von erhöhten Kosten mit sich. Wenn die reduzierenden Zucker in Kombination mit Basen verwendet werden, ändern sich die Entwickler allmählich zu einer braunen Farbe, und der pH-Wert davon vermindert sich auch allmählich, was zu einer Verschlechterung bei der Entwicklungsleistung führt.
  • Alkalimittel, die bis jetzt bekannt sind, können als Basen in Kombination mit den nicht-reduzierenden Zuckern verwendet werden. Beispiele von Alkalimitteln schließen anorganische Mittel, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhyroxid, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat, Diammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat und Ammoniumborat, ein. Darüber hinaus werden auch organische Alkalimittel verwendet, einschließlich Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin und dergleichen.
  • Diese Alkalimittel werden einzeln oder als Mischungen von zwei oder mehr davon verwendet. Von diesen Mitteln sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid bevorzugt. Der Grund hierfür ist, dass die pH-Werteinstellung in einem breiteren pH-Bereich durchgeführt werden kann, indem die Menge der Mittel zu den nicht-reduzierenden Mitteln eingestellt wird. Ferner sind Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat bevorzugt, da diese Salze selbst die Pufferwirkung aufweisen.
  • Diese Alkalimittel werden zu den Entwicklern derart zugegeben, dass der pH-Wert davon in den Bereich von 9,0 bis 13,5 fällt. Obwohl die Menge der zugegebenen Mittel in Abhängigkeit von dem gewünschten pH-Wert und der Art und Menge der nicht-reduzierenden Mittel, die verwendet werden, bestimmt wird, beträgt ein bevorzugter Bereich des pH-Werts 10,0 bis 13,2.
  • Für die Entwickler können darüber hinaus Alkalipufferlösungen, die aus schwachen Säuren bestehen, die sich von den Zuckern und starken Basen unterscheiden, zusammen verwendet werden. Die schwachen Säuren, die für die Pufferlösungen verwendet werden, weisen vorzugsweise eine Dissoziationskonstante (pKa) von 10,0 bis 13,2 auf.
  • Solche schwachen Säuren können aus solchen, die in "Ionization Constants of Organic Acids in Aqueous Solution", veröffentlicht von Pergamon Press, beschrieben sind, ausgewählt werden. Beispiele von schwachen Säuren schließen Alkohole, wie 2,2,3,3-Tetrafluorpropanol-1 (pKa 12,74), Trifluorethanol (pKa 12,37) und Trichlorethanol (pKa 12,24), Aldehyde, wie Pyridin-2-aldehyd (pKa 12,68) und Pyridin-4-aldehyd (pKa 12,05), phenolische Hydroxylgruppe-enthaltende Verbindungen, wie Salicylsäure (pKa 13,0), 3-Hydroxy-2-naphthoesäure (pKa 12,84), Catechol (pKa 12,6), Gallussäure (pKa 12,4), Sulfosalicyclsäure (pKa 11,7), 3,4-Dihydroxysulfonsäure (pKa 12,2), 3,4-Dihydroxybenzoesäure (pKa 11,94), 1,2,4-Trihydroxybenzol (pKa 11,82), Hydrochinon (pKa 11,56), Pyrogallol (pKa 11,34), o-Cresol (pKa 10,33), Resorcinol (pKa 11,27), p-Cresol (pKa 10,27) und m-Cresol (pKa 10,09), Oxime, wie 2-Butanonoxim (pKa 12,45), Acetoxim (pKa 12,42), 1,2-Cycloheptandiondioxim (pKa 12,3), 2-Hydroxybenzaldehydoxim (pKa 12,10), Dimethylglyoxim (pKa 11,9), Ethandiamiddioxim (pKa 11,37) und Acetophenonoxim (pKa 11,35), verwandte Substanzen der Nukleinsäure, wie Adenosin (pKa 12,56), Inosin (pKa 12,5), Guanin (pKa 12,3), Cytosin (pKa 12,1), Hypoxanthin (pKa 12,1) und Xanthin (pKa 11,9) und ferner Diethylaminomethylphosphonsäure (pKa 12,32), 1-Amino-3,3,3-trifluorbenzoesäure (pKa 12,29), Isopropylidenphosphonsäure (pKa 12,10), 1,1-Ethylidendiphosphonsäure (pKa 11,54), 1,1-Ethylidendiphosphonsäure-1-hydroxy (pKa 11,52), Benzimidazol (pKa 12,86), Thiobenzamid (pKa 12,8), Pikolinthioamid (pKa 12,55) und Barbitursäure (pKa 12,5) ein.
  • Von diesen schwachen Säuren sind Sulfosalicylsäure und Salicylsäure bevorzugt. Bevorzugte Basen in Kombination mit diesen schwachen Säuren sind Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid. Diese Alkalimittel können allein oder als Mischungen von zwei oder mehr davon verwendet werden. Der pH-Wert wird auf einen gewünschten Bereich durch die Konzentration der entsprechenden Alkalimittel und Kombination davon mit den schwachen Säuren eingestellt.
