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TECHNISCHES
GEBIET DER ERFINDUNG
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Die vorliegende Erfindung bezieht
sich im Allgemeinen auf Speichersysteme und insbesondere auf eine
statische Speichermatrix mit wahlfreiem Zugriff.
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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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Speichersysteme sind im Stand der
Technik bekannt und werden in nahezu allen Mikroprozessor-Anwendungen
und Anwendungen digitaler Anlagen verwendet. Die Speichersysteme
verwenden im Allgemeinen für
verschiedene Anwendungen verschiedene Speichertypen. Ein solcher
Speichertyp ist der statische Schreib-Lese-Speicher ("SRAM"). SRAM-Systeme besitzen
im Vergleich zu einigen anderen Typen von Speichersystemen den Vorteil
hoher Geschwindigkeit und der leichten Verwendung. Außerdem zeigen
SRAM-Systeme, die die MOS-Technologie
verwenden, im Bereitschaftszustand einen äußerst geringen Leistungsverbrauch,
wobei sie keinen Auffrischzyklus erfordern, um die im SRAM-System gespeicherten
Informationen aufrechtzuerhalten. Diese Merkmale machen SRAM-Systeme
für tragbare
Ausrüstung,
wie z. B. Laptop-Computer, besonders erwünscht.
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In einer integrierten Schaltung sind
die SRAM-Systeme oft in einer Matrix aus Speicherzellen organisiert,
die in Zeilen und Spalten angeordnet sind. Im Allgemeinen sind die
Speicherzellen in einen von zwei Datenzuständen gesetzt, wenn sie ein
Bit der Informationen speichern. Auf jede Speicherzelle kann durch
eine eindeutige Speicheradresse, die eine Zeilenadresse und eine
Spaltenadresse enthält,
Bezug genommen werden. Der Begriff "Wortleitung" bezieht sich im Allgemeinen auf eine
Zeile der Speicherzellen, wohingegen sich der Begriff "Bitleitungen" im Allgemeinen auf
eine Menge von Leitern bezieht, die einer Spalte der Speicherzellen
entsprechen. Eine Speicherzelle enthält typischerweise ein Paar
komplementärer
Anschlüsse,
wobei jeder Anschluss mit einer der zwei für diese Spalte reservierten
Bitleitungen verbunden ist. Die Speichervorrichtungen arbeiten gewöhnlich in
einer Lesebetriebsart und einer Schreibbetriebsart. Wenn in eine
Speicherzelle geschrieben wird, wird die Wortleitung aktiviert,
wobei dadurch die ganze Zeile in der Matrix der Speicherzellen aktiviert
wird. An die Bitleitungen zwischen den zwei komplementären Eingabe/Ausgabe-Anschlüssen der Speicherzelle
wird ein differenzieller Strom angelegt. Die Speicherzelle wird
in einem spezifischen Logikzustand verriegelt, wobei ein logisches
Hoch an einem Anschluss und ein logisches Tief am anderen Anschluss angezeigt
wird. Wenn aus einer Speicherzelle gelesen wird, wird die Wortleitung
aktiviert, wobei die Logikzustände
an den der Speicherzelle zugeordneten Bitleitungen unter Verwendung
eines Leseverstärkers
differenziell abgetastet werden. Der Leseverstärker gibt ein verstärktes Signal
aus, das dem in die Speicherzelle geschriebenen Logikzustand entspricht.
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Eine typische SRAM-Speicherzelle
mit sechs Transistoren besteht aus zwei p-Kanal-Pull-Up-Transistoren, zwei n-Kanal-Pull-Down-Transistoren
und zwei Zugriffstransistoren, die typischerweise n-Kanal-Transistoren
sind.
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Ein hoher Lesestrom, eine hohe Schreibauslösespannung
und eine hohe statische Rauschschwelle sowie ein niedriger Bereitschaftsstrom
sind erwünschte
Zelleneigenschaften einer SRAM-Zelle. Der hohe Lesestrom und die
hohen Schreibauslösespannungen
sind notwendig, um die Geschwindigkeit zu verbessern, mit der auf
die Daten zugegriffen werden kann bzw. die Daten geschrieben werden
können.
Die hohe statische Rauschschwelle ist für die Schaltungsstabilität notwendig.
