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Hintergrund der Erfindung
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Erfindungsgebiet
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Die vorliegende Erfindung betrifft
ein photoempfindliches (lichtempfindliches) bildgebendes (bilderzeugendes)
Material, das man als Offsetdruckmaster verwenden kann. Insbesondere
betrifft die vorliegende Erfindung ein photoempfindliche bildgebendes
Material vom positiven Typ zur Verwendung mit einem Infrarotlaser,
das sich für
die sogenannte direkte Plattenerzeugung eignet und das in der Lage
ist, unter Verwendung eines Infrarotlasers direkt eine Druckplatte
herzustellen, auf der Basis von digitalen Signalen, die ein Computer oder
dgl. erzeugt.
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Beschreibung
verwandter Techniken
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Vor kurzem haben Systeme zur direkten
Plattenerzeugung aus digitalen Daten von Computern öffentliche
Aufmerksamkeit erregt und man hat verschiedene Techniken entwickelt.
Als Systeme zur direkten Plattenerzeugung aus digitalen Daten von
Computern kennt man (1) ein Elektrophotographie-verwendendes
System, (2) ein Photopolymerisation-verwendendes System,
worin man mit einem Ar-Laser entwickelt und danach erwärmt, (3)
ein System, das durch Laminieren einer Silbersalzschicht auf ein
photoempfindliches Harz erzeugt wird, (4) ein System vom
Silbermastertyp, (5) ein System, das durch Aufbrechen einer
Siliconkautschukschicht über
einen Entladungsbruch oder einen Laserstrahl erzeugt wird, und dgl.
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Im System (1), das ein elektrophotographisches
Verfahren einsetzt, sind jedoch die Bilderzeugungsverfahren, wie
Elektrifizierung, Belichtung, Entwicklung und dgl. kompliziert und
daher wird auch die Vorrichtung kompliziert und groß. Im Verfahren
(2) wird es schwierig, die Platte in einem erleuchteten
Raum zu handhaben, da ein Nacherwärmungsschritt erforderlich
ist und eine hochempfindliche Druckplatte eingesetzt wird. In den
Systemen (3) und (4) weisen die Verfahren Nachteile
wie Kompliziertheit Verfahren und hohe Kosten auf, da ein Silbersalz
darin verwendet wird.
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Das Verfahren, welches System (5)
einsetzt, ist ein Verfahren, das eine vergleichsweise hohe Leistungsfähigkeit
aufweist, aber das Problem des Entfernens des verbleibenden Siliconrückstands
auf der Druckplatte mit sich bringt.
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Andererseits hat die Lasertechnologie
in den letzten Jahren bemerkenswerte Fortschritte gemacht und insbesondere
Hochleistungslaser, Feststofflaser geringer Größe und Halbleiterlaser, welche
einen Lichtemissionsbereich vom nahen Infrarotbereich zum Infrarotbereich
aufweisen, sind leicht verfügbar
und sehr nützlich als
Lichtquelle für
eine Belichtung, wenn man eine direkte Plattenerzeugung über die
Verwendung digitaler Daten durchführt.
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Als herkömmlich bekanntes Material für eine positive
Flachdruckplatte für
einen Infrarotlaser, welches man zur Direktplattenerzeugung verwendet,
kennt man ein in einer wäßrigen Alkalilösung lösliches
Harz mit einer phenolischen Hydroxy-Gruppe, wie Novolakharz, etc.
Beispielsweise schlägt
die japanische Offenlegungsschrift JP-A-7-285275, welche US-5 840 567 entspricht,
ein bildgebendes Material vor, worin eine Verbindung, die zwecks
Wärmeerzeugung
bei der Absorption von Licht Wärme
erzeugt, und verschiedene Oniumsalze und Chinondiazid-Verbindungen
zu dem in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Harz mit einer phenolischen Hydroxy-Gruppe, beispielsweise einem Novolakharz
etc. gegeben wurden. Diese bildgebenden Materialien erzeugen ein
Bild dadurch, daß der
Bildbereich nicht entfernt werden kann, da das Oniumsalz und die Chinondiazid-Verbindung
als Auflösungsinhibitor
für das
in einer wäßrigen Alkalilösung lösliche Harz
wirken, und der Nicht-Bildbereich entfernt werden kann, da der Auflösungsinhibitor
durch Wärme
zersetzt wird und er keine Auflösungsinhibierungsfähigkeit
mehr aufweist.
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Es gab jedoch den Nachteil, daß bei solch
einem bildgebenden Material der Behandlungsort auf solche unter
einer gelben Lampe begrenzt ist, da die Oniumsalze und Chinondiazid-Verbindungen einen
Lichtabsorptionsbereich im sichtbaren Strahlungsbereich (350 bis
500 nm) aufweisen. Ferner ist die Entwicklungseigenschaft bei der
Verwendung einer Lösung
mit einer geringen Entwicklerfähigkeit,
d. h. die Entwicklungseigenschaft bei Unterbedingungen unzureichend;
beispielsweise verringert sich die Zersetzungsrate des wärmezersetzbaren
Materials wenn man die Belichtung mit einem Laser geringer Energie
durchführt.
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Darüber hinaus gab es dahingehend
ein Problem, daß die
Oniumsalze und Chinondiazid-Verbindungen nicht immer eine gute Kompatibilität mit dem
in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Harz und der bei der Lichtabsorption wärmeerzeugenden Verbindung aufweisen;
daher ist es schwierig, eine homogene Beschichtungslösung herzustellen
und ein homogenes und stabiles bildgebendes Material zu erhalten.
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Die japanische Patentveröffentlichung
JP-B-46-27919 offenbart eine Ausführungsform zur Bilderzeugung,
bei der ein Novolakharz ohne eine photosensitive Verbindung verwendet
wird, wobei es jedoch dahingehend Probleme gibt, daß das Novolakharz
selbst eine geringe Lösungsmittelbeständigkeit zeigt
und daher die Abriebbeständigkeit
der Platte bei der Verwendung eines Reinigers verringert wird, und
man das Drucken nicht unter Einsatz einer UV-Tinte durchführen kann.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Dementsprechend ist es eine Aufgabe
der vorliegenden Erfindung, die schlechte Bilderzeugungseigenschaft
einer Aufzeichnungsschicht zu verbessern, die eine in einer wäßrigen Alkalilösung lösliche Polymer-Verbindung
einsetzt, und ein positives photoempfindliches bildgebendes Material
für einen
Infrarotlaser bereitzustellen, das man für die sogenannte direkte Plattenerzeugung
verwendet und das zur direkten Plattenerzeugung mit einem Infrarotlaser
auf der Basis von in einem Computer oder dgl. erzeugten digitalen
Signalen befähigt
ist. Dieses hat die folgenden Eigenschaftenr Das positive photoempfindliche
bildgebende Material ist frei von irgendwelchen Beschränkungen
hinsichtlich des Orts der Handhabung und kann in herkömmlichen Entwicklungsvorrichtungen
und herkömmlichen
Druckvorrichtungen verwendet werden und zeigt eine ausgezeichnete
Plattenabriebbeständigkeit
und eine stabile Empfindlichkeit gegenüber der Konzentration einer
Entwicklerlösung,
d.h. einen guten Entwicklungsspielraum.
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Die vorliegenden Erfinder haben intensive
Studien durchgeführt.
Im Ergebnis haben sie gefunden, daß es möglich ist, ein photoempfindliches
bildgebendes Material mit einer in wäßrigen Alkali löslichen
Polymer-Verbindung zu erhalten, indem man einen spezifischen Schichtaufbau
erzeugt, bei dem man das bildgebende Material unter einer weißen Lampe
verwenden kann, wobei dieses einen bemerkenswert verbesserten Entwicklungsspielraum
zeigt. Auf diese Weise wurde das erfindungsgemäße photoempfindliche bildgebende Material
zur Verwendung mit einem Infrarotlaser vollendet.
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Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung
ist es, ein photoempfindliches bildgebendes Material vom positiven
Typ für
die Verwendung mit einem Infrarotlaser bereitzustellen, das ein
Substrat, eine Schicht (A) und eine Schicht (B) umfaßt, worin
die
Schicht (A) nicht weniger als 50 Gew.-% eines Copolymers enthält, welches
als Copolymerisationskomponente nicht weniger als 10 mol-% mindestens
eines der folgenden Monomere (a-1) bis (a-3) enthält:
(a-1)
ein Monomer mit einer Sulfonamid-Gruppe im Molekül, worin mindestens ein Wasserstoffatom
an ein Stickstoffatom gebunden ist, (a-2) ein Monomer mit einer
aktiven Imino-Gruppe der folgenden allgemeinen Formel (2) im Molekül:
und (a-3) ein Monomer, ausgewählt aus
Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat und Hydroxystyrol, die
jeweils eine phenolische Hydroxy-Gruppe aufweisen; und
eine
Schicht (B) nicht weniger als 50 Gew.% eines in wäßriger Alkalilösung löslichen
Harzes mit einer phenolischen Hydroxy-Gruppe enthält, und die Schicht (A) und
die Schicht (B) auf dem Substrat in dieser Reihenfolge laminiert
sind, worin mindestens die besagte Schicht (B) mindestens eine Verbindung
enthält,
die durch Lichtabsorption Wärme
erzeugt.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 ist
ein schematisches Diagramm, welches eine Ausführungsform einer kontinuierlichen
Beschichtungs/Trocknungsvorrichtung zeigt, welche man bei der Herstellung
des erfindungsgemäßen bildgebenden
Materials verwendet.
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Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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Nachstehend wird im Detail das photoempfindliche
bildgebende Material zur Verwendung mit einem Infrarotlaser als
Aufgabe der vorliegenden Erfindung beschrieben.
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Das erfindungsgemäße photoempfindliche bildgebende
Material für
einen Infrarotlaser hat eine photoempfindliche Schicht mit einer
Doppelschichtstruktur. Daher kann das photoempfindliche bildgebende
Material eine Zwischenschicht aufweisen, auf der nahe am Substrat
liegenden Seite, welche eine überlegene
Plattenabriebsbeständigkeit
und Lösungsmittelbeständigkeit
aufweist, da die Zwischenschicht nicht weniger als 50 Gew.-% eines
Copolymers enthält,
welches als Copolymerisationskomponente nicht weniger als 10 mol-% mindestens
eines der Monomere (a-1) bis (a-3) enthält; (a-1) ein Monomer mit einer
Sulfonamid-Gruppe im Molekül,
worin mindestens ein Wasserstoffatom an ein Stickstoffatom gebunden
ist (im folgenden geeigneterweise als Monomer mit einer Sulfonamid-Gruppe
bezeichnet), (a-2) ein Monomer mit einer aktiven Imino-Gruppe im
Molekül,
welche durch die allgemeine Formel (1) dargestellt wird (im folgenden
geeigneterweise als Monomer mit einer Imino-Gruppe bezeichnet) und
(a-3) ein Monomer, das man aus Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat,
Methacrylat und Hydroxystyrol, die jeweils eine phenolische Hydroxy-Gruppe
aufweisen auswählt
(im folgenden geeigneterweise als Monomer mit einer phenolischen
Hydroxy-Gruppe bezeichnet).
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Ferner wird eine Schicht, die nicht
weniger als 50 Gew.-% eines in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Harzes mit einer phenolischen Hydroxy-Gruppe und mindestens eine
Verbindung enthält,
die bei der Lichtabsorption Wärme
erzeugt, auf der zuvor beschriebenen Zwischenschicht erzeugt. Die
Verwendung des obigen in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Harzes, welches ein Novolakharz als ein Vertreter sein kann, kann
einen breiten Entwicklungsspielraum verwirklichen, da das Harz eine
starke Wechselwirkung mit einer Verbindung, die bei der Absorption
von Licht Wärme
erzeugt, eine hohe Empfindlichkeit bei der bilderzeugenden Belichtung
und einen stark ausgeprägten
entwicklungsinhibierenden Effekt in den nicht-belichteten Bereichen
zeigt.
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Für
Bereiche in der Nähe
des Substrats besteht die Furcht, daß die Entwicklung nicht wirksam
durchgeführt
wird, da die Wärme,
die von der Verbindung erzeugt wird, welche bei der Lichtabsorption
Wärme erzeugt,
auf das Substrat, welches thermische Leitfähigkeit aufweist, abgeführt wird,
bevor die Temperatur der belichteten Bereiche der photoempfindlichen
Schicht sich auf einem Wärmebereich
erhöht,
der ausreicht, die Reaktion zu verursachen. Im erfindungsgemäßen bildgebenden
Material sind die Empfindlichkeit und der Entwicklungsspielraum
bemerkenswert verbessert, da die Schicht (A), welche der zuvor beschriebenen
Zwischenschicht entspricht, zwischen der Schicht (B) und dem Substrat
vorliegt, so daß die
von der Verbindung, welche bei der Lichtabsorption Wärme erzeugt,
erzeugte Wärme
in der Schicht (B) nicht auf das Substrat abgeführt wird und man die Wärme effizient
für die
Entwicklung nutzen kann.
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Erfindungsgemäß ermöglicht die Verwendung der photoempfindlichen
Schicht mit einer Doppelschichtstruktur und die Wechselwirkung zwischen
einem in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Harz und einer Verbindung, die bei der Lichtabsorption Wärme erzeugt,
in der Schicht (B) die Erzeugung eines ausgezeichneten Bildes. Folglich
sind Verbindungen wie Oniumsalze, Chinondiazid-Verbindungen oder
dgl., die einen lichtabsorbierenden Bereich (350–500 nm) im sichtbaren Bereich
aufweisen, nicht erforderlich. Daher kann man das erfindungsgemäße photoempfindliche
bildgebende Material unter einer weißen Lampe verwenden, und es
gibt keinen Nachteil dahingehend, daß der Ort der Handhabung auf
solche unter einer gelben Lampe beschränkt ist. Da die Bilderzeugung
ohne die thermische Zersetzungsreaktion unter Verwendung solcher
Verbindungen, wie Opiumsalze, Chinondiazid-Verbindungen oder dgl.
durchgeführt
werden kann, wird die Wärme
effizient für
die Bilderzeugung genutzt und der Entwicklungsspielraum verbessert
sich bemerkenswert.
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In der vorliegenden Erfindung enthält die zur
Bildung der Schicht (A) verwendete in einer wäßrigen Alkalilösung lösliche Polymer-Verbindung
nicht weniger als 50 Gew.-% eines Copolymers (im folgenden als "spezifisches Copolymer" bezeichnet), das
als Copolymerisationskomponente nicht weniger als 10 mol-% von zumindest
einem der Monomere (a-1) bis (a-3), (a-1) einem Monomer mit einer
Sulfonamid-Gruppe, (a-2) einem Monomer mit einer aktiven Imino-Gruppe
und (a-3) einem Monomer mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe enthält.
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(a-1) Das Monomer mit einer Sulfonamid-Gruppe
kann ein Monomer einer niedermolekulargewichtigen Verbindung beinhalten,
welche im Molekül
eine oder mehrere Sulfonamid-Gruppen,
worin mindestens ein Wasserstoffatom an ein Stickstoffatom gebunden
ist, und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Bindungen
aufweist.
