DE60211612T2

DE60211612T2 - Bildbewertungsverfahren und Qualitätsüberwachungsverfahren für lithographische Druckplatten

Info

Publication number: DE60211612T2
Application number: DE60211612T
Authority: DE
Inventors: Hideo Yoshida-cho Haibara-gun Miyake; Akio Yoshida-cho Haibara-gun Oda; Tomoyoshi Yoshida-cho Haibara-gun Mitsumoto
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-09-21
Filing date: 2002-09-20
Publication date: 2007-05-03
Anticipated expiration: 2022-09-21
Also published as: DE60211612D1; JP2003098684A; EP1295716B1; EP1295716A2; ATE327098T1; EP1295716A3

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Bildauswertungsverfahren für positiv-arbeitende bildbildende Materialien, die angepasst sind an Infrarotlaser, die als eine Offsetdruck-Kopiervorlage verwendet werden können und die die direkte Plattenherstellung auf Basis von Digitalsignalen aus einem Computer, "direkte Plattenherstellung" genannt, erlauben, sowie ein Verfahren zur Kontrolle der Qualität von lithografischen Druckplatten.
Hintergrund der Erfindung
In den vergangenen Jahren hat sich die Lasertechnologie bemerkenswert entwickelt. Insbesondere hat mit Feststofflasern oder Halbleiterlasern, die Nahinfrarotstrahlen bis Infrarotstrahlen emittieren, der Output und die Reduktion der Größe Fortschritte gemacht. Folglich sind diese Laser extrem nützlich als eine Aufzeichnungslichtquelle bei der direkten Herstellung einer Platte auf Basis von Digitaldaten aus einem Computer oder dergleichen. Das positiv-arbeitende lithografische Druckplattenmaterial, das an Infrarotlaser angepasst ist unter Verwendung eines Infrarotlasers, der Licht des Infrarotstrahlbereichs emittiert, als Belichtungslichtquelle ist ein lithografisches Druckplattenmaterial, welches als notwendige Komponenten ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Binderharz und einen IR-Farbstoff oder dergleichen, der unter Erzeugung von Wärme Licht absorbiert, enthält.
Wenn das an Infrarotlaser angepasste positiv-arbeitende lithografische Druckplattenmaterial mit dem Infrarotlaser belichtet wird, wird in den unbelichteten Flächen (Bildflächen) die Funktion des IR-Farbstoffs oder dergleichen als Auflösungsinhibitor, welcher im wesentlichen die Löslichkeit des Binderharzes infolge der wechselseitigen Wirkung mit dem Binderharz verringert, aufrechterhalten. Andererseits wird in den belichteten Flächen (Nicht-Bildflächen) die wechselseitige Wirkung zwischen dem IR-Farbstoff oder dergleichen und dem Binderharz infolge von durch Absorption von IR-Strahlen durch den Farbstoff erzeugte Wärme geschwächt. Somit werden bei der Entwicklung die belichteten Flächen (Nicht-Bildflächen) mit einer alkalischen Entwicklungslösung aufgelöst und so eine lithografische Druckplatte gebildet. Solche positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien, die an Infrarotlaser angepasst sind, haben jedoch einen engeren Spielraum für die Aktivität einer Entwicklungslösung als positiv-arbeitende lithografische Druckplattenmaterialien, die durch UV-Belichtung auf Druckplatten gebildet werden und folglich treten Probleme auf, dass, wenn die Aktivität einer Entwicklungslösung verringert wird, Entwicklungsfehler leicht auftreten. Diese Probleme resultieren aus den folgenden wesentlichen Unterschieden zwischen den an Infrarotlaser angepassten positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien und den positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien, die durch UV-Belichtung auf Druckplatten gebildet werden sollen.
Die durch UV-Belichtung auf Druckplatten zu bildenden positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien enthalten als notwendige Komponenten ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Binderharz und ein Oniumsalz oder eine Chinondiazidverbindung. Wenn die durch UV-Belichtung in Druckplatten zu bildenden positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien belichtet werden, wird in den nicht-belichteten Flächen (Bildflächen) die Funktion des Oniumsalzes oder der Chinondiazidverbindung als Auflösungshemmstoff ähnlich zu den positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien, die an Infrarotlaser angepasst sind, aufrechterhalten, jedoch wird unterschiedlich von den positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien, die an Infrarotlaser angepasst sind, das Oniumsalz oder die Chinondiazidverbindung in belichteten Flächen (Nicht-Bildflächen) durch UV-Strahlen zersetzt und erzeugen so eine Säure, welche wiederum als Auflösungsbeschleuniger des Binderharzes wirkt. Dadurch ist in den durch UV-Belichtung in Druckplatten zu bildenden positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien der Unterschied der Löslichkeitseigenschaften für die alkalische Entwicklerlösung zwischen den belichteten Flächen und den nicht-belichteten Flächen extrem groß.
Andererseits wirkt in den an Infrarotlaser angepassten belichteten positiv-arbeitenden lithografischen Druckplattenmaterialien der IR-Farbstoff in belichteten Flächen (Nicht-Bildflächen) nicht als ein Auflösungsbeschleuniger für den Binder, obwohl die Wechselwirkung zwischen dem IR-Farbstoff oder dergleichen und dem Binderharz geschwächt wird und somit ist der Unterschied der Löslichkeit zwischen den nicht-belichteten Flächen und den belichteten Flächen klein. Folglich leiden an Infrarotlaser angepasste positiv-arbeitende lithografische Druckplattenmaterialien an einer ernsthaften Änderung der Bildgebungseigenschaften durch Änderung der Aktivität einer Entwicklungslösung und verursachen leicht Probleme in Bezug auf die Qualität lithografischer Druckplatten.
Bei der Entwicklung von an Infrarotlaser angepassten positiv-arbeitenden lichtempfindlichen lithografischen Druckplatten wird gewöhnlich ein automatischer Prozessor verwendet, der einen Nachfüllmechanismus zum Aufrechterhalten der Aktivität einer Entwicklungslösung auf einem Niveau so konstant wie möglich, aufweist. Der Nachfüllmechanismus wirkt so, dass eine hoch aktive Nachfüllsubstanz zugefügt wird, um die Verschlechterung der Entwicklungsaktivität der Entwicklungslösung infolge der Reduktion des pH in der Entwicklungslösung, die durch die Entwicklungsverarbeitung von Platten oder Absorption von CO₂ verursacht wird, zu verhindern. Im einzelnen wurden in einem gewöhnlichen PS-Platten-Verarbeitungssystem ein Verfahren zur Überwachung der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklungslösung und die Zugabe einer Nachfülllösung zur Lösung, um so die elektrische Leitfähigkeit auf konstantem Niveau zu halten, sowie ein Verfahren, bei dem periodisch eine festgelegte Menge einer Nachfülllösung zugesetzt wird, beispielsweise jedesmal, wenn die Zahl der Entwicklungs-verarbeiteten Platten eine bestimmte Zahl erreicht oder jedesmal, wenn eine bestimmte Verarbeitungszeit abgelaufen ist, zugegeben wird, vorgeschlagen. Wie zuvor beschrieben, war jedoch bei der kontinuierlichen Bildung von Bildern mit Stabilität unter Verwendung an Infrarotlaser angepasster positiv-arbeitender lichtempfindlicher bildgebender Materialien, die einen engen Spielraum für die Aktivität einer Entwicklungslösung haben, ihre Prozesskontrolle extrem schwierig.
In Bezug auf ein solches Problem beschreibt das japanische offengelegte Patent Nr. 13692/2001 ein Verfahren der leichten Beurteilung und Auswertung des Zustandes von Plattenherstellungsbedingungen für bildbildende Materialien durch Herstellung lithografischer Druckplatten für die Auswertung durch Belichtung mit sich stufenweise ändernder Plattenoberflächenenergie, Entwickeln eines belichteten bildgebenden Materials mit einer Standardentwicklungslösung mit Standardformulierung zur Herstellung einer mit einer Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte auf der einen Seite und Entwicklung eines weiteren belichteten bildgebenden Materials mit einer Entwicklungslösung, die ausgewertet werden soll, um eine mit der auszuwertenden Entwicklungslösung verarbeitete lithografische Druckplatte herzustellen, auf der anderen Seite und Vergleich des Zustandes der Bildflächen oder Nicht-Bildflächen der mit der Standardverarbeitungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte und demjenigen der lithografischen Druckplatte, die mit der auszuwertenden Entwicklungslösung verarbeitet wurde und beschreibt ferner ein Verfahren zur Kontrolle der Qualität von lithografischen Druckplatten, durch Feedback des Resultats zu dem Belichtungs-/Entwicklungsschritt zurückgeführt wird. Das heißt, das Verfahren umfasst das Vergleichen der mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte mit der lithografischen Druckplatte, die mit einer zu bewertenden Entwicklungslösung verarbeitet wurde und wenn der Unterschied zwischen ihnen einen vorgegebenen Wert überschreitet, werden die Belichtungs-/Entwicklungsbedingungen eingestellt.
Gemäß dem zuvor beschriebenen Verfahren können die Plattenherstellungsbedingungen für die an Infrarotlaser angepasste positiv-arbeitende bildbildende Materialien, insbesondere der Aktivitätszustand einer Entwicklungslösung, leicht beurteilt werden und ferner kann durch Feedback des Resultats zu dem Belichtungs-/Entwicklungsschritt die Qualität der lithografischen Druckplatten auf einem konstanten Niveau gehalten werden und gleichförmige Bilder können kontinuierlich gebildet werden, was somit äußerst effektiv ist. Bei diesem Verfahren ist es jedoch erforderlich, "lithografische Druckplatte für die Auswertung" herzustellen, indem die schrittweise Belichtung unter derselben Belichtungsbedingung durchgeführt wird, jedesmal, wenn die "mit Standardentwicklungslösung verarbeitete lithografische Druckplatte" und "mit einer zu bewertenden Entwicklungslösung zu verarbeitenden lithografischen Druckplatte" hergestellt werden. Jedesmal zu belichten, wenn die Auswertung notwendig ist, verringert die Arbeitseffizienz und ist somit nicht effektiv.
Zusammenfassung der Erfindung
Es ist folglich ein erfindungsgemäßes Ziel, solche Problem zu lösen und ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, das die gleichzeitige Belichtung mehrerer bildgebender Materialien zur Herstellung von lithografischen Druckplatten für die Auswertung und ihre Entwicklungsverarbeitung, wenn die Auswertung notwendig ist, umfasst, um ähnliche genaue Auswertungsresultate zu erhalten und welches es im Ergebnis erlaubt, die Qualität von lithografischen Druckplatten auf konstantem Niveau zu halten.
Als Ergebnis unterschiedlicher Untersuchungen haben die Erfinder gefunden, dass ausreichend genaue Auswertungsresultate für die Qualitätskontrolle erhalten werden können, ohne Änderung der Entwicklungsfähigkeit der lithografischen Druckplatten für die Auswertung, indem zuvor mehrere lithografische Druckplatten hergestellt werden durch schrittweise Belichtung für die Auswertung auf einmal und Aufbewahren der lithografischen Druckplatten bei einer Temperatur von 15 bis 23°C anstelle der Durchführung der Belichtung jedesmal, wenn die Auswertung durchgeführt wird. Das heißt, die Erfindung ist ein Bildauswertungsverfahren und ein Verfahren zur Kontrolle der Qualität von lithografischen Druckplatten mit den folgenden Ausführungsformen.