Der niedrige Bereitschaftsstrom ist notwendig, um die Leistungsaufnahme
zu verringern, wenn sich die Zelle in der Bereitschafts-Betriebsart
befindet. Der niedrige Bereitschaftsstrom wird erreicht, indem die
Schwellenspannungen der verschiedenen Transistoren so hoch gehalten
werden, daß der
unterhalb der Schwelle liegende Leskstrom minimiert werden kann.
Das Vergrößern der
n-Kanal-Schwellenspannungen
verringert jedoch den Ansteuerstrom und folglich den Lesestrom während einer
Leseoperation. Es verringert außerdem
die Schreibspannung, was zu einer langsameren Schreiboperation führt. Außerdem verringert
das Vergrößern der
p-Kanal-Schwellenspannung die statische Rauschschwelle, was die
Zellenstabilität
stört.
Folglich gibt es einen Kompromiss zwischen dem niedrigen Bereitschaftsstrom
und der Geschwindigkeit und der Stabilität der Zelle. Das Problem wird
für niedrige
Versorgungsspannungen schärfer,
wenn die Schwellenspannung ein großer Bruchteil der Versorgungsspannung
ist, z. B. der Fall, wenn die Versorgungsspannung etwa ein Volt
beträgt.
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Eine herkömmliche Lösung für dieses Problem bestand darin,
die interne Versorgungsspannung für die SRAM-Matrix auf eine
maximale Grenze zu vergrößern, die
durch die Dicke des Gate-Oxids und die Zuverlässigkeit der Vorrichtung bestimmt
ist. Das Problem bei diesem Typ des Vorspannungsschemas ist, daß der hohe
Spannungspegel vom Standpunkt der Leistungsaufnahme sehr ineffizient
sein kann. Weil diese verstärkte
Spannung außerdem
an die Bitleitungen angelegt werden würde, ist ein großer Betrag
des Versorgungsstroms notwendig, um die SRAM-Matrix zu betreiben,
wobei er Schwierigkeiten beim Erzeugen der verstärkten Leistung aufwirft.
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Eine weitere herkömmliche Lösung, um die Lese- und Schreiboperation
zu beschleunigen, bestand darin, die Wortleitungsspannung über die
Bitleitungs- und Matrix-Versorgung zu verstärken. Dieser Zugang besitzt
jedoch den Nachteil der Verringerung der statische Rauschschwelle
und folglich der Stabilität
der Zelle.
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Eine weitere herkömmliche Lösung ist gewesen, die Bitleitungsspannung
zu verringern, damit sie niedriger als die Versorgungsspannung ist.
Dieses Verfahren kann abermals Leistung sparen oder nicht, abhängig vom
Bitleitungs-Spannungspegel und wie er verringert wird.
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US
5 668 770 , auf dem der Oberbegriff des Anspruchs 1 basiert,
offenbart eine statische RAM-Matrix, die eine Leistungsversorgung
besitzt, die die Vorladungsspannung bereitstellt, die an die Bitleitungen
angelegt wird. Diese Leistungsversorgung wird verstärkt, um
die Spannung bereitzustellen, die die Zellen der Matrix speist.
Es sind außerdem
verstärkte
Wortleitungsspannungen offenbart.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Aus dem Vorangehenden wird deutlich,
daß sich
ein Bedarf an einer Matrix aus Speicherzellen mit einer vergrößerten statischen
Rauschschwelle ohne verringerte Lese- und Schreibfähigkeiten,
wobei gleichzeitig eine niedrige Leistungsaufnahme aufrechterhalten
wird, ergeben hat. Die vorliegende Anmeldung offenbart eine Vorrichtung
und ein Verfahren für
eine statische Speichermatrix mit wahlfreiem Zugriff die im Wesentlichen
die Nachteile und die Probleme beseitigen oder verringern, die den
herkömmlichen
Konstruktionen und Operationen von SRAM-Matrizen eigentümlich sind.
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Die vorliegende Erfindung schafft
eine statische Speichermatrix mit wahlfreiem Zugriff, wie sie in
Anspruch 1 angegeben ist.
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Die vorliegende Erfindung schafft
außerdem
ein Verfahren zum Betreiben einer statischen Speichermatrix mit
wahlfreiem Zugriff, wie es im Anspruch 4 angegeben ist.
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Die Vorrichtung und das Verfahren
der vorliegenden Anmeldung vergrößern die
Geschwindigkeit und die Stabilität
von Speicherzellen in einer Matrix, ohne die Leistung signifikant
zu vergrößern, die
erforderlich ist, um die Zellen zu betreiben.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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Für
ein vollständigeres
Verständnis
der vorliegenden Erfindung und ihrer Vorteile wird nun auf die folgende
Beschreibung, die in Verbindung mit der beigefügten Zeichnung, in der gleiche
Bezugszeichen gleiche Teile repräsentieren,
gegeben wird, Bezug genommen, worin:
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1 eine
schematische graphische Darstellung einer statischen Speicherzelle
mit wahlfreiem Zugriff mit sechs Transistoren veranschaulicht; und
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2 ein
Blockschaltplan ist, der eine statische Speichermatrix mit wahlfreiem
Zugriff veranschaulicht.
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AUSFÜHRLICHE
BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
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Die bevorzugte Ausführungsform
der vorliegenden Erfindungen und ihre Vorteile werden am besten verstanden,
indem nun ausführlicher
auf die 1 und 2 der Zeichnung Bezug genommen
wird, in der gleiche Bezugszeichen gleiche Teile bezeichnen. Die 1 und 2 veranschaulichen eine statische Speichermatrix
mit wahlfreiem Zugriff gemäß einer
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung.
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1 eine
vereinfachte schematische graphische Darstellung einer SRAM-Speicherzelle 10 mit
niedriger Leistung und niedriger Spannung mit sechs Transistoren.
Die SRAM-Speicherzelle 10 mit niedriger Leistung und niedriger
Spannung enthält
einen ersten Inverter 12, der einen ersten Pull-Up-Transistor 22 zwischen einem
hohen Ende der Matrixspannung VDD, Knoten 50,
und einem ersten Inverter-Ausgangsknoten 16 besitzt. Der
erste Inverter 12 besitzt außerdem einen ersten Pull-Down-Transistor 20,
der zwischen den Ausgangsknoten 16 und eine Massespannung
VSS, Knoten 52, geschaltet ist.
Die SRAM-Zelle 10 enthält
außerdem
einen zweiten Inverter 14, der einen zweiten Pull-Up-Transistor 26 und
einen zweiten Pull-Down-Transistor 24 besitzt. Der zweite
Pull-Up-Transistor 26 ist zwischen den VDD-Knoten 50 und
den Ausgangsknoten 18 des zweiten Inverters 14 geschaltet.
Ein zweiter Pull-Down-Transistor 24 ist zwischen den Ausgangsknoten 18 und
den VSS-Knoten 52 geschaltet. Die
Inverter 12 und 14 sind kreuzgekoppelt, d. h.,
der Ausgangsknoten 16 des ersten Inverters 12 ist
mit einem Eingangsknoten 19 des zweiten Inverters 14 verbunden,
während
der Ausgangsknoten 18 des zweiten Inverters 14 mit
einem Eingangsknoten 17 des ersten Inverters 12 verbunden
ist. Ein erster Zugriffstransistor 32 ist zwischen den
Ausgangsknoten 16 des ersten Inverters 12 und
einem ersten Bitleitungsbus ("Bitleitungs"-Bus) 40 geschaltet.
Die Zelle enthält
außerdem
einen zweiten Zugriffstransistor 30, der zwischen den Ausgangsknoten 18 des
zweiten Inverters 14 und einen zweiten Bitleitungsbus ("Bitleitungsschienen"-Bus) 42 gekoppelt
ist. Die Gates des ersten Zugriffstransistors 32 und des
zweiten Zugriffstransistors 30 sind mit dem Wortleitungsbus 43 verbunden.
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Typischerweise wird das Signal für den Wortleitungsbus 43 von
der X-Adresse oder
der Zeilenauswahl abgeleitet, während
das Signal für
die Bitleitungsbusse 40 und 42 von der Y-Adresse
oder der Spaltenauswahl abgeleitet wird. Die Bitleitungsbusse verlaufen
senkrecht zum Wortleitungsbus 43. Das heißt, wenn
der Wortleitungsbus 43 in der X-Richtung verläuft, verlaufen
die Bitleitungsbusse 40 und 42 in der Y-Richtung.
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In 2 ist
eine statische Speichermatrix mit wahlfreiem Zugriff 200 mit
Leistungsversorgungen und einem Vorspannungsschema offenbart. Die
SRAM-Matrix 200 besitzt
eine Stromversorgung 202, die eine externe Stromquelle
sein kann oder On-Chip abgeleitet werden kann. Die Stromversorgung 202 erzeugt
eine Versorgungsspannung Vnom die an die
Matrix-Spannungsverstärkungsschaltung 204 angelegt
ist. Die Matrix-Spannungsverstärkungsschaltung 204 verstärkt die
Matrixspannung VDD, die an die Speicherzellen
angelegt ist, wie in 1 offenbart
ist.
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Die Stromversorgung 202 liefert
außerdem
die Versorgungsspannung Vnom an den Spaltendecodierer und
die Bitleitungstreiber 210. Der Spaltendecodierer 210 empfängt während der
Lese- und Schreiboperationen eine Spaltenadresse, die mit dem Y-Wert
in einer 2-dimensionalen Adressierungsmatrix korreliert ist, die in
der bevorzugten Ausführungsform
verwendet wird.
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Die Stromversorgung 202 ist
außerdem
mit der Wortleitungs-Spannungsverstärkungsschaltung 212 verbunden.
Die Wortleitungs-Versorgungsspannung VWL ist
das Ergebnis der verstärkten
Vnom Die Wortleitungs-Spannungsverstärkungsschaltung 212 liefert
die VWL-Spannungsquelle an den Zeilendecodierer
und die Wortleitungs-Treiberschaltung 216. Der Zeilendecodierer 216 kann
mit anderen Spannungsquellen versorgt werden, z. B. Vnom um
seine Leistung und seine Leistungsaufnahme zu optimieren. Der Zeilendecodierer 216 empfängt während der
Lese- und Schreiboperationen die Zeilenadressenbefehle. Diese Operationen
dienen dazu, den X-Wert in einer 2-dimensionalen Adressierungsmatrix
in der bevorzugten Ausführungsform
anzugeben. Wenn die Wortleitung 43 aktiviert ist, kann
die Wortleitungsspannung VWL folglich größer als
die Versorgungsspannung Vnom sein. Der Spaltendecodierer 210 und
der Zeilendecodierer 216 können ein Steuersignal empfangen.
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In einer Ausführungsform wird eine externe
Leistungsversorgungsspannung Vnom als die
Leistungsversorgung für
die Bitleitungs-Vorspannungsschaltungsanordnung verwendet. Folglich
liegt der Spannungsbereich der Bitleitungen zwischen Vss und
Vnom Die Matrix-Versorgungsspannung VDD wird abgeleitet, indem die externe Versorgungsspannung
unter Verwendung bekannter Techniken verstärkt wird. Ähnlich wird die Wortleitungsspannung
Vw1 außerdem
abgeleitet, indem die externe Versorgungsspannung verstärkt wird,
so daß die
Wortleitungen zwischen Vss, wenn sie nicht
aktiv sind, und Vw1, wenn sie aktiv sind,
umgeschaltet werden. In vielen Anwendungen kann es vorteilhaft sein,
nur eine Spannungsverstärkungsschaltung
zu besitzen, so daß Vw1 und VDD gleich
sind.
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Abhängig von den in einer Zelle
gespeicherten Daten (1 bis 0) kann sich, wenn die Wortleitung 43 nicht aktiv
ist, irgendein Inverter-Ausgangsknoten 16 und 18 auf
einer tiefen Spannung (nahe bei Vss) befinden,
während
sich der andere auf einer hohen Spannung (nahe bei VDD)
befindet. Der Strom, der von der Matrix-Versorgungsspannung VDD fließt, ist
durch die Aus-Leckströme
von einem der Pull-Up-Transistoren 22 und 28 und einem
der Pull-Down-Transistoren 20 oder 24 bestimmt,
abhängig
vom gespeicherten Zustand (1 oder 0). In Hochleistungs-SRAMs ist dieser
Leckverlust im Aus-Zustand typischerweise durch den unterhalb der
Schwelle liegenden Leckstrom der Transistoren bestimmt. Der Beitrag
von den Übergangs-Leckverlusten
ist viel kleiner und wird ignoriert. Die Transistoren 20, 22, 24 und 26 tragen
außerdem
zum Matrix-Versorgungsstrom bei, weil die Bitleitungsspannung kleiner
als die Ausgangspannung von einem der Inverter ist, die sich auf
VDD befindet. Diese unterhalb der Schwelle
liegenden Leckströme
im Aus-Zustand für
die Zugriffstransistoren 30 und 32, die Pull-Down-Transistoren 20 und 24 und
die Pull-Up-Transistoren 22 und 26 tragen zum
Matrix-Bereitschaftsstrom bei.
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Während
einer Leseoperation werden die Bitleitung 40 und die Bitleitung 42 auf
Vnom vorgeladen, bevor die Wortleitung 43 aktiviert
wird. Die Wortleitung 43 wird aktiviert, indem die Spannung
Vw1 an die Wortleitung 43 angelegt
wird. Diese Aktivierung führt
zu einem großen
Strom, der durch einen ersten Zugriffstransistor, entweder 30 oder 32,
fließt,
der die Spannung der angeschlossenen Bitleitung herunterzieht. Der
Strom durch den zweiten Zugriffstransistor ist durch seine Eigenschaften
bestimmt, wie z. B. die Schwellenspannung, den Ansteuerstrom, die
unterhalb der Schwelle liegenden Leckverlust-Eigenschaften, die
Vorspannungsbedingungen usw. Der Drain für den zweiten Zugriffstransistor
befindet sich auf VDD, wobei sich die Source
auf Vnom und das Gate auf Vw1 befindet.
Der Nettostrom durch den zweiten Zugriffstransistor wird durch die
verstärkte
Matrixversorgung VDD durch die p-Kanal-Pull-Up-Transistoren 22 oder 26 geliefert,
wobei er minimiert wird, um die Leistungsaufnahme zu verringern.
Und diese Leistung zu minimieren, wird die Differenz zwischen Vw1 und Vnom unter der Schwellenspannung der
Zugriffstransistoren 30 und 32 gehalten. Da die
Source (die Bitleitung) auf der Spannung Vnom liegt,
kann die Schwellenspannung ihre Sperrvorspannungs-Körperwirkung
enthalten.
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Typischerweise sind während einer
Schreiboperation entweder die Bitleitung 40 oder die Bitleitungsschiene 42 auf
VSS verringert, wobei sich die andere auf
Vnom befindet. Die Wortleitung 43 wird
durch das Anlegen der Spannung Vw1 aktiviert.
Die Wortleitung 43 kippt den gespeicherten Zustand der
Zelle um, wenn sie von den Zustand verschieden ist, der in sie geschrieben
wird. Während
der Periode, die die Zelle zum Umkippen benötigt, kann ein signifikanter
Strom von der Matrix-Versorgungsspannung VDD zur
Bitleitung 40 oder zur Bitleitungsschiene 42 fließen, die
tief gezogen worden ist. Je größer die
Spannungen Vw1 und VDD sind,
desto größer ist
der Spitzenstrom. Weil der Umkippprozess innerhalb weniger Zehntel
einer Pikosekunde vorbei ist, kann der mittlere Strom durch die
Matrixversorgung minimal sein. Nachdem die Zelle das Umkippen abgeschlossen
hat, so daß sich
ein Inverter-Ausgangsknoten auf VSS befindet,
während
sich der andere Inverter-Ausgangsknoten auf VDD befindet,
ist der Strom durch einen ersten Zugriffstransistor, entweder 30
oder 32, der an die tief gezogene Bitleitung angeschlossen ist,
vernachlässigbar.
Der Strom durch den zweiten Zugriffstransistor ist ähnlich,
wie oben beim Lesezyklus erörtert
worden ist, mit dem Vorspannungszustand der Source auf Vnom, dem Drain auf VDD und
dem Gate auf Vw1. Dieser Strom kann minimiert
werden, indem die Differenz zwischen Vw1 und
Vnom unter der Schwellenspannung des zweiten
Zugriffstransistors gehalten wird.
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Weil die Schwellenspannung für eine SRAM-Zelle
etwa 0,4 bis 0,5 V für
einen Knoten in der 1,8-V-0,25-μm-Technologie
beträgt,
kann eine signifikante Leistungsverbesserung erhalten werden, in
dem die Wortleitungsspannung und die Matrix-Versorgungsspannung
vergrößert werden,
wie in der folgenden Tabelle veranschaulicht ist.
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Die folgende Tabelle stellt die simulierten
Ergebnisse unter Verwendung von SPICE (Simulationsprogramm mit der
Betonung integrierter Schaltungen) dar. Der Strom Idd der
Matrix-Versorgungsspannung fließt, wenn
während
der Lese- und Schreibzyklen
die Wortleitung 43 aktiviert ist. Der Strom, der fließt, wenn
die Zelle während
des Schreibzyklus umkippt, wird ignoriert. Die Tabelle zeigt außerdem den
Zellenlesestrom (Iread), die Schreibauslösespannung (Vtrip) und die
statische Rauschschwelle (SNM) für
den Fall Vnom – VDD =
Vw1 = 1,0 V und für Vnom =
1,0 V, VDD = 1,8 V und Vw1 =
1,5 V. Die Transistorbreiten und -längen betrugen 0,40/0,27, 0,55/0,24,
0,36/0,24 (μm/μm) für die Zugriffs-,
Pull-Downbzw. Pull-Up-Transistoren.
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Die Ergebnisse zeigen eine signifikante
Verbesserung in den Zelleneigenschaften an, während Idd auf einem niedrigen
Wert gehalten wird. Der Zellenlesestrom Iread hat sich von 27,5 μA auf 94 μA vergrößert. Die Schreibauslösespannung
Vtrip hat sich außerdem
von 0,26 V auf 0,38 V vergrößert, während sich
die SNM von 220 mV auf 380 mV vergrößert hat. Der Idd pro Zelle
durch die Matrixversorgung hat sich bei höheren Vw1- und
VDD-Werten während eines Lesezyklus von
206 pA auf 15 nA und während
eines Schreibzyklus von 311 pA auf 15 nA vergrößert. Für eine Matrix mit 256 Zellen
an jeder Wortleitung führt
bei einer 50%-Aktivierung ein Strom von 15 nA pro Zelle zu einem
Matrix-Versorgungsstrom von etwa 2 μA, der von einer typischen Spannungsverstärkungsschaltung
leicht gehandhabt wird. Außerdem
verringert die Vergrößerung der
Matrix-Versorgungsspannung die Raten der vorübergehenden Fehler der Zellen.
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Es können verschiedenen Spannungsverstärkungstechniken
verwendet werden, um die Spannung zu verstärken. Eine ist eine Ladungspumpenschaltung.
Die Spannungsverstärkungsschaltungen
können
sich auf dem gleichen Chip wie der SRAM befinden oder sie können sich
außerhalb
des Chips befinden.
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In einer weiteren Ausführungsform
kann die Matrix-Versorgungsspannung VDD gleich
der Wortleitungsspannung VWL sein. Diese
Ausführungsform
kann die Anzahl der verstärkten
Versorgungen verringern, die notwendig sind, um die Matrix 200 zu
betreiben. Ferner können
in einer Bereitschaftsbetriebsart, wenn die Daten weder aus der
Matrix 200 gelesen werden noch in die Matrix 200 geschrieben
werden, die Matrix-Versorgungsspannung VDD und
die Wortleitungsspannung VWL die gleiche
wie die Versorgungsspannung Vnom sein, indem die Spannungsverstärkungs-Schaltungsanordnung
ausgeschaltet wird, z. B. die Matrix-Spannungsverstärkungsschaltung 204 und
die Wortleitungs-Spannungsverstärkungsschaltung 212.
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Folglich ist es offensichtlich, daß gemäß der vorliegenden
Erfindung eine statische Speicherzellenmatrix mit wahlfreiem Zugriff
mit niedriger Spannung und niedriger Leistung geschaffen worden
ist, die die oben dargelegten Vorteile erfüllt. Obwohl die vorliegende
Erfindung ausführlich
beschrieben worden ist, sollte es selbst verständlich sein, das verschiedenen Änderungen,
Ersetzungen und Umgestaltungen an ihr vorgenommen werden können. Obwohl
z. B. alle direkten Verbindungen zwischen Übergängen gezeigt sind, können diese
Transistoren durch eines oder mehrere dazwischenliegende Bauelemente,
wie z. B. Widerstände,
Kondensatoren und/oder Induktoren aneinander gekoppelt sein, während trotzdem
eine im Wesentlichen ähnliche
Betriebsfähigkeit
geschaffen wird. Andere Beispiele sind für einen Fachmann auf dem Gebiet
leicht feststellbar.