DE19983711B3 - Wortleitungstreiber für Halbleiterspeicher - Google Patents
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Abstract
Description
- Querbezug auf verwandte Anmeldungen
- Diese Anmeldung ist eine teilweise Fortsetzung (continuation-in-part) der Patentanmeldung mit dem Titel ”Word Line Driver For Semiconductor Memories”, Serien-Nr. 08/828,817, eingereicht am 6. Februar 1997.
- Hintergrund der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich im Allgemeinen auf Halbleiterspeicher, und im Speziellen auf eine verbesserte Wortleitungstreiberstruktur, die den Energieverbrauch und die Chipfläche reduziert.
- Halbleiterspeicherschaltungen werden gebildet aus einem oder mehreren Speicherbereichen, die jeweils Speicherzellen einschließen, die an Schnittpunkten von Zeilen (oder Wortleitungen) und Spalten (oder Bitleitungen) liegen. Auf eine Speicherzelle wird zugegriffen, indem eine Wortleitung angesteuert wird und dann eine Bitleitung ausgewählt wird. Eine Wortleitung wird ausgewählt, indem ein Zeilenadresssignal an dem Speicherelement angelegt wird. Das Adresssignal wird durch einen Zeilendecodierer decodiert, dessen Ausgang die adressierte Zeile auswählt. Bei Verwendung einer dynamischen Direktzuggriffsspeicher-(DRAM)Schaltung als ein Beispiel, in jeder Reihe, kann eine einzelne Wortleitung
1024 oder2048 Speicherzellzugriffstransistoren treiben.1 zeigt ein vereinfachtes Teilschema der Wortleitungsstruktur für einen herkömmlichen DRAM. In dem typischen, in1 dargestellten Beispiel, treibt der Ausgang eines Zeilendecoders100 vier Wortleitungstreiber102-A ,102-B ,102-C und102-D an. Der Ausgang jedes Wortleitungstreibers102 ist mit allen Gateanschlüssen der Speicherzellen-(104 )Zugriffstransistoren106 verbunden, die mit der Wortleitung verbunden sind. Die Gateanschlüsse dieser Zugriffstransistoren werden typischerweise aus Polysilicium oder Variationen des Polysilicummaterials (z. B. polycide) hergestellt. Daher arbeitet in einem typischen DRAM Design eine einzelne Polysiliciumleitung, die die Gateanschlüsse für alle Speicherzellenzugriffstransistoren bildet, die einer Wortleitung gemeinsam sind, als die Wortleitung. - Aufgrund des relativ größeren Flächenwiderstandes des Polysiliciummaterials wurde das metallische Verbinden der Polysiliciumwortleitung notwendig, um Fortpflanzungsverzögerungen durch die Wortleitung zu reduzieren. Eine verbundene Polysiliciumwortleitung schließt eine zweite, weniger Widerstand aufweisende, leitfähige Schicht ein, typischerweise Metall, die über die Polyschicht geführt ist, und die an verschiedenen Intervallen, wie in der
1 dargestellt, Kontakt mit der Polyschicht herstellt. Die Länge der Wortleitung, die Siliciumfläche, die durch die Metall-zu-Polykontaktregionen verbraucht wird, und eine akzeptable Fortpflanzungsverzögerung sind einige der Faktoren, die die Verbindungsintervalle diktieren. - Über die Jahre wurden Speicherelemente mit zunehmend höherer Dichte durch signifikante Reduzierungen der Größe der Speicherzellen möglich. Der fotolithographische Aspekt der Halbleiterverarbeitungstechnologie hat jedoch begrenzten Erfolg.
- Es war daher nicht möglich, die Breite und den Abstand der Verbindungsleitungen (z. B. der Metallleitungen) in derselben Größenordnung zu reduzieren wie die Größe der Speicherzellen. Als Ergebnis wurde bei höheren Dichten von beispielsweise 64 Megabit die Metall-zu-Metallbeabstandung (oder der Metall Pitch), wie er von der Wortleitungsverbindungstechnik benötigt wird, der limitierende Faktor bei der Bestimmung der Größe des Speichersystems. Daher wurde es mit der 64 Megabit Generation von DRAMs notwendig, Verfahren zu ersinnen, um die Wortleitungs-Metall-Pitch-Beschränkungen zu überwinden.
- Ein Weg, um die Metall-Pitch-Anforderungen zu lockern war, eine hierarchische Wortleitungsstruktur mit globalen (Reihen-Langen) Metall-Wortleitungen zu verwenden, die segmentierte (kürzere) Polysiliciumsubwortleitungen treiben. In dieser Struktur wird der Wortleitungsdecoderausgang (Knoten N1 in
1 ) als globale Wortleitung (GWL) verwendet, welche mit ihrem Komplement als ein Paar von Metallleitungen über die gesamte Reihe geführt ist. Jedes Segment oder jede Subwortleitung wird durch eine bestimmte Gruppe von Subwortleitungstreibern getrieben. Daher treibt typischerweise jedes komplementäre Paar von GWLs mehrere Gruppen von vier Subwortleitungstreiberschaltungen an, die über verschiedene Orte (Segmentintervalle) über das System verteilt angeordnet sind. Mit vier Subwortleitungen, die somit zwei Metallleitungen teilen, verbessert diese Struktur die Wortleitungsdichte pro Metall-Pitch um einen Faktor von zwei. - Da diese Struktur jedoch Metallleitungen benötigt, die komplementäre Signale tragen, die bei minimalem Abstand parallel geführt werden müssen, würde ein Metall-zu-Metall-Kurzschluß die Verflüchtigung von exzessiven Mengen von Ruhestrom verursachen. Einige andere Techniken wurden seither vorgeschlagen, die dieses Risiko minimieren oder eliminieren. Diese Techniken führen typischerweise eine einzelne Metall-GWL über das System und schließen zusätzliche Verschaltungen an den lokalen Subwortleitungstreiberregionen ein, um vier Polysiliciumsubwortleitungen zu treiben. Das GWL Signal benötigt normalerweise einen verstärkten Pegel, und die zusätzliche Verschaltung schließt Extra-Transistoren sowie Busleitungen ein, die über das System geführt werden müssen, Während diese Schemata eine verbesserte Wortleitungsdichte pro Metall Pitch um noch einen weiteren Faktor zwei (eine Metallleitung wird von vier Polywortleitungen geteilt) aufweisen, wurde die Verbesserung auf Kosten einer größeren Komplexität, einen anzunehmenden höheren Energieverbrauchs, und einer größeren Siliciumfläche realisiert.
- Es besteht daher ein Bedarf an einer verbesserten Wortleitungstreiberstruktur für Speicherschaltungen, die eine geringere Siliciumfläche benötigt und die wenig Energie abstrahlt.