  • Es können verschiedene Tenside und organische Lösemittel zu den Entwicklern, falls benötigt, zugegeben werden, zum Zwecke der Förderung der Entwicklung, der Dispersion eines Entwicklungsschaums und zum Erhöhen der Tintenaufnahmeschicht der Bildbereiche. Bevorzugte Tenside sind anionische, kationische, nichtionische und ampholytische Tenside.
  • Bevorzugte Beispiele der Tenside schließen nichtionische Tenside, wie Polyoxyethylenalkylether, Polyoxyethylenalkylphenylther, Polyoxyethylenpolystyrolphenylether, Polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylether, Glycerinfettsäure-Halbester, Sorbitanfettsäure-Halbester, Pentaerythritolfettsäure-Halbester, Propylenglykolfettsäuremonoester, Saccharosefettsäure-Halbester, Polyoxyethylensorbitanfettsäure-Halbester, Polyoxyethylensorbitolfettsäure-Halbester, Polyethylenglykolfettsäureester, Polyglycerinfettsäure-Halbester, Polyoxyethylen-verbundene Kastoröle, Polyoxyethylenglycerinfettsäure-Halbester, Fettsäurediethanolamide, N,N-Bis-2-hydroxyalkylamine, Polyoxyethylenalkylamine, Triethanolaminfettsäureester und Trialkylaminoxide, anionische Tenside, wie Fettsäuresalze, Abietinsalze, Hydroxyalkansulfonsalze, Alkansulfonsalze, Dialkylsulfosuccinestersalze, geradkettige Alkylbenzolsulfonsalze, Alkylbenzolsulfonsalze mit verzweigter Kette, Alkylnaphthalinsulfonsalze, Alkylphenoxypolyoxyethylenpropylsulfonsalze, Polyoxyethylenalkylsulfophenylethersalze, N-Methyl-Noleyltaurinnatriumsalz, N-Alkylsulfosuccinmonoamiddinatriumsalz, Petroleumsulfonsalze, sulfatiertes Talgöl, Schwefelsäureestersalze von Fettalkylestern, Schwefelalkylestersalze, Polyoxyethylenalkyletherschwefelsäuresalze, Fettmonoglyceridschwefelestersalze, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelestersalze, Polyoxyethylenstyrylphenyletherschwefelestersalze, Alkylphosphorsäureestersalze, Polyoxyethylenalkyletherphosphorestersalze, teilweise verseifte Produkte aus Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren, teilweise verseifte Produkte aus Olefin/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren und Formalin-kondensierte Naphthalinsulfonsäuresalze, kationische Tenside, wie Alkylaminsalze, quaternäre Ammoniumsalze, wie Tetrabutylammoniumbromid, Polyoxyethylenalkylaminsalze und Polyethylenpolyamin- Derivate, und ampholytische Tenside, wie Carboxybetaine, Aminocarbonsäuren, Sulfobetaine, Aminoschwefelester und Imidazoline, ein.
  • Das oben beschriebene Polyoxyethylen als Tenside bedeutet Polyoxyalkylen, wie Polyoxymethylen, Polyoxypropylen oder Polyoxybutylen. Die Namen solcher Tenside sollten auch auf eine solche Weise gelesen werden.
  • Ferner sind bevorzugte Tenside Tenside von Fluor-Serien, die eine Perfluoralkylgruppe im Molekül enthalten. Beispiele von Tensiden von Fluor-Serien schließen Tenside vom anionischen Typ, wie Perfluoralkylcarbonsäuresalze, Perfluoralkylsulfonsalze und Perfluoralkylphosphorsalze ein, Tenside vom ampholytischen Typ, wie Perfluoralkylbetaine, Tenside vom kationischen Typ, wie Perfluoralkyltrimethylammoniumsalze, und Tenside vom nichtionischen Typ, wie Perfluoralkylaminoxide, Perfluoralkylethylenoxid-Addukte, Oligomere, enthaltend Perfluoralkylgruppen und hydrophile Gruppen, Oligomere, enthaltend Perfluoralkylgruppen und lipophile Gruppen, Oligomere, enthaltend Perfluoralkylgruppen, hydrophile Gruppen und lipophile Gruppen, und Urethane, enthaltend Perfluoralkylgruppen und lipophile Gruppen, ein.
  • Die zuvor erwähnten Tenside können einzeln oder als Mischungen von zwei oder mehr davon verwendet werden und zu den Entwicklern vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 0,001 bis 10 Massen-% und stärker bevorzugt von 0,01 bis 5 Massen-% zugegeben werden.
