DE60020286T2 - Lichtempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellte Flachdruckplatte-Vorstufe - Google Patents

Lichtempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellte Flachdruckplatte-Vorstufe Download PDF

Info

Publication number
DE60020286T2
DE60020286T2 DE60020286T DE60020286T DE60020286T2 DE 60020286 T2 DE60020286 T2 DE 60020286T2 DE 60020286 T DE60020286 T DE 60020286T DE 60020286 T DE60020286 T DE 60020286T DE 60020286 T2 DE60020286 T2 DE 60020286T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
group
groups
hydroxyphenyl
compound
independently
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE60020286T
Other languages
English (en)
Other versions
DE60020286D1 (de
Inventor
Ippei Yoshida-cho Nakamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE60020286D1 publication Critical patent/DE60020286D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE60020286T2 publication Critical patent/DE60020286T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08L61/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G16/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00
    • C08G16/02—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes
    • C08G16/0212—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes with acyclic or carbocyclic organic compounds
    • C08G16/0218—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes with acyclic or carbocyclic organic compounds containing atoms other than carbon and hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G16/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00
    • C08G16/02—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes
    • C08G16/0212—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes with acyclic or carbocyclic organic compounds
    • C08G16/0218—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes with acyclic or carbocyclic organic compounds containing atoms other than carbon and hydrogen
    • C08G16/0231—Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers not provided for in the groups C08G4/00 - C08G14/00 of aldehydes with acyclic or carbocyclic organic compounds containing atoms other than carbon and hydrogen containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C08K5/18—Amines; Quaternary ammonium compounds with aromatically bound amino groups
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/46—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography characterised by the light-to-heat converting means; characterised by the heat or radiation filtering or absorbing means or layers
    • B41M5/465—Infrared radiation-absorbing materials, e.g. dyes, metals, silicates, C black
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145—Infrared
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
  • Gebiet der Erfindung:
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine fotoempfindliche Zusammensetzung, die als Bilderzeugungsmaterial vom positiven Typ geeignet ist, und ferner einen Planografie-Druckplattenvorläufer unter Verwendung der Zusammensetzung. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine Bilderzeugungszusammensetzung vom positiven Typ, die zur Verwendung mit einem Infrarotlaser vorgesehen und durch Beschreibbarkeit mittels Hitze gekennzeichnet ist, insbesondere mit einem Infrarotlaser, einem Thermokopf oder dergleichen, und durch die Eignung zur Verwendung in einem Planografie-Druckplattenvorläufer, der durch das sogenannte direkte Plattenherstellungsverfahren, in dem die Platte direkt gemäss digitalen Signalen hergestellt wird, insbesondere von einem Computer oder dergleichen, hergestellt werden kann. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner einen Planografie-Druckplattenvorläufer unter Verwendung der vorgenannten Zusammensetzung.
  • Beschreibung des Standes der Technik:
  • In den letzten Jahren hat aufgrund von Fortschritten in Technologien, die verwandt sind mit Feststofflasern und Halbleiterlasern, die Strahlen in Bereichen abgeben, die sich vom Nahinfrarotbereich bis zum Infrarotbereich erstrecken, ein System, das diese Infrarotlaser in einem Druckplatten-Herstellungsverfahren verwendet, so dass eine Druckplatte direkt durch digitale Daten von einem Computer hergestellt wird, Aufsehen erregt.
  • JP-A-7-285275 offenbart ein Material für einen Planografie-Druckplattenvorläufer vom positiven Typ zur Verwendung mit einem Infrarotlaser in direkter Plattenherstellung. Diese Erfindung betrifft ein Bilderzeugungsmaterial, umfassend ein in einer wässrigen alkalischen Lösung lösliches Harz, eine Substanz, die in der Lage ist, durch Lichtabsorption Hitze zu generieren, und eine fotoempfindliche Verbindung vom positiven Typ, wie beispielsweise Chinondiazid, worin die fotoempfindliche Verbindung vom positiven Typ in Bildteilen als auflösungsinhibierendes Mittel wirkt, das das Auflösungsvermögen des in der wässrigen, alkalischen Lösung löslichen Harzes wesentlich herabsetzt, wohingegen die Verbindung vom positiven Typ in Nicht-Bildteilen thermisch zersetzt wird, hierdurch ihre auflösungsinhibierende Fähigkeit verliert und durch Entwickeln entfernt werden kann.
  • Als Ergebnis ihrer Untersuchungen haben die Erfinder herausgefunden, dass ein positives Bild ohne Verwendung eines Chinondiazids in einem Bildaufnahmematerial erhalten werden kann. Die Eliminierung von Chinondiazid aus dem Bildaufnahmematerial allein führt jedoch zu einem Nachteil, worin die Stabilität der Empfindlichkeit bezüglich der Konzentration des Entwicklers, d.h. der Entwicklungsspielraum, schlecht wird.
  • Andererseits ist es bekannt, dass ein Oniumsalz oder eine Verbindung, die in der Lage ist, alkaliunlösliche Wasserstoffbrückenbindungen einzugehen, als Mittel wirkt, das verhindert, dass ein alkalilösliches Polymer in einer Base gelöst wird. Hinsichtlich eines bilderzeugenden Materials zur Verwendung mit einem Infrarotlaser, beschreibt WO 97/39894, dass eine Zusammensetzung, die einen kationischen, Infrarotstrahlung absorbierenden Farbstoff als Mittel, das verhindert, dass ein alkalilösliches Polymer in einer Base gelöst wird, verwendet, einen Vorgang vom positiven Typ aufweist. Dieser Vorgang vom positiven Typ ist ein Vorgang, in dem der Infrarotstrahlung absorbierende Farbstoff das Laserlicht absorbiert und Hitze generiert, wodurch der polymere Film im bestrahlten Bereich seinen auflösungsinhibierenden Effekt verliert und hierdurch ein Bild erzeugt.
  • Diese Erfindung ist jedoch mit dem Problem verbunden, dass, obwohl die bilderzeugende Leistung der fotoempfindlichen Zusammensetzung auf einer ihrer Oberflächen, die mit einem Laser bestrahlt wurde, zufriedenstellend ist, ein zufriedenstellender Effekt in der Tiefe der Zusammensetzung nicht erzielt werden kann, weil keine ausreichende Menge an Hitze in die Tiefe diffundiert und als Folge hiervon eine EIN/AUS-Unterscheidung zwischen belichteten Bereich und unbelichteten Bereichen in einem alkalischen Entwicklungsprozess unzureichend ist. Folglich wird kein gutes Bild erhalten (d.h. es kommt zu einer niedrigen Empfindlichkeit und einem engen Entwicklungsspielraum. Der Begriff "Entwicklungsspielraum", so wie er hier verwendet wird, bezeichnet den Spielraum des zulässigen Spektrums von Alkalikonzentrationen eines alkalischen Entwicklers für die Erzeugung eines guten Bildes.
  • Das Dokument EP-A-823 327 offenbart eine fotoempfindliche Zusammensetzung, umfassend ein Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel und eine polymere Verbindung, die in Wasser unlöslich, aber in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, und die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich wird, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird. Das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel kann ein Cyaninfarbstoff, ein Polymethinfarbstoff, ein Pyryliumfarbstoff oder ein Thiopyryliumfarbstoff sein.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
  • Dementsprechend ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine fotoempfindliche Zusammensetzung, die gekennzeichnet ist durch eine hohe Empfindlichkeit und einen guten Entwicklungsspielraum, und einen Planografie-Druckplattenvorläufer vom positiven Typ bereitzustellen, für den die vorgenannte Zusammensetzung in einem direkten Plattenherstellungsverfahren verwendet wird, und der es erlaubt, dass ein Bild mit hoher Empfindlichkeit mit einem Infrarotlaser erzeugt wird.
  • Nach einer Reihe von Untersuchungen mit dem Ziel der Verbesserung der Bilderzeugungsleistung, d.h. die Empfindlichkeit und den Entwicklungsspielraum zu erhöhen, fanden die Erfinder heraus, dass der Entwicklungsspielraum durch die Verwendung von speziellen Infrarotstrahlung absorbierenden Mitteln verbessert wurde.
  • Eine fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss der vorliegenden Erfindung umfasst nämlich die folgenden Komponenten (a) und (b) und wird in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird:
    • (a) ein Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel der folgenden allgemeinen Formel (I); und
    • (b) eine in Wasser unlösliche, aber in wässriger alkalischer Lösung lösliche polymere Verbindung (im folgenden manchmal als in wässriger alkalischer Lösung lösliche polymere Verbindung bezeichnet):
      Figure 00050001
      worin R1 bis R4 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; R5 und R6 sind jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe, eine substituierte Oxygruppe oder ein Halogenatom; n und m sind unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 0 bis 4; R1 und R2 oder R3 und R4 können miteinander unter Bildung eines Rings kombiniert sein, und R1 und/oder R2 können mit R5 kombiniert sein, oder R3 und/oder R4 können mit R6 kombiniert sein, wodurch ein Ring gebildet wird; mehrere R5 oder mehrere R6 können miteinander unter Bildung eines Rings kombiniert sein; Z1 und Z2 sind jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe, wobei mindestens eines von Z1 und Z2 ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe ist; Q ist eine Trimethingruppe oder eine Pentamethingruppe, die jeweils eine Substituentengruppe aufweisen können, und ist in der Lage, zusammen mit einer divalenten organischen Gruppe eine cyclische Struktur zu bilden; und X– ist ein Gegenanion.
  • Ein erfindungsgemässes Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel zur Verwendung in einer fotoempfindlichen Zusammensetzung zur Bilderzeugung durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Energie ist im wesentlichen frei von Chinondiazid und ist durch die oben genannte Formel (I) dargestellt.
  • Obwohl der Wirkmechanismus der fotoempfindlichen Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung nicht klar ist, wird angenommen, dass der Mechanismus der folgende ist. Die Verwendung von (a) dem durch die allgemeinen Formel (I) dargestellten Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel führt dazu, dass die erfindungsgemässe fotoempfindliche Zusammensetzung als Auflösungsinhibitor von (b), der in einer wässrigen alkalischen Lösung löslichen polymeren Verbindung, wirkt. Der auflösungsinhibierende Effekt kann in den mit Laser bestrahlten Teilen aufgehoben werden durch Hitze, die generiert wird, wenn das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel das Laserlicht absorbiert. Es wird angenommen, dass ein hoher Grad an Empfindlichkeit und ein verbesserter Entwicklungsspielraum erzielt werden können, weil das erfindungsgemässe, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel, das durch die allgemeine Formel (I) dargestellt wird, eine starke auflösungsinhibierende Eigenschaft besitzt und es erlaubt, dass die Absorption und das Erhitzen des oben genannten Laserlichts effizient durchgeführt wird. Des weiteren besitzt das erfindungsgemässe, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel, das durch die allgemeine Formel (I) dargestellt wird, eine hervorragende Löslichkeit in einem Lösungsmittel.
  • Des weiteren umfasst ein erfindungsgemässer Planografie-Druckplattenvorläufer ein Substrat und eine darauf ausgebildete fotoempfindliche Schicht, wobei die fotoempfindliche Schicht die oben genannte fotoempfindliche Zusammensetzung umfasst.
  • Mit der Verwendung des oben genannten, spezifischen, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels gemäss der vorliegenden Erfindung, ist die fotoempfindliche Zusammensetzung durch eine hohe Empfindlichkeit gekennzeichnet, Stabilität der Empfindlichkeit, wenn Entwickler mit verschiedenen Dichten verwendet werden, d.h. es können ein guter Entwicklungsspielraum und eine gute Lagerungsstabilität bereitgestellt werden. Des weiteren besitzt das erfindungsgemässe, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel eine hervorragende Löslichkeit in einem Lösungsmittel und weist zufriedenstellende Bilderzeugungseigenschaften auf, sogar wenn die Menge an zur fotoempfindlichen Zusammensetzung hinzugefügtem, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel herabgesetzt ist.
  • Zusätzlich kann der Planografie-Druckplattenvorläufer unter Verwendung dieser fotoempfindlichen Zusammensetzung direkt unter Verwendung der Infrarotlaser hergestellt werden und hat insoweit einen hervorragenden Effekt, als dass er einen hohen Grad an Empfindlichkeit und einen zufriedenstellenden Entwicklungsspielraum besitzt.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN:
  • Im folgenden werden Einzelheiten der vorliegenden Erfindung angegeben.
  • (a) Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel, dargestellt durch die allgemeine Formel (I):
  • Das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), kann dazu führen, dass die Löslichkeit in einem alkalischen Entwickler in einem bilderzeugenden Teil, durch die Wechselwirkung mit der oben beschriebenen, polymeren Verbindung, die in Wasser unlöslich, aber in wässriger alkalischer Lösung löslich ist, signifikant herabgesetzt wird. Des weiteren wird in einem nicht-bilderzeugenden Teil das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel, das durch die allgemeine Formel (I) dargestellt ist, selbst zersetzt und/oder die aus der durch die Absorption von Nahinfrarotstrahlung erzeugten Erhitzung resultierende Wechselwirkung führt zum Verlust der Fähigkeit, die Auflösung zu inhibieren. Als Folge hiervon erlangt der nicht-bilderzeugende Teil die Löslichkeit in wässriger alkalischer Lösung zurück, und es wird eine zufriedenstellende Diskriminierung bei der Erzeugung eines Bildes gezeigt.
  • Das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), wird im folgenden genauer beschrieben.
  • In der allgemeinen Formel (I) bezeichnen R1 bis R4 jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe.
  • R5 und R6 bezeichnen jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe, eine substituierte Oxygruppe oder ein Halogenatom.
  • n und m bezeichnen jeweils unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 0 bis 4.
  • R1 und R2 oder R3 und R4 können miteinander verbunden werden, um einen Ring zu bilden. R1 und/oder R2 können mit R5 verbunden werden, oder R3 und/oder R4 können mit R6 verbunden werden, um einen Ring zu bilden. Des weiteren können eine Mehrzahl von R5 oder eine Mehrzahl von R6 miteinander verbunden werden, um einen Ring zu bilden.
  • Z1 und Z2 bezeichnen jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe, und wenigstens eines von Z1 und Z2 bezeichnet ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe.
  • Q bezeichnet eine Trimethingruppe oder eine Pentamethingruppe, von denen jede eine Substituentengruppe besitzen kann. Q kann zusammen mit einer divalenten organischen Gruppe eine cyclische Struktur bilden. X– bezeichnet ein Gegenanion.
  • Im folgenden werden spezifische Beispiele des oben genannten, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels, das durch die allgemeine Formel (I) dargestellt wird, angeführt, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Beispiele der Alkylgruppe, die durch R1 bis R4, R5 und R6 sowie Z1 und Z2 dargestellt wird, schliessen eine lineare Alkylgruppe, eine verzweigte Alkylgruppe und eine cyclische Alkylgruppe ein, von denen jede 1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzt. Spezifische Beispiele der Alkylgruppe schliessen Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Pentyl-, Hexyl-, Heptyl-, Octyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Hexadecyl-, Octadecyl-, Eicosyl-, Isopropyl-, Isobutyl-, s-Butyl-, t-Butyl-, Isopentyl-, Neopentyl-, 1-Methylbutyl-, Isohexyl-, 2-Ethylhexyl-, 2-Methylhexyl-, Cyclohexyl-, Cyclopentyl- und 2-Norbornylgruppen ein. Unter diesen Gruppen sind eine lineare Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen bevorzugt.
  • Diese Alkylgruppen können eine Substituentengruppe besitzen, und bevorzugte Beispiele der Substituentengruppe sind monovalente nicht-metallische Atomgruppen, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms. Bevorzugte Beispiele der Substituentengruppe schliessen ein:
    Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Mercaptogruppen, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, Alkyldithiogruppen, Aryldithiogruppen, Aminogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, N-Arylaminogruppen, N,N-Diarylaminogruppen, N-Alkyl-N-arylamino-Gruppen, Aryloxygruppen, Carbamoyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppen, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxy-Gruppen, Alkylsulfoxygruppen, Arylsulfoxygruppen, Acylthiogruppen, Arylaminogruppen, N-Alkylacylaminogruppen, N-Arylacylaminogruppen, Ureidogruppen, N'-Alkylureidogruppen, N',N'-Dialkylureidogruppen, N'-Arylureidogruppen, N',N'-Diarylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-arylureido-Gruppen, N-Alkylureidogruppen, N-Arylureidogruppen, N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N-arylureidogruppen, N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppen, N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppen, N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Aryl-N-arylureido-Gruppen, N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppen, N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureido-Gruppen, Alkoxycarbonylaminogruppen, Aryloxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppen, N-Alkyl-N- aryloxycarbonylamino-Gruppen, N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppen, N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppen, Formylgruppen, Acylgruppen, Carboxylgruppen und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Carboxylat" bezeichnet), Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppen, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N,N-Diarylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen, Alkylsulfinylgruppen, Arylsulfinylgruppen, Alkylsulfonylgruppen, Arylsulfonylgruppen, Sulfogruppen (-SO3H) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Sulfonatogruppe" bezeichnet), Alkoxysulfonylgruppen, Aryloxysulfonylgruppen, Sulfinamoylgruppen, N-Alkylsulfinamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppen, N-Arylsulfinamoylgruppen, N,N-Diarylsulfinamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfinamoyl-Gruppen, Sulfamoylgruppen, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgruppen, N-Arylsulfamoylgruppen, N,N-Diarylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppen, N-Acylsulfamoylgruppen und konjugierte Basengruppen davon, N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppen (-SO2NHSO2R, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Arylsulfonylsulfamoylgruppen (SO2NHSO2Ar, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO2R, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Arylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO2Ar, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, Alkoxysilylgruppen (-Si(OR)3, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet), Aryloxysilylgruppen (-Si(OAr)3, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Hydroxysilylgruppen (-Si(OH)3) und konjugierte Basengruppen davon, Phosphonogruppen (-PO3H2) und konjugierte Basengruppen davon (nachstehend als "Phosphonatogruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonogruppen (-PO3R2, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet), Diarylphosphonogruppen (-PO3Ar2, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Alkylarylphosphonogruppen (-PO3(R)(Ar), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet und Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Monoalkylphosphonogruppen (-PO3H(R), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Alkylphosphonatogruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonogruppen (-PO3H(Ar), worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Arylphosphonatogruppe" bezeichnet), Phosphonoxygruppen (-OPO3H2) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Phosphonatoxygruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonoxygruppen (-OPO3(R)2, worin R einen Alkylgruppe bezeichnet), Diarylphosphonoxygruppen (-OPO3(Ar)2, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Alkylarylphosphonoxygruppen (-OPO3(R)(Ar), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet und Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Monoalkylphosphonoxygruppen (-OPO3H(R), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Alkylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonoxygruppen (-OPO3H(Ar), worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Arylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Cyanogruppen, Nitrogruppen, Arylgruppen, Alkenylgruppen und Alkinylgruppen.
  • Spezifische Beispiele der Alkylgruppen in diesen Substituentengruppen, die die Alkylgruppen substituieren, schliessen auch die zuvor beschriebenen Alkylgruppen ein. Des weiteren schliessen spezifische Beispiele der Arylgruppen in diesen Substituentengruppen ein: Phenyl-, Biphenyl-, Naphthyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, Cumenyl-, Fluorphenyl-, Chlorphenyl-, Bromphenyl-, Chlormethylphenyl-, Hydroxyphenyl-, Methoxyphenyl-, Ethoxyphenyl-, Phenoxyphenyl-, Acetoxyphenyl-, Benzoyloxyphenyl-, Methylthiophenyl-, Phenylthiophenyl-, Methylaminophenyl-, Dimethylaminophenyl-, Acetylaminophenyl-, Carboxyphenyl-, Methoxycarbonylphenyl-, Ethoxycarbonylphenyl-, Phenoxycarbonylphenyl-, N-Phenylcarbamoylphenyl-, Nitrophenyl-, Cyanophenyl-, Sulfophenyl-, Sulfonatophenyl-, Phosphonophenyl- und Phosphonatophenylgruppen.
  • Des weiteren schliessen spezifische Beispiele der Arylgruppen in diesen Substituentengruppen, die die Alkylgruppen substituieren, auch die zuvor beschriebenen Arylgruppen ein. Beispiele der Alkenylgruppen schliessen Vinyl-, 1-Propenyl-, 1-Butenyl-, Cinnamyl- und 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppen ein. Beispiele der Alkinylgruppen schliessen Ethinyl-, 1-Propinyl-, 1-Butinyl-, Trimethylsilylethinyl- und Phenylethinylgruppen ein. Beispiele der Acylgruppen (R1CO-) schliessen die Gruppen ein, in denen R1 eines der folgenden bezeichnet: ein Wasserstoffatom und die zuvor beschriebenen Alkyl-, Aryl-, Alkenyl- und Alkinylgruppen.
  • Unter diesen Substituentengruppen sind bevorzugt:
    Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, Acyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, Acylaminogruppen, Formylgruppen, Acylgruppen, Carboxylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppen, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen, Sulfogruppen, Sulfonatogruppen, Sulfamoylgruppen, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgruppen, N-Arylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppen, Phosphonogruppen, Phosphonatogruppen, Dialkylphosphonogruppen, Diarylphosphonogruppen, Monoalkylphosphonogruppen, Alkylphosphonatogruppen, Monoarylphosphonogruppen, Arylphosphonatogruppen, Phosphonoxygruppen, Phosphonatoxygruppen, Arylgruppen und Alkenylgruppen.
  • In den substituierten Alkylgruppen schliessen Beispiele der Alkylengruppe, die mit einer Substituentengruppe verbunden wird, um eine substituierte Alkylgruppe zu bilden, divalente organische Reste ein, die gebildet werden, wenn eines der Wasserstoffatome von den zuvor beschriebenen Alkylgruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen entfernt wird. Unter diesen Gruppen sind bevorzugt: eine lineare Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylengruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylengruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen. Bevorzugte spezifische Beispiele der substituierten Alkylgruppen, die durch die Verbindung der Substituentengruppen und der Alkylengruppen gebildet werden, schliessen ein: Chlormethyl-, Brommethyl-, 2-Chlorethyl-, Trifluormethyl-, Methoxymethyl-, Methoxyethoxyethyl-, Allyloxymethyl-, Phenoxymethyl-, Methylthiomethyl-, Tolylthiomethyl-, Ethylaminoethyl-, Diethylaminopropyl-, Morpholinopropyl-, Acetyloxymethyl-, Benzoyloxymethyl-, N-Cyclohexylcarbamoyloxyethyl-, N-Phenylcarbamoyloxyethyl-, Acetylaminoethyl-, N-Methylbenzoylaminopropyl-, 2-Oxoethyl-, 2-Oxopropyl-, Carboxypropyl-, Methoxycarbonylethyl-, Methoxycarbonylmethyl-, Methoxycarbonylbutyl-, Allyloxycarbonylbutyl-, Chlorphenoxycarbonylmethyl-, Carbamoylmethyl-, N-Methylcarbamoylethyl-, N,N-Dipropylcarbamoylmethyl-, N-(Methoxyphenyl)carbamoylethyl-, N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylmethyl-, Sulfopropyl-, Sulfobutyl-, Sulfonatobutyl-, Sulfamoylbutyl-, N-Ethylsulfamoylmethyl-, N,N-Dipropylsulfamoylpropyl-, N-Tolylsulfamoylpropyl-, N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-, Phosphonobutyl-, Phosphonatohexyl-, Diethylphosphonobutyl-, Diphenylphosphonopropyl-, Methylphosphonobutyl-, Methylphosphonatobutyl-, Tolylphosphonohexyl-, Tolylphosphonatohexyl-, Posphonoxypropyl-, Phosphonatoxybutyl-, Benzyl-, Phenethyl-, α-Methylbenzyl-, 1-Methyl-1-phenylethyl-, p-Methylbenzyl-, Cinnamyl-, Allyl-, 1-Propenylmethyl-, 2-Butenyl-, 2-Methylallyl-, 2-Methylpropenylmethyl-, 2-Propinyl-, 2-Butinyl- und 3-Butinylgruppen.
  • Beispiele für die Arylgruppe, die durch R1 bis R4, R5 und R6 sowie Z1 und Z2 bezeichnet werden, schliessen einen von 1 bis 3 Benzolringen gebildeten fusionierten Ring und einen durch einen Benzolring und einen 5-gliedrigen ungesättigten Ring gebildeten fusionierten Ring ein. Spezifische Beispiele schliessen Phenyl-, Naphthyl-, Antholyl-, Phenantholyl-, Indenyl-, Acenabutenyl- und Fluorenylgruppen ein. Unter diesen Gruppen sind Phenyl- und Naphthylgruppen bevorzugt.
  • Beispiele der substituierten Arylgruppen schliessen die zuvor beschriebenen Arylgruppen ein, worin ein ringbildendes Kohlenstoffatom als Substituentengruppe eine monovalente nicht-metallische Atomgruppe, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms, besitzt. Bevorzugte spezifische Beispiele der Substituentengruppe schliessen die zuvor beschriebenen Alkylgruppen und substituierten Alkylgruppen ein, sowie die Gruppen, die als Substituentengruppen in den substituierten Alkylgruppen beschrieben sind.
  • Zu bevorzugten spezifischen Beispielen dieser substituierten Arylgruppen gehören Biphenyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, Cumenyl-, Chlorphenyl-, Bromphenyl-, Fluorphenyl-, Chlormethylphenyl-, Trifluormethylphenyl-, Hydroxyphenyl-, Methoxyphenyl-, Methoxyethoxyphenyl-, Allyloxyphenyl-, Phenoxyphenyl-, Methylthiophenyl-, Tolylthiophenyl-, Phenylthiophenyl-, Ethylaminophenyl-, Dimethylaminophenyl-, Diethylaminophenyl-, Morpholinophenyl-, Acetyloxyphenyl-, Benzoyloxyphenyl-, N-Cyclohexylcarbamoyloxyphenyl-, N-Phenylcarbamoyloxyphenyl-, Acetylaminophenyl-, N-Methylbenzoylaminophenyl-, Carboxyphenyl-, Methoxycarbonylphenyl-, Allyloxycarbonylphenyl-, Chlorphenoxycarbonylphenyl-, Carbamoylphenyl-, N-Methylcarbamoylphenyl-, N,N-Dipropylcarbamoylphenyl-, N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenyl-, N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylphenyl-, Sulfophenyl-, Sulfonatophenyl-, Sulfamoylphenyl-, N-Ethylsulfamoylphenyl-, N,N-Dipropylsulfamoylphenyl-, N-Tolylsulfamoylphenyl-, N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-, Phosphonophenyl-, Phosphonatophenyl-, Diethylphosphonophenyl-, Diphenylphosphonophenyl-, Methylphosphonophenyl-, Methylphosphonatophenyl-, Tolylphosphonophenyl-, Tolylphosphonatophenyl-, Allylphenyl-, 1-Propenylmethylphenyl-, 2-Butenylphenyl-, 2-Methylallylphenyl-, 2-Methylpropenylphenyl-, 2-Propinylphenyl-, 2-Butinylphenyl- und 3-Butinylphenylgruppen.
  • Durch R5 und R6 bezeichnete, substituierte Oxygruppen können jene sein, in denen die Gruppe, die sich mit dem Sauerstoffatom verbindet, eine monovalente nichtmetallische Atomgruppe, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms ist. Zu bevorzugten Beispielen der substituierten Oxygruppe gehören Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Acyloxygruppen, Carbamoyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppen, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppen, Alkylsulfoxygruppen, Arylsulfoxygruppen, Phosphonoxygruppen und Phosphonatoxygruppen. Beispiele der Alkyl- und Arylgruppen in den zuvor genannten Gruppen schliessen die zuvor beschriebenen Gruppen, für welche Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen als Beispiele stehen, ein. Des weiteren schliessen Beispiele für die Acylgruppen (R13CO-) in den Acyloxygruppen die Acylgruppen ein, für deren R13 zuvor Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen als Beispiele angeführt wurden. Unter diesen Substituentengruppen sind Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Acyloxygruppen und Arylsulfoxygruppen bevorzugt. Zu bevorzugten spezifischen Beispielen der substituierten Oxygruppe gehören Methoxy-, Ethoxy-, Propyloxy-, Isopropyloxy-, Butyloxy-, Pentyloxy-, Hexyloxy-, Dodecyloxy-, Benzyloxy-, Allyloxy-, Phenethyloxy-, Carboxyethyloxy-, Methoxycarbonylethyloxy-, Ethoxycarbonylethyloxy-, Methoxyethoxy-, Phenoxyethoxy-, Methoxyethoxyethoxy-, Ethoxyethoxyethoxy-, Morpholinoethoxy-, Morpholinopropyloxy-, Allyloxyethoxyethoxy-, Phenoxy-, Tolyloxy-, Xyloloxy-, Mesityloxy-, Cumenyloxy-, Methoxyphenyloxy-, Ethoxyphenyloxy-, Chlorphenyloxy-, Bromphenyloxy-, Acetyloxy-, Benzoyloxy-, Naphthyloxy-, Phenylsulfonyloxy-, Phosphonoxy- und Phosphonatoxygruppen.
  • Beispiele des Halogenatoms in R5 und R6 schliessen Fluor, Chlor, Brom, Iod und dergleichen ein. R1 und R2 oder R3 und R4 können miteinander verbunden werden, um einen Ring zu bilden. R1 oder R2 kann mit R5 verbunden werden, oder R3 oder R4 kann mit R6 verbunden werden, um einen Ring zu bilden. Des weiteren können in einem Fall, in dem m und n grösser oder gleich 2 sind, eine Mehrzahl von R5 oder eine Mehrzahl von R6 miteinander verbunden werden, um einen Ring zu bilden. Zusätzlich können in einem Fall, in dem m oder n 2 ist, R1 und R2 mit R5 verbunden werden, oder R3 und R4 mit R6 verbunden werden, um einen Ring zu bilden. n und m stellen jeweils unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 0 bis 4 dar.
  • Es ist notwendig, dass wenigstens eines von Z1 und Z2 ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellt. In der vorliegenden Erfindung ermöglicht die Verwendung des oben beschriebenen, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels eine hervorragende Löslichkeit in einem Lösungsmittel, und zufriedenstellende Bilderzeugungseigenschaften treten sogar dann ein, wenn die Menge an zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung zugefügtem, Infrarotstrahlung absorbierendem Mittel herabgesetzt wird.
