DE19963417A1 - Nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher - Google Patents
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Abstract
Es wird ein nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher angegeben, der verbesserte Betriebseigenschaften und verlängerte Lebensdauer zeigt. Dieser Speicher ist mit Folgendem versehen: DOLLAR A - einem Hauptzellenarray mit einer Anzahl von Unterzellenarrays (61_1, 61_2, ...), einer Anzahl globaler Hauptbitleitungen (BLG_n, BLG_n+1, ...), die über die Unterzellenarrays hinweg angeordnet sind, und mindestens einem Paar globaler Bezugsbitleitungen, lokalen Hauptbitleitungen und lokalen Bezugsbitleitungen, die entsprechend den globalen Hauptbitleitungen und den globalen Bezugsbitleitungen ausgebildet sind, und mit Schaltern zwischen lokalen Bitleitungen und einer relevanten globalen Bitleitung; DOLLAR A - einer Bezugsbitleitungssteuerung mit einem über oder unter dem Hauptzellenarray ausgebildeten Bezugsleseverstärker zum Erfassen eines Signals, das über eine Bitleitung eines Paars globaler Bezugsbitleitungen geliefert wird, um eine Bezugsspannung zu erzeugen; DOLLAR A - einer Hauptbitleitungssteuerung mit einer Anzahl von Hauptleseverstärkern, die auf einer Seite der Bezugsbitleitungssteuerung ausgebildet sind und mit den globelan Hauptbitleitungen verbunden sind, um jeweils die Bezugsspannung zu empfangen und sie über eine relevante globale Bitleitung weiterzuleiten; DOLLAR A - einem Wortleitungstreiber, der auf einer Seite des Hauptzellenarrays ausgebildet ist, um ein Ansteuerungssignal zum Auswählen einer Zelle zu liefern; und DOLLAR A - einem Plattenleitungstreiber, der auf der anderen Seite des ...
Description
Die Erfindung betrifft Halbleiterspeicher, spezieller einen
nichtflüchtigen ferroelektrischen Speicher.
Ferroelektrischen Speichern (FRAM Ferroelectric Random
Access Memory = ferroelektrischer Direktzugriffsspeicher)
wird als Speicher der nächsten Generation, die im Wesentli
chen eine Datenverarbeitungsgeschwindigkeit ähnlich derjeni
gen von DRAMs (Dynamic Random Access Memory = dynamischer
Direktzugriffsspeicher) aufweisen, wie sie derzeit in weitem
Umfang als Halbleiterspeicher verwendet werden, große Auf
merksamkeit geschenkt, da sie Daten auch dann aufrechterhal
ten können, wenn die Energie abgeschaltet ist. Ein FRAM, der
eine Struktur ähnlich wie ein DRAM aufweist, verfügt über
einen Kondensator mit ferroelektrischem Material zum Ausnut
zen der hohen Restpolarisation des ferroelektrischen Mate
rials. Diese Restpolarisation ermöglicht das Aufrechterhal
en der Daten selbst nach dem Wegnehmen eines elektrischen
Felds.
Fig. 1 zeigt die charakteristische Hystereseschleife eines
üblichen ferroelektrischen Materials.
Aus Fig. 1 ist es erkennbar, dass eine durch ein elektri
sches Feld induzierte Polarisation selbst dann nicht verlo
ren geht, sondern ein bestimmter Wert (Zustände d und a) ver
bleibt, wenn das elektrische Feld weggenommen wird, was auf
dem Vorliegen der Restpolarisation (oder spontanen Polarisa
tion) beruht. Die Zustände d und a entsprechen den Zuständen
1 bzw. 0 bei Speicheranwendungen.
Nun wird ein einschlägiger nichtflüchtiger ferroelektrischer
Speicher unter Bezugnahme auf die beigefügte Fig. 2 erläu
tert, die ein System eines derartigen Speichers mit zwei
Einheitszellen veranschaulicht.
Gemäß Fig. 2 ist dieses System eines einschlägigen nicht-
flüchtigen Speichers mit zwei Einheitszellen mit einer in
einer Richtung ausgebildeten Wortleitung W/L, einer Platten
wortleitung P/L (nachfolgend als "Plattenleitung" bezeich
net), die parallel zur Wortleitung W/L ausgebildet ist,
einer Anzahl von Bitleitungen (. . . , Bit_n, Bit_n+1, . . .),
die so ausgebildet sind, dass sie die Wortleitung W/L und
die Plattenleitung P/L schneiden, und Einheitszellen C111,
C121, . . ., die jeweils zwischen den Bitleitungen, der Wort
leitung W/L und der Plattenleitung P/L ausgebildet sind,
versehen. Dabei ist eine Einheitszelle mit einem Transistor
T1 und einem ferroelektrischen Kondensator FC1 versehen.
Nun wird unter Bezugnahme auf die Fig. 3a und 3b eine
Schaltung zum Ansteuern dieses einschlägigen ferroelektri
schen Speichers beschrieben.
Diese Schaltung für einen Speicher mit 1T/1C-Struktur ist
mit Folgendem versehen: Einem Bezugsspannungsgenerator 1 zum
Erzeugen einer Bezugsspannung, einem Bezugsspannungsstabili
sator 2 mit mehreren Transistoren Q1-Q4 und einem Kondensa
tor C1 zum Stabilisieren von Bezugsspannungen auf zwei be
nachbarten Bitleitungen; einem ersten Bezugsspannungsspei
cher 3 mit mehreren Transistoren Q6 und Q7 sowie Kondensato
ren C2 und C3 zum jeweiligen Einspeichern der logischen Wer
te 1 und 0 auf benachbarten Bitleitungen; einem ersten Aus
gleicher 4 mit einem Transistor Q5 zum Ausgleichen des Po
tenzials zweier benachbarter Bitleitungen; einem ersten
Hauptzellenarray 5, das mit Wortleitungen und Plattenleitun
gen, die voneinander verschieden sind, verbunden ist, um
Daten zu speichern; einem ersten Leseverstärker 6 mit mehre
ren Transistoren Q10-Q15, einem P-Leseverstärker PSA zum Er
fassen von Zellen, die durch die Wortleitung unter der An
zahl von Zellen im ersten Hauptzellenarray 5 ausgewählt wur
den; einem zweiten Wortzellenarray 7, das mit Wortleitungen
und Plattenleitungen, die voneinander verschieden sind, zur
Speicherung von Daten verbunden ist; einem zweiten Bezugs
spannungsspeicher 8 mit mehreren Transistoren Q28 und Q29
sowie Kondensatoren C9 und C10 zum Speichern von Bezugsspan
nungen mit logischen Werten 1 und 0 auf benachbarten Bitlei
tungen; und einem zweiten Leseverstärker 9 mit mehreren
Transistoren Q16-Q25 sowie einem N-Leseverstärker NSA zum
Erfassen und Weiterleiten von Daten im zweiten Hauptzellen
array 7.
Nun wird der Daten-Eingabe/Ausgabe-Betrieb bei diesem ferro
elektrischen Speicher unter Bezugnahme auf die Fig. 4 und
5 erläutert, wobei Fig. 4 ein zeitbezogenes Diagramm für den
Schreibmodusbetrieb des Speichers und Fig. 5 ein entspre
chendes Diagramm für den Lesemodusbetrieb zeigt.
Der Schreibmodus wird gestartet, wenn ein externes Chipakti
vierungssignal CSBpad von hoch auf niedrig aktiviert wird
und ein Schreibaktivierungssignal WEBpad gleichzeitig von
hoch auf niedrig überführt wird. Wenn im Schreibmodus ein
Adressendecodiervorgang gestartet wird, wird ein an eine re
levante Wortleitung angelegter Impuls von niedrig auf hoch
überführt, um eine Zelle auszuwählen. So wird in einem In
tervall, in dem die Wortleitung auf hoch gehalten wird, eine
relevante Plattenleitung für ein Intervall auf hoch gehal
ten, während sie im folgenden Intervall auf niedrig gehalten
wird. Um den logischen Wert 1 oder 0 in die ausgewählte Zel
le einzuschreiben, wird an die relevante Bitleitung ein ho
hes oder niedriges Signal angelegt, das mit dem Schreibakti
vierungssignal WEGpad synchronisiert ist. D. h., dass dann,
wenn ein hohes Signal an die Bitleitung angelegt wird und im
Intervall, in dem das an die Wortleitung angelegte Signal
hoch ist, ein niedriges Signal an die Plattenleitung ange
legt wird, der logische Wert 1 in den ferroelektrischen Kon
densator eingeschrieben wird. Wenn ein niedriges Signal an
die Bitleitung angelegt wird und ein hohes Signal an die
Plattenleitung angelegt wird, wird der logische Wert 0 in
den Kondensator eingeschrieben.
Nun wird der Vorgang zum Lesen eines Datenwerts, wie er
durch den o. g. Schreibmodusbetrieb in die Zelle eingespei
chert wurde erläutert.
Wenn das Chipaktivierungssignal CSBpad extern von hoch auf
niedrig aktiviert wird, werden alle Bitleitungen auf eine
niedrige Spannung ausgeglichen, bevor die relevante Wortlei
tung ausgewählt wird. D. h., dass, gemäß den Fig. 3a und
3b, dann, wenn ein hohes Signal an den Ausgleicher 4 ange
legt wird und ein hohes Signal an die Transistoren Q18 und
Q19 angelegt wird, die Bitleitungen auf eine niedrige Span
nung Vss ausgeglichen werden, da die Bitleitungen über den
Transistor Q19 geerdet werden. Außerdem werden die Transis
toren Q5, Q18 und Q19 ausgeschaltet, um die Bitleitungen zu
deaktivieren, eine Adresse wird decodiert, und diese deco
dierte Adresse sorgt für einen Übergang eines niedrigen Sig
nals auf der relevanten Wortleitung auf ein hohes Signal,
um die relevante Zelle auszuwählen. An die Plattenleitung
der ausgewählten Zelle wird ein hohes Signal gelegt, um den
Datenwert zu erfassen, der dem in den Speicher eingespei
cherten logischen Wert 1 entspricht. Wenn der logische Wert
0 gespeichert ist, wird kein diesem Wert entsprechender lo
gischer Wert 0 erfasst. Der erfasste Datenwert und der
nichterfasste Datenwert sorgen entsprechend der o. g. Hyste
reseschleife für verschiedene Werte, so dass der Lesever
stärker den logischen Wert 1 oder 0 erfasst. Der Fall des
erfassten Datenwerts ist derjenige, in dem der Wert von d
auf f in der Hystereseschleife der Fig. 1 wechselt, während
der Fall des nichterfassten Datenwerts derjenige ist, bei
dem der Wert von a auf f in dieser Hystereseschleife wech
selt. Daher wird dann, wenn der Leseverstärker aktiviert
wird, nachdem eine bestimmte Zeitperiode verstrichen ist, im
Fall des erfassten Datenwerts der logische Wert 1 nach der
Verstärkung geliefert, während im Fall ohne Erfassung eines
Datenwerts der logische Wert 0 geliefert wird. Nachdem dem
Leseverstärker auf diese Weise einen Datenwert geliefert
wird, wird, um den ursprünglichen Datenwert wieder herzu
stellen, die Plattenleitung in einem Zustand, in dem ein
hohes Signal an die relevante Wortleitung angelegt wird, von
hoch auf niedrig deaktiviert. Beim bekannten ferroelektri
schen Speicher mit 1T/1C-Struktur benötigen Daten-Eingabe/Aus
gabe-Operationen vielmehr Zugriffe auf eine Bezugszelle
als Zugriffe auf eine Hauptzelle.