  • Eine Vielzahl von Entwicklerstabilisatoren kann für die Entwickler verwendet werden. Bevorzugte Beispiele der Stabilisatoren schließen Polyethylenglykol-Addukte von Zuckeralkoholen ein, wie beschrieben in JP-A-6-282079 , Tetraalkylammoniumverbindungen, wie Tetrabutylammoniumhydroxid, Phosphoniumsalze, wie Tetrabutylphosphoniumbromid, und Iodoniumsalze, wie Diphenyliodoniumchlorid. Ferner schließen Beispiele anionische und ampholytische Tenside, wie beschrieben in JP-A-50-51324 , wasserlösliche kationische Polymere, wie beschrieben in JP-A-55-95946 , und wasserlösliche ampholytische polymere Elektrolyte, wie beschrieben in JP-A-56-142528 , ein.
  • Ferner schließen Beispiele organische Borverbindungen ein, zu denen Alkylenglykole zugegeben werden, wie es in JP-A-59-84241 beschrieben ist, wasserlösliche Tenside vom Polyoxyethylen/Polyoxypropylen-Blockpolymerisationstyp, wie es in JP-A-60-111246 beschrieben ist, Alkylendiaminverbindungen mit Polyoxyethylen/Polypropylen substituiert, wie beschrieben in JP-A-60-129750 , Polyethylenglykol mit einem Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 300 oder höher, wie es in JP-A-61-215554 beschrieben ist, fluorhaltige Tenside mit einer kationischen Gruppe, wie beschrieben in JP-A-63-175858 , wasserlösliche Ethylenoxid-Adduktverbindungen, die hergestellt wurden, indem vier oder mehr Mol Ethylenoxid zu einer Säure oder einem Alkohol, wie es beschrieben ist in JP-A-2-39157 , zugegeben werden, wasserlösliche Polyalkylenverbindungen und dergleichen.
  • Darüber hinaus können organische Lösemittel zu den Entwicklern, falls notwendig, zugegeben werden. Lösemittel mit einer Wasserlöslichkeit von etwa 10 Massen-% oder weniger, vorzugsweise 5 Massen-% oder weniger, werden als organische Lösemittel ausgewählt. Beispiele solcher Lösemittel schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenyl-1-propanol, 4-Phenyl-1-butanol, 4-Phenyl-2-butanol, 2-Phenyl-1-butanol, 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclohexanol, 3-Methyl- und 4-Methylcyclohexanol, N-Phenylethanolamin, N-Phenyldiethanolamin und dergleichen ein. Der Gehalt der organischen Lösemittel in der Gesamtmasse der Entwickler bei der Verwendung beträgt von 0,1 bis 5 Massen-%. Der Gehalt ist in engem Kontakt mit dem Gehalt der Tenside. Das heißt, es ist bevorzugt, dass, wenn der Gehalt der organischen Lösemittel erhöht wird, auch die Tenside erhöht werden. Der Grund dafür liegt darin, dass die organischen Lösemittel versagen, sich komplett aufzulösen, wenn ein kleinerer Gehalt der Tenside und ein höherer Gehalt der organischen Lösemittel verwendet werden, wodurch es schwierig wird, eine zufriedenstellende Entwicklungsleistung sicherzustellen.
  • Darüber hinaus können Reduktionsmittel zu den Entwicklern zugegeben werden, um die Druck-Formen von einem Schäumen abzuhalten. Bevorzugte organische Reduktionsmittel schließen phenolische Verbindungen, wie Thiosalicylsäure, Hydrochinon, Metol, Methoxychinon, Resorcin und 2-Methylresorcin, und Aminverbindungen, wie Phenylendiamin und Phenylhydrazin, ein. Ferner schließen bevorzugte anorganische Reduktionsmittel Natriumsalze, Kaliumsalze und Ammoniumsalze von Schwefelsäure, Schwefelwasserstoffsäure, Phosphorsäure, Phosphorwasserstoffsäure, Phosphordiwasserstoffsäure, Thioschwefelsäure, Dithionsäure und dergleichen ein.
  • Von diesen Reduktionsmitteln sind solche mit einem besonders herausragenden Effekt bei der Verhinderung einer Schaumbildung Schwefelsalze. Der Gehalt dieser Reduktionsmittel in den Entwicklern bei der Verwendung liegt in einem Bereich von 0,05 bis 5 Massen-%.
  • Es können auch ferner organische Carbonsäuren zu den Entwicklern zugegeben werden. Bevorzugte Carbonsäuren sind aliphatische Carbonsäuren mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen und aromatische Carbonsäuren. Spezielle Beispiele von aliphatischen Carbonsäuren schließen Hexansäure, Heptansäure, Decansäure, Laurinsäure, Myristinsäure, Palmitinsäure, Stearinsäure und dergleichen ein, und besonders bevorzugt sind Alkansäuren mit 8 bis 12 Kohlenstoffatomen. Ungesättigte aliphatische Säuren mit einer Doppelbindung in einer Kohlenstoffkette und aliphatische Säuren mit einer verzweigten Kette können auch verwendet werden. Die aromatischen Carbonsäuren sind Verbindungen mit einer Carboxylgruppe, die an einem Benzolring, einem Naphthalinring, einem Anthracenring und dergleichen substituiert sind, und spezielle Beispiele davon schließen o-Chlorbenzoesäure, p-Chlorbenzoesäure, o-Hydroxybenzoesäure, p-Hydroxybenzoesäure, o-Aminobenzoesäure, p-Aminobenzoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, 2,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,6-Dihydroxybenzoesäure, 2,3-Dihydroxyenzoesäure, 3,5-Dihydroxybenzoesäure, Gallussäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 3-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 1-Naphthoesäure, 2-Naphthoesäure und dergleichen ein. Die Hydroxynaphthoesäuren sind besonders wirksam.
