DE202006021251U1 - Polster für Patientenschnittstelle - Google Patents
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Abstract
Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt, wobei das Polster aufweist: eine Basiswand; und eine Membran mit einem Nasenrücken- und Wangenbereich, die geeignet sind, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrücken- bzw. Wangenbereich des Gesichts des Patienten zu bilden, wobei der Nasenrückenbereich und die benachbarten zwei Wangenbereiche eine Scheitelfläche festlegen, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt; wobei die Membran eine Membranhöhe zwischen einem Scheitel der Membran bis zu der Stelle hat, an der die Membran auf das Unterpolster trifft, wobei die Membranhöhe im Nasenrückenbereich größer als die Höhe in einem Abschnitt des Wangenbereichs benachbart zum Nasenrückenbereich ist, und wobei in einer Seitenansicht des Polsters der Scheitel der Membran im Nasenrückenbereich einen Abschnitt hat, der sich entlang einer relativ flachen Ebene erstreckt, die im Hinblick auf eine Ebene an einer Rahmenverbindung abgewinkelt ist.
Description
- RÜCKVERWEISUNG AUF ANMELDUNGEN
- Diese Anmeldung beansprucht den Vorteil der vorläufigen US-Patentanmeldungen Nr. 60/643130, eingereicht am 12. Januar 2005, und 60/724303, eingereicht am 7. Oktober 2005, die jeweils durch Verweis hierin in ihrer Gesamtheit aufgenommen sind.
- GEBIET DER ERFINDUNG
- Die Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, wobei die Patientenschnittstelle bei der Behandlung z. B. von schlafbezogenen Atmungsstörungen (sleep disordered breathing – SDB) mit nichtinvasiver Überdruckbeatmung (non-invasive positive pressure ventilation – NPPV) verwendet wird.
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Bahnbrechend für den Einsatz von NPPV zur Behandlung von SDB, z. B. obstruktiver Schlafapnoe (OSA), war Sullivan (siehe die
US-A-4944310 ). Eine Vorrichtung zur Behandlung von SDB beinhaltet ein Gebläse, das eine Luftmenge mit Überdruck über eine Leitung einer Patientenschnittstelle zuführt. Die Patientenschnittstelle kann mehrere Formen annehmen, z. B. eine Nasenmaskenanordnung und eine Nasen-Mund-Maskenanordnung. Normalerweise tragen Patienten eine Maskenanordnung im Schlaf, um die NPPV-Therapie zu erhalten. - Zu Maskenanordnungen gehören normalerweise eine steife Schale oder ein steifer Rahmen und ein weiches gesichtskontaktierendes Polster. Durch das Polster ist der Rahmen vom Gesicht des Patienten beabstandet. Der Rahmen und das Polster bilden einen Hohlraum, der die Nase oder die Nase und den Mund aufnimmt. In ihrer Position am Gesicht des Patienten werden der Rahmen und das Polster durch eine Kopfmonturanordnung gehalten. Normalerweise weist die Kopfmonturanordnung eine Anordnung aus Bändern (Riemen) auf, die an beiden Seiten des Gesichts des Patienten entlang zum Hinterkopf oder Scheitel des Patienten verlaufen.
- Die
US-A-5243971 (Sullivan und Bruderer) beschreibt eine Nasenmaskenanordnung für kontinuierlichen positiven Atemwegdruck (continuous positive airway pressure – CPAP) mit einer ballonierenden/sich anformenden Abdichtung, die sich der Form der Nase und der Gesichtskonturen des Patienten anpasst. Die Maskenanordnung hat einen gesichtskontaktierenden Abschnitt, der an einer Schale angeordnet ist, die so bemessen und geformt ist, dass sie sich über den Nasenbereich des Patienten aufpasst. Der gesichtskontaktierende Abschnitt hat die Form einer dehnbaren Membran, die aus einem elastischen Kunststoffmaterial geformt ist. Gemeinsam bilden die dehnbare Membran und die Schale eine Kammer. Durch in die Kammer eingelassenes Druckgas dehnt sich die Membran vom Gesicht des Patienten nach außen. Der Inhalt dieser Patentschrift ist hierin durch Verweis aufgenommen. - Die
US-A-6112746 (Kwok et al.) beschreibt eine Nasenmaskenanordnung und ein Maskenpolster dafür. Der Inhalt dieser Patentschrift ist hierin durch Verweis aufgenommen. Das Polster weist einen im Wesentlichen dreieckförmigen Rahmen auf, von dem sich eine Membran erstreckt. Der Rahmen hat eine Kante, durch die das Polster an einem Maskenkörper befestigt ist. Die Membran hat eine Öffnung, in der die Nase des Patienten aufgenommen wird. Die Membran ist vom Rand des Rahmens beabstandet, und ihre Außenfläche hat im Wesentlichen die gleiche Form wie der Rand. - Das Polster einer Patientenschnittstelle kann eine Schlüsselrolle für den Komfort und die Wirksamkeit der Therapie spielen. Gesichtsgröße und -form variieren beträchtlich, was bedeuten kann, dass eine für einen Gesichtstyp gestaltete Maske möglicherweise nicht für einen anderen geeignet ist. Beispielsweise hat eine asiatische Nase in der Tendenz einen niedrigeren Nasenrücken, wogegen eine europäische Nase einen höheren Nasenrücken hat. Das falsche Polster zu verwenden kann zu übermäßigen Leckagen und Beschwerden führen. Zwar kann die Schaffung spezifischer Polster für jeden Patienten einige Anpassungsprobleme lösen, aber spezifisch angepasste Masken sind sehr teuer. Daher streben Hersteller die Entwicklung von Polstern an, die für eine komfortable und wirksame Abdichtung für einen Bereich von Gesichtsgrößen und -formen sorgen.
- ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
- Ein Aspekt der Erfindung ist, eine Patientenschnittstelle mit einem Polster bereitzustellen, das für den Patienten komfortabler ist, während es eine wirksame Abdichtung beibehält.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung ist, ein komfortables Polster für eine Patientenschnittstelle bereitzustellen, das einem breiten Bereich von Gesichtsformen und -größen passt.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster mit einem darunter liegenden Polster bzw. Unterpolster und einer Membran, wobei das Unterpolster und die Membran einen im Wesentlichen flachen Abschnitt in einem Nasenbereich des Polsters haben.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster mit einer Basiswand, einem Unterpolster und einer Membran, wobei die Basiswand und das Unterpolster eine Querschnittkonfiguration haben, die für eine variable Federkonstante um den Umfang des Polsters sorgt.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft eine Patientenschnittstelle, wobei die Basiswand und die Rahmenverbindung des Polsters im Hinblick auf den äußersten Polsterpunkt, z. B. die Außenmembranfläche, nach innen versetzt sind.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster mit einer Basiswand und einem Unterpolster, die in einem Nasenseitenbereich des Polsters geneigt oder abgewinkelt sind.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster mit einer im Wesentlichen konstanten Mundbreite unabhängig von seiner Gesichtshöhe. Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran weist einen Nasenrücken-, Wangen- und Kinnbereich auf, die geeignet sind, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrücken-, Wangen- bzw. Kinnbereich des Gesichts des Patienten zu bilden. Der Nasenrückenbereich und die benachbarten beiden Wangenbereiche bilden einen Schnitt oder Scheitel. Die Membran im Nasenrückenbereich hat eine Höhe am Scheitel oder Schnitt, die größer als eine Höhe in einem benachbarten Abschnitt des Wangenbereichs ist.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Das Unterpolster hat eine federartige Verbindung mit der Basiswand. Das Unterpolster und/oder die Basiswand legen eine Federkonstante fest, die entlang eine Länge der Abdichtung variiert.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Die Membran oder das Unterpolster weist eine Außenfläche auf, die eine Außenbreite des Polsters festlegt, und die Basiswand ist im Hinblick auf die Außenfläche nach innen versetzt.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran weist mindestens einen Nasenrücken- und Nasenseitenbereich auf, die geeignet sind, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrücken- bzw. Nasenseitenbereich des Gesichts des Patienten zu bilden. Die Basiswand und das Unterpolster im Nasenseitenbereich sind im Hinblick auf einen Boden des Rahmens geneigt oder abgewinkelt.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran weist einen Nasenrücken-, Nasenseiten-, oberen Wangen-, unteren Wangen- und Kinnbereich auf, die geeignet sind, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrücken-, Nasenseiten-, oberen Wangen-, unteren Wangen- bzw. Kinnbereich des Gesichts des Patienten zu bilden. Eine Innenkante der Membran legt eine Öffnung fest, die die Nase und den Mund des Patienten aufnimmt. Ein unterer Abschnitt der Öffnung, der den Mund des Patienten aufnimmt, hat eine Mundbreite, die unabhängig von einer Gesichtshöhe des Polsters im Wesentlichen konstant bleibt.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Mindestens ein Abschnitt des Unterpolsters und/oder der Basiswand hat einen unteren Abschnitt mit einer Federkonfiguration, die Verschiebung des Polsters im Hinblick auf eine vom Rahmen ausgeübte Kraft festlegt.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Verfahren zur Gestaltung einer Folge von Maskenanordnungen. Zum Verfahren gehören das Bereitstellen eines ersten Polsters, das geeignet ist, einem größeren Bereich von Patienten zu passen, und das Bereitstellen eines zweiten Polsters, das geeignet ist, einem kleineren Bereich von Patienten zu passen. Das erste und zweite Polster weisen jeweils eine Öffnung auf, die mindestens den Mund des Patienten aufnimmt. Die Öffnung des ersten und zweiten Polsters haben die gleiche Breite.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran weist mindestens einen Nasenrückenbereich auf, der geeignet ist, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrückenbereich des Gesichts des Patienten zu bilden. Die Membran bildet einen länglichen Kamm im Nasenrückenbereich. Der längliche Kamm hat schräge Seiten, die zusammenlaufen, um einen länglichen Grat zu bilden. Jede der schrägen Seiten ist von einer Gratmittellinie im Bereich von 30–60° abgewinkelt, und der Grat hat einen Krümmungsradius im Bereich von 1,0–5,0 mm.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran weist mindestens einen Nasenrückenbereich auf, der geeignet ist, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrückenbereich des Gesichts des Patienten zu bilden. Der Nasenrückenbereich der Membran weist einen konturierten Abschnitt auf, der sich zu einem Hohlraum des Polsters entlang einem Radius so nach innen krümmt, dass er an einer Innenkante der Membran endet. Der konturierte Abschnitt hat ein freies Ende, das im Hinblick auf eine Gesichtskontaktebene des Polsters im Bereich von 30–50° abgewinkelt ist.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Das Unterpolster und/oder die Basiswand hat eine Fragezeichen- oder Sichelform.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die so aufgebaut ist, dass sie mit einem Rahmen verbindbar ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Das Unterpolster hat eine bogenförmige Konfiguration mit einer Bogenlänge größer als 16 mm.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen verbunden ist, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt, und eine Membran, die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt des Unterpolsters im Wesentlichen abdeckt. Die Membran ist geeignet, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Die Membran weist eine Dicke auf, die über eine Länge der Abdichtung variiert.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt. Das Polster verfügt über eine Basiswand, die zur Verbindung mit einem Rahmen ausgebildet ist, und eine Membran, die geeignet ist, eine kontinuierliche Abdichtung auf dem Gesicht des Patienten zu bilden. Mindestens ein Abschnitt der Basiswand weist einen zulaufenden Abschnitt auf, der zur Membran zuläuft.