Beim o. g. bekannten ferroelektrischen Speicher besteht das
Problem, dass einige hundert mal mehr auf eine Bezugszelle
als auf eine Hauptzelle zugegriffen wird, wobei die ferro
elektrischen Eigenschaften derzeit nicht dauerhaft gewähr
leistet sind, wodurch es zu einer schnellen Beeinträchtigung
von Bezugszellen kommt, was zu einer instabilen Spannung,
beeinträchtigten Betriebseigenschaften und kurzer Lebens
dauer führt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen nichtflüch
tigen ferroelektrischen Speicher mit verbesserten Betriebs
eigenschaften und verlängerter Lebensdauer zu schaffen.
Diese Aufgabe ist durch die nichtflüchtigen ferroelektri
schen Speicher gemäß den beigefügten unabhängigen Ansprüchen
1 und 21 gelöst.
Zusätzliche Merkmale und Aufgaben der Erfindung werden in
der folgenden Beschreibung dargelegt und gehen teilweise aus
dieser hervor, ergeben sich aber andererseits auch beim Aus
üben der Erfindung. Die Aufgaben und andere Vorteile der Er
findung werden durch die Maßnahmen erzielt, wie sie speziell
in der Beschreibung, den Ansprüchen und den beigefügten
Zeichnungen dargelegt sind.
Es ist zu beachten, dass sowohl die vorstehende allgemeine
Beschreibung als auch die folgende detaillierte Beschreibung
beispielhaft und erläuternd für die beanspruchte Erfindung
sind.
Die Zeichnungen, die beigefügt sind, um das Verständnis der
Erfindung zu fördern, veranschaulichen Ausführungsbeispiele
der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu,
deren Prinzipien zu erläutern.
Fig. 1 zeigt eine charakteristische Hystereseschleife eines
üblichen ferroelektrischen Materials;
Fig. 2 veranschaulicht das System eines bekannten nicht-
flüchtigen ferroelektrischen Speichers;
Fig. 3a und 3b veranschaulichen eine Schaltung zum Ansteuern
des bekannten ferroelektrischen Speichers;
Fig. 4 zeigt ein zeitbezogenes Diagramm für den Schreibmo
dusbetrieb des bekannten Speichers;
Fig. 5 zeigt ein zeitbezogenes Diagramm für den Lesemodusbe
trieb des bekannten Speichers;
Fig. 6 zeigt das System eines Zellenarrays eines nichtflüch
tigen ferroelektrischen Speichers gemäß einem ersten bevor
zugten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 7 zeigt ein Blockdiagramm eines Zellenarrays, wenn das
Zellenarraysystem gemäß Fig. 6 wiederholt vorhanden ist;
Fig. 8 zeigt ein System eines Hauptzellenarrays mit mehreren
Unterzellenarrays;
Fig. 9 zeigt ein System für das Hauptzellenarray in Fig. 6;
Fig. 10 zeigt ein detailliertes System für das Hauptzellen
array in Fig. 6;
Fig. 11 zeigt ein vergrößerte Ansicht des Teils A in Fig.
10;
Fig. 12 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms in Fig. 6,
mit Konzentration auf ein Hauptzellenarray, eine Hauptbit
leitungssteuerung und eine Bezugsbitleitungssteuerung;
Fig. 13 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms von Fig. 6,
mit Konzentration auf eine Hauptbitleitungssteuerung und
eine Bezugsbitleitungssteuerung;
Fig. 14 zeigt eine Einzelheit einer Bitleitungs-Vorablade
schaltung gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der Erfindung;
Fig. 15a zeigt eine Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrich
tung gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
Erfindung;
Fig. 15b zeigt eine Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrich
tung gemäß einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
Erfindung;
Fig. 15c zeigt eine Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrich
tung gemäß einem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
Erfindung;
Fig. 16a zeigt ein schematisches Blockdiagramm des Systems
eines Bezugsleseverstärkers bei der Erfindung;
Fig. 16b zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel des Systems
eines Bezugsleseverstärkers bei der Erfindung als Blockdia
gramm;
Fig. 17a zeigt eine Pegelschiebeeinrichtung gemäß einem ers
ten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 17b zeigt eine Pegelschiebeeinrichtung gemäß einem
zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 18 zeigt eine Einzelheit eines ersten Ausführungsbei
spiels eines Leseverstärkers für ein erstes Ausführungsbei
spiel eines erfindungsgemäßen nichtflüchtigen ferroelektri
schen Speichers;
Fig. 19 zeigt eine Einzelheit eines zweiten Ausführungsbei
spiels eines Leseverstärkers für das erste Ausführungsbei
spiel eines nichtflüchtigen ferroelektrischen Speichers ge
mäß der Erfindung;
Fig. 20 zeigt ein Betriebszeitdiagramm für den Leseverstär
ker in Fig. 18;
Fig. 21 zeigt ein Betriebszeitdiagramm für den Lesemodus des
Leseverstärkers in Fig. 18;
Fig. 22 zeigt ein Betriebszeitdiagramm für den Schreibmodus
des Leseverstärkers in Fig. 18;
Fig. 23a zeigt ein Betriebszeitdiagramm für den Leseverstär
ker in Fig. 19;
Fig. 23b vergleicht im Leseverstärker der Fig. 19 verwendete
Signale mit einem in der Pegelschiebeeinrichtung in Fig. 17b
verwendeten Signal REFCON;
Fig. 24 zeigt ein Zellenarraysystem bei einem nichtflüchti
gen ferroelektrischen Speicher gemäß einem zweiten bevorzug
ten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
Fig. 25 zeigt eine Einzelheit des Systems in Fig. 24, mit
Konzentration auf ein Hauptzellenarray;
Fig. 26 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms in Fig. 24,
mit Konzentration auf eine erste Hauptbitleitungssteuerung
und eine erste Bezugsbitleitungssteuerung; und
Fig. 27 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms in Fig. 24,
mit Konzentration auf eine zweite Hauptleitungssteuerung und
eine zweite Bezugsbitleitungssteuerung.
Nun wird im Einzelnen auf bevorzugte Ausführungsbeispiele
der Erfindung Bezug genommen, wie sie durch die beigefügten
Zeichnungen veranschaulicht sind.
Gemäß Fig. 6 weist ein Zellenarray eines nichtflüchtigen
ferroelektrischen Speichers gemäß dem ersten bevorzugten
Ausführungsbeispiel der Erfindung Folgendes auf: Ein Haupt
zellenarray 61; einen Wortleitungstreiber 63 auf einer Seite
des Hauptzellenarrays 61; einen Plattenleitungstreiber 65
auf der anderen Seite des Hauptzellenarrays 61; eine Haupt
bitleitungssteuerung 67 unter dem Hauptzellenarray 61 und
eine Bezugsbitleitungssteuerung 68 auf der anderen Seite der
Hauptbitleitungssteuerung 67. Das Hauptzellenarray 61 ver
fügt über eine Anzahl von Zellenarrays.
Eine Wiederholung des Systems in Fig. 6 erzeugt ein System,
wie es in Fig. 7 dargestellt ist.
Fig. 8 veranschaulicht ein Hauptzellenarraysystem gemäß der
Erfindung im Einzelnen, das, wie bereits erläutert, über
eine Anzahl von Zellenarrays (nachfolgend als "Unterzellen
arrays" bezeichnet) verfügt. So beinhaltet das Hauptzellen
array Unterzellenarrays 61_1, 61_2, 61_3, . . . 61_n, wobei
keine zwei Unterzellen gleichzeitig aktiviert werden.
Fig. 9 zeigt eine Einzelheit des in Fig. 8 dargestellten
Systems. Gemäß Fig. 9 sind mehrere globale Bitleitungen
BLG_n, BLG_n+1, . . . über die Unterzellenarrays 61_1, 61_2,
. . . hinweg vorhanden. Außerdem sind lokale Bitleitungen
BLL1_n, BLL2_n, . . ., BLLn_n entsprechend den globalen Bit
leitungen BLG_n, BLG_n+1, . . . in jedem der Unterzellenarrays
61_1, 61_2, . . . vorhanden. D. h., dass zwischen jeder lokalen
Bitleitung und globalen Bitleitung Schalter (SW11, SW12,
. . ., SW1n) (SW21, SW22, . . ., SW2n)(SW31, SW32, . . ., SW3n)
vorhanden sind, um für eine elektrische Verbindung einer
lokalen Bitleitung mit einer globalen Bitleitung zu sorgen.
Fig. 10 zeigt eine Einzelheit eines Unterzellenarrays. Gemäß
dieser Fig. 10 sind Wortleitungspaare aus einer Wortleitung
W/L und einer Plattenleitung P/L wiederholt vorhanden.
Außerdem ist die Anzahl globaler Bitleitungen BLG_n,
BLG_n+1, . . . rechtwinklig zu den Paaren von Wortleitungen
W/L1, P/L1, . . ., W/Ln, P/Ln vorhanden. Mit jeder lokalen
Bitleitung rechtwinklig zu den Paaren aus einer Wortleitung
W/L und einer Plattenleitung P/L ist eine Einheitszelle
C111, C112, . . ., C11n/C121, C122, . . . C12n/C1n1, C1n2, . . .,
C1nn verbunden. Außerdem ist zwischen dem Ende der lokalen
Bitleitung und einer relevanten globalen Bitleitung ein
Schalter vorhanden, um den Datenwert aus einer Zelle zu
übertragen, die unter mehreren mit der lokalen Bitleitung
verbundenen Zelle ausgewählt wurde.
Nun wird der Prozess zum Auswählen einer Zelle im o. g. Un
terzellenarray erläutert. Wie angegeben, beinhaltet das
Hauptzellenarray eine Anzahl wiederholter Unterzellenarrays,
wie es in Fig. 10 dargestellt ist. Es wird nur ein Unterzel
lenarray der Anzahl von Unterzellenarrays aktiviert, genauer
gesagt, wird nur ein Paar aus einer Wortleitung W/L und
einer Plattenleitung P/L aktiviert. Wenn dies der Fall ist,
liefert die mit der aktivierten Wortleitung W/L und der
Plattenleitung P/L verbundene Einheitszelle über die rele
vante lokale Bitleitung ihren Datenwert an die relevante
globale Bitleitung. Die globale Bitleitung liefert den von
der lokalen Bitleitung übertragenen Zellendatenwert über
einen Schalter an die Bitleitungssteuerung (nicht darge
stellt). Die Bitleitungssteuerung verfügt über mit den glo
balen Bitleitungen jeweils verbundene Leseverstärker (nicht
dargestellt), was es ermöglicht, nur einen Datenwert von
einem Leseverstärker unter den mehreren Leseverstärkern
durch die Datenleitung nach außen zu liefern.