  • Es ist bevorzugt, die zuvor genannten aliphatischen und aromatischen Carbonsäuren als Natriumsalze, Kaliumsalze oder Ammoniumsalze zu verwenden, um die Löslichkeit in Wasser zu erhöhen. Obwohl der Gehalt der organischen Carbonsäuren in den Entwicklern der Erfindung nicht besonders beschränkt ist, versagt ein Gehalt von weniger als 0,1 Massen-% bei der Ausübung eines ausreichenden Effekts, und ein Überschreiten von 10 Massen-% kann nicht nur eine Verbesserung bei dem Effekt erwarten, sondern stört manchmal die Auflösung von anderen Zusatzstoffen, die zusammen verwendet werden. Somit beträgt der Gehalt der Säuren in den Entwicklern bei der Verwendung 0,1 bis 10 Massen-% und stärker bevorzugt 0,5 bis 4 Massen-%.
  • Die Entwickler können ferner, falls notwendig, antiseptische Mittel, Farbmittel, Verdickungsmittel, Antischaummittel, Wassererweicher und dergleichen enthalten. Beispiele der Wassererweicher schließen Polyphosphorsäure und die Natriumsalze, Kaliumsalze und Ammoniumsalze davon, Aminopolycarbonsäuren, wie Ethylendiamintetraessigsäure, Diethylentriaminpentaessigsäure, Triethylentetraminhexaessigsäure, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure, Nitrilotriessigsäure, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure und 1,3-Diamino-2-propanoltetraessigsäure, und die Natriumsalze, Kaliumsalze und Ammoniumsalze davon, und Aminotri(methylenphosphonsäure), Ethylendiamintetra(methylenphosphonsäure), Diethylentraminpenta(methylenphosphonsäure), Triethylentetraminhexa(methylenphosphonsäure), Hydroxydiethylethylendiamintri(methylenphosphonsäure), 1-Hydroxyethan-1,1-disulfonsäure, und Natriumsalze, Kaliumsalze und Ammoniumsalze davon ein.
  • Obwohl der geeigneste Gehalt von diesen Wassererweichern in Abhängigkeit von der Chelatbildung und von der Härte und von der Wassermenge variiert, ist der Gehalt davon in den Entwicklern bei der Verwendung im allgemeinen im Bereich von 0,01 bis 5 Massen-% und stärker bevorzugt von 0,01 bis 0,5 Massen-%. Der Gehalt, der diesen Bereich nicht erreicht, versagt bei der vollständigen Einstellung des gewünschten Endes, und das Überschreiten von diesem Bereich führt zu einem schlechten Effekt bei den Bildflächen in der Farbentladung. Ein Restbestandteil der Entwickler ist Wasser. Für den Transport der Entwickler ist es profitabel, konzentrierte Lösungen davon herzustellen, wobei die Menge an Wasser vermindert wird, im Vergleich zu den Entwicklern bei der Verwendung, und um die konzentrierten Lösungen mit Wasser vor der Verwendung des Entwickler zu verdünnen. Es ist in diesem Fall geeignet, die Entwickler zu einem Ausmaß zu konzentrieren, dass darin enthaltene Bestandteile nicht abgetrennt oder abgeschieden werden.
  • Zu den Entwicklern der lithographischen Druckplattenvorläufer, die die infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung enthalten, ist es möglich, ferner Silikatverbindungen als Verbindungen zuzugeben, die die Pufferwirkung in einem geeigneten pH-Bereich anstelle der zuvor angegebenen reduzierenden Zucker ausüben. Insbesondere können Mischungen aus Siliciumoxid SiO2 als eine Silikat-Komponente und ein Alkalioxid M2O (M stellt ein Alkalimetall dar) als eine Alkali-Komponente zugegeben werden. Das Verhältnis von SiO2 zu M2O kann leicht auf den geeigneten Bereich durch Einstellung der Konzentrationen gesteuert werden. Diese Silikatsalze fungieren als hydrophile Bestandteile für Basen.
  • Das molare Verhältnis von Siliciumoxid zu einem Alkalioxid (SiO2/M2O) liegt vorzugsweise im Bereich von 0,75 bis 4,0, stärker bevorzugt von 0,75 bis 3,0 und ferner vorzugsweise von 0,75 bis 1,5.
