DE4037207C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE4037207C2 DE4037207C2 DE4037207A DE4037207A DE4037207C2 DE 4037207 C2 DE4037207 C2 DE 4037207C2 DE 4037207 A DE4037207 A DE 4037207A DE 4037207 A DE4037207 A DE 4037207A DE 4037207 C2 DE4037207 C2 DE 4037207C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- voltage
- source voltage
- source
- current setting
- current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
- G11C11/417—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/412—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/147—Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Stromeinstellschaltkreis für ein statisches
RAM
zum Reduzieren des Strombedarfs durch
Einstellen des Stromes in dem statischen RAM, welches
Speicherzellen mit hochohmigen Widerständen als
Lastelemente aufweist.
Eine einzelne Speicherzelle des statischen RAM umfaßt zwei
Transistoren zum Durchlassen der Daten, Transistoren
zum Laden und Entladen und ein Lastelement, das
Netzwerkknoten des Speichers mit einer Quellspannung
versorgt.
Aus EP 00 89 836 A2 ist eine einzelne Speicherzelle bzw. eine Gitteranordnung
von Zellen bekannt, wie sie in den Fig. 1 bzw. 2 dargestellt
sind.
In Fig. 1 ist eine statische RAM-Zelle dargestellt, die
von dem Typ mit hohem Lastwiderstand ist und die erwähnten
Elemente aufweist und bei der die Kanäle der
Durchlaßtransistoren 3 und 4 mit der Wortleitung WL und
die Bit-Leitungen BL und mit den entsprechenden
Netzwerkknoten 13 und 14 des Speichers verbunden sind. Die
Gates und ein Ende der Kanäle der Transistoren 1, 2 zum
Laden und Entladen, die über Kreuz in Form eines Flipflops
verschaltet sind, sind ebenfalls mit den Netzwerkknoten 13
und 14 des Speichers verbunden. Da die Transistoren 1 und
2 eine Latch-Schaltung bilden, ist das Potential der
Netzwerkknoten 13, 14 des Speichers zu allen Zeiten
konstant. Zwischen den Netzwerkknoten 13 und 14 des
Speichers und des Quellspannungsanschlusses 11 sind die
Widerstände 5 und 6, die als Lastelemente dienen,
verschaltet. Die Widerstände 5 und 6 sind üblicherweise
hochohmig.
In Fig. 2 ist eine Gitteranordnung von Zellen
dargestellt, wie sie durch Anordnen einer Vielzahl der
statischen RAM-Zellen aus Fig. 1 entsteht. Der gesamte
Stromverbrauch im "Stand-by"-Betrieb in der
Speicherzellen-Gitteranordnung, wie sie in Fig. 2
gezeigt ist, nimmt einen Wert ein, den man erhält, wenn
man den Strom VCC/R (wobei VCC die Quellspannung, R
den Widerstandswert der Widerstände 5 und 6 bedeuten),
der über die Widerstände 5 und 6 und die Kanäle der
Transistoren 1 und 2 in der statischen RAM-Zelle der
Fig. 1 zur Erde fließt, mit der Anzahl der Zellen
multipliziert.
In Electronics, 27. Jan. 1981, Seite 129 bis 132 ist mit
den Widerständen ein Komparator verschaltet, der die
Quellspannung und die Spannung der Schreibleitung
überwacht. Im Falle eines Spannungsausfalls wird durch
einen Transistorschalter der Betriebsstrom durch die
Schreibleitung zugeführt.
Im IEEE Journal of Solid-State-Circuits, Vol. SC-15, No. 4,
August 1980, Seite 656 bis 660 wird die Quellspannung
der Widerstände über einen J-FET zugeführt. Dadurch wird
die Speicherzellenfläche und die Anfälligkeit gegenüber
α-Strahlen, das heißt hinsichtlich sogenannter
Soft-Errors, verringert.
Bei den vorbekannten Speicherzellen nimmt im Falle, daß
der Chip bei tiefen Temperaturen betrieben wird, der
Stromverbrauch ab, da der Widerstand R groß genug ist.
Jedoch ist es nautrgemäß so, daß der Widerstand abnimmt,
wenn die Temperatur steigt und daher der Stromverbrauch
ansteigt. Auch in dem Fall, falls die Querllspannung
ansteigt, wird der Stromverbrauch so ansteigen, wie wenn
die Temperatur steigt.
Um derartige Probleme zu lösen, wurde der Vorschlag
gemacht, den Widerstand zu erhöhen, wobei jedoch
weiterhin das Problem des Haltens der Daten an den
Speichernetzwerkknoten 13 und 14 besteht. Wenn die
Temperatur steigt, ist ein solcher Vorschlag daher
nicht wirksam.
Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen
Stromeinstellschaltkreis bereitzustellen, der den
Stromverbrauch in einer Anordnung von Speicherzellen aus
statischen RAM-Zellen unter den Bedingungen hoher
Temperatur und hoher Spannung vermindert und auch bei
hohen Temperaturen und einer hohen Spannung einen
normalen Stromverbrauch aufweist.
Zur Lösung der Aufgabe beinhaltet die
vorliegende Erfindung eine erste Einrichtung, die eine erste oder
zweite Spannung abhängig von der Höhe der Quellspannung
erzeugt und die in Serie zwischen dem
Quellspannungsanschluß und dem Erdanschluß verschaltet ist
und eine zweite Einrichtung, die die erste oder zweite Spannung
empfängt aufnimmt und zwischen dem Quellspannungsanschluß und den
Lastelementen verschaltet ist und die, wenn die erste
Spannung angelegt ist, in einem linearen Bereich arbeitet
und wenn die zweite Spannung angelegt ist, in einem
Sättigungsbereich arbeitet. Diese Einrichtungen werden in einem
statischen RAM mit einer Vielzahl von Zellen, die über
hochohmige Widerstände an die Quellspannung als
Lastelemente angeschlossen sind, verwendet.
Für ein besseres Verständnis der Erfindung und um zu
zeigen, wie diese verwirklicht werden kann, wird im
folgenden auf die in den schematischen Zeichnungen
dargestellten Beispiele eingangen. Die die Figuren im
einzelnen zeigen:
Fig. 1 einen Schaltplan einer statischen RAM-Zelle;
Fig. 2 ein Blockschaltbild eines herkömmlichen
Speicherzellengitters;
Fig. 3 ein schematisches Blockschaltbild eines
Speicherzellengitters;
Fig. 4 einen Stromeinstellungsschaltkreis gemäß der
vorliegenden Erfindung; und
Fig. 5 einen Graphen, der die
Strom-Spannungscharakteristik
der vorliegenden Erfindung zeigt.
Fig. 3 zeigt ein Blockschaltbild, das die Bauweise des
Speicherzellengitters nach der vorliegenden Erfindung
zeigt, bei dem eine Vielzahl von statischen RAM-Zellen 10
in einer Matrix angeordnet sind und bei dem ein
Stromeinstellschaltkreis 20 zwischen dem
Quellspannungsanschluß 11 und den Speicherzellen 10
angeordnet ist. Der Stromeinstellschaltkreis 20 ist so
verschaltet, daß er allen Speicherzellen 10 Strom zuführt,
und den Strom, der in den Speicherzellen 10 fließt, trotz
Schwankungen der Quellspannung fest einstellen kann.
In Fig. 4 ist der Stromeinstellungsschaltkreis 20 aus Fig.
3 im Detail gezeigt. Wie aus der Zeichnung ersichtlich ist
umfaßt der Stromeinstellungsschaltkreis 20 eine
Spannungsabfalleinheit 27, bei der eine Anzahl von als
Dioden betriebenen N-MOS Transistoren 21, 22, deren
entsprechende Gate und Drain-Anschlüsse zusammen an den
Quellspannungsanschluß 11 angeschlossen sind, in Serie
verschaltet sind, einen Pull-Down-Widerstand 24, der
zwischen den Source-Anschluß des N-MOS-Transistors 22,
welcher am Ende der Spannungsabfalleinheit 27 angeordnet
ist und dem Erdanschluß 12 verschaltet ist, und einen
Netzwerkknoten 23, der zwischen dem Source-Anschluß des
N-MOS-Transistors 22 und dem Pull-Down-Widerstand 24
angeordnet ist und der an das Gate eines P-MOS-Transistors
25 angeschlossen ist. In diesem Falle sind der
Source-Anschluß und das Substrat des P-MOS-Transistors 25
mit dem Quellspannungsanschluß 11 verbunden und ein
Drain-Anschluß des P-MOS-Transistors 25 ist mit den
Widerständen 5 und 6 aus Fig. 1 (oder mit dem Anschluß für
die interne Spannung 26) verbunden.
Die N-MOS-Transistoren 21 und 22 der
Spannungsabfalleinheit 27 funktionieren wie Dioden, indem
die Gate-Anschlüsse mit den Drain-Anschlüssen verbunden
und die Source-Anschlüsse mit den neutralen Bereichen des
Substrats verbunden sind. Da diese N-MOS-Transistoren 21
und 22 für das Abfallen der Quellspannung verwendet
werden, können sie auch durch andere Elemente gebildet
werden. Gleichermaßen kann der P-MOS-Transistor 25, der
zum Begrenzen des durch den Kanal und in Antwort auf die
Höhe der am Gate-Anschluß angelegten Spannung fließenden
Stromes dient, auch durch andere Elemente, die diese
Funktion ausführen können, gebildet werden.
