DE60213728T2

DE60213728T2 - Bildaufzeichnungsmedium

Info

Publication number: DE60213728T2
Application number: DE60213728T
Authority: DE
Inventors: Kazuhiro Yoshida-cho Haibara-gun Fujimaki; Tadahiro Yoshida-cho Haibara-gun Sorori
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-08-23
Filing date: 2002-08-21
Publication date: 2007-08-16
Anticipated expiration: 2022-08-22
Also published as: CN1406747A; DE60213728D1; US20030146965A1; EP1285751B1; EP1285751A3; ATE335606T1; EP1285751A2; US6702437B2; CN1278853C

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
Gebiet der Erfindung:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Wärmemoduskompatibles negatives Bildaufzeichnungsmaterial, auf dem ein Bild durch Belichtung im Wärmemodus mit einem Infrarotlaser erzeugt werden kann, und insbesondere ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial, das eine Flachdruckplatte bilden kann, die herausragende Druckbeständigkeit aufweist und bei der die Festigkeit des Bildbereichs hoch ist.
Beschreibung verwandter Techniken:
Die Entwicklung von Lasern ist in den letzten Jahren bemerkenswert gewesen. Insbesondere werden kompakte Feststofflaser und Halbleiterlaser mit hoher Leistung, die einen Emissionsbereich im nahinfraroten bis infraroten Bereich aufweisen (nachstehend als Infrarotlaser bezeichnet), entwickelt. Diese Infrarotlaser sind als Belichtungslichtquelle zum Zeitpunkt, zu dem eine Druckplatte direkt auf Grundlage digitaler Daten von einem Computer oder dergleichen erzeugt wird, extrem nützlich.
Negative Flachdruckplatten, die mit einem Infrarotlaser belichtet werden können, verwenden als Aufzeichnungsschicht ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial, das einen Infrarotabsorber, einen Polymerisationsinitiator, der durch Licht oder Wärme Radikale bildet, und eine polymerisierbare Verbindung umfasst. Gewöhnlich wird bei dem negativen Bildaufzeichnungsmaterial ein Aufzeichnungssystem verwendet, in dem die durch Licht oder Wärme gebildeten Radikale als Initiator wirken, um eine Polymerisationsreaktion der polymerisierbaren Verbindung zu starten, wodurch die Aufzeichnungsschicht im belichteten Bereich gehärtet wird, um einen Bildbereich zu erzeugen.
Negative bilderzeugende Materialien Weisen eine schlechte Bilderzeugungsfähigkeit im Vergleich mit positiven bilderzeugenden Materialien auf, bei denen die Auflösung der Aufzeichnungsschicht durch die Energie aus der Infrarotlaserbestrahlung verursacht wird. Deswegen werden negative bilderzeugende Materialien im allgemeinen erwärmt, bevor sie entwickelt werden, um die Härtungsreaktion durch Polymerisation zu fördern, um einen festeren Bildbereich zu erzeugen.
Als Druckplatten, bei denen eine Aufzeichnungsschicht verwendet wird, die solch einen Bilderzeugungsmechanismus ausnutzen, sind Druckplatten bekannt, die als Aufzeichnungsschicht (fotoempfindliche Schicht) eine foto- oder wärmepolymerisierbare Zusammensetzung verwenden, wie es in JP-A Nrn. 8-108621 und 9-34110 offenbart ist. Obwohl diese Aufzeichnungsschichten eine herausragende Bilderzeugungsfähigkeit mit hoher Empfindlichkeit aufweisen, bestehen dahingehend Probleme, dass die Haftung zwischen der Aufzeichnungsschicht und dem Substrat gering ist und die Druckbeständigkeit schlecht ist, wenn ein Substrat als Träger verwendet wird, das hydrophil gestaltet worden ist.
Die Verwendung von Infrarotlasern mit hoher Leistung zur Belichtung wird auch untersucht, um die Empfindlichkeit zu erhöhen, jedoch besteht hier ein Problem, dass das optische System durch Ablation der Aufzeichnungsschicht zum Zeitpunkt des Laserabtastens verunreinigt werden kann.
GB-A-2 357 293 offenbart eine fotoempfindliche Harzzusammensetzung zur Verwendung in der Fotoresisttechnologie. Die Zusammensetzung umfasst zumindest ein alkalilösliches Bindemittelharz, ein Vorpolymer oder eine Monomerkomponente; ein Oximderivat; und eine fotopolymerisierbare Verbindung. Die Zusammensetzungen sind im Wellenlängenbereich von 150 bis 600 nm fotoempfindlich gestaltet.
EP-A-1 182 033, Stand der Technik gemäss Artikel 54(3) EPÜ, offenbart ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp. Das Material umfasst ein Polymer, das in Wasser unlöslich ist, jedoch in einer alkalischen Lösung löslich ist und das zumindest eine ungesättigte Seitengruppe, ein fotothermisches Umwandlungsmittel und eine Oniumsalzverbindung, die durch Wärmemodusbelichtung mit Licht, das in der Lage ist, von dem fotothermischen Umwandlungsmittel absorbiert zu werden, Radikale bildet, umfasst.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial bereitzustellen, das eine Flachdruckplatte bilden kann, die herausragende Druckbeständigkeit und Lagerungsstabilität aufweist, bei der die Festigkeit eines Bildbereichs hoch ist und bei der eine unerwünschte Härtungsreaktion, die während der herkömmlichen Lagerung auftritt, unterdrückt ist.
Als Ergebnis umfangreicher Untersuchungen haben die Erfinder gefunden, dass durch Auswählen einer Polymerverbindung mit einer ungesättigten Bindung in einer Seitenkette und einer spezifischen Glasübergangstemperatur als alkalilösliche Polymerverbindung, die in einem Bildaufzeichnungsmaterial verwendet wird, eine herausragende Aufzeichnung möglich wird, bei der die Festigkeit eines Bildbereichs hoch ist.
Gemäss dem ersten Aspekt stellt die vorliegende Erfindung ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial bereit, auf dem ein Bild durch Belichtung erzeugt werden kann, umfassend:

(A) einen Feststoffgehalt von 5 bis 95 Gew.-% eines Polymers, bezogen auf das negative Bildaufzeichnungsmaterial, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist und das aufweist:
(i) eine Glasübergangstemperatur von 80°C oder mehr; und
(ii) zumindest eine Aufbaueinheit, die sich aus einem Styrolderivat ableitet, dargestellt durch die allgemeine Formel (5):
worin R¹⁹ ein Wasserstoffatom oder eine C_1-5-Alkylgruppe darstellt, und R²⁰ bis R²⁴ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine aromatische Gruppe, eine heterocyclische Gruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiolgruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxy-Gruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N,N-Dialkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N,N-Diarylureidogruppe, eine N-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N,N-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N,N-Dialkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Aryl-N-arylureido-Gruppe, eine N,N-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N,N-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryl-N-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Carboxylat bezeichnet), eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und ihre konjugierte Base (im nachfolgenden als Sulfonatgruppe bezeichnet); und eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoyl-Gruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine N-Acylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe, eine N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine Alkoxysilylgruppe (-Si(Oalkyl)₃), eine Aryloxysilylgruppe, eine Hydroxylylgruppe (-Si(OH)₃) und ihre konjugierte Base, eine Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Phosphonatgruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonogruppe (-PO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃H(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Alkylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Arylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe und eine Nitrogruppe, wobei zumindest eines von R²⁰ bis R²⁴ eine Struktur aufweist, die durch eine der allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellt wird:
worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe darstellt; R² und R³ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe oder eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; R⁴ bis R⁸ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; R⁹ ist ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe; R¹⁰ und R¹¹ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe oder eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; oder R¹ und R² können in Formel (1) miteinander verbunden sein, um einen aliphatischen Ring oder einen heterocyclischen Ring zu bilden, der unter Morpholin, Piperazin, Pyrrolidin, Pyrrol und Indolin ausgewählt wird, wovon jedes gegebenenfalls substituiert sein kann; X und Y stellen unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar; und Z stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine gegebenenfalls substituierte Phenylengruppe dar; und R¹² stellt ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe dar; der gegebenenfalls vorhandene Substituent in den obigen Definitionen von R² bis R¹² wird unter einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Aryloxygruppe, einem Halogenatom, einer Aminogruppe, einer Alkylaminogruppe, einer Arylaminogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Alkoxycarbonylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Nitrogruppe, einer Cyanogruppe, einer Amidgruppe, einer Alkylsulfonylgruppe oder einer Arylsulfonylgruppe ausgewählt;
(B) einen/ein Infrarotstrahlung absorbierenden/absorbierendes Farbstoff oder Pigment mit einem Absorptionsmaximum im Wellenlängenbereich 760 bis 1.200 nm als Licht/Wärme-Umwandlungsmittel; und
(C) eine Verbindung, die durch Belichtung unter Verwendung von Licht einer Wellenlänge, die von dem Licht/Wärme-Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, Radikale bildet.

