DE854890C - Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von DiazoverbindungenInfo
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- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 title claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- JVNKYYGQNQJOEN-UHFFFAOYSA-N 2-diazo-1h-naphthalen-1-ol Chemical class C1=CC=C2C(O)C(=[N+]=[N-])C=CC2=C1 JVNKYYGQNQJOEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 claims description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 2
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 9
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- -1 water-soluble Chemical class 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- RNQWXOKSUCPOFS-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxan-2-ol Chemical compound OC1COCCO1 RNQWXOKSUCPOFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOWZNBNDMFLQGM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylaniline Chemical group CC1=CC=C(C)C(N)=C1 VOWZNBNDMFLQGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QARAXUHORATRQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane;pyridine Chemical compound C1COCCO1.C1=CC=NC=C1 QARAXUHORATRQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAXPFHMCFLHGKK-UHFFFAOYSA-N 4-diazo-n,n-dimethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine Chemical compound CN(C)C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 LAXPFHMCFLHGKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N sulfurochloridic acid Chemical compound OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S8/00—Lighting devices intended for fixed installation
- F21S8/08—Lighting devices intended for fixed installation with a standard
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V17/00—Fastening of component parts of lighting devices, e.g. shades, globes, refractors, reflectors, filters, screens, grids or protective cages
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2103/00—Elongate light sources, e.g. fluorescent tubes
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Description
Die Herstellung von druckfähigen Kopien für das graphische Gewerbe mittels lichtempfindlicher Diazoverbindungen
ist wiederholt in Vorschlag gebracht worden. Die Diazoverbindungen sollen entweder zusammen
mit Kolloiden in dünner Schicht auf eine Unterlage aufgetragen und nach der Belichtung der
auf diese Weise erhaltenen Schichten wie Chromatschichten zu druckfähigen Matrizen für den Tief- oder
Flachdruck verarbeitet werden, oder sie können auch ohne Kolloide angewandt werden. Im letzteren Falle
werden Diazoverbindungen, hauptsächlich wasserlösliche, allein oder auch zusammen mit Azokomponenten
auf geeignete Unterlagen aufgetragen. Als Unterlagen kommen z. B. Metallfolien aus Aluminium,
oberflächlich oxydiertem Aluminium, Zink oder auch oberflächlich verseifte Celluloseester in Betracht.
Als besonders geeignet haben sich für ein Negativverfahren höhermolekulare Diazoverbindungen erwiesen.
Sie gehen bei der Belichtung unter einer Vorlage an den vom Licht getroffenen Stellen in wasserunlösliche
Produkte über, die fette Farbe annehmen, so daß man sofort nach dem Waschen mit Wasser
von der erhaltenen Kopie drucken kann.
Zur Herstellung von positiv druckenden Kopien bevorzugt man dagegen Diazoverbindungen einfacherer
Art, z. B. p-Diazodimethylanilin zusammen mit Azokomponenten. Während beim Negativverfahren
nach der Belichtung nur gewaschen zu werden
braucht, werden die Kopien bei einem solchen Positivverfahren mit einem Alkali, z. B. Ammoniak, oder
mit einem geeigneten, die Kupplungskomponente enthaltenden alkalischen Entwickler behandelt, falls die
Azokomponente sich nicht bereits in der Schicht befindet.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist nun ein Verfahren zur Herstellung von Kopien, die insbesondere
als Druckformen für das graphische Gewerbe dienen können, das darin besteht, daß unter
Verwendung von Diazoverbindungen, die sich von 2-Diazonaphthol-(i) oder i-Diazonaphthol-(2) herleiten
und durch Veresterung bzw. Amidierung einer Sulfo- oder Carbonsäure dieser Diazonaphthole entstanden
sind, eine lichtempfindliche Schicht auf einem Schichtträger erzeugt und hinter einer Vorlage belichtet
wird, dann die belichtete Schicht, gegebenenfalls nach Vornahme einer Alkalibehandlung, durch
Erhitzen fixiert und mit Alkali behandelt wird, ao Die vorstehend als 2-Diazonaphthol-(1) und
i-Diazonaphthol-(2) bezeichneten Verbindungen werden auch als Naphthochinon-(1, 2)-diazid-(2) bzw.