Fig. 11 ist eine vergrößerte Ansicht des Teils A in Fig. 10,
und es ist aus ihr erkennbar, dass eine Einheitszelle zwi
schen der Wortleitung W/L, der Plattenleitung P/L und den
lokalen Bitleitungen vorhanden ist und der Schalter zwischen
das Ende der lokalen Bitleitung und die globale Bitleitung
geschaltet ist. Die Einheitszelle verfügt über einen Tran
sistor mit einem Gate, das mit der relevanten Wortleitung
verbunden ist, und einen ferroelektrischen Kondensator, des
sen einer Anschluss mit dem Drain (oder der Source) des
Transistors verbunden ist und dessen anderer Anschluss mit
der relevanten Plattenleitung verbunden ist.
Fig. 12 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms in Fig. 16,
mit Konzentration auf das Hauptzellenarray 61, die Hauptbit
leitungssteuerung 67 und die Bezugsbitleitungssteuerung 69.
Gemäß Fig. 12 verfügt das Hauptzellenarray 61, wie bereits
erläutert, über eine Anzahl von Unterzellenarrays 61_1,
61_2, . . . Die globalen Hauptbitleitungen BLG_n, BLG_n+1,
. . . , die die Unterzellenarrays 61_1, 61_2, . . . schneiden,
sind mit einer Hauptbitleitungssteuerung 67 verbunden, wo
hingegen globale Bezugsbitleitungen BLRG_1, BLRG_2 mit der
Bezugsbitleitungssteuerung 69 verbunden sind. Die Bezugsbit
leitungssteuerung 69 verfügt über zwei globale Bezugsbitlei
tungen BLRG_1 und BLRG_2. Wie es in der Zeichnung dargestellt
ist, verfügt jedes Unterzellenarray über eine in ihr vorhan
dene lokale Hauptbitleitung entsprechen der globalen Haupt
bitleitung. Z. B. verfügt eine erste globale Hauptbitleitung
BLG-n über mehrere lokale Hauptbitleitungen BLL1-n, BLL2-n,
. . . Außerdem sind zwischen lokalen Hauptbitleitungen und
globalen Hauptbitleitungen jeweils Schalter SW11, SW21, . . .
vorhanden. Entsprechend den globalen Bezugsbitleitungen
BLRG_1, BLRG_2 sind lokale Bezugsbitleitungen BLLR1_1,
BLLR2_1, . . ./BLLR1_2, BLLR2_2, . . ./. . ./BLLR1_n, BLLR1_n vor
handen. Außerdem sind zwischen den lokalen Bezugsbitleitun
gen und den globalen Bezugsbitleitungen BLRG_1, BLRG_2
Schalter SWR11, SWR21/SWR12, SWR22/SWR1n, SWR2n, . . . vorhan
den. Daher wird ein Unterzellenarray aus den Unterzellen
arrays 61_1, 61_2, . . . ausgewählt, und die lokale Hauptbit
leitung dieses ausgewählten Unterzellenarrays wird mit der
globalen Hauptbitleitung verbunden, um dadurch einen Daten
wert zur Hauptbitleitungssteuerung 67 zu übertragen. In ent
sprechender Weise wird die lokale Bezugsbitleitung im Unter
zellenarray mit der relevanten globalen Bezugsbitleitung
verbunden, um dadurch einen Datenwert an die Bezugsbitlei
tungssteuerung 69 zu übertragen.
Gemäß Fig. 13 sind die Hauptleseverstärker SA1, SA2, . . .,
67_1, 67_2, . . . jeweils mit den globalen Hauptbitleitungen
BLG_n, BLG_n+1, . . . verbunden. Eine der zwei globalen Be
zugsbitleitungen BLRG_1, BLRG_2 ist mit einem Bezugslesever
stärker 69_1 verbunden, so dass eine Bezugsspannung CREF vom
Bezugsleseverstärker 69_1 gemeinsam an die Hauptleseverstär
ker 67_1, 67_2, gelegt wird. Zwischen benachbarten glo
balen Hauptbitleitungen BLG_n und BLG_n+1 oder BLG_n+1 und
BLG_n+2, . . . existiert eine BPC (Bitleitungs-Vorabladeschal
tung) 68_1, 68_2, . . . Zwischen der letzten globalen Haupt
bitleitung BLG_n+n und der mit dem Bezugsleseverstärker 69_1
verbundenen globalen Bezugsbitleitung BLRG_2 ist ebenfalls
eine Bitleitungs-Vorabladeschaltung 70_1 vorhanden. Außerdem
wird an die nicht mit dem Bezugsleseverstärker 69_1 verbun
dene globale Bezugsbitleitung BLRG_1 eine konstante Spannung
angelegt.
Gemäß Fig. 14 beinhaltet die Bitleitungs-Vorabladeschaltung
eine Anzahl globaler Bitleitungen BLG_n, BLG_n+1, . . .; einen
Bitleitungs-Ausgleichsschalter BQESW 71_1, 71_2, . . ., der
zwischen benachbarten globalen Bitleitungen BLG_n, BLG_n+1,
. . . vorhanden ist, und mehrere Bitleitungs-Vorabladeschalter
(BPCSW) 72_1, 72_2, . . . zum Schalten eines Signals BEQLEV
von einer Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung (nicht
dargestellt) an die globalen Bitleitungen BLG_n, BLG_n+1,
. . . Die Bitleitungs-Ausgleichsschalter 71_1, 71_2, . . . oder
die Bitleitungs-Vorabladeschalter 72_1, 72_2, . . . verfügen
über einen NMOS-Transistor. Daher ist der Pegel des von der
Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung gelieferten Si
gnals gleich groß wie oder etwas höher als die Schwellen
spannung des NMOS-Transistors. Schließlich lädt das Signal
von der Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung eine re
levante globale Bitleitung über die Bitleitungs-Vorablade
schalter 72_1, 72_2, . . . vorab auf einen Pegel. Die auf ein
Schaltersteuerungssignal hin eingeschalteten Bitleitungs-
Ausgleichsschalter 71_1, 71_2, . . . gleichen die zwei Pegel
zweier benachbarter globaler Bitleitungen auf denselben Wert
aus.
Gemäß Fig. 15a beinhaltet die Bitleitungsvorabladepegel-Lie
fereinrichtung einen ersten PMOS-Transistor MP1, dessen
Source mit einer Spannungsquelle Vcc verbunden ist und der
so ausgebildet ist, dass er auf ein Aktivierungssignal EQLEN
zur Verwendung beim Aktivieren der Bitleitungsvorabladepe
gel-Liefereinrichtung verwendet wird; einen zweiten PMOS-
Transistor MP2, dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-
Transistor MP1 verbunden ist und dessen Drain und Gate mit
einander verbunden sind; einen ersten NMOS-Transistor MN1,
der parallel zum Drain des ersten PMOS-Transistors MP1 zu
sammen mit dem zweiten PMOS-Transistor MP2 verbunden ist und
dessen Gate mit dem Gate des zweiten PMOS-Transistors MP2
verbunden ist; einen zweiten NMOS-Transistor MN2, der mit
dem zweiten PMOS-Transistor MP2 in Reihe geschaltet ist und
dessen Gate mit dem Drain des zweiten PMOS-Transistors MP2
verbunden ist, einen dritten NMOS-Transistor MN3, dessen
Gate und Drain gemeinsam mit dem Drain des NMOS-Transistors
MN1 verbunden sind und dessen Source mit dem Masseanschluss
Vss verbunden ist; einen vierten NMOS-Transistor MN4, dessen
Gate mit dem Drain des ersten NMOS-Transistors MN1 verbunden
ist und der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspan
nung gesteuert wird; einen fünften NMOS-Transistor MN5, der
an einer Position entgegengesetzt zum vierten NMOS-Transis
tor MN4 angeordnet ist und dessen Drain mit dem Drain des
vierten NMOS-Transistors MN4 verbunden ist; einen sechsten
NMOS-Transistor MN6, dessen Drain mit dem gemeinsamen Drain
des vierten und fünften NMOS-Transistors MN4 und MN5 verbun
den ist und dessen Source mit dem Masseanschluss verbunden
ist; einen vierten PMOS-Transistor MP4, der zwischen die
Source des vierten NMOS-Transistors MN4 und den Drain des
ersten PMOS-Transistors MP1 geschaltet ist; einen fünften
PMOS-Transistor MP5, der zwischen die Source des fünften
NMOS-Transistors MN5 und den Drain des ersten PMOS-Transis
tors MP1 geschaltet ist; einen dritten PMOS-Transistor MP3,
der parallel in Bezug zum Drain des ersten PMOS-Transistors
MP1 zusammen mit dem ersten NMOS-Transistor MN1 geschaltet
ist und dessen Drain und Gate miteinander verbunden sind;
einen siebten NMOS-Transistor MN7, der an einer Position
entgegengesetzt zum dritten PMOS-Transistor MP3 angeordnet
ist und dessen Gate mit dem Gate des dritten PMOS-Transis
tors MP3 verbunden ist; einen achten NMOS-Transistor MN8,
dessen Gate mit dem Drain des siebten NMOS-Transistors MN7
verbunden ist und dessen Source mit dem Drain des dritten
PMOS-Transistors MP3 verbunden ist; einen neunten NMOS-Tran
sistor MN9, der auf die Drainspannung des vierten PMOS-Tran
sistors MP4 hin gesteuert wird und der mit dem siebten NMOS-
Transistor MP7 in Reihe geschaltet ist; und einen Bipolar
transistor PNP1, dessen Emitter mit dem Drain des neunten
NMOS-Transistors MN9 verbunden ist und dessen Kollektor und
Basis gemeinsam mit dem Masseanschluss verbunden sind. Der
fünfte NMOS-Transistor MN5 wird durch Vorabladebitleitungen
auf eine Bitleitungs-Vorabladespannung gesteuert.
Nun wird der Betrieb der o. g. Bitleitungsvorabladepegel-Lie
fereinrichtung im Einzelnen erläutert.
Gemäß Fig. 15a wird, wenn das Aktivierungssignal zum Akti
vieren der Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung bei
normalem Betrieb auf niedrig übergeht, der erste PMOS-Tran
sistor MP1 aktiviert, um das Potenzial an einem Knoten N1
auf den hohen Wert anzuheben. Wenn die Spannung auf der
Drainseite des zweiten NMOS-Transistors MN2, d. h. an einem
Knoten N2, niedrig ist, wird der zweite PMOS-Transistor MP2
eingeschaltet, um auch den Pegel am Knoten N2 anzuheben.
