DE60016660T2

DE60016660T2 - Lithographische Druckplattenvorstufe

Info

Publication number: DE60016660T2
Application number: DE60016660T
Authority: DE
Inventors: Hidekazu Yoshida-cho Oohashi; Sumiaki Yoshida-cho Yamasaki
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1999-04-26
Filing date: 2000-04-25
Publication date: 2005-10-06
Anticipated expiration: 2020-04-26
Also published as: EP1048457A3; ATE284792T1; US6455224B1; JP2000309174A; DE60016660D1; EP1048457B1; EP1048457A2

Description

GEBIET DER ERFINDUNG:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche und eine hydrophile bilderzeugende Schicht umfasst. Genauer betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer, der geeignet ist zur Herstellung einer Platte durch Rasterbelichtung auf Basis von digitalen Signalen, das eine hohe Empfindlichkeit und eine hohe Drucklebensdauer sicherstellt und eine von zurückbleibender Farbe oder Fleckbildung freie Drucksache liefert. Der Lithografie-Druckplattenvorläufer kann mit Wasser oder einer wässrigen Lösung entwickelt werden, oder kann ohne Durchlaufen einer Entwicklung auf einer Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang ausgesetzt werden.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
Im allgemeinen umfasst die in dem vorliegenden Verfahren verwendete Druckplatte einen tintenaufnehmenden (d.h. lithografischen) Bildbereich zur Aufnahme von Tinte während des Druckvorgangs und einen hydrophilen Nichtbildbereich zur Aufnahme einer Benetzungslösung. Für die Originalplatte (d.h. den Vorläufer) einer solchen Lithografiedruckplatte wurde bisher weitverbreitet eine PS-Platte verwendet, die einen hydrophilen Träger mit darauf bereitgestellter tintenaufnehmender (d.h. lipophiler) fotoempfindlicher Harzschicht (tintenaufnehmende Schicht) umfasst. Nach dem Plattenherstellungsverfahren hierfür wird eine Platte üblicherweise einer Maskenbelichtung durch einen Lithofilm unterworfen und dann wird der Nichtbildbereich aufgelöst und mit einem Entwickler entfernt, wodurch die gewünschte Druckplatte erhalten wird.
In den letzten Jahren wurde die Digitalisierungstechnologie unter elektrischer Verarbeitung, Speicherung und Wiedergabe von Bildinformation unter Verwendung eines Computers allgemein gebräuchlich. Zur Bewältigung dieser Digitalisierungstechnologie wurden verschiedene neue Verfahren zur Wiedergabe eines Bildes vorgeschlagen und werden tatsächlich angewandt. Damit mit dieser Tendenz Schritt gehalten werden kann, sind die Anforderungen an eine Computer-auf-Platten-Technik, durch die eine Druckplatte direkt durch Rastern mit strahlungsaktiver Strahlung mit hoher Richtcharakteristik, wie beispielsweise Laserstrahlung, gemäss digitalisierter Bildinformation hergestellt und auf die Verwendung eines Lithografiefilms verzichtet werden kann, ansteigend. Daher ist es ein bedeutendes technisches Problem, einen hierfür geeigneten Druckplattenvorläufer (gelegentlich als "Druckplattenoriginal" bezeichnet) zu erhalten.
In dem Plattenherstellungsverfahren für konventionelle PS-Platten ist der Schritt des Auflösens und Entfernens des Nichtbildbereichs nach der Belichtung unerlässlich. Diese zusätzliche Nassverarbeitung als unerlässlicher Schritt ist ein weiteres Problem, dessen Überwindung in herkömmlichen Techniken verlangt wird. Insbesondere in den letzten Jahren ist die umsichtige Pflege der globalen Umwelt eine grosse Sorge in der gesamten Industrie. Sowohl im Hinblick auf den Umweltaspekt als auch im Hinblick auf den Aspekt der Prozessrationalisierung zum Schritthalten mit der Digitalisierung, nimmt das Verlangen nach einer einfachen Verarbeitung, einer trockenen Verarbeitung oder der Verarbeitungsfreiheit noch stärker zu.
Aus diesem Blickwinkel wurde das folgende Verfahren zur Eliminierung des oben beschriebenen Verarbeitungsschrittes in herkömmlichen Techniken vorgeschlagen. Das heisst, es wurde ein Plattenherstellungssystem für eine Lithografiedruckplatte vorgeschlagen, das als auf-der-Presse-Entwicklungssystem bezeichnet wird, worin eine fotoempfindliche Schicht, deren Nichtbildbereich der Druckplattenoriginal während des üblichen Druckvorgangs entfernt werden kann, verwendet wird, und die Platte wird nach der Belichtung auf einer Druckpresse entwickelt, wodurch ohne Durchlaufen eines Entwicklungsschrittes eine fertige Druckplatte erhalten wird. Genauer gesagt ist beispielsweise ein Verfahren unter Verwendung einer in einer Benetzungslösung oder einem Tintenlösungsmittel löslichen fotoempfindlichen Schicht und dynamischer Entfernung des Nichtbildbereichs durch den Kontakt mit dem Druckzylinder oder dem Drucktuchzylinder in der Druckmaschine bekannt. Wenn jedoch eine herkömmliche PS-Platte auf diese Druckplatte in dem auf-der-Presse-Entwicklungssystem angewandt wird, muss das Plattenoriginal unter vollständiger Lichtabschirmung und/oder konstanten Temperaturbedingungen gelagert werden, bis es auf einer Druckpresse montiert wird, da die fotoempfindliche Schicht nach der Belichtung nicht fixiert wird.
In den letzten Jahren wurden einige Feststofflaser mit hoher Ausgangsleistung zu geringen Kosten verfügbar, wie beispielsweise Halbleiterlaser und YAG-Laser. Mit diesem Fortschritt nimmt ein Verfahren unter Verwendung eines solchen Lasers vielversprechende Mittel zur Lösung des oben beschriebenen technischen Problems auf. In dem Belichtungssystem mit hoher Leistungsdichte, in dem diese Hochleistungs-Feststofflaser verwendet werden, können verschiedene Phänomene ausgenutzt werden, die von der Fotoreaktion, die in dem fotoempfindlichen Materialsystem für die Belichtung bei niedriger bis mittlerer Leistungsdichte auftreten, unterschiedlich sind. Genauer können verschiedene strukturelle Veränderungen ausgenutzt werden, wie beispielsweise chemische Veränderungen, Phasenveränderungen und morphologische Veränderungen. Das Aufzeichnungssystem durch diese Belichtung mit hoher Leistungsdichte wird als "Wärmemodusaufzeichnung" bezeichnet. Der Grund hierfür liegt darin, dass in dem Belichtungssystem hoher Leistungsdichte die durch das fotoempfindliche Material absorbierte Lichtenergie in vielen Fällen in Wärme umgewandelt wird, und es wird angenommen, dass die erzeugte Wärme ein gewünschtes Phänomen hervorbringt.
Dieses Wärmemodus-Aufzeichnungssystem ist dahingehend von grossem Vorteil, dass die Fixierung eines Bildes nach der Belichtung keine wesentliche Massnahme ist.
Genauer tritt das Phänomen, das zur Aufzeichnung eines Bildes auf einem fotoempfindlichen Wärmemodusmaterial ausgenutzt wird, bei der Belichtung mit Licht herkömmlicher Intensität oder bei einer üblichen Umgebungstemperatur im wesentlichen nicht auf, weshalb die Fixierung des Bildes nach der Belichtung nicht erforderlich ist. Aufgrund dessen kann beispielsweise ein System etabliert werden, indem einen durch die Wärmemodusbelichtung insolubilisierte oder solubilisierte fotoempfindliche Schicht verwendet wird, und als Ergebnis unterliegt das erhaltene Bild keinerlei Veränderungen auch wenn die Schicht nach der bildweisen Belichtung für einen beliebigen Zeitraum dem Umgebungslicht ausgesetzt und dann entwickelt wird (Entfernen des Nichtbildbereichs).
Durch Anwendung dieser Wärmemodusaufzeichnung kann ein Lithografiedruckplattenoriginal erhalten werden, die für das oben beschriebene, auf-der-Presse-Entwicklungssystem geeignet ist.
Als ein bevorzugtes Beispiel für das Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte durch Wärmemodusaufzeichnung wurde ein Verfahren unter Bereitstellung einer hydrophilen bilderzeugenden Schicht auf einem hydrophilen Träger, bildweise Belichtung derselben durch Wärmemodusbelichtung zur Bewirkung von Veränderungen der Löslichkeit und Dispergierbarkeit der hydrophilen Schicht, und bei Bedarf Entfernen der unbelichteten Fläche durch Nassbelichtung vorgeschlagen.
Als Plattenoriginal dieses Typs ist ein bilderzeugendes Material, das einen Träger mit darauf befindlicher fotoempfindlicher Schicht, die eine Verbindung enthält, die zur Erzeugung einer Säure durch Bestrahlung mit aktiver Strahlung in der Lage ist, eine Verbindung mit mindestens einer Bindung, die zur Vernetzung in Gegenwart einer Säure in der Lage ist, und einen Cyaninfarbstoff mit einer bestimmten chemischen Struktur enthält, beispielsweise in JP-A-10-239834 offenbart (der Ausdruck "JP-A", wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung"). Die offenbarte fotoempfindliche Schicht hat jedoch keine ausreichend hohe Wärmeempfindlichkeit und zeigt in der Wärmemodusrasterbelichtung eine auffällig niedrige Empfindlichkeit. Ferner besteht das Problem, dass die Diskriminierung der Hydrophilizität/Hydrophobizität vor und nach der Belichtung, d.h. die Veränderung der Löslichkeit, gering ist. Wenn die Diskriminierung selbst gering ist, kann die Plattenherstellung nach dem auf-der-Presse-Entwicklungssystem im wesentlichen nicht durchgeführt werden.
Herkömmliche Plattenoriginale vom Wärmemodussystem weisen ein weiteres ernsthaftes Problem auf, d.h. der Nichtbildbereich besitzt eine schlechte Beständigkeit gegenüber Fleckbildung oder der Bildbereich zeigt eine geringe Festigkeit. Anders gesagt sind Verbesserungen in dem Punkt erforderlich, dass die Veränderung der Löslichkeit der bilderzeugenden Schicht durch Belichtung nahe am Träger im Vergleich zu der Veränderung nahe der Oberfläche der bilderzeugenden Schicht klein ist. Bei dem Plattenoriginal vom Wärmemodussystem ist die Wärmeerzeugung bei der Wärmemodusbelichtung der Lichtabsorption eines Lichtabsorptionsmittels der Aufzeichnungsschicht zuzuschreiben. Daher ist die erzeugte Wärmemenge an der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht gross und nahe am Träger klein. Als Ergebnis ist das Ausmass der Veränderung der Löslichkeit der Aufzeichnungsschicht nahe am Träger relativ gering, und die tintenaufnehmende Schicht im belichteten Bereich, die eine hydrophobe tintenaufnehmende Schicht liefern muss, wird gelegentlich während des Entwicklungs- und/oder Druckvorgangs entfernt. Falls die tintenaufnehmende Schicht im Bildbereich eines Negativ-Plattenoriginals entfernt wird, tritt das Problem einer kurzen Drucklebensdauer der Druckfunktionen auf. Insbesondere wenn ein Metallträger mit einer hohen Leitfähigkeit, der im Hinblick auf die Eignung zum Drucken bevorzugt ist, wie beispielsweise Al, verwendet wird, wird ein Temperaturanstieg nahe am Träger durch thermische Diffusion noch stärker verhindert, und das oben beschriebene Problem tritt noch ernsthafter hervor. Zur Erzielung einer ausreichend grossen Veränderung der Löslichkeit nahe am Substrat ist eine extrem hohe Belichtungsenergie erforderlich oder es muss eine Nachbehandlung, wie beispielsweise Erwärmung nach der Belichtung, durchgeführt werden.
EP-A1-0 867 769 betrifft ein Bildaufzeichnungsmaterial vom Negativtyp, das ein Polyurethanharz mit einer Carboxylgruppe, eine durch eine Säure vernetzbare Verbindung und eine Verbindung, die durch Einwirkung von Licht oder Wärme eine Säure erzeugt, umfasst. Wenn das Aufzeichnungsmaterial Licht oder Wärme ausgesetzt wird, wird das säureerzeugende Mittel unter Erzeugung einer Säure zersetzt, die die Vernetzung zwischen dem Vernetzungsmittel und dem Polyurethanharz auslöst, wodurch ein Bildbereich erzeugt wird.
EP-A1-0 874 282 betrifft ein Negativ-Bildaufzeichnungsmaterial, das ein säureaktiviertes Vernetzungsmittel, ein Binderpolymer, eine Verbindung, die durch Einwirkung von Wärme eine Säure erzeugt, einen Infrarotabsorber, der absorbierte Infrarotstrahlung in Wärme umwandelt, umfasst. Wenn die Aufzeichnungsvorrichtung mit Infrarotstrahlung bestrahlt wird, wandelt der Absorber die Strahlung in Wärme um, die zur Zersetzung des säureerzeugenden Mittels in eine Säure führt, was wiederum die Reaktion des Vernetzungsmittels mit dem Binderpolymer hervorruft. Folglich führt die bildweise Belichtung der Druckplatte mit Infrarotstrahlung zur Erzeugung eines Bildes auf der Bildaufzeichnungsvorrichtung.