Vorzugsweise umfasst das negative Bildaufzeichnungsmaterial ferner (D) eine Radikalpolymerisierbare Verbindung, die zumindest eine endständige, ethylenisch ungesättigte Bindung aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis des Polymers (A): radikalpolymerisierbare Verbindung (D) 1:0,05–3 beträgt.
Obwohl der Mechanismus, der zur Erfindung führt, nicht vollständig geklärt ist, wird angenommen, dass ein Bild mit herausragender Festigkeit erhalten werden kann, weil die Glasübergangstemperatur des Polymers (A) zumindest 80°C beträgt, was eine verhältnismässig hohe Temperatur ist, was ein Ergebnis der Verwendung einer Polymerverbindung als Polymerverbindung, die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, ist, die zumindest eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette hiervon und eine Glasübergangstemperatur von zumindest 80°C aufweist. In bezug auf Materialien, die eine chemische Reaktion, wie eine Polymerisationsreaktion und eine Vernetzungsreaktion, ausnutzen, um ein Bild zu erzeugen, wie im Fall von negativen bilderzeugenden Materialien, läuft gewöhnlich eine chemische Reaktion mit einem fluiden Material (d.h. einem Material, das flexibel ist) leichter ab, und es wird eine herausragende Bilderzeugungsfähigkeit erhalten. Jedoch resultiert andererseits die Tatsache, dass die chemische Reaktion leicht abläuft, in einer Verringerung der Stabilität. Zum Beispiel verbleibt leicht ein Film auf unbelichteten Bereichen aufgrund einer unerwünschten chemischen Reaktion, die sogar unter gewöhnlichen Innen- und Aussenlagerungstemperaturbedingungen auftritt, und der Nicht-Bildbereich wird leicht kontaminiert, wenn das Material als Flachdruckplatte verwendet wird. Die in der Erfindung verwendete Polymerverbindung weist eine reaktive Doppelbindung auf, weil jedoch ihre Glasübergangstemperatur hoch ist, weist die aus diesem Material gebildete Aufzeichnungsschicht selbst ebenfalls eine hohe Glasübergangstemperatur auf. Es wird eine starke und feste Schicht gebildet, die unter herkömmlichen Innen- und Aussenlagerungstemperaturbedingungen nicht-fluid ist. Unter solchen Bedingungen weist der unbelichtete Bereich die Eigenschaft herausragender Stabilität auf, und der belichtete Bereich wird durch Wärmemodusbelichtung auf eine Temperatur erwärmt, die höher als die Glasübergangstemperatur ist, wodurch die Aufzeichnungsschicht unmittelbar schmilzt und fluid wird, eine chemische Reaktion gestartet wird, das Härten rasch verursacht wird, und ein Bild erzeugt wird. Durch Verwendung des spezifischen alkalilöslichen Polymers (A) auf diese Weise ist es möglich, ein Bildaufzeichnungsmaterial zu erhalten, das sowohl herausragende Lagerungsstabilität als auch herausragende Bilderzeugungsfähigkeit aufweist, und wenn dieses Aufzeichnungsmaterial für die Aufzeichnungsschicht einer Flachdruckplatte verwendet wird, kann eine Druckplatte erhalten werden, die herausragende Druckbeständigkeit und herausragende Lagerungsstabilität besitzt.
Erfindungsgemäss bezeichnet "Wärmemodus-kompatibel", dass das Aufzeichnen durch Belichtung im Wärmemodus möglich ist. Die Definition der Belichtung im Wärmemodus in der Erfindung wird nachstehend genau beschrieben. Wie von Hans-Joachim Timpe in IS & Zs NIP 15: International Conference on Digital Printing Technologies, Orlando, Florida (1999), Seite 209, beschrieben wurde, ist es bekannt, dass grob zwei Modi von Prozessen bestehen, bei denen ein Bild durch eine chemische Veränderung oder eine physikalische Veränderung erzeugt wird, die aus der Lichtanregung einer lichtabsorbierenden Substanz (z.B. einem Farbstoff) in einem fotoempfindlichen Material resultiert. Ein Modus ist der sogenannte Photonenmodus, in dem die optisch angeregte, Licht-absorbierende Substanz durch eine fotochemische Wechselwirkung (z.B. Energieübertragung und Elektronenübertragung) mit einer anderen reaktiven Substanz in dem fotoempfindlichen Material deaktiviert wird, und die aktivierte reaktive Substanz verursacht eine chemische oder physikalische Veränderung, die notwendig ist, um ein Bild zu erzeugen. Der andere Modus ist der sogenannte Wärmemodus, in dem das optisch angeregte, Licht-absorbierende Material Wärme erzeugt und deaktiviert wird, und eine reaktive Substanz nutzt diese Wärme aus, um eine chemische oder physikalische Veränderung auszulösen, die notwendig ist, um ein Bild zu erzeugen. Neben diesen Modi existieren auch spezielle Modi, wie Ablation, bei denen die Substanz aufgrund der lokalen Konzentration von Lichtenergie explosiv gestreut wird, und die multiple Photonenabsorption, bei der eine grosse Anzahl Photonen gleichzeitig absorbiert wird. Jedoch wird hier auf die Beschreibung dieser Modi verzichtet.
Belichtungsprozesse, bei denen die entsprechenden, oben beschriebenen Modi verwendet werden, werden als Photonenmodusbelichtung und Wärmemodusbelichtung bezeichnet. Der technische Unterschied zwischen der Photonenmodusbelichtung und der Wärmemodusbelichtung besteht darin, ob die Energiemenge der vielen belichtenden Photonen aufsummiert und in bezug auf die Energiemenge der beabsichtigten Reaktion verwendet werden kann oder nicht. Zum Beispiel kann man annehmen, dass eine Anzahl "n" von Photonen verwendet wird, um eine bestimmte Reaktion zu initiieren. Weil die fotochemische Wechselwirkung bei der Photonenmodusbelichtung ausgenutzt wird, kann die Energie von mehreren Photonen wegen des Erhaltungsgesetzes der Quantenenergie und des -impulses nicht zusammengerechnet und verwendet werden. Um irgendeine Art von Reaktion zu verursachen, ist es notwendig, die Beziehung zu erfüllen, nach der die Energie eines Photons ≥ Energie der Reaktion ist. Bei der Wärmemodusbelichtung ist es jedoch möglich, die Energiemengen zusammenzurechnen, weil die Wärme nach der optischen Anregung erzeugt und die optische Energie verwendet wird, nachdem sie in Wärme umgewandelt worden ist. Dementsprechend ist es hinreichend, dass die Beziehung erfüllt ist, nach der die Energiemenge von "n" Photonen ≥ Energiemenge der Reaktion ist. Jedoch ist dieses Aufsummieren der Energiemenge durch die Wärmediffusion beschränkt. Das heisst, falls der nächste Lichtanregungs-Deaktivierungsprozess auftritt und Wärme gebildet wird, bevor die zuvor gebildete Wärme durch Wärmediffusion aus dem belichteten Bereich (Reaktionspunkt) verloren geht, akkumuliert sich die Wärme nahezu ausnahmslos und die Temperatur dieses Bereichs erhöht sich. Falls jedoch die nächste Bildung von Wärme verzögert ist, geht die Wärme verloren und akkumuliert sich nicht. Das heisst, bei der Wärmemodusbelichtung sind die Ergebnisse zwischen dem Fall, in dem Licht mit einer hohen Energiemenge für eine kurze Zeitspanne bestrahlt wird, und dem Fall, in dem Licht mit einer kleinen Energiemenge für eine lange Zeitspanne bestrahlt wird, unterschiedlich, sogar wenn die Gesamtbelichtungsenergiemenge in beiden Fällen die gleiche ist. Für die Wärmeakkumulierung ist die Bestrahlung über eine kurze Zeitspanne effektiver.
Obwohl es Fälle gibt, in denen ein ähnliches Phänomen aufgrund des Einflusses der anschliessend gebildeten Diffusion auftritt, tritt dies natürlich bei der Photonenmodusbelichtung grundlegend nicht auf.
Vom Standpunkt der Eigenschaften des fotoempfindlichen Materials ist im Photonenmodus die inhärente Empfindlichkeit (die Energie für die Reaktion, die zur Erzeugung eines Bildes notwendig ist) des fotoempfindlichen Materials in bezug auf die Belichtungs-Leistungsdichte (W/cm²) (= Energiedichte pro Zeiteinheit) konstant. Jedoch erhöht sich im Wärmemodus die inhärente Empfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials mit der Belichtungs-Leistungsdichte. Wenn die Belichtungszeit in einem Ausmass fixiert wird, dass die Produktivität, die tatsächlich praktisch notwendig ist, beibehalten werden kann, ist es dementsprechend normalerweise möglich, die Empfindlichkeit um etwa 0,1 mJ/cm² im Photonenmodus zu erhöhen, jedoch tritt leicht eine Schleierbildung bei niedriger Belichtung in dem unbelichteten Teil auf, weil eine Reaktion ungeachtet dessen abläuft, wie klein die Belichtungsmenge ist. Bei der Wärmemodusbelichtung tritt jedoch keine Reaktion auf, sofern nicht die Belichtungsmenge höher als ein bestimmtes Niveau ist. Darüber hinaus kann das Problem der Schleierbildung bei niedriger Belichtung vermieden werden, obwohl etwa 50 mJ/cm² normalerweise angesichts der Beziehung mit der thermischen Stabilität des fotoempfindlichen Materials notwendig sind.
Bei der Wärmemodusbelichtung ist es notwendig, dass die Belichtungs-Leistungsdichte auf der Plattenoberfläche des fotoempfindlichen Materials tatsächlich zumindest 5.000 W/cm² und vorzugsweise zumindest 10.000 W/cm² beträgt. Obwohl es hier nicht im Detail ausgeführt wird, ist es jedoch wegen der Probleme, wie der Ablation, der Verschmutzung der Lichtquelle und dergleichen nicht bevorzugt, einen Laser mit hoher Leistungsdichte von zumindest 5,0 × 10⁵ W/cm² einzusetzen.
GENAUE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG:
Das erfindungsgemässe negative Bildaufzeichnungsmaterial umfasst (A) eine spezifische Polymerverbindung mit zumindest einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette hiervon, die eine Glasübergangstemperatur von 80°C oder mehr aufweist und in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist (nachstehend auch als spezifisches alkalilösliches Polymer bezeichnet); (B) ein Licht/Wärme-Umwandlungsmittel; und (C) eine Verbindung, die durch Belichtung unter Verwendung von Licht einer Wellenlänge, die von dem Licht/Wärme-Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, Radikale bildet (nachstehend auch als Radikalinitiator bezeichnet), und ist dadurch gekennzeichnet, dass das negative Bildaufzeichnungsmaterial in der Lage ist, durch Belichtung ein Bild zu erzeugen.
Nachstehend werden die Verbindungen, die in dem erfindungsgemässen negativen Bildaufzeichnungsmaterial enthalten sein können, beschrieben.
(A) Spezifisches alkalilösliches Polymer:
Erfindungsgemäss weist das spezifische alkalilösliche Polymer eine Glasübergangstemperatur von 80°C oder höher auf.
Wenn das spezifische Volumen einer polymeren Substanz als Funktion der Temperatur gemessen wird, bezieht sich die "Glasübergangstemperatur" (nachstehend auch als Tg bezeichnet) in der Erfindung auf die Temperatur, die einem Schnittpunkt zweier gerader Linien entspricht, wie in "Kobunshi Kagaku" (Polymer Chemistry) (1993 von Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. veröffentlicht) definiert, und sie kann durch Differential-Scanning-Calorimetrie (DSC) gemessen werden. Die Tg jeder Polymerverbindung in der Erfindung ist auch die Tg, die durch DSC gemessen wird.
Angesichts der Stabilität ist das ausgewählte spezifische, alkalilösliche Polymer eines, das eine Tg von 80°C oder höher, stärker bevorzugt 100°C oder höher, aufweist. Die Obergrenze der Tg ist nicht besonders beschränkt, jedoch beträgt die Tg angesichts der Empfindlichkeit und der Bilderzeugungsfähigkeit vorzugsweise 250°C oder weniger.
Die Grundgerüststruktur des alkalilöslichen Polymers mit einer Tg von 80°C oder mehr, ausser dass es zumindest eine Aufbaueinheit aufweist, die durch die obige allgemeine Formel (5) repräsentiert wird, ist nicht besonders beschränkt, weil das Polymer die gewünschte Tg aufweisen kann, indem sperrige funktionelle Gruppen, wie alicyclische Gruppen und aromatische Ringe, und kohäsive funktionelle Gruppen, wie Amidgruppen, in Einheiten eingeführt werden, die jedes Harz aufbauen. Wie nachstehend gezeigt wird, ist die Grundstruktur vorzugsweise ein auf Poly(meth)acryl basierendes Harz, ein auf Polystyrol basierendes Harz, ein auf Polyurethan basierendes Harz und ein Polyvinylharz, das mit Acetal modifiziert ist, wovon unter Berücksichtigung von dessen Einfluss auf die anderen Druckleistungsfähigkeiten, wie die Haftung, auf Styrol basierendes Harz zur Verwendung in einer Flachdruckplatte bevorzugt ist.
Das in der vorliegenden Erfindung verwendete, spezifische, alkalilösliche Polymer weist in einer Seitenkette von dessen Struktur zumindest eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung auf, die an zumindest einer der Gruppen vorgesehen ist, die nachstehend durch die allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellt werden. Dieses Harz, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist und das als Bindemittelharz in dem negativen Bildaufzeichnungsmaterial verwendet wird, weist zumindest eine "Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung" in dessen Seitenkette auf, dargestellt durch zumindest eine der allgemeinen Formeln (1) bis (3), deren Struktur eine "Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung" enthält, und selbstverständlich kann das Harz einige oder alle dieser Gruppen gleichzeitig aufweisen.
Nachstehend werden die Seitenketten, die durch die allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellt werden, im Detail beschrieben.
In den allgemeinen Formeln (1) bis (3) sind R¹ bis R¹¹ nachstehend unter Bezugnahme auf die drei individuellen Formeln definiert; X und Y stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar; und Z stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine gegebenenfalls substituierte Phenylengruppe dar.
In der obigen allgemeinen Formel (1) stellt R¹ ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe dar, von denen ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe wegen der höheren Radikalreaktivität bevorzugt sind. R² und R³ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar, unter denen ein Wasserstoffatom, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe wegen der höheren Radikalreaktivität bevorzugt sind.
X stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar, worin R¹² ein Wasserstoffatom oder eine einwertige organische Gruppe darstellt, worin R¹² gegebenenfalls substituierte Alkylgruppen umfasst, wovon ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe und einer Isopropylgruppe wegen der höheren Radikalreaktivität bevorzugt sind.
Die Substituentengruppe, die in die gegebenenfalls substituierte Gruppe eingeführt werden kann, umfasst eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Alkylaminogruppe, eine Arylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine Amidgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe und eine Arylsulfonylgruppe.
In der allgemeinen Formel (2) stellen R⁴ bis R⁸ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar, unter denen ein Wasserstoffatom, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe bevorzugt sind.
Die Substituentengruppe, die in die gegebenenfalls substituierte Gruppe eingeführt werden kann, umfasst diejenigen Gruppen, die für die allgemeine Formel (1) beispielhaft genannt sind. Y stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar. R¹² hat die gleiche Bedeutung wie R¹² in der allgemeinen Formel (1), und die bevorzugten Beispiele hiervon sind ebenfalls diejenigen Gruppen, die für die allgemeine Formel (1) beispielhaft genannt sind.
In der obigen Formel (3) ist R⁹ vorzugsweise ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, unter denen ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe wegen der höheren Radikalreaktivität bevorzugt sind. R¹⁰ und R¹¹ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe und eine gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar, unter denen ein Wasserstoffatom, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, und eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe wegen der höheren Radikalreaktivität bevorzugt sind.
Die Substituentengruppe, die in die gegebenenfalls substituierte Gruppe eingeführt werden kann, umfasst diejenigen Gruppen, die für die allgemeine Formel (1) beispielhaft genannt sind. Z stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine gegebenenfalls substituierte Phenylengruppe dar. R¹² hat die gleiche Bedeutung wie R¹² in der allgemeinen Formel (1), und die bevorzugten Beispiele hiervon sind ebenfalls diejenigen Gruppen, die für die allgemeine Formel (1) beispielhaft genannt sind.
Die Grundgerüststruktur des erfindungsgemässen, spezifischen, alkalilöslichen Polymers ist vorzugsweise ein auf Poly(meth)acryl basierendes Harz, ein auf Polystyrol basierendes Harz, ein auf Polyurethan basierendes Harz und ein mit Acetal modifiziertes Polyvinylharz, unter denen ein auf Polystyrol basierendes Harz wegen der höheren Glasübergangstemperatur besonders bevorzugt ist. Wie hier verwendet, bezieht sich das auf Polystyrol basierende Harz auf ein solches, das eine Polymerstruktur aufweist, die Einheiten enthält, die aus Styrolderivaten erhalten werden, und für eine höhere Glasübergangstemperatur enthält das auf Polystyrol basierende Harz vorzugsweise zumindest 30 mol-% (stärker bevorzugt zumindest 50 mol-%) an Einheiten, die aus Styrolderivat erhalten werden, relativ zu den Gesamteinheiten (100%) des Polymers. Ferner sind die Seitenkettenstrukturen, die durch die allgemeinen Formeln (1), (2) und (3) dargestellt werden, vorzugsweise mit den Styrolderivateinheiten verbunden.
Die Einheit, die aus einem Styrolderivat erhalten wird, weist die durch die allgemeine Formel (5) dargestellte Struktur auf:
In der allgemeinen Formel (5) stellt R¹⁹ ein Wasserstoffatom oder eine C_1-5-Alkylgruppe dar. R²⁰ bis R²⁴ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine aromatische Gruppe, eine heterocyclische Gruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiolgruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxy-Gruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N,N-Dialkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N,N-Diarylureidogruppe, eine N-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N,N-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N,N-Dialkylureido-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Aryl-N- arylureido-Gruppe, eine N,N-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N,N-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryl-N-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Carboxylat bezeichnet), eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und ihre konjugierte Base (nachstehend als Sulfonatgruppe bezeichnet), eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine N-Acylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe, eine N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, eine Alkoxysilylgruppe (-Si(Oalkyl)₃), eine Aryloxysilylgruppe, eine Hydroxylylgruppe (-Si(OH)₃) und ihre konjugierte Base, eine Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Phosphonatgruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonogruppe (-PO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃H(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Alkylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Arylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe oder eine Nitrogruppe, wobei zumindest eines von R²⁰ bis R²⁴ eine Struktur aufweist, die durch die oben beschriebene allgemeine Formel (1), (2) oder (3) dargestellt wird.
Das Verfahren zum Einführen einer ungesättigten Gruppe, die aus den allgemeinen Formeln (1) bis (3) ausgewählt ist, in eine Seitenkette, die aus Styrolderivateinheiten besteht, umfasst die folgenden Verfahren, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.
Syntheseverfahren (1):
Ein Verfahren, in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, nachstehend durch die allgemeine Formel (6) dargestellt, miteinander copolymerisiert werden, oder in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, dargestellt durch die allgemeine Formel (6), mit zumindest einer oder mehreren anderen radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die keine der oben beschriebenen Gruppen aufweisen, copolymerisiert werden, um einen Vorläufer der gewünschten Polymerverbindung durch gewöhnliche Radikalpolymerisation zu synthetisieren, gefolgt von dessen Deprotonierung mit einer Base, um hierdurch Z zu eliminieren, um die gewünschte Polymerverbindung zu erhalten.
Ein Vorläufer der Polymerverbindung kann durch irgendwelche in der Technik bekannte Verfahren hergestellt werden, wie Suspensionspolymerisation oder Lösungspolymerisation. Das Copolymer kann in Form eines Blockcopolymers, eines statistischen Copolymers oder eines Pfropfpolymers aufgebaut werden.
In der obigen allgemeinen Formel (6) sind R¹, R² und R³ wie in Verbindung mit Formel (1) definiert, Ar stellt eine gegebenenfalls substituierte Styrylgruppe und α-Methylstyrylgruppe dar; Z¹ stellt eine anionische Eliminierungsgruppe dar; Q stellt ein Sauerstoffatom, -NH- oder -NR¹⁴- dar; R¹⁴ stellt ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe dar; und A stellt eine zweiwertige organische Verknüpfungsgruppe dar.
Die verwendbare radikalpolymerisierbare Verbindung, die durch die allgemeine Formel (6) dargestellt wird, umfasst die nachstehend beschriebenen Verbindungen, ohne jedoch hierauf beschränkt zu sein:
Die bei der Deprotonierung verwendete Base kann entweder eine anorganische oder organische Verbindung sein. Bevorzugte Beispiele der anorganischen Verbindung als Base umfassen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat und Kaliumbicarbonat, und bevorzugte Beispiele der organischen Verbindung als Base umfassen Metallalkoxide, wie Natriummethoxid, Natriumethoxid und Kalium-t-butoxid, und organische Aminverbindungen, wie Triethylamin, Pyridin und Diisopropylethylamin.
Syntheseverfahren (2):
Ein Verfahren, in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, die funktionelle Gruppen aufweisen, miteinander copolymerisiert werden, oder in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, die funktionelle Gruppen aufweisen, mit anderen radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die keine der oben beschriebenen Gruppen aufweisen, copolymerisiert werden, um eine Grundgerüst-Polymerverbindung (eine Polymerverbindung, die das Grundgerüst bildet) durch Radikalpolymerisation zu synthetisieren, gefolgt von Umsetzen der funktionellen Gruppen an ihren Seitenketten mit einer niedermolekularen Verbindung, die die Struktur der folgenden allgemeinen Formel (1B) oder der obigen allgemeinen Formel (2) aufweist, um die gewünschte Polymerverbindung zu erhalten.
Die Grundgerüst-Polymerverbindung kann durch irgendwelche in der Technik bekannte Verfahren hergestellt werden, wie Suspensionspolymerisation oder Lösungspolymerisation. Das Copolymer kann in Form eines Blockcopolymers, statistischen Copolymers oder Pfropfpolymers aufgebaut werden:
In der allgemeinen Formel (1B) haben R¹ bis R³ die gleichen Bedeutungen wie in der obigen allgemeinen Formel (1).
Bei den radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die funktionelle Gruppen aufweisen, umfassen die funktionellen Gruppen z.B. eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Carbonsäurehalogenidgruppe, eine Carbonsäureanhydridgruppe, eine Aminogruppe, eine halogenierte Alkylgruppe, eine Isocyanatgruppe, eine Epoxygruppe, eine Oxazolingruppe und eine Oximgruppe. Die radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die diese funktionellen Gruppen aufweisen, umfassen 4-Hydroxystyrol, 3-Hydroxymethylstyrol, 4-(2-Hydroxyethyl)styrol, 4-Chlormethylstyrol, 4-Carboxylstyrol, 4-Aminostyrol und 4-Methylaminostyrol.
Verbindungen, die die Gruppen aufweisen, die durch die allgemeine Formel (1B) dargestellt werden, umfassen z.B. 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylsäurechlorid, Methacrylsäurechlorid, Methacrylsäureanhydrid, N,N-Dimethyl-2-aminoethylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 3-Brompropylacrylat, 6-Bromhexylacrylat, 3-Brompropylmethacrylat, 6-Bromhexylmethacrylat, 2-Isocyanatethylmethacrylat, Glycidylacrylat und Glycidylmethacrylat.
In der Erfindung kann die spezifische alkalilösliche Polymerverbindung, die die Gruppe der Formel (2) in einer Seitenkette hiervon aufweist, durch zumindest eines der Syntheseverfahren, die nachstehend unter (3) und (4) gezeigt werden, hergestellt werden.
Syntheseverfahren (3):
Ein Verfahren, in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, die sowohl die durch die allgemeine Formel (2) dargestellte ungesättigte Gruppe als auch eine ethylenisch ungesättigte Gruppe, die bei der Additionspolymerisation reaktiver als besagte ungesättigte Gruppe ist, aufweisen, polymerisiert werden, falls notwendig, mit anderen radikalpolymerisierbaren Verbindungen, um die Polymerverbindung zu erhalten.
Die radikalpolymerisierbare Verbindung, die sowohl die durch die allgemeine Formel (2) dargestellte ungesättigte Gruppe als auch eine ethylenisch ungesättigte Gruppe, die bei der Additionspolymerisation reaktiver als besagte ungesättigte Gruppe ist, aufweist, die im Syntheseverfahren (3) verwendet wird, umfasst, z.B. 4-Aryloxystyrol, 4-(2-Aryloxy)ethylstyrol, 3-Aryloxymethylstyrol und 4-(N-Allyl)aminostyrol.
Syntheseverfahren (4):
Ein Verfahren, in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen, die eine funktionelle Gruppe aufweisen, polymerisiert werden, um die Polymerverbindung zu synthetisieren, die dann mit einer Verbindung umgesetzt wird, die eine funktionelle Seitenkettengruppe und die in der allgemeinen Formel (2B) gezeigte Struktur aufweist, um diese Verbindung in die Polymerverbindung einzuführen:
Die Polymerverbindung, die durch Polymerisieren von einer oder mehreren radikalpolymerisierbaren Verbindungen mit einer funktionellen Gruppe erhalten wird, umfasst z.B. die Verbindungen, die oben im Syntheseverfahren (2) angeführt sind.
Die Verbindung mit der in der allgemeinen Formel (2B) gezeigten Struktur, die in Synthesebeispiel 4 verwendet wird, umfasst z.B. Allylbromid, Allylalkohol, Allylamin, Diallylamin, 2-Aryloxyethylalkohol, 2-Chlor-1-buten und Allylisocyanat.
Die spezifische alkalilösliche Polymerverbindung, die in einer ihrer Seitenketten in der Erfindung die durch die allgemeine Formel (3) dargestellte Gruppe aufweist, kann durch das nachstehend gezeigte Syntheseverfahren (5) synthetisiert werden.
Syntheseverfahren (5):
Ein Verfahren, in dem eine oder mehrere radikalpolymerisierbare Verbindungen mit einer funktionellen Gruppe polymerisiert werden, um eine Polymerverbindung zu synthetisieren, und dann mit einer Verbindung mit einer funktionellen Seitenkettengruppe und der durch die allgemeine Formel (3B) dargestellten Struktur umgesetzt wird, um diese Verbindung in die Polymerverbindung einzuführen.
Die Polymerverbindung, die durch Polymerisieren einer oder mehrerer radikalpolymerisierbarer Verbindungen mit einer funktionellen Gruppe erhalten wird, umfasst die Verbindungen, die oben im Syntheseverfahren (2) beispielhaft genannt sind.
Die Verbindung mit der durch die allgemeine Formel (3B) dargestellten Struktur, die im Syntheseverfahren (5) verwendet wird, umfasst z.B. 2-Hydroxyethylmonovinylether, 4-Hydroxybutylmonovinylether, Diethylenglykolmonovinylether, 2-Chlorethylvinylether, 4-Hydroxystyrol, 3-Hydroxymethylstyrol, 4-(2-Hydroxyethyl)styrol, 4-Chlormethylstyrol, 4-Carboxystyrol, 4-Aminostyrol und 4-Methylaminostyrol.
Das spezifische, in alkalischem Wasser lösliche Polymer kann auch durch Verwendung eines dieser Herstellungsverfahren (Syntheseverfahren) oder einer Kombination hiervon erhalten werden.
Darüber hinaus kann die durch die allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellte strukturelle Einheit, die eine Seitenketten-"Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung" aufweist, Materialien ausser der durch die Formel (5) dargestellten Styrolderivat-Struktureinheit enthalten.
Spezifische Beispiele hiervon umfassen diejenigen, die in der japanischen Patentanmeldung Nr. 2000-249569 offenbart sind.
Die resultierenden spezifischen, in alkalischem Wasser löslichen Polymere können allein oder in Kombination hiervon in dem erfindungsgemässen bilderzeugenden Material enthalten sein.
Der Gehalt an "einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung der Seitenkette" wird vorzugsweise auf nicht weniger als 1,5 mäq/g, stärker bevorzugt 1,5 bis 7,0 mäq/g, eingestellt, wenn es durch die Äquivalenzzahl je 1 g Polymerverbindung dargestellt wird. Wenn der Gehalt kleiner als 1,5 mäq/g ist, wird die Härtungseigenschaft unzureichend, was zu einem Versagen beim Bereitstellen ausreichender Bildintensität führt. Wenn der Gehalt höher als 7,0 mäq/g ist, ist die Lagerungsstabilität verringert.
Um die Glasübergangstemperatur höher einzustellen, ist es wirksam, es der erfindungsgemässen Polymerverbindung zu ermöglichen, zumindest eine Amidgruppe in deren Seitenkette zu enthalten. Hier ist die Seitenketten-Amidgruppe ebenfalls wirksam, um die Eigenschaften, wie die Druckbeständigkeit und die Fähigkeit zum Entfernen des Nicht-Bildbereichs, zu verbessern.
Eine bevorzugte Seitenketten-Amidgruppe wird durch die folgende Formel (1) dargestellt:
R²¹ und R²² stellen unabhängig eine einwertige organische Gruppe dar. Vorzugsweise stellen diese ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische Gruppe oder eine alicyclische Gruppe dar, und R²¹ und R²² können miteinander verbunden sein, um eine Ringstruktur zu bilden.
Beispiele der Alkylgruppe umfassen eine geradkettige, eine verzweigte und eine cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen; und spezifische Beispiele umfassen eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe, eine Dodecylgruppe, eine Tridecylgruppe, eine Hexadecylgruppe, eine Octadecylgruppe, eine Eicosylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine s-Butylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylbutylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe. Unter diesen werden eine geradkettige Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine ringförmige Alkylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen stärker bevorzugt verwendet.
Als Substituenten der substituierten Alkylgruppe werden einwertige Gruppen von Nicht-Metallatomen, ausser einem Wasserstoffatom, verwendet, und bevorzugte Beispiele hiervon umfassen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylamino-Gruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxy-Gruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkylacylaminogruppe, eine N-Arylacylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine N'-Alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkylureidogruppe, eine N'-Arylureidogruppe, eine N',N'-Diarylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureido-Gruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Aryl-N-arylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N',N'-Diaryl-N-arylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureido-Gruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureido-Gruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Alkyl-N-arylalkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylamino-Gruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylamino-Gruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und ihre konjugierte Base (nachstehend als Sulfonatgruppe bezeichnet); eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoyl-Gruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppe, eine Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Phosphonatgruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)₂: Alkyl=Alkyl-Gruppe, dasselbe gilt in der nachfolgenden Beschreibung), eine Diarylphosphonogruppe (-PO₃(Aryl)₂: Aryl=Aryl-Gruppe, dasselbe gilt in der nachfolgenden Beschreibung), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachfolgend als Alkylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachfolgend als Arylphosphonatgruppe bezeichnet), eine Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Alkyl)₂), eine Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Aryl)₂), eine Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(Alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(Aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (nachstehend als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine heterocyclische Gruppe, eine Silylgruppe usw.
In bezug auf die spezifischen Beispiele der Alkylgruppen in diesen Substituenten werden die vorstehend erwähnten Alkylgruppen angeführt, und spezifische Beispiele von Arylgruppen umfassen eine Phenylgruppe, eine Bephenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cumenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Hydroxylphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Ethoxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Acetoxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Phenylthiophenylgruppe, eine Methylaminophenylgruppe, eine Dimethylaminophenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Ethoxyphenylcarbonylgruppe, eine Phenoxycarbonylphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoylphenylgruppe, eine Cyanophenylgruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatphenylgruppe, eine Phosphonophenylgruppe, eine Phosphonatphenylgruppe usw.
Darüber hinaus umfassen Beispiele der Alkenylgruppe eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine Cinnamylgruppe, eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe usw., und Beispiele der Alkinylgruppe umfassen eine Ethenylgruppe, eine 1-Propinylgruppe, eine 1-Butinylgruppe, eine Trimethylsilylethenylgruppe, usw.
Beispiele für R01 in der Acylgruppe (R01CO-) umfassen ein Wasserstoffatom und die vorstehend erwähnten Alkylgruppen und Arylgruppen. Unter diesen Substituenten umfassen stärker bevorzugte Beispiele ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine Acylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyl-Gruppe, eine Sulfogruppe, eine Sulfonatgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfamoyl-Gruppe, eine Phosphonogruppe, eine Phosphonatgruppe, eine Dialkylphosphonogruppe, eine Diarylphosphonogruppe, eine Monoalkylphosphonogruppe, eine Alkylphosphonatgruppe, eine Monoarylphosphonogruppe, eine Arylphosphonogruppe, eine Phosphonoxygruppe, eine Phosphonatoxygruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe usw.
Beispiele für heterocyclische Gruppen umfassen eine Pyridylgruppe, eine Piperidylgruppe usw. Beispiele für Silylgruppen umfassen eine Trimethylsilylgruppe usw.
Hier sind in bezug auf die Alkylengruppen in der substituierten Alkylgruppe solche bevorzugt, von denen irgendeines der Wasserstoffatome an der vorstehend erwähnten Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen entfernt ist, um zweiwertige organische Reste zu bilden, und bevorzugte Beispiele umfassen geradkettige Alkylengruppen mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, verzweigte Alkylengruppen mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und cyclische Alkylengruppen mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen. Bevorzugte Beispiele substituierter Alkylgruppen, die durch Kombinieren dieser Substituenten und Alkylengruppen erhalten werden, umfassen eine Chlormethylgruppe, eine Brommethylgruppe, eine 2-Chlormethylgruppe, eine Trifluormethylgruppe, eine Methoxymethylgruppe, eine Isopropoxymethylgruppe, eine Butoxymethylgruppe, eine s-Butoxybutylgruppe, eine Methoxyethoxyethylgruppe, eine Aryloxymethylgruppe, eine Phenoxymethylgruppe, eine Methylthiomethylgruppe, eine Tolylthiomethylgruppe, eine Pyridylmethylgruppe, eine Tetramethylpiperidinylmethylgruppe, eine N-Acetyltetramethylpiperidinylmethylgruppe, eine Trimethylsilylmethylgruppe, eine Methoxyethylgruppe, eine Ethylaminoethylgruppe, eine Diethylaminopropylgruppe, eine Morpholinopropylgruppe, eine Acetyloxymethylgruppe, eine Benzoyloxymethylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyethylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyethylgruppe, eine Acetylaminoethylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminopropylgruppe, eine 2-Oxoethylgruppe, eine 2-Oxopropylgruppe, eine Carboxypropylgruppe, eine Methoxycarbonylethylgruppe, eine Allyloxycarbonylbutylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylmethylgruppe, eine Carbamoylmethylgruppe, eine N-Methylcarbamoylethylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylmethylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylethylgruppe, eine N-Methyl-N-(sulfonyl)carbamoylmethyl-Gruppe, eine Sulfobutylgruppe, eine Sulfonatbutylgruppe, eine Sulfamoylbutylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylmethylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylpropylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-Gruppe, eine Phosphonobutylgruppe, eine Phosphonathexylgruppe, eine Diethylphosphonobutylgruppe, eine Diphenylphosphonopropylgruppe, eine Methylphosphonobutylgruppe, eine Methylphosphonatbutylgruppe, eine Tolylphosphonohexylgruppe, eine Tolylphosphonathexylgruppe, eine Phosphonoxypropylgruppe, eine Phosphonatoxybutylgruppe, eine Benzylgruppe, eine Phenethylgruppe, eine α-Methylbenzylgruppe, eine 1-Methyl-1-phenylethyl-Gruppe, eine p-Methylbenzylgruppe, eine Cinnamylgruppe, eine Allylgruppe, eine 1-Propenylmethylgruppe, eine 2-Butenylgruppe, eine 2-Methylallylgruppe, eine 2-Methylpropenylmethylgruppe, eine 2-Propinylgruppe, eine 2-Butinylgruppe, eine 3-Butinylgruppe usw.
Als nächstes werden bezüglich der Arylgruppen, die als R¹ bis R⁷ dienen, diejenigen, bei denen ein bis drei Benzolringe einen kondensierten Ring bilden, und diejenigen, bei denen ein Benzolring und ein 5-gliedriger ungesättigter Ring einen kondensierten Ring bilden, aufgeführt, und spezifische Beispiele hiervon umfassen eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe, eine Anthrylgruppe, eine Phenanthrylgruppe, eine Indenylgruppe, eine Acetonaphthylgruppe, eine Fluorenylgruppe usw., und unter diesen werden vorzugsweise eine Phenylgruppe und eine Naphthylgruppe verwendet.
Bezüglich der substituierten Arylgruppen werden solche verwendet, bei denen eine Gruppe, die aus einer einwertigen nicht-metallischen atomaren Gruppe, ausser Wasserstoffatomen, besteht, an ringbildenden Kohlenstoffatomen der vorstehend erwähnten Arylgruppe als Substituentengruppe plaziert ist. Beispiele bevorzugter Substituenten umfassen die vorstehend erwähnten Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen und diejenigen, die zuvor als Substituenten in substituierten Alkylgruppen beschrieben sind. Spezifische Beispiele bevorzugter substituierter Arylgruppen umfassen eine Biphenylgruppe, eine Tolylgruppe, eine Xylylgruppe, eine Mesitylgruppe, eine Cummenylgruppe, eine Chlorphenylgruppe, eine Bromphenylgruppe, eine Fluorphenylgruppe, eine Chlormethylphenylgruppe, eine Trifluormethylphenylgruppe, eine Hydroxyphenylgruppe, eine Methoxyphenylgruppe, eine Methoxyethoxyphenylgruppe, eine Allyloxyphenylgruppe, eine Phenoxyphenylgruppe, eine Methylthiophenylgruppe, eine Tolylthiophenylgruppe, eine Ethylaminophenylgruppe, eine Diethylaminophenylgruppe, eine Morpholinophenylgruppe, eine Acetyloxyphenylgruppe, eine Benzoyloxyphenylgruppe, eine N-Cyclohexylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine N-Phenylcarbamoyloxyphenylgruppe, eine Acetylaminophenylgruppe, eine N-Methylbenzoylaminophenylgruppe, eine Carboxyphenylgruppe, eine Methoxycarbonylphenylgruppe, eine Allyloxycarbonylphenylgruppe, eine Chlorphenoxycarbonylphenylgruppe, eine Carbamoylphenylgruppe, eine N-Methylcarbamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylcarbamoylphenylgruppe, eine N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(sulfonyl)carbamoylphenyl-Gruppe, eine Sulfophenylgruppe, eine Sulfonatphenylgruppe, eine Sulfamoylphenylgruppe, eine N-Ethylsulfamoylphenylgruppe, eine N,N-Dipropylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Tolylsulfamoylphenylgruppe, eine N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-Gruppe, eine Phosphonophenylgruppe, eine Phosphonatphenylgruppe, eine Diethylphosphonophenylgruppe, eine Diphenylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonophenylgruppe, eine Methylphosphonatphenylgruppe, eine Tolylphosphonophenylgruppe, eine Tolylphosphonatphenylgruppe, eine Allylphenylgruppe, eine 1-Propenylmethylphenylgruppe, eine 2-Butenylphenylgruppe, eine 2-Methylallylphenylgruppe, eine 2-Methylpropenylphenylgruppe, eine 2-Propinylphenylgruppe, eine 2-Butinylphenylgruppe, eine 3-Butinylphenylgruppe usw.
In bezug auf die Alkenylgruppe, die substituierte Alkenylgruppe, die Alkinylgruppe und die substituierte Alkinylgruppe (-C(R02)=C(R03)(R04) und -C≡C(R05) können solche Gruppen verwendet werden, bei denen R02, R03, R04 und R05 durch eine einwertige, nicht-metallische, atomare Gruppe aufgebaut werden. Beispiele von bevorzugten R02, R03, R04 und R05 umfassen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, eine Arylgruppe und eine substituierte Arylgruppe usw. Spezifische Beispiele von diesen umfassen die gleichen Materialien, wie sie in den vorstehend erwähnten Beispielen beschrieben sind. Stärker bevorzugte Beispiele von R02, R03, R04 und R05 umfassen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom und geradkettige, verzweigte und cyclische Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen. Beispiele der bevorzugten Alkenylgruppe, der substituierten Alkenylgruppe, der Alkinylgruppe und der substituierten Alkinylgruppe, die durch R¹ bis R⁷ dargestellt werden, umfassen eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine 1-Pentenylgruppe, eine 1-Hexenylgruppe, eine 1-Octenylgruppe, eine 1-Methyl-1-propenyl-Gruppe, eine 2-Methyl-1-propenyl-Gruppe, eine 2-Methyl-1-butenyl-Gruppe, eine 2-Phenyl-1-ethenyl-Gruppe, eine 2-Chlor-1-ethenyl-Gruppe, eine Ethenylgruppe, eine 1-Propinylgruppe, eine 1-Butinylgruppe und eine Phenylethenylgruppe.
Bezüglich der Ringe, die durch Verbinden von R¹ und R² in der allgemeinen Formel (1) miteinander gebildet werden, umfassen Beispiele hiervon Morpholin, Piperazin, Pyrrolidin, Pyrrol und Indolin. Diese können durch die oben erwähnten Substituenten substituiert sein. Unter diesen werden solche, die einen aliphatischen Ring aufweisen, bevorzugt verwendet.
In bezug auf R¹ und R² in Formel (1) werden ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Arylgruppe bevorzugt verwendet. Darüber hinaus können R¹ und R² vorzugsweise einen aliphatischen Ring bilden.
Stärker bevorzugte Beispiele umfassen Acrylamide, wie Acrylamid und N-Alkylacrylamid (z.B. N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Propylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Morpholylacrylamid, Piperidylacrylamid, N-Butylacrylamid, N-sek-Butylacrylamid, N-t-Butylacrylamid, N-Hexylacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Naphthylacrylamid, N-Hydroxymethylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Allylacrylamid, N-Propargylacrylamid, 4-Hydroxyphenylacrylamid, 2-Hydroxyphenylacrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N,N-Diethylacrylamid, N,N-Dipropylacrylamid, N,N-Diisopropylacrylamid, N,N-Dibutylacrylamid, N,N-Di-sek-butylacrylamid, N,N-Di-t-butylacrylamid, N,N-Dihexylacrylamid, N,N-Dicyclohexylacrylamid, N,N-Phenylacrylamid, N,N-Dihydroxyethylacrylamid, N,N-Diallylacrylamid, N,N-Dipropargylacrylamid usw.,
Methacrylamide, wie Methacrylamid und N-Alkylmethacrylamid (z.B. N-Methylacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Propylmethacrylamid, N-Isopropylmethacrylamid, Morpholylmethacrylamid, Piperidylmethacrylamid, N-Butylmethacrylamid, N-sek-Butylmethacrylamid, N-t-Butylmethacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Naphthylmethacrylamid, N-Hydroxymethylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Allylmethacrylamid, N-Propargylmethacrylamid, 4-Hydroxyphenylmethacrylamid, 2-Hydroxyphenylmethacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N,N-Diethylmethacrylamid, N,N-Dipropylmethacrylamid, N,N-Diisopropylmethacrylamid, N,N-Dibutylmethacrylamid, N,N-Di-sek-butylmethacrylamid, N,N-Di-t-butylmethacrylamid, N,N-Dihexylmethacrylamid, N,N-Dicyclohexylmethacrylamid, N,N-Phenylmethacrylamid, N,N-Dihydroxyethylmethacrylamid, N,N-Diallylmethacrylamid, N,N-Dipropargylmethacrylamid usw.).
Um verschiedene Eigenschaften, wie die Bildfestigkeit, zu verbessern, kann das erfindungsgemässe spezifische, in alkalischem Wasser lösliche Polymer in einer bevorzugten Ausführungsform nicht nur mit radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die die oben beschriebenen, spezifischen, funktionellen Gruppen aufweisen, copolymerisiert werden, sondern auch mit anderen radikalpolymerisierbaren Verbindungen, solange die Wirkung der Erfindung nicht beeinträchtigt wird.
Die radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die mit dem spezifischen, in alkalischem Wasser löslichen Polymer in der Erfindung copolymerisiert werden können, umfassen z.B. radikalpolymerisierbare Verbindungen, die aus Acrylsäureestern, Methacrylaten, Acrylamiden, Methacrylamiden, Styrol und dessen Analogen, Acrylonitrilen und Methacrylonitrilen ausgewählt werden.
Spezifisch umfassen die radikalpolymerisierbaren Verbindungen z.B.
Acrylsäurester, wie Alkylacrylat, dessen Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome umfasst (spezifisch z.B. Benzylacrylat, 4-Biphenylacrylat, Butylacrylat, sek-Butylacrylat, 4-t-Butylphenylacrylat, 4-Chlorphenylacrylat, Pentachlorphenylacrylat, 4-Cyanobenzylacrylat, Cyanomethylacrylat, Cyclohexylacrylat, 2-Ethoxyethylacrylat, Ethylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Heptylacrylat, Hexylacrylat, Isoboronylacrylat, Isopropylacrylat, Methylacrylat, 3,5-Dimethyladamantylacrylat, 2-Naphthylacrylat, Neopentylacrylat, Octylacrylat, Phenethylacrylat, Phenylacrylat, Propylacrylat, Tolylacrylat, Amylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 3-Hydroxypropylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Allylacrylat, 2-Aryloxyethylacrylat, Propargylacrylat usw.),
Methacrylate, wie Alkylmethacrylat, dessen Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome umfasst (z.B. Benzylmethacrylat, 4-Biphenylmethacrylat, Butylmethacrylat, sek-Butylmethacrylat, t-Butylmethacrylat, 4-t-Butylphenylmethacrylat, 4-Chlorphenylmethacrylat, Pentachlorphenylmethacrylat, 4-Cyanophenylmethacrylat, Cyanomethylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, 2-Ethoxyethylmethacrylat, Ethylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Heptylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Isoboronylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, Methylmethacrylat, 3,5-Dimethyladamantylmethacrylat, 2-Naphthylmethacrylat, Neopentylmethacrylat, Octylmethacrylat, Phenethylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Propylmethacrylat, Tolylmethacrylat, Amylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 3-Hydroxypropylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, Alkylmethacrylat, 2-Aryloxyethylmethacrylat, Propargylmethacrylat usw.),
Acrylamide, wie Acrylamid und N-Alkylacrylamid (z.B. N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Propylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Morpholylacrylamid, Piperidylacrylamid, N-Butylacrylamid, N-sek-Butylacrylamid, N-t-Butylacrylamid, N-Hexylacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Naphthylacrylamid, N-Hydroxymethylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Allylacrylamid, N-Propargylacrylamid, 4-Hydroxyphenylacrylamid, 2-Hydroxyphenylacrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N,N-Diethylacrylamid, N,N-Dipropylacrylamid, N,N-Diisopropylacrylamid, N,N-Dibutylacrylamid, N,N-Di-sek-butylacrylamid, N,N-Di-t-butylacrylamid, N,N-Dihexylacrylamid, N,N-Dicyclohexylacrylamid, N,N-Phenylacrylamid, N,N-Dihydroxyethylacrylamid, N,N-Diallylacrylamid, N,N-Dipropargylacrylamid usw.),
Methacrylamide, wie Methacrylamid und N-Alkylmethacrylamid (z.B. N-Methylmethacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Propylmethacrylamid, N-Isopropylmethacrylamid, Morpholylmethacrylamid, Piperidylmethacrylamid, N-Butylmethacrylamid, N-sek-Butylmethacrylamid, N-t-Butylmethacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Naphthylmethacrylamid, N-Hydroxymethylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Allylmethacrylamid, N-Propargylmethacrylamid, 4-Hydroxyphenylmethacrylamid, 2-Hydroxyphenylmethacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N,N-Diethylmethacrylamid, N,N-Dipropylmethacrylamid, N,N-Diisopropylmethacrylamid, N,N-Dibutylmethacrylamid, N,N-Di-sek-butylmethacrylamid, N,N-Di-t-butylmethacrylamid, N,N-Dihexylmethacrylamid, N,N-Dicyclohexylmethacrylamid, N,N-Phenylmethacrylamid, N,N-Dihydroxyethylmethacrylamid, N,N-Diallylmethacrylamid, N,N-Dipropargylmethacrylamid usw.) und
Styrol und Analoge hiervon, wie Alkylstyrol (z.B. Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Diethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol usw.), Alkoxystyrol (z.B. Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol, Dimethoxystyrol usw.), Halogenstyrol (z.B. Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol, 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol usw.), Acrylnitril, Methacrylnitril usw.