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EP 0 337 457 A2 beschreibt eine Speicherschaltung in einer Einzelchip integrierten Schaltung mit einem ersten Speicherzellenarray und einem zweiten Speicherzellenarray mit einer Struktur, die sich von der Struktur des ersten Speicherzellenarrays unterscheidet, die einen Teil von Adressen gemeinsam mit dem ersten Speicherzellenarray benutzt, und die die gleiche Anzahl an Zeilen hat wie das erste Speicherzellenarray. Die ersten und zweiten Speicherzellenarrays sind gemeinsam mit Dekodierungs-Mitteln verbunden zum Dekodieren der gemeinsam genutzten Adressen. Jede Wortleitung ist mit Speicherzellen der entsprechenden Zeile der ersten und zweiten Speicherzellenarrays verbunden. Wird das Potential einer Wortleitung auf einen aktiven Pegel eingestellt, sind die angeschlossenen Speicherzellen ausgewählt. Der Dekodierer ist mit den Wortleitungen verbunden zum Dekodieren der Zeilenadressen und zum Einstellen des Potentials einer Wortleitung, die der Zeilenadresse entspricht, auf einen aktiven Pegel. -
US 5,708,620 A beschreibt eine Speichervorrichtung mit einer Mehrzahl von Bitleitungen und Haupt-Wortleitungen, welche jeweils in ersten und zweiten Richtungen zur Ausbildung einer Matrix gebildet sind, und eine Mehrzahl von Speicherzellen, die an jede Bitleitung koppeln. Ein erster Dekodierer dekodiert erste Adresssignale und stellt der Mehrzahl von Haupt-Wortleitungen erste dekodierte Signale bereit. Ein zweiter Dekodierer dekodiert zweite Adresssignale und stellt zweite dekodierte Signale bereit. Die Speichervorrichtung beinhaltet ferner eine n-te Zahl von Treibergruppen, wobei jede Gruppe eine Mehrzahl von Subtreibern umfasst, welche zum Empfangen eines entsprechenden zweiten dekodierten Signals in einer dritten Richtung gebildet sind. Jeder Subtreiber umfasst eine Mehrzahl von Auswahlleitungen, die an entsprechende Speicherzellen koppeln. Eine Mehrzahl von Leseverstärkern koppelt an die Mehrzahl von Bitleitungen, wobei zwischen benachbarten Treibergruppen mehr als zwei Bitleitungen gebildet sind. - Zusammenfassung der Erfindung
- Eine erste Ausführungsform der Erfindung betrifft eine Speicherschaltung mit: einer Speicheranordnung mit einer Vielzahl von Speicherzellen, jeweils angeordnet an Kreuzungen einer Vielzahl von Spalten und einer Vielzahl von Zeilen, einer hierarchischen Wortleitungsstruktur mit einer globalen Wortleitung, die Subwortleitungen treibt, wobei jede Zeile in eine Vielzahl von Segmenten von Subwortleitungen unterteilt ist und sich die globale Wortleitung über die gesamte Speicheranordnung erstreckt; einem Zeilendekoder mit einem gekoppelten Eingang, um Zeilenadressinformationen zu empfangen, und einem an die globale Wortleitung gekoppelten Ausgang; einem ersten Subwortleitungstreiber, angeordnet entlang der globalen Wortleitung, mit einem an die globale Wortleitung gekoppelten Eingang, und einem Subwortleitungsausgang, wobei der erste Subwortleitungstreiber weiterhin eine Invertierschaltung zum Invertieren eines sich entlang der globalen Wortleitung fortpflanzenden Signals aufweist; einem zweiten Subwortleitungstreiber, angeordnet entlang der globalen Wortleitung, mit einem an die globale Wortleitung gekoppelten ersten Eingang, einem zweiten Eingang zum Empfangen des invertierten Signals von dem ersten Subwortleitungstreiber, und einem Subwortleitungsausgang; und einer zwischen den ersten Subwortleitungstreiber und dem zweiten Subwortleitungstreiber gekoppelten Verbindungsleitung zum Kommunizieren des invertierten Signals zwischen diesen; wobei die Invertierschaltung einen pull-down Transistor aufweist, mit einem Gateanschluß, der an die jeweilige globale Wortleitung gekoppelt ist, und einem source/drain Anschluß, der an ein pull-up Element gekoppelt ist; wobei das pull-up Element einen pull-up Transistor aufweist; wobei der pull-up Transistor einen Gate Anschluß aufweist, der an ein Kontrollsignal gekoppelt ist, und wobei das Kontrollsignal den pull-up Transistor ein- und ausschaltet.
- Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist das pull-up Element einen Widerstand auf. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der pull-up Transistor während eines ersten Teils eines vordefinierten Taktes eingeschaltet, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung und des Signals auf der Subwortleitung gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor während eines zweiten Teils des vordefinierten Taktes eingeschaltet ist, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung für eine Zeitdauer kleiner als eine vorbestimmte minimale Dauer auf hoch steht. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der pull-up Transistor während eines ersten Teils eines vordefinierten Taktes eingeschaltet ist, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung und des Signals auf der Subwortleitung gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor während eines zweiten Teils des vordefinierten Taktes ausgeschaltet ist, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung und das Signal auf der Subwortleitung jeweils einen konstanten Logikwert haben.
- Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform arbeitet das Signal auf der globalen Wortleitung auf einem hohen logischen Pegel während des zweiten Teils des vordefinierten Taktes, und der pull-up Transistor ist während eines dritten Teils des vordefinierten Taktes eingeschaltet. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist der pull-up Transistor während eines vierten Teils des vordefinierten Taktes ausgeschaltet ist. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform werden die dritten und vierten Zeitabschnitte wiederholt. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform beträgt der dritte Zeitabschnitt 50 ns und der vierte Zeitabschnitt 1 μS. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform umfasst die Speicherschaltung ferner eine Logikschaltung zum Erzeugen des Kontrollsignals. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform weist die Logikschaltung auf: eine erste monostabile Schaltung mit einem an die globale Wortleitung gekoppelten Eingang und einem Ausgang zum Erzeugen eines ersten Pulszeitabschnittes; eine zweite monostabile Schaltung mit einem an den Ausgang der ersten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, und einer Ausgang zum Liefern eines zweiten Pulszeitabschnittes; und eine dritte monostabile Schaltung mit einem ersten an den Ausgang der ersten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, einem zweiten an den Eingang der zweiten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, und einem Ausgang zum Liefern des Kontrollsignals.
- Eine weitere Ausführungsform der Erfindung betrifft eine Speicherschaltung mit: einer Speicheranordnung mit einer Vielzahl von Speicherzellen, jeweils angeordnet an Kreuzungen einer Vielzahl von Spalten und einer Vielzahl von Zeilen, einer hierarchischen Wortleitungsstruktur mit globalen Wortleitungen, die Subwortleitungen treiben, wobei jede Zeile in eine Vielzahl von Segmenten von Subwortleitungen unterteilt ist und sich die globalen Wortleitungen über die gesamte Speicheranordnung erstrecken; einem Zeilendekoder mit einem gekoppelten Eingang, um Zeilenadressinformationen zu empfangen, und einem an eine globale Wortleitung gekoppelten Ausgang; und einer Vielzahl von Subwortleitungstreibern, jeweils angeordnet an verschiedenen Intervallen entlang jeder Zeile, wobei jeder Subwortleitungstreiber einen mit einer entsprechenden globalen Wortleitung gekoppelten Eingang aufweist, und einen mit einer entsprechenden Subwortleitung gekoppelten Ausgang aufweist, wobei jeder der Subwortleitungstreiber eine Invertierschaltung zum lokalen Invertieren eines Signals auf der entsprechenden globalen Wortleitung aufweist, wobei die Invertierschaltung einen pull-up Transistor aufweist, der ausgestaltet ist, um entsprechend einem Kontrollsignal mit einem Takt geschaltet zu werden, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines ersten Teils des Taktes eingeschaltet zu sein, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung und des Signals auf der Subwortleitung gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines zweiten Teils des Taktes ausgeschaltet zu sein, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung einen logisch hohen Pegel erreicht und das Signal auf der Subwortleitung einen konstanten Logikwert erreicht, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines dritten Teils des Taktes eingeschaltet zu werden, und wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines vierten Teils des Taktes ausgeschaltet zu werden.
- Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform werden die dritten und vierten Zeitabschnitte wiederholt. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform beträgt die dritte Zeitperiode 50 ns und die vierte Zeitperiode 1 μs.
- Beschreibung der Zeichungen
-
1 zeigt ein vereinfachtes Teilschema der Wortleitungsstruktur für eine dynamische Direktzugriffsspeicherschaltung des Standes der Technik; -
2 zeigt ein Teilschema der Wortleitungsstruktur für einen einzelnen Bereich in einer Speicherschaltung des Standes der Technik; -
3 ist ein Schaltungsschema eines Subwortleitungstreibers des Standes der Technik; -
4 zeigt eine beispielhafte Implementierung der Subwortleitungstreiberschaltung des Standes der Technik mit einem NMOS Inverter mit einer Ohm'schen Last; -
5 zeigt eine weitere exemplarische Implementierung der Subwortleitungstreiberschaltung des Standes der Technik mit einem NMOS Inverter mit einem NMOS Hochziehtransistor (pull-up Transistor); -
6 zeigt eine Variation der beispielhaften Ausführungsform gemäß5 für die Subwortleitungstreiberschaltung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; -
7 ist ein Taktdiagramm, welches den Betrieb der beispielhaften Ausführungsform des Subwortleitungstreibers gemäß6 illustriert; -
8 ist noch ein weiteres beispielhaftes Ausführungsbeispiel der Subwortleitungstreiberschaltung; -
9 illustriert eine Wortleitungsstruktur, in welcher ein geteilter Invertierschaltkreis in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung implementiert ist; -
10 ist ein Taktdiagramm, welches den Betrieb der beispielhaften Ausführungsform des Subwortleitungstreibers gemäß9 in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung illustriert; -
11a illustriert ein beispielhaftes Ausführungsbeispiel der Logikschaltung zum Erzeugen des gepulsten XP+ Signals gemäß10 in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung; -
11b illustriert eine Ausführungsform des in der Logikschaltung der11a verwendeten Ringoszillators in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung. -
12 illustriert eine beispielhafte Ausführungsform einer Speichereinrichtung, in welcher das beschriebene, gepulste XP+ Signal in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann. - In
2 ist ein Teilschema einer beispielhaften Speicherreihe200 dargestellt, welches die hierarchische Wortleitungsarchitektur illustriert. Ein Zeilendecoder202 decodiert Adresseingangssignale Ai und erzeugt seinen Ausgang auf einer globalen Wortleitung GWLi. Die globale Wortleitung GWL traversiert die gesamte Reihe200 und ist aus einem leitfähigem Material mit niedrigem Widerstand, wie etwa Metall, gefertigt. Die tatsächliche Polysiliciumwortleitung, die an den Gateanschlüssen der Speicherzellen204 angeschlossen ist, ist in mehrere Subwortleitungen (SWLs)206 segmentiert. Zur vereinfachten Darstellung der Speicherschaltung ist in der2 eine Speicherzelle204 durch einen kleinen Kreis dargestellt, ist jedoch tatsächlich der in der1 dargestellten Speicherzelle104 ähnlich. Die Vielzahl von Speicherzellen204 sind an den Schnittpunkten der Subwortleitungen (SWLs206 ) und der Bitleitungen oder Spalten208 wie dargestellt angeordnet. Subwortleitungstreiber(SWLD) Schaltungen210 sind an Subwortleitungssegmentintervallen angeordnet. Nur für darstellerische Zwecke sei ein Bereich200 beispielsweise ein 256 K Zellenbereich mit 1024 Spalten208 und256 Zeilen. In dieser beispielhaften Ausführungsform sind die SWLD Schaltungen210 an jeder128 . Spalte angeordnet. Es sind daher 9 SWLD Regionen vorhanden, wobei jede SWLD Schaltung210 auf jeder Seite 2 Subwortleitungen206 treibt. - Wie aus der
2 zu erkennen ist, erleichtert diese Architektur die Metall-Pitch Erfordernisse durch Aufnahme von vier Polysilicium-SWLs zwischen zwei Metall-GWLs. Darüber hinaus führt die vorliegende Erfindung eine einzelne globale Wortleitung an Stelle eines komplementären Paares, wodurch das Risiko exzessiver Ruheströme eliminiert wird, die durch Kurzschlüsse von Verbindungsleitungen, welche komplementäre Signale tragen, verursacht werden. Dies wird erreicht, indem das komplementäre Signal (GWL#) lokal innerhalb der SWLD Schaltungen210 erzeugt wird, welche im Folgenden in Verbindung mit den3 bis8 beschrieben ist. - In
3 ist eine Subwortleitungstreiber-(SWLD)Schaltung210 dargestellt. Die SWLD-Schaltung210 schließt zwei interne Treiber300-A und300-B ein, die Subwortleitungen SWL-A bzw. SWL-B treiben. Jeder interne Treiber schließt ein Isolationstransistor302 ein, der das Signal auf dem GWL zu dem Gate des Urladetransistors (bootstrap transistor)304 am Knoten N2 transferiert. Der Gateanschluß des Isolationstransistors302 kann an die Stromzufuhr Vcc gekoppelt werden, oder alternativ an ein verstärktes Signal Vx. Das Selbstladen der Ladung an dem Knoten N2 tritt auf, wenn das Selbstladesignal X + B sich von einer niedrigen Spannung zu einer hohen Spannung bewegt. Eine selbstladende Spannung am Knoten N2 schaltet den Isolationstransistor302 ab, den Knoten N2 von dem Signal auf GWL isolierend. Daher leitet dann, wenn beispielsweise SWL-B auszuwählen ist, der Transistor304 x + B an SWL-B ohne den Verlust einer Thresholdspannung weiter. Ein dritter Transistor306 empfängt das Komplement des GWL-Signals (d. h. GWL#) an seinem Gate. Der Transistor306 zieht daher SWL-B auf Erde, wenn GWL nicht ausgewählt ist (d. h. GWL# ist hoch) und ist ansonsten abgeschaltet, wenn GWL ausgewählt ist (d. h. GWL# ist niedrig). - Die Schaltung eliminiert die Notwendigkeit, das Komplement der globalen Wortleitung, (d. h. der GWL#-Leitung) über die gesamte Reihe zu führen, indem ein lokaler Inverter innerhalb jeder Subwortleitungstreiberschaltung
210 enthalten ist. Wie in der3 dargestellt ist, empfängt ein invertierender Schaltkreis INV308 das GWL an einem Eingang, invertiert das Signal und stellt GWL# den Gateanschlüssen des Transistors306 in jedem internen Treiberschaltkreis zur Verfügung. Energieverbrauch, Geschwindigkeit und Fläche sind die Faktoren, die das Design der Invertierschaltung INV308 bestimmen. Die vorliegende Erfindung bietet verschiedene Ausführungsformen für die Invertierschaltung INV308 , die diese Leistungseigenschaften beträchtlich verbessern. Diese Ausführungsformen werden im Folgenden beschrieben. -
