DE69911492T2

DE69911492T2 - Anionischer Infrarotabsorber, photoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckform-Vorstufe

Info

Publication number: DE69911492T2
Application number: DE69911492T
Authority: DE
Inventors: Tatsuo Yoshida-cho Nakamura; Kazuto Yoshida-cho Kunita; Shinichi Minami-Ashigara-shi Morishima
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1998-03-26
Filing date: 1999-03-24
Publication date: 2004-07-01
Anticipated expiration: 2019-03-25
Also published as: US6444393B2; DE69911492D1; US20010003639A1; EP0945264A1; EP0945264B1

Description

Hintergrund der Erfindung
Bereich der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine fotoempfindliche Zusammensetzung, geeignet als ein bildgebendes Material vom Positivtyp und ebenfalls als Flachdruck-Vorläuferplatte unter Verwendung dieser Zusammensetzung. Genauer betrifft die vorliegende Erfindung eine bildgebende Zusammensetzung vom Positivtyp entworfen zur Verwendung mit einem Infrarotlaser und gekennzeichnet durch die Beschreibbarkeit mittels Wärme, insbesondere mit einem Infrarotlaser, Thermokopf oder dgl. und durch die Eignung zur Verwendung in einer Flachdruck-Vorläuferplatte, herstellbar durch ein sogenanntes direktes Platten-Herstellungsverfahren, bei der die Platte direkt aus digitalen Signalen hergestellt wird, insbesondere von einem Computer oder dgl. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Flachdruck-Vorläuferplatte, die die vorgenannte Zusammensetzung nutzt.
Beschreibung des Standes der Technik
In den letzten Jahren wurde aufgrund des technologischen Fortschritts bei Feststofflaser und Halbleiterlaser erzeugten Strahlungen in Regionen, die vom nahen Infrarotbereich bis zum Infrarotbereich reichen, die Aufmerksamkeit gelenkt auf ein System, das diese Infrarotlaser in einem Herstellungsprozess für eine Druckplatte nutzt, so dass eine Druckplatte direkt von digitalen Daten aus einem Computer herstellbar ist.
Die offengelegte japanische Patentanmeldung (JP-A) Nr. 7-285,275 offenbart ein Material für eine Flachdruck-Vorläuferplatte vom Positivtyp zur Verwendung mit einem Infrarotlaser bei der direkten Plattenherstellung. Diese Erfindung betrifft ein bildgebendes Material, umfassend ein in wässriger alkalischer Lösung lösliches Harz, eine Substanz, die durch Absorption von Licht Wärme erzeugen kann und eine fotoempfindliche Verbindung für ein Positiv, wie ein Chinondiazid, wobei in den Bildbereichen die fotoempfindliche Verbindung vom Positivtyp als ein Löslichkeits-hemmendes Mittel wirkt, das wesentlich die Löslichkeit des in wässriger alkalischer Lösung löslichen Harzes reduziert, während in den Nicht-Bildbereichen die Verbindung vom Positivtyp thermisch zersetzt wird, so dass sie dadurch ihre Löslichkeits-hemmende Fähigkeit verliert und durch Entwicklung entfernt werden kann.
Als Ergebnis ihrer Untersuchungen haben die Autoren gefunden, dass ein Positivbild ohne Verwendung eines Chinondiazids in einem Bildaufzeichnungsmaterial erhalten werden kann. Ein alleiniges Entfernen des Chinondiazids aus dem Bildaufzeichnungsmaterial stellt aber einen Nachteil dar, da die Stabilität der Empfindlichkeit in Bezug auf die Konzentration eines Entwicklers, d. h. der Belichtungsspielraum verringert sich.
Andererseits ist bekannt, dass ein Oniumsalz oder eine Verbindung, die in der Lage ist, alkalisch unlösliche Wasserstoffbindungen zu bilden, als ein Mittel wirkt, das das Lösen eines alkalisch löslichen Polymers in einem Alkali verhindert. Als bildgebendes Material zur Verwendung mit einem Infrarotlaser beschreibt die WO 97/39,894, dass eine Zusammensetzung, die einen kationischen Infrarotstrahlung-absorbierenden Farbstoff als ein Mittel, das das Lösen eines alkalisch löslichen Polymers in einem Alkali verhindert, eine Positiv-Wirkungsweise aufzeigt. Diese Positiv-Wirkungsweise ist ein Vorgang, bei dem der Infrarotstrahlung-absorbierende Farbstoff das Laserlicht absorbiert und Wärme erzeugt, diese sorgt dafür, dass der Polymerfilm die Löslichkeit hemmende Wirkung in den bestrahlten Bereichen verliert, um so ein Bild zu ergeben.
Diese Erfindung ist allerdings mit dem Problem verbunden, dass obwohl die bildgebende Leistung der fotoempfindlichen Zusammensetzung an einer Oberfläche, die mit einem Laser bestrahlt wurde, zufriedenstellend ist, kein zufriedenstellender Effekt in den unteren Bereichen der Zusammensetzung erzielt werden kann, da sich keine ausreichende Wärmemenge in die Tiefe ausbreitet und als ein Ergebnis davon ist eine Unterscheidung (engl. on-off distinction) zwischen belichteten Bereichen und nicht belichteten Bereichen bei dem Entwicklungsprozeß mit Alkali unzureichend. Entsprechend wird kein gutes Bild erhalten (d. h. geringe Sensitivität und eine enge Entwicklungsbreite). Der Ausdruck "Entwicklungsspielraum", wie er hierin verwendet wird, bedeutet die Breite des erlaubten Bereichs an Alkali-Konzentration bei einem alkalischen Entwickler zur Herstellung eines guten Bildes.
Weiterhin werden Infrarotstrahlung-absorbierende Mittel im allgemeinen verwendet, um die Sensitivität des bildgebenden Materials zu verbessern. Als Infrarotstrahlung-absorbierende Mittel, die in bildgebenden Materialien verwendet werden, sind z. B. die Folgenden bekannt: Farbstoffe, wie Cyanin-Farbstoffe oder Metallkomplexe und Pigmente, wie Russ oder Phthalocyanin. Die Metallkomplexe sind allerdings problematisch, da ihre molekularen Extinktions-Koeffizienten gering sind und die Pigmente sind problematisch, da sie dazu neigen, während der Entwicklung Fehler zu verursachen. Cyanin-Farbstoffe behindern die Entwicklung wenn sie im Überschuss verwendet werden, sie sind aber für die Zwecke in bezug auf Wellenlängen und molekulare Extinktions-Koeffizienten geeignet.
Die Autoren der vorliegenden Erfindung haben herausgefunden, dass die Verwendung eines anionischen Oxonol-Farbstoffes gute Bilder bereitstellt und haben als Ergebnis die japanische Patentanmeldung Nr. 10-79912 eingereicht. Allerdings ist eine weitere Verbesserung im Hinblick auf die Wellenlängen, die für Infrarotstrahlen passen, wünschenswert.
Als ein Beispiel für einen Oxonol-Farbstoff, der Wellenlängen in einem langen Wellenlängenbereich absorbiert offenbart EP Nr. 444789 Pentamethin-Verbindungen. Die EP Nr. 444789 enthält allerdings keine Beschreibung der physikalischen Eigenschaften, wie dem molekularen Extinktions-Koeffizienten oder dgl., obwohl sie wichtige Faktoren für das bildgebende Material sind. Die EP Nr. 397435 offenbart Beispiele von Heptamethinoxonol-Farbstoffen. Diese Verbindungen haben allerdings das Problem, dass ihre Absorptions-Wellenlängen 780 nm oder kleiner sind und somit für einen IR-Laser unzureichend sind. Weiterhin sind ihre molekularen Extinktions-Koeffizienten gering.
Wie oben diskutiert, gibt es nur sehr wenige bekannte Oxonol-Farbstoffe, deren maximale Absorptions-Wellenlänge nahe oder über 800 nm ist und daher besteht ein Wunsch nach anionischen, Infrarotstrahlung-absorbierenden Mitteln, deren Absorptions-Wellenlänge in einem langen Wellenlängenbereich liegt.
Entsprechend ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung die Bereitstellung eines neuen anionischen Infrarotstrahlung-absorbierenden Mittels mit einer Absorptionswellenlänge im langen Wellenlängenbereich und das bevorzugt als bildgebendes Material verwendet werden kann, die Bereitstellung einer fotoempfindlichen Zusammensetzung, gekennzeichnet durch hohe Empfindlichkeit, gutem Belichtungsspielraum und guter Lagerstabilität und der Bereitstellung einer Flachdruck-Vorläuferplatte vom Positivtyp, die die vorgenannte Zusammensetzung in einem direkten Platten- Herstellungsverfahren nutzt und erlaubt ein Bild zu ergeben, das eine hohe Empfindlichkeit gegenüber einem Infrarotlaser aufzeigt.
Zusammenfassung der Erfindung
Nach einer Serie von Untersuchungen zur Verbesserung der bildgebenden Leistung, d. h. der Erhöhung der Empfindlichkeit und des Entwicklungsspielraums haben die Autoren gefunden, dass der Entwicklungsspielraum durch spezifische anionische, Infrarotstrahlung-absorbierende Mittel verbessert werden kann und eine Patentanmeldung, d. h. die japanische Patentanmeldung Nr. 10-79,912 aufgrund dieser Befunde eingereicht. Als Ergebnis von weiteren Untersuchungen haben sie gefunden, dass ein besseres Übereinstimmen mit einem Laser, genauso wie eine überlegene Empfindlichkeit und weiter Entwicklungsspielraum durch Verwendung von u. a. einem Farbstoff auf Oxonolbasis mit relativ lange konjugierter Kette in seinem Molekül als anionisches, Infrarotstrahlung-absorbierendes Mittel erhalten werden kann und sie haben aufgrund dieses Befundes die vorliegende Erfindung gemacht.
Weiterhin ist von diesen anionischen Infrarotstrahlung-absorbierenden Mitteln die durch die folgende allgemeine Formel (1) dargestellte Verbindung eine neue Verbindung mit Naphthoindandiongruppen in seinen Endgruppen, die einen großen molekularen Extinktions-Koeffizienten und eine Absorptions-Wellenlänge in einem langen Wellenlängenbereich bereitstellen.
Eine erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung umfasst die folgenden Komponenten (a) und (b) und die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich wird, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird:

(a) ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens; und
(b) eine polymere Verbindung, die in Wasser unlöslich, aber in wässriger alkalischer Lösung löslich ist.