Fig. 5 zeigt einen Graphen, der die Strom-Spannungs-
Charakteristik des P-MOS-Transistors 25 aus Fig. 4
entsprechend der vorliegenden Erfindung erläutert. Der
Graph zeigt die Beziehung zwischen der Drain-Source-
Spannung VDS und dem Drain-Source-Strom IDS auf der
Gate-Source-VGS-Spannungskurve.
Im folgenden wird die Strombegrenzung oder
Stromeinstellung entsprechend der vorliegenden Erfindung
in Bezugnahme auf die oben beschriebenen Strukturen und
den Graphen aus Fig. 5 beschrieben.
Die als Dioden betriebenen N-MOS-Transistoren 21, 22 der
Spannungsabfalleinheit 27, die an den
Quellspannungsanschluß 11 angeschlossen sind, haben die
Funktion, die Quellspannung VCC um die Summe aus der
Anzahl der Durchgreifspannungen VTH (threshold voltage) zu
erniedrigen.
Demzufolge ergibt sich im Falle, daß die N
N-MOS-Transistoren in Serie verschaltet sind, daß
Potential an dem Netzwerkknoten 23 fest zu
VCC-N×VTH.
Wenn die Höhe der Quellspannung niedriger ist als N×VTH,
so wird der Netzwerkknoten 23 von dem
Quellspannungsanschluß getrennt, so daß der Knoten 23 über
den "Pull-Down"-Widerstand 24 mit der Erde verbunden ist.
Dies bewirkt, daß die Gate-Source-Spannung VGS einen Wert
-VCC (Kurve 51 in Fig. 5) einnimmt. Dann wird, da der
P-MOS-Transistor 25 in einem linearen Bereich L51
arbeitet, die Summe des durch den internen
Spannungsanschluß 26 fließenden Stromes (linearer Strom
IDSL). Der Fachmann wird leicht verstehen, daß ein
derartiges Ergebnis durch die Eigenschaften der
Gate-Source-Spannung VGS des P-MOS-Transistors 25
zustande kommt. Die Eigenschaft besteht darin, daß, je
weiter linear zu negativen Spannungen gegangen wird, umso
mehr Strom fließen kann. In diesem Fall wird der
Drain-Source-Strom IDSL des P-MOS-Transistors 25
ansteigen, bis er das Sättigungsgebiet S51 auf der Kurve
51 erreicht. Demgegenüber wird, wenn die Höhe der
Quellspannung größer als N×VTH wird, das Potential des
Netzwerkknotens 23 den Wert VCC-N×VTH einnehmen und
die Gate-Sourcespannung VGS des P-MOS-Transistors 25 einen
Wert zu -N×VTH einnehmen (auf der Kurve 52 in Fig. 5),
da die Spannung am Sourceanschluß VCC ist. Da diese
Spannung ausreicht, um den P-MOS-Transistor 25 in dem
Sättigungsgebiet S52 zu betreiben, wird praktisch kein
weiterer Drain-Source-Strom (Sättigungsstrom IDC) fließen.
Mit anderen Worten: Falls die Höhe der Quellspannung, die
von außen angelegt wird, gering ist, wird die Höhe des
Stroms, der der inneren Speicherzelle zugeführt wird,
erhöht, indem der P-MOS-Transistor im linearen Bereich
arbeitet. Und, im Fall, daß die Höhe der Quellspannung
hoch ist, wird kein weiterer Strom durch den im
Sättigungsbereich betriebenen P-MOS-Transistor fließen, so
daß an die Widerstände 5, 6 aus Fig. 1 eine stabile innere
Spannung angelegt wird.
Hierbei kann die Höhe des Spannungsabfalls, der durch die
Spannungsabfalleinheit 27 erreicht wird, und die Spanne
der Strombegrenzung, die von dem P-MOS-Transistor 25
bewirkt wird, durch die Anzahl und die Größe der
entsprechenden Transistoren eingestellt werden.
Obwohl zum Einstellen des Stromes ein P-MOS-Transistor 25
in der vorliegenden Ausführungsform der Erfindung
verwendet wird, kann auch ein N-MOS-Transistor verwendet
werden.