4 zeigt eine erste Subwortleitungstreiberschaltung, die einen NMOS-Inverter mit einer Ohm'schen Last verwendet, um die Invertierschaltung INV308 zu implementieren. Die Invertierschaltung308 schließt daher einen NMOS-pull-down-Transistor310 ein, der GWL an seinem Gate empfängt und einen Widerstand R, der mit dem Drain des Transistors310 verbunden ist, welcher als das Hochzieh-(pull-up) oder Ladeelement wirkt. Ein Vorteil dieser Schaltung ist, dass sie nur unter Verwendung von NMOS-Transistoren implementiert ist. Weil keine PMOS-Transistoren verwendet werden, kann diese Schaltung in einer relativ kleineren Fläche implementiert werden. - Der Widerstandswert des Widerstandes R wird durch ein Abwägen zwischen dem Energieverlust und der Abklingzeit des GWL#-Signals bestimmt. Die untere Grenze für den Wert von R wird bestimmt durch den Energieverbrauch, wenn GWL# niedrig ist. Für ein ausgewähltes GWL (d. h. das GWL Signal ist hoch) ist das GWL# Signal niedrig. Unter dieser Bedingung wird der Ruhestrom durch den Widerstand R abgestrahlt. Um den Ruhestrom zu reduzieren, ist es daher wünschenswert, den Widerstandswert von R zu maximieren. Auf der anderen Seite sollte der Wert von R hoch genug sein, um sicherzustellen, dass GWL# durch den Transistor
310 unterhalb einer Threshold-Spannung des Transistors310 gezogen werden kann, wenn dies notwendig ist. Bei einem gegebenen Ein-Widerstand des Transistors310 von beispielsweise einigen wenigen kOhm kann der Wert von R daher für einen ordnungsgemäßen Betrieb angepaßt werden. - Ein anderer Faktor, der das Design des Inverters beeinflußt, ist die Abklingzeit des GWL#-Signals. Eine wichtige Funktion, die durch den Transistor
306 in jedem SWL-Treiber ausgeführt wird, ist die Spannung in seinem entsprechenden SWL zu erden, wenn er inaktiviert wird. Dies reduziert potentiellen, aufgrund einer Leitung unterhalb des Threshold verursachten Leckstrom, wenn Rauschen auf ein inaktiviertes SWL durch ein benachbartes, aktiviertes SWL gekoppelt wird. Um sicherzustellen, dass der Transistor in einem zuvor ausgewählten SWL-Treiber angeschaltet wird, bevor der nächste SWL ausgewählt wird, wird eine Zeitbeschränkung aus das Abklingen des GWL#-Signals plaziert. Das heißt, wenn in einem gegebenen Zyklus GWLi ausgewählt wird (GWLi# ist niedrig), nach der Vervollständigung des Zyklus und vor der Auswahl von GWLi+1 (d. h. während der Zeilenadressenabtastung oder der RAS Vorladezeit), sollte GWLi# vorzugsweise zur hohen Spannung zurückkehren, um den Transistor306 in dem inaktivierten SWL-Treiber einzuschalten. Die Abklingzeit des Signals auf dem GWL#-Knoten wird bestimmt durch das RC Laden an dem GWL#-Knoten. Beim derzeitigen Stand der Technik liegt eine typische RAS-Vorladezeit im Bereich von 20–30 ns. Sei für illustrative Zwecke eine RAS-Vorladezeit von 30 ns angenommen, und eine Gesamtkapazität von 100 fF an dem GWL# Knoten, dann würde der maximale Widerstandswert für R bei 300 kOhm liegen. - Die
5 zeigt eine SWLD-Schaltung, in der der Widerstand R des INV308 ersetzt ist durch einen NMOS-Transistor312 . In dieser Ausführungsform ist der Gateanschluß des NMOS-Transistors312 mit einer verstärkten Spannung Vpp verbunden. Dieses kompensiert die Treshhold-Spannung des NMOS312 und erlaubt einem vollständigen Vcc Pegel nach GWL# durchzudringen. Der Transistor312 kann so klein sein wie etwa beispielsweise ein DRAM-Speicherzellenzugriffstransistor. Der effektive Ein-Widerstand des NMOS-Transistors312 kann angepaßt werden durch Variation seiner Größe (W/L Verhältnis). Der Flächenüberschuß aufgrund der INV308 ist minimal, da NMOS-Transistoren310 und312 klein in der Größe sind und eine einzige INV308 durch zwei interne Subwortleitungstreiber300-A und300-B geteilt wird. - In der in der
5 für ein ausgewähltes GWL dargestellten Ausführungsform ist der NMOS-Transistor312 eingeschaltet und treibt einen Ruhestrom durch die RAS Aktiv Periode. Eine Variation der Ausführungsform der5 reduziert die DC Energieabstrahlung der SWLD-Schaltung weiter durch Schalten des Ladetransistors312 . Wie oben diskutiert, dient die Klemm- oder Aushalte-Funktion, die durch den Transistor306 ausgeführt wird dazu, den Effekt von kreuzweise gekoppeltem Rauschen von einer ausgewählten, benachbarten SWL zu reduzieren oder zu eliminieren. Die Zeit, während dessen das Kreuzkoppeln des Rauschens auftritt, ist jedoch begrenzt auf die Zeit, wenn das Signal auf einem SWL seinen Zustand wechselt. Nachdem das GWL seinen Zustand wechselt und ein ausgewähltes SWL ebenfalls umschaltet und seinen Endzustand erreicht, trägt das Signal auf dem SWL nicht länger zu irgendeinem Kreuzkopplungsrauschen bei. Daher ist es möglich, die Klemmfunktion nur auf die Dauer der Rauschkopplung zu beschränken, anstatt auf die gesamte RAS Aktiv Periode. - In der in der
6 dargestellten erfindungsgemäßen Ausführungsform ist der Gateanschluß des Hochziehtransistors312 mit einer Verbindungsleitung verbunden, die ein XP+ Signal trägt, welches einen verstärkten Pegel aufweist, wenn es auf hoch steht. Während des Standby-Modus wird XP+ auf einem hohen Pegel hochgehalten, um alle GWL#-Signale hochzuhalten, und die SWLs werden auf Erde geklemmt. Wenn ein GWL ausgewählt wird und sein Signal den Zustand auf einen hohen Pegel wechselt, verbleibt XP+ ursprünglich auf seinem hohen Pegel. Da der pull-down Transistor310 viel stärker ist als der kleine und schwächere Transistor312 , wird in dem ausgewählten SWLD das Signal auf GWL# auf Erde heruntergezogen. Die nicht ausgewählten GWLs verbleiben niedrig, wodurch ihre entsprechenden GWL#-Signale hochgestellt werden (und der Transistor306 eingeschaltet wird), um eine solide Klemmung der nicht ausgewählten SWLs zu erreichen. Bis zu diesem Zeitpunkt arbeitet die Schaltung ähnlich der Ausführungsform gemäß5 und verliert DC-Strom durch den NMOS Ladetransistor312 . Wenn jedoch das angemessene X+ A ankommt und das ausgewählte SWL seinen hohen Endwert erreicht, besteht keine Notwendigkeit mehr für eine Klemmfunktion. Der Transistor312 kann daher zu diesem Zeitpunkt abgeschaltet werden. Dies wird erreicht, indem das Signal auf XP+ von einem verstärkten hohen Pegel auf einen Pegel geschaltet wird, niedrig genug, um den Transistor312 abzuschalten, ausreichend weit vor dem Ende der RAS Aktivperiode. Das Taktdiagramm, welches den Betrieb der Schaltung der6 darstellt, ist in der7 dargestellt. Diese Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschränkt daher der DC-Stromverlust auf ein kleines Fenster (aufgrund der reduzierten tH) anstatt auf die gesamte RAS Aktivperiode. - Eine noch weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung implementiert das Hochziehladeelement für den Inverter INV