  • Beispiele für die Substituentengruppe von Q schliessen monovalente nicht-metallische Atomgruppen, ausschliesslich eines Wasserstoffatoms, ein. Bevorzugte Beispiele hiervon schliessen zunächst eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe ein, von denen jede eine Substituentengruppe haben kann. Spezifische Beispiele der Alkylgruppe und der Arylgruppe schliessen vorzugsweise die Beispiele der Alkylgruppe und der Arylgruppe ein, die durch R1 bis R4, R5 und R6 sowie Z1 und Z2, wie oben beschrieben, bezeichnet werden. Des weiteren schliessen bevorzugte Beispiele der Substituentengruppe von Q, zusätzlich zu den oben genannten Beispielen, eine Alkenylgruppe, die möglicherweise eine Substituentengruppe besitzt, sowie eine Alkinylgruppe, die möglicherweise eine Substituentengruppe besitzt, ein. Beispiele für die Alkenylgruppe schliessen eine Vinyl-, Phenylvinyl-, Dialkylaminophenylvinyl-, Phenylvinyl-, 1-Propenyl-, 1-Butenyl-, Cinnamyl-, 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe und dergleichen ein. Des weiteren schliessen Beispiele der Alkinylgruppe eine Ethinyl-, 1-Propinyl-, 1-Butinyl-, Trimethylsilylethinyl-, Phenylethinylgruppe und dergleichen ein. Des weiteren gehören zu bevorzugten Beispielen der Substituentengruppe von Q Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Mercaptogruppen, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, Alkyldithiogruppen, Aryldithiogruppen, Aminogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, N-Arylaminogruppen, N,N-Diarylaminogruppen, N-Alkyl-N-arylamino-Gruppen, Acyloxygruppen, Carbamoyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppen, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppen, Alkylsulfoxygruppen, Arylsulfoxygruppen, Acylthiogruppen, Acylaminogruppen, N-Alkylacylaminogruppen, N-Arylacylaminogruppen, Ureidogruppen, N'-Alkylureidogruppen, N',N'-Dialkylureidogruppen, N'-Arylureidogruppen, N',N'-Diarylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-arylureido-Gruppen, N-Alkylureidogruppen, N-Arylureidogruppen, N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N-arylureido-Gruppen, N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppen, N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppen, N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppen, N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppen, N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureido-Gruppen, Alkoxycarbonylaminogruppen, Aryloxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppen, N-Alkyl-N- aryloxycarbonylamino-Gruppen, N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppen, N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppen, Formylgruppen, Acylgruppen, Carboxylgruppen und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Carboxylat" bezeichnet), Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppen, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N,N-Diarylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen, Alkylsulfinylgruppen, Arylsulfinylgruppen, Alkylsulfonylgruppen, Arylsulfonylgruppen, Sulfogruppen (-SO3H) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Sulfonatogruppe" bezeichnet), Alkoxysulfonylgruppen, Aryloxysulfonylgruppen, Sulfinamoylgruppen, N-Alkylsulfinamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppen, N-Arylsulfinamoylgruppen, N,N-Diarylsulfinamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfinamoyl-Gruppen, Sulfamoylgruppen, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgruppen, N-Arylsulfamoylgruppen, N,N-Diarylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppen, N-Acylsulfamoylgruppen und konjugierte Basengruppen davon, N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppen (-SO2NHSO2R, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Arylsulfonylsulfamoylgruppen (-SO2NHSO2Ar, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO2R, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, N-Arylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO2Ar, worin Ar einen Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon, Alkoxysilylgruppen (-Si(OR)3, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet), Aryloxysilylgruppen (-Si(OAr)3, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Hydroxysilylgruppen (-Si(OH)3) und konjugierte Basengruppen davon, Phosphonogruppen (-PO3H2) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Phosphonatogruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonogruppen (-PO3R2, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet), Diarylphosphonogruppen (-PO3Ar2, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Alkylarylphosphonogruppen (-PO3(R)(Ar), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet und Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Monoalkylphosphonogruppen (-PO3H(R), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Alkylphosphonatogruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonogruppen (-PO3H(Ar), worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Arylphosphonatogruppe" bezeichnet), Phosphonoxygruppen (-OPO3H2) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Phosphonatoxygruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonoxygruppen (-OPO3R2, worin R eine Alkylgruppe bezeichnet), Diarylphosphonoxygruppen (-OPO3Ar2, worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Alkylarylphosphonoxygruppen (-OPO3(R)(Ar), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet und Ar eine Arylgruppe bezeichnet), Monoalkylphosphonoxygruppen (-OPO3H(R), worin R eine Alkylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Alkylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonoxygruppen (-OPO3H(Ar), worin Ar eine Arylgruppe bezeichnet) und konjugierte Basengruppen davon (im folgenden als "Arylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Cyanogruppen, Nitrogruppen und dergleichen.
  • Spezifische Beispiele der Alkylgruppen in diesen Substituentengruppen schliessen die zuvor beschriebenen Alkylgruppen ein. Des weiteren schliessen spezifische Beispiele der Arylgruppen in diesen Substituentengruppen ein: Phenyl-, Biphenyl-, Naphthyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, Cumenyl-, Fluorphenyl-, Chlorphenyl-, Bromphenyl-, Chlormethylphenyl-, Hydroxyphenyl-, Methoxyphenyl-, Ethoxyphenyl-, Phenoxyphenyl-, Acetoxyphenyl-, Benzoyloxyphenyl-, Methylthiophenyl-, Phenylthiophenyl-, Methylaminophenyl-, Dimethylaminophenyl-, Acetylaminophenyl-, Carboxyphenyl-, Methoxycarbonylphenyl-, Ethoxycarbonylphenyl-, Phenoxycarbonylphenyl-, N-Phenylcarbamoylphenyl-, Nitrophenyl-, Cyanophenyl-, Sulfophenyl-, Sulfonatophenyl-, Phosphonophenyl- und Phosphonatophenylgruppen.
  • Des weiteren schliessen Beispiele der Acylgruppen (R1CO-) die Gruppen ein, in denen R1 eines aus den folgenden bezeichnet: ein Wasserstoffatom und die zuvor beschriebenen Alkyl-, Aryl-, Alkenyl- und Alkinylgruppen.
  • Unter diesen Substituentengruppen mehr bevorzugt sind Alkylgruppen, Arylgruppen, Alkenylgruppen, Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Alkoxygruppen, die Hydroxylgruppe, Aryloxygruppen, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, Acyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, Acylaminogruppen, Formylgruppen, Acylgruppen, Carboxylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppen, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppen, Sulfogruppen, Sulfonatogruppen, Sulfamoylgruppen, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgruppen, N-Arylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppen, Phosphonogruppen, Phosphonatogruppen, Dialkylphosphonogruppen, Diarylphosphonogruppen, Monoalkylphosphonogruppen, Alkylphosphonatogruppen, Monoarylphosphonogruppen, Arylphosphonatogruppen, Phosphonoxygruppen und Phosphonatoxygruppen.
  • Des weiteren kann Q zusammen mit einer divalenten organischen Gruppe, wie beispielsweise der Alkylengruppe oder der Alkenylengruppe, einen Ring bilden. Beispiele für den gebildeten Ring schliessen einen Ring mit 4 bis 7 Atomen (ausschliesslich des Wasserstoffatoms) ein, und der auf dem Ring gebildete Wasserstoff kann durch die zuvor als bevorzugte Substituentengruppen von Q beschriebene Substituentengruppe ersetzt werden.
  • In der allgemeinen Formel (I) bezeichnet X– ein Gegenanion, und Beispiele hiervon schliessen MQn – (worin M ein Atom ist, ausgewählt aus B, P, As, Sb, Fe, Al, Sn, Zn, Ti, Cd, Mo, W und Zr; M bevorzugt B, P, As oder Sb ist; Q ein Halogenatom bezeichnet und n eine ganze Zahl von 1 bis 6 ist), MQn-1(OH)– (worin M, Q und n wiederum so sind, wie oben beschrieben), Br–, Cl–, I–, NO3 – und dergleichen ein. Bevorzugte Beispiele eines durch MQn – ausgedrückten Anions schliessen BF4 –, PF6 –, AsF6 –, SbF6 – und dergleichen ein. Von diesen ist das am meisten bevorzugte SbF6 –. Des weiteren schliessen bevorzugte Beispiele eines durch MQn-1(OH)– ausgedrückten Anions SbF6 – und dergleichen ein.
  • Des weiteren schliessen Beispiele anderer Anionen ein:
    • (1) ein Perchloration;
    • (2) ein Trifluormethylsulfition;
    • (3) ein Methansulfonation;
    • (4) ein Ethansulfonation;
    • (5) ein 1-Propansulfonation;
    • (6) ein 2-Propansulfonation;
    • (7) ein n-Propansulfonation;
    • (8) ein Allylsulfonation;
    • (9) ein 10-Kampfersulfonation;
    • (10) ein Trifluormethansulfonation;
    • (11) ein Pentafluorethansulfonation;
    • (12) ein Benzolsulfonation;
    • (13) ein p-Toluolsulfonation;
    • (14) ein 3-Methoxybenzolsulfonation;
    • (15) ein 4-Methoxybenzolsulfonation;
    • (16) ein 4-Hydroxybenzolsulfonation;
    • (17) ein 4-Chlorbenzolsulfonation;
    • (18) ein 3-Nitrobenzolsulfonation;
    • (19) ein 4-Nitrobenzolsulfonation;
    • (20) ein 4-Acetylbenzolsulfonation;
    • (21) ein Pentafluorbenzolsulfonation;
    • (22) ein 4-Dodecylbenzolsulfonation;
    • (23) ein Mesitylensulfonation;
    • (24) ein 2,4,6-Triisopropylbenzolsulfonation;
    • (25) ein 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonation;
    • (26) ein Isophthalsäuredimethyl-5-sulfonation;
    • (27) ein Diphenylamin-4-sulfonation;
    • (28) ein 1-Naphthalinsulfonation;
    • (29) ein 2-Naphthalinsulfonation;
    • (30) ein 2-Naphthol-6-sulfonation;
    • (31) ein 2-Naphthol-7-sulfonation;
    • (32) ein Anthrachinon-1-sulfonation;
    • (33) ein Anthrachinon-2-sulfonation;
    • (34) ein 9,10-Dimethoxyanthracen-2-sulfonation;
    • (35) ein 9,10-Diethoxyanthracen-2-sulfonation;
    • (36) ein Chinolin-8-sulfonation;
    • (37) ein 8-Hydroxychinolin-5-sulfonation;
    • (38) ein 8-Anilino-naphthalin-1-sulfonation
    und dergleichen.
  • Als nächstes folgt eine Beschreibung der Verfahren zur Herstellung des durch die oben genannte allgemeine Formel (I) dargestellten, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels.
  • Das durch die oben genannte allgemeine Formel (I) bezeichnete, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel kann durch repräsentative bekannte Verfahren synthetisiert werden, die beschrieben sind in: Justus Liebigs Ann. Chem., Bd. 623 (1959), Seiten 204–261; Ukr. Khi. Zh., Bd. 22 (1956), Seiten 347–348; Chem. Heterocycl. Compd., Bd. 18 (1982), Seiten 334–336; J. Heterocycl. Chem., Bd. 25 (1988), Seiten 1.321–1.325; JP-A-60-231766 und dergleichen.
  • Im folgenden werden Synthesebeispiele angegeben.
  • SYNTHESEBEISPIEL 1 – Synthese von IR-5
    • (1) 50,8 g 4-N,N-Diethylaminobenzaldehyd und 12,1 g Cyclopentanon wurden in 200 ml Ethanol aufgelöst. Hierzu wurden 31 g einer 10%-igen wässrigen Natriumhydroxidlösung zugegeben. Zur Umsetzung wurde die Lösung dann 8 Stunden bei einer Temperatur von 40 bis 50°C gerührt. Der kristalline Niederschlag wurde filtriert und mit 80 ml Ethanol sowie 200 ml Wasser gewaschen und getrocknet. Auf diese Weise wurden 52,5 g 2,5-Bis(4-N,N-diethylaminobenzyliden)cyclopentanon in Form eines orangefarbenen Kristalls erhalten.
    • (2) 12,1 g 2,5-Bis(4-N,N-diethylaminobenzyliden)cyclopentanon wurden in einer Lösungsmittelmischung aus 100 g Tetrahydrofurfurylalkohol und 150 g Tetrahydrofuran aufgelöst. Hierzu wurden 1,1 g Natriumborhydrid zugegeben. Nach Erhitzen der Lösung für 8 Stunden bei einer Temperatur von 30 bis 45°C, wurde eine gemischte Lösung aus 5,5 g 48%-iger Tetrafluorborsäure und 30 g Essigsäure bei Raumtemperatur in die Lösung gegeben. Der ausgefällte dunkelgrüne Kristall wurde filtriert, in Wasser gewaschen und getrocknet, um 5,5 g Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel IR-5 zu erhalten.
  • SYNTHESEBEISPIEL 2 – Synthese von IR-18
    • (1) 51,8 g 2-(N-Ethylanilino)ethanol und 31,7 g Triethylamin wurden in 300 ml Aceton aufgelöst. Hierzu wurden 25 g Acetylchlorid langsam unter Kühlung der resultierenden Reaktionslösung in Eiswasser zugegeben. Zur Umsetzung wurde die resultierende Lösung dann 6 Stunden bei Raumtemperatur gerührt. 200 ml Wasser wurden dann in die Lösung gegeben. Die organische Schicht wurde mit Ethylacetat extrahiert und mit Natriumsulfat getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann unter reduziertem Druck abdestilliert, um 64,9 g 2-(N-Ethylanilino)ethylacetat zu erhalten.
    • (2) 55,8 g eisgekühltes Phosphoroxychlorid wurden zu 26,6 g N,N-Dimethylformamid zugegeben. Hierzu wurde eine Lösung von 63,0 g des 2-(N-Ethylanilino)ethylacetats und 40 ml N,N-Dimethylformamid langsam bei Raumtemperatur zugegeben. Zur Umsetzung wurde die resultierende Lösung 6 Stunden bei Raumtemperatur gerührt und daraufhin in eine mit Eiswasser gekühlte, wässrige Lösung von 150 g Natriumacetat gegeben. Die organische Schicht wurde mit Ethylacetat extrahiert. Das Lösungsmittel wurde dann bei reduziertem Druck abdestilliert und durch Kieselgelchromatografie gereinigt, um 60,2 g 2-(Ethyl(4-formylphenyl)amino)ethylacetat zu erhalten.
    • (3) Eine Mischung aus 51,0 g 4-N,N-Diethylaminobenzaldehyd, 72,7 g Cyclopentanon, 19,0 g 85%-igen Natriumhydroxidplättchen und 450 ml Wasser wurde für 25 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Der Überschuss an Cyclopentanon wurde dann durch ein normales Verfahren abdestilliert. Der kristalline Niederschlag wurde filtriert, mit Ethanol gewaschen und getrocknet. Auf diese Weise wurden 45,5 g 2-(4-(Diethylamino)benzyliden)cyclopentanon in Form eines orangefarbenen Kristalls erhalten.
    • (4) 40,5 g des 2-(Ethyl(4-formylphenyl)amino)ethylacetats und 41,8 g 2-(4-(Diethylamino)benzyliden)cyclopentanon wurden in 120 ml Ethanol aufgelöst. Hierzu wurden 19 g einer 10%-igen wässrigen Natriumhydroxidlösung zugegeben. Zur Umsetzung wurde die Lösung dann 6 Stunden bei einer Temperatur von 40 bis 50°C gerührt. Der kristalline Niederschlag wurde filtriert und mit 50 ml Ethanol sowie 150 ml Wasser gewaschen und getrocknet. Auf diese Weise wurden 38,5 g 2-(4-(Diethylamino)benzyliden)-5-(4-(ethyl(2-hydroxyethyl)amino)benzyliden)cyclopentanon in Form eines orangefarbenen Kristalls erhalten.
    • (5) 10,5 g des 2-(4-(Diethylamino)benzyliden)-5-(4-(ethyl(2-hydroxyethyl)amino)benzyliden)cyclopentanons wurden in einem gemischten Lösungsmittel aus 100 g Tetrahydrofurfurylalkohol und 150 g Tetrahydrofuran aufgelöst. Hierzu wurden 1,1 g Natriumborhydrid zugefügt. Nach Umsetzung der Lösung für 8 Stunden bei einer Temperatur von 30 bis 45°C wurde eine gemischte Lösung von 4,2 g 60%-iger Perchlorsäure und 3 g Essigsäure bei Raumtemperatur in die Lösung gegeben. Der dunkelgrüne kristalline Niederschlag wurde filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um 4,3 g des Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels IR-18 zu erhalten.