1. Bildauswertungsverfahren, umfassend: (i) einen Schritt der Bildung mehrerer lithografischer Druckplatten zur Auswertung, indem bildbildende Materialien, die einen Träger mit darauf vorgesehen einer lichtempfindlichen Schicht, die sowohl ein in alkalischer wässriger Lösung lösliches Harz als auch eine Verbindung, die unter Erzeugung von Wärme Licht absorbiert umfasst, unter mehreren Bedingungen belichtet werden, wobei die Plattenoberflächenenergie schrittweise geändert wird; (ii) einen Schritt des Aufbewahrens der belichteten mehreren lithografischen Druckplatten für die Auswertung bei einer Temperatur von 15 bis 23°C; (iii) einen Schritt der Entwicklung mindestens einer der mehreren lithografischen Druckplatten für die Auswertung mit einer Standardentwicklungslösung mit einer Standardformulierung, um eine lithografische Druckplatte herzustellen, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt wurde; (iv) einen Schritt der Entwicklung der anderen lithografischen Druckplatten für die Auswertung als die zuvor beschriebene lithografische Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung entwickelt wurde, mit einer je nach Notwendigkeit der Auswertung auszuwertenden Entwicklungslösung, um hierdurch lithografische Druckplatten herzustellen, die mit der auszuwertenden Entwicklungslösung behandelt wurden; und (v) einen Schritt des Vergleichs des Zustandes von Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die gebildet sind unter vorgegebenen Belichtungsbedingungen in der lithografischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt wurde, mit dem in den lithografischen Druckplatten, die mit der auszuwertenden Entwicklungslösung behandelt wurden.
2. Verfahren zur Kontrolle der Qualität von lithografischen Druckplatten, umfassend: (i) einen Schritt der Bildung mehrerer lithografischer Druckplatten für die Auswertung, indem bildbildende Materialien, die einen Träger mit darauf vorgesehen einer lichtempfindlichen Schicht, die sowohl ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz als auch eine Verbindung, die Licht absorbiert und so Wärme erzeugt, umfassen, unter mehreren Bedingungen unter stufenweiser Änderung der Plattenoberflächenenergie belichtet werden; (ii) einen Schritt des Aufbewahrens der belichteten mehreren lithografischen Druckplatten für die Auswertung bei einer Temperatur von 15 bis 23°C; (iii) einen Schritt der Entwicklung mindestens einer der mehreren lithografischen Druckplatten für die Auswertung mit einer Standardentwicklungslösung mit einer Standardformulierung, um eine lithografische Druckplatte herzustellen, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt worden ist; (iv) einen Schritt der Entwicklung der anderen lithografischen Druckplatten für die Auswertung als die zuvor beschriebene lithografische Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung entwickelt wurde, mit einer je nach Notwendigkeit der Auswertung auszuwertenden Entwicklungslösung, um so lithografische Druckplatten herzustellen, die mit der auszuwertenden Entwicklungslösung behandelt worden sind; (v) einen Schritt des Vergleichs des Zustandes von Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die unter vorgegebenen Belichtungsbedingungen in der lithografischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt worden ist, gebildet wurden, mit dem in den lithografischen Druckplatten, die mit der auszuwertenden Entwicklungslösung behandelt worden sind; und (vi) einen Schritt des Einstellens der Belichtungs-/Entwicklungsbedingungen in dem Fall, dass der oben beschriebene Vergleich der Bildflächen oder Nicht-Bildflächen der lithografischen Druckplatten zeigt, dass der Unterschied zwischen den lithografischen Druckplatten ein vorgegebenes Niveau übersteigt.