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Unter diesen ist eine niedermolekulargewichtige
Verbindung mit einer Acryloyl-Gruppe, einer Allyl-Gruppe oder Vinyloxy-Gruppe und einer
substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonyl-Gruppe oder einer
substituierten Iminosulfonyl-Gruppe
bevorzugt.
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Beispiele dieser Verbindungen umfassen
Verbindungen der folgenden allgemeinen Formel (IV) bis (VIII).
worin
x
1 und x
2 jeweils
-O- oder -NR
7- bedeuten. R
1 und
R
4 bedeuten jeweils ein Wasserstoffatom
oder -CH
3. R
2, R
5, R
9, R
12 und
R
16 bedeuten jeweils eine Rlkylen-Gruppe,
eine Cycloalkylen-Gruppe, eine Arylen-Gruppe oder eine Aralkylen-Gruppe mit 1 bis
12 Kohlenstoffatomen, die jeweils einen Substituenten aufweisen
können. R
3, R
7 und R
13 bedeuten ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-Gruppe,
eine Cycloalkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe oder eine Aralkyl-Gruppe,
die jeweils 1 bis 12 Kohlenstoffatome aufweist und einen Substituenten
aufweisen kann. R
6 und R
17 bedeuten
eine Alkyl-Gruppe, eine Cycloalkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe oder
eine Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die jeweils
einen Substituenten aufweisen kann. R
8,
R
10 und R
14 bedeuten
ein Wasserstoffatom oder -CH
3. R
11 und R
15 bedeuten
eine Alkylen-Gruppe,
eine Cycloalkylen-Gruppe, eine Arylen-Gruppe oder eine Aralkylen-Gruppe
mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die jeweils eine Einzelbindung oder
einen Substituenten aufweisen kann. Y
1 und
Y
2 bedeuten jeweils eine Einzelbindung oder
-CO-.
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Speziell kann man m-Aminosulfonylphenylmethacrylat,
N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacryamid, N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid oder dgl.
geeigneterweise für
(a-1) verwenden.
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(a-2) Das Monomer mit einer aktiven
Imino-Gruppe kann ein Monomer beinhalten, das aus einer niedermolekulargewichtigen
Verbindung gebildet wird, die im Molekül eine oder mehrere aktive
Imino-Gruppen der zuvor angegebenen allgemeinen Formel (I) und eine
oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Bindungen aufweist.
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Speziell umfassen konkrete Beispiele
die Verbindungen N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid, N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid
oder dgl. und können
geeigneterweise verwendet werden.
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(a-3) Das Monomer mit einer phenolischen
Hydroxy-Gruppe kann ein Monomer des Acrylamids, Methacrylamids,
Acrylats, Methacrylats oder Hydroxystyrols umfassen, die jeweils
mindestens eine phenolische Hydroxy-Gruppe aufweisen.
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Speziell umfassen konkrete Beispiele
dieser Verbindungen N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat,
m-Methoxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol,
p-Hydroxystyrol oder dgl. und können
geeigneterweise eingesetzt werden.
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Es ist notwendig, daß das in
einer wäßrigen Alkalilösung lösliche Copolymer
nicht weniger als 10 mol-% mindestens eines Monomers der zuvor beschriebenen
(a-1) bis (a-3) als Copolymerisationskomponente enthält, wobei
das Copolymer das photoempfindliche bildgebende Material der vorliegenden
Erfindung ist und zum Erzeugen der an das Substrat angrenzende Schicht
(A) verwendet wird, und jene, die nicht weniger als 20 mol-% enthalten,
sind stärker
bevorzugt. Wenn die Copolymerisationskomponente weniger als 10%
beträgt,
verringert sich die Empfindlichkeit, da die Löslichkeit des in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Copolymers gegenüber
einer alkalischen Entwicklerlösung
selbst nach der Belichtung gering bleibt. Daher erhält man nur
einen unzureichenden Effekt hinsichtlich einer verbesserten Plattenabriebbeständigkeit
und Empfindlichkeit als Vorteil, wenn man diese Copolymerisationskomponente
verwendet.
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Dieses Copolymer kann andere Copolymerisationskomponenten
als das Monomer (a-1) bis Monomer (a-3) mit der zuvor angeführten phenolischen
Hydroxyl-Gruppe umfassen.
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Als andere Copolymerisationskomponenten,
kann man beispielsweise die im folgenden angegebenen Monomere (1)
bis (12) verwenden;
- (1) Acrylate oder
Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxy-Gruppe, wie 2-Hydroxyethylacrylat,
2-Hydroxyethylmethacrylat oder dgl.
- (2) Alkylacrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat,
Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat,
2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat, N-Dimethylaminoethylacrylat
oder dgl.
- (3) Alkylmethacrylate wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat,
Glycidylmethacrylat, N-Dimethylaminoethylmethacrylat und dgl.
- (4) Acrylamid oder Methacrylamid, wie Acrylamid, Methacrylamid,
N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid,
N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid,
N-Ethyl-N-phenylacrylamid oder dgl.
- (5) Vinylether wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether,
Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether,
Phenylvinylether oder dgl.
- (6) Vinylester wie Vinylacetat, Vinylchloroacetat, Vinylbutylat,
Vinylbenzoat oder dgl.
- (7) Styrole wie Styrol, α-Methylstyrol,
Methylstyrol, Chlormethylstyrol oder dgl.
- (8) Vinylketone wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon,
Phenylvinylketon oder dgl.
- (9) Olefine wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien, Isopren
oder dgl.
- (10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylonitril,
Methacrylonitril oder dgl.
- (11) Ungesättigte
Imide, wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid,
N-Propionylmethacrylamid, N-(p-Chlorobenzoyl)methacrylamid oder
dgl.
- (12) Ungesättigte
Carbonsäuren,
wie Acrylat, Methacrylat, Maleinanhydrid, Itaconsäure, ein
Monomer der folgenden allgemeinen Formeln (IX) bis (XI).
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R1, R3 und R5 bedeuten
Wasserstoff oder eine Methyl-Gruppe; R2,
R4, R6 und R7 bedeuten jeweils eine Alkylen-Gruppe, eine
Cycloalkylen-Gruppe, eine Arylen-Gruppe oder eine Aralkylen-Gruppe mit 1 bis
12 Kohlenstoffatomen, die jeweils einen Substituenten aufweisen
können;
x bedeutet -O- oder -NR8-; und Y bedeutet eine
Einzelbindung oder -CO-. R8 bedeutet ein
Wasserstoffatom, eine Alkyl-Gruppe, eine Cycloalkyl-Gruppe, eine
Aryl-Gruppe oder eine Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen,
die einen Substituenten aufweisen können.
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Spezielle Beispiele des obigen Monomers
umfassen N-(4-Carboxyphenyl)-methacrylamid, N-(2-Carboxyphenyl)acrylamid,
N-(4-Chlor-2-carboxyphenyl)-methacrylamid, 4-Carboxyphenylethylmethacrylat, 4-Carboxystyrol,
2-Carboxyphenyloxyethylacrylat oder dgl.
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Als erfindungsgemäß in der Schicht (A) enthaltenes
Copolymer sind jene bevorzugt, die ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht
von nicht weniger als 2000 und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht
von nicht weniger als 500 aufweisen. Stärker bevorzugt haben diese
Copolymere ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht von 5000 bis
300 000 und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht von 800 bis 250
000 und der Grad der molekularen Dispersion (gewichtsgemitteltes
Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) beträgt von 1,1
bis 10.
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Diese in der Schicht (A) enthaltene
Copolymere können
einzeln oder in der Kombination der obigen Monomere verwendet werden,
und werden in einer Menge von nicht weniger als 50%, stärker bevorzugt
nicht weniger als 55%, bezogen auf den Feststoffgehalt des gesamten
die Schicht (A) bildenden Materials eingesetzt. Beträgt die Menge
dieses Copolymers weniger als 50%, verschlechtert sich die Plattenabriebbeständigkeit
des bildgebenden Materials.
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Abgesehen von den zuvor beschriebenen
Copolymeren kann eine Polymerverbindung mit einer phenolischen Hydroxy-Gruppe,
wie ein Phenolharz vom Resoltyp, ein Phenolharz vom Novolaktyp oder
dgl, in der Schicht (A) enthalten sein.
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Beispiele hierfür umfassen ein Novolakharz
und Pyrogallolacetonharz, wie ein Phenolformaldehydharz, m-Cresolformaldehydharz,
p-Cresolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz, m-/p-Mischungs-Cresolformaldehydharz,
Phenol/Cresol (irgendeines unter m-, p-, o- oder m-/p-, m-/o-, o-/p-Mischungen
kann eingesetzt werden)-Mischungs-Formaldehydharz oder dgl.
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Bevorzugt sind Phenolharze vom Resoltyp,
Phenol/Cresol-Mischungs
(irgendeines unter m-, p-, o- oder m-/p-, m-/o-, o-/p-Mischungen
kann eingesetzt werden)-Formaldehydharze, und die in der japanischen Offenlegungsschrift
JP-A-61-217034 beschriebenen Phenolharze sind besonders bevorzugt.
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Ferner kann man ein Kondensationsprodukt
eines Phenols, das eine Alkyl-Gruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen
als Substituenten aufweist, und Formaldehyds, wie t-Butylphenolformaldehydharz,
Octylphenolformaldehydharz oder dgl. in Kombination verwenden, wie
dies in
US 4 123 279 beschrieben
ist. Diese Copolymere kann man einzeln oder in Kombination verwenden.
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Ein Urethanharz kann ebenfalls enthalten
sein. Unter diesen ist ein Urethanharz mit einer Carboxy-Gruppe
oder einer Sulfonamid-Gruppe bevorzugt. Ein erfindungsgemäß geeignet
zu verwendendes Polyurethanharz ist ein Polyurethanharz, welches
ein Reaktionsprodukt einer Diisocyanat-Verbindung und eine Diol-Verbindung
enthält,
welche als Grundstruktur eine Sulfonamid-Gruppe aufweist, worin
mindestens ein Wasserstoffatom an N gebunden ist.
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In der vorliegenden Erfindung geeignet
zu verwendende Diisocyanat-Verbindungen umfassen aromatische Diisocyanat-Verbindungen, wie
2,4-Tolylendiisocyanat, Dimere des 2,4-Tolylendiisocyanats, 2,6-Tolylendiisocyanat,
p-Xylylendiisocyanat, m-Xylylendiisocyanat, 4,4'-Diphenylmethandiisocyanat, 1,5-Naphthylendiisocyanat,
3,3'-Dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanat oder
dgl.; aliphatische Diisocyanat-Verbindungen, wie Hexamethylendiisocyanat,
Trimethylhexamethylendiisocyanat, Lysindiisocyanat, Dimersäure-diisocyanat
oder dgl.; alicyclische Diisocyanat-Verbindungen, wie Isophorondiisocyanat,
4,4'-Methylenbis(cyclohexylisocyanat), Methylcyclohexan-2,4(oder
2,6)diisocyanat, 1,3-(Isocyanatmethyl)cyclohexan oder dgl.; und
eine Diisocyanat-Verbindung, ein Reaktionsprodukt aus Diisocyanat
und Diol, beispielsweise ein Addukt aus einem mol 1,3-Butylenglykol
und 2 mol Trilendiisocyanat und/oder dgl.
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Darüber hinaus umfaßt eine
Diol-Verbindung mit einer Sulfonamid-Gruppe, mit Bindung an mindestens
ein H-Atom und/oder/an N bindet, p-(1,1-Dihydroxymethylethylcarbonylamino)benzolsulfonamid,
die N-Ethyl-Form des p-(1,1-Dihydroxymethylethylcarbonylamino)benzolsulfonamids,
N-(m-Methylsulfonylaminophenyl)-2,2-dihydroxymethylpropanamid, N-(p-Methylsulfonylaminophenyl)-2,2-dihydroxymethylpropanamid, N-(m-Ethylsulfonylaminophenyl)-2,2-dihydroxymethylpropanamid,
N-(p-Ethylsulfonylaminophenyl)-2,2-dihydroxymethylpropanamid, N-(2,2-(Dihydroxyethylaminocarbonyl)ethyl)methansulfonamid,
N-2,2-(Dihydroxyethylaminocarbonyl)ethyl)benzolsulfonamid, N-2,2-(Dihydroxyethylaminocarbonyl)ethyl-p-toluolsulfonamid oder
dgl.
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Diese Diol-Verbindungen mit einer
Sulfonamid-Gruppe kann man allein oder in Kombination verwenden.
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Ferner kann man ebenfalls eine Diol-Verbindung,
die keine Sulfonamid-Gruppe, aber einen anderen Substituenten, der
nicht mit Isocyanat reagiert, in Kombination mit einer Diol-Verbindung verwenden,
welche eine Sulfonamid-Gruppe aufweist.
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Diese Diol-Verbindungen umfassen
Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Tetraethylenglykol,
Propylenglykol, Dipropylenglykol, Polyethylenglykol, Polypropylenglykol,
Neopentylglykol, 1,3-Butylenglykol, 1,6-Hexandiol, 2-Butyl-l,4-diol,
2,2,4-Trimethyl,3-pentandiol,
1,4-Bis-β-hydroxyethoxycyclohexan,
Cyclohexandimethanol, Tricyclodecandimethanol, hydriertes Bisphenol
A, hydriertes Bisphenol F, ein Addukt des Bisphenol A mit Ethylenoxid,
ein Addukt des Bisphenol A mit Propylenoxid, ein Addukt des Bisphenol
F mit Ethylenoxid, ein Addukt des Bisphenol F mit Propylenoxid,
ein Addukt des hydrierten Bisphenol A mit Ethylenoxid, ein Addukt
des hydrierten Bisphenol A mit Propylenoxid, Hydrochinondihydroxyethylether,
p-Xylylenglykol, Dihydroxyethylsulfon, Bis(2-hydroxyethyl)-2,4-tolylencarbamat,
2,4-Tolylen-bis(2-hydroxyethylcarbamid), Bis(2-hydroxyethyl)-m-xylylendicarbamat,
Bis(2-hydroxyrthyl)isophthalat,
3,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionsäure, 2,2-Bis(2-hydroxyethyl)propionsäure, 2,2-Bis(3-hydroxypropyl)propionsäure, Bis(hydroxymethyl)essigsäure, Bis(4-hydroxyphenyl)essigsäure, 4,4-Bis(4-hydroxyphenyl)pentansäure, Weinsäure oder
dgl.
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Man kann das erfindungsgemäß verwendete
Polyurethanharz synthetisieren, indem man einen bekannten Katalysator,
der eine adäquate
Aktivität
gegenüber
der obigen Diisocyanat-Verbindung
oder Diol-Verbindung aufweist, zu der besagten Verbindung in einem
aprotischen Lösungsmittel
gibt und diese erhitzt. Das Molverhältnis Diisocyanat zu Diol-Verbindung
beträgt
vorzugsweise von 0,8 : 1 bis 1,2 : 1 und stärker bevorzugt von 0,85 : 1,1
bis 1,1 : 1. Wenn eine Isocyanat-Gruppe an den Enden des Polymers
verbleibt, kann man schließlich
ein Polyurethanharz, worin keine Isocyanat-Gruppen verbleiben, erhalten,
indem man diese Enden mit Alkoholen, Aminen, oder dgl. behandelt.