Daher wird das Gate mit dem Knoten N2 verbunden und der ers
te NMOS-Transistor MN1 wird eingeschaltet, um den Pegel an
einem Knoten N3 anzuheben. Wenn der Pegel am Knoten N3 ein
mal über die Schwellenspannung des dritten NMOS-Transistors
MN3 angehoben ist, schaltet dieser ein, um einen Strom zum
Masseanschluss abzuleiten, wodurch der Pegel am Knoten N3
auf die Schwellenspannung fixiert wird. Außerdem fällt, wenn
der Pegel am Knoten 143 den zweiten NMOS-Transistor MN2 ein
schaltet, der Pegel am Knoten N2 langsam. Wenn der Pegel am
Knoten N2 einmal gefallen ist, nimmt der Einschaltwiderstand
des ersteh NMOS-Transistors MN1 zu, was schließlich den dem
Knoten N3 zugeführten. Strom senkt. Schließlich kann am Kno
ten N3 eine Spannung vom Pegel einer Schwellenspannung unter
Verwendung des ersten NMOS-Transistors MN1 und des zweiten
PMOS-Transistors MP2 und einer Rückkopplungsschleife aus dem
zweiten NMOS-Transistor MN2 und dem dritten NMOS-Transistor
MN3 erhalten werden. Indessen wird, wenn sich ein Knoten N7
auf anfänglich niedrigem Pegel befindet, der dritte PMOS-
Transistor MP3 eingeschaltet, um den Pegel am Knoten N7 an
zuheben. Wenn der Pegel am Knoten N7 über die Schwellenspan
nung des siebten NMOS-Transistors MN7 angehoben ist, wird
dieser eingeschaltet, wodurch der Strom über den mit einem
Knoten N8 verbundenen Bipolartransistor PNP1 nach Masse ent
laden wird. Der Bipolartransistor PNP1 ist vom pnp-Typ.
Schließlich wird der Pegel am Ausgangsanschluss der Bitlei
tungsvorabladepegel-Liefereinrichtung auf den Pegel der
Schwellenspannung fixiert, der mit dem Pegel am Knoten N3
identisch ist. Der Bipolartransistor PNP1, dessen Kollektor
und Basis gemeinsam mit dem Masseanschluss verbunden sind
und dessen Emitter mit dem Knoten N8 verbunden ist, dient
als pn-Diode. Außerdem schaltet der auf einem Schwellenpegel
gehaltene Ausgangsanschluss der Bitleitungsvorabladepegel-
Liefereinrichtung den achten NMOS-Transistor MN8 ein, um die
Spannung am Knoten N7 abzusenken. Wenn die Spannung am Kno
ten N7 fällt, verringert sich, bei erhöhtem Einschaltwider
stand des siebten NMOS-Transistors MN7, der Strom, der an
den Ausgangsanschluss der Bitleitungsvorabladepegel-Liefer
einrichtung geliefert wird. Schließlich kann eine Spannung
vom Pegel der Schwellenspannung unter Verwendung einer Rück
kopplungsschleife aus dem Bipolartransistor PNP1, ein
schließlich dem siebten, achten, neunten NMOS-Transistor
MN7, MN8 und MN9 sowie dem dritten PMOS-Transistor MP3, und
einer pn-Diode geliefert werden. Da der vierte bis sechste
NMOS-Transistor MN4 bis MN6 und der vierte und fünfte PMOS-
Transistor MP4 und MP5 einen Verstärker bilden, wird das
Ausgangssignal am Knoten N4 entsprechend den Eingangssigna
len am vierten und fünften NMOS-Transistor MN4 und MN5 ver
stärkt.
Für die obige Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung
gemäß der Erfindung wird nun erläutert, wie die Spannung am
Knoten N3 mit einer Spannung an einem Ausgangsanschluss
(Ausgangsanschluss der Bitleitungsvorabladepegel-Lieferein
richtung) ausgeglichen wird.
Die Spannung am Knoten N3 wird an das Gate des vierten NMOS-
Transistors MN4 geliefert, und die Spannung am Ausgangsan
schluss wird an das Gate des fünften NMOS-Transistors MN5
geliefert. Wenn die Spannung am Knoten N3 höher als die
Spannung am Ausgangsanschluss ist, fällt die Spannung am
Knoten N4 und die Spannung am Knoten N5 wird angehoben. Die
verringerte Spannung am Knoten N4 wird an den neunten NMOS-
Transistor MN9 rückgekoppelt, was den Einschaltwiderstand
desselben erhöht, was zu verringerter Stromentladung an den
Ausgangsanschluss führt, wodurch schließlich der Pegel am
Ausgangsanschluss ansteigt. Wenn die Spannung am Knoten N3
niedriger als die Spannung am Ausgangsanschluss ist, fällt
die Spannung am Knoten N5 und diejenige am Knoten N4 nimmt
zu. Die erhöhte Spannung am Knoten N4 wird an den neunten
NMOS-Transistor MN9 rückgekoppelt, wodurch der Einschaltwi
derstand desselben fällt, so dass der über den Ausgangsan
schluss abgegebene Strom zunimmt, wodurch schließlich der
Pegel am Ausgangsanschluss fällt. Um ein übermäßiges Abfal
len des Pegels am Ausgangsanschluss zu verhindern, ist zwi
schen dem Knoten N8 und dem Masseanschluss der als pn-Diode
arbeitende Bipolartransistor PNP1 vorhanden, um die pn-Diode
bei einer Spannung unter ihrer Schwellenspannung auszuschal
ten, um eine Entladung jedes weiteren Stroms zu verhindern.
Gemäß Fig. 15b beinhaltet die Bitleitungsvorabladepegel-Lie
fereinrichtung gemäß dem zweiten bevorzugten Ausführungsbei
spiel der Erfindung Folgendes: Einen ersten PMOS-Transistor
MP1, dessen Source mit der Spannungsquelle Vcc verbunden ist
und der so ausgebildet ist, dass er durch ein Aktivierungs
signal BQLEN zum Aktivieren der Bitleitungsvorabladepegel-
Liefereinrichtung gesteuert wird; einen zweiten PMOS-Tran
sistor MP2 und einen dritten PMOS-Transistor MP3, deren
Source jeweils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors MP1
verbunden ist und deren Gates miteinander verbunden sind;
einen ersten NMOS-Transistor MN1, der durch die Drainspan
nung des dritten PMOS-Transistors MP3 gesteuert wird, um
selektiv die Massespannung zu liefern; einen zweiten NMOS-
Transistor MN2, der zwischen den zweiten PMOS-Transistor MP2
und den ersten NMOS-Transistor MN1 geschaltet ist und so
ausgebildet ist, dass er durch eine externe Bezugsspannung
REF_N gesteuert wird; einen dritten NMOS-Transistor MN3, der
zwischen den dritten PMOS-Transistor MP3 und den ersten
NMOS-Transistor MN1 geschaltet ist und so ausgebildet ist,
dass er durch die Spannung am Ausgangsanschluss (Knoten 1)
gesteuert wird; einen vierten PMOS-Transistor MP4 und einen
fünften PMOS-Transistor MP5, deren Gate jeweils mit dem
Drain des ersten PMOS-Transistors MP1 verbunden ist und de
ren Gates miteinander verbunden sind; einen vierten NMOS-
Transistor MN4, der so ausgebildet ist, dass er durch die
Gatespannungen des vierten PMOS-Transistors MP4 und des
fünften PMOS-Transistors MP5 gesteuert wird, um selektiv die
Massespannung zu liefern; einen fünften NMOS-Transistor MN5,
dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors MP1
verbunden ist und der so ausgebildet ist, dass er durch die
Drainspannung des fünften PMOS-Transistors MP5 gesteuert
wird; einen sechsten NMOS-Transistor MN6, der zwischen das
Gate und den Drain des fünften NMOS-Transistors MN5 geschal
tet ist und so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspan
nung des zweiten NMOS-Transistors MN2 gesteuert wird; einen
siebten NMOS-Transistor MN7, der so ausgebildet ist, dass er
durch die Drainspannung des dritten PMOS-Transistors MP3
gesteuert wird, und der zwischen den vierten PMOS-Transistor
MP4 und den vierten NMOS-Transistor MN4 geschaltet ist; ei
nen achten NMOS-Transistor MN8, der so ausgebildet ist, dass
er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Transistors MN2
gesteuert wird, und der zwischen den fünften PMOS-Transistor
MP5 und den vierten NMOS-Transistor MN4 geschaltet ist; ei
nen neunten NMOS-Transistor MN9, der so ausgebildet ist,
dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Transistors
MN2 gesteuert wird, und dessen Drain mit dem Ausgangsan
schluss (Knoten 1) verbunden ist; und einen zehnten NMOS-
Transistor MN10, der zwischen die Source des neunten NMOS-
Transistors MN9 und den Masseanschluss Vss geschaltet ist
und dessen Gate und Drain miteinander verbunden sind. Beim
dritten und vierten PMOS-Transistor MP3 und MP4 sind jeweils
der Drain und das Gate miteinander verbunden.
Die o. g. Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung gemäß
dem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung
vergleicht eine externe Bezugsspannung und die Spannung am
Ausgangsanschluss (Knoten 1), und sie sorgt dafür, dass der
Pegel am Ausgangsanschluss dauernd konstant ist. Der Pegel
am Ausgangsanschluss, der leicht variieren kann, da der Aus
gangsanschluss mit der Bitleitung verbunden ist, wird da
durch stabilisiert, dass die erfindungsgemäße Bitleitungs
vorabladepegel-Liefereinrichtung vorhanden ist, um dadurch
eine externe Bezugsspannung von festem Pegel an den Aus
gangsanschluss zu liefern.
Das System gemäß Fig. 15c ist dem des zweiten Ausführungs
beispiels mit der Ausnahme ähnlich, dass das folgende weite
re System zu weiterer Stabilisierung des Pegels am Aus
gangsanschluss hinzugefügt ist. Wie es in Fig. 15c darge
stellt ist, sind die folgenden Transistoren hinzugefügt: Ein
sechster PMOS-Transistor MP6, der zwischen die Spannungs
quelle Vcc und den ersten PMOS-Transistor MP1 geschaltet ist
und so ausgebildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal
BQLEN zum Aktivieren der Bitleitungsvorabladepegel-Liefer
einrichtung gesteuert wird; und ein siebter PMOS-Transistor
MP7 und ein elfter NMOS-Transistor MN11, die in Reihe zwi
schen den sechsten PMOS-Transistor MP6 und den Massean
schluss Vss geschaltet sind. Der Drain und das Gate des
siebten PMOS-Transistors MP7 sind miteinander verbunden, und
das Gate und der Drain des elften NMOS-Transistors MN11 sind
gemeinsam mit dem Gate des zweiten NMOS-Transistors MN2 ver
bunden. Beim dritten Ausführungsbeispiel einer erfindungsge
mäßen Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung wird, da
die Drainspannung am ersten PMOS-Transistor MP1 abhängig vom
Pegel am Ausgangsanschluss variiert, die Versorgungsspannung
Vcc an einer Stelle angelegt, an der sie den Ausgangsan
schluss (Knoten 1) nicht beeinflusst, um vorab eine Schwan
kung der Drainspannung zu vermeiden. Demgemäß kann am Aus
gangsanschluss ein stabilerer Vorabladepegel geliefert wer
den.