Ausführliche Beschreibung der Erfindung
Beim Schritt der Herstellung von lithografischen Druckplatten für die Auswertung durch Durchführen der Belichtung unter einer Vielzahl von Bedingungen mit schrittweiser Änderung der Plattenoberflächenenergie ist der Unterschied der Plattenoberflächenenergie zwischen benachbarten belichteten Flächen vorzugsweise 3 bis 50 %. Ebenso wird im Hinblick darauf, dass keine Fluktuation der Auswertung im Schritt (v) sichergestellt wird, der Vergleich des Zustands der Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die unter vorgegebenen Belichtungsbedingungen in der mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte gebildet sind, und dem in der lithografischen Druckplatte, die mit einer zu bewertenden Entwicklungslösung verarbeitet ist, vorzugsweise durchgeführt, indem mit sich stufenweise ändernder Plattenoberflächenenergie bei der Belichtung belichtet wird, das belichtete Plattenmaterial entwickelt wird und die Plattenoberflächenenergie der Minimal-Belichtungsmenge, die notwendig ist zum vollständigen Auflösen der belichteten Fläche, d.h. klare Empfindlichkeit ("clear sensitivity") verglichen wird oder die Plattenoberflächenenergie der Maximalbelichtungsmenge, bei der belichtete Flächen und nicht belichtete Flächen dieselbe Dichte haben, d.h. feste Empfindlichkeit ("solid sensitivity"), verglichen wird. Zusätzlich ist es im Hinblick auf die Verringerung der Fluktuation der Auswertung ebenso von Wichtigkeit, den Grad der Reproduktion oder das Versagen der Reproduktion kleiner Punkte zu vergleichen.
Ebenso ist die Reihenfolge des Aufbewahrungsschritts (ii) und des Schritts (iii) bei Herstellung mindestens einer mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte nicht besonders beschränkt. Im Einzelnen kann im Fall der Herstellung der lithografischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt worden ist, die belichtete lithografische Druckplatte für die Auswertung mit einer Standardentwicklungslösung verarbeitet werden, ohne dem Aufbewahrungsschritt (ii) unterzogen zu werden.
Die Erfindung wird nachstehend ausführlicher beschrieben.
In der Erfindung werden zuerst mehrere lithografische Druckplatten für die Auswertung hergestellt, die der stufenweisen Belichtung unterzogen wurden (nachfolgend manchmal als "Vorläufer für die Auswertung" bezeichnet) (Schritt (i)). Diese Platten zeigen dieselbe Funktion als graue Skalen, die für PS-Platten vom UV-Belichtungs-Typ verwendet werden. In diesem Schritt werden belichtete Flächen mit entsprechenden Stufen gebildet durch Belichten von bildgebenden Materialien, die einen Träger mit darauf vorgesehen einem in alkalischer wässriger Lösung löslichen Harz und einer Verbindung, die unter Erzeugung von Wärme Licht absorbieren kann, umfassen, mit einem Laserlicht, ohne den Output des Lichts zu ändern. Der Unterschied der Plattenoberflächenenergie zwischen benachbarten belichteten Flächen ist vorzugsweise 3 bis 50 % und im Fall der Durchführung einer präziseren Kontrolle ist er vorzugsweise von 3 bis 20 %, wobei ein Bereich von 5 bis 10 % am meisten bevorzugt ist. Unter Berücksichtigung dieses Unterschieds der Plattenoberflächenenergie zwischen benachbarten belichteten Flächen, der etwa 40 % in Bezug auf übliche Grauskalen ist, ist zu sehen, dass bei den an Infrarotlaserbelichtung angepassten erfindungsgemäßen lithografischen Druckplatten die akkuratere Kontrolle bevorzugt ist.
Die Zahl von für die Auswertung herzustellenden Vorläufern ist nicht besonders beschränkt und eine notwendige Zahl wird zuvor abgeschätzt, bevor sie hergestellt werden. Ebenso ist es wirksam und bevorzugt, wiederholt unterschiedliche Teile derselben Platte unter denselben Bedingungen zu belichten, um die belichteten Teile geeignet zu unterteilen und jeden belichteten Teil für die Verwendung aufzubewahren.
Die so hergestellten mehreren Vorläufer für die Auswertung werden bei einer Temperatur von 15 bis 23°C, vorzugsweise von 18 bis 23°C aufbewahrt (Schritt (ii)). In dem Fall, dass sie bei einer Temperatur höher als 23°C aufbewahrt werden, erfahren die Vorläufer für die Auswertung eine Änderung der Entwicklungsfähigkeit und so wird eine konstante Qualitätskontrolle unmöglich. Andererseits ist in dem Fall, dass die Vorläufer bei einer Temperatur unter 15°C aufbewahrt werden, eine solche Temperatur so unterschiedlich von der Temperatur einer Entwicklungslösung, dass dies nicht bevorzugt ist. Was die Änderung der Temperatur während der Aufbewahrung angeht, ist es umso besser, je kleiner so ist, und ein Bereich der Änderung ist vorzugsweise innerhalb von 5°C.
Wenn die Aufbewahrungstemperatur innerhalb des zuvor beschriebenen Bereichs gehalten wird, erleiden Vorläufer für die Auswertung nicht eine Änderung der Entwicklungsfähigkeit, selbst wenn mehrere Vorläufer auf einmal hergestellt werden und so wird eine eindeutige Qualitätskontrolle möglich.
Als ein Aufbewahrungsverfahren ist es bevorzugt, in einer Thermostat- und Hygrostat-Apparatur aufzubewahren. Im einzelnen lassen sich die Platinus F-Serie (hergestellt von Tabai Espec Corp.) und die Hygrostatkammer mit eingebautem Thermostat TBR-6W2S3L (hergestellt von Tabai Espec Corp.) anführen. Die Aufbewahrungszeit ist vorzugsweise innerhalb von 24 Stunden.
Heizmodusplatten haben eine Plattenoberfläche mit einer geringen Kratzfestigkeit und folglich ist es bevorzugt, die Plattenoberfläche zu schützen, um die Genauigkeit der Auswertung zu erhöhen. Im einzelnen ist es bevorzugt, ein Zwischenblatt oder dergleichen zwischen die Platten für die Aufbewahrung zu legen. Während der Aufbewahrung ist Vibration nicht bevorzugt, weil sie die Bildung von Kratzern verursacht und somit ist eine ruhige und vibrationsfreie Umgebung bevorzugt.
Zusätzlich ist eine relative Luftfeuchtigkeit der Aufbewahrungsumgebung vorzugsweise 60 % oder weniger, unter der die Änderung der Entwicklungsfähigkeit der Vorläufer für die Auswertung weiter verringert wird.
Andererseits wird mindestens einer der mehreren Vorläufer für die Auswertung, die im Schritt (i) von oben hergestellt wurden, mit einer Standardentwicklungslösung mit einer Standardformulierung entwickelt, um eine mit Standardentwicklungslösung verarbeitete lithografische Druckplatte herzustellen (Schritt (iii)). Diese Platte bildet eine Standardprobe der Basisentwicklungsbedingungen. Die Formulierung der Entwicklungslösung, Verarbeitungszeit und Verarbeitungstemperatur, die hier verwendet werden, werden als ein Standardprozess benutzt. Die mit Standardentwicklungslösung verarbeitete lithografische Druckplatte, die als ein Auswertungsstandard verwendet werden soll, kann für jede Auswertung hergestellt werden, im Fall der Durchführung der Auswertung und Kontrolle in kontinuierlichen Schritten der Durchführung derselben Plattenherstellungsverarbeitung genügt es, nur eine Platte in der ersten Stufe oder geeignet je nach Bedarf herzustellen. Zusätzlich kann die Platte hergestellt werden unter Weglassung des Aufbewahrungsschritts (ii).
Anschließend wird eine zu bewertende lithografische Druckplatte hergestellt (Schritt (iv)). Dies wird durchgeführt zur Bestätigung des Zustands der Ermüdung der Entwicklungslösung mit der Zeit und an dem Punkt, wo die Auswertung erforderlich ist, wird mindestens einer der zuvor erwähnten mehreren Vorläufer für die Auswertung, der der schrittweisen Belichtung unterzogen worden ist und nicht mit der Standardentwicklungslösung verarbeitet wurde, verarbeitet. Die Entwicklungsverarbeitung wird in derselben Weise durchgeführt wie mit der zuvor erwähnten mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte, außer dass mit einer zu bewertenden Entwicklungslösung entwickelt wird. Die Temperatur und Zeit für die Entwicklungsverarbeitung werden zu denselben gemacht wie bei der Herstellung der mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte.
Dann wird in Bezug auf die resultierende lithografische Druckplatte, die ein Standard ist für die Auswertung, und die resultierende lithografische Druckplatte für die Auswertung die Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die unter denselben Bedingungen belichtet worden sind, im Hinblick auf den Zustand der Entwicklung verglichen und so ausgewertet (Schritt (v)). Weil die Auswertung durchgeführt wird durch einen Eins-zu-Eins-Vergleich genügt es, den Zustand der Plattenoberfläche visuell zu bewerten oder das Drucken unter Verwendung der resultierenden lithografischen Druckplatten durchzuführen und sie im Hinblick auf Druckfleckeneigenschaften ("print stain properties") oder Druckdauerhaftigkeit zu vergleichen. Im Hinblick auf die Einfachheit und Bequemlichkeit wird der Vergleich vorzugsweise visuell oder über die Dichte durchgeführt. Es ist unter dem Gesichtspunkt der Sicherstellung keiner Fluktuation der Auswertung eine bevorzugte Ausführungsform, bei der eine Plattenoberflächenenergie der Minimalbelichtungsmenge, bei der belichtete Flächen des Vorläufers für die Auswertung mit sich schrittweise ändernder Plattenoberflächenenergie bei der Belichtung belichtet wurden und entwickelt wurden, vollständig aufgelöst werden (nachfolgend als "klare Empfindlichkeit" bezeichnet) oder eine Plattenoberflächenenergie der Maximalbelichtungsmenge, bei der belichtete Flächen und nicht-belichtete Flächen dieselbe Dichte haben (nachfolgend als "feste Empfindlichkeit" bezeichnet) bestimmt wird und die Standardplatte und die Platte für die Auswertung im Hinblick auf die klare Empfindlichkeit und/oder feste Empfindlichkeit verglichen wird. Der Vergleich kann durchgeführt werden unter Verwendung sowohl der klaren Empfindlichkeit als auch der festen Empfindlichkeit oder einer von ihnen.
Somit können die Änderung der Belichtungs-/Entwicklungsbedingungen leicht detektiert werden durch Vergleich mit der Probe, die der Standardentwicklungsverarbeitung unterzogen worden ist. Folglich kann die Qualitätskontrolle der lithografischen Druckplatten rationell durchgeführt werden durch das Feedback der Auswertungsresultate zu den lithografischen Druckplatten zum Belichtungsschritt, Entwicklungsschritt und Plattenherstellungsschritt (Schritt (vi)). Das heißt, wo die getestete lithografische Druckplatte, die mit einer auszuwertenden Entwicklungslösung entwickelt wurde, verschlechterte Entwicklungseigenschaften zeigt, wird die Belichtungsbedingung geändert, um die Belichtung zu verstärken, oder die Entwicklungsbedingung wird geändert, um zu aktivieren, während dann, wenn die Entwicklung übermäßig ist, die Endwicklungsbedingung geändert wird, um die Entwicklung zu schwächen oder die Entwicklungsbedingung zu mildern. Die Begrenzung im Fall der Durchführung des Feedbacks der Auswertungsresultate auf den Belichtungs-/Entwicklungsschritt kann bestimmt werden durch die gewünschte Gleichförmigkeit der lithografischen Druckplatten und gewöhnlich den Punkt, wo die klare Empfindlichkeit oder feste Empfindlichkeit von derjenigen der Standardprobe um 20 % abweicht. d.h. wo (Daten auf der lithografischen Druckplatte, die mit einer auszuwertenden Entwicklungslösung verarbeitet worden ist)/(Daten auf der mit Standardentwicklungslösung verarbeiteten lithografischen Druckplatte) außerhalb des Bereichs von 0,8 bis 1,2 gerät, ist ein Kriterium, um ein Feedback zum Belichtungs-/Entwicklungsschritt zu geben.
Um den Belichtungsschritt einzustellen, ist es ausreichend, den Output, den Strahldurchmesser, die Scanninggeschwindigkeit und die Belichtungszeit des Laserlichts einzustellen und so die gewünschten Belichtungsbedingungen zu realisieren.
Als Gegenmaßnahme zu dem Fall, wo die Empfindlichkeit außerhalb des vorgegebenen Bereichs gelangt, sind die folgenden illustriert, wenn die Entwicklung übermäßig durchgeführt wird.
Beim Entwicklungsschritt könne die folgenden Gegenmaßnahmen angewandt werden:

(1) Wasser zur Entwicklungslösung geben;
(2) Trockeneis zur Entwicklungslösung geben;
(3) ein CO₂-Gas in die Entwicklungslösung einblasen;
(4) das Verdünnungsverhältnis einer Nachfülllösung reduzieren;
(5) die eingestellte Menge von Nachfülllösung in einem automatischen Prozessor verringern;
(6) die Entwicklungstemperatur reduzieren;
(7) die Entwicklungszeit verkürzen (die Beförderungsgeschwindigkeit in dem automatischen Prozessor erhöhen);
(8) den Druck der Entwicklungsbürsten in dem automatischen Prozessor reduzieren;
(9) die Zahl von Entwicklungsbürsten in dem automatischen Prozessor reduzieren;
(10) die Menge von ausgestoßenem Spray reduzieren;
(11) die Entwicklungslösung rühren; und
(12) die Entwicklungslösung in eine neue zu ändern.

Ebenso können als Gegenmaßnahmen, die für den Belichtungsschritt oder andere Schritte angewandt werden können, die folgenden benutzt werden:

(13) die Belichtungsmenge reduzieren; und
(14) die positiv arbeitende lithografische Druckplatte für Infrarotlaser vor der Belichtung erwärmen.

Auf der anderen Seite werden als eine Gegenmaßnahme für den Fall, wo die Entwicklungsfähigkeit so stark verschlechtert wird, dass die Empfindlichkeit außerhalb des vorgegebenen Bereichs gelangt, die folgenden illustriert.
Im Entwicklungsschritt können die folgenden Gegenmaßnahmen angewandt werden:

(1) eine Nachfülllösung hinzufügen;
(2) das Verdünnungsverhältnis der Nachfülllösung erhöhen;
(3) die eingestellte Menge der Nachfülllösung in einem automatischen Prozessor erhöhen;
(4) die Entwicklungstemperatur erhöhen;
(5) die Entwicklungszeit verlängern (die Förderungsgeschwindigkeit in dem automatischen Prozessor reduzieren);
(6) den Druck der Entwicklungsbürsten in dem automatischen Prozessor erhöhen;
(7) die Zahl von Entwicklungsbürsten in dem automatischen Prozessor erhöhen;
(8) die Menge von ausgestoßenem Spray erhöhen; und
(9) die Entwicklungslösung in eine neue zu ändern.

Ebenso können als Gegenmaßnahmen, die für den Belichtungsschritt oder andere Schritte angewandt werden können, die folgenden verwendet werden:

(10) die Belichtungsmenge erhöhen.

Als Nächstes werden die bildgebenden Materialien, auf welche die Erfindung angewandt wird, nachstehend beschrieben.
Das bildbildende Material in Übereinstimmung mit der Erfindung ist nicht besonders beschränkt und beliebige von diesen können verwendet werden, welche einen Träger mit darauf vorgesehen einer lichtempfindlichen Schicht, die zusammengesetzt ist aus einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, die an Infrarotlaser angepasst ist, umfassen. Die lichtempfindliche Schicht enthält (a) ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz und (b) eine Verbindung, die unter Erzeugung von Wärme Licht absorbiert, und sie kann ferner Additive enthalten, die üblicherweise in positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzungen verwendet werden, die an Infrarotlaser angepasst sind.
Die lichtempfindliche Schicht kann aus einer Einzelschicht zusammengesetzt sein oder kann eine Multischichtstruktur haben, die zwei oder mehr Schichten umfasst. Die Multischichtstruktur wird auch als eine Laminatstruktur bezeichnet. Die lichtempfindliche Schicht der Multischichtstruktur umfasst mindestens eine obere wärmeempfindliche Schicht, die näher an der Oberfläche (Belichtungsoberfläche) positioniert ist, und eine untere Schicht, die ein alkalilösliches Harz enthält, die näher am Träger positioniert ist.
Das erfindungsgemäß verwendete alkalilösliche Harz (a) ist nicht besonders beschränkt und herkömmlich bekannte alkalilösliche Harze werden verwandt. Polymerverbindungen, die in ihren Molekülen eine funktionelle Gruppe enthalten, ausgewählt aus (1) einer phenolischen Hydroxygruppe, (2) einer Sulfonamidogruppe und (3) einer aktiven Imidogruppe werden bevorzugt verwendet. Beispiele der Polymerverbindung schließen die folgenden Verbindungen ein, jedoch sollte das alkalilösliche Harz nicht so verstanden werden, dass es auf diese Verbindungen beschränkt ist.

