JPH11115144A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度と解像度の良好なポジ型の画像を形成し
ながら、現像液のスラッジ防止と現像性能の安定化とを
両立したランニング安定性の向上と、低補充でも連続処
理量の増加を可能とし、又廃液量の低減にも寄与する画
像形成方法の提供。ＣＴＰに対応できる赤外線レーザー
露光による画像形成でも感度及び現像安定性に優れた満
足な画像が得られる画像形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に（１）熱又は活性光線の照射
により酸を発生し得る化合物、（２）酸により分解し得
る結合部を少なくとも１つ有し、かつ酸の作用で分解し
て生成するアルコール成分のうち少なくとも１成分がエ
チレングリコール成分又はプロピレングリコール成分を
含むジオール化合物である酸分解性化合物を含有する感
応層を設けた画像形成材料を像様に露光又は加熱した
後、現像液に補充を繰り返しながら連続処理を行うこと
を特徴とする画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、熱又は活性光によ
り可溶化する、いわゆるポジ型の感応性組成物を有する
感応層を設けた画像形成材料を、補充液を追加しながら
処理を行って画像形成する方法に関し、更に詳しくは、
半導体レーザー等の赤外線による露光でも画像形成が可
能な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、活性光により可溶化する、ポ
ジ型の感光層を有する感光性平版印刷版用の組成物が知
られている。

【０００３】活性光の照射によって可溶化するポジ型の
組成物を使用した感光材料としては、酸発生剤と酸分解
性化合物とを含有する感光層を有する画像形成材料が知
られている。例えば、米国特許３，７７９，７７９号に
は、オルトカルボン酸又はカルボン酸アミドアセタール
基を有する化合物を含有する感光性組成物が、特開昭５
３−１３３４２９号には、主鎖にアセタールを有する化
合物を含有する感光性組成物が、又特開昭６０−３７５
４９号及び特開昭６０−１２１４４６号には、シリルエ
ーテル基を有する化合物を含有する組成物が開示されて
いる。これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外線に
よる露光によってアルカリ可溶化して非画像部を形成
し、又未露光部は画像部を形成するというものである。

【０００４】これら画像形成材料を、現像液の補充を繰
り返しながら連続的に現像液を循環、再使用して現像処
理を行った場合、現像液中に混入した感光層組成物、特
に酸分解性化合物の分解物が現像液の現像性能を変動さ
せたり、或いは現像液への溶解性が不十分であるため
に、スラッジ（沈殿又は浮遊物）を生じさせ、そのスラ
ッジが画像形成材料に付着し汚れを発生させるという問
題を引き起こしていた。それは特に印刷版として使用し
た際は顕著で、版に付着した汚れにより多大な損紙を印
刷するなど、被害は相当大きいものである。

【０００５】又上記の問題は連続処理量が大きくなれば
なるほど、又補充液の量を少なくすればするほどより顕
著であることが判明した。しかも現像液に珪酸塩を含む
アルカリ性現像液を用いた場合にはその弊害は最たるも
のであり、実用に供するには更なる改良が要望されてい
る。

【０００６】一方、近年、作業効率向上が要求されてい
る。製版業界でもその流れを受け従来の人手と時間のか
かる編集作業をコンピューターでソフト的に簡易に行う
べく、安価でコンパクトな赤外半導体レーザーによりデ
ジタル記録可能な製版方法即ちＣＴＰ（コンピューター
・トゥー・プレート）が脚光を浴びている。この技術は
赤外線レーザー光を吸収可能な色素を必須の要件とし、
該色素を画像形成材料の感応層中に含むもので、これに
より上記の赤外半導体レーザー等の露光による画像形成
が可能となる。

【０００７】これらＣＴＰにおいては連続して現像処理
し画像形成する上で上記の問題が顕著に発生する。赤外
線を吸収可能な色素を添加していることに加え、露光部
の感応層に含まれる成分が従来の活性光（紫外線）で露
光された場合と同一ではないことに起因すると推定され
るが、連続処理した場合には現像性が不安定になりスラ
ッジも増す傾向が見られる。又従来の活性光（紫外線）
で露光する場合に比較して充分な感度が得られていない
のも事実である。大容量の連続処理とともに補充液及び
廃液量の低減という条件下でも感度、解像力の良好な画
像が得られることが望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その第１の目的は感度と解像
度の良好なポジ型の画像を形成しながら、現像液のスラ
ッジ防止と現像性能の安定化とを両立したランニング安
定性の向上と、低補充でも連続処理量の増加を可能と
し、又廃液量の低減にも寄与する画像形成方法を提供す
ることであり、第２の目的はＣＴＰに対応できる赤外線
レーザー露光による画像形成でも感度、解像度及び現像
安定性に優れた満足な画像が得られる画像形成方法を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。

【００１０】支持体上に（１）熱又は活性光線の照射に
より酸を発生し得る化合物、（２）酸により分解し得る
結合部を少なくとも１つ有し、かつ酸の作用で分解して
生成するアルコール成分のうち少なくとも１成分がエチ
レングリコール成分又はプロピレングリコール成分を含
むジオール化合物である酸分解性化合物を含有する感応
層を設けた画像形成材料を像様に露光又は加熱した後、
現像液に補充を繰り返しながら連続処理を行うことを特
徴とする画像形成方法。

【００１１】好ましい画像形成方法として、ａ）前記感
応層が水に不溶でかつアルカリ可溶な樹脂成分を含有す
ること、ｂ）前記酸分解性化合物がアセタール類又はシ
リルエーテル類であること、ｃ）前記酸分解性化合物か
ら酸の作用で分解して生成するアルデヒド成分、ケトン
成分又はシリル化合物のそれぞれの水への溶解性が１以
上１００ｇ／Ｌ以下であること、ｄ）前記感応層が４０
０ｎｍ以上に感応する色素を有すること、ｅ）前記色素
が７００以上１２００ｎｍ以下に感応する色素であるこ
と、ｆ）像様に露光を行う手段として波長が７００以上
１２００ｎｍ以下であるレーザー光を用いること、ｇ）
前記現像液が珪酸塩を含むこと、ｈ）現像液への補充量
が画像形成材料１ｍ²当たり５以上１００ｍｌ以下であ
ること、ｉ）現像液への補充量が画像形成材料１ｍ²当
たり５以上５０ｍｌ以下であること、ｊ）現像液への補
充量が画像形成材料１ｍ²当たり５以上２５ｍｌ以下で
あること、が挙げられる。

【００１２】即ち本発明者らは、現像液に補充を繰り返
しながら連続処理を行って画像を形成する際に生じる種
々の問題を鋭意検討した結果、現像液に可溶かつ現像性
に影響を与えない分解物を生じる酸分解性化合物を用い
た画像形成材料に限定し、かつ補充量を低く押さえなが
ら現像処理することによりスラッジ防止と現像性能の安
定化が改善され、現像液のランニング安定性が向上する
ことを見出し、しかも現像液の連続処理量の増加を助長
し、低補充及び廃液量の低減時での効果も抜群であり、
得られる画像も十分に優れた感度と解像度を有する、と
の知見に基づき本発明に至ったものである。

【００１３】そして更にＣＴＰに対応できる赤外線レー
ザー露光による大容量の連続処理による画像形成でも、
感度、解像力の良好な画像が得られ、しかも補充液及び
廃液量の低減という条件下で十分満足できる効果が得ら
れるというものである。

【００１４】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１５】〔１〕感応層組成物 （熱又は活性光線の照射により酸を発生し得る化合物）
熱又は活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（以
下、酸発生剤）としては、各種の公知化合物及び混合物
が挙げられる。例えばジアゾニウム、ホスホニウム、ス
ルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、Ｓｂ
Ｆ₆ ^-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-などの塩、特開平４−４２
１５８号に記載のアルキルオニウム塩、有機ハロゲン化
合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及
び有機金属／有機ハロゲン化合物も熱又は活性光線の照
射の際に酸を形成又は分離する感応層成分であり、本発
明における酸発生剤として使用することができる。原理
的には遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての
有機ハロゲン化合物はハロゲン化水素酸を形成する化合
物であり、本発明における酸発生剤として使用すること
ができる。

【００１６】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては米国特許第３，５１５，５５２号、同第
３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号及
び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記
載されているものが挙げられ、又例えば西ドイツ国特許
公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解により
酸を発生させる化合物も使用することができる。又、特
開昭５０−３６２０９号に記載されているｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニド、特開平７−
１３４４１０号の酸発生剤、具体的には紫外線で酸多量
体を生成するもので例えばオキシスルホニル基、オキシ
カルボニル基を２個有する化合物が挙げられ、又特開平
４−１９６６６号の酸発生剤、具体的にはテトラキス−
１，２，４，５−（ポリハロメチル）ベンゼン、トリス
（ポリハロメチル）ベンゼン等のハロゲン化アリール、
又特開平６−３４２２０９号のシリルエーテル含有高分
子スルホニウム塩、ハロゲン化アルキルが、特開平９−
９６９００号及び特開平６−６７４３３号のオキシムス
ルホネート化合物、特開平４−３３８７５７号のハロゲ
ン化スルホラン誘導体、特開平６−２３６０２４号、特
開平６−２１４３９１号、特開平６−２１４３９２号、
特開平７−２４４３７８号に記載のＮ−ヒドロキシイミ
ド化合物のスルホン酸エステル類、ジアゾ化合物又はジ
アゾ樹脂を用いることができる。

【００１７】本発明に用いられる酸発生剤としては４０
０ｎｍ以上の吸収がないものが好ましい。

【００１８】本発明において、有機ハロゲン化合物が赤
外線露光による画像形成での感度、保存性等の面から酸
発生剤として好ましい。該有機ハロゲン化合物として
は、ハロゲン置換アルキル基を有するトリアジン類及び
ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類が
好ましく、ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−トリア
ジン類が特に好ましい。ハロゲン置換アルキル基を有す
るオキサジアゾール類の具体例としては、特開昭５４−
７４７２８号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５
−７７７４２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６
０−１３８５３９号に記載の２−ハロメチル−１，３，
４−オキサジアゾール系化合物及び特開平４−４６３４
４号に記載のオキサジアゾール系化合物が挙げられる。
２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系酸発
生剤の好ましい化合物例を下記に挙げる。

【００１９】

【化１】

【００２０】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。

【００２１】

【化２】

【００２２】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘ₃はハロゲン原子を表す。

【００２３】一般式（１）で表されるｓ−トリアジン系
酸発生剤の化合物例を次に示す。

【００２４】

【化３】

【００２５】

【化４】

【００２６】

【化５】

【００２７】ｓ−トリアジン系酸発生剤は又特開平４−
４４７３７号、特開平９−９０６３３号、及び特開平４
−２２６４５４号に具体的に記載されているものも使用
できる。

【００２８】本発明において、酸発生剤は、以下の１乃
至３の何れか１つに該当することが好ましい。

【００２９】１．アルカリ可溶性部位を有する、２．ブ
ロモメチルアリールケトン誘導体である、３．トリクロ
ロアセチルアミノ基含有芳香族化合物である。

【００３０】アルカリ可溶性部位を有するものとして
は、例えば以下の乃至から選ばれる組み合わせより
なるエステル、水酸基を２個以上有する化合物とアル
キルスルホン酸、フェノール性水酸基を２個以上有す
る化合物とアルキルスルホン酸、水酸基を２個以上有
するアントラセン誘導体とスルホン酸を挙げることがで
きる。