Unter diesen radikalpolymerisierbaren Verbindungen werden bevorzugt Methacrylate, Acrylamide, Methacrylamide und Styrol und Analoge hiervon verwendet, und besonders bevorzugt werden Benzylmethacrylat, t-Butylmethacrylat, 4-t-Butylphenylmethacrylat, Pentachlorphenylmethacrylat, 4-Cyanophenylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Ethylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Isoboronylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, Methylmethacrylat, 3,5-Dimethyladamantylmethacrylat, 2-Naphthylmethacrylat, Neopentylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 3-Hydroxypropylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, Allylmethacrylat,
Acrylamide, N-Methylacrylamid, N-Isopropylacrylamid, Morpholylacrylamid, Piperidylacrylamid, N-t-Butylacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Naphthylacrylamid, N-Hydroxymethylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Allylacrylamid, 4-Hydroxyphenylacrylamid, 2-Hydroxyphenylacrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N,N-Diisopropylacrylamid, N,N-Di-t-butylacrylamid, N,N-Dicyclohexylacrylamid, N,N-Phenylacrylamid, N,N-Dihydroxyethylacrylamid, N,N-Diallylacrylamid,
Methacrylamid, N-Methylmethacrylamid, N-Isopropylmethacrylamid, Morpholylmethacrylamid, Piperidylmethacrylamid, N-t-Butylmethacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Naphthylmethacrylamid, N-Hydroxymethylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Allylmethacrylamid, 4-Hydroxyphenylmethacrylamid, 2-Hydroxyphenylmethacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N,N-Diisopropylmethacrylamid, N,N-Di-t-butylmethacrylamid, N,N-Dicyclohexylmethacrylamid, N,N-Phenylmethacrylamid, N,N-Dihydroxyethylmethacrylamid, N,N-Diallylmethacrylamid,
Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Cyclohexylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol, Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol und 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol verwendet.
Diese können allein oder in Kombinationen hiervon verwendet werden, und der Gehalt dieser copolymerisierbaren Komponenten beträgt 0 bis 90 mol-% der Monomereinheiten, die das Polymer (A) bilden, insbesondere bevorzugt 0 bis 60 mol-%. Wenn der Gehalt höher als 60 mol-% ist, weist der gehärtete Film eine schlechte Festigkeit auf.
Das erfindungsgemässe, spezifische, in alkalischem Wasser lösliche Polymer kann mit radikalpolymerisierbaren Verbindungen copolymerisiert werden, die eine Säuregruppe aufweisen, um verschiedene Leistungseigenschaften zu verbessern, wie die Fähigkeit, den Nicht-Bildbereich zu entfernen. Beispiele solcher Säuregruppen umfassen eine Carbonsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe, eine Phosphorsäuregruppe und eine phenolische Hydroxylgruppe, besonders bevorzugt eine Carbonsäuregruppe und eine phenolische Hydroxylgruppe. Die radikalpolymerisierbare Verbindung mit einer Carbonsäuregruppe umfasst z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure, und p-Carboxystyrol, unter denen Acrylsäure, Methacrylsäure und p-Carboxystyrol besonders bevorzugt sind.
Die radikalpolymerisierbare Verbindung mit einer phenolischen Hydroxylgruppe umfasst 4-Hydroxystyrol.
Diese können allein oder in Kombinationen hiervon verwendet werden, und um die Schädigung der Festigkeit eines Bildes durch die Entwicklung mit einer wässrigen alkalischen Lösung zu vermeiden, beträgt der Gehalt dieser copolymerisierbaren Komponenten vorzugsweise 0 bis 50 mol-% der Monomereinheiten, die das Polymer (A) bilden, insbesondere bevorzugt 0 bis 40 mol-%. Wenn der Gehalt höher als 40 mol-% ist, wird die Festigkeit eines Bildes leicht durch die Entwicklung mit einer wässrigen alkalischen Lösung beschädigt.
Das für die Synthese solcher Polymerverbindungen verwendete Lösungsmittel umfasst z.B. Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat. 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat und Ethyllactat.
Diese Lösungsmittel können allein oder als Mischung hiervon verwendet werden.
Das gewichtsgemittelte Molekulargewicht der in dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial verwendeten Polymerverbindung beträgt vorzugsweise 6.000 oder mehr, stärker bevorzugt im Bereich von 50.000 bis 200.000. Wenn das Molekulargewicht weniger als 6.000 beträgt, verringert sich die Glasübergangstemperatur, und die Bildintensität wird unzureichend, was zu einem unerwünschten Zustand führt. Wenn das Molekulargewicht grösser als 200.000 ist, ist die Entwicklungsleistung verringert.
Ferner kann das erfindungsgemässe, spezifische, in alkalischem Wasser lösliche Polymer auch nicht-reagierte Monomere enthalten. In diesem Fall beträgt das Verhältnis der Monomere zu der Polymerverbindung wünschenswerterweise 15 Gew.-% oder weniger.
Die erfindungsgemässe Polymerverbindung kann allein oder in Kombinationen hiervon verwendet werden. In diesem Fall beträgt die Menge anderer Polymerverbindungen, die nicht von (A) dem erfindungsgemässen, spezifischen, in alkalischem Wasser löslichen Polymer umfasst sind, 80 Gew.-% oder weniger, stärker bevorzugt 50 Gew.-% oder weniger, in der Polymerverbindung.
Der Feststoffgehalt von (A) dem spezifischen alkalilöslichen Polymer in dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial beträgt etwa 5 bis 95 Gew.-%, bevorzugt etwa 10 bis 85 Gew.-%. Wenn der Gehalt weniger als 5 Gew.-% beträgt, weist der Bildteil, in dem ein Bild erzeugt worden ist, eine schlechte Festigkeit auf. Wenn der Gehalt andererseits höher als 95 Gew.-% ist, wird kein Bild erzeugt.
(B) Licht/Wärme-Umwandlungsmittel:
Das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial wird bei der Aufzeichnung durch Belichtung im Wärmemodus verwendet, typischerweise mit einem Laser, der Infrarotstrahlen emittiert, und somit ist die Verwendung eines Licht/Wärme-Umwandlungsmittels unabdingbar. Das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel hat die Funktion, Licht bei einer vorbestimmten Wellenlänge zu absorbieren, um es in Wärme umzuwandeln. Durch die so gebildete Wärme wird die später beschriebene Komponente (C), d.h. eine Verbindung, die bei der Wärmemodusbelichtung mit Licht einer Wellenlänge, die von (B) dem Licht/Wärme-Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, Radikale bildet, zersetzt, um Radikale zu bilden.
Das in der Erfindung verwendete Licht/Wärme-Umwandlungsmittel bildet bei der Bestrahlung mit Lichtenergie, die bei der Aufzeichnung verwendet wird, Wärme. Unter dem Gesichtspunkt der Kompatibilität mit einem leicht erhältlichen Hochenergielaser ist das in der Erfindung verwendete Licht/Wärme-Umwandlungsmittel ein Infrarotstrahlung absorbierender Farbstoff oder ein Pigment mit einem Absorptionsmaximum bei Wellenlängen zwischen 760 und 1.200 nm.
Der Farbstoff kann irgendeiner von käuflichen Farbstoffen sein, einschliesslich bekannter Farbstoffe, die in "Senryo Binran" (Dye Handbook) (veröffentlicht 1970 und zusammengestellt von der Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan) beschrieben sind. Beispiele solcher Farbstoffe umfassen Azofarbstoffe, Metallkomplexsalz-Azofarbstoffe, Pyrazolonazofarbstoffe, Naphthochinonfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumsalze, Metallthiolatkomplexe, Oxonolfarbstoffe, Diimoniumfarbstoffe, Aminiumfarbstoffe und Crotoniumfarbstoffe.
Bevorzugte Beispiele umfassen z.B. die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-125246, 59-84356, 59-202829, 60-78787 usw. beschrieben sind, die Methinfarbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-173696, 58-181690, 58-194595 usw. beschrieben sind, die Naphthochinonfarbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940, 60-63744 usw. beschrieben sind, die Squaryliumfarbstoffe, die in JP-A Nrn. 58-112792 usw. beschrieben sind und die Cyaninfarbstoffe, die in GB-PS 434 875 beschrieben sind.
Ferner wird auch der Nahinfrarotstrahlung-absorbierende Sensibilisator, der in US-PS 5 156 938 beschrieben ist, bevorzugt verwendet, und auch die substituierten Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die in US-PS 3 881 924 beschrieben sind, die Trimethylthiapyryliumsalze, die in JP-A-57-142645 (US-PS 4 327 169) beschrieben sind, die Verbindungen vom Pyryliumtyp, die in JP-A- Nrn. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063 und 59-146061 beschrieben sind, die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-59-216146 beschrieben sind, die Pentamethinthiopyryliumsalze, die in US-PS 4 283 475 beschrieben sind, und die Pyryliumverbindungen, die in JP-B Nrn. 5-13514 und 5-19702 beschrieben sind, werden bevorzugt verwendet.
Andere bevorzugte Beispiele von Farbstoffen umfassen die Nahinfrarotstrahlung-absorbierenden Farbstoffe der Formeln (I) und (II), die in US-PS 4 756 993 beschrieben sind.
Unter diesen Farbstoffen sind Cyaninpigmente, Phthalocyaninfarbstoffe, Oxanolfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumsalze, Thiopyryliumfarbstoffe und Nickelthiolatkomplexe besonders bevorzugt. Ferner sind die nachstehend durch die allgemeinen Formeln (a) bis (e) dargestellten Farbstoffe wegen der hohen Licht/Wärme-Umwandlungseffizienz bevorzugt, wovon die Cyaninfarbstoffe, die nachstehend durch die allgemeine Formel (a) dargestellt werden, am stärksten bevorzugt sind, weil, wenn sie in der erfindungsgemässen polymerisierbaren Zusammensetzung verwendet werden, die Cyaninfarbstoffe eine hohe Polymerisationsaktivität ergeben, sie ökonomisch sind und eine herausragende Stabilität aufweisen.
Allgemeine Formel (a)
In der allgemeinen Formel (a) stellt X¹ ein Wasserstoffatom, Halogenatom, -NPh₂, X²-L¹ oder die nachstehend gezeigte Gruppe dar. X² stellt ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelstoffatom dar, L¹ stellt einen C_1-12-Kohlenwasserstoff, einen aromatischen Ring mit einem Heteroatom und eine C_1-12-Kohlenwasserstoffgruppe, die ein Heteroatom enthält, dar. Das Heteroatom bezieht sich auf N, S, O, ein Halogenatom oder Se.
R_a ¹ und R_a ² stellen unabhängig eine C_1-12-Kohlenwasserstoffgruppe dar. Wegen der Lagerungsstabilität der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht ist vorzugsweise jedes von R_a ¹ und R_a ² eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 oder mehr Kohlenstoffatomen, und stärker bevorzugt sind R_a ¹ und R_a ² miteinander verbunden, um einen 5- oder 6-gliedrigen Ring zu bilden.
Ar¹ und Ar² können gleich oder verschieden sein und sie stellen eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann. Die aromatische Kohlenwasserstoffgruppe ist vorzugsweise ein Benzolring oder ein Naphthalinring. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen oder ein Halogenatom oder eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Y¹ und Y² können gleich oder verschieden sein und sie stellen ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R_a ³ und R_a ⁴ können gleich oder verschieden sein, und sie stellen eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, oder eine Carboxylgruppe oder eine Sulfogruppe. R_a ⁵, R_a ⁶, R_a ⁷ und R_a ⁸ können gleich oder verschieden sein und sie stellen ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. Jedes von R_a ⁵, R_a ⁶, R_a ⁷ und R_a ⁸ ist vorzugsweise ein Wasserstoffatom, weil das Ausgangsmaterial leicht erhältlich ist. Z_a ^– stellt ein Gegenion dar. Wenn irgendeines von R_a ¹ bis R_a ⁸ mit einer Sulfogruppe substituiert ist, ist Z_a ^– nicht erforderlich. Wegen der Lagerungsstabilität der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht ist Z_a ^– vorzugsweise ein Halogenion, ein Perchloration, ein Tetrafluorboration, ein Hexafluorphosphation und ein Sulfonation, insbesondere bevorzugt ein Perchloration, ein Hexafluorphosphation und ein Arylsulfonation.
Beispiele der durch die allgemeine Formel (a) dargestellten Cyaninfarbstoffe, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden können, umfassen diejenigen, die in den Absätzen [0017] bis [0019] von JP-A-11-310623, den Absätzen [0012] bis [0038] der japanischen Patentanmeldung 2000-224031 und den Absätzen [0012] bis [0023] der japanischen Patentanmeldung 2000-211147 beschrieben sind, zusätzlich zu den nachstehend veranschaulichten.
Allgemeine Formel (b)
In der allgemeinen Formel (b) stellt L eine Methinkette dar, die 7 oder mehr konjugierte Kohlenstoffatome enthält, und die Methinkette kann Substituentengruppen aufweisen, und die Substituentengruppen können miteinander verbunden sein, um eine Ringstruktur zu bilden. Z_b ^– stellt ein Gegenkation dar. Das Gegenkation ist vorzugsweise ein Ammonium-, Iodonium-, Sulfonium-, Phosphonium-, Pyridinium- und Alkalimetallkation (Na⁺, K⁺, Li⁺). R_b ⁹ bis R_b ¹⁴ und R_b ¹⁵ bis R_b ²⁰ stellen unabhängig eine Substituentengruppe dar, die aus einem Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Carbonylgruppe, einer Thiogruppe, einer Sulfonylgruppe, einer Sulfinylgruppe, einer Oxygruppe und einer Aminogruppe ausgewählt ist, oder eine Substituentengruppe, in der zwei oder drei Substituentengruppen miteinander verbunden sind, um eine Ringstruktur zu bilden. Die Verbindungen der allgemeinen Formel (b), bei denen L eine Methinkette mit 7 konjugierten Kohlenstoffatomen darstellt, oder in denen R_b ⁹ bis R_b ¹⁴ und R_b ¹⁵ bis R_b ²⁰ alle ein Wasserstoffatom darstellen, sind angesichts der leichten Verfügbarkeit und der Wirkung bevorzugt.
Beispiele der Farbstoffe, die durch die allgemeine Formel (b) dargestellt werden, die erfindungsgemäss bevorzugt verwendet werden können, umfassen die nachstehend veranschaulichten:
Allgemeine Formel (c)
In der allgemeinen Formel (c) stellen Y³ und Y⁴ jeweils ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, ein Selenatom oder ein Telluratom dar; M stellt eine Methinkette, die 5 oder mehr konjugierte Kohlenstoffatome enthält, dar; R_c ²¹ bis R_c ²⁴ und R_c ²⁵ bis R_c ²⁸ können gleich oder verschieden sein und sie stellen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, einen Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Carbonylgruppe, eine Thiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Oxygruppe und eine Aminogruppe dar; und Z_a ^– stellt ein Gegenanion dar und hat die gleiche Bedeutung, wie oben für Z_a ^– in der allgemeinen Formel (a) definiert.
Beispiele der Farbstoffe, die durch die allgemeine Formel (c) dargestellt werden, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden können, umfassen die nachstehend veranschaulichten:
Allgemeine Formel (d)
In der allgemeinen Formel (d) stellen R²⁹ bis R³¹ unabhängig ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe dar; R³³ und R³⁴ stellen unabhängig eine Alkylgruppe, eine substituierte Oxygruppe oder ein Halogenatom dar; n und m stellen unabhängig eine ganze Zahl von 0 bis 4 dar; R²⁹ und R³⁰ oder R³¹ und R³² können miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden, oder R²⁹ und/oder R³⁰ können mit R³³ verbunden sein, oder R³¹ und/oder R³² können mit R³⁴ verbunden sein, um einen Ring zu bilden, und wenn eine Mehrzahl von R³³- oder R³⁴-Gruppen vorliegt, können die R³³-Gruppen oder R³⁴-Gruppen gegenseitig miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden; X² und X³ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe dar, und zumindest eines von X² und X³ stellt ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe dar; Q ist eine gegebenenfalls substituierte Trimethingruppe oder Pentamethingruppe, die mit einer zweiwertigen organischen Gruppe eine Ringstruktur bilden kann, und Z_c ^– stellt ein Gegenanion dar und hat die gleiche Bedeutung wie oben für Z_a ^– in der allgemeinen Formel (a) definiert.
Beispiele der Farbstoffe, die durch die allgemeine Formel (d) dargestellt werden, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden können, umfassen die nachstehend veranschaulichten:
Allgemeine Formel (e)
In der allgemeinen Formel (e) stellen R³⁵ bis R⁵⁰ unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Carbonylgruppe, eine Thiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Oxygruppe, eine Aminogruppe und eine Oniumsalzstruktur dar, von denen alle eine Substituentengruppe aufweisen können; und M stellt zwei Wasserstoffatome oder ein Metallatom, eine Halogenmetallgruppe und eine Oxymetallgruppe dar, und das hierin enthaltene Metallatom umfasst die Atome der Gruppen IA, IIA, IIIB und IVB des Periodensystems, die Übergangsmetalle in der ersten, zweiten und dritten Periode und die Lanthanoide, von denen Kupfer, Magnesium, Eisen, Zink, Kobalt, Aluminium, Titan und Vanadium bevorzugt sind.
Beispiele der Farbstoffe, die durch die allgemeine Formel (e) dargestellt werden, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden können, umfassen die nachstehend veranschaulichten:
Das Pigment, das erfindungsgemäss bevorzugt als Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verwendet werden kann, umfasst käufliche Pigmente und diejenigen, die in Color Index (C. I.) Handbook, "Saishin Ganryo Binran" (Newest Pigment Handbook) (1977 veröffentlicht und von der Japanese Society of Pigment Technology zusammengestellt), "Saishin Ganryo Oyo Gijutsu" (Newest Pigment Applied Technology) (1986 von CMC veröffentlicht) und "Insatsu Inki Gijutsu" (Printing Ink Technology) (1984 von CMC veröffentlicht) beschrieben sind.
Als Pigmenttypen können schwarze Pigmente, gelbe Pigmente orange Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, Fluoreszenzpigmente, Metallpulverpigmente und andere Pigmente, wie Polymer-bindende Pigmente, genannt werden. Spezifisch ist es möglich, unlösliche Azopigmente, Azobeizenpigmente, kondensierte Azopigmente, Chelatazopigmente, Pigmente vom Phthalocyanintyp, Pigmente vom Anthrachinontyp, Pigmente vom Perylen- und Perinontyp, Pigmente vom Thioindigotyp, Pigmente vom Chinacridontyp, Pigmente vom Dioxazintyp, Pigmente vom Isoindolinontyp, Pigmente vom Chinophthalontyp, gefärbte Beizenpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, Fluoreszenzpigmente, anorganische Pigmente, Russ usw. zu verwenden. Unter den oben beschriebenen ist Russ ein bevorzugtes Pigment.
Zur Verwendung können diese Pigmente einer Oberflächenbehandlung unterzogen werden oder nicht. Das Verfahren zur Oberflächenbehandlung umfasst ein Verfahren, in dem deren Oberfläche mit Harz oder Wachs beschichtet wird, ein Verfahren, in dem es ermöglicht wird, dass ein Tensid hieran anhaftet, und ein Verfahren, in dem ein reaktives Material (z.B. ein Silan-Kupplungsmittel, eine Epoxyverbindung, ein Polyisocyanat usw.) an die Oberfläche des Pigments gebunden wird. Diese Verfahren zur Oberflächenbehandlung sind in "Kinzoku Sekken No Seishitsu To Oyo" (Properties and Application of Metallic Soap) (Saiwai Shobo), "Insatsu Inki Gijyutsu" (Printing Ink Technology) (1984 von CMC veröffentlicht) und "Saishin Ganryho Oyo Gijyutsu" (Newest Pigment Applied Technology) 1986 von CMC veröffentlicht) beschrieben.
Die Partikeldurchmesser der Pigmente sind bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 10 μm, stärker bevorzugt 0,05 bis 1 μm, und besonders bevorzugt 0,1 bis 1 μm. Partikeldurchmesser von weniger als 0,01 μm sind in bezug auf die Stabilität ihrer Dispersionen in der Beschichtungslösung für die Bildaufzeichnungsschicht nicht bevorzugt, wohingegen Partikeldurchmesser von mehr als 10 μm in bezug auf die Gleichförmigkeit der Bildaufzeichnungsschicht ebenfalls nicht bevorzugt sind.
Als Verfahren zum Dispergieren der Pigmente kann irgendeine bekannte Dispersionstechnik, die bei der Herstellung von Tinten oder Tonern eingesetzt wird, verwendet werden. Als Dispersionsvorrichtung können eine Ultraschall-Dispersionsvorrichtung, eine Sandmühle, ein Attritor, eine Perlenmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, ein Impeller, ein Disperser, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, ein Druckkneter usw. genannt werden. Diese sind im Detail in "Saishin Ganryho Oyo Gijyutsu" (Newest Pigment Applied Technology) (1986 von CMC veröffentlicht) beschrieben.
In der Erfindung können diese Licht/Wärme-Umwandlungsmittel einzeln oder in Kombination hiervon verwendet werden, jedoch ist angesichts der Empfindlichkeit das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel bevorzugt das in der allgemeinen Formel (a) gezeigte Pigment, am stärksten bevorzugt das Cyaninpigment mit einer Diarylaminogruppe.
Das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel wird vorzugsweise in einer Menge von 0,1 bis 20 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der wärmeempfindlichen Zusammensetzung, zugegeben. Wenn die Menge des Licht/Wärme-Umwandlungsmittels kleiner als dieser Bereich ist, neigt die Empfindlichkeit der charakteristischen Veränderung durch Belichtung dazu, verringert zu sein, was zu einem Versagen beim Erreichen ausreichender Fotoempfindlichkeit führt, wohingegen, wenn ihre Menge grösser als dieser Bereich ist, die Gleichförmigkeit und Festigkeit des resultierenden Films dazu neigt, verringert zu sein, so dass beide Fälle nicht bevorzugt sind.
Das Licht/Wärme-Umwandlungsmittel kann zusammen mit anderen Komponenten zu der gleichen Schicht oder zu einer separat vorgesehenen Schicht zugegeben werden, so dass in dem resultierenden negativen, bilderzeugenden Material die optische Dichte der Aufzeichnungsschicht beim Absorptionsmaximum bei einer Wellenlänge im Bereich von 760 bis 1.200 nm vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 3,0 liegt. Wenn die optische Dichte ausserhalb dieses Bereichs liegt, neigt die Empfindlichkeit dazu, verringert zu sein. Weil die optische Dichte sowohl durch die zugegebene Menge des Licht/Wärme-Umwandlungsmittels als auch die Dicke der Aufzeichnungsschicht bestimmt wird, kann die vorbestimmte optische Dichte durch Regulieren der Bedingungen dieser zwei Faktoren erreicht werden. Die optische Dichte der Aufzeichnungsschicht kann auf herkömmliche Weise gemessen werden. Für diese Messung existiert ein Verfahren, in dem eine Aufzeichnungsschicht, die nach dem Trocknen eine geeignet bestimmte Dicke in einem Bereich aufweist, die für eine Flachdruckplatte notwendig ist, auf z.B. einem transparenten oder weissen Träger gebildet wird, und dann mit einem optischen Transmissionsdensitometer vermessen wird, oder die Aufzeichnungsschicht wird auf einem reflektierenden Träger, wie Aluminium, gebildet und dann bezüglich ihrer Reflexionsdichte vermessen.
(C) Radikalinitiator:
Die Verbindung, die bei der Wärmemodusbelichtung Radikale bildet (Radikalinitiator), wird in Kombination mit dem oben beschriebenen (B) Licht/Wärme-Umwandlungsmittel verwendet und bezieht sich auf eine Verbindung, die durch die Energie von Licht und/oder Wärme bei der Bestrahlung mit Licht (z.B. von einem Infrarotlaser) bei einer Wellenlänge, die von dem Licht/Wärme-Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, Radikale bildet und somit die Polymerisation von (A) der Polymerverbindung, die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, zumindest eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer ihrer Seitenketten aufweist und eine Glasübergangstemperatur von 100°C oder mehr besitzt, und einer später beschriebenen, gegebenenfalls verwendeten radikalpolymerisierbaren Verbindung (D), die eine polymerisierbare ungesättigte Gruppe aufweist, initiiert und fördert. Die "Wärmemodusbelichtung" folgt der oben in der Erfindung gegebenen Definition.
Der verwendete Radikalinitiator kann unter bekannten Fotopolymerisationsinitiatoren und Wärmepolymerisationsinitiatoren ausgewählt werden, und Beispiele hiervon umfassen Oniumsalze, Triazinverbindungen mit einer Trihalogenmethylgruppe, Peroxide, Polymerisationsinitiatoren vom Azotyp, Azidverbindungen und Chinondiazide, von denen die Oniumsalze hochempfindlich und bevorzugt sind.
Die radikalbildende Verbindung, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden kann, umfasst Oniumsalze, die im speziellen Iodoniumsalze, Diazoniumsalze oder Sulfoniumsalze sind. Das Oniumsalz fungiert nicht nur als Säurebildner, sondern auch als Radikalpolymerisationsinitiator, wenn es in Kombination mit einer später beschriebenen radikalpolymerisierbaren Verbindung verwendet wird. Die in der Erfindung bevorzugt verwendeten Oniumsalze sind diejenigen Oniumsalze, die durch die allgemeinen Formeln (III) bis (V) dargestellt werden:
Allgemeine Formel (III)

Ar¹¹-I⁺-Ar¹² Z^11–

Allgemeine Formel (IV)

Ar²¹-N⁺≡N Z^21–

Allgemeine Formel (V)
In der Formel (III) stellen Ar¹¹ und Ar¹² unabhängig eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann. Wenn diese Arylgruppe eine Substituentengruppe aufweist, ist die Substituentengruppe vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen oder eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Z^11– stellt ein Gegenion dar, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Halogenion, Perchloration, Carboxylation, Tetrafluorboration, Hexafluorphosphation und Sulfonation besteht, vorzugsweise ein Perchloration, Hexafluorphosphation und Arylsulfonation.
In der Formel (IV) stellt Ar²¹ eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann. Der Substituent ist vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Dialkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Arylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen oder eine Diarylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Z^21– stellt ein Gegenion dar und hat die gleiche Bedeutung wie für Z^11– definiert.
In Formel (V) können R⁸¹, R⁸² und R⁸³ gleich oder verschieden sein, und sie stellen eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe aufweisen kann. Der Substituent ist vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen oder eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Z^31– stellt ein Gegenion dar und hat die gleiche Bedeutung wie für Z^11– definiert.
Beispiele der Opiumsalze, die bevorzugt in der Erfindung verwendet werden können, umfassen die vom Anmelder vorgeschlagenen, die in den Absätzen [0030] bis [0033] der japanischen Patentanmeldung Nr. 11-310623 und in den Absätzen [0015] bis [0045] der japanischen Patentanmeldung Nr. 2000-160323 beschrieben sind.
Das in der Erfindung verwendete Opiumsalz weist eine maximale Absorptionswellenlänge von vorzugsweise 400 nm oder weniger, stärker bevorzugt 360 nm oder weniger, auf. Durch Verwendung des Opiumsalzes mit einer Absorptionswellenlänge im UV-Bereich, kann der Flachdruckplattenvorläufer unter Weisslicht gehandhabt werden.
Diese Opiumsalze können zu der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht in einem Verhältnis von 0,1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 30 Gew.-%, besonders bevorzugt 1 bis 20 Gew.-%, des Feststoffgehalts der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht zugegeben werden. Wenn die Menge der Salze weniger als 0,1 Gew.-% beträgt, ist die Empfindlichkeit verringert, wohingegen, wenn die Menge 50 Gew.-% überschreitet, sich Beläge auf dem Nicht-Bildbereich während des Druckens bilden. Diese Opiumsalze können allein oder in Kombination hiervon verwendet werden. Ferner können diese Opiumsalze zusammen mit anderen Komponenten zu der gleichen Schicht oder zu einer anderen Schicht, die separat angeordnet ist, zugegeben werden.
In dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial kann eine radikalpolymerisierbare Verbindung in Kombination verwendet werden, um die Empfindlichkeit und die Bilderzeugungsfähigkeit zu verbessern. Die radikalpolymerisierbare Verbindung, die in Kombination verwendet werden kann, ist eine radikalpolymerisierbare Verbindung, die zumindest eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, und sie wird unter solchen Verbindungen ausgewählt, die zumindest eine (vorzugsweise zwei oder mehr) endständige, ethylenisch ungesättigte Bindung aufweisen. Solche eine Verbindungsgruppe ist in diesem industriellen Gebiet weithin bekannt, und in der Erfindung können diese Verbindungen ohne besondere Beschränkung verwendet werden. Diese Verbindungen liegen in chemischen Formen, wie Monomeren, Präpolymeren, d.h. Dimere, Trimere oder Oligomere, sowie als Mischungen und Copolymere hiervon vor.
Beispiele solcher Monomere und Copolymere umfassen ungesättigte Carbonsäuren (z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure usw.) und Ester und Amide hiervon, und bevorzugt werden Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Alkoholen und Amide von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Aminen verwendet. Ferner können bevorzugt Dehydratations-Kondensationsreaktionsprodukte von ungesättigten Carboxylaten oder Aminen mit nukleophilen Substituentengruppen, wie einer Hydroxylgruppe, Aminogruppe, Mercaptogruppe usw., mit monofunktionellen oder multifunktionellen Isocyanaten oder Epoxyverbindungen verwendet werden. Ferner können Additions- Reaktionsprodukte von ungesättigten Carboxylaten oder Aminen mit nukleophilen Substituentengruppen, wie einer Hydroxylgruppe, Aminogruppe, Mercaptogruppe usw., mit monofunktionellen oder multifunktionellen Carbonsäuren bevorzugt verwendet werden.
Ferner können Additions-Reaktionsprodukte von ungesättigten Carboxylaten oder Aminen mit elektrophilen Substituentengruppen, wie einer Isocyanatgruppe, Epoxygruppe usw., mit monofunktionellen oder multifunktionellen Alkoholen, Aminen oder Thiolen bevorzugt verwendet werden. Ferner können Substitutions-Reaktionsprodukte von ungesättigten Carboxylaten oder Amiden mit Eliminierungs-Substituentengruppen, wie einer Halogengruppe, Tosyloxygruppe usw., mit monofunktionellen oder multifunktionellen Alkoholen, Aminen oder Thiolen bevorzugt verwendet werden. Ferner kann auch eine Gruppe dieser Verbindungen bevorzugt verwendet werden, in der die vorstehend beschriebenen Carbonsäuren durch ungesättigte Phosphonsäuren, Styrole usw. entsprechend ersetzt wurden.
Bei den radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die Ester von aliphatischen mehrwertigen Alkoholen und ungesättigten Carbonsäuren sind, umfassen die Acrylate Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxy)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitolpentaacrylat, Sorbitolhexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Polyesteracrylatoligomere usw.
Die Methacrylate umfassen Tetramethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Pentaerythritoltrimethacrylat, Pentaerythritoltetramethacylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritolhexamethacrylat, Sorbitoltrimethacrylat, Sorbitoltetramethacrylat, Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethan, Bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan usw.
Die Itaconate umfassen Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritoldiitaconat, Sorbitoltetraitaconat usw.
Die Crotonate umfassen Ethylenglykoldicrotonat, Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritoldicrotonat, Sorbitoltetracrotonat usw.
Die Isocrotonate umfassen Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritoldiisocrotonat, Sorbitoltetraisocrotonat usw.
Die Maleate umfassen Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat, Pentaerythritoldimaleat, Sorbitoltetramaleat usw.
Andere Ester, die ebenfalls bevorzugt verwendet werden können, umfassen z.B. die auf aliphatischen Alkoholen basierenden Ester, beschrieben in JP-B Nrn. 46-27936 und 51-47334 und JP-A-57-196231, solche mit einem aromatischen Grundgerüst, beschrieben in JP-A Nrn. 59-5240, 59-5241 und 2-226149, und solche, die eine Aminogruppe aufweisen, beschrieben in JP-A-1-165613.
Als Monomere umfassen die Amide von aliphatischen mehrwertigen Aminen und ungesättigten Carbonsäuren z.B. Methylenbis-acrylamid, Methylenbis-methacrylamid, 1,6-Hexamethylenbis-acrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid, Xylylenbismethacrylamid usw.
Bevorzugte Beispiele anderer Monomere vom Amidtyp umfassen solche, die eine Cyclohexylenstruktur aufweisen, beschrieben in JP-B-54-21726.
Ferner sind auch additionspolymerisierbare Verbindungen vom Urethantyp, hergestellt durch Additionsreaktion zwischen Isocyanaten und Hydroxylgruppen, bevorzugt, und spezifische Beispiele hiervon umfassen Vinylurethanverbindungen, die zwei oder mehr polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül enthalten, die durch Zugabe von Vinylmonomeren, die eine Hydroxylgruppe enthalten, nachstehend in Formel (VI) gezeigt, zu Polyisocyanatverbindungen, die zwei oder mehr Isocyanatgruppen in einem Molekül aufweisen, hergestellt werden, wie in JP-B-48-41708 beschrieben. CH₂=C(R³⁴)COOCH₂CH(R³⁵)OH (VI)
In Formel (VI) stellen R³⁴ und R³⁵ unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe dar.
Darüber hinaus sind die Urethanacrylate, die in JP-A-51-37193 und JP-B Nrn. 2-32293 und 2-16765 beschrieben sind, und die Urethanverbindungen, die ein Gerüst vom Ethylenoxidtyp aufweisen, die in JP-B Nrn. 58-49860, 56-17654, 62-39417 und 62-39418 beschrieben sind, ebenfalls bevorzugt.
Es können auch die radikalpolymerisierbaren Verbindungen, die eine Aminostruktur oder Sulfidstruktur im Molekül aufweisen, wie in JP-A Nrn. 63-277653, 63-260909 und 1-105238 beschrieben, verwendet werden.
Als andere Beispiele können die multifunktionellen Acrylate und Methacrylate, wie Polyacrylate und Epoxyacrylate, die durch Umsetzen eines Epoxyharzes mit (Meth)acrylsäure erhalten werden, beschrieben in JP-A-48-64183 und JP-B Nrn. 49-43191 und 52-30490, erwähnt werden. Ferner können auch die spezifischen ungesättigten Verbindungen, die in JP-B-Nrn. 46-43946, 1-40337 und 1-40336 beschrieben sind, und die Verbindungen vom Vinylphosphonsäuretyp, die in JP-A-2-25493 beschrieben sind, erwähnt werden. In einigen Fällen wird die Struktur, die eine Perfluoralkylgruppe enthält, beschrieben in JP-A-61-22048, bevorzugt verwendet. Ferner können auch die fotohärtbaren Monomere und Oligomere, die in Journal of Japanese Adhesive Society, Bd. 20, Nr. 7, Seiten 300–308 (1984), beschrieben sind, verwendet werden.
Die radikalpolymerisierbaren Verbindungen können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Wie diese radikalpolymerisierbaren Verbindungen verwendet werden, d.h. welche Struktur verwendet wird, ob sie einzeln oder in Kombination verwendet werden, und in welcher Menge sie verwendet werden, kann in Abhängigkeit von der Leistungsfähigkeit und dem Aufbau des letztendlichen Aufzeichnungsmaterials frei bestimmt werden.
Ein höheres Mischungsverhältnis der radikalpolymerisierbaren Verbindung in dem Bildaufzeichnungsmaterial ist der Empfindlichkeit zuträglich, wenn das Verhältnis jedoch zu hoch ist, treten unerwünschte Phasentrennung, ein Problem, wie die Anhaftung der Bildaufzeichnungsschicht beim Herstellungsprozess (z.B. ein Herstellungsversagen, das der Übertragung und der Anhaftung der Komponenten in der Aufzeichnungsschicht zuzuordnen ist) und ein Problem, wie Ausfällung aus der Entwicklungslösung, auf. Unter Berücksichtigung dieser Faktoren beträgt das Mischungsverhältnis der radikalpolymerisierbaren Verbindung in vielen Fällen bevorzugt 5 bis 80 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 75 Gew.-%, der Komponenten in der Zusammensetzung.
Wenn in der Erfindung das spezifische alkalilösliche Polymer (A) in Kombination mit der radikalpolymerisierbaren Verbindung (D) verwendet wird, ist das gewichtsbezogene Verhältnis von Komponente (A) zu Komponente (D) im Bereich von 1:0,05 bis 1:3, vorzugsweise im Bereich von 10,1 bis 1:2, stärker bevorzugt im Bereich von 1:0,3 bis 1:1,5.
Vom Standpunkt der Inhibierung der Polymerisation durch Sauerstoff, der Auflösung, der Abdeckkraft, der Veränderung der Reflexionsfähigkeit, der Oberflächenhaftkraft usw., können deren geeignete Struktur, das Mischungsverhältnis und deren Menge frei in dem Verfahren zur Verwendung der radikalpolymerisierbaren Verbindung ausgewählt werden, und, falls notwendig, können eine Schichtstruktur und ein Beschichtungsverfahren, wie eine Unterbeschichtung und eine Überbeschichtung, ebenfalls durchgeführt werden.
Andere Komponenten:
Zu dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial können verschiedene Verbindungen ausser den oben beschriebenen ferner zugegeben werden, falls dies notwendig ist. Zum Beispiel kann ein Farbstoff mit einer beträchtlichen Absorption im sichtbaren Wellenlängenbereich als Färbemittel für Bilder verwendet werden. Spezifisch können Ölgelb #101, Ölgelb #103, Ölpink #312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau #603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS, Ölschwarz T-505 (die von Orient Chemical Industries, Ltd. erhältlich sind), Victoria-Reinblau, Kristallviolett (CI42555), Methylviolett (CI42535), Ethylviolett, Rhodamin B (CI145170B), Malachitgrün (CI42000), Methylenblau (CI52015) usw. erwähnt werden. Ferner sind die Farbstoffe, die in JP-A-62-293247 beschrieben sind, besonders bevorzugt. Ferner können auch Pigmente, wie Pigmente vom Phthalocyanintyp, Pigmente vom Azotyp, Russ und Titanoxid, bevorzugt verwendet werden.
Diese Farbstoffe werden vorzugsweise zugegeben, um die Unterscheidung des Bildbereichs vom Nicht-Bildbereich zu erleichtern. Die Menge des Farbstoffs beträgt 0,01 bis 10 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht.
In der Erfindung wird wünschenswerterweise eine kleine Menge eines Wärmepolmerisationsinhibitors zugegeben, um eine unerwünschte Wärmepolymerisation der radikalpolymerisierbaren Verbindung in dem Bildaufzeichnungsmaterial während der Herstellung und Lagerung zu inhibieren. Beispiele geeigneter Wärmepolymerisationsinhibitoren umfassen Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-Nitroso-N-phenylhydroxylamin-Aluminiumsalz usw. Die zugegebene Menge an Wärmepolymerisationsinhibitor beträgt vorzugsweise etwa 0,01 bis etwa 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Um die Inhibierung der Polymerisation durch Sauerstoff zu vermeiden, kann, falls notwendig, ein höheres Fettsäurederivat, wie Behensäure oder Behensäureamid, zugegeben werden, so dass es ermöglicht wird, dass es lokal auf der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht beim Trocknungsschritt nach dem Auftragen vorhanden ist. Die zugegebene Menge an höherem Fettsäurederivat beträgt vorzugsweise etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Zusammensetzung.
Das erfindungsgemässe bilderzeugende Material wird zur Erzeugung einer Bildaufzeichnungsschicht, hauptsächlich in einem Flachdruckplattenvorläufer, verwendet, und zur Verbesserung der Stabilität der Bildaufzeichnungsschicht gegenüber der Entwicklungsbehandlung unter Entwicklungsbedingungen können nicht-ionische Tenside, wie die in JP-A Nrn. 62-251740 und 3-208514 beschriebenen, und amphotere Tenside, wie die in JP-A Nrn. 59-121044 und 4-13149 beschriebenen, zugegeben werden.
Spezifische Beispiele der nicht-ionischen Tenside umfassen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearatmonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether usw.
Spezifische Beispiele der amphoteren Tenside umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycerin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliumbetain und Tenside vom N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ (z.B. Amigen K, Handelsname, Dai-Ichi Kogyo Co., Ltd.).
Die Menge an nicht-ionischen Tensiden und an amphoteren Tensiden in der Beschichtungsflüssigkeit für die Aufzeichnungsschicht beträgt vorzugsweise 0,05 bis 15 Gew.-%, stärker bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%.
Falls nötig, wird ferner ein Weichmacher zu der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht zugegeben, um der Beschichtung beispielsweise Flexibilität zu verleihen. Zum Beispiel werden Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Trikresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat und Tetrahydrofurfuryloleat verwendet.
Wenn das erfindungsgemässe bilderzeugende Material verwendet wird, um einen Flachdruckplattenvorläufer herzustellen, werden die das bilderzeugende Material aufbauenden Komponenten zusammen mit den Komponenten, die für die Beschichtungslösung notwendig sind, in einem Lösungsmittel gelöst und dann auf ein geeignetes Substrat aufgetragen. Das hier verwendete Lösungsmittel umfasst Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyllacton, Toluol, Wasser usw., ohne jedoch hierauf beschränkt zu sein. Diese Lösungsmittel werden einzeln oder als Mischung hiervon verwendet. Die Konzentration der obigen Komponenten (Gesamtfeststoffgehalt, einschliesslich Additive) in dem Lösungsmittel beträgt vorzugsweise 1 bis 50 Gew.-%.
Die Menge der auf dem Substrat beschichteten und getrockneten Aufzeichnungsschicht (Feststoffgehalt) wird in Abhängigkeit von der beabsichtigten Verwendung variiert, jedoch beträgt im allgemeinen dessen Menge für den Flachdruckplattenvorläufer bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m². Wenn die Beschichtung verringert wird, erhöht sich die scheinbare Empfindlichkeit, jedoch verringern sich die Filmeigenschaften der Bildaufzeichnungsschicht.
Zum Beschichten können verschiedene Verfahren verwendet werden, und z.B. können Stabbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Florbeschichtung, Eintauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Messerbeschichtung und Walzenbeschichtung erwähnt werden.
In der Erfindung können Tenside zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaft, z.B. Tenside vom Fluortyp, beschrieben in JP-A-62-170950, zu der Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht zugegeben werden. Die zugegebene Menge des Tensids beträgt vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.-%, stärker bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf den Feststoffgehalt der gesamten Aufzeichnungsschicht.
In bezug auf die Erweichungstemperatur einer Bildaufzeichnungsschicht, die auf einem Trägerelement gebildet wird, d.h. einer fotoempfindlichen Schicht, wird diese bevorzugt auf nicht weniger als 60°C eingestellt. Wenn die Temperatur niedriger als 60°C ist, ist die Lagerungsstabilität verringert. Wenn eine niedermolekulare Komponente, wie eine radikalpolymerisierbare Verbindung, als Zusammensetzung der fotoempfindlichen Schicht vorliegt, verringert sich die Erweichungstemperatur der fotoempfindlichen Schicht; jedoch ist die Anwendung eines Bindemittels mit einer Glasübergangstemperatur von nicht weniger als 80°C wirksam, um die Erweichungstemperatur bei nicht weniger als 60°C zu halten. Hier wird die Erweichungstemperatur der fotoempfindlichen Schicht unter Verwendung der Differential-Scanning-Calorimetrie (DSC) oder mit einem Messgerät für die Viskoelastizität gemessen.
Das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial wird hauptsächlich als Aufzeichnungsschicht eines Flachdruckplattenvorläufers verwendet. Der Flachdruckplattenvorläufer weist zumindest ein Substrat, eine Aufzeichnungsschicht und, falls notwendig, eine Schutzschicht auf. Das Substrat und die Schutzschicht als Aufbauelemente des Flachdruckplattenvorläufers werden nachstehend beschrieben.
Substrat:
Das bei der Erzeugung eines Flachdruckplattenvorläufers aus dem erfindungsgemässen bilderzeugenden Material verwendete Substrat ist nicht besonders beschränkt, solange es eine dimensionsstabile Platte ist, und Beispiele hiervon umfassen Papier, ein Papier, auf dem Kunststoffe (z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol usw.) laminiert sind, eine Metallplatte (z.B. Aluminium, Zink, Kupfer usw.), Kunststoffolien (z.B. Diacetatcellulose, Triacetatcellulose, Propionatcellulose, Butyratcellulose, Acetatbutyratcellulose, Nitratcellulose, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal usw.) usw. Diese können aus Lagen aus einzelnen Komponenten, wie Harzfolien und Metallplatten, oder Laminaten, die aus zwei oder mehr Materialien bestehen, die hierin laminiert sind, wie Papier oder Kunststoffolien, auf denen das oben beschriebene Metall laminiert oder gasabgeschieden ist, oder ein Laminatblatt, das aus unterschiedlichen Kunststoffolien besteht, usw. sein.
Das Substrat ist vorzugsweise eine Polyesterfolie oder eine Aluminiumplatte, wovon die Aluminiumplatte bezüglich der Dimensionsstabilität herausragend und relativ kostengünstig ist, und sie ist somit besonders bevorzugt. Die Aluminiumplatte ist vorzugsweise eine reine Aluminiumplatte oder eine Legierungsplatte, die auf Aluminium basiert und eine Spur von verschiedenen Elementen enthält, und sie kann eine Kunststoffolie sein, auf der Aluminium laminiert oder gasabgeschieden ist. Die unterschiedlichen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, umfassen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel, Titan usw. Der Gehalt der unterschiedlichen Elemente in der Legierung beträgt bis zu 10 Gew.-%. In der Erfindung ist reines Aluminium besonders bevorzugt, weil jedoch die Herstellung von absolut reinem Aluminium bezüglich der Raffinationstechniken schwierig ist, kann das Aluminium eine Spur von anderen Elementen enthalten. Somit ist die Zusammensetzung der in der Erfindung verwendeten Aluminiumplatte nicht beschränkt und es können irgendwelche Aluminiumplatten, die aus einem bekannten und konventionell verwendeten Aluminiummaterial bestehen, falls nötig, verwendet werden.
Die Dicke der Aluminiumplatte beträgt etwa 0,1 bis 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 bis 0,4 mm, und am stärksten bevorzugt 0,2 bis 0,3 mm.
Bevor die Oberfläche der Aluminiumplatte aufgerauht wird, wird, falls notwendig, eine Entfettungsbehandlung mit beispielsweise einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel oder einer wässrigen alkalischen Lösung durchgeführt, um das Walzöl von dessen Oberfläche zu entfernen.
Die Behandlung zum Aufrauhen der Oberfläche der Aluminiumplatte wird mittels verschiedener Verfahren durchgeführt, wie einem Verfahren, in dem eine mechanische Oberflächenaufrauhung durchgeführt wird, ein Verfahren zur Oberflächenaufrauhung durch elektrochemisches Auflösen der Oberfläche und ein Verfahren, in dem die Oberfläche chemisch und selektiv aufgelöst wird. In dem mechanischen Verfahren können bekannte Techniken eingesetzt werden, wie Kugelmahlen, Bürstenmahlen, Strahlmahlen und Poliermahlen. Das elektrochemische Aufrauhungsverfahren umfasst ein Verfahren, in dem die Oberfläche in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten unter Verwendung eines Wechselstroms oder Gleichstroms aufgerauht wird. Ferner kann auch eine Kombination beider Verfahren eingesetzt werden, wie in JP-A-54-63902 offenbart.
Nach dem die so oberflächenaufgerauhte Aluminiumplatte, falls notwendig, einer Alkaliätzbehandlung und einer Neutralisationsbehandlung unterzogen worden ist, kann die Platte einer Anodisierungsbehandlung unterzogen werden, um die Wasserretention und die Abriebbeständigkeit der Oberfläche zu verbessern. Der Elektrolyt zur Verwendung in der Anodisierungsbehandlung der Aluminiumplatte kann unter verschiedenen Elektrolyten zur Erzeugung eines porösen Oxidfilms ausgewählt werden, und im allgemeinen werden Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine gemischte Säure hiervon verwendet. Die Konzentration des Elektrolyten wird geeignet in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten bestimmt.
Die Bedingungen für die Anodisierungsbehandlung werden in Abhängigkeit von dem verwendeten Elektrolyten variiert und können somit nicht allgemein angegeben werden, jedoch ist es allgemein bevorzugt, dass die Konzentration des Elektrolyten 1 bis 80 Gew.-% beträgt, die Flüssigkeitstemperatur 5 bis 70°C beträgt, die Stromdichte 5 bis 60 A/dm² beträgt, die Spannung 1 bis 100 V beträgt und die Elektrolysezeit 10 Sekunden bis 5 Minuten beträgt.
Die Menge des anodisierten Films beträgt vorzugsweise nicht weniger als 1,0 g/m² und liegt stärker bevorzugt im Bereich von 2,0 bis 6,0 g/m². Wenn die Menge des anodisierten Films weniger als 1,0 g/m² beträgt, wird die Druckbeständigkeit unzureichend, und der Nicht-Bildbereich der Flachdruckplatte wird leicht beschädigt, was zu einer sogenannten "Beschädigungs-Fleckbildung" (mar staining) führt, die durch Tinte verursacht wird, die beim Drucken an der Beschädigung anhaftet.
Die Druckoberfläche des Substrats in der Flachdruckplatte wird solch einer Anodisierungsbehandlung unterzogen, weil jedoch die elektrische Kraftlinie auch zu dessen Rückseite wandert, wird im allgemeinen auch auf der Rückseite ein anodisierter Film von 0,01 bis 3 g/m² gebildet.
Bei der Behandlung zum hydrophilen Gestalten der Oberfläche des Substrats, die nach der vorstehend beschriebenen Anodisierungsbehandlung durchgeführt wird, kann ein in der Technik bekanntes Behandlungsverfahren verwendet werden. Solch eine Hydrophilizität-verleihende Behandlung umfasst das Alkalimetallsilicat(z.B. eine wässrige Lösung von Natriumsilicat)-Verfahren, das in den US-PSen 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902 734 beschrieben ist. In diesem Verfahren wird das Substrat in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht oder elektrolysiert. Daneben werden die Verfahren zur Behandlung mit Kaliumfluorzirconat, wie es in JP-B-36-22063 beschrieben ist, und das Verfahren zur Behandlung mit Polyvinylphosphonsäure, wie es in den US-PSen 3 276 868, 4 153 461 und 4 689 272 beschrieben ist, verwendet.
Unter diesen Behandlungen ist in der Erfindung die Behandlung mit Silicaten eine besonders bevorzugte Hydrophilizität-verleihende Behandlung. Die Behandlung mit Silicaten wird nachstehend beschrieben.
Der anodisierte Film auf der Aluminiumplatte, die der vorstehend beschriebenen Behandlung unterzogen worden ist, wird z.B. bei 15 bis 80°C für 0,5 bis 120 Sekunden in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilicats mit einer Konzentration von 0,1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 10 Gew.-%, bei einem pH-Wert von 10 bis 13 bei 25°C eingetaucht. Wenn der pH-Wert der wässrigen Alkalimetallsilicatlösung 10 oder weniger beträgt, geliert die Lösung, wohingegen sich der anodisierte Film auflöst, wenn der pH-Wert höher als 13,0 ist. Als in der Erfindung verwendetes Alkalimetallsilicat werden Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Lithiumsilicat usw. verwendet. Das zum Erhöhen des pH-Werts der wässrigen Alkalimetallsilicatlösung verwendete Hydroxid umfasst Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid usw. Es können Erdalkalimetallsalze oder die Salze der Metalle der Gruppe IVB in die vorstehend beschriebene Behandlungslösung eingearbeitet werden. Die Erdalkalimetalle umfassen Nitrate, wie Calciumnitrat, Strontiumnitrat, Magnesiumnitrat und Bariumnitrat, und wasserlösliche Salze, wie Nitrate, Hydrochloride, Phosphate, Acetate, Oxalate und Borate. Die Salze der Metalle der Gruppe IVB umfassen Titantetrachlorid, Titantrichlorid, Titankaliumfluorid, Titankaliumoxalat, Titansulfat, Titantetraiodid, Zirkoniumchloridoxid, Zirkoniumdioxid, Zirkoniumoxychlorid, Zirkoniumtetrachlorid usw. Die Erdalkalimetallsalze oder die Salze der Metalle der Gruppe IVB können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Die Menge dieser Metallsalze liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, stärker bevorzugt 0,05 bis 5,0 Gew.-%.
Weil die Hydrophilizität der Oberfläche der Aluminiumplatte durch die Silicatbehandlung weiter erhöht wird, haftet die Tinte während des Druckens kaum an den Nicht-Bildbereich an, und die Anfleckbeständigkeit wird verbessert.
Das Substrat wird, falls notwendig, mit einer Rückschicht auf dessen Rückseite versehen. Die Rückschicht ist vorzugsweise eine Beschichtungsschicht, die aus Metalloxiden besteht, die durch Hydrolyse und Polykondensation der organischen Polymerverbindungen, die in JP-A-5-45885 beschrieben sind, und der organischen oder anorganischen Metallverbindungen, die in JP-A-6-36174 beschrieben sind, erhalten werden.
Von diesen Beschichtungsschichten sind die Beschichtungsschichten von Metalloxiden, die aus Alkoxysiliciumverbindungen, wie Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄ und Si(OC₄H₉)₄, erhalten werden, besonders bevorzugt, weil diese Schichten eine herausragende Entwicklungsbeständigkeit aufweisen und diese Ausgangsmaterialien leicht erhältlich und kostengünstig sind.
Schutzschicht:
Wenn es in einem Flachdruckplattenvorläufer verwendet wird, wird das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial gewöhnlich in Luft belichtet, so dass vorzugsweise auf der Bildaufzeichnungsschicht, die die fotopolymerisierbare Zusammensetzung enthält, eine Schutzschicht vorgesehen wird, wobei die gewünschten Eigenschaften der Schutzschicht eine niedrige Durchlässigkeit für niedermolekulare Verbindungen, wie Sauerstoff, eine gute Durchlässigkeit für bei der Belichtung verwendetes Licht, eine vorzügliche Anhaftung an die Aufzeichnungsschicht und eine gute Entfernbarkeit beim Entwicklungsschritt nach der Belichtung sind, und die in der Schutzschicht verwendeten Materialien sind vorzugsweise wasserlösliche Polymerverbindungen, die eine relativ herausragende Kristallinität aufweisen, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, saure Cellulosen, Gelatine, Gummi arabicum und Polyacrylsäure.
In dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial wird das spezifische Polyurethanharz, das in seiner Beschichtung wenig aufgelösten Sauerstoff und eine grosse Fähigkeit, die Bildaufzeichnungsschicht vor Sauerstoff von aussen abzuschirmen, aufweist, als filmerzeugendes Harz eingesetzt, was somit die Verschlechterung der Bilderzeugungsfähigkeit, die durch die Polymerisationsinhibierung durch Sauerstoff verursacht wird, vorteilhaft vermeidet, so dass eine Schutzschicht nicht notwendigerweise angeordnet werden muss, um jedoch die Fähigkeit zu verbessern, sie vor Sauerstoff von aussen abzuschirmen und somit die Bilderzeugungsfähigkeit, insbesondere die Bildfestigkeit, zu verbessern, kann die Schutzschicht angeordnet werden.
Drucken mit dem Flachdruckplattenvorläufer:
Ein Flachdruckplattenvorläufer, der unter Verwendung des erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterials als Aufzeichnungsschicht hergestellt wird, kann bei der Aufzeichnung mit einem Infrarotlaser verwendet werden. Ferner ist das thermische Aufzeichnen mit einer UV-Lampe oder einem Thermokopf ebenfalls möglich. Erfindungsgemäss wird das Bild hierauf vorzugsweise mit einem Feststofflaser und einem Halbleiterlaser, der Infrarotstrahlen mit Wellenlängen von 760 bis 1.200 nm emittiert, belichtet.
Nach der Belichtung mit dem Infrarotlaser wird das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial vorzugsweise mit Wasser oder einer wässrigen alkalischen Lösung entwickelt.
Wenn die wässrige alkalische Lösung als Entwicklungslösung verwendet wird, können die Entwicklungslösung und ihre Zusatzlösung für das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial eine wässrige alkalische Lösung sein, die in der Technik bekannt ist. Zum Beispiel können anorganische Alkalisalze, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, tribasisches Natriumphosphat, tribasisches Ammoniumphosphat, dibasisches Natriumphosphat, dibasisches Kaliumphosphat, dibasisches Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumchlorid, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid erwähnt werden. Ferner werden organische Alkalimittel, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin verwendet.
Diese Alkalimittel werden einzeln oder in Kombination verwendet.
Es ist auch bekannt, dass, wenn die Entwicklung in einem automatischen Entwickler durchgeführt wird, eine wässrige Lösung mit höherer Alkalinität (Zusatzlösung) als die Entwicklungslösung zu der Entwicklungslösung zugegeben wird, wodurch eine grosse Anzahl von Flachdruckplattenvorläufern für eine verlängerte Zeitspanne behandelt werden kann, ohne die Entwicklungslösung in dem Entwicklungstank durch eine frische zu ersetzen. Dieses Zusatzsystem kann in der Erfindung ebenfalls bevorzugt eingesetzt werden.
Zum Fördern und Unterdrücken der Entwicklungsleistung, zum Dispergieren von Entwicklungsrückständen und zum Verbessern der Affinität des Bildbereichs der Druckplatte für Tinte können verschiedene Tenside und organische Lösungsmittel, falls notwendig, zu der Entwicklungslösung und der Zusatzlösung zugegeben werden. Bevorzugte Beispiele umfassen anionische, kationische, nicht-ionische und amphotere Tenside. Ein bevorzugtes organisches Lösungsmittel ist Benzylalkohol. Die Zugabe von Polyethylenglykol oder Derivaten hiervon oder Polypropylenglykol oder Derivaten hiervon ist ebenfalls bevorzugt. Ferner können nicht-reduzierende Zucker, wie Arabitol, Sorbitol und Mannitol, ebenfalls zugegeben werden.
Es können auch Reduktionsmittel, wie Hydrochinon, Resorcin, oder anorganische Salze, wie Natrium- und Kaliumsulfit oder -hydrogensulfit, organische Carbonsäuren, Entschäumungsmittel und Wasserenthärter, falls notwendig, ebenfalls zu der Entwicklungslösung und der Zusatzlösung zugegeben werden.
Die Druckplatte, die der vorstehend beschriebenen Entwicklungsbehandlung mit einer Entwicklungslösung und einer Zusatzlösung unterzogen worden ist, wird mit Waschwasser, einer tensidhaltigen Spüllösung und einer desensibilisierenden fettenden Lösung, die Gummi arabicum und Stärkederivat enthält, nachbehandelt. Wenn das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial als Druckplattenmaterial verwendet wird, können diese Behandlungen in Kombination als Nachbehandlung verwendet werden.
In den Industriesparten der Plattenherstellung und des Druckens wird in den letzten Jahren eine automatische Entwicklungsvorrichtung für Druckplatten weitverbreitet verwendet, um den Plattenherstellungsprozess zu rationalisieren und zu standardisieren. Diese automatische Entwicklungsvorrichtung besteht im allgemeinen aus einem Entwicklungsteil, einem Nachbehandlungsteil, einer Vorrichtung zum Befördern der Druckplatte, einem Bad für jede Behandlungslösung und einer Sprühvorrichtung, und während eine Druckplatte nach der Belichtung horizontal befördert wird, wird jede Behandlungslösung mittels einer Pumpe zur Entwicklung auf die Druckplatte durch eine Sprühdüse gesprüht. Kürzlich wurde auch ein Verfahren bekannt, in dem eine Druckplatte in einem Behandlungslösungsbad, das mit einer Behandlungslösung gefüllt ist, eintauchbehandelt wird, während sie mittels Führungswalzen in der Lösung befördert wird. Solch eine automatische Behandlung kann durch Zusetzen einer Zusatzlösung zu jeder Behandlungslösung in Abhängigkeit von dem Durchsatz, der Betriebszeit usw. durchgeführt werden. Ferner kann die Zusatzlösung automatisch zugeführt werden, wobei die elektrische Leitfähigkeit mit einem Sensor gemessen wird.
Das sogenannte "Wegwerf"-Behandlungssystem, in dem mit einer im wesentlichen frischen Behandlungslösung behandelt wird, kann ebenfalls eingesetzt werden.
Falls nötig, wird die so erhaltene Flachdruckplatte mit einem desensibilisierenden fettenden Gummi beschichtet und dann zum Drucken verwendet, falls jedoch eine Flachdruckplatte mit höherer Druckbeständigkeit gewünscht ist, wird sie einer Brennbehandlung unterzogen.
Wenn die Flachdruckplatte dem Brennen unterzogen wird, wird die Platte vor dem Brennen vorzugsweise mit solchen Oberflächen-einstellenden Lösungen, die in JP-B Nrn. 61-2518, 55-28062 und JP-A Nrn. 62-31859 und 61-159655 beschrieben sind, behandelt.
Für diese Behandlung wird ein Verfahren eingesetzt, in dem ein Schwamm oder adsorbierende Baumwolle, imprägniert mit der Oberflächen-einstellenden Lösung, auf die Flachdruckplatte angewendet wird, oder die Flachdruckplatte wird in ein Gefäss eingetaucht, das mit der Oberflächen-einstellenden Lösung gefüllt ist, oder es wird mit einem automatischen Beschichter beschichtet.
Ferner werden bessere Ergebnisse erhalten, wenn die Oberflächen-einstellende Lösung gleichmässig mit einer Presse oder mit Abpresswalzen aufgetragen wird.
Im allgemeinen beträgt die Menge der aufgetragenen Oberflächen-einstellenden Lösung vorzugsweise 0,03 bis 0,8 g/m² (Trockengewicht).
Die mit der Oberflächen-einstellenden Lösung beschichtete Flachdruckplatte wird, falls nötig, getrocknet und dann bei hohen Temperaturen mit einem Brennbehandler (z.B. der Brennbehandler BP-1300 von Fuji Photo Film Co., Ltd.) erwärmt. In diesem Fall werden die Erwärmungstemperatur und die -zeit in Abhängigkeit von den Komponenten, die das Bild erzeugen, verändert, jedoch betragen sie vorzugsweise 180 bis 300°C und 1 bis 20 Minuten.
Nach der Brennbehandlung kann die Flachdruckplatte konventionellen Behandlungen, wie Waschen mit Wasser und Gummieren (gumming drawing), falls nötig, unterzogen werden, falls jedoch eine Oberflächen-einstellende Lösung, die wasserlösliche Polymere usw. enthält, verwendet wird, kann auf die sogenannte desensibilisierende fettende Behandlung, wie Gummieren, verzichtet werden.
Die aus dem erfindungsgemässen Bildaufzeichnungsmaterial erhaltene Flachdruckplatte wird auf eine Offset-Druckmaschine usw. geladen und zum Drucken auf einer Vielzahl von Papieren verwendet.
BEISPIELE
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Synthesebeispiele, Beispiele und Vergleichsbeispiele beschrieben, die jedoch die Erfindung nicht beschränken sollen.
SYNTHESEBEISPIELE
SYNTHESEBEISPIEL 1
Spezifische alkalilösliche Polymerverbindung (1):
60 ml N,N-Dimethylacetamid wurden in einen 500 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rückflusskühler und einem Rührer ausgerüstet war, eingebracht und dann auf 70°C erwärmt. Es wurden 60 ml einer Lösung von 50 g 4-Carboxystyrol und 2,49 g V-65 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in N,N-Dimethylacetamid über 2,5 Stunden in einem Stickstoffstrom zugetropft. Ferner wurde die Mischung bei 70°C für 2 Stunden reagieren gelassen. Die Reaktionsmischung wurde mit 120 ml N,N-Dimethylacetamid verdünnt und auf Raumtemperatur abgekühlt, und es wurden 34 g Triethylamin über einen Tropftrichter zu der Reaktionsmischung unter Rühren zugetropft. Nachdem diese Zugabe vollendet war, wurden 47 g 3-Brompropylmethacrylat über einen Tropftrichter zu der Reaktionslösung unter Rühren zugetropft, und die Mischung wurde für 8 Stunden reagieren gelassen.
Nachdem die Reaktionsmischung auf 0°C abgekühlt worden war, wurde hierzu 5 M HCl unter Rühren zugetropft, bis der pH-Wert der Reaktionsmischung auf 6 oder kleiner verringert war. Die Reaktionslösung wurde in 5 l Wasser gegossen, um ein Polymer auszufällen. Dieses Produkt wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (1) zu ergeben.
Durch sein NMR-Spektrum wurde bestätigt, dass 70% der Carboxylgruppen des Polymers in den 3-Methacryloyloxypropylester umgewandelt worden waren. Die Glasübergangstemperatur, bestimmt mittels DSC, betrug 105°C, und das gewichtsgemittelte Molekulargewicht, bestimmt mittels Gelpermeationschromatografie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als Standard, betrug 90.000.
SYNTHESEBEISPIEL 2
Spezifische alkalilösliche Polymerverbindung (2):
150 ml N,N-Dimethylacetamid wurden in einen 1.000 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rückflusskühler und einem Rührer ausgerüstet war, eingebracht und dann auf 70°C erwärmt. Es wurden 150 ml einer Lösung von 74 g 4-Carboxystyrol, 52 g Styrol und 2,46 g V-65 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in N,N-Dimethylacetamid über 2,5 Stunden in einem Stickstoffstrom zugetropft. Ferner wurde die Mischung bei 70°C für 2 Stunden reagieren gelassen. Die Reaktionsmischung wurde mit 150 ml N,N-Dimethylacetamid verdünnt und auf Raumtemperatur abgekühlt, und es wurden 52 g Triethylamin über einen Tropftrichter zu der Reaktionsmischung unter Rühren zugetropft. Nachdem diese Zugabe vollendet war, wurden 60 g 3-Brompropylmethacrylat über einen Tropftrichter zu der Reaktionslösung unter Rühren zugetropft, und die Mischung wurde für 8 Stunden reagieren gelassen.
Nachdem die Reaktionsmischung auf 0°C abgekühlt worden war, wurde hierzu 5 M HCl unter Rühren zugetropft, bis der pH-Wert der Reaktionsmischung auf 6 oder kleiner verringert war. Die Reaktionslösung wurde in 5 l Wasser gegossen, um ein Polymer auszufällen. Dieses Produkt wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (2) zu ergeben.
Durch sein NMR-Spektrum wurde bestätigt, dass 30% der Carboxylgruppen des Polymers in den 3-Methacryloyloxypropylester umgewandelt worden waren. Die Glasübergangstemperatur, bestimmt mittels DSC, betrug 110°C, und das gewichtsgemittelte Molekulargewicht, bestimmt mittels Gelpermeationschromatografie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als Standard, betrug 110.000.
SYNTHESEBEISPIEL 3
Spezifische alkalilösliche Polymerverbindung (3):
100 g Poly-p-hydroxystyrol mit einem gewichtsgemittelten Molekulargewicht von 40.000 wurden in 500 ml N,N-Dimethylacetamid in einen 1.000 ml-Dreihalskolben, der mit einem Rückflusskühler und einem Rührer ausgerüstet war, aufgelöst. Es wurden 42 g Triethylamin bei Raumtemperatur über einen Tropftrichter zu der Reaktionsmischung unter Rühren zugetropft. Nachdem diese Zugabe vollendet war, wurden 83 g 3-Brompropylmethacrylat über einen Tropftrichter zu der Reaktionslösung unter Rühren zugetropft, und die Mischung wurde für 8 Stunden reagieren gelassen.
Nachdem die Reaktionsmischung auf 0°C abgekühlt worden war, wurde hierzu 5 M HCl unter Rühren zugetropft, bis der pH-Wert der Reaktionsmischung auf 6 oder kleiner verringert war. Die Reaktionslösung wurde in 5 l Wasser gegossen, um ein Polymer auszufällen. Dieses Produkt wurde abfiltriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (3) zu ergeben.
Durch sein NMR-Spektrum wurde bestätigt, dass 50% der Carboxylgruppen des Polymers in den 3-Methacryloyloxypropylester umgewandelt worden waren. Die Glasübergangstemperatur, bestimmt mittels DSC, betrug 112°C, und das gewichtsgemittelte Molekulargewicht, bestimmt mittels Gelpermeationschromatografie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als Standard, betrug 50.000.
Die spezifischen alkalilöslichen Polymerverbindungen (Polymerverbindungen (1) bis (23)) wurden auf die gleiche Weise wie in den Synthesebeispielen 1 bis 3 hergestellt, ausser dass die in den Tabellen 1 bis 3 gezeigten entsprechenden Monomere verwendet wurden. Ferner zeigen die Tabellen 1 bis 3 die Messergebnisse der Glasübergangstemperatur (Tg in den Tabellen) jeder Polymerverbindung, bestimmt mittels DSC, und des Molekulargewichts, bestimmt mittels GPC. TABELLE 1

WAMW*:: Gewichtsgemitteltes Molekulargewicht

WAMW*:: Gewichtsgemitteltes Molekulargewicht

WAMW*:: Gewichtsgemitteltes Molekulargewicht

BEISPIELE 1 BIS 4 UND VERGLEICHSBEISPIEL 1
Herstellung des Substrats:
Eine Legierungsschmelze, die 99,5% oder mehr Aluminium, 0,30% Fe, 0,10% Si, 0,02% Ti und 0,013% Cu enthielt, wurde einer Reinigungsbehandlung unterworfen und dann gegossen. Bei dieser Reinigungsbehandlung wurde die Schmelze entgast, um unnötige Gase, wie Wasserstoff, zu entfernen, und durch einen keramischen Röhrenfilter filtriert. Der Guss wurde mit einem diskontinuierlichen (DC) Gussverfahren durchgeführt. Nachdem eine 10 mm-Oberflächenschicht von der koagulierten Barrenplatte von 500 mm Dicke entfernt worden war, wurde die Platte einer Homogenisierungsbehandlung bei 550°C für 10 Stunden unterzogen, so dass intermetallische Verbindung nicht agglomerierten. Dann wurde die Platte bei 400°C heissgewalzt, dann bei 500°C für 60 Sekunden in einem kontinuierlichen Glühofen geglüht und kaltgewalzt, um eine gewalzte Aluminiumplatte mit 0,3 mm Dicke zu erzeugen. Durch Regulieren der Rauhigkeit der Druckwalzen wurde die mittlere Zentrallinien-Oberflächenrauhigkeit (Ra) nach dem Kaltwalzen auf 0,2 μm eingestellt.
Danach wurde die Platte in einem Zugnivellierer (tension leveler) plaziert, um die Flachheit zu verbessern.
Dann wurde die Platte einer Oberflächenbehandlung unterzogen, um ein Substrat für eine Flachdruckplatte zu bilden.
Zunächst wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte bei 50°C für 30 Sekunden in einer 10%-igen wässrigen Natriumaluminatlösung entfettet, um das Walzöl hiervon zu entfernen, und dann mit 30%-iger wässriger Schwefelsäure bei 50°C für 30 Sekunden neutralisiert, um Beläge (smuts) hiervon zu entfernen.
Dann wurde die Oberfläche des Substrats aufgerauht (d.h. gekörnt), um hierdurch die Anhaftung des Substrats an die Aufzeichnungsschicht zu erleichtern, wobei dem Nicht-Bildteil Wasserretentionseigenschaften verliehen wurden. Das Substrat wurde einer elektrolytischen Körnung durch Aufschwimmen des Aluminiumnetzes in einer wässrigen Lösung, die 1% Salpetersäure und 0,5% Aluminiumnitrat enthielt, bei 45°C und Elektrifizieren bei 240 C/dm² auf der Anodenseite mit einer Stromdichte von 20 A/dm² in einer alternierenden Wellenform mit einem Wellenverhältnis (duty ratio) von 1:1 aus einer indirekten Zuführzelle (feeder cell) gekörnt. Danach wurde das Substrat bei 50°C für 30 Sekunden in einer 10%-igen wässrigen Natriumaluminatlösung geätzt und dann mit 30%-iger wässriger Schwefelsäure bei 50°C für 30 Sekunden neutralisiert, um Beläge hiervon zu entfernen.
Ferner wurde das Substrat anodisiert, um hierauf einen Oxidfilm zu bilden, um die Abriebbeständigkeit, die chemische Beständigkeit und die Wasserretentionseigenschaften zu verbessern. Das Substrat wurde einer Elektrolyse in 20%-iger wässriger Schwefelsäure als Elektrolyt bei 35°C mit einem Gleichstrom von 14 A/dm² von einer indirekten Zuführzelle unterworfen, während das Aluminiumnetz in dem Elektrolyten aufschwamm, um hierauf einen anodisierten Film von 2,5 g/m² zu bilden.
Danach wurde die Oberfläche des Substrats durch Behandeln mit einem Silicat hydrophil gestaltet, um die Hydrophilizität auf dem Nicht-Bildteil der Flachdruckplatte sicherzustellen. Diese Behandlung wurde durchgeführt, indem eine wässrige Natriumsilicatlösung Nr. 3 bei 70°C überführt wurde, so dass die Kontaktzeit hiervon mit dem Aluminiumnetz 15 Sekunden betrug, und dann wurde das Substrat mit Wasser gewaschen. Die hieran anhaftende Menge an Si betrug 10 mg/m². Die Ra (Zentrallinien-Oberflächenrauhigkeit) des so hergestellten Substrats betrug 0,25 μm.
Erzeugung einer Aufzeichnungsschicht:
Die nachstehende Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-1) wurde hergestellt, mit einem Drahtrakel auf das auf die oben beschriebene Weise erhaltene Aluminiumsubstrat aufgetragen und bei 115°C für 45 Sekunden in einem Heissluftofen getrocknet, um eine Aufzeichnungsschicht zu erzeugen, um einen Flackdruckplattenvorläufer zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag im Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Die in den Beispielen verwendeten alkalilöslichen Polymere sind die spezifischen alkalilöslichen Polymere, die in den vorstehend beschriebenen Synthesebeispielen erhalten wurden, und die strukturelle Einheit des alkalilöslichen Polymers (B-1), das in Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, wird später gezeigt. DPHA, das als radikalpolymerisierbare Verbindung verwendet wurde, ist Dipentaerythritolhexaacrylat. Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-1):

*: die in Tabelle 4 gezeigte Verbindung in der in Tabelle 4 gezeigten Menge

Bewertung des Flachdruckplattenvorläufers:
Jeder der resultierenden Flachdruckplattenvorläufer wurde bei Raumtemperatur für 3 Tage gelagert und dann mit Laserlicht belichtet, oder bei 60°C für 3 Tage ohne Belichtung mit Laserlicht gelagert, und dann bezüglich des Unlöslichkeitsgrades in Dimethylsulfoxid als Index für die Empfindlichkeit der Aufzeichnungsschicht vermessen, um den Härtungsgrad durch Belichtung und die Lagerungsstabilität zu bewerten. Die Bedingungen der Belichtung sind wie folgt. Die Bewertungsergebnisse sind nachstehend in Tabelle 4 gezeigt.
Belichtung:
Die Belichtung wurde unter den Bedingungen einer Leistung von 6,5 W, einer äusseren Trommelumdrehungszahl von 81 U/min, einer Energie von 188 mJ/cm² auf der Platte und einer Auflösung von 2.400 dpi mit einer Belichtungsvorrichtung (Handelsname: Trendsetter-3244VFS, hergestellt von CREO Co., Ltd.), die mit einem wassergekühlten 40 W-Infrarot-Halbleiterlaser ausgerüstet ist, durchgeführt.
Wie aus Tabelle 4 ersichtlich ist, wurde jede Flachdruckplatte, bei der das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial verwendet wurde, durch Laserbelichtung hochgradig gehärtet und ging keine Härtung über die Zeit während der Lagerung in einer Hochtemperaturatmosphäre ein, und somit wurden ein hoher Härtungsgrad durch Belichtung und exzellente Lagerungsstabilität erreicht. Andererseits erreichte die Flachdruckplatte des Vergleichsbeispiels 1, bei der das erfindungsgemässe spezifische, alkalilösliche Polymer nicht verwendet wurde, einen ähnlichen Härtungsgrad, jedoch härtete die Aufzeichnungsschicht über die Zeit, so dass ein Problem bei der Lagerungsstabilität auftritt.
BEISPIELE 5 BIS 10 UND VERGLEICHSBEISPIELE 2 BIS 4
Ein zu dem von Beispiel 1 ähnliches Aluminiumsubstrat wurde mit der nachstehend gezeigten Beschichtungslösung für eine Grundierungsschicht beschichtet und für 30 Sekunden in einer Atmosphäre bei 80°C getrocknet. Die Menge der Beschichtung nach dem Trocknen betrug 10 mg/m².
Beschichtungslösung für die Grundierungsschicht:
Die folgenden Bestandteile wurden vermischt, um eine Beschichtungslösung für die Grundierungsschicht herzustellen.
Die nachstehend gezeigte Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-2) wurde hergestellt, mittels eines Drahtrakels auf die auf dem Substrat gebildete Grundierungsschicht aufgetragen und bei 115°C für 45 Sekunden in einem Heissluftofen getrocknet, um einen Flackdruckplattenvorläufer zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag im Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Die in den Beispielen verwendeten alkalilöslichen Polymere sind die spezifischen alkalilöslichen Polymere, die in den Synthesebeispielen erhalten wurden, und ATMMT ist Pentaerythritoltetraacrylat. Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-2):

*: die in Tabelle 5 gezeigte Verbindung in der in Tabelle 5 gezeigten Menge

Belichtung:
Der resultierende Flachdruckplattenvorläufer wurde unter den Bedingungen einer Leistung von 9 W, einer äusseren Trommelumdrehungszahl von 210 U/min, einer Energie von 133 mJ/cm² auf der Platte und einer Auflösung von 2.400 dpi mit einer Belichtungsvorrichtung (Handelsname: Trendsetter-3244VFS, hergestellt von CREO Co., Ltd.), die mit einem wassergekühlten 40 W-Infrarot-Halbleiterlaser ausgerüstet ist, belichtet.
Entwicklungsbehandlung:
Nach der Belichtung wurde der Flachdruckplattenvorläufer mit einer automatischen Entwicklungsvorrichtung (Handelsname: Stabron 900NP, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Als Entwicklungslösung wurde das nachstehend gezeigte (D-1) als Chargenlösung verwendet, während das nachstehende (D-2) als Zusatzlösung verwendet wurde. Die Temperatur des Entwicklungsbades betrug 30°C und die Entwicklungszeit betrug 12 Sekunden. Die Zusatzlösung wurde automatisch zugeführt, so dass die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklungslösung in der automatischen Entwicklungsvorrichtung konstant gehalten wurde. Der verwendete Finisher war eine Lösung von FN-6 (Handelsname, Fuji Photo Film Co., Ltd.), verdünnt mit Wasser in einem Verhältnis von 1:1.
Bewertung der Druckbeständigkeit:
Dann wurde der Flachdruckplattenvorläufer beim Drucken mit einer Druckvorrichtung (Handelsname: Lithron, hergestellt von Komori Corporation) verwendet. Es wurde mit dem blossen Auge bestimmt, wieviel Drucke mit Tinte, bei einer ausreichenden Konzentration gehalten, erhalten werden konnten, um die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 zusammengefasst.
TABELLE 5
Wie aus den Ergebnissen in Tabelle 5 ersichtlich ist, erreichte jede Flachdruckplatte, bei der das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial als Aufzeichnungsschicht verwendet wurde, eine gegenüber den Vergleichsbeispielen 2, 3 und 4 überlegene Druckbeständigkeit.
BEISPIELE 11 BIS 14 UND VERGLEICHSBEISPIEL 5
Herstellung eines Substrats:
Nachdem die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 mesh Bimsstein (phonetic) gekörnt worden war, wurde sie ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde durch Eintauchen für 60 Sekunden in 10 Gew.-%-iges wässriges Natriumhydroxid bei 70°C geätzt und dann mit fliessendem Wasser gewaschen, neutralisiert und mit 20 Gew.-%-iger Salpetersäure gewaschen und mit Wasser gewaschen. Das Substrat wurde einer elektrolytischen Körnung mit einem Sinuswellenstrom in alternierender Wellenform bei 12,7 V in 1 Gew.-%-ige wässriger Salpetersäure bei 160 C/dm² auf der Anodenseite unterworfen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde zu 0,6 μm (ausgedrückt als Ra) bestimmt. Danach wurde das Substrat für 2 Minuten in 30 Gew.-%-ige wässrige Schwefelsäure bei 55°C eingetaucht, um Beläge hiervon zu entfernen, und dann für 2 Minuten mit einer Stromdichte von 2 A/dm² in einer 20 Gew.-%-igen wässrigen Schwefelsäure anodisiert, um einen anodisierten Film von 2,7 g/m² zu bilden. Dann wurde die Aluminiumplatte mit einer später beschriebenen Unterbeschichtungslösung beschichtet und dann in einer Atmosphäre bei 80°C für 30 Sekunden getrocknet. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 10 mg/m².
Erzeugung einer Aufzeichnungsschicht:
Die nachstehende Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-3) wurde hergestellt, mit einem Drahtrakel auf das auf die oben beschriebene Weise erhaltene Aluminiumsubstrat aufgetragen und bei 115°C für 45 Sekunden in einem Heissluftofen getrocknet, um hierauf eine Aufzeichnungsschicht zu bilden, um einen Flackdruckplattenvorläufer zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag im Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m². Die Flachdruckplatte wurde einer Laserrasterbelichtung und einer Entwicklung unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 5 unterworfen. Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-3):

*: die in Tabelle 6 gezeigte Verbindung in der in Tabelle 6 gezeigten Menge

Die Druckplatte wurde beim Drucken auf die gleiche Weise wie in Beispiel 5 verwendet und bezüglich der Empfindlichkeit, der Druckbeständigkeit und des Anfleckens bewertet. Separat wurde jeder der resultierenden Flachdruckplattenvorläufer bei 60°C für 3 Tage oder bei 45°C bei 75% relativer Luftfeuchtigkeit für 3 Tage stehen gelassen und dann auf die gleiche Weise wie oben zum Drucken verwendet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 6 zusammengefasst.
Wie aus Tabelle 6 ersichtlich ist, war jede Flachdruckplatte, bei der das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial als Aufzeichnungsschicht verwendet wurde, bezüglich der Druckbeständigkeit ohne Anflecken des Nicht-Bildteils herausragend und bezüglich der Stabilität über die Zeit ohne Verringerung der Druckbeständigkeit oder Anfleckbeständigkeit des Nicht-Bildteils überlegen, sogar nach Lagerung bei hoher Temperatur und in einer hochfeuchten Umgebung.
BEISPIELE 15 BIS 18 UND VERGLEICHSBEISPIELE 6
Herstellung eines Substrats:
Nachdem die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 mesh Bimsstein (phonetic) gekörnt worden war, wurde sie ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde durch Eintauchen für 60 Sekunden in 10 Gew.-%-iges wässriges Natriumhydroxid bei 70°C geätzt und dann mit fliessendem Wasser gewaschen, neutralisiert und mit 20 Gew.-%-iger Salpetersäure gewaschen und mit Wasser gewaschen. Das Substrat wurde einer elektrolytischen Körnung mit einem Sinuswellenstrom in alternierender Wellenform bei 12,7 V in 1 Gew.-%-ige wässriger Salpetersäure bei 160 C/dm² auf der Anodenseite unterworfen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde zu 0,6 μm (ausgedrückt als Ra) bestimmt. Danach wurde das Substrat für 2 Minuten in 30 Gew.-%-ige wässrige Schwefelsäure bei 55°C eingetaucht, um Beläge hiervon zu entfernen, und dann für 2 Minuten mit einer Stromdichte von 2 A/dm² in einer 20 Gew.-%-igen wässrigen Schwefelsäure anodisiert, um einen anodisierten Film von 2,7 g/m² zu bilden.
Bildung einer Unterbeschichtungsschicht:
Eine flüssige Zusammensetzung (Sol) wurde nach dem Sol-Gel-Verfahren durch die nachstehend beschriebene Prozedur hergestellt.
Die obigen Komponenten für die Solzusammensetzung wurden vermischt und gerührt. Nach 5 Minuten wurde eine exotherme Reaktion beobachtet. Die Mischung wurde für 60 Minuten reagieren gelassen und dann in ein anderes Gefäss überführt, und es wurden 3.000 g Methanol hinzugegeben, um das Sol zu erhalten.
Dieses Sol wurde mit Methanol/Ethylenglykol (9:1, Gewichtsverhältnis) verdünnt und auf ein Substrat aufgetragen, um eine Beschichtung zu erhalten, die Si in einer Menge von 30 mg/m² hierauf enthielt, und die Beschichtung wurde bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
Die Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-4) mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung wurde mit einem Drahtrakel auf die Grundierungsschicht auf dem so behandelten Aluminiumsubstrat aufgetragen und dann bei 115°C für 45 Sekunden in einem Heissluftofen getrocknet, um einen Flachdruckplattenvorläufer herzustellen. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag im Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m². Beschichtungslösung für die Aufzeichnungsschicht (P-4):

*: die in Tabelle 7 gezeigte Verbindung in der in Tabelle 7 gezeigten Menge

Belichtung:
Dir resultierende Flachdruckplatte wurde unter den Bedingungen einer Leistung von 250 mW pro Strahl, einer äusseren Trommelumdrehungszahl von 800 U/min und einer Auflösung von 2.400 dpi mit einer Belichtungsvorrichtung (Handelsname: Luxel T-9000CTP, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), die mit einem Multi-Kanalkopf ausgerüstet ist, belichtet.
Entwicklungsbehandlung:
Nach der Belichtung wurde der Flachdruckplattenvorläufer mit einer automatischen Entwicklungsvorrichtung (Handelsname: Stabron 900NP, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt. Als Entwicklungslösung waren sowohl die Chargenlösung als auch die Zusatzlösung Lösungen von DP-4 (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), verdünnt mit Wasser in einem Verhältnis von 1:8. Die Temperatur des Entwicklungsbades betrug 30°C. Der verwendete Finisher war eine Lösung von GU-7 (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), verdünnt mit Wasser in einem Verhältnis von 1:2.
Bewertung der Druckbeständigkeit und des Anfleckens:
Dann wurde die Flachdruckplatte zum Drucken mit einer Druckvorrichtung (Handelsname: SOR-KZ, hergestellt von Heidelberg) verwendet. Wie viele Drucke beim Drucken erhalten werden konnten, wobei die Tinte bei einer ausreichenden Konzentration gehalten wurde, wurde bestimmt um die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die resultierenden Drucke wurden mit dem blossen Auge bezüglich des Anfleckens des Nicht-Bildteils bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 zusammengefasst.
Wie aus Tabelle 7 ersichtlich ist, war jede Flachdruckplatte, bei der das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial als Aufzeichnungsschicht verwendet wurde, bezüglich der Druckbeständigkeit herausragend, ohne den Nicht-Bildteil anzuflecken.
Das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial umfasst ein alkalilösliches Polymer mit einem spezifischen Tg, das eine ungesättigte Gruppe in einer Seitenkette hiervon aufweist, und es ist somit bezüglich der Stabilität während der Lagerung herausragend und bezüglich der Bilderzeugungsfähigkeit mit Bildbereichen hoher Festigkeit überlegen. Wenn das erfindungsgemässe Bildaufzeichnungsmaterial als Aufzeichnungsschicht eines Flachdruckplattenvorläufers verwendet wird, ist der Flachdruckplattenvorläufer ferner herausragend bezüglich der Stabilität während der Lagerung und kann beim Drucken mit einem Infrarotlaser verwendet werden, um eine herausragende Druckbeständigkeit zu erreichen.

Claims

Negatives Bildaufzeichnungsmaterial, auf dem ein Bild durch Belichtung erzeugt werden kann, umfassend: (A) einen Feststoffgehalt von 5 bis 95 Gew.-% eines Polymers, bezogen auf das negative Bildaufzeichnungsmaterial, das in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslich ist und das aufweist: (i) eine Glasübergangstemperatur von 80°C oder mehr; und (ii) zumindest eine Aufbaueinheit, die sich aus einem Styrolderivat ableitet, dargestellt durch die allgemeine Formel (5):
worin R¹⁹ ein Wasserstoffatom oder eine C_1-5-Alkylgruppe darstellt, und R²⁰ bis R²⁴ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Alkylgruppe, aromatische Gruppe, heterocyclische Gruppe, Hydroxylgruppe, Alkoxygruppe, Aryloxygruppe, Mercaptogruppe, Alkylthiogruppe, Arylthiogruppe, Alkyldithiolgruppe, Aryldithiogruppe, Aminogruppe, N-Alkylaminogruppe, N,N-Dialkylaminogruppe, N-Arylaminogruppe, N,N-Diarylaminogruppe, N-Alkyl-N-arylaminogruppe, Acyloxygruppe, Carbamoyloxygruppe, N-Alkylcarbamoyloxygruppe, N-Arylcarbamoyloxygruppe, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, Alkylsulfoxygruppe, Arylsulfoxygruppe, Acylthiogruppe, Acylaminogruppe, N-Alkylacylaminogruppe, N-Arylacylaminogruppe, Ureidogruppe, N-Alkylureidogruppe, N,N-Dialkylureidogruppe, N-Arylureidogruppe, N,N-Diarylureidogruppe, N-Alkyl-N-arylureidogruppe, N-Alkylureidogruppe, N-Arylureidogruppe, N-Alkyl-N-alkylureidogruppe, N-Alkyl-N-arylureidogruppe, N,N-Dialkyl-N-alkylureidogruppe, N,N-Dialkyl-N-arylureidogruppe, N-Aryl-N-alkylureidogruppe, N-Aryl-N-arylureidogruppe, N,N-Diaryl-N-alkylureidogruppe, N,N-Diaryl-N-arylureidogruppe, N-Alkyl-N-aryl-N-alkylureidogruppe, N-Alkyl-N-aryl-N-arylureidogruppe, Alkoxycarbonylaminogruppe, Aryloxycarbonylaminogruppe, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, N-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, N-Aryl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, N-Aryl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, Formylgruppe, Acylgruppe, Carboxylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Carboxylat bezeichnet), Alkoxycarbonylgruppe, Aryloxycarbonylgruppe, Carbamoylgruppe, N-Alkylcarbamoylgruppe, N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, N-Arylcarbamoylgruppe, N,N-Diarylcarbamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, Alkylsulfinylgruppe, Arylsulfinylgruppe, Alkylsulfonylgruppe, Arylsulfonylgruppe, Sulfogruppe (-SO₃H) und ihre konjugierte Base (im nachfolgenden als Sulfonatgruppe bezeichnet); und Alkoxysulfonylgruppe, Aryloxysulfonylgruppe, Sulfinamoylgruppe, N-Alkylsulfinamoylgruppe, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, N-Arylsulfinamoylgruppe, N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, Sulfamoylgruppe, N-Alkylsulfamoylgruppe, N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, N-Arylsulfamoylgruppe, N,N-Diarylsulfamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppe, N-Acylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe, N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte Base, N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe und ihre konjugierte Base, Alkoxysilylgruppe (-Si(Oalkyl)₃), Aryloxysilylgruppe, Hydroxylylgruppe (-Si(OH)₃) und ihre konjugierte Base, Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Phosphonatgruppe bezeichnet), Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)₂), Diarylphosphonogruppe (-PO₃(aryl)₂), Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)(aryl)), Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃H(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Alkylphosphonatgruppe bezeichnet), Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Arylphosphonatgruppe bezeichnet), Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Phosphonatoxygruppe bezeichnet), Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃(alkyl)₂), Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(aryl)₂), Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(alkyl)(aryl)), Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Alkylphosphonatoxygruppe bezeichnet), Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe (im nachfolgenden als Arylphosphonatoxygruppe bezeichnet), Cyanogruppe und Nitrogruppe, wobei zumindest eines von R²⁰ bis R²⁴ eine Struktur aufweist, die durch eine der allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellt wird:
worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe darstellt; R² und R³ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Aminogruppe, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Sulfogruppe, Nitrogruppe, Cyanogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe oder gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; R⁴ bis R⁸ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Aminogruppe, Dialkylaminogruppe, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Sulfogruppe, Nitrogruppe, Cyanogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe und gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; R⁹ ist ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe; R¹⁰ und R¹¹ stellen unabhängig ein Wasserstoffatom, Halogenatom, Aminogruppe, Dialkylaminogruppe, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Sulfogruppe, Nitrogruppe, Cyanogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe, gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, gegebenenfalls substituierte Alkoxygruppe, gegebenenfalls substituierte Aryloxygruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Arylaminogruppe, gegebenenfalls substituierte Alkylsulfonylgruppe oder gegebenenfalls substituierte Arylsulfonylgruppe dar; oder R¹ und R² können in Formel (1) miteinander verbunden sein, um einen aliphatischen Ring oder einen heterocyclischen Ring zu bilden, der unter Morpholin, Piperazin, Pyrrolidin, Pyrrol und Indolin ausgewählt wird, wovon jedes gegebenenfalls substituiert sein kann; X und Y stellen unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar; und Z stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine gegebenenfalls substituierte Phenylengruppe dar; und R¹² stellt ein Wasserstoffatom oder eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe dar; der gegebenenfalls vorhandene Substituent in den obigen Definitionen von R² bis R¹² wird unter einer Alkylgruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Aryloxygruppe, einem Halogenatom, einer Aminogruppe, einer Alkylaminogruppe, einer Arylaminogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Alkoxycarbonylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Nitrogruppe, einer Cyanogruppe, einer Amidgruppe, einer Alkylsulfonylgruppe oder einer Arylsulfonylgruppe ausgewählt; (B) einen/ein Infrarotstralalung absorbierenden/absorbierendes Farbstoff oder Pigment mit einem Absorptionsmaximum in dem Wellenlängenbereich 760–1.200 nm als Licht/Wärme-Umwandlungsmittel; und (C) eine Verbindung, die durch Belichtung unter Verwendung von Licht einer Wellenlänge, die von dem Licht/Wärme-Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, ein Radikal bildet.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, das weiterhin (D) eine radikalpolymerisierbare Verbindung umfaßt, die zumindest eine endständige ethylenisch ungesättigte Bindung aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis des Polymers (A): radikalpolymerisierbare Verbindung (D) 1:0,05–3 beträgt.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1 oder 2, worin die Glasübergangstemperatur des Polymers (A) 100°C oder mehr beträgt.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin das Polymer (A) zumindest 1,5 meq/g Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen in seiner Seitenkette enthält.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin das Polymer (A) zumindest eine Amidgruppe in einer Seitenkette hiervon aufweist.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin die Hauptkettenstruktur des Polymers (A) zumindest eines von einem Poly(meth)acrylharz, einem Polystyrolharz, einem Polyurethanharz oder einem Acetal-denaturierten Polyvinylharz beinhaltet.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin das Polymer (A) wenigstens 30 mol% von sich aus dem Styrolderivat ableitenden Aufbaueinheiten, relativ zu 100 mol% der Gesamteinheiten in dem Polymer, enthält.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin das gewichtsgemittelte Molekulargewicht des Polymers (A) 6.000 oder mehr beträgt.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 8, worin das gewichtsgemittelte Molekulargewicht des Polymers (A) 50.000 bis 200.000 beträgt.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial gemäß irgendeinem vorhergehenden Anspruch, worin die Erweichungstemperatur einer Bildaufzeichnungsschicht, die von (A), (B) und (C) gebildet wird, 60°C oder mehr beträgt.
Flachdruckplattenvorläufer, umfassend einen hydrophilen Träger, der ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial trägt, wie es in irgendeinem vorhergehenden Anspruch definiert ist, dazu befähigt, durch Belichtung mit Licht mit einer Leistungsdichte von zumindest 5.000 W/cm² bebildert zu werden.