JPH1195415A

JPH1195415A - 画像形成材料および画像形成方法

Info

Publication number: JPH1195415A
Application number: JP9256902A
Authority: JP
Inventors: Junko Honda; 淳子本田; Katsura Hirai; 桂平井
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-09-22
Filing date: 1997-09-22
Publication date: 1999-04-09
Anticipated expiration: 2017-09-22
Also published as: JP3812082B2

Abstract

(57)【要約】【課題】現像後の版材を印刷にかける際、曝射される
ことによって起こる耐刷力の低下がなく、耐刷性、感度
の良い画像形成材料および画像形成方法の提供。【解決手段】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１
つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外線吸収剤を含有
する感光層を有することを特徴とする画像形成材料及び
該画像形成材料の感光層上に波長７００ｎｍ以上の可視
光又は赤外線を用いて画像を描画した後、アルカリ性現
像液で露光部を除去する工程を有することを特徴とする
画像形成方法。又は支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、酸の存在下で架橋し得る結合を
少なくとも１つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外線
吸収剤を含有する感光層を有することを特徴とする画像
形成材料及び該画像形成材料の感光層上に波長７００ｎ
ｍ以上の可視光又は赤外線を用いて画像を描画した後、
アルカリ性現像液で未露光部を除去する工程を有するこ
とを特徴とする画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、活性光により可溶
化又は不溶化する感光層を有する画像形成材料及びそれ
を用いた画像形成方法に関し、更に詳しくは、半導体レ
ーザー等による赤外線による露光で画像形成が可能な、
ポジ型又はネガ型感光性平版印刷版用等として適した画
像形成材料及びそれを用いた画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、活性光の照射によって可溶化する
ポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを
含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。
即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書には、酸
発生剤と酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物
とを含有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２
９号公報には、酸発生剤と主鎖にアセタール又はケター
ル基を有する化合物とを含有する感光性組成物が、ま
た、特開昭６０−３７５４９号公報には、酸発生剤とシ
リルエーテル基を有する化合物とを含有する組成物が開
示されている。しかしながら、これらはいずれも紫外線
に感度を有し、紫外線による露光によってアルカリ可溶
化して非画像部となるもので、安価でコンパクトな半導
体レーザーのような赤外線による画像露光はできない。

【０００３】一方、半導体レーザーのような赤外線で画
像露光が可能な技術として、米国特許第５，３４０，６
９９号明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラッ
ク樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、画像
露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ
型の画像形成材料として使用され、上記加熱処理を施さ
ないとポジ型の画像形成材料として使用される技術が開
示されている。

【０００４】しかし、半導体レーザーのような赤外線で
画像露光が可能な画像形成材料およびその形成方法によ
って、得られる印刷版は、印刷する環境下（白色蛍光灯
下他）により、耐刷力が低下するという問題点を持って
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
後の版材を印刷にかける際、曝射されることによって起
こる耐刷力の低下がなく、耐刷性、感度の良い画像形成
材料および画像形成方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。

【０００７】（１）支持体上に、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸で分解し得る結合を少なく
とも１つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外線吸収剤
を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材
料。

【０００８】（２）前記１記載の画像形成材料の感光
層上に波長７００ｎｍ以上の可視光又は赤外線を用いて
画像を描画した後、アルカリ性現像液で露光部を除去す
る工程を有することを特徴とする画像形成方法。

【０００９】（３）支持体上に、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸の存在下で架橋し得る結合
を少なくとも１つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外
線吸収剤を含有する感光層を有することを特徴とする画
像形成材料。

【００１０】（４）前記３記載の画像形成材料の感光
層上に波長７００ｎｍ以上の可視光又は赤外線を用いて
画像を描画した後、アルカリ性現像液で未露光部を除去
する工程を有することを特徴とする画像形成方法。