【００３１】．水酸基を２個以上有する化合物とアル
キルスルホン酸とのエステルからなる酸発生剤として
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリ
セリン、１，２，４−ブタントリオールなどのアルコー
ル性水酸基とアルキルスルホン酸とのエステルが挙げら
れる。このアルキルスルホン酸のアルキル基はＣ_nＨ
_2n+1であり、ｎ＝１〜４の範囲にあるものが効果的であ
る。アルキル基中の水素の一部又は全部をフッ素或いは
塩素等の電気陰性度の大きなハロゲンで置換したものも
有効である。酸発生剤に用いるアルキルスルホン酸エス
テルはアルコール性水酸基を２個以上含む化合物の水酸
基の全てをエステルにする必要はなく、水酸基を残して
も良い。そうすることにより、アルカリ水溶液に対する
溶解性を制御することができる。

【００３２】．フェノール性水酸基を２個以上有する
化合物とアルキルスルホン酸とのエステルからなる酸発
生剤としては、例えばカテコール、レゾルシン、ハイド
ロキノン、ピロガロール、オキシハイドロキノン、フロ
ログルシン、トリヒドロベンゾフェノン、テトラヒドロ
ベンゾフェノン、没食子酸エステルなどのフェノール性
水酸基とアルキルスルホン酸とのエステルが挙げられ
る。アルキルスルホン酸のアルキル基は上記と同様で
ある。酸発生剤に用いるアルキルスルホン酸エステルは
アルコール性水酸基を２個以上含む化合物の水酸基の全
てをエステルにする必要はなく、水酸基を残しても良
い。そうすることにより、アルカリ水溶液に対する溶解
性を制御することができる。

【００３３】．水酸基を２個以上有するアントラセン
誘導体とスルホン酸とのエステルからなる酸発生剤とし
ては、例えばジヒドロキシアントラセン、トリヒドロキ
シアントラセン、テトラヒドロキシアントラセンの水酸
基とスルホン酸とのエステルが挙げられる。スルホン酸
としては、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸が挙げられ
る。アルキルスルホン酸のアルキルは上記と同様であ
る。酸発生剤に用いるスルホン酸エステルは水酸基を２
個以上含む化合物の水酸基の全てをエステルにする必要
はなく、水酸基を残しても良い。そうすることにより、
アルカリ水溶液に対する溶解性を制御することができ
る。

【００３４】ブロモメチルアリールケトン誘導体として
は、ブロモメチルアリールケトン或いはジブロモメチル
アリールケトンが好ましい。例えば、２−ブロモアセチ
ルナフタレン、２−ブロモアセチル−６，７−ジメトキ
シナフタレン、２−ブロモアセチルナフタレン、２−ジ
ブロモアセチル−６，７−ジメトキシナフタレン、１−
ヒドロキシ−４−ブロモ−２−ブロモアセチルナフタレ
ン、１−ヒドロキシ−４−ブロモ−２−ジブロモアセチ
ルナフタレン、２−ヒドロキシ−１−ブロモアセチルナ
フタレン、１，４−ビス（ブロモアセチル）ベンゼン、
４，４′−ビス（ブロモアセチル）ビフェニル、１，
３，５−トリス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，３，
５−トリス（ジブロモアセチル）ベンゼン等が挙げら
れ、これらを単独で或いは２種以上組み合わせて用いる
ことができる。

【００３５】又トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族
化合物としては、以下の構造を有するものが更に好まし
い。

【００３６】

【化６】

【００３７】式中、Ｒ₁〜Ｒ₅は水素、炭素数４以下のア
ルキル基又はアルコキシ基、ハロゲン原子、フェニルア
ミノ基、フェノキシ基、ベンジル基、ベンゾイル基、ア
セチル基、トリクロロアセチルアミノ基を表し、Ｒ₁〜
Ｒ₅は同じであっても、異なっていても良い。具体的に
は、例えば４−フェノキシトリクロロアセトアニリド、
４−メトキシトリクロロアセトアニリド、２，３−ジメ
トキシトリクロロアセトアニリド、４−メトキシ−２−
クロロトリクロロアセトアニリド、３−アセチルトリク
ロロアセトアニリド、４−フェニルトリクロロアセトア
ニリド、２，３，４−トリフルオロトリクロロアセトア
ニリド、２，４，５−トリメチルトリクロロアセトアニ
リド、２，４，６−トリブロモトリクロロアセトアニリ
ド、２，４，６−トリメチルトリクロロアセトアニリ
ド、２，４−ジクロロトリクロロアセトアニリド、２，
４，−ジメトキシトリクロロアセトアニリド、２，５−
ジクロロトリクロロアセトアニリド、２，５−ジメトキ
シトリクロロアセトアニリド、２，６−ジメチルトリク
ロロアセトアニリド、２−エチルトリクロロアセトアニ
リド、２−フルオロトリクロロアセトアニリド、２−メ
チルトリクロロアセトアニリド、２−メチル−６−エチ
ルトリクロロアセトアニリド、２−フェノキシアセトア
ニリド、２−プロピルトリクロロアセトアニリド、３，
４−ジクロロトリクロロアセトアニリド、３，４−ジメ
トキシトリクロロアセトアニリド、３，４−ジメチルト
リクロロアセトアニリド、４−ブチルアセトアニリド、
４−エチルアセトアニリド、４−フルオロアセトアニリ
ド、４−ヨードアセトアニリド、４−プロピルアセトア
ニリド、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアセトア
ニリド、４−プロポキシアセトアニリド、４−アセチル
アセトアニリド等を挙げることができ、特にこれらは熱
安定性が高く、好適な酸発生剤となりうる。

【００３８】本発明において酸発生剤は１種単独でも或
いは複数併用可能であり、その含有量は、その化学的性
質及び感応層組成物或いはその物性によって広範囲に変
えることができるが、感応層組成物の乾燥状態又は画像
形成材料とした際の感応層の固形分の全重量に対して約
０．１〜約２０重量％の範囲が適当であり、好ましくは
０．２〜１０重量％の範囲である。

【００３９】（酸分解性化合物）本発明の酸分解性化合
物としては、具体的には、酸の作用で分解した後、少な
くとも１成分がエチレングリコール成分又はプロピレン
グリコール成分を含むジオール化合物を生成する化合物
である。このようなジオール化合物の例としては、一般
式 −（ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ）_n−又は−（ＣＨ₂−ＣＨ
（ＣＨ₃）−Ｏ）_m−で示される成分を含むものが好まし
い。ここでｎ又はｍは１〜５の範囲が好ましい。

【００４０】又−（ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ）_n−（ＣＨ₂−Ｃ
Ｈ（ＣＨ₃）−Ｏ）_m−で示される共重合成分を含むもの
も好ましい。これらジオール化合物の例としては、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレング
リコール、テトラプロピレングリコール、ペンタプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチ
レングリコール−プロピレングリコール共重合体が挙げ
られる。赤外吸収色素を感応層に含有し、赤外線を用い
て画像形成を行う場合においては、感度及び現像安定性
からエチレングリコール及びジエチレングリコールが特
に好ましい。

【００４１】本発明の酸分解性化合物としては、酸の作
用で分解し上記のようなジオール化合物が生成するもの
であれば使用できるが、赤外吸収色素を感応層に含有
し、赤外線を用いて画像形成を行う方法においては感度
と現像安定性の点で、アセタール類又はシリルエーテル
類が特に好ましく、特に一般式（２）で示される重縮合
化合物が挙げられる。

【００４２】

【化７】

【００４３】ここで、ｎは１以上の整数、ｍは０を含む
整数を示す。Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｒ₄
はエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基を示し、エ
チレングリコール成分又はプロピレングリコール成分を
含むジオール化合物に対応する。Ｒ₂、Ｒ₅は水素原子、
アルキル基又はアリール基を、Ｒ₃、Ｒ₆はアルキル基、
アリール基を示し、Ｒ₂とＲ₃又はＲ₅とＲ₆はそれぞれ結
合して置換又は無置換の環を形成してもよい。Ｒ₇はア
ルキレン基を示す。Ｒ₁は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アルキレンオキシ基、ハロゲン
原子を、Ｒ₈は水素原子又は−ＸＲ₂Ｒ₃Ｒ₁又は−ＸＲ₅
Ｒ₆Ｒ₁を示す。

【００４４】アセタール類はアルデヒド、ケトン類のジ
メチルアセタール又はジエチルアセタールと、前記のジ
オール化合物との縮合により合成するのが収率の点で好
ましい。このようなアルデヒド類としては、アセトアル
デヒド、クロラル、エトキシアセトアルデヒド、ベンジ
ルオキシアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、ジフェニルアセトアルデヒド、フェノキシアセトア
ルデヒド、プロピオンアルデヒド、２−フェニル及び３
−フェニルアルデヒド、イソブトキシビバリンアルデヒ
ド、ベンジルオキシビバリンアルデヒド、３−エトキシ
プロパナール、３−シアノ−プロパナール、ｎ−ブタナ
ール、イソブタナール、３−クロル−ブタナール、３−
メトキシ−ブタナール、２，２−ジメチル−４−シアノ
−ブタナール、２−及び３−エチルブタナール、ｎ−ペ
ンタナール、２−及び３−メチル−ペンタナール、２−
ブロム−３−メチル−ペンタナール、ｎ−ヘキサナー
ル、シクロペンタンカルバアルデヒド、ｎ−ヘプタナー
ル、シクロヘキサンカルバルデヒド、１，２，３，６−
テトラヒドロ−ベンズアルデヒド、３−エチルペンタナ
ール、３−及び４−メチル−ヘキサナール、ｎ−オクタ
ナール、２−及び４−エチル−ヘキサナール、３，５，
５−トリメチルヘキサナール、４−メチルヘプタナー
ル、３−エチル−ｎ−ヘプタナール、デカナール、ドデ
カナール、クロトンアルデヒド、ベンズアルデヒド、２
−，３−及び４−ブロモベンズアルデヒド、２，４−及
び３，４−クロル−ベンズアルデヒド、４−メトキシ−
ベンズアルデヒド、２，３−及び２，４−ジメトキシ−
ベンズアルデヒド、２−，３−及び４−フルオロ−ベン
ズアルデヒド、２，３−及び４−メチルベンズアルデヒ
ド、４−イソプロピル−ベンズアルデヒド、３−及び４
−テトラフルオロエトキシ−ベンズアルデヒド、１−及
び２−ナフトアルデヒド、フルフラール、チオフェン−
２−アルデヒド、テレフタルアルデヒド、ピペロナー
ル、２−ピリジンカルバルデヒド、ｐ−ヒドロキシ−ベ
ンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシ−ベンズアルデ
ヒド、５−メチル−フルアルデヒド、バニリン等が挙げ
られる。又ケトン類としてはフェニルアセトン、１，３
−ジフェニルアセトン、２，２−ジフェニルアセトン、
クロル−及びブロモ−アセトン、ベンジルアセトン、メ
チルエチルケトン、ベンジル−プロピルケトン、エチル
ベンジルケトン、ベンジルメチルケトン、イソブチルケ
トン、５−メチル−ヘキサン−２−オン、２−メチル−
ペンタン−２−オン、２−メチル−ペンタン−３−オ
ン、ヘキサン−２−オン、ペンタン−３−オン、２−メ
チル−ブタン−３−オン、２，２−ジメチル−ブタン−
３−オン、５−メチル−ヘプタン−３−オン、オクタン
−２−オン、オクタン−３−オン、オクタン−３−オ
ン、ノナン−２−オン、ノナン−３−オン、ノナン−５
−オン、ヘプタン−２−オン、ヘプタン−３−オン、ヘ
プタン−４−オン、ウンデカン−２−オン、ウンデカン
−４−オン、ウンデカン−５−オン、ウンデカン−６−
オン、ドデカン−２−オン、ドデカン−３−オン、トリ
デカン−２−オン、トリデカン−３−オン、トリデカン
−７−オン、ジノニルケトン、ジオクチルケトン、２−
メチル−オクタン−３−オン、シクロプロピルメチルケ
トン、デカン−２−オン、デカン−３−オン、デカン−
４−オン、メチル−α−ナフチル−ケトン、ジデシルケ
トン、ジヘプチルケトン、ジヘキシルケトン、アセトフ
ェノン、４−メトキシ−アセトフェノン、４−クロル−
アセトフェノン、２，４−ジメチル−アセトフェノン、
２−，３−及び４−フルオロアセトフェノン、２−，３
−及び４−メチルアセトフェノン、２−，３−及び４−
メトキシアセトフェノン、プロピオフェノン、４−メト
キシ−プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロフェ
ノン、ベンゾフェノン、３，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，５−ジメトキシベンゾフェノン、３，４−
ジメトキシベンゾフェノン、３，４−ジメチルベンゾフ
ェノン、シクロヘキサノン、２−フェニル−シクロヘキ
サノン、２−，３−及び４−メチル−シクロヘキサノ
ン、４−ｔ−ブチル−シクロヘキサノン、２，６−ジメ
チルシクロヘキサノン、２−クロルシクロヘキサノン、
シクロペンタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノ
ン、シクロノナノン、２−シクロヘキセン−１オン、シ
クロヘキシルプロパノン、フラバノン、シクロヘキサン
−１，４−ジオン、シクロヘキサン−１，３−ジオント
ロポン、イソホロン等が挙げられる。

【００４５】特に好ましいのは２５℃における水への溶
解性が１以上１００ｇ／Ｌ以下であるアルデヒド又はケ
トン成分である。１ｇ／Ｌ未満では連続処理でスラッジ
が発生しやすく、又１００ｇ／Ｌより大きいと形成され
た画像の解像力が低下する傾向がある。具体例として
は、ベンズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２−ピリ
ジンカルバルデヒド、ピペロナール、フタルアルデヒ
ド、テレフタルアルデヒド、５−メチル−２−フタルア
ルデヒド、フェノキシアセトアルデヒド、フェニルアセ
トアルデヒド、シクロヘキサンカルバルデヒド、バニリ
ン、シクロヘキサノン、シクロヘキセン−１オン、イソ
ブチルアルデヒド、ペンタナール等が挙げられる。これ
らの中で連続処理に際し、シクロヘキサノンが最も安定
であり好ましい。

【００４６】シリルエーテル類はシリル化合物と前記の
ジオール化合物との縮合により合成される。本発明にお
ては、シリルエーテル類は、酸の作用で分解して生成す
るシリル化合物の２５℃における水への溶解性が１以上
１００ｇ／Ｌ以下であるものが好ましい。

【００４７】シリル化合物の具体例としてはジクロロジ
メチルシラン、ジクロロジエチルシラン、メチルフェニ
ルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチル
ベンジルジクロロシラン等が挙げられる。

【００４８】上記アセタール類、シリルエーテル類とも
前記のジオール化合物以外に他のアルコール成分を共縮
合させてもよい。このアルコール成分の具体例としては
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、
シクロヘキサノール、ベンジルアルコールなどの置換又
は無置換のモノアルキルアルコール類、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノフェニルエーテルなどのグリコールエーテル系
アルコール類、置換又は無置換のポリエチレングリコー
ルアルキルエーテル類やポリエチレングリコールフェニ
ルエーテル類が挙げられる。又、２価アルコールとし
て、例えば、ペンタン−１，５−ジオール、ｎ−ヘキサ
ン−１，６−ジオール、２−エチルヘキサン−１，６−
ジオール、２，３−ジメチル−ヘキサン−１，６−ジオ
ール、ヘプタン−１，７−ジオール、シクロヘキサン−
１，４−ジオール、ノナン−１，７−ジオール、ノナン
−１，９−ジオール、３，６−ジメチル−ノナン−１，
９−ジオール、デカン−１，１０−ジオール、ドデカン
−１，１２−ジオール、１，４−ビス−（ヒドロキシメ
チル）−シクロヘキサン、２−エチル−１，４−ビス−
（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジエタノール、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジプロパノール、チオ−ジプ
ロピレングリコール、３−メチルペンタン−１，５−ジ
オール、ジブチレン−グリコール、４，８−ビス−（ヒ
ドロキシメチル）−トリシクロデカン、２−ブテン−
１，４−ジオール、ｐ−キシリレングリコール、２，５
−ジメチル−ヘキサン−３−イン−２，５−ジオール、
ビス−（２−ヒドロキシエチル）−スルファイド、２，
２，４，４，−テトラメチルシクロブタン−１，３−ジ
オール等が挙げられる。この態様の場合、エチレングリ
コール成分又はプロピレングリコール成分を含むジオー
ル化合物と他のアルコール成分とのモル比は７０／３０
〜１００／０が好ましく、８５／１５〜１００／０がよ
り好ましい。

【００４９】酸分解性化合物の好ましい分子量範囲は、
ケルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）
のポリスチレン換算により測定された重量平均分子量Ｍ
ｗが５００〜１００００、好ましくは１０００〜３００
０である。

【００５０】酸分解性化合物としては、特開昭６２−２
２２２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化
合物、特開昭６２−２５１７４３号に記載されている炭
酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号に記載されて
いるオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２８０８４
２号に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭６
２−２４４０３８号に記載されているＣ−Ｓ結合を有す
る化合物、同６３−２３１４４２号の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）
−結合を有する化合物などを併せて用いることができ
る。

【００５１】本発明に用いられる酸分解性化合物の合成
例を下記に示す。

【００５２】（酸分解性化合物Ａ−１の合成）１，１−
ジメトキシシクロヘキサン１．０モル、エチレングリコ
ール１．０モル及びｐ−トルエンスルホン酸水和物０．
００３モル、トルエン５００ｍｌを攪拌しながら１００
℃で１時間反応させ、その後１５０℃まで徐々に温度を
上げ、更に１５０℃で４時間反応させた。反応により生
成するメタノールはこの間に留去した。冷却後、反応生
成物を水で充分に洗浄し、１％のＮａＯＨ水溶液、１Ｎ
のＮａＯＨ水溶液で順次洗浄した。更に食塩水で洗浄し
無水炭酸カリウムで脱水した後、減圧下濃縮した。真空
下で８０℃に加熱しながら１０時間乾燥させワックス状
の化合物を得た。ＧＰＣにより測定したポリスチレン換
算の重量平均分子量Ｍｗは約１２００であった。

【００５３】（酸分解性化合物Ａ−２の合成）エチレン
グリコールに替えて、ジエチレングリコール１．０モル
を用い、酸分解性化合物Ａ−１と同様に合成を行い、ワ
ックス状の生成物を得た。Ｍｗは約２０００であった。

【００５４】（酸分解性化合物Ａ−３の合成）エチレン
グリコールに替えて、トリエチレングリコール１．０モ
ルを用い、酸分解性化合物Ａ−１と同様に合成を行い、
ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約１５００であっ
た。

【００５５】（酸分解性化合物Ａ−４の合成）エチレン
グリコールに替えて、テトラエチレングリコール１．０
モルを用い、酸分解性化合物Ａ−１と同様に合成を行
い、ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約１５００であ
った。

【００５６】（酸分解性化合物Ａ−５の合成）エチレン
グリコールに替えて、ジプロピレングリコール１．０モ
ルを用い、酸分解性化合物Ａ−１と同様に合成を行い、
ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約２０００であっ
た。

【００５７】（酸分解性化合物Ａ−６の合成）１，１−
ジメトキシシクロヘキサン１．０モルに替えてベンズア
ルデヒドジメチルアセタール１．０モルを用いた以外は
酸分解性化合物Ａ−２と同様に合成を行い、ワックス状
の生成物を得た。Ｍｗは約２０００であった。

【００５８】（酸分解性化合物Ａ−７の合成）１，１−
ジメトキシシクロヘキサン１．０モルに替えてフルアル
デヒドジメチルアセタール１．０モルを用いた以外は酸
分解性化合物Ａ−２と同様に合成を行い、ワックス状の
生成物を得た。Ｍｗは約２０００であった。

【００５９】（酸分解性化合物Ａ−８の合成）１，１−
ジメトキシシクロヘキサン１．０モルに替えて１，１−
ジメトキシシクロペンタン１．０モルを用いた以外は酸
分解性化合物Ａ−２と同様に合成を行い、ワックス状の
生成物を得た。Ｍｗは約１８００であった。

【００６０】（酸分解性化合物Ａ−９の合成）１，１−
ジメトキシシクロヘキサン１．０モルに替えてメチルエ
チルケトンのジメチルケタール１．０モルを用いた以外
は酸分解性化合物Ａ−２と同様に合成を行い、粘状油性
生成物を得た。Ｍｗは約１２００であった。

【００６１】（酸分解性化合物Ａ−１０の合成）エチレ
ングリコールに替えて、ジエチレングリコール０．６モ
ル及びｐ−キシリレングリコール０．４モルを用いた以
外は酸分解性化合物Ａ−１と同様に合成を行い、ワック
ス状の生成物を得た。Ｍｗは約２０００であった。

【００６２】（酸分解性化合物Ａ−１１の合成）ジエチ
レングリコールを０．７５モル及びｐ−キシリレングリ
コールを０．２５モルに変更した以外は酸分解性化合物
Ａ−１０と同様に合成を行い、ワックス状の生成物を得
た。Ｍｗは約２０００であった。

【００６３】（酸分解性化合物Ａ−１２の合成）ジエチ
レングリコールを０．９モル及びｐ−キシリレングリコ
ールを０．１モルに変更した以外は酸分解性化合物Ａ−
１０と同様に合成を行い、ワックス状の生成物を得た。
Ｍｗは約２０００であった。

【００６４】（酸分解性化合物Ａ−１３の合成 比較
用）エチレングリコール１．０モルに替えて、ｐ−キシ
リレングリコール１．０モルに変更した以外は酸分解性
化合物Ａ−１と同様に合成を行い、ワックス状の生成物
を得た。Ｍｗは約１５００であった。

【００６５】（酸分解性化合物Ａ−１４の合成 比較
用）エチレングリコールに替えて、デカン−１，１０−
ジオール１．０モルに変更した以外は酸分解性化合物Ａ
−１と同様に合成を行い、ワックス状の生成物を得た。
Ｍｗは約１５００であった。

【００６６】（酸分解性化合物Ａ−１５の合成 比較
用）エチレングリコールに替えてエチレングリコールモ
ノフェニルエーテル１．０モルに、１，１−ジメトキシ
シクロヘキサンをベンズアルデヒドジメチルアセタール
０．５モルに変更した以外は酸分解性化合物Ａ−１と同
様に合成を行い、固形状の生成物を得た。

【００６７】（酸分解性化合物Ｓ−１）テトラエチレン
グリコール１．０モル、ピリジン２．２モル、脱水蒸留
したトルエン８００ｍｌの混合物に、ジクロロジメチル
シラン１．０モルのトルエン２００ｍｌ溶液を攪拌氷冷
下、滴下した。５０℃にて８時間攪拌した後、生成した
ピリジンの塩酸塩をろ別し、トルエン溶液を減圧下濃縮
した。その後、真空下で８０℃に加熱しながら、１０時
間乾燥させ、粘調油性生成物を得た。Ｍｗは約１５００
であった。

【００６８】（酸分解性化合物Ｓ−２）テトラエチレン
グリコール１．０モルに替えて、テトラエチレングリコ
ール０．６モル及びｐ−キシリレングリコール０．４モ
ルを用いた以外は酸分解性化合物Ｓ−１と同様に合成を
行い、ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約１７００で
あった。

【００６９】（酸分解性化合物Ｓ−３）テトラエチレン
グリコール１．０モルに替えて、テトラエチレングリコ
ール０．７５モル及びｐ−キシリレングリコール０．２
５モルを用いた以外は酸分解性化合物Ｓ−１と同様に合
成を行い、ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約１８０
０であった。

【００７０】（酸分解性化合物Ｓ−４ 比較用）テトラ
エチレングリコール１．０モルに替えて、ｐ−キシリレ
ングリコール１．０をモルを用いた以外は酸分解性化合
物Ｓ−１と同様に合成を行い、粘調油性の生成物を得
た。Ｍｗは約１９００であった。

【００７１】（酸分解性化合物Ｓ−５ 比較用）テトラ
エチレングリコール１．０モルに替えて、デカン−１，
１０−ジオール１．０をモルを用いた以外は酸分解性化
合物Ｓ−１と同様に合成を行い、粘調油性の生成物を得
た。Ｍｗは約２０００であった。

【００７２】（酸分解性化合物Ｓ−６）テトラエチレン
グリコール１．０モルをジエチレングリコール１．０モ
ルに変更した以外は酸分解性化合物Ｓ−１と同様に合成
を行い、ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約２０００
であった。

【００７３】（酸分解性化合物Ｓ−７）ジクロロジメチ
ルシラン１．０モルをジクロロジフェニルシラン１．０
モルに変更した以外は、酸分解性化合物Ｓ−６と同様に
合成を行い、ワックス状の生成物を得た。Ｍｗは約１２
００であった。

【００７４】（色素）感応層に用いられる色素として
は、４００ｎｍ以上に最大吸収を有するものが好まし
く、更に７００以上２０００ｎｍ以下、例えば波長７０
０ｎｍ以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラッ
ク、磁性粉等を使用することが好ましい。

【００７５】特に好ましい赤外吸収色素は７００以上１
２００ｎｍ以下に最大吸収を有し、ピークでのモル吸光
係数εが１０⁵以上の色素である。

【００７６】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。上記赤外吸収色素として
は、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７
号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０
号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−
２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１
号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−
３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−１０３４７
６号等に記載の化合物が挙げられる。

【００７７】本発明において、赤外吸収剤として、下記
一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素が特
に好ましい。

【００７８】

【化８】

【００７９】式中、Ｚ₁及びＺ₂は各々硫黄原子、セレン
原子又は酸素原子を表し、Ｘ₁及びＸ₂は各々置換基を有
していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ₃及びＲ₄は各々置
換基を表し、Ｒ₃及びＲ₄のどちらか一方はアニオン性解
離性基を有する。Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は各々炭素原子
数１〜３のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Ｌは炭素原子数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。

【００８０】一般式（３）又は（４）で表されるシアニ
ン系色素は、カチオンを形成し、対アニオンを有するも
のを包含する。この場合、対アニオンとしては、Ｃ
ｌ^-、Ｂｒ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ｔ−ブチルトリフェニ
ルホウ素等のアルキルホウ素等が挙げられる。

【００８１】一般式（３）又は（４）において、Ｌで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹ
ＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好まし
い。又、この共役結合部分は任意の置換基を有すること
ができ、又共役結合部分は複数の置換基により環を形成
させてもよい。又、Ｘ₁で表される環及びＸ₂で表される
環には任意の置換基を有することができる。該置換基と
してハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭
素原子数１〜５のアルコキシ基、−ＳＯ₃Ｍ及び−ＣＯ
ＯＭ（Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子）から選ばれ
る基が好ましい。Ｒ₃及びＲ₄は各々任意の置換基である
が、好ましくは炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは
炭素原子数１〜５のアルコキシ基；−（（ＣＨ₂）_n−Ｏ
−）k−（ＣＨ₂）_mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整
数、ｋは０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基
を表す。）；Ｒ₃及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃Ｍで他方
が−Ｒ−ＳＯ₃ ^-（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、
Ｍはアルカリ金属原子を表す）；又はＲ₃及びＲ₄の一方
が−Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ^-（Ｒは炭素原
子数１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表
す。）である。Ｒ₃及びＲ₄は、感度及び現像性の点か
ら、Ｒ₃及びＲ₄の一方が上記−Ｒ−ＳＯ₃ ^-又は−Ｒ−Ｃ
ＯＯ^-、他方が上記−Ｒ−ＳＯ₃Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭで
あることが好ましい。

【００８２】赤外吸収色素は、画像露光の光源として半
導体レーザーを使用する場合は７５０〜９００ｎｍ、Ｙ
ＡＧレーザーを使用する場合は９００〜１２００ｎｍに
おいて吸収ピークを示し、ε＞１×１０⁵のモル吸光係
数を有するものが好ましい。

【００８３】又両系統に属する色素をそれぞれ１種以上
併用してもよい。

【００８４】本発明に好ましく用いられる赤外吸収剤の
代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるも
のではない。

【００８５】

【化９】

【００８６】

【化１０】

【００８７】

【化１１】

【００８８】

【化１２】

【００８９】

【化１３】

【００９０】

【化１４】

【００９１】

【化１５】

【００９２】

【化１６】

【００９３】

【化１７】

【００９４】

【化１８】

【００９５】

【化１９】

【００９６】

【化２０】

【００９７】

【化２１】

【００９８】

【化２２】

【００９９】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。

【０１００】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０、三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０
３（フタロシアニン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４
（アントラキノン系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，
ＰＡ１００６，ＳＩＲ１２８（金属錯体系）、大日本イ
ンキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２０、みど
り化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１等。その
他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等の各
社からも市販されている。

【０１０１】本発明において、赤外吸収剤の添加量は、
０．５〜１０重量％の範囲が好ましい。該添加量が１０
重量％を越えると非画像部（露光部）の現像性が低下
し、０．５重量％未満では感度が低下する。

【０１０２】本発明の感応層組成物は、顔料を有するこ
とにより、平版印刷版として用いた際の耐刷性を顕著に
改善し得る。顔料としては、公知の有機及び無機の顔料
が挙げられるが、これらは朝倉書店の「色材工学ハンド
ブック」や誠文堂新光社の「顔料便覧」に記載の顔料が
特に制限なく使用できる。又、現像後の可視画性を得る
には該顔料が有色であることが好ましく、高濃度が得ら
れることが更に好ましい。その点では、該顔料がフタロ
シアニン又はカーボンブラックから選ばれるのが耐刷性
の向上のみならず、現像後の可視画性を得るのに好適で
ある。

【０１０３】（色素２）ここでいう色素は露光による可
視画像（露光可視画像）と現像後の可視画像を得ること
を目的として使用される。

【０１０４】該色素としては、フリーラジカル又は酸と
反応して色調が変化するものが好ましく使用できる。
「色調が変化する」とは、無色から有色の色調への変
化、有色から無色或いは異なる有色の色調への変化の何
れをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色調
を変化するものである。例えば、ビクトリアピュアブル
ーＢＯＨ（保土谷化学社製）、オイルブルー＃６０３
（オリエント化学工業社製）、パテントピュアブルー
（住友三国化学社製）、クリスタルバイオレット、ブリ
リアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバイオ
レット、メチルグリーン、エリスロシンＢ、ペイシック
フクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、ｍ−ク
レゾールパープル、ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ
−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、シアノ
−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代表
されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オ
キサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、ア
ゾメチン系又はアントラキノン系の色素が有色から無色
或いは異なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙
げられる。

【０１０５】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び例えば、トリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、１，２，３−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、１，２−ジアニリノエチレン、ｐ，ｐ′，
ｐ″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、ｐ，ｐ′，ｐ″−トリアミノ−ｏ−メチルトリフェ
ニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−４−アニリノナフチルメタン、ｐ，ｐ′，ｐ″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第１級又は第
２級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色剤
の感応層組成物中に占める割合は、０．０１以上１０重
量％以下であることが好ましく、更に好ましくは０．０
２以上５重量％以下である。これらの化合物は、単独或
いは２種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色
素はビクトリアピュアブルーＢＯＨ、オイルブルー＃６
０３である。

【０１０６】（バインダー）感応層には、水に不溶でア
ルカリ水溶液に可溶な樹脂が含有されることが好まし
い。このような樹脂としては、例えばノボラック樹脂や
ヒドロキシスチレン単位を有する重合体、アクリル酸エ
ステルモノマー成分を含む重合体を挙げることができ
る。

【０１０７】該ノボラック樹脂としては、例えばフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号に記載されてい
るようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共
重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号に記載され
ているような、ｐ−置換フェノールとフェノールもしく
は、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂
等が挙げられる。

【０１０８】該ヒドロキシスチレン単位を有する重合体
としては、例えば特公昭５２−４１０５０号に記載され
ているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン共
重合体などを挙げることができる。

【０１０９】アクリル酸エステルモノマー成分を含む重
合体としては、置換又は無置換のアルキルアクリレー
ト、置換又は無置換のアルキルメタクリレートのモノマ
ー成分を含む共重合体が上げられる。このようなモノマ
ー成分として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−２−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、
メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル
酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オク
チル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシル、メタク
リル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シ
クロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート等が挙げげられる。

【０１１０】好ましくは下記に記載するモノマーの混合
物を共重合して得られた共重合高分子重量体である。

【０１１１】１）芳香族水酸基を有するモノマー、例え
ば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍーヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。

【０１１２】２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例え
ば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎーメチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−
ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキ
シルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ア
クリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリ
ルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。

【０１１３】３）アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）アクリルアミド等。

【０１１４】４）スルホンアミド基を有するモノマー、
例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミ
ド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド
等。

【０１１５】５）α，β−不飽和カルボン酸類、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。

【０１１６】６）アクリルアミド若しくはメタクリルア
ミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニル
アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−
ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒド
ロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキ
シフェニル）メタクリルアミド等。

【０１１７】７）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキ
シエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。

【０１１８】８）ビニルエーテル類、例えば、エチルビ
ニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。

【０１１９】９）ビニルエステル類、例えば、ビニルア
セテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。

【０１２０】１０）スチレン類、例えば、スチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等。

【０１２１】１１）ビニルケトン類、例えば、メチルビ
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。

【０１２２】１２）オレフィン類、例えば、エチレン、
プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。

【０１２３】１３）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、４−ビニルピリジン等。

【０１２４】１４）シアノ基を有するモノマー、例えば
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテン
ニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シア
ノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シア
ノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。

【０１２５】１５）アミノ基を有するモノマー、例えば
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタ
ンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアク
リルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリ
ロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。

【０１２６】上記共重合高分子重量体は、ＧＰＣによっ
て、測定された重量平均分子量が１万〜２０万であるも
のが好ましいが、重量平均分子量はこの範囲に限定され
るものではない。

【０１２７】以上の樹脂に併用できるバインダー樹脂と
しては、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリサルフォン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは前述のエチレン性不飽和結合を有する
化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適
に用いることができる。

【０１２８】感応層におけるこれらアルカリ可溶性樹脂
の含有量は、２０以上９０重量％以下の範囲が好まし
く、３０以上７０重量％以下の範囲が更に好ましい。

【０１２９】ノボラック樹脂と、ヒドロキシスチレン単
位を有する重合体又はアクリル酸エステルモノマー成分
を含む重合体を併用することが好ましく、混合比は３０
／７０〜９５／５の範囲が好ましい。

【０１３０】更に、感応層には、該組成物の感脂性を向
上するために親油性の樹脂を添加することができる。前
記親油性の樹脂としては、例えば特開昭５０−１２５８
０６号に記載されているような、炭素数３〜１５のアル
キル基で置換されたフェノール類とアルデヒドの縮合
物、例えばｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
などが使用可能である。

【０１３１】感応層には、ニトロセルロース、メタル粉
などの自己酸化性化合物、紫外線吸収剤などを添加する
のも好ましい。

【０１３２】〔２〕画像形成材料の作製方法 本発明に用いられる画像形成材料は、前記各成分を溶解
する下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の
表面に塗布、乾燥して感応層を設けて得られる。

【０１３３】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルアセトアミド等が挙げられる。これら溶媒
は、単独で或いは２種以上混合して使用することができ
る。

【０１３４】保存安定性向上、露光後の経時小点再現性
低下の抑制には塗布液のｐＨを調整し、３．５以上８．
０以下、より好ましくは４．０以上６．５以下とする。
３．５以下では上記の効果が望めず、又８．０以上では
感度低下が著しい。

【０１３５】このようなｐＨ調整剤として、塩基性化合
物を添加するのが好ましい。塩基性化合物は、プロトン
を補足可能なものであり、具体的には無機又は有機のア
ンモニウム塩類、有機アミン類、アミド類、尿素やチオ
尿素及びその誘導体、チアゾール類、ピロール類、ピリ
ミジン類、ピペラジン類、グアニジン類、インドール
類、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアゾール
類、モルホリン類、ピペリジン類、アミジン類、フォル
ムアジン類、ピリジン類、シッフ塩基、弱酸とナトリウ
ム又はカリウムとの塩、特開平８−１２３０３０号記載
の塩基性窒素含有樹脂、特開平９−５４４３７号記載の
有機塩基性化合物、特開平８−２１１５９８号記載のチ
オスルホネート化合物、特開平７−２１９２１７号記載
の加熱中性化塩基性化合物（スルホニルヒドラジド化合
物等）が挙げられる。尚、加熱中性化塩基性化合物を使
用する場合は露光後現像処理する前に加熱することで感
度が大幅に向上する。以下に具体例を挙げる。

【０１３６】アミン化合物としては酢酸アンモニウム、
メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−
プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−
プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｓｅｃ−ブチル
アミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリ
ベンジルアミン、オクタデシルベンジルアミン、ステア
リルアミン、α−フェニルエチルアミン、β−フェニル
エチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、水酸化テトラメチルア
ンモニウム、アニリン、メチルアニリン、ジメチルアニ
リン、ジフェニルアニリン、トリフェニルアニリン、ｏ
−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、ｏ−
アニシジン、ｍ−アニシジン、ｐ−アニシジン、ｏ−ク
ロルアニリン、ｍ−クロルアニリン、ｐ−クロルアニリ
ン、ｏ−ブロムアニリン、ｍ−ブロムアニリン、ｐ−ブ
ロムアニリン、ｏ−ニトロアニリン、ｍ−ニトロアニリ
ン、ｐ−ニトロアニリン、２，４−ジニトロアニリン、
２，４，６−トリニトロアニリン、ｏ−フェニレンジア
ミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミ
ン、ベンジジン、ｐ−アミノ安息香酸、スルファニル
酸、スルファニルアミド、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、ピペリジン、ピペラジン、２−ベンジルイ
ミダゾール、４−フェニルイミダゾール、２−フェニル
−４−メチル−イミダゾール、２−ウンデシル−イミダ
ゾリン、２，４，５−トリフリル−２−イミダゾリン、
１，２−ジフェニル−４，４−ジメチル−２−イミダゾ
リン、２−フェニル−２−イミダゾリン、１，２，３−
トリフェニルグアニジン、１，２−ジトリルグアニジ
ン、１，２−ジシクロヘキシルグアニジン、１，２，３
−トリシクロヘキシルグアニジン、グアニジントリクロ
ロ酢酸塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルピペラジン、４，４′
−ジチオモルホリン、モルホリニウムトリクロロ酢酸、
２−アミノ−ベンゾチアゾール、２−ベンゾイルヒドラ
ジノ−ベンゾトアゾール、アリル尿素、チオ尿素、メチ
ルチオ尿素、アリルチオ尿素、エチレンチオ尿素等が挙
げられる。

【０１３７】シッフ塩基の具体的化合物は、以下の一般
式（５）

【０１３８】

【化２３】

【０１３９】（但し、Ｒ₁、Ｒ₂は炭化水素基（例えばメ
チル基、イソプロピル基、オクチル基、ヘプタデシル基
等のアルキル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等
のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリー
ル基など）、Ｒ₃は水素原子又は炭化水素基（Ｒ₁、Ｒ₂
で挙げたのと同様の基）を表す。）で表される構造を分
子中に少なくとも１つ有する化合物を挙げることができ
る。

【０１４０】上記構造を有する化合物は、アルデヒド又
はケトンとアミンの縮合により合成することができる。

【０１４１】具体的には、多価のアミン類と１価のアル
デヒド類又は１価のケトン類、１価のアミン類と多価の
アルデヒド類又は多価のケトン類との縮合反応及び、２
価のアミン類と２価のアルデヒド類又は２価のケトン類
との縮重合反応等により合成することができる。

【０１４２】１価のアミン類の例としては、メチルアミ
ン、プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−アミルア
ミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−
ナノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ドデシルアミ
ン、ｎ−トリデシルアミン、１−テトラデシルアミン、
ｎ−ペンタデシルアミン、１−ヘキサデシルアミン、ｎ
−ヘプタデシルアミン、１−メチルブチルアミン、オク
タデシルアミン、イソプロピルアミン、ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−アミルア
ミン、イソアミルアミン、１，３−ジメチルブチルアミ
ン、３，３−ジメチルブチルアミン、ｔｅｒｔ−オクチ
ルアミン、１，２−ジメチルブチルアミン、４−メチル
ペンチルアミン、１，２，２−トリメチルプロピルアミ
ン、１，３−ジメチルペンチルアミン、シクロブチルア
ミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキサンメチルア
ミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、ｏ−トルイジ
ン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、ｍ−エチルアニ
リン、ｐ−エチルアニリン、ｐ−ブチルアニリン等が挙
げられる。２価のアミン類の例としては、メチンジアミ
ン、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、
１，２−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノ−２−メ
チルプロパン、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジ
アミン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペ
ンタン、１，４−ヘキサンジアミン、１，７−ジアミノ
へプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミ
ノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジア
ミノウンデカン、１，１２−ジアミノドデカン、４，
４′−メチレンビスシクロヘキサンアミン、１，２−ジ
アミノシクロヘキサン、１，３−シクロヘキサンビスメ
チルアミン、ベンジジン、４−アミノフェニルエーテ
ル、ｏ−トリジン、３，３′−ジメトキシベンジジン、
ｏ−フェニレンジアミン、４−メトキシ−ｏ−フェニレ
ンジアミン、２，６−ジアミノトルエン、ｍ−フェニレ
ンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，３−ジアミ
ノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン、１，８−
ジアミノナフタレン等が挙げられる。又、１価のアルデ
ヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、２−メチルブチルアルデヒド、２−
エチルブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレ
ルアルデヒド、ヘキサナル、２−エチルヘキサナル、
２，３−ジメチルバレルアルデヒド、オクチルアルデヒ
ド、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド、シクロオク
タンカルボキシアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、２−フェニルプロピオンアルデヒド、ジフェニルア
セトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ｏ−トルアルデヒ
ド、ｍ−トルアルデヒド、ｐ−トルアルデヒド、ｏ−ア
ニスアルデヒド、ｍ−アニスアルデヒド、ｐ−アニスア
ルデヒド、ｏ−エトキシベンズアルデヒド、ｐ−エトキ
シベンズアルデヒド、２，４−ジメチルベンズアルデヒ
ド、２，５−ジメチルベンズアルデヒド、４−ビフェニ
ルカルボキシアルデヒド、２−ナフトアルデヒド等が挙
げられ、２価のアルデヒド類の例としては、ｏ−フタリ
ックジカルボキシアルデヒド、イソフタルアルデヒド、
テレフタルジカルボキシアルデヒド等が挙げられる。更
に、１価のケトン類の例としては、アセトン、２−ブタ
ノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−メチル−
２−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、３
−メチルヘキサノン、２−へプタノン、３−へプタノ
ン、３−メチルヘプタノン、２−オクタノン、３−オク
タノン、２−ノナノン、シクロブタノン、シクロペンタ
ノン、フェニルアセトン、ベンジルアセトン、１−フェ
ニル−２−ブタノン、１，１−ジフェニルアセトン、
１，３−ジフェニルアセトン、２−フェニルシクロヘキ
サノン、２−イレデン、β−テトラロン、プロピオフェ
ノン、ｏ−メチルアセトフェノン、ベンゾフェノン等が
挙げられ、２価のケトン類の例としては、２，４−ペン
タンジオン、２，３−ヘキサンジオン、２，５−ヘキサ
ンジオン、２，７−オクタンジオン、２，３−ブタジオ
ン、２−メチル−１，３−シクロペンタジオン、１，３
−シクロヘキサンジオン、１，４−シクロヘキサジオ
ン、１，３−シクロペンタンジオン、３−アセチル−２
−ヘプタノン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−へプタジオン、２−メチル−１，３−シクロヘキサン
ジオン、５，５−ジメチル−１，３−シクロヘキサンジ
オン、ジベンゾイルメタン、１，４−ジベンゾイルブタ
ン、ｐ−ジアセチルベンゼン、ｍ−ジアセチルベンゼ
ン、ベンジル、４，４′ジメトキシベンジル、２−フェ
ニル−１，３−インダンジオン、１，３−インダンジオ
ン、ｏ−ジベンゾイルベンゼン、１，２−ナフトキノ
ン、１，４−ナフトキノン等が挙げられる。

【０１４３】以下にシッフ塩基の具体例を挙げる。

【０１４４】

【化２４】

【０１４５】塩基性化合物はプロトンを補足可能なもの
であれば上記に示した化合物以外に特に制限なく使用で
きる。

【０１４６】これらの塩基性化合物は単独又は２種以上
組み合わせて用いても良い。使用量は感光層中に０．０
０１以上１０重量％以下が好ましく、０．０１以上５重
量％以下がより好ましい。０．００１重量％以下では保
存安定性向上、露光後の経時小点再現性低下抑制の効果
がなく、又１０重量％以上では感度低下が著しい。

【０１４７】測定に際しては、塗布に使用する任意の有
機溶剤、水又は複数の混合溶剤に固形分１０重量％とな
るように溶解した感光層塗布液を調製し、測定装置とし
て東亜電波工業（株）のデジタルｐＨメーターＨＭ−３
０Ｓを用い、測定条件として該ｐＨメーターを標準化し
た後、測定すべき塗布液に対して垂直にｐＨメーターの
測定部を下ろし塗布液に２分浸漬した際の測定値を塗布
液のｐＨとした。

【０１４８】支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属版、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
版、紙、プラスチックフィルム及びガラス版、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。こ
のうち好ましいのはアルミニウム版である。本発明を感
光性平版印刷版に適用するとき、支持体として、砂目立
て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表
面処理等が施されているアルミニウム版を用いることが
好ましい。これらの処理には特開昭５３−６７５０７
号、同５３−７７７０２号、同５３−１２３２０４号、
同５４−６３９０２号、同５４−９２８０４号、同５４
−１３３９０３号、同５５−１２８４９４号、同５６−
２８８９３号、同５６−５１３８８号、同５８−４２４
９３号、同５８−２０９５９７号、同５８−１９７０９
０号、同５９−１８２９６７号、同６０−１９０３９２
号、同６２−１６０２９１号、同６１−１８２９５０
号、同６３−９９９９２号、特開平１−１５０５８３
号、同１−１５４７９７号、同１−１７６５９４号、同
１−１８８６９９号、同１−１８８３９５号、同１−２
１５５９１号、同１−２４２２８９号、同１−２４９４
９４号、同１−３０４９９３号、同２−１６０９０号、
同２−８１６９２号、同２−１０７４９０号、同２−１
８５４９３号、同３−１０４６９４号、同３−１７７５
２８号、同４−１７６６９０号、同５−２４３７６号、
同５−２４３７７号、同５−１３９０６７号、同６−２
４７０７０号などに示される公知の方法を適用すること
ができる。

【０１４９】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。

【０１５０】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独乃至２種以上混合
した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応
じてアルカリ或いは酸の水溶液によってデスマット処理
を行い中和して水洗する。

【０１５１】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム版を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ²であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ²で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム版をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１リットルの水に溶解して作製）に
浸漬し、酸化被膜を溶解し、版の被膜溶解前後の重量変
化測定から求められる。

【０１５２】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム版支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。

【０１５３】支持体の裏面には、アルミニウムの陽極酸
化皮膜の溶出を抑えるために、有機金属化合物或いは無
機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層或いは有機高分子化合物からなる
被覆層（以下、バックコート層という。）を設けること
が好ましい。

【０１５４】バックコート層は、現像時にアルミニウム
の溶出が抑えられる量を用いればよく、０．００１以上
１０ｇ／ｍ²以下の範囲の塗布量が好ましく、より好ま
しくは、０．０１以上１ｇ／ｍ²以下であり、０．０２
以上０．１ｇ／ｍ²以下が最も好ましい。

【０１５５】バックコート層をアルミニウム支持体の裏
面に被覆する方法としては種々の方法が適用できるが、
上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは、バック
コート層塗布液を作製して塗布、乾燥する方法である。

【０１５６】感応層を支持体の表面に塗布する方法とし
ては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗
布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である。塗
布量は用途により異なるが、例えば、平版印刷版につい
ていえば固形分として０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好まし
い。

【０１５７】本発明の画像形成材料に対しては、波長４
００ｎｍ以上、特に７００ｎｍ以上の光源を用い画像露
光を行うことが好ましい。光源としては、半導体レーザ
ー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレ
ーザー等が挙げられる。出力はレーザービーム１本当た
り５０ｍＷ以上が適当であり、好ましくは１００ｍＷ以
上である。

【０１５８】〔３〕画像形成方法 本発明の画像形成材料に画像形成する方法としては、感
応層に像様に露光を行った後、露光部の感応層を現像液
を用いて除去する。像様に露光を行う手段として上述の
赤外線レーザーを用いることが好ましい。具体的な方法
として、現像液に補充液を添加しながら、連続処理を行
う。本発明では現像液中に溶け出る感応層成分が現像性
に影響を与えない分解物に限定されているため、現像液
の補充は従来に比べて非常に低減でき、従って現像液の
連続使用時間を延ばし、交換が不要な期間を長期にわた
って確保することになり、連続処理量の大幅な増加にも
つながる。しかも現像処理を低補充で抑えることができ
るので、廃液量の低減にもなり、環境的にも又衛生的に
優れた効果を期待できる。本発明における現像液への補
充量は画像形成材料１ｍ²当たり１００ｍｌ以下が好ま
しく、５０ｍｌ以下がより好ましい。更に２５ｍｌ以下
が最も好ましい。前記１ｍ²当たりの補充量は、画像形
成材料の現像処理による現像液活性度の低下分を補償す
るために必要な量である。これを検知するために、画像
形成材料の処理面積の測定、現像液の電導度、ｐＨ、イ
ンピーダンスの測定、現像液への感応層成分の混入量の
測定などを行い、あらかじめ設定された補充量を現像液
に添加する方法が用いられるが、検知にはいずれの方法
を用いてもよい。又、補充のタイミングは連続処理にお
ける現像安定性に影響がない範囲で任意である。画像形
成材料の現像処理以外の要因に対する補充として、空気
中の炭酸ガスによる現像液活性の低下に対して補償する
ための補充を行うが、本発明の請求項で規定された補充
量はこれを含めない。しかし、画像形成材料の現像処理
に対応する補充量が低減可能であれば、この炭酸ガスの
影響に対する補充を大幅に低減することができ、廃液量
の低減に寄与することは明白である。

【０１５９】現像に用いられる現像液及び現像補充液と
しては、水系アルカリ現像液が好適である。水系アルカ
リ現像液は例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げ
られる。前記アルカリ金属塩の濃度は０．０５以上２０
重量％以下の範囲で用いるのが好適であり、より好まし
くは０．１以上１０重量％以下である。

【０１６０】現像液及び現像補充液の珪酸塩濃度／アル
カリ金属濃度（ＳｉＯ₂のモル濃度／アルカリ金属のモ
ル濃度）は、０．１５以上１．０以下が好ましく、又珪
酸塩濃度が総重量に対して０．５以上５．０重量％以下
が好ましい。特に好ましくは、現像液の珪酸塩濃度／ア
ルカリ金属濃度が０．２５以上０．７５であり、珪酸塩
濃度が１．０以上４．０重量％以下、現像補充液の珪酸
塩濃度／アルカリ金属濃度が０．１５以上０．５であ
り、珪酸塩濃度が１．０以上３．０重量％以下である。

【０１６１】又、特開平８−３０５０３９号、特開平８
−１６０６３１号に記載された非珪酸系の現像液を適用
することもできる。

【０１６２】現像液には、必要に応じアニオン、ノニオ
ン、カチオン、又は両性の界面活性剤や有機溶剤を加え
ることができる。

【０１６３】アニオン界面活性剤としては、例えば、ラ
ウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチ
ルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルア
ルコールサルフェートのアンモニウム塩、第２ナトリウ
ムアルキルサルフェート等の炭素数８〜２２の高級アル
コール硫酸エステル塩類、例えばアセチルアルコール硫
酸エステルのナトリウム塩等の様な脂肪族アルコール硫
酸エステル塩類、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩
類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、メタニトロベ
ンゼンスルホン酸のナトリウム塩等の様なアルキルアリ
ールスルホン酸塩類、例えばＣ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＮ（ＣＨ₃）
ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｎａ等の様なアルキルアミドのスルホ
ン酸、例えばナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエス
テル、ナトリウムスルホコハクジヘキシルエステル等の
二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類等が挙げられ
る。

【０１６４】ノニオン界面活性剤としては、特開昭５９
−８４２４１号、同６２−１６８１６０号及び同６２−
１７５７５８号に開示のもの、カチオン界面活性剤とし
ては、特開昭６２−１７５７５７号に開示のもの、両性
界面活性剤としては、例えばアルキルカルボキシベタイ
ン型、アルキルアミノカルボン酸型、アルキルイミダゾ
リン型の化合物或いは、特公平１−５７８９５号に開示
されている有機ホウ素化合物等が挙げられる。界面活性
剤は、使用時の現像液の総重量に対して０．１〜５重量
％の範囲で含有させておくことが適当である。

【０１６５】有機溶媒としては、水に対する溶解度が約
１０重量％以下のものが適しており、好ましくは２重量
％以下のものから選ばれる。例えば１−フェニルエタノ
ール、２−フェニルエタノール、３−フェニルプロパノ
ール、１，４−フェニルブタノール、２，２−フェニル
ブタノール、１，２−フェノキシエタノール、２−ベン
ジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコー
ル、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベ
ンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサ
ノール、２−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシ
クロヘキサノール及び３−メチルシクロヘキサノール等
を挙げることができる。本発明においては、プロピレン
グリコール、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が
有用である。

【０１６６】有機溶媒の含有量は使用時の現像液の総重
量に対して１〜５重量％が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好まし
い。

【０１６７】上記現像液には、更に必要に応じ、アルカ
リ可溶性メルカプト化合物及び／又はチオエーテル化合
物、水溶性還元剤、消泡剤及び硬水軟化剤の様な添加物
を含有させることもできる。

【０１６８】硬水軟化剤として例えば、Ｎａ₂Ｐ₂Ｏ₇、
Ｎａ₃ＰＯ₉、Ｎａ₂Ｏ（ＮａＯ₃Ｐ）ＰＯ₃Ｎａ₂、カルゴ
ン（ポリメタ燐酸ナトリウム）等のポリ燐酸塩、例えば
エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩：ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカ
リウム塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキ
サ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキ
シエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサ
ンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；
１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、その
カリウム塩、そのナトリウム塩等の様なアミノポリカル
ボン酸塩や、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホ
ン酸）、そのカリウム塩、ナトリウム塩等の様な有機ス
ルホン酸塩等を挙げることができる。この様な硬水軟化
剤は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて最適
量が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現
像液中に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１
〜０．５重量％の範囲で含有させられる。

【０１６９】水溶性還元剤としては、例えばハイドロキ
ノン、メトキシキノン等のフェノール性化合物、フェニ
レンアミン、フェニルヒドラジン等のアミン化合物、或
いは亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素ナ
トリウムの様な亜硫酸塩、亜リン酸カリウム、亜リン酸
水素カリウム等の亜リン酸塩、チオ硫酸ナトリウム、亜
ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。含有量
は現像補充液の総重量に対して０．０１〜１０重量％が
好ましい。

【０１７０】アルカリ可溶性メルカプト化合物及び／又
はチオエーテル化合物としては、分子内に１つ以上のメ
ルカプト基及び／又はチオエーテル基を有し、少なくと
も１つ以上の酸基を有する化合物が好ましく、更に１分
子内に１つ以上のメルカプト基及びカルボキシル基を有
する化合物が好ましい。例えばメルカプト酢酸、２−メ
ルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、
４−メルカプトブタン酸、２，４−ジメルカプトブタン
酸、２−メルカプトテトラデカン酸、２−メルカプトミ
リスチン酸、メルカプト琥珀酸、２，３−ジメルカプト
琥珀酸、システイン、Ｎ−アセチルシステイン、Ｎ−
（２−メルカプトプロピオニル）グリシン、Ｎ−（２−
メルカプト−２−メチルプロピオニル）グリシン、Ｎ−
（３−メルカプトプロピオニル）グリシン、Ｎ−（２−
メルカプト−２−メチルプロピオニル）システイン、ペ
ニシラミン、Ｎ−アセチルペニシラミン、グリシン・シ
ステイン・グルタミン縮合物、Ｎ−（２，３−ジメルカ
プトプロピオニル）グリシン、２−メルカプトニコチン
酸、チオサリチル酸、３−メルカプト安息香酸、４−メ
ルカプト安息香酸、３−カルボキシ−２−メルカプトピ
リジン、２−メルカプトベンゾチアゾール−５−カルボ
ン酸、２−カルカプト−３−フェニルプロペン酸、２−
メルカプト−５−カルボキシエチルイミダゾール、５−
メルカプト−１−（４−カルボキシフェニル）テトラゾ
ール、Ｎ−（３，５−ジカルボキシフェニル）−２−メ
ルカプトテトラゾール、２−（１，２−ジカルボキシエ
チルチオ）−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール、２−（５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
リルチオ）ヘキサン酸、２−メルカプトエタンスルホン
酸、２，３−ジメルカプト−１−プロパンスルホン酸、
２−メルカプトベンゼンスルホン酸，４−メルカプトベ
ンゼンスルホン酸、３−メルカプト−４−（２−スルホ
フェニル）−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプ
トベンゾチアゾール−５−スルホン酸、２−メルカプト
ベンゾイミダゾール−６−スルホン酸、メルカプトコハ
クイミド、４−メルカプトベンゼンスルホンアミド、２
−メルカプトベンゾイミダゾール−５−スルホンアミ
ド、３−メルカプト−４−（２−（メチルアミノスルホ
ニル）エトキシ）トルエン、３−メルカプト−４−（２
−（メチルアミノスルホニルアミノ）エトキシ）トルエ
ン、４−メルカプト−Ｎ−（ｐ−メチルフェニルスルホ
ニル）ベンズアミド、４−メルカプトフェノール、３−
メルカプトフェノール、３−メルカプトフェノール、
３，４−ジメルカプトトルエン、２−メルカプトヒドロ
キノン、２−チオウラシル、３−ヒドロキシ−２−メル
カプトピリジン、４−ヒドロキシチオフェノール、４−
ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、４，６−ジヒ
ドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２，３−ジヒド
ロキシプロピルメルカプタン、テトラエチレングリコー
ル、２−メルカプト−４−オクチルフェニルエーテルメ
チルエーテル、２−メルカプト−４−オクチルフェノー
ルメタンスルホニルアミノエチルエーテル、２−メルカ
プト−４−オクチルフェノールメチルアミノスルホニル
ブチルエーテルチオジグリコール酸、チオジフェノー
ル、６，８−ジチオオクタン酸又はそのアルカリ金属、
アルカリ土類金属、有機アミンとの塩等が挙げられる。
現像液における上記化合物の含有量は、０．０１〜５重
量％が適当である。

【０１７１】又、本発明には公知のガム液、リンス液を
用いることが出来る。ガム液は現像液のアルカリ成分除
去のため酸や緩衝剤を添加することが好ましく、その他
に親水性高分子化合物、キレート剤、潤滑剤、防腐剤及
び可溶化剤等を添加することができる。ガム液に親水性
高分子化合物を含む場合は現像後の版の傷や汚れを防ぐ
保護剤としての機能も付加される。

【０１７２】本発明に用いられるガム液中に界面活性剤
を添加することにより塗布層の面状等が良化する。使用
できる界面活性剤としてはアニオン界面活性剤及び／又
はノニオン界面活性剤が挙げられる。例えば、アニオン
型界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩
類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスル
ホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼン
スルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、
アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホ
ン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニル
エーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナト
リウム類、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミドニナ
トリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硝酸化ヒマシ油、
硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル
塩類、アルキル硝酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセ
リド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
スチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル
燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイ
ン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレ
イン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン
酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中で
もジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好
ましく用いられる。

【０１７３】又、ノニオン界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部
分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペン
タエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレング
リコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステ
ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
グリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−
ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル、トリアルキルアミンオキシド等が挙げられる。
その中でもポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル類、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロ
ックポリマー類等が好ましく用いられる。又、弗素系、
シリコン系のアニオン、ノニオン界面活性剤も同様に使
用することができる。これら界面活性剤は２種以上併用
することもできる。例えば互いに異なる２種以上を併用
することもできる。例えば互いに異なる２種以上のアニ
オン界面活性剤の併用やアニオン界面活性剤とノニオン
界面活性剤の併用が好ましい。上記界面活性剤の使用量
は特に限定する必要はないが、好ましくは後処理液の
０．０１〜２０重量％である。

【０１７４】本発明に用いられるガム液には、上記成分
の他必要により潤滑剤として多価アルコール、アルコー
ル及び脂肪族炭化水素を用いることができる。

【０１７５】多価アルコールの内、好ましい具体例とし
ては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセ
リン、ソルビトール等が挙げられ、アルコールとして
は、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等の
アルキルアルコール、ベンジルアルコール、フェノキシ
エタノール及びフェニルアミノエチルアルコール等の芳
香環を有するアルコールが挙げられる。脂肪族炭化水素
としては、例えば、ｎ−ヘキサノール、メチルアミルア
ルコール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘプタノール、
３−ヘプタノール、２−オクタノール、２−エチルヘキ
サノール、ノナノール、３，５，５−トリメチルヘキサ
ノール、ｎ−デカノール、ウンデカノール、ｎ−ドデカ
ノール、トリメチルノニルアルコール、テトラデカノー
ル、ヘプタデカノール、２−エチル−１，３−ヘキサン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサ
ンジオール、２，４−ヘキサンジオール、１，８−オク
タンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デ
カンジオール等が挙げられる。これらの潤滑剤の含有量
は、組成物中に０．１〜５０重量％、より好ましくは
０．５〜３．０重量％が適当である。

【０１７６】上記成分の他必要により潤滑剤としてエチ
レングリコール、プロピレングリコール、トリエチレン
グリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコー
ル、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等
が好適に用いられる。これらの湿潤剤は単独で用いても
よいが、２種以上併用してもよい。一般に、上記湿潤剤
は１〜２５重量％の量で使用するのが好ましい。

【０１７７】皮膜形成性を向上させる目的で種々の親水
性高分子を含有することができる。

【０１７８】この様な親水性高分子としては従来よりガ
ム液に使用し得るとされるものであれば好適に使用でき
る。例えば、アラビアガム、繊維素誘導体（例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロー
ス、メチルセルロース等）及びその変性体、ポリビニル
アルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリルアミド及びその共重合体、ビニルメチルエー
テル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレ
イン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体等
が挙げられる。

【０１７９】本発明に用いられるガム液は、一般的には
酸性領域、ｐＨ３〜６の範囲で使用する方が有利であ
る。ｐＨを３〜６にするためには一般的には後処理液中
に鉱酸、有機酸又は無機塩等を添加して調節する。その
添加量は０．０１〜２重量％が好ましい。例えば鉱酸と
しては硝酸、硫酸、リン酸及びメタリン酸等が挙げられ
る。

【０１８０】又有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚
酸、マロン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酒石酸、リン
ゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸及び有機ホスホン
酸等が挙げられる。更に無機塩としては、硝酸マグネシ
ウム、第１リン酸ナトリウム、第２リン酸ナトリウム、
硫酸ニッケル、ヘキサメタン酸ナトリウム、トリポリリ
ン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、有機酸又は無機
塩等の少なくとも１種もしくは２種以上を併用してもよ
い。

【０１８１】本発明に用いられるガム液には、防腐剤、
消泡剤等を添加することができる。

【０１８２】例えば防腐剤としてはフェノール又はその
誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢
酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、
ベンゾイソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール
誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム
塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダ
イアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサ
ジン誘導体等が挙げられる。好ましい添加量は、細菌、
カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であっ
て、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用
時の版面保護剤に対して０．０１〜４重量％の範囲が好
ましく、又種々のカビ、殺菌に対して効力のある様に２
種以上の防腐剤を併用することが好ましい。又、消泡剤
としてはシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散
型及び可溶化等が何れも使用できる。好ましくは使用時
のガム液に対して０．０１〜１．０重量％の範囲が最適
である。

【０１８３】更にキレート化合物を添加してもよい。好
ましいキレート化合物としては、例えば、エチレンジア
ミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；
ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、
そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、その
ナトリウム塩：ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩；
１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホ
スホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等の様
な有機ホスホン酸類或いはホスホノアルカントリカルボ
ン酸類を挙げることが出来る。上記キレート剤のナトリ
ウム塩、カリウム塩の代わりに有機アミンの塩も有効で
ある。これらキレート剤はガム液組成中に安定に存在
し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量として
は使用時のガム液に対して０．００１〜１．０重量％が
適当である。

【０１８４】上記成分の他、必要により感脂化剤も添加
することができる。例えばテレピン油、キシレン、トル
エン、ローヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミ
ネラルスピリット、沸点が約１２０℃〜約２５０℃の石
油留分等の炭化水素類、例えばジブチルフタレート、ジ
ヘブチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、ジ
（２−エチルヘキシル）フタレート、ジノニルフタレー
ト、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチ
ルベンジルフタレート等のフタル酸ジエステル剤、例え
ばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ
（２−エチルヘキシル）セバケート、ジオクチルセバケ
ート等の脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化
大豆油等のエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリク
レジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、
トリスクロルエチルフォスフェート等のリン酸エステル
類、例えば安息香酸ベンジル等の安息香酸エステル類等
の凝固点が１５℃以下で、１気圧下での沸点が３００℃
以上の可塑剤が含まれる。

【０１８５】更にカプロン酸、エナント酸、カプリル
酸、ヘラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリ
ン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、
パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデ
カン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロ
チン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラ
クセル酸、イソ吉草酸等の飽和脂肪酸とアクリル酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、ウンデシレン酸、オレイン
酸、エライジン酸、セトレイン酸、ニルカ酸、ブテシジ
ン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキド
ン酸、プロピオール酸、ステアロール酸、イワシ酸、タ
リリン酸、リカン酸等の不飽和脂肪酸も挙げられる。よ
り好ましくは５０℃において液体である脂肪酸であり、
更に好ましくは炭素数が５〜２５であり、最も好ましく
は炭素数が８〜２１である。これらの感脂化剤は１種も
しくは２種以上併用することもできる。使用量として好
ましい範囲はガムの０．０１〜１０重量％、より好まし
い範囲は０．０５〜５重量％である。

【０１８６】上記の様な感脂化剤は、ガムを乳化分散型
としておき、その油相として含有させてもよく、又可溶
化剤の助けを借りて可溶化してもよい。

【０１８７】本発明において、ガム液の固型分濃度は５
〜３０ｇ／ｌが好ましい。ガム膜厚量は自現機のスクイ
ズ手段の条件で制御できる。本発明において、ガム塗布
量は１〜１０ｇ／ｍ²が好ましい。ガム塗布量は１０を
越えると、短時間で乾燥するためには、版面を非常に高
温にする必要があり、コスト上、安全上不利であり、ま
た本発明の効果が十分に得られない。１ｇ／ｍ²を下回
ると、均一塗布が難しくなり、安定した処理性が得られ
ない。

【０１８８】本発明において、ガム液の塗布終了から乾
燥開始までの時間は３秒以下であることが好ましい。更
に好ましくは２秒以下であり、この時間が短いほどイン
キ着肉性が向上する。

【０１８９】乾燥時間は１〜５秒が好ましい。乾燥時間
が５秒を上回る時は本発明の効果が得られない。乾燥時
間が１秒未満の場合には、感光性平版印刷版を十分に乾
燥するために、版面を非常に高温にする必要があり、安
全上、コスト上好ましくない。又乾燥方式としては、温
風ヒーター、遠赤外線ヒーターなど公知の乾燥方式を用
いることができる。乾燥工程では、ガム液中の溶媒が乾
燥される必要がある。

【０１９０】そのために十分な、乾燥温度とヒーター容
量を確保する必要がある。乾燥に必要な温度は、ガム液
の成分によって異なるが、溶媒が水であるガム液の場合
は、通常乾燥温度は５５℃以上であることが好ましい。
ヒーター容量は乾燥温度よりも重要である場合が多く、
その容量は温風乾燥方式の場合は２．６ｋＷ以上が好ま
しい。容量は大きい程よいが、コストとのバランスで
２．６〜７ｋＷが好ましい。

【０１９１】本発明の現像処理には例えば特開平５−１
８８６０１号及び特願平９−１４３８８２号に示される
自動現像機を用いる方法が有効である。又現像液、消去
液、後処理液には、特願平８−５６８９４号等に記載さ
れた処理剤を使用することができる。

【０１９２】露光後、現像前に画像形成材料の加熱処理
を加えてもよい。この場合、８０〜２００℃で５〜２０
秒の加熱処理が好ましい。

【０１９３】又、現像後の画像形成材料を１５０〜３０
０℃、２０〜２００秒程度のバーニング処理を行うこと
で感応層の機械的強度を飛躍的に向上させることがで
き、印刷版として使う場合には耐刷性を大幅に上げるこ
とができる。

【０１９４】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、「部」
は「重量部」を示す。

【０１９５】（感光性平版印刷版の作製）厚さ０．２４
ｍｍのＪＩＳ−１０５０アルミニウム板を８５℃の１０
％の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、１分間脱脂処
理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミニウム板
を、２５℃の１０％硫酸水溶液中に１分間浸漬し、デス
マット処理した後、水洗した。次いでこのアルミニウム
板を、１．０％の硝酸水溶液中において、温度３０℃、
電流密度５０Ａ／ｄｍ²で電気量４００ｃ／ｄｍ²になる
ように電気化学的に粗面化した。その後、５０℃の１０
％水酸化ナトリウム水溶液中でアルミニウムの溶解量が
３ｇ／ｍ²となるように化学的エッチングを行った。次
いで、２５℃の１０％硝酸水溶液中に１０秒間浸漬し、
デスマット処理した後水洗した。次いで、３５℃の２０
％硫酸水溶液中で、電流密度２Ａ／ｄｍ²の条件で１分
間陽極酸化処理を行った。その後、８０℃の０．１％酢
酸アンモニウム水溶液中に３０秒間浸漬し、封孔処理を
行い、８０℃で５分間乾燥した。このアルミニウム板の
片方の面（裏面）に、ＪＩＳ３号珪酸ナトリウム水溶液
（１０ｇ／ｌ）をワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃
で３分間乾燥し、裏面に被覆層を有するアルミニウム支
持体を作製した。被覆層は乾燥重量として１０ｍｇ／ｍ
²となるように塗設した。

【０１９６】実施例１ 前記支持体上に下記組成の感応層塗布液を乾燥後の膜厚
が２ｇ／ｍ²になるように塗布し、１００℃で２分間乾
燥して平版印刷版１を得た。

【０１９７】 （感応層塗布液） バインダーＡ ７０部 バインダーＢ ５部 酸分解性化合物（合成例Ａ−１の化合物） ２０部 酸発生剤 例示化合物（１２） ３部 赤外吸収剤 例示化合物ＩＲ５３ １部 クリスタルバイオレット ０．３部 フッ素系界面活性剤Ｓ−３８１（旭硝子製） ０．５部 乳酸メチル ７００部 ＭＥＫ ２００部 バインダーＡ：フェノールとｍ−，ｐ−混合クレゾール
とホルムアルデヒドを共縮合させたノボラック樹脂（Ｍ
ｗ＝４０００、フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレ
ゾールのモル比がそれぞれ５／５７／３８） バインダーＢ：メチルメタクリレート／ヒドロキシフェ
ニルメタクリルアミド／メタクリルアミド／メタアクリ
ロニトリルの共重合体（共重合重量比＝２０／２０／３
０／３０、Ｍｗ＝３００００） ＭＥＫ：メチルエチルケトン 得られた平版印刷版材料に、以下に示す方法で画像を形
成した。

【０１９８】クレオプロダクツ社製の露光機（トレンド
セッター３２４４；半導体レーザー出力１０Ｗ、２４０
チャンネル機）で感応層表面に像様に露光を行った。次
に、図１に示す自動現像機を用いて処理を行った。自動
現像機には、現像液槽１１に下記現像液を２５Ｌ、水洗
槽１３〜１５に水道水を、フィニッシャー槽１６にガム
液（コニカ社製ＳＧＷ−３）を５Ｌ入れ上記平版印刷版
を以下の様に連続処理して現像処理した。

【０１９９】尚、図１において、３１は現像シャワー、
３８は現像絞りローラ、４２は水洗シャワー、４３は水
洗出口ローラ、４７は水洗入り口ブレード、５２はガム
液供給シャワー、Ｐは平版印刷版の搬送路である。

【０２００】〈連続処理１の方法〉現像液１、現像補充
液１には下記組成の水溶液を使用した。現像槽には現像
液２５Ｌを投入し、現像時間は１０秒、現像温度は３５
℃で連続処理を行った。この際、画像形成材料１ｍ²を
処理するごとに２０ｍｌの現像補充液を現像槽に添加し
た。又空気中の炭酸ガスによる現像液活性度の低下を補
償するために必要な補充量は、現像液の温調中は１５ｍ
ｌ／ｈ、温調停止中は１０ｍｌ／ｈであり、これを１時
間に１回補充した。

【０２０１】 （現像液１の組成） Ａ珪酸カリウム １００．０部 水酸化カリウム ２４．５部 カプリル酸 ０．２部 マレイン酸 ２．０部 ＥＤＴＡ ０．３部 水 １８４０部 （現像補充液１の組成） Ａ珪酸カリウム １００．０部 水酸化カリウム ４１．５部 カプリル酸 ０．１部 マレイン酸 １．０部 ＥＤＴＡ ０．１部 水 ５３７部 〈連続処理２の方法〉現像補充液を下記２にし、画像形
成材料１ｍ²を処理するごとの補充量を４５ｍｌにし、
経時補充を３４ｍｌ／ｈにし、日間補充を２３ｍｌ／ｈ
に変更する以外は、連続処理１の方法と同様に現像処理
を行った。

【０２０２】 （現像補充液２の組成） Ａ珪酸カリウム １００．０部 水酸化カリウム ３２．０部 カプリル酸 ０．１６部 マレイン酸 １．６部 ＥＤＴＡ ０．２部 水 １２６０部 〈連続処理３の方法〉現像補充液を下記３にし、画像形
成材料１ｍ²を処理するごとの補充量を９０ｍｌにし、
経時補充を６８ｍｌ／ｈにし、日間補充を４５ｍｌ／ｈ
に変更する以外は、連続処理１の方法と同様に現像処理
を行った。

【０２０３】 （現像補充液３の組成） Ａ珪酸カリウム １００．０部 水酸化カリウム ２８．３部 カプリル酸 ０．１８部 マレイン酸 １．８部 ＥＤＴＡ ０．２５部 水 １５５０部 〈連続処理４の方法〉現像補充液を下記４にし、画像形
成材料１ｍ²を処理するごとの補充量を１５０ｍｌに
し、経時補充を１１３ｍｌ／ｈにし、日間補充を７５ｍ
ｌ／ｈに変更する以外は、連続処理１の方法と同様に現
像処理を行った。

【０２０４】 （現像補充液４の組成） Ａ珪酸カリウム １００．０部 水酸化カリウム ２７．０部 カプリル酸 ０．１９部 マレイン酸 １．９部 ＥＤＴＡ ０．２７部 水 １６７０部 各連続処理において、最大５０００ｍ²まで処理し、感
度、小点再現性（２００線２％）、スラッジの発生レベ
ルを評価した。感度については露光部の感応層が除去さ
れるのに必要なエネルギーを示す。小点再現性、スラッ
ジについては以下の基準で評価を行った。

【０２０５】〈評価〉 （小点再現性） ○・・・良好に再現 △・・・やや点とびの傾向が見られる ×・・・ほとんど消えかかる。

【０２０６】（スラッジ） ○・・・未発生 △・・・やや発生するが実用は可能 ×・・・多量に発生。

【０２０７】実施例１の連続処理１〜４の結果をそれぞ
れ表１〜４にまとめた。又実施例２〜２２は酸分解性化
合物を表のように変更し、実施例１と同様に連続処理１
〜４を行い、評価した。

【０２０８】尚、実施例２３〜２７については赤外吸収
色素を添加しない感応層塗布液を、実施例１と同様に塗
布、乾燥して得られた画像形成材料を用いて連続処理１
〜４を行った。尚、露光はメタルハライドランプからの
紫外線を、感応層に密着したモノクロ原稿を介して照射
した。又感度についてはステップタブレットのクリア段
数が５段になる露光カウントを評価した。

【０２０９】得られた結果を以下の表１〜４に示す。
尚、表１は連続処理１（補充量２０ｍｌ／ｍ²）、表２
は連続処理２（補充量４５ｍｌ／ｍ²）、表３は連続処
理３（補充量９０ｍｌ／ｍ²）、表４は連続処理４（補
充量１５０ｍｌ／ｍ²）を表す。

【０２１０】

【表１】

【０２１１】

【表２】

【０２１２】

【表３】

【０２１３】

【表４】

【０２１４】表１〜４から明らかなように、本発明の特
定の酸分解性化合物を用いて連続処理した実施例１〜１
２及び１６〜１８、２１〜２４、２６は、現像液の補充
量を低補充としても非常に良好な感度、解像度（小点再
現性）を示し、しかもスラッジの発生も改善されている
ことが分かる。特に補充量が２０ｍｌ／ｍ²と少ない連
続処理１を行った場合は、平版印刷版の処理量の増加に
もかかわらずその評価は優れている。又紫外光による画
像形成同様、赤外吸収色素を用いた赤外光による露光に
対しても前述したことは該当し、ＣＴＰにおける課題が
解消し、十分に実用可能な性能を有していることが分か
る。

【０２１５】

【発明の効果】本発明は特定の酸分解性化合物を用いた
画像形成材料を連続処理することにより、低補充でも感
度と解像度の良好なポジ型の画像を形成し、連続処理量
の増加を可能とし、又現像液のスラッジ防止と現像性能
の安定化とを両立したランニング安定性の向上を達成す
ることができるという顕著に優れた効果を奏する。又廃
液量の低減にも寄与する。そして、ＣＴＰに対応できる
赤外線レーザー露光による画像形成でも感度及び現像安
定性に優れた満足な画像が得られる画像形成方法を提供
することも可能としている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に使用した自動現像機の概略図
である。

【符号の説明】

３１ 現像シャワー ３８ 現像絞りローラ ４２ 水洗シャワー ４３ 水洗出口ローラ ４７ 水洗入り口ブレード ５２ ガム液供給シャワー

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に（１）熱又は活性光線の照射
   により酸を発生し得る化合物、（２）酸により分解し得
   る結合部を少なくとも１つ有し、かつ酸の作用で分解し
   て生成するアルコール成分のうち少なくとも１成分がエ
   チレングリコール成分又はプロピレングリコール成分を
   含むジオール化合物である酸分解性化合物を含有する感
   応層を設けた画像形成材料を像様に露光又は加熱した
   後、現像液に補充を繰り返しながら連続処理を行うこと
   を特徴とする画像形成方法。
2. 【請求項２】 前記感応層が水に不溶でかつアルカリ可
   溶な樹脂成分を含有することを特徴とする請求項１記載
   の画像形成方法。
3. 【請求項３】 前記酸分解性化合物がアセタール類又は
   シリルエーテル類であることを特徴とする請求項１又は
   ２記載の画像形成方法。
4. 【請求項４】 前記酸分解性化合物から酸の作用で分解
   して生成するアルデヒド成分、ケトン成分又はシリル化
   合物のそれぞれの水への溶解性が１以上１００ｇ／Ｌ以
   下であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項
   記載の画像形成方法。
5. 【請求項５】 前記感応層が４００ｎｍ以上に感応する
   色素を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか
   １項記載の画像形成方法。
6. 【請求項６】 前記色素が７００以上１２００ｎｍ以下
   に感応する色素であることを特徴とする請求項５記載の
   画像形成方法。
7. 【請求項７】 像様に露光を行う手段として波長が７０
   ０以上１２００ｎｍ以下であるレーザー光を用いること
   を特徴とする請求項１乃至６の何れか１項記載の画像形
   成方法。
8. 【請求項８】 前記現像液が珪酸塩を含むことを特徴と
   する請求項１乃至７の何れか１項記載の画像形成方法。
9. 【請求項９】 現像液への補充量が画像形成材料１ｍ²
   当たり５以上１００ｍｌ以下であることを特徴とする請
   求項１乃至８の何れか１項記載の画像形成方法。
10. 【請求項１０】 現像液への補充量が画像形成材料１ｍ
    ²当たり５以上５０ｍｌ以下であることを特徴とする請
    求項１乃至９の何れか１項記載の画像形成方法。
11. 【請求項１１】 現像液への補充量が画像形成材料１ｍ
    ²当たり５以上２５ｍｌ以下であることを特徴とする請
    求項１乃至１０の何れか１項記載の画像形成方法。