Naphthochinon-(i, 2)-diazid-(1) aufgefaßt (vgl. Beilstein,
Handbuch der organischen Chemie, 4. Auflage, Bd. 16, [1933], S. 533 und 534). Diazonaphthole sind
nach Beilstein a.a.O. S. 520 die Anhydride von Oxynaphthalindiazohydroxyden.
Die erfindungsgemäß zur Herstellung der lichtempfindlichen Schicht zu verwendenden Diazoverbindungen
sind in Wasser, schwachen Alkalien und Säuren unlöslich, in organischen Lösungsmitteln oder
Gemischen solcher löslich. Unter dem Einfluß von Lichtstrahlen bilden sich aus den Diazoverbindungen
Produkte (Lichtzersetzungsprodukte), die in alkalisch reagierenden wäßrigen Medien löslich sind.
Die Behandlung mit alkalischen Lösungen hat den Zweck, die aus der Diazoverbindung durch Lichtzersetzung
entstandenen, löslich gewordenen Zersetzungsprodukte zu entfernen. Als Schichtträger
lassen sich mit besonderem Vorteil Metallfolien oder Platten aus Zink, Aluminium, Kupfer, Messing oder
auch Stein verwenden.
Der Vorteil des neuen Verfahrens besteht in der Einfachheit der lichtempfindlichen, positiv arbeitenden
Schichten und ihrer Entwicklung insbesondere zu Druckformen. Hierbei können Kupplungskomponenten
entbehrt werden. Zur besseren Sichtbarmachung der Kopien kann man der Schicht geeignete
Farbstoffe beifügen. Weiter können auch Sensibilisatoren, z. B. Selenopyronin, oder Stoffe, die sich in
der Diazotypie bewährt haben, zugesetzt werden, wie z. B. Thiosinamin, Thioharnstoff und organische
Säuren. Die Beschichtung der Platten und Folien kann infolge der guten Haltbarkeit der Schichten
fabrikmäßig erfolgen, so daß dem Verbraucher die ■ Verarbeitung außerordentlich erleichtert wird.
Als Diazoverbindungen gemäß der Erfindung kommen Diazonaphtholsulfon- oder -carbonsäureamide
der allgemeinen Formeln
60
60
R-SO9-N^ und R-CO-N
in Frage, wobei R einen 2-Diazonaphthol-(1) oder i-Diazonaphthol-(2)-Rest, X und Y Substituenten
verschiedener Art, wie z. B. Wasserstoff, Alkyl-, Aryl-; Aralkylgruppen bedeuten, oder auch aliphatische oder
aromatische Ester der 2-Diazonaphthol-(1) - bzw. i-Diazonaphthol-(2)-sulfosäuren oder -carbonsäuren,
die ähnlich wie die den Verbindungen zugrunde liegenden Säuren im allgemeinen im Licht gut ausbleichen.
Man kann die Diazonaphtholsulfonamide im allgemeinen leicht durch Umsetzung der Diazonaphtholsulfochloride,
die durch Einwirkung von Chlorsulfonsäure auf die Diazonaphtholsulfosäuren bzw. ihre Salze zugänglich sind, mit Aminen in einem
organischen Lösungsmittel erhalten. Ebenso leicht lassen sich in ähnlicher Weise nach bekannten Methoden
die Diazonaphtholsulfosäureester herstellen. Die Diazonaphtholcarbonsäureamide oder -ester sind
dagegen meist am einfachsten durch Diazotieren der Amide bzw. Ester der o-Aminonaphtholcarbonsäuren
in üblicher Weise erhältlich.
Den Lösungen der Diazoverbindungen können auch Ausbleichfarbstoffe wie im Patent 502 786 zugesetzt
werden.
Zur Herstellung des lichtempfindlichen Materials bringt man z. B. die Diazoverbindung, in einem
organischen Lösungsmittel wie Benzol oder Alkohol gelöst, in dünner Schicht auf eine oberflächlich oxydierte
Aluminiumfolie. Nach der Belichtung der Schicht unter einer positiven Vorlage wird die Folie
der Einwirkung von Wärme ausgesetzt, z. B. mit einer Flamme erhitzt, bis die schwach gefärbte Kopie
sich dunkler färbt und eine graue Färbung annimmt. Hierauf wird die Kopie mit einer Lösung eines Alkalis
behandelt, wodurch die unter der Einwirkung von Licht aus der Diazoverbindung entstandenen Lichtzersetzungsprodukte
entfernt werden. Nach dem Waschen mit Wasser ist dann die Kopie druckfertig, und die Folie kann in den Druckapparat eingespannt
werden.