Gemäß Fig. 16a beinhaltet ein Bezugsleseverstärker in der
Bezugsbitleitungssteuerung gemäß der Erfindung Folgendes:
Eine Pegelschiebeeinrichtung 80 zum Empfangen des Signals
von der globalen Bezugsbitleitung BLRG_2 und zum Verschie
ben des Pegels des Signals und zum Liefern einer Bezugsspan
nung CREF an einen Hauptleseverstärker 67_1, 67_2, . . .; und
eine Pulldownsteuerung 80a zum Empfangen des Signals von der
globalen Bezugsbitleitung BLRG_2 zum Herunterziehen des Po
tenzials der Bezugsbitleitung. Indessen sind nur, abweichend
von einem Verfahren, bei dem eine Pegelschiebeeinrichtung 80
dazu verwendet wird, einen Pegel zu verschieben, um eine
Bezugsspannung an den Hauptleseverstärker zu liefern, wie es
in Fig. 16a dargestellt ist, eine Pulldown- und Pullupsteue
rung 81a anstelle der Pegelschiebeeinrichtung vorhanden, um
ein Signal auf der globalen Bezugsbitleitung als Bezugsspan
nung CREF zu verwenden, wie es in Fig. 16b dargestellt ist.
Wie es in Fig. 16b dargestellt ist, ist ein Fall ohne die
Pegelschiebeeinrichtung ein solcher, bei dem ein Umfang un
ter einigen wenigen hundert Bits erforderlich ist, wie bei
einer IC-Karte, die keinen großen Speicherumfang benötigt,
in welchem Fall eine angemessene Bezugsspannung nur unter
Verwendung eines hohen Signals geliefert werden kann, da
nicht so viele Leseverstärker vorhanden sind. Wenn jedoch
viele Leseverstärker vorhanden sind, wird, wie es in Fig.
16a dargestellt ist, eine Pegelschiebeeinrichtung verwendet,
um die Bezugsspannung aus einem niedrigen Signal zu liefern.
Nun wird die in Fig. 16a dargestellte Pegelschiebeeinrich
tung anhand der Fig. 17a im Einzelnen erläutert.
Gemäß Fig. 17a beinhaltet die Pegelschiebeeinrichtung gemäß
dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung
Folgendes: Einen ersten PMOS-Transistor MP1, der so ausge
bildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal LSEN zum
Aktivieren der Pegelschiebeeinrichtung aktiviert wird, und
dessen Source mit der Spannungsquelle Vcc verbunden ist;
einen zweiten PMOS-Transistor MP2 und einen dritten PMOS-
Transistor MP3, die mit dem Drain des ersten PMOS-Transis
tors MP1 verbunden sind; einen ersten NMOS-Transistor MN1,
der mit dem zweiten PMOS-Transistor MP2 verbunden ist und so
ausgebildet ist, dass er durch die globale Bezugsbitleitung
gesteuert wird; einen zweiten NMOS-Transistor MN2, der zwi
schen dem ersten NMOS-Transistor MN1 und dem dritten PMOS-
Transistor MP3 vorhanden ist; einen vierten PMOS-Transistor
MP4, der zwischen dem ersten PMOS-Transistor MP1 und dem
zweiten NMOS-Transistor MN2 parallel zum dritten PMOS-Tran
sistor MP3 angeordnet ist; einen vierten NMOS-Transistor
MN4, dessen Source mit dem ersten PMOS-Transistor MP1 ver
bunden ist und der so ausgebildet ist, dass er durch ein Si
gnal vom dritten PMOS-Transistor MP3 gesteuert wird; einen
fünften NMOS-Transistor MN5, der zwischen dem Masseanschluss
und dem vierten NMOS-Transistor MN4 angeordnet ist; einen
fünften PMOS-Transistor MP5, der zwischen dem ersten PMOS-
Transistor MP1 und dem Ausgangsanschluss CREF angeordnet
ist; einen sechsten NMOS-Transistor MN6, der so ausgebildet
ist, dass er durch das Signal auf der globalen Bitleitung
gesteuert wird; einen sechsten PMOS-Transistor MP6, der zwi
schen dem sechsten NMOS-Transistor MN6 und dem ersten PMOS-
Transistor MP1 angeordnet ist; einen siebten PMOS-Transistor
MP7, dessen Gate mit dem Gate des sechsten PMOS-Transistors
MP6 verbunden ist und dessen Source mit dem Drain des ersten
PMOS-Transistors MP1 verbunden ist; einen siebten NMOS-Tran
sistor MN7, der zwischen dem sechsten NMOS-Transistor MN6
und dem siebten PMOS-Transistor MP7 angeordnet ist; und
einen achten NMOS-Transistor MN8, der zwischen den Massean
schluss Vss und den siebten NMOS-Transistor MN7 parallel zum
sechsten NMOS-Transistor MN6 geschaltet ist.
Nun wird die Funktion der o. g. Pegelschiebeeinrichtung gemäß
dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung er
läutert.
Das dem Gate des ersten PMOS-Transistors MP1 zugeführte Si
gnal LSEn ist ein Signal zum Aktivieren der Pegelschiebeein
richtung. D. h., dass dann, wenn das Aktivierungssignal LSEN
auf niedrig übergeht, die Pegelschiebeeinrichtung in Betrieb
gesetzt wird, um das Signal CREF zu liefern. Wenn es vorge
sehen ist, den Chip zu deaktivieren, wird das Signal LSEN
auf hoch überführt, um den Strom zu unterbrechen. Wenn das
Signal LSEN auf niedrig übergeht, wird der erste PMOS-Tran
sistor MP1 aktiviert, wodurch der Knoten N1 auf den hohen
Pegel übergeht. Wenn sich der Knoten N3 im Anfangszustand
auf dem niedrigen Potenzial befindet, wird der vierte PMOS-
Transistor MP4 eingeschaltet, um den Pegel am Knoten N3 an
zuheben. Dementsprechend wird der vierte NMOS-Transistor MN4
eingeschaltet, um den Pegel am Ausgangsanschluss CREF auf
die Spannung an der globalen Bezugsbitleitung BLRG_2 oder
auf einen höheren Wert anzuheben. Da der erste bis dritte
NMOS-Transistor MN1 bis MN3 und der zweite und dritte PMOS-
Transistor MP2 und MP3 einen Verstärker bilden, wird das
Ausgangssignal am Knoten N3 entsprechend dem Eingangssignal
am ersten NMOS-Transistor MN1 und am zweiten NMOS-Transistor
MN2 verstärkt. Auch wird, da der sechste bis achte NMOS-
Transistor MN6 bis MN8 sowie der sechste und siebte PMOS-
Transistor MP6 und MP7 einen Verstärker bilden, das Aus
gangssignal am Knoten N5 entsprechend einem Eingangssignal
am sechsten NMOS-Transistor MN6 und am siebten NMOS-Transis
tor MN7 verstärkt. Wenn in diesem Fall die Größe sowohl des
ersten als auch des fünften NMOS-Transistors MN1 und MN5 so
gewählt ist, dass sie größer als diejenige sowohl des zwei
ten als auch siebten NMOS-Transistors MN2 und MN7 ist, kann
die Spannung am Ausgangsanschluss CREF entsprechend der
Größendifferenz der Bauteile höher als die Spannung auf der
globalen Bitleitung gemacht werden. Im Gegensatz hierzu
kann, wenn die Größe sowohl des ersten als auch des sechsten
NMOS-Transistors MN1 und MN6 kleiner als diejenige des zwei
ten und siebten NMOS-Transistors MN2 und MN7 ist, die Span
nung am Ausgangsanschluss CREF proportional zur Bauteilgröße
niedriger als die Spannung auf der globalen Bitleitung ge
macht werden. Außerdem kann, wenn der erste und zweite NMOS-
Transistor MN1 und MN2 dieselbe Größe wie der zweite und
siebte NMOS-Transistor MN2 und MN7 aufweisen, die Spannung
am Ausgangsanschluss CREF identisch mit der Spannung auf der
globalen Bitleitung gemacht werden.
Nun wird die Funktion der Pegelschiebeeinrichtung für den
Fall erläutert, dass der erste und sechste NMOS-Transistor
MN1 und MN6 dieselbe Größe wie der zweite und siebte NMOS-
Transistor MN2 und MN7 aufweisen.
Als erstes nimmt, wenn die Spannung auf der globalen Bitlei
tung höher als die Spannung am Ausgangsanschluss CREF ist,
die Spannung am Knoten N2 ab, und die Spannung am Knoten N3
nimmt zu, was durch den ersten und zweiten NMOS-Transistor
MN1 und MN2 erfolgt. Die angehobene Spannung am Knoten N3
wird an den vierten NMOS-Transistor MN4 rückgekoppelt, um
die Einschaltspannung desselben zu senken, was zu erhöhtem
Strom zum Ausgangsanschluss CREF und damit zu erhöhter Span
nung an diesem führt. Dann fällt die Spannung am Knoten N5
und die Spannung am Knoten N6 nimmt zu, was durch den sechs
ten und siebten NMOS-Transistor MN6 und MN7 erfolgt. Die ge
senkte Spannung am Knoten N5 wird an den fünften NMOS-Tran
sistor MN5 und den fünften PMOS-Transistor MP5 rückgekop
pelt, um den Einschaltwiderstand des fünften NMOS-Transis
tors MN5 zu senken, wodurch der Strom zum Ausgangsanschluss
ansteigt und die Spannung an diesem zunimmt. So beschleuni
gen der vierte NMOS-Transistor MN4 und der fünfte PMOS-Tran
sistor MP5 das Anheben der Spannungen. Wenn die Spannung auf
der globalen Bitleitung niedriger als die Spannung am Aus
gangsanschluss CREF ist, heben der erste NMOS-Transistor MN1
und der zweite NMOS-Transistor MN2 die Spannung am Knoten N2
an, und sie senken diejenige am Knoten N3. Die gesenkte
Spannung am Knoten N5 wird an den vierten NMOS-Transistor
MN4 rückgekoppelt, um den Einschaltwiderstand desselben zu
erhöhen, wodurch der Strom zum Ausgangsanschluss CREF ab
nimmt, was die Spannung am Ausgangsanschluss senkt. Dann he
ben der sechste NMOS-Transistor MN6 und der siebte NMOS-
Transistor MN7 die Spannung am Knoten N5 an, und sie senken
diejenige am Knoten NE. Die angehobene Spannung am Knoten N5
wird an den fünften NMOS-Transistor MN5 und den fünften
PMOS-Transistor MP5 rückgekoppelt, um den Einschaltwider
stand des fünften NMOS-Transistors zu senken und den Ein
schaltwiderstand des fünften PMOS-Transistors MP5 zu senken.