Auf der anderen Seite gibt es Umstände, bei denen sich die
Temperatur in der integrierten Schaltung erhöht. Diese
Erhöhung ist beträchtlich, da sich die Höhe der
Quellspannung erhöht und der Widerstand oder die
Widerstandslinien innerhalb des Schaltkreises überhitzt
werden. Die vorliegende Erfindung wird zu einer
Stabilisierung der internen Betriebsspannung führen, wie
dies für die Speicherzellen notwendig ist, wenn sich die
Quellspannung erhöht und die Temperatur nach oben geht.
Wie oben beschrieben wurde, hat die vorliegende Erfindung
die Wirkung, einen unnötigen Stromverbrauch zu reduzieren
und die interne Betriebsspannung auf einer stabilisierten
Basis zu halten, selbst in dem Fall, wenn sich die von
außen angelegte Quellspannung und die Temperatur in der
statischen RAM-Zellen-Gitteranordnung erhöhen.
Claims (5)
1. Stromeinstellschaltkreis zur Verwendung in einem
statischen RAM, welches eine Vielzahl von Zellen (10)
aufweist, die als Lastelemente hochohmige, mit einer
Quellspannung verschaltete Widerstände (5, 6) benützen,
mit:
einer ersten Einrichtung (27, 24), die in Serie zwischen dem Anschluß der Quellspannung und dem Erdanschluß verschaltet ist, zum Erzeugen einer ersten oder zweiten Spannung abhängige von der Höhe der Quellspannung; und
einer zweiten Einrichtung (25), welche zwischen dem Anschluß der Quellspannung und den Lastelementen verschaltet ist, zum Empfangen der ersten oder zweiten Spannung, wobei die zweite Einrichtung in einem linearen Bereich arbeitet, wenn die erste Spannung zugeführt wird und in einem Sättigungsbereich arbeitet, wenn die zweite Spannung zugeführt wird.
einer ersten Einrichtung (27, 24), die in Serie zwischen dem Anschluß der Quellspannung und dem Erdanschluß verschaltet ist, zum Erzeugen einer ersten oder zweiten Spannung abhängige von der Höhe der Quellspannung; und
einer zweiten Einrichtung (25), welche zwischen dem Anschluß der Quellspannung und den Lastelementen verschaltet ist, zum Empfangen der ersten oder zweiten Spannung, wobei die zweite Einrichtung in einem linearen Bereich arbeitet, wenn die erste Spannung zugeführt wird und in einem Sättigungsbereich arbeitet, wenn die zweite Spannung zugeführt wird.
2. Stromeinstellschaltkreis nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die zweite Einrichtung (25) ein P-MOS-
oder ein N-MOS-Transistor ist.
3. Stromeinstelleinrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spannung einer Höhe
der Quellspannung, die kleiner als ein vorbestimmter Wert
ist, entspricht und daß die zweite Spannung einer Höhe der
Quellspannung, die größer als ein vorbestimmter
Wert ist, entspricht.
4. Stromeinstellschaltkreis nach einem der
vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Einrichtung (24, 27) eine
Spannungsabfalleinrichtung (27) und einen
Pull-Down-Widerstand (24), die in Serie zwischen der
Quellspannung (11) und Erde (12) verschaltet sind,
umfaßt, wobei ein Gate des die zweite Einrichtung
bildenden Transistors (25) mit einem Netzwerkknoten (23)
zwischen der Spannungsabfalleinrichtung (27) und dem
Pull-Down-Widerstand (24) verbunden ist und dessen Kanal
mit den Lastelementen (5, 6) und der Quellspannung (11)
verbunden ist.
5. Stromeinstellschaltkreis nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannungsabfalleinrichtung (27) eine Anzahl von
als Dioden betriebenen N-MOS-Transistoren (21, 22)
umfaßt, die in Serie zwischen der Quellspannung (11) und
dem Netzwerkknoten (23) geschaltet sind, wobei die
Anzahl der N-MOS-Transistoren die Höhe der zweiten
Spannung bestimmt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900014828A KR920006985A (ko) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 스테이틱램의 부하 조절회로 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4037207A1 DE4037207A1 (de) | 1992-04-02 |
DE4037207C2 true DE4037207C2 (de) | 1993-08-19 |
Family
ID=19303774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4037207A Granted DE4037207A1 (de) | 1990-09-19 | 1990-11-22 | Stromeinstellschaltkreis fuer ein statisches ram |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04132080A (de) |
KR (1) | KR920006985A (de) |
DE (1) | DE4037207A1 (de) |
FR (1) | FR2666913B1 (de) |
GB (1) | GB2248131A (de) |
IT (1) | IT1250098B (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001143476A (ja) | 1999-11-15 | 2001-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | スタティック型半導体記憶装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5828679B2 (ja) * | 1979-04-25 | 1983-06-17 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置の書込み回路 |
DE3004565C2 (de) * | 1980-02-07 | 1984-06-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Integrierte digitale Halbleiterschaltung |
JPS57162181A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
JPS58161195A (ja) * | 1982-03-19 | 1983-09-24 | Fujitsu Ltd | スタテイツク型半導体記憶装置 |
JPS5922295A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-02-04 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
US4758994A (en) * | 1986-01-17 | 1988-07-19 | Texas Instruments Incorporated | On chip voltage regulator for common collector matrix programmable memory array |
US4857772A (en) * | 1987-04-27 | 1989-08-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | BIPMOS decoder circuit |
US4874967A (en) * | 1987-12-15 | 1989-10-17 | Xicor, Inc. | Low power voltage clamp circuit |
KR910004736B1 (ko) * | 1988-12-15 | 1991-07-10 | 삼성전자 주식회사 | 스테이틱 메모리장치의 전원전압 조절회로 |
JPH02177084A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路 |
-
1990
- 1990-09-19 KR KR1019900014828A patent/KR920006985A/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-11-22 DE DE4037207A patent/DE4037207A1/de active Granted
- 1990-11-26 FR FR9014733A patent/FR2666913B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-28 JP JP2323353A patent/JPH04132080A/ja active Pending
-
1991
- 1991-05-28 GB GB9111468A patent/GB2248131A/en not_active Withdrawn
- 1991-09-18 IT ITRM910698A patent/IT1250098B/it active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2666913B1 (fr) | 1993-12-10 |
GB2248131A (en) | 1992-03-25 |
ITRM910698A1 (it) | 1993-03-18 |
KR920006985A (ko) | 1992-04-28 |
IT1250098B (it) | 1995-03-30 |
JPH04132080A (ja) | 1992-05-06 |
GB9111468D0 (en) | 1991-07-17 |
DE4037207A1 (de) | 1992-04-02 |
ITRM910698A0 (it) | 1991-09-18 |
FR2666913A1 (fr) | 1992-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4238063C2 (de) | Integrierte Speicherzellenschaltung mit Set-/Reset-Funktion | |
DE3936676A1 (de) | Pufferschaltkreis fuer eine mit verschiedenen versorgungspotentialen arbeitende halbleitereinrichtung und verfahren zu deren betrieb | |
DE112019000653T5 (de) | Hybrid-Konfigurationsspeicherzelle | |
DE4224048C2 (de) | Mit einer variablen, extern angelegten Versorgungsspannung betreibbare Halbleiterspeichereinrichtung | |
DE69929409T2 (de) | Speicherzelle mit kapazitiver Last | |
DE10255102B3 (de) | SRAM-Speicherzelle mit Mitteln zur Erzielung eines vom Speicherzustand unabhängigen Leckstroms | |
DE4209364A1 (de) | Cmos-sram und verfahren zu dessen herstellung | |
DE10256959A1 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung mit Speicherzellen, die keine Auffrischvorgänge erfordern | |
DE4226844A1 (de) | Datenuebertragungsschaltkreis | |
DE2309616C2 (de) | Halbleiterspeicherschaltung | |
DE1524900C3 (de) | Bistabile Speicherzelle mit zwei Transistoren | |
DE4037207C2 (de) | ||
DE2360378B2 (de) | Speicherzelle | |
DE2519323C3 (de) | Statisches Drei-Transistoren-Speicherelement | |
DE2008065A1 (de) | Nichtlineare Impedanzeinrichtung für bistabile Speicherzellen mit kreuzgekoppelten Transistoren | |
DE2001530B2 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE60020624T2 (de) | Ferroelektrischer Speicher | |
DE2128792A1 (de) | Schaltungsanordnung mit mindestens einem Feldeffekttransistor | |
DE2147833A1 (de) | Halbleiter Speicher | |
DE4237001C2 (de) | Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung | |
DE4120248C2 (de) | Statische Schreib-/Lesespeichervorrichtung, Dual-Port Schreib-/Lesespeichervorrichtung und Gate-Array-Vorrichtung | |
DE4334918C2 (de) | Absenkkonverter zum Absenken einer externen Versorgungsspannung mit Kompensation herstellungsbedingter Abweichungen, seine Verwendung sowie zugehöriges Betriebsverfahren | |
DE3235480C2 (de) | Integrierter Halbleiterspeicher | |
DE3842761C2 (de) | ||
DE3004565C2 (de) | Integrierte digitale Halbleiterschaltung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |