JP2000108538A - 平版印刷版用原版 - Google Patents
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Abstract
きて、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可
能であるとともに、耐刷性能に優れ、かつ、汚れの発生
の無い平版印刷版用原版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、酸基を有するモノマーと、
オニウム基を有するモノマーと、を有する重合体を含有
する中間層と、(A)アルカリ可溶性高分子化合物、
(B)該アルカリ可溶性高分子化合物と相溶することに
より該高分子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下
させるとともに、加熱により該溶解性低下作用が減少す
る化合物、及び(C)光を吸収して発熱する化合物を含
有する赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物とを含有する
感光層と、が順次設けられたことを特徴とする平版印刷
版用原版である。
Description
ターとして使用できる平版印刷版用原版に関するもので
あり、特にコンピュータ等のディジタル信号から赤外線
レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト
製版可能な平版印刷版用原版に関する。
ュータのディジタルデータから直接製版するシステムが
注目されている。近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
ようになっており、このディジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザは非常
に有用である。
て、特開平7−285275号公報には、クレゾール樹
脂のような結着剤と光を吸収して熱を発生する物質に、
キノンジアジド化合物のような熱分解性であり、かつ分
解しない状態では、前記結着剤の溶解性を実質的に低下
させる物質を含むポジ型画像記録材料が提案された。こ
れは、赤外線レーザの露光により、露光部分において、
前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱し、露光部の
溶解性を発現させるものであり、画像露光後アルカリ水
溶液で現像すると露光部のみが溶解除去され、支持体表
面が露出するというというものである。この場合、未露
光部(画像部)は親油性の感光層が残存するためインキ
受容部になり、露光部(非画像部)は親水性の支持体表
面が露出するため、水を保持しインキ反発部になる。
り広く使用されているポジ型感光性印刷版原版において
は、支持体として粗面化処理あるいはアルカリエッチン
グあるいは陽極酸化処理したアルミニウム支持体を使用
していたが、該アルミニウム支持体の表面は、親水性が
十分とは言えないため、非画像部のインキ反発力が不十
分となり、非画像部にインキが付着すること(以下、
「汚れの発生」ということがある。)が問題となってい
た。また、露光部(非画像部)において発生した熱は、
アルミニウム支持体に吸熱されてしまうため熱効率が低
く、このため、現像工程において、アルカリ現像処理液
に対する露光部の溶解性は満足のいくものではなかっ
た。従って、露光部に親油性の感光層が溶解せずに一部
残存するため、上記と同様に非画像部にインキが付着す
ることが問題となっていた。
の親水性を向上させることにより上記「汚れの発生」の
問題を解決する手段として、露光部(非画像部)を親水
化処理する技術が知られている。しかし、一般に親水化
処理した支持体上に直接ポジ型感光層を設けると、親水
性の支持体表面と親油性の感光層との密着性が悪いた
め、耐刷性能(正常に印刷することができる能力)が低
下してしまうという問題があった。従って、通常は、現
像時に珪酸ナトリウムや珪酸カリウム等の珪酸塩を含む
現像液を用いることにより、露光部(非画像部)のみを
親水化していた。しかし、珪酸塩を含む現像液を用いる
と、SiO2 に起因する固形物が析出しやすく、また、
現像廃液を中和処理する際には、SiO2 に起因するゲ
ルが生成してしまう等の問題があった。
上にポジ型感光層を設けても、支持体と感光層との密着
性が良く、耐刷性能に優れ、かつ、汚れの発生しない技
術が望まれていた。
細書3,136,636号においては、ポリアクリル
酸、カルボキシルメチルヒドロキシエチルセルロースの
ような水溶性ポリマーの中間層を設けることが提案され
ているが、耐刷性能の点において満足のゆくものではな
かった。また、米国特許明細書4,483,913号に
おいては、ポリ (ジメチルジアリルアンモニウムクロラ
イド)のような4級アンモニウム化合物の中間層を設け
ることが提案されているが、汚れが発生してしまう点に
おいて満足のゆくものではなかった。
く、例えば、P−ビニル安息香酸などの特定の構造単位
を含有する高分子化合物を含む中間層を設けた平版印刷
版を提案し(特開平10−69092号公報に記載の発
明)、本提案により、耐刷性能に優れ、かつ、汚れの発
生の無い印刷版が実現した。しかし、上記提案において
設けられる中間層自体は耐刷性の向上に優れた効果を奏
するものの、汚れの発生防止という観点からは十分では
なく、例えば親水性に優れた支持体層との組合せにおい
てのみ双方の効果が発揮されるものであり、中間層自体
の機能としての汚れ防止性に更なる改良が望まれてい
た。
来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できて、コンピ
ューター等のデジタル情報から直接製版可能であるとと
もに、耐刷性能に優れ、かつ、汚れの発生の無い平板印
刷版用原版を提供することを目的とする。
結果、下記の本発明により、上記目的を達成するに至っ
た。即ち、本発明の平版印刷版用原版は、親水化処理が
施された支持体上に、少なくとも、酸基を有するモノマ
ーと、オニウム基を有するモノマーと、を有する重合体
を含有する中間層と、少なくとも、(A)アルカリ可溶
性高分子化合物、(B)該アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶液
への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性
低下作用が減少する化合物、及び(C)光を吸収して発
熱する化合物を含有する赤外線レーザ用ポジ型感光性組
成物を含有する感光層と、が順次設けられたことを特徴
とする。中間層に含有される重合体は、高分子化合物で
あってもよく、また、ラジカル重合時に開始剤と連鎖移
動剤とを併用することにより、その数平均分子量(M
n)が300〜5,000の範囲に調整されたアルカリ
可溶性の重合体であってもよい。本発明において、支持
体の親水化処理が珪酸塩処理であることが好ましい態様
である。
化処理を施した支持体上に直接感光層を設けていたた
め、感光層と支持体との密着性が悪く、耐刷性能が著し
く低かったが、本発明においては、酸基を有するモノマ
ーとオニウム基を有するモノマーとを有する重合体を含
有する中間層を支持体と感光層との間に設けたことによ
り、従来技術と比べ、支持体と感光層との密着性が向上
し、耐刷性能が著しく向上した。一方、非画像部におい
ては、前記中間層に含有される酸基がアルカリ現像液で
容易に解離するため、この高分子化合物は支持体表面か
ら溶解除去される。さらに、本発明にかかる中間層に含
有される化合物には、オニウム基も含まれているため、
酸基のみを有する中間層を用いたもの(特開平10−6
9092号公報に記載の発明等)と比し、該化合物の溶
解性は更に大きい。従って、本発明においては、現像処
理により親水化処理された支持体表面が容易に露出する
ため、汚れの発生防止効果の著しい向上がみられる。
即ち、本発明は、親水化処理が施された支持体上に、少
なくとも、酸基を有するモノマーと、オニウム基を有す
るモノマーと、を有する重合体を含有する中間層と、少
なくとも、(A)アルカリ可溶性高分子化合物、(B)
該アルカリ可溶性高分子化合物と相溶することにより該
高分子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下させる
とともに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合
物、及び(C)光を吸収して発熱する化合物を含有する
赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物を含有する感光層
と、が順次設けられたことを特徴とする平版印刷版用原
版に関するものである。
る。前記平版印刷版用原版は、支持体上に、酸基を有す
るモノマー及びオニウム基を有するモノマーを有する重
合体を含有する中間層と、赤外線レーザ用ポジ型感光性
組成物(以下、単に「感光性組成物」と称することがあ
る。)を含有する感光層と、を有してなる。
版における中間層に含有される重合体について詳しく説
明する。本発明にかかる中間層に含有される重合体は、
少なくとも酸基を有するモノマー及びオニウム基を有す
るモノマーを重合してなる化合物である。ここで、酸基
としては、酸解離指数(pKa)が7以下の酸基が好ま
しく、より好ましくは−COOH,−SO3 H,−OS
O3 H,−PO3 H2 ,−OPO3 H2 ,−CONHS
O2 ,−SO2 NHSO2 −であり、特に好ましくは−
COOHである。また、オニウム基として好ましいもの
は、周期律表第V族あるいは第IV族の原子からなるオ
ニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あ
るいはイオウ原子からなるオニウム基であり、特に好ま
しくは窒素原子からなるオニウム基である。本発明の重
合体の中で、好ましくは、この重合体の主鎖構造がアク
リル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニ
ル系ポリマーあるいはウレタン樹脂あるいはポリエステ
ルあるいはポリアミドであることを特徴とする重合体化
合物である。より好ましくは、この重合体の主鎖構造が
アクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのような
ビニル系ポリマーであることを特徴とする重合体化合物