  • SYNTHESEBEISPIEL 3 – Synthese von IR-30
    • (1) 49,6 g 4-(Dimethylamino)benzophenon wurden in 120 ml Tetrahydrofuran aufgelöst. Die resultierend Lösung wurde dann unter Eiskühlung zu 250 ml einer 1 N-Lösung von Methylmagnesiumbromid in Tetrahydrofuran zugegeben. Die resultierende Reaktionslösung wurde 1 Stunde unter Rückfluss erhitzt. Hierzu wurde eine wässrige Ammoniumchloridlösung zugegeben, und die Lösung wurde durch ein normales Verfahren aufgearbeitet, um eine Alkoholzwischenstufe zu erhalten. Anschliessend wurde die resultierende Alkoholzwischenstufe in 200 ml Essigsäureanhydrid aufgelöst und 2 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Das Lösungsmittel wurde dann unter reduziertem Druck abdestilliert, um 39 g Dimethyl(4-(1-dimethylphenylvinyl)phenyl)amin zu erhalten.
    • (2) 28 g Dimethyl(4-(1-dimethylphenylvinyl)phenyl)amin und 22 g 4-Dimethylaminozimtaldehyd wurden in 200 ml Essigsäureanhydrid aufgelöst und 3 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Die resultierenden Reaktionslösung wurde auf Raumtemperatur abgekühlt. Hierzu wurde eine Mischung aus 11 ml 70%-iger Perchlorsäure und 600 ml Essigsäure langsam hinzugefügt, und die resultierende Lösung wurde wieder für 10 Minuten unter Rückfluss erhitzt. Die Reaktionslösung wurde abgekühlt, 600 ml Wasser wurden zur Lösung zugefügt und der Niederschlag wurde abfiltriert. Nachdem er mit Wasser gewaschen worden war, wurde der Niederschlag mit einem gemischten Lösungsmittel aus Ethanol und Wasser umkristallisiert, um 12 g des Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels IR-30 zu erhalten.
  • SYNTHESEBEISPIEL 4 – Synthese von IR-46
    • (1) 42,8 g 4-N,N-Diethylaminobenzaldehyd und 14,1 g Cyclohexanon wurden in 200 ml Ethanol aufgelöst. Hierzu wurden 31 g einer 10%-igen wässrigen Natriumhydroxidlösung zugefügt. Zur Umsetzung wurde die resultierende Lösung dann 7 Stunden bei einer Temperatur von 40 bis 50°C gerührt. Der kristalline Niederschlag wurde abfiltriert und mit 80 ml Ethanol und 200 ml Wasser gewaschen und getrocknet. Auf diese Weise wurden 47,2 g 2,6-Bis(4-N,N-dimethylaminobenzyliden)cyclohexanon in Form eines orangefarbenen Kristalls erhalten.
    • (2) 9,0 g 2,6-Bis(4-N,N-dimethylaminobenzyliden)-cyclohexanon wurden in einem Lösungsmittelgemisch aus 100 g Tetrahydrofurfurylalkohol und 150 g Tetrahydrofuran aufgelöst. Hierzu wurden 1,1 g Natriumborhydrid zugefügt. Nachdem die Lösung 8 Stunden bei einer Temperatur von 30 bis 45°C erhitzt worden war, wurde eine gemischte Lösung aus 4,8 g p-Toluolsulfonsäurehydrat, 30 g Essigsäure und 35 ml Wasser bei Raumtemperatur in die Lösung gegeben. Der kristalline dunkelgrüne Niederschlag wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um 4,3 g des Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels IR-46 zu erhalten.
  • Spezifische Beispiele des durch die oben genannte allgemeine Formel (I) dargestellten, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels werden im folgenden angeführt. Jedoch muss darauf hingewiesen werden, dass das erfindungsgemässe Infrarotstrahlung absorbierende Mittel nicht auf diese spezifischen Beispiele beschränkt ist.
  • Figure 00300001
  • Figure 00310001
  • Figure 00320001
  • Figure 00330001
  • Figure 00340001
  • Figure 00350001
  • Figure 00360001
  • Figure 00370001
  • Figure 00380001
  • Figure 00390001
  • Figure 00400001
  • In der vorliegenden Erfindung beträgt die hinzugefügte Menge des oben genannten, Infrarotstrahlung absorbierenden Mittels 0,01 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 20 Gew.-%, und mehr bevorzugt 0,5 bis 15 Gew.-%, auf Basis des Gesamtgewichts der Feststoffe in der fotoempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die hinzugefügte Menge weniger als 0,01 Gew.-% beträgt, kann die fotoempfindliche Zusammensetzung kein Bild erzeugen, wohingegen dann, wenn die hinzugefügte Menge mehr als 50 Gew.-% beträgt, Nicht-Bildteile verschmiert werden können, wenn die Zusammensetzung als fotoempfindliche Schicht auf einem Planografie-Druckplattenvorläufer verwendet wird.
  • Zusätzlich zum Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel kann die fotoempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung ein Pigment oder einen Farbstoff enthalten, das oder der in der Lage ist, Infrarotstrahlung zu absorbieren, um die Bilderzeugungsleistung zu verbessern.
  • Die zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeigneten Pigmente schliessen im Handel erhältliche Pigmente ein, sowie die Pigmente, die beschrieben sind in "Color Index (C. I.) Handbook", "The Handbook of the Latest Pigments" (Saishin Ganryo Binran), herausgegeben von der Japan Association of Pigment Technologies (Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai) (1977), "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986, und "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMC, 1984.
  • Zu Beispielen für die Pigmentsorten gehören schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orangefarbene Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, purpurfarbene Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, Fluoreszenzpigmente, Metallpulverpigmente und chemisch gebundene Farbstoffe enthaltende Polymere. Zu spezifischen Beispielen der Pigmente gehören unlösliche Azopigmente, Azolackpigmente, kondensierte Azopigmente, chelatisierte Azopigmente, Pigmente auf Phthalocyaninbasis, Pigmente auf Anthrachinonbasis, Pigmente auf Perylen- und Perinonbasis, Pigmente auf Thioindigobasis, Pigmente auf Chinacridonbasis, Pigmente auf Dioxazinbasis, Pigmente auf Isoindolinonbasis, Pigmente auf Chinophthalonbasis, gefärbte Lackpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, Fluoreszenzpigmente, anorganische Pigmente, Russ und dergleichen.
  • Diese Pigmente können eingesetzt werden, ohne oberflächenbehandelt zu werden, oder können eingesetzt werden, nachdem sie oberflächenbehandelt worden sind. Mögliche Oberflächenbehandlungen schliessen eine Behandlung, bei der die Oberfläche des Pigments mit einem Harz oder einen Wachs beschichtet wird, ein, eine Behandlung, bei der ein Tensid auf die Oberfläche des Pigments angehaftet wird, sowie eine Behandlung, bei der eine reaktive Substanz (z.B. Silan-Haftmittel, eine Epoxyverbindung oder ein Polyisocyanat) an die Oberfläche des Pigments gebunden wird. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren werden beschrieben in "Properties and Applications of Metal Soaps" (Saiwai Shobo Co., Ltd.), "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMC, 1984, und "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986.
  • Der Durchmesser des Pigments ist vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 μm, mehr bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 1 μm und am meisten bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 1 μm. Wenn der Durchmesser weniger als 0,1 μm beträgt, ist die Stabilität der Dispersion der Pigmente in einer Beschichtungsflüssigkeit zur Herstellung der fotoempfindlichen Schicht unzureichend, wohingegen, wenn der Durchmesser mehr als 10 μm beträgt, die Einheitlichkeit der fotoempfindlichen Schicht schlecht ist.
  • Eine bekannte Dispergierungstechnik, die in der Herstellung von Tinte, Tonern und dergleichen eingesetzt wird, kann auch zum Zweck der Dispergierung von Pigmenten verwendet werden. Beispiele von Dispergierungsmaschinen schliessen ein: eine Ultraschalldispergierungsmaschine, eine Sandmühle, eine Rührwerkkugelmühle, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, einen Dispergierer, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, einen Druckkneter und dergleichen. Einzelheiten dieser Dispergierungstechniken werden in "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986, beschrieben.
  • Die zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeigneten Farbstoffe schliessen im Handel erhältliche Farbstoffe ein, sowie Farbstoffe, die in "Handbook of Dyes", herausgegeben von der Association of Organic Synthesis (Yuki Gosei Kagaku Kyokai) (1970), beschrieben sind. Spezifische Beispiele der Farbstoffe schliessen ein: Azofarbstoffe, Azofarbstoffe in Form eines metallischen Komplexsalzes, Pyrazolonazofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Diimoniumfarbstoffe und Aminiumfarbstoffe.
  • Unter diesen Pigmenten und Farbstoffen sind jene Pigmente und Farbstoffe, die Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlung absorbieren, aufgrund ihrer Eignung zur Verwendung in Verbindungen mit einem Infrarot emittierenden Laser oder Nahinfrarotstrahlung, besonders bevorzugt.
  • Russ kann als das zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeignete Pigment, das Infrarot- und Nahinfrarotstrahlung absorbiert, verwendet werden. Beispiele der Farbstoffe, die Infrarot- oder Nahinfrarotstrahlung absorbieren und zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung geeignet sind, schliessen ein: Cyaninfarbstoffe, die beispielsweise in JP-A Nrn. 58-125246, 59-84356, 59-202829 und 60-78787 beschrieben sind; Methinfarbstoffe, die beispielsweise in JP-A Nrn. 58-173696, 58-181690 und 58-194595 beschrieben sind; Naphthochinonfarbstoffe, die beispielsweise in JP-A Nrn. 58-112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940 und 60-63744 beschrieben sind; Squaryliumfarbstoffe, die beispielsweise in JP-A-58-112792 beschrieben sind; Cyaninfarbstoffe, die in GB-PS 434 875 beschrieben sind; und Dihydropyrimidinsquaryliumfarbstoffe, die in US-PS 5 380 635 beschrieben sind.
  • Andere Verbindungen, die zur Verwendung als Farbstoff geeignet sind, schliessen ein in US-PS 5 156 938 beschriebenes, Nahinfrarotstrahlung absorbierendes Sensibilisierungsmittel ein. Zu besonders geeigneten Verbindungen gehören ausserdem ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, das in US-PS 3 881 924 beschrieben ist; ein Trimethinthiopyryliumsalz, das in JP-A-57-142645 ( US-PS 4 327 169 ) beschrieben ist; Verbindungen auf Pyryliumbasis, die in JP-A Nrn. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063 und 59-146061 beschrieben sind; ein Cyaninfarbstoff, der in JP-A-59-216146 beschrieben ist; ein Pentamethinthiopyryliumsalz, das in US-PS 4 283 475 beschrieben ist; Pyryliumverbindungen, die in JP-B Nrn. 5-13514 und 5-19702 beschrieben sind; Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125, Epolight IV-62A und dergleichen.
  • Weitere Beispiele besonders bevorzugter Farbstoffe schliessen die Nahinfrarotstrahlung absorbierenden Farbstoffe ein, die durch die in US-PS 4 756 993 beschriebenen Formeln (I) und (II) bezeichnet werden.
  • In der vorliegenden Erfindung beträgt die Menge an zugesetztem Pigment oder Farbstoff 0,01 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 0,1 bis 10 Gew-.%, am meisten bevorzugt 0,5 bis 10 Gew.-%, im Fall des Farbstoffs, und am meisten bevorzugt 3,1 bis 10 Gew.-% im Fall des Pigments, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der Feststoffe in den Materialien für die Druckplatte. Wenn die zugesetzte Menge an Pigment oder Farbstoff weniger als 0,01 Gew.-% beträgt, ist die Empfindlichkeit schlecht, wohingegen wenn die zugesetzte Menge mehr als 50 Gew.-% beträgt, die Einheitlichkeit der fotoempfindlichen Schicht und die Beständigkeit einer Aufzeichnungsschicht schlecht werden.
  • Diese Farbstoffe oder Pigmente können so zur fotoempfindlichen Zusammensetzung zugefügt werden, dass diese Farbstoffe oder Pigmente zusammen mit anderen Komponenten der fotoempfindlichen Schicht zugefügt werden, oder können alternativ zu einer Schicht zugefügt werden, die diese Farbstoffe oder Pigmente enthält, und zusätzlich zur fotoempfindlichen Schicht gebildet wird, wenn der Planografie-Druckplattenvorläufer hergestellt wird.
  • (b) In einer wässrigen alkalischen Lösung lösliche, polymere Verbindungen:
  • Der in der vorliegenden Erfindung verwendete Begriff "(b) in einer wässrigen alkalischen Lösung lösliche, polymere Verbindungen" bezeichnet polymere Verbindungen, die in einer Hauptkette oder einer Seitenkette davon eine Gruppe besitzen, die saure Gruppenstrukturen besitzt, wie beispielsweise die folgenden: nämlich eine phenolische Hydroxylgruppe (-Ar-OH), eine Carbonsäuregruppe (-COOH), eine Sulfonsäuregruppe (-SO3H), eine Phosphorsäuregruppe (-OPO3H), eine Sulfonamidgruppe (-SO2NH-R), substituierte, saure Gruppen auf Sulfonamidbasis (aktive Imidogruppen) (-SO2NHCOR, -SO2NHCO2R und -CONHSO2R).
  • In diesen Formeln bezeichnet Ar eine divalente Arylgruppe, die eine Substituentengruppe haben kann, und R bezeichnet eine Kohlenwasserstoffgruppe, die eine Substituentengruppe haben kann.
  • Unter diesen sauren Gruppen sind (b-1) eine phenolische Hydroxylgruppe, (b-2) eine Sulfonamidgruppe und (b-3) eine aktive Imidogruppe bevorzugt; und am meisten bevorzugt ist (b-1) ein Harz, das eine phenolische Hydroxylgruppe besitzt und in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist (dieses Harz wird im folgenden als "ein Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe" bezeichnet).
  • Beispiele der polymeren Verbindungen mit (b-1) einer phenolischen Hydroxylgruppe schliessen ein: Novolakharze, wie beispielsweise ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von Phenol und Formaldehyd (im folgenden als Phenol/Formaldehyd-Harz bezeichnet), ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von m-Kresol und Formaldehyd (im folgenden als m-Kresol/Formaldehyd-Harz bezeichnet), ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von p-Kresol und Formaldehyd, ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von einer m-Kresol/p-Kresol-Mischung und Formaldehyd und ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von Phenol, Kresol (das m-Kresol, p-Kresol oder eine Mischung aus m-Kresol und p-Kresol sein kann); und ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von Pyrogallol und Aceton. Durch Copolymerisation von Monomeren mit einer Phenolgruppe in einer Seitenkette hergestellte Copolymere können ebenfalls eingesetzt werden. Beispiele der Monomere mit einer Phenolgruppe, die sich zur erfindungsgemässen Verwendung eignen, schliessen phenolgruppenhaltiges Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat, Hydroxystyrol und dergleichen ein. Spezifische, bevorzugte Beispiele dieser Monomere schliessen ein:
    N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und dergleichen. Im Hinblick auf die Bilderzeugungsleistung, besitzt die polymere Verbindung vorzugsweise ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 5,0 × 102 bis 2,0 × 104 und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 2,0 × 102 bis 1,0 × 104. Diese Harze können allein oder als Kombination von zwei oder mehreren eingesetzt werden. In einem Fall, in dem eine Kombination eingesetzt wird, können diese Harze mit einem Produkt einer Kondensationspolymerisation von mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiertem Phenol und Formaldehyd, wie beispielsweise ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von t-Butylphenol und Formaldehyd oder ein Produkt einer Kondensationspolymerisation von Octylphenol und Formaldehyd, wie in US-PS 4 123 279 beschrieben, kombiniert werden.
  • Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht des Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe ist vorzugsweise im Bereich von 500 bis 20.000. Das zahlengemittelte Molekulargewicht hiervon ist vorzugsweise im Bereich von 200 bis 10.000.
  • Des weiteren können, wie in US-PS 4 123 279 beschrieben, Harze, wie beispielsweise ein t-Butylphenol/Formaldehyd- Harz und ein Octylphenol/Formaldehyd-Harz, die durch eine Kondensationsreaktion zwischen einem mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiertem Phenol und Formaldehyd erhalten werden, in Verbindung miteinander verwendet werden. Diese Harze mit einer phenolischen Hydroxylgruppe können allein oder als Kombination von zwei oder mehreren eingesetzt werden.
  • Im Fall einer polymeren Verbindung, die (b-2) eine Sulfonamidgruppe besitzt und in wässriger alkalischer Lösung löslich ist, schliessen Beispiele von Monomeren mit (b-2) einer Sulfonamidgruppe, d.h. Hauptmonomere, die polymere Verbindungen bilden, ein Monomer, umfassend eine Verbindung, die ein niedriges Molekulargewicht besitzt und in einem Molekül wenigstens eine Sulfonamidgruppe mit wenigstens einem mit einem Stickstoffatom verbundenen Wasserstoffatom, zusammen mit wenigstens einer ungesättigten Bindung, die zur Polymerisation in der Lage ist, ein. Unter diesen Monomeren ist eine Verbindung bevorzugt, die ein niedriges Molekulargewicht besitzt und die eine Acryloylgruppe, eine Allylgruppe oder eine Vinyloxygruppe, zusammen mit einer substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonylgruppe oder einer substituierten Sulfonyliminogruppe besitzt.
  • Beispiele dieser Verbindungen schliessen die durch die folgenden allgemeinen Formeln (3) bis (7) dargestellten Verbindungen ein:
  • Figure 00480001
  • Figure 00490001
  • In den Formeln bezeichnen X1 und X2 jeweils -O- oder -NR17-. R21 und R24 bezeichnen jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH3. R22, R25, R29, R32 und R36 bezeichnen jeweils eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und optional eine Substituentengruppe besitzt. R23, R27 und R33 bezeichnen jeweils ein Wasserstoffatom oder alternativ eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und optional eine Substituentengruppe besitzt. R26 und R37 bezeichnen jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und optional eine Substituentengruppe besitzt. R28, R30 und R34 bezeichnen jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH3. R31 und R35 bezeichnen jeweils eine Einfachbindung oder alternativ eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, wobei jede Gruppe 1 bis 12 Kohlenstoffatome und optional eine Substituentengruppe besitzt. Y1 und Y2 bezeichnen jeweils eine Einfachbindung oder -CO-.
  • Bevorzugte spezifische Beispiele der Verbindungen schliessen m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid und N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid ein.
  • Im Fall einer polymeren Verbindung, die (b-3) eine aktive Imidogruppe besitzt und in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, schliessen Beispiele von Monomeren mit (b-3) einer aktiven Imidogruppe, d.h. Hauptmonomere, die polymere Verbindungen bilden, ein Monomer, umfassend eine Verbindung, die ein niedriges Molekulargewicht besitzt und in einem Molekül wenigstens eine durch die unten angegebene Formel bezeichnete, aktive Imidogruppe besitzt, zusammen mit wenigstens einer ungesättigten Bindung, die zur Polymerisation in der Lage ist, ein.
  • Figure 00500001
  • Bevorzugte spezifische Beispiele der Verbindungen schliessen N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid ein.
  • Als Copolymer, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist und in der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden kann, muss das Copolymer nicht aus einer einzigen Art von Monomer bestehen, das aus den Monomeren mit einer oder mehreren der sauren Gruppen (b-1) bis (b-3) ausgewählt ist. Zwei oder mehr Arten von Monomeren mit derselben sauren Gruppe, oder alternativ zwei oder mehr Arten von Monomeren mit verschiedenen sauren Gruppen, können ebenfalls für die Copolymerisation verwendet werden.
  • Als Verfahren zur Copolymerisation der Monomere können konventionell bekannte Verfahren, wie beispielsweise Pfropfpolymerisation, Blockpolymerisation, statistische Polymerisation und dergleichen, eingesetzt werden.
  • In der vorliegenden Erfindung schliesst das Copolymer in einem Anteil von vorzugsweise 10 mol-% oder mehr, mehr bevorzugt 20 mol-% oder mehr, das (die) aus den Monomeren mit einer oder mehreren der sauren Gruppen (b-1) bis (b-3) ausgewählte(n) Copolymerisationsmonomer(e) ein. Wenn die copolymerisierende Komponente weniger als 10 mol-% beträgt, ist die Wechselwirkung zwischen dem resultierenden Copolymer und dem Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe unzureichend, und daher wird ein vorteilhafter Effekt, der durch die Verwendung der Copolymerisationskomponente erzielt werden soll, d.h. eine Verbesserung des Entwicklungsspielraums, unzulänglich.
  • Das Copolymer kann eine copolymerisierende Komponente enthalten, die nicht zu den aus den Monomeren mit einer oder mehreren der sauren Gruppen (b-1) bis (b-3) ausgewählten Monomeren gehört.
  • Beispiele von Monomeren, die als copolymerisierende Komponente eingesetzt werden können, schliessen die Monomere der folgenden Punkte (1) bis (12) ein.
    • (1) Acrylatester und Methacrylatester, die jeweils eine aliphatische Hydroxylgruppe besitzen und die durch 2-Hydroxyethylacrylat-, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dergleichen beispielhaft angeführt sind;
    • (2) Alkylacrylate, wie beispielsweise Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat;
    • (3) Alkylmethacrylate, wie beispielsweise Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat;
    • (4) Acrylamide oder Methacrylamide, wie beispielsweise Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid,
    • (5) Vinylether, wie beispielsweise Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether;
    • (6) Vinylester, wie beispielsweise Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat und Vinylbenzoat;
    • (7) Styrole, wie beispielsweise α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol;
    • (8) Vinylketone, wie beispielsweise Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon;
    • (9) Olefine, wie beispielsweise Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren;
    • (10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril und Methacrylnitril und dergleichen;
    • (11) ungesättigte Imide, wie beispielsweise Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid; und
    • (12) ungesättigte Carbonsäuren, wie beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.
  • In der vorliegenden Erfindung hat, im Hinblick auf die Filmfestigkeit, die in wässriger alkalischer Lösung lösliche, polymere Verbindung vorzugsweise ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht von 2.000 oder mehr und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht von 500 oder mehr, ungeachtet dessen, ob die polymere Verbindung ein Homopolymer oder ein Copolymer ist. Mehr bevorzugt hat die polymere Verbindung ein gewichtsgemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 5.000 bis 300.000, ein zahlengemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 800 bis 250.000 und einen Polydispersitätsindex (gewichtsgemitteltes Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) im Bereich von 1,1 bis 10.
  • Im Copolymer ist, im Hinblick auf den Entwicklungsspielraum, das Gewichtsverhältnis des (der) Monomer(s/e) mit einer aus den sauren Gruppen (b-1) bis (b-3) ausgewählten sauren Gruppe zu einem anderen (zu anderen) Monomer(en) vorzugsweise im Bereich von 50:50 bis 5:95 und mehr bevorzugt im Bereich von 40:60 bis 10:90.
  • In der vorliegenden Erfindung können die in wässriger alkalischer Lösung löslichen polymeren Verbindungen alleine oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Die zugesetzte Menge der in wässriger alkalischer Lösung löslichen polymeren Verbindung beträgt 30 bis 99 Gew.-%, bevorzugt 40 bis 95 Gew.-% und am meisten bevorzugt 50 bis 90 Gew.-% des Gesamtgewichts der Feststoffe der fotoempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die zugesetzte Menge der in wässriger alkalischer Lösung löslichen polymeren Verbindung weniger als 30 Gew.-% beträgt, ist die Beständigkeit der Aufzeichnungsschicht schlecht, wohingegen, wenn die zugesetzte Menge der in alkalischem Wasser löslichen polymeren Verbindung mehr als 99 Gew.-% beträgt, sowohl die Empfindlichkeit als auch die Beständigkeit minderwertig sind.
  • Andere Komponenten:
  • Eine Vielzahl von Zusatzstoffen kann, wenn nötig, in die erfindungsgemässe fotoempfindliche Zusammensetzung aufgenommen werden. Zum Beispiel ist es, um effizienter zu verhindern, dass Bildteile in einem Entwickler aufgelöst werden, wünschenswert, eine Substanz in die fotoempfindliche Zusammensetzung einzubringen, die thermisch zersetzbar ist, und in der Lage ist, die Löslichkeit der in wässriger alkalischer Lösung löslichen polymeren Verbindung wesentlich herabzusetzen, wenn die Substanz nicht zersetzt wird, wie beispielsweise ein aromatisches Sulfon, ein aromatischer Sulfonester oder dergleichen.
  • Zusätzlich zu diesen Zusatzstoffen können cyclische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren ebenfalls eingesetzt werden, um die Empfindlichkeit weiter zu erhöhen. Beispiele für die cyclischen Säureanhydride schliessen ein: Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid, wie in US-PS 4 115 128 beschrieben. Beispiele der Phenole schliessen ein: Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan und dergleichen. Beispiele der organischen Säuren schliessen Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphate und Carbonsäuren, wie beispielsweise in JP-A Nrn. 60-88942 und 2-96755 beschrieben, ein. Zu spezifischen Beispielen dieser organischen Säuren gehören p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure, Ascorbinsäure und dergleichen.
  • Die Menge an zugesetztem cyclischen Säureanhydrid, Phenol oder organischer Säure ist vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 20 Gew.-%, mehr bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 15 Gew.-%, und am meisten bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-% des Gesamtgewichts der Feststoffe der Druckplattenmaterialien.
  • Des weiteren können, um die Stabilität der Bearbeitung bezüglich der Entwicklungsbedingungen zu verbreitern, die Materialien für die erfindungsgemässe Druckplatte ein nicht-ionisches Tensid, wie in JP-A Nrn. 62-251740 und 3-208514 beschrieben, oder ein amphoteres Tensid, wie in JP-A Nrn. 59-121044 und 4-13149 beschrieben, enthalten.
  • Spezifische Beispiele des nicht-ionischen Tensids schliessen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether und dergleichen ein.
  • Spezifische Beispiele des amphoteren Tensids schliessen Alkyldi(aminoethyl)glycin, das Salzsäuresalz von Alkylpolyaminoethylglycin, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain, N-Tetradecyl-N,N-betain (z.B. Amogen K (Handelsname), hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) und dergleichen ein.
  • Die bevorzugte zugesetzte Menge an nicht-ionischen Tensid oder an amphoterem Tensid ist im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, mehr bevorzugt von 0,1 bis 5 Gew.-%, des Gesamtgewichts der Feststoffe für die Druckplattenmaterialien.
  • In der vorliegenden Erfindung kann das Druckplattenmaterial einen Farbstoff oder ein Pigment als Mittel zum Ausdrucken, das es ermöglicht, unmittelbar nach einer durch Belichtung induzierten Erhitzung ein sichtbares Bild zu erzeugen, oder als bildfärbendes Mittel, enthalten.
  • Als typisches Beispiel des Mittels zum Ausdrucken kann eine Kombination einer Verbindung, die bei durch Belichtung induzierte Erhitzung eine Säure freisetzt (d.h. ein Fotosäure freisetzendes Mittel), und eines organischen Farbstoffs, der in der Lage ist, mit der vorgenannten Verbindung ein Salz zu bilden, angeführt werden. Spezifische Beispiele des Mittels zum Ausdrucken schliessen eine Kombination von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonylhalogenid und einem organischen Farbstoff, der mit dieser Verbindung ein Salz bildet, wie in JP-A Nrn. 50-36209 und 53-8128 beschrieben, sowie eine Kombination einer Trihalogenmethylverbindung und eines organischen Farbstoffs, der ein Salz mit dieser Verbindung bildet, wie in JP-A Nrn. 53-36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 und 63-58440 beschrieben, ein. Beispiele der Trihalogenmethylverbindung schliessen eine Verbindung auf Oxazolbasis und eine Verbindung auf Triazinbasis, die beide darin wirkungsvoll sind, eine gute Lagerfähigkeit im Verlauf der Zeit und ein klares ausgedrucktes Bild bereitzustellen, ein.
  • Ein anderer Farbstoff als die oben genannten salzbildenden, organischen Farbstoffe kann ebenfalls als bildfärbendes Mittel verwendet werden. Geeignete Farbstoffe schliessen zusätzlich zu den salzbildenden organischen Farbstoffen öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe ein. Zu spezifischen Beispielen dieser Farbstoffe gehören Oil Yellow Nr. 101, Oil Yellow Nr. 103, Oil Pink Nr. 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue Nr. 603, Oil Black BY, Oil Black BS und Oil Black T-505 (Handelsbezeichnungen für Produkte der Firma Orient Chemical Industries, Co., Ltd.), reines Victoriablau BO (C. I. 42595), Kristallviolett (C. I. 42555), Methylviolett (C. I. 42535, Ethylviolett (C. I. 42600), Rhodamin B (C. I. 145170B), Malachitgrün (C. I. 42000), Methylenblau (C. I. 52015) und dergleichen. Die in JP-A-62 293247 beschriebenen Farbstoffe werden besonders bevorzugt. Die Menge an zugesetztem Farbstoff kann im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 3 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe der Druckplattenmaterialien, liegen.
  • Wenn nötig, kann, um einer Überzugsschicht Flexibilität zu verleihen, ein Weichmacher zu den erfindungsgemässen Druckplattenmaterialien zugesetzt werden. Beispiele des Weichmachers schliessen Butylphthalylbutylglykolat, Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphtalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, ein Oligomer oder ein Polymer von Acrylsäure oder Methacrylsäure und dergleichen ein.
  • Zusätzlich zu den oben beschriebenen Substanzen schliessen andere Substanzen, die je nach Bedarf zugesetzt werden können, eine Epoxyverbindung, einen Vinylether, eine phenolische Verbindung mit einer Hydroxymethylgruppe und eine phenolische Verbindung mit einer Alkoxymethylgruppe, wie in JP-A-8-276558 beschrieben, ein Quervernetzungsmittel, das verhindert, dass sich die fotoempfindliche Zusammensetzung in alkalischem Wasser auflöst, und in der zuvor von den Erfindern eingereichten US-Patentanmeldung SN 09/200 734 beschrieben ist, und dergleichen ein.
  • Der erfindungsgemässe Planografie-Druckplattenvorläufer kann hergestellt werden, indem ein geeignetes Substrat mit einer Flüssigkeit zum Beschichten mit einer fotoempfindlichen Schicht, die die fotoempfindliche Zusammensetzung enthält, einer Beschichtungsflüssigkeit für eine gewünschte Schicht, wie beispielsweise die Schutzschicht, und dergleichen, die jeweils durch Auflösen der oben genannten Komponenten in einem Lösungsmittel hergestellt werden, beschichtet wird. Einige veranschaulichende Beispiele des Lösungsmittels schliessen ein, sind aber nicht begrenzt auf: Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton, Toluol, Wasser und dergleichen. Diese Lösungsmittel können allein oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Die Konzentration der Komponenten (Gesamtfeststoffe, einschliesslich Zusatzstoffe) im Lösungsmittel ist vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%. Die Beschichtungsmenge (Feststoffe) nach Beschichten und Trocknen auf dem Substrat variiert je nach Anwendung, jedoch ist die gewünschte Menge für eine fotoempfindliche Druckplatte im allgemeinen im Bereich von 0,5 bis 5,0 g/m2.