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Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht
des Urethan-Polymers, das man in der vorliegenden Erfindung verwenden
kann, beträgt
vorzugsweise nicht weniger als 2 000, stärker bevorzugt liegt es im
Bereich von 5 000 bis 300 000. Das zahlengemittelte Molekulargewicht
ist vorzugsweise nicht weniger als 1 000, stärker bevorzugt im Bereich von
2 000 bis 250 000. Der Grad der molekularen Dispersion (gewichtsgemitteltes
Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) beträgt vorzugsweise
nicht weniger als 1, stärker
bevorzugt liegt er im Bereich von 1,1 bis 10.
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Ferner können nicht-umgesetzte Monomere
in einem Bindemittel enthalten sein, das erfindungsgemäß verwendet
werden kann. In diesem Fall beträgt
das Verhältnis
der Monomere im Bindemittel vorzugsweise nicht mehr als 15 Gew.-%.
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Abgesehen von der zuvor beschriebenen
Copolymerzusammensetzung kann man gegebenenfalls verschiedene Additive
zu einer diese Schicht (A) erzeugen Zusammensetzung geben. Im Hinblick
auf eine Verbesserung der Eigenschaft, das Auflösen eines Bildbereichs in der
Entwicklerlösung
zu inhibieren, ist es bevorzugt, ein Material zu verwenden, das
thermisch zersetzbar ist, und in einem nicht-zersetzten Zustand
in der Lage ist, die Löslichkeit
einer in einer wäßrigen Alkalilösung löslichen
Polymer-Verbindung wesentlich herabzusetzen, beispielsweise eine
aromatische Sulfon-Verbindung,
aromatische Sulfonat-Verbindung oder dgl.
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Darüber hinaus kann man auch cyclische
Säureanhydride,
Phenole und organische Säuren
in Kombination verwenden, mit dem Zweck, die Empfindlichkeit weiter
zu verbessern. Als cyclische Säureanhydride kann
man Phthalsäureanhydrid,
Tetrahydronaphthalsäureanhydrid,
Hexahydrophthalsäureanhydrid,
3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid,
Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid,
Bernsteinsäureanhydrid,
Pyromellitinsäureanhydrid
oder dgl., wie im US-Patent 4 115 128 beschrieben, verwenden. Phenole
können
Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon,
2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan, 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan
oder dgl. umfassen. Ferner umfassen organische Säuren Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphorsäureester,
Carbonsäuren
oder dgl., wie in den japanischen Offenlegungsschriten (JP-A) mit
den Nr. 60-88942, 2-96755 oder dgl. beschrieben. Beispiele hierfür umfassen
p-Toluolsulfonsäure,
Dodecylbenzolsulfonsäure,
p-Toluolsulfinsäure,
Ethylschwefelsäure,
Phenylsulfonsäure,
Phenylphosphinsäure,
Phenylphosphorsäure,
Diphenylphosphorsäure,
aromatische Benzoesäure,
Isophthalsäure,
Adipinsäure,
p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen,2-dicarbonsäure, Erucinsäure, Laurinsäure, n-Undecansäure, Ascorbinsäure oder
dgl.
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Die Menge der zuvor beschriebenen
cyclischen Säureanhydride,
Phenole und anorganischen Säuren in
dem die Schicht (A) bildenden Material liegt vorzugsweise im Bereich
von 0,05 bis 20 Gew.-%, stärker
bevorzugt von 0,1 bis 15 Gew.-%, und insbesondere von 0,1 bis 10
Gew.-%, bezogen auf alle Feststoffkomponenten der Schicht (A).
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In der vorliegenden Erfindung kann
man mindestens eine Fettsäure
mit einer großen
Kohlenstoffatomzahl, ein sogenanntes Wachs, oder ihre Derivate zu
der Schicht A geben, um die Stabilität vor der Entwicklung zu verbessern.
Bevorzugt sind Fettsäuren
oder Ester von Fettsäuren
mit einer Alkyl-Gruppe oder Alkenyl-Gruppe mit 6 bis 32 Kohlenstoffatomen
(beispielsweise eine geradkettige Alkyl- Gruppe, wie n-Hexyl-Gruppe, n-Heptyl-Gruppe,
n-Octyl-Gruppe, n-Nonyl-Gruppe, n-Decyl-Gruppe oder n-Undecyl-Gruppe;
eine Alkyl-Gruppe mit einer Verzweigung, wie 14-Methylpentadecyl-Gruppe, 16-Methylheptadecyl-Gruppe;
und ein Alkenyl-Gruppe, wie 1-Hexenyl-Gruppe, 1-Heptenyl-Gruppe,
1-Octenyl-Gruppe, 2-Methyl-1-heptenyl-Gruppe). Unter diesen sind
jene mit einer Alkyl-Gruppe oder Alkenyl-Gruppe mit einer Kohlenstoffatomzahl
von nicht mehr als 25 im Hinblick auf die Löslichkeit in einem Beschichtungslösungsmittel
bevorzugt. Beispiele der Verbindungen, die man als Fettsäure einsetzen
kann, umfassen Enanthensäure,
Caprylsäure,
Pelargonsäure, Caprinsäure, Undecylsäure, Laurinsäure, Tridecylsäure, Myristinsäure, Pentadecylsäure, Palmitinsäure, Heptadecylsäure, Stearinsäure, Nonadecansäure, Arachinsäure, Behensäure, Lignocerinsäure, Cerotinsäure, Heptacosansäure, Montansäure, Melissinsäure, Lacserinsäure, Undecylsäure, Oleinsäure, Elaidinsäure, Cetleinsäure, Erucinsäure, Brassidinsäure oder
dgl. Beispiele von Fettsäureestern
umfassen Methylester, Ethylester, Propylester, Butylester, Dodecylester,
Phenylester und Naphthylester dieser Fettsäuren. Beispiele von Thiofettsäureestern
umfassen Methylthioester, Ethylthioester, Propylthioester, Butylthioester
und Benzylthioester dieser Fettsäuren.
Beispiele von Amiden der Fettsäuren
umfassen Amide, Methylamide, Ethylamide oder dgl. von diesen Fettsäuren.
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Man kann eine oder mehrere Arten
dieser Verbindungen in Kombination verwenden. Diese Verbindungen
werden in einer Menge im Bereich von 0,02 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise
von 0,2 bis 10 Gew.-%, insbesondere von 2 bis 10 Gew.-%, bezogen
auf alle Feststoffkomponenten in den Schichten des Druckplattenmaterials
eingesetzt. Beträgt
die Menge der Verbindung in der Schicht (A) weniger als 0,02%, ist
die Entwicklungsstabilität
gegenüber
Schönheitsfehlern
unzureichend. Wenn die Menge andererseits 10 Gew.-% erreicht, erhält man einen
Sättigungseffekt
und es besteht daher keine Notwendigkeit mehr davon zuzugeben.
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Um ferner die Behandlungsstabilität gegenüber Abweichungen
in den Entwicklungsbehandlungsbedingungen zu verbessern, kann man
die in JP-A-62-251740 und 3-208514 beschriebenen nichtionischen
Tenside, die in JP-A-59-121044 und 4-13149 beschriebenen amphoteren
Tenside zu dem die Schicht (A) bildenden Material geben.
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Beispiele der nichtionischen Tenside
sind Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid,
Polyoxyethylennonylphenylether und dgl.
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Beispiele amphoterer Tenside sind
Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-Ncarboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium-betain
und ein amphoteres Tensid vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ (beispielsweise
eines mit dem Handelsnamen Amogen K, hergestellt von Daiichikogyo
K. K.) und dgl. Die Menge der obigen nichtionischen Tenside und
amphoteren Tenside in dem die Schicht (A) bildenden Material liegt
vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, und stärker bevorzugt
im Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf alle Feststoffkomponenten
der Schicht (A).
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Man kann auch Farbstoffe und Pigmente
als Bildfärbemittel
und/oder Ausdruckmittel ("printout agents") zu dem die Schicht
(A) bildenden Material erfindungsgemäß geben, um ein sichtbares
Bild direkt nach dem Erhitzen durch Belichtung zu erhalten.
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Repräsentative Beispiele für Ausdruckmittel
sind Kombinationen von organischen Farbstoffen, die in der Lage
sind, ein Salz mit einer Verbindung zu bilden, die beim Erhitzen
durch die Entwicklung Säure
erzeugen (ein Photosäure-erzeugendes
Mittel). Beispiele hierfür
sind eine Kombination von organischen Farbstoffen, die ein Salz
bilden können,
die in JP-A-50-36209 und JP-A-53-8128 beschriebenen o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenide,
und Kombinationen aus organischen Farbstoffen, die ein Salz bilden
können, und
der in JP-A-53-36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 und
63-58440 beschriebenen Trihalogenmethyl-Verbindung. Solche Trihalogenmethyl-Verbindungen sind
Verbindungen vom Oxazol-Typ und Triazol-Typ und beide zeigen eine
ausgezeichnete Stabilität über die
Zeit hinweg und liefern ein ausgezeichnetes Ausdruckbild.
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Hinsichtlich der Bildfärbemittel
kann man verschiedene andere Farbstoffe als die zuvor beschriebenen salzbildenden
organischen Farbstoffe verwenden. Geeignete organische salzbildende
Farbstoffe enthaltende Farbstoffe umfassen öllösliche Farbstoffe und basische
Farbstoffe. Beispiele hierfür
umfassen Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green
BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS und
Oil Black T-505 (hergestellt von Orient Kagakukogyo K. K.), Victoria
Beinblau, Kristallviolett (CI42555), Methylviolett (CI42535), Ethylviolett,
Rhodamin B (CI145170B), Malachitgrün (CI42000), Methylenblau (CI52015)
und dgl. Die in JP-A-62-293247 beschriebenen Farbstoffe sind besonders
bevorzugt. Diese Farbstoffe kann man in einer Menge im Bereich von
0,01 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise in einer Menge von 0,1 bis 3 Gew.-%,
bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt des die Schicht (A) bildenden
Materials, zugeben.
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Zu diesem die Schicht (A) bildenden
Material kann man gegebenenfalls ein Plastifizierungsmittel (Weichmacher)
zugeben, um der Beschichtung Flexibilität zu verleihen. Beispielsweise
kann man Butylphthalat, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat,
Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat,
Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryl(an)oleat,
ein Oligomer und Polymer der Acrylsäure oder Methacrylsäure und
dgl. verwenden.
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Ferner kann man langkettige Fettsäureester,
langkettige Fettsäureamide
und dgl. zugeben, um die Festigkeit des Films zu verbessern.
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Zwecks Verbesserung der Beschichtungseigenschaften
kann man beispielsweise erfindungsgemäß ein in JP-A-62-170950 beschriebenes
Fluortensid zu dem die Schicht erzeugenden Material geben. Die Menge beträgt vorzugsweise
von 0,01 bis 1 Gew.-%, stärker
bevorzugt von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf alle Feststoffkomponenten
der Schichten des Druckplattenmaterials.
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Wenn man das erfindungsgemäße bildgebende
Material als Negativtyp einsetzt, um einen Alkali-unlöslichen
Filmabschnitt (Bildabschnitt) zu erzeugen, besteht die Notwendigkeit,
ein Material, das in Gegenwart einer Säure vernetzt, zuzugeben.
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In der erfindungsgemäßen photoempfindlichen
Schicht kann man als Material, das in Gegenwart einer Säure vernetzt,
(a) eine Verbindung mit zwei oder mehr Hydroxymethyl-Gruppen oder
Alkoxymethyl-Gruppen, Epoxy-Gruppen oder Vinylether-Gruppen im Molekül, welche
an einen Benzolring binden, (b) eine Verbindung mit einer N-Hydroxymethyl-Gruppe,
N-Alkoxymethyl-Gruppe
oder N-Acyloxymethyl-Gruppe, (c) Epoxy-Verbindungen und dgl. geeigneterweise
verwenden.
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- (a) Beispiele von Verbindungen, die im Molekül zwei oder
mehr Hydroxymethyl-Gruppen oder Alkoxymethyl-Gruppen, die an einen
Benzolring binden, aufweisen, umfassen Methylolmelamin, Resolharz,
Epoxy-modifiziertes Novolakharz, Harnstoffharz und dgl. Ferner sind
die im "Crosslinking
Agents Handbook" (geschrieben
von Shinzo Yamashita & Tousuke
Kaneko, Taiseisya Co., Ltd.) ebenfalls bevorzugt. Besonders bevorzugt
ist ein Phenol-Derivat mit zwei oder mehr Hydroxymethyl-Gruppen
oder Alkoxymethyl-Gruppen im Molekül, da es den Bildabschnitt
nach dem Drucken mit einer ausgezeichneten Festigkeit versieht.
Ein konkretes Beispiel hierfür
ist ein Resolharz.
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Diese Vernetzungsmittel, die in der
Gegenwart einer Säure
vernetzen, sind jedoch nicht wärmestabil und
zeigen eine schlechte Lagerstabilität, nachdem man sie in ein Bildaufzeichnungsmaterial
inkorporiert hat. Im Gegensatz dazu kann ein Phenol-Derivat, das
zwei oder mehr Hydroxymethyl-Gruppen
oder Alkoxymethyl-Gruppen, die im Molekül an einen Benzolring binden,
und 3 bis 5 Benzolringe enthält,
die einige Substituenten aufweisen können, und ein Molekulargewicht
von nicht mehr als 1200 aufweist, eine gute Lagerstabilität aufweisen,
und dieses Derivat ist am stärksten
zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeignet. Für die in
diesem Phenol-Derivat enthaltenen, bereits erwähnten Alkoxymethyl-Gruppen
sind jene mit nicht mehr als 6 Kohlenstoffatomen bevorzugt. Bevorzugte
und konkrete Beispiele der obigen Alkoxymethyl-Gruppen umfassen
eine Methoxymethyl-Gruppe, Ethoxymethyl-Gruppe, n-Propoxymethyl-Gruppe,
i-Propoxymethyl-Gruppe, n-Butoxymethyl-Gruppe, i-Butoxymethyl-Gruppe,
sek-Butoxymethyl-Gruppe
und t-Butoxymethyl-Gruppe. Eine Alkoxysubstituierte Alkoxy-Gruppe,
wie 2-Methoxyethoxy-Gruppe und 2-Methoxy-1-propyl-Gruppe ist ebenfalls
bevorzugt.
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Phenol-Derivate mit einer Hydroxymethyl-Gruppe
kann man erhalten, indem man eine Phenol-Verbindung mit keiner entsprechenden
Hydroxymethyl-Gruppe mit Formaldehyd in der Gegenwart eines basischen Katalysators
reagieren läßt. In diesem
Fall führt
man die Reaktion vorzugsweise bei einer Temperatur von 60°C oder weniger
aus, um eine Verharzung und Gelierung zu verhindern. Insbesondere
können
die Phenol-Derivate
nach den in JP-A-6-282067 und JP-A-7-64285 und dgl. beschriebenen
Methoden synthetisiert werden.