EP-A1-0 822 067 betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Lithografiedruckplatten, das die folgenden Schritte umfasst

(a) bildweises Belichten eines bildgebenden Elements mit Infrarotstrahlung oder Wärme, wobei das bildgebende Element auf einer hydrophilen Oberfläche ein IR-Absorptionsmittel, ein wasserunlösliches alkalilösliches Harz und eine IR- oder wärmeempfindliche Schicht umfasst;
(b) Belichten der Druckplatte mit W-Licht; und
(c) Entwickeln des bildgebenden Elements mit einer wässrigen alkalischen Entwicklungslösung zur Entfernung der nicht bildweise belichteten Bereiche, wodurch eine Lithografiedruckplatte erzeugt wird.

US-A 5 705 308 betrifft eine IR-bildgebende Zusammensetzung, die eine IR-absorbierende Verbindung und ein phenolisches Harz, das o-Diazonaphthochinon oder ein Derivat davon enthält, umfasst. Durch Bestrahlung mit aktinischem Licht wird o-Diazonaphthochinon alkalilöslich. Die bildweise Bestrahlung eines Druckplattenvorläufers, der diese Zusammensetzung enthält, führt zu Bildbereichen, die durch Entwicklung der Platte in einer alkalischen Entwicklungsflüssigkeit entfernbar werden. Da die Zusammensetzung eine Verbindung umfasst, die IR-Licht in aktinisches Licht umwandeln kann, ist der Vorläufer auch gegenüber IR-Strahlung empfindlich.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
Folglich ist das erfindungsgemässe Ziel die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer durch Rasterbelichtung auf Basis von digitalen Signalen, das begünstigt ist durch eine hohe Empfindlichkeit und eine gute Drucklebensdauer und das frei ist von Erzeugung von Verschmutzungen (d.h. Fleckbildungen).
Ein weiteres erfindungsgemässes Ziel ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer, der mit Wasser oder einer wässrigen Lösung entwickelt wird oder der wie er ist, ohne Durchlaufen einer Entwicklung, in einer Druckplatte montiert und dem Druckvorgang ausgesetzt werden kann.
Als Ergebnis extensiver Untersuchungen haben die hiesigen Erfinder gefunden, dass durch Zugabe einer bestimmten Menge eines bestimmten Infrarotabsorptionsmittels zu der fotoempfindlichen Schicht eines Lithografie-Druckplattenvorläufers der belichtete Bereich wasserunlöslich wird, wodurch ein Bildbereich mit hoher Drucklebensdauer erzeugt wird, und im nicht belichteten Bereich, der wasserlöslich ist, kann ein Nichtbildbereich ohne zurückbleibenden Film auf dem Träger erhalten werden. Die vorliegende Erfindung wurde auf Basis dieses Befundes erhalten.
Genauer wird erfindungsgemäss ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche und darauf befindlicher fotoempfindlicher Schicht, die mindestens 6 Gew.% eines hydrophilen IR-Absorptionsmittels umfasst, umfasst, bereitgestellt, das die folgenden Schritte umfasst:

(i) bildweise Belichtung der fotoempfindlichen Schicht mit IR-Strahlung, wodurch das IR-Absorptionsmittel hydrophob wird;
(ii) Montieren der belichteten Platte auf einer Druckmaschine, ohne dass die Platte irgendeine Verarbeitung durchläuft; und
(iii) Entfernen der Nichtbildbereiche der fotoempfindlichen Schicht auf der montierten Platte durch Kontaktieren mit Benetzungslösung.

Wenn das IR-Absorptionsmittel, das in dem Lithografie-Druckplattenvorläufer, der in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendet wird, mit einem Laser, der Infrarotstrahlung emittiert, bestrahlt wird, wird, ohne sich dessen sicher zu sein, angenommen, dass die hydrophile funktionelle Gruppe des IR-Absorptionsmittels zersetzt oder desorbiert (d.h. freigesetzt) wird, wodurch die hydrophile Farbstoff selbst hydrophob werden kann.
Falls ein IR-Absorptionsmittel, das nicht von hydrophil zu hydrophob verändert wird, in einem negativ arbeitenden Lithografie-Druckplattenvorläufer verwendet wird, zeigt der nichtbelichtete Bereich ein gute Löslichkeit in einer wässrigen Lösung, falls der Farbstoff ursprünglich hydrophil ist, jedoch besitzt der Bildbereich eine geringe Wasserbeständigkeit und wird durch den Entwickler oder die Benetzungslösung, die während des Druckvorgangs verwendet wird, entfernt. Wenn der Farbstoff andererseits ursprünglich hydrophob ist, zeigt der belichtete Bereich eine gute Wasserbeständigkeit, jedoch zeigt der unbelichtete Bereich eine schlechte Entfernbarkeit und kann durch den Entwickler oder die während des Druckvorgangs verwendete Benetzungslösung nicht entfernt werden, und es tritt eine Fleckbildung im Bildbereich der Drucksache auf.
In dem erfindungsgemässen Verfahren wird das IR-Absorptionsmittel, das eine Hydrophilizität eines bestimmten Niveaus oder darüber hinaus aufweist, hydrophob, und daher kann eine sehr starke bilderzeugende Schicht mit hoher Wasserbeständigkeit im belichteten Bereich erhalten werden und der unbelichtete Bereich kann eine hohe Löslichkeit in einer wässrigen Lösung zeigen.
Mit anderen Worten enthält der erfindungsgemäss verwendete Lithografie-Druckplattenvorläufer als eine fotoempfindliche Schicht eine bestimmte Menge eines IR-Absorptionsmittels, das durch Wärme von hydrophol zu hydrophob verändert werden kann, und liefert daher die Effekte, dass die Plattenherstellung direkt anhand von digitalen Daten aus einem Computer oder dergleichen unter Verwendung eines Infrarotlasers durchgeführt werden kann, eine hohe Empfindlichkeit erhalten werden kann und der Bildbereich frei von Ausdünnungen, d.h. Verschmierungen, sein kann, und ist begünstigt durch eine gute Drucklebensdauer und die Verhinderung des Auftretens von Fleckbildung.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG:
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend detailliert beschrieben.
Die fotoempfindliche Schicht des erfindungsgemäss verwendeten Lithografie-Druckplattenvorläufers (d.h. nachfolgend als "Lithografiedruckplattenoriginal" bezeichnet) enthält 6 Gew.% oder mehr eines IR-Absorptionsmittels, das in der Lage ist, durch Wärme von hydrophil zu hydrophob verändert zu werden (nachfolgend gelegentlich vereinfacht als "IR-Absorptionsmittel", "erfindungsgemäss verwendetes IR-Absorptionsmittel" oder "IR-Absorber" bezeichnet), und kann in Abhängigkeit von der beabsichtigten Verwendung ferner ein hydrophiles Polymer, eine hydrophile Polymerverbindung, die durch Wärme hydrophob werden kann, und dergleichen enthalten.
IR-Absorptionsmittel:
Das IR-Absorptionsmittel, das in der fotoempfindlichen Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals enthalten ist, ist nicht sonderlich beschränkt, solange es durch Wärme von hydrophil zu hydrophob verändert wird. Ein Farbstoff oder ein Pigment ist jedoch bevorzugt, und solche, die eine Struktur aufweisen, in der eine hydrophile funktionelle Gruppe, die durch Einwirkung von Wärme zersetzt oder desorbiert werden kann, direkt oder über eine Verbindungsgruppe an das Grundgerüst des Farbstoffs oder Pigments gebunden ist, sind weiter bevorzugt.
Die hydrophile funktionelle Gruppe, die durch Wärme zersetzt oder desorbiert werden kann, in dem IR-Absorptionsmittel ist nicht sonderlich beschränkt, jedoch vorzugsweise aus den hydrophilen funktionellen Gruppen ausgewählt, die durch die folgenden Formeln (1) bis (5) repräsentiert werden.
worin M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, X ist ein Ion mit einer negativen Ladung und R¹, R² und R³ sind jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe.
Wenn das in der fotoempfindlichen Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals enthaltene IR-Absorptionsmittel eine hydrophile funktionelle Gruppe enthält, die durch eine beliebige der Formeln (1) bis (5) repräsentiert wird, wird die hydrophile funktionelle Gruppe durch Wärme zersetzt oder desorbiert, und das IR-Absorptionsmittel wird aufgrund der Struktur seines ursprünglichen Grundgerüsts hydrophob. Als Ergebnis wird im belichteten Bereich der fotoempfindlichen Schicht des erfindungsgemässen Lithografiedruckplattenoriginals ein hydrophober Bildbereich mit geringer Löslichkeit in einem wässrigen Lösungsmittel erhalten, und der unbelichtete Bereich kann eine hohe Löslichkeit in einer wässrigen Lösung aufweisen.
Im allgemeinen werden die funktionellen Gruppen -SO₃ ^–M⁺ der Formel (1) und -COO^–M⁺ der Formel (2) nicht leicht durch Wärme zersetzt oder desorbiert, wenn diese funktionellen Gruppen jedoch direkt oder über eine relativ kurze Verbindungsgruppe an das Grundgerüst des IR-Absorptionsmittels gebunden sind, können sie mit hoher Effizienz die Wärmeenergie aufnehmen, die durch die Licht/Wärme-Umwandlungswirkung des IR-Absorptionsmittels erzeugt wird, und leicht zersetzt oder desorbiert werden.
In allen hydrophilen funktionellen Gruppen der Formeln (1) bis (5) bildet das Ion mit einer positiven Ladung, das durch M repräsentiert wird, ein Innenpaar mit der negativen Ladung, die in der hydrophilen funktionellen Gruppe vorhanden ist.
Daher ist M in einer Molzahl vorhanden, die zur Erzielung der zur in der hydrophilen funktionellen Gruppe vorhandenen negativen Ladung äquivalenten Ladung erforderlich ist.
Spezifische Beispiele für M schliessen H⁺, Li⁺, Na⁺, K⁺, Rb⁺, Cs⁺, Be²⁺, Mg²⁺, Ca²⁺, Sr²⁺, Ba²⁺, Al³⁺, Sn²⁺, Sn⁴⁺, Pb²⁺, Pb³⁺, Zn²⁺, Hg²⁺, Ti³⁺, Ti⁴⁺, V²⁺, V³⁺, V⁴⁺, Cr²⁺, Cr³⁺, Mn²⁺, Mn³⁺, Fe²⁺, Fe³⁺, Co²⁺, Co³⁺, Ni²⁺, Cu⁺, Cu²⁺, Ag⁺, Ammoniumion, Sulfoniumion, Phosphoniumion, Iodoniumion und Diazoniumion ein.
Spezifische Beispiele für das Ammoniumion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Sulfoniumion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Phosphoniumion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Iodoniumion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Diazoniumion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Das durch X repräsentierte Ion mit einer negativen Ladung bildet ein Innenpaar mit der positiven Ladung in der hydrophilen funktionellen Gruppe. Daher ist X in einer Molzahl vorhanden, die zur Erzielung der zu der in der hydrophilen funktionellen Gruppe vorhandenen positiven Ladung äquivalenten Ladung erforderlich ist.
Spezifische Beispiele für X schliessen F^–, Cl^–, Br^–, I^–, HO^–, CN^–, SO₄ ^2–, HSO₄ ^–, SO₃ ^2–, HSO₃ ^–, NO₃ ^–, CO₃ ^2–, HCO₃ ^–, PF₆ ^–, BF₄ ^–, ClO₄ ^–, ClO₃ ^–, ClO₂ ^–, ClO^–, BrO₄ ^–, BrO₃ ^–, BrO₂ ^–, BrO^–, IO₄ ^–, IO₃ ^–, IO₂ ^–, IO^–, Sulfonatanion, Carbonatanion, Phosphonatanion und Phosphatanion ein.
Spezifische Beispiele für das Sulfonatanion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Carbonatanion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Phosphonatanion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Spezifische Beispiele für das Phosphatanion sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Unter diesen Anionen sind Anionen, die in geeigneter Weise erfindungsgemäss verwendet werden, F^–, Cl^–, Br^–, I^–, HO^–, CN^–, SO₄ ^2–, NO₃ ^–, CO₃ ^2–, PF₆ ^–, BF₄ ^–, ClO₄ ^–, Sulfonatanion, Carbonatanion, Phosphonatanion und Phosphatanion.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine Alkylgruppe repräsentieren, schliesst die Alkylgruppe eine lineare, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1–20 Kohlenstoffatomen ein. Spezifische Beispiele hierfür schliessen eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe, eine Dodecylgruppe, eine Tridecylgruppe, eine Hexadecylgruppe, eine Octadecylgruppe, eine Eicosylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine sek-Butylgruppe, eine tert-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe ein. Unter diesen ist eine lineare Alkylgruppe mit 1–12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3–12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylgruppe mit 5–10 Kohlenstoffatomen bevorzugt.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine substituierte Alkylgruppe repräsentieren, ist der Substituent eine monovalente Nichtmetallatomgruppe, ausschliesslich Wasserstoff. Bevorzugte Beispiele hierfür schliessen ein Halogenatom (z.B. -F, -Br, -Cl, -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N'-Alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkylureidogruppe, eine N'-Arylureidogruppe, eine N',N'-Diarylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureido-Gruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Sulfonatogruppe bezeichnet), eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Phosphonatogruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonogruppe (-PO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)(Aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃H(Alkyl)) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Alkylphosphonatogruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(Aryl)) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Arylphosphonatogruppe bezeichnet), eine Phosphonooxygruppe (-OPO₃H₂) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Phosphonatooxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonooxygruppe (-OPO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonooxygruppe (-OPO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonooxygruppe (-OPO₃(Alkyl)(Aryl)), eine Monoalkylphosphonooxygruppe (-OPO₃H(Alkyl)) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Alkylphosphonatooxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonooxygruppe (-OPO₃H(Aryl)) und eine konjugierte Base davon (nachstehend als Arylphosphonatooxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe ein.