【００１１】以下、本発明について詳述する。本発明に
用いられる活性光線の照射により酸を発生し得る化合物
（以下「光酸発生剤」という）としては、各種の公知化
合物及び混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム、ホ
スホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢ
Ｆ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-などの
塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスル
ホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も
活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光線感
光性成分であり、本発明の光酸発生剤として使用するこ
とができる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として
知られるすべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水
素酸を形成する化合物で、本発明の光酸発生剤として使
用することができる。

【００１２】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては米国特許明細書第３，５１５，５５２号、
同第３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８
号及び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号
に記載されているものが挙げられ、又、例えば西ドイツ
国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解
により酸を発生させる化合物も使用することができる。

【００１３】また、特開昭５０−３６２０９号公報に記
載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸ハロゲニドを用いることができる。

【００１４】本発明において、光酸発生剤として有機ハ
ロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度
及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機ハ
ロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有す
るトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオ
キサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基
を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。

【００１５】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４
２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８
５３９号各公報に記載の２−ハロメチル−１，３，４−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。２−ハロメチ
ル−１，３，４−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ま
しい化合物例を下記に挙げる。

【００１６】

【化１】

【００１７】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。

【００１８】

【化２】

【００１９】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。

【００２０】一般式（１）で表されるｓ−トリアジン系
光酸発生剤の化合物例を次に示す。

【００２１】

【化３】

【００２２】

【化４】

【００２３】本発明において、光酸発生剤の含有量は、
その化学的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組
成あるいは物性によって広範囲に変えることができる
が、感光層の固形分の全重量に対して約０．１〜約２０
重量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重
量％の範囲である。

【００２４】本発明に用いられる酸で分解し得る結合を
少なくとも１つ有する化合物（以下「酸分解化合物」と
いう）としては、具体的には、Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有する
化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｎ結
合を有する化合物、炭酸エステル、オルト炭酸エステ
ル、オルトチタン酸エステル、オルトケイ酸エステル、
アセタール及びケタール、Ｃ−Ｓ結合を有する化合物な
どが挙げられる。

【００２５】上記のうち、特開昭５３−１３３４２９
号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６号、
同６０−３７５４９号、同６３−１０１５３号各公報に
記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−
Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセ
タール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好まし
い。

【００２６】それらの中でも、特開昭５３−１３３４２
９号公報に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又は
ケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作
用によって上昇する有機重合化合物、及び特開昭６３−
１０１５３号公報に記載の下記構造単位

【００２７】

【化５】

【００２８】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。

【００２９】本発明に用いられる酸分解化合物の具体例
としては前記各公報に記載された化合物を挙げることが
できる。また、該化合物の合成方法は、前記各公報に記
載されている。

【００３０】本発明において、酸分解化合物として、−
（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基（ｎは２〜５の整数を表す）を
有する化合物が感度及び現像性のバランスの点から好ま
しい。また、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数
ｎが３又は４の化合物が特に好ましい。上記−（ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｏ）_n−基を有する化合物の具体例としては、ジメ
トキシシクロヘキサン、ベンズアルデヒド−ジメチルア
セタール及びそれらの置換誘導体等と、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
コール、ペンタエチレングリコールのいずれかとの縮合
生成物が挙げられる。

【００３１】また、本発明において、酸分解化合物とし
て、下記一般式（２）で表される化合物が感度及び現像
性の点から好ましい。

【００３２】

【化６】

【００３３】式中、Ｒ₀、Ｒ₁及びＲ₂は、各々水素原
子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロ
キシル基を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々１〜３の整数を
表し、ｍ及びｎは、各々１〜５の整数を表す。Ｒ₀、Ｒ₁
及びＲ₂が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙
げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げら
れ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。
一般式（２）で表される化合物のうち、ｍ及びｎが１又
は２である化合物が特に好ましい。一般式（２）で表さ
れる化合物は公知の方法で合成することができる。

【００３４】本発明において、酸分解化合物の含有量
は、感光層を形成する組成物の全固形分に対し、５〜７
０重量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％
である。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２種以
上を混合して用いてもよい。