Demgemäß nimmt schließlich der Strom zum Ausgangsanschluss
CREF ab, wodurch die Spannung an diesem fällt, wobei der
Spannungsabfall am fünften NMOS-Transistor MN5 beschleunigt
ist.
Gemäß Fig. 16b weist eine Pegelschiebeeinrichtung gemäß ei
nem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung
Folgendes auf: Einen ersten PMOS-Transistor MP1, der so aus
gebildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal LSEN zum
Aktivieren der Pegelschiebeeinrichtung aktiviert wird, und
dessen Source mit der Spannungsquelle Vcc verbunden ist;
einen zweiten PMOS-Transistor MP2 und einen dritten PMOS-
Transistor MP3, die mit dem Drain des ersten PMOS-Transis
tors MP1 verbunden sind; einen ersten NMOS-Transistor MN1,
der mit dem zweiten PMOS-Transistor MP2 verbunden ist und so
ausgebildet ist, dass er durch ein Signal BLRG_2 auf der
globalen Bezugsbitleitung gesteuert wird; einen zweiten
NMOS-Transistor MN2, der zwischen den ersten NMOS-Transistor
MN1 und den dritten PMOS-Transistor MP3 geschaltet ist und
dessen Source mit dem Drain des ersten NMOS-Transistors MN1
verbunden ist; einen dritten NMOS-Transistor MN3, der zwi
schen die Source des ersten und zweiten NMOS-Transistors und
den Masseanschluss Vss geschaltet ist und so ausgebildet
ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten PMOS-Tran
sistors MP2 gesteuert wird; einen vierten PMOS-Transistor
MP4 und einen fünften PMOS-Transistor MP5, deren Source je
weils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors MP1 verbun
den ist und deren Gates miteinander verbunden sind; einen
vierten NMOS-Transistor MN4, der so ausgebildet ist, dass er
durch das Signal auf der globalen Bezugsbitleitung BLRG_2
gesteuert wird und dessen Drain mit dem Drain des vierten
PMOS-Transistors MP4 verbunden ist; einen fünften NMOS-Tran
sistor MN5, der so ausgebildet ist, dass er durch die Span
nung am Ausgangsanschluss (Knoten 1) gesteuert wird, und
dessen Drain mit dem Drain des fünften PMOS-Transistors MP5
verbunden ist und dessen Source mit der Source des vierten
NMOS-Transistors MN4 verbunden ist; einen sechsten NMOS-
Transistor MN6, der so ausgebildet ist, dass er durch die
Drainspannung des fünften NMOS-Transistors MN5 gesteuert
wird und der zwischen die Sources des vierten und fünften
NMOS-Transistor MN4 und MN5 und den Masseanschluss Vss ge
schaltet ist; einen sechsten PMOS-Transistor MP6, der so
ausgebildet ist, dass er durch ein externes Bezugsspannungs-
Steuerungssignal REFCON gesteuert wird und dessen Source mit
dem Drain des ersten PMOS-Transistors MP1 verbunden ist;
einen siebten NMOS-Transistor MN7, der so ausgebildet ist,
dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS-Transistor
MP3 gesteuert wird und dessen Source mit dem Drain des
sechsten PMOS-Transistors MP6 verbunden ist; einen achten
NMOS-Transistor MN8, der so ausgebildet ist, dass er durch
die Drainspannung des vierten NMOS-Transistors MN4 gesteuert
wird, und der zwischen den Drain des dritten PMOS-Transis
tors MP3 und dem Drain des siebten NMOS-Transistors MN7 ge
schaltet ist; einen neunten NMOS-Transistor MN9 und einen
zehnten NMOS-Transistor MN10, die so ausgebildet sind, dass
sie durch das Bezugsspannungs-Steuerungssignal REFCON ge
steuert werden und die in Reihe zwischen den siebten NMOS-
Transistor MN7 und den Masseanschluss Vss geschaltet sind;
und einen siebten PMOS-Transistor MP7, der so ausgebildet
ist, dass er durch die Drainspannung des vierten NMOS-Tran
sistors MN4 gesteuert wird, und dessen Source mit dem Drain
des ersten PMOS-Transistors MP1 verbunden ist und dessen
Drain mit dem Ausgangsanschluss (Knoten 1) verbunden ist.
Fig. 18 zeigt eine Einzelheit eines ersten Ausführungsbei
spiels eines Leseverstärkers für ein erstes Ausführungsbei
spiel eines erfindungsgemäßen nichtflüchtigen ferroelektri
schen Speichers. Da das in Fig. 7 dargestellte System eine
Wiederholung des in Fig. 6 dargestellten Systems ist, ist
die Hauptbitleitungssteuerung 67 zwischen zwei Hauptzellen
arrays 61 angeordnet. Daher ist der Leseverstärker in der
Hauptbitleitungssteuerung 67 vorzugsweise so ausgebildet,
dass er Daten der beiden Hauptzellenarrays 61 über und unter
sich erfasst. D. h., dass dafür gesorgt ist, dass das System
des oberen Hauptzellenarrays und des unteren Hauptzellen
arrays eine Bitleitungssteuerung gemeinsam nutzt. In der
Zeichnung bezeichnet BLGT eine mit dem oberen Zellenarray
verbundene globale Hauptbitleitung, und BLGB bezeichnet eine
mit dem unteren Zellenarray verbundene globale Hauptbitlei
tung. Außerdem bezeichnet CREF eine mit der oberen Bezugs
zelle verbundene globale Bezugsbitleitung, und CREFB be
zeichnet eine mit der unteren Bezugszelle verbundene globale
Bezugsbitleitung. Der Leseverstärker des ersten Ausführungs
beispiels für ein erstes Ausführungsbeispiel eines erfin
dungsgemäßen nichtflüchtigen ferroelektrischen Speichers
weist Folgendes auf: Einen ersten NMOS-Transistor MN1, des
sen Source mit BLGT und BLGB verbunden ist; einen zweiten
NMOS-Transistor MN2, dessen Source mit CREF und CREFB ver
bunden ist, und mit einem Gate, das mit dem Gate des ersten
NMOS-Transistors MN1 verbunden ist; einen dritten NMOS-Tran
sistor MN3 zum Verstärken des Signals BLGT oder BLGB, das
über den ersten NMOS-Transistor MN1 empfangen wird; einen
vierten NMOS-Transistor MN4 zum Verstärken des Signals CREF
oder CREFB, das über den zweiten NMOS-Transistor MN2 empfan
gen wird; einen ersten PMOS-Transistor MP1 und einen zweiten
PMOS-Transistor MP2, deren Source jeweils mit einem Span
nungsanschluss Vcc verbunden ist und deren Drain mit dem
Ausgangsanschluss des ersten NMOS-Transistors MN1 bzw. dem
Ausgangsanschluss des zweiten NMOS-Transistors MN2 verbunden
ist (der Drain des ersten PMOS-Transistors ist mit dem Gate
des zweiten PMOS-Transistors verbunden, und der Drain des
zweiten PMOS-Transistors ist mit dem Gate des ersten PMOS-
Transistors verbunden); und einen dritten PMOS-Transistor
MP3 zum Ausgleichen des Pegels am Ausgangsanschluss des ers
ten NMOS-Transistors MN1 und des Pegels am Ausgangsanschluss
des zweiten NMOS-Transistors MN2 auf ein Leseverstärker-Aus
gleichssignal SAEQ hin. Zwischen der Source des ersten NMOS-
Transistors MN1 und BLGT ist ein fünfter NMOS-Transistor MN5
angeordnet, und ein sechster NMOS-Transistor MN6 ist zwi
schen der Source des ersten NMOS-Transistors MN1 und BLGB
angeordnet. Außerdem ist ein siebter NMOS-Transistor MN7
zwischen der Source des zweiten NMOS-Transistors MN2 und
CREF angeordnet, und ein achter NMOS-Transistor MN8 ist zwi
schen der Source des zweiten NMOS-Transistors MN2 und CREFB
angeordnet. Ein neunter NMOS-Transistor MN9 dient zum selek
tiven Schalten der Ausgangsanschlüsse eines Datenbusses und
des Leseverstärkers auf ein Spaltenauswählsignal COLSEL hin,
und ein zehnter NMOS-Transistor MN10 dient zum Schalten der
Ausgangsanschlüsse eines Inversdatenbusses und des Lesever
stärkers. Der fünfte NMOS-Transistor MN5 schaltet zwischen
dem Leseverstärker und BLGT um, und der sechste NMOS-Tran
sistor MN6 schaltet zwischen dem Leseverstärker und BLGB um.
Der siebte NMOS-Transistor MN7 schaltet zwischen dem Lese
verstärker und CREF um, und der achte NMOS-Transistor MN8
schaltet zwischen dem Leseverstärker und CREFB um.
Nun wird der Betrieb des ersten Ausführungsbeispiels eines
erfindungsgemäßen Leseverstärkers erläutert. Diese Erläute
rung beruht auf dem Fall, dass als Beispiel ein im oberen
Hauptzellenarray gespeicherter Datenwert erfasst wird.
D. h., dass dann, wenn, wozu auf Fig. 18 Bezug genommen wird,
der fünfte und siebte NMOS-Transistor MN5 und MN7 durch ein
Aktivierungssignal BSEL zum Aktivieren des fünften NMOS-
Transistors MN5 und ein Aktivierungssignal RSEL zum Aktivie
ren des siebten NMOS-Transistors MN7 aktiviert werden, der
sechste und der achte NMOS-Transistor MN6 und MN8 deakti
viert werden. Im Gegensatz hierzu sind der fünfte und siebte
NMOS-Transistor MN5 und MN7 deaktiviert, wenn der sechste
und achte NMOS-Transistor MN6 und MN8 aktiviert sind. Der
Leseverstärker wird auf ein Spaltenauswählsignal COLSEL wäh
rend einer anfänglichen Verstärkungsperiode hin deaktiviert,
wobei die Verbindung zwischen einem externen Datenbus und
einem Knoten im Inneren des Leseverstärkers unterbrochen
wird. In diesem Fall werden, um den Leseverstärker zu akti
vieren, ein Knoten SN3 und ein Knoten SN4 auf ein Lesever
stärker-Ausgleichssignal SAEQ hin ausgeglichen. Im Anfangs
stadium werden der erste NMOS-Transistor MN1 und der zweite
NMOS-Transistor MN2 deaktiviert gehalten. Dann wird, wenn
der Knoten SN3 und der Knoten SN4 einmal ausgeglichen sind,
der Datenwert in der Hauptzelle an die obere globale Bitlei
tung BLGT und von dort über den fünften NMOS-Transistor MN5
an den Knoten SN1 übertragen. Die Bezugsspannung wird an
CREF und von dort über den siebten NMOS-Transistor MN7 an
den Knoten SN2 übertragen. Wenn der Datenwert in der Haupt
zelle und die Bezugsspannung jeweils korrekt an die Knoten
SN1 bzw. SN2 übertragen wurden, geht die Bezugsspannung des
Leseverstärkers auf die Massespannung über. Dies bewirkt
eine Spannungsdifferenz zwischen dem mit dem Gate des drit
ten NMOS-Transistors MN3 verbundenen Knoten SN2 und dem Gate
des vierten NMOS-Transistors MN4, gemeinsam mit einer Diffe
renz der Ströme zum dritten NMOS-Transistor MN3 und zum
vierten NMOS-Transistor MN4, und die Spannungen werden in
diesem Zustand verstärkt, wobei sich eine verstärkte Span
nung ergibt, die einer Differenz zwischen dem Spannungen am
Knoten SN3 und am Knoten SN4 entspricht. Die am Knoten SN3
und am Knoten SN4 induzierten Spannungen werden vom ersten
PMOS-Transistor MP1 bzw. vom zweiten PMOS-Transistor MP2 er
neut verstärkt. Nachdem die Spannungen am ersten und zweiten
PMOS-Transistor MP1 und MP2 geeignet verstärkt wurden, deak
tivieren die Spannungen den fünften bzw. siebten NMOS-Tran
sistor MN5 und MN7. Außerdem aktivieren die Spannungen den
ersten und zweiten NMOS-Transistor MN1 und MN2, um die ver
stärkten Spannungen an den Knoten SN3 und SN4 erneut an die
Knoten SN1 und SN2 zurückzuliefern, um die Verstärkung auf
rechtzuerhalten. Bei Abschluss der Rückkopplungsschleife
werden der neunte und zehnte NMOS-Transistor MN9 und MN10
aktiviert, um einen Datenaustausch zwischen dem externen Da
tenbus und dem Inversdatenbus und dem Leseverstärker zu er
möglichen. Außerdem wird der fünfte NMOS-Transistor MN5 er
neut aktiviert, um die Spannung am Knoten SN1 auf BLGT zu
übertragen, um eine Rückführung und erneute Einspeicherung
in der Hauptzelle zu ermöglichen. Gemäß diesem Betrieb eines
Leseverstärkers bilden der dritte und der vierte NMOS-Tran
sistor MN3 und MN4 einen ersten Verstärker 100, und der
erste und der zweite PMOS-Transistor MP1 und MP2 bilden
einen zweiten Verstärker 103. Das noch nicht erläuterte Be
zugssymbol SEN bezeichnet ein Leseverstärker-Aktivierungssig
nal, das in niedrigem Zustand aktiviert ist, und SALE ist
ein Signal zum Aktivieren des ersten und zweiten NMOS-Tran
sistors MN1 und MN2, das auf hohem Pegel aktiv ist.
Das in Fig. 19 dargestellte zweite Ausführungsbeispiel eines
Leseverstärkers für ein erstes Ausführungsbeispiel eines er
findungsgemäßen nichtflüchtigen ferroelektrischen Speichers
unterscheidet sich vom ersten Ausführungsbeispiel im zweiten
Verstärker 103. D. h., dass der zweite Verstärker 103 beim
ersten Ausführungsbeispiel des Leseverstärkers einen ersten
und zweiten Transistor aufweist, die PMOS-Transistoren sind,
wobei der Drain des ersten Transistors mit dem Gate des
zweiten Transistors verbunden ist und der Drain des zweiten
Transistors mit dem Gate des ersten Transistors verbunden
ist. Jedoch verfügt das zweite Ausführungsbeispiel des zwei
ten Verstärkers 103 über eine Latchstufe einschließlich
eines ersten Inverters 103a und eines zweiten Inverters 103b
in PMOS-NMOS-Form, wobei das gemeinsame Gate des PMOS-Tran
sistors und des NMOS-Transistors im ersten Inverter 103a mit
dem Drain des PMOS-Transistors im zweiten Inverter 103b ver
bunden ist. Außerdem ist das gemeinsame Gate des PMOS-Tran
sistors und des NMOS-Transistors im zweiten Inverter 103b
mit dem Drain des PMOS-Transistors im ersten Inverter 103a
verbunden. Während beim ersten Ausführungsbeispiel eines Le
severstärkers der NMOS-Transistor des ersten Inverters 103a
und der NMOS-Transistor des zweiten Inverters 103b gemeinsam
mit dem Masseanschluss Vss verbunden sind, sind beim Lese
verstärker des zweiten Ausführungsbeispiels der NMOS-Tran
sistor des ersten Inverters 103a und der NMOS-Transistor des
zweiten Inverters 103b mit dem Eingangsanschluss für das Le
severstärker-Aktivierungssignal SEN verbunden. Da das System
des Leseverstärkers des zweiten Ausführungsbeispiels der Er
findung mit der Ausnahme mit dem System des Leseverstärkers
des ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung identisch ist,
dass beim zweiten Ausführungsbeispiel der zweite Verstärker
103 über zwei Inverter verfügt und die NMOS-Transistoren im
ersten und zweiten Inverter 103a und 103b mit dem Eingangs
anschluss des Leseverstärker-Aktivierungssignal SEN verbun
den sind, wird das System des Leseverstärkers des zweiten
Ausführungsbeispiels der Erfindung weggelassen.
Nun werden anhand der Fig. 20 bis 21 Betriebsabläufe im
in Fig. 18 dargestellten Leseverstärker erläutert.
Gemäß Fig. 20 wird, wenn die Wortleitung W/L und die Plat
tenleitung P/L gleichzeitig auf den hohen Pegel überführt
werden, das Leseverstärker-Aktivierungssignal SEN auf nied
rig aktiviert. Wie es in Fig. 18 dargestellt ist, wird,
wenn das Signal SALE, das sowohl den ersten als auch den
zweiten NMOS-Transistor MN1 und MN2 aktiviert, auf den hohen
Pegel geführt wird, ein Spaltenauswählsignal auf hoch über
führt. Wie es in Fig. 21 dargestellt ist, geht in einem Le
semodus des Leseverstärkers, wenn das in Fig. 18 dargestell
te Signal SALE, das sowohl den ersten als auch den zweiten
NMOS-Transistor MN1 und MN2 aktiviert, in einer Periode auf
den hohen Pegel über, in der sich sowohl die Wortleitung W/L
als auch die Plattenleitung P/L auf dem hohen Pegel befin
den, das Spaltenauswählsignal anschließend auf den hohen
Pegel über. Der Übergangsbetrieb für das Spaltenauswählsig
nal erfolgt sukzessive bis zu einer Periode t10. Abweichend
von diesem Lesemodus erfolgt im durch Fig. 22 veranschau
lichten Schreibmodus ein Übergangsvorgang für das Spalten
auswählsignal sukzessive nur innerhalb von Perioden t6 und
t7 solcher Perioden, in denen sowohl die Wortleitung W/L als
auch die Plattenleitung P/L auf hohem Potenzial liegen.
D. h., dass dann, wenn das sowohl den ersten als auch den
zweiten NMOS-Transistor MN1 und MN2 aktivierende Signal SALE
auf den hohen Pegel aktiviert wird, wie es in Fig. 18 darge
stellt ist, die Spaltenauswählsignale COL. SEL.1, COL. SEL2.,
COL. SEL.3, . . ., COL. SEL.n sukzessive innerhalb der Perioden
t6 und t7 innerhalb der Perioden, in denen sich sowohl die
Wortleitung als auch die Plattenleitung auf hohem Pegel be
finden, einem Übergang unterzogen werden. Nachdem alle Spal
tenauswählsignale sukzessive auf den hohen Pegel überführt
wurden, wird die Wortleitung W/L auf niedrig gebracht, und
wenn sie erneut von niedrig auf hoch gebracht wird, wird die
Plattenleitung P/L auf niedrig gebracht.
Aus dem Betriebszeitdiagramm der Fig. 23a für den in Fig. 19
dargestellten Leseverstärker des zweiten Ausführungsbei
spiels ist erkennbar, dass das Leseverstärker-Aktivierungs
signal SEN zum selben Zeitpunkt auf niedrig aktiviert wird,
zu dem sich sowohl die Wortleitung W/L als auch die Platten
leitung P/L auf hohem Pegel befinden. D. h., dass die Lesege
schwindigkeit dadurch verbessert werden kann, dass das Lese
verstärker-Aktivierungssignal SEN vor dem o. g. Signal SALE
aktiviert wird.
Fig. 23b veranschaulicht ein zeitbezogenes Diagramm betref
fend den Vergleich von im Leseverstärker der Fig. 19 verwen
deten Signalen mit einem Signal REFCON, das bei der Pegel
schiebeeinrichtung des zweiten Ausführungsbeispiels gemäß
Fig. 17b verwendet wird.
Aus Fig. 23b ist erkennbar, dass das Leseverstärker-Aktivie
rungssignal SEN zum selben Zeitpunkt auf niedrig aktiviert
wird, zu dem das Steuerungssignal REFCON, das beim Stabili
sieren des Pegels am Ausgangsanschluss der Pegelschiebeein
richtung verwendet wird, einen Übergang aufweist. D. h., dass
durch Kompensieren einer Pegelschwankung am Ausgangsan
schluss der Pegelschiebeeinrichtung unter Verwendung von
REFCON vor dem Aktivieren des Signals SALE auf hoch der Le
severstärker, der die Bezugsspannung CREF von der Pegel
schiebeeinrichtung empfängt, einen stabilen Betrieb ausfüh
ren kann.
Fig. 24 veranschaulicht ein Zellenarraysystem eines nicht-
flüchtigen ferroelektrischen Speichers gemäß einem bevorzug
ten zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung. Wenn das in
Fig. 24 dargestellte Zellenarray mit dem in Fig. 6 darge
stellten verglichen wird, ist erkennbar, dass beim in Fig.
24 dargestellten Zellenarray eine Hauptbitleitungssteuerung
und eine Bezugsbitleitungssteuerung nicht nur unter dem
Hauptzellenarray sondern, für besseres Layout, auch über dem
Hauptzellenarray vorhanden sind.
D. h., dass das zweite Ausführungsbeispiel eines erfindungs
gemäßen Zellenarrays gemäß Fig. 24 Folgendes aufweist: Ein
Hauptzellenarray 201, eine erste Hauptbitleitungssteuerung
203a und eine zweite Hauptbitleitungssteuerung 203b, die
über und unter dem Hauptzellenarray 201 ausgebildet sind;
einen Wortleitungstreiber 205, der auf einer Seite des
Hauptzellenarrays 201 ausgebildet ist, einen Plattenlei
tungstreiber 207, der auf der anderen Seite des Hauptzellen
arrays 201 ausgebildet ist; und eine erste Bitleitungssteue
rung 209a und eine zweite Bitleitungssteuerung 209b, die auf
einer Seite der ersten bzw. zweiten Hauptbitleitungssteue
rung 203a und 203b ausgebildet sind.