308 , indem ein geschalteter Ladetransistor mit einem zusätzlichen Ohm'schen Lastelement kombiniert wird.8 zeigt diese Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, welche ähnlich zu der in6 dargestellten ist, jedoch ein zusätzliches Widerstandselement314 einschließt, welches das GWL# auf eine hohe Spannung bringt. Mit dem Einschluß eines statischen Hochziehens (Widerstandselement314 ) verbleibt keine Zeit, während der GWL# gleiten gelassen wird. Dies beseitigt die Ein-/Aus-Zeitbeschränkungen für den Transistor312 wie in Verbindung mit den6 und7 beschrieben. Daher kann der NMOS312 an- oder ausgeschaltet werden, entsprechend ob ein gegebener Bereich ausgewählt ist. Genauer gesagt ist in dieser Ausführungsform das einzige zeitlich Beschränkende, dass für einen ausgewählten Bereich das Schalten des XP+ Signals auf eine niedrige Stufe den NMOS Transistor312 ausschaltet, bevor das ausgewählte GWL auf einen hohen Pegel schaltet. - Darüber hinaus setzt – wie oben diskutiert – die GWL# Abklingzeit die Grenze für den maximalen Wert des Widerstandes des Widerstandselementes
314 . In dieser Ausführungsform ist jedoch, da die Abklingzeit durch den Hochzieh-NMOS Transistor312 bestimmt ist, die Maximalbeschränkung auf dem Widerstandswert des Widerstandselementes314 beseitigt. Daher kann das Widerstandselement314 einen Widerstandswert aufweisen, so hoch wie die Flächenerfordernisse es erlauben. Einen viel höheren Widerstand für das statische Hochziehen reduziert den Ruhestrom segnifikant, verglichen mit den in den4 und5 dargestellten Ausführungsformen. Das Widerstandselement314 kann unter Verwendung eines Widerstandes oder bevorzugt eines sehr kleines Transistors (z. B. in der Größe eines DRAM Zellenzugriffstransistors), der Ein-Widerstände so hoch oder größer als beispielsweise 1 Megaohm aufweist, implementiert werden. - Die in der
8 dargestellte Ausführungsform verbessert daher den Stromverbrauch verglichen mit den Ausführungsformen der4 und5 und ist auch eine Verbesserung der in der6 dargestellten Ausführungsform bezüglich bestimmter Schaltungslayoutbetrachtungen. Insbesondere bei der in der6 dargestellten Ausführungsform benötigt jede Reihe eine separate Verbindungsleitung, die das XP+ Signal trägt, welches durch die Bitleitungsabfrageverstärkerregion geführt wird. Da XP+ in der Ausführungsform gemäß6 seine eigenen Zeiterfordernisse hat, ist in jeder Reihe für dieses Signal eine separate Verbindungsleitung bestimmt. Wie oben diskutiert, vereinfacht die in der8 dargestellte Ausführungsform das Zeiterfordernis für das XP+ Signal, so dass das XP+ Signal für eine ausgewählte Reihe niedrig geschaltet wird, bevor GWL hochschaltet. In der herkömmlichen DRAM Schalttechnik weist das Signal, das Bitleitungen vorlädt, exakt die gleichen Zeiteigenschaften auf. Daher müssen bei dieser Ausführungsform keine neue Verbindungsleitung und keine Taktschaltung hinzugefügt werden, was Fläche spart. -
2 stellt eine Wortleitungsstruktur dar, in welcher jedes SWLD einen Invertierschaltkreis zum lokalen Erzeugen und zur Verfügungstellen des GWL#-Signals einschließt. In einer alternativen Ausführung kann jedoch ein Invertierschaltkreis verwendet werden, um zwei oder mehrere SWLDs zu versorgen. Eine geteilte Invertierschaltkreisarchitektur hat Vorteile darin, dass weniger implementierte Invertierschaltkreise weniger Energie verbrauchen. Darüber hinaus wird auch die gesamte Schaltungsfläche reduziert, da weniger Invertierschaltkreise verwendet werden. Die Reduzierung verstärkt sich noch bei Wortleitungsstrukturausführungsformen, die die oben erwähnten Invertierschaltungen mit Ohm'scher Last verwenden, da das darin verwendete Widerstandselement eine große Layoutfläche belegt. -
9 stellt eine Wortleitungsstruktur900 dar, in welcher eine Invertierschaltung zwischen zwei benachbarten SWLDs geteilt wird. In sehr ähnlicher Weise wie in der2 dargestellt, erstrecken sich GWLsi,j,k von den Zeilendekodern902 i,j,k und sind mit den SWLDs910 verbunden. Jedes SWLD910 treibt zwei Polysilicium SWLs906 , obwohl eine größere Anzahl von SWLs in alternativen Ausführungsformen getrieben werden könnte. Speicherzelle904 sind angeordnet und stehen im Zugriff an den Schnittpunkten der SWLs906 und den Bitleitungen oder Spalten908 . - Die Wortleitungsstruktur
900 schließt weiterhin Verbindungsleitungen912 zum Tragen des Signals GWL# zwischen zwei benachbart angeordneten SWLDs910 ein. Eine der benachbart verbundenen SWLDs910 enthält eine der oben beschriebenen Invertierschaltungen und versorgt die andere SWLD mit dem invertierten Signal GWL# über die Verbindungsleitung912 . Wie zu erkennen ist, können zusätzliche SWLDs durch einen einzigen Invertierschaltkreis getrieben werden, in welchem Fall zusätzliche Verbindungsleitungen zwischen den versorgten SWLDs verwendet werden. - Jede der verschiedenen Ausführungsformen für einen Invertierschaltkreis, wie zuvor beschrieben, sowie andere bekannte Invertierschaltkreise können innerhalb der SWLDs verwendet werden. Die Verbindungsleitung ist vorzugsweise eine Metallleitung, vom selben Typ, wie für die GWLs verwendet. Als Konsequenz der geteilten Invertierschaltungsarchitektur gemäß
