DE3400265C2 - - Google Patents

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf einen Arbeitstisch für ein Gerät zur Bearbeitung von Halbleiterplättchen gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Aus der DE 20 55 360 A1, der DE 26 28 818 A1, der DE 29 41 475 A1, der DE 24 11 508 A1 und der DE 31 28 802 A1 ist jeweils gattungsgemäß ein Arbeitstisch für ein Gerät zur Herstellung von Halbleiterplättchen bekannt. Der Halb­ leiterplättchenträger, das Führungsglied und das Ge­ triebe der Antriebseinheit dieses bekannten Arbeitsti­ sches sind jeweils aus einem metallischen Werkstoff hergestellt. Um mit derartigen metallischen Werkstoffen die ständig steigenden Anforderungen an die Justier­ genauigkeit derartiger Arbeitstische sicherzustellen, sind bei der Herstellung der genannten Bauteile extrem kleine Fertigungstoleranzen und extrem aufwendige Be­ handlungsschritte für die Oberflächen etc. erforder­ lich. Dennoch kann selbst durch die präziseste Einhal­ tung der vorgegebenen Fertigungstoleranzen nicht ver­ mieden werden, daß beim Betrieb derartiger Arbeitsti­ sche geringfügig Verformungen der Bauteile auftreten, wodurch erhebliche Qualitätseinbußen bei der Herstel­ lung von Halbleiterplättchen auftreten können, die sich beispielsweise in einer Erhöhung der Ausschußrate zei­ gen.
Aufgabe, der Erfindung ist es, einen Arbeitstisch für ein Gerät zur Herstellung von Halbleiterplättchen zu schaffen, bei dem die Einstellung des Halbleiterplätt­ chenträgers schneller und genauer durchgeführt werden kann und bei dem Justiergenauigkeiten aufgrund der De­ formation von bewegten Bauteilen nahezu ausgeschlossen sind.
Diese Aufgabe wird anmeldungsgemäß durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Die an­ meldungsgemäße Verwendung eines geeigneten Keramikwerk­ stoffs ermöglicht eine gegen irgendwelche unerwünschte Verformungen besonders starre Ausbildung des Getriebes, des Führungsglieds und des Halbleiterplättchenträgers.
Außerdem sind diese Bauteile extrem unempfindlich gegen Abriebkräfte und aufgrund der günstigen Reibungseigen­ schaften des verwendeten Werkstoffs sehr einfach und sehr exakt beweg- bzw. einstellbar. Die enorm hohe spe­ zifische Steifigkeit des verwendeten Werkstoffs ermög­ licht sehr hohe Eigenfrequenzen der Bauteile und somit eine extrem schnelle Vibrationsdämpfung. Insbesondere die Ausgestaltung auch des mit dem Halbleiterplättchen­ träger verbundenen Getriebes aus keramischem Werkstoff ermöglicht eine im Vergleich zum Stand der Technik ex­ trem präzise Einstellung des Halbleiterplättchenträgers des anmeldungsgemäßen Arbeitstisches.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen 2 bis 5 definiert.
Aufführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Ausführungs­ form des Arbeitstisches,
Fig. 2 eine Schnittansicht eines abgeänderten Aufbaus zur Lagerung des Halbleiterplättchenträgers des Arbeitstisches und
Fig. 3 eine Schnittansicht eines weiteren Aufbaus zur Lagerung des Halbleiterplättchenträgers des Arbeitstisches.
Fig. 1 zeigt einen Arbeitstisch aus einem keramischen Aluminiumoxid-Werkstoff, der beispielsweise ein Halbleiterplättchen (Wafer) 1 oder einen anderen Werkstoff mittels Unterdruck hält. Der Arbeitstisch ist innenseitig mit einer nicht gezeigten Öffnung zur Unterdruckspannung und einem nicht gezeigten Kanal versehen, der mit einer Unterdruckpumpe verbunden ist. Der Arbeitstisch umfaßt einen Halbleiterplättchenträger oder eine X-Bühne 2 aus einem keramischen Aluminiumoxid-Werkstoff, die zur Bewegung der Spanneinrichtung 1 in X-Richtung dient. Die X-Bühne 2 umfaßt einen Vorsprung 2′, der eine auf einem anderen, nachstehend beschriebenen Element gleitende unter Fläche hat. Die gleitende Fläche kann mit Polytetrafluorethylen-Werkstoff beschichtet sein. Auf der Innenseite der X-Bühne 2 ist ein Gleitblock 3 aus einem keramischen Aluminiumoxid-Werkstoff vorgesehen, der eine Polytetrafluorethylenbeschichtung auf seiner gleitenden Fläche hat. Der Gleitblock 3 steht in Berührung mit einer als Führungsglied dienenden Führungsschiene 9, die nachstehend beschrieben wird.
An der X-Bühne 2 ist eine zum Getriebe einer Antriebseinheit gehörende Kugelmutter 4 aus keramischem Werkstoff über ein Verbindungsstück angekoppelt und bringt dadurch für die X-Bühne 2 eine Antriebskraft mit sich; sie umfaßt im Inneren Kugeln aus nichtmetallischem Werkstoff, wie z. B. Keramik, Rubin oder Saphir. Die Kugelmutter 4 steht zum Antrieb in Eingriff mit einer zum Getriebe gehörenden Kugelspindel 5 aus keramischem Werkstoff. Ein Gehäuse 6 aus keramischem Werkstoff enthält zur Lagerung der Kugelspindel 5 ein Lager. Das Lager ist aus einem nichtmetallischen Werkstoff, wie z. B. Rubin oder Saphir. An der Kugelspindel 5 ist eine Kupplung 7 aus keramischem Werkstoff zur Übertragung der Antriebskraft eines zur Antriebseinheit gehörenden Antriebsmotors 8 für die X-Bühne 2 angebracht. Die Führungsschiene 9 aus keramischem Werkstoff bestimmt die lineare Bewegung der X-Bühne 2. Die Führungsschiene hat eine an einer Rolle 23 (Fig. 2), die um eine Achse drehbar ist, anliegende Seitenfläche, und die andere Seitenfläche steht in Eingriff mit dem Gleitblock 3.
Der Arbeitstisch gemäß Fig. 1 umfaßt ferner eine Y-Bühne 10 aus keramischem Werkstoff, die die Vorsprünge 2′ der X-Bühne 2 trägt und mit der Führungsschiene 9 für die X-Richtung belegt ist. An der Innenseite der Y-Bühne 10 ist ein Gleitblock 11 aus einem keramischen Werkstoff angebracht, der vorzugsweise mit einem Polytetrafluorethylen-Werkstoff beschichtet ist. Eine weitere Führungsschiene 12 aus keramischem Werkstoff bestimmt eine lineare Bewegung der Y-Bühne 10 und ist an eine stationäre bzw. feststehen­ de Bühne 18 aus keramischem Werkstoff gekoppelt. Gehäuse 13 und 14 aus keramischem Werkstoff lagern eine Kugelspin­ del 15 zum Antrieb in Y-Richtung und nehmen in sich ein Lager aus nichtmagnetischem Werkstoff, wie z. B. Keramik, Rubin oder Saphir auf. Eine Kugelmutter steht in Eingriff mit der Kugelspindel 15 und ist an der Innenseite der Y-Bühne 10 befestigt; dies ist jedoch nicht dargestellt.
Eine Kupplung 16 aus keramischem Werkstoff zur Übertragung einer Antriebskraft von einem Motor 17 zum Antrieb der Y-Bühne ist vorhanden. Gleitflächen 19 und 21 aus kerami­ schem Werkstoff, die auf eine spiegelglatte Oberfläche geläppt wurden, lagern den unteren Vorsprung der X-Bühne 2 bzw. den unteren Vorsprung der Y-Bühne 10.
Fig. 2 zeigt einen abgeänderten Aufbau zur Lagerung der X-Bühne 2. Fig. 3 zeigt eine andere Abwandlung zur Lage­ rung der X-Bühne 2. Der Aufbau gemäß Fig. 2 umfaßt Elemen­ te 24, die Rollen aus keramischem Werkstoff bzw. aus nicht metallischem Werkstoff sind, und die zur Bildung eines Lagers in zur Zeichenebene senkrechter Richtung angeordnet sind.
Die Elemente 24 können Nadellager mit einem Käfig aus Po­ lytetrafluorethylen-Werkstoff sein. Beim Aufbau gemäß Fig. 3 ist ein Gaslager 25 als ein Gleittyp-Luftlager mit einer Luftauflage aus einem keramischen Werkstoff verwendet, die mit einem nicht gezeigten Luftkanal verbunden ist. Bei diesen oben be­ schriebenen Bauteilen sind die gleitenden Teile und die rollenden Teile aus feinkeramischem Werkstoff hergestellt, und die anderen Teile können wie bei herkömmlichen Maschi­ nen aus einer Legierung wie z. B. einem Aluminium gefertigt sein.
Im Betrieb dreht der an der Y-Bühne 10 befestigte Motor 8 nach seiner Inbetriebsetzung die Kugelspindel 5 über die Kupplung 7, so daß die mit der Kugelspindel 5 in Ein­ griff stehende Kugelmutter 4 nach vorne und zurück bewegt wird, wodurch die an ihr befestigte X-Bühne 2 nach vorne und zurück bewegt wird. Die X-Bühne 2 gleitet auf der ebe­ nen Fläche 19 so, daß ihre Bewegung in einer Ebene ohne Abweichung gehalten ist; sie ist ferner durch die Füh­ rungsschiene 9 gegen Abweichung in Y-Richtung gehalten.
Wenn der an der feststehenden Bühne angebrachte Motor 17 betätigt wird, dreht sich die Kugelspindel 15 über die Kupplung 16, so daß die Y-Bühne 10 sich vor- und zurückbewegt. Die Y-Bühne 10 bewegt sich auf der ebenen Fläche 21 und wird durch die weitere Führungsschiene 12 so gehalten, daß sie sich genau in Y-Richtung bewegt.
Die Kupplungen zwischen den Bühnen und den Motoren beste­ hen aus keramischem Werkstoff, da dieser eine hohe Starr­ heit und geringe Trägheit mit sich bringt, so daß die Übertragung von Vibration aufgrund der Bewegung der Vor­ richtung verringert werden kann.
Falls die gesamten Bühnen aus keramischem Werkstoff gefer­ tigt sind, der nicht magnetisch ist, können sie bei einer Maschine verwendet werden, die mittels einem Elektronen­ strahl ein Muster erzeugt und eine nicht magnetische Büh­ ne erfordert; sie können ferner bei Maschinen für Präzi­ sionsbewegungen und Präzisionsmessungen auf anderen Gebie­ ten verwendet werden, bei denen sie mit korrosiven chemischen Mate­ rien leicht in Berührung kommen. Da es keine Möglichkeit von Rost gibt, wenn Keramik verwendet wird, können sie innerhalb chemischer Flüssigkeiten verwendet werden. Fer­ ner können sie in Anbetracht der Betriebsfähigkeit im Va­ kuum auch im Weltraum verwendet werden.
Bei den vorangehenden Ausführungsbeispielen sind die Büh­ nen in zueinander senkrechten Richtungen linear beweglich. Die Bühnen können aber auch drehbar sein.
Erfindungsgemäß kann die geringe Starrheit, die aus der Tendenz zu verringertem Gewicht folgt, vermieden werden. Aufgrund der geringen Wärmeleitfähigkeit des keramischen Werkstoffs und der geringeren Wärmedehnung als bei her­ kömmlichen Metallen ist die Vorrichtung im wesentlichen frei von den möglichen Einflüssen der Umgebungstemperatur. Ferner bringt die große Härte des Werkstoffes einen geringeren Antrieb mit sich. Herkömmliche Maschinen bringen unvermeidlich das Problem mit sich, daß die hohe Genauigkeit, wegen der Veränderung des Metalls mit der Zeit, nicht über eine lange Zeitdauer aufrecht erhalten werden kann. Im Gegensatz dazu können die erfindungsgemäßen Vorrichtungen derartige Veränderungen auf ein sehr geringes Maß reduzieren.
Da der keramische Werkstoff kaum durch äußere Vibrationen beeinflußt ist, kann auch eine stabile Arbeitsweise auf­ recht erhalten werden. Ferner ist eine Schmierung der Gleitflächen und Rollflächen nicht erforderlich.

Claims (5)

1. Arbeitstisch für ein Gerät zur Bearbeitung von Halb­ leiterplättchen, mit einem bewegbar gelagerten Halblei­ terplättchenträger (2), auf dem ein Halbleiterplättchen (1) ruht, einem Führungsglied (9) zur Führung der Bewe­ gung des Halbleiterplättchenträgers (2) und einer zur Bewegung des Halbleiterplättchenträgers (2) entlang dem Führungsglied (9) dienenden Antriebseinheit (8; 5, 4), die einen Antriebsmotor (8) und zur Übertragung der An­ triebskraft vom Antriebsmotor (8) auf den Halbleiter­ plättchenträger (2) ein Getriebe (5, 4) aufweist, da­ durch gekennzeichnet, daß der Halbleiterplättchenträger (2), das Führungsglied (9) und das Getriebe (5, 4) aus einem Keramikwerkstoff hergestellt sind.
2. Arbeitstisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß das Getriebe (5, 4) eine mit einer Kugelspin­ del (5) in Eingriff bringbare Kugelmutter (4) aufweist und die Kugelmutter (4) bei Drehung der Kugelspindel (5) bewegbar ist.
3. Arbeitstisch nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich­ net, daß das Führungsglied (9) ein Lager mit einer Rolle (23) aufweist.
4. Arbeitstisch nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich­ net, daß das Führungsglied (9) Gleitflächen aufweist.
5. Arbeitstisch nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich­ net, daß der Halbleiterplättchenträger (2) über ein Gaslager (25) verschiebbar ist.
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Publications (2)

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DE3400265A1 DE3400265A1 (de) 1984-07-12
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GB (1) GB2133930B (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10024820B4 (de) * 1999-05-19 2012-08-30 Nikon Corp. Objekt-Tisch für ein Mikroskop
CN108015690A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 中车大同电力机车有限公司 一种djg4构架二工序夹紧装置
CN108818340A (zh) * 2018-05-05 2018-11-16 芜湖杰诺科技有限公司 一种三通阀加工用固定装置

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3620969A1 (de) * 1985-06-24 1987-01-02 Canon Kk Praezisionszufuehrmechanismus
WO1987000114A1 (en) * 1985-06-26 1987-01-15 Collin Stuart Camp Machine tool
DE3538091A1 (de) * 1985-10-25 1987-04-30 Npsk Poluprovodnikova Technika Einrichtung fuer die koordinatenpositionierung
DE3732566A1 (de) * 1986-09-26 1988-04-07 Fraunhofer Ges Forschung Feinpositioniermodul
DD297758A7 (de) * 1987-03-13 1992-01-23 Elektromat Gmbh,De Positionierungseinrichtung fuer die herstellung von halbleiterbauelementen
US4979195A (en) * 1988-09-22 1990-12-18 Fujitsu Limited Vertical stepper
EP0418200A1 (de) * 1989-09-11 1991-03-20 Hans Rudolf Weber Linearführung
JPH03131442A (ja) * 1989-10-12 1991-06-05 Nippon Tungsten Co Ltd Ｘ―ｙステージ
US5061039A (en) * 1990-06-22 1991-10-29 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Dual axis translation apparatus and system for translating an optical beam and related method
US5279309A (en) * 1991-06-13 1994-01-18 International Business Machines Corporation Signaling device and method for monitoring positions in a surgical operation
IL104608A0 (en) * 1992-02-13 1993-06-10 Hughes Aircraft Co Apparatus for programmed plasma etching tool motion to modify solid layer thickness profiles
CA2082113C (en) * 1992-11-04 2000-02-29 Donald T. Waite Atmospheric precipitation collector and method of employing same
JP2568798B2 (ja) * 1992-12-17 1997-01-08 株式会社ハタ研削 ボンディングステージ
JPH06183561A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Canon Inc 移動ステージ装置
JP3021264B2 (ja) * 1993-12-13 2000-03-15 アネルバ株式会社 基板加熱・冷却機構
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
JP3537194B2 (ja) * 1994-10-17 2004-06-14 オリンパス株式会社 光学顕微鏡
JP3709896B2 (ja) * 1995-06-15 2005-10-26 株式会社ニコン ステージ装置
JP3634483B2 (ja) * 1996-02-13 2005-03-30 キヤノン株式会社 ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
US6012697A (en) * 1996-04-12 2000-01-11 Nikon Corporation Stage and supporting mechanism for supporting movable mirror on stage
US5699602A (en) * 1996-07-05 1997-12-23 Smooth Ocean Enterprise Co., Ltd. Apparatus for adusting position of a machining unit on a chip carrier maker
JP3077605B2 (ja) * 1996-10-18 2000-08-14 日新電機株式会社 ホルダ駆動装置
JP3437406B2 (ja) * 1997-04-22 2003-08-18 キヤノン株式会社 投影露光装置
JPH11211732A (ja) 1998-01-27 1999-08-06 Hitachi Constr Mach Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
US6131896A (en) * 1998-02-11 2000-10-17 Ciena Corporation Optical assembly workstation having an elevated work surface movable relative to a principal work surface
DE19858428C2 (de) * 1998-12-17 2002-09-12 Leica Microsystems Koordinaten-Messanordnung
AU4167799A (en) * 1999-06-18 2001-01-09 Nikon Corporation Stage device and exposure system
US6690763B2 (en) * 2001-04-28 2004-02-10 Oceaneering International, Inc. Device for micro-manipulation of small samples
JP4198334B2 (ja) * 2001-06-01 2008-12-17 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 Ｘｙステージを用いた処理方法及び装置
CA2482853A1 (en) * 2002-05-02 2003-11-13 Gmp Surgical Solutions, Inc. Apparatus for positioning a medical instrument
JP2004264371A (ja) * 2003-02-21 2004-09-24 Tadahiro Omi 液晶パネル用露光装置
JP4200794B2 (ja) * 2003-03-14 2008-12-24 株式会社ニコン ステージ、および該ステージを備えた生物顕微鏡
JP2005010120A (ja) * 2003-06-23 2005-01-13 Internatl Business Mach Corp <Ibm> ポジショニングステージ
GB2406533B (en) * 2003-10-02 2005-11-02 Leica Microsys Lithography Ltd Stage for a workpiece
US7168694B2 (en) * 2004-01-22 2007-01-30 Sakura Finetek U.S.A., Inc. Multi-axis workpiece chuck
JP4510007B2 (ja) * 2004-06-15 2010-07-21 Ｔｈｋ株式会社 Ｘｙガイドテーブル
EP1840242B1 (de) * 2006-03-29 2011-06-29 Applied Materials GmbH & Co. KG Vakuumtransportvorrichtung mit beweglicher Führungsschiene
KR100774753B1 (ko) * 2006-09-29 2007-11-08 현대자동차주식회사 다차종 도어 장착설비용 2축 방향 플로팅 지그장치
DE102006061067A1 (de) * 2006-12-22 2008-06-26 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Tischtrieb für Mikroskope
JP4889112B2 (ja) * 2007-02-27 2012-03-07 セイコーインスツル株式会社 自動薄切装置
US20080224109A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Hong Wen-Cheng Puller device
DE202007006226U1 (de) * 2007-04-27 2008-09-04 Robert Bosch Gmbh Bausatz für ein Handhabungssystem
DE102008011638B4 (de) * 2008-02-28 2016-03-10 Leica Instruments (Singapore) Pte. Ltd. Balanciervorrichtung für Operations-Mikroskop
US7959141B2 (en) * 2008-12-23 2011-06-14 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage apparatus
JP5107984B2 (ja) * 2009-09-18 2012-12-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ ステージ装置
US20110170808A1 (en) * 2010-01-13 2011-07-14 Tung-Hsin Chen Platform with automatic lubrication mechanism
WO2012040705A2 (en) * 2010-09-24 2012-03-29 Rudolph Technologies, Inc. Support for semiconductor substrate
CN102649232B (zh) * 2011-02-28 2014-07-02 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 直线运动平台
DE102011053181A1 (de) * 2011-09-01 2013-03-07 Union Werkzeugmaschinen Gmbh Chemnitz Schlittenführung für einen Maschinenschlitten einer Werkzeugmaschine
DE102011085327B4 (de) * 2011-10-27 2013-06-06 Eitzenberger Luftlagertechnik Gmbh Positioniervorrichtung, Kreuztisch und Hubeinheit
CN102642077B (zh) * 2012-04-13 2015-07-22 精进百思特电动（上海）有限公司 一种超声波端子焊接机
CN102672406A (zh) * 2012-05-14 2012-09-19 柳州双英汽车配件制造有限公司 用于座椅骨架点焊的四向旋转定位装置
CN102729023B (zh) * 2012-07-04 2015-05-20 吴江市博众精工科技有限公司 一种翻转模组
CN103231246B (zh) * 2013-03-18 2016-04-06 宁波市凯博数控机械有限公司 一种立式数控钻铣机床
CN103464651A (zh) * 2013-09-12 2013-12-25 苏州晓炎自动化设备有限公司 一种滑动机构
CN104440291B (zh) * 2013-09-13 2017-07-11 珠海格力电器股份有限公司 定位夹具及其控制方法
CN103978339B (zh) * 2014-05-30 2016-03-30 唐山开元特种焊接设备有限公司 钻井平台桩腿对接焊柔性组对工装
CN104249263A (zh) * 2014-09-16 2014-12-31 芜湖市华益阀门制造有限公司 一种单斜面零件钻孔夹具用三自由度调节支座
CN104259729A (zh) * 2014-09-16 2015-01-07 芜湖市华益阀门制造有限公司 一种多功能柱体方体焊接专用平台用调节平台
CN104889747A (zh) * 2015-05-16 2015-09-09 宁波麦科斯机器人科技有限公司 电子滑台
CN105014442B (zh) * 2015-07-10 2017-07-25 浙江诸暨东港液压机械有限公司 一种空气干燥器阀座斜孔加工智能夹具及装夹方法
CN105179473B (zh) * 2015-08-31 2017-09-26 中国航空工业集团公司北京航空精密机械研究所 细长杆件球柔性同轴调整装置
CN105197846B (zh) * 2015-10-13 2018-02-16 博众精工科技股份有限公司 一种顶升机构
CN105922036B (zh) * 2016-06-30 2018-04-13 何淑琼 电磁阀阀盖加工设备的阀盖换位装置
CN106002402B (zh) * 2016-06-30 2018-06-15 江苏射阳港港口股份有限公司 电磁阀阀盖加工设备的第一阀盖换位机构
CN106064344A (zh) * 2016-07-29 2016-11-02 无锡研奥电子科技有限公司 数控两轴工作台系统
CN106041604A (zh) * 2016-07-29 2016-10-26 无锡研奥电子科技有限公司 工作台系统
CN106271324B (zh) * 2016-09-20 2018-03-02 陕西理工学院 一种焊接支架
CN108406170B (zh) * 2017-11-01 2020-06-30 淮安溢邦林峰机械制造有限公司 一种具备夹取机构的焊接机
CN107891385B (zh) * 2017-11-08 2019-08-30 弗埃斯工业技术（苏州）有限公司 料件球状固定装置
CN108493294B (zh) * 2018-03-13 2020-01-14 中南大学 应用于光电子封装的冗余驱动平面运动平台
JP7011535B2 (ja) 2018-06-07 2022-01-26 株式会社日立ハイテク ステージ装置、及び荷電粒子線装置
CN109205288B (zh) * 2018-07-30 2021-05-11 张家港市欧微自动化研发有限公司 一种硅片装载设备及其装载方法
CN109027560B (zh) * 2018-09-13 2020-09-15 深圳市三阶微控实业有限公司 一种高精度xy移动平台及其实现方法
CN109940329A (zh) * 2019-03-19 2019-06-28 富华中元江苏重机科技有限公司 一种中间罐车电机定位吊耳焊接用工装
CN111347368A (zh) * 2020-05-04 2020-06-30 仙居颜飘机械科技有限公司 一种开关柜侧板安装用压紧机构
CN111853196B (zh) * 2020-07-28 2021-09-03 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种紧凑型三维运动机构
WO2022141449A1 (zh) * 2020-12-31 2022-07-07 深圳先进技术研究院 二维平面位移微型控制平台
CN115592370A (zh) * 2021-07-09 2023-01-13 三赢科技（深圳）有限公司（Cn） 拆卸装置

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2728840A (en) * 1952-03-22 1955-12-27 Gen Electric Specimen heating means
GB954843A (en) * 1961-05-25 1964-04-08 Ass Elect Ind Improvements relating to electron microscope specimen holders
GB1008545A (en) * 1961-09-29 1965-10-27 Euratom Analyzing device for electron beam micro-probe
FR1587573A (de) * 1968-10-25 1970-03-20
DE1911908C3 (de) * 1969-03-08 1980-08-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Einrichtung zum meßbaren Verschieben eines Objektes
US3628717A (en) * 1969-11-12 1971-12-21 Ibm Apparatus for positioning and bonding
DE2236529C3 (de) * 1972-07-21 1976-01-02 Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen Drehvorrichtung hoher Genauigkeit für optische Geräte, insbesondere Elektronenmikroskope
US3903536A (en) * 1973-11-19 1975-09-02 Gerhard Westerberg Device for generating masks for microcircuits
US4042119A (en) * 1975-06-30 1977-08-16 International Business Machines Corporation Workpiece positioning apparatus
JPS529455A (en) * 1975-07-14 1977-01-25 Tokyo Optical Co Ltd Device for returning a microscope supporting-apparatus to a center pos ition
JPS6036912B2 (ja) * 1976-01-27 1985-08-23 東芝セラミツクス株式会社 定盤
US4126376A (en) * 1977-02-24 1978-11-21 Jenoptik Jena G.M.B.H Manipulation device for precision adjustments including a double microscope having adjustable optical axes
JPS596268B2 (ja) * 1977-07-01 1984-02-09 日本電信電話株式会社 光伝送用ガラスフアイバの補強方法
JPS5551119A (en) * 1978-10-12 1980-04-14 Toshiba Corp Linear bearing device
JPS5645021A (en) * 1979-09-19 1981-04-24 Hitachi Ltd Moving apparatus
DE3014645C2 (de) * 1980-04-16 1982-12-02 MTU Motoren- und Turbinen-Union München GmbH, 8000 München Metall-Keramik-Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
US4385839A (en) * 1980-07-31 1983-05-31 Baird Corporation Automatic alignment system
JPS5761437A (en) * 1980-10-02 1982-04-13 Nissan Motor Co Ltd Slide base of machine tool
JPS5783329A (en) * 1980-11-01 1982-05-25 Nissan Motor Co Ltd Structure of slide surface of machine tool
JPS5867026A (ja) * 1981-10-19 1983-04-21 Hitachi Ltd ステップアンドリピート方式の露光装置
US4492356A (en) * 1982-02-26 1985-01-08 Hitachi, Ltd. Precision parallel translation system
JPS58135548U (ja) * 1982-03-10 1983-09-12 三和テッキ株式会社 ボ−ルねじ装置
JPS58206310A (ja) * 1982-05-25 1983-12-01 Mitsubishi Electric Corp 電気加工装置
JPS5919718A (ja) * 1982-07-22 1984-02-01 Toto Ltd 対偶機構

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10024820B4 (de) * 1999-05-19 2012-08-30 Nikon Corp. Objekt-Tisch für ein Mikroskop
CN108015690A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 中车大同电力机车有限公司 一种djg4构架二工序夹紧装置
CN108818340A (zh) * 2018-05-05 2018-11-16 芜湖杰诺科技有限公司 一种三通阀加工用固定装置

Also Published As

Publication number Publication date
GB8400314D0 (en) 1984-02-08
FR2539066A1 (fr) 1984-07-13
US4766465A (en) 1988-08-23
JPS59129633A (ja) 1984-07-26
DE3400265A1 (de) 1984-07-12
JPH0523890B2 (de) 1993-04-06
GB2133930B (en) 1987-01-14
GB2133930A (en) 1984-08-01
FR2539066B1 (fr) 1993-08-27

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