Bevorzugt ist das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens (a) der erfindungsgemäßen fotoempfindlichen Zusammensetzung ein (a-1) anionischer Metallkomplex, ein anionischer Russ (a-2), ein anionisches Phthalocyanin (a-3) oder eine Verbindung (a-4), dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I): [G_a ^–-M-G_b]_mX^m+ (I)worin M eine konjugierte Kette von Kohlenstoffatomen darstellt; G_a ^– eine anionische Substituentengruppe darstellt; G_b eine neutrale Substituentengruppe darstellt; und X^m+ ein Kation, einschließlich ein Proton, darstellt, wobei das Kation eine Valenz von 1 bis m hat und wobei m eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 6 darstellt.
Weiterhin ist es bevorzugt, dass das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens (a) der erfindungsgemäßen fotoempfindlichen Zusammensetzung (a-4) ist, die Verbindung dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (1) ist,
worin L eine konjugierte Methinkette darstellt, die 7 oder mehr Kohlenstoffatome hat und Substituentengruppen enthalten kann, die durch Verbinden miteinander einen Ring ausbilden können; X⁺ ein Kation darstellt; Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Substituentengruppe sind, so dass die Substituentengruppen davon einen Ring ausbilden können, wenn sie miteinander verbunden sind.
Weiterhin ist es bevorzugt, dass das Gegenkation von dem anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens (a) den Aufbau eines thermisch zersetzbaren Oniumsalzes hat.
Die erfindungsgemäße Flachdruck-Vorläuferplatte umfasst ein Substrat und eine darauf gebildete fotoempfindliche Schicht, umfassend die vorgenannte fotoempfindliche Zusammensetzung.
Obwohl die Arbeitsweise der erfindungsgemäßen fotoempfindlichen Zusammensetzung nicht klar ist, ist sie wahrscheinlich wie folgt. Die Verwendung von (a), dem anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens mit einer relativ langen konjugierten Kette, führt dazu, dass das Gegenkation als ein Lösungshemmer von (b), der polymeren Verbindung, die in alkalischem Wasser löslich ist, wirkt und der lösungshemmende Effekt eliminiert werden kann durch Wärme, die entsteht, wenn das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens in den Bereichen, die mit dem Laser bestrahlt werden, das Laserlicht absorbiert. Da das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens eine relativ lang konjugierte Kette hat, die 7 oder mehr Kohlenstoffatome in einem Molekül enthält, wird eine Verbesserung in der Empfindlichkeit erreicht, wahrscheinlich weil das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens einen hohen molekularen Absorptions-Koeffizienten im nahen Infrarotbereich aufzeigt und hervorragend in seiner Löslichkeit in einem Lösungsmittel ist.
Im Falle von bisher bekannten kationischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Farbstoffen zum Absorbieren von Licht im Infrarotbereich ist die Molekularstruktur des Farbstoffes zwangsläufig auf einen begrenzten Bereich beschränkt, so dass die Struktur, die den Löslichkeits-hemmenden Effekt hat, nicht die Lichtabsorption im Infrarotbereich hemmt. Daher kann der Löslichkeit-hemmende Effekt nicht wie gewünscht durch die molekulare Struktur kontrolliert werden. Wenn das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens erfindungsgemäß verwendet wird, kann die bildgebende Leistung wie gewünscht verbessert werden, da das Gegenkation frei ausgewählt werden kann und da der lösungshemmende Effekt wie gewünscht kontrolliert werden kann, dies ist eine Wirkung der vorliegenden Erfindung. Weiterhin erhöht die Verwendung des anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens mit relativ langer konjugierter Kette, wie Heptamethin oder Nonamethin im anionischen Anteil den molekularen Absorptions-Koeffizienten im nahen infraroten Bereich, dies verbessert weiterhin die Anpassung an den Laser. Von den anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agentien hat die erfindungsgemäße neue Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (1), Naphthoindandiongruppen in seinen Endgruppen und hat daher einen großen molekularen Extionktions-Koeffizienten und eine Absorptions-Wellenlänge, die zu längeren Wellenbereichen verschoben ist.
Weiterhin erlaubt die Verwendung von thermisch zersetzbarem Oniumsalz als Gegenkation von (a), dem anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens, ein zu bildendes Bild mit noch höherem Empfindlichkeitsniveau und breiterem Entwicklungspielraum, wahrscheinlich weil das thermisch zersetzbare Oniumsalz durch die Wärme, die durch das Infrarot-absorbierende Agens gebildet wird, zersetzt wird, und so den Löslichkeits-hemmenden Effekt schneller und mit einem höheren Empfindlichkeitsgrad eliminiert.
Kurze Beschreibung der Abbildungen
1 ist eine ¹H-NMR-Kurve von IR-21.
2 ist ein ¹H-NMR-Kurve von IR-13.
Beschreibung von bevorzugten Ausführungsformen
Die Details der vorliegenden Erfindung sind unten genannt.
(a) Anionisches Infrarotstrahlung-absorbierendes Agens
Der Ausdruck "anionisches Infrarotstrahlung-absorbierendes Agens" wird hierin verwendet, um sich auf ein Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens zu beziehen, dessen Farbstoff-Grundgerüst, das im wesentlichen Infrarotstrahlen absorbiert, keine kationische Struktur aufweist und eine anionische Struktur hat.
Beispiele für das anionische, Infrarotstrahlen-absorbierende Agens schließen ein: einen anionischen Metallkomplex (a-1), anionischer Russ (a-2), ein anionisches Phthalocyanin (a-3) oder eine Verbindung (a-4), dargestellt durch die allgemeine Formel (I). Das Gegenkation des Infrarotstrahlung-absorbierenden Agens ist ein einwertiges oder mehrwertiges Kation einschließlich ein Proton.
Der Ausdruck "anionischer Metallkomplex (a-1)", wie er hierin verwendet wird, bezieht sich auf eine Substanz, die insgesamt anionisch ist, umfassend ein zentrales Metall und einen Liganden die miteinander verbunden sind, und den Komplex, der im wesentlichen das Licht absorbiert, darstellt.
Beispiele für anionischen Russ (a-2) schließen Russ, an dem eine anionische Gruppe, wie eine Sulfonsäuregruppe, eine Carbonsäuregruppe oder eine Phosphonsäuregruppe als Substituentengruppe verknüpft sind, ein. Ein Beispiel zum Einfügen einer solchen Gruppe in Russ umfasst das Oxidieren des Russ mit einer gewünschten Säure, wie auf Seite 12 vom The Carbon Black Handbook, 3. Auflage (editiert von Carbon Black Society of Japan, herausgegeben am 05. April 1995 durch diese Gesellschaft) ein.
Wie später beschrieben, ist zur erfindungsgemäßen Verwendung ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, das ein anionischer Russ ist, dessen anionische Gruppe als Gegenkation ein Oniumsalz hat, das durch ionische Bindung daran gebunden ist. Es wird allerdings angemerkt, dass eine Substanz umfassend Russ und ein daran absorbiertes Oniumsalz nicht unter das anionische, Infrarotstrahlen-absorbierende Agens der vorliegenden Erfindung fällt und eine durch reine Absorption hergestellte Substanz kann nicht die Wirkung der vorliegenden Erfindung aufzeigen.
Der Ausdruck "(a-3) anionisches Phthalocyanin" wie er hierin verwendet wird, bezieht sich auf ein Phthalocyanin, das insgesamt anionisch ist, umfassend ein Phthalocyaningerüst, an das eine anionische Gruppe geknüpft ist, wie sie als Substituentengruppe bei der Erklärung von (a-2), dem anionischen Russ, genannt ist.
Als nächstes wird die Verbindung (a-4), dargestellt durch die allgemeine Formel (I) ausführlicher beschrieben. Die durch die Formel (1) dargestellte Verbindung fällt unter die sogenannten IR-absorbierenden Agenzien vom Oxonoltyp.
In der allgemeinen Form (1) stellt L eine lange konjugierte Methinkette dar, die Substituentengruppen enthalten kann, diese können durch Miteinanderverbinden einen Ring ausbilden und die 7 oder mehr Kohlenstoffatome hat. Wenn die Methingruppe eine Substituentengruppe enthält, ist die Substituentengruppe bevorzugt ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer Carbonylgruppe, einer Halogengruppe, einer Cyanogruppe, einer Alkenylgruppe, einer Alkinylgruppe, einer Aminogruppe, einer Thiogruppe, einer Oxygruppe, einer Sulfonylgruppe, und dgl. Von diesen werden eine Alkylgruppe und/oder eine Halogengruppe am meisten bevorzugt verwendet. Vom der Eignung zur Synthese aus gesehen ist eine Methinkette frei von einer Substituentengruppe und/oder mit cyclischer Struktur bevorzugt.
X⁺ stellt ein Kation dar. Als Kation werden bevorzugt Metallionen, Ammoniumsalze, Sulfoniumsalze, Iodiumsalze, Diazoniumsalze, Oxoniumsalze, Selenoniumsalze, Phosphoniumsalze und dgl. verwendet. Von diesen sind Kationen mit einer thermischen Zersetzungseigenschaft aus Sicht der Bildentwicklung besonders bevorzugt.
Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ stellen jeweils unabhängig voneinander dar ein Wasserstoffatom oder eine Substituentengruppe, die einen Ring ausbilden kann, indem die Substituentengruppen sich miteinander verbinden. Die für Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ verwendbaren Substituentengruppen sind die gleichen wie die oben für die Methinkette als Substituentengruppe beschriebenen. Von diesen werden eine Alkylgruppe, ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder dgl. bevorzugt verwendet.
Vom Standpunkt der einfachen Synthese ist erfindungsgemäß am meisten bevorzugt ein Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, das an beiden Enden Naphthoindandiongruppen ohne Substituentengruppen aufzeigt, nämlich ein Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, wobei Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ jeweils ein Wasserstoffatom darstellen. Ein spezifisches Beispiel eines solchen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens und als ein Beispiel mit einem Ring in der Methinkette wird ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (2) aufgeführt:
worin A 14 oder weniger nicht-metallische Atome darstellt, die einen 5-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 6-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 7-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 5-gliedrigen Heterocyclus, einen 6-gliedrigen Heterocyclus, einen 7-gliedrigen Heterocyclus, einen 5-gliedrigen kondensierten Ring, einen 6-gliedrigen kondensierten Ring oder einen 7-gliedrigen kondensierten Ring ausbilden, jedes der nicht-metallischen Atome ist ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem Kohlenstoffatom, einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Schwefelatom und einem Selenatom.
Wenn die Substituentengruppen der Methinkette einen Ring ausbilden, hat der Ring bevorzugt ein oder zwei 6-gliedrige Kohlenstoffringe und kann eine weitere Substituentengruppe aufweisen.
Ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, worin Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom darstellen und das keinen Ring in seiner Methinkette aufweist, ist durch die folgende allgemeine Formel (3) dargestellt:
worin X⁺ ein Kation darstellt.
Die Folgenden sind Strukturformeln, maximale Absorptionswellenlängen und molekulare Absorptions-Koeffizienten der beispielhaften Verbindungen IR(21) und IR(13) des erfindungsgemäßen neuen anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens. Die maximale Absorptions-Wellenlänge und der molekulare Absorptions-Koeffizient eines vergleichenden Farbstoffes, Farbstoff-1 und die chemische Struktur eines bevorzugten Beispiels, Beispiel 1, sind ebenfalls dargestellt. Die vorliegende Erfindung ist aber nicht auf diese Beispiele begrenzt.
Beispiel 1
Wie man aus den Daten erkennt, kann das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens als ein sogenannter Oxonol-Farbstoff gemäß der vorliegenden Erfindung mit auf beiden Enden vorhandenen Naphthoindandiongruppen und einer relativ langen Methinkette von 7 oder mehr Kohlenstoffatomen als eine neue Verbindung angesehen werden. Die Autoren der vorliegenden Erfindung zeigten, dass die neue Verbindung als ein bildgebendes Material nützlich ist, da dessen Absorptions-Wellenlängen in einem sehr langen Wellenlängenbereich (nahe 800 nm) ist und da sein molekularer Absorptions-Koeffizient ausreichend hoch ist. Die Überlegenheit der erfindungsgemäßen neuen Verbindung in Bezug auf die maximale Absorptions-Wellenlänge und seinen molekularen Absorptions-Koeffizienten ist im Vergleich zu dem Farbstoff Farbstoff-1, dessen Struktur ähnlich zu der erfindungsgemäßen neuen Verbindung ist, deutlich.
Als nächstes wird eine Beschreibung der Anforderungen einer erfindungsgemäßen fotoempfindlichen Zusammensetzung, die das erfindungsgemäße Infrarotstrahlen-absorbierende Agens mit Naphthoindandiongruppen an beiden Enden, mit relativ langer konjugierter Methinkette und dargestellt durch den Oxonolfarbstoff, enthält, gegeben. Wie oben beschrieben, umfasst die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung die folgenden Komponenten (a) und (b) und wird in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird: (a) ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (I); und (b) eine polymere Verbindung, die in Wasser unlöslich ist, aber in wässriger alkalischer Lösung löslich ist. Diese Eigenschaften erlauben der erfindungsgemäßen fotoempfindlichen Zusammensetzung, ein fotoempfindliches Material zu ergeben, das für ein fotoempfindliches Aufnahmematerial, die durch Infrarotstrahlen-Bestrahlung beschrieben werden können, nützlich ist.
In der allgemeinen Formel (I) stellt M eine konjugierte Kette dar, diese kann eine Substituentengruppe aufweisen oder eine cyclische Struktur. Die konjugierte Kette M kann dargestellt werden durch die folgende Formel: [G_a–-M-G_b]_mX^m+ (I)worin R¹ bis R²ⁿ⁺¹ unabhängig ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus einem Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einem Cyano, einer Alkyl, einer Aryl, einem Alkenyl, einer Alkinyl, einer Carbonyl, einer Thio, einer Sulfonyl, einer Sulfinyl, einer Oxy und Aminogruppen, diese können miteinander verbunden sein, um eine cyclische Struktur auszubilden, n stellt eine ganze Zahl von 3 bis 8 dar.
G_a ^– stellt eine anionische Substituentengruppe dar; G_b stellt eine neutrale Substituentengruppe dar; und X^m+ ein Kation mit einer Wertigkeit von 1 bis m einschließlich einem Proton, wobei m eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt.
Wenn R¹ bis R²ⁿ⁺¹ jeweils eine Alkylgruppe sind, schließen Beispiele der Alkylgruppe ein: eine geradkettige Alkylgruppe, eine verzweigte Alkylgruppe, eine cyclische Alkylgruppe, die jeweils 1 bis 20 Kohlenstoffatome aufweisen können. Spezifische Beispiele der Alkylgruppe schließen ein Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Pentyl-, Hexyl-, Heptyl-, Octyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Hexadecyl-, Octadecyl-, Eicosyl-, Isopropyl-, Isobutyl-, s-Butyl-, t-Butyl-, Isopentyl-, Neopentyl-, 1-Methylbutyl-, Isohexyl-, 2-Ethylhexyl-, 2-Methylhexyl-, Cyclohexyl-, Cyclopentyl- und 2-Norbornylgruppen. Unter diesen Gruppen ist bevorzugt eine geradkettige Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigte Alkylgruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen.
Diese Alkylgruppen können eine Substituentengruppe aufweisen und bevorzugte Beispiele dieser Substituentengruppe sind einwertige, nicht-metallische Atomgruppen mit Ausnahme eines Wasserstoffatoms. Bevorzugte Beispiele der Substituentengruppe schließen ein Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Hydroxylgruppe, Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Mercaptogruppe, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, Alkyldithiogruppen, Aryldithiogruppen, Aminogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, N-Arylaminogruppen, N,N-Diarylaminogruppen, N-Alkyl-N-arylaminogruppen, Acyloxygruppen, Carbamoyloxygruppe, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppen, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppen, Alkylsulfoxygruppen, Arylsulfoxygruppen, Acylthiogruppen, Acylaminogruppen, N-Alkylacylaminogruppen, N-Arylacylaminogruppen, Ureidogruppen, N'-Alkylureidogruppen, N',N'-Dialkylureidogruppen, N'-Arylureidogruppen, N',N'-Diarylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-arylureidogruppen, N-Alkylureidogruppen, N-Arylureidogruppen, N'-Alkyl-N-alkylureidogruppen, N'-Alkyl-N-arylureidogruppen, N',N'-Dialkyl-N-alkylureidogruppen, N',N'-Dialkyl-N-arylureidogruppen, N'-Aryl-N-alkylureidogruppen, N'-Aryl-N-alkylureidogruppen, N'-Aryl-N-arylureidogruppen, N',N'-Diaryl-N-alkylureidogruppen, N',N'-Diaryl-N-arylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureidogruppen, Alkoxycarbonylaminogruppen, Aryloxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppen, N-Aryl-N-alkoxycarbonylaminogruppen, N-Aryl-N-aryloxycarbonylaminogruppen, Formylgruppe, Acylgruppen, Carboxylgruppe und konjugierte Basisgruppen davon (im folgenden auch als Carboxylate bezeichnet), Alkoxycarbamoylgruppen, Aryloxycarbamoylgruppen, Carbamoylgruppe, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N,N-Diarylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen, Alkylsulfinylgruppen, Arylsulfinylgruppen, Alkylsulfonylgruppen, Arylsulfonylgruppen, Sulfogruppe (-SO₃H) und eine konjugierte Basisgruppe davon (im folgenden als "Sulfonatogruppe" bezeichnet), Alkoxysulfonylgruppen, Aryloxysulfonylgruppen, Sulfinamoylgruppe, N-Alkylsulfinamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppen, N-Arylsulfinamoylgruppen, N,N-Diarylsulfinamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppen, Sulfamoylgruppe, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgruppen, N-Arylsulfamoylgruppen, N,N-Diarylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppen, N-Acylsulfamoylgruppen und konjugierte Basisgruppen, z. B. N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppen (-SO₂NHSO₂R, wobei R eine Alkylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon, N-Arylsulfonylsulfamoylgruppen (-SO₂NHSO₂Ar, wobei Ar eine Arylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon, N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO₂R, wobei R eine Alkylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon, N-Arylsulfonylcarbamoylgruppen (-CONHSO₂Ar, wobei Ar eine Arylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon, Alkoxysilylgruppen (-Si(OR)₃, wobei R eine Alkylgruppe darstellt), Aryloxysilylgruppen (-Si(OAr)₃, wobei Ar eine Arylgruppe darstellt), Hydroxysilylgruppe (-Si(OH)₃) und eine konjugierte Basisgruppe davon, Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und eine konjugierte Basisgruppe davon (im folgenden auch als "Phosphonatogruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonogruppen (-PO₃R₂, wobei R eine Alkylgruppe darstellt), Diarylphosphonogruppen (-PO₃Ar₂, wobei Ar eine Arylgruppe darstellt), Alkylarylphosphonogruppen (-PO₃(R)(Ar), wobei R eine Alkylgruppe darstellt und Ar eine Arylgruppe), Monoalkylphosphonogruppen (-PO₃H(R), wobei R eine Alkylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon (im folgenden auch als "Alkylphosphonatogruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonogruppen (-PO₃H(Ar), wobei Ar eine Arylgruppe bedeutet) und konjugierte Basisgruppen davon (im folgenden auch als "Arylphosphonatogruppe" bezeichnet), Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und eine konjugierte Basisgruppe davon (im folgenden auch als "Phosphonatoxygruppe" bezeichnet), Dialkylphosphonoxygruppen (-OPO₃R₂, wobei R eine Alkylgruppe darstellt), Diarylphosphonoxygruppen (-OPO₃Ar₂, wobei Ar eine Arylgruppe darstellt), Alkylarylphosphonoxygruppen (-OPO₃(R)(Ar), wobei R eine Alkylgruppe und Ar eine Arylgruppe darstellt), Monoalkylphosphonoxygruppen (-OPO₃H(R), wobei R eine Alkylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon (im folgenden auch als "Alkylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Monoarylphosphonoxygruppen (-OPO₃H(Ar), wobei Ar eine Arylgruppe darstellt) und konjugierte Basisgruppen davon (im folgenden auch als "Arylphosphonatoxygruppe" bezeichnet), Cyanogruppe, Nitrogruppe, Arylgruppen, Alkenylgruppen und Alkinylgruppen. Spezielle Beispiele der Alkylgruppen in dieser Substituentengruppe schließen die vorgenannten Alkylgruppen ein. Spezifische Beispiele der Arylgruppen in diesen Substituentengruppen schließen ein Phenyl-, Biphenyl-, Naphthyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, Cumenyl-, Fluorphenyl-, Chlorphenyl-, Bromphenyl-, Chlormethylphenyl-, Hydroxyphenyl-, Methoxyphenyl-, Ethoxyphenyl-, Phenoxyphenyl-, Acetoxyphenyl-, Benzoyloxyphenyl-, Methylthiophenyl-, Phenylthiophenyl-, Methylaminophenyl-, Dimethylaminophenyl-, Acetylaminophenyl-, Carboxyphenyl-, Methoxycarbonylphenyl-, Ethoxycarbonylphenyl-, Phenoxycarbonylphenyl, N-Phenylcarbamoylphenyl-, Nitrophenyl-, Cyanophenyl-, Sulfophenyl-, Sulfonatophenyl- und Phosphonatophenylgruppen. Beispiele für die Alkenylgruppe schließen ein Vinyl-, 1-Propenyl-, 1-Butenyl-, Cinnamyl- und 2-chlor-1-ethenylgruppen. Beispiele für die Alkinylgruppe schließen ein Ethinyl-, 1-Propinyl-, 1-Butinyl, Trimethylsilylethinyl- und Phenylethinylgruppen. Beispiele für die Acylgruppen (R¹CO-) schließen die Gruppen ein, bei denen R1 darstellt eine der folgenden: ein Wasserstoffatom und die vorher beschriebenen Alkyl-, Aryl-, Alkenyl- und Alkinylgruppen.
Von diesen Substituentengruppen sind bevorzugt die Halogenatome (-F, -Br, -Cl und -I), Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, Acyloxygruppen, N-Alkylcarbamoyloxygruppen, N-Arylcarbamoyloxygruppen, Acylaminogruppen, Formylgruppe, Acylgruppen, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppe, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen, Sulfogruppe, Sulfonatogruppe, Sulfamoylgruppe, N-Alkylsulfamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfamoylgrupen, N-Arylsulfamoylgruppen, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppen, Phosphonogruppe, Phosphonatogruppe, Dialkylphosphonogruppen, Diarylphosphonogruppen, Monoalkylphosphonogruppen, Alkylphosphonatogruppen, Monoarylphosphonogruppen, Arylphosphonatogruppen, Phosphonoxygruppe, Phosphonatoxygruppe, Arylgruppen und Alkenylgruppen.
Beispiele der Alkylengruppe in den substituierten Alkylgruppen schließen ein zweiwertige organische Substituentengruppen, die gebildet werden, wenn eines der Wasserstoffatome von den vorher beschriebenen Alkylgruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen entfernt wird. Von diesen Gruppen sind bevorzugt eine geradkettige Alkylengruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine verzweigtkettige Alkylengruppe mit 3 bis 12 Kohlenstoffatomen und eine cyclische Alkylengruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen. Bevorzugte spezifische Beispiele dieser substituierten Alkylgruppen, die gebildet werden durch Kombinieren der Substituentengruppen und der Alkylengruppen schließen ein Chlormethyl-, Brommethyl-, 2-Chlorethyl-, Trifluormethyl-, Methoxymethyl-, Methoxyethoxyethyl-, Allyloxymethyl-, Phenoxymethyl-, Methylthiomethyl-, Tolylthiomethyl, Ethylaminoethyl-, Diethylaminopropyl-, Morpholinopropyl-, Acetyloxymethyl-, Benzoyloxymethyl-, N-Cyclohexylcarbamoyloxyethyl-, N-Phenylcarbamoyloxyethyl-, Acetylaminoethyl-, N-Methylbenzoylaminopropyl-, 2-Oxoethyl-, 2-Oxopropyl-, Carboxypropyl-, Methoxycarbonylethyl-, Methoxycarbonylmethyl-, Methoxycarbonylbutyl-, Allyloxycarbonylbutyl-, Chlorphenoxycarbonylmethyl-, Carbamoylmethyl-, N-Methylcarbamoylethyl-, N,N-Dipropylcarbamoylmethyl-, N-(Methoxyphenyl)carbamoylethyl-, N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylmethyl-, Sulfopropyl-, Sulfobutyl-, Sulfonatobutyl-, Sulfamoylbutyl-, N-Ethylsulfamoylmethyl-, N,N-Dipropylsulfamoylpropyl-, N-Tolylsulfamoylpropyl-, N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoyloctyl-, Phosphonobutyl-, Phosphonatohexyl-, Diethylphosphonobutyl-, Diphenylphosphonopropyl-, Methylphosphonobutyl-, Methylphosphonatobutyl-, Tolylphosphonohexyl-, Tolylphosphonatohexyl-, Phosphonoxypropyl-, Phosphonatoxybutyl-, Benzyl-, Phenethyl-, α-Methylbenzyl-, 1-Methyl-1-phenylethyl-, p-Methylbenzyl-, Cinnamyl-, Allyl-, 1-propenylmethyl-, 2-Butenyl-, 2-Methylallyl-, 2-Methylpropenylmethyl-, 2-Propinyl-, 2-Butinyl- und 3-Butinylgruppen.
Wenn R¹ bis R²ⁿ⁺¹ jeweils eine Arylgruppe sind, schließen Beispiele der Arylgruppe ein einen fusionierten Ring, gebildet aus 1 bis 3 Benzolringen und ein fusionierter Ring, gebildet aus einem Benzolring und einem 5-gliedrigen nicht-gesättigten Ring. Spezifische Beispiele schließen ein Phenyl-, Naphthyl-, Antholyl-, Phenantholyl-, Indenyl-, Acenabutenyl- und Fluorenylgruppen. Von diesen sind bevorzugt Phenyl- und Naphthylgruppen.
Beispiele für substituierte Arylgruppen schließen ein die vorher genannten Arylgruppen, worin ein Ring-bildendes Kohlenstoffatom als Substituentengruppe ein einwertiges nicht-metallisches Atom hat, ausschließlich einem Wasserstoffatom. Bevorzugte spezifische Beispiele der Substituentengruppe schließen die vorher genannten Alkylgruppen und substituierten Alkylgruppen ein und die Gruppen, die als Substituentengruppen bei den substituierten Alkylgruppen genannt sind.
Bevorzugte spezifische Beispiele dieser substituierten Arylgruppen schließen ein Biphenyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, Cumenyl-, Chlorphenyl-, Bromphenyl-, Fluorphenyl-, Chlormethylphenyl-, Trifluormethylphenyl-, Hydroxyphenyl-, Methoxyphenyl-, Methoxyethoxyphenyl-, Allyloxyphenyl-, Phenoxyphenyl-, Methylthiophenyl-, Tolylthiophenyl-, Phenylthiophenyl-, Ethylaminophenyl-, Diethylaminophenyl-, Morpholinophenyl-, Acetyloxyphenyl-, Benzoyloxyphenyl-, N-Cyclohexylcarbamoyloxyphenyl-, N-Phenylcarbamoyloxyphenyl-, Acetylaminophenyl-, N-Methylbenzoylaminophenyl-, Carboxyphenyl-, Methoxycarbonylphenyl-, Allyloxycarbonylphenyl-, Chlorphenoxycarbonylphenyl-, Carbamoylphenyl-, N-Methylcarbamoylphenyl-, N,N-Dipropylcarbamoylphenyl-, N-(Methoxyphenyl)carbamoylphenyl-, N-Methyl-N-(sulfophenyl)carbamoylphenyl-, Sulfophenyl-, Sulfonatophenyl-, Sulfamoylphenyl-, N-Ethylsulfamoylphenyl-, N,N-Dipropylsulfamoylphenyl-, N-Tolylsulfamoylphenyl-, N-Methyl-N-(phosphonophenyl)sulfamoylphenyl-, Phosphonophenyl-, Phosphonatophenyl-, Diethylphosphonophenyl-, Diphenylphosphonophenyl-, Methylphosphonophenyl-, Methylphosphonatophenyl-, Tolylphosphonophenyl-, Tolylphosphonatophenyl-, Allyl-, 1-Propenylmethyl-, 2-Butenyl-, 2-Methylallylphenyl-, 2-Methylpropenylphenyl-, 2-Propinylphenyl-, 2-Butinylphenyl- und 3-Butinylphenylgruppen.
Die Alkenylgruppen, die substituierten Alkenylgruppen, die Alkinylgruppen und die substituierten Alkinylgruppen (-C(R⁷)=C(R⁸)(R⁹) und -C≡C(R¹⁰)) für R¹ bis R²ⁿ⁺¹ können Gruppen sein, bei denen jeweils R⁷, R⁸, R⁹ und R¹⁰ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe darstellen. Bevorzugte Beispiele von R⁷, R⁸, R⁹ und R¹⁰ schließen Wasserstoffatom, Halogenatome, Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen ein. Spezifische Beispiele dieser Gruppen schließen die vorher genannten Gruppen ein. Bevorzugte Beispiele der Substituentengruppen von R⁷, R⁸, R⁹ und R¹⁰ schließen Wasserstoffatom, ein Halogenatom und eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen ein.
Spezifische Beispiele der oben beschriebenen R_n+1, R_n+2 und R_n+3 schließen ein Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Pentyl-, Hexyl-, Heptyl-, Octyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Hexadecyl-, Octadecyl-, Eicosyl-, Isopropyl-, Isobutyl-, s-Butyl-, t-Butyl-, Isopentyl-, Neopentyl-, 1-Methylbutyl-, Isohexyl-, 2-Ethylhexyl-, Allyl-, 1-Propenylmethyl-, 2-Butenyl-, 2-Methylallyl-, 2-Methylpropenyl-, 2-Propinyl-, 2-Butinyl-, 3-Butinyl-, Benzyl-, Phenethyl-, α-Methylbenzyl-, 1-Methyl-1-phenylethyl, p-Methylbenzyl-, Cinnamyl-, Hydroxyethyl-, Methoxyethyl-, Phenoxydiethyl-, Allyloxyethyl-, Methoxyethoxyethyl-, Ethoxyethoxyethyl-, Morpholinoethyl-, Morpholinopropyl-, Sulfopropyl-, Sulfonatopropyl-, Sulfobutyl-, Sulfonatobutyl-, Carboxydimethyl-, Carboxydiethyl-, Carboxypropyl-, Methoxycarbonylethyl-, 2-Ethylhexyloxycarbonylethyl-, Phenoxycarbonylmethyl-, Methoxycarbonylpropyl-, N-Methylcarbamoylethyl-, N,N-Ethylaminocarbamoylmethyl-, N-Phenylcarbamoylpropyl-, N-Tolylsulfamoylbutyl-, p-Toluolsulfonylaminopropyl-, Benzoylaminohexyl-, Phosphonomethyl-, Phosphonoethyl-, Phosphonopropyl-, p-Phosphonobenzylaminocarbonylethyl-, Phosphonatomethyl-, Phosphonatopropyl-, Phosphonatobutyl-, p-Phosphonatobenzylaminocarbonylethyl-, Vinyl- und Ethinylgruppen.
Substituierte Carbonylgruppen (R¹¹CO-) für R¹ bis R²ⁿ⁺¹ können die Gruppen sein, bei denen R¹¹ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe darstellt. Bevorzugte Beispiele dieser substituierten Carbonylgruppe schließen ein Formylgruppe, Acylgruppen, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgruppe, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen, N-Arylcarbamoylgruppen, N,N-Diarylcarbamoylgruppen und N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppen. Beispiele der Alkyl- und Arylgruppen in den vorgenannten Gruppen schließen die o. g. Gruppen, die für Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen beispielhaft genannt wurden, ein. Von diesen Gruppen schließen bevorzugte Substituentengruppen Formylgruppe, Acylgruppen, Carboxylgruppe, Alkoxycarbonylgruppen, Aryloxycarbonylgruppen, Carbamoylgrupe, N-Alkylcarbamoylgruppen, N,N-Dialkylcarbamoylgruppen und N-Arylcarbamoylgruppen ein. Von diesen Gruppen schließen mehr bevorzugte Substituentengruppen Formylgruppen, Acylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen und Aryloxycarbonylgruppen ein. Bevorzugte spezifische Beispiele dieser Substituentengruppen schließen Formyl-, Acetyl-, Benzoyl-, Carboxymethyl-, Methoxycarbonyl-, Allyloxycarbonyl-, N-Methylcarbamoyl-, N-Phenylcarbamoyl-, N,N-Diethylcarbamoyl- und Morpholinocarbamoylgruppen ein.
Substituierte Thiogruppen (R¹⁴S-) können solche sein, bei denen R¹⁴ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe ausschließlich einem Wasserstoffatom darstellt. Bevorzugte Beispiele dieser substituierten Thiogruppe schließen Alkylthiogruppen, Arylthiogruppen, Alkyldithiogruppen, Aryldithiogruppen und Acylthiogruppen ein. Beispiele für die Alkyl- und Arylgruppen der vorgenannten Gruppen schließen die o. g. Gruppen, die als Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen beispielhaft genannt wurden, ein. R¹³ der Acylgruppe (R¹³CO-) in den Acylthiogruppen sind die oben beschriebenen. Von diesen Gruppen sind bevorzugte Alkylthiogruppen und Arylthiogruppen. Bevorzugte spezifische Beispiele der substituierten Thiogruppen schließen Methylthio-, Ethylthio-, Phenylthio-, Ethoxyethylthio-, Carboxyethylthio- und Methoxycarbonylthiogruppen ein.
Substituierte Sulfonylgruppen (R¹⁹SO₂-) können solche sein, bei denen R¹⁹ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe darstellt. Bevorzugtere Beispiele der substituierten Sulfonylgruppe schließen Alkylsulfonylgruppen und Arylsulfonylgruppen ein.
Beispeiele der Alkyl- und Arylgruppen in den vorgenannten Gruppen schließen die o. g. Gruppen, beschrieben für die Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierten Arylgruppen ein. Spezifische Beispiele der substituierten Sulfonylgruppen schließen Butylsulfonyl- und Chlorphenylsulfonylgruppen ein.
Substituierte Sulfinylgruppen (R¹⁸SO-) können solche sein, bei denen R¹⁸ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe darstellt. Bevorzugte Beispiele der substituierten Sulfinylgruppe schließen Alkylsulfinylgruppen, Arylsulfinylgruppen, Sulfinylamoylgruppe, N-Alkylsulfinamoylgruppen, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppen, N-Arylsulfinamoylgruppen, N,N-Diarylsulfinamoylgruppen und N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppen ein. Beispiele für die Alkyl- und Arylgruppen in den vorher genannten Gruppen schließen die o. g. Gruppen ein, die für die Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierten Arylgruppen genannt wurden. Bevorzugte Beispiele der substituierten Sulfinylgruppen schließen Alkylsulfinylgruppen und Arylsulfinylgruppen ein. Spezifische Beispiele dieser substituierten Sulfinylgruppen schließen Hexylsulfinyl-, Benzylsulfinyl- und Tolylsulfinylgruppen ein.
Substituierte Oxygruppen (R¹²O-) können solche sein, bei denen R¹² eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe darstellt ausschließlich einem Wasserstoffatom. Bevorzugte Beispiele dieser substituierten Oxygruppe schließen Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Acyloxygruppen, Carbamoyloxygruppe, N-Arylcarbamoyloxygruppen, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppen, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppen, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppen, Alkylsulfoxygruppen, Arylsulfoxygruppen, Phosphonoxygruppe und Phosphonatoxygruppe ein. Beispiele der Alkyl- und Arylgruppen in den vorgenannten Gruppen schließen die beispielhaft für Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen genannten Gruppen ein. Beispiele der Acylgruppe (R¹³CO-) in den Acyloxygruppen schließen die Acylgruppen ein, bei denen R¹³ eine der vorher beispielhaft genannten Alkylgruppen, substituierten Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierten Arylgruppen ist. Von diesen Substituentengruppen sind bevorzugte Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, Acyloxygruppen und Arylsulfoxygruppen. Insbesondere bevorzugte Beispiele dieser substituierten Oxygruppe schließen Methoxy-, Ethoxy-, Propyloxy-, Isopropyloxy-, Butyloxy-, Pentyloxy-, Hexyloxy-, Dodecyloxy-, Benzyloxy-, Allyloxy-, Phenethyloxy-, Carboxyethyloxy-, Methoxycarbonylethyloxy-, Ethoxycarbonylethyloxy-, Methoxyethoxy-, Phenoxyethoxy-, Methoxyethoxyethoxy-, Ethoxyethoxyethoxy-, Morpholinoethoxy-, Morpholinopropyloxy-, Allyloxyethoxyethoxy-, Phenoxy-, Tolyloxy-, Xylyloxy-, Mesityloxy-, Cumenyloxy-, Methoxyphenyloxy-, Ethoxyphenyloxy-, Chlorphenyloxy-, Bromphenyloxy-, Acetyloxy-, Benzoyloxy-, Naphthyloxy-, Phenylsulfonyloxy-, Phosphonoxy- und Phosphonatoxygruppen ein.
Substituierte Aminogruppen (R¹⁵NH- und (R¹⁶)(R¹⁷)N-) können solche sein, bei denen jeweils R¹⁵, R¹⁶ und R¹⁷ eine einwertige nicht-metallische Atomgruppe ausschließlich ein Wasserstoffatom darstellen. Bevorzugte Beispiele der substituierten Aminogruppe schließen N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, N-Arylaminogruppen, N,N-Diarylaminogruppen, N-Alkyl-N-arylaminogruppen, Acylaminogruppen, N-Alkylacylaminogruppen, N-Arylacylaminogruppen, Ureidogruppen, N'-Alkylureidogruppen, N',N'-Dialkylureidogruppen, N'-Arylureidogruppen, N',N'-Diarylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-arylureidogruppen, N-Alkylureidogruppen, N-Arylureidogruppen, N'-Alkyl-N-alkylureidogruppen, N'-Alkyl-N-arylureidogruppen, N',N'-Dialkyl-N-alkylureidogruppen, N',N'-Dialkyl-N-arylureidogruppen, N'-Aryl-N-Alkylureidogruppen, N'-Aryl-N-arylureidogruppen, N',N'-Diaryl-N-alkylureidogruppen, N',N'-Diaryl-N-arylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureidogruppen, N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureidogruppen, Alkoxycarbonylaminogruppen, Aryloxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppen, N-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppen, N-Aryl-N-alkoxycarbonylaminogruppen und N-Aryl-N-Aryloxycarbonylaminogruppen ein. Beispiele für die Alkyl- und Arylgruppen in den vorgenannten Gruppen schließen die o. g. Gruppen, die beispielhaft für Alkylgruppen, substituierte Alkylgruppen, Arylgruppen und substituierte Arylgruppen genannt wurden, ein. R¹³ der Acylgruppe (R¹³CO-) in den Acylaminogruppen, N-Alkylacylaminogruppen und N-Arylacylaminogruppen sind die vorher beschriebenen. Von diesen Gruppen sind bevorzugter N-Alkylaminogruppen, N,N-Dialkylaminogruppen, N-Arylaminogruppen und Acylaminogruppen. Spezifische Beispiele der substituierten Aminogruppen schließen Methylamino-, Ethylamino-, Diethylamino-, Morpholino-, Piperidino-, Pyrrolizino-, Phenylamino-, Benzoylamino- und Acetylaminogruppen ein.
In der allgemeinen Formel (I) stellt G_a eine anionische Substituentengruppe dar und G_b stellt eine neutrale Substituentengruppe dar. Diese Gruppen können durch die folgenden Strukturformeln dargestellt werden.
In diesen Formeln sind L₁-L₄ jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe und den vorher beschriebenen Alkyl-, Aryl-, Alkenyl-, Alkinyl-, Carbonyl-, Thio-, Sulfonyl-, Sulfinyl-, Oxy- und Aminogruppen und L₁ und L₂, genauso wie L₃ und L₄ können sich zusammen miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur zu bilden. Bevorzugt stellt G_b ein saures Gerüst eines Cyaninfarbstoffes dar und G_a ^–, das warum ein anionisches Gerüst anionisch wird. Beispiele für das saure Gerüst schließen die Verbindungen, wie beschrieben in Tabelle 8, 2-B auf Seite 199 von "The Theory of the Photographic Process" und die unten genannten Gerüste ein.