  • Das Verhältnis von weniger als 0,75 ermöglicht eine exzessive Auflösung (Ätzen) des anodisierten Films auf der Aluminiumbase, aufgrund einer starken Alkalinität, die beim Stehenlassen den zuvorgenannten Schaum bewirkt oder unlösliche Bodensätze durch Bilden des Komplexes zwischen dem aufgelösten Aluminium und Kieselsäure. Das Überschreiten von 4,0 oder ferner 3,0 bringt Probleme mit sich, zu ermöglichen, dass die Entwicklungsleistung abnimmt, und verursacht in einigen Fällen unlösliche Bodensätze von kondensierten Silikaten.
  • Die Konzentration der Alkalisilikate in den Entwicklern liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 10 Massen-% und stärker bevorzugt von 3 bis 8 Massen-% zu der Masse der wässerigen Alkalilösung. Die Konzentration von weniger als 0,5 Massen-% führt zu einer Verschlechterung in der Entwicklungsleistung und der Fähigkeit der Entwicklungsbehandlung in einigen Fällen. Das Überschreiten von 10 Massen-% führt zu einer Bewirkung von einer Bildung von Präzipitaten oder Kristallen oder ermöglicht einer Abfallflüssigkeit, beim Neutralisieren zu gelieren, was ein Problem der Abfallentsorgung mit sich bringt.
  • Darüber hinaus kann eine Vielzahl der vorgenannten Tenside und organischen Lösemittel zu den Entwicklern, falls benötigt, zugegeben werden, um die Entwicklung zu fördern, die Entwicklungs-Bodensätze zu dispergieren und die Tintenaufnahmefähigkeit der Bildbereiche auf der Druckform zu erhöhen.
  • Die lithographischen Druckplattenvorläufer (im nachhinein als "PS-Platten" bezeichnet), die mit den Entwicklern mit diesen Zusammensetzungen entwickelt wurden, werden Nachbehandlungen mit Waschen mit Wasser, Spülungen, die die Tenside enthalten, und Endbearbeitungsmittel oder Schutzgummi-Flüssigkeiten, die Gummiarabikum oder Stärke-Derivate als prinzipielle Bestandteile enthalten, unterzogen. In der Erfindung ist es möglich, die Nachbehandlungen auf den PS-Platten durch verschiedenartige Kombinationen der zuvorgenannten Behandlungen durchzuführen.
  • In den letzten Jahren wurden automatische Prozessoren für die PS-Platten in einem breiten Bereich für die Rationalisierung und Standardisierung von Plattenherstellungsvorgängen in den Druckindustrien verwendet. Die automatischen Prozessoren bestehen im allgemeinen aus einem Entwicklungsabschnitt und einem Nachbehandlungsabschnitt und weisen eine Einheit zum Fördern der PS-Platte, entsprechende Tanks für die Behandlungslösungen und Einheiten zum Sprühen auf, wobei die Entwicklungsbehandlung und die Nachbehandlungen durchgeführt werden durch Sprühen durch Düsen, wobei die jeweiligen Behandlungslösungen gepumpt werden, während die PS-Platte horizontal gefördert wird. Darüber hinaus sind ein Verfahren des Durchführens der Entwicklungsbehandlung während dem Eintauchen und Befördern der PS-Platte in die Behandlungslösungen, die in Tanks gefüllt sind, mit der Hilfe von Führungswalzen, und ein Verfahren des Recycelns von Abwasser als ein Verdünner für die Vorratslösung des Entwicklers, Abwasser, welches auf eine Plattenoberfläche als eine kleine konstante Menge von Waschwasser nach der Entwicklung zugeführt wurde, und verwendet wird, um die Plattenoberfläche zu waschen, auch seit kurzem bekannt. Diese automatischen Behandlungen können durchgeführt werden, während die betreffenden Wiederauffüller zu den Behandlungslösungen in Abhängigkeit von den Mengen und Betriebsvorgängen der Behandlung zugeführt werden. Ferner können auch Einwegsysteme angewendet werden, bei denen die Behandlungen durch Verwendung von im wesentlichen unbehandelten Behandlungslösungen durchgeführt werden. Die lithographischen Druckplatten, die durch diese Behandlungen hergestellt wurden, werden in Offset-Druckpressen angeordnet und zur Herstellung einer großen Anzahl von gedruckten Blättern verwendet.
  • Beispiele
  • Die Erfindung wird im nachhinein durch Beispiele veranschaulicht. Die Erfindung ist nicht dazu gedacht, durch diese Beispiele beschränkt zu werden.
  • [Herstellung des Trägers]
  • Die Oberfläche einer Aluminiumplatte JIS A 1050 wurde einem Sandabbeizen durch Verwendung einer wässerigen Bimssteinsuspension als ein Schleifmittel mit Hilfe einer drehenden Nylonbürste unterzogen. Die Oberflächenrauigkeit (arithmetischer Mittenrauhwert) betrug 0,5 μm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte in eine 10%-igen wässerige Lösung aus Natriumhydroxid, die bei 70°C gehalten wurde, eingetaucht, und derart angeätzt, dass die Menge des aufgelösten Aluminiums 6 g/m3 betrug. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte in 30% Salpetersäure für 1 Minute zur Neutralisation eingetaucht und genügend mit Wasser gewaschen. Danach wurde eine elektrolytische Oberflächenaufrauung der Platte in 0,7%-ige Salpetersäure für 20 Sekunden durch die Verwendung einer rechteckigen Welle mit einer alternierenden Wellenformspannung einer Anodenspannung von 13 V und einer Kathodenspannung von 6 V durchgeführt, die Platten wurde in 20%-ige Schwefelsäure von 50°C eingetaucht, um die Oberfläche zu waschen, und anschließend mit Wasser gewaschen.
  • Die Aluminiumplatte wurde nach der Oberflächenaufrauung einer porösen Anodisierungs-Filmbildungsbehandlung in 20% Schwefelsäure durch Verwendung von Gleichstrom unterzogen. Die Elektrolyse wurde mit einer Stromdichte von 5 A/dm2 durchgeführt, um eine Base mit einem Anodisierungsfilm von 4,0 g/m2 in der Masse auf der Oberfläche durch Steuerung der Elektrolysezeit herzustellen. Die entstandene Base wurde in einer gesättigten Dampfkammer bei 100°C und 1 Atm für 10 Sekunden behandelt, um eine Base (a) mit einem Versiegelungsverhältnis von 60% herzustellen.
  • Nachdem die Base (a) einer hydrophilen Oberflächenbildungsbehandlung in einer 2,5 massen-%igen wässerigen Lösung aus Natriumsilikat bei 30°C für 10 Sekunden unterzogen wurde, wurde die Base mit der folgenden Unterschicht beschichtet und bei 80°C für 15 Sekunden getrocknet, um den Träger [A] für den lithographischen Druckplattenvorläufer herzustellen. Die Menge des beschichteten Films nach dem Trocknen betrug 15 mg/m2. [Unterschicht]
    Copolymer (1), wie unten beschrieben 0,3 g
    Methanol 100 g
    Wasser 1 g
  • Figure 00560001
    • Gewichtsmittel des Molekulargewichts 26.000.
  • [Bildung der wärmeempfindlichen Schicht]
  • Der Aluminiumträger [A], der der Unterschichtbehandlung unterzogen wurde, wie oben hergestellt, und eine flache SUS-Base zum Messen einer Lösungsgeschwindigkeit wurden mit der folgenden photoempfindlichen Lösung beschichtet, um 15 g/m2 in der Beschichtungsmenge zu ergeben, und getrocknet, um photoempfindliche Schichten (Aufzeichnungsschichten) zu bilden, wodurch Originalformen 1 für den wärmeempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufer der Erfindung (behandelte Aluminiumbase) und 2 (SUS-Base) erhalten wurden.
  • Die Leucohydroxy-Farbstoffe der Erfindung, die durch die allgemeine Formel (I) dargestellt werden, und die für die photoempfindlichen Lösungen verwendet werden, sind in Tabelle 1 angegeben. [Photoempfindliche Lösung]
    Phenol/m-Cresol/p-Cresol (25/50/25 im Molarverhältnis)-Formaldehyd-Novolakharz (gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 4.500) 1,0 g
    Cyanin-Farbstoff A (mit der folgenden Struktur) 0,06 g
    Leucohydroxy-Farbstoff, dargestellt durch Formel (I) der Erfindung 0,06 g
    Phthalsäureanhydrid 0,03 g
    3-Methoxy-4-diazodiphenylaminhexafluorphosphat 0,015 g
    Polymer von Fluor-Serien (Megafack F-176, Feststoffgehalt: 20%, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0,015 g
    Polymer von Fluor-Serien (Megafack MCF-312, Feststoffgehalt: 30%, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0,035 g
    Methylethylketon 8 g
    1-Methoxy-2-propanol 4 g
  • Figure 00570001
  • Cyanin-Farbstoff A
  • [Bildung der wärmeempfindlichen Schichten in den Vergleichsbeispielen]
  • Die Aluminiumträger [A], die der Unterbeschichtungsbehandlung unterzogen wurden, wurden mit photoempfindlichen Lösungen von Vergleichsbeispielen beschichtet, wobei 0,06 g des folgenden Leucofarbstoffs B, 0,06 g von Crystal Violet anstelle der Leucohydroxy-Farbstoffe, die durch die allgemeine Formel (I) der Erfindung dargestellt sind, zugegeben wurden, und getrocknet, um eine Beschichtungsmenge von 1,5 g/m2 zu erhalten, wodurch wärmeempfindliche lithographische Druckplattenvorläufer von Vergleichsbeispielen 1 und 2 erhalten wurden.
  • Figure 00580001
  • [Herstellung der Entwickler]
  • (Entwickler A)
  • Die jeweiligen Bestandteile wurden wie nachfolgend eingestellt und gemischt, um den Entwickler A herzustellen. Das heißt, D-Sorbitol 0,22 Mol/l, Kaliumhydroxid 0,22 Mol/l und Kaliumcitrat 18 g/l. Die elektrische Leitfähigkeit von diesem Entwickler betrug etwa 45 mS/cm.
  • (Entwickler B)
  • Entwickler B wurde aus 4 Gew.-% Kaliumsilikat hergestellt, wobei das Verhältnis von Siliciumoxid (SO2) zu Kaliumoxid (K2O) (SO2/K2O) 1,1 betrug, 0,5 Gew.-% von Citronensäure und 0,5 Gew.-% Polyethylenglykollaurylether. Die elektrische Leitfähigkeit von diesem Entwickler betrug etwa 47 mS/cm.
  • <Beispiele 1 bis 6 und Vergleichsbeispiele 1 und 2 (Bewertung der Auflösungsdiskriminierung bei der Entwicklung)>
  • Originalformen 2 (SUS-Base), wie oben hergestellt, wurden mit Energie von 200 mJ/cm2 unter Bedingungen einer Strahlstärke von 9 W und einer Trommelrotationsgeschwindigkeit von 150 U/min auf einen Trendsetter 3244, hergestellt von Creo Inc., belichtet. Die Zeit, die zur vollständigen Auflösung und Entfernung der belichteten Abschnitte und der unbelichteten Abschnitte notwendig war, wurden als Alkali-Entwickler A und B mit den obigen Zusammensetzungen auf einem Lösungsgeschwindigkeitsmonitor (DRM, hergestellt von The Perkin-Elmer Corporation) gemessen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 angegeben. Tabelle 1
    Entwickler Verbindung, dargestellt durch Formel (I) Auflösungszeit der nicht-belichteten Bereiche (s) Auflösungszeit der belichteten Bereiche (s) Auflösungs-Diskriminierung (Verhältnis der Auflösungszeit)
    Bsp. 1 Entwickler A I-4 102 2,2 46,4
    Bsp. 2 Entwickler A I-6 108 2,5 43,2
    Bsp. 3 Entwickler A I-8 114 2,8 40,7
    Bsp. 4 Entwickler A I-14 92 2,1 43,8
    Bsp. 5 Entwickler B I-8 109 2,6 41,9
    Bsp. 6 Entwickler B I-15 120 3,0 40,0
    Vergl.-Bsp. 1 Entwickler A Leuco-Farbstoff B 35 2,6 13,5
    Vergl.-Bsp. 2 Entwickler A Crystal Violet 116 8,0 14,5
  • Tabelle 1 zeigt, dass die Verwendung der Zusammensetzung der Erfindung keinen Einfluss auf die Löslichkeit der nicht-belichteten Abschnitte ausübt, aber die Löslichkeit der belichteten Abschnitte fördert. Das heißt, ein Zuwachs bei dem Verhältnis der Lösungsgeschwindigkeiten (Verhältnis der Auflösungszeit) zwischen den nicht-belichteten Abschnitten und den belichteten Abschnitten zeigt eine Verbesserung in der Auflösungsdiskriminierung.
  • <Beispiele 7 bis 10 und Vergleichsbeispiele 3 und 4>
  • Ähnlich zu den Beispielen 1 und 4 wurden die photoempfindlichen Schichten der Beispiele 7 bis 10 gebildet, wie es in Tabelle 2 gezeigt ist.
  • [Bewertung der Entwicklungsbreite]
  • Die entstandenen lithographischen Druckplattenvorläufer 1 und die Originalformen von den Vergleichsbeispielen 1 und 2 wurden einem bildartigen Zeichnen eines Testmusters auf einen Trendsetter 3244, hergestellt von Creo Inc., bei einer Strahlstärke von 9 W und einer Trommelrotationsgeschwindigkeit von 150 U/min unterzogen.
  • Die lithographischen Druckplattenvorläufer, die unter den oben beschriebenen Bedingungen belichtet wurden, wurden mit einer Entwicklungstemperatur von 30°C für eine Entwicklungszeit von 12 s in einem PS-Prozessor 900H, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., entwickelt, der eine 1,5-fache konzentrierte Lösung des zuvor genannten Entwicklers A enthält.
  • Anschließend wurde der Entwickler stufenweise mit Wasser verdünnt, um die Behandlung zu wiederholen. Anschließend wurde die Anwesenheit oder Abwesenheit einer Schaumbildung von den verbleibenden Filmen auf den Aufzeichnungsschichten, die auf eine schlechtere Entwicklung und Verminderung bei der Dichte der Bildbereiche zurückzuführen ist, überprüft. Ferner wurde die Behandlung wiederholt, während der Entwickler mit Wasser verdünnt wurde, und die elektrische Leitfähigkeit der Entwickler, die in der Lage waren, ohne dem Verursachen von Problemen, zu entwickeln, wurde gemessen. Ein Entwickler mit einem größeren Unterschied zwischen dem höchsten Wert und dem geringsten Wert wurde als herausragend in der Entwicklungsbreite erkannt.
  • [Bewertung der Empfindlichkeit]
  • Die lithographischen Druckplattenvorläufer 1 und die Originalformen der Vergleichsbeispiele 1 und 2, wie oben hergestellt, wurden verschiedenen Belichtungsenergien durch ein 200-Linien- und 3 bis 97%-Punktbild in einem Trendsetter 3244, hergestellt von Creo Ink, ausgesetzt, und mit einem Entwickler A und einer Entwicklungstemperatur von 30°C für 12 Sekunden entwickelt. Es wurde angenommen, dass die Empfindlichkeit eine Belichtungsenergie darstellt, die 3%-Punktbilder reproduziert. Die geringere Belichtungsenergie zeigt an, dass die Originalformen eine höhere Empfindlichkeit aufweisen.
  • Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt. Tabelle 2
    Verbindung, dargestellt durch Formel (I) Entwicklungsbreite (mS/cm) Empfindlichkeit (mJ/cm2)
    Höchste Wert Niedrigste Wert Unterschied
    Bsp. 7 I-4 52 40 12 140
    Bsp. 8 I-6 53 42 11 150
    Bsp. 9 I-8 53 43 10 150
    Bsp. 10 I-14 50 39 11 130
    Vergl.-Beispiel 3 Leucofarbstoff B 43 39 4 180
    Vergl.-Beispiel 4 Crystal Violet 55 49 6 240
  • Die Ergebnisse von Tabelle 2 zeigen, dass die Anwendung von infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen der Erfindung auf die Bildbildungsschichten der lithographischen Druckplattenvorläufer eine herausragende Entwicklungsbreite und eine hohe Empfindlichkeit ermöglicht.
  • Die infrarot-empfindlichen Zusammensetzungen mit einer herausragenden Entwicklungsbreite und einer hohen Empfindlichkeit können bereitgestellt werden, wenn die Zusammensetzungen für die Bildbildungsschichten der lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet werden.

Claims (8)

  1. Infrarotempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A) ein alkalilösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (B) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz; und (C) einen Leucohydroxyfarbstoff mit der Formel (I):
    Figure 00620001
    worin Ar1 und Ar2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Arylgruppe oder Heteroarylgruppe sind, die eine Substituentengruppe haben können; R1 bis R4 jeweils gleich oder verschieden sein können und ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe sind, die einen Substituenten haben kann; Y ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Aryl- oder Heteroarylgruppe ist, die einen Substituenten haben können; wenn zumindest eines von Ar1 und Ar2 oder Y eine Arylgruppe ist, hat zumindest eines von Ar1, Ar2 und Y als Substituent eine Hydroxygruppe, Aminogruppe, Monoalkylaminogruppe oder Dialkylaminogruppe an der ortho- oder para-Position; zwei von Ar1, Ar2 und Y können zusammen durch eine Bindegruppe zur Bildung eines Rings binden; m und n sind jeweils 0 oder 1.
  2. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, umfassend das alkalilösliche Harz (A) in einer Menge von 30 bis 99 Gew.%.
  3. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, umfassend die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz (B) in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.%.
  4. Infrarotempfindliche Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend den Leucohydroxyfarbstoff (C) in einer Menge von 0,01 bis 15 Gew.%.
  5. Lithografischer Druckplattenvorläufer, umfassend einen Träger und eine Bildbildungsschicht, worin die Bildbildungsschicht umfasst: (A) ein alkalilösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (B) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz; und (C) einen Leucohydroxyfarbstoff mit der Formel (I):
    Figure 00630001
    worin Ar1 und Ar2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Arylgruppe oder Heteroarylgruppe sind, die eine Substituentengruppe haben können; R1 bis R4 jeweils gleich oder verschieden sein können und ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe sind, die einen Substituenten haben kann; Y ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Aryl- oder Heteroarylgruppe ist, die einen Substituenten haben können; wenn zumindest eines von Ar1 und Ar2 oder Y eine Arylgruppe ist, hat zumindest eines von Ar1, Ar2 und Y als Substituent eine Hydroxygruppe, Aminogruppe, Monoalkylaminogruppe oder Dialkylaminogruppe an der ortho- oder para-Position; zwei von Ar1, Ar2 und Y können zusammen durch eine Bindegruppe zur Bildung eines Rings binden; m und n sind jeweils 0 oder 1.
  6. Lithografischer Druckplattenvorläufer nach Anspruch 5, worin die Bildbildungsschicht das alkalilösliche Harz (A) in einer Menge von 30 bis 99 Gew.% umfasst.
  7. Lithografischer Druckplattenvorläufer nach Anspruch 5 oder 6, worin die Bildbildungsschicht die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz (B) in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.% umfasst.
  8. Lithografischer Druckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 5 bis 7, worin die Bildbildungsschicht den Leucohydroxyfarbstoff (C) in einer Menge von 0,01 bis 15 Gew.% umfasst.
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