【００３５】本発明に用いられる赤外線吸収剤として
は、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カ
ーボンブラック、磁性粉等を使用することができる。特
に好ましい赤外線吸収剤は８００〜１１００ｎｍに吸収
ピークを有し、ピークでのモル吸光係数εが１０⁵以上
である赤外吸収色素である。

【００３６】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。

【００３７】また、上記赤外吸収色素として、特開昭６
３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１
−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９
３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、
同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６
０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、
同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の
化合物が挙げられる。本発明に好ましく用いられる赤外
線吸収剤の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限
定されるものではない。

【００３８】

【化７】

【００３９】

【化８】

【００４０】

【化９】

【００４１】

【化１０】

【００４２】

【化１１】

【００４３】

【化１２】

【００４４】

【化１３】

【００４５】

【化１４】

【００４６】

【化１５】

【００４７】

【化１６】

【００４８】

【化１７】

【００４９】

【化１８】

【００５０】

【化１９】

【００５１】

【化２０】

【００５２】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。

【００５３】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系）大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎｂｌｕｅ８１２
０みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フィルム等
の各社からも市販されている。

【００５４】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、０．５〜５ｗｔ％の範囲が好ましい。該添加量が５
ｗｔ％を越えると露光部の現像性が低下し、０．５ｗｔ
％未満では露光部の耐現像性が低下する。

【００５５】本発明に用いる紫外線吸収剤としては、公
知の種々のものを用いることができ、例えばサルチル酸
系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノ
アクリレート系等が挙げられるが、これらの具体的な若
干例を以下に示す。

【００５６】ｐ-ｔｅｒｔ-ブチルフェニルサリシレートｐ-オクチルフェニルサリシレートフェニルサリシレート２,４-ジヒドロキシベンゾフェノン２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン２-ヒドロキシ-４-オクトキベンゾフェノン２-ヒドロキシー４ードデシルオキシベンゾフェノン２,２′-ジヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン２,２′-ジヒドロキシー４、４′-ジメトキシベンゾフェ
ノン２-ヒドロキシ-４-メトキシ-５-スルホベンゾフェノン２-(２′-ヒドロキシ-５′-メトキシフェニル)ベンゾト
リアゾール２-(２′-ヒドロキシ-５′-ｔｅｒｔ-ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール２-(２′-ヒドロキシ-３′-５′-ジ-ｔｅｒｔーブチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール２-(２′-ヒドロキシ-３′-ｔｅｒｔーブチル-５′-メチ
ルフェニル)-５-ベンゾトリアゾール２-(２′-ヒドロキシ-３′、５′-ジーｔｅｒｔーブチル
フェニル)-５-クロロベンゾトリアゾール２-(２′-ヒドロキシ-３′,５′-ジー-ｔｅｒｔ−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール２-(２′-ヒドロキシ-３′,５′-ビス(α,α′ジメチル
ベンジルフェニル)-５-クロロベンゾトリアゾールこれらの紫外線吸収剤のうち好ましいものは、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート
系のものである。これらの紫外線吸収剤は単独で使用し
てもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。

【００５７】本発明に用いられる紫外線吸収剤の添加量
は、使用するレーザー光源（吸収波長、強度）を考慮し
て選択されるが、本発明においては、１ｍ²当たり０．
０１〜１０ｇの範囲とすることが好ましく、特に好まし
くは０．１〜５ｇの範囲である。