1) 1,3-Dicarbonylgerüst, z. B. 1,3-Indandion, 1,3-Cyclohexandion, 5,5-Dimethyl-1,3-cyclohexandion and 1,3-Dioxan-4,6-dion;
2) Pyrazolinongerüst, z. B. 3-Methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-on, 1-Phenyl-2-pyrazolin-5-on, 1-Phenyl-2-pyrazolin-5-on, 1-(2-Benzothiazolyl)-3-methyl-2-pyrazolin-5-on;
3) Isooxazolinongerüst, z. B. 3-Phenyl-2-isooxazolinon-5-on, 3-Methyl-2-isooxazolinon-5-on;
4) Oxyindolgerüst, z. B. 1-Alkyl-2,3-dihydro-2-oxyindol;
5) 2,4,6-Triketohexahydropyrimidingerüst, z. B. Barbitursäure oder 2-Thiobarbitursäure und Derivate davon, beispielhaft dargestellt durch 1-Alkylderivate, wie 1-Methyl- und 1-Ethylderivate; 1,3-Dialkylderivate wie 1,3-Diethyl- und 1,3-Dibutylderivate; 1,3-Diarylderivate, wie 1,3-Diphenyl, 1,3-Di(p-chlorphenyl) und 1,3-Di(p-ethoxycarbonylphenyl)derivate; und 1-Alkyl-3-arylderivate, wie 1-Ethyl-3-phenylderivate.
6) 2-Thio-2,4-thiazolidinendiongerüst, z. B. Rhodanin und Derivate davon beispielhaft dargestellt durch 3-Alkylrhodaninderivate, wie 3-Ethylrhodanin und 3-Allylrhodanin; und 3-Arylrhodaninderivate, wie 3-Phenylrhodanin;
7) 2-Thio-2,4-oxazolidindion (2-Thio-2,4-(3H,5H)-oxazoldion)gerüst, z. B. 2-Ethyl-2-thio-2,4-oxazolidindion;
8) Thianaphthenongerüst, z. B. 3(2H)-Thianaphthenon und 3(2H)-Thianaphthenon-1,1-dioxid;
9) 2-Thio-2,5-thiazolidindiongerüst, z. B. 3-Ethyl-2-thio-2,5-thiazolidindion;
10) 2,4-Thiazolidindiongerüst, z. B. 2,4-Thiazolidindion, 3-Ethyl-2,4-thiazolidindion und 3-Phenyl-2,4-thiazolidindion;
11) Thiazolidinongerüst, z. B. 4-Thiazolidinon und 3-Ethyl-4-thiazolidinon;
12) 4-Thiazolidinongerüst, z. B. 2-Ethylmercapto-5-thiazolin-4-on und 2-Alkylphenylamino-5-thiazolin-4-on;
13) 2-Imino-2-oxazolin-4-on (Pseudonym Hydantoin)gerüst;
14) 2,4-Imidazolidindion(hydantoin)gerüst, z. B. 2,4-Imidazolidindion und 3-Ethyl-2,4-imidazolidindion;
15) 2-Thio-2,4-imidazolidindion(2-thiohydantoin)gerüst, z. B. 2-Thio-2,4-imidazolidindion und 3-Ethyl-2-thio-2,4-imidazolidindion;
16) 2-Imidazolin-5-on-gerüst, z. B. 2-n-Propyl-mercapto-2-imidazolin-5-on;
17) Furan-5-on;
18) 4-Hydroxy-2(1H)-chinolingerüst oder 4-Hydroxy-2(1H)-pyridinongerüst, z. B. N-Methyl-4-hydroxy-2-(1H)-chinolin, N-n-Butyl-4-hydroxy-2(1H)-chinolin und N-Methyl-4-hydroxy-2(1H)-pyridinon;
19) substituiertes oder unsubstituiertes 4-Hydroxy-2H-pyran-2-on und 4-Hydroxycoumarin;
20) substituiertes oder unsubstituiertes Thioindoxyl, z. B. 5-Methylthioindoxyl.

In der allgemeinen Formel (I) stellt Z ein Chalcogenatom oder eine -C(Y₁)(Y₂)-Gruppe dar, wobei Y₁ und Y₂ gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus -CN, -CO₂R' und -SO₂R'', wobei R' und R'' die o. g. Alkylgruppen bzw. Arylgruppen darstellen.
In einer bevorzugten Form des anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agens wird eine Bildgebung vom Positivtyp bewirkt durch ein Gegenkation, beispielhaft dargestellt durch eines mit einer Oniumsalzstruktur. Beispiele für das Oniumsalz schließen Ammoniumsalz, Diazoniumsalze, Oxoniumsalze, Sulfoniumsalze, Seleniumsalze, Phosphoniumsalze, Carboniumsalze und Iodoniumsalze ein.
Beispiele für die erfindungsgemäß verwendbaren Oniumsalze schließen Diazoniumsalze, wie beschrieben in S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, Seite 387(1974), T. S. Bal et al.; Polymer, 21, Seite 423(1980) und JP-A Nr. 5-158,230; Ammoniumsalze, wie beschrieben in US-Patent Nrn. 4,609,055 und 4,609,056 und JP-A Nr. 3-140,140; Phosphoniumsalze, wie beschrieben in D. C. Necker et al.; Macromolecules, 17, Seite 2468(1984), C. S. Wen et al.,; The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, Seite 478, Tokyo, Okt. (1988), US-Patent Nr. 4,609,055 und 4,609,056; Iodoniumsalze, wie beschrieben in J. V. Crivello et al.; Macromolecules, 10(6), Seite 1307(1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, Seite 31(1988), europäisches Patent Nr. 104,143, US-Patent Nr. 339,049 und 410,201 und JP-A Nrn. 2-150,848 und 2-296,514; Sulfoniumsalze, wie beschrieben in J. V. Crivello et al., Polymer J. 17, Seite 73(1985), J. V. Crivello et al., J. Org. Chen., 43, Seite 3055(1978), W. R. Watt et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, Seite 1789(1984), J. V. Crivello et al.; Polymer Bull., 14, Seite 279(1985), J. V. Crivello et al.; Macromolecules, 14(5), Seite 1141(1981), J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, Seite 2877(1979), europäische Patente Nrn. 370,693, 233,576, 297,443 und 297,442, US-Patente Nrn. 4,933,377, 3,902,114, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444 und 2,833,827 und deutsche Patente Nrn. 2,904,626, 3,604,580 und 3,604,581; Selenoniumsalze, wie beschrieben in J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10(6), Seite 1307(1977) und J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, Seite 1047(1979; und Arseniumsalze, wie beschrieben in C. S. Wen et al., Teh., Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, Seite 478, Tokyo, Okt. (1988) ein.
Weiterhin sind erfindungsgemäß geeignet Ammoniumsalze, Phosphoniumsalze, Sulfoniumsalze, Iodoniumsalze und dgl., wie in JP-A Nr. 9-134,009 beschrieben.
Die Oxoniumsalze sind durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (A) und (B) dargestellt:
R_d-O⁺=R_e (B)worin R_a bis R_d jeweils unabhängig ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen und Arylgruppen; und R_e stellt eine Alkylengruppe oder eine Arylengruppe dar. Benachbarte R_a- bis R_e-Gruppen oder R_d- und R_e-Gruppen könne sich miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur zu bilden.
Die Selenoniumsalze sind dargestellt durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (C) und (D):
R_i-Se⁺=R_j (D)worin R_f bis R_i jeweils unabhängig voneinander eine Gruppe darstellt ausgewählt aus Alkylgruppen und Arylgruppen und R_j stellt eine Alkylgruppe oder eine Arylengruppe dar. Benachbarte R_f- bis R_g-Gruppen oder R_i und R_j können zusammen sich verbinden, um eine cyclische Struktur auszubilden.
Die Diazoniumsalze sind durch die folgende allgemeine Formel (E) dargestellt: R_k-N⁺≡N (E)worin Rk eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellt.
Die Carboniumsalze sind durch eine der folgenden allgemeinen Formeln (F) und (G) dargestellt:
R_o-C⁺=R_p (G) R_l bis R_o jeweils unabhängig ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen und Arylgruppen und R_p stellt eine Alkylengruppe oder eine Arylengruppe dar. Benachbarte R_l- bis R_m-Gruppen oder R_o und R_p können sich miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur zu bilden.
Andere Oniumsalze, die erfindungsgemäß verwendet werden können, schließen z. B. solche ein, dargestellt durch die allgemeinen Formeln (H) bis (K).
R^H-I⁺-R¹ (J)
In diesen Formeln sind R^A, R^B, R^C, R^D, R^J, R^K, R^L und R^M unabhängig ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen, Arylgruppen und Aralkylgruppen. R^A, R^B, R^C und R^D können sich miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur zu bilden und R^J, R^K, R^L und R^M können sich miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur zu bilden. R^E, R^F und R^G sind jeweils unabhängig ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen und Arylgruppen. R^E, R^F und R^G können sich miteinander verbinden, um eine cyclische Struktur auszubilden. R^M und R^I sind jeweils unabhängig ausgewählt aus einer Alkylgruppe.
Eine weitere bevorzugte Form ist die Verwendung eines Gegenkations, das ein thermisch zersetzbares Oniumsalz ist. Der Ausdruck "thermisch zersetzbares Oniumsalz" wird hierin so verwendet, dass er sich auf ein Oniumsalz bezieht, das 10 mol-% oder mehr Zersetzung bei einer Temperatur von 200°C oder kleiner aufzeigt, wenn die Zersetzung gemessen wird durch differentielle Kalorimetrie/thermogravimetrische Analyse oder durch Verwendung einer Schmelzpunkt-Meßapparatur.
Solch ein thermisch zersetzbares Oniumsalz kann einfach durch entsprechende Auswahl der Substituentengruppe des Oniumsalzes erhalten werden. Das thermisch zersetzbare Oniumsalz kann eines sein ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Ammoniumsalzen, Diazoniumsalzen, Oxoniumsalzen, Sulfoniumsalzen, Selenoniumsalzen, Phosphoniumsalzen, Carboniumsalzen und Iodoniumsalzen, vorausgesetzt, dass das thermisch zersetzbare Oniumsalz die o. g. Bedingungen erfüllt.
Einige spezifische Beispiele des anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agens sind unten dargestellt. Es wird allerdings angemerkt, dass die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele begrenzt ist.
Ruß-CO₂ ^– AD-3^- Diese Substanzen können durch bekannte Verfahren synthetisiert werden. Die o. g. anionischen Ni-Komplexe (AD-1^– und AD-2^–) können z. B. durch das in J. of American Chem. Soc., Band 88(1966), Seiten 43–50 oder Seiten 4870–4875 beschriebene Verfahren hergestellt werden. Andererseits kann der anionische Ruß (AD-3^–) hergestellt werden durch Einfügen einer Carbonsäuregruppe durch Oxidation, wie auf Seite 12 des The Carbon Black Handbook (editiert durch die Carbon Black Society, Japan und 1995 durch diese Gesellschaft herausgegeben) beschrieben.
Das Gerüst des anionischen Farbstoffs von (a-4), der Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) kann dargestellt sein durch die allgemeine Formel (II): G_aθ ^–-M_αØ (II)worin θ, α und Ø jeweils eine Variable darstellt, so dass die spezifische Struktur des Gerüstes des anionischen Farbstoffes angezeigt werden kann durch Kombinieren der Teilstrukturen G_aθ, M^αØø und G_bθ. Eine Kombination der folgenden Teilstrukturen G_aI, Mf₃ und G_b2 bildet einen anionischen Farbstoff mit einem Gerüst mit einer Struktur, wie sie unten beschrieben ist.
Einige Beispiele der Teilstrukturen des Gerüsts des anionischen Farbstoffes und spezifische Beispiele der Oniumsalze, die als Gegenionen gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind unten genannt. Es wird allerdings angemerkt, dass die vorliegende Erfindung nicht auf diese Beispiele begrenzt ist. Beispiele der Teilstruktur G_aθ schließt die folgenden ein.
Beispiele der Teilstruktur G_bθ schließt die folgenden ein.
Beispiele der Methinkette M^αØ schließt die folgenden ein
Wenn die Methinkette M^αØ eine Substituentengruppe hat, schließen Beispiele der Substituentengruppe Ø–Y die folgenden ein.
Beispiele von Teilstrukturen geeigneter Gegenionen gemäß der folgenden allgemeinen Formel (A) bis (G) schließen die folgenden ein.
Beispiele von Teilstrukturen geeigneter Gegenionen, dargestellt durch die allgemeine Formel (H) schließen die folgenden ein.
Beispiele der Teilstrukturen geeigneter Gegenionen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) schließt die folgenden ein.
Beispiele von Teilstrukturen geeigneter Gegenionen, dargestellt durch die allgemeine Formel (J) schließt die folgenden ein. Ph-I⁺-Ph
Beispiele von Teilstrukturen geeigneter Gegenionen, dargestellt durch die allgemeine Formel (K) schließt die folgenden ein.
Beispiele von Oxonol-Farbstoffen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) schließen die Farbstoffe, beschrieben in dem europäischen Patent (im folgenden als EP bezeichnet) Nr. 397,435, Patentanmeldung Nr. 2,676,212 ein.
Einige bevorzugte spezifische Beispiele (A1-A39 und IR-1 bis IR-52) des anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agens, aufgebaut aus Verbindungen, hergestellt unter Verwendung der vorgenannten geeigneten Gegenionen sind unten dargestellt. Es wird allerdings angemerkt, dass die vorliegende Erfindung nicht auf diese spezifischen Beispiele begrenzt ist. In den folgenden Beispielen bezeichnet eine Zahl die Anzahl der Kohlenstoffatome in der konjugierten Methinkette, wenn eine Zahl unter einer Verbindungsnummer genannt ist.
Es wird ebenfalls angemerkt, dass die Struktur jeder der folgenden Farbstoffe durch eine der Resonanzstrukturen davon dargestellt ist und entsprechend die folgenden Strukturformeln z. B. das gleiche Molekül darstellen.
In der vorliegenden Erfindung ist die zugegebene Menge an anionischen, Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens von 0,01 bis 50 Gew.-%, bevorzugt von 0,1 bis 20 Gew.-% und bevorzugter von 0,5 bis 15 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe in der fotoempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die zugegebene Menge kleiner als 0,01 Gew.-% ist, kann die fotoempfindliche Zusammensetzung kein Bild ausbilden, wenn die zugegebene Menge 50 Gew.-% überschreitet, können nicht-bildgebende Bereiche verschmiert sein, wenn die Zusammensetzung als fotoempfindliche Schicht einer Flachdruck-Vorläuferplatte verwendet wird.
Zusätzlich zu dem Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens kann die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung ein Pigment oder Farbstoff enthalten, das/der in der Lage ist, Infrarotstrahlen zu absorbieren, um die bildgebende Leistung zu erhöhen.
Erfindungsgemäß verwendbare Pigmente schließen kommerziell erhältliche Pigmente ein und die Pigmente, beschrieben im Color Index (C. I. Handbuch, "The Handbook of the Latest Pigments" (Saishin Ganryo Binran), editiert durch die japanische Gesellschaft der Pigment-Technologie (Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai) (1977), "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986 und "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMS, 1984.
Beispiele der Pigmentarten schließen schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orange Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, lila Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente und Polymere, enthaltend chemische kombinierte Farbstoffe, ein. Spezifische Beispiele von Pigmenten schließen ein unlösliche Azopigmente, Azo-Farblack-Pigmente, kondensierte Azopigmente, gelatierte Azopigmente, Pigmente auf Phthalocyaninbasis, Pigmente auf Anthrachinonbasis, Pigmente auf Perylen- und Perinonbasis, Pigmente auf Thioindigobasis, Pigmente auf Chinacridonbasis, Pigmente auf Dioxazinbasis, Pigmente auf Isoindolinonbasis, Pigmente auf Chinophthalolbasis, gefärbte Lackpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente, Ruß und dgl.
Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung oder nach Oberflächenbehandlung verwendet werden. Mögliche Oberflächenbehandlungen schließen eine Behandlung ein, bei der ein Harz oder ein Wachs auf die Oberfläche des Pigments beschichtet wird, eine Beschichtung, wobei ein Tensid auf die Oberfläche des Pigments angehaftet wird und eine Behandlung, bei der eine reaktive Substanz (z. B. ein Silankupplungsmittel, eine Epoxyverbindung oder Polyisocyanat) an die Oberfläche des Pigments gebunden wird. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind beschrieben in "Properties and Applications of Metal Soaps" (Saiwai Shobo Co., Ltd.), "Printing Ink Technologies" (Insatsu Inki Gijutsu), CMC, 1984 und "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMC, 1986.
Der Durchmesser der Pigmente ist bevorzugt in einem Bereich von 0,01 bis 10 μm, bevorzugter in einem Bereich von 0,05 bis 1 μm und am meisten bevorzugt in einem Bereich von 0,1 bis 1 μm. Wenn der Durchmesser kleiner als 0,1 μm ist, ist die Dispersionsstabilität der Pigmente in der Beschichtungsflüssigkeit zur Herstellung der fotoempfindlichen Schicht unzureichend, während, wenn der Durchmesser größer als 10 μm ist, die Einheitlichkeit der fotoempfindlichen Schicht gering ist.
Ein bekanntes Dispersionsverfahren, wie es zur Herstellung von Tinte, Toner und dgl. verwendet wird, kann auch zum Dispergierens der Pigmente verwendet werden. Beispiele von Dispergiermaschinen schließen ein Ultraschall-Dispergiermaschine, eine Sandmühle, einen Attritor, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, ein Kreis...rührer, ein Dispergierer, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, ein Presskneter und dgl. Details dieser Dispersionstechnologien sind beschrieben in "Latest Pigment Application Technologies" (Saishin Ganryo Oyo Gijutsu), CMS, 1986.
Die erfindungsgemäß geeigneten Farbstoffe schließen kommerziell erhältliche Farbstoffe und Farbstoffe, beschrieben im "Handbook of Dyes", editiert durch die Gesellschaft der Organischen Synthese (Yuki Gosei Kagaku Kyokai) (1970) ein. Spezifische Beispiele der Farbstoffe schließen Azofarbstoffe, Azofarbstoffe in Form eines metallischen Komplexsalzes, Pyrazolonazofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe ein.
Von diesen Pigmenten und Farbstoffen sind die Pigmente und Farbstoffe, die Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen absorbieren, insbesondere bei der erfindungsgemäßen Verwendung bevorzugt, da sie insbesondere in Kombination mit einem Laser, der Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen emittiert, geeignet sind.
Ruß kann als das Pigment, das erfindungsgemäß Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen absorbiert verwendet werden. Beispiele von Farbstoffen, die Infrarot- oder Nah-Infrarotstrahlen absorbieren und die zur erfindungsgemäßen Verwendung geeignet sind, schließen Cyaninfarbstoffe ein, beschrieben in z. B. JP-A Nrn. 58-125,246, 59-84,356, 59-202,829 und 60-78,787, Methinfarbstoffe, beschrieben z. B. in JP-A Nrn. 58-173,696, 58-181,690 und 58-194,595: Naphthochinonfarbstoffe, z. B. beschrieben in JP-A Nrn. 58-112,793, 58-224,793, 58-224,793, 59-48,187, 59-73,996, 60-52-940 und 60-63,744; Squaryliumfarbstoffe, z. B. beschrieben in JP-a 58-112,792; Cyaninfarbstoffe, beschrieben in UK-Patent Nr. 434,875 und Dihydropyrimidinsquaryliumfarbstoffe, beschrieben in US-Patent Nr. 5,380,635.
Andere Verbindungen, die zur Verwendung als Farbstoff geeignet sind schließen einen Nah-Infrarotstrahlen absorbierenden Sensibilisator, beschrieben in US-Patent Nr. 5,156,938 ein. Weiterhin schließen insbesondere geeignete Verbindungen ein substituiertes Arylbenzo(thio)pyryliumsalz, beschrieben in US-Patent Nr. 3,881,924; ein Trimethinthiopyryliumsalz, beschrieben in JP-a Nr. 57-142,645 (US-Patent Nr. 4,327,169); Verbindungen auf Pyryliumbasis, beschrieben in JP-a Nrn. 58-181,051, 58-220,143, 59-41,363, 59-84,248, 59-84,249, 59-146,063 und 59-146,061; ein Cyaninfarbstoff, beschrieben in JP-A Nr. 59-216,146; ein Pentamethinthiopyryliumsalz, beschrieben in US-Patent Nr. 4,283,475; Pyryliumverbindungen, beschrieben in den japanischen Patentanmeldungs-Publikationen (JP-B) Nrn. 5-13,514 und 5-19,702; Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125, Epolight IV-62A und dgl. ein.
Weitere Beispiele von insbesondere geeigneten Farbstoffen schließen die Nah-Infrarotstrahlen absorbierenden Farbstoffe, dargestellt durch die Formeln (I) und (II), beschrieben in US-Patent Nr. 4,756,993 ein.
In der vorliegenden Erfindung ist die zugefügte Menge an Pigment oder Farbstoff 0,01 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.-%, am meisten bevorzugt von 0,5 bis 10 Gew.-% im Falle eines Farbstoffs und am meisten bevorzugt von 3,1 bis 10 Gew.-% im Falle von einem Pigment, bezogen auf das Gesamtgewicht an Feststoffen in den Materialien für die Druckplatte. Wenn die Menge an zugefügtem Pigment oder Farbstoff kleiner als 0,01 Gew.-% ist, ist die Empfindlichkeit gering, während, wenn die zugefügte Menge größer als 50 Gew.-% ist, die Einheitlichkeit der fotoempfindlichen Schicht und die Haltbarkeit der Aufzeichnungsschicht gering wird.
Diese Farbstoffe oder Pigmente können zu der fotoempfindlichen Zusammensetzung so zugesetzt werden, dass die Farbstoffe oder Pigmente zusammen mit anderen Komponenten zu der fotoempfindlichen Schicht zugegeben werden oder alternativ können sie zu einer gebildeten Schicht, die diese Farbstoffe oder Pigmente enthält, zusätzlich zu der fotoempfindlichen Schicht zugegeben werden, wenn die Flachdruck-Vorläuferplatte hergestellt wird.
(b) Polymere Verbindungen, die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich sind
Der Ausdruck "(b) polymere Verbindungen, die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich sind", wie er erfindungsgemäß verwendet wird, bedeutet polymere Verbindungen, die in einer Hauptkette oder einer Seitenkette davon eine Gruppe mit Strukturen einer Säuregruppe aufweist, wie die folgenden: nämlich eine phenolische Hydroxylgruppe (-Ar-OH), Carbonsäuregruppe (-COOH), Sulfonsäuregruppe (-SO₃H), Phosphorsäuregruppe (-OPO₃H), Sulfonamidgruppe (-SO₂NH-R), substituierte Gruppe auf Sulfonamidbasis (aktive Imidogruppen) (-SO₂NHCOR, SO₂NHSO₂R und -CONHSO₂R).
In diesen Formeln stellt Ar eine zweiwertige Arylgruppe, die eine Substituentengruppe aufweisen kann, dar und R stellt eine Kohlenwasserstoffgruppe, die eine Substituentengruppe aufweisen kann, dar. Von diesen Säuregruppen sind bevorzugt (b-1), eine phenolische Hydroxylgruppe, (b-2) eine Sulfonamidgruppe und (b-3) eine aktive Imidogruppe; und am meisten bevorzugt ist (b-1) ein Harz, das eine phenolische Hydroxylgruppe hat und das in wässriger alkalischer Lösung löslich ist (dieses Harz wird im folgenden als "ein Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe" bezeichnet). Beispiele für polymere Verbindungen mit (b-1) einer phenolischen Hydroxylgruppe schließen ein: Novolakharze, wie ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus Phenol und Formaldehyd (im folgenden auch als Phenol/Formaldehydharz bezeichnet), ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus m-Cresol und Formaldehyd (im folgenden auch als m-Cresol/Formaldehydharz bezeichnet), ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus p-Cresol und Formaldehyd, ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus einer m-Cresol/p-Cresolmischung und Formaldehyd und ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus Phenol, Cresol (das m-Cresol, p-Cresol oder eine Mischung aus m-Cresol und p-Cresol sein kann); und ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus Pyrogallol und Aceton. Ebenfalls sind Copolymere, hergestellt durch Copolymerisation von Monomeren mit einer Phenolgruppe in der Seitenkette verwendbar. Beispiele von diesen Monomeren mit einer Phenolgruppe, die erfindungsgemäß geeignet sind, schließen ein Phenolgruppe enthaltendes Acrylamid, Methacrylamid, Acrylat, Methacrylat, Hydroxystyrol und dgl. Spezielle bevorzugte Beispiele dieser Monomere schließen ein N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid, o-Hydroxyphenylacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat, o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat, o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat, 2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat und andere. Vom Standpunkt der bildgebenden Leistung hat die polymere Verbindung ein massegemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 5,0 × 10² bis 2,0 × 10⁴ und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 2,0 × 10² bis 1,0 × 10⁴. Diese Harze können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Wenn eine Kombination verwendet wird, kann irgendeines dieser Harze mit einem Kondensations-Polymerisations-Produkt aus einem Phenol, substituiert mit einer Acrylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen und Formaldehyd, wie ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus t-Butylphenol und Formaldehyd oder ein Kondensations-Polymerisations-Produkt aus Octylphenol und Formaldehyd, wie im US-Patent Nr. 4,123,279 beschrieben, verwendet werden.
Das massegemittelte Molekulargewicht des Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe ist bevorzugt im Bereich von 500 bis 20.000. Das zahlengemittelte Molekulargewicht davon ist bevorzugt im Bereich von 200 bis 10.000.
Weiterhin können Harze, wie im US-Patent Nr. 4,123,279 beschrieben, wie t-Butylphenol/Formaldehydharz und ein Octylphenol/Formaldehydharz, erhalten durch eine Kondensationsreaktion zwischen Phenol, das mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert ist, und Formaldehyd in Kombination verwendet werden. Diese Harze mit einer phenolischen Hydroxylgruppe können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
Bei einer polymeren Verbindung, die eine (b-2) Sulfonamidgruppe aufzeigt und die in alkalischem Wasser löslich ist, schließen Beispiele von Monomeren mit (b-2) eine Sulfonamidgruppe, d. h. die Hauptmonomere, die die polymeren Verbindung bilden, ein, ein Monomer, umfassend eine Verbindung, die ein geringes Molekulargewicht hat und in seinem Molekül mindestens eine Sulfonamidgruppe mit mindestens einem Wasserstoff, verbunden mit einem Stickstoffatom zusammen mit mindestens einer ungesättigten Bindung, die zur Polymerisation geeignet ist, aufweist. Von diesen Monomeren ist bevorzugt eine Verbindung, die ein niedriges Molekulargewicht hat und eine Acryloylgruppe, eine Allylgruppe oder eine Vinyloxygruppe zusammen mit einer substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonylgruppe oder einer substituierten Sulfonyliminogruppe aufzeigt.
Beispiele dieser Verbindungen schließen die Verbindungen, dargestellt durch eine der allgemeinen Formeln (3) bis (7) ein.
In den Formeln stellen X¹ und X² jeweils -O- oder -NR¹⁷- dar. R²¹ und R²⁴ stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH₃- dar. R²², R²⁵, R²⁹, R³² und R³⁶ stellen jeweils eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe dar, jede Gruppe hat 1 bis 12 Kohlenstoffatome und eventuell eine Substituentengruppe. R²³, R²⁷ und R³³ stellen jeweils ein Wasserstoffatom dar oder alternativ eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, jede Gruppe hat 1 bis 12 Kohlenstoffatome und gegebenenfalls eine Substituentengruppe. R²⁶ und R²⁷ stellen jeweils eine Alkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe dar, jede dieser Gruppen hat 1 bis 12 Kohlenstoffatome und gegebenenfalls eine Substituentengruppe. R²⁸, R³⁰ und R³⁴ stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH₃ dar. R³¹ und R³⁵ stellen jeweils eine Einfachbindung oder alternativ eine Alkylengruppe, eine Cycloalkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Aralkylengruppe dar, jede dieser Gruppen hat 1 bis 12 Kohlenstoffatome und gegebenenfalls haben sie eine Substituentengruppe. Y¹ und Y² stellen jeweils eine Einfachbindung oder -CO- dar.
Bevorzugte spezifische Beispiele dieser Verbindungen schließen m-Aminosulfonylphenylmethacrylat, N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid und N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid ein.
Bei einer polymeren Verbindung, die eine (b-3) aktive Imidogruppe hat und die löslich in einer wässrigen alkalischen Lösung ist, schließen Beispiele der Monomere mit (b-3) einer aktiven Imidogruppe, d. h. die Hauptmonomere, die die polymeren Verbindungen bilden, ein, ein Monomer umfassend eine Verbindung, die ein geringes Molekulargewicht hat und in einem Molekül davon mindestens eine aktive Imidogruppe, dargestellt durch die unten aufgeführte Formel aufweist, zusammen mit mindestens einer ungesättigten Bindung, die zur Polymerisation geeignet ist.
Bevorzugte spezifische Beispiele dieser Verbindungen schließen ein N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid.
Als Copolymer, das in alkalischem Wasser löslich ist und das erfindungsgemäß verwendet werden kann, muss es nicht aus einer einzelnen Monomerart, ausgewählt aus Monomeren einer der (b-1) bis (b-3) Säuregruppen zusammengesetzt sein. Zwei oder mehr Monomerarten mit der gleichen Säuregruppe oder alternativ zwei oder mehrere Monomerarten mit verschiedenen Säuregruppen können ebenfalls zur Copolymerisation verwendet werden.
Als Verfahren zur Copolymerisation der Monomere können bekannte Verfahren, wie Pfropfpolymerisation, Blockpolymerisation, statistische Polymerisation und dgl. verwendet werden.
In der vorliegenden Erfindung schließt das Copolymer in bevorzugt 10 mol-% oder mehr, bevorzugter 20 mol-% oder mehr das/die Copolymerisationsmonomer(e), ausgewählt aus den Monomeren mit einer der (b-1) bis (b-3) Säuregruppen, ein. Wenn die copolymerisierende Komponente kleiner als 10 mol-% ist, ist die Interaktion zwischen dem erhaltenen Copolymer und dem Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe unzureichend und somit wird die vorteilhafte Wirkung, die durch Verwendung der copolymerisierenden Komponente eingebracht werden soll, d. h. die Verbesserung des Belichtungsspielraums, unzureichend.
Das Copolymer kann eine andere copolymerisierende Komponente als die Monomere, ausgewählt aus den Monomeren mit einer der (b-1) bis (b-3) Säuregruppen einschließen.
Beispiele von Monomeren, die als copolymerisierende Komponente verwendet werden können, schließen die Monomere der Punkt (1) bis (12) unten ein.

(1) Acrylate und Methacrylate, die jeweils eine aliphatische Hydroxylgruppe haben und beispielhaft dafür sind 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und dgl.
(2) Alkylacrylate, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, z. B. Lycidylacrylat und N-Dimethylaminoethylacrylat.
(3) Alkylmethacrylat, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, z. B. Lycidylmethacrylat und N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
(4) Acrylamide oder Methacrylamide, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
(5) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether und Phenylvinylether.
(6) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat und Vinylbenzoat.
(7) Styrole, wie α-Methylstyrol, Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
(8) Vinylketone, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon und Phenylvinylketon.
(9) Olefine, wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren.
(10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylonitril und Methacrylonitril und dgl.
(11) Ungesättigte Imide, wie Maleimide, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
(12) Ungesättigte Carbonsäuren, wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure.

In der vorliegenden Erfindung ist es aus Sicht der Filmfestigkeit bevorzugt, dass die polymere Verbindung, die in alkalischem Wasser löslich ist, ein massegemitteltes Molekulargewicht von 2.000 oder größer hat und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht von 500 oder größer, unabhängig davon, ob die polymere Verbindung ein Homopolymer oder ein Copolymer ist, aufweisen. Bevorzugter hat die polymere Verbindung ein massegemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 5.000 bis 300.000 und ein zahlengemitteltes Molekulargewicht im Bereich von 800 bis 250.000 und einen Index der Polydispersität (massegemitteltes Molekulargewicht/zahlengemitteltes Molekulargewicht) im Bereich von 1,1 bis 10.
Im Copolymer ist vom Standpunkt des Belichtungsspielraums das Gewichtsverhältnis der Monomer(e) mit Säuregruppe, ausgewählt aus (b-1) bis (b-3) Säuregruppen zu anderen Monomer(en) bevorzugt im Bereich von 50 : 50 bis 5 : 95, und bevorzugter im Bereich von 40 : 60 bis 10 : 90.
In der vorliegenden Erfindung können die polymeren Verbindungen, die in alkalischem Wasser löslich sind, einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden. Die zugefügte Menge an Polymerverbindung, die in alkalischem Wasser löslich ist, ist von 30 bis 99 Gew.-%, bevorzugt von 40 bis 95 Gew.-% und am meisten bevorzugt von 50 bis 90 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht an Feststoffen der fotoempfindlichen Zusammensetzung. Wenn die zugegebene Menge an Polymerverbindung löslich in alkalischem Wasser kleiner als 30 Gew.-% ist, ist die Haltbarkeit des Aufzeichnungsmaterials gering, während, wenn die zugegebene Menge an Polymerverbindung, die in alkalischem Wasser löslich ist, größer als 99 Gew.-% ist, ist sowohl die Empfindlichkeit als auch die Haltbarkeit verschlechtert.
Andere Komponenten
Je nach Bedarf kann eine Vielzahl von Zusatzstoffen in die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung gegeben werden. Um z. B. besser die Bildbereiche vor einer Auflösung durch den Entwickler zu schützen ist es bevorzugt, in die fotoempfindliche Zusammensetzung eine Substanz zu geben, die thermisch zersetzbar ist und die die Löslichkeit der polymeren Verbindung löslich in alkalischem Wasser, wesentlich verringern kann, wenn die Substanz nicht zersetzt wird, wie ein aromatisches Sulfon, aromatischer Sulfonatester oder dgl.
Zusätzlich zu diesen Zusatzstoffen können weiterhin ein cyclisches Säureanhydrid, ein Phenol und eine organische Säure zur Erhöhung der Sensitivität verwendet werden. Beispiele für das cyclische Säureanhydrid schließen Phthalanhydrid, Tetrahydrophthalanhydrid, Hexahydrophthalanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ⁴-tetrahydrophthalanhydrid, Tetrachlorphthalanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitanhydrid ein, wie in US-Patent Nr. 4,115,128 beschrieben. Beispiele für das Phenol schließen ein Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-Tetramethyltriphenylmethan und dgl. Beispiele für die organische Säure schließen ein Sulfonsäure, Sulfinsäure, Alkylschwefelsäure, Phosphonsäure, Phosphate und Carbonsäuren, wie z. B. beschrieben in der JP-A Nrn. 60-88,942 und 2-96,755. Spezifische Beispiele dieser organischen Säuren schließen ein p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluylsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarboxylsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecanoinsäure, Ascorbinsäure und dgl.
Die zugefügte Menge an cyclischem Säureanhydrid, Phenol oder organischer Säure ist bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 20 Gew.-%, bevorzugter im Bereich von 0,1 bis 15 Gew.-% und am meisten bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht an Feststoffen des Materials für die Druckplatte.
Um weiter die Stabilität bei der Verarbeitung im Hinblick auf die Entwicklungsbedingungen zu verbessern, können die Materialien für die erfindungsgemäße Druckplatte ein nichtionisches Tensid, wie in den JP-A Nrn. 62-251,740 und 3-208,514 beschrieben oder ein amphoteres Tensid, wie in den JP-A Nrn. 59-121,044 und 4-13,149 beschrieben, enthalten.
Spezifische Beispiele des nichtionischen Tensids schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonoplasmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylennonylphenylether und dgl. ein.
Spezifische Beispiele des amphoteren Tensids schließen ein Alkyldi(aminoethyl)glycin, Hydrochlorsäuresalz und Alkylpolyaminoethylglycin, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain, N-Tetradecyl-N,N-betain (z. B. Amogen K (Handelsname), hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) und dgl.
Die bevorzugte zugefügte Menge an nichtionischem Tensid oder an amphoterem Tensid ist im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, bevorzugter von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht an Feststoffen der Materialien für die Druckplatte.
In der vorliegenden Erfindung kann das Material für die Druckplatte ein Farbstoff oder ein Pigment als ein Kopiermittel, das es erlaubt, ein sichtbares Bild sofort nach Belichtungs-induziertem Erwärmen herzustellen oder als ein Farbbildmittel, enthalten.
Als ein typisches Beispiel für ein Aus-Kopiermittel, kann eine Kombination einer Verbindung, die eine Säure durch belichtungsinduziertes Erwärmen freisetzt (d. h. ein Fotosäure-Freisetzungsmittel) und einem organischen Farbstoff, der ein Salz mit der vorgenannten Verbindung ausbilden kann, genannt werden. Spezifische Beispiele des Aus-Kopiermittels schließen eine Kombination von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonylhalogenid und einen organischen Farbstoff, der ein Salz mit dieser Verbindung bilden kann, ein, wie beschrieben in JP-A Nrn. 50-36,209 und 53-8,128, genauso wie eine Kombination einer Trihalomethylverbindung und einem organischen Farbstoff, der mit dieser Verbindung ein Salz ausbildet, wie beschrieben in den JP-A Nrn. 53-36,223, 54-74,728, 60-3,626, 61-143,748, 61-151,644 und 63-58,440. Beispiele der Trihalomethylverbindung schließen eine Verbindung auf Oxazolbasis und eine Verbindung auf Triazinbasis ein, beide erlauben eine gute Lagerung und ein klares Ausdruckbild.
Ein anderer Farbstoff als die o. g. organischen Farbstoffe können ebenfalls für das farbgebende Mittel für das Bild verwendet werden. Geeignete Farbstoffe schließen öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe zusätzlich zu den salzbildenden organischen Farbstoffen ein. Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe schließen ein Ölgelb Nr. 101, Ölgelb Nr. 103, Ölpink Nr. 312, Ölgrün BG, Ölblau BOS, Ölblau Nr. 603, Ölschwarz BY, Ölschwarz BS und Ölschwarz T-505 (Handelsnamen, alle hergestellt von Orient Chemical Industries, Co., Ltd.), Victoria Reinblau BO (C. I. 42595), Kristallviolett (C. I. 42555), Methylviolett (C. I. 42535), Ethylviolett (C. I. 42600), Rhodamin B (C. I. 145170B), Malachitgrün (C. I. 42000), Methylenblau (C. I. 52015) und dergleichen. Diese Farbstoffe sind als bevorzugt in JP-A Nr. 62-293,247 beschrieben. Die zugefügte Menge an Farbstoff kann in einem Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%, bevorzugt in einem Bereich von 0,1 bis 3 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe der Materialien für die Druckplatte sein.
Wenn notwendig, kann ein Weichmacher zu den Materialien für die erfindungsgemäße Druckplatte zugegeben werden, um der Beschichtungsschicht eine Flexibilität zu verleihen. Beispiele von Weichmachern schließen ein Butylphthalyl, Polyethylenforexample lycol?, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, ein Oligomer oder ein Polymer der Acrylsäure oder Methacrylsäure und dgl.
Zusätzlich zu den o. g. Substanzen schließen andere Substanzen, die, wenn notwendig, zugefügt werden können, ein eine Epoxyverbindung, einen Vinylether, eine phenolische Verbindung mit einer Hydroxymethylgruppe und eine phenolische Verbindung mit einer Alkoxymethylgruppe, wie beschrieben in JP-A Nr. 8-276,558, ein Vernetzungsmittel, das verhindert, dass die fotoempfindliche Zusammensetzung in alkalischem Wasser gelöst wird, wie beschrieben in der japanischen Patentanmeldung Nr. 9-32,837, die durch die Autoren eingereicht wurde, und dgl.
Die erfindungsgemäße Flachdruck-Vorläuferplatte kann hergestellt werden durch Beschichten eines entsprechenden Substrats mit einer Beschichtungsflüssigkeit für eine fotoempfindliche Schicht, die die fotoempfindliche Zusammensetzung erhält, eine Beschichtungsflüssigkeit für eine gewünschte Schicht, wie eine Schutzschicht und dgl., diese werden jeweils hergestellt durch Lösen der oben beschriebenen Komponenten in einem Lösungsmittel. Einige nicht einschränkende Beispiele an Lösungsmittel schließen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenforexamplelycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, n-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butylolacton, Toluol, Wasser und dgl. ein. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden. Die Konzentration der Komponenten (Gesamt-Feststoffe einschließlich Zusatzstoffen) in dem Lösungsmittel ist bevorzugt im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%. Die beschichtete Menge (Feststoffe) nach Beschichten und Trocknen auf dem Substrat variiert von der Verwendung, die wünschenswerte Menge ist aber allgemein im Bereich von 0,5 g bis 5,0 g/m² für eine fotoempfindliche Druckplatte.
Die Beschichtungsflüssigkeit kann durch verschiedene Verfahren aufgebracht werden. Beispiele dieser Verfahren schließen ein Strangbeschichten, Rotationsbeschichten, Sprühen, Vorhangbeschichten, Eintauchen, Luftmesserbeschichten, Rakelstreichverfahren, Walzverfahren und dgl. So wie die beschichtete Menge abnimmt, werden die Beschichtungseigenschaften der fotoempfindlichen Schicht schlechter, obwohl die apparente Sensitivität zunimmt.
Um die Beschichtbarkeit zu verbessern, kann die erfindungsgemäße Beschichtungsflüssigkeit der fotoempfindlichen Schicht ein Tensid enthalten. Ein Beispiel dieses Tensids ist ein Tensid auf Fluorbasis, wie beschrieben in JP-A Nr. 62-170,950. Die bevorzugte zugefügte Menge an Tensid ist im Bereich von 0,01 bis 1 Gew.-%, bevorzugter von 0,05 bis 0,5 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht an Feststoffen der Materialien für die Druckplatte.
Das Substrat, das für die Herstellung der erfindungsgemäßen Flachdruck-Vorläufer-Druckplatte verwendet wird, ist eine formbeständige Platte. Spezifische Beispiele des Substrats schließen ein Papier, mit einem Plastik laminiertes Papier (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol oder dergleichen), Metallplatten (wie Aluminium, Zink und Kupfer), Plastikfolien (wie Diacetylcellulose, Triacetylcellulose, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat al) und Papier oder Plastikfolien, wie mit den obengenannten Metallen laminiert oder dampfbeschichtet sind.
Von diesen Materialien sind eine Polyesterfolie oder eine Aluminiumplatte bevorzugt. Die Aluminiumplatte ist insbesondere bevorzugter, da sie eine gute Maßbeständigkeit aufzeigt und relativ billig ist. Beispiele für die Aluminiumplatte schließen eine reine Aluminiumplatte und eine Platte aus einer Aluminiumlegierung, die Aluminium als Hauptkomponente zusammen mit Spuren von anderen Verbindungen enthält, ein. Ein weiteres Beispiel für das Substrat ist eine Plastikfolie, die mit Aluminium laminiert oder dampfbeschichtet ist. Beispiele für andere Elemente, die in der Aluminiumlegierung vorhanden sein können schließen ein Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan. Die Gesamtmenge an anderen Elementen in der Aluminiumlegierung ist 10 Gew.-% oder weniger. Obwohl das für die erfindungsgemäße Verwendung wünschenswert Aluminium insbesondere reines Aluminium ist, kann das erfindungsgemäß verwendete Aluminium eine kleine Menge an anderen Elementen enthalten, da die Einschränkungen im Hinblick auf die Aufreinigungstechnologien die Herstellung von komplett reinem Aluminium schwierig macht. Entsprechend ist die Zusammensetzung der Aluminiumplatte zur erfindungsgemäßen Verwendung nicht besonders eingeschränkt und eine Aluminiumplatte eines allgemein bekannten Materials kann entsprechend erfindungsgemäß verwendet werden. Die Dicke der Aluminiumplatte zur erfindungsgemäßen Verwendung ist ca. von 0,1 bis 0,6 mm, bevorzugt von 0,15 bis 0,4 mm und am meisten bevorzugt von 0,2 bis 0,3 mm.
Vor der Oberflächenaufrauung der Aluminiumplatte kann, wenn gewünscht, eine Entfettungsbehandlung durchgeführt werden, um Walzöl von der Oberfläche der Aluminiumplatte z. B. durch ein Tensid, einem organischen Lösungsmittel, einer wässrigen alkalischen Lösung oder dgl. zu entfernen.
Das Aufrauen der Oberfläche der Aluminiumplatte kann durch eine Vielzahl von Verfahren durchgeführt werden. Beispiele dieser Verfahren schließen ein Verfahren , bei der die Oberfläche mechanisch aufgeraut wird, ein Verfahren, wobei die Oberfläche aufgeraut wird durch elektrochemisches Anlösen und ein Verfahren, bei dem die Oberfläche chemisch in selektiver Weise angelöst wird, ein. Das mechanische Verfahren kann ein bekanntes Verfahren sein, wie ein Kugelschleifen, Bürsten, Sandstrahlen und Polieren. Beispiel für ein elektrochemisches Verfahren ist eine Elektrolyse der Aluminiumplatte in einer elektrolytischen Lösung, wie einer Salzlösung oder Salpetersäure unter Verwendung eines Gleichstroms oder eines Wechselstroms. Eine Kombination eines mechanischen Verfahrens und eines elektrochemischen Verfahrens ist ebenfalls möglich, wie beschrieben in JP-A 54-63,902.
Wenn notwendig, wird die oberflächenaufgeraute Aluminiumplatte dann einer alkalischen Endbehandlung und einer Neutralisationsbehandlung unterworfen. Danach, wenn gewünscht, wird die Aluminiumplatte einer Eloxalbehandlung unterworfen, um die Wasserbeständigkeit und die Verschleißfestigkeit der Oberfläche zu erhöhen. Eine Vielzahl von Elektrolyten, die eine poröse Oxidschicht herstellen können, können als ein Elektrolyt für die Eloxalbehandlung der Aluminiumplatte verwendet werden, im allgemeinen können Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder Mischungen dieser Säuren als Elektrolyt verwendet werden. Die Konzentration an Elektrolyt kann entsprechend in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyts bestimmt werden.
Die Bedingungen zum Eloxieren hängen von dem verwendeten Elektrolyt ab und können nicht einfach benannt werden. Die allgemein verwendeten Bedingungen sind aber wie folgt: die Konzentration der Elektrolytlösung ist von 1 bis 80 Gew.-%; die Temperatur der Lösung ist von 5 bis 70°C; die Stromdichte ist von 5 bis 60 A/dm²; die Spannung ist von 1 bis 100 V und die Dauer der Elektrolyse ist von 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Wenn die Menge an eloxierter Schicht kleiner als 1,0 g/m² ist, weist die Oberfläche eine geringe Druckbeständigkeit auf und die nicht-bildgebenden Bereiche der erhaltenen Flachdruckplatte können Kratzer ausbilden, diese sammeln Druckfarbe während des Druckens und verursachen sogenannte verschmierte Kratzer (engl. scratch smudging).
Wenn notwendig, kann das Substrat, dessen Oberfläche eloxiert wurde, durch eine Oberflächenbehandlung hydrophil gemacht werden. Bevorzugte Beispiele dieser hydrophilisierenden Oberflächenbehandlung schließen ein das Behandeln der Oberfläche mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats (wie Natriumsilikat), wie beschrieben in den US-Patenten Nrn. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 und 3,902,734, dabei wird das Substrat einfach eingetaucht oder elektrolytisch behandelt in einer wässrigen Lösung aus Natriumsilikat. Weitere Beispiele sind eine Behandlung der Oberfläche mit Kaliumfluorzirkonat, wie beschrieben in JP-B Nr. 36-22,063 und eine Behandlung der Oberfläche mit Polyvinylsulfonsäure, wie beschrieben in US-Patent Nrn. 3,276,868, 4,153,461 und 4,689,272.
Die erfindungsgemäße Flachdruck-Vorläuferplatte wird durch Bilden einer positiv-fotoempfindlichen Schicht, enthaltend die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung auf dem Substrat hergestellt. Wenn notwendig, wird eine Grundierung zwischen der vorgenannten Schicht und dem Substrat gebildet.
Verschiedene organische Verbindungen können als Komponenten der Grundierung verwendet werden. Eine organische Verbindung, die die Grundierung darstellt kann z. B. ausgewählt sein aus der Gruppe, bestehend aus: Carboxymethylcellulose; Dextrin; Gummi arabicum; Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe wie 2-Aminoethylphosphonsäure und dgl.; organische Phosphonsäuren, wie Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure, Ethylendiphosphonsäure und dgl., diese können eine Substituentengruppe aufweisen; organische Phosphorsäuren, wie Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure, Glycerophosphorsäure und dgl., diese können eine Substituentengruppe aufweisen; organische Phosphirsäuren, wie Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure, Glycerophosphinsäure und dgl., diese können eine Substituentengruppe aufweisen, Aminosäuren, wie Glycin, β-Alanin und dgl. und Hydrochloridsäuresalze von Aminen mit einer Hydroxylgruppe, wie Triethanolamin und dgl. Diese Verbindungen können einzeln oder in einer Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
Die organische Grundierung kann durch irgendein unten beschriebenes Verfahren gebildet werden. Die organische Verbindung kann z. B. in Wasser gelöst sein, einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder in einer Mischung davon, um eine Beschichtungslösung herzustellen und anschließend wird die Beschichtungslösung auf eine Aluminiumplatte beschichtet, um eine Schicht zu ergeben, die dann getrocknet wird. Alternativ wird die organische Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder einer Mischung davon gelöst, um eine Beschichtungslösung herzustellen und anschließend wird eine Aluminiumplatte in die Beschichtungslösung eingetaucht, so dass die organische Verbindung auf der Oberfläche der Aluminiumplatte adsorbiert wird, um dort eine Schicht zu bilden, diese wird dann mit Wasser oder dgl. gespült und getrocknet. Wenn das erstere Verfahren angewendet wird, kann eine Lösung, enthaltend 0,005 bis 10 Gew.-% der organischen Verbindung durch eine Vielzahl von Verfahren aufgetragen werden. Wenn das letzte Verfahren verwendet wird, sind die Parameter der Bedingungen wie folgt: die Konzentration der Lösung ist von 0,01 bis 20 Gew.-% und bevorzugt von 0,05 bis 5 Gew.-%; die Eintauchtemperatur ist von 20 bis 90°C und bevorzugt von 25 bis 50°C und die Eintauchzeit ist von 0,1 Sekunden bis 30 Minuten und bevorzugt von 2 Sekunden bis 1 Minute. Der pH der Lösung kann eingestellt sein auf einen Wert im Bereich von 1 bis 12 unter Verwendung einer Base, wie Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid oder durch eine Säure, wie Salzsäure oder Phosphorsäure.
Weiterhin kann ein gelber Farbstoff in die Beschichtungszusammensetzung zugefügt werden, um die Reproduzierbarkeit der Oberflächeneigenschaft der Flachdruck-Vorläuferplatte zu verbessern.
Die wünschenswerte Beschichtungsmenge nach dem Trocknen der organischen Grundierung ist im Bereich von 2 bis 20 mg/m² und bevorzugt im Bereich von 5 bis 100 mg/m². Wenn die beschichtete Menge kleiner als 2 mg/m² ist, wird eine ausreichende Druckbeständigkeit nicht erzielt. Andererseits, wenn die beschichtete Menge 200 mg/m² überschreitet, tritt das gleiche ungewünschte Ergebnis auf.
Die so erhaltene Flachdruck-Vorläuferplatte vom Positivzyp wird üblicherweise einer Bild für Bild Belichtung und Entwicklung ausgesetzt.
Beispiele für eine Lichtquelle für aktive Strahlung, die zur Bild für bildweisen Belichtung eingesetzt werden kann, schließt ein Quecksilberlampen, Metallhalogenidlampen, Xenonlampen, chemische Lampen und Kohle-Lichtbogenlampen. Beispiele von Bestrahlungsstrahlen schließen ein Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlung, Ionenstrahlung und ferne Infrarotstrahlung. Weiterhin können ebenfalls g-Strahlen i-Strahlen, ferne UV-Strahlen und hochdichte Energiestrahlen (Laserstrahlen) verwendet werden. Beispiele für Laserstrahlen schließen ein Helium/Neonlaser, Argonlaser, Kryptonlaser, Helium/Cadmiumlaser und Kr/F-Eximerlaser, Feststofflaser, Halbleiterlaser und dgl.
In der vorliegenden Erfindung ist eine Lichtquelle, die Licht mit Wellenlängenbereichen von nahen Infrarotbereichen bis zum fernen Infrarotbereich aussenden, bevorzugt und ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser sind insbesondere bevorzugt.
Eine allgemein bekannte wässrige alkalische Lösung kann als Entwickler und ebenfalls als Auffüllösung für die erfindungsgemäße Flachdruck-Vorläuferplatten verwendet werden. Zum Beispiel kann die wässrige alkalische Lösung ein anorganisches Alkalisalz, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natrium-tertiäres Phosphat, Kalium-tertiäres Phosphat, Ammonium-tertiäres Phosphat, Natrium-sekundäres Phosphat, Kalium-sekundäres Phosphat, Ammonium-sekundäres Phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid oder Lithiumhydroxid umfassen. Weiterhin kann ein organisches Alkali zur Herstellung einer wässrigen alkalischen Lösung verwendet werden. Beispiele von organischen Alkali schließen ein Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin.
Diese Alkali können einzeln oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.
Ein besonders bevorzugter Entwickler unter den o. g. Alkali ist eine wässrige Silikatlösung, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat oder dgl. Dies ist darin begründet, dass das Einstellen der Entwicklungsleistung des Entwicklers möglich ist durch Variieren des Verhältnisses an Siliziumoxid SiO₂ zum Alkalimetalloxid M₂O, wobei jedes ein Silikatelement ist und durch Variieren der Konzentrationen davon in der Lösung. Zum Beispiel ist die Verwendung von Alkalimetallsilikaten beschrieben in JP-A Nr. 54-62,004 und JP-B Nr. 57-7,427 erfindungsgemäß wirksam.
Wenn eine automatische Verarbeitung genutzt wird, kann ein herkömmlich verwendetes Auffüllsystem eine große Zahl von PS-Platten ohne Austausch des Entwicklers im Tank über einen langen Zeitraum durch Zuführen einer wässrigen Lösung (eine Auffüllösung) mit einer Basizität, die größer ist als die des Entwicklers im Tank, zu dem Tank verarbeitet werden. Dieses Auffüllsystem ist ebenfalls erfindungsgemäß geeignet. Wenn notwendig, kann der Entwickler und die Auffüllösung ein Tensid oder ein anorganisches Lösungsmittel enthalten, um die Entwicklung zu beschleunigen oder zu verlangsamen, zur Dispersion von durch die Entwicklung entstandenen Aufschlämmungen, und zur Erhöhung der Affinität der Bildbereiche der Druckplatte für Tinte. Beispiele von bevorzugten Tensiden schließen ein anionische Tenside, kationische Tenside, nichtionische Tenside und amphotere Tenside.
Wenn notwendig, kann die Entwickler- und Auffüllösung weiter enthalten: ein reduzierendes Mittel, wie Hydrochinon, Resorcinol und ein Salz einer anorganischen Säure, z. B. Natrium- oder Kaliumsulfit und Natrium- oder Kaliumhydrogensulfit; eine organische Carbonsäure; ein schaumhemmendes Mittel; und ein Mittel, das hartes Wasser in weiches Wasser umwandelt.
Die Druckplatte, nachdem sie mit dem Entwickler und der Auffülllösung, wie oben beschrieben, bearbeitet wurde, wird einer Nachbehandlung unterworfen, wie einer Behandlung des Spülens mit Wasser, einer Behandlung des Spülens mit einer Lösung, enthaltend ein Tensid oder dgl. oder einer Behandlung mit einer desensitivierenden Lösung, die Gumi arabicum oder ein Stärkederivat enthält. Eine Kombination dieser Behandlungsarten kann als Nachbehandlung genutzt werden, wenn die Flachdruck-Originalplatte erfindungsgemäß als Druckplatte verwendet wird.
In den letzten Jahren wurde zur Rationalisierung und Standardisierung der Plattenproduktion ein automatisierter Verarbeiter weit verbreitet zur Bearbeitung der Materialien von Druckplatten bei der Plattenproduktion und in der Druckindustrie verwendet. Im allgemeinen umfasst dieser automatische Verarbeiter einen Entwicklungsbereich und einen Nachbehandlungsbereich, jeder umfasst eine Vorrichtung zum Transfer einer Druckplatte und einem Tank, der mit einer Bearbeitungslösung gefüllt ist und mit einer Sprühvorrichtung ausgerüstet ist, wobei die Druckplatte nach Belichtung horizontal wandert, so dass sie durch die Bearbeitungslösungen, die durch Düsen aufgesprüht werden, nachdem sie aus ihren Tanks gepumpt wurden, entwickelt werden. Gemäß einem neuen Verfahren wird eine Druckplatte in einen Verarbeitungstank, gefüllt mit einer Verarbeitungslösung mit Hilfe von eingetauchten Führungsrollen oder dgl. eingetaucht und durchtransportiert. Bei diesen Arten an automatischer Verarbeitung kann ein Verarbeiten erfolgen durch Zuführen von Auffülllösungen zu jeder der Verarbeitungslösung in Mengen gemäß dem verarbeiteten Volumen, der Arbeitszeit oder dgl.
Weiterhin kann ein sogenanntes Einmalbehandlungssystem erfindungsgemäß verwendet werden, hierbei wird eine Druckplatte mit im wesentlichen nicht benutzter Verarbeitungslösung verarbeitet.
Details der fotoempfindlichen Flachdruck-Vorläuferplatte, die die erfindungsgemäße fotoempfindliche Zusammensetzung benutzt, sind unten gegeben. Wenn unnötige Bildbereiche (z. B. Zeichen der Filmrandmarke des ursprünglichen Films) auf der Flachdruckplatte gefunden werden, die erhalten wurde durch ein Verfahren, umfassend eine bildweise Belichtung, Entwicklung, Waschen und/oder Spülen mit Wasser und/oder Beschichten mit Gummi, werden die nicht benötigten Bildbereiche ausradiert. Das Entfernen wird bevorzugt erreicht durch ein Verfahren, umfassend das Beschichten der nicht notwendigen Bildbereiche mit einer Entfernungslösung, Belassen der Beschichtung auf den nicht notwendigen Bildbereichen für einen vorherbestimmten Zeitraum und anschließendes Entfernen der Beschichtung durch das Waschen mit Wasser, wie in JP-B Nr. 2-13,293 beschrieben. Zusätzlich zu diesem Prozess ist ebenfalls ein Prozess möglich, umfassend das Bestrahlen der nicht notwendigen Bildbereiche mit aktiven Strahlen aus einer optischen Faser und anschließend Durchführen einer Entwicklung, wie beschrieben in JP-A Nr. 59-174,842.
Die so erhaltene Flachdruckplatte wird, wenn notwendig, mit einem desensibilisierenden Gummi beschichtet und dann in einem Druckverfahren verwendet. Wenn es allerdings gewünscht ist, dass die Druckdauer durch die Druckplatte auf ein höheres Niveau gehalten werden soll, kann die Druckplatte einer Brennbehandlung unterworfen werden.
Wenn die Druckplatte einem Brennen unterworfen wird ist es wünschenswert, die Druckplatte mit einer Oberflächen-Einstellösung vor dem Brennen zu behandeln, eine solche ist z. B. beschrieben in den JP-B Nrn. 61-2,518 und 55-28,062 und JP-A Nrn. 62-31,859 und 61-159,655.
Gemäß diesen Behandlungsverfahren wird die Flachdruckplatte mit einer Oberflächen-einstellenden Lösung unter Verwendung eines Schwammes oder absorbierender Baumwolle, die mit der Lösung getränkt ist, beschichtet; die Flachdruckplatte wird in ein Gefäß gefüllt mit der Oberflächen einstellenden Lösung getaucht oder die Flachdruckplatte wird mit der Oberflächen-einstellenden Lösung mit Hilfe eines automatischen Beschichters beschichtet. Wenn die beschichtete Menge mit Hilfe eines Rakels homogenisiert wurde oder einer Quetschwalze nach dem Beschichten, wird ein besseres Ergebnis erhalten.
Die geeignete Beschichtungsmenge der Oberflächen-einstellenden Lösung ist allgemein im Bereich von 0,03 bis 0,8 mg/m² (Trockengewicht).
Die Flachdruckplatte wird nach dem Beschichten mit der Oberflächen-einstellenden Lösung getrocknet und anschließend auf eine hohe Temperatur erwärmt, wenn notwendig, mit Hilfe eines Brenners (z. B. Burning Processor Bp-1300, Handelsname, hergestellt von Fuji Film Co., Ltd.). Die Temperatur und die Zeit hängt von der Art der Komponenten, die das Bild ausbilden ab, Bereiche von 180°C bis 300°C bzw. von 1 bis 20 Minuten sind bevorzugt.
Nach dem Brennen kann die Flachdruckplatte, wenn notwendig, herkömmlichen Verfahren unterworfen werden, wie ein Spülen mit Wasser und einer Gummibeschichtung. Wenn die Oberflächen-einstellende Lösung aber eine wasserlösliche polymere Verbindung oder dgl. enthält, können sogenannte Desensibilisierungsbehandlungen, wie ein Beschichten mit Gummi, weggelassen werden.
Die so hergestellte Flachdruckplatte wird in einer Offset-Druckmaschine oder dgl. eingesetzt und dann zum Drucken einer großen Zahl von Bögen verwendet.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden weiter durch die Beschreibung der Synthese von anionischen, Infrarotstrahlen absorbierenden Agentien und Beispielen erklärt. Es wird allerdings angemerkt, dass der Umfang der vorliegenden Erfindung nicht durch die Synthesebeispiele und Beispiele eingeschränkt ist.
Synthese von anionischen Infrarotstrahlen absorbierendem Agens IR(21)
Die Synthese des anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agens IR(21) wurde gemäß dem folgenden Schema durchgeführt.
Q-1 (0,04 mol), P-5 (0,02 mol) und Ethanol (40 ml) wurden in ein Becherglas gegeben, Triethylamin (0,08 mol) wurde dazu in das Becherglas gegeben und das Erhaltene wurde für 30 Minuten bei Raumtemperatur und weiter über 10 Minuten bei 50°C gerührt. Auf diese Weise wurde eine schwarze Suspensionsflüssigkeit erhalten. Die Suspension wurde zu 40 ml Wasser gegeben und das gebildete Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gewonnen. Die Daten des ¹H-NMR's (3) bestätigten, dass das Präzipitat oben dargestelltes IR(53) war. Die maximale Absorptionsmenge davon war λmax = 798 nm (MeOH).
Salzaustausch von IR(53) zu IR(21)
Eine IR(53)-Lösung in DMSO wurde tropfenweise zu einer wässrigen Lösung von Tetrabutylammoniumbromid gegeben und anschließend wurde das gebildete Feststoffpräzipitat durch Filtration gesammelt. Das Präzipitat wurde weiter durch Wiederaufschlämmen unter Verwendung von Aceton/Hexan aufgereinigt, um IR(21) zu erhalten. Wie oben beschrieben, können die Gegenionen einfach ausgetauscht werden; daher können ebenfalls andere Verbindungen mit anderen Gegenionen einfach synthetisiert werden. Die Struktur von IR(21) wurde mittels ¹H-NMR bestätigt, die Darstellung davon ist in 1 gezeigt. Der Schmelzpunkt davon war 155 bis 156°C und die maximale Absorptionswellenlänge davon war λmax = 798 nm (MeOH).
Synthese von anionischen Infrarotstrahlen absorbierendem Agens IR(13)
Synthese von anionischen Infrarotstrahlen absorbierende Agens IR(13) wurde gemäß dem folgenden Schema durchgeführt.
Q-1 (0,04 mol) , P-4 (0,02 mol) und Ethanol (40 ml) wurde in ein Becherglas gegeben und Triethylamin (0,08 mol) wurde tropfenweise zu dem Inhalt des Becherglases über eine Minute gegeben. Als nächstes wurde dieses für 1 Stunde bei Raumtemperatur gerührt. So wurde eine dunkelblaue Suspensionsflüssigkeit erhalten. Anschließend wurde Tetrabutylammoniumbromid (10 g) zu der Flüssigkeit gegeben und das Resultat wurde für weitere 5 Minuten gerührt, um ein dunkelblaues Präzipitat zu erhalten. Das gebildete Feststoff-Präzipitat wurde mittels Filtration gewonnen und weiter durch Silikagel-Säulenchromatographie aufgereinigt (entwickelt mit Ethylacetat/Methanol), um IR(13) zu erhalten. Die Struktur von IR(13) wurde mittels ¹H-NMR bestätigt; die Darstellung davon ist in 2 gezeigt. Der Schmelzpunkt davon war 180 bis 184°C und die maximale Absorptionswellenlänge davon war λmax = 811 nm (MeOH).
Wie oben gezeigt, zeigten die neuen anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agentien IR(21) und IR(13) einen Absorptions-Wellenlängenbereich in dem langen Wellenlängenbereich und große molekulare Extinktions-Koeffizienten aufgrund des Einfügens von Substituenten in die Indandiongruppen.
Weiterhin können andere anionische Infrarotstrahlen absorbierende Agentien, die für die erfindungsgemäße hochempfindliche Zusammensetzung nützlich sind, synthetisiert werden durch Kondensieren von Verbindungen mit aktiven Methylengruppen und Methylenkettendonoren in der Anwesenheit einer Base. Dieses Syntheseverfahren (wie in dem folgenden Schema gezeigt) kann mit bekannten Verfahren durchgeführt werden, z. B. einem Syntheseverfahren eines Oxonolfarbstoffes, offenbart in "Dye and Agents" Seiten 274 bis 289 (1991).
Als ein Beispiel des Methylenkettendonors wird die folgende Struktur gezeigt.
Die Synthese von anionischen Infrarotstrahlen absorbierenden Agentien, die erfindungsgemäß nützlich sind, kann erreicht werden durch Kondensieren einer Verbindung mit einem aktiven Methylen mit einer Methylenkettendonor in Anwesenheit einer Base, wie in dem folgenden Schema dargestellt. Diese Synthese kann gemäß allgemein bekannten Verfahren durchgeführt werden, z. B. ein Verfahren zur Synthese von Oxonolfarbstoff, beschrieben in "Dyes and Chemicals" (1991, Seiten 274 bis 289.
Beispiele des Methylenkettendonors schließen die folgende Struktur ein.
Synthese 1: Synthese der Verbindung A-1
Q-1 (0,1 mol), P-1 (0,1 mol) und Methanol (500 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und Triethylamin (0,2 mol) wurde tropfenweise zu dem Inhalt des Becherglases über 10 Minuten zugefügt. Dieses wurde dann für 2 Stunden bei Raumtemperatur gerührt. In dieser Art wurde eine dunkelblaue Suspensionsflüssigkeit erhalten. Anschließend wurde Tetrabutylammoniumbromid (0,1 mol) zu der Flüssigkeit gegeben und die Flüssigkeit wurde für 20 Minuten gerührt. Das gebildete blaue Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt und mit Wasser gewaschen. Auf diese Weise wurde A-1 mit einer 55%igen Ausbeute erhalten. Die Struktur von A-1 wurde mittels Massenspektroskopie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektroskopie bestätigt.
Synthese 2: Synthese der Verbindung A-2
Die Verbindung A-1 (0,1 mol) und Methanol (500 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und eine wässrige Lösung eines Diazoniumsalzes P-2 (0,5 mol) wurde zum Inhalt des Becherglases zugefügt. Der Inhalt wurde dann für 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt. Das gebildete blaue Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt. Das so gesammelte Präzipitat und Methanol (500 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und eine wässrige Lösung eines Diazoniumsalzes P-2 (0,5 mol) wurde zum Inhalt des Becherglases gegeben. Der Inhalt wurde für 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt. Das sich gebildete Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt und gut mit Wasser gewaschen. So wurde A-2 mit 90% Ausbeute erhalten. Die Struktur von A-2 wurde durch Massenspektrometrie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektrometrie bestätigt.
Synthese 3: Synthese der Verbindung A-3
Die Verbindung A-1 (0,1 mol) und Methanol (500 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und eine wässrige Lösung von Iodoniumsalz P-3 (0,5 mol) wurde zu dem Inhalt des Becherglases zugefügt. Der Inhalt wurde dann für 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt. Das gebildete dunkelblaue Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt. Das so gesammelte Präzipitat und Methanol (500 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und eine wässrige Lösung eines Iodoniumsalzes P-3 (0,5 mol) wurde zum Inhalt des Becherglases gegeben. Der Inhalt wurde für 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt. Das sich gebildete Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt und gut mit Wasser gewaschen. In dieser Art wurde A-3 mit 88% Ausbeute erhalten. Die Struktur von A-3 wurde durch Massenspektrometrie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektrometrie bestätigt.
In ähnlicher Weise wurden A-4 bis 8-16 synthetisiert.
Synthese 4: Synthese der Verbindung IR-8
Q-2 (10 mmol), P-4 (5 mmol) und Methanol (2 0 ml) wurden in ein Becherglas gegeben und Triethylamin (20 mmol) wurde tropfenweise zum Inhalt des Becherglases über 10 Minuten zugefügt. Der Inhalt wurde für 2 Stunden bei Raumtemperatur gerührt. Anschließend wurde Tetrabutylammoniumbromid (10 mmol) zu der Flüssigkeit gegeben und die Flüssigkeit wurde für weitere 20 Minuten gerührt. Das gebildete Feststoffpräzipitat wurde durch Filtration gesammelt. Das so gesammelte Präzipitat wurde mittels Silika-Chromatographie auf gereinigt und anschließend in einer Lösung von Ethylacetat und Hexan aufgeschlämmt. In dieser Art wurde IR-8 mit einer 25%igen Ausbeute erhalten. Die Struktur von IR-8 wurde mittels Massenspektrometrie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektrometrie bestätigt.
Synthese von IR-8
Synthese 5: Synthese der Verbindung IR-10
Die Verbindung IR-8 (1 mmol) wurde zu einer Lösung von Triphenylsulfoniumchlorid (10 mmol) in einer Lösung von Methanol und Wasser zugefügt. Das gebildete kristalline Präzipitat wurde durch Filtration gesammelt. Das Verfahren wurde dreimal wiederholt, um das Salz auszutauschen. In dieser Weise wurde IR-10 mit einer 50%igen Ausbeute erhalten. Die Struktur von IR-10 wurde mittels Massenspektrometrie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektrometrie bestätigt.
In ähnlicher Weise wurden IR-9, IR-37 und IR-44 hergestellt.
Synthese von IR-10
Synthese 6: Synthese der Verbindung IR-11
Das Herstellungsverfahren der Synthese 4 wurde wiederholt mit der Ausnahme, dass anstelle von P-4 P-5 verwendet wurde und Tetrabutylammoniumbromid ersetzt wurde mit der Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel. Auf diese Weise wurde IR-11 mit einer 20%igen Ausbeute erhalten. Die Struktur von IR-11 wurde mittels Massenspektrometrie, ¹H-NMR und Infrarot-Spektrometrie bestätigt.
Beispiele 1–33
Herstellung der Substrate
Eine 0,30 mm dicke Aluminiumplatte (Art des Materials: 1050) wurde mit Trichlorethylen und mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 mesh Bimssteinpulver gereinigt. Nach gründlichem Spülen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte mit einem Verfahren, umfassend die Schritte des Eintauchens der Aluminiumplatte in eine wässrige Lösung von 25% Natriumhydroxid bei 45°C für 9 Sekunden, Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser, Eintauchen der Aluminiumplatte in eine wässrige Lösung von 20% Salpetersäure für 20 Sekunden und Spülen der Aluminiumplatte mit Wasser geätzt. Bei dem Verfahren war die geätzte Menge an gekörnter Aluminiumplatte ca. 3 g/m². Anschließend wurde die Aluminiumplatte einem Eloxierverfahren unterworfen, umfassend das Eintauchen der Aluminiumplatte in eine 7% Schwefelsäurelösung als Elektrolytlösung, durch die ein Gleichstrom mit einer Dichte von 15 A/dm² durchgeleitet wurde. Dieses Verfahren stellt einen Eloxierfilm mit 3 g/m² her. Anschließend wurde die oberflächenbehandelte Aluminiumplatte mit Wasser gespült und anschließend getrocknet. Die Aluminiumplatte wurde dann mit einer Grundierungsflüssigkeit, wie sie unten beschrieben ist, beschichtet und die aufgetragene Schicht wurde bei 90°C für eine Minute getrocknet. Nach dem Trocknen war die beschichtete Menge der beschichteten Schicht 10 mg/m². Zusemmensetzung der Grundierungsflüssigkeit

β-Alanin 0,5 g

Methanol 95 g

Wasser 5 g
Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten gemäß der folgenden Grundformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit 1 durch Ersetzen des Infrarotstrahlen absorbierenden Agens mit den in Tabelle 1 Gezeigten ersetzt. Die so hergestellten fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils auf die Substrate, die gemäß dem o. g. Verfahren erhalten wurden, mit einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet. In dieser Weise wurden Flachdruck-Vorläuferplatten gemäß den Beispielen 1 bis 33 erhalten.
Beispiele 34 bis 66
Synthese eines Copolymers aus einer polymeren Verbindung, die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist.
Synthesebeispiel (Copolymer 1)
31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen 500 ml Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kondensator und einem Tropftrichter ausgestattet war, gegeben. Die erhaltene Reaktionsmischung wurde unter Kühlen mit einem Eiswasserbad gerührt. Anschließend wurden 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin tropfenweise mit dem Tropftrichter zu der Reaktionsmischung über einen Zeitraum von ca. einer Stunde zugegeben. Nach Beenden der Zugabe wurde das Eiswasserbad entfernt und die Reaktionsmischung wurde bei Raumtemperatur für 30 Minuten gerührt.
Anschließend wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zu der Reaktionsmischung gegeben und die Reaktionsmischung wurde bei 70°C in einem Ölbad für ca. eine Stunde gerührt. Nach der Reaktion wurde die Reaktionsmischung in 1 l Wasser gegossen, während das Wasser gerührt wurde und die erhaltene Mischung wurde für 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde abfiltriert, um ein Präzipitat zu sammeln, dieses wurde in 500 ml Wasser aufgeschlämmt. Die Aufschlämmung wurde filtriert, um einen Feststoff zu erhalten, dieser wurde anschließend getrocknet. Der so erhaltene weiße Feststoff war N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (die Ausbeute war 46,9 g).
Anschließend wurden 5,04 g (0,0210 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g (0,0180 mol) Ethylmethacrylat, 1,11 g (0,021 mol) Acrylonitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen 100 ml Dreihalskolben, der mit einem Rührer, einem Kondensator und einem Tropftrichter ausgestattet war, gegeben. Die erhaltene Mischung wurde bei 65°C auf einem Wärmewasserbad gerührt. Zu der Reaktionsmischung wurden 0,15 g V-65 (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) gegeben und die Reaktionsmischung wurde unter Stickstoffstrom gerührt, während sie auf 65°C für 2 Stunden gehalten wurde. Weiterhin wurde eine Mischung von 5,04 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,05 g Ethylmethacrylat, 1,11 g Acrylonitril, 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 tropfenweise durch den Tropftrichter zu der Reaktionsmischung über einen Zeitraum von 2 Stunden zugefügt. Nach Beenden des Zufügens wurde die Reaktionsmischung bei 65°C für weitere 2 Stunden gerührt. Nach der Reaktion wurden 40 g Methanol zu der Reaktionsmischung gegeben und die Mischung wurde in 2 l Wasser gegossen, während das Wasser gerührt wurde und die erhaltene Mischung wurde für 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um das Präzipitat zu sammeln, dieses wurde dann getrocknet. In dieser Weise wurden 15 g weißer Feststoff erhalten und die Substanz wurde als Copolymer I bezeichnet. Das massegemittelte Molekulargewicht (unter Verwendung von Polystyrol als Standard) des Copolymer 1 war 53.000 gemäß der Gel-Permeations-Chromatographie.
Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten gemäß der folgenden Grundformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit 2 hergestellt durch Ersetzen des Infrarotstrahlen absorbierenden Agens mit den in Tabelle 2 Gezeigten. Die so erhaltenen fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils auf die Substrate, erhalten in den Beispielen 1 bis 33, mit einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet. Auf diese Weise wurden Flachdruck-Vorläuferplatten gemäß den Beispielen 33 bis 66 erhalten.
Vergleichsbeispiele 1 bis 3
Flachdruck-Vorläuferplatten der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 wurden erhalten durch Wiederholen des Verfahrens gemäß Beispiel 1 mit der Ausnahme, dass das Infrarotstrahlen absorbierende Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) in der fotoempfindlichen Flüssigkeit 1 ersetzt wurde mit Infrarotstrahlen absorbierendem Agens B-1, B-2 und B-3, dargestellt durch die folgenden Strukturformeln.
Vergleichsbeispiele 4 bis 6
Flachdruck-Vorläuferplatten der Vergleichsbeispiele 4 bis 6 wurde erhalten durch Wiederholen des Verfahrens gemäß Beispiel 34 mit der Ausnahme, dass das Infrarotstrahlen absorbierende Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) in der fotoempfindlichen Flüssigkeit 2 ersetzt wurde mit den Infrarotstrahlen absorbierenden Agens B-1, B-2 und B-3, dargestellt durch die oben beschriebenen Strukturformeln.
Beispiele 67 bis 81
Synthesebeispiel (Copolymer 2)
31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen 500 ml Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, einem Kondensator und einem Tropftrichter, gegeben. Die erhaltene Reaktionsmischung wurde gerührt, während sie mit einem Eiswasserbad gekühlt wurde. Anschließend wurden 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin tropfenweise mit Hilfe des Tropftrichters zu der Reaktionsmischung über einen Zeitraum von ca. 1 Stunde zugefügt. Nach Abschluß des Zufügens wurde das Eiswasserbad entfernt und die Reaktionsmischung wurde bei Raumtemperatur für 30 Minuten gerührt.
Anschließend wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid zu der Reaktionsmischung gegeben und die Reaktionsmischung wurde bei 70°C auf einem Ölbad für eine Stunde gerührt. Nach der Reaktion wurde die Reaktionsmischung in 1 l Wasser gegossen, während das Wasser gerührt wurde und die erhaltene Mischung wurde für 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um das Präzipitat zu sammeln, dies wurde in 500 ml Wasser aufgeschlämmt. Die Aufschlämmung wurde filtriert, um den Feststoff zu sammeln, dieser wurde dann getrocknet. Der so erhaltene weiße Feststoff war N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (die Ausbeute war 46,9 g).
Anschließend wurden 4,61 g (0,0192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylonitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen 20 ml Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, einem Kondensator und einem Tropftrichter, gegeben. Die erhaltene Reaktionsmischung wurde bei 65°C auf einem Warmwasserbad gerührt. Zu der Reaktionsmischung wurden 0,15 g V-65 (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) zugefügt und die Reaktionsmischung wurde gerührt, während sie auf 65°C für 2 Stunden unter Stickstoffstrom gehalten wurde. Weiterhin wurde eine Mischung von 4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g Ethylmethacrylat, 0,80 g Acrylonitril und eine Mischung von 20 g N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g V-65 tropfenweise durch den Tropftrichter zu der Reaktionsmischung über einen Zeitraum von 2 Stunden hinzugefügt. Nach Abschluß der Zugabe wurde die Reaktionsmischung bei 65°C für weitere 2 Stunden gerührt. Nach der Reaktion wurden 40 g Methanol zu der Reaktionsmischung gegeben und die Mischung wurde in 2 l Wasser unter Rühren des Wassers eingegossen und die erhaltene Mischung wurde für 30 Minuten gerührt. Die Mischung wurde filtriert, um das Präzipitat zu sammeln, dieses wurde dann getrocknet. In dieser Weise wurden 15 g weißer Feststoff erhalten und die Substanz wurde als Copolymer 2 bezeichnet. Das massegemittelte Molekulargewicht (unter Verwendung von Polystyrol als Standard) des Copolymers 2 war 53.000 gemäß Gel-Permeations-Chromatographie.
Andererseits wurden fotoempfindliche Flüssigkeiten gemäß der folgenden Grundformulierung einer fotoempfindlichen Flüssigkeit 3 durch Ersetzen des Infrarotstrahlen absorbierenden Agens mit den in Tabelle 3 Gezeigten hergestellt. Die so hergestellten fotoempfindlichen Flüssigkeiten wurden jeweils auf die Substrate, erhalten in den Beispiele 1 bis 33 mit einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² beschichtet. In dieser Weise wurden Flachdruck-Vorläuferplatten der Beispiele 67 bis 81 erhalten.
Vergleichsbeispiele 7 bis 8
Flachdruck-Vorläuferplatten der Vergleichsbeispiele 7 bis 8 wurden erhalten durch Wiederholen des Verfahrens von Beispiel 67 mit der Ausnahme, dass das Infrarotstrahlen absorbierende Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) in der fotoempfindlichen Flüssigkeit 3 ersetzt wurde mit Infrarotstrahlen absorbierendem Agens B-1 und B-2, dargestellt durch die vorher beschriebenen strukturellen Formeln.
Untersuchung der Flachdruck-Vorläuferplatten
Die Flachdruck-Vorläuferplatten der Beispiele 1 bis 69 und die Flachdruck-Vorläuferplatten der Vergleichsbeispiele 1 bis 8, die in obiger Weise erhalten wurden, wurden den folgenden Tests zur Untersuchung ihrer Leistung unterworfen. Die Testergebnisse sind in Tabellen 1 bis 3 gezeigt.
Bildgebende Leistung: Untersuchung der Sensitivität und des Belichtungsspielraums
Die erhaltenen Flachdruck-Vorläuferplatten wurden mit einem Halbleiterlaser mit einer Wellenlänge von 840 nm belichtet. Die belichteten Platten wurden unter Verwendung eines automatischen Verarbeiters entwickelt (PS Prozessor 900 VR, hergestellt von Fuji Film Co., Ltd.), dem ein Entwickler DP-4 und eine Waschlösung FR-3 (1 : 7), alle hergestellt von Fuji Film Co., Ltd. zugeführt wurden. Bei diesem Test wurden zwei Verdünnungsniveaus, wenn DP-4 mit Wasser verdünnt wurde, verwendet, nämlich eine 1 : 6-Verdünnung und eine 1 : 12-Verdünnung. Für jede der beiden Verdünnungen des Entwicklers wurde die Linienbreite in den erhaltenen Nicht-Bildbereichen gemessen. Als nächstes wurde die Menge an Energiestrahlung durch den Laser, die der Linienbreite entsprach, berechnet und die Menge wurde als Sensitivität bezeichnet. Der Unterschied zwischen der Sensitivität der Verdünnung 1 : 6, die der Standard ist und der Verdünnung 1 : 12 wurde aufgezeichnet. Eine Flachdruck-Vorläuferplatte, die einen geringeren Unterschied aufzeigte, wird als eine mit besserem Belichtungsspielraum beurteilt. Ein Unterschied von 20 mJ/cm² oder weniger zeigte ein Niveau an, das praktikabel war.
Untersuchung der Stabilität
Die erhaltenen Flachdruck-Vorläuferplatten wurden bei 60°C für 3 Tage gelagert und anschließend mit einem Laser belichtet und entwickelt, wie beim obigen Test beschrieben. Die Sensitivität wurde wie oben beschrieben gemessen. Der Unterschied in der Sensitivität vor und nach Lagerung wurde berechnet. Eine Flachdruck-Vorläuferplatte, die einen Unterschied von 20 mJ/cm² oder weniger aufzeigte, wurde als eine die gute Laberstabilität aufzeigt bewertet und eine die auf einem praktikablen Niveau war.
Tabelle 1
Tabelle 2
Tabelle 3
Wie man in Tabellen 1 bis 3 erkennen kann, zeigen alle Flachdruckplatten der Beispiele 1 bis 69 eine höhere Sensitivität gegenüber einem Infrarotlaser im Vergleich mit den Flachdruckplatten der Vergleichsbeispiele 1 bis 8. Weiterhin zeigten alle Flachdruckplatten der Beispiele 1 bis 69 einen deutlich geringeren Unterschied in den Sensitivitäten für die zwei Verdünnungsniveaus des Entwicklers. Da diese Flachdruck-Vorläuferplatten die Praxisbedingungen erfüllten, d. h. einen Unterschied von nicht größer als 20 mJ/cm² zeigten, stellten sich diese Flachdruck-Vorläuferplatten als welche mit gutem Belichtungsspielraum heraus.
Weiterhin erfüllen die erfindungsgemäßen Flachdruckplatten aufgrund der Ergebnisse des Lagerungsstabilitättests die Praxisbedingungen für die Lagerstabilität, d. h. der Unterschied in der Sensitivität war nicht größer als 20 mJ/cm² vor und nach Lagerung.
Wie oben ausgeführt, erlaubt die vorliegende Erfindung die Bereitstellung einer fotoempfindlichen Zusammensetzung, die eine gute Sensitivität, gute Stabilität der Sensitivität in Bezug auf die Variation in der Konzentration an Entwickler (d. h. guter Belichtungsspielraum) und gute Lagerstabilität hat. Die Flachdruck-Vorläuferplatte, erhalten mit der Zusammensetzung, kann verwendet werden im direkten Platten-Herstellungsverfahren unter Verwendung eines Infrarotlasers und stellt Vorteile in Bezug auf eine höhere Sensitivität, guten Belichtungsspielraum und guter Lagerstabilität bereit.

Claims

Fotoempfindliche Zusammensetzung, umfassend die folgenden Komponenten (a) und (b), die in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich wird, wenn sie mit einem Infrarotlaser bestrahlt wird: (a) ein anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dessen Farbstoffgrundgerüst, das im wesentlichen die Infrarotstrahlen absorbiert, keine kationische Struktur aufweist und eine anionische Struktur hat; und (b) eine polymere Verbindung, die in Wasser unlöslich, aber in wässriger alkalischer Lösung löslich ist.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 1, wobei (a) das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens ein anionischer Metallkomplex (a-1), ein anionischer Russ (a-2), ein anionisches Phthalocyanin (a-3) oder eine Verbindung (a-4), dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I), ist: [G_a ^–-M-G_b]_mX^m+ (I)worin M eine konjugierte Kette von Kohlenstoffatomen darstellt; G_a ^– eine anionische Substituentengruppe darstellt; G_b eine neutrale Substituentengruppe darstellt; und X^m+ ein Kation, einschliesslich einem Proton, darstellt, wobei das Kation eine Valenz von 1 bis m hat und wobei m eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 6 ist.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 2, wobei das Gegenkation von (a), dem anionischen Infrarotstrahlen-absorbierenden Agens, den Aufbau eines thermisch zersetzbaren Oniumsalzes hat.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 2, wobei (a) das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens (a-4), die Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (1) ist
worin L eine konjugierte Methinkette darstellt, die 7 oder mehr Kohlenstoffatome hat und Substituentengruppen enthalten kann, die durch Verbinden miteinander einen Ring ausbilden können; X⁺ ein Kation darstellt; Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom oder eine Substituentengruppe sind, so dass die Substituentengruppen davon einen Ring ausbilden können, wenn sie miteinander verbunden sind.
Anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (1).
Anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens gemäss Anspruch 5, wobei L in der allgemeinen Formel (1) eine konjugierte Methinkette mit 7 Kohlenstoffatomen darstellt.
Anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens gemäss Anspruch 5, wobei Y¹ bis Y⁶ und Z¹ bis Z⁶ jeweils ein Wasserstoffatom darstellen.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 2, wobei (a) das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens (a-4), die Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (2) ist:
worin X⁺ ein Kation darstellt und A 14 oder weniger nicht-metallische Atome darstellt, die einen 5-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 6-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 7-gliedrigen Kohlenstoffcyclus, einen 5-gliedrigen Heterocyclus, einen 6-gliedrigen Heterocyclus, einen 7-gliedrigen Heterocyclus, einen 5-gliedrigen kondensierten Ring, einen 6-gliedrigen kondensierten Ring oder einen 7-gliedrigen kondensierten Ring ausbilden, jedes der nicht-metallischen Atome ist ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem Kohlenstoffatom, einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Schwefelatom und einem Selenatom.
Anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (2).
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäss Anspruch 2, wobei (a) das anionische Infrarotstrahlen-absorbierende Agens (a-4) die Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (3) ist:
worin X⁺ ein Kation darstellt.
Anionisches Infrarotstrahlen-absorbierendes Agens, dargestellt durch die allgemeine Formel (3).
Flachdruck-Vorläuferplatte, umfassend ein Substrat und eine darauf gebildete fotoempfindliche Schicht, wobei die fotoempfindliche Schicht die fotoempfindliche Zusammensetzung von Anspruch 1 umfasst.
Flachdruck-Vorläuferplatte, umfassend ein Substrat und eine darauf gebildete fotoempfindliche Schicht, wobei die Schicht die fotoempfindliche Zusammensetzung von Anspruch 2 umfasst.