Das Auswaschen des Lichtzersetzungsproduktes kann aber auch vor dem Erhitzen vorgenommen
werden, was in manchen Fällen vorteilhafter ist. Nach dem Erhitzen und vor dem Einreiben mit Druckfarbe
kann man dann das Material nochmals mit einem etwas stärkeren Alkali behandeln, um gegebenenfalls
die letzten Reste der Lichtzersetzungsprodukte zu entfernen. Die Stärke des Alkalis bemißt man in
der Weise, daß die an den vom Licht nicht getroffenen Stellen erhalten gebliebene Diazoverbindung nicht
gelöst wird, was man durch einen einfachen Reagenzglasversuch mit der Diazoverbindung selbst feststellen
kann.
Es genügen im allgemeinen sehr verdünnte Alkalilösungen, denen weiter Salze zugesetzt werden können,
um gegebenenfalls eine Lösung der Diazoverbindung noch stärker zu verhindern.
Das Erhitzen der Folien oder Platten kann auch iao mit einem heißen Bügeleisen oder in einem elektrisch
auf, höhere Temperaturen geheizten Kasten oder zwischen geheizten Walzen vorgenommen werden.
Durch das Erhitzen wird die unbelichtete Diazoverbindung zersetzt und das Zersetzungsprodukt fest i»s
mit der Unterlage verbunden, so daß auch eine
Ätzung der Kopie nach Entfernung des Lichtzersetzungsproduktes vorgenommen werden kann, z. B.
zur Herstellung von Klischees.
Außer als Druckformen für das graphische Gewerbe, z. B. für den Flachdruck, oder zur Herstellung von
Klischees können die entwickelten Bilder, besonders wenn die lichtempfindliche Schicht zur besseren Sichtbarmachung
der Bilder einen Farbstoff enthält oder wenn die Kopien nach der Entwicklung mit Druckfarbe
eingefärbt werden, als Schablonen oder für Schilder Anwendung finden.
i. Eine 2°/oige Lösung des 2-Diazonaphthol-(1)-5-sulfon-ß-naphthylamides
(aus Benzol umkristallisiert F. 144,5° unter Zersetzung) der Formel
ao in Dioxanalkohol (1:1) wird auf eine oberflächlich
oxydierte Aluminiumfolie aufgegossen und der Überschuß der Lösung abgeschleudert. Nach dem Trocknen
wird die lichtempfindliche Schicht hinter einem Positiv belichtet, bis die Diazoverbindung an den vom Licht
getroffenen Stellen zerstört ist. Hierauf wird die Schicht mit einer 5°/oigen Dinatriumphosphatlösung
mittels eines Wattebausches behandelt und mit Wasser gespült. Nach dem Trocknen wird die Folie
von der Rückseite mit einer Flamme erhitzt, bis das gelbe positive Bild sich grau färbt. Das Erhitzen
kann auch in einem auf 200 bis 220° geheizten Trockenschrank vorgenommen werden, wozu nur wenige
Minuten erforderlich sind.
Danach wird die Bildseite mit 5%iger Trinatriumphosphatlösung
behandelt und kann noch feucht mit Kopierfarbe eingefärbt werden. Die Folie ist dann
druckfertig.
An Stelle der genannten Diazoverbindung kann in
SO2-NH
gleicher Weise das analog konstituierte 2-Diazonaphthol- (i)-5-sulfon-p-xylidid verarbeitet werden,
das durch Kondensation von 2-Diazonaphthol-(1)-5-sulfochlorid
mit p-Xylidin in Benzol erhalten wird. Umkristallisiert aus Methanol schmilzt es bei 1570
unter Zersetzung.
2. Man stellt eine i%ige Lösung des 2-Diazonaphthol-
(i)-5-sulfonamides in Pyridindioxan 1:1
her, die wie in Beispiel 1 auf eine oberflächlich oxydierte Aluminiumfolie aufgebracht wird. Nach dem
Belichten hinter einem Positiv wird die Folie auf höhere Temperatur erhitzt, bis das Bild grau erscheint.
Danach wird die Schicht mittels eines Wattebausches mit einer 5°/oigen Dinatriumphosphatlösung
gewaschen und nach dem Abspülen mit Wasser erneut mit Dinatriumphosphat eingerieben und mit Druckfarbe
das Bild entwickelt.
3. Eine 2°/^ε Lösung des 2-Diazonaphthol-(1) 5-sulfonsarkosidäthylesters
entsprechend der Formel
oder
SO2-N(CHa)-CH2-COOC2H6 SO2-N(CH3) —CH2-COOC2H5 110
wird mit 0,2 g Thiosinamin und 1 g Benzoesäure versetzt.
Eine mit der Lösung beschichtete, oberflächlich oxydierte Aluminiumfolie wird wie im Beispiel 2
verarbeitet, nur daß zur Behandlung nach dem Erhitzen eine 5°/oige Trinatriumphosphatlösung angewandt
wird.
4. Man reibt mit einer 2°/oigen Dioxan-Alkohol-Lösung
des 2-Diazonaphthol- (1) -5-sulfon-p-phenetidids eine in üblicher Weise vorbehandelte Zinkplatte ein
und verfährt im übrigen wie in Beispiel 1.
5. '2 g des i-Diazonaphthol- (2) -6-sulfonparatoluidids
werden unter Zusatz von geringen Mengen Thiosinamin und Benzoesäure in 100 ecm Alkohol-Dioxan-Gemisch
gelöst und auf eine oberflächlich oxydierte Aluminiumfolie wie üblich aufgebracht.
Nach dem Belichten hinter einer Vorlage wird wie in Beispiel 1 die Folie druckfertig gemacht.
6. Eine 1 °/oige Lösung des Phenylesters der
2-Diazonaphthol-(1)-5-sulfosäure in Alkohol wird wie
oben unter Zusatz von etwas Thiosinamin in üblicher Weise auf eine oxydierte Aluminiumfolie aufgebracht.
Nach dem Belichten unter einer Vorlage wird mit einer 5 "/„igen Trinatriumphosphatlösung gewaschen,
mit Wasser gespült und wie in Beispiel 1 erhitzt. iao
Nach dem nochmaligen Behändem mit Trinatriumphosphatlösung wird die Folie in üblicher Weise
druckfertig gemacht.
Den Phenylester der 2-Diazonaphthol-(1)-5-sulfosäure
erhält man nach der Methode von M.Georgescu,
(Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft,
Jahrgang 24, [1891], S. 416) durch Einwirkung des
2-Diazonaphthol-(i)-5-sulfochlorids auf Phenol in schwach alkalischer Lösung. Der Phenylester läßt
sich aus Methanol Umkristallisieren und zersetzt sich bei 1430C.
7. 2 Gewichtsteile des 2-Diazonaphthol- (1) -4-sulfosäure-p-tolylesters
werden in einer Mischung von 50 Gewichtsteilen Dioxan (Diäthylendioxyd) und 50 Gewichtsteilen Alkohol gelöst. Die Lösung wird
wie üblich auf eine oberflächlich oxydierte Aluminiumfolie aufgebracht und gut getrocknet. Die auf diese
Weise erzeugte lichtempfindliche Schicht wird unter einem Positiv belichtet, bis die Diazoverbindung
unter den hellsten Stellen der Vorlage zerstört ist, und anschließend mit einer 5°/oigen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung
behandelt, mit Wasser gespült und getrocknet. Dann wird die Folie erhitzt, bis das gelbe
positive Diazobild eine grauolive Farbe annimmt. Hierauf kann die Druckform nach der im Druck-
ao gewerbe üblichen Säuberung mit einer Lösung saurer Salze, wie sie z. B. von Strecker in der Deutschen
Patentschrift 642 782 beschrieben ist, oder i°j^ger
Phosphorsäure und Waschen mit Wasser noch feucht in die Druckmaschine eingespannt werden. Oder
man überzieht das Druckbild, wie ebenfalls üblich, mit einer Gummischicht, um es so aufzubewahren, bis es
nach dem Abwaschen mit Wasser gedruckt werden soll.
Der 2-Diazonaphthol- (1)-4-sulfo-p-tolylester kann
ähnlich wie der Phenylester durch schwaches Erwärmen
von 1 Mol des 2-Diazonaphthol-(i)-4-sulfochlorids zusammen mit 1 Mol p-Kresol in wäßriger
Dioxanlösung unter langsamer Zugabe von io°/0iger
Sodalösung bis zum Stehenbleiben der alkalischen Reaktion hergestellt werden.
In ähnlicher Weise können auch mit dem 2-Diazonaphthol- (1) -4-sulfosäurenitrophenylester Druckformen
hergestellt werden, nur daß hier die Diazobilder mit 3o/oiger Trinatriumphosphatlösung entwickelt
werden.
Claims (4)
- Patentansprüche:i. Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, dadurch gekennzeichnet, daß man unter Verwendung von Diazoverbindungen, die sich von 2-Diazonaphthol-(1) oder i-Diazonaphthol-(2) herleiten und durch Veresterung bzw. Aminierung einer Sulfo- oder Carbonsäure dieser Diazonaphthole entstanden sind, auf einem Schichtträger eine lichtempfindliche Schicht herstellt, diese hinter einer Vorlage belichtet, die belichtete Schicht mit Alkali behandelt, erhitzt und gegebenenfalls nach dem Erhitzen nochmals mit Alkali behandelt.
- 2. Abänderung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Alkalibehandlung der belichteten Schicht nur nach dem Erhitzen durchgeführt wird.
- 3. Abänderung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man der Lösung, der Diazoverbindung einen Ausbleichfarbstoff zusetzt.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Schichtträger Metallfolien, vorteilhaft oberflächlich oxydierte Aluminiumfolien, verwendet werden.Q 5578 12.
Applications Claiming Priority (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEP0049803 | 1949-07-23 | ||
| DEO205A DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
| DEO0000268 | 1950-02-01 | ||
| DEO0000940 | 1950-08-01 | ||
| DEK8877A DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
| DEK9441A DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
| DEK16195A DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
| DEK0012457 | 1951-12-14 | ||
| US51708655A | 1955-06-21 | 1955-06-21 | |
| US718477A US3046123A (en) | 1949-07-23 | 1958-03-03 | Process for making printing plates and light sensitive material for use therein |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE854890C true DE854890C (de) | 1952-12-18 |
Family
ID=32398483
Family Applications (8)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT879203D Expired DE879203C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
| DENDAT907739D Expired DE907739C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material | |
| DEP49803D Expired DE854890C (de) | 1949-07-23 | 1949-07-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
| DEO205A Expired DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
| DEO940A Expired DE888204C (de) | 1949-07-23 | 1950-08-01 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
| DEK8877A Expired DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
| DEK16195A Expired DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
| DEK9441A Expired DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT879203D Expired DE879203C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen | |
| DENDAT907739D Expired DE907739C (de) | 1949-07-23 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
Family Applications After (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEO205A Expired DE865109C (de) | 1949-07-23 | 1949-12-28 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen |
| DEO940A Expired DE888204C (de) | 1949-07-23 | 1950-08-01 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen, und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
| DEK8877A Expired DE894959C (de) | 1949-07-23 | 1951-02-02 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares Material |
| DEK16195A Expired DE928621C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
| DEK9441A Expired DE922506C (de) | 1949-07-23 | 1951-03-24 | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (8) | US3046118A (de) |
| AT (8) | AT171431B (de) |
| BE (7) | BE516129A (de) |
| CH (9) | CH295106A (de) |
| DE (8) | DE854890C (de) |
| FR (9) | FR1031581A (de) |
| GB (7) | GB699412A (de) |
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0
- NL NL80569D patent/NL80569C/xx active
- BE BE510152D patent/BE510152A/xx unknown
- BE BE500222D patent/BE500222A/xx unknown
- NL NL78723D patent/NL78723C/xx active
- BE BE510151D patent/BE510151A/xx unknown
- BE BE508815D patent/BE508815A/xx unknown
- DE DENDAT879203D patent/DE879203C/de not_active Expired
- DE DENDAT907739D patent/DE907739C/de not_active Expired
- NL NL80628D patent/NL80628C/xx active
- BE BE497135D patent/BE497135A/xx unknown
- NL NL76414D patent/NL76414C/xx active
- BE BE510563D patent/BE510563A/xx unknown
- NL NL78797D patent/NL78797C/xx active
- BE BE516129D patent/BE516129A/xx unknown
-
1949
- 1949-07-24 DE DEP49803D patent/DE854890C/de not_active Expired
- 1949-12-28 DE DEO205A patent/DE865109C/de not_active Expired
-
1950
- 1950-07-19 AT AT171431D patent/AT171431B/de active
- 1950-07-21 FR FR1031581D patent/FR1031581A/fr not_active Expired
- 1950-07-21 GB GB18320/50A patent/GB699412A/en not_active Expired
- 1950-07-21 CH CH295106D patent/CH295106A/de unknown
- 1950-07-21 CH CH292832D patent/CH292832A/de unknown
- 1950-08-01 DE DEO940A patent/DE888204C/de not_active Expired
- 1950-12-22 GB GB31294/50A patent/GB706028A/en not_active Expired
- 1950-12-26 FR FR60499D patent/FR60499E/fr not_active Expired
- 1950-12-27 AT AT177053D patent/AT177053B/de active
- 1950-12-27 CH CH302817D patent/CH302817A/de unknown
-
1951
- 1951-02-02 DE DEK8877A patent/DE894959C/de not_active Expired
- 1951-03-24 DE DEK16195A patent/DE928621C/de not_active Expired
- 1951-03-24 DE DEK9441A patent/DE922506C/de not_active Expired
- 1951-07-24 FR FR62126D patent/FR62126E/fr not_active Expired
- 1951-07-30 AT AT179194D patent/AT179194B/de active
- 1951-07-31 GB GB18130/51A patent/GB708834A/en not_active Expired
- 1951-07-31 CH CH308002D patent/CH308002A/de unknown
-
1952
- 1952-01-25 AT AT181493D patent/AT181493B/de active
- 1952-01-29 GB GB2445/52A patent/GB729746A/en not_active Expired
- 1952-01-30 FR FR63606D patent/FR63606E/fr not_active Expired
- 1952-02-01 CH CH306897D patent/CH306897A/de unknown
- 1952-03-21 GB GB7433/52A patent/GB723242A/en not_active Expired
- 1952-03-21 GB GB7434/52A patent/GB732544A/en not_active Expired
- 1952-03-21 FR FR63708D patent/FR63708E/fr not_active Expired
- 1952-03-22 AT AT184821D patent/AT184821B/de active
- 1952-03-22 AT AT198127D patent/AT198127B/de active
- 1952-03-22 FR FR64118D patent/FR64118E/fr not_active Expired
- 1952-03-22 AT AT189925D patent/AT189925B/de active
- 1952-03-24 CH CH317504D patent/CH317504A/de unknown
- 1952-03-24 CH CH318851D patent/CH318851A/de unknown
- 1952-03-24 CH CH315139D patent/CH315139A/de unknown
- 1952-03-24 FR FR64119D patent/FR64119E/fr not_active Expired
- 1952-11-25 FR FR64216D patent/FR64216E/fr not_active Expired
- 1952-11-28 AT AT201430D patent/AT201430B/de active
- 1952-11-28 GB GB30289/52A patent/GB774272A/en not_active Expired
- 1952-12-04 FR FR65465D patent/FR65465E/fr not_active Expired
- 1952-12-13 CH CH316606D patent/CH316606A/de unknown
-
1958
- 1958-02-14 US US715222A patent/US3046118A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-02-14 US US715220A patent/US3046116A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-02-14 US US715221A patent/US3046117A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-03-03 US US718431A patent/US3046122A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-03-03 US US718477A patent/US3046123A/en not_active Expired - Lifetime
-
1959
- 1959-02-04 US US791161A patent/US3064124A/en not_active Expired - Lifetime
-
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- 1962-01-02 US US163875A patent/US3046111A/en not_active Expired - Lifetime
- 1962-01-02 US US163874A patent/US3046110A/en not_active Expired - Lifetime
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