- Noch ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein Maskensystem mit einem Satz aus mindestens zwei Polstern, die so angeordnet sind, dass sie für unterschiedliche Gesichtsgrößen geeignet sind, wobei die mindestens zwei Polster im Wesentlichen die gleiche Breite haben.
- Weitere Aspekte, Merkmale und Vorteile der Erfindung gehen aus der nachfolgenden näheren Beschreibung im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen hervor, die Teil dieser Offenbarung sind und die Grundsätze der Erfindung beispielhaft veranschaulichen.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
- Durch die beigefügten Zeichnungen werden die verschiedenen Ausführungsformen der Erfindung besser verständlich. Es zeigen:
-
1 –9 ein Polster für eine Patientenschnittstelle, das gemäß einer Ausführungsform der Erfindung aufgebaut ist und beispielhafte Maße einer Ausführungsform zeigt; -
10 –14 Querschnittansichten durch das Polster gemäß5 ; -
15 eine Vorderansicht des Polsters gemäß1 –9 , die verschiedene Bereiche des Polsters veranschaulicht; -
16 –17 eine weitere Größe des Polsters gemäß1 –9 ; -
18 –19 noch eine weitere Größe des Polsters gemäß1 –9 ; -
20 –21 noch eine weitere Größe des Polsters gemäß1 –9 ; -
22 eine Querschnittansicht durch das Polster gemäß1 –9 , die Parameter veranschaulicht, die eine Federcharakteristik des Unterpolsters modifizieren können; -
23 –29 Querschnittansichten durch das Polster gemäß15 , die beispielhafte Parameter einer Ausführungsform zeigen, wobei die Querschnittansichten nur das Unterpolster veranschaulichen; -
30A –30N Querschnittansichten, die alternative Ausführungsformen eines erfindungsgemäßen Polsters darstellen; -
31 –32 Diagramme, die die allgemeine Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung für Ausführungsformen des Polsters gemäß1 –9 und ein bekanntes Polster, das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed Ltd. vertrieben wird, veranschaulichen; -
33 ein Diagramm, das die allgemeine Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung für verschiedene Querschnitte des Polsters gemäß23 –29 veranschaulicht; -
34A eine Federlänge für das Polster gemäß1 –9 , die beispielhafte Maße einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt; -
34B eine Federlänge für ein bekanntes Polster, das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed.Ltd. vertrieben wird, die beispielhafte Maße des UltraMirage® Full Face zeigt; -
35 eine Seitenansicht des Polsters gemäß1 –9 ; -
36 –37 Querschnittansichten durch das Polster gemäß35 ; -
38A eine Vorderansicht des Polsters gemäß1 –9 , die einen flachen Abschnitt davon veranschaulicht; -
38B ein Diagramm, das die allgemeine Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung in einem Nasenrückenbereich für Ausführungsformen des Polsters gemäß1 –9 veranschaulicht und ein bekanntes Polster, das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed Ltd. vertrieben wird; -
39 –40B eine Vorder- und Querschnittansicht einer Ausführungsform des Polsters gemäß1 –9 , die beispielhafte Maße einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigen; -
41 –45 Perspektivansichten einer Ausführungsform des Polsters gemäß1 –9 , die die Rollwirkung des Nasenrückenbereichs im Gebrauch zeigen; -
46 –53 ein bekanntes Polster, das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed Ltd. vertrieben wird; -
54 –58 ein Polster für eine Patientenschnittstelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung, die beispielhafte Maße einer Ausführungsform zeigen; -
59 –63 Querschnittansichten durch das Polster gemäß54 ; -
64 eine Querschnittansicht eines Abschnitts des Polsters gemäß54 –58 (in durchgezogenen Linien) in Überlagerung mit einem Querschnitt eines bekannten Polsters, das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed Ltd. vertrieben wird (nur die relevanten Abschnitte des Polsters UltraMirage® sind möglicherweise in gestrichelten Linien gezeigt, d. h. es kann andere unterschiedliche Abschnitte geben, die nicht gezeigt sind); -
65 eine Querschnittansicht eines Abschnitts des Polsters gemäß54 –58 , die beispielhafte Maße einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt; -
66 –69 Querschnittansichten durch das Polster gemäß54 , die beispielhafte Maße einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigen; -
70 –71 eine Draufsicht bzw. Querschnittansicht des Polsters gemäß54 , die beispielhafte Maße einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigen; -
72 –76 ein Polster für eine Patientenschnittstelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung; -
77 –83 ein Polster für eine Patientenschnittstelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung; -
84 –90 ein Polster für eine Patientenschnittstelle gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung; -
91 einen alternativen Polsterquerschnitt zu dem gemäß34A ; -
92 einen weiteren alternativen Polsterquerschnitt zu dem gemäß34A ; -
93 eine alternative Polsteranordnung zu der gemäß15 ; -
94A –94C einen Satz von Ansichten, die einen waagerechten Querschnitt durch den Nasenrückenbereich des Polsters von35 darstellen; und -
95A –95C einen Satz von Ansichten, die einen waagerechten Querschnitt durch den Nasenrückenbereich des Polsters des Stands der Technik von51 darstellen. - NÄHERE BESCHREIBUNG DER VERANSCHAULICHTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
-
1 –14 veranschaulichen ein Polster10 , das gemäß einer Ausführungsform der Erfindung aufgebaut ist. Das Polster10 ist geeignet, mit einem Rahmen einer Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt, entfernbar oder dauerhaft verbunden zu sein (z. B. über mechanische und/oder Klebebefestigung). In einer Ausführungsform kann das Polster10 mit einem Rahmen einer Patientenschnittstelle gemeinsam geformt sein. In einer weiteren Ausführungsform kann das Polster Teil eines Rahmens mit einem Außenstützaufbau bilden, z. B. der Hospital Nasal Mask von ResMed. Das Polster10 stellt während der Verwendung eine Abdichtung mit dem Gesicht des Patienten bereit. - In der dargestellten Ausführungsform bildet das Polster
10 einen Teil einer Ganzgesichtsmaske. Insbesondere sorgt das Polster10 für eine Abdichtung um Nase und Mund des Patienten, um die Abgabe von Atemgas zu Nase und Mund des Patienten zu ermöglichen. Gleichwohl können Aspekte der Erfindung auf andere Atemanordnungen anwendbar sein, z. B. eine Nasenmaske, eine Mundmaske usw. Das Polster10 kann mit einem Einsatz bzw. einer Verstärkung gemäß der Beschreibung in der US-Patentanmeldung Nr. 10/655622 verwendet werden, die hierin durch Verweis in ihrer Gesamtheit aufgenommen ist. - Das Polster
10 ist so aufgebaut, dass es für einen komfortableren Sitz für einen breiten Bereich von Gesichtsformen und -größen sorgt. Ferner ist das Polster10 so aufgebaut, dass es für eine bessere Abdichtung sorgt und die Leckgefahr verringert, wie unten diskutiert. - Gemäß
1 –14 verfügt das Polster10 über einen Nicht-Gesichtskontaktabschnitt12 , der zur Verbindung mit einem Rahmen der Patientenschnittstelle ausgebildet ist, z. B. über eine reibschlüssige Passung, eine Nut-Feder-Anordnung usw., und einen Gesichtskontaktabschnitt14 , der so aufgebaut ist, dass er einen Eingriff mit dem Gesicht des Patienten herstellt. - Wie