9 wird die von den Invertierschaltungen der Wortleitungsstruktur verbrauchte Energie um 50% reduziert. Eine weitere Reduzierung im Energieverbrauch kann realisiert werden, wenn eine größere Anzahl von SWLDs geteilt wird. Zusätzlich kann diese Wortleitungsstruktur weniger Layoutfläche verwenden. Wenn die für jede Invertierschaltung benötigte Fläche relativ groß ist, beispielsweise in dem Fall, in dem Invertierschaltungen mit Ohm'schen Lasten verwendet werden, ergibt die geteilte Invertierschaltungsarchitektur eine Abnahme des Abstandes zwischen den Metall-GWLsi,j und GWLsj,k, aufgrund des Entfernens eines der Invertierschaltungen. - Die oben beschriebene
7 illustriert ein Taktdiagramm eines XP+ Kontrollsignals, welches verwendet wird, um den Klemmtransistor306 in den SWLDs210 zu kontrollieren. In einer alternativen Ausführungsform illustriert10 ein gepulstes XP+ Kontrollsignal, in welchem periodische Pulse während dem Zustand niedrig auftreten. Wie unten erklärt werden wird, arbeiten die Pulse, um sicherzustellen, dass die inaktivierten SWLs im Falle eines lange aktiven Zyklus abgeklemmt werden. - Bezugnehmend auf
10 , während der ersten Periode des RAS# Taktdiagramms, wechselt das RAS# Signal von H nach L Zuständen, den Beginn einer aktiven Periode innerhalb des Elementes andeutend. Das ausgewählte GWL wechselt nach hoch, jedoch verbleibt ein inaktives SWL niedrig. Nach einer Verzögerung, wechselt das gepulste XP+ Kontrollsignal von H nach L, eine aktive SWLD innerhalb des Elementes andeutend. - Gemäß
6 ist innerhalb eines inaktiven SWLDj das GWL inaktiv und schaltet in einen niedrigen Zustand den pull-down Transistor310 aus. Das XP+ Kontrollsignal verbleibt hoch für einen Zeitintervall, den Hochziehtransistor312 aktivierend und eine hohe Spannung an den Gateanschluß des Klemmtransistors306 anlegend. Der Klemmtransistor306 ist aktiviert und klemmt das inaktive SWL sicher auf Erde. - Das XP+ Kontrollsignal geht anschließend in einen niedrigen Zustand über, den Hochziehtransistor
312 deaktivierend. Als Folge werden die pull-down und Hochziehtransistoren310 und312 ausgeschaltet und der Gateanschluß des Klemmtransistors306 fließt. Wenn das SWL in einem inaktiven Zustand für eine verlängerte Zeitperiode verbleibt, kann sich die Gatespannung des Transistors306 entladen, wodurch das inaktive SWL von der Erde gelöst wird, und kann möglicherweise einen fehlerhaften Speicherzugriff verursachen. - Das gepulste XP+ Kontrollsignal der
10 schließt Pulse1030 ein, welche einen Spannungszustand hoch an dem Gateanschluß des Klemmtransistors306 im Falle eines verlängerten aktiven Zyklusses wiederherstellen. Während der gepulsten Perioden liegt das gepulste XP+ Kontrollsignal eine gepulste Spannung VXP+ an den Gateanschluß des Hochziehtransistors312 ein, ihn für die gepulste Periode (die gepulsten Perioden) gleitfähig lassend. Als Ergebnis wird ein gepulster Spannungspegel (der Niedrigere von VDD oder VXP+ – VT) an den Gateanschluß des Klemmtransistors306 angelegt. Das Anlegen einer gepulsten Spannung aktiviert den Gateanschluß des Klemmtransistors306 , wodurch sichergestellt wird, dass die damit verbundene, inaktivierte SWL fest auf Erde geklemmt bleibt. - Die zweite RAS# Periode der
10 illustriert die Wellenformen, wenn das gepulste XP+ Kontrollsignal an eine aktive SWLD angelegt wird. Ursprünglich geht das RAS# Signal auf einen niedrigen Pegel, einen aktiven Zustand anzeigend. Nach einer Verzögerung geht das GWLi in einen hohen Zustand über, einen aktiven Zustand entlang der GWLi Leitung anzeigend. Nach einer Verzögerung, welche das oben erwähnte <Rauschen> und die tH Perioden gemäß7 einschließen kann, jedoch nicht einschließen muß, geht das SWLi in einen hohen Zustand über, anzeigend, dass das SWLDi aktiv geworden ist. - Innerhalb des aktiven SWLD wird das GWL hochgehalten, was wiederum den pull-down Transistor
310 aktiviert. Die positiven Pulse1030 des gepulsten XP+ Kontrollsignals aktivieren den Hochziehtransistor312 , was dazu führt, dass Strom zwischen der Stromzufuhr und der Erde durch den Inverter308 gezogen wird. Daher resultiert bei aktiven SWLDs das gepulste XP+ Kontrollsignal in einem Energieverbrauch, dessen Größe durch die Breite und die Periode der Pulse1030 bestimmt wird. Durch Minimieren der Breite der Pulse1030 und durch Maximieren ihrer Periode kann der Beitrag des invertierten Koordinatenstromes minimiert werden. Das gepulste XP+ Kontrollsignal aktiviert daher ein Gleichgewicht zwischen dem Energieverbrauch und dem Aufrechterhalten einer soliden Halte-Aus-Funktion einer inaktivierten SWL. - Zusätzlich kann das gepulste XP+ Kontrollsignal auch ohne Pulse arbeiten, beispielsweise dann, wenn das RAS#-Signal-Intervall eine vorbestimmte minimale Periode nicht überschreitet. Dieser Betriebsmodus ist in der dritten RAS# Periode der
10 dargestellt. Hier verbleibt das gepulste XP+ Kontrollsignal hoch, da das RAS#-Signal-Intervall nicht eine vorbestimmte Periode von 50 ns überschreitet. Die Pulse1030 können von jeder Dauer und Amplitude sein und werden entweder nicht periodisch oder periodisch mit jeder gewünschten Frequenz wiederholt. In dem beispielhaften Ausführungsbeispiel der10 ist das gepulste XP+ Kontrollsignal periodisch mit einer μs, weist eine Pulsbreite von 50 ns auf und hat eine minimale Periode von 50 ns vor der Pulserzeugung. -
11a illustriert eine Logikschaltung1100 zum Erzeugen des gepulsten XP+ Kontrollsignals, obwohl andere Ausführungsformen ebenfalls verwendet werden können. In der dargestellten Ausführungsform besteht die Logikschaltung vor allen Dingen aus drei monostabilen Schaltungen, die erste aus einer nicht invertierenden Zeitverzögerung110 , einem NAND-gate1120 , und einem Inverter1130 , die zweite monostabile Schaltung besteht aus einer invertierenden Zeitverzögerung1150 und einem NAND-gate1160 , und die dritte monostabile Schaltung besteht aus einer zweiten monostabilen Schaltung, einem Ringossilator1140 und einer NAND-Schaltung1170 . Die erste Monostabile erzeugt die minimale Pulsbreite, oben beschrieben mit 50 ns. Die zweite liefert die Größe der Verzögerung, die notwendig ist, um die Pulsdauer des Pulses1030 , oben beschrieben mit 50 ns, zu erzeugen. Die dritte Monostabile erzeugt die Verzögerung, die der Pulsperiode entspricht, oben beschrieben mit einer μs. Dem Fachmann ist klar, dass andere Logikschaltungen möglich sind, um die beschriebene Pulserzeugungsschaltung herzustellen. -