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Phenol-Derivate mit einer Alkoxymethyl-Gruppe
kann man erhalten, indem man ein Phenol-Derivat mit einer entsprechenden
Hydroxymethyl-Gruppe mit einem Alkohol in der Gegenwart eines sauren
Katalysators reagieren läßt. In diesem
Fall führt
man die Reaktion vorzugsweise bei einer Temperatur von 100°C oder weniger
aus, um Verharzung und Gelierung zu verhindern. Insbesondere können die
Phenol-Derivate nach den in EP-A-632003 und dgl. beschriebenen Methoden
hergestellt werden.
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- (b) Verbindungen mit einer N-Hydroxymethyl-Gruppe,
einer N-Alkoxymethyl-Gruppe oder N-Acyloxymethyl-Gruppe können ein
Monomer, Oligomer-Melamin-Formaldehyd-Kondensatz und Harnstoff-Formaldehyd-Kondensat,
wie diese in EP-A-0 133 216, DE-3 634 671, DE-3 711 264 offenbart
sind, Alkoxysubstituierte Verbindungen, wie sie in EP-A-0 212 482
offenbart sind, und dgl. umfassen.
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Stärker bevorzugte Beispiele umfassen
beispielsweise ein Melamin-Formaldehyd-Derivat mit mindestens zwei
freien N-Hydroxymethyl-Gruppen, N-Alkoxymethyl-Gruppen oder N-Acyloxymethyl-Gruppen.
Unter diesen ist ein N-Alkoxymethyl-Derivat besonders bevorzugt.
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- (c) Epoxy-Verbindungen können eine Epoxy-Verbindung
vom Monomer-, Dimer-, Oligomer- und Polymer-Typ umfassen, worin
diese mindestens eine oder mehrere Epoxy-Gruppen aufweisen. Beispiele
hierfür umfassen
das Reaktionsprodukt des Bisphenols A und Epichlorhydrins, das Reaktionsprodukt
eines niedermolekulargewichtigen Phenol-Formaldehydharzes und Epichlorhydrins
und dgl. Die in US-4 026 705 und GB-1 539 192 beschriebenen Epoxyharze
können
ebenfalls aufgeführt
werden.
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Verwendet man ein Vernetzungsmittel,
das in Gegenwart einer Säure
vernetzt, betragen die Mengen an Vernetzungsmittel in der vorliegenden
Erfindung von 5 bis 70 Gew.-%, und vorzugsweise von 10 bis 65 Gew.-%,
bezogen auf den Feststoffgehalt der Schicht (A). Wenn die Menge
des Vernetzungsmittels, welches in Gegenwart einer Säure vernetzt,
weniger als 5 Gew.-% beträgt,
wird sich die Filmfestigkeit des Bildabschnitts nach dem Aufzeichnen
des Bildes verschlechtern. Wenn andererseits die Menge 70 Gew.-% übersteigt,
ist dies im Hinblick auf die Lagerstabilität nicht bevorzugt.
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Diese Vernetzungsmittel, die in der
Gegenwart einer Säure
vernetzen, können
einzeln oder in Kombination verwendet werden.
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Die Beschichtungsmenge aller die
Schicht (A) erzeugenden Materialien, mit denen das Substrat des bildgebenden
(bilderzeugenden) Material beschichtet wird, liegt vorzugsweise
im Bereich von 0,5 bis 4,0 g/m2. Ist die
Beschichtungsmenge weniger als 0,5 g/m2,
wird der Effekt einer verbesserten Plattenabriebbeständigkeit
unzureichend.
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Im erfindungsgemäßen bildgebenden Material laminiert
man eine Schicht (B) die nicht weniger als 50 Gew.-% eines in wäßriger Alkalilösung löslichen
Harzes mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe enthält, auf die
Schicht (A), die auf dem Substrat durch das zuvor beschriebene spezifische
Copolymer und dgl. erzeugt wurde.
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Das Harz mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe,
welches die Hauptkomponente darstellt, welche die Schicht (B) bildet,
kann ein Novolakharz, beispielsweise Phenol-Formaldehydharz, m-Cresol-Formaldehydharz,
p-Cresol-Formaldehydharz, m-/p-gemischtes Cresol-Formaldehydharz,
Phenol/Cresol gemischtes (man kann irgendeines unter m-, p- oder
m-/p-Mischungen
verwenden) Formaldehydharz und dgl. sein.
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Diese Harze mit einer phenolischen
Hydroxyl-Gruppe haben vorzugsweise ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht
von 500 bis 20 000 und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht von
200 bis 10 000.
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Ferner kann man ein Kondensat eines
Phenols, das eine Alkyl-Gruppe
mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituenten aufweist, und Formaldehyds,
wie t-Butylphenol-Formaldehydharz und Octylphenol-Formaldehydharz
in Kombination verwenden, wie dies in US-4 123 279 beschrieben ist.
Solche Harze mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe kann man in
Kombination verwenden.
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Eine Verbindung, die bei der Lichtabsorption
Wärme erzeugt,
ist ebenfalls zusammen mit einem Harz mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe
in dieser Schicht (B) enthalten. Diese Verbindung, welche bei der Lichtabsorption
Wärme erzeugt,
ist eine, die einen lichtabsorbierenden Bereich im Infrarotbereich
von 700 nm oder mehr, vorzugsweise im Bereich von 750 bis 1200 nm
aufweist, und die Fähigkeit
zeigt, Licht in Wärme umzuwandeln
bei der Belichtung mit einer Wellenlänge innerhalb dieses Bereichs.
Insbesondere kann man verschiedene Pigmente oder Farbstoffe, die
bei der Lichtabsorption Wärme
erzeugen, in diesem Wellenlängenbereich,
verwenden.
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Als erfindungsgemäß verwendete Pigmente kann
man käuflich
erhältliche
Pigmente und Pigmente einsetzen, die in Color Index (C. I.) Handbook, "Saishin Ganryo Binran
(Modernes Pigmenthandbuch)" (hrsg. von
Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai, veröffentlicht
1977), "Saishin
Ganryo Oyo Gijutsu (Moderne Pigmentanwendungstechnologie)" (CMC Publishing
Co., 1986 veröffentlicht), "Insatsuink Gijutsu (Drucktintentechnologie)" (CMS Publishing
Co., veröffentlicht
1984) beschrieben sind.
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Beispiele der Pigmente sind ein schwarzes
Pigment, ein gelbes Pigment, ein oranges Pigment, ein braunes Pigment,
ein rotes Pigment, ein violettes Pigment, ein blaues Pigment, ein
grünes
Pigment, ein fluoreszierendes Pigment, ein Metallpulverpigment,
und Polymer-gebundenes Pigment. Insbesondere kann man ein unlösliches
Azo-Pigment, ein Azo-Lack-Pigment,
ein kondensiertes Azo-Pigment, ein Chelatazo-Pigment, ein Phthalocyanin-Pigment,
ein Anthrachinon-Pigment, Perylen- und Perynon-Pigmente, ein Thioindigo-Pigment,
ein Chinacrdidon-Pigment, ein Dioxazin-Pigment, ein Isoindolinon-Pigment, ein Chinophthalon-Pigment, ein
in der Form dekorierendes Lack-Pigment, ein Azin-Pigment, ein Nitroso-Pigment, ein Nitro-Pigment,
ein natürliches
Pigment, ein fluoreszierendes Pigment, ein anorganisches Pigment,
Ruß und
dgl. verwenden. Unter diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
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Diese Pigmente kann man ohne eine
Oberflächenbehandlung
oder nach einer Oberflächenbehandlung
einsetzen. Oberflächenbehandlungsverfahren
umfassen ein Verfahren zur Beschichtung der Pigmentoberfläche mit
einem Harz oder Wachs, ein Verfahren, bei dem ein Tensid auf der
Pigmentoberfläche
angeheftet wird, ein Verfahren, bei dem reaktive Substanzen (wie
Silan-Kupplungsmittel, Epoxy-Verbindungen, Polyisocyanat und dgl.)
an die Pigmentoberfläche
gebunden werden. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren
werden in "Kinzoku
Sekken no Seishitsu to Oyo (Beschaffenheit und Anwendung von Metallseifen)", Saiwai Publishing
Co., "Insatsuink
Gijutsu (Drucktintentechnologie)",
CMC Publishing Co., veröffentlicht
1984; und "Saishin
Ganryo Oyo Gijutsu (Moderne Pigmentanwendungstechnologie)", CMC Publishing
Co., veröffentlicht 1986,
beschrieben.
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Die Teilchengröße des Pigments liegt vorzugsweise
im Bereich von 0,01 um bis 10 um, stärker bevorzugt von 0,05 um
bis 1 um, insbesondere von 0,1 um bis 1 um. Wenn die Teilchengröße des Pigments
weniger als 0,01 um beträgt,
ist dies im Hinblick auf die Stabilität der Pigmentdispersion in
einer Beschichtungslösung für die photoempfindliche
Schicht nicht bevorzugt. Übersteigt
die Teilchengröße 10 um,
ist diese im Hinblick auf die Gleichförmigkeit der Bildaufzeichnungsschicht
nicht bevorzugt.
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Als Verfahren zum Dispergieren des
Pigments kann man bekannte Verfahren, die zur Herstellung einer
Tinte oder eines Toners verwendet werden, einsetzen. Beispiele für Dispergiervorrichtungen
sind eine Ultraschalldispergiervorrichtung, eine Sandmühle, eine
Rührwerkskugelmühle, eine
Perlenmühle,
eine Supermühle,
eine Kugelmühle,
ein Impellerrührer,
eine Dispergiervorrichtung, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron,
eine Dreiwalzenmühle,
eine Druckknetvorrichtung und dgl. Details werden in "Saishin Ganryo Oyo Gijutsu
(Moderne Pigmentanwendungstechnologie), CMC Publishing Co., 1986
veröffentlicht" beschrieben.
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Als Farbstoff kann man bekannte käuflich erhältliche
Farbstoffe oder in der Literatur beschriebene Farbstoffe (beispielsweise
in "Senryobinran
(Farbstoffhandbuch)",
herausgegeben von Yukigoseikagaku Kyokai, 1970 veröffentlicht)
einsetzen. Als Beispiele kann man insbesondere Farbstoffe, wie einen
Azofarbstoff, einen Metallkomplex-Azofarbstoff, einen Pyrazolon-Azofarbstoff,
einen Anthrachinon-Farbstoff, einen Phthalocyanin-Farbstoff, einen
Carbonium-Farbstoff, einen Chinonimin-Farbstoff, einen Methin-Farbstoff,
einen Cyanin-Farbstoff und dgl. als Beispiel anführen.
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In der vorliegenden Erfindung sind
unter diesen Pigmenten oder Farbstoffen zum Zwecke der Verwendung
eines Lasers, der mit Infrarot oder nahem Infrarotlicht bestrahlt,
Pigmente oder Farbstoffe, die Infrarotlicht oder nahes Infrarotlicht
absorbieren, besonders bevorzugt.
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Als solch ein Pigment, das Infrarot-
oder nahes Infrarotlicht absorbiert, verwendet man geeigneterweise
Ruß. Farbstoffe,
die in Infrarot- oder nahes Infrarotlicht absorbieren, umfassen
Cyanin-Farbstoffe, die in den japanischen Offenlegungsschriften
(JP-A) mit den Nrn. 58-125246, 59-84356, 59-202829, 60-78787 und dgl. beschrieben
sind, Methin-Farbstoffe,
die in den japanischen Offenlegungsschriften (JP-A) mit den Nr. 58-173696,
58-181690, 58-194595 und dgl. beschrieben sind, Naphthochinon-Farbstoffe,
die in den japanischen Offenlegungsschriften (JP-A) mit den Nrn.
58-112793, 58-224793,
59-48187, 59-73996, 60-52940, 60-63744 und dgl. beschrieben sind,
Squarylium-Farbstoffe, die in der japanischen Offenlegungsschrift
(JP-A) mit der Nr. 58-112792 und dgl. beschrieben ist, Cyanin-Farbstoffe,
die in GB 434 875 beschrieben sind und dgl.
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Darüber hinaus verwendet man geeigneterweise
im nahen Infrarot absorbierende Sensibilisierungsmittel, die in
US 5 156 938 beschrieben
sind. Ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, das in
US 3 881 924 beschrieben
ist, ein Trimethinthiapyryliumsalz, das in JP-A-57-142645 (
US 4 327 169 ) beschrieben
ist, Pyrylium-Verbindungen, die in den japanischen Offenlegungsschriften
(JP-A) mit den Nrn. 58-181051, 58-220143,
59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063 und 59-146061 beschrieben
sind, ein Cyanin-Farbstoff, der in JP-A 59-216146 beschrieben ist,
ein Pentamethinthiopyryliumsalz, das in
US 4 283 475 und dgl. beschrieben
ist, Pyrylium-Verbindungen, die in JP-B-5-13514 und 5-19702 beschrieben
sind, Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 und dgl.
werden ebenfalls besonders bevorzugt verwendet.
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Ferner sind weitere Beispiele von
bevorzugten Farbstoffen im nahen Infrarot absorbierende Farbstoffe,
die über
die Formeln (I) und (II) in US-4 756 993 beschrieben werden.
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Diese Farbstoffe oder Pigmente kann
man zu dem Bildaufzeichnungsmaterial in einer Menge im Bereich von
0,01% bis 50 Gew.-%, vorzugsweise von 0,1% bis 10 Gew.-%, bezogen
auf das Gesamtgewicht der gesamten Feststoffkomponenten des die
Schicht (B) bildenden Materials zugeben. Im Falle von Farbstoffen, beträgt die Menge
insbesondere von 0,5 bis 10 Gew.-%. Im Falle von Pigmenten ist die
Menge insbesondere 3,1 bis 10 Gew.-%. Wenn die Menge an Pigment
oder Farbstoff weniger als 0,01 Gew.-% beträgt, verringert sich die Empfindlichkeit. Übersteigt
die Menge andererseits 50 Gew.-%, geht die Gleichförmigkeit
der photoempfindlichen Schicht verloren und verschlechtert sich
die Haltbarkeit der Aufzeichnungsschicht.
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Es ist notwendig zu der Schicht (B)
mindestens eine Verbindung, die bei der Lichtabsorption Wärme erzeugt,
wie Farbstoffe oder Pigmente zu geben, und diese kann man zu anderen
Schichten im bildgebenden Material, beispielsweise zu der bereits
erläuterten
Schicht (A) geben.
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Als Verbindung, die beim Absorbieren
von Licht Wärme
erzeugt, kann man in der vorliegenden Erfindung eine Verbindung
zu der Schicht (B) so zugeben, daß die Verbindung die Funktion
hat, die Löslichkeit
des Harzes herabzusetzen, das eine phenolische Hydroxy-Gruppe aufweist
und ein Bestandteil der Schicht (B) ist, und ferner verringert sich
die bereits beschriebene Funktion durch Erhitzen die Auflösung zu
verringern. Beispiele der Verbindung umfassen eine Verbindung der
folgenden Formel (XII).
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Diese Verbindung zeigt die Eigenschaft,
unter Wärmeerzeugung
Licht zu absorbieren, wobei der Absorptionsbereich von 700 nm bis
1200 nm im Infrarotbereich beträgt,
zeigt eine gute Kompatibilität
mit einem in wäßriger Alkalilösung löslichen
Harz und ist ein basischer Farbstoff. Diese Verbindung kann die
Löslichkeit des
Harzes gegenüber
einer wäßrigen Alkalilösung über die
Wechselwirkung mit dem Harz kontrollieren, da die Verbindung Gruppen
im Molekül,
beispielsweise eine Ammonium-Gruppe, Iminium-Gruppe und dgl. aufweist,
die mit dem in wäßriger Alkalilösung löslichen
Harz Wechselwirken. Daher kann man es geeigneterweise in der vorliegenden
Erfindung verwenden.
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In der oben angegebenen allgemeinen
Formel (XII) bedeuten R1 bis R4 jeweils
unabhängig
eine Alkyl-Gruppe, eine Alkenyl-Gruppe,
eine Alkoxy-Gruppe, eine Cycloalkyl-Gruppe oder eine Aryl-Gruppe,
die ein Wasserstoffatom oder einen Substituenten aufweisen können und
jeweils 1 bis 12 Kohlenstoffatome aufweisen, und R1 und
R2, R3 und R4 können
einander unter Bildung eines Rings binden. Konkrete Beispiele für R1 bis R4 umfassen
ein Wasserstoffatom, eine Methyl-Gruppe, eine Ethyl-Gruppe, eine Phenyl-Gruppe,
eine Dodecyl-Gruppe, eine Naphthyl-Gruppe, eine Vinyl-Gruppe, eine
Allyl-Gruppe, eine Cyclohexyl-Gruppe und dgl. Wenn diese Gruppen
einen Substituenten aufweisen, kann der Substituent ein Halogenatom,
eine Carbonyl-Gruppe, eine Nitro-Gruppe, eine Nitryl-Gruppe, eine
Sulfonyl-Gruppe, eine Carboxyl-Gruppe, Carboxylat, Sulfonat und
dgl. sein.
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R5 bis R10 bedeuten jeweils unabhängig voneinander eine Alkyl-Gruppe
mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die einen Substituenten aufweisen
kann, und konkrete Beispiele für
R5 bis R10 umfassen
eine Methyl-Gruppe, eine Ethyl-Gruppe, eine Phenyl-Gruppe, eine
Dodecyl-Gruppe, eine Naphthyl-Gruppe, eine Vinyl-Gruppe, eine Allyl-Gruppe,
eine Cyclohexyl-Gruppe und dgl. Wenn diese Gruppen einen Substituenten
aufweisen, ist der Substituent ein Halogenatom, eine Carbonyl-Gruppe,
eine Nitro-Gruppe, eine Nitryl-Gruppe, eine Sulfonyl-Gruppe, eine
Carboxyl-Gruppe, Carboxylat, Sulfonat und dgl.
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R11 bis R13 bedeuten jeweils ein Wasserstoffatom,
ein Halogenatom oder eine Alkyl-Gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen,
die einen Substituenten aufweisen kann und R12 kann
an R11 oder R13 unter
Bildung eines Rings binden. Wenn m größer als 2 ist, können mehrere
R12 aneinander unter Bildung eines Rings
binden. Beispiele für
R11 bis R13 umfassen
ein Chloratom, eine Cyclohexyl-Gruppe, einen Cyclopentylring oder
Cyclohexylring, den man durch Kombinieren von R12 miteinander
und dgl. erhält.
Wenn diese Gruppen einen Substituenten aufweisen, umfassen Beispiele
des Substituenten ein Halogenatom, eine Carbonyl-Gruppe, eine Nitro-Gruppe,
eine Nitril-Gruppe, eine Sulfonyl-Gruppe, eine Carboxyl-Gruppe,
Carboxylat, Sulfonat und dgl. Darüber hinaus steht m für eine ganze
Zahl von 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 3.
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R14 und R15 bedeuten unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom,
ein Halogenatom oder Alkyl-Gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen,
die einen Substituenten aufweisen kann, und R14 kann
an R15 unter Bildung eines Rings gebunden
sein. Wenn m größer als
2 ist, kann eine Vielzahl von R12 miteinander
kombiniert werden unter Bildung eines Rings.
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Beispiele für R14 oder
R15 umfassen ein Chloratom, eine Cyclohexyl-Gruppe,
einen Cyclopentyl-Ring oder Cyclohexyl-Ring, den man durch Kombinieren von
R14 miteinander und dgl. erhält. Wenn
diese Gruppen einen Substituenten aufweisen, umfaßt der Substituent
ein Halogenatom, eine Carbonyl-Gruppe, eine Nitro-Gruppe, eine Nitril-Gruppe,
eine Sulfonyl-Gruppe, eine Carboxyl-Gruppe, Carboxylat, Sulfonat
und dgl. Darüber
hinaus steht m für
eine ganze Zahl von 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 3.
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In der zuvor angegebenen allgemeinen
Formel (XII) umfassen Beispiele des über X- dargestellten Anions
Perchlorsäure,
Tetrafluorborsäure,
Hexafluorphosphorsäure,
Triisopropylnaphthalinsulfonsäure,
5-Nitro-otoluolsulfonsäure,
5-Sulfosalicylsäure,
2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure,
2,4,6-Trimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure, Paratoluolsulfonsäure oder
dgl. Unter diesen sind alkylaromatische Sulfonsäuren, wie Hexafluorphosphorsäure, Triisopropylnaphthalinsulfonsäure oder
2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure
geeignet.
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Die Verbindung der zuvor angegebenen
allgemeinen Formel (XII) ist eine Verbindung, die im allgemeinen
als Cyanin-Farbstoff bezeichnet wird, wobei insbesondere die im
folgenden angegebenen Verbindungen geeigneterweise verwendet werden,
die vorliegende Erfindung jedoch nicht auf diese Ausführungsform
begrenzt ist.
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Wenn man in der vorliegenden Erfindung
eine Verbindung, wie den obigen Cyanin-Farbstoff in der Schicht
(B) verwendet, liegen im Hinblick auf die Empfindlichkeit die Mengen
dieser zuzugebenden Verbindung vorzugsweise im Bereich von 99/1
bis 70/30 und insbesondere 99/1 bis 75/25, bezogen auf die Menge
an in wäßriger Alkali-Lösung löslichem
Harz.
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Gegebenenfalls kann man verschiedene
Additive zu dieser die Schicht (B) bildenden Zusammensetzung geben.
Als Additive, die man in der Schicht (B) verwenden kann, kann man
irgendeine Art eines Additivs, welches vorzugsweise die zuvor aufgeführten Additive
beinhaltet, die zu der die Schicht (A) bildenden Zusammensetzung
gegeben werden können,
ebenfalls in der die Schicht (B) bildenden Zusammensetzung gebrauchen.
Wenn darüber
hinaus das erfindungsgemäße Material
als Material zur Bildung eines Negativbilds verwendet wird, ist
es bevorzugt, ein Vernetzungsmittel sowohl zu dieser Schicht (B)
als auch zu der Schicht (A) zu geben.
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Diese photoempfindlichen Schichten
können
im allgemeinen in Verfahren hergestellt werden, bei denen man die
obigen Komponenten in einem Lösungsmittel
löst und
das Substrat beschichtet. Wenn man jedoch die zwei Schichten erzeugt,
indem man nacheinander mit einem normalen Verfahren beschichtet,
kommt es zur gemeinsamen Auflösung
der beiden Schichten durch die Einwirkung des Lösungsmittels oder dgl. an der
Grenzfläche
zwischen den Schichten und es ergibt sich die Situation, daß die Schicht
(A) und die Schicht (B) nicht getrennt und unterscheidbar gebildet
werden. Daher besteht die Furcht, daß der erfindungsgemäße Effekt
durch dieses Phänomen
verringert wird. Dementsprechend besteht die Notwendigkeit, die
beiden Schichten so auf dem Substrat zu erzeugen, daß es bei
der Herstellung des erfindungsgemäßen bildgebenden Materials
zu keiner gemeinsamen Auflösung
kommt.
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Beispiele dieses Verfahrens beinhalten
beispielsweise ein Verfahren, das den Unterschied der Lösungsmittellöslichkeit
eines in der Schicht (A) enthaltenen Copolymers und des in der Schicht
(B) enthaltenen alkalilöslichen
Harzes sich zunutze machen und ein Verfahren, bei dem das Lösungsmittel
nach dem Auftragen der zweiten Schicht durch Trocknen schnell entfernt
wird.
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Diese Verfahren werden nun im Detail
nachstehend beschrieben, aber ein Verfahren zum getrennten Auftragen
zweier Schichten unter Bildung einer Doppelschicht ist nicht auf
diese begrenzt.
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Das Verfahren, welches sich den Unterschied
in der Lösungsmittellöslichkeit
des in der Schicht (A) enthaltenen Copolymers und des in der Schicht
(B) enthaltenen alkalilöslichen
Harzes zunutze macht, ist ein Verfahren, das Lösungsmittel für das in
der Schicht (B) enthaltene alkalilösliche Harz einsetzt, welche
die in der Schicht (A) enthaltenen Copolymere nicht auflöst, beispielsweise
die spezifischen Copolymere und Copolymere, die in Kombination mit
dem besagten spezifischen Copolymer verwendet werden können. Dieses
Verfahren ermöglicht
die unterscheidbar getrennte Erzeugung einer jeden Schicht, selbst
wenn man eine Doppelschichtbeschichtung durchführt.
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Beispielsweise kann man die Doppelschicht
wie folgt erzeugen: Zunächst
wählt man
ein Copolymer aus, unter den Copolymeren mit dem spezifischen Monomer
der Schicht (A), das in einem Lösungsmittel
unlöslich
ist, in dem ein alkalilösliches
Harz aufgelöst
werden kann, beispielsweise Methylethylketon, 1-Methoxy-2-propanol
oder dgl.; und man beschichtet das Substrat mit dem Copolymer unter
Verwendung eines anderen Lösungsmittels,
welches dieses Copolymer auflösen
kann; dann trocknet man die Schicht (A); und trägt die Schicht (B) auf, die
hauptsächlich
ein alkalilösliches
Harz umfaßt,
unter Verwendung des Lösungsmittels, das
die Schicht (A) nicht auflöst,
d. h. Methylethylketon, 1-Methoxy-2-propanol oder dgl.
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Andererseits kann man ein Verfahren,
bei dem das Lösungsmittel
schnell nach dem Auftragen der zweiten Schicht getrocknet und entfernt
wird, umsetzen, indem man Hochdruckluft durch eine Schlitzdüse sprüht, welche
in einem nahezu rechten Winkel zur Richtung der laufenden Bahn aufgebaut
ist, oder indem man Wärmeenergie
zuführt,
wobei man die Wärme
von unten bezüglich
der Oberfläche
der Bahn von einer Walze zuführt,
die ein Wärmemedium,
beispielsweise Dampf aufweist (Heizwalze), oder indem man diese
Verfahren kombiniert.
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1 zeigt
ein Beispiel von Vorrichtungen, die ein kontinuierliches Auftragen
und Trocknen der zweiten Schicht (B) auf die Schicht (A) durchführen, nachdem
die erste Schicht (A) aufgetragen und getrocknet wurde. In der Vorrichtung
der 1 wurde eine oberflächenaufgerauhte
Aluminiumbahn als Beispiel eines Substrats verwendet und die zweite
Schicht wird auf dem mit der ersten Schicht beschichteten Produkt
vorgesehen, wobei die erste Schicht zuvor auf diesem Substrat vorgesehen
wurde.
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Diese Vorrichtung ist mit einem Beschichtungskopf 2 ausgestattet,
in dem eine Beschichtungslösung für die zweite Überzugsschicht
auf eine erste Überzugsschicht 1 schichtweise
aufgetragen wird, mit einer ersten Trocknungszone 3, in
der mit hoher Geschwindigkeit durch Blasen mit heißer Luft
und Blasen mit Hochdruckluft getrocknet wird, und mit einer zweiten
Trocknungszone 4 zum Heißlufttrocknen. Die erste Trocknungszone 3 ist
mit einem Lufteinlaß 5 zum
Zuführen
heißer
Luft, einem Hochdruckluftgenerator 9 zum Hochgeschwindigkeitstrocknen,
einem Wärmeaustauscher 10,
einem Druckanzeiger 11, einer Hochgeschwindigkeitsprühdüse 12,
Luftflußkontrolldämpfern 18, 19 und
einem Luftauslaß 6
zum Ablassen der heißen
Luft aus dem System versehen. Die zweite Trocknungszone 4 ist
mit einem Lufteinlaß 7 zum
Einführen
heißer
Luft und einem Luftauslaß 8 zum
Ablassen heißer
Luft aus dem System vorgesehen. Ferner sind Führungsrollen 13 bis 17 zum
Transportieren der Aluminiumbahn 1 jeweils in einer geeigneten
Position dieser Vorrichtung angeordnet.
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In dieser Vorrichtung wird eine Beschichtungslösung für die zweite
Schicht (Schicht (B)) auf das mit der ersten Schicht beschichtete
Produkt 1 (Schicht (A)) schichtweise aufgetragen, welches
kontinuierlich mit einer Geschwindigkeit von 5 bis 150 m/min durch
den Beschichtungskopf 2 bei einer Rate von 5 bis 40 ml/m2 läuft
und der Trocknungszone 3 zugeführt, worin das Trocknen üblicherweise
bis zum mit der ersten Schicht beschichteten Produkt 1 fortschreitet,
wobei dessen Temperatur üblicherweise
50 bis 150°C
beträgt.
Das verdampfte Lösungsmittelgas
wird durch den Luftauslaß 6 aus
diesem System mit heißer
Luft abgeführt.
Wenn das Trocknen der Beschichtung mit der zweiten Schicht am Einlaß oder in
der Nähe
des Einlasses der ersten Trocknungszone 3 mit heißer Luft
durchgeführt
wird, befindet sich die Beschichtung der zweiten Schicht im allgemeinen
noch im nicht-getrockneten Zustand.
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Diese als zweites aufgetragene Schicht
im ungetrockneten Zustand trocknet man schnell mit Hochgeschwindigkeitsluft,
die man auf die Förderposition über die
Hochgeschwindigkeitssprühdüse 12 bläst, die
nahezu vertikal zur Laufrichtung des mit der ersten Schicht beschichteten
Produkts 1 angeordnet ist.
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Hochdruckluft wird durch die Hochdruckluft
erzeugende Vorrichtung 9, die einen Kompressor oder eine
Hochdruckblasvorrichtung umfaßt,
erzeugt, vom Wärmeaustauscher 10 auf
50 bis 200°C
erhitzt, und auf den gewünschten
Luftfluß mit
dem Luftflußkontrolldämpfer 18, 19 eingestellt,
und dann der Hochgeschwindigkeitsprühdüse 12 zugeführt. Daher
kann schlitzartige Hochdruckluft, welche die gewünschte Temperatur und Flußrate zum
Trocknen des Films der zweiten Schicht im ungetrockneten Zustand
aufweist, kaum kollidieren, und dies ermöglicht das schnelle Verdampfen
des Lösungsmittels
aus dem beschichteten Produkt innerhalb einer sehr kurzen Zeit unter
Bildung der zweiten Schicht. Der Innendruck in der Düse 12,
welche Hochdruckluft aufbläst,
liegt üblicherweise
bei 300 mmAq (H2O) bis 3 kg/cm2 und
vorzugsweise bei 1000 mmAq (H2O) bis 3 kg/cm2. Die Flußrate der durch die Hochgeschwindigkeitssprühdüse 12 gesprühten Luft
beträgt
etwa von 20 m/s bis 300 m/s. Die Breite zwischen den Schlitzen der
Hochgeschwindigkeitssprühdüse 12 ist
etwa 0,1 bis 5 mm und vorzugsweise 0,3 bis 1 mm. Darüber hinaus,
ist der Sprühwinkel
des Hochdruckstroms gegenüber dem
mit der ersten Schicht beschichteten Produkt 1 von 0° bis 90° und vorzugsweise
von 10° bis
60°. Ferner beträgt die Zahl
der Düsen
in der Figur zwei, aber kann 1 bis 8 in Abhängigkeit der Trocknungsbelastung
sein.
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Somit wird die Beschichtung für die zweite
Schicht durch Hochgeschwindigkeitslufttrocknung in der ersten Trocknungszone 3 getrocknet.
Dann führt
man das mit der ersten Schicht beschichtete Produkt, in dem die
zweite Schicht darauf ausgebildet wurde, zu der zweiten Trocknungszone
und erhitzt dieses mit heißer
Luft auf eine Temperatur von 30 bis 200°C von der Einlaßbelüftung 7.
Folglich stellt man die Spurenmenge des restlichen Lösungsmittels
in der Beschichtung auf einen Bereich von 30 bis 200 mg/m2 ein. Das Lösungsmittelgas wird aus der
Abgasbelüftung 8 mit
heißer
Luft abgeführt.
Auf diese Weise kann man die gewünschte
doppelschichtige Beschichtung über
diese Trocknungsverfahren erzielen.
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Alternativ, als Beispiel für das letztere
Verfahren, kann man das Trocknen mit einer Heizwalze anstelle der
zuvor beschriebenen Trocknung mit einem Hochgeschwindigkeitsblasstrom
durchführen,
um die photoempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen bildgebenden
Materials auszubilden. Ein Beispiel für Vorrichtungen ist in diesem
Fall eine Vorrichtung, die nicht mit einer hochdruckerzeugenden
Vorrichtung 9, einem Wärmeaustauscher
10, einem Druckmesser 11, einer Hochdruckluftsprühdüse 12 und
einem Luftflußkontrolldämpfer 18, 19 ausgestattet
ist, sondern mit einer Heizwalze anstelle der Führungswalze in 1. In diesem Fall kann man die Oberfläche der
Walze auf eine Temperatur von 80 bis 200°C erhitzen, durch ein im Inneren
der Walze vorgesehenes Heizmedium, wie Dampf. Die Oberfläche einer
solchen Heizwalze kann die Wärmeenergie
für eine
Aluminiumbahn eines mit der ersten Schicht beschichteten Produkts
bereitstellen und macht dadurch eine Trocknung möglich.
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Ferner kann man vorzugsweise die
Kombination einer Trocknung mit Hochgeschwindigkeitsluft und mit
einer Heizwalze als Verfahren zum schnellen Entfernen des Lösungsmittels
aus der Beschichtung durchführen.
Ein Beispiel der Vorrichtung ist in diesem Fa11 eine Vorrichtung
der 1, worin eine Heizwalze
anstelle der Führungswalze 14 angebracht
ist, und diese Vorrichtung ermöglicht
ein schnelles Verdampfen des Lösungsmittels.
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Das obige Beispiel, z. B. die Vorrichtung
der 1, wurde entworfen,
um eine Heißlufttrocknung
in der ersten Trocknungszone 3 und dann eine Heißlufttrocknung
und Hochdrucklufttrocknung oder/und eine Trocknung mit einer Heizwalze
durchzuführen.
Man kann jedoch das erste Trocknen mit heißer Luft weglassen und das
Trocknen mit Hochdruckluft direkt nach dem Beschichten durchführen.
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Als Verfahren zum Erzeugen des erfindungsgemäßen bildgebenden
Materials ist ein Verfahren bevorzugt, das eine kontinuierliche
Beschichtungs- und Trocknungsvorrichtung einsetzt, wie die Vorrichtung,
die in 1 beschrieben
ist, da das kontinuierliche Beschichtungs- und Trocknungsverfahren
sehr effizient im Hinblick auf die Ausdehnung des Freiheitsgrades
beim Mischen ist.
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Es ist bevorzugt, eine Vorrichtung
zum Auftragen und Trocknen der ersten Schicht stromaufwärts bezüglich der
Vorrichtung zum Auftragen und Trocknen der zweiten Schicht anzubringen,
wobei diese Vorrichtungen die gleiche Vorrichtung sein können. Ferner
ist es bevorzugt, Mittel zum Aufrauhen der Oberfläche stromaufwärts bezüglich des
Beschichtungskopfs der Vorrichtung zum Auftragen und Trocknen der
ersten Schicht anzubringen. Diese Verfahren, die zu einer kontinuierlichen
Produktion führen
können,
welche ein kontinuierlich laufendes Substrat einsetzen, sind im
Hinblick auf die verbesserte Produktivität bevorzugt.
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Das Gewichtsverhältnis der Schicht (A) zur Schicht
(B), worin die Schicht (A) nicht weniger als 50 Gew.-% eines Copolymers
enthält,
welches als Copolymerisationskomponente nicht weniger als 10 mol-% mindestens
eines der Monomere (a-1) bis (a-3) enthält und die Schicht (B) nicht
weniger als 50 Gew.-% eines in wäßriger Alkalilösung löslichen
Harzes enthält,
beispielsweise eines Novolakharzes, ist beliebig und nicht begrenzt,
wobei es jedoch vorzugsweise von 10 : 90 bis 95 : 5, insbesondere
von 20 : 80 bis 90 : 10 auf das Gewicht bezogen beträgt.
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Die photoempfindliche Lösung, mit
der das Substrat beschichtet werden soll, wird durch Auflösen der Komponenten
in einem geeigneten Lösungsmittel
eingesetzt. Beispiele der Lösungsmittel
sind nicht begrenzt auf spezifische Lösungsmittel, beinhalten aber
Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol,
Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat,
1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat,
N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramehtylharnstoff,
N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyllacton, Toluol und dgl.
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Die Konzentration der Komponenten
(feste Komponenten insgesamt einschließlich der Additive) im Lösungsmittel
beträgt
vorzugsweise von 1 bis 50 Gew.-%.
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Diese Lösungsmittel kann man einzeln
oder in Kombination verwenden. Die Beschichtungsmenge (Feststoffgehalt),
die man nach dem Beschichten des Substrats und Trocknen erhält, kann
je nach Verwendung variieren, beträgt jedoch vorzugsweise von
0,5 bis 5,0 g/m2 für eine photoempfindliche Druckplatte.
Man kann verschiedene Beschichtungsverfahren einsetzen, wie Stangenbeschichter,
Spinnbeschichtung, Sprühbeschichtung,
Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftrakelbeschichtung, Rakelbeschichtung,
Walzbeschichtung und dgl. Wenn sich die Beschichtungsmenge verringert,
erhöht
sich die scheinbare Empfindlichkeit, verschlechtern sich aber die
Beschichtungseigenschaften der Bildaufzeichnungsschicht.
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Das erfindungsgemäße photoempfindliche positive
bildgebende Material zur Verwendung mit einem Infrarotlaser wird
nachstehend im Detail beschrieben.
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Ein Substrat, das man in oder mit
der vorliegenden Erfindung verwenden kann, ist ein dimensionsstabiles
plattenartiges Material. Beispiele hierfür umfassen Papier, mit Kunststoff
(wie Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol und dgl.) laminiertes
Papier, eine Metallplatte (wie Aluminium, Zink, Kupfer und dgl.),
ein Kunststoffilm (wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat,
Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat,
Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und
dgl.), Papier oder eine Kunststoffolie, die mit irgendeinem der
obigen Metalle laminiert oder mit diesem beschichtet wurde.
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Eine Polyesterfolie und eine Aluminiumplatte
sind als Substrat in der vorliegenden Erfindung bevorzugt. Unter
diesen ist eine Aluminiumplatte besonders bevorzugt wegen ihrer
Dimensionsstabilität
und der geringen Kosten. Zu den geeigneten Aluminiumplatten zählen eine
reine Aluminiumplatte und eine Legierungsplatte mit Aluminium als
Hauptkomponente, die Spurenmengen anderer Elemente enthält. Man
kann einen Kunststoffilm, der mit Aluminium laminiert oder auf dem
Aluminium abgeschieden wurde, verwenden. Beispiele anderer Elemente,
die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, sind Silicium, Eisen,
Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismuth, Nickel, Titan und
dgl. Der Gehalt der anderen Elemente in der der Legierung beträgt maximal
10 Gew.-%. Ein besonders geeignetes Aluminium ist Reinaluminium.
Da es jedoch schwierig ist, vollständiges reines Aluminium im
Hinblick auf Raffinierungstechniken herzustellen, können Spurenmengen
anderer Elemente enthalten sein. Wie zuvor erwähnt, sind die Bestandteile
der erfindungsgemäß verwendeten
Aluminiumplatte nicht auf spezielle Bestandteile beschränkt. Aluminiumplatten,
die man zuvor kannte und verwendete, können beliebig verwendet werden.
Die Dicke der Aluminiumplatte, die man erfindungsgemäß verwendet,
beträgt
ungefähr
0,1 mm bis 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 mm bis 0,4 mm, besonders bevorzugt
0,2 mm bis 0,3 mm.
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Vor dem Aufrauhen der Oberfläche einer
Aluminiumplatte, führt
man eine Entfettungsbehandlung mit einem Tensid, einem organischen
Lösungsmittel,
einer wäßrigen alkalischen
Lösung
oder dgl. durch, um Walzöl
gegebenenfalls von der Oberfläche
der Aluminiumplatte zu entfernen.
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Das Aufrauhen der Oberfläche der
Aluminiumplatte wird nach verschiedenen Verfahren durchgeführt, beispielsweise
nach einem Verfahren, das mechanisches Aufrauhen einsetzt, einem
Aufrauhverfahren, bei dem man die Oberfläche elektrochemisch auflöst, oder
ein Verfahren, bei dem man die Oberfläche chemisch selektiv auflöst. Als
mechanisches Verfahren, kann man bekannte Verfahren, wie Kugelabrieb,
Bürstenabrieb, Luftabrieb,
Schwabbel-Abrieb und dgl. verwenden. Ein elektrochemisches Aufrauhverfahren
umfaßt
ein Verfahren, bei dem man Wechsel- oder Gleichstrom in einer Salzsäure- oder
Salpetersäure-Elektrolyselösung einsetzt.
Alternativ, kann man beide Verfahren in Kombination einsetzen, wie
dies in JP-A-54-63902
offenbart ist.
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Die so aufgerauhte Aluminiumplatte
wird einer alkalischen Ätzbehandlung
und Neutralisierungsbehandlung gegebenenfalls unterzogen und danach
einer Anodisierung, um die Wasserretentionseigenschaften und Abriebbeständigkeit
als gelegentliche Anforderung zu fördern. Als Elektrolyte zum
Anodisieren der Aluminiumplatte kann man verschiedene Elektrolyte,
die eine poröse
Oxidschicht bilden, einsetzen. Im allgemeinen verwendet man Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxllsäure, Chromsäure oder
eine Mischung dieser Säuren. Die Konzentration
des Elektrolyten wählt
man geeignet aus in Abhängigkeit
von der Art des Elektrolyten.
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Die Bedingungen für die Anodisierungsbehandlung
sind nicht auf spezielle Bedingungen begrenzt, da diese mit der
Art des Elektrolyten variieren. Geeignete Bedingungen liegen bei
einem Konzentrationsbereich des Elektrolyten von 1% bis 80 Gew.-%,
einer Temperatur der Lösung
von 5 bis 70°C,
einer Stromdichte von 5 bis 60 A/dm2, einer
Spannung von 1 V bis 100 V und einer Elektrolysezeit von 10 Sekunden
bis 5 Minuten.
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Wenn die Menge der anodisierten Oxidschicht
weniger als 1,0 g/m2 beträgt, ist
die Abriebbeständigkeit der
Platte unzureichend und es bilden sich leicht Kratzer im Nichtbildabschnitt
der Flachdruckplatte, wodurch es leicht zum sogenannten Abtönen ("tinting") infolge von Kratzern
kommt .
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Nach der Anodisierungsbehandlung
unterzieht man gegebenenfalls die Oberfläche der Aluminiumplatte einem
Verfahren zum Verleihen von Hydrophilie. Ein Beispiel solcher Behandlungen
umfaßt
ein Verfahren, das alkalisches Metallsilicat einsetzt (beispielsweise
eine wäßrige Natriumsilicatlösung), wie
dies in den US-Patenten 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902
734 offenbart ist. In diesem Verfahren wird der Träger durch
Eintauchen in eine wäßrige Natriumsilicat-Lösung oder
durch Elektrolyse behandelt. Andere Verfahren umfassen ein Verfahren
zur Behandlung eines Trägers
mit Kaliumfluorozirkonat, wie dies in JP-B-36-22063 offenbart ist
oder mit Polyvinylphosphonsäure,
wie dies in den US-Patenten 3 276 868, 4 153 461 und 4 689 272 offenbart
ist.
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In der vorliegenden Erfindung kann
man eine Grundierungsschicht auftragen, bevor das Substrat mit der photoempfindlichen
Schicht beschichtet wird. Es ist bevorzugt, eine Grundierungsschicht
auf dem Substrat vorzusehen, um die Menge an restlicher photoempfindlicher
Schicht in den Nichtbildbereichen zu verringern.
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Eine organische Verbindung zur Verwendung
in der organischen Grundierungsschicht wird aus einer Gruppe ausgewählt die
aus Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäuren wie
2-Aminoethylphosphonsäure
mit einer Amino-Gruppe,
organischen Phosphonsäuren,
wie Phenylphosphonsäure, die
einen Substituenten aufweisen kann, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und
Ethylendiphosphonsäure,
organische Phosphorsäuren,
wie Phenylphosphorsäure,
die einen Substituenten aufweisen kann, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerophosphorsäure, organischen
Phosphinsäuren,
wie Phenylphosphinsäure,
die einen Substituenten aufweisen kann, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und
Glycerophosphinsäure,
Aminosäuren
wie Glycin und β-Alanin,
Salzsäuresalzen
von Aminen mit einer Hydroxyl-Gruppe wie Triethanolamin ausgewählt. Diese
Verbindungen kann man allein oder in Kombination verwenden. Ferner
kann man auch eine Polymerverbindung mit einer Struktureinheit,
wie einer Poly(p-vinylbenzoesäure)
einsetzen.