5 und15 am besten zeigen, hat der Gesichtskontaktabschnitt14 des Polsters10 vorzugsweise eine im Allgemeinen dreieckige Form und ist so aufgebaut, dass er einen Nasenrücken-, Nasenseiten-, oberen Wangen-, unteren Wangen- und Kinnbereich des Patienten kontinuierlich kontaktiert. Allerdings kann der Gesichtskontaktabschnitt14 andere geeignete Formen haben, z. B. eine im Allgemeinen trapezoide Form. In der dargestellten Ausführungsform verfügt, wie15 am besten zeigt, das Polster10 über einen Nasenrückenbereich16 , um für eine Abdichtung entlang dem Nasenrücken des Patienten zu sorgen, ein Paar Wangenbereiche15 , um für eine Abdichtung entlang der Nase, der Wange und dem Mund zu sorgen, und einen Kinnbereich20 , um für eine Abdichtung entlang dem Kinn des Patienten zu sorgen. Das Paar Wangenbereiche15 kann ferner als ein Paar Nasenseitenbereiche17 gebildet sein, um für eine Abdichtung entlang den Seiten der Nase des Patienten zu sorgen, als ein Paar obere Wangenbereiche18 , um für eine Abdichtung entlang der oberen Wangen des Patienten zu sorgen, und als ein Paar untere Wangenbereiche19 , um für eine Abdichtung entlang der unteren Wangen des Patienten und der Seiten des Munds des Patienten zu sorgen. - Breite des Polsters in den unteren Wangenbereichen und Verhältnis von Gesichtsbreite zu -höhe über Maskengrößen hinweg
- Das Polster
10 kann in verschiedenen Größen vorgesehen sein, um verschiedenen Gesichtsgrößen Rechnung zu tragen. Beispielsweise zeigen16 –21 Ausführungsformen des Polsters10 in drei anderen Größen. In einer Ausführungsform kann das Polster210 gemäß16 –17 eine extra kleine Größe darstellen, das Polster310 gemäß18 –19 kann eine kleine Größe darstellen, das Polster10 gemäß1 –14 kann eine mittlere Größe darstellen, und das Polster410 gemäß20 –21 kann eine große Größe darstellen. Darstellungsgemäß sind die Mundbreiten der Polster10 ,210 ,310 ,410 unabhängig von ihrer Gesichtshöhe im Wesentlichen konstant. - Insbesondere bildet das Polster
10 eine Öffnung22 , die den Mund des Patienten aufnimmt. In einer bevorzugten Ausführungsform hat der untere Abschnitt der Öffnung22 eine konstante Breite für alle Polstergrößen, z. B. 60 mm. Allerdings kann die Breite des unteren Abschnitts der Öffnung22 für alle Polstergrößen nahezu konstant sein, z. B. in einem Bereich von 5 mm. Beispielsweise kann die Breite des unteren Abschnitts der Öffnung22 des Polsters10 60 mm ±5 betragen. Dagegen beträgt die Breite des unteren Abschnitts der Öffnung722 eines bekannten Polsters700 , das im Handel unter der Bezeichnung UltraMirage® Full Face von ResMed Ltd. vertrieben wird, 60 mm für eine große Größe, 54 mm für eine mittlere Größe und 52 mm für eine kleine Größe. Das Polster700 UltraMirage® ist in46 –53 gezeigt. - Aus anthropometrischen Daten geht hervor, dass Mundbreiten für Patienten mit relativ kleinen Gesichtern nicht unbedingt schmaler sind als Mundbreiten für Patienten mit relativ großen Gesichtern. Somit haben alle Gesichter allgemein die gleiche Mundbreite. Folglich ist die Öffnung
22 im Polster10 ausreichend breit hergestellt, um einem breiten Bereich von Patienten Rechnung zu tragen, und bleibt unabhängig von der Änderung der Gesichtshöhe einer Maske, um größeren Gesichtern zu passen, konstant oder nahezu konstant, z. B. in einem Bereich von 5 mm. Ersichtlich wird dies in der im Wesentlichen konstanten Polstergeometrie entlang des unteren Wangen- und Kinnbereichs der unterschiedlichen Polstergrößen und somit der variierenden Breiten-Höhen-Verhältnisse der unterschiedlichen Polstergrößen. Beispielsweise hat der untere Abschnitt der Öffnung22 jedes der Polster10 ,210 ,310 ,410 im Wesentlichen die gleiche Breite. - Basiswand, Unterpolster und Membran
- Wie
9 sowie10 –14 am besten zeigen, verfügt der Gesichtskontaktabschnitt14 des Polsters10 über eine Basiswand28 , ein Paar Unterstützpolster30 , die sich von der Basiswand28 weg erstrecken, und eine Membran32 , die so vorgesehen ist, dass sie mindestens einen Abschnitt der Unterpolster30 abdeckt und einen Abdichtungsaufbau für den Gesichtskontaktabschnitt14 bildet. Die Basiswand28 und die Unterpolster30 bilden einen Stützaufbau für die Membran32 . - Darstellungsgemäß sind die Unterpolster
30 vorzugsweise nur auf Seitenflächen der Basiswand28 vorgesehen, z. B. im Nasenseiten-, oberen Wangen- und unteren Wangenbereich17 ,18 ,19 , wenngleich die Unterpolster30 verbunden sein und die Nase des Patienten sowie auch den Unterlippen- oder Kinnbereich im Wesentlichen umgeben könnten. Die Unterpolster30 verleihen der Membran32 zusätzliche Steifigkeit analen Seiten des Munds und der Wangen des Patienten. Während bevorzugt ist, dass die Membran32 dünner als die Unterpolster30 ist, könnten sie die gleiche Dicke haben, oder die Membran könnte dicker als das Unterpolster sein. Ferner ermöglicht der Wegfall eines Unterpolsters im Kinnbereich20 , dass das Polster10 einen tieferen Eingriff mit dem Gesicht des Patienten in diesem Bereich herstellt, ohne den Kinnbereich20 des Patienten übermäßigem Druck auszusetzen. Das heißt, es gibt kein Unterpolster, um die Bewegung der Membran32 in diesem Bereich einzuschränken, was die Abdichtung in diesem Bereich und benachbarten Bereichen verbessern kann. Zusätzlich kann durch den Wegfall eines Unterpolsters im Kinnbereich20 das Polster10 mehr Gesichtsformen Rechnung tragen und sorgt für mehr Flexibilität und ermöglicht Bewegung oder Öffnen des Munds. - In der dargestellten Ausführungsform hat der Gesichtskontaktabschnitt
14 des Polsters einen doppelwandigen Aufbau, d. h. Membran32 und Unterpolster30 , im Nasenseiten-, oberen Wangen- und unteren Wangenbereich17 ,18 ,19 und einen einwandigen Aufbau, d. h. Membran32 , im Nasenrücken- und Kinnbereich16 ,20 , was10 –14 zeigen. Der einwandige Aufbau an der Ober- und Unterseite des Polsters10 hilft, hohen Messpunkten Rechnung zu tragen, z. B. einem spitzen Kinn, indem er der Mitte des Polsters10 ermöglicht, sich zu biegen. Durch diese Flexibilität wird mit dem gleichen Polster mehr Patienten Rechnung getragen. Allerdings kann das Polster10 jeden anderen geeigneten Aufbau, z. B. einen einwandigen, doppelwandigen, dreiwandigen oder mehrwandigen Aufbau, in jedem geeigneten Bereich des Polsters10 , z. B. Wange, Kinn, Nasenrücken, haben. Beispielsweise kann sich das Unterpolster30 um den gesamten Umfang des Polsters10 erstrecken. Ferner könnte das Unterpolster30 vollständig entfernt sein. - Gemäß
10 –14 kann die Membrandicke in unterschiedlichen Bereichen des Polsters10 variieren. Darstellungsgemäß ist die Membran im Nasenrückenbereich16 und oberen Wangenbereich18 0,3 mm dick, was zu 0,5 mm Dicke im oberen Wangenbereich18 übergeht, und behält diese Dicke im unteren Wangen- und Kinnbereich19 ,20 bei. Diese Anordnung sorgt für größere Nachgiebigkeit/Dehnung über den Nasenrücken durch Bereitstellen einer dünneren Membran. Nicht erforderlich ist diese Dehnung an den unteren Bereichen, und hier schwingt die dickere Membran weniger wahrscheinlich im Gebrauch auf dem Gesicht des Patienten. - Innen versetzte Basiswand und Rahmenverbindung
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft die Größe und Konfiguration der Basiswand
28 , des Unterpolsters30 und der Membran32 des Polsters10 .48 –50 veranschaulichen die Basiswand728 , das Unterpolster730 und die Membran732 des Polsters700 UltraMirage®. Darstellungsgemäß hat das Polster10 ein anderes Querschnittprofil als das Polster700 UltraMirage®. - Wie beispielsweise
11 –13 am besten zeigen, sind die Basiswand28 und die Rahmenverbindung29 im Hinblick auf den äußersten Polsterpunkt39 , z. B. die Außenfläche der Membran oder des Unterpolsters, nach innen versetzt. Dagegen sind die Basiswand728 und Rahmenverbindung729 des Polsters700 UltraMirage® nicht im Hinblick auf den äußersten Polsterpunkt739 versetzt (siehe48 –50 ). Als Ergebnis dieser Einwärtsbewegung ist die Basisbreite des Polsters10 verengt, z. B. um etwa 5 mm oder 2,5 mm pro Basis, was für ein unauffälligeres Polster sorgt und Material einspart, was weniger Gewicht und Kosten bedeutet. Außerdem sorgt das schmalere Polster10 für weniger freie Länge für das Polster10 , sich im Gebrauch nach außen auszubauchen, was hilft, Leckagen zu minimieren oder zu beseitigen. - Darstellungsgemäß hat ein unterer Abschnitt des Unterpolsters
30 eine stärker bogenförmige, z. B. halbkreis-, fragezeichen-, sichelförmige, Konfiguration, die einen Raum34 unter einem unteren Abschnitt des Unterpolsters30 und benachbart zur Basiswand28 bildet. - In der dargestellten Ausführungsform ist der breiteste oder äußerste Polsterpunkt die Außenfläche des Unterpolsters