(1) Beispiele der Polymerverbindung, die phenolische Hydroxygruppen enthält, schließen ein: ein Novolakharz, beispielsweise Phenol-Formaldehyd-Harz, m-Kresol-Formaldehyd-Harz, p-Kresol-Formaldehyd-Harz, gemischtes m-/p-Kresol-Formaldehyd-Harz oder gemischtes Phenol/Kresol (m-Kresol, p-Kresol oder gemischtes m-/p-Kresol)-Formaldehyd-Harz und ein Pyrogallol-Aceton-Harz. Ebenso wird eine Polymerverbindung, die phenolische Hydroxygruppen in ihren Seitenketten enthält, bevorzugt als die Polymerverbindung mit phenolischen Hydroxygruppen verwendet.
(2) Beispiele der alkalilöslichen Polymerverbindung, die Sulfonamidogruppen enthält, schließen Polymerverbindungen ein, die erhalten werden durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit einer Sulfonamidogruppe oder Copolymerisation eines polymerisierbaren Monomers mit einer Sulfonamidogruppe und anderen polymerisierbaren Monomeren. Das polymerisierbare Monomer mit einer Sulfonamidogruppe schließt eine niedermolekulare Verbindung ein, die mindestens eine Sulfonamidogruppe mit mindestens einem Wasserstoffatom mit dem Stickstoffatom verbunden (-NH-SO₂-) und mindestens eine polymerisierbare ungesättigte Bindung enthält. Von solchen Verbindungen ist eine niedermolekulare Verbindung mit einer Kombination einer Acryloyl-, Allyl- oder Vinyloxygruppe mit einer unsubstituierten oder monosubstituierten Aminosulfonyl- oder substituierten Sulfonyliminogruppe bevorzugt.
(3) Die alkalilösliche Polymerverbindung, die aktive Imidogruppen enthält, ist vorzugsweise eine Polymerverbindung mit aktiven Imidogruppen in ihrem Molekül. Beispiele der Polymerverbindung schließen Polymerverbindungen ein, die erhalten werden durch Homopolymerisation eines polymerisierbaren Monomers, welches eine niedermolekulare Verbindung mit mindestens einer aktiven Imidogruppe und mindestens einer polymerisierbaren ungesättigten Bindung ist, oder durch Copolymerisation eines solchen polymerisierbaren Monomers und anderer polymerisierbarer Monomere. Im einzelnen werden, N-(p-Toluolsulfonyl)methacrylamid und N-(p-Toluolsulfonyl)acrylamid bevorzugt verwendet.