Beispiele für die Alkylgruppe in diesen Substituenten schliessen die oben beschriebenen Alkylgruppen ein. Beispiele für die Arylgruppe schliessen eine Phenylgruppe, eine Biphenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Ethoxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Acetoxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Phenylthiophenylgruppe, eine Methylaminophenylgruppe, eine Dimethylaminophenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Ethoxyphenylcarbonylgruppe, eine Phenoxycarbonylphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoylphenylgruppe, eine Phenylgruppe, eine Cyanophenylgruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Phosphonophenylgruppe und eine Phosphonatophenylgruppe ein. Beispiele für die Alkenylgruppe schliessen eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine Cinnamylgruppe und eine 2-Chlor-1-ethenylgruppe ein. Beispiele für die Alkinylgruppe schliessen eine Ethinylgruppe, eine 1-Propinylgruppe, eine 1-Butinylgruppe und eine Trimethylsilylethinylgruppe ein. R⁵ in der Acylgruppe (R⁵CO-) schliesst Wasserstoff und die oben beschriebenen Alkyl- und Arylgruppen ein.
Unter diesen Substituenten sind ein Halogenatom (z.B. -F, -Br, -Cl, -I), eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine Acylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Sulfogruppe, eine Sulfonatogruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphonogruppe, eine Phosphonatogruppe, einen Dialkylphosphonogruppe, eine Diarylphosphonogruppe, eine Monoalkylphosphonogruppe, eine Alkylphosphonatogruppe, eine Monoarylphosphonogruppe, eine Arylphosphonatogruppe, eine Phosphonooxygruppe, eine Phosphonatogruppe, eine Arylgruppe und eine Alkenylgruppe bevorzugt.
Die Alkylengruppe in der substituierten Alkylgruppe schliesst einen divalenten organischen Rest ein, der aus der Eliminierung eines beliebigen Wasserstoffatoms aus den oben beschriebenen Alkylgruppen mit 1–20 Kohlenstoffatomen resultiert, und bevorzugt sind eine lineare Alkylengruppe mit 1–12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylengruppe mit 3–12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylengruppe mit 5–10 Kohlenstoffatomen. Besonders bevorzugte Beispiele für die substituierte Alkylgruppe, die durch Kombination des Substituenten mit der Alkylengruppe erhalten werden, schliessen eine Chlormethylgruppe, eine Brommethylgruppe, eine 2-Chlorethylgruppe, eine Trifluormethylgruppe, eine Methoxymethylgruppe, eine Methoxyethoxyethylgruppe, einen Allyloxymethylgruppe, eine Phenoxymethylgruppe, eine Methylthiomethylgruppe, eine Tolylthiomethylgruppe, eine Ethylaminoethylgruppe, einen Diethylaminopropylgruppe, eine Morpholinopropylgruppe, eine Acetyloxymethylgruppe, eine Benzoyloxymethylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyethylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyethylgruppe, eine Acetylaminoethylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminopropylgruppe, eine 2-Oxoethylgruppe, eine 2-Oxopropylgruppe, eine Carboxypropylgruppe, eine Methoxycarbonylethylgruppe, eine Allyloxycarbonylbutylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylmethylgruppe, eine Carbamoylmethylgruppe, eine N-Methylcarbamoylethylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylmethylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylethyl-Gruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylmethyl-Gruppe, eine Sulfobutylgruppe, eine Sulfonatobutylgruppe, eine Sulfamoylbutylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylmethylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-Gruppe, eine Phosphonobutylgruppe, eine Phosphonatohexylgruppe, eine Diethylphosphonobutylgruppe, eine Diphenylphosphonopropylgruppe, eine Methylphosphonobutylgruppe, eine Methylphosphonatobutylgruppe, eine Tolylphosphonohexylgruppe, eine Tolylphosphonatohexylgruppe, eine Phosphonooxypropylgruppe, eine Phosphonatooxybutylgruppe, eine Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine α-Methylbenzylgruppe, eine 1-Methyl-1-phenylethyl-Gruppe, eine p-Methylbenzylgruppe, eine Cinnamylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylgruppe, eine 2-Methylpropenylmethylgruppe, eine 2-Propinylgruppe, eine 2-Butinylgruppe und eine 3-Butinylgruppe ein.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine Arylgruppe repräsentieren, schliesst die Arylgruppe einen kondensierten Ring, der aus 1–3 Benzolringen gebildet wird, und einen kondensierten Ring, der aus einem Benzolring und einem 5-gliedrigen ungesättigten Ring gebildet wird, ein. Beispiele hierfür schliessen eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe, eine Phenanthrylgruppe, eine Indenylgruppe, eine Acenaphthylgruppe und eine Fluorenylgruppe ein. Unter diesen sind eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe bevorzugt. Zusätzlich zu der carbocyclischen Arylgruppe schliesst die Arylgruppe eine heterocyclische Arylgruppe ein. Beispiele für die heterocyclische Arylgruppe schliessen solche mit 3–20 Kohlenstoffatomen und 1–5 Heteroatomen ein, wie beispielsweise eine Pyridylgruppe, eine Furylgruppe und Chinolyl-, Benzofuryl-, Thioxanthon- und Carbazolgruppen, die jeweils mit einem Benzolring kondensiert sind.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine substituierte Arylgruppe darstellen, schliesst die substituierte Arylgruppe solche mit einer monovalenten Nichtmetallatomgruppe, ausschliesslich Wasserstoff, als Substituent an den ringbildenden Kohlenstoffatomen der oben beschriebenen Arylgruppe ein. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schliessen die oben beschriebenen Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen und Substituenten für die substituierten Alkylgruppen ein.
Bevorzugte Beispiele für die substituierte Arylgruppe schliessen eine Biphenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Fluorphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Trifluormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Methoxyethoxyphenylgruppe, eine Allyloxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Tolylthiophenylgruppe, eine Ethylaminophenylgruppe, eine Diethylaminophenylgruppe, eine Morpholinophenylgruppe, eine Acetyloxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxygruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Allyloxycarbonylphenylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylphenylgruppe, eine Carbamoylphenylgruppe, eine N-Methylcarbamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylphenylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatophenylgruppe, eine Sulfamoylphenylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-Gruppe, eine Phosphonophenylgruppe, eine Phosphonatophenylgruppe, eine Diethylphosphonophenylgruppe, eine Diphenylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonatophenylgruppe, eine Tolylphosphonophenylgruppe, eine Tolylphosphonatophenylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylphenylgruppe, eine 2-Methylpropenylphenylgruppe, eine 2-Propinylphenylgruppe, eine 2-Butinylphenylgruppe und eine 3-Butinylphenylgruppe ein.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine Alkenylgruppe, eine substituierte Alkenylgruppe [-C(R⁴)=C(R⁵)(R⁶)], eine Alkinylgruppe oder eine substituierte Alkinylgruppe [-C=C(R⁷)] darstellen, sind R⁴ bis R⁷ jeweils eine monovalente Nichtmetallatomgruppe. Bevorzugte Beispiele für R⁴ bis R⁷ schliessen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe und eine substituierte Arylgruppe ein. Beispiele für diese Gruppen schliessen diejenigen ein, die oben beschrieben sind, und weiter bevorzugte Beispiele für den Substituenten für R⁴ bis R⁷ schliessen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom und eine lineare, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1–10 Kohlenstoffatomen ein.
Spezifische Beispiele für die Alkenylgruppe, die substituierte Alkenylgruppe, die Alkinylgruppe und die substituierte Alkinylgruppe schliessen eine Vinylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine 1-Pentenylgruppe, eine 1-Hexenylgruppe, eine 1-Octenylgruppe, eine 1-Methyl-1-propenyl-Gruppe, eine 2-Methyl-1-propenylgruppe, eine 2-Methyl-1-butenyl-Gruppe, eine 2-Phenyl-1-ethenylgruppe, eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe, eine Ethinylgruppe, eine Propinylgruppe und eine Phenylethylgruppe ein.
Unter diesen Beispielen für R¹, R² und R³ sind eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe und eine substituierte Arylgruppe bevorzugt.
Als Grundgerüst eines Farbstoffs oder Pigments als erfindungsgemäss verwendetes IR-Absorptionsmittel können beliebige verwendet werden, solange der Farbstoff oder das Pigment eine Absorption im Bereich von 700–1.200 nm aufweist. Unter Berücksichtigung des Mechanismus', dass die hydrophile funktionelle Gruppe durch Laserbelichtung zersetzt oder desorbiert und dadurch der Farbstoff selbst so verändert wird, dass er hydrophob wird, ist der Farbstoff oder das Pigment selbst jedoch vorzugsweise hydrophob. Bevorzugte Beispiele für das IR-Absorptionsmittel dieses Typs schliessen Polymethinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe, Diimmoniumfarbstoffe, Phthalocyaninverbindungen, Triarylmethanfarbstoffe und Metalldithiolen ein. Unter diesen weiter bevorzugt sind Polymethinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe, Diimmoniumfarbstoffe und Phthalocyaninverbindungen, und im Hinblick auf die Eignung zur Synthese sind Polymethinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe und Phthalocyaninverbindungen noch weiter bevorzugt.
Spezifische Beispiele für das Grundgerüst eines Farbstoffs oder Pigments als erfindungsgemäss verwendetes IR-Absorptionsmittel sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Das in der fotoempfindlichen Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals enthaltene IR-Absorptionsmittel kann ein beliebiges IR-Absorptionsmittel sein, solange es ein Farbstoff oder ein Pigment mit der oben beschriebenen hydrophilen funktionellen Gruppe ist. Spezifische Beispiele für das in der fotoempfindlichen Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals enthaltene IR-Absorptionsmittel sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Erfindungsgemäss ist der Gehalt an IR-Absorptionsmittel 6 Gew.% oder mehr, vorzugsweise 10 Gew.% oder mehr, und weiter bevorzugt 15 Gew.% oder mehr, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts der fotoempfindlichen Schicht. Wenn der Gehalt an IR-Absorptionsmittel weniger als 6 Gew.% beträgt, nimmt die Empfindlichkeit in unvorteilhafter Weise ab.
Die anderen in der Original-Lithografiedruckplatte verwendeten Komponenten in der fotoempfindlichen Schicht als das IR-Absorptionsmittel werden nachfolgend beschrieben.
Hydrophiles Polymer:
Die fotoempfindliche Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals kann ferner ein hydrophiles Polymer enthalten. Durch diesen Aufbau können folgende Effekte erzielt werden. Da das IR-Absorptionsmittel und das Polymer beide vor der Anwendung einer vorgesehenen Behandlung hydrophil sind, zeigt die fotoempfindliche Schicht eine tintenabstossende Eigenschaft und kann gleichzeitig durch Wasser entfernt werden. Nach Anwendung der vorhergesehenen Behandlung wird das IR-Absorptionsmittel hydrophob, und als Ergebnis erlaubt die fotoempfindliche Schicht die Tintenaufnahme und ist ferner von deutlich verringerter Wasserlöslichkeit. Daher kann durch Montage des Lithografiedruckplattenoriginals auf einer Druckmaschine eine Druckplatte von auf-der-Presse-Entwicklungssystem, von der der unbelichtete Bereich unter Verwendung der Benetzungslösung in der Druckmaschine entfernt werden kann, erhalten werden, ohne irgendeine Verarbeitung zu durchlaufen.
Das in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendete hydrophile Polymer schliesst ein bekanntes wasserlösliches Polymer (das bedeutet ein Polymer, das vollständig in Wasser aufgelöst werden kann), ein pseudowasserlösliches Polymer (das bedeutet ein amphiphatisches Polymer mit einer wasserlöslichen Makrogruppe und einer wasserunlöslichen Mikrogruppe) und ein wasserquellbares Polymer (das bedeutet ein Polymer, das durch Wasser quellbar, aber nicht darin löslich ist) ein. Anders gesagt bedeutet das hydrophile Polymer ein Polymer, das Wasser unter herkömmlichen Anwendungsbedingungen adsorbiert oder absorbiert und das in Wasser quillt oder darin aufgelöst wird. Solange diese Definition erfüllt wird, kann eine beliebige natürliche Polymerverbindung oder synthetische Polymerverbindung als das hydrophile Polymer verwendet werden.
Beispiele für die natürliche Polymerverbindung als in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendbares hydrophiles Polymer schliessen die folgenden Verbindungen ein: Pfropfpolymerhydrolysate auf Stärke-Acrylnitril-Basis, Pfropfpolymere auf Stärke-Acrylsäure-Basis, Pfropfpolymere auf Stärke-Styrolsulfonsäure-Basis, Pfropfpolymere auf Stärke-Vinylsulfonsäure-Basis, Pfropfpolymere auf Acrylamidbasis, carboxylierte Methylcellulose, Methylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Cellulosexanthat, Pfropfpolymere auf Cellulose-Acrylnitril-Basis, Pfropfpolymere auf Cellulose-Styrolsulfonsäure-Basis, vernetzte Produkte auf Carboxymethylcellulosebasis, Hyaluronsäure, Agarose, Kollagen, Milchkasein, Säurekasein, Rennetkasein, Ammoniakkasein, Kaseinkalium, Boraxkasein, Leim, Gelatine, Gluten, Sojabohnenprotein, Alginat, Ammoniumalginat, Kaliumalginat, Natriumalginat, Gummi arabicum, Tragacanthgummi, Karayagummi, Guargummi, Johannisbrotkernmehl, Irisch Moos, Sojabohnenlecithin, Pectinsäure, Stärke, carboxylierte Stärke, Agar, Dextrin und Mannan.
Beispiele für die synthetische Polymerverbindung als das in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendbare hydrophile Polymer schliessen Polymerverbindungen ein, die als Monomerkomponente mindestens eine, ausgewählt aus einer ethylenisch ungesättigten Verbindung auf Carbonsäurederivatbasis, einer ethylenisch ungesättigten Verbindung auf Sulfonsäurederivatbasis, einer ethylenisch ungesättigten Verbindung auf Ammoniumsalzbasis und einer ethylenisch ungesättigten Verbindung auf Alkoholbasis (nachfolgend vereinfacht als hydrophiles Polymer (A) bezeichnet), chemisch behandelte Produkte davon, Copolymere auf Vinylpyrrolidonbasis, Polyvinylalkohol, Polyethylenoxid, Poly(ethylenoxid-co-propylenoxid), wässriges Urethanharz, wasserlöslichen Polyester, Polymere auf Hydroxyethyl(meth)acrylatbasis, Poly(vinylmethylether-co-maleinsäureanhydrid), vernetzte Polymere auf Polyethylenglykoldi(meth)acrylatbasis und vernetzte Polymere auf Polypropylenglykoldi(meth)acrylatbasis einschliessen.
Die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Carbonsäurederivatbasis ist eine ethylenisch ungesättigte Verbindung mit mindestens einer funktionellen Gruppe im Molekül, wie beispielsweise einer Carboxylgruppe (-COOH), einer Carboxylatgruppe (-COOM), einer Carbonsäureestergruppe (-COOR¹), einer Carbonsäureamidgruppe (-CON(R²)(R³)), einer Carbonsäureimidgruppe (-CON(R²)CO-) oder einer Carbonsäureanhydridgruppe (-COOCO-) (worin M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, R¹ ist eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe, und R² und R³ sind jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkinylgruppe oder eine Alkenylgruppe).
Wenn M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, schliessen Beispiele hierfür die oben beschriebenen Ionen, aus denen H⁺ entfernt ist, ein.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe darstellen, schliessen Beispiele für die funktionelle Gruppe die oben beschriebenen ein.
Spezifische Beispiele für diese ethylenisch ungesättigte Verbindung schliessen bekannte Monomere ein, wie beispielsweise Acrylsäure, Acrylate, Acrylsäureester, Acrylamide, Methacrylsäure, Methacrylate, Methacrylsäureester, Methacrylamide, Maleinsäure, Maleate, Maleinsäureanhydrid, Maleinsäureester, Maleinsäureamide, Maleinsäureimide, Itaconsäure, Itaconate, Itaconsäureanhydrid, Itaconsäureester, Itaconsäureamide, Itaconsäureimide, Crotonsäure, Crotonoat, Crotonsäureester, Crotonsäureamide, Fumarsäure, Fumarate, Fumarsäureester, Fumarsäureamide, Mesaconsäure, Mesaconate, Mesaconsäureester, Mesaconsäureamide, α,β-ungesättigte Lactone, α,β-ungesättigte Lactame, Vinylbenzoesäure, Vinylbenzoate, Vinylbenzoesäureester, Vinylbenzoesäureamide, Alkenylcarbonsäuren, Alkenylcarboxylate, Alkenylcarbonsäureester, Alkenylcarbonsäureamide, Alkenylcarbonsäureimide und Alkenylcarbonsäureanhydride.
Spezifische Beispiele für die Acrylate schliessen Lithiumacrylat, Natriumacrylat, Kaliumacrylat, Magnesiumacrylat, Calciumacrylat, Zinkacrylat, Ammoniumacrylat, Tetramethylammoniumacrylat, Tetraethylammoniumacrylat und Tetra-n-butylammoniumacrylat ein.
Spezifische Beispiele für die Acrylsäureester schliessen Methylacrylat, Ethylacrylat, (n- oder i-)Propylacrylat, (n-, i-, sek- oder tert-)Butylacrylat, Pentylacrylat, Hexylacrylat, Heptylacrylat, Octylacrylat, Nonylacrylat, Decylacrylat, Amylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Dodecylacrylat, Chlorethylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Cyclohexylacrylat, Allylacrylat, Trimethylpropanmonoacrylat, Pentaerythritolmonoacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Chlorbenzylacrylat, Hydroxybenzylacrylat, Hydroxyphenethylacrylat, Dihydroxyphenethylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Phenylacrylat, Hydroxyphenylacrylat, Chlorphenylacrylat, Sulfamoylphenylacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylacrylat ein.
Spezifische Beispiele für die Acrylamide schliessen Acrylamid, N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-(n- oder i-)Propylacrylamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Tolylacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)acrylamid, N-(Phenylsulfonyl)acrylamid, N-(Tolylsulfonyl)acrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N-Methyl-N-phenylacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylacrylamid ein.
Spezifische Beispiele für die Methacrylate schliessen Lithiummethacrylat, Natriummethacrylat, Kaliummethacrylat, Magnesiummethacrylat, Calciummethacrylat, Zinkmethacrylat, Ammoniummethacrylat, Tetramethylammoniummethacrylat, Tetraethylammoniummethacrylat und Tetra-n-butylammoniummethacrylat ein.
Spezifische Beispiele für die Methacrylsäureester schliessen Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, (n- oder i-)Propylmethacrylat, (n-, i-, sek- oder tert-)Butylmethacrylat, Pentylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Heptylmethacrylat, Octylmethacrylat, Nonylmethacrylat, Decylmethacrylat, Amylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, Chlorethylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Allylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritolmonomethacrylat, Benzylmethacrylat, Methoxybenzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Hydroxybenzylmethacrylat, Hydroxyphenethylmethacrylat, Dihydroxyphenethylmethacrylat, Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Hydroxyphenylmethacrylat, Chlorphenylmethacrylat, Sulfamoylphenylmethacrylat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylmethacrylat ein.
Spezifische Beispiele für die Methacrylamide schliessen Methacrylamid, N-Methylmethacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-(n- oder i-)Propylmethacrylamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylmethacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Tolylmethacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)-methacrylamid, N-(Phenylsulfonyl)methacrylamid, N-(Tolylsulfonyl)methacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N-Methyl-N-phenylmethacrylamid und N-Hydroxyethyl-N-methylmethacrylamid ein.
Spezifische Beispiele für die Crotonate schliessen Lithiumcrotonat, Natriumcrotonat, Kaliumcrotonat, Magnesiumcrotonat, Calciumcrotonat, Zinkcrotonat, Ammoniumcrotonat, Tetramethylammoniumcrotonat, Tetraethylammoniumcrotonat und Tetra-n-butylammoniumcrotonat ein.
Spezifische Beispiele für die Crotonsäureester schliessen Methylcrotonat, Ethylcrotonat, (n- oder i-)Propylcrotonat, (n-, i-, sek- oder tert-)Butylcrotonat, Pentylcrotonat, Hexylcrotonat, Heptylcrotonat, Octylcrotonat, Nonylcrotonat, Decylcrotonat, Amylcrotonat, 2-Ethylhexylcrotonat, Dodecylcrotonat, Chlorethylcrotonat, 2-Hydroxyethylcrotonat, 2-Hydroxypropylcrotonat, 5-Hydroxypentylcrotonat, Cyclohexylcrotonat, Allylcrotonat, Trimethylolpropanmonocrotonat, Pentaerythritolmonocrotonat, Benzylcrotonat, Methoxybenzylcrotonat, Chlorbenzylcrotonat, Hydroxybenzylcrotonat, Hydroxyphenethylcrotonat, Dihydroxyphenethylcrotonat, Furfurylcrotonat, Tetrahydrofurfurylcrotonat, Phenylcrotonat, Hydroxyphenylcrotonat, Chlorphenylcrotonat, Sulfamoylphenylcrotonat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylcrotonat ein.
Spezifische Beispiele für die Crotonsäureamide schliessen Crotonsäureamid, N-Methylcrotonsäureamid, N-Ethylcrotonsäureamid, N-(n- oder i-)Propylcrotonsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylcrotonsäureamid, N-Benzylcrotonsäureamid, N-Hydroxyethylcrotonsäureamid, N-Phenylcrotonsäureamid, N-Tolylcrotonsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)crotonsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)crotonsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)-crotonsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)crotonsäureamid, N,N-Dimethylcrotonsäureamid, N-Methyl-N- phenylcrotonsäureamid und N-Hydroxyethyl-N-methylcrotonsäureamid ein.
Spezifische Beispiele für das Maleat schliessen Monolithiummaleat, Mononatriummaleat, Monokaliummaleat, Magnesiummaleat, Calciummaleat, Zinkmaleat, Dinatriummaleat, Dikaliummaleat, Monoethylmaleat-Kaliumsalz, Diammoniummaleat, Bis(tetramethylammonium)maleat und Bis(tetraethylammonium)maleat ein.
Spezifische Beispiele für die Maleinsäureester schliessen Dimethylmaleat, Diethylmaleat, Di(n- oder i-)propylmaleat, Di(n-, i-, sek- oder tert-)butylmaleat, Diphenylmaleat, Diallylmaleat, Monomethylmaleat, Monoethylmaleat, Mono(n- oder i-)propylmaleat, Mono(n-, i-, sek- oder tert-)butylmaleat, Dibenzylmaleat, Monobenzylmaleat, Methylethylmaleat, Methylpropylmaleat und Ethylpropylmaleat ein.
Spezifische Beispiele für die Maleinsäureamide schliessen Maleinsäureamid, N-Methylmaleinsäureamid, N-Ethylmaleinsäureamid, N-(i- oder i-)Propylmaleinsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylmaleinsäureamid, N-Benzylmaleinsäureamid, N-Hydroxyethylmaleinsäureamid, N-Phenylmaleinsäureamid, N-Tolylmaleinsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)maleinsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)maleinsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)maleinsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)maleinsäureamid, N,N-Dimethylmaleinsäureamid, N-Methyl-N-phenylmaleinsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylmaleinsäureamid, N-Methylmaleinsäuremonoamid, N-Ethylmaleinsäuremonoamid, N,N-Dimethylmaleinsäuremonoamid, N-Methyl-N'- ethylmaleinsäureamid und N-Methyl-N'-phenylmaleinsäureamid ein.
Spezifische Beispiele für die Maleinsäureimide schliessen Maleinsäureimid, N-Methylmaleinsäureimid, N-Ethylmaleinsäureimid, N-(n- oder i-)Propylmaleinsäureimid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylmaleinsäureimid, N-Benzylmaleinsäureimid, N-Hydroxyethylmaleinsäureimid, N-Phenylmaleinsäureimid, N-Tolylmaleinsäureimid, N-(Hydroxyphenyl)maleinsäureimid, N-(Sulfamoylphenyl)maleinsäureimid, N-(Phenylsulfonyl)maleinsäureimid und N-(Tolylsulfonyl)-maleinsäureimid ein.
Spezifische Beispiele für die Itaconate schliessen Monolithiumitaconat, Mononatriumitaconat, Monokaliumitaconat, Magnesiumitaconat, Calciumitaconat, Zinkitaconat, Dinatriumitaconat, Dikaliumitaconat, Monoethylitaconat-Kaliumsalz, Diammoniumitaconat, Bis(tetramethylammonium)itaconat und Bis(tetraethylammonium)itaconat ein.
Spezifische Beispiele für die Itaconsäureester schliessen Dimethylitaconat, Diethylitaconat, Di(n- oder i-)propylitaconat, Di(n-, i-, sek- oder tert-)butylitaconat, Diphenylitaconat, Diallylitaconat, Monomethylitaconat, Monoethylitaconat, Mono(n- oder i-)propylitaconat, Mono(n-, i-, sek- oder tert-)butylitaconat, Dibenzylitaconat, Monobenzylitaconat, Methylethylitaconat, Methylpropylitaconat und Ethylpropylitaconat ein.
Spezifische Beispiele für die Itaconsäureamide schliessen Itaconsäureamid, N-Methylitaconsäureamid, N-Ethylitaconsäureamid, N-(n- oder i-)- Propylitaconsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylitaconsäureamid, N-Benzylitaconsäureamid, N-Hydroxyethylitaconsäureamid, N-Phenylitaconsäureamid, N-Tolylitaconsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)itaconsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)itaconsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)-itaconsäureamid N-(Tolylsulfonyl)itaconsäureamid, N,N-Dimethylitaconsäureamid, N-Methyl-N-phenylitaconsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylitaconsäureamid, N-Methylitaconsäuremonoamid, N-Ethylitaconsäuremonoamid, N,N-Dimethylitaconsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylitaconsäureamid und N-Methyl-N'-phenylitaconsäureamid ein.
Spezifische Beispiele für die Itaconsäureimide schliessen Itaconsäureimid, N-Methylitaconsäureimid, N-Ethylitaconsäureimid, N-(n- oder i-)-Propylitaconsäureimid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)-Butylitaconsäureimid, N-Benzylitaconsäureimid, N-Hydroxyethylitaconsäureimid, N-Phenylitaconsäureimid, N-Tolylitaconsäureimid, N-(Hydroxyphenyl)itaconsäureimid, N-(Sulfamoylphenyl)itaconsäureimid, N-(Phenylsulfonyl)itaconsäureimid und N-(Tolylsulfonyl)itaconsäureimid ein.
Spezifische Beispiele für die Fumarate schliessen Monolithiumfumarat, Mononatriumfumarat, Monokaliumfumarat, Magnesiumfumarat, Calciumfumarat, Zinkfumarat, Dinatriumfumarat, Dikaliumfumarat, Monoethylfumarat-Kaliumsalz, Diammoniumfumarat, Bis(tetramethylammonium)fumarat und Bis(tetraethylammonium)fumarat ein.
Spezifische Beispiele für die Fumarsäureester schliessen Dimethylfumarat, Diethylfumarat, Di(n- oder i-)propylfumarat, Di(n-, i-, sek- oder tert-)butylfumarat, Diphenylfumarat, Diallylfumarat, Monomethylfumarat, Monoethylfumarat, Mono(n- oder i-)propylfumarat, Mono(n-, i-, sek- oder tert-)butylfumarat, Dibenzylfumarat, Monobenzylfumarat, Methylethylfumarat, Methylpropylfumarat und Ethylpropylfumarat ein.
Spezifische Beispiele für die Fumarsäureamide schliessen Fumarsäureamid, N-Methylfumarsäureamid, N-Ethylfumarsäureamid, N-(n- oder i-)propylfumarsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylfumarsäureamid, N-Benzylfumarsäureamid, N-Hydroxyethylfumarsäureamid, N-Phenylfumarsäureamid, N-Tolylfumarsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)fumarsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)fumarsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)fumarsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)fumarsäureamid, N,N-Dimethylfurmarsäureamid, N-Methyl-N-phenylfumarsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylfumarsäureamid, N-Methylfumarsäuremonoamid, N-Ethylfumarsäuremonoamid, N,N-Dimethylfumarsäureamid, N-Methyl-N'-ethylfumarsäureamid und N-Methyl-N'-phenylfumarsäureamid ein.
Spezifische Beispiele für die Mesaconate schliessen Monolithiummesaconat, Mononatriummesaconat, Monokaliummesaconat, Magnesiummesaconat, Calciummesaconat, Zinkmesaconat, Dinatriummesaconat, Dikaliummesaconat, Monoethylmesaconat-Kaliumsalz, Diammoniummesaconat, Bis(tetramethylammonium)mesaconat und Bis(tetraethylammonium)mesaconat ein.
Spezifische Beispiele für die Mesaconsäureester schliessen Dimethylmesaconat, Diethylmesaconat, Di(n- oder i-)propylmesaconat, Di(n-, i-, sek- oder tert-)butylmesaconat, Diphenylmesaconat, Diallylmesaconat, Monomethylmesaconat, Monoethylmesaconat, Mono(n- oder i-)-propylmesaconat, Mono(n-, i-, sek- oder tert-)-butylmesaconat, Dibenzylmesaconat, Monobenzylmesaconat, Methylethylmesaconat, Methylpropylmesaconat und Ethylpropylmesaconat ein.
Spezifische Beispiele für die Mesaconsäureamide schliessen Mesaconsäureamid, N-Methylmesaconsäureamid, N-Ethylmesaconsäureamid, N-(n- oder i-)-Propylmesaconsäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)-Butylmesaconsäureamid, N-Benzylmesaconsäureamid, N-Hydroxyethylmesaconsäureamid, N-Phenylmesaconsäureamid, N-Tolylmesaconsäureamid, N-(Hydroxyphenyl)-mesaconsäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)mesaconsäureamid, N-(Phenylsulfonyl)mesaconsäureamid, N-(Tolylsulfonyl)-mesaconsäureamid, N,N-Dimethylmesaconsäureamid, N-Methyl-N-phenylmesaconsäureamid, N-Hydroxyethyl-N-methylmesaconsäureamid, N-Methylmesaconsäuremonoamid, N-Ethylmesaconsäuremonoamid, N,N-Dimethylmesaconsäuremonoamid, N-Methyl-N'-ethylmesaconsäureamid und N-Methyl-N'-phenylmesaconsäureamid ein.
Spezifische Beispiele für die α,β-ungesättigten Lactone schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die α,β-ungesättigten Lactame schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die Vinylbenzoate schliessen Lithiumvinylbenzoat, Natriumvinylbenzoat, Kaliumvinylbenzoat, Magnesiumvinylbenzoat, Calciumvinylbenzoat, Zinkvinylbenzoat, Ammoniumvinylbenzoat, Tetramethylammoniumvinylbenzoat, Tetraethylammoniumvinylbenzoat und Tetra-n-butylammoniumvinylbenzoat ein.
Spezifische Beispiele für die Vinylbenzoesäureester schliessen Methylvinylbenzoat, Ethylvinylbenzoat, (n- oder i-)Propylvinylbenzoat, (n-, i-, sek- oder tert-)Butylvinylbenzoat, Pentylvinylbenzoat, Hexylvinylbenzoat, Heptylvinylbenzoat, Octylvinylbenzoat, Benzoat, Nonylvinylbenzoat, Decylvinylbenzoat, Amylvinylbenzoat, 2-Ethylhexylvinylbenzoat, Dodecylvinylbenzoat, Chlorethylvinylbenzoat, 2-Hydroxyethylvinylbenzoat, 2-Hydroxypropylvinylbenzoat, 5-Hydroxypentyl-4-vinylbenzoat, Cyclohexylvinylbenzoat, Allylvinylbenzoat, Trimethylolpropanmonovinylbenzoat, Pentaerythritolmonovinylbenzoat, Benzylvinylbenzoat, Methoxybenzylvinylbenzoat, Chlorbenzylvinylbenzoat, Hydroxybenzylvinylbenzoat, Hydroxyphenethylvinylbenzoat, Dihydroxyphenethylvinylbenzoat, Furfurylvinylbenzoat, Tetrahydrofurfurylvinylbenzoat, Phenylvinylbenzoat, Hydroxyphenylvinylbenzoat, Chlorphenylvinylbenzoat, Sulfamoylphenylvinylbenzoat und 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylvinylbenzoat ein.
Spezifische Beispiele für die Vinylbenzoesäureamide schliessen Vinylbenzoesäureamid, N-Methylvinylbenzoesäureamid, N-Ethylvinylbenzoesäureamid, N-(n- oder i-)Propylvinylbenzoesäureamid, N-(n-, i-, sek- oder tert-)Butylvinylbenzoesäureamid, N-Benzylvinylbenzoesäureamid, N-Hydroxyethylvinylbenzoesäureamid, N-Phenylvinylbenzoesäureamid, N-Tolylvinylbenzoesäureamid, N-(Hydroxyphenyl)vinylbenzoesäureamid, N-(Sulfamoylphenyl)vinylbenzoesäureamid, N-(Tolylsulfonyl)benzoesäureamid, N,N-Dimethylvinylbenzoesäureamid, N-Methyl-N-phenylvinylbenzoesäureamid und N-Hydroxyethyl-N-methylvinylbenzoesäureamid ein.
Spezifische Beispiele für die Alkenylcarboxylate schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die Alkenylcarbonsäureester schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die Alkenylcarbonsäureamide schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die Alkenylcarbonsäureimide schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die Alkenylcarbonsäureanhydride schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Sulfonsäurederivatbasis ist eine ethylenisch ungesättigte Verbindung, die im Molekül mindestens eine funktionelle Gruppe aufweist, wie beispielsweise eine Sulfonsäuregruppe (-SO₃H), eine Sulfonatgruppe (-SO₃M), eine Sulfonsäureestergruppe (-SO₃R¹), eine Sulfonsäureamidgruppe (-SO₂N(R²)(R³)), eine Sulfonsäureimidgruppe (-SO₂N(R²)SO₂-) oder eine Sulfonsäureanhydridgruppe (-SO₂OSO₂-) (worin M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, R¹ ist eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alinylgruppe und R² und R³ repräsentieren jeweils Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkinylgruppe oder eine Alkenylgruppe).
Wenn M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, schliessen Beispiele hierfür die oben beschriebenen Ionen, von denen H⁺ ausgeschlossen ist, ein.
Wenn R¹, R² und R³ jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe repräsentieren, schliessen Beispiele für die funktionelle Gruppe die oben beschriebenen ein.
Spezifische Beispiele für die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Sulfonsäurederivatbasis schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Ammoniumsalzbasis ist eine ethylenisch ungesättigte Verbindung, die im Molekül mindestens eine funktionelle Gruppe aufweist, wie beispielsweise eine Ammoniumgruppe (-N(R¹)(R²)(R³)X), eine Aminogruppe (-N(R¹)(R²)), eine Halogengruppe ode eine Sulfonyloxygruppe (-OSO₂R⁴) (worin X ein Ion mit einer negativen Ladung ist, R¹, R² und R³ sind jeweils Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkinylgruppe oder eine Alkenylgruppe, und R⁴ ist eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe). Wenn X ein Ion mit einer negativen Ladung ist, schliessen Beispiele hierfür die oben beschriebenen Ionen ein.
Wenn R¹, R², R³ und R⁴ jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe repräsentieren, schliessen Beispiele für die funktionelle Gruppe diejenigen ein, die oben beschrieben sind.
Spezifische Beispiele für die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Ammoniumsalzbasis schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Alkoholbasis ist eine ethylenisch ungesättigte Verbindung, die im Molekül mindestens eine funktionelle Gruppe aufweist, wie beispielsweise eine Hydroxylgruppe (-OH), eine Acyloxygruppe (-OCOR¹), eine Sulfonyloxygruppe (-OSO₂R²) oder eine Halogengruppe (worin R¹ und R² jeweils eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkinylgruppe oder eine Alkenylgruppe repräsentieren).
Spezifische Beispiele für die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Alkoholbasis schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Das in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendete hydrophile Polymer A kann ein Homopolymer aus einzelnen, oben beschriebenen, ethylenisch ungesättigten Verbindungen oder ein Copolymer aus zwei oder mehr dieser Monomeren sein, oder ein Copolymer mit einem anderen copolymerisierbaren Monomer, sofern es die erfindungsgemäss erforderliche Hydrophilizität zeigt. Beispiele für die andere copolymerisierbare Monomerkomponente schliessen bekannte Monomere ein, wie beispielsweise Styrole, ungesättigte Kohlenwasserstoffe und α,β-ungesättigte Ketone.
Spezifische Beispiele für die Styrole schliessen Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Propylstyrol, Cyclohexylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol, Methoxystyrol, Dimethoxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Bromstyrol, Iodstyrol und Fluorstyrol ein.
Spezifische Beispiele für die ungesättigten Kohlenwasserstoffe schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Spezifische Beispiele für die α,β-ungesättigten Ketone schliessen die folgenden Verbindungen ein:
Wenn sie in Kombination mit diesem anderen Monomer verwendet wird, wird die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Carbonsäurederivatbasis, die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Sulfonsäurederivatbasis, die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Ammoniumsalzbasis oder die ethylenisch ungesättigte Verbindung auf Alkoholbasis üblicherweise in einer Menge von vorzugsweise 10 mol-% oder mehr, weiter bevorzugt 40 mol-% oder mehr, auf Basis aller Monomerkomponenten verwendet.
Das in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendete hydrophile Polymer A kann unter Anwendung eines bekannten Verfahrens hergestellt werden, wie es beispielsweise in Kobunshi Kagaku (Polymer Chemistry), Bd. 7, Seite 142 (1950) beschrieben ist. Genauer kann das hydrophile Polymer A ein beliebiges sein, ausgewählt aus einem Zufallspolymer, einem Blockpolymer und einem Pfropfpolymer, jedoch ist ein Zufallspolymer bevorzugt. Dieses kann durch Radikalpolymerisation unter Verwendung eines Polymerisationsinitiators, wie beispielsweise einem Peroxid, wie Di-t-butylperoxid und Benzoylperoxid, einem Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, oder einer Azoverbindung, wie Azobisisobutyronitril, synthetisiert werden, und hier kann in Abhängigkeit vom Polymerisationssystem eine geeignete Auswahl getroffen werden. Beispiele für das anwendbare Polymerisationssystem schliessen die Lösungspolymerisation, Emulsionspolymerisation und Suspensionspolymerisation ein. Der Polymerisationsgrad des hydrophilen Polymers A ist nicht sonderlich beschränkt.
Beispiele für das bei der Synthese des hydrophilen Polymers A, wie es in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendet wird, verwendete Lösungsmittel schliessen Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser ein. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in einer Kombination aus zwei oder mehreren daraus verwendet werden.
In Abhängigkeit vom Einzelfall wird das hydrophile Polymer A vorzugsweise einer chemischen Behandlung unterworfen, wodurch Hydrophilizität vermittelt und dadurch der erfindungsgemässe Effekt hervorgebracht wird. Beispiele für die chemische Behandlung schliessen eine Reaktion auf Säurebasis, eine Hydrolysereaktion, eine nukleophile Substitutionsreaktion durch ein Hydroxidion oder eine Aminverbindung, und eine Alkylierungsreaktion durch ein Alkylhalogenid oder einen Alkylsulfonsäureester ein.
Die reaktive Behandlung auf Säurebasis wird durchgeführt durch Auflösen des hydrophilen Polymers A, das so konditioniert ist, dass es eine Carboxylgruppe oder eine Sulfonsäuregruppe in der Seitenkette aufweist, in Wasser oder einem Lösungsmittel auf Alkoholbasis, wie beispielsweise Methanol, Ethanol und Propanol, oder in einem gemischen Lösungsmittel daraus, Zugabe einer wässrigen Alkalilösung, wie beispielsweise Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Kaliumhydroxid, Calciumhydroxid und Magnesiumhydroxid, dazu, und Rühren der resultierenden Lösung bei 0–80°C für 1–10 Stunden.
Die Hydrolysereaktion wird durchgeführt durch Auflösen des hydrophilen Polymers A, das so konditioniert ist, dass es eine Carbonsäureestergruppe, eine Carbonsäureamidgruppe, eine Carbonsäureimidgruppe, eine Carbonsäureanhydridgruppe, eine Sulfonsäureamidgruppe, eine Sulfonsäureimidgruppe, eine Sulfonsäureanhydridgruppe oder eine Acyloxygruppe in der Seitenkette aufweist, in einem gemischten Lösungsmittel aus Wasser und einem Lösungsmittel auf Alkoholbasis, wie beispielsweise Methanol, Ethanol und Propanol, Zugabe einer wässrigen Alkalilösung, wie beispielsweise Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Kaliumhydroxid, Calciumhydroxid und Magnesiumhydroxid, dazu, und Rühren der resultierenden Lösung bei 20–80°C für 1 Minute bis 10 Stunden.
Die nukleophile Substitutionsreakion durch ein Hydroxidion oder eine Aminverbindung wird durchgeführt durch Auflösen des hydrophilen Polymers A, das so konditioniert ist, dass es ein Halogenatom oder eine Sulfonyloxygruppe in der Seitenkette aufweist, in einem Lösungsmittel, wie beispielsweise Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser, oder einem gemischten Lösungsmittel daraus, Zugabe einer wässrigen Alkalilösung, wie beispielsweise Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Calciumhydroxid und Magnesiumhydroxid dazu, oder Zugabe einer Aminverbindung, wie beispielsweise Methylamin, Ethylamin, Propylamin, Butylamin, Dimethylamin, Diethylamin, Diisopropylamin, N-Methylanilin, Triethylamin und Pyridin, und Rühren der resultierenden Lösung bei 20–150°C für 1–10 Stunden.
Die Alkylierungsreaktion mit einem Alkylhalogenid oder einem Alkylsulfonsäureester wird durchgeführt durch Auflösen des hydrophilen Polymers A, das so konditioniert ist, dass es eine Aminogruppe in der Seitenkette aufweist, in einem Lösungsmittel, wie beispielsweise Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser oder einem gemischten Lösungsmittel daraus, Zugabe eines Alkylhalogenids oder eines Alkylsulfonsäureestes dazu, wie beispielsweise Methyliodid, Ethyliodid, Propylbromid, Butylchlorid, Methyl-p-toluolsulfonat, Ethylbenzolsulfonat und Ethyltrifluormethansulfonat, und Rühren der resultierenden Lösung bei 20–150°C für 1–15 Stunden.
Spezifische Beispiele für das erfindungsgemäss verwendete, hydrophile Polymer A und die Substanzen, die für die reaktiven chemischen Behandlungen davon verwendet werden, sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise darauf beschränkt.
Der Anteil des in der fotoempfindlichen Schicht des erfindungsgemässen Lithografiedruckplattenoriginals enthaltenen hydrophilen Polymers A beträgt vorzugsweise 0–94 Gew.%, weiter bevorzugt 0,05–90 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts.
Hydrophile Polymerverbindung, die durch Wärme hydrophob wird:
Das erfindungsgemäss verwendete Lithografiedruckplattenoriginal kann ferner in der fotoempfindlichen Schicht eine hydrophile Polymerverbindung enthalten, die durch Wärme hydrophob werden kann. Die so aufgebaute fotoempfindliche Schicht ist tintenabstossenden und kann gleichzeitig leicht durch Wasser entfernt werden, da das IR-Absorptionsmittel und die hydrophile Polymerverbindung vor Anwendung der oben beschriebenen, vorgesehenen Anwendung beide hydrophil sind. Nach Anwendung der vorhergesehenen Behandlung wird nicht nur das IR-Absorptionsmittel, sondern auch die Polymerverbindung hydrophob, und als Ergebnis ermöglicht die fotoempfindliche Schicht die Tintenaufnahme und ist ferner von deutlich verringerter Wasserlöslichkeit. Daher kann mittels Durchführung der vorgesehenen Behandlung des erfindungsgemässen Lithografiedruckplattenoriginals zum Aufzeichnen eines Bildes darauf und anschliessende Montage auf einer Druckmaschine ohne Durchlaufen irgendeiner Verarbeitung eine Druckplatte von auf-der-Presse-Entwicklungssystem erhalten werden, von dem der nicht der vorgesehenen Behandlung unterworfene Bereich unter Verwendung der Benetzungslösung in der Druckmaschine entfernt werden kann.
Die in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendete hydrophile Polymerverbindung, die durch Wärme hydrophob werden kann (nachfolgend vereinfacht als "Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung" bezeichnet), schliesst hydrophile Polymerverbindungen ein, die in der Seitenkette eine hydrophile funktionelle Gruppe aufweisen, die durch Wärmeeinwirkung hydrophob werden, zersetzt oder desorbiert (d.h. freigesetzt) werden kann. Diese Veränderung muss von einem solchen Ausmass sein, dass bei Aufbringen von wärme durch Licht/Wärme-Umwandlung nach der Laserbelichtung die polaritätsumwandelnden funktionellen Gruppen in der Seitenkette ganz oder teilweise durch die Wärme verändert, zersetzt oder eliminiert sind, und die Polymerverbindung, die Hydrophilizität zeigt, also beispielsweise bei einer üblichen Temperatur aufgelöst wird oder quillt, sich so verändert, dass sie keine Hydrophilizität, wie beispielsweise Auflösung in oder Quellen durch Wasser, zeigt.
Bezüglich des Prozesses, nach dem die hydrophile funktionelle Gruppe in der Seitenkette der hydrophilen Polymerverbindung durch Wärme hydrophob wird, sind zwei Prozesse in Betracht zu ziehen. Der eine ist ein Prozess, worin die ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe in der Seitenkette durch die Wärme eine Reaktion eingeht und dadurch hydrophob wird, und der andere ist ein Prozess, worin die ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe in der Seitenkette durch die Wärme zersetzt wird, wodurch die hydrophile funktionelle Gruppe verloren geht und dadurch hydrophob wird.
Als vorgenanntes Verfahren zur Veränderung von hydrophil zu hydrophob als Ergebnis einer durch Wärme hervorgerufenen Reaktion, kann ein Verfahren in Betracht gezogen werden, worin die hydrophile funktionelle Gruppe mit einer anderen funktionellen Gruppe in dem Polymer durch die Wärme reagiert und hydrophob wird, sowie ein Verfahren, worin die hydrophile funktionelle Gruppe mit einer anderen Verbindung ausserhalb des Polymers durch die Wärme reagiert und hydrophob wird. Die funktionelle Gruppe kann durch eine Kombination dieser beiden Arten von Verfahren hydrophob gemacht werden.
Unter den oben genannten Verfahren ist im Hinblick auf die Reaktivität ein Verfahren bevorzugt, in dem die ursprünglich hydrophile funktionelle Gruppe an der Seitenkette durch die Wärmeeinwirkung zersetzt wird, wodurch die hydrophile funktionelle Gruppe verloren geht und dadurch hydrophob wird.
Erfindungsgemäss ist es bevorzugt, dass alle hydrophilen funktionellen Gruppen, die durch Wärmeeinwirkung hydrophob, zersetzt oder desorbiert werden können (nachfolgend gelegentlich als "polaritätsumwandlungsfunktionelle Gruppe" bezeichnet), an der Seitenkette der Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung so verändert werden, dass sie hydrophob werden oder zersetzt oder freigesetzt werden. Diesbezüglich besteht jedoch keine besondere Beschränkung, und es kann ausreichend sein, dass die Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung so verändert wird, dass sie keine Hydrophilizität in dem Masse aufweist, dass sie in Wasser aufgelöst wird oder darin quillt, aber nicht alle hydrophilen funktionellen Gruppen notwendigerweise hydrophob werden oder zersetzt oder freigesetzt werden müssen.
Die hydrophile funktionelle Gruppe schliesst die funktionellen Gruppen der Formeln (1) bis (5) ein. Insbesondere ist die funktionelle Gruppe im Hinblick auf die Reaktivität, Lagerungsstabilität und Diskriminierung zwischen Hydrophilizität und Hydrophobizität vorzugsweise eine Carbonsäuregruppe oder eine Carboxylatgruppe der folgenden Formel (6)
worin X -O-, -S-, -Se-, -NR³-, -CO-, -SO-, -SO₂-, -PO-, -SiR³R⁴- oder -CS- ist, R¹, R², R³ und R⁴ sind jeweils unabhängig voneinander eine monovalente Gruppe, und M ist ein Ion mit einer positiven Ladung.
Spezifische Beispiele für R¹, R², R³ und R⁴ schliessen -F, -Cl, -Br, -I, -CN, -R⁵, -OR⁵, -OCOR⁵, -OCOOR⁵, -OCONR⁵R⁶, -OSO₂R⁵, -COR⁵, -COOR⁵, -CONR⁵R⁶, -NR⁵R⁶, -NR⁵-COR⁶, -NR⁵-COOR⁶, -NR⁵-CONR⁶R⁷, -SR⁵, -SOR⁵, -SO₂R⁵ und SO₃R⁵ ein.
Spezifische Beispiele für R⁵, R⁶ und R⁷ schliessen Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe ein. Spezifische Beispiele für diese funktionelle Gruppe schliessen die oben beschriebenen funktionellen Gruppen ein.
Unter diesen sind für R¹, R², R³ oder R⁴ Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkinylgruppe und eine Alkenylgruppe bevorzugt.
Spezifische Beispiele für M schliessen die oben beschriebenen Ionen mit einer positiven Ladung ein.
Die erfindungsgemäss verwendete Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung kann ein Homopolymer sein, das aus einem Monomer mit der oben beschriebenen, hydrophilen, funktionellen Gruppe gebildet wird, oder ein Copolymer, das aus zwei oder mehr dieser Monomere gebildet wird. Ferner kann, solange die erfindungsgemässe Wirkung nicht beeinträchtigt ist, ein Copolymer mit einem anderen Monomer verwendet werden.
Spezifische Beispiele für das in der Synthese der Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung verwendete andere Monomer schliessen die oben beschriebenen Verbindungen mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung ein.
Der Anteil des anderen Monomers zur Verwendung in der Synthese des Copolymers kann beliebig sein, solange die Polymerverbindung durch Einwirkung von Wärme von hydrophil zu hydrophob verändert werden kann, er beträgt jedoch vorzugsweise 80 Gew.% oder weniger, weiter bevorzugt 50 Gew.% oder weniger.
Die erfindungsgemäss verwendete Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung kann nach einem bekannten Verfahren hergestellt werden, wie es beispielsweise in Kobunshi Kagaku (Polymer Chemistry), Bd. 7, Seite 142 (1950) beschrieben ist. Genauer kann die Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung eine beliebige sein, ausgewählt aus einem Zufallspolymer, einem Blockpolymer und einem Pfropfpolymer, jedoch ist ein Zufallspolymer bevorzugt. Dieses kann durch Radikalpolymerisation unter Verwendung eines Polymerisationsinitiators, wie beispielsweise einem Peroxid, wie Di-t-butylperoxid und Benzoylperoxid, einem Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, oder einer Azoverbindung, wie Azobisisobutyronitril, synthetisiert werden, obwohl hier in Abhängigkeit vom Polymerisationssystem eine geeignete Auswahl getroffen werden kann. Beispiele für das anwendbare Polymerisationssystem schliessen die Lösungspolymerisation, Emulsionspolymerisation und Suspensionspolymerisation ein. Der Polymerisationsgrad der Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung ist nicht sonderlich beschränkt.
Beispiele für das in der Synthese der Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung verwendete Lösungsmittel schliessen Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid und Wasser ein. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in einer Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Spezifische Beispiele für die erfindungsgemäss verwendete Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung sind nachfolgend angegeben, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Der Anteil der Polaritätsumwandlungs-Polymerverbindung, die in der fotoempfindlichen Schicht des erfindungsgemäss verwendeten Lithografiedruckplattenoriginals enthalten ist, beträgt vorzugsweise 0–94 Gew.%, weiter bevorzugt 0,05–90 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts.
Tensid:
Die fotoempfindliche Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals kann ein nichtionisches Tensid, wie in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 beschrieben, oder ein amphoteres Tensid, wie in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 beschrieben, enthalten, wodurch die Stabilität der Druckbedingungen verbreitert wird.
Spezifische Beispiele für das nichtionische Tensid schliessen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid und Polyoxyethylennonylphenylether ein.
Spezifische Beispiele für das amphotere Tensid schliessen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain (z.B. AMORGEN K, Markenname, hergestellt von Daiichi Kogyo K.K.) ein.
Der Anteil des in der fotoempfindlichen Schicht enthaltenen, nichtionischen Tensids oder amphoteren Tensids ist vorzugsweise 0,05–15 Gew.%, weiter bevorzugt 0,1–5 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts.
Andere Aufbaukomponenten:
Bei Bedarf kann die fotoempfindliche Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals ferner einen Weichmacher zur Vermittlung von Flexibilität in der Beschichtung enthalten. Beispiele für den Weichmacher schliessen Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Oligomere und Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure ein.
Die fotoempfindliche Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals kann hergestellt werden durch Auflösen der jeweiligen oben beschriebenen Komponenten in einem Lösungsmittel und Aufbringen der resultierenden Lösung auf einen geeigneten Träger. Beispiele für das hierbei verwendete Lösungsmittel schliessen Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Toluol, Ethylacetat, Ethyllactat, Methyllactat, Dimethylsulfoxid, Wasser, Sulfolan und γ-Butyrolacton ein, jedoch ist die vorliegende Erfindung in keiner Weise hierauf beschränkt.
Diese Lösungsmittel können entweder einzeln oder in Kombinationen miteinander verwendet werden. Im Fall der Herstellung einer Beschichtungslösung beträgt die Konzentration der die fotoempfindliche Schicht bildenden Komponenten (Gesamtfeststoffgehalt einschliesslich Zusatzstoffe) in dem Lösungsmittel vorzugsweise 1–50 Gew.%.
Die Beschichtungslösung kann nach verschiedenen bekannten Verfahren aufgeschichtet werden, wie beispielsweise durch Stapelbeschichterbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Klingenbeschichtung und Walzenbeschichtung.
Die fotoempfindliche Schicht des Lithografiedruckplattenoriginals kann zur Verbesserung der Beschichtbarkeit ein Tensid enthalten, wie beispielsweise ein Tensid auf Fluorbasis, wie beispielsweise in JP-A-62-170950 beschrieben. Die Zugabemenge des Tensids beträgt vorzugsweise 0,01–1 Gew.%, weiter bevorzugt 0,05–0,5 Gew.%, auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts in der Polymerkomplexschicht.
Die Beschichtungsmenge (Feststoffgehalt) der fotoempfindlichen Schicht, die nach dem Beschichten und Trocknen erhalten wird, ist in Abhängigkeit von der Anwendung variabel, jedoch beträgt sie im Fall eines allgemeinen Lithografiedruckplattenoriginals 0,1–5,0 g/m², vorzugsweise 0,1–2,0 g/m², weiter bevorzugt 0,2–2,0 g/m².
Träger:
Der Träger (Substrat) zur Verwendung in des Lithografiedruckplattenoriginals ist nicht sonderlich beschränkt, solange er eine hydrophile Oberfläche aufweist, und es können in geeigneter Weise beliebige bekannte plattenförmige Materialien mit guter Dimensionsstabilität, die bisher als Träger für Druckplatten verwendet wurden, verwendet werden. Beispiele für den Träger schliessen Papier, mit Kunststoff (beispielsweise Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol) laminiertes Papier, Metallplatten, wie beispielsweise Aluminium (einschliesslich Aluminiumlegierungen), Zink, Eisen und Kupfer, Kunststoffolien, wie beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal, und Papier oder Kunststoffolien, die das oben beschriebene Metall darauf abgeschieden oder laminiert aufweisen, ein. Unter diesen ist eine Aluminiumplatte bevorzugt. Die Aluminiumplatte schliesst eine Reinaluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte ein. Als Aluminiumlegierung können verschiedene Legierungen verwendet werden, und beispielsweise können Legierungen von Aluminium mit einem Metall, wie beispielsweise Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Wismut oder Nickel, verwendet werden. Die Legierungszusammensetzung kann eine vernachlässigbare Menge an Verunreinigungen zusätzlich zu einer gewissen Menge Eisen und Titan enthalten.
Der Träger wird bei Bedarf einer Oberflächenbehandlung unterworfen. Beispielsweise wird die Trägeroberfläche bei der Herstellung eines Lithografiedruckplattenoriginal vor dem Aufschichten der fotoempfindlichen Schicht auf die Oberfläche des Trägers einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen.
Im Fall eines Träges mit einer Metalloberfläche, insbesondere einer Aluminiumoberfläche, wird der Träger vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung, wie beispielsweise Körnung, Eintauchen in eine wässrige Natriumsilicat-, Kaliumfluorzirkonat- oder Phosphatlösung, oder Anodisierung unterworfen. Es kann geeigneterweise auch eine Aluminiumplatte, die der Körnung und dann dem Eintauchen in eine wässrige Natriumsilicatlösung unterworfen wurde, wie in US-PS 2 714 066 beschrieben, und eine Aluminiumplatte, die der Anodisierung und dem anschliessenden Eintauchen in eine wässrige Alkalimetallsilicatlösung unterworfen wurde, wie in US-PS 3 181 461 beschrieben, verwendet werden. Die Anodisierung wird durchgeführt durch Hindurchpassieren eines Stroms unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode in einer Elektrolytlösung, die beispielsweise eine wässrige oder nichtwässrige Lösung einer anorganischen Säure, wie beispielsweise Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure, einer organischen Säure, wie beispielsweise Oxalsäure oder Sulfaminsäure, oder eines Salzes dieser Säuren umfasst. Diese wässrigen oder nichtwässrigen Lösungen können einzeln oder in einer Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
Die Silicatelektroabscheidung, wie in US-PS 3 658 662 beschrieben, ist ebenfalls eine wirksame Oberflächenbehandlung.
Diese Hydropilisierungsbehandlungen werden nicht nur durchgeführt, damit die Trägeroberfläche hydrophil wird, sondern auch zur Vorbeugung einer schädlichen Reaktion mit der darauf aufgeschichteten fotoempfindlichen Schicht oder zur Verbesserung der Haftung der fotoempfindlichen Schicht.
Vor der Oberflächenaufrauhung durch Körnung der Aluminiumplatte kann die Oberfläche bei Bedarf einer Vorbehandlung unterworfen werden, wodurch das Walzenöl auf der Oberfläche entfernt oder eine saubere Aluminiumoberfläche freigelegt wird. Zur Entfernung von Walzenöl und dergleichen wird üblicherweise ein Lösungsmittel, wie beispielsweise Trichlen, oder ein Tensid verwendet. Zur Freilegung einer sauberen Oberfläche wird weitverbreitet ein Verfahren unter Verwendung eines Alkaliätzmittels, wie beispielsweise Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid, verwendet.
Als Körnungsverfahren kann ein beliebiges Verfahren, ausgewählt aus mechanischen, chemischen und elektrochemischen Verfahren, in wirksamer Weise verwendet werden. Das mechanische Verfahren schliesst Kugelpolieren, Sandstrahlpolieren und Bürstenpolieren oder Verreiben einer wässrigen Dispersionsaufschlämmung eines Schleifmittels, wie beispielsweise Bimsstein, mit einer Nylonbürste ein. Als chemisches Verfahren ist ein Verfahren unter Eintauchen der Platte in eine gesättigte Mineralsäure-Aluminiumsalz-Lösung geeignet, wie in JP-A-54-31187 beschrieben. Als elektrochemisches Verfahren ist eine Wechselstromelektrolyse in einer sauren Elektrolytlösung, wie beispielsweise Salzsäure, Salpetersäure oder eine Kombination daraus bevorzugt. Unter diesen Oberflächenaufrauhungsverfahren ist eine Oberflächenaufrauhungsbehandlung unter Verwendung einer Kombination der mechanischen Oberflächenaufrauhung und elektrochemischen Oberflächenaufrauhung, wie in JP-A-55-137993 beschrieben, bevorzugt, da die fotoempfindliche Schicht fest an den Träger angehaftet werden kann.
Die Körnung durch das oben beschriebene Verfahren wird vorzugsweise so durchgeführt, dass die Aluminiumplattenoberfläche eine Zentrallinienoberflächenrauhigkeit (Ra) von 0,3–1,0 μm aufweist.
Die so gekörnte Aluminiumplatte wird bei Bedarf mit Wasser gewaschen und einer chemischen Ätzbehandlung unterworfen.
Die Ätzlösung wird üblicherweise aus wässrigen Lösungen eine Base oder Säure, die zur Auflösung von Aluminium in der Lage ist, ausgewählt. In diesem Fall muss die auf der geätzten Oberfläche erzeugte Beschichtung von dem Aluminium, das aus der Ätzlösungskomponente abgeleitet ist, unterschiedlich sein. Bevorzugte Beispiele für das Ätzmittel schliessen als eine basische Substanz Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Trinatriumphosphat, Dinatriumphosphat, Trikaliumphosphat und Dikaliumphosphat ein, und als saure Substanz Schwefelsäure, Perschwefelsäure, Phosphorsäure, Chlorwasserstoffsäure und Salze davon. Metalle mit einer im Vergleich zu Aluminium niedrigen Ionisierungstendenz, wie beispielsweise Salze von Zink, Chrom, Kobalt, Nickel oder Kupfer, sind jedoch nicht bevorzugt, da eine überflüssige Schicht auf der Ätzoberfläche erzeugt wird.
Das Ätzmittel wird am meisten bevorzugt in einer solchen Weise verwendet, dass das verwendete Aluminium oder die Legierung davon mit einer Geschwindigkeit von 0,3–40 g/m² pro Minute Eintauchzeit bei der verwendeten Konzentration und Temperatur aufgelöst wird, es kann jedoch in einem Überschuss hierzu verwendet werden.
Der Ätzvorgang wird durch Eintauchen der Aluminiumplatte in die oben beschriebene Ätzlösung oder Aufschichten der Ätzlösung auf die Aluminiumplatte durchgeführt, und die Ätzbehandlung wird vorzugsweise so durchgeführt, dass die Ätzmenge 0,5–1,0 g/m² beträgt.
Als Ätzmittel wird aufgrund ihrer hohen Ätzgeschwindigkeit vorzugsweise eine wässrige Basenlösung verwendet. In diesem Fall wird eine Verschmutzung erzeugt, und daher wird die Platte üblicherweise einer Entschmutzungsbehandlung unterworfen. Beispiele für die in der Entschmutzungsbehandlung verwendbare Säure schliessen Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorsäure und Borfluorsäure ein.
Die geätzte Aluminiumplatte wird bei Bedarf mit Wasser gewaschen und anodisiert. Die Anodisierung kann nach einem üblicherweise in diesem Bereich durchgeführten Verfahren erfolgen. Genauer kann durch Hindurchpassieren eines Gleichstroms oder Wechselstroms durch das Aluminium in einer wässrigen oder nichtwässrigen Lösung von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfaminsäure, Benzolsulfonsäure oder einer Kombination aus zwei oder mehreren davon ein anodischer Oxidfilm auf der Aluminiumträgeroberfläche erzeugt werden.
Die Anodisierungsbehandlungsbedingungen variieren in Abhängigkeit von der verwendeten Elektrolytlösung und können nicht ohne Unterscheidung angegeben werden, geeignete Bedingungen sind jedoch im allgemeinen so, dass die Elektrolytlösungskonzentration 1–80 Gew.% beträgt, die Flüssigkeitstemperatur ist 5–70°C, die Stromdichte 0,5–60 A/dm², die Spannung 1–100 V und die Elektrolysezeit 30 Sekunden bis 50 Minuten.
Unter den Anodisierungsbehandlungen sind das Verfahren unter Durchführung der Anodisierung bei hoher Stromdichte in Schwefelsäure, wie in GB-PS 1 412 768 beschrieben, und das Verfahren der Anodisierung unter Verwendung von Phosphorsäure als Elektrolysebad, wie in US-PS 3 511 661 beschrieben, bevorzugt.
Die so oberflächenaufgerauhte und darüber hinaus anodisierte Aluminiumplatte kann bei Bedarf hydrophilisiert werden. Bevorzugte Beispiele für das Hydrophilisierungsverfahren schliessen eine Behandlung mit einem Alkalimetallsilicat, wie beispielsweise einer wässrigen Natriumsilicatlösung, ein, wie in den US-PSen 2 714 066 und 3 181 461 beschrieben, und eine Behandlung mit Kaliumfluorzirkonat, wie in JP-B-36-22063 beschrieben (der Ausdruck "JP-B", wie er hierin verwendet wird, bedeutet eine "japanische geprüfte Patentveröffentlichung") oder mit Polyvinylphosphonsäure, wie in US-PS 4 153 461 offenbart.
Andere Schichten:
Auf der Rückseite des Trägers wird bei Bedarf eine Rückseitenbeschichtung bereitgestellt. Als Rückseitenbeschichtung kann vorzugsweise eine Beschichtungsschicht verwendet werden, die eine organische Polymerverbindung umfasst, wie in JP-A-5-45885 beschrieben, oder ein Metalloxid, das erhalten wird durch Hydrolyse oder Polykondensation einer organischen oder anorganischen Metallverbindung, wie in JP-A-6-35174 beschrieben.
Insbesondere ist eine Beschichtungsschicht, die ein Metalloxid umfasst, das aus einer Siliciumalkoxyverbindung, wie beispielsweise Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄ und Si(OC₄H₉)₄, erhalten wird, bevorzugt, da die Verbindung kostengünstig und leicht verfügbar ist und die Beschichtungsschicht eine exzellente Hydrophilizität besitzt.
Plattenherstellungsverfahren:
Nachfolgend wird das Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus dem Lithografiedruckplattenoriginal beschrieben. Das Lithografiedruckplattenoriginal wird beispielsweise einer direkten Bildaufzeichnung durch bildweise, wärmeempfindliche Aufzeichnung unter Verwendung eines Thermoaufzeichnungskopfes oder dergleichen oder der Bildaufzeichnung durch bildweise Belichtung mit Licht unterworfen.
Beispiele für die Lichtquelle für zur bildweisen Belichtung verwendete, aktive Strahlung schliessen eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe und eine Kohlenstoffbogenlampe ein. Beispiele für strahlungsaktive Strahlung schliessen einen Elektronenstrahl, Röntgenstrahlen, einen Innenstrahl und Ferninfrarotstrahlung ein. Ferner können g-Strahlung, i-Strahlung, Tief-UV-Strahlung und eine hochenergiedichte Strahlung (Laserstrahlung) verwendet werden. Bezüglich des Laserstrahls können ein Helium-Neon-Laser, ein Argonlaser, ein Kryptonlaser, ein Helium-Cadmium-Laser, ein Kryptonfluorid-Excimerlaser, ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser verwendet werden.
Erfindungsgemäss sind ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser bevorzugt, die Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 760–1.200 nm emittieren.
Nach der oben beschriebenen Bildaufzeichnung durch Licht wird unabhängig davon, ob eine Entwicklungsverarbeitung durchgeführt wird, vorzugsweise eine Wärmebehandlung durchgeführt, wodurch die Empfindlichkeit der Aufzeichnung verbessert wird. Die Wärmebehandlung wird vorzugsweise bei 80–160°C für 10 Sekunden bis 5 Minuten durchgeführt. Durch Anwendung dieser Wärmebehandlung kann die zur Aufzeichnung erforderliche Energie bei der Belichtung unter Verwendung der oben beschriebenen Lichtquelle verringert werden.
Das Lithografiedruckplattenoriginal, das der oben beschriebenen Bildaufzeichnung unterworfen wurde, wird dann unmittelbar nach der Bildaufzeichnung (ohne Durchlaufen eines Entwicklungsprozesses) in einer Druckmaschine montiert und dem Druckvorgang unterworfen. Hierbei quellen die nicht erwärmten Bereiche oder unbelichteten Bereiche mit der Benetzungslösung oder dergleichen auf, und der gequollene Bereich wird in der anfänglichen Stufe des Druckvorgangs entfernt, wodurch eine Lithografiedruckplatte erzeugt wird. Mit anderen Worten kann in dem erfindungsgemässen Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung des Lithografiedruckplattenoriginals eine Lithografiedruckplatte hergestellt werden, ohne eine Entwicklung oder andere Behandlungen zu durchlaufen.
Das Lithografiedruckplattenoriginal wird daher bildweise belichtet, mit Wasser gewaschen und/oder gespült und/oder gummiert und, falls ein überflüssiger Bildbereich (beispielsweise Filmkantenmarkierungen des Originalfilms) auf der erhaltenen Lithografiedruckplatte vorhanden sind, werden diese überflüssigen Bildbereiche entfernt. Diese Entfernung wird vorzugsweise nach einem Verfahren unter Beschichtung einer Eliminierungslösung auf den überflüssigen Bildbereich, Stehenlassen der Platte für eine vorherbestimmte Zeit und anschliessendes Waschen mit Wasser durchgeführt, wie in JP-B-2-13293 beschrieben.
Die so erhaltene Lithografiedruckplatte wird bei Bedarf mit einem Desensibilisierungsgummi beschichtet und dann dem Druckvorgang unterworfen. Zur Erzielung einer Lithografiedruckplatte mit einer längeren Drucklebensdauer wird die Platte einer Einbrennbehandlung unterworfen.
Im Fall der Anwendung eine Einbrennbehandlung wird die Lithografiedruckplatte vorzugsweise mit einer Oberflächensteuerungslösung, wie in JP-B-61-2518, JP-B-55-28062 und JP-A-61-159655 beschrieben, vor der Einbrennbehandlung behandelt.
Für diese Behandlung kann ein Verfahren des Beschichtens des (Platten)einbrennkonditionierers auf die Lithografiedruckplatte unter Verwendung eines mit der Lösung imprägnierten Schwamms oder absorbierenden Baumwollpads, ein Verfahren unter Eintauchen der Druckplatte in einen mit dem Einbrennkonditionierer gefüllten Kessel, wodurch die Lösung aufgeschichtet wird, oder ein Verfahren unter Aufschichten der Lösung unter Verwendung eines automatischen Beschichters verwendet werden. Nach dem Beschichten wird die aufgeschichtete Einbrennkonditionierermasse vorzugsweise unter Verwendung eines Quetschers oder einer Quetschwalze gleichförmig gemacht. Hierdurch können noch vorteilhaftere Ergebnisse erzielt werden.
Im allgemeinen beträgt die aufgeschichtete Einbrennkonditionierermenge geeigneterweise 0,03–0,8 g/m² (Trockengewicht).
Nach dem Aufschichten des Einbrennkonditionierers wird die Lithografiedruckplatte bei Bedarf getrocknet und dann auf eine hohe Temperatur mittels eines Einbrennprozessors (beispielsweise einem Einbrennprozessor "BP-1300" von Fuji Foto Film Co., Ltd.) erwärmt. Hierbei betragen die Heiztemperatur und die Heizzeit vorzugsweise 180–300°C bzw. 1–20 Minuten, obwohl diese in Abhängigkeit von der Art der Komponenten, die das Bild aufbauen, variieren können.
Nach der Einbrennbehandlung kann die Lithografiedruckplatte bei Bedarf in geeigneter Weise herkömmlichen Behandlungen, wie beispielsweise dem Waschen mit Wasser und der Gummierung, unterworfen werden. Im Fall der Anwendung eines Einbrennkonditionierers, der eine wasserlösliche Polymerverbindung oder dergleichen enthält, kann eine sogenannte Desensibilisierungsbehandlung, wie beispielsweise eine Gummierung, jedoch weggelassen werden.
Die durch diese Behandlungen erhaltene Lithografiedruckplatte wird auf einem Offsetdrucker oder dergleichen montiert und zum Drucken einer grossen Anzahl von Blättern verwendet.
BEISPIELE
Das erfindungsgemässe Verfahren wird nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die Beispiel beschrieben, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht als darauf beschränkt anzusehen.
BEISPIEL 1
Eine 0,30 mm dicke Aluminiumplatte (Konstruktionsmaterial: 1050) wurde durch Waschen der Platte mit Trichlorethylen entfettet, einer Körnung ihrer Oberfläche unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 mesh-Bimsstein unterworfen und dann sorgfältig mit Wasser gewaschen. Diese Platte wurde durch Eintauchen in eine 25 Gew.%-ige wässrige Natriumhydroxidlösung bei 45°C für 9 Sekunden geätzt, mit Wasser gewaschen, für 20 Sekunden in 2 % Salpetersäure getaucht und erneut mit Wasser gewaschen. Zu diesem Zeitpunkt betrug die Ätzmenge auf der gekörnten Oberfläche etwa 3 g/m². Anschliessend wurde diese Platte bei einer Stromdichte von 15 A/dm² in 7 % Schwefelsäure als Elektrolytlösung gleichstromanodisiert, wodurch ein anodischer Gleichstromoxidfilm von 3 g/m² erzeugt wurde, und dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.
Auf der so behandelten Aluminiumplatte wurde die Lösung (1),die so hergestellt wurde, dass sie die folgende Zusammensetzung aufwies, durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationszahl von 150 U/min beschichtet und dann für 3 Minuten bei 80°C getrocknet, wodurch die Original-Lithografiedruckplatte (1) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,0 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (1) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte einem herkömmlichen Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron-Druckmaschine unterworfen. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in einem guten Zustand auf der Drucksache erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Bei diesem Druckvorgang wurden 10.000 Blatt guter Drucksachen erhalten.
Ferner wurde die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Je näher die Linienbreite am Durchmesser (28 μm) des aufgestrahlten Strahls ist, desto höher ist die Empfindlichkeit. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (1) war die Linienbreite 28 μm, was eine sehr hohe Empfindlichkeit anzeigt.
BEISPIEL 2
Auf eine Aluminiumplatte, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt wurde, wurde die Lösung (2), die so hergestellt wurde, dass sie die folgende Zusammensetzung aufwies, durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationszahl von 150 U/min aufgeschichtet und dann für 3 Minuten bei 80°C getrocknet, wodurch das Lithografiedruckplattenoriginal (2) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,2 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (2) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 110°C für 1 Minute einer Wärmebehandlung unterworfen, und dann wurde ein herkömmlicher Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine durchgeführt. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei diesem Druckvorgang wurden 30.000 Blatt guter Drucke erhalten.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (2) war die Linienbreite 24 μm und dadurch wurde eine hohe Empfindlichkeit angezeigt.
BEISPIEL 3
Auf PET, dessen Oberfläche einer Koronaentladungsbehandlung unterworfen wurde, wurde die Lösung (3), die mit der nachfolgenden Zusammensetzung hergestellt wurde, durch Rotationsbeschichtung bei einer Drehzahl von 150 U/min aufgeschichtet und dann bei 80°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch das Lithografiedruckplattenoriginal (3) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,2 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (3) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte einem herkömmlichen Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine unterworfen. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (3) war die Linienbreite 26 μm und dadurch wurde eine hohe Empfindlichkeit angezeigt.
BEISPIEL 4
Auf eine Aluminiumplatte, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt wurde, wurde die Lösung (4), die mit der folgenden Zusammensetzung hergestellt wurde, mittels eines Stabbeschichters #14 aufgebracht und dann bei 80°C für 30 Minuten getrocknet, wodurch das Lithografiedruckplattenoriginal (4) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,5 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (4) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 110°C für 1 Minute einer Wärmebehandlung unterworfen, und dann wurde ein herkömmlicher Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine durchgeführt. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei diesem Druckvorgang wurden 30.000 Blatt guter Drucke erhalten.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (4) war die Linienbreite 26 μm und dadurch wurde eine hohe Empfindlichkeit angezeigt.
BEISPIEL 5
Auf eine Aluminiumplatte, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt wurde, wurde die Lösung (5), die so hergestellt wurde, dass sie die folgende Zusammensetzung aufwies, durch Rotationsbeschichtung bei einer Rotationszahl von 150 U/min aufgeschichtet und dann für 3 Minuten bei 80°C getrocknet, wodurch das Lithografiedruckplattenoriginal (5) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,1 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (5) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 110°C für 1 Minute einer Wärmebehandlung unterworfen, und dann wurde ein herkömmlicher Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine durchgeführt. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (5) war die Linienbreite 24 μm und dadurch wurde eine hohe Empfindlichkeit angezeigt.
VERGLEICHSBEISPIEL 1
In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde ein Lithografiedruckplattenoriginal (6) hergestellt, ausser dass anstelle des IR-Absorptionsmittels (1) das IR-Absorptionsmittel (4) verwendet wurde.
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (6) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte einem herkömmlichen Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine unterworfen. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei diesem Druckvorgang konnte kein guter Druck erhalten werden.
VERGLEICHSBEISPIEL 2
In der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wurde ein Lithografiedruckplattenoriginal (7) hergestellt, ausser dass anstelle des IR-Absorptionsmittels (1) das IR-Absorptionsmittel (4) verwendet wurde.
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (7) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte einem herkömmlichen Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine unterworfen. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei diesem Druckvorgang konnten 10.000 Blatt guter Drucke erhalten werden.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (7) war die Linienbreite 25 μm und die Empfindlichkeit war gut.
VERGLEICHSBEISPIEL 3
Auf eine Aluminiumplatte, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 behandelt wurde, wurde die Lösung (8), die mit der folgenden Zusammensetzung hergestellt wurde, mittels eines Stabbeschichters #14 aufgebracht und dann bei 80°C für 3 Minuten getrocknet, wodurch das Lithografiedruckplattenoriginal (8) erhalten wurde. Nach dem Trocknen betrug das Gewicht 1,5 g/m².
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (8) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte bei 110°C für 1 Minute einer Wärmebehandlung unterworfen, und dann wurde ein herkömmlicher Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine durchgeführt. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei diesem Druckvorgang wurden 5.000 Blatt guter Drucke erhalten.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (8) war die Linienbreite 18 μm und die Empfindlichkeit war gering.
VERGLEICHSBEISPIEL 4
In der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wurde das Lithografiedruckplattenoriginal (9) hergestellt, ausser dass die Menge der Polaritätsumwandlungspolymerverbindung (P-7) von 0,50 g auf 0,95 g angehoben und die Menge des IR-Absorptionsmittels (1) von 0,50 g auf 0,05 g gesenkt wurde.
Das erhaltene Lithografiedruckplattenoriginal (9) wurde mit einem IR-Laser (Strahldurchmesser: 28 μm), der IR-Strahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittierte, belichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte einem herkömmlichen Druckvorgang unter Verwendung einer Lithron^TM-Druckmaschine unterworfen. Hierbei wurde beobachtet, ob der Bildbereich in gutem Zustand auf dem Druck erzeugt wurde und ob eine Fleckbildung im Nichtbildbereich erzeugt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Ferner wurde, ähnlich wie in Beispiel 1, die Laserrasterlinienfläche auf der erhaltenen Druckplatte durch ein Mikroskop beobachtet und die Linienbreite gemessen. Aus den erhaltenen Werten wurde die Empfindlichkeit abgeschätzt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Bei dem Lithografiedruckplattenoriginal (9) betrug die Linienbreite 20 μm und die Empfindlichkeit war gering.
Wie aus Tabelle 1 ersichtlich ist, waren die in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendeten Lithografiedruckplattenoriginale bezüglich der jeweiligen Ergebnisse zufriedenstellend, d.h. die Empfindlichkeit war hoch, der Bildbereich war frei von Ausdünnungen und es wurde keine Fleckbildung erzeugt. Andererseits zeigten die Verfahren der Vergleichsbeispiele unter Verwendung anderer Lithografiedruckplattenoriginale bezüglich einiger ihrer Eigenschaften keine zufriedenstellenden Ergebnisse.
Wie auf den vorangehenden Seiten beschrieben, enthält das in dem erfindungsgemässen Verfahren verwendete Lithografiedruckplattenoriginal in seiner fotoempfindlichen Schicht 6 Gew.% oder mehr eines IR-Absorptionsmittels, das durch Wärme von hydrophil zu hydrophob veränderlich ist, so dass eine Druckplatte direkt durch einen IR-Laser auf Basis digitaler Daten aus einem Computer oder dergleichen hergestellt werden kann und die Effekte hervorgebracht werden können, dass die Empfindlichkeit hoch ist, der Bildbereich keine Ausdünnungen zeigt und keine Fleckbildung erzeugt wird.

Claims

Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus einem Lithografie-Druckplattenvorläufer, die Vorläuferplatte umfasst einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche und darauf befindlicher fotoempfindlicher Schicht, die mindestens 6 Gew.% eines hydrophilen IR-Absorptionsmittels umfasst, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: (i) bildweise Belichtung der fotoempfindlichen Schicht mit IR-Strahlung, wodurch das IR-Absorptionsmittel hydrophob wird; (ii) Montieren der belichteten Platte auf einer Druckmaschine, ohne dass die Platte irgendeine Verarbeitung durchläuft; und (iii) Entfernen der Nichtbildbereiche der fotoempfindlichen Schicht auf der montierten Platte durch Kontaktieren mit Benetzungslösung.
Verfahren gemäss Anspruch 1, worin das IR-Absorptionsmittel in Schritt (i) hydrophob gemacht wird durch Bestrahlung mit IR-Licht, was zur Abspaltung mindestens eines hydrophilen Substituenten (1)–(5) von dem Absorptionsmittel führt:
worin M ein Ion mit einer positiven Ladung ist, X ist ein Ion mit einer negativen Ladung und R¹, R² und R³ sind jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Alkinylgruppe.
Verfahren gemäss Anspruch 1 oder 2, worin die fotoempfindliche Schicht des Lithografie-Druckplattenvorläufers mindestens 10 Gew.% des hydrophilen IR-Absorptionsmittels umfasst.