30 , und die Basiswand28 und Rahmenverbindung29 sind im Hinblick darauf innen versetzt. Somit ist durch die Gestaltung des Polsters10 und insbesondere der Unterpolsterkrümmung der Rahmen an einem schmaleren Punkt angebracht, und dadurch ist der Rahmen selbst schmaler. Diese Anordnung hat erhebliche Vorteile für das Rahmengewicht, das wahrgenommene Volumen und die Größe. Zudem kann diese Anordnung den Totraum in der Maske minimieren, was dazu beiträgt, Rückatmung von CO2 zu reduzieren. - Weiterhin ermöglicht der Raum
34 unter dem Unterpolster30 einen größeren Bewegungsbereich des Unterpolsters30 , um dem Unterpolster30 und somit der Membran32 im Gebrauch größere Flexibilität zu verleihen. Insbesondere ermöglicht der Raum34 unter dem Unterpolster30 eine größere Verschiebung des Unterpolsters30 mit Hilfe von im Wesentlichen den gleichen räumlichen Einschränkungen wie beispielsweise beim Polster700 UltraMirage®. Zusätzlich ermöglicht der Raum34 eine stärkere Verschiebung des Unterpolsters30 vor Erreichen des Tiefststands, was Beschwerden reduziert. Dadurch sorgt diese Anordnung für eine graduellere Kraft, verbessert den Komfort und ermöglicht einem größeren Bereich von Patienten, Abdichtung zu erreichen. - Variable Federkonstante
- Darstellungsgemäß hat das Unterpolster
30 eine federartige Verbindung mit der Basiswand28 , so dass sich das Unterpolster30 im Hinblick auf die Basiswand28 bewegen kann. Das heißt, das Unterpolster30 ist in den Raum34 beweglich (das Unterpolster30 ist auch in den Raum33 beweglich). Damit ist für eine Federkraft gesorgt, wenn eine Rahmenkraft ausgeübt wird, und das Unterpolster30 wird in seine Anfangsposition elastisch zurück bewegt, wenn die Rahmenkraft wegfällt. Das Unterpolster30 und/oder die Basiswand28 können jede geeignete Federkonstante haben, und die Federkonstante kann an beliebiger Stelle über seine/ihre Länge variiert sein, z. B. durch Zulaufenlassen und/oder Variieren der Dicke der Basiswand28 , Variieren der Dicke von Zwischen- und/oder unteren Abschnitten des Unterpolsters30 . Ferner kann sich die federartige Verbindung am gesamten Unterpolster30 entlang erstrecken, oder die federartige Verbindung kann in bestimmten Bereichen lokalisiert sein, z. B. dem Wangenknochenbereich. - Somit ist eine Federcharakteristik mit der Basiswand
28 und dem Unterpolster30 des Polsters10 geformt, durch das eine kontinuierlich variable Federkonstante in die Basiswand28 und das Unterpolster30 eingebracht sein kann, z. B. kann die Wandsteifigkeit an jedem Polsterbereich variiert sein, um die Abdichtungsanforderungen in jedem Bereich zu erfüllen, die infolge der darunter liegenden Gesichtsstruktur des Patienten variieren können. - Die Federkennung der Basiswand
28 und des Unterpolsters30 kann durch Variieren einer Anzahl von Kennwerten gemäß22 modifiziert werden. Variieren lässt sich die Federkennung beispielsweise durch Variieren der Unterpolsterhöhe h, der Dicke t, des Radius r und des Unterpolsterversatzes C. Verständlich sollte sein, dass diese Parameter lediglich als Beispiele dienen und andere Parameter variiert werden können, um die Federkennung der Basiswand28 und des Unterpolsters30 zu ändern. -
23 –29 veranschaulichen Parameter einer Ausführungsform des Unterpolsters30 und der Basiswand28 , um eine erwünschte Federkennung zu erreichen. Darstellungsgemäß sind das Unterpolster30 und die Basiswand28 so konfiguriert, dass eine variable Federkonstante entlang des Umfangs des Polsters10 vorgesehen ist. Das heißt, die Federkonstante des Unterpolsters30 und der Basiswand28 unterscheidet sich entlang dem Nasenseiten-, oberen Wangen- und unteren Wangenbereich17 ,18 ,19 . Obwohl spezifische Parameter des Polsters10 in23 –29 gezeigt sind, sollte verständlich sein, dass diese Parameter lediglich als Beispiele dienen und andere Parameter anwendungsabhängig möglich sind. - Im Nasenrückenbereich
16 (siehe z. B.10 ) ist kein Unterpolster30 vorgesehen, damit für hohe Flexibilität und das Vermögen gesorgt ist, sich vielfältigen Gesichtsformen anzupassen. Allerdings kann in einer Ausführungsform ein Unterpolster30 mit einer sehr weichen Federcharakteristik in diesem Bereich vorgesehen sein. - In den Nasenseitenbereichen
17 (siehe23 –24 ) sind ein Unterpolster30 und eine Basiswand28 mit einer recht steifen Federkennung vorgesehen, um für seitliche Stabilität zu sorgen, um auf die Seite der Nase des Patienten zu drücken und die Membran32 in Kontakt mit dem Unterpolster30 zu halten. Darstellungsgemäß wird diese Anordnung durch ein relativ dickes Unterpolster, eine kurze Höhe und einen engen Radius erreicht. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß23 kann h 12 mm betragen, r kann 5 mm betragen, t kann 2–3 mm betragen, b kann 4 mm betragen, w1 kann 11,5 mm betragen und w2 kann 8 mm betragen. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß24 kann h 14 mm betragen, r kann 6–7 mm betragen, t kann 2,5 mm betragen, b kann 4 mm betragen, w1 kann 11,5 mm betragen, w2 kann 9,5 mm betragen und α kann 22° betragen. Verständlich sollte sein, dass diese Maße und Bereiche lediglich als Beispiele dienen und andere Maße und Bereiche anwendungsabhängig möglich sind. - Wie
24 am besten zeigt, wurden ferner die Basiswand28 und das Unterpolster30 in den Nasenseitenbereichen17 um etwa 22 Grad im Hinblick auf den Boden des Rahmens gedreht. Das heißt, die Basiswand28 und das Unterpolster30 sind in den Nasenseitenbereichen17 des Polsters10 geneigt oder abgewinkelt. Diese Anordnung erhöht die Seitenstabilität weiter und ermöglicht, die Kraft auf die Membran senkrecht zur Hautoberfläche an der Seite der Nase des Patienten auszuüben. Ferner trägt dies dazu bei, die Membran32 in Kontakt mit der Haut des Patienten zu halten und Luftleckagen zu verhindern. In weiteren Ausführungsformen kann dieser Winkel von 15 bis 30 Grad variieren. - In den oberen Wangenbereichen
18 (siehe25 –26 ) haben das Unterpolster30 und die Basiswand28 eine Steifigkeit, die kleiner als die in den Nasenseitenbereichen17 vorgesehene, aber steifer als die in den unteren Wangenbereichen19 vorgesehene ist, was Folge der Geometrie des Unterpolsters ist, das so vorgesehen ist, dass es der festeren Knochenstruktur der oberen Wangen entspricht. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß25 kann h 12–15 mm, vorzugsweise 13,5 mm, betragen, r kann 5 mm betragen, t kann 2 mm betragen, b kann 3 mm betragen und w1 kann 11,5 mm betragen. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß26 kann h 12–15 mm, vorzugsweise 13,5 mm, betragen, r kann 5 mm betragen, t kann 2 mm betragen, b kann 3 mm betragen und w1 kann 11,5 mm betragen. Verständlich sollte sein, dass diese Maße und Bereiche lediglich als Beispiele dienen und andere Maße und Bereiche anwendungsabhängig möglich sind. - In den unteren Wangenbereichen
19 (siehe27 –29 ) haben das Unterpolster30 und die Basiswand28 eine relativ niedrige Federkonstante. Das heißt, das Unterpolster30 in den unteren Wangenbereichen19 ist recht weich, da sich der fleischige Wangenbereich des Patienten leicht verformt, um eine Abdichtung mit dem Polster bei relativ geringen Kräften zu bilden. Erreicht wird diese Anordnung darstellungsgemäß durch eine größere Höhe h, größere Radien r und eine dünnere Unterpolsterwand. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß27 kann h 14 mm betragen, r1 kann 5 mm betragen, r2 kann 7 mm betragen, t kann 1,5–2 mm betragen, b kann 3,5 mm betragen und w1 kann 11,5 mm betragen. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß28 kann h 16,5 mm betragen, r1 kann 6–7 mm betragen, r2 kann 8 mm betragen, t kann 1,5 mm betragen, b kann 3,5 mm betragen und w1 kann 11,5 mm betragen. In einer Ausführungsform des Teilstücks gemäß29 kann h 17,5 mm betragen, r1 kann 6–7 mm betragen, r2 kann 9–10 mm betragen, t kann 1,5 mm betragen, b kann 3,5 mm betragen und w1 kann 11,5 mm betragen. Verständlich sollte sein, dass diese Maße und Bereiche lediglich als Beispiele dienen und andere Maße und Bereiche anwendungsabhängig möglich sind. - Im Kinnbereich
20 (siehe14 ) ist kein Unterpolster30 vorgesehen, wenngleich ein sehr flexibler Federbereich verwendet werden kann. Der Kinnbereich20 bildet einen unbeschränkten Membranbereich, der seitliche Bewegung, Mundöffnung oder -bewegung und einen Bereich von Gesichtsformen erlaubt. - Somit kann das Polster
10 so konfiguriert sein, dass es für unterschiedliche senkrechte und/oder seitliche Steifigkeit in unterschiedlichen Bereichen des Polsters sorgt. Beispielsweise sind die Nasenseitenbereiche16 ,17 seitlich steifer als die anderen Bereiche, um für höhere Seitenstabilität an der Nase des Patienten zu sorgen. - Alternative Ausführungsformen von Basiswand und Unterpolster
-
30A –30N veranschaulichen alternative Ausführungsformen der Basiswand28 und des Unterpolsters30 . Jede dieser Ausführungsformen sieht eine Anordnung vor, die Flexibilität des Unterpolsters30 im Gebrauch ermöglicht. In30A bildet das Unterpolster30 einen umschlossenen Raum60 , der optional mit Druckluft, Schaumstoff, Gel oder Elastomermaterial gefüllt und geeignet sein kann, Bewegung des Unterpolsters30 im Gebrauch zu dämpfen. In30B liegt der Raum34 unter dem Unterpolster30 im Inneren des Atemhohlraums. Zudem hat das Unterpolster30 eine Bogenform, die sich vom Inneren des Atemhohlraums zur Basiswand28 wegkrümmt. Allerdings kann das Unterpolster30 jede andere geeignete Form haben. Beispielsweise hat das Unterpolster30 in30C eine Kugel- bzw. Knollenform, die massiv oder hohl sein kann. In30D hat das Unterpolster30 eine allgemeine Z-Form. In30E und30F hat das Unterpolster30 eine Kugel- bzw. Knollenform (die massiv oder hohl sein kann) und der Raum34 unter dem Unterpolster30 hat eine Rampenkonfiguration. In30C ,30E und30F kann die Knollenform optional mit Druckluft, Schaumstoff, Gel oder Elastomermaterial gefüllt und geeignet sein, Bewegung des Unterpolsters30 im Gebrauch zu dämpfen. In30E ist die Rampenkonfiguration des Raums34 geeignet, das Unterpolster30 im Gebrauch nach unten in die Basiswand28 zu lenken, und in30F ist die Rampenkonfiguration des Raums34 geeignet, das Unterpolster30 im Gebrauch nach innen zum Atemhohlraum zu lenken. In30G ,30H und30I hat das Unterpolster30 eine allgemeine T-Form. Ferner bildet in30H und30I die Basiswand28 einen umschlossenen Raum62 unter dem T-förmigen Unterpolster30 . Optional kann der umschlossene Raum62 mit Druckluft, Schaumstoff, Gel oder Elastomermaterial gefüllt und geeignet sein, Bewegung des Unterpolsters30 im Gebrauch zu dämpfen. Außerdem kann die Federkonstante durch Variieren des Drucks im umschlossenen Raum62 variiert sein. Zusätzlich kann die Unterseite des Raums62 eine Rampenkonfiguration (wie in30H gezeigt) haben, die geeignet ist, das Unterpolster30 im Gebrauch nach innen zum Atemhohlraum zu lenken. Die Unterseite des umschlossenen Raums60 in30A kann ebenfalls eine Rampenkonfiguration zum Lenken des Unterpolsters30 im Gebrauch haben. In30J und30K hat das Unterpolster30 eine längliche Schnittlänge für eine weiche Federkennung.30L veranschaulicht einen einwandigen Aufbau mit einem Unterpolster30 und ohne Membran. In30M ist der Raum34 unter dem Unterpolster30 stark vergrößert. In30N ist ein Federaufbau unter der Basiswand28 vorgesehen. - Verschiebung durch das Unterpolster
- Der Raum
34 ermöglicht eine weitere Verschiebung des Unterpolsters30 bei einem vorbestimmten Kraftbetrag, vergleicht man sie mit dem Polster700 UltraMirage®. Das heißt, das Unterpolster30 sorgt für mehr Bewegung bei einer bestimmten Kraft. Beispielsweise zeigt31 die allgemeine Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung für das Polster10 und Polster700 UltraMirage®. Darstellungsgemäß ist die Kurve für das Polster10 flacher als die exponentialartige Kurve des Polsters700 UltraMirage®. Somit ist das Unterpolster30 im Vergleich zum Polster700 UltraMirage® weniger steif und nachgiebiger. Zu beachten ist, dass der Raum34 mit einem Gel-, Silikon- oder anderen Aufbau gefüllt sein könnte, um die Federcharakteristik zu variieren, für die er sorgt. - Ferner hat gemäß
31 der Punkt B10, an dem das Polster10 voll komprimiert ist oder seinen Tiefststand erreicht, eine größere Verschiebung als der Punkt B700, an dem das Polster700 UltraMirage® seinen Tiefststand erreicht. Außerdem kommt der Tiefstpunkt B10 bei einer größeren Kraft zustande als der Tiefstpunkt B700. Somit erhöht das Polster10 die erforderliche Kraft zum Erreichen des Tiefststands und sorgt für einen größeren Einstellungsbereich. Zusätzlich veranschaulicht31 ein Beispiel für maximale und minimale komfortable Abdichtungskräfte, was einen beispielhaften Kraftbereich vorsieht, der zum Erreichen der Abdichtung notwendig ist. Darstellungsgemäß ist der Verschiebungsbereich A10 in diesem Kraftbereich für das Polster10 wesentlich größer als der Verschiebungsbereich A700 in diesem Kraftbereich für das Polster700 UltraMirage®. Somit ermöglicht das Polster10 einen breiten Einstellungs- oder Verschiebungsbereich, um Abdichtung zu erreichen, und gewährleistet, dass die Abdichtungskraft wesentlich kleiner als die Kraft zum Erreichen des Tiefststands ist, so dass das Polster nicht den Tiefststand erreichen muss, um abzudichten. -
32 veranschaulicht eine weitere Ausführungsform der Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung für das Polster10 und Polster700 UltraMirage®. In dieser Ausführungsform hat der geradlinige Abschnitt der Kurve für das Polster10 eine stärkere Steigung als der geradlinige Abschnitt der Kurve für das Polster10 in31 . Zurückführen lässt sich die Steigungsdifferenz auf eine Differenz der Federkonstanten jeweiliger Unterpolster30 . Somit sorgt das in31 dargestellte Polster für stärkere Verschiebung bei einer bestimmten Kraft als das in32 dargestellte Polster. Ferner schneidet die Kurve für das Polster10 in32 die Kurve für das Polster700 UltraMirage®, so dass die Kraft des Polsters10 bei geringerer Verschiebung höher ist, um eine Abdichtung zu gewährleisten, und bei höherer Verschiebung niedriger ist, um den Komfort für einen längeren Verschiebungsbereich zu wahren. -
33 zeigt eine weitere Ausführungsform der Beziehung zwischen Kraft und Verschiebung für das Polster10 . In dieser Ausführungsform sind typische Kurven für die unterschiedlichen Bereiche des Polsters10 gezeigt. Insbesondere repräsentiert eine Kurve die Querschnitte von23 –24 im Nasenseitenbereich17 , eine weitere Kurve repräsentiert die Querschnitte von25 –27 im oberen Wangen- und unteren Wangenbereich18 ,19 , und noch eine weitere Kurve repräsentiert die Querschnitte von28 –29 im unteren Wangenbereich19 . Darstellungsgemäß ist das Polster10 in den unteren Bereichen des Polsters10 weicher oder weniger steif. - Erweiterte Federlänge des Unterpolsters
-
34A und34B veranschaulichen die erweiterte Länge des flexiblen Unterpolsters30 , die dazu dient, für eine weichere Federcharakteristik in ausgewählten Bereichen des Polsters10 im Vergleich zu einem typischen Polster des Stands der Technik zu sorgen, z. B. dem Polster700 UltraMirage®. Die Länge a bis b kann sich verformen, was für eine Federcharakteristik sorgt. Darstellungsgemäß ist die Länge a bis b des Polsters10 (34A ) erheblich größer im Vergleich zum Polster700 UltraMirage® (34B ), was Folge der Krümmung des Unterpolsters30 ist. In der dargestellten Ausführungsform beträgt die Länge a bis b des Polsters10 22,84. Allerdings kann in einer Ausführungsform die Länge a bis b des Polsters10 im Bereich von 16–30, vorzugsweise 20–25, am stärksten bevorzugt 22–24 liegen. In einer weiteren Ausführungsform kann die Länge a bis b des Polsters10 im Bereich von 16–20 liegen. Die Länge b bis c ist recht starr und verformt sich nicht, um eine Federcharakteristik vorzusehen. Erreicht wurde die zusätzliche Länge im Polster10 durch die Bogenform des Unterpolsters30 , und der Raum34 ist ein Ergebnis dieser Form. Diese zusätzliche Länge sorgt für mehr Flexibilität und einen größeren Bewegungsbereich des Polsters10 .30J und30K veranschaulichen andere Ausführungsformen zum Erreichen einer größeren Abschnittslänge. - Konfiguration der Membran im Nasenrückenbereich
- Die Membran
32 ist so aufgebaut, dass sie eine wirksame Abdichtung um den Nasenrücken-, Nasenseiten-, oberen Wangen-, unteren Wangen- und Kinnbereich16 ,17 ,18 ,19 ,20 eines Patienten bildet. Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft die Konfiguration der Membran32 im Nasenrückenbereich16 des Polsters10 , der so aufgebaut ist, dass Abdichtung und Komfort in diesem Bereich verbessert sind. - Insbesondere bildet gemäß einer bevorzugten Ausführungsform in
36 und einer alternativen Ausführungsform in68 die Membran32 einen länglichen Kamm35 im Nasenrückenbereich16 , wobei schräge Seiten36 zusammenlaufen, um einen länglichen Grat38 zu bilden. Jede der schrägen Seiten36 ist von der Gratmittellinie im Bereich von 30–60°, vorzugsweise etwa 47°, abgewinkelt. Der Grat38 hat einen Krümmungsradius im Bereich von 1,0–5,0 mm, vorzugsweise etwa 2,5 mm. Darstellungsgemäß ist das Unterpolster30 unterhalb der Membran32 im Nasenrückenbereich16 entfernt, wodurch sich die Membran32 in diesem Bereich zwischen den Unterpolstern30 frei bewegen kann, die in den Nasenseitenbereichen17 vorgesehen sind. Wie später näher diskutiert wird, ermöglicht diese Membrankonfiguration die Bildung eines steil umgekehrten Teilstücks beim Eingriff mit der Nase des Patienten, was Sitz, Komfort und Abdichtung im Nasenrückenbereich16 verbessert. Dagegen ist das Polster700 UltraMirage® in diesem Bereich relativ flach (siehe52 ). - Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform in
37 und einer alternativen Ausführungsform in69 hat das vordere Ende40 des länglichen Kamms35 eine bogenförmige Konfiguration. Das vordere Ende40 zur Herstellung eines Eingriffs mit dem Nasenrückenbereich des Patienten ausgebildet, und hat einen Krümmungsradius im Bereich von 1,5–7,0 mm, vorzugsweise etwa 4,0 mm. - Scharfes Querschnittprofil des Nasenrückenbereichs
- Gemäß
10 hat die Membran32 im Nasenrückenbereich16 ein schärferes Querschnittprofil als der entsprechende Abschnitt des Polsters700 UltraMirage® (siehe48 ). Insbesondere bildet die Membran32 einen großen konturierten Abschnitt, der sich zum Hohlraum des Polsters entlang eines Radius nach innen krümmt, um an einer Innenkante der Membran32 zu enden. Diese Anordnung folgt stärker der Kontur oder Krümmung des Nasenrückenbereichs des Patienten. In der dargestellten Ausführungsform ist die Membran32 im Hinblick auf eine Gesichtskontaktebene des Polsters abgewinkelt, z. B. im Bereich von 30–50°. Dagegen beträgt der entsprechende Winkel des Polsters700 UltraMirage® etwa 6°. Diese Anordnung sorgt für mehr Komfort und besseren Sitz für den Patient. - Flacher Abschnitt im Nasenrückenbereich
- Wie
38A am besten zeigt, hat der Nasenrückenbereich16 einen im Wesentlichen flachen Abschnitt50 , z. B. auf dem Scheitel der Membrankrümmung in Seitenansicht, der sich verformen kann, um für einen komfortableren Sitz für einen breiten Bereich von Patienten zu sorgen, z. B. von flacheren Nasenrücken bis hin zu schärferen Nasenrücken. - Insbesondere ist ein Aspekt der Erfindung, eine Membran
32 im Nasenrückenbereich16 bereitzustellen, die ”flachen Gesichtern” Rechnung trägt, z. B. jenen Patienten mit einem niedrigen Nasenrücken. Um dies zu erreichen, hat das Polster10 einen oberen Punkt A, der höher als oder gleich hoch wie Punkte B liegt (siehe38A ). Diese Höhe im Nasenrückenbereich16 ist mit einer gerollten Kante kombiniert, die die Oberfläche der Membran36 im Wesentlichen flach am Nasenrücken des Patienten hält. Indem die Oberfläche der Membran36 im Wesentlichen flach am Nasenrücken des Patienten gehalten wird, werden Leckagen an der Kante der Membran verhindert. - Zudem ermöglicht die gerollte Kante Bewegung, um höheren Nasenrücken Rechnung zu tragen. Erreicht wird diese Anordnung ohne ”Dehnung” der Membran, die zu Beschwerden und wunden Stellen am Patienten führen kann. Beispielsweise kann die Verschiebung des Polsters
10 am Nasenrückenbereich16 größer als etwa 40 mm sein, Z. B. 41 mm. Dagegen sieht das Polster700 UltraMirage® eine Verschiebung von etwa 20 mm im Nasenrückenbereich vor. Bei diesen Verschiebungen wird die Membran recht straff, d. h. der Punkt auf der Kraft-Verschiebungs-Kurve, an dem die Kraft bei einer kleinen Verschiebung beginnt, steil anzusteigen (siehe38B ). - Die Verschiebungswerte des Polsters im Nasenrückenbereich für einige Polster des Stands der Technik sind wie folgt:
ResMedTM Activa® Nasal Cushion – 16 mm
Respironics Comfort Full Face Cushion – 26 mm
ResMed Bubble Nasal Mask Cushion – 43 mm
Healthdyne Soft Series Nasal Mask Cushion – 17 mm - Diese Verschiebungswerte sind mitnichten eine genaue Darstellung, welche Nasentiefe das Polster abdeckt. Statt dessen sind diese Verschiebungswerte nur ein Hinweis auf die Flexibilität und/oder den Bereich der Membran. Somit sorgt das Polster
10 für eine Anordnung, die viel flexibler und/oder weitreichender als beispielsweise das Polster700 UltraMirage® ist. - Die Kraft-Verschiebungs-Kurve der Membran
32 im Nasenrückenbereich16 hat eine große Verschiebung bei relativ geringen Kräften. Zum Beispiel ist gemäß38B die Verschiebung, die das Polster10 im Nasenrückenbereich16 bereitstellt, größer als die durch das Polster700 UltraMirage® bereitgestellte. Dadurch kann das Polster10 relativ tiefen Nasenrücken im Gebrauch Rechnung tragen. Außerdem trägt der geformte (unverformte) Polsterzustand des Polsters700 UltraMirage® (d. h. ohne ausgeübte Kraft) einem relativ flachen oder flach liegenden Nasenrücken nicht komfortabel Rechnung. In einer Ausführungsform bläst sich die Membran des Polsters700 nach außen, um sich an Gesichter von Patienten mit flachen Nasenrücken anzupassen. Somit trägt das Polster10 auch einem breiteren Bereich von Nasenrückenformen als das Polster700 UltraMirage® Rechnung. - Ferner ist gemäß
36 das Profil der Membran schärfer zugespitzt, vergleicht man es mit einem flachen Profil oder einer Sattelform (z. B. im Vergleich zum Polster700 UltraMirage® in52 ). Zudem erstreckt sich gemäß35 der flache Abschnitt im Nasenrückenbereich16 entlang einer relativ flachen Ebene und diese Ebene P1 ist in einem Winkel A im Hinblick auf die Ebene P2 abgewinkelt, die die Rahmenverbindung bildet. - Somit sehen die Form (z. B. Zuspitzung), die gerollte Kante und die Höhe im Nasenrückenbereich
16 eine größere Verschiebung bei relativ geringen Kräften vor. Diese Anordnung trägt einem breiteren Bereich von Patienten Rechnung, z. B. von solchen mit einem niedrigen Nasenrücken bis hin zu solchen mit einem hohen Nasenrücken, während sie eine Abdichtung am Gesicht des Patienten mit geringer Kraft auf die Membran beibehält. - Zu beachten ist, dass die Polsterhöhe um den Polsterumfang variieren kann, um Flexibilität oder Polsterverschiebung in unterschiedlichen Bereichen des Polsters zu variieren. Ein Referenzmaß
940 zur Messung der Polsterhöhe (die auch als Membranhöhe bezeichnet werden kann) – d. h. der Höhe zwischen dem Scheitel der Membran bis zu der Stelle, an der sie auf das Unterpolster trifft – ist in94C gezeigt. Ein Referenzmaß950 zur Messung der Polsterhöhe des Polsters im Stand der Technik ist in95C gezeigt. - Öffnung in der Membran
- Gemäß
39 –40B legt die Innenkante der Membran32 die Öffnung22 fest, die die Nase und den Mund des Patienten aufnimmt. Darstellungsgemäß hat die Öffnung22 im Allgemeinen eine dreieckige Form. Zudem hat der Scheitel der Öffnung22 eine abgerundete Kerbe42 , z. B. schlüssellochförmig. Die Kerbe42 verbessert die Abdichtung. mit Nasenrückenbereichen verschiedener Größen und Formen, besonders bei Patienten mit scharfen Nasen. Die Kerbe42 hat einen Krümmungsradius im Bereich von 1,5–6,0 mm, vorzugsweise etwa 3,0 mm. Diese abgerundete Schlüssellochform hat eine Länge, z. B. erstreckt sich die Schlüssellochform von einem Innenabschnitt des Polsters nach außen, von mindestens 3,0 mm, was in40A gezeigt ist. - Rollwirkung des Nasenrückenbereichs des Polsters im Gebrauch
- Zu
41 –45 gehören handmarkierte Linien, die auf die Außenfläche des Nasenrückenbereichs16 des Polsters10 aufgetragen sind, um die Rollwirkung des Nasenrückenbereichs16 der Membran32 beim Eingriff mit der Nase des Patienten zu veranschaulichen. Wie zuvor beschrieben, weist die Membran32 im Nasenrückenbereich16 schräge Seiten36 auf, die zusammenlaufen, um einen länglichen Grat38 gemäß41 zu bilden. Kommt der Nasenrücken des Patienten (simuliert mit einem kleinen Stab) mit dem Nasenrückenbereich16 der Membran32 in Eingriff (siehe42 ), erzeugt die Membran32 ein steil umgekehrtes Teilstück44 , in dem die schrägen Seiten36 ihre Position umkehren, wenn sich die Membran32 zwischen den Unterpolstern30 bewegt, die in den. Nasenseitenbereichen17 vorgesehen sind. Kommt die Membran32 stärker mit dem Nasenrücken des Patienten in Kontakt, ”rollt” die Vorderkante46 des umgekehrten Teilstücks zur Oberseite des Polsters10 , wenn sich die Membran32 an das Gesicht des Patienten gemäß43 anpasst. Dieser Aufbau ist von Vorteil, da er dem Polster10 ermöglicht, Patienten mit einem breiten Bereich von Nasenprofilen Rechnung zu tragen, darunter solchen mit relativ niedriger und relativ hoher Wurzeltiefe an der Nase.44 und45 zeigen den Nasenrückenbereich16 der Membran32 in seiner vollständig umgekehrten Position. Die Bildung des steil umgekehrten Teilstücks44 beim Eingriff mit der Nase des Patienten sorgt für eine bessere Abdichtung und verringert die Gefahr von Knittern und/oder Falten sowie von damit einher gehenden Beschwerden und Leckagen. Das heißt, diese Konfiguration fördert Rollen statt Knittern, das für Patientenkomfort und Abdichtung nachteilig sein kann. - Alternative Ausführungsformen
-
54 –71 veranschaulichen eine weitere Ausführungsform eines Polsters510 . In jeder der Darstellungen sind Abschnitte des Polsters510 , die dem Polster10 im Wesentlichen ähneln, mit ähnlichen Bezugszahlen bezeichnet. -
64 zeigt die Basiswand528 , das Unterpolster530 und die Membran532 des Polsters510 (in durchgezogenen Linien) in Relation zur Basiswand728 , zum Unterpolster730 und zur Membran732 des Polsters700 UltraMirage® Full Face (in gestrichelten Linien). Darstellungsgemäß hat das Polster510 ein anderes Querschnittprofil als das Polster700 UltraMirage® Full Face. - Beispielsweise ist die Membran
532 mit dem Unterpolster530 an einer Position verbunden, die im Hinblick auf die Membranverbindung des Polsters700 UltraMirage® weiter innen und oben liegt. Diese Anordnung beseitigt im Wesentlichen die sich senkrecht erstreckende Nut731 , die im Polster700 UltraMirage® vorgesehen ist. Außerdem verengt diese Anordnung die Breite der Membran532 , z. B. im Bereich von 0–5, vorzugsweise etwa 2,5 mm, im Hinblick auf den entsprechenden Abschnitt des Polsters700 UltraMirage®. Als Ergebnis dessen und der Einwärtsbewegung des Nicht-Gesichtskontaktabschnitts512 verschmälert dies die Gesamtbreite des Polsters510 um etwa 5 mm, z. B. etwa 2,5 mm pro Basis, was für ein unauffälligeres Polster sorgt und Material einspart. Ferner sieht die schmalere Membran532 weniger freie Länge für das Polster510 vor, um sich im Gebrauch nach außen auszubauchen, was dazu beiträgt, Leckagen zu minimieren oder auszuschließen. Ferner sind die Basiswand528 und die Rahmenverbindung529 im Hinblick auf den äußersten Polsterpunkt, z. B. die Außenfläche des Unterpolsters, nach innen versetzt.64 zeigt auch die größere Länge a bis b im Polster510 verglichen mit dem Polster700 UltraMirage®. -
65 veranschaulicht weitere Aufbaueinzelheiten und Maße in einer Ausführungsform der Basiswand528 , des Unterpolsters530 und der Membran532 des Polsters510 . Zum Beispiel liegt die Tiefe des Raums534 im Bereich von 0–4,0 mm und beträgt vorzugsweise etwa 3,0 mm. -
68 zeigt den länglichen Kamm535 im Nasenrückenbereich516 . Jede der schrägen Seiten536 ist von der Gratmittellinie im Bereich von 30–60°, vorzugsweise etwa 47°, abgewinkelt. Der Grat538 hat einen Krümmungsradius im Bereich von 1,0–5,0 mm, vorzugsweise etwa 2,5 mm. Gemäß69 hat das vordere Ende540 des länglichen Kamms535 einen Krümmungsradius im Bereich von 1,5–7,0 mm, vorzugsweise etwa 4,0 mm. -
70 und71 veranschaulichen den flachen Abschnitt 550 im Nasenrückenbereich516 des Polsters510 . Ferner hat gemäß71 die Membran532 im Nasenrückenbereich516 einen ersten Abschnitt mit einem Krümmungsradius im Bereich von 50–80 mm, vorzugsweise etwa 65 mm, und einen zweiten Abschnitt mit einem Krümmungsradius im Bereich von 5,5–9,5 mm, vorzugsweise etwa 7,5 mm. In der dargestellten Ausführungsform ist die Membran532 im Hinblick auf eine Gesichtskontaktebene des Polsters im Bereich von 30–50°, vorzugsweise etwa 40°, abgewinkelt. -
72 –76 zeigen eine weitere Ausführungsform eines Polsters610 . Wie76 am besten zeigt, weist das Polster mindestens eine Basiswand628 und eine Membran632 auf. Darstellungsgemäß kann sich die Länge der Membran632 (z. B. die Membranquerschnittlänge) in einem Nasenrückenbereich ändern. Beispielsweise kann die Membranlänge so ausgewählt sein, dass sie eine kleinere Länge L1 oder eine größere Länge L2 im Nasenrückenbereich hat. - Gemäß
74 und75 steuert die Membranlänge, wie weit die verschobene Polstermembran auf der Nase des Patienten sitzt, wenn sie auf das Gesicht des Patienten aufgepasst ist (dargestellt durch die gepunktete Linie auf dem Gesichtsprofil des Patienten). Diese Anordnung verhindert das Potenzial (z. B. besonders für Patienten mit einer flachen Nasenrückentiefe), dass zu viel Polstermembran zu weit unten auf der Nase des Patienten sitzt, was zu Gesichtsbeschwerden und Hautmarkierungen auf der Nase des Patienten führen kann. -
77 –83 veranschaulichen eine weitere Ausführungsform eines Polsters810 . Das Polster810 verfügt über eine Basiswand828 , ein Unterstützpolster830 und eine Membran832 . Wie zuvor beschrieben, ist das Unterpolster830 vorzugsweise nur auf Seitenflächen des Polsters810 vorgesehen. - Die Basiswand
828 kann im Hinblick auf den äußersten Polsterpunkt, z. B. die Außenfläche der Membran oder des Unterpolsters, nach innen versetzt sein. Diese Anordnung sorgt für eine Federcharakteristik, die um den Polsterumfang variiert sein kann, um die Polsterflexibilität (seitlich und/oder senkrecht) um den Polsterumfang zu variieren, z. B. kann die Polstersteifigkeit an jedem Polsterbereich variiert sein, um die Abdichtungserfordernisse in jedem Bereich zu erfüllen, die infolge der darunter liegenden Gesichtsstruktur des Patienten variieren können. Das heißt, der Wert der Vorspannung (z. B. von ”hart” zu ”weich”) entlang den Seiten des Polsters kann geändert sein. - Beispielsweise veranschaulichen
77 –83 Querschnitte durch drei unterschiedliche Bereiche R1, R2, R3 im Polster810 . Gemäß81 wirken die Basiswand828 , das Unterpolster830 und die Membran832 zusammen, um eine relativ gerade Außenfläche880 zu bilden. Dies sorgt für eine minimale Federkomponente im Bereich R1, z. B. eine harte oder steife Kennung. - Wie
82 zeigt, wirken die Basiswand828 , das Unterpolster830 und die Membran832 zusammen, um eine Außenfläche882 zu bilden, die von einer relativ geraden Konfiguration in eine gekrümmte Konfiguration übergeht. Dies sorgt für einen relativ kleinen Versatz für eine flexiblere Federkomponente als im Bereich R1. - Gemäß
83 wirken die Basiswand828 , das Unterpolster830 und die Membran832 zusammen, um eine Außenfläche884 zu bilden, die sich von der Basiswand828 nach außen krümmt. Dies sorgt für einen relativ großen Versatz für eine optimale Federkomponente im Bereich R3, z. B. eine weiche oder flexible Kennung. - Somit kann das Polster
810 so gestaltet sein, dass es variierende Flexibilitäten um seinen Umfang vorsieht, wodurch sich das Polster810 vielfältigen Gesichtsformen anpassen kann. -
84 –90 zeigen eine weitere Ausführungsform eines Polsters910 . Das Polster910 weist eine Basiswand928 , ein Unterstützpolster930 und eine Membran932 auf. Darstellungsgemäß ist das Unterpolster930 vorzugsweise nur auf Seitenflächen des Polsters910 vorgesehen, z. B. gibt es kein Unterpolster im Nasenrücken- und Kinnbereich (siehe88 ). - Gemäß
90 weist die Basiswand928 einen zulaufenden Abschnitt990 im Vergleich zu89 auf, der zur Membran932 zuläuft. Diese Anordnung kann die Formbarkeit verbessern. -
91 veranschaulicht eine alternative Anordnung zum Polster10 von34A (die Anordnung von34A ist in gestrichelten Linien gezeigt). Darstellungsgemäß wurde Material von der Seitenwand28 entfernt, und der Raum oder Spalt34 wurde im Hinblick auf die Anordnung von34A verkleinert. Diese Anordnung von91 erhöht die Verschiebung im Hinblick auf die vorherige Verschiebung von34A . Erreicht wird die erhöhte Verschiebung durch die geänderte Geometrie in der Seitenwand28 . Zu beachten ist, dass der Spalt34 um den Polsterumfang variabel oder konstant sein kann. -
92 zeigt eine Anordnungsalternative zum Polster10 von34A (die Anordnung von34A ist in gestrichelten Linien gezeigt). Darstellungsgemäß wurde etwas Material von der Seitenwand28 entfernt, und der Raum oder Spalt34 wurde im Hinblick auf die Anordnung von34A verkleinert. Diese Anordnung von92 erhöht die Verschiebung im Hinblick auf die vorherige Verschiebung von34A . Erreicht wird die erhöhte Verschiebung durch die geänderte Geometrie in der Seitenwand28 . Bei dieser Anordnung kann erforderlich sein, den Querschnitt der Basiswand28 zu verdicken, um zusätzliche Steifigkeit um den Polsterumfang oder lokal zu schaffen. Steifigkeit kann durch lokale Rippen, wo erforderlich, erreicht werden. -
93 veranschaulicht eine Anordnungsalternative zum Polster10 gemäß15 . Darstellungsgemäß kann der schlüssellochförmige Ausschnitt (zum Aufnehmen des Nasenrückenbereichs des Patienten) größer sein, wenn sich die Maskengröße verringert. Beispielsweise ist der Ausschnitt für eine Maske mit extra kleiner Größe größer als für eine Maske mit großer Größe. - Zu beachten ist, dass die Querschnittgestaltung des Polsters an spezifischen Gebieten des Gesichts des Patienten (z. B.
23 –29 ) in dem spezifischen Gebiet oder jedem Gebiet um den Polsterumfang vorliegen kann. Das heißt, die Querschnittgestaltung sollte nicht auf das spezifische Gebiet beschränkt werden. Ferner kann der Querschnitt gemäß91 und92 an jedem Punkt um den Polsterumfang verwendet werden. - Obgleich die Erfindung in Verbindung mit den derzeit am praktischsten und am stärksten bevorzugt betrachteten Ausführungsformen beschrieben wurde, sollte verständlich sein, dass die Erfindung nicht auf die offenbarten Ausführungsformen zu beschränken ist, sondern statt dessen verschiedene Abwandlungen und äquivalente Anordnungen erfassen soll, die zum Grundgedanken und Schutzumfang der Erfindung gehören. Ferner können die zuvor beschriebenen verschiedenen Ausführungsformen in Verbindung mit anderen Ausführungsformen umgesetzt sein, z. B. können Aspekte einer Ausführungsform mit Aspekten einer weiteren Ausführungsform kombiniert sein, um noch weitere Ausführungsformen zu realisieren. Obwohl zudem die Erfindung spezielle Anwendung auf Patienten hat, die an OSA leiden, sollte deutlich sein, dass Patienten, die an anderen Erkrankungen leiden (z. B. kongestiver Herzinsuffizienz, Diabetes, krankhafter Fettsucht, Schlaganfall, bariatrischer Chirurgie usw.) aus den vorstehenden Lehren Nutzen ziehen können. Außerdem sind die vorstehenden Lehren gleichermaßen mit Patienten wie auch Nicht-Patienten in nicht-medizinischen Anwendungen anwendbar.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
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Claims (18)
- Polster für eine Patientenschnittstelle, die Atemgas zu einem Patienten abgibt, wobei das Polster aufweist: eine Basiswand; und eine Membran mit einem Nasenrücken- und Wangenbereich, die geeignet sind, eine kontinuierliche Abdichtung auf einem Nasenrücken- bzw. Wangenbereich des Gesichts des Patienten zu bilden, wobei der Nasenrückenbereich und die benachbarten zwei Wangenbereiche eine Scheitelfläche festlegen, ein Unterstützpolster, das sich im Gebrauch von der Basiswand weg zum Gesicht des Patienten erstreckt; wobei die Membran eine Membranhöhe zwischen einem Scheitel der Membran bis zu der Stelle hat, an der die Membran auf das Unterpolster trifft, wobei die Membranhöhe im Nasenrückenbereich größer als die Höhe in einem Abschnitt des Wangenbereichs benachbart zum Nasenrückenbereich ist, und wobei in einer Seitenansicht des Polsters der Scheitel der Membran im Nasenrückenbereich einen Abschnitt hat, der sich entlang einer relativ flachen Ebene erstreckt, die im Hinblick auf eine Ebene an einer Rahmenverbindung abgewinkelt ist.
- Polster nach Anspruch 1, wobei die Basiswand so aufgebaut ist, dass sie mit einem Rahmen verbunden ist.
- Polster nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Nasenrückenbereich auf dem Scheitel der Membrankrümmung einen oberen Punkt (A) hat, der höher als oder gleich hoch wie andere Punkte (B) auf dem Wangenbereich liegt.
- Polster nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei mindestens ein Abschnitt des Unterpolsters und/oder der Basiswand eine Federkonfiguration aufweist, die eine Verschiebung des Polsters im Hinblick auf eine vom Rahmen ausgeübte Kraft festlegt.
- Polster nach Anspruch 4, wobei eine Federcharakteristik bzw. Federkennung des Unterpolsters durch eine Unterpolsterhöhe, eine Unterpolsterdicke, einen Unterpolsterradius und/oder einen Unterpolsterversatz bestimmt ist.
- Polster nach Anspruch 4 oder 5, wobei die Federkonfiguration einen Raum unter einem unteren Abschnitt des Unterpolsters und benachbart zur Basiswand festlegt.
- Polster nach einem der Ansprüche 4 bis 6, wobei das Unterpolster und/oder die Basiswand eine Halbkreis-, Fragezeichen- oder Sichelform hat.
- Polster nach einem der Ansprüche 4 bis 7, wobei die Federkonfiguration über eine Länge der Abdichtung variiert.
- Polster nach einem der Ansprüche 4 bis 8, wobei die Membran fünf unterschiedliche Bereiche aufweist und die Federkonfiguration in mindestens drei der fünf unterschiedlichen Bereiche variiert.
- Polster nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei das Unterstützpolster eine Dicke hat, die über die Länge der Abdichtung variiert.
- Polster nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Membran oder das Unterpolster eine Außenfläche aufweist, die eine Außenbreite des Polsters festlegt, und die Basiswand im Hinblick auf die Außenfläche nach innen versetzt ist.
- Polster nach Anspruch 11, wobei sich eine Tiefe der Basiswandinnenversetzung in unterschiedlichen Bereichen des Polsters unterscheidet.
- Polster nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei die Membran einen länglichen Kamm im Nasenrückenbereich bildet.
- Polster nach Anspruch 13, wobei der längliche Kamm so aufgebaut ist, dass er seine Konfiguration bei Eingriff mit dem Nasenrückenbereich des Patienten umkehrt.
- Polster nach Anspruch 14, wobei eine Vorderkante des länglichen Kamms geeignet ist zu rollen, wenn der längliche Kamm seine Konfiguration umkehrt.
- Polster nach einem der Ansprüche 1 bis 15, wobei eine Innenkante der Membran eine allgemein dreieckförmige Öffnung festlegt, die die Nase und den Mund des Patienten aufnimmt, und ein Scheitel der Öffnung eine Kerbe hat.
- Polster nach Anspruch 16, wobei die Kerbe einen Krümmungsradius im Bereich von 1,5 bis 6,0 mm hat.
- Polster nach Anspruch 16 oder 17, wobei die Kerbe einen Krümmungsradius von etwa 3,0 mm hat.
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