11b illustriert eine Ausführungsform des Ringoszillators1140 , der in der dritten monostabilen Schaltung verwendet wird. Der Ringoszillator1140 ist vorzugsweise so ausgelegt, dass er das Doppelte der Verzögerungsdauer zur Verfügung stellt, die für die Pulsperiode benötigt wird. Zusätzliche Inverterelemente1146 können wie dargestellt aufgenommen werden, um eine weitere Verzögerung zu liefern. -
12 stellt eine beispielhafte Ausführungsform eines Speicherelementes1200 dar, welches aus verschiedenen Banken1250 besteht, die mehrere Reihen1254 aufweisen, welchen das beschriebene, gepulste XP+ Kontrollsignal zugeführt wird. Innerhalb jeder Bank1250 wird von einer XP+ Logikschaltung1252 (oben beschrieben) ein gepulstes XP+ Kontrollsignal1256a erzeugt und in den darin befindlichen mehreren Bereichen1254 verteilt. GXP+ Verteilungsschaltungen1256 werden verwendet, um das XP+ Kontrollsignal1256a dem aktiven Speicherbereich zuzuführen. Innerhalb der GXP+ Verteilungsschaltungen1256 werden das globale gepulste XP+ Kontrollsignal1256a und ein Bereichsauswahlsignal1256b einem Endgate1256c zugeführt. Das Bereichsauswahlsignal1256b geht in einen hohen Zustand über, wenn sein entsprechender Bereich aktiv ist, und das AND gate1256c gibt das XP+ Kontrollsignal aus an den aktiven Speicherbereich. Während die beispielhafte Ausführungsform der12(2) acht megabit DRAM Speicherbereiche innerhalb jeder Speicherbank1250 zeigt, ist dem Fachmann klar, dass die Ausführungsform hierauf nicht beschränkt ist, und das größere oder kleinere Anzahlen von Speicherbereichen und/oder eine größere oder eine kleinere Anzahl von Speicherbänken ebenfalls verwendet werden können, um die vorliegende Erfindung auszuführen. - Während das Obige eine vollständige Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist, ist es möglich, verschiedene Alternativmodifikationen und Äquivalente zu verwenden. Beispielsweise ist die Wortleitungsarchitektur der vorliegenden Erfindung im Kontext einer DRAM Schaltung beschrieben, die eine beispielhafte Bereichsgröße aufweist. Jedoch ist die Anwendbarkeit der Techniken der vorliegenden Erfindung nicht abhängig von der Speichergröße oder dem Typ der Speicherschaltung. Auch zeigt die beispielhafte Architektur, die verwendet wurde, um die Prinzipien der vorliegenden Erfindung zu illustrieren, einen Metall Pitch, der vier Polysiliciumsubwortleitungen aufnimmt. Es können jedoch ähnliche Techniken verwendet werden, um eine größere Anzahl von Subwortleitungen zwischen globalen Wortleitungen einzufügen, um die Anforderungen an den Metall Pitch weiter zu entspannen (oder es können weniger Subwortleitungen verwendet werden, wenn gewünscht). Eine größere Anzahl von Subwortleitungen kann durch jeden Subwortleitungstreiber getrieben werden, durch beispielsweise das das Einschließen von mehr als zwei internen Treibern in jeden Subwortleitungstreiber und das zur Verfügung stellen von mehr als zwei X+ Signalen für jeden Subwortleitungstreiber. Darüber hinaus können alternative Materialien zu Metall oder Polysilicium verwendet werden, um die globalen Wortleitungen und die Subwortleitungen zu führen.
Claims (13)
- Eine Speicherschaltung mit: einer Speicheranordnung (
900 ) mit einer Vielzahl von Speicherzellen (904 ), jeweils angeordnet an Kreuzungen einer Vielzahl von Spalten (908 ) und einer Vielzahl von Zeilen (906 ), einer hierarchischen Wortleitungsstruktur mit einer globalen Wortleitung (GWL), die Subwortleitungen (SWL) treibt, wobei jede Zeile in eine Vielzahl von Segmenten von Subwortleitungen (SWL) unterteilt ist und sich die globale Wortleitung (GWL) über die gesamte Speicheranordnung (900 ) erstreckt; einem Zeilendekoder (902 ) mit einem gekoppelten Eingang, um Zeilenadressinformationen (A) zu empfangen, und einem an die globale Wortleitung (GWL) gekoppelten Ausgang; einem ersten Subwortleitungstreiber (910 ), angeordnet entlang der globalen Wortleitung (GWL), mit einem an die globale Wortleitung (GWL) gekoppelten Eingang, und einem Subwortleitungsausgang, wobei der erste Subwortleitungstreiber (910 ) weiterhin eine Invertierschaltung (308 ) zum Invertieren eines sich entlang der globalen Wortleitung (GWL) fortpflanzenden Signals aufweist; einem zweiten Subwortleitungstreiber (910 ), angeordnet entlang der globalen Wortleitung (GWL), mit einem an die globale Wortleitung (GWL) gekoppelten ersten Eingang, einem zweiten Eingang zum Empfangen des invertierten Signals von dem ersten Subwortleitungstreiber (910 ), und einem Subwortleitungsausgang; und einer zwischen den ersten Subwortleitungstreiber (910 ) und dem zweiten Subwortleitungstreiber (910 ) gekoppelten Verbindungsleitung (912 ) zum Kommunizieren des invertierten Signals zwischen diesen; wobei die Invertierschaltung einen pull-down Transistor aufweist, mit einem Gateanschluß, der an die jeweilige globale Wortleitung gekoppelt ist, und einem source/drain Anschluß, der an ein pull-up Element gekoppelt ist; wobei das pull-up Element einen pull-up Transistor aufweist; wobei der pull-up Transistor einen Gate Anschluß aufweist, der an ein Kontrollsignal gekoppelt ist, und wobei das Kontrollsignal den pull-up Transistor ein- und ausschaltet. - Speicherschaltung nach Anspruch 1, wobei das pull-up Element einen Widerstand aufweist.
- Speicherschaltung nach Anspruch 1, wobei der pull-up Transistor während eines ersten Teils eines vordefinierten Taktes eingeschaltet ist, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung und des Signals auf der Subwortleitung gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor während eines zweiten Teils des vordefinierten Taktes eingeschaltet ist, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung für eine Zeitdauer kleiner als eine vorbestimmte minimale Dauer auf hoch steht.