Von den alkalilöslichen Harzen sind die alkalilöslichen Polymerverbindungen, die phenolische Hydroxygruppen enthalten, bevorzugt, weil sie ausgezeichnete Bildbildungseigenschaften besitzen, wenn sie mit einem Infrarotlaser belichtet werden. Bevorzugte Beispiele der Polymerverbindung schließen ein Novolakharz, beispielsweise Phenol-Formaldehyd-Harz, m-Kresol-Formaldehyd-Harz, p-Kresol-Formaldehyd-Harz, gemischtes m-/p-Kresol-Formaldehyd-Harz oder gemischtes Phenol/Kresol (m-Kresol, p-Kresol oder gemischtes m-/p-Kresol)-Formaldehyd-Harz und Pyrogallol-Aceton-Harz ein.
In dem Fall, wo die lichtempfindliche Schicht eine Multischichtstruktur hat, werden die alkalilöslichen Polymerverbindungen, die phenolische Hydroxygruppen enthalten, vorzugsweise in der oberen Schicht verwendet, weil sie die starke Wasserstoffbindungs-bildende Eigenschaft in der unbelichteten Fläche zeigen, während ein Teil der Wasserstoffbindungen leicht in der belichteten Fläche zerstört wird. Das Novolakharz wird mehr bevorzugt verwendet.
Als das in der unteren Schicht verwendete alkalilösliche Harz ist ein Acrylharz bevorzugt. Ein Acrylharz, das Sulfonamidogruppen enthält, ist besonders bevorzugt.
Die alkalilöslichen Harze können einzeln oder als Kombination von zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Als die Verbindung (b), die Licht absorbieren kann und so Wärme erzeugen kann, können unterschiedliche bekannte Pigmente oder Farbstoffe verwendet werden, weil jedoch eine ausreichende Belichtung bis zum tiefen Teil der lichtempfindlichen Schicht durchgeführt wird, sind Farbstoffe bevorzugt.
Als die Pigmente lassen sich handelsübliche Pigmente und die Pigmente, welche beschrieben sind in Colour Index (C.I.), "The latest Pigment Handbook", zusammengestellt von Nihon Ganryo Gijutsu Kyokai (1977), "The latest Pigment Applied Technique", publiziert von CMC Publishing Co. (1986) und "Printing Ink Technique", veröffentlicht von CMC Publishing Co. (1984) nennen.
Arten der Pigmente schließen Schwarz-Pigmente, Gelb-Pigmente, Orange-Pigmente, Braun-Pigmente, Rot-Pigmente, Purpur-Pigmente, Blau-Pigmente, Grün-Pigmente, Fluoreszenz-Pigmente, Metallpulver-Pigmente und Polymer-gebundene Pigmente ein. Im einzelnen lassen sich unlösliche Azopigmente, Azo-Lack-Pigmente, Kondensations-Azo-Pigmente, Chelat-Azo-Pigmente, Phthalocyanin-Pigmente, Anthrachinon-Pigmente, Perylen- und Perinon-Pigmente, Thioindigo-Pigmente, Chinacridon-Pigmente, Dioxazin-Pigmente, Isoindolinon-Pigmente, Chinophthalon-Pigmente, Reichardt-Farbstoffe, Azin-Pigmente, Nitroso-Pigmente, Nitro-Pigmente, Naturpigmente, Fluorezenz-Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß nennen.
Die Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet werden oder können zum Zweck der Verbesserung der Dispergierbarkeit in der lichtempfindlichen Schicht oberflächenbehandelt werden. Als Verfahren zur Oberflächenbehandlung können ein Verfahren der Oberflächenbeschichtung mit Harzen oder Wachsen, ein Verfahren des Anhaftens von Tensiden und ein Verfahren des Anhaftens reaktiver Substanzen (z.B. Silan-Haftvermittler, Epoxyverbindungen und Polyisocyanate) an die Oberfläche der Pigmente genannt werden. Die Oberflächenbehandlungsverfahren sind beschrieben in "Natures and Application of Metal Soaps", veröffentlicht von Saiwai Shobo Co., "Printing Ink Technique", veröffentlicht von CMC Publishing Co. (1984) und "The Latest Pigment Applied Technique", veröffentlicht von CMC Publishing Co. (1986).
Die Partikelgröße der Pigmente ist vorzugsweise 0,01 bis 10 μm, mehr bevorzugt 0,05 bis 1 μm, besonders bevorzugt 0,1 bis 1 μm.
Die Partikelgröße von Pigmenten von weniger als 0,01 μm ist manchmal nicht bevorzugt unter dem Gesichtspunkt der Stabilität der Dispersion in einer Beschichtungslösung für die lichtempfindliche Schicht, während in dem Fall, dass sie 10 μm übersteigt, es nicht bevorzugt ist im Hinblick auf die Gleichförmigkeit der lichtempfindlichen Schicht.
Als Dispergierverfahren der Pigmente können bekannte Verfahren bei der Herstellung von Farben und Tonern verwendet werden. Beispiele der für die Dispersion verwendeten Dispergierapparatur schließen eine Sandmühle, einen Attritor, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Impeller, ein Dispergiergerät, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, einen Druckkneter usw. ein und Details sind beschrieben in "The Latest Pigment Applied Technique", veröffentlicht 1986 von CMC Publishing Co.
Als erfindungsgemäß zu verwendende Farbstoffe lassen sich handelsübliche Farbstoffe und bekannte Farbstoffe, die beispielsweise beschrieben sind in "Dye Handbook", zusammengestellt von Yuki Gosei Kagaku Kyokai (1970) nennen. Beispiele davon schließen Azo-Farbstoffe, Metallkomplex-Azo- Farbstoffe, Pyrazolon-Azo-Farbstoffe, Anthrachinon-Farbstoffe, Phthalocyanin-Farbstoffe, Carbonium-Farbstoffe, Chinonimin-Farbstoffe, Methin-Farbstoffe und Cyanin-Farbstoffe ein.
Von den Pigmenten oder Farbstoffen sind diejenigen, welche Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren, besonders bevorzugt in dem Punkt, dass sie angepasst sind für Laservorrichtungen, welche Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen emittieren.
Als solche Pigmente, die Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren, werden Ruße bevorzugt verwendet. Zusätzlich lassen sich als Farbstoffe, die Infrarotstrahlen oder Nahinfrarotstrahlen absorbieren, beispielsweise Cyanin-Farbstoffe, die beschrieben sind in den offengelegten japanischen Patenten Nrn. 125246/1983, 84356/1984, 202829/1984 und 78787/1985; in den offengelegten japanischen Patenten Nrn. 173696/1983, 181690/1983 und 194595/1983 beschriebene Methin-Farbstoffe; in den offengelegten japanischen Patenten Nrn. 112793/1983, 224793/1983, 48187/1984, 73996/1984, 52940/1985 und 63744/1985 beschriebene Naphthochinon-Farbstoffe; in dem offengelegten japanischen Patent Nr. 112792/1983 beschriebene Squarylium-Farbstoffe; und im britischen Patent 434,875 beschriebene Cyanin-Farbstoffe nennen.
Ferner werden auch Nahinfrarot-absorbierende Sensibilisierungsfarbstoffe, die beschrieben sind im US-Patent 5,156,938 bevorzugt verwendet. Zusätzlich werden im US-Patent 3,881,924 beschriebene substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, in dem offengelegten japanischen Patent Nr. 142645/1987 (korrespondierend zu US-Patent 4,327,169) beschriebene Trimethinthiapyryliumsalze, in den offengelegten japanischen Patenten Nrn. 181051/1983, 220143/1983, 41363/1984, 84248/1984, 84249/1984, 146063/1984 und 146061/1984 beschriebene Verbindungen auf Pyrylium-Basis, im offengelegten japanischen Patent Nr. 216146/1984 beschriebene Cyanin-Farbstoffe, im US-Patent 4,283,475 beschriebene Pentamethinthiopyryliumsalze, in den japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 13514/1993 und 19702/1993 beschriebene Pyryliumverbindungen, Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 und Epolight V-176A besonders bevorzugt verwendet.
Als weitere Beispiele besonders bevorzugter Farbstoffe lassen sich Nahinfrarot-absorbierende Farbstoffe der Formeln (I) und (II), die beschrieben sind im US-Patent 4,756,993, nennen.
Die Pigmente oder Farbstoffe können zu dem Druckplattenmaterial in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.%, vorzugsweise von 0,1 bis 10 Gew.%, bezogen auf die Gesamt-Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht, hinzugefügt werden. Im Fall der Verwendung von Farbstoffen werden sie besonders bevorzugt in einer Menge von 0,5 bis 10 Gew.% und im Fall der Verwendung von Pigmenten werden sie besonders bevorzugt in einer Menge von 3 bis 10 Gew.% hinzugefügt. In dem Fall, dass die zugesetzte Menge von Pigmenten oder Farbstoffen innerhalb des oben beschriebenen Bereichs liegt, wird eine gute Empfindlichkeit, eine gute Gleichförmigkeit der lichtempfindlichen Schicht und eine gute Dauerhaftigkeit der Aufzeichnungsschicht erhalten und somit ist eine solche Menge bevorzugt.
Die Farbstoffe oder Pigmente können in derselben Schicht zusammen mit anderen Komponenten hinzugefügt werden oder sie können zu einer unterschiedlichen Schicht gegeben werden. Im Fall ihres Zusatzes zu einer unterschiedlichen Schicht werden sie vorzugsweise zu der Schicht hinzugefügt, die an die Schicht angrenzt, die Substanzen enthält, welche thermisch zersetzbar sind und die Löslichkeit von Binderharzen wesentlich erniedrigen, wenn sie in dem Zustand sind, nicht zersetzt zu sein. Farbstoffe oder Pigmente und Binderharze werden vorzugsweise zu derselben Schicht hinzugefügt, obwohl sie zu unterschiedlichen Schichten zugegeben werden können.
(Andere Komponenten)
Zu der lichtempfindlichen Schicht können nach Bedarf ferner unterschiedliche Additive gegeben werden. Beispielsweise lassen sich diejenigen Substanzen nennen, die thermisch zersetzbar sind und in einem Zustand, in dem sie nicht zersetzt sind, die Löslichkeit der in wässriger alkalischer Lösung löslichen hochmolekularen Verbindung wesentlich erniedrigen, wie Oniumsalze, o-Chinondiazid-Verbindungen, aromatische Sulfonverbindungen und aromatische Sulfonsäureester. Zusatz der Additive dient dazu, zu verbessern, dass verhindert wird, dass sich Bildflächen in einer Entwicklungslösung auflösen.
Als bevorzugte Beispiele der Oniumsalze lassen sich beispielsweise Diazoniumsalze, Ammoniumsalze, Phosphoniumsalze, Iodoniumsalze, Sulfoniumsalze, Selenoniumsalze und Arsoniumsalze nennen.
Von diesen sind Diazoniumsalze besonders bevorzugt. Besonders bevorzugte Diazoniumsalze schließen diejenigen ein, die im offengelegten japanischen Patent Nr. 158230/1993 beschrieben sind.
Bevorzugte o-Chinondiazid-Verbindungen schließen diejenigen Verbindungen unterschiedlicher Strukturen ein, die mindestens eine o-Chinondiazidgruppe haben und die eine erhöhte Alkalilöslichkeit zeigen, wenn sie thermisch zersetzt sind.
Die o-Chinondiazide zeigen bei ihrer thermischen Zersetzung den Effekt, dass sie ihre Fähigkeit verlieren, die Auflösung des Binders zu hemmen, und den Effekt, dass sie sich selbst in alkalilösliche Substanzen ändern und so in der Lage sind, als ein Beschleuniger für die Auflösung des Binders zu wirken.
Die zugesetzte Menge der o-Chinondiazid-Verbindung ist vorzugsweise 1 bis 50 Gew.%, mehr bevorzugt 5 bis 30 Gew.%, besonders bevorzugt 10 bis 30 Gew.%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht. In dem Fall, wo die lichtempfindliche Schicht eine Multilagenstruktur hat, kann die o-Chinondiazid-Verbindung zu der oberen Schicht, der unteren Schicht oder beiden hinzugefügt werden.
Als Gegenionen der Oniumsalze lassen sich nennen: Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat, Triisopropylnaphthalinsulfonat, 5-Nitro-o-toluolsulfonat, 5-Sulfosalicylat, 2,5-Dimethylbenzolsulfonat, 2,4,6-Trimethylbenzolsulfonat, 2-Nitrobenzolsulfonat, 3-Chlorbenzolsulfonat, 3-Brombenzolsulfonat, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonat, Dodecylbenzolsulfonat, 1-Naphthol-5-sulfonat, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonat und p-Toluolsulfonat. Von diesen sind Hexafluorphosphat und alkylaromatische Sulfonate, wie Triisopropylnaphthalinsulfonat und 2,5-Dimethylbenzolsulfonat bevorzugt.
Die Oniumsalze können zu der oberen Schicht oder der unteren Schicht hinzugefügt werden, im Hinblick auf die Bildbildungseigenschaften ist es jedoch bevorzugt, sie zumindest zu der unteren Schicht hinzuzufügen.
Die zugesetzte Menge anderer Additive als der o-Chinondiazid-Verbindungen ist vorzugsweise 1 bis 50 Gew.%, mehr bevorzugt 5 bis 30 Gew.%, besonders bevorzugt 10 bis 30 Gew.%, bezogen auf die Gesamt-Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht. Die Additive und der Binder werden vorzugsweise in dieselbe Schicht eingebaut.
Um die Empfindlichkeit weiter zu verbessern, können auch cyclische Säureanhydride, wie Phthalsäureanhydrid, Phenole, wie Bisphenol A, Bisphenol S und p-Nitrophenol, sowie organische Säuren, wie p-Toluolsulfonsäure und Dodecylbenzolsulfonsäure hinzugefügt werden.
Der Gehalt der cyclischen Säureanhydride, Phenole und organischen Säuren in dem Druckplattenmaterial ist vorzugsweise 0,05 bis 20 Gew.%, mehr bevorzugt 0,1 bis 15 Gew.%, besonders bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.%.
Zu der lichtempfindlichen Schicht kann zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften ein Tensid hinzugefügt werden, beispielsweise ein fluorhaltiges Tensid, wie beschrieben im offengelegten japanischen Patent Nr. 170950/1987. Die zugesetzte Menge des Tensids ist vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.%, mehr bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.%, bezogen auf die Gesamt-Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht.
In dem Fall, dass die lichtempfindliche Schicht eine Multilagenstruktur hat, können die oben beschriebenen Additive zu der oberen Schicht, der unteren Schicht oder beiden von ihnen hinzugefügt werden.
Die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen lithografischen Druckplattenvorläufers wird gewöhnlich durch Auflösen der zuvor beschriebenen Komponenten in einem Lösungsmittel und Beschichten der Lösung auf einen geeigneten Träger gebildet. Beispiele der zu verwendenden Lösungsmittel schließen ein: Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-Propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton und Toluol, jedoch sind die Lösungsmittel nicht darauf beschränkt. Die Lösungsmittel können allein oder als eine Mischung davon verwendet werden.
In dem Fall, dass die lichtempfindliche Schicht eine Multilagenstruktur hat, wird ein für die Beschichtung verwendetes Lösungsmittel vorzugsweise so ausgewählt, dass das Lösungsmittel unterschiedliche Auflösungseigenschaften für die alkalilösliche, hochmolekulare Verbindung, die für die obere wärmeempfindliche Schicht zu verwenden ist, und für die alkalilösliche hochmolekulare Verbindung, die für die untere Schicht zu verwenden ist, zeigt. Das heißt, bei dem angrenzenden Aufbringen der oberen Schicht nach dem Aufbringen der unteren Schicht verursacht die Verwendung eines Lösungsmittels, das die alkalilösliche, hochmolekulare Verbindung der unteren Schicht auflösen kann, als ein Lösungsmittel für die obere Schicht ein nicht vernachlässigbares Mischen an der Grenzfläche zwischen den Schichten und in einem extremen Fall kann eine Einzelschicht anstelle von Doppelschichten resultieren. In dem Fall, dass das Mischen an der Grenzfläche zwischen den angrenzenden zwei Schichten stattfindet oder wechselseitige Auflösung stattfindet, um sich als eine gleichförmige Einzelschicht zu verhalten, kann der Effekt der Multischichtstruktur, die erhalten werden soll infolge der Gegenwart der zwei Schichten beeinträchtigt werden, und somit sind solche Phänomene nicht bevorzugt. Folglich ist das für das Aufbringen der oberen wärmeempfindlichen Schicht zu verwendende Lösungsmittel vorzugsweise ein schlechtes Lösungsmittel für die in der unteren Schicht enthaltene alkalilösliche hochmolekulare Verbindung.
Bei der Aufbringung der jeweiligen Schicht ist die Konzentration der obigen Komponenten (Gesamt-Feststoffkomponenten, Additive eingeschlossen) in dem Lösungsmittel vorzugsweise 1 bis 50 Gew.%. die Beschichtungsmengen der oberen Schicht und der unteren Schicht auf dem Träger, die nach dem Trocknen erhalten werden (Feststoffgehalt) werden abhängig von der Endverwendung variiert, jedoch sind sie üblicherweise 0,05 bis 1,0 g/m² für die obere Schicht und 0,3 bis 3,0 g/m² für die untere Schicht. Wenn die untere Schicht in einer Menge innerhalb des oben beschriebenen Bereichs beschichtet wird, werden gute bildbildende Eigenschaften und Empfindlichkeit erhalten und somit ist eine solche Menge bevorzugt. Ebenso werden, wenn die untere Schicht in einer Menge innerhalb des oben beschriebenen Bereichs beschichtet wird, gute bildbildende Eigenschaften erhalten. Zusätzlich ist die Summe der Beschichtungsmengen der zwei Schichten vorzugsweise 0,5 bis 3,0 g/m². Innerhalb dieses Bereichs wird eine gute Empfindlichkeit erhalten und die obere Schicht und die untere Schicht zeigen gute Filmeigenschaften.
Als Beschichtungsverfahren können unterschiedliche Beschichtungsverfahren angewandt werden und es lassen sich beispielsweise nennen: Stabbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Rakelbeschichtung und Walzenbeschichtung.
Zu der oberen Schicht und der unteren Schicht der Erfindung können zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften ein Tensid, wie beispielsweise ein fluorhaltiges Tensid, wie beschrieben im offengelegten japanischen Patent Nr. 170950/1987, hinzugefügt werden. Die zugesetzte Menge des Tensids ist vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.%, mehr bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.%, bezogen auf die gesamten Feststoffkomponenten der unteren Schicht oder der oberen Schicht.
Der erfindungsgemäß zu verwendende Träger ist vorzugsweise eine Platte mit Dimensionsstabilität und Beispiele dafür sind Papier; mit Kunststoffen (z.B. Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol) laminiertes Papier; Metallplatten (z.B. Aluminium, Zink oder Kupfer); Plastikfolien (z.B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat oder Polyvinylacetal) und Papier oder Kunststofffolien, die mit Metallen, wie oben beschrieben, laminiert oder auf dem diese abgeschieden sind.
Als der Träger sind Polyesterfolien oder Aluminiumplatten bevorzugt. Von diesen sind Aluminiumplatten, die eine gute Dimensionsstabilität zeigen und vergleichsweise preiswert sind, besonders bevorzugt. Bevorzugte Aluminiumplatten schließen reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten ein, die Aluminium als eine Hauptkomponente und eine geringe Menge von Fremdelementen enthalten. Ferner können Kunststofffolien verwendet werden, die mit Aluminium laminiert sind oder auf denen Aluminium abgeschieden ist. Die in der Aluminiumlegierung enthaltenen Fremdelemente schließen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel und Titan ein. Der Gehalt an Fremdelementen in der Legierung ist höchstens 10 Gew.%. Reines Aluminium ist bevorzugt, jedoch ist vollständig reines Aluminium schwierig zu erhalten im Hinblick auf die Schmelzungstechniken. Entsprechend mag Aluminium, das eine geringe Menge Fremdelemente enthält, genügen. Somit ist die Zusammensetzung der Aluminiumplatte nicht spezifiziert und herkömmlich bekannte und verwendete Aluminiumplatten können geeignet benutzt werden. Die Dicke der Aluminiumplatte ist etwa 0,1 mm bis etwa 0,6 mm, vorzugsweise 0,15 mm bis 0,4 mm, besonders bevorzugt 0,2 mm bis 0,3 mm.
Vor der Oberflächenaufrauung der Aluminiumplatte wird, falls gewünscht, eine Entfettung durchgeführt, um das Walzenöl auf der Oberfläche der Platte zu entfernen, indem beispielsweise Tenside, organische Lösungsmittel oder alkalische wässrige Lösung verwendet werden.
Verschiedene Verfahren werden für die Oberflächenaufrauungsbehandlung der Aluminiumplatte verwendet. Zum Beispiel lassen sich ein mechanisches Aufrauungsverfahren, ein elektrochemisches Aufrauungsverfahren oder das elektrochemische Auflösen der Oberfläche zur Aufrauung, sowie ein chemisches Aufrauungsverfahren des chemisch-selektiven Auflösens der Oberfläche zur Aufrauung nennen. Als die mechanischen Verfahren können bekannte mechanische Verfahren, wie beispielsweise ein Kugelkörnungsverfahren, ein Bürstenkörnungsverfahren, ein Strahlkörnungsverfahren und ein Polierscheibenkörnungsverfahren verwendet werden. Als das elektrochemische Verfahren gibt es ein Verfahren der Durchführung von Wechselstrom- oder Gleichstromelektrolyse in einer Salzsäure- oder Salpetersäure-Elektrolytlösung.
Die so oberflächenaufgeraute Aluminiumplatte wird gewünschtenfalls zur Erhöhung der Wasser zurückhaltenden Eigenschaften und Abriebfestigkeit der Oberfläche einer anodischen Oxidationsbehandlung unterzogen, nachdem sie, falls gewünscht, einer Alkaliätzungsbehandlung und Neutralisationsbehandlung unterzogen worden ist. Die Menge des durch die anodische Oxidation gebildeten anodischen Oxidationsfilms ist vorzugsweise 1,0 g/m² oder mehr. In dem Fall, dass die Menge des anodischen Oxidationsfilms weniger als 1,0 g/m² ist, kann die Druckdauerhaftigkeit ungenügend sein und wenn sie als eine lithografische Druckplatte verwendet wird, neigt die Nicht-Bildfläche der lithografischen Druckplatte dazu, verkratzt zu werden und im Ergebnis tritt "Kratzverschmutzung " (scratch stain), d.h. Adhäsion von Farbe an diesen Kratzer, leicht auf.
Nach der anodischen Oxidationsbehandlung wird die Aluminiumoberfläche, falls gewünscht, einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen.
Die Konzentration der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht (gesamte Feststoffkomponenten, einschließlich Additive), die auf den Träger aufgebracht werden soll, in der Beschichtungslösung, ist vorzugsweise 1 bis 50 Gew.% und somit wird die Menge des Lösungsmittels kontrolliert, um die Konzentration innerhalb des Bereichs einzustellen. Ebenso variiert die Beschichtungsmenge (Feststoffkomponenten) auf dem Träger nach dem Trocknen abhängig von der Endverwendung, jedoch ist als lichtempfindliches lithografisches Druckplattenmaterial eine Menge von 0,5 bis 5,0 g/m² bevorzugt.
Die Beschichtungsverfahren sind nicht besonders beschränkt und es lassen sich beispielsweise Stabbeschichtung, Rotationsbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung, Tauchbeschichtung, Luftmesserbeschichtung, Rakelbeschichtung und Walzenbeschichtung nennen. Wenn die Beschichtungsmenge abnimmt, nimmt die scheinbare Empfindlichkeit zu, jedoch neigen die Filmeigenschaften der lichtempfindlichen Schicht zur Verschlechterung.
Das resultierende Druckplattenmaterial wird der bildweisen Belichtung und Entwicklungsverarbeitung unterzogen, um eine lithografische Druckplatte herzustellen. Aktive Strahlen emittierende Lichtquellen, die bei der bildweisen Belichtung verwendet werden können, sind vorzugsweise diejenigen Lichtquellen, welche ein Licht der Nahinfrarot- bis Infrarotregion emittieren, wobei ein Feststofflaser und ein Halbleiterlaser besonders bevorzugt sind.
Die auf das erfindungsgemäße lithografische Druckplattenmaterial anzuwendende Entwicklungslösung ist eine Entwicklungslösung mit einem pH von 9,0 bis 14,0, vorzugsweise 12,0 bis 13,5. Als die Entwicklungslösung (nachfolgend eine Nachfülllösung eingeschlossen) können bisher bekannte alkalische wässrige Lösungen verwendet werden. Beispielsweise lassen sich anorganische Alkalisalze nennen, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid. Ferner seien organische alkalische Mittel, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin genannt. Die alkalischen Mittel können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Von den zuvor beschriebenen alkalischen wässrigen Lösungen ist ein Typ von Entwicklungslösung, der dazu dient, die erfindungsgemäßen Effekte zu zeigen, derjenige, welcher ein Alkalisilicat als eine Base oder ein Alkalisilicat, das erhalten wird durch Mischen einer Base mit einer Siliciumverbindung, enthält, "Silicat-Entwicklungslösungen" genannt werden und einen pH von 12 oder mehr haben, und ein weiterer bevorzugter Typ sind diejenigen, welche "Nicht-Silicat-Entwicklungslösungen" genannt werden, welche das Alkalisilicat nicht enthalten und einen nicht-reduzierenden Zucker und eine Base enthalten.
Mit dem ersteren Typ der wässrigen Alkalimetallsilicatlösungen können die Entwicklungseigenschaften eingestellt werden, indem das Verhältnis von Siliciumdioxid SiO₂ zu Alkalimetalloxid M₂O (die jeweils Komponenten von Silicaten sind) (gewöhnlich wiedergegeben in Einheiten des molaren Verhältnisses von [SiO₂]/[M₂O]) und die Konzentration davon geeignet ausgewählt werden. Zum Beispiel werden eine wässrige Natriumsilicatlösung, in der das molare Verhältnis SiO₂/Na₂O 1,0 bis 1,5 ist (d.h. [SiO₂]/[Na₂O] = 1,0 bis 1,5) und die Konzentration von SiO₂ 1 bis 4 Gew.% ist, wie offenbart ist im offengelegten japanischen Patent Nr. 62004/1979, und eine wässrige Alkalimetallsilicatlösung, in der [SiO₂]/[M] 0,5 bis 0,75 ist, (d.h. [SiO₂]/M₂O] = 1,0 bis 1,5), die Konzentration von SiO₂ 1 bis 4 Gew.% ist und die Menge Kalium mindestens 20 % auf Basis des Gramatoms der gesamten Alkalimetalle in der Lösung ausmacht, wie beschrieben ist in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 7427/1982 bevorzugt verwendet.
Ebenso werden die "Nicht-Silicat-Entwicklungslösungen", welche die Alkalisilicate nicht enthalten und sowohl einen nicht-reduzierenden Zucker als auch eine Base enthalten, mehr bevorzugt für die Entwicklung der erfindungsgemäßen lithografischen Druckplattenmaterialien angewandt. Wenn die lithografischen Druckplattenmaterialien entwicklungsverarbeitet werden unter Verwendung einer Entwicklungslösung, wird die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht nicht verschlechtert und die Farbaufnahmeeigenschaft der lichtempfindlichen Schicht kann in einem guten Zustand gehalten werden. Ebenso haben die lithografischen Druckplattenmaterialien gewöhnlich einen solch engen Entwicklungsspielraum, dass sie eine Änderung der Bildlinienbreite oder dergleichen infolge der Änderung des pH der Entwicklungslösung erfahren. Die Nicht-Silicat-Entwicklungslösung enthält jedoch einen nicht-reduzierenden Zucker, der Puffereigenschaften zur Unterdrückung der pH-Änderung zeigt und folglich ist sie vorteilhaft im Vergleich zu dem Fall der Verwendung einer Silicat-enthaltenden Entwicklungslösung. Ferner verschmutzt der nicht-reduzierende Zucker einen Elektroleitfähigkeitssensor oder einen pH-Sensor für die Kontrolle der Aktivität der Entwicklungslösung weniger als das Silicat und somit ist die Nicht-Silicat-Entwicklungslösung auch in diesem Punkt vorteilhaft. Das heißt, die Silicat-Entwicklungslösung und die Nicht-Silicat-Entwicklungslösung haben jeweils herausragende Punkte und werden somit erfindungsgemäß bevorzugt verwendet.
Die nicht-reduzierenden Zucker sind diejenigen Zucker, welche eine freie Aldehyd- oder Ketongruppe haben und keine reduzierenden Eigenschaften zeigen und sie werden in drei Gruppen eingeteilt; eine Gruppe der Oligosaccharide vom Trehalose-Typ, in der die reduzierenden Gruppen aneinander gebunden sind, eine Gruppe von Glycosiden, in denen eine reduzierende Gruppe eines Zuckers an einen Nicht-Zucker gebunden ist und eine Gruppe von Zuckeralkoholen, die erhalten werden durch Hydrierung von Zuckern zur Reduktion. Etliche von ihnen können erfindungsgemäß bevorzugt verwendet werden. In der Erfindung können nicht-reduzierende Zucker, die im offengelegten japanischen Patent Nr. 305039/1996 beschrieben sind, bevorzugt verwendet werden.
Beispiele der Oligosaccharide vom Trehalose-Typ schließen Saccharose und Trehalose ein. Beispiele der Glycoside schließen Alkylglycoside, Phenolglycoside und Senfölglycosid ein. Beispiele der Zuckeralkohole schließen D,L-Arabit, Ribit, Xylitol, D,L-Sorbit, D,L-Mannit, D,L-Iditol, D,L-Talit, Dulcit und Allodulcit ein. Ferner lassen sich als bevorzugte nennen: Maltit, das erhalten wird durch Hydrieren eines Disaccharids von Maltose und ein reduziertes Produkt (reduzierter klebriger Stärkesirup, der erhalten wird durch Hydrierung von Oligosacchariden. Von diesen nichtreduzierenden Zuckern sind die Oligosaccharide vom Trehalose-Typ und Zuckeralkohole bevorzugt, wobei D-Sorbit, Saccharose und reduzierter klebriger Stärkesirup mehr bevorzugt sind darin, dass sie eine Pufferwirkung in einem geeigneten pH-Bereich zeigen und preiswert sind.
Erfindungsgemäß können die nicht-reduzierenden Zucker alleine oder in Kombination von zweien oder mehreren davon verwendet werden. Der Gehalt der nicht-reduzierenden Zucker in der zuvor erwähnten Nicht-Silicat-Entwicklungslösung ist vorzugsweise 0,1 bis 30 Gew.%, mehr bevorzugt 1 bis 20 Gew.%. In dem Fall, dass der Gehalt weniger als 0,1 Gew.% ist, wird eine ausgezeichnete Pufferfähigkeit nicht erhalten, während dann, wenn er mehr als 30 Gew.% ist, es schwierig wird, hoch zu konzentrieren und die Entwicklungslösung wird teuer.
Als Basen, die in Kombination mit den nicht-reduzierenden Agentien zu verwenden sind, lassen sich herkömmlich bekannte Alkalimittel nennen, wie beispielsweise anorganische Alkalimittel und organische Alkalimittel. Beispiele der anorganischen Alkalimittel schließen ein: Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat und Ammoniumborat. Beispiele der organischen Alkalimittel schließen ein: Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin.
Die Basen können alleine oder in Kombination von zwei oder mehreren davon verwendet werden. Von diesen sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid bevorzugt.
In der Erfindung kann eine Entwicklungslösung, die ein Alkalimetallsalz des nicht-reduzierenden Zuckers als eine Hauptkomponente enthält, anstelle der Kombination des nichtreduzierenden Zuckers und der Base verwendet werden.
Erfindungsgemäß kann eine alkalische Pufferlösung, die eine andere schwache Säure als das nicht-reduzierende Mittel enthält, sowie eine starke Base zusammen in der Nicht-Silicat-Entwicklungslösung verwendet werden. Als solche schwachen Säuren sind diejenigen Säuren bevorzugt, die eine Dissoziationskonstante (pKa) von 10,0 bis 13,2 haben. Beispielsweise kann die schwache Säure ausgewählt sein aus denjenigen, die beschrieben sind in "Ionization Constants of Organic Acids in Aqueous Solution", veröffentlicht von Pergamon Press.
Spezielle Beispiele davon schließen Alkohole ein, wie 2,2,3,3-Tetrafluorpropanol-1, Trifluorethanol und Trichlorethanol; Aldehyde, wie Pyridin-2-aldehyd und Pyridin-4-aldehyd; Verbindungen mit einer phenolischen Hydroxygruppe, wie Salicylsäure, 3-Hydroxy-2-naphthoesäure, Catechol, Gallussäure, Sulfosalicylsäure, 3,4-Dihydroxysulfonsäure, 3,4-Dihydroxybenzoesäure, Hydrochinon, Pyrogallol, o-, m- oder p-Kresol und Resorcinol; Oxime, wie Acetoxim, 2-Hydroxybenzaldehydoxim, Dimethylglyoxim, Ethandiamiddioxim und Acetophenonoxim; mit Nukleinsäuren verwandte Substanzen, wie Adenosin, Inosin, Guanin, Cytosin, Hypoxanthin und Xanthin; sowie andere, wie Diethylaminomethylphosphonsäure, Benzimidazol und Barbitursäure.
Zu der Entwicklungslösung und der Nachfülllösung können, falls gewünscht, unterschiedliche Tenside und organische Lösungsmittel hinzugefügt werden, um die Entwicklung zu beschleunigen oder zu kontrollieren, um den Entwicklungsschaum ("scum") zu dispergieren und die Affinität der Bildflächen einer Druckplatte an Farbe zu erhöhen. Als bevorzugte Tenside lassen sich anionische, kationische, nichtionische und amphotere Tenside nennen. Zu der Entwicklungslösung und der Nachfülllösung können ferner gewünschtenfalls Reduktionsmittel, wie Hydrochinon, Resorcin, Natriumsalze und Kaliumsalze anorganischer Säuren, wie schwefeliger Säure, Hydrogen-schwefeliger Säure, ferner organische Carbonsäuren, Entschäumungsmittel und Wasserenthärter hinzugefügt werden.
Das bildbildende Material wird, nachdem es mit der zuvor beschriebenen Entwicklungslösung und der Nachfülllösung entwicklungsverarbeitet wurde, mit einem Waschwasser, einem Spülwasser, das Tenside enthält und einer Desensibilisierungslösung, die Gummi arabicum oder Stärkederivate enthält, nachbehandelt. Als Nachbehandlung im Fall der Verwendung des bildgebenden Materials als eine Druckplatte können diese Behandlungen miteinander auf unterschiedliche Weisen kombiniert werden.
In den vergangenen Jahren sind automatische Prozessoren für Druckplatten in verbreitete Verwendung im Gebiet der Plattenherstellung und des Druckens gelangt, um die Plattenherstellungsarbeiten zu standardisieren und rationalisieren. Der automatische Prozessor umfasst allgemein einen Entwicklungsteil und einen Nachbehandlungsteil und besteht aus einer Druckplattenfördervorrichtung, Tanks für Lösungen für entsprechende Behandlungen und einer Sprühvorrichtung. Im Prozessor wird eine belichtete Druckplatte horizontal gefördert, währenddessen entsprechende Behandlungslösungen, die nach oben gepumpt werden, durch eine Sprühdüse gegen die Platte gesprüht werden, um die Entwicklungsverarbeitung durchzuführen. Seit kurzem ist es auch bekannt, die Druckplatte mit Hilfe von Führungswalzen in einem Zustand zu fördern, dass sie in eine Behandlungslösung eintaucht, die vollständig in einen Tank gefüllt ist. Bei einer solchen automatischen Verarbeitung kann die Verarbeitung durchgeführt werden unter Nachfüllung entsprechender Behandlungslösungen mit Nachfülllösung, abhängig von der Zahl der behandelten Druckplatten und der Betriebszeit.
Zusätzlich ist auch ein sogenanntes Wegwerf-Verarbeitungssystem anwendbar, bei dem die Behandlung durchgeführt wird unter Verwendung von im wesentlichen unbenutzten Verarbeitungslösungen.
Bei den Entwicklungsverarbeitungsschritten können lithografische Druckplatten mit einer stabilen Qualität kontinuierlich erhalten werden durch Anwendung des Qualitätskontrollverfahrens der Erfindung.
Als nächstes wird eine Beschreibung gegeben in Bezug auf den Fall, dass das bildgebende Material als eine lichtempfindliche lithografische Druckplatte verwendet wird.
Zuerst wird in dem Fall, dass eine nicht notwendige Bildfläche (z.B. Filmrandmarkierung des Originalfilms) auf der lithografischen Druckplatte, die durch bildweise Belichtung, Entwicklung, Waschen mit Wasser und/oder Spülen und/oder Gummieren erhalten wird, vorliegt, die nicht notwendige Bildfläche entfernt.
Für die Bildentfernung ist ein Verfahren des Aufbringens eines Bildentferners auf die nicht notwendige Bildfläche, das Stehenlassen für eine vorgegebene Zeit und dann das Waschen mit Wasser, wie beschrieben ist in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 13293/1990 bevorzugt, jedoch wird auch ein Verfahren benutzt, bei dem die nicht notwendige Bildfläche mit einer aktinischen Strahlung bestrahlt wird, die eingeführt wird über eine optische Faser, und dann die Entwicklung durchgeführt wird, wie beschrieben ist im offengelegten japanischen Patent Nr. 174842/1984.
Die so erhaltene lithografische Druckplatte kann einem Druckprozess angeboten werden, nachdem sie, falls gewünscht, mit einem Desensibilisierungsgummi beschichtet wurde; wenn jedoch eine lithografische Druckplatte mit einer höheren Druckdauerhaftigkeit gewünscht ist, wird die Platte einer Brennbehandlung unterzogen.
Eine durch diese Prozesse erhaltene lithografische Druckplatte wird in eine Offset-Druckmaschine eingesetzt und für das Drucken vieler Druckbögen verwendet.
Beispiel
Die Erfindung wird ausführlicher unter Bezug auf Beispiele beschrieben, jedoch ist die Erfindung nicht so zu verstehen, dass sie darauf beschränkt ist.
Herstellung eines Substrats
Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte (Qualität des Materials 1050) wurde mit Trichlorethylen gewaschen, um sie zu entfetten, dann wurde die Oberfläche der Platte unter Verwendung von Nylonbürsten und einer 400-mesh Bimssteinsuspension in Wasser gekörnt und gut mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde für 9 Sekunden in eine 45°C, 25 % wässrige Natriumhydroxidlösung eingetaucht, um die Ätzung durchzuführen. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte ferner für 20 Sekunden in eine 20 % Salpetersäure eingetaucht, gefolgt vom Waschen mit Wasser. Die Ätzungsmenge der gekörnten Oberfläche war etwa 3 g/m². Dann wurde die Platte der Elektrolyse unterzogen unter Verwendung von 7 % Schwefelsäure als eine Elektrolytlösung bei einer Stromdichte von 15 A/dm², um einen 3 g/m² Gleichstrom-anodischen Oxidationsfilm zu bilden, gefolgt vom Waschen mit Wasser und Trocknen. Ferner wurde die Platte in einer 2,5 Gew.%igen wässrigen Natriumsilicatlösung bei 30°C für 10 Sekunden behandelt und die folgende Beschichtungslösung wurde darauf aufgebracht, gefolgt vom Trocknen der Unterschicht bei 80°C für 15 Sekunden, um so ein Substrat zu erhalten. Die Menge des beschichteten Films nach dem Trocknen war 15 mg/m².
Unterschichtlösung
Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials
Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials 1
Die folgende Beschichtungslösung für die untere Aufzeichnungsschicht wurde auf das so erhaltene Substrat in einer Beschichtungsmenge von 0,75 g/m² aufgebracht, dann mit Hilfe eines Lufttrockners (PERFECT OVEN PH200, hergestellt von Tabai Corp.) bei 140°C für 50 Sekunden unter Einstellung des Windkontrollniveaus auf 7 getrocknet, gefolgt vom Aufbringen einer Beschichtungslösung für die Bildung der oberen Aufzeichnungsschicht, die nachfolgend gezeigt ist, in einer Beschichtungsmenge von 0,3 g/m² bei 120°C für 1 Minute, um das lithografische Druckplattenmaterial 1 zu erhalten. Beschichtungslösung für die untere Aufzeichnungsschicht

Cyanin-Farbstoff A
Verbindung (I-1)
Beschichtungslösung für die obere Aufzeichnungsschicht
Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials 2
Die folgende Beschichtungslösung 2 für die Aufzeichnungsschicht wurde in einer Beschichtungsmenge von 1,0 g/m² auf dasselbe Substrat aufgebracht, wie es bei der Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials 1 verwendet wurde und dann bei 140°C für 50 Sekunden getrocknet, um das lithografische Druckplattenmaterial 2 zu erhalten.
Beschichtungslösung 2 für die Aufzeichnungsschicht
Verbindung (I-2)
Einhundert Bögen des so erhaltenen Druckplattenmaterials 1 (650 mm × 550 mm × 0,30 mm dick) wurden dem Aufzeichnen von Halbtonpunktbildern von 175 Zeilen und 2.400 dpi bei 150 U/min mit Belichtungsenergien unterzogen, die sich stufenweise um 0,1 w von 3,0 w bis 16,0 w erhöhten unter Verwendung des Trendsetter 3244, hergestellt von Creo Co. (Bildflächenverhältnis: etwa 20 %). Die belichteten Druckplattenmaterialien wurden für 12 Stunden unter den in Tabelle 1 gezeigten Bedingungen in einer eingebauten Thermostat-Hygrostat-Kammer (TBR-6W2S3L, hergestellt von Tabai Espec Corp.) aufbewahrt, um aufbewahrte Proben herzustellen.
Ein Druckplattenmaterial 1 unmittelbar nach der Belichtung und die aufbewahrte Probe wurden mit einem automatischen Prozessor LP-900H, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. unter Verwendung einer Nicht-Silicat-Entwicklungslösung DT-1 und einer Nachfülllösung DT-1R, beide hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. in herkömmlicher Weise entwickelt.
Die Minimalbelichtungsenergie, bei der die Nicht-Bildflächen klar wurden (Plattenempfindlichkeit) wurde bei jedem der Plattenmaterialien unmittelbar nach der Belichtung und der aufbewahrten Probe bestimmt. Wenn die Plattenempfindlichkeit der aufbewahrten Probe von derjenigen des Plattenmaterials unmittelbar nach der Belichtung abwich, wurde die Nachfülllösung hinzugefügt, so dass das Plattenmaterial unmittelbar nach der Belichtung und die aufbewahrte Probe äquivalente Empfindlichkeiten zeigten. Das Plattenmaterial unmittelbar nach der Belichtung wurde mit dem Entwickler entwickelt, zu dem die Nachfülllösung hinzugefügt worden war, um die Plattenempfindlichkeit zu bestimmen.
Ähnliche Experimente wurden mit dem Plattenmaterial 2 durchgeführt.
Tabelle 1 zeigt die erhaltenen Resultate.
Tabelle 1
Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials 3
Die folgende Beschichtungslösung 3 für die Aufzeichnungsschicht wurde in einer Beschichtungsmenge von 1,8 g/m² auf dasselbe Substrat aufgebracht, wie es bei der Herstellung des lithografischen Druckplattenmaterials 1 verwendet wurde, dann bei 150°C für 60 Sekunden getrocknet und so das lithografische Druckplattenmaterial 3 erhalten.
Beschichtungslösung 3 für die Aufzeichnungsschicht
Unter Verwendung des so erhaltenen Druckplattenmaterials 3 wurden dieselben Arbeitsschritte, wie oben beschrieben, durchgeführt, außer dass eine Entwicklungslösung LH-DS und eine Nachfülllösung LH-DRS, beide hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., anstelle der Entwicklungslösung DT-1 bzw. Nachfülllösung DT-1R verwendet wurden.
Tabelle 2 zeigt die Resultate. Tabelle 2
Es ist den obigen Resultaten zu entnehmen, dass, wenn sie bei 15 bis 23°C aufbewahrt werden, die lithografischen Druckplatten für die Auswertung keine Änderung der Empfindlichkeit erfahren und somit eine gute Kontrolle der Entwicklungslösung erlauben.
Erfindungsgemäß werden, selbst wenn mehrere bildbildende Materialien auf einmal belichtet werden, um lithografische Druckplatten für die Auswertung herzustellen und separat entwickelt werden, wo die Auswertung erforderlich ist, dieselben Auswertungsresultate erhalten und im Ergebnis können lithografische Druckplatten mit guter Arbeitseffizienz ausgewertet werden und ferner kann die Qualität der lithografischen Druckplatten auf einem bestimmten Niveau gehalten werden. Somit wird ein einfaches Verfahren zur Auswertung bereitgestellt, womit Plattenherstellungsbedingungen für die direkte Plattenherstellung von positiv arbeitenden bildgebenden Materialien, die an Infrarotlaser angepasst sind, insbesondere der Zustand der Aktivität der Entwicklungslösung, leicht beurteilt werden können, und ferner ein Verfahren der leichten Qualitätskontrolle, in dem Feedback der Resultate zu den Belichtungs-/Entwicklungsschritten gegeben wird, um die Qualität der lithografischen Druckplatten auf einem bestimmten Niveau zu halten und kontinuierlich gleichförmige Bilder zu bilden.

Claims

Bildauswertungsverfahren, umfassend: (i) einen Schritt zur Bildung von mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung durch Durchführen einer Belichtung mit bildgebenden Materialien, umfassend einen Träger, der darauf eine lichtempfindliche Schicht vorgesehen aufweist, die sowohl ein in einer alkalischen wässrigen Lösung lösliches Harz als auch eine Verbindung umfasst, die ein Licht absorbiert, unter Erzeugung von Wärme, unter einer Vielzahl von Bedingungen mit schrittweiser Änderung der Plattenoberflächenenergie; (ii) einen Schritt zum Halten der belichteten mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung bei einer Temperatur von 15 bis 23 °C; (iii) einen Schritt zum Entwickeln von zumindest einer der mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung mit einer Standardentwicklungslösung mit einer Standardformulierung, zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt ist; (iv) einen Schritt zur Entwicklung von anderen lithographischen Druckplatten zur Auswertung als den oben beschriebenen lithographischen Druckplatten, die mit der Standardentwicklungslösung entwickelt sind, mit einer Entwicklungslösung zur Auswertung entsprechend der Notwendigkeit der Auswertung, um hierdurch lithographische Druckplatten herzustellen, die mit der Entwicklungslösung behandelt sind und ausgewertet werden sollen; und (v) einen Schritt zum Vergleich des Zustandes von Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die unter vorbestimmten Belichtungsbedingungen in der lithographischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt worden ist, gebildet sind, mit dem in den lithographischen Druckplatten, die mit der Entwicklungslösung behandelt sind und ausgewertet werden sollen.
Verfahren zum Kontrollieren der Qualität von lithographischen Druckplatten, umfassend (i) einen Schritt zur Bildung von mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung durch Durchführen einer Belichtung von bildgebenden Materialien, umfassend einen Träger, der darauf eine lichtempfindliche Schicht vorgesehen aufweist, umfassend sowohl ein Harz, das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist, als auch eine Verbindung, die Licht unter Erzeugung von Wärme absorbiert, unter einer Vielzahl von Bedingungen mit schrittweiser Änderung der Plattenoberflächenenergie; (ii) einen Schritt zum Konservieren der mehreren belichteten lithographischen Druckplatten zur Auswertung bei einer Temperatur von 15 bis 23 °C; (iii) einen Schritt zum Entwickeln von zumindest einer der mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung mit einer Standardentwicklungslösung mit einer Standardformulierung, zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt ist; (iv) einen Schritt zur Entwicklung von anderen lithographischen Druckplatten zur Auswertung als der oben beschriebenen lithographischen Druckplatte, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt worden ist, mit einer Entwicklungslösung zum Auswerten entsprechend der Notwendigkeit der Auswertung, um hierdurch lithographische Druckplatten zu erzeugen, die mit der Entwicklungslösung behandelt worden und auszuwerten sind; (v) einen Schritt zum Vergleich des Zustandes von Bildflächen oder Nicht-Bildflächen, die unter vorbestimmten Belichtungsbedingungen in der lithographischen Druckplatte gebildet sind, die mit der Standardentwicklungslösung behandelt ist, mit dem in den lithographischen Druckplatten, die mit der Entwicklungslösung behandelt worden und auszuwerten sind; und (vi) einen Schritt zum Einstellen der Belichtungs-/Entwicklungsbedingungen in dem Fall, dass der oben beschriebene Vergleich der Bildflächen oder Nicht-Bildflächen der lithographischen Druckplatten ergibt, dass der Unterschied zwischen den lithographischen Druckplatten einen vorbestimmten Wert übersteigt.
Bildauswertungsverfahren nach Anspruch 1, worin die Konservierung der belichteten mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung bei einer relativen Feuchtigkeit von 60% oder weniger durchgeführt wird.
Verfahren zum Steuern der Qualität von lithographischen Druckplatten nach Anspruch 2, worin die Konservierung der belichteten mehreren lithographischen Druckplatten zur Auswertung bei einer relativen Feuchtigkeit von 60% oder weniger durchgeführt wird.
Bildauswertungsverfahren nach Anspruch 1, worin die lichtempfindliche Schicht des Bildgebungsmaterials eine Vielschichtstruktur aufweist.
Bildauswertungsverfahren nach Anspruch 1, worin die Standardentwicklungslösung eine Entwicklungslösung mit einem nicht reduzierenden Zucker und einer Base ist.