である。 特に好ましくは、酸基を有するモノマーが下
記の一般式(1)あるいは一般式(2)で表される化合
物であり、オニウム基を有するモノマーが後記の一般式
(3)、一般式(4)あるいは一般式(5)で表される
化合物であることを特徴とする重合体化合物である。
族基あるいは置換芳香族基を表す。D及びEはそれぞれ
独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表
す。X及びX′はそれぞれ独立してpKaが7以下の酸
基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩
を表す。R1 は水素原子、アルキル基またはハロゲン原
子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0または
1を表す。tは1〜3の整数である。酸基を有するモノ
マーの中でより好ましくは、Aは−COO−または−C
ONH−を表し、Bはフェニレン基あるいは置換フェニ
レン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子ある
いはアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立してア
ルキレン基あるいは分子式がCn H2nO、Cn H2nSあ
るいはCn H2n+1Nで表される2価の連結基を表す。G
は分子式がCn H2n-1、Cn H2n-1O、Cn H 2n-1Sあ
るいはCn H2nNで表される3価の連結基を表す。但
し、ここで、nは1〜12の整数を表す。X及びX′は
それぞれ独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン
酸、硫酸モノエステルあるいは燐酸モノエステルを表
す。R1 は水素原子またはアルキル基を表す。a,b,
d,eはそれぞれ独立して0または1を表すが、aとb
は同時に0ではない。酸基を有するモノマーの中で特に
好ましくは一般式(1)で示す化合物であり、Bはフェ
ニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基
は水酸基であるいは炭素数1〜3のアルキル基である。
D及びEはそれぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン
基あるいは酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレ
ン基を表す。R1 は水素原子またはアルキル基を表す。
Xはカルボン酸基を表す。aは0であり、bは1であ
る。
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。 (酸基を有するモノマーの具体例)アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸
る、下記一般式(3)、(4)、(5)で表わされるポ
リマーについて説明する。
族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立し
て2価の連結基を表す。Y1 は周期率表第V族の原子を
表し、Y2 は周期率表第VI族の原子を表す。Z- は対ア
ニオンを表す。R2 は水素原子、アルキル基またはハロ
ゲン原子を表す。R3 ,R4 ,R5 ,R7 はそれぞれ独
立して水素原子あるいは場合によっては置換基が結合し
てもよいアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、
R6 はアルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表す
が、R3 とR4 あるいはR6 とR7 はそれぞれ結合して
環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0
または1を表す。uは1〜3の整数を表す。オニウム基
を有するモノマーの中でより好ましくは、Jは−COO
−または−CONH−を表し、Kはフェニレン基あるい
は置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロ
ゲン原子あるいはアルキル基である。Mはアルキレン基
あるいは分子式がCn H2nO、Cn H2nSあるいはCn
H2n+1Nで表される2価の連結基を表す。但し、ここ
で、nは1〜12の整数を表す。Y1 は窒素原子または
リン原子を表し、Y2 はイオウ原子を表す。Z-はハロ
ゲンイオン、PF6 - 、BF4 - あるいはR8 SO3 -
を表す。R2 は水素原子またはアルキル基を表す。
R3 ,R4 ,R5 ,R7 はそれぞれ独立して水素原子あ
るいは場合によっては置換基が結合してもよい炭素数1
〜10のアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、
R6 は炭素数1〜10のアルキリジン基あるいは置換ア
ルキリジンを表すが、R3 とR4 あるいはR6 とR7 は
それぞれ結合して環を形成してもよい。j,k,mはそ
れぞれ独立して0または1を表すが、jとkは同時に0
ではない。R8 は置換基が結合してもよい炭素数1〜1
0のアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表す。オニ
ウム基を有するモノマーの中で特に好ましくは、Kはフ
ェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換
基は水素原子あるいは炭素数1〜3のアルキル基であ
る。Mは炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素原子
で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。Z- は
塩素イオンあるいはR8 SO3 - を表す。R2 は水素原
子あるいはメチル基を表す。jは0であり、kは1であ
る。R 8 は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。(オニウム基を有するモノマーの具体例)
いは2種類以上組み合わせて用いても良く、また、オニ
ウム基を有するモノマーも1種類あるいは2種類以上組
み合わせて用いても良い。更に、当該発明に係る重合体
は、モノマーあるいは組成比あるいは分子量の異なるも
のを2種類以上混合して用いてもよい。この際、酸基を
有するモノマーを重合成分として有する重合体は、酸基
を有するモノマーを1モル%以上、好ましくは5モル%
以上含み、オニウム基を有するモノマーを重合成分とし
て有する重合体は、オニウム基を有するモノマーを1モ
ル%以上、好ましくは5モル%以上含むことが望まし
い。
(14)に示す重合性モノマーから選ばれる少なくとも
1種を共重合成分として含んでいてもよい。 (1)N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド
またはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチレン、o−ま
たはm−ブロモ−p−ヒドロキシスチレン、o−または
m−クロル−p−ヒドロキシスチレン、o−、m−また
はp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリ
レート等の芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類およびビドロキシスチレン類、 (2)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、無水
イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和カル
ボン酸、
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
基があってもよいフェニルスルホニルアクリルアミド、
およびトシルメタクリルアミドのような置換基があって
もよいフェニルスルホニルメタクリルアミド。 (5)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およ
びメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエ
チルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、 (6)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸
エステル、 (7)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロ
エチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジ
ルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レートなどの(置換)メタクリル酸エステル、
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、 (9)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニルエー
テル類、
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、 (11)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、 (12)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニ
ルケトン類、 (13)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン類、 (14)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど。
するモノマーを1モル%以上、好ましくは5モル%以上
含み、オニウム基を有するモノマーを1モル%以上、好
ましくは5モル%以上含むことが望ましい。さらに、酸
基を有するモノマーが20モル%以上含まれると、アル
カリ現像時の溶解除去が一層促進され、オニウム基を有
するモノマーが1モル%以上含まれると酸基との相乗効
果により密着性が一層向上される。また、酸基を有する
構成成分は1種類あるいは2種類以上組み合わせても良
く、また、オニウム基を有するモノマーも1種類あるい
は2種類以上組み合わせても良い。更に、当該発明に係
る重合体は、モノマーあるいは組成比あるいは分子量の
異なるものを2種類以上混合して用いてもよい。次に、
当該発明に用いられる重合体の代表的な例を以下に示
す。なお、ポリマー構造の組成比はモル百分率を表す。
連鎖重合法を用いて製造することができる(“Textbook
of Polymer Science" 3rd ed,(1984)F.W.Billmeyer,A
Wiley-Interscience Publication参照)。
ってもよいが、光散乱法を用いて測定したとき、重合平
均分子量(Mw)が500〜2,000,000である
ことが好ましく、1,000〜600,000の範囲で
あることがさらに好ましい。また、NMR測定における
末端基と側鎖官能基との積分強度より算出される数平均
分子量(Mn)が300〜500,000であることが
好ましく、500〜100,000の範囲であることが
さらに好ましい。分子量が上記の範囲よりも小さいと、
基板との密着力が弱くなり、耐刷性の劣化が生じる。一
方、分子量が上記の範囲を超えて高くなると、支持体へ
の密着力が強くなりすぎ、非画像部の感光層残渣を十分
に除去することができなくなる。また、この重合体中に
含まれる未反応モノマー量は広範囲であってもよいが、
20重量%以下であることが好ましく、10重量%以下
であることがさらに好ましい。
する単量体を共重合する際に、重合開始剤及び連鎖移動
剤を併用し、添加量を調整することより得ることができ
る。なお、連鎖移動剤とは、重合反応において連鎖移動
反応により、反応の活性点を移動させる物質のことを示
し、その移動反応の起こり易さは、連鎖移動定数Csで
表される。本発明で用いられる連鎖移動剤の連鎖移動定
数Cs×104 (60℃)は、0.01以上であること
が好ましく、0.1以上であることがより好ましく、1
以上であることが特に好ましい。重合開始剤としては、
ラジカル重合の際に一般によく用いられる過酸化物、ア
ゾ化合物、レドックス開始剤をそのまま利用することが
できる。これらの中でアゾ化合物が特に好ましい。
素、四臭化炭素等のハロゲン化合物、イソプロピルアル
コール、イソブチルアルコール等のアルコール類、2−
メチル−1−ブテン、2、4−ジフェニル−4−メチル
−1−ペンテン等のオレフィン類、エタンチオール、ブ
タンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノー
ル、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン酸
メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプ
ロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、
sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジ
スルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、チオク
レゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメルカプ
タン等の含イオウ化合物等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。より好ましくは、エタンチオー
ル、ブタンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエ
タノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピ
オン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカ
プトプロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフ
ィド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエ
チルジスルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、
チオクレゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメ
ルカプタンであり、特に好ましくは、エタンチオール、
ブタンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエタノ
ール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピオン
酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカプト
プロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィ
ド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチ
ルジスルフィドである。
マー量は広範囲であってもよいが、20wt%以下であ
ることが好ましく、また10wt%以下であることが更
に好ましい。
す。 〔合成例1〕重合体(No.1)の合成 p−ビニル安息香酸[北興化学工業(株)製]50.4
g、トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモニウムク
ロリド15.2g、メルカプトエタノール1.9gおよ
びメタノール153.1gを2リットルの3口フラスコ
に取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し60℃に保っ
た。この溶液に2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチ
ル2.8gを加え、そのまま30分間撹拌を続けた。そ
の後、この反応液に、p−ビニル安息香酸201.5
g、トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモニウムク
ロリド60.9g、メルカプトエタノール7.5gおよ
び2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル11.1g
をメタノール612.3gに溶解させた溶液を2時間か
けて滴下した。滴下終了後、温度を65℃に上げ、窒素
気流下10時間撹拌を続けた。反応終了後、室温まで放
冷すると、この反応液の収量は1132gであり、その
固形分濃度は30.5wt%であった。更に、得られた
生成物の数平均分子量(Mn )を13C−NMRスペクト
ルより求めた結果、その値は2100であった。
ドの代わりに、トリエチル(ビニルベンジル)アンモニ
ウムクロリドのm/p体(2/1)混合物を、更に、メ
ルカプトエタノールの代わりにメルカプトプロピオン酸
エチルを用いること以外は合成例1と同様の操作を行
い、数平均分子量(Mn )4,800の重合体を得た。
9g(0.99mol)、ビニルベンジルトリメチルア
ンモニウムクロリド44.2g(0.21mol)およ
び2−メトキシエタノール446gを1Lの3口フラス
コに取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し75℃に保
った。次に2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,
76g(12mmol)を加え、撹拌を続けた。2時間
後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2,76g
(12mmol)を追加した。更に、2時間後、2,2
−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル2.76g(12mm
ol)を追加した。2時間撹拌した後、室温まで放冷し
た。この反応液を撹拌下12Lの酢酸エチル中に注い
だ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量は18
9.5gであった。得られた固体は光散乱法で分子量測
定を行った結果、重量平均分子量(Mw)は3.2万で
あった。
成される。
中間層には、前記重合体に加え下記一般式(6)で示さ
れる化合物を添加することもできる。 一般式(6)
ン基を表し、m、nは独立して1から3の整数を表
す。) 上記一般式(6)で示される化合物について、以下に説
明する。R1 で表わされるアリーレン基の炭素数は6〜
14が好ましく、6〜10がさらに好ましい。R1 で表
わされるアリーレン基として具体的には、フェニレン
基、ナフチル基、アンスリル基、フェナスリル基等が挙
げられる。R1 で表わされるアリーレン基は炭素数1〜
10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭
素数2〜10のアルキニル基、炭素数6〜10のアリー
ル基、カルボン酸エステル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、スルホン酸エステル基、ホスホン酸エステル基、
スルホニルアミド基、ニトロ基、ニトリル基、アミノ
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、エチレンオキサイド
基、プロピレンオキサイド基、トリエチルアンモニウム
クロライド基等で置換されていてもよい。
例としては、例えば、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒ
ドロキシ安息香酸、サリチル酸、1−ヒドロキシー2−
ナフトエ酸、2−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、2−ヒ
ドロシキー3−ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息
香酸、10−ヒドロキシ−9−アントラセンカルボン酸
などが挙げられる。但し、上記の具体例に限定されるも
のではなく、また、一般式(6)で示される化合物を1
種類または2種類以上混合して用いてもよい。
添加される上記一般式(6)で示される化合物を含む中
間層は、後述する親水化処理を施したアルミニウム支持
体上に種々の方法により塗布して設けられる。
る。メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなど
の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるいはこれらの
有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る重合体および
必要に応じて添加される一般式(6)で示される化合物
を溶解させた溶液をアルミニウム支持体上に塗布、乾燥
して設ける塗布方法。あるいはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤あるいはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤
に、本発明に係る重合体および必要に応じて添加される
一般式(6)で示される化合物を溶解させた溶液に、ア
ルミニウム支持体を浸漬し、しかる後、水洗あるいは空
気などによって洗浄、乾燥して中間層を設ける塗布方法
を挙げることができる。
05〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布でき
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。ま
た、後者の方法では、溶液の濃度は0.005〜20重
量%、好ましくは0.01%〜10重量%であり、浸漬
温度0℃〜70℃、好ましくは5〜60℃であり、浸漬
時間は0.1秒〜5分、好ましくは0.5秒〜120秒
である。
ミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェ
ニルホスホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマ
ル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々有機酸性
物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンスル
ホニルクロライドなどの有機クロライド等によりpHを
調整し、pH=0〜12、より好ましくはpH=0〜6
の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷
版の調子再現性改良のために紫外光や可視光、赤外光な
どを吸収する物質を添加することもできる。
の被覆量は、合計で1〜100mg/m 2 が適当であり、好
ましくは2〜70mg/m2 である。上記被覆量が1mg/m2
よりも少ないと十分な効果が得られない。また100mg
/m2 よりも多くても同様である。
ーザ用ポジ型感光性組成物は、少なくとも、(A)アル
カリ可溶性高分子化合物、(B)該アルカリ可溶性高分
子化合物と相溶することにより該高分子化合物のアルカ
リ水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により
該溶解性低下作用が減少する化合物、及び(C)光を吸
収して発熱する化合物を含有し、更に必要に応じて、そ
の他の成分を含有してなる。
来公知のものであれば特に制限はないが、(1)フェノ
ール性水酸基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イ
ミド基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合
物であることが好ましい。例えば以下のものが例示され
るが、これらに限定されるものではない。
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロー
ルアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有
する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール
性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が
挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2 −
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
このような化合物としては、例えば、下記一般式(I) 〜
(V) で示される化合物が挙げられる。
は−NR7 −を示す。R1 及びR4は、それぞれ水素原
子又は−CH3 を表す。R2 、R5 、R9 、R12及びR
16は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜1
2のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
又はアラルキレン基を表す。R3 、R7 及びR13は、水
素原子、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜
12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は
アラルキル基を表す。また、R6 及びR17は、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。R8 、R10及びR14は、水素原子又は−CH3 を
表す。R11及びR15は、それぞれ単結合又は置換基を有
していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロ
アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表
す。Y1 及びY2 は、それぞれ単結合又は−CO−を表
す。具体的には、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
アクリルアミド等を好適に使用することができる。
性高分子化合物は、下記式で表される活性イミド基を分
子内に有するものが好ましく、この高分子化合物として
は、1分子中に、下記式で表わされる活性イミド基と、
重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子
化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モ
ノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物が挙げられる。
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を
有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら
成分の配合重量比は50:50から5:95の範囲にあ
ることが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あることが特に好ましい。
合物が前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活
性イミド基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノ
マーとの共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付
与するモノマーは10モル%以上含むことが好ましく、
20モル%以上含むものがより好ましい。共重合成分が
10モル%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分とな
りやすく、現像ラチチュードの向上効果が十分達成され
ないことがある。
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記(1)〜(12)
に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限
定されるものではない。 (1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は
2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基
を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エス
テル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
物が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活
性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは
共重合体の場合、重量平均分子量が2,000以上、数
平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好まし
くは、重量平均分子量が5,000〜300,000
で、数平均分子量が800〜250,000であり、分
散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10
のものである。また、本発明においてアルカリ可溶性高
分子化合物がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均
分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が
200〜10,000のものが好ましい。
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記感光層全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性高分子化
合物の添加量が30重量%未満であると感光層の耐久性
が悪化し、また、99重量%を超えると感度、耐久性の
両面で好ましくない。
と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶液
への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性
低下作用が減少する化合物− 該(B)成分は、分子内に存在する水素結合性の官能基
の働きにより、(A)アルカリ可溶性高分子化合物との
相溶性が良好であり、均一な塗布液を形成し得るととも
に、(A)成分との相互作用により、該高分子化合物の
アルカリ可溶性を抑制する機能を有する化合物を指す。
また、この化合物は加熱によりこの溶解性低下作用が消
滅するが、(B)成分自体が加熱により分解する化合物
である場合、分解に充分なエネルギーがレーザの出力や
照射時間等の条件によって付与されないと、溶解性の抑
制作用の低下が不充分であり、感度が低下するおそれが
あるため、(B)成分の熱分解温度は150℃以上であ
ることが好ましい。
ては、スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム
塩、アミド化合物等、前記(A)成分と相互作用する化
合物が挙げられる。(B)成分は、先に述べた如く
(A)成分との相互作用を考慮して適宜選択されるべき
であり、具体的には、例えば、(A)成分としてノボラ
ック樹脂を単独で用いる場合、後に例示するシアニン染
料A等が好適に使用される。
常、99/1〜75/25の範囲であることが好まし
い。99/1よりも(B)成分が少ない場合、(A)成
分との相互作用が不充分となり、アルカリ可溶性を阻害
できず、良好な画像形成ができ難い。また、75/25
よりも(B)成分が多い場合、相互作用が過大であるた
め著しく感度が低下し、いずれも好ましくない。
0以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域に光
吸収域があり、この範囲の波長の光において、光/熱変
換能を発現するものを指し、具体的には、この波長域の
光を吸収し熱を発生する種々の顔料もしくは染料を用い
ることができる。前記顔料としては、市販の顔料及びカ
ラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」
(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ
技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔
料が利用できる。
顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔
料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その
他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶
性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレート
アゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔
料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソイ
ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範囲に
あることが更に好ましく、0.1〜1μmの範囲にある
ことが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満の
ときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好まし
くなく、また、10μmを越えると感光層の均一性の点
で好ましくない。前記顔料を分散する方法としては、イ
ンク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が
使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミ
ル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボール
ミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイド
ミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等
が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)に記載がある。
(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体
的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ
染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カル
ボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニ
ン染料等の染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、若しくは染料のうち赤外光、若しくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光若しくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、若しくは近赤外光を吸収する染料と
しては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭
59−84356号、特開昭59−202829号、特
開昭60−78787号等の公報に記載されているシア
ニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−
181690号、特開昭58−194595号等の公報
に記載されているメチン染料、特開昭58−11279
3号、特開昭58−224793号、特開昭59−48
187号、特開昭59−73996号、特開昭60−5
2940号、特開昭60−63744号等の公報に記載
されているナフトキノン染料、特開昭58−11279
2号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英
国特許434,875号公報に記載のシアニン染料、米
国特許5,380,635号公報に記載のジヒドロペリ
ミジンスクアリリウム染料等を挙げることができる。
6,938号公報に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用
いられ、また、米国特許第3,881,924号公報に
記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム
塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,32
7,169号)公報に記載のトリメチンチアピリリウム
塩、特開昭58−181051号、同58−22014
3号、同59−41363号、同59−84248号、
同59−84249号、同59−146063号、同5
9−146061号公報に記載されているピリリウム系
化合物、特開昭59−216146号公報に記載のシア
ニン色素、米国特許第4,283,475号公報に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物、Epolight III−178、Epo
light III−130、Epolight III−12
5、Epolight IV −62A等は特に好ましく用
いられる。
として米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料若しくは染料は、前
記感光層全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で前記感光性組成物中に添加するこ
とができる。顔料若しくは染料の添加量が0.01重量
%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越え
ると感光層の均一性が失われ、感光層の耐久性が悪くな
る。これらの染料若しくは顔料は他の成分と同一の層に
添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよ
い。別の層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分
解しない状態ではアルカリ可溶性高分子化合物の溶解性
を実質的に低下させる物質を含む層に隣接する層へ添加
するのが望ましい。また、染料若しくは顔料とアルカリ
可溶性高分子化合物は同一の層が好ましいが、別の層で
も構わない。
と相溶することにより該高分子化合物のアルカリ水溶液
への溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性
低下作用が減少する化合物と、(C)光を吸収して発熱
する化合物とに換えて、双方の特性を有する一つの化合
物(以下、「(B+C)成分」と称することがある)を
含有することもでき、その化合物としては、例えば、下
記一般式(Z)で表されるものが挙げられる。
ぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜
12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シク
ロアルキル基、アリール基を表し、R1 とR2 、R3 と
R4 はそれぞれ結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、R1 〜R4 としては、具体的には、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。また、これらの基が置換基を有する場合、その
置換基としては、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ
基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、カル
ボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられる。
R5 〜R10は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭
素数1〜12のアルキル基を表し、ここで、R5 〜R10
としては、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル
基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シ
クロヘキシル基等が挙げられる。また、これらの基が置
換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステル等が挙げられる。
ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜8のア
ルキル基を表し、ここで、R12は、R11又はR13と結合
して環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複
数のR12どうしが結合して環構造を形成していてもよ
い。R11〜R13としては、具体的には、塩素原子、シク
ロヘキシル基、R12どうしが結合してなるシクロペンチ
ル環、シクロヘキシル環等が挙げられる。また、これら
の基が置換基を有する場合、その置換基としては、ハロ
ゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スル
ホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スル
ホン酸エステル等が挙げられる。また、mは1〜8の整
数を表し、好ましくは1〜3である。R14〜R15は、そ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有して
もよい炭素数1〜8のアルキル基を表し、R14はR15と
結合して環構造を形成していてもよく、m>2の場合
は、複数のR14どうしが結合して環構造を形成していて
もよい。R14〜R15しては、具体的には、塩素原子、シ
クロヘキシル基、R14どうしが結合してなるシクロペン
チル環、シクロヘキシル環等が挙げられる。また、これ
らの基が置換基を有する場合、その置換基としては、ハ
ロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、ス
ルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、ス
ルホン酸エステル等が挙げられる。また、mは1〜8の
整数を表し、好ましくは1〜3である。
オンを表す。アニオンの具体例としては、過塩素酸、四
フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸
が好ましく用いられる。
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明は
この具体例に制限されるものではない。
発生する性質(即ち、(C)成分の特性)を有し、しか
も700〜1200nmの赤外域に吸収域をもち、更に
アルカリ可溶性高分子化合物との相溶性も良好であり、
塩基性染料であり、分子内にアンモニウム基、イミニウ
ム基等のアルカリ可溶性高分子化合物と相互作用する基
を有する(即ち、(B)成分の特性を有する)ために該
高分子化合物と相互作用して、そのアルカリ可溶性を制
御することができ、本発明に好適に用いることができ
る。
に換えて、前記のシアニン染料の如く双方の特性を兼ね
備える化合物(B+C)成分を用いる場合、この化合物
の添加量は、(A)成分に対して、99/1〜70/3
0の範囲が感度の観点から好ましく、99/1〜75/
25の範囲がより好ましい。
て、種々の添加剤を添加することができる。例えば、感
度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール
類、有機酸類、スルホニル化合物類を併用することもで
きる。前記環状酸無水物としては、米国特許第4,11
5,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸等が使用できる。前記フ
ェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフ
ェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロ
キシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、
4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、
4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,
3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタン等が挙げ
られる。前記有機酸類としては、特開昭60−8894
2号、特開平2−96755号公報等に記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類等が
あり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチ
ル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、
リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフ
タル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメト
キシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘ
キセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン
酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸、ビスヒドロキ
シフェニルスルホン、メチルフェニルスルホン、ジフェ
ニルジスルホン等が挙げられる。上記の環状酸無水物、
フェノール類、有機酸類、及びスルホニル化合物類の前
記感光性組成物固形分中に占める割合は、0.05〜2
0重量%が好ましく、0.1〜15重量%がより好まし
く、0.1〜10重量%が特に好ましい。
には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特
開昭62−251740号公報や特開平3−20851
4号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、
特開昭59−121044号公報、特開平4−1314
9号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加
することができる。前記非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等が挙げられる。前記両性界面活性剤の具体例と
しては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキ
ルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N
−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリ
ニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン
型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)
製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性
界面活性剤の前記感光性組成物固形分中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、0.1〜5重量
%がより好ましい。
露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤
や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができ
る。前記焼き出し剤としては、露光による加熱によって
酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有
機染料の組合せが代表として挙げられる。具体的には、
特開昭50−36209号、同53−8128号の各公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特
開昭53−36223号、同54−74728号、同6
0−3626号、同61−143748号、同61−1
51644号及び同63−58440号の各公報に記載
されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の
組合せが挙げられる。かかるトリハロメチル化合物とし
ては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とが
あり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像
を与える。
有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成
性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩
基性染料が挙げられる。具体的にはオイルイエロー#1
01、オイルイエロー#103、オイルピンク#31
2、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイル
ブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラック
BS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学
工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタル
バイオレット(C.I.42555)、メチルバイオレ
ット(C.I.42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(C.I.145170B)、マラカイトグ
リーン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.
I.52015)等を挙げることができる。また、特開
昭62−293247号公報、及び特開平5−3133
59号公報に記載されている染料は特に好ましい。これ
らの染料は、前記感光性組成物固形分に対し、0.01
〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で前
記感光性組成物中に添加することができる。
は必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤
が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレン
グリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、
フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオ
クチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン
酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、
アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー
等が用いられる。更に、本発明に係る前記感光性組成物
中には必要に応じ、キノンジアジド類、ジアゾ化合物等
の光により分解する化合物を添加してもよい。これらの
化合物の添加量は、前記感光性組成物固形分に対し、1
〜5重量%が好ましい。
して、適当な支持体上に塗布することにより製造するこ
とができる。ここで使用する溶媒としては、エチレンジ
クロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ
−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メ
チル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることが
できるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒
は単独或いは混合して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上
の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感光性
印刷版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m 2
が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報
に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加する
ことができる。好ましい添加量は、前記感光層全固形分
に対して0.01〜1重量%、更に好ましくは0.05
〜0.5重量%である。
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィル
ム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のご
とき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しく
はプラスチックフィルム等が含まれる。
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜
0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmであ
る。
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が
行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学
的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができ
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸
電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、
特開昭54−63902号公報に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。この
様に粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アル
カリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や
耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができ
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使
用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸
或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃
度は電解質の種類によって適宜決められる。
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30重
量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃で
のpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜80
℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。
アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ス
トロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのよう
な硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族
金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、
第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用する
ことができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.0
1〜10重量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜
5.0重量%である。珪酸塩処理により、アルミニウム
板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、イ
ンクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上す
る。
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および
特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属
化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化
物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆
層のうち、Si(OCH3 )4 、Si(OC
2 H5 )4 、Si(OC3 H7 )4 、Si(OC
4 H9 )4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像
性に優れており特に好ましい。
要に応じて支持体上にオーバーコート層を設けることが
できる。
版を作成することができる。この平版印刷用原版は、波
長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザにより画像露光される。本発明
においては、レーザ照射後すぐに現像処理を行っても良
いが、レーザ照射工程と現像工程の間に加熱処理を行う
ことが好ましい。加熱処理の条件は、80℃〜150℃
の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。この加
熱処理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネ
ルギーを減少させることができる。
の平版印刷版用原版はアルカリ性水溶液にて現像され
る。本発明の平版印刷版用原版に使用される現像液およ
び補充液としては従来より知られているアルカリ剤水溶
液が使用できる。この現像液および補充液に用いられる
アルカリ剤としは、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウ
ム、第3リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、
第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウ
ム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸
化カリウムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物M
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるた
めであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特
公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ
金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
は、所望により現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液
(補充液)を現像液に補充することができる。これによ
り、アルカリ現像処理液のアルカリ濃度を高くすること
ができるため、長時間現像タンク中の現像液を交換する
事なく、多量の平版印刷用版材を処理することが可能と
なる。具体的には、前記アルカリ剤を前記アルカリ現像
処理液が強アルカリ性、例えば、pHが12.5〜1
3.5になるように、好ましくはpHが12.8〜1
3.3になるように、前記アルカリ現像処理液に添加す
ればよい。
カリ現像処理液に性界面活性剤や有機溶剤を含有させる
ことができる。添加可能な好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられるが、特に、ノニオン性界面活性剤
が好ましい。アルカリ現像処理液にノニオン性界面活性
剤を含有させれば、画像部のアルカリ現像処理液に対す
る耐溶解性が維持されるため、上記のようなアルカリ強
度の高い水溶液を補充した現像液で現像処理した場合で
あっても、安定に現像することが可能となる。これは、
アルカリ可溶性高分子化合物とノニオン性界面活性剤と
の相互作用に起因するものと考えられる。また、上記相
互作用は、ノニオン性界面活性剤がエチレンオキシド鎖
又はプロピレンオキシド鎖を含んでいる場合に強く働
き、エチレンオキシド鎖を含んでいる場合に特に強く働
く。これは、アルカリ可溶性基、特にフェノール性水酸
基とエチレンオキシド鎖が強く相互作用するためである
と考えられる。
制限はなく、従来公知のものであれば、いずれも用いる
ことができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテ
ル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキ
ルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソル
ビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂
肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸
エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシド等が挙げられる。
カリ現像処理液に対する添加量は、好ましくは、0.0
01〜5重量%であり、より好ましくは、0.01〜3
重量%であり、特に好ましくは、0.1〜3重量%であ
る。前記添加量が、0.001重量%より少ない場合に
は、ノニオン性界面活性剤が有効に作用しなくなること
があり、5重量%よりも多い場合には、相互作用が強す
ぎ、現像されなくなることがある。また、これらのノニ
オン性界面活性剤の重量平均分子量は、300〜50,
000が好ましく、500〜5,000が特に好まし
い。これらのノニオン性界面活性剤は単独で用いてもよ
いが、2種以上を併用してもよい。
現像カスの分散、感光性平版印刷版用原版の画像部の親
インキ性を高める等の目的で、所望により、ハイドロキ
ノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸等の無機酸の
ナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、現像安定剤、有
機カルボン酸、消泡剤、ノニオン性界面活性剤以外の界
面活性剤、硬水軟化剤、有機溶剤、更に、公知の防腐
剤、着色剤、増粘剤、消泡剤等をその他の成分として前
記アルカリ現像処理液に添加することができる。上記現
像液および補充液を用いて現像処理された印刷版は、水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明
の平版印刷版用原版を使用する場合の後処理としては、
これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スクィージ、あるいは、スクィージローラーで、その塗
布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布された平
版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロ
セッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売さ
れているバーニングプロセッサー:BP−1300)な
どで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間
は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180
〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。バー
ニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水
洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こ
すことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整
面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感
脂化処理を省略することができる。この様な処理によっ
て得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけら
れ、多数枚の印刷に用いられる。
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ口
フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混
合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.
4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートによ
り滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で
30分間混合物を攪拌した。
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物に更にN−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後更に65℃で2時間得
られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40g
を混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リット
ルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌
した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することに
より15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィーによりこのアルカリ可溶性高分子化合
物の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したと
ころ53,000であった。
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に2
0%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立
て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次にこ
の板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2
で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、
乾燥して基板〔A〕を作製した。基板[A]を珪酸ナト
リウム 2重量%水溶液で25℃で15秒処理し、水洗
して基板[B]を作製した。上述の様に作製された基板
[B]上に、下記の本発明にかかる重合体(表1の重合
体)を含む溶液を塗布した後80℃で15秒間乾燥し、
中間層を設けた。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であっ
た。
の感光層形成用塗布液1を塗布量が1.8g/m2 にな
るよう塗布し、平版印刷版用原版1を得た(実施例1、
2)。同様にして、作製された基板上に以下の組成の感
光層形成用塗布液2を塗布量が1.8g/m2 になるよ
う塗布し、平版印刷版用原版2を得た(実施例3、
4)。
現像処理液を以下の処方に従って調製した。 ・D−ソルビトール 5.1 重量部 ・水酸化ナトリウム 1.1 重量部 ・トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物(30モル) 0.03重量部 ・水 93.8 重量部
ていない基板を作製し、該基板上に感光層形成用塗布液
1及び2を塗布量が1.8g/m2 になるよう塗布し、
平版印刷版用原版を得た(比較例1及び2)。更に比較
のため、基板[B]上に中間層を設けていない基板を作
製し、感光層形成用塗布液1を塗布量が1.8g/m2
になるよう塗布し、平版印刷版用原版を得た(比較例
3)。更に、基板[B]上に特開平10−69092号
公報に記載の重合体である、以下に示すP−1を含有す
る溶液を塗布した後80℃で15秒間乾燥し、中間層を
設けた。乾燥後の被覆量は、1.5mg/m2であった。そ
の後、この基板上に感光層形成塗布液1を塗布量が1.
8g/m2 になるよう塗布し、平版印刷版用原版を得た
(比較例4)。
mW、波長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )
の半導体レーザを用いて主走査速度5m/秒にて露光し
た後、前記にように調製した現像液及びリンス液FR−
3(1:7)を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム
(株)製:「PSプロセッサー900VR」)を用いて
現像し、以下の評価を行った。結果を表2に示す。
膜の状態を目視で観察し、以下の基準により評価した。 ○:膜が全く残っていない場合 ×:露光部分に部分的に残膜が残っている場合
小森印刷機(株)製印刷機リスロンに装着し、これを用
いて印刷した際に、どれだけの枚数を正常に印刷できる
かに基づいて評価した。正常に印刷できた枚数が多いほ
ど、耐刷性が良好であることを示す。
ハイデル製印刷機SOR−Mに装着し、これを用いて2
000枚印刷した後、印刷版を印刷機から外し、60分
間放置し、その後再度印刷を開始して非画像部における
インキの払われかたを観察し、以下の基準に従って評価
した。 ○:印刷の再開後、非画像部に付着したインキが直ぐに
払われた場合 △:インキが払われるまでにやや時間がかかった場合 ×:インキが払われるまでにかなり時間がかかった場合
版は、非画像部のアルカリ現像液に対する溶解性が高く
て、放置汚れの発生も無く、耐刷性能にも優れているこ
とが分かる。一方、中間層を設けていない比較例1、2
の平版印刷版原版は耐刷性に優れるが、非画像の溶解性
や放置汚れに劣り、珪酸塩処理した基板上に直接感光層
を設けた比較例3は耐刷性に劣ることがわかった。ま
た、特開平10−69092号公報に記載の重合体によ
る中間層を設けた比較例4は耐刷性に若干の改良は見ら
れるものの、放置汚れに問題があることがわかった。
装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル
情報から直接製版可能であり、耐刷性能に優れ、かつ、
汚れの発生のない平版印刷版用原版を提供することがで
きる。
Claims (4)
- 【請求項1】 親水化処理が施された支持体上に、 少なくとも、酸基を有するモノマーと、オニウム基を有
するモノマーと、を有する重合体を含有する中間層と、 少なくとも、(A)アルカリ可溶性高分子化合物、
(B)該アルカリ可溶性高分子化合物と相溶することに
より該高分子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下
させるとともに、加熱により該溶解性低下作用が減少す
る化合物、及び(C)光を吸収して発熱する化合物を含
有する赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物とからなる感
光層と、が順次設けられたことを特徴とする平版印刷版
用原版。 - 【請求項2】 中間層に含有される重合体が、高分子化
合物であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷
版用原版。 - 【請求項3】 中間層に含有される重合体が、ラジカル
重合時に開始剤と連鎖移動剤とを併用することにより、
その数平均分子量(Mn)が300〜5,000の範囲
に調整されたアルカリ可溶性の重合体であることを特徴
とする請求項1に記載の平版印刷版用原版。 - 【請求項4】 親水化処理が珪酸塩処理であることを特
徴とする請求項1に記載の平版印刷版用原版。
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