【００５８】本発明の感光層に含有させる酸の存在下で
架橋しうる結合を少なくとも１つ有する化合物（以下
「酸架橋化合物」という）としては、官能基としてアル
コキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等
を少なくとも２個有するアミノ化合物、例えば、ヘキサ
メチロールメラミン、メラミン誘導体〔ヘキサメトキシ
メチル化メラミン（三井サイアナミッド（株）製サイメ
ル３００シリーズ（１）等）〕、ベンゾグアナミン誘導
体〔メチル／エチル混合アルキル化ベンゾグアナミン樹
脂（三井サイアナミッド（株）製サイメル１１００シリ
ーズ（２））等〕、グリコールウリル誘導体〔テトラメ
チロールグリコールウリル（三井サイアナミッド（株）
製サイメル１１００シリーズ（３））等〕、また、官能
基としてアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキ
シメチル基等を有する少なくとも２置換の芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリアセトキシメチルベンゼ
ン、１，２，４，５−テトラアセトキシメチルベンゼン
等が挙げられ、これらはＰｏｌｙｍ．Ｍａｓｔｅｒ．Ｓ
ｃｉ．Ｅｎｇ．，６４，２４１（１９９１）に記載の手
法により合成することができる。

【００５９】酸架橋化合物として、上記に加えてレゾー
ル樹脂及びフラン樹脂も使用することができる。さら
に、以下に示す単量体を含む単量体から合成されるアク
リル樹脂を使用することができる。

【００６０】Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒド
ロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニル
ベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−
メチルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルア
ルコール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビ
ニルフェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチ
ルアセテートのいずれかを１〜５０モル％、好ましくは
５〜３０モル％共重合体させる態様である。

【００６１】また、本発明の感光層に含有させる固形微
粒子の表面を、以上のような酸架橋化合物に含まれる架
橋基で修飾した素材を使用することができる。

【００６２】本発明の酸架橋化合物の含有量は、感光層
を形成する組成物の全固形分に対し、５〜６０重量％が
好ましく、特に好ましくは１０〜３０重量％である。酸
架橋化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を
混合して用いてもよい。

【００６３】本発明の画像形成材料の感光層には結合剤
を用いることができる。結合剤として例えば高分子量結
合剤を用いることができる。高分子量結合剤としては、
例えばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を有す
る重合体や後記する一般式（３）で表される構造単位を
有する重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げるこ
とができる。

【００６４】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報
に記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノ
ールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重
縮合体樹脂等が挙げられる。

【００６５】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば特公昭５２−４１０５０号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることをことができる。

【００６６】一般式（３）で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量体の
不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位
１種以上とを組み合わせた共重合体である。

【００６７】

【化２１】

【００６８】一般式（３）において、Ｒ¹及びＲ²はそれ
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。
Ｒ³は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子
又はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基である。Ｒ⁴は水素原子、メ
チル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表す。

【００６９】Ｙ¹は置換基を有するものも含むフェニレ
ン基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基
やエチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハ
ロゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基
等のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換されてい
るものである。

【００７０】Ｘ¹は窒素原子と芳香族炭素原子とを連結
する２価の有機基で、ｎ₁は０〜５の整数を表し、好ま
しくはｎ₁が０のときである。

【００７１】また、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレ
ン単位を有する重合体、一般式（３）で表される構造単
位を有する重合体及びアクリル樹脂を併用することもで
きる。

【００７２】本発明の好ましい態様として感光層がノボ
ラック樹脂及びアクリル樹脂を含有する態様が挙げられ
る。該アクリル樹脂はアクリル酸、メタクリル酸、又は
それらのエステル類を構成単位とする重合体であり、好
ましくは前述した一般式（３）で表される単量体単位を
有する重合体である。ノボラック樹脂は感光層に対して
２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、
アクリル樹脂は感光層に対して１〜５０重量％の範囲で
含有させることが好ましく、５〜３０重量％の範囲がよ
り好ましい。

【００７３】本発明の好ましい態様として感光層がノボ
ラック樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態様が挙
げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエ
チレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸
エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミ
ン、アルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコ
ール等が挙げられる。ノボラック樹脂は感光層に対して
２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、
ノニオン界面活性剤は感光層に対して０．０１〜１０重
量％の範囲で含有させることが好ましく、０．１〜１．
０重量％の範囲がより好ましい。

【００７４】更に、本発明の感光層には、感光層の感脂
性を向上するために親油性の樹脂を添加することができ
る。

【００７５】上記親油性の樹脂としては、例えば、特開
昭５０−１２５８０６号公報に記載されているような、
炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類
とアルデヒドの縮合物、例えばｔブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。

【００７６】本発明の画像形成材料の感光層には必要に
応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有さ
せることができる。

【００７７】本発明の画像形成材料は、感光層を形成す
る各成分を溶媒に溶解させて、適当な支持体の表面に塗
布し乾燥することにより感性層を設けて製造することが
できる。

【００７８】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは２種以上混合して使用する。

【００７９】塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜
５．０ｇ／ｍ²が好ましい。

【００８０】本発明の感光層を設ける支持体としては、
アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロ
ム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ
又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及び
ガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属
箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム
等が挙げられる。

【００８１】本発明を感光性平版印刷版に適用すると
き、支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要
に応じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミ
ニウム板を用いることが好ましい。これらの処理には公
知の方法を適用することができる。

【００８２】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組合わせて用いることができる。

【００８３】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし２種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット
処理を行い中和して水洗する。

【００８４】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ²であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ²で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。

【００８５】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。

【００８６】本発明の画像形成材料には波長７００ｎｍ
以上の光源を用い画像露光を行う。光源としては、半導
体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が
適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。

【００８７】本発明の画像形成材料の現像に用いられる
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は０．
０５〜２０重量％の範囲で用いるのが好適であり、より
好ましくは、０．１〜１０重量％である。

【００８８】本発明の画像形成方法において、現像液に
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。

【００８９】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。

【００９０】

【実施例】次に、本発明を実施例で更に具体的に説明す
る。なお、以下の実施例及び比較例において「部」は
「重量部」を意味する。

【００９１】実施例１支持体の作成厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃で１分間
脱脂処理を行った後、０．５モル１ｌの塩酸水溶液中で
温度；２５℃、電流密度；６０Ａ／ｄｍ²、処理時間；
３０秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、
５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃、１０秒間のデスマッ
ト処理を施した後、２０％硫酸溶液中で温度；２０℃、
電流密度；３Ａ／ｄｍ²、処理時間；１分間の条件で陽
極酸化処理を行った、更に又、３０℃の熱水で２０秒
間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体であ
るアルミニウム板を作製した。

【００９２】酸分解化合物の合成酸分解化合物Ａの合成１，１−ジメトキシシクロヘキサン（０．５モル）、フ
ェニルセロソルブ（１．０モル）及びｐ−トルエンスル
ホン酸８０ｍｇを攪拌しながら１００℃で１時間反応さ
せ、その後１５０℃まで徐々に温度を上げ、更に１５０
℃で４時間反応させた。反応により生成するメタノール
はこの間に留去した。冷却後、テトラヒドロフラン５０
０ｍｌ及び無水炭酸カリウム２．５ｇを加えて攪拌し濾
過した。濾液から溶媒を減圧留去し、更に１５０℃、高
真空下で低沸点成分を留去し、粘調な油状の下記酸分解
化合物Ａを得た。

【００９３】

【化２２】

【００９４】酸分解化合物Ｂの合成１，１−ジメトキシシクロヘキサン１．０モル、ジエチ
レングリコール１．０モル及びｐ−トルエンスルホン酸
８０ｍｇを攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、そ
の後１５０℃まで徐々に温度を上げ、更に１５０℃で４
時間反応させた。反応により生成するメタノールはこの
間に留去した。冷却後、テトラヒドロフラン５００ｍｌ
及び無水炭酸カリウム２．５ｇを加えて攪拌し濾過し
た。濾液から溶媒を減圧留去し、更に１５０℃、高真空
下で低沸点成分を留去し、粘調な油状の下記酸分解化合
物Ｂを得た。

【００９５】

【化２３】

【００９６】前記アルミニウム板の支持体上に下記組成
の感光層塗布液を乾燥後の膜厚が２ｇ／ｍ²になるよう
に回転塗布機を用いて塗布し９０℃で２分間乾燥して画
像形成材料を得た。

【００９７】感光層塗布液の組成ノボラック（フェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドの共縮合物；Ｍｗ＝５，０００、フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル比＝５／５７／３８）７０部酸分解化合物Ａ２０部光酸発生剤例示化合物（１）３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ２５２部紫外線吸収剤フェニルサリシレート５部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部この画像形成材料を、半導体レーザー（波長８３０ｎ
ｍ、出力５００ｍＷ）で感光層表面に画像露光を行っ
た。さらに、ポジＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ
（株）製）を水で容積比６倍に希釈した３０℃の現像液
に１２秒間浸漬し、非画像部（露光部）を除去した後、
水洗し平版印刷版を製造した。得られた平版印刷版を用
い、印刷を行い、耐刷力の評価を行った。感度とあわせ
表１に示す。

【００９８】実施例２実施例１の感光層処方を以下に変えた以外は、同様に印
刷まで行い、結果を表１に示す。

【００９９】感光層塗布液の組成実施例１で用いたノボラック７０部酸分解化合物Ｂ２０部光酸発生剤例示化合物（１）３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ２５２部紫外線吸収剤２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン５部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部実施例３実施例２の感光層塗布液の組成の紫外線吸収剤を２−
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾールに変更した以外は実施例２と同
様に画像形成材料を作製し、実施例１と同様の評価を行
い、結果を表１に示す。

【０１００】実施例４実施例１の感光層処方を以下に変えた以外は、同様にし
て画像形成材料を作製し、実施例１と同様の評価を行
い、結果を表１に示す。但し、露光後、現像前に１４０
℃、３０秒の熱処理を行い、現像では未露光部を除去し
た。

【０１０１】感光層塗布液の組成実施例１で用いたノボラック６０．７部レゾール樹脂（昭和高分子社製ショノールＣＫＰ９１８）３５．７５部光酸発生剤例示化合物（１）３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ２５２部紫外線吸収剤２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール１部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部実施例５実施例４の感光層塗布液の組成のレゾール樹脂をヘキサ
メチロールメラミンに変更した以外は実施例４と同様に
画像形成材料を作製し、実施例１と同様の評価を行い、
結果を表１に示す。

【０１０２】比較例１〜５実施例１〜５の感光層塗布液の組成の紫外線吸収剤を除
いた以外は実施例１〜５と同様に画像形成材料を作製
し、それぞれ比較例１〜５とした。実施例１と同様の評
価を行い、結果を表１に示す。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】表１から、本発明の試料は感度が良好で、
曝射されることによって起こる耐刷力の低下のない画像
形成材料であることがわかる。

【０１０５】

【発明の効果】本発明によれば、赤外線による露光で画
像形成が可能なポジ型及びネガ型の画像形成材料及び画
像形成方法が得られた。

【０１０６】また、本発明によれば、現像後の版材を印
刷にかける際、曝射されることによって起こる耐刷力の
低下がなく、耐刷性、感度の良い画像形成材料および画
像形成方法を提供することができた。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１
つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外線吸収剤を含有
する感光層を有することを特徴とする画像形成材料。
【請求項２】請求項１記載の画像形成材料の感光層上
に波長７００ｎｍ以上の可視光又は赤外線を用いて画像
を描画した後、アルカリ性現像液で露光部を除去する工
程を有することを特徴とする画像形成方法。
【請求項３】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、酸の存在下で架橋し得る結合を少な
くとも１つ有する化合物、赤外線吸収剤及び紫外線吸収
剤を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成
材料。
【請求項４】請求項３記載の画像形成材料の感光層上
に波長７００ｎｍ以上の可視光又は赤外線を用いて画像
を描画した後、アルカリ性現像液で未露光部を除去する
工程を有することを特徴とする画像形成方法。