- Speicherschaltung nach Anspruch 1, wobei der pull-up Transistor während eines ersten Teils eines vordefinierten Taktes eingeschaltet ist, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung und des Signals auf der Subwortleitung gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor während eines zweiten Teils des vordefinierten Taktes ausgeschaltet ist, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung und das Signal auf der Subwortleitung jeweils einen konstanten Logikwert haben.
- Speicherschaltung nach Anspruch 4, wobei das Signal auf der globalen Wortleitung auf einem hohen logischen Pegel während des zweiten Teils des vordefinierten Taktes arbeitet, und der pull-up Transistor während eines dritten Teils des vordefinierten Taktes eingeschaltet ist.
- Speicherschaltung nach Anspruch 5, wobei der pull-up Transistor während eines vierten Teils des vordefinierten Taktes ausgeschaltet ist.
- Speicherschaltung nach Anspruch 6, wobei die dritten und vierten Zeitabschnitte wiederholt werden.
- Speicherschaltung nach Anspruch 6, wobei der dritte Zeitabschnitt 50 ns und der vierte Zeitabschnitt 1 μS beträgt.
- Speicherschaltung nach Anspruch 1, mit einer Logikschaltung zum Erzeugen des Kontrollsignals.
- Speicherschaltung nach Anspruch 9, wobei die Logikschaltung aufweist: eine erste monostabile Schaltung mit einem an die globale Wortleitung gekoppelten Eingang und einem Ausgang zum Erzeugen eines ersten Pulszeitabschnittes; eine zweite monostabile Schaltung mit einem an den Ausgang der ersten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, und einem Ausgang zum Liefern eines zweiten Pulszeitabschnittes; und eine dritte monostabile Schaltung mit einem ersten an den Ausgang der ersten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, einem zweiten an den Eingang der zweiten monostabilen Schaltung gekoppelten Eingang, und einem Ausgang zum Liefern des Kontrollsignals.
- Eine Speicherschaltung mit: einer Speicheranordnung (
200 ) mit einer Vielzahl von Speicherzellen (204 ), jeweils angeordnet an Kreuzungen einer Vielzahl von Spalten und einer Vielzahl von Zeilen, einer hierarchischen Wortleitungsstruktur mit globalen Wortleitungen (GWL), die Subwortleiturgen (SWL) treiben, wobei jede Zeile in eine Vielzahl von Segmenten von Subwortleitungen (SWL) unterteilt ist und sich die globalen Wortleitungen (GWL) über die gesamte Speicheranordnung (200 ) erstrecken; einem Zeilendekoder (202 ) mit einem gekoppelten Eingang, um Zeilenadressinformationen (A) zu empfangen, und einem an eine globale Wortleitung (GWL) gekoppelten Ausgang; und einer Vielzahl von Subwortleitungstreibern (210 ), jeweils angeordnet an verschiedenen Intervallen entlang jeder Zeile, wobei jeder Subwortleitungstreiber (210 ) einen mit einer entsprechenden globalen Wortleitung (GWL) gekoppelten Eingang aufweist, und einen mit einer entsprechenden Subwortleitung (SWL) gekoppelten Ausgang aufweist, wobei jeder der Subwortleitungstreiber (210 ) eine Invertierschaltung (308 ) zum lokalen Invertieren eines Signals auf der entsprechenden globalen Wortleitung (GWL) aufweist, wobei die Invertierschaltung (308 ) einen pull-up Transistor aufweist, der ausgestaltet ist, um entsprechend einem Kontrollsignal mit einem Takt geschaltet zu werden, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines ersten Teils des Taktes eingeschaltet zu sein, wenn die Zustände des Signals auf der globalen Wortleitung (GWL) und des Signals auf der Subwortleitung (SWL) gewechselt werden, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines zweiten Teils des Taktes ausgeschaltet zu sein, wenn das Signal auf der globalen Wortleitung (GWL) einen logisch hohen Pegel erreicht und das Signal auf der Subwortleitung (SWL) einen konstanten Logikwert erreicht, wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines dritten Teils des Taktes eingeschaltet zu werden, und wobei der pull-up Transistor ausgestaltet ist, während eines vierten Teils des Taktes ausgeschaltet zu werden. - Speicherschaltung nach Anspruch 11, wobei die dritten und vierten Zeitabschnitte wiederholt werden.
- Speicherschaltung nach Anspruch 12, wobei die dritte Zeitperiode 50 ns und die vierte Zeitperiode 1 μs beträgt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/182,943 | 1998-10-29 | ||
US09/182,943 US6011746A (en) | 1997-02-06 | 1998-10-29 | Word line driver for semiconductor memories |
PCT/US1999/023694 WO2000026941A2 (en) | 1998-10-29 | 1999-10-12 | Word line driver for semiconductor memories |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19983711B3 true DE19983711B3 (de) | 2014-01-09 |
Family
ID=22670726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19983711.2A Expired - Fee Related DE19983711B3 (de) | 1998-10-29 | 1999-10-12 | Wortleitungstreiber für Halbleiterspeicher |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6011746A (de) |
JP (1) | JP2002529877A (de) |
KR (1) | KR100592548B1 (de) |
AU (1) | AU1312700A (de) |
DE (1) | DE19983711B3 (de) |
WO (1) | WO2000026941A2 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|
WO2000026941A9 (en) | 2000-09-28 |
US6011746A (en) | 2000-01-04 |
WO2000026941A3 (en) | 2000-11-30 |
KR100592548B1 (ko) | 2006-06-23 |
JP2002529877A (ja) | 2002-09-10 |
WO2000026941A2 (en) | 2000-05-11 |
KR20010089359A (ko) | 2001-10-06 |
AU1312700A (en) | 2000-05-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: ISARPATENT GBR PATENT- UND RECHTSANWAELTE, DE Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: ISARPATENT GBR PATENT- UND RECHTSANWAELTE, DE Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE |
|
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE |
|
R020 | Patent grant now final | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: CONVERSANT IP N.B. 868 INC., SAINT JOHN, CA Free format text: FORMER OWNER: HYNIX SEMICONDUCTOR INC., SAN JOSE, CALIF., US Effective date: 20130128 Owner name: CONVERSANT IP N.B. 868 INC., SAINT JOHN, CA Free format text: FORMER OWNER: 658868 N.B. INC., SAINT JOHN, NEW BRUNSWICK, CA Effective date: 20140925 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE Effective date: 20130128 Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE Effective date: 20130116 Representative=s name: ISARPATENT PATENTANWAELTE BEHNISCH, BARTH, CHA, DE Effective date: 20140925 Representative=s name: ISARPATENT - PATENTANWAELTE- UND RECHTSANWAELT, DE Effective date: 20130116 Representative=s name: ISARPATENT - PATENTANWAELTE- UND RECHTSANWAELT, DE Effective date: 20140925 Representative=s name: ISARPATENT - PATENTANWAELTE- UND RECHTSANWAELT, DE Effective date: 20130128 |
|
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20141010 |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |