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Hintergrund
der Erfindung
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Gebiet der
Erfindung
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Diese
Erfindung betrifft eine Flachdruck-Originalplatte, die eine Empfindlichkeit
im Infrarot-Wellenlängenbereich
aufweist, und ein Verfahren zur Erzeugung einer Flachdruckplatte
unter Verwendung der Flachdruck-Originalplatte,
und insbesondere eine Flachdruck-Originalplatte
vom positiven Typ, die eine direkte Plattenerzeugung unter Verwendung
eines Infrarot-Lasers ermöglicht,
der durch digitale Signale eines Computers oder dgl. gesteuert wird,
und ein Verfahren zur Erzeugung einer Flachdruckplatte unter Verwendung
der Flachdruck-Originalplatte
vom positiven Typ.
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Beschreibung
des Standes der Technik
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Laser
wurden in den letzten Jahren deutlich entwickelt, und Feststofflaser
und Halbleiterlaser, die Infrarotstrahlen in einem Wellenlängenbereich
besonders von 760 bis 1200 nm emittieren (manchmal nachfolgend als "Infrarotlaser" bezeichnet), die
eine hohe Ausstoßleistung
und eine kleine Größe aufweisen,
sind leicht verfügbar.
Diese Infrarotlaser sind sehr nützlich
als Aufzeichnungslichtquelle zur direkten Erzeugung einer Druckplatte
von digitalen Daten von Computern oder dgl. Gegenwärtig gibt
es daher ein erhöhtes
Bedürfnis für Bildaufzeichnungsmaterialien
mit hoher Empfindlichkeit für
eine solche Infrarot-Aufzeichnungslichtquelle, nämlich Bildaufzeichnungsmaterialien,
deren Löslichkeit
sich in einer Entwicklungslösung
durch Bestrahlung mit Infrarotstrahlen ändert.
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Bildgebungsmaterialien
mit einer lichtempfindlichen Schicht, umfassend einen Säureerzeuger
und ein durch Säure
zersetzbares Material als lichtempfindliche Schicht vom positiven
Typ, die durch Bestrahlung mit aktivierten Licht löslich gemacht
wird, sind bekannt. Eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine
Verbindung mit einer Orthocarbonsäure- oder Carbonsäureamidacetal-Gruppe
ist in der Beschreibung von US-Patent 3,779,779 offenbart, eine
lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend eine Verbindung mit einer
Acetal- oder Ketal-Gruppe in der Hauptkette ist in der Veröffentlichung
der japanischen offengelegten Patentanmeldung JP-A-53-133429 (
US 4,247,611 ) offenbart,
und eine Zusammensetzung mit einer Verbindung mit einer Silylether-Gruppe
ist in der Veröffentlichung
von JP-A-60-37549
offenbart.
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Diese
lichtempfindlichen Zusammensetzungen haben eine Empfindlichkeit
für Ultraviolettstrahlen
und werden in einem Alkali durch Belichtung mit UV-Strahlen unter
Bildung eines Nicht-Bildbereiches löslich gemacht und erlauben
keine Belichtung unter Anwendung von Infrarotstrahlen wie solchen
von einem kostengünstigen
und kompakten Halbleiterlaser. Mit anderen Worten haben Infrarotstrahlen
eine niedrigere Energie als Ultraviolettstrahlen, die gegenwärtig als
Lichtquelle für
die Belichtung verwendet werden, wodurch das Problem verursacht
wird, daß es
schwer ist, eine Photoreaktion oder dgl. zu verursachen, wodurch
die Löslichkeit eines
Bildaufzeichnungsmaterials in einer Entwicklungslösung durch
Belichtung mit Infrarotstrahlen geändert wird.
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Als
Technik, die eine Bildbelichtung durch Infrarotstrahlen ermöglicht,
wie die Strahlen eines Halbleiterlasers ist eine Technik bezüglich eines
Bildgebungsmaterials, das eine lichtempfindliche Schicht mit einem Säureerzeuger,
einem Resolharz, Novolakharz und Infrarotabsorber aufweist und zur
Bildung eines Bildes von Negativtyp verwendet wird, indem die Wärmebehandlung
vor der Entwicklungsbehandlung und nach Bildbelichtung durchgeführt wird,
in der Beschreibung von
US 5,340,699 offenbart.
Diese Materialien führen
zu dem Problem, daß kein
positives Bild gebildet wird, wenn die erwähnte Wärmebehandlung nicht durchgeführt wird, und
haben weiterhin den Nachteil, daß die Empfindlichkeit beim
negativen und positiven Typ niedrig ist.
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Ein
Bildgebungsmaterial mit einer lichtempfindlichen Schicht, umfassend
einen Säureerzeuger,
eine durch Säure
zersetzbare Verbindung und einen Infrarotstrahlungsabsorber, ist
in JP-A-9-171254
in den letzten Jahren offenbart. Bei diesem System wird die durch
Säure zersetzbare
Verbindung zersetzt, zur Bildung eines Bildes vom positiven Typ,
indem als Katalysator eine Säure
verwendet wird, die durch Bestrahlung mit aktiviertem Licht erzeugt
wird. Daher wird eine chemisch stark amplifizierende Wirkung erhalten
und die Oberfläche des
Materials, das mit einem Laser bestrahlt ist, hat eine stark positive
Wirkung (die Entwicklung wird in einem nicht-belichteten Bereich verzögert und
eine Beschränkung
der Entwicklung wird aufgehoben oder verschwindet in einem belichteten
Bereich), die von der Licht-Wärme-Umwandlung
resultiert. Die in der Nähe
der Oberfläche
erzeugte Wärme
erreicht unzureichend den tiefen Bereich des Materials. Daher gibt
es das Problem bezüglich
der Wärmediffusion
in der Nähe
des Trägers,
und nur eine unzureichende Wirkung wird in dem tiefen Bereich erhalten,
wenn ein Träger
aus üblichem
Aluminium verwendet wird.
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Selbst
wenn folglich das Bildgebungsmaterial unter Verwendung eines Alkali
entwickelt wird, wird eine klare Diskriminierung zwischen einem
nicht-belichteten und einem belichteten Bereich schwierig erhalten.
Daher ist eine Verbesserung bezüglich
der Empfindlichkeit gewünscht.
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Ebenso
gibt es das Problem, daß ein
Silicat, das in einem verwendeten Alkali-Entwicklungsmittel enthalten
ist wenn diese Bildgebungsmaterialien nach der Bildbelichtung entwickelt
werden, mit den eluierten Komponenten des Bildgebungsmaterials reagiert,
unter Bildung eines unlöslichen
Materials, das an der Oberfläche
des Bildgebungsmaterials haftet, wodurch die Oberfläche des
Bildgebungsmaterials beschädigt
wird, wenn es in einen Entwicklungsbehälter geführt wird.
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EP-A-0
949 539 offenbart eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, umfassend
eine hochmolekulare Verbindung mit zumindest a) einer fluoraliphatischen
Gruppe und b) einer Gruppe mit der Formel L-P (worin L eine bivalente
organische Gruppe ist, die an das Gerüst der hochmolekularen Verbindung
gebunden ist, und P eine aromatische Gruppe mit einer Carboxyl-Gruppe
an der ortho-Position ist).
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EP-A-0
965 887 offenbart eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte,
umfassend einen Aluminiumträger,
der nach der anodischen Oxidation hydrophilisiert ist, eine Zwischenschicht,
die darauf vorgesehen ist und ein alkalilösliches Polymer mit einem Molekulargewicht
im Zahlenmittel (Mn) umfaßt,
das auf dem Bereich von 300 bis 5000 eingestellt ist, indem ein
Initiator in Kombination mit einem Kettenübertragungsmittel bei der radikalischen
Polymerisation verwendet wird, und eine lichtempfindliche Schicht,
die auf der Zwischenschicht vorgesehen ist.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Ein
Ziel dieser Erfindung liegt darin, eine Flachdruck-Originalplatte vom
positiven Typ anzugeben, die die direkte Plattenerzeugung unter
Verwendung eines Feststofflasers oder Halbleiterlasers ermöglicht,
der Infrarotstrahlen emittiert, indem ein Bild von digitalen Daten
von Computern oder dgl. aufgezeichnet wird, die gegenüber Infrarotlaser
sehr empfindlich ist und eine hohe Stabilität bei der Entwicklungsbehandlung
aufweist, und ebenfalls ein Verfahren zur Plattenerzeugung einer
Flachdruckplatte von Positivtyp anzugeben, die gegenüber Beschädigung resistent
ist, wobei das Verfahren bevorzugt mit der Flachdruck-Originalplatte
durchgeführt wird.
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Die
Erfinder dieser Erfindung haben ihre Aufmerksamkeit auf die Schichtstruktur
einer Flachdruck-Originalplatte vom Positivtyp, die die direkte
Plattenerzeugung durch Emission von Infrarotstrahlen ermöglicht, und
auf die Eigenschaften der Oberflächenschicht
gelegt und haben intensive Studien durchgeführt. Als Ergebnis haben diese
Erfinder festgestellt, daß das
obige Problem gelöst
werden kann, indem eine dünne Schicht,
die nicht in einer Alkali-Entwicklungslösung eindringt und deren Löslichkeit
leicht in einer Alkali-Entwicklungslösung durch
Belichtung mit einem Infrarotlaser erhöht wird, auf der Oberfläche der
Flachdruck-Originalplatte vorgesehen wird, wodurch diese Erfindung
vollendet wird.
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Demzufolge
wird das obige Ziel durch folgende Mittel erreicht. Spezifisch umfaßt eine
Flachdruck-Originalplatte gemäß dieser
Erfindung eine erste Schicht, die ein Polymer enthält, das
in Wasser unlöslich
und in alkalischem Wasser löslich
ist; und eine zweite Schicht, die einen Infrarotstrahlungsabsorber
und ein Bindemittel enthält,
das nicht in eine Alkali-Entwicklungslösung eindringt, die eine organische
Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als Hauptkomponenten
enthält,
und deren Löslichkeit
sich in der Alkali-Entwicklungslösung
durch die Wirkung von Licht oder Wärme erhöht; worin die Schichten aufeinander
folgend auf einem Träger
vorgesehen sind.
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Ein
Verfahren zur Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser
Erfindung umfaßt:
einen Belichtungsschritt zum Belichten eines Bildes auf einer Flachdruck-Originalplatte
durch einen Infrarotlaser, wobei die Flachdruck-Originalplatte mit einer ersten Schicht,
die ein Polymer enthält,
das in Wasser unlöslich
und in alkalischem Wasser löslich
ist, und einer zweiten Schicht versehen ist, die einen Infrarotabsorber
und ein Bindemittel enthält,
das in eine alkalische Entwicklungslösung nicht eindringen kann,
die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine
Base als Hauptkomponenten enthält,
und deren Löslichkeit
sich in der Alkali-Entwicklungslösung
durch Wirkung von Licht oder Wärme
erhöht,
wobei die Schichten aufeinander folgend auf einem Träger vorgesehen
sind; und einen Entwicklungsschritt zur Entfernung eines belichteten
Bereichs der zweiten Schicht, wobei der belichtete Bereich eine
erhöhte
Löslichkeit
in der Alkali-Entwicklungslösung
durch Bildbelichtung aufweist, durch die Alkali-Entwicklungslösung, die
eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base
als Hauptkomponenten enthält,
wodurch ein Bereich der ersten Schicht durch die Alkali-Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt
wird, der einem entfernten Bereich der zweiten Schicht entspricht.
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Es
ist festzustellen, daß in
dieser Erfindung das Polymer, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser
löslich
ist, gegebenenfalls einfach als alkalisches wasserlösliches
Polymer bezeichnet wird. Ebenso umfaßt der Ausdruck "durch Wirkung von
Licht oder Wärme" die Bedeutung "durch Wirkung sowohl
von Licht als auch von Wärme".
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Bei
dem Verfahren der Plattenerzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser
Erfindung wird überlegt,
daß die
Empfindlichkeit gegenüber
einem Infrarotlaser durch Anordnen der zweiten Schicht, die eine
Infrarot-empfindliche Schicht ist, deren Löslichkeit sich in einer Alkali-Entwicklungslösung durch
Belichtung erhöht,
auf einer Belichtungsoberfläche
oder in der Nähe
davon verbessert wird, obwohl die Wirkung nicht geklärt ist.
Die durch Belichtung mit dem Infrarotlaser erzeugte Wärme diffundiert
nicht zum Träger
und wird effektiv verwendet, um die erste Schicht löslich zu
machen, indem die erste Schicht, die aus dem Polymer erzeugt ist, zwischen
den dem Träger
und der Infrarot-empfindlichen Schicht angeordnet wird, die als
Isolationsschicht wirkt, wodurch die Empfindlichkeit verbessert
wird. Im nicht belichteten Verhältnis
fungiert die zweite Schicht, die nicht in die Alkali-Entwicklungslösung eindringt,
als Schutzschicht für
die erste Schicht, wodurch die Entwicklungsstabilität verbessert
und ein Bild mit hoher Diskriminierung gebildet wird.
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Beim
Verfahren zur Erzeugung einer Flachdruckplatte gemäß dieser
Erfindung wird überlegt,
daß die verbesserte
Entwicklungsstabilität,
die die Flachdruck-Originalplatte charakterisiert, sicherstellt,
daß eine
zufriedenstellende Entwicklung durchgeführt werden kann, selbst wenn
eine Alkali-Entwicklungslösung,
die eine organische Verbindung mit Pufferwirkung und eine Base als
Hauptbestandteile und kein Silicat enthält, verwendet wird, kein unlösliches
Material durch das Silicat erzeugt wird und eine Plattenerzeugung
ermöglicht wird,
die durch Resistenz gegenüber
Mängeln
gekennzeichnet ist.
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Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsbeispiele
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Die
erfindungsgemäße Flachdruck-Originalplatte
wird nachfolgend detailliert erläutert.
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Die
Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung umfaßt eine erste Schicht (nachfolgend
als "alkalische wasserlösliche Polymerschicht" oder einfach als "Polymerschicht" nach Bedarf bezeichnet),
die ein Polymer enthält,
das in Wasser unlöslich
und im alkalischen Wasser löslich
ist, und eine zweite Schicht (nachfolgend als "Infrarot-empfindliche Schicht" nach Bedarf bezeichnet),
die einen Infrarotstrahlungsabsorber und ein Bindemittel enthält, die
nicht in die Alkali-Entwicklungslösung eindringt,
die eine organische Verbindung mit Pufferwirkung und eine Base als
Hauptbestandteile enthält,
und deren Löslichkeit
in einer Alkali-Entwicklungslösung durch
Wirkung von Licht und/oder Wärme
erhöht
wird, wobei die Schichten aufeinanderfolgend auf einem Träger vorgesehen
sind.
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Diese
Schichten können
in dieser Reihenfolge gebildet sein und die Flachdruck-Originalplatte
kann weiterhin bekannte Schichten wie eine Oberflächenschicht,
Zwischenschicht und eine Rückschicht
enthalten, solange die Wirkung dieser Erfindung nicht beeinträchtigt wird.
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(Erste Schicht, die ein
Polymer enthält,
das in Wasser unlöslich
und im alkalischen Wasser löslich
ist <Polymerschicht,
die in alkalischem Wasser löslich
ist>)
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Erfindungsgemäß umfaßt die in
alkalischem Wasser lösliche
Polymerschicht ein Polymer, das in Wasser unlöslich und in alkalischem Wasser
löslich
ist, als Hauptkomponente. Weil dieses Polymer eine ausgezeichnete
Beschichtungsfähigkeit
aufweist, kann das Polymer selbst eine Schicht bilden.
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Das
im alkalischen Wasser lösliche
Polymer gemäß dieser
Erfindung umfaßt
Homopolymere mit einer Säuregruppe
an der Haupt- oder Seitenkette eines Polymers, Copolymere aus diesen
Homopolymeren und Mischungen dieser Homopolymere und Copolymere.
Demzufolge ist die im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht in dieser
Erfindung eine mit solchen Eigenschaften, daß sie sich auflöst, wenn
sie mit einer alkalischen Entwicklungslösung kontaktiert wird.
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Unter
den erwähnten
Polymeren, die im alkalischen Wasser löslich sind, sind solche mit
einer sauren Gruppe gemäß den folgenden
Punkten (1) bis (6) angesichts der Löslichkeit in einer alkalischen
Entwicklungslösung
bevorzugt.
- (1) Phenolische Hydroxyl-Gruppe
(-Ar-OH)
- (2) Sulfonamid-Gruppe (-SO2NH-R)
- (3) Substituierte Sulfonamid-Säuregruppe (nachfolgend als "aktivierte Imid-Gruppe" gezeichnet) -(SO2NHCOR, SO2NHSO2R und -CONHSO2R)
- (4) Carbonsäure-Gruppe
- (5) Sulfonsäure-Gruppe
- (6) Phosphorsäure-Gruppe
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Bei
den obigen Punkten (1) bis (6) bedeutet Ar eine bivalente Aryl-Verbindungsgruppe,
die einen Substituenten haben kann, und R ist eine Kohlenwasserstoff-Gruppe,
die einen Substituenten haben kann.
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Unter
in alkalischen Wasser löslichen
Polymeren mit einer Säuregruppe,
ausgewählt
aus den obigen (1) bis (6) sind die im alkalischen Wasser löslichen
Polymer mit (1) einer Phenol-Gruppe,
(2) einer Sulfonamid-Gruppe und (3) aktivierten Imid-Gruppe bevorzugt
und besonders sind im alkalischen Wasser lösliches Polymer mit (1) einer
Phenol-Gruppe und (2) einer Sulfonamid-Gruppe am meisten bevorzugt,
um die Löslichkeit
in einer alkalischen Entwicklungslösung und eine ausreichende
Filmstärke
sicherzustellen.
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Als
im alkalischen Wasser lösliches
Polymer mit einer Säuregruppe,
ausgewählt
aus den obigen (1) bis (6) können
die folgenden Verbindungen veranschaulicht werden.
- (1) Beispiele des im alkalischen Wasser löslichen Polymers mit einer
Phenol-Gruppe umfassend Novolakharze wie
Kondensationspolymere
von Phenol und Formaldehyd,
Kondensationspolymere von m-Cresol
und Formaldehyd,
Kondensationspolymere von p-Cresol und Formaldehyd,
Kondensationspolymere
einer m/p-Cresolmischung und
Formaldehyd und Kondensationspolymere
von Phenol, Cresol (das eine m-, p- oder m/p-Mischung sein kann)
und Formaldehyd, Kondensationspolymere von Pyrogallol und Aceton.
Weiterhin können
Copolymere als Beispiel genannt werden, die durch Copolymerisation
einer Verbindung mit einer Phenol-Gruppe an der Seitenkette erhalten
sind.
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Als
Beispiele der Verbindung mit einer Phenol-Gruppe können Acrylamide,
Methacrylamide, Acrylate, Methacrylate oder Hydroxystyrole mit einer
Phenol-Gruppe genannt werden.
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Spezifische
Beispiele der Verbindung mit einer Phenol-Gruppe umfassen N-(2-Hydroxyphenyl)acrylamid,
N-(3-Hydroxyphenyl)acrlamid,
N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid,
N-(2-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
N-(3-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid,
o-Hydroxyphenlacrylat, m-Hydroxyphenylacrylat, p-Hydroxyphenylacrylat,
o-Hydroxyphenylmethacrylat, m-Hydroxyphenylmethacrylat, p-Hydroxyphenylmethacrylat,
o-Hydroxystyrol, m-Hydroxystyrol, p-Hydroxystyrol, 2-(2-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,
2-(3-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,
2-(4-Hydroxyphenyl)ethylacrylat,
2-(2-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat,
2-(3-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat
und
2-(4-Hydroxyphenyl)ethylmethacrylat.
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Diese
Polymere können
alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
Bei Kombinieren dieser Verbindungen können Kondensationspolymere
aus einem Phenol mit einer Alkyl-Gruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen
als Substituenten und Formaldehyd wie Kondensationspolymere von t-Butylphenol
und Formaldehyd und Kondensationsprodukte von Octylphenol und Formaldehyd,
wie in
US 4,123,279 beschrieben
zusammen verwendet werden.
- (2) Als im alkalischen
Wasser lösliche
Polymere mit einer Sulfonamid-Gruppe können Polymere genannt werden,
die durch eine minimale strukturelle Einheit, die von einer Verbindung
mit einer Sulfonamid-Gruppe stammt, als hauptstrukturelle Komponente
strukturiert sind.
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Beispiele
der Verbindung umfassen Verbindungen, die eine oder mehrere Sulfonamid-Gruppen
enthalten, worin zumindest ein Wasserstoffatom an ein Stickstoffatom
gebunden ist und eine oder mehrere polymerisierbare ungesättigte Gruppe
im Molekül
vorhanden sind. Unter diesen Verbindungen sind niedermolekulare
Verbindungen mit einer Acryloyl-Gruppe, Aryl-Gruppe oder Vinyloxy-Gruppe
und einer substituierten oder monosubstituierten Aminosulfonyl-Gruppe
oder substituierten Sulfonylimino-Gruppe in einem Molekül bevorzugt.
Als Beispiele werden Verbindungen mit den folgenden Formeln 1 bis
5 angegeben.
worin
X
1 und X
2 jeweils
-O- oder -NR
27- sind, R
21 und
R
24 jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH
3 sind, R
22, R
25, R
29, R
32 und R
36 jeweils
eine Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylen-Gruppe mit 1 bis 12
Kohlenstoffatomen sind, die einen Substituenten haben können, R
23, R
27 und R
33 jeweils ein Wasserstoffatom oder eine
Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen,
gegebenenfalls mit einem Substituenten sind, R
26 und
R
27 jeweils eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl-
oder Aralkyl-Gruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen sind, die einen
Substituenten haben können,
R
28, R
30 und R
34 jeweils ein Wasserstoffatom oder -CH
3 sind, R
31 und R
35 jeweils eine Einfachbindung oder eine
Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylen-Gruppe mit 1 bis
12 Kohlenstoffatomen sind, die einen Substituenten haben können, und
Y
3 und Y
4 jeweils
eine Einfachbindung oder -CO- sind.
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Unter
den Verbindungen mit den Formeln 1 bis 5 sind besonders
m-Aminosulfonylphenylmethacrylat,
N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid,
N-(p-Aminosulfonylphenyl)acrylamid
oder dgl. in der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung bevorzugt.
- (3) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere
mit einer aktivierten Imid-Gruppe können Polymere veranschaulicht
werden, die durch eine minimale strukturelle Einheit, die von einer
Verbindung mit einer aktivierten Amid-Gruppe stammt, als Hauptstrukturkomponente
strukturiert sind.
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Beispiele
der Verbindung umfassen Verbindungen mit einer oder mehreren aktivierten
Imid-Gruppen, dargestellt durch die folgende Formel
und einer oder mehrerer polymerisierbaren
ungesättigten
Gruppen in einem Molekül.
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Spezifisch
können
bevorzugt N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid oder N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid verwendet
werden.
- (4) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere
mit einer Carbonsäure-Gruppe
können
Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstrukturkomponente eine
minimale strukturelle Einheit ist, die von einer Verbindung mit
einer oder mehreren Carbonsäure-Gruppen
oder einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen in einem Molekül stammt.
- (5) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Sulfonsäure-Gruppe
können
Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstruktureinheit eine
minimale Struktureinheit ist, die von einer Verbindung mit einer
oder mehreren Sulfonsäure-Gruppen und einer
oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen im Molekül stammt.
- (6) Als im alkalischen Wasser lösliche Polymere mit einer Phosphorsäure-Gruppe
können
Polymere veranschaulicht werden, deren Hauptstrukturkomponente eine
minimale strukturelle Einheit ist, die von einer Verbindung mit
einer oder mehreren Phosphorsäure-Gruppe
und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Gruppen im Molekül stammt.
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Unter
den genannten im alkalischen Wasser löslichen Polymeren sind besonders
(1) im alkalischen Wasser lösliche
Polymere mit einer phenolischen Hydroxyl-Gruppe bevorzugt, weil
eine starke Wechselwirkung zwischen diesen Polymeren und der genannten
polyfunktionellen Amin-Verbindung erhalten werden kann.
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Die
minimale Struktureinheit, die das im alkalischen Wasser lösliche Polymer
ausmacht, das für
die Flachdruck-Originalplatte
vom positiven Typ gemäß dieser
Erfindung verwendet wird und eine saure Gruppe aufweist, ausgewählt aus
den obigen (1) bis (6) ist insbesondere nicht notwendigerweise nur
ein Typ, aber im alkalischen Wasser lösliche Polymere können verwendet
werden, die durch Copolymerisation von zwei oder mehreren dieser
minimalen Struktureinheiten mit den gleichen oder verschiedenen
Säuregruppen
erzeugt sind.
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Als
obiges Copolymerisationsverfahren können die konventionell bekannten
Pfropfcopolymersiationsverfahren, Blockcopolymerisationsverfahren
oder statistische Copolymerisationsverfahren verwendet werden.
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Als
genanntes Copolymer sind solche mit der Verbindung, die copolymerisiert
wird und eine saure Gruppe, ausgewählt aus den obigen (1) bis
(6) in einer Menge von 10 mol% oder mehr aufweist, bevorzugt, und
solche, die die Verbindung in einer Menge von 20 mol% oder mehr
enthalten, sind mehr bevorzugt. Wenn die Menge dieser Verbindung
weniger als 10 mol% ist, gibt es die Tendenz, daß die Entwicklungsfreiheit
unzureichend verbessert werden kann.
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Wenn
erfindungsgemäß die Verbindung
copolymerisiert wird, zur Bildung eines Copolymers, können andere
Verbindungen die keine saure Gruppe der obigen Punkte (1) bis (6)
enthält
als Verbindung verwendet werden. Beispiele dieser Verbindung ohne
die saure Gruppe der obigen Punkte (1) bis (6) umfassen die folgenden
Verbindungen (m1) bis (m12).
- (m1) Beispielsweise
Acrylate oder Methacrylate mit einer aliphatischen Hydroxyl-Gruppe
wie 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxyethylmethacrylat.
- (m2) Alkylacrylate wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat,
Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Octylacrylat, Benzylacrylat,
2-Chlorethylacrylat, Glycidylacrylat, und N-Dimethylaminoethylacrylat.
- (m3) Alkylmethacrylate wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, Glycidylmethacrylat
und N-Dimethylaminoethylmethacrylat.
- (m4) Acrylamide oder Methacrylamide wie Acrylamid, Methacrylamid,
N-Methylolacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Hexalmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid,
N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Nitrophenylacrylamid
und N-Ethyl-N-phenylacrylamid.
- (m5) Vinylether wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether;
Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether
und Phenylvinylether.
- (m6) Vinylester wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutylat
und Vinylbenzoat.
- (m7) Styrole wie Styrol-α-Methylstyrol,
Methylstyrol und Chlormethylstyrol.
- (m8) Vinylketone wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon
und Phenylvinylketon.
- (m9) Olefine wie Ethylen, Propylen, Isobutylen, Butadien und
Isopren.
- (m10) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril
und Methacrylnitril.
- (m11) Ungesättigte
Imide wie Maleimid, N-Acryloylacrylamid, N-Acetylmethacrylamid,
N-Propionylmethacrylamid und N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid.
- (m12) Ungesättigte
Carbonsäuren
wie Methacrylsäure,
Maleinsäureanhydrid
und Itaconsäure.
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Als
im alkalischen Wasser lösliches
Polymer, das für
die Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung verwendet wird, sind
solche, die Homopolymere oder Copolymere mit einem Molekulargewicht
im Gewichtsmittel von 2000 oder mehr und einem Gewichtsmittel im
Zahlenmittel von 500 oder mehr aufweisen, angesichts der Empfindlichkeit
und Entwicklungsfreiheit bevorzugt. Solche mit einem Molekulargewicht
im Gewichtsmittel im Bereich von 5000 bis 300 000 und einem Molekulargewicht
im Zahlenmittel im Bereich von 800 bis 250 000 sind mehr bevorzugt.
Solche mit einem Polydispersionsindex, der das Molekulargewicht
im Gewichtsmittel dividiert durch das Molekulargewicht im Zahlenmittel
ist, im Bereich von 1,1 bis 10 sind bevorzugt.
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Wenn
das Copolymer erfindungsgemäß verwendet
wird, sind Copolymere, bei denen das Gewichtsverhältnis der
minimalen Struktureinheit, die von der Verbindung mit einer Säuregruppe,
ausgewählt
aus den Punkten (1) bis (6), stammt und die Hauptkette und/oder
Nebenkette davon ausmacht, zur minimalen Struktureinheit ohne Säuregruppe
(1) bis (6), die die Hauptkette oder Seitenkette davon ausmacht,
in einem Bereich von 50:50 bis 5:95 liegt bevorzugt, und Copolymere,
bei denen das obige Verhältnis
im Bereich von 40:60 bis 10:90 liegt, sind mehr bevorzugt.
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Die
erwähnten
im alkalischen Wasser löslichen
Polymere können
alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
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Obwohl
das genannte im alkalischen wasserlösliche Polymer 100 % des gesamten
Feststoffgehaltes des Materials ausmacht, das eine im alkalischen
Wasser lösliche
Polymerschicht ausmacht, wird es in einer Menge von bevorzugt 30
bis 99 Gew.% und mehr bevorzugt 45 bis 95 Gew.% verwendet, weil
andere Komponenten zur Verbesserung der Schichtbildungsfähigkeit
und Filmeigenschaften verwendet werden.
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Wenn
die Menge des im alkalischen Wasser löslichen Polymers weniger als
30 Gew.% ist, gibt es die Tendenz, daß die Schichtbildungsfähigkeit
und die Filmeigenschaften der Polymerschicht verschlechtert werden
und somit ist eine deutlich kleinere Menge nicht bevorzugt.
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Beispiele
eines Lösungsmittels,
das bei der Synthese des im alkalischen Wasser löslichen Polymers, das erfindungsgemäß verwendet
wird, eingesetzt wird, können
Tetrahydrofuran, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon,
Aceton, Methanol, Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether,
2-Methoxyethylacetat, Diethylenglykoldimethylether, 1-Methoxy-2-propanol,
1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid,
Toluol, Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid und
Wasser umfassen. Diese Lösungsmittel
können
alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
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Die
Schicht aus dem alkalischen Wasser löslichen Polymer kann weiterhin
einen Infrarotstrahlungsabsorber zur Verbesserung der Empfindlichkeit
enthalten. Als Infrarotstrahlungsabsorber kann die gleiche Verbindung
wie der Infrarotstrahlungsabsorber verwendet werden, detailliert
in den Erläuterungen
der Infrarot-empfindlichen Schichten beschrieben wird.
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Eine
bevorzugte Menge des Infrarotabsorbers, der in der im alkalischen
Wasser löslichen
Polymerschicht enthalten ist, ist 0,01 bis 50 Gew.%, bezogen auf
den gesamten Feststoff.
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Als
Materialien, die die im alkalischen Wasser löslichen Polymerschicht gemäß dieser
Erfindung ausmachen, können
neben den obigen Materialien verschiedene Additive nach Bedarf verwendet
werden.
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Beispielsweise
sind Oniumsalze und thermisch zersetzbare Verbindungen wie aromatische
Sulfonate, die als andere Komponenten beschrieben sind, die zu einer
lichtempfindlichen Zusammensetzung vom positiven Typ gemäß der Beschreibung
von JP-A-11-174681 (
US 6,132,929 )
im Abschnitt 0067 und folgende gegeben werden können, bevorzugt, um die Antiauflösungsfähigkeit
eines Bildbereiches zu steuern. Zusätzlich zu den obigen Additiven
können
Additive wie cyclische Säureanhydride,
Phenole und organische Säuren,
die zur Verbesserung der Empfindlichkeit nützlich sind, Tenside, Ausdruckmittel
und Farbstoffe und Pigmente als Bildfärbemittel, die in der gleichen
Publikation als andere Additive beschrieben sind, gleichermaßen erfindungsgemäß verwendet
werden.
-
Beispielsweise
können
Epoxy-Verbindungen, Vinylether-Verbindungen,
Phenol-Verbindungen mit einer Hydroxymethyl-Gruppe gemäß JP-A-8-276558 (
US 6,132,935 ) und vernetzbare Verbindungen,
die in der Veröffentlichung
von JP-A-11-160860 (
EP
919,868 A1 ) beschrieben sind und die Fähigkeit aufweisen, die Alkalilöslichkeit
zurückzuhalten,
nach Wunsch angemessen zugegeben werden.
-
(Zweite Schicht <Infrarot-empfindliche
Schicht>, die eine
Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, die nicht in eine alkalische
Entwicklungslösung
eindringt, die eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung
und eine Base als Hauptkomponenten enthält und deren Löslichkeit
in der alkalischen Entwicklungslösung
durch Wirkung von Licht und/oder Wärme erhöht wird)
-
Die
Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung umfaßt eine zweite Schicht, die
einen Infrarotabsorber und ein Bindemittel enthält, die nicht in eine alkalische
Entwicklungslösung
eindringt, umfassend eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung
und eine Base als Hauptkomponenten, und deren Löslichkeit in einer alkalischen
Entwicklungslösung
durch Wirkung von Licht und/oder Wärme erhöht wird, auf dem erwähnten im alkalischen
Wasser löslichen
Polymer, das auf dem Träger
gebildet ist.
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Die
obige Infrarot-empfindliche Schicht wird bevorzugt auf der freiliegenden
Oberfläche
der äußersten Schicht
der Flachdruck-Originalplatte gebildet. Im belichteten Bereich der
Infrarot-empfindlichen Schicht erzeugt der erwähnte Infrarot-Strahlungsabsorber
Wärme durch
Bestrahlung mit einem Infrarotlaser. Durch die Wärme erhöht sich die Löslichkeit
des Bindemittels, das die Schicht bildet, während im nicht-belichteten Bereich
die Unfähigkeit
der Eindringung in eine Alkali-Entwicklungslösung aufrechterhalten und nur
der belichtete Bereich löslich
gemacht wird, zur Bildung eines Bildes vom positiven Typ.
-
Als
Bindemittel, das die obige infrarotempfindliche Schicht ausmacht,
kann das im alkalischen Wasser lösliche
Polymer, das detailliert für
die Schicht aus dem im alkalischen Wasser löslichen Polymer erwähnt ist, bevorzugt
verwendet werden.
-
Erfindungsgemäß fungiert
die Infrarot-empfindliche Schicht als Film, der gegenüber einer
Alkali-Entwicklungslösung
in der im alkalischen Wasser löslichen
Polymerschicht resistent ist, die zwischen dem Träger und
der Infrarot-empfindlichen Schicht vorhanden sind, und es ist daher
gewünscht,
Polymere, die gegenseitig unlöslich
sind, als im alkalischen Wasser lösliches Polymer auszuwählen, das
in der Infrarotempfindlichen Schicht und in der im alkalischen Wasser
löslichen
Polymerschicht verwendet wird.
-
Der
Ausdruck "wechselseitig
unlöslich" bedeutet, daß eine Kombination
von zwei oder mehreren Polymeren (einschließlich der Fall, bei dem jedes
ein Copolymer oder eine Phase aus einer Mischung aus zwei oder mehreren
Arten ist) keine Phase aus einem Feststoff oder einer Flüssigkeit
bildet. Dies kann bestätigt werden
durch ein Verfahren, bei dem die beiden gemischt werden und der
Bereich visuell oder durch ein Photo dieses Bereiches beobachtet
wird, das unter Verwendung einen Elektronenabtastmikroskopes aufgenommen wird.
-
Beispiele
der Polymere, die in Kombination von zwei oder mehreren Arten von
Verbindungen verwendet werden, die wechselseitig unlöslich sind,
umfassen Polymerverbindungen vom Urethan-Typ, Acryl-Polymerverbindungen,
Polymerverbindungen vom Styrol-Typ, Novolakharze, Diazoharze, Polymerverbindungen vom
Amid-Typ und Polyether-Verbindungen. Diese Polymere können in
einer alkalischen Entwicklungslösung durch
Einfügen
der obigen Säuregruppe
in diese Polymere löslich
gemacht werden. Als bevorzugte Beispiele der Kombination von zwei
oder mehreren Polymeren, die wechselseitig unlöslich sind, werden Kombinationen aus
einer Polymerverbindung vom Acryl- oder Urethan-Typ und ein Novolak
und eine Kombination aus einem Novolakharz und einem Diazoharz ebenso
wie eine Kombination einer Polymerverbindung vom Acryl- oder Urethantyp
und einem Diazotyp genannt.
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Die
genannten im alkalischen Wasser löslichen Polymere können alleine
oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden und
werden in einer Menge im Bereich von bevorzugt 30 bis 99 Gew.% und mehr
bevorzugt 40 bis 95 Gew.% auf der Basis des Gesamtfeststoffgehaltes
des Materials verwendet, das die Infrarot-empfindliche Schicht in
der Flachdruck-Originalplatte
dieser Erfindung ausmacht.
-
Wenn
die Menge des im alkalischen wasserlöslichen Polymer weniger als
30 Gew.% ist, kann die Dauerhaftigkeit der Infrarot-empfindlichen
Schicht sich vermindern, während
dann, wenn die Menge 99 Gew.% übersteigt,
die Empfindlichkeit und die Dauerhaftigkeit erniedrigt werden können und
die Menge außerhalb
des obigen Bereiches sind daher nicht bevorzugt.
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Ein
Infrarot-Strahlungsabsorber muß in
der Infrarotempfindlichen Schicht der Flachdruck-Originalplatte
dieser Erfindung angesichts der Empfindlichkeit enthalten sein.
Der Infrarotabsorber, der hier verwendet werden kann, wird bevorzugt
auch für
die obige im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht verwendet.
-
Keine
besondere Beschränkung
gibt es bezüglich
des Infrarotabsorbers, der erfindungsgemäß verwendet werden kann, solange
er die Fähigkeit
hat, durch Bestrahlung mit einem Infrarotlaser Wärme zu erzeugen. Es ist jedoch
bevorzugt, einen Infrarotabsorber mit einer Oniumsalzstruktur angesichts
der notwendigen Bewirkung einer positiven Wirkung (Entwicklung in
einen nicht-belichteten Bereich wird verzögert und eine Beschränkung bezüglich der
Entwicklung wird freigesetzt oder verschwindet in einen belichteten
Bereich, wodurch der belichtete Bereich in einem alkalischen Wasser
löslich
wird) zwischen den strukturellen Einheiten der Polymere zu verwenden.
Spezifisch können
vorteilhaft Farbstoffe wie Cyanin-Farbstoff und Pyryliumsalz verwendet
werden.
-
Bevorzugte
Beispiele des obigen Farbstoffes umfassen Cyanin-Farbstoffe, die jeweils in JP-A-58-125246,
59-84356, 59-202829
und 60-78787 beschrieben sind und Cyanin-Farbstoffe gemäß UK-Patent
434,875.
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Nahe
Infrarot-Absorptionssensibilisatoren gemäß
US 5,156,938 werden bevorzugt verwendet.
Weiterhin werden substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze gemäß
US 3,881,924 , Trimethinthiapyryliumsalze
gemäß JP-A-57-142645
(
US 4,327,169 ), Pyrylium-Verbindungen
gemäß JP-A-58-181051,
58-220143, 59-41363,
59-84248, 59-84249, 59-146063 (
US
4,55,472 ) und JP-A-59-146061, Cyanin-Farbstoffe gemäß JP-A-59-216146
(
US 4,617,247 ), Pentamethinthiopyryliumsalze
gemäß
US 4,283,475 und dgl. und
Pyryliumsalze gemäß der japanischen
offengelegten Patentanmeldung (JP-B) 5-13514 und 5-19702 (
US 4,663,260 ) bevorzugt
verwendet.
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Nahe
Infrarot-Absorptionsfarbstoffe mit den Formeln (I) und (II) gemäß der Beschreibung
von
US 4,756,993 können ebenfalls
als bevorzugte Beispiele des Farbstoffes angegeben werden.
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Darüber hinaus
werden anionische Infrarotabsorber gemäß JP-A-11-338131 (
EP 945,264 A ) bevorzugt verwendet. Die anionischen
Infrarotabsorber zeigen solche an, worin der Mutterkern eines Farbstoffes, der
im wesentlichen Infrarotstrahlen absorbiert, keine kationische Struktur,
sondern eine anionische Struktur aufweist.
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Beispiele
dieser anionischen Infrarotabsorber umfassen (cI) anionische Metallkomplexe,
(c2) anionischen Ruß,
(c3) anionisches Phthalocyanin und weiter (c4) Verbindungen mit
der folgenden 6. Das Gegenkation dieser anionischen Infrarotabsorber
ist ein monovalentes Kation mit einem Proton oder einem polyvalenten
Kation.
worin
Ga
– ein
anionischer Substituent ist, Gb ein neutraler Substituent ist x
m+ ein Kation mit ein bis m-Valenzen und
einem Proton ist und m eine ganze Zahl von 1 bis 6 ist.
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Hierin
bedeuten die (c1) anionische Metallkomplexe solche, worin ein zentrales
Metall im Komplexbereich, der im wesentlichen Licht absorbiert,
und ein Ligand einer anionischen Natur insgesamt entfalten.
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Ein
Beispiel von (c2) dem anionischen Ruß ist Ruß mit einer anionischen Gruppe
wie Sulfonsäure, Carbonsäure oder
Phosphorsäure-Gruppe,
die als Substituent gebunden ist. Zum Einfügen einer jeden dieser Gruppen
können
beispielsweise Maßnahmen
zum Oxidieren von Ruß unter
Verwendung einer vorbestimmten Säure
angewandt werden wie in "Carbon
Black Handbook",
dritte Ausgabe (herausgegeben von Carbon Black Association, 5. April
1995, veröffentlicht
von Carbon Black Association) beschrieben ist.
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Anionische
Infrarotabsorber, erzeugt durch ionisches Binden eines Oniumsalzes
als Gegenkation mit einer anionischen Gruppe des anionischen Rußes werden
erfindungsgemäß bevorzugt
verwendet. Jedoch ist ein Adsorptionsmaterial, bei dem ein Oniumsalz
an Ruß absorbiert
ist, von diesen anionischen Infrarotabsorbern ausgeschlossen, die
erfindungsgemäß bevorzugt
verwendet werden. Ebenso kann die Wirkung dieser Erfindung nicht
erhalten werden durch ein einfaches Absorptionsmaterial.
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Das
(c3) anionische Phthalocyanin ist ein solches, bei dem eine anionische
Gruppe, veranschaulicht als Substituent bei der vorherigen Erläuterung
von (c2) an ein Phthalocyanin-Gerüst gebunden
ist und insgesamt eine anionische Natur entfaltet.
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Nachfolgend
werden die Verbindungen mit der Formel 6 gemäß (c4) detailliert erläutert. In
der Formel 6 bedeutet M eine Konjugatkette, die einen Substituenten
oder eine cyclische Struktur aufweisen kann. Die Konjugatkette M
kann durch folgende Formel dargestellt sein.
worin R
1,
R
2 und R
3 ein Wasserstoffatom,
ein Halogenatom, eine Cyano-, Alkyl-, Aryl-, Alkenyl-, Alkinyl-,
Carbonyl-, Thio-, Sulfonyl-, Sulfinyl-, Oxy- oder Amino-Gruppe ist,
worin diese Gruppen kombiniert sein können, unter Bildung einer cyclischen
Struktur, und n eine ganze Zahl von 1 bis 8 ist.
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Spezifische
bevorzugte Beispiele des anionischen Infrarotabsorbers mit der obigen
Formel 6 sind in der Beschreibung von JP-A-11-338131 (EP-Patent
945,264 A), Absätze
0094 bis 0105, beschrieben.
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Beispiele
des Infrarotabsorbers mit einer Oniumsalzstruktur, die bevorzugte
Beispiele des Infrarotabsorbers gemäß dieser Erfindung sind, sind
solche, die als spezifische Beispiele (A-20 bis A-75) in der Beschreibung
der japanischen Patentanmeldung 11-231399, Absätze 0046 bis 0061 beschrieben
sind.
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Jeder
dieser Farbstoffe, die Infrarotabsorber sind, kann zum Material,
das die Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht, in einer Menge von
0,01 bis 50 Gew.%, bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.% und besonders bevorzugt
0,5 bis 10 Gew.%, bezogen auf den Feststoffgehalt, zugegeben werden.
Wenn die Menge des Farbstoffes weniger als 0,01 Gew.% ist, wird
die Empfindlichkeit vermindert, während dann, wenn die Menge 50
Gew.% übersteigt,
die Möglichkeit
für das
Auftreten einer Kontamination in einem Nicht-Bildbereich und die
Erzeugung von Mängeln
während
des Drucks ergibt.
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Das
Material, das die Infrarot-empfindliche in der erfindungsgemäßen Flachdruck-Originalplatte
ausmacht, kann weiterhin andere Farbstoffe und Pigmente enthalten,
um die Empfindlichkeit und die Entwicklungsbreite zu verbessern.
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Als
anderer Farbstoff können
kommerziell erhältliche
Farbstoff und bekannte Farbstoffe, die ein der Literatur beschrieben
sind, beispielsweise "Dye
Handbook" (herausgegeben
von Organic Synthetic Chemical Assiciation, 1970) verwendet werden.
Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe umfassen Azo-Farbstoffe, Azo-Farbstoffe
von Metallkomplexsalzen, Pyrazolonazo-Farbstoffe, Naphthochinon-Farbstoff, Anthrachinon-Farbstoffe,
Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe,
Methin-Farbstoffe, Diimmonium-Farbstoffe,
Aminium-Farbstoffe, Squarylium-Farbstoffe und Metallthiolatkomplexe.
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Als
andere Pigmente können
kommerziell erhältliche
Pigmente und Pigmente verwendet werden, die in "Color Index (C.I.) Handbook, "The Newest Pigment
Handbook" (herausgegeben
vom Japan Pigment Technical Association, veröffentlicht 1988), "The newest Pigment
Applied Technology" (CMC
Shuppan, veröffentlicht
1986) und "Printing
Ink Technology" (CMC
Shuppan, veröffentlicht
1984) beschrieben sind.
-
Beispiele
der Art des Pigmentes, das verwendet werden kann sind schwarz, gelbe,
orangefarbene, braune, rote, violette, blaue, grüne, Fluoreszenz-, Metallpulver-,
andere Pigmente und polymergebundene Farbstoffe. Spezifisch können unlösliche Azo-Pigmente,
Azoschüppchenpigmente,
kondensierte Azo-Pigmente,
Chelatazo-Pigmente, Phthalocyanin-Pigment, Anthrachinon-Pigmente,
Perylen- und Perinon-Pigmente, Thioindigo-Pigmente, Chinacridon-Pigmente,
Dioxazin-Pigmente, Isoindolinon-Pigmente, Chinophthalon-Pigmente,
Farbschüppchen-Pigmente,
Azin-Pigmente, Nitroso-Pigmente, Nitro-Pigmente, natürliche Pigment, Fluoreszenz-Pigmente,
anorganische Pigmente und Ruß verwendet
werden. Unter diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
-
Diese
Pigmente können
ohne Oberflächenbehandlung
oder nach Oberflächenbehandlung
verwendet werden. Als Verfahren für die Oberflächenbehandlung
wird ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche mit einem Harz oder Wachs,
ein Verfahren zum Anhaften eines Tensides und ein Verfahren zum
Binden eines reaktiven Materials (z.B. Silan-Kupplungsmittel, Epoxy-Verbindung und Polyisocyanat)
an die Oberfläche
eines Pigmentes erwähnt.
Die genannten Verfahren für
die Oberflächenbehandlung
sind in "Qualities
and Applican of Metal Soap" (Saiwai
Shobo), "Printing
Ink Technology" (CMC
Shuppan, veröffentlicht
1984) und "The newest Pigment
Applied Technology" (CMC
Shuppan, veröffentlicht
1986) beschrieben.
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Der
Teilchendurchmesser des obigen Pigmentes liegt im Bereich von bevorzugt
0,01 bis 10 μm,
mehr bevorzugt 0,05 bis 1 μm
und besonders bevorzugt 0,1 bis 1 μm. Wenn der Teilchendurchmesser
des Pigmentes weniger als 0,01 μm
ist, ist dies angesichts der Stabilität der Dispersion in der Beschichtungslösung für die Infrarot-empfindliche
Schicht nicht bevorzugt. Wenn auf der anderen Seite der Teilchendurchmesser
10 μm übersteigt,
ist dies angesichts der Gleichmäßigkeit
der gebildeten Schicht nicht bevorzugt.
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Als
Verfahren zum Dispergieren des obigen Pigmentes können bekannte
Dispergiertechniken, die zur Produktion von Tinte oder eines Toners
verwendet werden, eingesetzt werden. Als Beispiele von Dispergiermaschinen
können
eine Ultraschall-Dispergiermaschine,
Sandmühle,
Attritor, Perlmühle,
Supermühle,
Kugelmühle,
Impeller, Dispergiermaschine, KD- Mühle, Kolloidmühle, Dynatron,
Dreiwalzenmühle
und Druckkneter genannt werden. Die Details dieser Dispergiermaschine
sind in "The newest
Pigment Applied Technology" (CMC
Shuppan, veröffentlicht
1986) beschrieben.
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Die
Menge des obigen Pigmentes ist 0,01 bis 50 Gew.% und mehr bevorzugt
0,1 bis 10 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt des Materials,
das die Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht. Wenn die Menge des
Pigmentes weniger als 0,01 Gew.% ist, wird nur eine unzureichende
Wirkung zur Verbesserung der Empfindlichkeit erhalten, während dann,
wenn die Menge 50 Gew.% übersteigt,
die Gefahr des Auftretens von Kontaminationen bei einem Nicht-Bildbereich
und einer verminderten Dauerhaftigkeit der Schicht auftritt.
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Unter
den genannten Farbstoffen und Pigmenten sind solche, die Infrarotstrahlen
oder nahe Infrarotstrahlen absorbieren, besonders bevorzugt. Ebenso
können
die Pigmente und Farbstoffe in Kombinationen von zwei oder mehreren
verwendet werden.
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Verschiedene
Additive können
zum Material, das die Infrarotempfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte
dieser Erfindung ausmacht gegeben werden.
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Beispielsweise
kann eine polyfunktionelle Amin-Verbindung enthalten sein. Diese
polyfunktionelle Amin-Verbindung hat die Fähigkeit (Vernetzungsfähigkeit),
die Filmstruktur der Infrarot-empfindlichen Schicht zu stabilisieren,
indem ermöglicht
wird, daß die
polyfunktionelle Amin-Verbindung zusammen mit den erwähnten im
alkalischen Wasser löslichen
Copolymer coexistiert, weil die Amin-Verbindung stark mit einer
alkalilöslichen
Gruppe wechselwirkt, die in dem Polymer vorhanden ist. Eine solche
polyfunktionelle Amin-Verbindung bedeutet Amin-Verbindungen mit
zumindest zwei oder mehreren funktionellen Gruppen. Wenn die Anzahl
der funktionellen Gruppen 1 ist, wird keine Vernetzungswirkdung
erzeugt und daher wird keine zusätzliche
Wirkung erhalten. Die untere Grenze der Anzahl der funktionellen
Gruppen ist bevorzugt 3 oder mehr angesichts der Bildungsmöglichkeit
eines stärkeren
Netzwerkes. Die obere Grenze der Anzahl der funktionellen Gruppen ist
bevorzugt 10 oder weniger und mehr bevorzugt 6 oder weniger angesichts
der Anpassungsfähigkeit
für die Produktion
und damit kein unlöslicher
Komplex gebildet wird, der durch eine starke Wechselwirkung zwischen polyfunktionellen
Gruppen gebildet wird.
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Die
polyfunktionelle Amin-Verbindung des Additivs ist bevorzugt in Wasser
löslich
oder dispergierbar. Wenn die polyfunktionelle Amin-Verbindung eine
Wasserlöslichkeit
oder Wasserdispergierbarkeit aufweist, die in dem sogenannten neutralen
Wasser ausreichend ist, dringt eine Entwicklungslösung schnell
in das Innere der Infrarotempfindlichen Schicht ein, wodurch die
Infrarot-empfindliche Schicht entfernt und die Polymerschicht hierdurch
mit der Entwicklungslösung
in Kontakt gebracht wird, und das im alkalischen Wasser lösliche Polymer,
das die Polymerschicht ausmacht, wird in einer Entwicklungslösung aufgelöst und entfernt,
wenn die später
erläuterte
Alkalientwicklung durchgeführt
wird, wodurch eine hohe Entwicklungsfähigkeit ohne Beeinträchtigung
der Diskriminierung eines Bildes verursacht wird. Erfindungsgemäß ist es
bevorzugt, daß die Amin-Verbindung
in Wasser in einer Menge von 0,5 g/l oder mehr gelöst wird,
so daß die
wasserlösliche
Fähigkeit
entfaltet wird, und in Wasser in einer Menge von 0,5 g/l oder mehr
dispergiert wird, um die Wasserdispergierfähigkeit zu entfalten.
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Es
ist nicht bevorzugt, daß die
erwähnte
polyfunktionelle Amin-Verbindung, die erfindungsgemäß verwendet
wird, eine Oniumstruktur aufweist, angesichts der Entwicklungsfähigkeit.
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Beispiele
der polyfunktionellen Verbindung, die bevorzugt erfindungsgemäß verwendet
werden, sind Verbindungen, die durch Zugabe einer Amin-Verbindung
zu einem konventionell erhältlichen
polyfunktionellen polymerisierbaren Monomer erhalten sind.
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Die
erfindungsgemäß verwendeten
polyfunktionellen Amin-Verbindungen
können
alleine oder durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet werden.
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Wenn
die obige polyfunktionelle Amin-Verbindung zur Infrarotempfindlichen
Schicht in dieser Erfindung gegeben wird, liegt die Zugabemenge
in einem Bereich von bevorzugt 3 Gew.% bis 50 Gew.%, mehr bevorzugt
10 und 10 Gew.%, bezogen auf das obige im alkalischen Wasser lösliche Polymer.
Wenn die Menge weniger als 3 Gew.% ist, wird die erfindungsgemäße Wirkung
unzureichend erzeugt und daher ist eine solche Menge außerhalb
des obigen Bereiches nicht bevorzugt. Wenn auf der anderen Seite
die Menge 50 Gew.% übersteigt,
werden die Anwendungsmöglichkeit
und die Beschichtbarkeit erniedrigt und daher ist eine solche Menge
außerhalb
des obigen Bereiches nicht bevorzugt.
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Darüber hinaus
fungieren auch beispielsweise andere Oniumsalze, aromatische Sulfon-Verbindungen und
aromatische Sulfonat-Verbindungen als thermisch zersetzbare Materialien.
Wenn diese Materialien zugegeben werden, kann daher die Fähigkeit,
die Auflösung
eines Bildbereiches zu erzielen, verbessert werden. Somit ist die
Zugabe dieser Materialien bevorzugt.
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Als
obiges Oniumsalz können
Diazoniumsalze, Ammoniumsalze, Phosphoniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze,
Selenoniumsalze und Arsoniumsalze angegeben werden. Bevorzugte Beispiele
des erfindungsgemäß verwendeten
Oniumsalzes umfassen Diazoniumsalze, beschrieben in der Veröffentlichung
von JP-A-5-158230 (
US 5,370,965 ), Ammoniumsalze
gemäß der Beschreibung
von
US 4,069,055 und
4,069,056 oder der Veröffentlichung
von JP-A-3-140140, Phosphoniumsalze gemäß der Beschreibung von
US 4,069,055 oder 4,069,056,
Iodoniumsalze gemäß EP-Patent
104,143, der Beschreibung von
US
339,049 und 410,201 und der Beschreibung von JP-A-2-150848
oder 2-296514, Sulfoniumsalze gemäß der Beschreibung von EP-Patenten
370,693, 233,567, 297,443 und 297,442,
US 4,933,377 , 3,902,114, 410,201,
339,049, 4,760,013, 4,734,444 und 2,833,827, DE-Patente 2,904,626,
3,604,580 und 3,604,581, Selenoniumsalze, beschrieben in J.V. Crivello
et al., Macromelecules, 10(6), 1307 (1977) oder J.V. Crivello et
al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg. 17, 1047 (1979) und Arsoniumsalze
beschrieben in C.S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, S.
478, Tokyo, Okt. (1988).
-
Als
Gegenion des obigen Oniumsalzes können Hexafluorphosphorsäure und
alkylaromatische Sulfonsäuren
wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure und 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure als
Beispiele genannt werden, obwohl auch ein übliches verwendet werden kann.
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Die
Menge des obigen Oniumsalzes ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.%, bevorzugt
5 bis 30 Gew.% und besonders bevorzugt 10 bis 30 Gew.%, bezogen
auf den gesamten Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarot-empfindliche
Schicht der Flachdruck-Originalplatte ausmacht.
-
Ebenso
können
Farbstoffe mit großer
Absorption im sichtbaren Bereich als Färbemittel für ein Bild verwendet werden.
Spezifische Beispiele dieser Farbstoffe sind Oil Yellow #101, Oil
Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue
#603, Oil Black BY, Oil Black BS und Oil Black T-505 (die obigen
Produkte werden von Orient Chemical Industries hergestellt), Victoria
Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methylviolett (CI42535), Ethylviolett,
Rhodamin B (C1145170B), Malachitgrün (CI42000), Methylenblau (CI52015),
Aizen Spiron Blue C-RH (hergestellt von Hodogaya Chemical) und Farbstoffe,
die in JP-A-62-293247 beschrieben sind.
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Die
Zugabe dieser Farbstoffe stellt sicher, daß die Diskriminierung zwischen
einem Bildbereich und einem Nicht-Bildbereich nach Bildung eines Bildes
klar wird und ist daher bevorzugt. Die Zugabemenge ist bevorzugt
im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.%, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt
des Materials, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte
ausmacht.
-
Ebenso
können
cyclische Anhydride, Phenole und organische Säuren zur weiteren Verbesserung
der Empfindlichkeit zugegeben werden. Als cyclisches Anhydrid können Phthalsäureanhydrid,
Tetrahydrophthalanhydrid, Hexyhydrophthalanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalanhydrid,
Tetrachlorphthalanhydrid, Maleinanhydrid, Chlormaleinanhydrid, α-Phenylmaleinanhydrid,
Succinanhydrid, Pyromellitdianhydrid oder dgl. verwendet werden.
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Als
Beispiele der obigen Phenole werden Bisphenol A, p-Nitrophenol,
p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon,
2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4'4''-Trihydroxytriphenylmethan und
4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-Tetramethyltriphenylmethan
genannt.
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Beispiele
der genannten organischen Säuren
umfassen Sulfonsäure,
Sulfinsäuren,
Alkylsulfate, Phosphonsäure,
Phosphate und Carbonsäuren,
beschrieben in der Veröffentlichung
von JP-A-60-88942 und 2-96755, spezifisch p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure und
p-Toluolsulfinsäure,
Ethylsulfat, Phenylphosphonsäure,
Phosphorphosphinsäure,
Phosphorphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluolsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und
Ascorbinsäure.
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Der
Anteil des obigen cyclischen Säureanhydrides,
der Phenole und der organischen Säuren im gesamten Feststoff
des Materials das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte
ausmacht, ist bevorzugt 0,05 bis 20 Gew.%, mehr bevorzugt 0,1 bis
15 Gew.% und besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.%.
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Im
Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht in der Flachdruck-Originalplatte
dieser Erfindung ausmacht, können
nichtionische Tenside gemäß der Beschreibung
von JP-A-62-251740
und JP-A-3-208514 und amphotere Tenside gemäß der Beschreibung von JP-A-59-121044
und JP-A-4-13149 zugegeben werden, um die Verarbeitungsstabilität für die Entwicklungsbedingungen
zu verbessern.
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Spezifische
Beispiele des obigen nichtionischen Tensides umfassen Sorbitantristearat,
Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid und Polyoxyethylennonylphenylether.
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Spezifische
Beispiele des obigen amphoteren Tensides umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycin,
Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboyethyl-N-hydroxyimidazoliniumbetain
und N-Tetradecyl-N,N-betain-Typen
(z.B. Amorgen K (Marke), hergestellt von Daiichi Kogyo).
-
Der
Anteil des nichtionischen und des amphoteren Tensides im gesamten
Feststoffgehalt des Materials, das die Infrarotempfindliche Schicht
der Flachdruck-Originalplatte ausmacht, ist bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.%,
und mehr bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.%.
-
Im
Material, das die Infrarot-empfindliche Schicht der Flachdruck-Originalplatte
ausmacht, kann ein Ausdruckmittel für den Erhalt eines sichtbaren
Bildes unmittelbar nach Erwärmen
nach Belichtung und Farbstoffe und Pigment als Bildfarbmittel zugegeben
werden.
-
Ein
typisches Beispiel des obigen Ausdruckmittels ist eine Kombination
einer Verbindung (lichtempfindlicher Säureerzeuger), die eine Säure durch
Wäre, die
durch Belichtung verursacht wird, freisetzt, und ein organischer
Farbstoff, der ein Salz ergeben kann. Spezifische Beispiele dieser
Kombinationen umfassen eine Kombination aus einer o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid
und eines organischen Farbstoffes, der ein Salz bilden kann, wie
in der Veröffentlichung
von JP-A-50-36209 und 53-8128 beschrieben ist, und eine Kombination
einer Trihalomethyl-Verbindung und eines organischen Farbstoffes,
der ein Salz bilden kann, wie in der Veröffentlichung von JP-A-53-36223,
54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 und 63-58440 beschrieben
ist.
-
Als
Beispiele der obigen Trihalomethyl-Verbindung sind eine Verbindung
vom Oxazoltyp und vom Triazintyp, die beide eine hohe Stabilität im Verlaufe
der Zeit haben und einen klaren Bildausdruck ergeben.
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Die
Zugabe einer Epoxy-Verbindung, Vinylether-Verbindung, Phenol-Verbindung
mit einer Hydroxymethyl-Gruppe oder Alkoxymethyl-Gruppe wie in JP-A-8-276558
beschrieben, und einer vernetzbaren Verbindung mit einer Beibehaltungsfähigkeit
für die
Alkaliauflösung,
wie in der Veröffentlichung
von JP-A-11-160860 beschrieben, ist angesichts der Lagerungsstabilität erwünscht.
-
Darüber hinaus
wird in das Material, das die Infrarotempfindliche Schicht ausmacht,
ein Plastifizierer nach Bedarf gegeben, um dem Film eine Flexibilität zu verleihen.
Beispielsweise werden Butylphthalyl, Polyethylenglykol, Tributylcitrat,
Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dicotylphthalat,
Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat
oder Oligomere oder Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure bevorzugt
verwendet.
-
Ebenso
kann ein Tensid zur Verbesserung der Beschichtungsfähigkeit,
beispielsweise ein Tensid vom Fluortyp gemäß der Veröffentlichung von JP-A-62-170950
zugegeben werden. Die Menge des Tensides ist bevorzugt 0,01 bis
1 Gew.% und mehr bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.%, bezogen auf die Gesamtmenge
der Infrarot-empfindlichen Schicht.
-
(Verfahren der Plattenerzeugung
einer Flachdruckplatte)
-
Unter
Verwendung der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung kann ein
Flachdruckplatte vom Positivtyp gemäß dem folgenden Plattenerzeugungsverfahren
hergestellt werden.
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Die
Flachdruckplatte wird hergestellt durch Auflösen des Materials, das die
im alkalischen Wasser lösliche
Polymerschicht der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung ausmacht,
umfassend die genannten Komponenten in einem Lösungsmittel, Auftragen der
resultierenden Lösung
auf einen angemessenen Träger, anschließendes Auflösen des
Materials, das in Infrarot-empfindliche Schicht ausmacht, in einem
Lösungsmittel und
Auftragen der resultierenden Lösung
auf die obige im alkalischen Wasser lösliche Polymerschicht.
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Beispiele
des hier zu verwendenden Lösungsmittels
umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol,
Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methylethylacetat,
1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid,
Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfonan, γ-Butyrolacton, Toluol
und Wasser, obwohl diesbezüglich
keine Beschränkung
existiert.
-
Diese
Lösungsmittel
werden alleine oder durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet.
Die Konzentration der obigen Komponenten (gesamter Feststoffgehalt
einschließlich
Additiven) ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.%.
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Die
Menge (Feststoffgehalt) der im alkalischen Wasser löslichen
Polymerschicht, die auf dem Träger gebildet
ist, nach dem Auftragen und Trocknen ist bevorzugt im allgemeinen
0,1 bis 5,0 g/m2, wenn die Druckplatte als
lichtempfindliche Druckplatte verwendet wird, obwohl dies in Abhängigkeit
von der Verwendung verschieden ist. Ebenso ist die Menge der aufzutragenden
Infrarot-empfindlichen Schicht bevorzugt 0,1 bis 3,0 g/m2, wenn die Filmfestigkeit berücksichtigt
wird, obwohl die Infrarot-empfindliche Schicht bevorzugt dünn ist, solange
sie die Fähigkeit
hat, die obige im alkalischen lösliche
Polymerschicht vor der Entwicklungslösung zu schützen.
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Als
Auftragungsverfahren können
verschiedene Verfahren angewandt werden. Beispiele dieser Verfahren
können
eine Stangenbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung,
Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserstreichbeschichtung,
Blattbeschichtung und Walzenbeschichtung umfassen.
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Beispiele
des obigen Trägers
können
dimensionsstabile Plattenmaterialien wie Papier, Papier, auf dem
Kunststoffe (z.B. Polyethylen, Polypropylen und Polystyrol) laminiert
sind, Metallplatten (z.B. Aluminium, Zink oder Kupfer), Kunststofffilme
(z.B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat,
Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat,
Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal)
und Papier- oder Kunststofffilme umfassen, auf denen ein Metall
wie Aluminium, Zink oder Kupfer niedergeschlagen oder laminiert
ist.
-
Als
obiger Träger,
der erfindungsgemäß verwendet
wird, sind Polyesterfilme oder Aluminiumplatten bevorzugt. Unter
diesen Materialien sind Aluminiumplatten, die sehr dimensionsstabil
sind und verhältnismäßig kostengünstig sind,
besonders bevorzugt.
-
Eine
bevorzugte Aluminiumplatte ist eine reine Aluminiumplatte und eine
Legierungsplatte, umfassend Aluminium als Hauptkomponente und andere
geringfügige
Elemente oder kann ein Kunststofffilm sein, auf dem Aluminium laminiert
oder niedergeschlagen ist.
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Diese
unterschiedlichen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten
sind, umfassen Silicium, Eisen, Mangen, Kupfer, Magnesium, Chrom,
Zink, Wismut, Nickel und Titan. Die Menge der anderen Elemente in
der Aluminiumlegierung ist 10 Gew.% oder weniger.
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Obwohl
besonders bevorzugt Aluminium in dieser Erfindung reines Aluminium
ist, ist Aluminium, das andere geringfügige Elemente enthält, akzeptabel,
weil die Produktion von perfekt reinem Aluminium angesichts der
Raffiniertechnologie schwierig ist. Die Zusammensetzung der erfindungsgemäß verwendeten
Aluminiumplatte ist nicht auf diese Weise spezifiziert, und eine
Aluminiumplatte, die eine konventionell bekannte und ein allgemeines
Material ist, kann wahlweise verwendet werden.
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Die
Dicke der Aluminiumplatte, die erfindungsgemäß verwendet wird, ist etwa
0,1 bis 0,6 mm, bevorzugt 0,15 bis 0,4 mm und besonders bevorzugt
0,2 bis 0,3 mm.
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Die
Aluminiumplatte wird aufgerauht und verwendet. Eine Entfettungsbehandlung,
beispielsweise unter Verwendung eines Tensides, organischen Lösungsmittels
oder einer wäßrigen alkalischen
Lösungsmittel wird
nach Wunsch zur Entfernung von Walzenöl, das auf der Oberfläche zurückbleibt,
vor dem Aufrauhen der Oberfläche
der Aluminiumplatte durchgeführt.
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Die
Behandlung zum Aufrauhen der Oberfläche der Aluminiumplatte wird
unter Verwendung von verschiedenen Verfahren durchgeführt, beispielsweise
einem Verfahren, bei dem die Oberfläche mechanisch aufgerauht wird,
ein Verfahren, bei dem die Oberfläche elektrochemisch durch Auflösen der
Oberfläche
aufgerauht wird und ein Verfahren, bei dem die Oberfläche selektiv
chemisch aufgelöst
wird.
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Als
obiges mechanisches Verfahren kann ein bekanntes Verfahren wie Kugelpolierverfahren,
Bürstenpolierverfahren,
Blaspolierverfahren oder Schwabbelpolierverfahren verwendet werden.
Als elektrochemisches Oberflächenaufrauhverfahren
gibt es ein Verfahren, bei dem die Aufrauhbehandlung in einem Salzsäure- oder
Salpetersäureelektrolyten
durch Verwendung eines a.c. oder d.c. Stroms durchgeführt wird.
Ebenso kann ein Verfahren aus einer Kombination der beiden verwendet
werden, wie in JP-A-54-63902 offenbart ist.
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Die
auf diese Weise aufgerauhte Aluminiumplatte wird einer anodischen
Oxidationsbehandlung nach Wunsch unterworfen, um das Wasserrückhaltevermögen und
die Abriebsresistenz der Oberfläche
zu verbessern, nachdem eine Alkaliätzbehandlung und Neutralisierbehandlung
nach Bedarf durchgeführt
ist.
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Als
Elektrolyt, der für
die anodische Oxidationsbehandlung der Aluminiumplatte verwendet
wird, können
verschiedene Elektrolyte verwendet werden, die einen porösen Oxidfilm
bilden. Schwefelsäure,
Phosphorsäure,
Oxalsäure
oder Chromsäure
oder eine gemischte Säure
aus diesen Säuren
wird im allgemeinen als Elektrolyt verwendet. Die Konzentration
eines jeden Elektrolyten wird in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten
angemessen bestimmt.
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Obwohl
die Behandlungsbedingungen für
die anodische Oxidation insgesamt nicht spezifiziert werden können, weil
sie in Abhängigkeit
von der Art des zu verwendenden Elektrolyten variieren, ist ein
angemessener Bereich für
jede Bedingung im allgemeinen wie folgt: Konzentration eines Elektrolyten
in einer Lösung:
1 bis 80 Gew.%, Lösungstemperatur:
5 bis 70°C,
Stromdichte: 6 bis 60 A/dm2, Spannung: 1
bis 100 V, elektrolytische Zeit: 10 Sekunden bis 5 Minuten.
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Wenn
die Menge des anodischen Oxidationsfilmes kleiner als 1,0 g/m2 ist, wird nur eine unzureichende Druckdauerhaftigkeit
erhalten. Ebenso wird ein Nicht-Bildbereich
der Flachdruckplatte leicht beschädigt und die sogenannten Fleckenmängel, nämlich ein
Phänomen,
das Tinte an einen Mangelbereich während des Drucks haftet, kann
auftreten.
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Die
Oberfläche
des Aluminiums wird einer hydrophilen Behandlung nach Bedarf unterworfen,
nachdem eine anodische Oxidationsbehandlung durchgeführt ist.
Als hydrophile Behandlung, die erfindungsgemäß angewendet wird, gibt es
ein Verfahren unter Verwendung eines Alkalimetallsilicates (z.B.
eines wäßrigen Natriumsilicates),
wie in der Beschreibung der US-Patente 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734
und 3,902,734 angegeben ist. Bei diesem Verfahren wird der Träger einer
Tauch- oder elektrolytischen Behandlung unter Verwendung einer wäßrigen Natriumsilicat-Lösung unterworfen.
-
Zusätzlich zu
diesem Verfahren werden ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung
von fluoriertem Kaliumzirkonat gemäß der Veröffentlichung von JP-B 36-22063
und ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung von Polyvinylphosphonsäure gemäß der Beschreibung
von
US 3,276,868 , 4,153,461
und 4,689,272 verwendet.
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Bei
der Flachdruck-Originalplatte kann eine Unterschicht nach Bedarf
zwischen dem obigen Träger und
der obigen Schicht aus dem im alkalischen Wasser löslichen
Polymer gebildet sein.
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Als
Komponente für
die Unterschicht wird eine Vielzahl von organischen Verbindungen
verwendet. Die organische Verbindung wird ausgewählt auf Carboxymethylcellulose,
Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäure mit einer Amino-Gruppe
wie 2-Aminoethylphosphonsäure,
organischen Phosphonsäuren
wie Phenylphosphonsäure,
Naphthylphosphonsäure,
Alkylphosphonsäure,
Glycerophosphonsäure,
Methylendiphosphonsäure
und Ethylendiphosphonsäure,
die einen Substituenten haben können,
organischen Phosphorsäuren
wie Phenylphosphorsäure,
Naphthylphosphorsäure,
Alkylphosphorsäure
und Glycerophosphorsäure,
die einen Substituenten haben können,
organischen Phosphinsäure,
wie Phenylphosphinsäure,
Naphthylphosphinsäure,
Alkylphosphinsäure
und Glycerophosphinsäure,
die einen Substituenten haben können,
Aminosäuren
wie Glycin und β-Alanin
und Hydrochloride eines Amines mit einer Hydroxyl-Gruppe wie ein Hydrochlorid von
Triethanolamin. Diese Säuren
können
durch Mischen von zwei oder mehreren verwendet werden.
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Ebenso
können
die erwähnten
polyfunktionellen Amin-Verbindungen
zur Unterschicht wie oben erwähnt
gegeben werden. In diesem Fall kann die Unterschicht unter Verwendung
der polyfunktionellen Amin-Verbindung zusammen mit der genannten
organischen Verbindung oder nur durch Verwendung der polyfunktionellen
Amin-Verbindung gebildet werden.
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Die
obige Unterschicht kann durch das folgende Verfahren gebildet werden.
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Spezifisch
gibt es ein Verfahren, bei dem eine Lösung, erhalten durch Auflösen der
obigen organischen Verbindung und/oder der polyfunktionellen Amin-Verbindung
in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol
und Methylethylketon oder einer Mischung aus diesen Lösungsmitteln,
auf die Aluminiumplatte aufgetragen und getrocknet wird, zur Bildung
einer Unterschicht, und ein Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte
in eine Lösung
getränkt
wird, erhalten durch Auflösen
der obigen organischen Verbindung und/oder der polyfunktionellen
Amin-Verbindung in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie
Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder eine gemischten Lösungsmittel
aus diesen Lösungsmitteln, so
daß diese
Verbindungen an die Aluminiumplatte adsorbieren können, mit
anschließendem
Waschen mit Wasser oder dgl. und Trocken zur Bildung einer Unterschicht.
-
Bei
dem zuerst genannten Verfahren kann die Lösung mit der organischen Verbindung
und/oder der polyfunktionellen Amin-Verbindung in einer Konzentration von
0,005 bis 10 Gew.% durch Anwendung verschiedener Verfahren aufgetragen
werden.
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Beim
zuletztgenannten Verfahren ist die Konzentration der Lösung 0,01
bis 20 Gew.% und bevorzugt 0,05 bis 5 Gew.%, die Tränktemperatur
ist 20 bis 90°C
und bevorzugt 25 bis 50°C,
die Tränkzeit
ist 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, bevorzugt 2 Sekunden bis 1 Minute.
Als Beispiele der hierfür
verwendeten Lösung
werden basische Materialen wie Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid
und saure Materialien wie Salzsäure
und Phosphorsäure
genannt. Jede dieser Lösungen wird
zum Einstellen des pHs im Bereich von 1 bis 12 verwendet. Ein gelber
Farbstoff kann ebenfalls zugegeben werden, um die Reproduzierbarkeit
des Farbtons der Flachdruck-Originalplatte zu verbessern.
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Die
Menge der Unterschicht ist angemessen 2 bis 200 mg/m2 und
bevorzugt 5 bis 100 mg/m2. Wenn die obige
Menge weniger als 2 mg/m2 ist, wird nur
eine unzureichende Druckdauerhaftigkeit erhalten, während dann,
wenn die Menge 200 mg/m2 übersteigt,
das gleiche Ergebnis erhalten wird.
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Die
erzeugte Flachdruckplatte wird üblicherweise
einer Bildbelichtung und Entwicklungsbehandlung zur Bildung eines
Bildes unterworfen. Als Lichtquelle für aktivierte Strahlen, die
bei der Bildbelichtung verwendet werden, ist eine Lichtquelle, die
in einem Wellenlängenbereich
vom nahen Infrarotbereich bis zum Infrarotbereich emittiert, und
ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser besonders bevorzugt.
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Als
Entwicklungslösung
und Auffülllösung, die
bei der Entwicklung der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung
verwendet werden, wird eine konventionell bekannte Alkali-Entwicklungslösung, die
als Hauptbestandteile eine organische Verbindung mit einer Pufferwirkung
und eine Base enthält
und im wesentlich Siliciumdioxid ausschließt, verwendet. Erfindungsgemäß wird eine
solche Entwicklungslösung
nachfolgend als "Nicht-Silicat-Entwicklungslösung" bezeichnet. Der
Ausdruck "im wesentlichen" bedeutet, daß das Vorhandensein
von nicht-vermeidbaren Verunreinigungen und geringfügigem Siliciumdioxid
als Nebenprodukt toleriert wird.
-
Beim
Entwicklungsschritt der Flachdruck-Originalplatte dieser Erfindung
wird die Wirkung der Zurückhaltung
des Auftretens von Mängeln
verbessert, indem die obige Nicht-Silicat-Entwicklungslösung aufgetragen wird. Als
wäßrige Alkali-Lösung sind solche mit einem
pH von 12,5 bis 13,5 bevorzugt.
-
Die "Nicht-Silicat-Entwicklungslösung", die bei der Plattenerzeugung
der Flachdruckplatte dieser Erfindung verwendet wird, umfaßt eine
organische Verbindung mit einer Pufferwirkung und eine Base als
Hauptbestandteile, wie oben erwähnt.
Als Beispiele oder organischen Verbindung mit einer Pufferwirkung
werden Saccharide (insbesondere solche mit der Formel (I) und (II))
gemäß der Veröffentlichung
von JP-A-8-220775 als
Verbindungen mit einer Pufferwirkung, Oxime (besonders solche mit
der Formel (III)), Phenole (insbesondere solche mit der vorzugsweise
(IV)) und fluorierte Alkohole (insbesondere solche mit der Formel
(VI)) genannt.
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Unter
den Verbindungen mit den Formeln (I) bis (V) sind bevorzugte Verbindungen
Saccharide mit der Formel (I), oder (II) und Phenole mit der Formel
(V), und mehr bevorzugte Verbindungen sind nicht-reduzierende Zucker
wie Saccharose oder Sulfosalicylsäure unter den Sacchariden mit
der Formel (I) oder (II). Die nicht-reduzierenden Zucker umfassen
Oligosaccharide vom Trehalose-Typ, bei denen reduzierende Gruppen unter
diesen gebunden sind, Glycoside, worin eine reduzierende Gruppe
von Zuckern mit Nicht-Sacchariden gebunden ist und Zuckeralkohole,
erhalten durch Zugabe von Wasserstoff zur Reduktion von Zucker.
-
Beispiele
der obigen Oligosaccharide vom Trehalose-Typ umfassen Saccharose
und Trehalose und Beispiele der obigen Glycoside umfassen Alkylglycoside
und Phenolglycoside und Senfölglycoside.
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Beispiele
der obigen Zuckeralkohole umfassen D,L-Arabit, Ribit, Xylit, D,L-Sorbit,
D,L-Anethol, D,L-Iditol, D,L-Talitol, Dulcitol und Allodulcitol.
-
Darüber hinaus
kann Maltit, erhalten durch Hydrieren eines Disaccharides und Reduktionsmitteln
(reduzierter Stärkesirup)
erhalten durch Hydrieren eines Oligosaccharides, als bevorzugtes
Beispiel genannt werden.
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Unter
den obigen nicht-reduzierenden Zuckern sind Zuckeralkohole und Saccharose
bevorzugt und insbesondere sind D-Sorbit, Saccharose und reduzierter
Stärkesirup
mehr bevorzugt, weil diese Zucker eine Pufferwirkung in einem angemessenen
pH-Bereich haben.
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Die
oben erwähnten
organischen Verbindungen mit einer Pufferwirkung können alleine
oder in Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden. Der
durch den Zucker in einer Entwicklungslösung besetzte Anteil ist bevorzugt
0,1 bis 30 Gew.% und mehr bevorzugt 1 bis 20 Gew.%.
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Ein
Alkalimittel als Base kann angemessen aus konventionell bekannten
Alkalimitteln ausgewählt
werden und mit der obigen organischen Verbindung mit einer Pufferwirkung
kombiniert werden.
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Beispiele
des obigen Alkalimittels umfassen anorganische Alkalimittel wie
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Trinatriumphosphat,
Trikaliumphosphat, Triammoniumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat,
Diammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat,
Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat,
Natriumborat, Kaliumborat und Ammoniumborat, Kaliumcitrat, Trikaliumcitrat
und Natriumcitrat.
-
Ebenso
können
organische Alkalimittel wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin,
Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin,
Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin,
Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin
und Pyridin als bevorzugte Beispiele des Alkalimittels angegeben
werden.
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Diese
Alkalimittel werden alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren
verwendet.
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Unter
den obigen Alkalimitteln sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid
bevorzugt. Denn der pH kann in einem breiten pH-Bereich eingestellt
werden, indem die Menge des zum nicht-reduzierenden Zucker zu gebenden Alkalimittels
gesteuert wird.
-
Ebenso
sind Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Natriumcarbonat und
Kaliumcarbonat bevorzugt, weil jedes selbst eine Pufferwirkung hat.
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Weiterhin
ist bekannt, daß bei
der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine
eine große
Anzahl von Flachdruckplatten ohne Austausch der Entwicklungslöung in einem
Entwicklungsbehälter
für eine
lange Zeitperiode behandelt werden kann, indem eine wäßrige Lösung (nachfolgend
gegebenenfalls als "Auffülllösung" bezeichnet) mit
einer höheren
Alkalinität
als die Entwicklungslösung
zugegeben wird. Erfindungsgemäß wird dieses
Auffüllsystem
bevorzugt verwendet.
-
Verschiedene
Tenside und organische Lösungsmittel
können
nach Bedarf zur obigen Entwicklungslösung und Auffüllösung gegeben
werden, um die Förderung
oder die Zurückhaltung
der Entwicklung zu erzielen und die Dispersion der Entwicklungsreste
und die Affinität
des graphischen Druckbereiches zur Tinte zur verbessern. Als bevorzugte
Beispiele des Tensides werden anionische, kationische, nichtionische
und amphotere Tenside genannt.
-
Weiterhin
können
Hydrochinon, Resorcin und reduzierende Zucker wie Natrium- und Kaliumsalze
von anorganischen Säuren
wie Schwefelsäure
oder Hydroschwefelsäure
und weiterhin organische Carbonsäure, Antischäumungsmittel
und Wasserweichmacher zugegeben werden.
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Die
Flachdruckplatte, die unter Verwendung der obigen Entwicklungslösung und
Auffüllösung entwickelt
ist, wird unter Verwendung von Waschwasser, einer Spüllösung, umfassend
ein Tensid und dgl. und desensibilisierenden Lösung, umfassend Gummi arabicum
oder ein Stärkederivat
nachbehandelt. Diese Behandlungen werden verschieden durch Kombinieren
als Nachbehandlung bei einer Druckplatte verwendet, die entsprechend
dem obigen Verfahren unter Verwendung der Flachdruck-Originalplatte
dieser Erfindung erzeugt ist.
-
Bei
der Plattenerzeugung und dem Druckgebiet in den letzten Jahren wird
eine automatische Entwicklungsmaschine für Druckplatten in großem Umfang
für die
Rationalisierung und Standardisierung der Plattenerzeugung eingesetzt.
Die Flachdruckplatte, die durch diese Erfindung erhalten wird, kann
in dieser automatischen Entwicklungsmaschine behandelt werden. Diese
automatische Entwicklungsmaschine besteht üblicherweise aus einem Entwicklungsbereich
und einem Nachbehandlungsbereich, umfassend ein System zum Zuführen einer
Druckplatte, die entsprechenden Verarbeitungslösungsbehälter und ein Sprühsystem.
Bei der Entwicklungsmaschine wird jede Arbeitslösung durch eine Pumpe abgezogen
und von einer Sprühdüse gesprüht, während eine
belichtete Druckplatte horizontal geführt wird, zur Durchführung der
Entwicklung. Ebenso ist heutzutage ein Verfahren bekannt, bei dem
eine Druckplatte in einen Arbeitslösungsbehälter getaucht und gezogen wird,
der mit einer Arbeitslösung
gefüllt
wird, indem beispielsweise eine eingetauchte Führungswalze verwendet wird.
Bei einem solchen automatischen Verfahren kann die Druckplatte behandelt
werden, während eine
Auffülllösung zu
jeder Verfahrenslösung
entsprechend einem Durchlauf und einer Arbeitszeit zugeführt wird.
Ebenso kann das sogenannte nicht-zurückführbare Behandlungssystem unter
Verwendung einer im wesentlichen nicht verwendeten Arbeitslösung zur
Durchführung
der Behandlung angewandt werden.
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Wenn
nicht notwendige Bildbereiche (z.B. ein Filmkantenzeichen eines
Originalfilmes) auf der Flachdruckplatte nach der Bildbelichtung
vorhanden sind, werden die Entwicklung, das Waschen mit Wasser und/oder
Spülen
und/oder Gummiziehen durchgeführt,
und Maßnahmen
können
zum Löschen
von nicht-notwendigen Bildbereichen durchgeführt werden.
-
Als
obiges Löschverfahren
ist ein Verfahren, bei dem eine Löschlösung auf dem nicht-notwendigen Bildbereich
aufgetragen und für
eine bestimmte Zeit stehengelassen wird, mit anschließendem Waschen
mit Wasser, beschrieben in der Veröffentlichung von JP-B 2-13293,
bevorzugt. Jedoch kann ebenso ein Verfahren verwendet werden, bei
dem aktivierte Lichtstrahlen, die durch eine optische Faser geleitet
werden, auf den nicht-notwendigen Bildbereich aufgetragen werden,
mit anschließender
Entwicklung, wie in der Veröffentlichung
von JP-A-59-174842 beschrieben ist.
-
Die
Flachdruckplatte, die die obigen Behandlungen erfahren hat, kann
einem Druckvorgang unterworfen werden, nachdem ein desensibilisierender
Gummi nach Wunsch auf die Druckplatte aufgetragen ist. Eine Brennbehandlung
kann durchgeführt
werden, um die Druckdauerhaftigkeit zu verbessern. Wenn die Flachdruckplatte
durch Brennen behandelt wird, ist es bevorzugt, die Flachdruckplatte
durch Verwendung einer Oberflächenregulationslösung vor
dem Brennen zu behandeln wie in der Veröffentlichung von JP-B-61-2518, 55-28062,
62-31859 und 61-159655 beschrieben ist. Als Behandlungsverfahren
kann ein Verfahren, bei dem die Oberflächenregulationslösung auf
die Oberfläche
der Flachdruckplatte durch Verwendung eines Schwamms oder absorbierender
Baumwolle, die mit der Lösung
imprägniert
ist, aufgetragen wird, ein Verfahren, bei dem Flachdruckplatte in
einen Behälter
getaucht wird, der mit der Oberflächenregulationslösung gefüllt ist,
zum Auftragen der Lösung
auf die Flachdruckplatte, und ein Verfahren zum Auftragen unter
Verwendung eines automatischen Beschichters verwendet werden. Ebenso
ist es mehr bevorzugt, die aufgetragene Menge durch eine Quetschwalze
oder Rakel nach Beendigung der Auftragung gleichmäßig zu machen.
Die Menge der Oberflächenregulationslösung, die
aufgetragen wird, ist ungefähr
0,03 bis 0,8 g/m2 (Trockengewicht).
-
Die
Flachdruckplatte, die mit der Oberflächenbeschichtungslösung beschichtet
ist, wird getrocknet und dann bei hohen Temperaturen erwärmt, indem
ein Brennverarbeiter (z.B. Burining Processor: BP-1300) verwendet
wird, der von Fuji Photo Film kommerziell erhältlich ist. Die Heiztemperatur
und -zeit in diesem Fall sind bevorzugt in einem Bereich von 180
bis 300°C
bzw. 1 bis 20 Minuten, obwohl diese Bedingungen in Abhängigkeit
von der Art der Komponente abhängen,
die ein Bild bilden.
-
Die
Flachdruckplatte, die durch Brennen behandelt worden ist, kann angemessen
Behandlungen unterworfen werden, die konventionell durchgeführt werden,
wie Waschen und Gummiabziehen, je nach Bedarf. Wenn eine Oberflächenrefluationsbehandlung,
umfassend eine wäßrige Polymerverbindung
und dgl. verwendet wird, kann die sogenannte Desensibilisierungsbehandlung
wie das Gummiabziehen weggelassen werden.
-
Die
Flachdruckplatte, die durch die oben erwähnte Behandlungen erhalten
wird, wird in einen Offsetprinter eingeführt und zum Druck von Blättern verwendet.
-
Beispiele
-
Diese
Erfindung wird nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die
Beispiele erläutert,
die jedoch diese Erfindung nicht beschränken sollen.
-
(Synthese eines spezifischen
Copolymers)
-
Synthesebeispiel <spezifisches Copolymer
I>
-
Ein
500 ml-Dreihalskolben, ausgerüstet
mit einem Rührer,
Kondensationsrohr und Tropftrichter, wurde mit 31,0 g (0,36 mol)
mit Acrylsäure,
39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril beladen
und die Mischung wurde unter Kühlen
in einem Eiswasserbad gerührt.
Zu der Mischung wurde tropfenweise 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin
durch Verwendung des Tropftrichters über eine Stunde zugegeben.
Nach Vollendung der Zugabe wurde das Eiswasserbad abgezogen und
die Mischung wurde bei Umgebungstemperatur 30 Minuten gerührt.
-
Zur
Reaktionsmischung wurden 51,7 g (0,30 mol) p-Aminobenzolsulfonamid
gegeben und die Mischung eine Stunde unter Erwärmen bei 70°C in einem Ölbad gerührt. Nach Beendigung der Reaktion
wurde die Mischung in 1 1 Wasser unter Rühren des Wassers gegossen,
und die resultierende Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Die
Mischung wurde durch Filtration behandelt, zum Entfernen des Präzipitates,
aus dem dann eine Aufschlämmung
durch Zugabe von 500 ml Wasser erzeugt wurde. Die Aufschlämmung wurde
filtriert und der resultierende Feststoff wurde getrocknet, unter
Erhalt von N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid als weißen Feststoff
(Ausbeute: 46,9 g).
-
Dann
wurde ein 20 ml Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, Kondensationsrohr
und Tropftrichter, mit 4,61 g (0,192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid,
2,94 (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylnitril
und 20 g N,N-Dimethylacetamid beladen und die Mischung unter Wärmen bei 65°C in einem
Heißwasserbad
gerührt.
0,15 g, "V-65" (hergestellt von
Wako Pure Chemical Industries) wurden zur Mischung gegeben, die
dann 2 Stunden in einem Stickstoffstrom gerührt wurde, während die
Temperatur bei 65°C
gehalten wurde. Zur Reaktionsmischung wurden weiterhin tropfenweise
4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,94 g Ethylmethacrylat,
0,80 g Acrylnitril und 0,15 g einer Mischung aus N,N-Dimethylacetamid
und "V5" über 2 Stunden durch Verwendung
des Tropftrichters zugegeben. Nach Vollendung der Zugabe wurde die
resultierende Mischung weiterhin 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach
Beendigung der Reaktion wurden 40 mg Methanol zur Mischung gegeben,
mit anschließendem
Kühlen.
Die resultierende Mischung wurde in 2 1 Wasser gegossen, während das
Wasser gerührt
wurde. Die Mischung wurde 30 Minuten gerührt und dann wurde das Präzipitat
durch Filtration herausgenommen, mit anschließendem Trocknen, unter Erhalt
von 15 g eines weißen
Feststoffes.
-
Das
Molekulargewicht im Gewichtsmittel (Polystyrolstandard) dieses spezifischen
Copolymer 1 wurde durch Gelpermeationschromatographie gemessen.
Als Ergebnis war das Molekulargewicht im Gewichtsmittel 53 000.
-
(Herstellung eines Substrates)
-
Eine
0,3 mm dicke Aluminiumplatte (Material 1050) wurde mit Trichlorethylen
zum Entfetten gewaschen. Dann wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte unter
Verwendung einer Nylonbürste
und einer 400 mesh Bimsstein/Wassersuspension gekörnt und
dann sorgfältig
mit Wasser gewaschen. Diese Platte wurde in eine wäßrige 25%ige
Natriumhydroxid-Lösung
bei 45°C
9 Sekunden getaucht, zum Ätzen,
mit anschließendem
Waschen. Die Platte wurde weiterhin in 20%ige Salpetersäure 20 Sekunden
getaucht und dann gewaschen. Dann war die Menge des Ätzens der
gekörnten
Oberfläche
etwa 3 g/m
2. Dann wurde die Platte mit einem
3 g/m
2 d.c. anodischen Oxidationsfilm durch
Verwendung von 7%iger Schwefelsäure
als Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm
2 gebildet.
Danach wurde die Platte mit Wasser gewaschen und getrocknet. Weiterhin
wurde die folgende Unterschichtlösung
1 auf die Platte aufgetragen und dann wurde der Film 1 Minute bei
90°C getrocknet.
die Menge der getrockneten Beschichtung war 10 mg/m
2. <Unterschichtlösung 1>
– β-Alanin | 0,5
g |
– Methanol | 95
g |
– Wasser | 5
g |
-
Darüber hinaus
wurde die resultierende Platte in einer wäßrigen Lösung aus 2,5 Gew.% Natriumsilicat 10
Sekunden bei 30°C
behandelt. Die folgende Unterschichtlösung 2 wurde auf die Platte
aufgetragen und der Film wurde bei 80°C 15 Sekunden getrocknet, unter
Erhalt eines Substrates. Die Menge der getrockneten Beschichtung
war 15 mg/m
2. <Unterschichtlösung 2>
– Unten
beschriebene Verbindung | 0,3
g |
– Methanol | 100
g |
– Wasser | 1
g |
-
-
(Beispiel 1)
-
(Bildung einer ersten
Schicht (Schicht aus im alkalischen Wasser löslichen Polymer))
-
Die
folgende lichtempfindlich Lösung
1-A wurde hergestellt. Die lichtempfindliche Lösung 1-A wurde auf das resultierende
Substrat aufgetragen, so daß die
aufgetragene Menge 0,3/m
2 war, zur Bildung
einer ersten Schicht. <Lichtempfindliche
Lösung
1-A>
– Spezifisches
Copolymer 1 | 0,75
g |
– Tensid
vom Fluor-Typ (Megafac F-177; | |
Dainippon
Ink and Chemicals) | 0,05
g |
– γ-Butyrolacton | 10
g |
– Methylethylketon | 10
g |
– 1-Methoxy-2-propanol | 1
g |
-
(Bildung einerzweiten
Schicht (Infrarot-empfindliche Schicht)
-
Die
folgende lichtempfindliche Lösung
1-B wurde hergestellt. Die unten beschriebene lichtempfindliche
Lösung
1-B wurde auf die erste Schicht aufgetragen, so daß die Auftragemenge
1,5 g/m
2 war, zur Bildung einer zweiten
Schicht. <Lichtempfindliche
Lösung
1-B>
– m,p-Cresolnovolak
(Verhältnis
von m zu p = | |
6/4,
Molekulargewicht im Gewichtsmittel: | |
3500,
0,5 Gew.% nicht-reagiertes Cresol | |
waren
enthalten) | 1,00
g |
– p-Toluolsulfonsäure | 0,003
g |
– Tetrahydrophthalsäureanhydrid | 0,03
g |
– Cyanin-Farbstoff
A (folgende Struktur) | 0,017
g |
– Farbstoff,
bei dem das Gegenion von | |
Victoria
Pure Blue BOH 1-Naphthalin | |
sulfonsäure-Anion
ist | 0,015
g |
– Tensid
vom Fluortyp (Megafac F-177; | |
– Dainippon
Ink and Chemicals) | 0,05
g |
– γ-Butyrolacton | 10
g |
– Methylethylketon | 10
g |
– 1-Methoxy-2-propanol | 1
g |
-
-
Die
resultierende Flachdruckplatte wurde bei einer Hauptabtastgeschwindigkeit
von 5 m/s durch Verwendung eines Halbleiterlasers mit einer Ausstoßleistung
von 500 mW, einer Wellenlänge
von 830 nm und einem Strahldurchmesser von 17 μm (1/e2)
belichtet. Die Platte wurde dann unter Verwendung eines PS-Prozessors
900 VR, hergestellt von Fuji Photo Film, entwickelt, wobei der Prozessor
mit zwei Arten von Entwicklungslösungen
(Entwicklungslösungen
1 und) versehen war, die die folgenden Zusammensetzungen (ohne Silicat)
hatten und sich bezüglich
der Verdünnung
unterschieden und eine Spüllösung FR-3
(verdünnt
bei einem Verhältnis
von 1:7) aufwiesen.
-
Dann
wurden Belichtungswerte, die zur Bildung eines Bildes durch jede
Entwicklungslösung
erforderlich waren, und ein Unterschied (Entwicklungsbreite) zwischen
diesen Belichtungswerten aufgezeichnet. Ebenso wurden 60 Flachdruckplatten
(30 cm × 65
cm) unter Verwendung der Entwicklungslösung 1 behandelt und danach
wurde der Bildbereich der behandelten Platte visuell beobachtet,
zur Bestätigung
des Vorhandenseins oder der Abwesenheit von Mängeln, die vermutlich durch
unlösliche
Substanzen in der Entwicklungslösung
verursacht waren. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. <Entwicklungslösung 1>
– D-Sorbit | 5,1
Gew.-Teile |
– Natriumhydroxid | 1,1
Gew.-Teile |
– Triethanolamin/Ethylenoxid-Addukt | |
(30
mol) | 0,03
Gew.-Teile |
– Wasser | 93,9
Gew.-Teile |
<Entwicklungslösung 2>
– D-Sorbit | 5,1
Gew.-Teile |
– Natriumhydroxid | 1,1
Gew.-Teile |
– Triethanolamin/Ethylenoxid-Addukt | |
(30
mol) | 0,03
Gew.-Teile |
– Wasser | 140,7
Gew.-Teile |
-
(Beispiel 2)
-
Eine
Flachdruckplatte wurde als Beispiel 2 auf gleiche Weise wie bei
Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der
für die
lichtempfindliche Lösung
1-B von Beispiel 1 verwendet wurde, durch einen Cyanin-Farbstoff B ersetzt
wurde. Die Flachdruckplatte von Beispiel 2 wurde auf gleiche Weise wie
bei Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnisse sind unten in Tabelle 1
gezeigt.
-
-
(Beispiel 3)
-
Eine
Flachdruckplatte wurde als Beispiel 3 auf gleiche Weise wie bei
Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der
für die
lichtempfindliche Lösung
1-b bei Beispiel 1 verwendet wurde, durch Ruß (Printex L6, hergestellt
von Degussa) ersetzt wurde. Die Flachdruckplatte von Beispiel 3
wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 ausgewertet. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 1 gezeigt.
-
(Vergleichsbeispiel 1)
-
Eine
Flachdruckplatte wurde auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 erzeugt,
mit der Ausnahme, daß der Cyanin-Farbstoff A, der
für die
lichtempfindliche Lösung
1-B von Beispiel 1 verwendet wurde, nicht verwendet wurde, und wurde
auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnisse sind
unten in Tabelle 1 gezeigt.
-
-
(Vergleichsbeispiel 2)
-
Die
gleiche Flachdruckplatte wie bei Beispiel 1 wurde hergestellt und
auf gleiche Weise wie bei Beispiel 1 belichtet. Die Platte wurde
dann unter Verwendung eines PS-Prozessors
900 VR, hergestellt von Fuji Photo Film, entwickelt, wobei der Prozessor
mit einer Entwicklungslösung
DP-4 (umfassend ein Silicat), hergestellt von Fuji Photo-Film und
einer Spüllösung FR-3
(verdünnt
bei einem Verhältnis
von 1:7) versehen war. Als DP-4 wurden die beiden folgenden Arten
gestellt, die sich bezüglich
des Verdünnungsgehaltes
unterschieden: eine Art (Entwicklungslösung 1 genannt), verdünnt bei
einem Verhältnis
von 1:8, und eine andere Art (Entwicklungslösung 2), verdünnt bei
einem Verhältnis
von 1:12. Belichtungswerte, die zur Bildung eines Bildes durch jede
Entwicklungslösung
erforderlich waren, und ein Unterschied (Entwicklungsbreite) zwischen
diesen Belichtungswerten wurden aufgezeichnet. Ebenso wurden 60
Flachdruckplatten (30 cm × 65
cm) unter Verwendung der Entwicklungslösung 1 (verdünnt bei
einem Verhältnis
von 1:8) behandelt und danach wurde der Bildbereich der behandelten
Platte beobachtet, um das Vorhandensein oder die Abwesenheit von
Mängeln
visuell zu beobachten, die durch unlösliche Substanzen in der Entwicklungslösung verursacht
wurden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
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Wie
aufgrund von Tabelle 1 ersichtlich ist, war die Flachdruckplatte,
erhalten durch Durchführen
der Plattenerzeugung gemäß dem Verfahren
dieser Erfindung durch Verwendung der Flachdruck-Originalplatte dieser
Erfindung besser bezüglich
der Empfindlichkeit und der Entwicklungsbreite und in einem Bildbereich wurden
keine Mängel
beobachtet. Auf der anderen Seite bildet die Flachdruck-Originalplatte
von Vergleichsbeispiel 1, die keinen Infrarotabsorber in der Infrarot-empfindlichen
Schicht enthielt, kein Bild. Ebenso hatte die Flachdruck-Originalplatte von
Vergleichsbeispiel 2, die zur Plattenerzeugung durch Verwendung
einer alkalischen Entwicklungslösung
mit einem Silicat behandelt worden war, Mängel, die im Bildbereich erzeugt
waren.
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Diese
Erfindung stellt sicher, daß die
Plattenerzeugung direkt von digitalen Daten von Computern oder dgl.
unter Verwendung eines Feststofflasers oder Halbleiterlasers, der Infrarotstrahlen
emittiert, und einer Flachdruck-Originalplatte
vom positiven Typ, die eine hohe Empfindlichkeit für den obigen
Infrarotlaser und eine hohe Stabilität für eine Entwicklungsbehandlung
aufweist, erzielt werden kann und ein Verfahren der Plattenerzeugung
einer Flachdruckplatte vom Positivtyp kann erhalten werden, wobei
das Verfahren bevorzugt für eine
Flachdruck-Originalplatte verwendet wird, und wobei eine Resistenz
gegenüber
dem Auftreten von Mängeln
erzielt wird.