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Eine organische Grundierungsschicht,
die mindestens eine Verbindung enthält, welche unter organischen
Polymerverbindungen mit Struktureinheiten der folgenden allgemeinen
Formel (XV) ausgewählt
wird, ist ebenfalls bevorzugt.
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R1 bedeutet
ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkyl-Gruppe, R2 und R3 bedeuten unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom,
ein Halogenatom, eine Alkyl-Gruppe, eine substituierte Alkyl-Gruppe,
eine Aryl-Gruppe, eine substituierte Aryl-Gruppe, -OR4,
-COOR5, -CONHR6,
-COR7 oder -CN oder R2 und
R3 können
unter Bildung eines Rings aneinander binden; R4 bis
R7 bedeuten unabhängig voneinander eine Alkyl-Gruppe,
eine Aryl-Gruppe; X bedeutet ein Wasserstoffatom, ein Metallatom,
NR8R9R10R11; R8 bis R11 bedeuten unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom,
eine Alkyl-Gruppe, eine substituierte Alkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe oder eine
substituierte Aryl-Gruppe, oder R8 und R9 können
miteinander kombiniert werden unter Bildung eines Rings; und m bedeutet
eine ganze Zahl von 1 bis 3.
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Diese organische Grundierungsschicht
kann man nach dem folgenden Verfahren erzeugen. Dazu löst man die
zuvor beschriebene organische Verbindung in Wasser, einem organischen
Lösungsmittel,
wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder einer Mischung
davon, um eine Beschichtungslösung
herzustellen und taucht danach eine Aluminiumplatte in die Beschichtungslösung, so
daß die
organische Verbindung auf der Oberfläche der Aluminiumplatte adsorbiert
wird unter Bildung einer Grundierungsschicht, die dann mit Wasser
abgespült
und getrocknet wird. Wenn das erstere Verfahren eingesetzt wird,
kann man eine Lösung, die
0,005 bis 10 Gew.-% der organischen Verbindung enthält, nach einer
Vielzahl von Verfahren aufbringen. Beim Einsatz des letzteren Verfahrens
sind die Parameter der Bedingungen wie folgt: die Konzentration
der Lösung
beträgt
0,01 bis 20 Gew.-% und vorzugsweise 0,05 bis 5 Gew.-%; die Eintauchtemperatur
ist 20 bis 90°C
und vorzugsweise 25 bis 50°C;
und die Eintauchzeit beträgt
0,1 Sekunden bis 20 Minuten und vorzugsweise 2 Sekunden bis 1 Minute.
Man kann den pH der Beschichtungslösung auf 1 bis 12 mit einer
Base, wie Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid oder einer
Säure,
wie Salzsäure
oder Phosphorsäure
einstellen. Ferner kann man einen gelben Farbstoff in die Beschichtungslösung inkorporieren,
um die Tönungs("tune")-Reproduzierbarkeit
des bildgebenden Materials zu verbessern.
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Die gewünschte Beschichtungsmenge nach
dem Trocknen der organischen Grundierungsschicht liegt im Bereich
von 2 bis 200 mg/m2 und vorzugsweise im
Bereich von 5 bis 100 mg/m2. Beträgt die Beschichtungsmenge
weniger als 2 mg/m2, kann man keine ausreichende
Druckhaltbarkeit erzielen. Übersteigt
die Beschichtungsmenge andererseits 200 mg/m2,
kommt es zum gleichen unerwünschten
Ergebnis.
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Im erfindungsgemäßen bildgebenden Material kann
man eine Schutzschicht auf der photoempfindlichen Schicht gegebenenfalls
vorsehen. Schutzkomponenten umfassen Polyvinylalkohol, Mattierungsstoffe ("mat materials"), die man für ein normales
photoempfindliches bildgebendes Material verwendet und dgl.
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Auf der Rückseite des Substrats kann
man gegebenenfalls einen Rückenüberzug ausbilden.
Bevorzugte Beispiele des Rückenüberzugs
sind eine Überzugsschicht,
die man mit einer organischen polymeren Verbindung erhält, die
in JP-A-5-45 885 beschrieben ist, und eine Überzugsschicht, die ein metallisches
Oxid umfaßt
und durch Hydrolysieren einer organischen oder anorganischen metallischen
Verbindung und Polykondensieren des resultierenden Produkts erhalten
wird, wie dies in JP-A-6-35 174 beschrieben ist.
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Unter diesen Überzugsschichten, sind Schichten
aus Alkoxy-Verbindungen
des Siliciums, wie Si(OCH3)4,
Si(OC2H5)4 Si(OC3H7)4 und Si(OC4H9)4 besonders
bevorzugt, da diese Verbindungen preisgünstig sind und die Überzugsschichten
der aus diesen Verbindungen hergestellten Metalloxide eine ausgezeichnete Beständigkeit
gegenüber
der Entwicklerlösung
aufweisen.
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Das wie zuvor hergestellte bildgebende
Material wird üblicherweise
einer Bildbelichtung mit Licht und einer Entwicklungsbehandlung
unterzogen.
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Beispiele einer Lichtquelle mit aktiver
Strahlung, die man für
die Bildbelichtung mit Licht verwenden kann, umfassen eine Quecksilberlampe,
eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe,
eine Kohlenstoffbogenlampe und dgl. Beispiele der Strahlung umfassen
Elektronenstrahlung, Röntgenstrahlung,
einen Ionenstrahl, "far
an"-Infrarotstrahlen
und dgl. Ferner kann man auch g-Strahldung,
i-Strahlung, tiefes UV-Licht, hochdichte Energiestrahlung (Laserstrahlung)
verwenden. Beispiele für
Laserstrahlung umfassen Helium-Neonlaser, Argonlaser, Kryptonlaser,
Heliumcadmium-Laser, KrFexyma-Laser und dgl.
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In der vorliegenden Erfindung ist,
als Lichtquelle mit aktiver Strahlung zur Verwendung für die Bildbelichtung
mit Licht, eine Lichtquelle bevorzugt, welche eine illuminierende
Wellenlänge
von 700 nm oder mehr aufweist, und ein Feststoff-Laser, Halbfeststoff-Laser sind besonders
bevorzugt.
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Als Entwickler und Auffüllösung kann
man eine bekannte wäßrige alkalische
Lösung
für das
vorliegende bildgebende Material verwenden. Beispiele hierfür sind anorganische Alkalisalze,
wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumphosphat, Kaliumphosphat,
Ammoniumphosphat, Dinatriumhydrogenphosphat, Dikaliumhydrogenphosphat,
Diammoniumhydrogenphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat,
Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat,
Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid
und Lithiumhydroxid. Ferner kann man auch organische alkalische
Mittel, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin,
Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin,
n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin,
Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin und dgl.
verwenden.
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Diese alkalischen Mittel kann man
allein oder in Kombination von zwei oder mehreren verwenden.
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Unter den Entwicklern, welche diese
alkalische Mittel enthalten, sind eine wäßrige Lösung eines Silicats, wie Natriumsilicat,
Kaliumsilicat und dgl. besonders bevorzugte Entwickler. Dies liegt
daran, daß die
Entwicklereigenschaften durch Ändern
des Verhältnisses
und der Konzentration des Siliciumoxids SiO2 als
Komponente des Silicats und des Alkalimetalloxids M2O
eingestellt werden können.
Beispielsweise verwendet man effizient Alkalimetallsilicate, wie
sie in JP-A-54-62004, JP-B-57-7427 und dgl. beschrieben sind.
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Es war bekannt, daß beim Durchführen der
Entwicklung mit einer automatischen Entwicklervorrichtung eine große Zahl
von Flachdruckplatten ohne das Ersetzen des Entwicklers in einem
Entwicklertank über einen
längeren
Zeitraum behandelt werden kann, wenn man zu dem Entwickler eine
wäßrige Lösung mit
einer höheren
Alkalinität
(Auffüllösung) als
der des Entwicklers gibt. Dieses Auffüllverfahren wird in der vorliegenden Erfindung
vorzugsweise eingesetzt. Um die Entwicklungseigenschaften zu fördern oder
zu inhibieren, oder um die Dispersionseigenschaften vom im Entwickler
gebildeten Schmutz und die Tintenaffinität in einem Bildabschnitt der
Druckplatten zu fördern,
kann man verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel zu dem Entwickler
und der Auffüllösung gegebenenfalls
geben. Beispiele bevorzugter Tenside sind anionische, kationische,
nichtionische und amphotere Tenside. Ferner kann man gegebenenfalls
ein Reduktionsmittel, wie Hydrochinon, Resorcin, ein Natriumoder
Kaliumsalz einer anorganischen Säure
(wie schweflige Säure,
Hydrogen-schweflige Säure
und dgl.) und ferner organische Carbonsäuren, Entschäumer und
Wasserenthärter
zu dem Entwickler und der Auffüllösung geben.
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Eine Druckplatte, die mit dem zuvor
beschriebenen Entwickler und der zuvor beschriebenen Auffüllösung entwickelt
wurde, wird mit Wasser, einer Tenside und dgl. enthaltenden Spüllösung und
einer die Empfindlichkeit herabsetzenden Lösung, welche Gummi arabicum
oder ein Stärkederivat
enthält,
nachbehandelt. Wenn man das erfindungsgemäße bildgebende Material als
Druckplatte zum Drucken verwendet, kann man eine Vielzahl von Kombinationen
der zuvor beschriebenen Behandlungen für die Nachbehandlung einsetzen.
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Neuerdings findet eine automatische
Entwicklungsvorrichtung ein breite Anwendung bei der Plattenherstellung
und in der Druckindustrie im Hinblick auf die Rationalisierung und
Standardisierung des Plattenherstellungsbetriebs. Im allgemeinen
umfaßt
diese automatische Entwicklungsvorrichtung einen Entwicklerabschnitt
und einen Nachbehandlungsabschnitt und ferner eine Vorrichtung zum
Transportieren der Druckplatte, Behandlungstanks und Sprühvorrichtungen.
In solch einer automatischen Entwicklungsvorrichtung wird die Entwicklungsbehandlung
durchgeführt,
indem man Entwicklerlösung,
die über
eine Pumpe von einer Sprühdüse auf eine
freigelegte Druckplatte gepumpt wird, aufsprüht, während die Druckplatte horizontal
weiterbefördert
wird. Darüber
hinaus wurde vor kurzem ebenfalls ein Entwicklungsbehandlungsverfahren
gefunden, bei dem eine Druckplatte in einen Behandlungslösungstank
getaucht wird, der mit der Entwicklungsbehandlungslösung gefüllt ist,
während
die Druckplatte über
Führungsrollen
in der Entwicklungsbehandlungslösung
weiterbefördert
wird. Bei solch einer automatischen Entwicklungsbehandlung kann
die Druckplatte entwickelungsbehandelt werden, während man eine Auffüllösung für jede Entwicklungsbehandlungslösung in
Abhängigkeit
von der Menge der zu behandelnden Druckplatten, der Arbeitszeit
und dgl. wieder auffüllt.
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Man kann auch eine sogenannte Entwicklungsbehandlung
unter Verwerfen, die keine Auffüllösung einsetzt,
auf die vorliegende Erfindung anwenden, wobei eine Druckplatte mit
einer frischen Entwicklungsbehandlungslösung behandelt wird, die im
wesentlichen noch nicht verwendet wurde.
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Nun wird der Fall beschrieben, bei
dem man das erfindungsgemäße bildgebende
Material als Flachdruckplatte verwendet. Wenn auf einer Flachdruckplatte,
die man durch bildhaftes Belichten und danach Entwickeln und Waschen
mit Wasser und/oder Spülen
und/oder das Entfernen von Gummi erhalten hat, ein nicht erforderlicher
Bildabschnitt vorliegt (beispielsweise die Spur einer Filmkante
eines ursprünglichen
Films und dgl.), entfernt man diesen unnötigen Bildabschnitt. Als Verfahren
zum Entfernen ist ein Verfahren bevorzugt, wie es in JP-B-2-13293
beschrieben ist, worin man das Entfernen durch Beschichten des unnötigen Bildabschnitts
mit einer Entfernungslösung,
Stehenlassen für
einen vorbestimmten Zeitraum und Waschen mit Wasser durchführt. Ein
Verfahren, wie es in JP-A-59-174842 beschrieben ist, wo der nichterforderliche Bildabschnitt
vor der Entwicklung mit Aktivstrahlung bestrahlt wird, die durch
eine optische Faser geführt
wird, kann ebenfalls eingesetzt werden.
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Die so erhaltene Flachdruckplatte
kann man, falls gewünscht,
einem Druckschritt unterziehen, nachdem sie mit einem die Empfindlichkeit
herabsetzenden Gummi beschichtet wurde. wenn eine Flachdruckplatte mit
einer höheren
Plattenabriebbeständigkeit
erwünscht
ist, unterzieht man die Platte einer Brennbehandlung.
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Wenn man eine Flachdruckplatte einer
Brennbehandlung unterzieht, wird die Platte vorzugsweise mit einer
Gegenätzlösung behandelt,
wie sie in JP-B-61-2518, 55-258062, JP-A-62-31859 und JP-A-61-159655 beschrieben
ist.
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Solch eine Behandlung umfaßt ein Verfahren
zum Beschichten der Platte mit einer Gegenätzlösung unter Verwendung eines
Schwamms oder absorbierender Baumwolle, die mit der Gegenätzlösung imprägniert wurde,
oder das Beschichten der Platte mit einer Gegenätzlösung durch Eintauchen der Platte
in eine mit der Gegenätzlösung gefüllte Schale
und ein Verfahren zum Auftragen der Gegenätzlösung mit einem automatischen
Beschichter. Ferner ergibt das Nivellieren der Menge mit einem Rakel
("squeegee") oder einer Rakelwalze
(Gummiwalze) nach dem Beschichten bessere Ergebnisse.
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Im allgemeinen beträgt die Menge
der aufzutragenden Gegenätzlösung geeigneterweise
0,03 bis 0,8 g/m2 (Trockengewicht).
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Die mit der Gegenätzlösung beschichtete Flachdruckplatte
wird gegebenenfalls getrocknet und mit einem Brennprozessor (wie
dem Brennprozessor BP-1300, käuflich
erhältlich
bei Fuji Photo Film Co., Ltd.) auf eine erhöhte Temperatur gebracht. Die
Heiztemperatur und -dauer liegen vorzugsweise im Bereich von 180 bis
300°C bzw.
1 bis 20 Minuten, abhängig
von der Art der das Bild erzeugenden Komponenten.
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Die brennbehandelte Flachdruckplatte
kann gegebenenfalls bekannten Behandlungen unterzogen werden, wie
dem Waschen mit Wasser, Gummibeschichtung und dgl. Wenn man eine
Gegenätzlösung verwendet,
die ein wasserlösliches
Polymer und dgl. enthält,
kann man die sogenannte Desensibilisierungsbehandlung (Behandlung
zum Herabsetzen der Empfindlichkeit), beispielsweise durch Gummibeschichtung
und dgl. weglassen.
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Die durch diese Behandlung erhaltene
Flachdruckplatte wird auf eine Offsetdruckpresse montiert und zum
Drucken einer Vielzahl von Kopien verwendet.
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Das erfindungsgemäße bildgebende Material kann
ausgezeichnete Eigenschaften aufweisen. Ferner, ist es bevorzugt,
wenn man das Substrat mit der Lösung,
welche die positive photoempfindliche Zusammensetzung enthält mit einer
Vorrichtung, wie sie in 1 gezeigt
wird, beschichtet und trocknet.
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Beispiele Die vorliegende Erfindung
wird als nächstes
im Detail anhand von Beispielen beschrieben, die nicht als die Erfindung
begrenzend verstanden werden sollten.
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Synthesebeispiel für Copolymer 1 Man
gab Methacrylsäure
(31,0 g, 0,36 mol), Ethylchlorformiat (39,1 g, 0,36 mol) und 200
ml Acetonitril in einen 500 ml-Dreihalskolben,
der mit einem Rührer,
einem Kühlrohr
und einem Tropftrichter ausgestattet war und rührte die Mischung unter Kühlung in
einem Eiswasserbad. Zu dieser Mischung tropfte man Triethylamin
(36,4 g, 0,36 mol) in etwa einer Stunde über den Tropftrichter zu. Nach
Beendigung der Zugabe entfernte man das Eiswasserbad und rührte die
Mischung 30 Minuten bei Raumtemperatur.
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Zu dieser Reaktionsmischung gab man
p-Aminobenzolsulfonamid (51,7 g, 0,30 mol) und rührte die Mischung unter Erhitzen
in einem Ölbad
bei 70°C über eine
Stunde. Nach Beendigung der Reaktion, goß man diese Mischung in 1 l
Wasser unter Rühren
und rührte
die resultierende Mischung 30 Minuten lang. Diese Mischung
wurde filtriert und der Rückstand
isoliert. Diesen Rückstand
goß man
in 500 ml Wasser, um eine Aufschlämmung zu bilden, und filtrierte
diese Aufschlämmung.
Dann trocknete man den resultierenden Feststoff und erhielt N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid
als weißen
Feststoff (Ausbeute: 46,9 g).
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Dann gab man N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid
(5,04 g, 0,021 mol), Ethylmethacrylat (2,05 g, 0,0180 mol), Acetonitril
(1,11 g, 0,021 mol) und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen 100 ml-Dreihalskolben, der
mit einem Rührer,
einem Kühlrohr
und einem Tropftrichter ausgestattet war, und rührte die Mischung unter Erhitzen
in einem Heißwasserbad
bei 65°C.
Zu dieser Mischung gab man 0,15 g "V-65" (hergestellt
von Wako Pure Pharmaceutical Co., Ltd.) und rührte die Mischung zwei Stunden
unter einem Stickstoffstrom, wobei man die Temperatur bei 65°C hielt.
Zu dieser Reaktionsmischung tropfte man ferner eine Mischung von
5,04 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g Ethylmethacrylat,
1,11 g Acetonitril, 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g "V-65" zwei Stunden lang über einen
Tropftrichter zu. Nach Beendigung des Zutropfens wurde die resultierende
Mischung zwei weitere Stunden bei 65°C gerührt. Nach Beendigung der Reaktion
gab man 40 g Methanol zu der Mischung. Nach dem Abkühlen goß man die
resultierende Mischung in 2 l Wasser unter Rühren und rührte die Mischung
30 Minuten
lang. Der Niederschlag wurde durch Filtration isoliert und getrocknet,
wobei man 15 g eines weißen
Feststoffes erhielt. Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht (Polystyrolstandard)
dieses Copolymers wurde durch Gelpermeationschromatographie gemessen.
Im Ergebnis betrug es 53 000.
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Synthesebeispiel für Copolymer
2
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Auf die gleiche Weise wie in Synthesebeispiel 1 beschrieben,
abgesehen von der Änderung
von N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (5,04 g, 0,0210 mol)
zu N-(p-Hydroxyphenyl)methacrylamid (3,72 g, 0,0210 mol) in der
Polymerisationsreaktion des Synthesebeispiels 1, führte man
die Polymerisationsreaktion durch und erhielt das Copolymer 2 mit
einem gewichtsgemittelten Molekulargewicht (Polystyrolstandard)
von 47 000.
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Herstellung
des Substrats
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Nach dem Waschen einer Aluminiumplatte
(Typ 1050) mit einer Dicke von 0,30 mm mit Trichlorethylen zwecks
Entfettung wurde die Plattenoberfläche mit einer Nylonbürste und
einer wäßrigen Suspension
aus 400 mesh Pamiston sandgestrahlt und gut mit Wasser gewaschen.
Diese Platte tauchte man in eine 25%ige wäßrige Natriumhydroxid-Lösung
9 Sekunden
bei 45°C,
um sie zu ätzen,
wusch sie mit Wasser, tauchte sie 20 Sekunden in 2%ige HNO
3 und wusch erneut mit Wasser. Zu diesem
Zeitpunkt betrug die Ätzmenge
der sandgestrahlten Oberfläche
etwa 3 g/m
2. Nachdem man unter Verwendung
von 7%iger H
2SO
4 als
Elektrolyselösung bei
einer Stromdichte von 15 A/dm2 3 g/m
2 eines
Direktstrom-anodisierten Oxidfilms auf dieser Platte erzeugt hatte,
wurde die Platte mit Wasser gewaschen und getrocknet, wobei man
das Substrat A erhielt. Dann wurde diese Aluminiumplatte mit der
folgenden Grundierungslösung
beschichtet und 30 Sekunden bei 80°C getrocknet, wobei man das
Substrat B erhielt. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug
10 mg/m
2. Grundierungslösung
β-Alanin | 0,5
g |
Methanol | 95
g |
Reines
Wasser | 5
g |
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Beispiel 1
-
Das resultierende Substrat B wurde
mit der folgenden photoempfindlichen Lösung A1 beschichtet und 2 Minuten
bei 100°C
getrocknet, wobei man die Schicht A erhielt. Die Beschichtungsmenge
nach dem Trocknen betrug 1,4 g/m2.
-
Dann trug man die folgende photoempfindliche
Lösung
B1 darauf schichtweise auf und trocknete 2 Minuten bei 100°C, wobei
man die Schicht (B) und eine Flachdruckplatte erhielt. Die Gesamtbeschichtungsmenge
der photoempfindlichen Lösung
nach dem Trocknen betrug 2,0 g/m2. Photoempfindliche
Lösung
A1
Copolymer
1 | 0,75 |
Cyanin-Farbstoff
A | 0,04
g |
p-Toluolsulfonsäure | 0,002
g |
Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,05
g |
Ein
Farbstoff, den man unter sulfonsäure-Anion
als Paar-Anion Verwendung von 1-Naphthalindes Viktoria-Beinblaus
BOH gewonnen hatte | 0,15
g |
Tensid
vom Fluortyp | 0,02
g |
(Megafack
F-177, hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) γ-Butyrolacton | 8
g |
Methylethylketon | 7
g |
1-Methoxy-2-propanol | 7
g |
Photoempfindliche
Lösung
B1
m,p-Cresolnovolak | 0,25
g |
(m/p-Verhältnis: 6/4,
gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 4000) Cyanin-Farbstoff A | 0,05
g |
n-Dodecylstearat | 0,02
g |
Tensid
vom Fluor-Typ | 0,05
g |
(Megafack
F-177, hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Methylethylketon | 7
g |
1-Methoxy-2-propanol | 7
g |
-
Beispiel 2
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Das resultierende Substrat wurde
mit der folgenden photoempfindlichen Lösung A2 beschichtet und 2 min
bei 100°C
getrocknet, wobei man die Schicht (A) erhielt. Die Beschichtungsmenge
nach dem Trocknen betrug 1,5 g/m2.
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Dann wurde die folgende photoempfindliche
Lösung
B2 darauf schichtweise aufgetragen und nach dem folgenden Verfahren
getrocknet. Hierzu blies man direkt nach dem Beschichten Hochdruckluft
(3000 mmAq) auf die Beschichtung durch eine Schlitzdüse
12 und
erhitzte gleichzeitig auf 130°C
mit einer Heizwalze, wobei man die Führungswalze
14 zu
einer Heizwalze geändert
hatte, in der in
1 gezeigten
Trocknungszone, um die Schicht (B) zu erzeugen und erhielt auf diese
Weise eine Flachdruckplatte. Die Gesamtbeschichtungsmenge der photoempfindlichen
Lösung
nach dem Trocknen betrug 2,0 g/m
2. Photoempfindliche
Lösung
A2
m/p-Cresolnovolak | 0,75
g |
(m/p-Verhältnis: 6/4,
gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 4000) Copolymer 2 | 0,10
g |
Cyanin-Farbstoff
B | 0,3
g |
2,6-Bishydroxymethyl-p-cresol | 0,02
g |
p-Toluolsulfonsäure | 0,005
g |
Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,01
g |
Ein
Farbstoff, den man unter Verwendung von 1-Naphthalinsulfonsäure als Paar-Anion
von Viktoria-Reinblau
BOH hergestellt hatte | 0,015
g |
Tensid
vom Fluor-Typ | 0,02
g |
(Megafack
F-177, hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Methylethylketon | 12
g |
1-Methoxy-2-propanol | 10
g |
Photoempfindliche
Lösung
B2
m,p-Cresolnovolak | 0,25
g |
(m/p-Verhältnis: 6/4,
gewichtsgemitteltes Molekulargewicht: 4000) Cyanin-Farbstoff B | 0,07
g |
n-Dodecylstearat | 0,02
g |
Tensid
vom Fluor-Typ | 0,05
g |
(Megafack
F-177, hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Methylethylketon | 7
g |
1-Methoxy-2-propanol | 7
g |
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Vergleichsbeispiel 1
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Man beschichtete das resultierende
Substrat B nur mit der in Beispiel 1 verwendeten photoempfindlichen
Lösung
A1 und trocknete 2 Minuten bei 100°C, um eine photoempfindliche
Schicht zu erzeugen, und erhielt auf diese Weise eine Flachdruckplatte.
Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 1,4 g/m2.
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Vergleichsbeispiel 2
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Man stellte eine photoempfindliche
Lösung
her, indem man ein p-Cresolnovolak (m/p-Verhältnis: 6/4, gewichtsgemitteltes
Molekulargewicht: 4000) anstelle des Copolymers 1 der in
Beispiel 1 verwendeten photoempfindlichen Lösung A1 einsetzte. Das resultierende
Substrat B wurde mit dieser beschichtet und 2 Minuten bei 100°C getrocknet,
um eine photoempfindliche Schicht zu erzeugen, wodurch man eine
Flachdruckplatte erhielt. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen
betrug 1,4 g/m2.
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(Bewertung der Flachdruckplatte)
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Die, wie zuvor beschrieben, in den
Beispielen 1, 2 und den Vergleichsbeispielen 1, 2 erhaltenen
Flachdruckplatten wurden nach den folgenden Kriterien bewertet.
Die Ergebnisse werden in der Tabelle 1 gezeigt.
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(Empfindlichkeit und Spielraum)
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Man belichtete die resultierenden
Flachdruckplatten mit Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 830
nm, die von einem Halbleiterlaser emittiert wurde, der eine Ausgangsleistung
von 500 mW und einen Strahldurchmesser von 17 um (1/e 2) aufwies,
bei einer Hauptscan-Geschwindigkeit von 5 m/Sekunde. Nach dem Belichten
wurden die Platten mit einer automatischen Entwicklungsvorrichtung
entwicklungsbehandelt, die mit einem Entwickler DP-4 und einer Spüllösung FR-3
(1 : 7) (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) gefüllt wurde.
In jedem Fa11 verwendete man zwei Entwickler, die man jeweils durch
Verdünnen
in einem Verdünnungsverhältnis von
1 : 8 und 1 : 6 gewonnen hatte und maß jede Linienbreite der resultierenden
Nichtbildbereiche. Dann wurde jeweils die der Linienbreite entsprechende
Bestrahlungsenergie bestimmt und als Empfindlichkeit genommen. Der
Unterschied in der Empfindlichkeit zwischen einer Verdünnung in
einem Verdünnungsverhältnis von
1 : 8 bzw. 1:6 wurde aufgezeichnet. Je kleiner der Unterschied war,
desto besser war der Entwicklungsspielraum. Wenn der Entwicklungsspielraum
nicht mehr als 20 mJ/cm2 betrug, hatte er
ein für
den praktischen Gebrauch ausreichendes Niveau erreicht.
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(Plattenabriebbeständigkeit)
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Die mit DP-4 (1 : 8) entwicklungsbehandelten
Flachdruckplatten wurden zum Bedrucken eines holzfreien Papiers
mit einer Heidel KOR-D-Maschine, die von Heidelberg Co. hergestellt
wird, genutzt. Das Drucken wurde unter Abwischen der Plattenoberfläche mit
einer Reinigungslösung
(Plate Cleaner CL2, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) nach
jeweils 5 000 Kopien durchgeführt.
Die Gesamtzahl der Kopien wird in Tabelle 1 gezeigt. Die Gesamtzahl
der Kopien bedeutet die Zahl der erzielten Kopien, bis es zu einem
sogenannten ausgewaschenen Druck kommt, d. h. die photoempfindliche
Schicht der Flachdruckplatte eine Reduktion der Filmdicke verursacht
und die Tinte teilweise nicht mehr aufgetragen wird.
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Wie man an Tabelle 1 sieht, ist die
erfindungsgemäße Flachdruckplatte,
die eine photoempfindliche Schicht mit einer Doppelschichtstruktur,
welche eine Schicht A und eine Schicht B umfaßt, in ihrem Entwicklungsspielraum
und ihrer Plattenabriebbeständigkeit
den Vergleichsbeispielen 1 und 2 überlegen
und zeigt ferner eine ausgezeichnete Empfindlichkeit. Andererseits
sind die Vergleichsbeispiele, die eine nur aus der Schicht (A) bestehende
photoempfindliche Schicht aufweisen, hinsichtlich des Entwicklungsspielraumes
unterlegen und insbesondere Vergleichsbeispiel 2, das kein Copolymer
einsetzt, welches ein spezifisches Monomer gemäß der vorliegenden Erfindung
enthält,
zeigt eine schlechtere Plattenabriebbeständigkeit.
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Dementsprechend kann das erfindungsgemäße photoempfindliche
bildgebende Material zur Verwendung mit einem Infrarotlaser schlechte
Bilderzeugungseigenschaften verbessern, wenn man eine in wäßriger Alkalilösung lösliche Polymerverbindung
in einer Aufzeichnungsschicht verwendet. Ferner kann man das erfindungsgemäße bildgebende
Material geeigneterweise als photoempfindliches bildgebendes Material
einsetzen, das frei von Beschränkungen
hinsichtlich des Handhabungsorts ist, und das eine ausgezeichnete
Plattenabriebbeständigkeit, Stabilität gegenüber der
Konzentration einer Entwicklungslösung, d. h. einen guten Entwicklungsspielraum
und eine ausgezeichnete Plattenabriebsbeständigkeit bei hoher Empfindlichkeit
aufweist.