  • Die Beschichtungsflüssigkeit kann durch verschiedene Verfahren aufgebracht werden. Beispiele dieser Verfahren schliessen Stabbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Aufsprühen, Vorhangbeschichtung, Eintauchen, Luftmesserbeschichtung, Rakelbeschichtung, Walzenbeschichtung und dergleichen ein. Mit abnehmender Beschichtungsmenge verschlechtern sich die Überzugseigenschaften der fotoempfindlichen Schicht, obwohl die scheinbare Empfindlichkeit zunimmt.
  • Um die Beschichtbarkeit zu verbessern, kann die erfindungsgemässe Flüssigkeit zum Beschichten mit einer fotoempfindlichen Schicht ein Tensid enthalten. Ein Beispiel dieses Tensids ist ein Tensid auf Fluorbasis, wie beispielsweise dasjenige, das in JP-A-62-170950 beschrieben ist. Die bevorzugte zugefügte Menge des Tensids ist im Bereich von 0,01 bis 1 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Druckplattenmaterialien.
  • Das Substrat, das in der vorliegenden Erfindung zur Herstellung des Planografie-Druckplattenvorläufers verwendet wird, ist eine dimensionsstabile Platte. Spezifische Beispiele für das Substrat schliessen Papier, mit einem Kunststoff (z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol oder dergleichen) beschichtetes Papier, Metallplatten (wie beispielsweise Aluminium, Zink und Kupfer), Kunststoffilme (wie beispielsweise Diacetylcellulose, Triacetylcellulose, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal) und Papier oder Kunststoffilme, die mit den oben genannten Metallen beschichtet oder bedampft sind, ein.
  • Unter diesen Materialien sind ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte bevorzugt. Die Aluminiumplatte ist besonders bevorzugt, weil sie eine gute Dimensionsstabilität besitzt und relativ kostengünstig ist. Beispiele der Aluminiumplatte schliessen eine reine Aluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte, die Aluminium als Hauptbestandteil zusammen mit Spuren anderer Elemente enthält, ein. Ein weiteres Beispiel des Substrats ist ein Kunststoffilm, der mit Aluminium beschichtet oder bedampft ist. Beispiele der anderen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sein können, schliessen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan ein. Die insgesamt enthaltene Menge der anderen Elemente in der Aluminiumlegierung beträgt 10 Gew.-% oder weniger. Obwohl das zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung besonders wünschenswerte Aluminium reines Aluminium ist, kann das erfindungsgemäss zu verwendende Aluminium eine geringe Menge anderer Elemente enthalten, weil Beschränkungen der Reinigungsmethoden die Herstellung von perfekt reinem Aluminium erschweren. Dementsprechend ist die Zusammensetzung der Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung nicht besonders begrenzt, und eine Aluminiumplatte aus einem konventionell bekannten Material kann angemessenerweise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Die Dicke der Aluminiumplatte zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung beträgt etwa 0,1 bis 0,6 mm, bevorzugt 0,15 bis 0,4 mm und am meisten bevorzugt 0,2 bis 0,3 mm.
  • Vor der Oberflächenaufrauhung der Aluminiumplatte wird, wenn erwünscht, eine Entfettungsbehandlung durchgeführt, um Walzöl von der Oberfläche der Aluminiumplatte mit Hilfe beispielsweise eines Tensids, eines organischen Lösungsmittels, einer wässrigen alkalischen Lösung oder dergleichen zu entfernen.
  • Die Oberflächenaufrauhung der Aluminiumplatte kann durch verschiedene Verfahren durchgeführt werden. Beispiele dieser Verfahren schliessen Verfahren, worin die Oberfläche mechanisch aufgerauht wird, ein Verfahren, worin die Oberfläche aufgerauht wird, indem sie elektrochemisch aufgelöst wird, und ein Verfahren, worin die Oberfläche auf selektive Weise chemisch aufgelöst wird, ein. Das mechanische Verfahren kann ein konventionell bekanntes Verfahren sein, wie beispielsweise Ballabrieb, Bürsten, Strahlen und Polieren. Beispielhaft für das elektrochemische Verfahren steht die Elektrolyse der Aluminiumplatte in einer Elektrolytlösung, wie beispielsweise Salzsäure oder Salpetersäure, unter Verwendung eines Wechselstroms oder eines Gleichstroms. Eine Kombination aus einem mechanischen Verfahren und einem elektrochemischen Verfahren ist, wie in JP-A-54-63902 beschrieben, ebenfalls möglich.
  • Wenn nötig, wird die oberflächenaufgerauhte Aluminiumplatte dann einer alkalischen Ätzbehandlung und einer neutralisierenden Behandlung unterworfen. Danach wird, wenn erwünscht, die Aluminiumplatte einer eloxierenden Behandlung unterzogen, um die Wasserretention und Beständigkeit gegen Abnutzung der Oberfläche zu erhöhen. Verschiedene Elektrolyte, die in der Lage sind, eine poröse Oxidschicht herzustellen, können als Elektrolyt für die eloxierende Behandlung der Aluminiumplatte verwendet werden, im allgemeinen können Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine Mischung dieser Säuren als Elektrolyt verwendet werden. Die Konzentration der Elektrolyte kann angemessen, je nach Typ des Elektrolyten, bestimmt werden.
  • Die Eloxierungsbedingungen variieren je nach Typ des verwendeten Elektrolyten und können nicht unqualifiziert festgesetzt werden. Im Allgemeinen verwendete Bedingungen sind jedoch wie folgt: die Konzentration der Elektrolytlösung beträgt 1 bis 80 Gew.-%; die Temperatur der Lösung beträgt 5 bis 70°C; die Stromdichte beträgt 5 bis 60 A/dm2; die Spannung beträgt 1 bis 100 V; und die Elektrolysedauer beträgt 10 Sekunden bis 5 Minuten.
  • Wenn die Menge der eloxierten Schicht weniger als 1,0 g/m2 beträgt, besitzt die Oberfläche eine schlechte Druckbeständigkeit und die Nicht-Bildteile der resultierenden Planografie-Druckplatte neigen dazu, Kratzspuren auszubilden, die während des Druckens Drucktinte ansammeln, um sogenanntes kratzbedingtes Schmieren zu verursachen.
  • Wenn nötig, kann das Substrat, dessen Oberfläche bereits eloxiert wurde, durch eine Oberflächenbehandlung hydrophilisiert werden. Zu bevorzugten Beispielen dieser hydrophilisierenden Oberflächenbehandlung gehört eine Behandlung der Oberfläche mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilicats (wie beispielsweise Natriumsilicat), wie in den US-PSen 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902 734 beschrieben, worin das Substrat einfach in eine wässrige Natriumsilicatlösung eingetaucht oder in ihr elektrolytisch behandelt wird. Weitere Beispiele sind eine Oberflächenbehandlung mit Kaliumfluorzirkonat, wie in JP-B-36-22063 beschrieben, und eine Oberflächenbehandlung mit einer Polyvinylsulfonsäure, wie in den US-PSen 3 276 868, 4 153 461 und 4 689 272 beschrieben.
  • Der erfindungsgemässe Planografie-Druckplattenvorläufer wird hergestellt durch die Bildung einer positiven fotoempfindlichen Schicht, die die erfindungsgemässe fotoempfindliche Zusammensetzung auf dem Substrat enthält. Wenn nötig, kann eine Grundierungsschicht zwischen der vorgenannten Schicht und dem Substrat gebildet werden.
  • Verschiedene organische Verbindungen können als Bestandteile der Grundierungsschicht verwendet werden. Zum Beispiel kann eine organische Verbindung, die die Grundierungsschicht aufbaut, ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Carboxymethylcellulose; Dextrin; Gummi arabicum; Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe, wie beispielsweise 2-Aminoethylphosphonsäure und dergleichen; organischen Phosphonsäuren, wie beispielsweise Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure, Ethylendiphosphonsäure und dergleichen, die jeweils eine Substituentengruppe besitzen können; organischen Phosphorsäuren, wie beispielsweise Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure, Glycerophosphorsäure und dergleichen, die jeweils eine Substituentengruppe besitzen können; organischen Phosphinsäuren, wie beispielsweise Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure, Glycerophosphinsäure, die jeweils eine Substituentengruppe besitzen können; Aminosäuren, wie beispielsweise Glycin, β-Alanin und dergleichen; und Salzsäuresalzen von Aminen mit einer Hydroxylgruppe, wie beispielsweise Triethanolamin und dergleichen. Diese Verbindungen können alleine oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Die organische Grundierungsschicht kann durch eines der im folgenden beschriebenen Verfahren gebildet werden. Zum Beispiel wird die organische Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder in einer Mischung davon gelöst, um eine Beschichtungslösung herzustellen, und daraufhin die Beschichtungslösung auf eine Aluminiumplatte aufgebracht, um eine Schicht, die daraufhin getrocknet wird, bereitzustellen. Alternativ wird die organische Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder in einer Mischung davon gelöst, um eine Beschichtungslösung herzustellen, und daraufhin eine Aluminiumplatte in die Beschichtungslösung eingetaucht, so dass die organische Verbindung auf die Oberfläche der Aluminiumplatte adsorbiert wird, um hierdurch eine Schicht zu bilden, die dann mit Wasser oder dergleichen gespült und getrocknet wird. Wenn das erstere Verfahren eingesetzt wird, kann eine Lösung, die die organische Verbindung in einer Menge von 0,005 bis 10 Gew.-% enthält, durch verschiedene Verfahren aufgebracht werden. Wenn das letztere Verfahren eingesetzt wird, sind die Parameter der Bedingungen wie folgt: die Konzentration der Lösung ist 0,01 bis 20 Gew.-% und vorzugsweise 0,05 bis 5 Gew.-%; die Eintauchtemperatur ist 20 bis 90°C und vorzugsweise 25 bis 50°C; und die Eintauchzeit ist 0,1 Sekunden bis 20 Minuten und vorzugsweise 2 Sekunden bis 1 Minute. Der pH-Wert der Lösung kann durch Verwendung einer Base, wie beispielsweise Ammonium, Triethylamin oder Kaliumhydroxid, oder einer Säure, wie beispielsweise Salzsäure oder Phosphorsäure, auf einen Wert im Bereich von 1 bis 12 eingestellt werden. Des weiteren kann ein gelber Farbstoff zur Beschichtungslösung zugesetzt werden, um die Reproduzierbarkeit der Oberflächeneigenschaften des Planografie-Druckplattenvorläufers zu verbessern.
  • Die gewünschte Beschichtungsmenge der organischen Grundierungsschicht nach dem Trocknen liegt im Bereich von 2 bis 200 mg/m2 und bevorzugt im Bereich von 5 bis 100 mg/m2. Wenn die Beschichtungsmenge weniger als 2 mg/m2 ist, kann es sein, dass eine ausreichende Druckbeständigkeit nicht erhalten wird. Wenn die Beschichtungsmenge 200 mg/m2 übersteigt, kann andererseits das gleiche unerwünschte Resultat eintreten.
  • Der so erhaltene, positive Planografie-Druckplattenvorläufer wird meist einer bildweisen Belichtung und Entwicklung unterzogen.
  • Beispiele einer Lichtquelle mit wirksamen Strahlen, die für eine bildweise Belichtung verwendet werden soll, schliessen Quecksilberlampen, Metallhalogenidlampen, Xenonlampen, chemische Lampen und Kohlenstoffbogenlampen ein. Beispiele von Strahlen schliessen Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen, Ionenstrahlen und Ferninfrarotstrahlen ein. Des weiteren können auch g-Strahlen, i-Strahlen, tiefe UV-Strahlen und hochdichte Energiestrahlen (Laserstrahlen) verwendet werden. Beispiele von Laserstrahlen schliessen Helium/Neon-Laser, Argonlaser, Kryptonlaser, Helium/Cadmium-Laser und Kr/F-Exzimerlaser, Festkörperlaser, Halbleiterlaser und dergleichen ein.
  • In der vorliegenden Erfindung ist eine Lichtquelle, die Licht emittiert, dessen Wellenlänge vom Nahinfrarotbereich bis zum Ferninfrarotbereich reicht, bevorzugt, und ein Festkörperlaser und ein Halbleiterlaser sind besonders bevorzugt.
  • Eine konventionell bekannte, wässrige, alkalische Lösung kann als Entwickler und auch als Auffrischlösung für den erfindungsgemässen Planografie-Druckplattenvorläufer verwendet werden. Zum Beispiel kann die wässrige alkalische Lösung ein anorganisches Alkalisalz umfassen, wie beispielsweise Natriumsilicat, Kaliumsilicat, tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid oder Lithiumhydroxid. Zusätzlich kann auch eine organische Base zur Herstellung der wässrigen alkalischen Lösung verwendet werden. Beispiele der organischen Base schliessen Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin ein.
  • Diese Basen können allein oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Ein besonders bevorzugter Entwickler ist eine wässrige Lösung eines Silicats, wie beispielsweise Natriumsilicat, Kaliumsilicat oder dergleichen, unter den oben genannten Basen. Dies liegt daran, dass das Einstellen der Entwicklungsleistung der Entwicklers durch Variieren des Verhältnisses von Siliciumoxid (SiO2) zu Alkalimetalloxid (M2O), die jeweils ein Element des Silicats sind, möglich ist, und indem die Konzentrationen davon in der Lösung variiert werden. Zum Beispiel ist die Verwendung von Alkalimetallsilicaten, wie in JP-A-54-62004 und JP-B-57-7427 beschrieben, in der vorliegenden Erfindung wirksam.
  • Wie allgemein bekannt ist, kann, wenn eine automatische Entwicklungsvorrichtung verwendet wird, ein konventionell eingesetztes Regeneratorsystem eine grosse Anzahl von PS-Platten verarbeiten, wobei der Entwickler in einem Tank während einer langen Zeitspanne nicht ausgetauscht wird, indem der Tank mit einer wässrigen Lösung (einer Auffrischlösung) gespeist wird, die eine höhere alkalische Stärke als der Entwickler im Tank besitzt. Dieses Regeneratorsystem ist also für die vorliegende Erfindung geeignet. Wenn nötig, können der Entwickler und die Auffrischlösung ein Tensid oder ein organisches Lösungsmittel für Zwecke, wie die Beschleunigung oder Verlangsamung der Entwicklung, die Verteilung von aus der Entwicklung resultierendem Schlamm und die Erhöhung der Affinität der Bildteile der Druckplatte für Tinte, enthalten. Beispiele für bevorzugte Tenside schliessen anionische Tenside, kationische Tenside, nicht-ionische Tenside und amphotere Tenside ein.
  • Des weiteren können der Entwickler und die Auffrischlösung, falls nötig, enthalten: ein Reduktionsmittel, wie beispielsweise Hydrochinon, Resorcinol und ein Salz einer anorganischen Säure, z.B. Natrium- oder Kaliumsulfit und Natrium- oder Kaliumhydrogensulfit; eine organische Carbonsäure; ein Entschäumungsmittel und ein Mittel zur Überführung von hartem Wasser in weiches Wasser.
  • Die Druckplatte wird, nachdem sie mit dem Entwickler und der Auffrischlösung, die oben beschrieben sind, verarbeitet worden ist, einer Nachbehandlung, wie beispielsweise einer Behandlung mit Spülwasser, einer Behandlung mit einer Spüllösung, die ein Tensid oder dergleichen enthält, oder einer Behandlung mit einer Desensibilisierungslösung, die Gummi arabicum oder ein Stärkederivat enthält, unterzogen. Eine Kombination dieser Behandlungen kann als Nachbehandlung verwendet werden, wenn die erfindungsgemässe Original-Planografie-Druckplatte als Druckplatte verwendet wird.
  • In den letzten Jahren sind zum Zweck der Rationalisierung und Standardisierung der Plattenherstellung automatische Entwicklungsvorrichtungn weithin in der Verarbeitung von Druckplattenmaterialien in der Plattenherstellungs- und Druckindustrie verwendet worden. Im allgemeinen besteht die automatische Entwicklungsvorrichtung aus einem Entwicklungsteil und einem Nachbehandlungsteil, wovon jedes eine Vorrichtung zum Transfer einer Druckplatte und einen mit einer Entwicklungslösung gefüllten und mit einer Sprühanordnung ausgestatteten Tank umfasst, worin sich die Druckplatte nach Belichtung horizontal bewegt, so dass sie durch die Entwicklungslösungen entwickelt wird, die aus Düsen gesprüht werden, nachdem sie von den Tanks hochgepumpt wurden. Des weiteren wird nach einem neuen Verfahren eine Druckplatte in einen mit Entwicklungslösung befüllten Entwicklungstank eingetaucht und mit Hilfe von eingetauchten Leitwalzen oder dergleichen durch diesen hindurchbewegt. Mit solchen automatischen Verarbeitungen kann die Verarbeitung durchgeführt werden, indem Auffrischlösungen zu jeder der Entwicklungslösungen in dem verarbeiteten Volumen, der Dauer der Durchführung oder dergleichen entsprechenden Mengen zugeführt werden.
  • Des weiteren kann ein sogenanntes Einweg-Behandlungssystem, in dem eine Druckplatte mit einer im wesentlichen unverbrauchten Entwicklungslösung entwickelt wird, ebenfalls in der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
  • Einzelheiten des fotoempfindlichen Planografie-Druckplattenvorläufers unter Verwendung der erfindungsgemässen fotoempfindlichen Zusammensetzung werden im folgenden angeführt. Wenn unnötige Bildteile (z.B. Filmrandmarkierungen eines Originalfilms) auf der Planografie-Druckplatte, die durch ein Verfahren, umfassend Bild-für-Bild-Belichtung, Entwicklung, Waschen mit Wasser und/oder Spülen und/oder Beschichten mit Gummi erhalten wurde, gefunden werden, werden die unnötigen Bildteile gelöscht. Die Löschung wird bevorzugt mittels eines Verfahrens durchgeführt, das umfasst, dass die unnötigen Bildteile mit einer Löschlösung beschichtet werden, die Beschichtung auf den unnötigen Bildteilen für eine vorbestimmte Dauer belassen wird, und daraufhin die Beschichtung durch Waschen mit Wasser entfernt wird, wie in JP-B-2-13293 beschrieben. Zusätzlich zu diesem Verfahren kann ebenfalls ein Verfahren, umfassend die Bestrahlung der unnötigen Bildteile mit wirksamen Strahlen aus einer optischen Faser und daraufhin Durchführung der Entwicklung, wie in JP-A-59-174842 beschrieben, verwendet werden.
  • Die so erhaltene Planografie-Druckplatte wird, wenn nötig, mit einem desensibilisierenden Gummi beschichtet und kann in einem Druckverfahren verwendet werden. Wenn es jedoch erwünscht ist, der Druckplatte einen höheren Grad an Druckbeständigkeit zu verleihen, wird die Druckplatte einer Brennbehandlung unterzogen.
  • Wenn die Druckplatte einer Brennbehandlung unterzogen wird, ist es wünschenswert, die Druckplatte vor der Brennbehandlung mit einer oberflächenregulierenden Lösung zu behandeln, wie z.B. in JP-B Nrn. 61-2518 und 55-28062 und JP-A Nrn. 62-31859 und 61-159655 beschrieben.
  • Gemäss diesen Behandlungsverfahren wird die Planografie-Druckplatte mit einer oberflächenregulierenden Lösung beschichtet, indem ein Schwamm oder eine absorbierende Baumwolle, die mit der Lösung getränkt wurde, eingesetzt wird; die Planografie-Druckplatte wird in eine Wanne eingetaucht, die mit der oberflächenregulierenden Lösung gefüllt ist; oder die Planografie-Druckplatte wird unter Anwendung einer automatischen Beschichtungseinrichtung mit der oberflächenregulierenden Lösung beschichtet. Wenn die Beschichtungsmenge homogenisiert wird, indem ein Walzenquetscher oder eine Abquetschwalze nach der Beschichtung eingesetzt wird, wird ein besseres Resultat erhalten.
  • Die geeignete Beschichtungsmenge der oberflächenregulierenden Lösung ist im allgemeinen im Bereich von 0,03 bis 0,8 mg/m2 (Trockengewicht).
  • Die Planografie-Druckplatte wird, nachdem sie mit der oberflächenregulierenden Lösung beschichtet worden ist, getrocknet und daraufhin auf eine hohe Temperatur erhitzt, wenn nötig mit Hilfe einer Brennentwicklungsvorrichtung (z.B. Burning Processor BP-1300, Handelsname, hergestellt von Fuji Film Co., Ltd.). Die Temperatur und die Zeit variieren in Abhängigkeit von den Arten der Komponenten, die das Bild erzeugen, aber Bereiche von 180 bis 300°C und von 1 bis 20 Minuten sind bevorzugt.
  • Nach der Brennbehandlung kann die Planografie-Druckplatte, wenn nötig, konventionell eingesetzten Behandlungen, wie beispielsweise Spülen mit Wasser und Gummibeschichtung, unterzogen werden. Wenn jedoch die oberflächenregulierende Lösung eine wasserlösliche polymere Verbindung oder dergleichen enthält, können sogenannte desensibilisierende Behandlungen, wie beispielsweise eine Gummibeschichtung, weggelassen werden.
  • Die so hergestellte Planografie-Druckplatte wird auf eine Offset-Druckmaschine oder dergleichen montiert und daraufhin zum Drucken einer grossen Anzahl von Blättern verwendet.
  • BEISPIELE
  • Die vorliegende Erfindung wird im folgenden anhand von Beispielen erklärt. Es muss jedoch beachtet werden, dass der Umfang der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt ist.
  • BEISPIELE 1 BIS 4
  • Herstellung von Substraten:
  • Eine 0,30 mm dicke Aluminiumplatte (Materialtyp: 1050) wurde mit Trichlorethylen gesäubert und mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von Bimssteinpulver der Maschenweite 400 aufgerauht. Nach einer gründlichen Spülung mit Wasser wurde die Aluminiumplatte durch ein Verfahren, umfassend die folgenden Schritte, geätzt: Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige 25%-ige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden, Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser, Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige 20%-ige Salpetersäurelösung für 20 Sekunden und Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser. In diesem Verfahren betrug die geätzte Menge der gekörnten Aluminiumplatte etwa 3 g/m2. Als nächstes wurde die Aluminiumplatte einem Eloxierverfahren unterzogen, umfassend das Eintauchen der Aluminiumplatte in eine 7%-ige Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung, durch die ein Gleichstrom einer Dichte von 15 A/dm2 floss. Dieses Verfahren produzierte einen eloxierten Film von 3 g/m2. Dann wurde die oberflächenbehandelte Aluminiumplatte mit Wasser gespült und dann getrocknet. Die Aluminiumplatte wurde dann mit einer unten beschriebenen Grundierungsschichtflüssigkeit beschichtet, und die aufgebrachte Schicht bei 90°C für 1 Minute getrocknet. Nach dem Trocknen betrug die Beschichtungsmenge der Schicht 10 mg/m2.
  • Figure 00730001
  • Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten gemäss der folgenden Basisformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit (1) hergestellt, indem das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel durch jene, die in Tabelle 1 gezeigt sind, ausgetauscht wurde. Die so hergestellten fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils in einer Menge von 1,8 g/m2 auf die mittels des oben beschriebenen Verfahrens erhaltenen Substrate aufgebracht. Auf diese Weise wurden die Planografie-Druckplattenvorläufer der Beispiele 1 bis 4 erhalten.
  • Figure 00730002
  • Figure 00740001
  • BEISPIELE 5 BIS 8
  • Synthese eines Copolymers als in einer wässrigen alkalischen Lösung lösliche polymere Verbindung.
  • Synthesebeispiel (Copolymer (1)):
  • 31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Tropftrichter ausgestatteten 500 ml-Dreihalskolben gegeben. Die resultierende Reaktionsmischung wurde unter Kühlung in einem Eiswasserbad gerührt. Daraufhin wurden 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin tropfenweise aus dem Tropftrichter für eine Dauer von etwa 1 Stunde zur Reaktionsmischung zugegeben. Nach Abschluss der Zugabe wurde das Eiswasserbad entfernt und die Reaktionsmischung wurde bei Raumtemperatur für 30 Minuten gerührt.
  • Als nächstes wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zur Reaktionsmischung zugegeben, und die Reaktionsmischung wurde für etwa 1 Stunde bei 70°C in einem Ölbad gerührt. Nach der Umsetzung wurde die Reaktionsmischung in 1 l Wasser, unter Rühren des Wassers, gegeben, und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um einen Niederschlag abzutrennen, der in 500 ml Wasser aufgeschlämmt wurde. Die Aufschlämmung wurde filtriert, um einen Feststoff zu erhalten, der dann getrocknet wurde. Der so erhaltene weisse Feststoff war N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (die Ausbeute war 46,9 g).
  • Dann wurden 5,04 g (0,0210 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g (0,0180 mol) Ethylmethacrylat, 1,11 g (0,021 mol) Acrylnitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Tropftrichter ausgestatteten 100 ml-Dreihalskolben gefüllt. Die resultierende Reaktionsmischung wurde bei 65°C in einem Warmwasserbad gerührt. Zur Reaktionsmischung wurden 0,15 g V-65 (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) zugegeben, und die Reaktionsmischung wurde unter Einhaltung von 65°C für 2 Stunden unter einem Stickstoffstrom gerührt. Des weiteren wurde eine Mischung von 5,04 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g Ethylmethacrylat, 1,11 g Acrylnitril, 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 für eine Dauer von 2 Stunden tropfenweise aus dem Tropftrichter zur Reaktionsmischung zugefügt. Nach Abschluss der Zufügung wurde die Reaktionsmischung für weitere 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach der Umsetzen wurden 40 g Methanol zur Reaktionsmischung zugefügt und die Mischung wurde in 2 l Wasser, unter Rühren des Wassers, eingefüllt und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um einen Niederschlag abzutrennen, der dann getrocknet wurde. Auf diese Weise wurden 15 g eines weissen Feststoffs erhalten, und dieser Stoff wurde als Copolymer (1) bezeichnet. Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht (unter Verwendung von Polystyrol als Standard) von Copolymer (1) betrug gemäss Gelpermeationschromatografie 53.000.
  • Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten entsprechend der folgenden Basisformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit (2) hergestellt, in dem das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel jeweils durch die in Tabelle 1 gezeigten ersetzt wurde. Die so hergestellten fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m2 auf die in den Beispielen 1 bis 4 erhaltenen Substrate beschichtet. Auf diese Weise wurden Planografie-Druckplattenvorläufer gemäss Beispielen 5 bis 8 erhalten.
  • Figure 00760001
  • VERGLEICHSBEISPIELE 1 BIS 2
  • Planografie-Druckplattenvorläufer gemäss den Vergleichsbeispielen 1 bis 2 wurden erhalten, indem das Verfahren von Beispiel 1 wiederholt wurde, ausser dass das durch die allgemeine Formel (I) dargestellte, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel in der fotoempfindlichen Flüssigkeit (1) durch die Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel B-1 bzw. B-2, die jeweils durch die folgenden Strukturformeln dargestellt sind, ersetzt wurde.
  • Figure 00770001
  • VERGLEICHSBEISPIEL 3 BIS 4
  • Planografie-Druckplattenvorläufer gemäss den Vergleichsbeispielen 3 bis 4 wurden erhalten, indem das Verfahren von Beispiel 5 wiederholt wurde, ausser dass das durch die allgemeine Formel (I) dargestellte, Infrarotstrahlung absorbierende Mittel in der fotoempfindlichen Flüssigkeit (2) durch die Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel B-1 bzw. B-2, die jeweils durch die oben genannten Strukturformeln dargestellt sind, ersetzt wurde.
  • BEISPIELE 9 BIS 12
  • Synthesebeispiel (Copolymer (2)):
  • 31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Tropftrichter ausgestatteten 500 ml-Dreihalskolben gegeben. Die resultierende Reaktionsmischung wurde unter Kühlung in einem Eiswasserbad gerührt. Dann wurden 36,4 (0,36 mol) Triethylamin für eine Dauer von etwa 1 Stunde tropfenweise aus dem Tropftrichter zur Reaktionsmischung zugefügt. Nach Abschluss der Zugabe wurde das Eiswasserbad entfernt und die Reaktionsmischung 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt.
  • Als nächstes wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zur Reaktionsmischung zugefügt, und die Reaktionsmischung wurde 1 Stunde bei 70°C in einem Ölbad gerührt. Nach der Umsetzung wurde die Reaktionsmischung in 1 l Wasser, unter Rühren des Wassers, gegeben, und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um einen Niederschlag abzutrennen, der in 500 ml Wasser aufgeschlämmt wurde. Die Aufschlämmung wurde filtriert, um einen Feststoff zu erhalten, der dann getrocknet wurde. Der so erhaltene weisse Feststoff war N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (die Ausbeute betrug 46,9 g).
  • Dann wurden 4,61 g (0,192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylnitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen mit einem Rührer, einem Kondensatorrohr und einem Tropftrichter ausgestatteten 20 ml-Dreihalskolben gefüllt. Die resultierende Reaktionsmischung wurde bei 65°C auf einem Warmwasserbad gerührt. Zur Reaktionsmischung wurden 0,15 g V-65 (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) zugefügt, und die Reaktionsmischung wurde unter Einhaltung von 65°C für 2 Stunden unter einem Stickstoffstrom gerührt. Des weiteren wurde eine Mischung von 4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g Ethylmethacrylat, 0,80 g Acrylnitril und eine Mischung von 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 tropfenweise für eine Dauer von 2 Stunden aus dem Tropftrichter zur Reaktionsmischung zugegeben. Nach Abschluss der Zugabe wurde die Reaktionsmischung für weitere 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach der Umsetzung wurden 40 g Methanol zur Reaktionsmischung zugegeben, und die Mischung wurde in 2 l Wasser, unter Rühren des Wassers, gegeben, und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um einen Niederschlag abzutrennen, der dann getrocknet wurde. Auf diese Weise wurden 15 g eines weissen Feststoffs erhalten, und dieser Stoff wurde als Copolymer (2) bezeichnet. Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht (unter Verwendung von Polystyrol als Standard) von Copolymer (2) betrug nach Gelpermeationschromatografie 53.000.
  • Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten gemäss der folgenden Basisformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit (3) hergestellt, indem das Infrarotstrahlung absorbierende Mittel jeweils durch jene, die in Tabelle 1 gezeigt sind, ersetzt wurde. Die so hergestellten fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m2 auf die in den Beispielen 1 bis 4 erhaltenen Substrate beschichtet. Auf diese Weise wurden die Planografie-Druckplattenvorläufer der Beispiele 9 bis 12 erhalten.
  • Figure 00800001
  • VERGLEICHSBEISPIELE 5 BIS 6
  • Die Planografie-Druckplattenvorläufer der Vergleichsbeispiele 5 bis 6 wurden erhalten, indem das Verfahren von Beispiel 9 wiederholt wurde, ausser dass das durch die allgemeine Formel (I) dargestellte Infrarotstrahlung absorbierende Mittel in der fotoempfindlichen Flüssigkeit (3) jeweils durch die Infrarotstrahlung absorbierenden Mittel (B-1) und (B-2), die durch die oben beschriebenen Strukturformeln dargestellt sind, ersetzt wurde.
  • Bewertung der Planografie-Druckplattenvorläufer:
  • Die Planografie-Druckplattenvorläufer der Beispiele 1 bis 12 und die Planografie-Druckplattenvorläufer der Vergleichsbeispiele 1 bis 6, die in der obigen Weise erhalten wurden, wurden den folgenden Tests unterzogen, um ihre Leistungsfähigkeit zu bewerten. Die Testergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • Bilderzeugungsleistung – Bewertung von Empfindlichkeit und Entwicklungsspielraum:
  • Die erhaltenen Planografie-Druckplattenvorläufer wurden mit einem Halbleiterlaser mit einer Wellenlänge von 840 nm belichtet. Die belichteten Platten wurden unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsvorrichtung (PS Processor 900 VR, hergestellt von Fuji Film Co., Ltd.) entwickelt, in die ein Entwickler DP-4 und eine Spüllösung FR-3 (1:7) eingespeist wurden, die beide von Fuji Film Co., Ltd. hergestellt werden. In diesem Test wurden bei der Verdünnung von DP-4 mit Wasser zwei Verdünnungsgrade verwendet, nämlich ein Verdünnungsgrad von 1:6 und ein Verdünnungsgrad von 1:12. Für jeden der beiden Verdünnungsgrade des Entwicklers wurde die Linienbreite in den erhaltenen Nicht-Bildteilen gemessen. Als nächstes wurde die der Linienbreite entsprechende Menge an Laserenergiestrahlung berechnet, und diese Menge wurde als Empfindlichkeit festgesetzt. Der Unterschied zwischen der Empfindlichkeit der Verdünnung von 1:6, die üblich ist, und der Verdünnung von 1:12 wurde festgehalten. Ein Planografie-Druckplattenvorläufer, der einen kleineren Unterschied aufweist, erhielt die Bewertung, dass er einen besseren Entwicklungsspielraum besass. Ein Unterschied von 20 mJ/cm2 oder weniger zeigte einen praktikablen Grad an.
  • Bewertung der Stabilität:
  • Die erhaltenen Planografie-Druckplattenvorläufer wurden 3 Tage bei 60°C gelagert und dann mit einem Laser belichtet und wie im oben beschriebenen Test entwickelt. Die Empfindlichkeit wurde in derselben Weise wie oben beschrieben gemessen. Der Empfindlichkeitsunterschied vor und nach der Lagerung wurde berechnet. Ein Planografie-Druckplattenvorläufer, der einen Unterschied von 20 mJ/cm2 oder weniger aufweist, erhielt die Bewertung, dass er eine gute Lagerungsstabilität besass und als praktikabel eingestuft werden konnte.
  • Figure 00830001
  • Wie aus Tabelle 1 ersichtlich ist, hatten alle Planografie-Druckplatten der Beispiele 1 bis 12 im Vergleich zu den Planografie-Druckplatten der Vergleichsbeispiele 1 bis 6 eine höhere Empfindlichkeit gegenüber einem Infrarotlaser. Zusätzlich wiesen alle Planografie-Druckplatten der Beispiele 1 bis 12 einen beachtlich kleineren Unterschied zwischen den Empfindlichkeiten gegenüber den beiden Verdünnungsgraden der Entwickler auf. Da alle diese Planografie-Druckplattenvorläufer das Erfordernis der Praktikabilität erfüllten, d.h. einen Unterschied in der Empfindlichkeit gegenüber den beiden Verdünnungsgraden von nicht mehr als 20 mJ/cm2 aufwiesen, wurde festgestellt, dass diese Planografie-Druckplattenvorläufer einen guten Entwicklungsspielraum besassen.
  • Des weiteren wurde auf Grundlage der Resultate der Lagerungsstabilitätsprüfung bestätigt, dass die erfindungsgemässen Planografie-Druckplatten das Erfordernis der Praktikabilität bezüglich der Lagerungsstabilität, d.h. einen Unterschied der Empfindlichkeit von nicht mehr als 20 mJ/cm2 zwischen vor und nach der Lagerung, erfüllten. Dementsprechend wurden die erfindungsgemässen Planografie-Druckplatten als eine gute Lagerungsstabilität besitzend bewertet.
  • BEISPIEL 13
  • Ein Planografie-Druckplattenvorläufer wurde hergestellt, indem das Verfahren von Beispiel 9 wiederholt wurde, ausser dass die zugefügte Menge an Infrarotstrahlung absorbierendem Mittel IR-5 von Beispiel 9 auf 0,011 g geändert wurde.
  • BEISPIEL 14
  • Ein Planografie-Druckplattenvorläufer wurde hergestellt, indem das Verfahren von Beispiel 10 wiederholt wurde, ausser dass die zugefügte Menge an Infrarotstrahlung absorbierendem Mittel IR-18 von Beispiel 10 auf 0,011 g geändert wurde.
  • VERGLEICHSBEISPIEL 7
  • Ein Planografie-Druckplattenvorläufer wurde hergestellt, indem das Verfahren von Vergleichsbeispiel 5 wiederholt wurde, ausser dass die zugefügte Menge an Infrarotstrahlung absorbierendem Mittel B-1 von Vergleichsbeispiel 5 auf 0,011 g geändert wurde.
  • VERGLEICHSBEISPIEL 8
  • Ein Planografie-Druckplattenvorläufer wurde hergestellt, indem das Verfahren von Vergleichsbeispiel 6 wiederholt wurde, ausser dass die zugefügte Menge an Infrarotstrahlung absorbierendem Mittel B-1 von Vergleichsbeispiel 6 auf 0,011 g geändert wurde.
  • Die in den obigen Beispielen 13 und 14 sowie in den Vergleichsbeispielen 7 und 8 erhaltenen Planografie-Druckplattenvorläufer wurden in derselben Weise wie in Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
  • Figure 00860001

Claims (13)

  1. Fotoempfindliche Zusammensetzung, die die folgenden Komponenten (a) und (b) umfasst und in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich wird, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird: (a) ein Infrarotstrahlung absorbierendes Mittel der folgenden Formel (I); und (b) eine in Wasser unlösliche, aber in wässriger alkalischer Lösung lösliche polymere Verbindung
    Figure 00870001
    worin R1 bis R4 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; R5 und R6 sind jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe, eine substituierte Oxygruppe oder ein Halogenatom; n und m sind unabhängig voneinander eine ganze Zahl von 0–4, R1 und R2 oder R3 und R4 können miteinander unter Bildung eines Rings kombiniert sein, und R1 und/oder R2 können mit R5 kombiniert sein, oder R3 und/oder R4 können mit R6 kombiniert sein, wodurch ein Ring gebildet wird; mehrere R5 oder mehrere R6 können miteinander unter Bildung eines Rings kombiniert sein; Z1 und Z2 sind jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe, und mindestens eines von Z1 und Z2 ist ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe; Q ist eine Trimethingruppe oder eine Pentamethingruppe, die jeweils eine Substituentengruppe aufweisen können, und ist in der Lage, zusammen mit einer divalenten organischen Gruppe eine cyclische Struktur zu bilden; und X– ist ein Gegenanion.
  2. Verbindung gemäss Anspruch 1, worin die polymere Verbindung (b-1) eine phenolische Hydroxylgruppe aufweist, und die polymere Verbindung ist ausgewählt aus Pyrogallolacetonharzen und Phenol-Formaldehydharzen, m-Kresol-Formaldehydharzen, p-Kresol-Formaldehydharzen, gemischten m-/p-Kresol-Formaldehydharzen und gemischten Phenol/Kresol (vom m-, p- oder m-/p-Mischtyp)-Formaldehydharzen.
  3. Zusammensetzung gemäss Anspruch 1, worin die polymere Verbindung (b-1) eine phenolische Hydroxylgruppe in einer Seitenkette aufweist.
  4. Zusammensetzung gemäss Anspruch 3, worin die polymere Verbindung erhalten wird durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit der phenolischen Hydroxylgruppe, worin das Monomer ausgewählt ist aus Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat und Hydroxystyrol.
  5. Zusammensetzung gemäss Anspruch 3, worin die polymere Verbindung erhalten wird durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit der phenolischen Hydroxylgruppe, worin das Monomer ausgewählt ist aus N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat.
  6. Zusammensetzung gemäss Anspruch 1, worin die polymere Verbindung (b-2) eine Sulfonamidgruppe aufweist, und die Polymerverbindung wird erhalten durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit einer Sulfonamidgruppe oder durch Copolymerisation dieses polymerisierbaren Monomers mit (einem) anderen polymerisierbaren Monomer(en).
  7. Zusammensetzung gemäss Anspruch 6, worin das polymerisierbare Monomer mit einer Sulfonamidgruppe zusammengesetzt ist aus einer Verbindung mit einem niedrigen Molekulargewicht mit mindestens einer Sulfonamidgruppe -NH-SO2-, worin ein Monomerenmolekül mindestens ein an ein Stickstoffatom gebundenes Wasserstoffatom und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Bindungen aufweist.
  8. Zusammensetzung gemäss Anspruch 7, worin das polymerisierbare Monomer mit Sulfonamidgruppe zusammengesetzt ist aus einer Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht, die eine Acryloyl-, Allyl- oder Vinyloxygruppe und eine substituierte Sulfonylimino- oder substituierte oder monosubstituierte Aminosulfonylgruppe aufweist.
  9. Zusammensetzung gemäss Anspruch 6, worin das polymerisierbare Monomer mit einer Sulfonamidgruppe ausgewählt ist aus Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln (3) bis (7):
    Figure 00900001
    worin X1 und X2 unabhängig voneinander -O- oder -NR27- repräsentieren; R21 und R24 sind unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder -CH3; R22, R25, R29, R32 und R36 sind unabhängig voneinander eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, worin jede Gruppe 1–12 Kohlenstoffatome hat und einen Substituenten aufweisen kann; R23, R27 und R33 sind jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, worin jede Gruppe 1–12 Kohlenstoffatome hat und einen Substituenten aufweisen kann; R26 und R37 sind jeweils unabhängig voneinander eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe worin jede Gruppe 1–12 Kohlenstoffatome hat und einen Substituenten aufweisen kann; R28, R30 und R34 sind jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder -CH3; R31 und R35 sind jeweils unabhängig voneinander eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe, worin jede Gruppe 1–12 Kohlenstoffatome hat und einen Substituenten aufweisen kann; und Y1 und Y2 sind jeweils unabhängig voneinander eine Einfachbindung oder -CO-.
  10. Zusammensetzung gemäss Anspruch 9, worin das polymerisierbare Monomer mit einer Sulfonamidgruppe ausgewählt ist aus m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid und N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid.
  11. Zusammensetzung gemäss Anspruch 6, worin die polymere Verbindung (b-3) eine aktive Imidogruppe aufweist, und die polymere Verbindung wird erhalten durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers, das zusammengesetzt ist aus einer Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht, die mindestens eine aktive Imidogruppe der folgenden Formel und mindestens eine polymerisierbare ungesättigte Verbindung aufweist, oder wird erhalten durch Copolymerisation des polymerisierbaren Monomers mit (einem) anderen polymerisierbaren Monomer(en):
    Figure 00920001
  12. Zusammensetzung gemäss Anspruch 11, worin die polymere Verbindung N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid oder N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid ist.
  13. Planografie-Druckplattenvorläufer, der ein Substrat und eine darauf ausgebildete fotoempfindliche Schicht umfasst, worin die fotoempfindliche Schicht die fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 1 umfasst.
DE60020286T 1999-03-25 2000-03-23 Lichtempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellte Flachdruckplatte-Vorstufe Expired - Fee Related DE60020286T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8240199 1999-03-25
JP8240199A JP2000275828A (ja) 1999-03-25 1999-03-25 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE60020286D1 DE60020286D1 (de) 2005-06-30
DE60020286T2 true DE60020286T2 (de) 2006-02-02

Family

ID=13773583

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60020286T Expired - Fee Related DE60020286T2 (de) 1999-03-25 2000-03-23 Lichtempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellte Flachdruckplatte-Vorstufe

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6355396B1 (de)
EP (1) EP1038668B1 (de)
JP (1) JP2000275828A (de)
AT (1) ATE296200T1 (de)
DE (1) DE60020286T2 (de)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7132212B2 (en) 2001-06-13 2006-11-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized plate
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US20040067435A1 (en) * 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7160667B2 (en) 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
EP1649322A4 (de) 2003-07-17 2007-09-19 Honeywell Int Inc Planarisierungsfilme für fortschrittliche mikroelektronsiche anwendungen und einrichtungen und herstellungsverfahren dafür
JP4167148B2 (ja) * 2003-08-22 2008-10-15 富士フイルム株式会社 画像記録材料
JP2005067006A (ja) * 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US20080070291A1 (en) 2004-06-16 2008-03-20 David Lam Compositions and Methods for Enzymatic Decolorization of Chlorophyll
ATE555904T1 (de) 2009-08-10 2012-05-15 Eastman Kodak Co Lithografische druckplattenvorläufer mit betahydroxy-alkylamid-vernetzern
KR101390985B1 (ko) 2009-09-15 2014-05-02 밀란 그룹 코폴리머, 상기 코폴리머를 포함하는 폴리머성 입자 및 네거티브형 감방사선성 평판 인쇄판용 감방사선성 코팅 조성물의 코폴리머성 결합제
KR101739591B1 (ko) 2010-07-20 2017-05-25 동우 화인켐 주식회사 포지티브 포토레지스트 조성물
MX336236B (es) 2010-09-14 2016-01-11 Mylan Group Copolimeros para composiciones de revestimiento sensibles a radiacion casi-infrarroja para placas de impresion litografica termica de trabajo positivo.
TW201339744A (zh) * 2012-03-20 2013-10-01 Ind Tech Res Inst 圖案化層狀材料與形成轉印模的方法
MX2017013959A (es) 2015-05-04 2018-01-16 Flint Group Germany Gmbh Placa de impresion con almohadilla grabable por laser.

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8913444D0 (en) * 1989-06-12 1989-08-02 Minnesota Mining & Mfg Thermal dye bleach construction
US5409797A (en) * 1991-03-04 1995-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive recording material for laser recording
US5314795A (en) * 1992-12-21 1994-05-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal-dye-bleach construction comprising a polymethine dye and a thermal carbanion-generating agent
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
ATE183136T1 (de) 1996-04-23 1999-08-15 Kodak Polychrome Graphics Co Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme
JP3814961B2 (ja) * 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版

Also Published As

Publication number Publication date
DE60020286D1 (de) 2005-06-30
JP2000275828A (ja) 2000-10-06
EP1038668A3 (de) 2001-02-28
ATE296200T1 (de) 2005-06-15
EP1038668A2 (de) 2000-09-27
US6355396B1 (en) 2002-03-12
EP1038668B1 (de) 2005-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60025283T2 (de) Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
DE60037951T2 (de) Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
DE60119662T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer
DE60014207T2 (de) Positives planographisches Druckmaterial
DE60126000T2 (de) Wärmeempfindliche Flachdruckplatte
DE69828364T2 (de) Positiv-Typ photoempfindliche Zusammensetzung für Infrarotlaser
EP2185360B1 (de) Mehrschichtiges bebilderbares element mit verbesserten eigenschaften
DE60020286T2 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellte Flachdruckplatte-Vorstufe
DE69911492T2 (de) Anionischer Infrarotabsorber, photoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckform-Vorstufe
DE60011490T2 (de) Vorläufer für eine Flachdruckplatte
DE60027351T2 (de) Bildaufzeichnungsmaterial und Flachdruckplatte mit diesem Bildaufzeichnungsmaterial
DE60016660T2 (de) Lithographische Druckplattenvorstufe
JP4099012B2 (ja) 画像形成材料
JPH11338131A (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
DE60007023T2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung
DE602005002324T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer.
JP2000310852A (ja) ポジ型平版印刷用材料
JP3920457B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3934825B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4041611B2 (ja) アニオン性赤外線吸収剤、感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP3977557B2 (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2000330271A (ja) ポジ型感光性組成物
JP2000347393A (ja) 画像記録材料
JP2001174980A (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2000075474A (ja) 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP

8339 Ceased/non-payment of the annual fee