Fig. 25 veranschaulicht eine Einzelheit des Systems der Fig.
24 mit Konzentration auf ein Hauptzellenarray. Gemäß Fig. 5
sind von den globalen Hauptbitleitungen im Hauptzellenarray
201 die ungeradzahligen globalen Hauptbitleitungen BLG_n,
BLG_n+2, BLG_n+4, . . . mit der zweiten Hauptbitleitungssteue
rung 203b unter der globalen Hauptbitleitung verbunden, und
die geradzahligen globalen Hauptbitleitungen BLG_n+1,
BLG_n+3, BLG_n+5, . . . sind mit der ersten Hauptbitleitungs
steuerung 203a über der globalen Hauptbitleitung verbunden.
Die globalen Hauptbitleitungen BLG_1 und BLG_2 sind mit den
Bezugsbitleitungssteuerungen 209a und 209b über und unter
dem Hauptzellenarray verbunden, wobei jede der Bezugsbitlei
tungssteuerungen 209a und 209b zwei globale Bezugsbitleitun
gen BLRG_1 und BLRG_2 übernimmt. Außerdem beinhaltet, wie
erläutert, das Hauptzellenarray 201 mehrere Unterzellenar
rays 201_1, 201_2, . . .. Entsprechend der globalen Hauptbit
leitung verfügt jedes der Unterzellenarrays über lokale
Hauptbitleitungen. Z. B. sind entsprechend der ersten globa
len Hauptbitleitung BLG_n mehrere lokale Hauptbitleitungen
BLL1_n, BLL2 n, . . ., BLLn_n vorhanden. Außerdem sind auch
die globalen Bezugsbitleitungen BLRG_1, BLRG_2 mit lokalen
Bezugsbitleitungen versehen. Z._B. existieren mehrere lokale
Bezugsbitleitungen BLLR1_1, BLLR2_1, . . ., BLLRn_1, die ent
sprechend der ersten globalen Bezugsbitleitung BLRG_1 vor
handen sind. Die lokalen Hauptbitleitungen, die jeweils für
eines der Unterzellenarrays ausgebildet sind, werden unter
Verwendung von Schaltern SW11 bis SWnn auf relevante globale
Hauptbitleitungen geschaltet. Wenn die Schalter selektiv
ein-/ausgeschaltet werden, werden relevante lokale Hauptbit
leitungen mit der globalen Hauptbitleitung verbunden. In
diesem Fall wird, wenn einer der Schalter SW11, SW12, SW13,
. . . , SW1n, der in einem Unterzellenarray, z. B. dem ersten
Unterzellenarray 201_1, eingeschaltet ist, mit einer unge
radzahligen globalen Hauptbitleitung BLG_n oder BLG_n+2 oder
BLG_n+4, . . . verbunden, und der Datenwert auf der relevanten
lokalen Hauptbitleitung wird an den Hauptleseverstärker
(nicht dargestellt) in der zweiten Hauptbitleitungssteuerung
203b übertragen. Wenn Verbindung mit einer geradzahligen
globalen Hauptbitleitung BLG_n+1 oder BLG_n+3 oder BLG_n+5,
. . . besteht, wird der Datenwert an den Bezugsleseverstärker
(nicht dargestellt) in der ersten Hauptbitleitungssteuerung
203a übertragen.
Fig. 26 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms von Fig. 24
mit Konzentration auf eine erste Hauptbitleitungssteuerung
und eine erste Bezugsbitleitungssteuerung.
Gemäß Fig. 26 verfügt die erste Bezugsbitleitungssteuerung
209a über einen Bezugsleseverstärker 204a, und die erste
Hauptbitleitungssteuerung 203a verfügt über einen Hauptlese
verstärker 206_n+1, 206_n+3, 206_n+5, . . . an jeder geradzah
ligen globalen Hauptbitleitung BLG_n+1, BLG_n+3, BLG_n+5,
. . . Außerdem verfügt auch die zweite Hauptbitleitungssteue
rung über einen Hauptleseverstärker (nicht dargestellt), da
die ungeradzahligen globalen Hauptbitleitungen BLG_n,
BLG_n+2, BLG_n+4, . . . mit der zweiten Hauptbitleitungssteue
rung (nicht dargestellt) verbunden sind. Außerdem ist, wie
beim ersten, in Fig. 13 dargestellten Ausführungsbeispiel
der Erfindung, zwischen benachbarten globalen Hauptbitlei
tungen eine Bitleitungs-Vorabladeschaltung 208a 1, 208a 2,
. . . vorhanden. Außerdem ist eine Bitleitungs-Vorabladeschal
tung 210a zwischen die letzte globale Hauptbitleitung und
eine globale Bezugsbitleitung BLRG_2 geschaltet, die mit dem
Bezugsleseverstärker 204a verbunden ist. Die erste Bezugs
bitleitungssteuerung 207a arbeitet für zwei globale Bezugs
bitleitungen BLRG_1, BLRG_2, von denen die eine mit dem Be
zugsleseverstärker 204a verbunden ist und die andere eine
konstante Spannung erhält. Die Hauptleseverstärker 206_n+1,
206_n+3, . . . in der ersten Hauptbitleitungssteuerung 203a
werden mit der Bezugsspannung CREF vom Bezugsleseverstärker
204a versorgt.
Fig. 27 zeigt eine Einzelheit des Blockdiagramms der Fig. 24
mit Konzentration auf eine zweite Hauptbitleitungssteuerung
und eine zweite Bezugsbitleitungssteuerung.
Gemäß Fig. 27 ist das System aus der zweiten Hauptbitlei
tungssteuerung 203b und der zweiten Bezugsbitleitungssteue
rung 209b identisch mit dem o. g. mit der ersten Hauptbitlei
tungssteuerung und der ersten Bezugsbitleitungssteuerung
209a. D. h., dass die zweite Bezugsbitleitungssteuerung 209b
über einen Bezugsleseverstärker 204b verfügt und die zweite
Hauptbitleitungssteuerung 203b an jeder ungeradzahligen glo
balen Hauptbitleitung BLG_n, BLG_n+2, . . . über einen Haupt
leseverstärker 206_n, 206_n+2 verfügt. Mit dem Bezugslese
verstärker 204b ist eine globale Bezugsbitleitung BLRG_2
verbunden, und an die andere wird eine konstante Spannung
angelegt. Außerdem ist zwischen benachbarten globalen Haupt
bitleitungen eine Bitleitungs-Vorabladeschaltung 208b_1,
208b_2, . . . vorhanden, und die Hauptleseverstärker 206_n,
206_n+2, . . . erhalten gemeinsam die vom Bezugsleseverstärker
204b gelieferte Bezugsspannung CREF. Das detaillierte System
des Unterzellenarrays beim zweiten Ausführungsbeispiel der
Erfindung ist identisch mit dem beim ersten Ausführungsbei
spiel, das unter Bezugnahme auf die Fig. 10 erläutert wurde,
weswegen hier eine Erläuterung weggelassen wird. Außerdem
sind die Systeme des Leseverstärkers, der Pegelschiebeein
richtung und der Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrichtung
beim nichtflüchtigen ferroelektrischen Speicher des zweiten
Ausführungsbeispiels identisch mit denen beim obigen ersten
Ausführungsbeispiel.
Die Schaltung des ersten und zweiten Ausführungsbeispiels
zum Ansteuern eines erfindungsgemäßen nichtflüchtigen ferro
elektrischen Speichers zeigen die folgenden Vorteile.
Da auf eine Bezugszelle immer dann einmal zugegriffen wird,
wenn auf eine Hauptzelle einmal zugegriffen wird, sind die
Zugriffszahlen für jede Bezugszelle und jede Hauptzelle
gleich. Daher kann, im Gegensatz zum Stand der Technik, bei
dem übermäßig oft auf eine Bezugszelle im Vergleich zu einer
Hauptzelle zugegriffen wird, die Bauteil-Lebensdauer verlän
gert werden, da die durch die Bezugszelle und die Hauptzelle
induzierten Spannungen auf demselben Wert gehalten werden
können. Außerdem erlaubt eine stabile Lieferung der Lesever
stärker-Bezugsspannung einen stabilen Lesevorgang.
Claims (21)
1. Nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher mit:
- - einem Hauptzellenarray (61) mit einer Anzahl von Unterzel lenarrays (61_1, 61_2, . . .), einer Anzahl globaler Hauptbit leitungen (BLG_n, BLG_n+1, . . .), die über die Unterzellen arrays hinweg angeordnet sind, und mindestens einem Paar globaler Bezugsbitleitungen (BLRG_1, BLRG_2), lokalen Haupt bitleitungen (BLL1-n, BLL2-n, . . .) und lokalen Bezugsbitlei tungen (BLLR_1, BLLR_2), die entsprechend den globalen Hauptbitleitungen und den globalen Bezugsbitleitungen ausge bildet sind, und mit Schaltern zwischen den lokalen Bitlei tungen und einer relevanten globalen Bitleitung;
- - einer Bezugsbitleitungssteuerung (69) mit einem über oder unter dem Hauptzellenarray ausgebildeten Bezugsleseverstär ker zum Erfassen eines Signals, das über eine Bitleitung eines Paars globaler Bezugsbitleitungen geliefert wird, um eine Bezugsspannung zu erzeugen;
- - einer Hauptbitleitungssteuerung (67) mit einer Anzahl von Hauptleseverstärkern, die auf einer Seite der Bezugsbitlei tungssteuerung ausgebildet sind und mit den globalen Haupt bitleitungen verbunden sind, um jeweils die Bezugsspannung zu empfangen und sie über eine relevante globale Bitleitung weiterzuleiten;
- - einem Wortleitungstreiber (63), der auf einer Seite des Hauptzellenarrays ausgebildet ist, um ein Ansteuerungssignal zum Auswählen einer Zelle zu liefern; und
- - einem Plattenleitungstreiber (65), der auf der anderen Seite des Hauptzellenarrays ausgebildet ist, um ein Ansteue rungssignal zum Auswählen einer Zelle, gemeinsam mit dem An steuerungssignal des Wortleitungstreibers, zu liefern.
2. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
das Unterzellenarray (61) Folgendes aufweist:
- - eine Anzahl von Wortleitungspaaren aus einer Wortleitung (W/L) und einer Plattenleitung (P/L), die über die globalen Bitleitungen hinweg ausgebildet sind;
- - lokale Bitleitungen, die entsprechend den globalen Bitlei tungen ausgebildet sind; und
- - eine Anzahl von Einheitszellen, von denen jede mit einer der lokalen Bitleitungen eines Paars aus einer lokalen Bit leitung und einer Wortleitung als Grundeinheit verbunden ist.
3. Speicher nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass
die Einheitszelle einen Transistor (T1) mit einem mit der
Wortleitung (W/L) verbundenen Gateanschluss, einem mit der
lokalen Bitleitung (BLL_n) verbundenen Sourceanschluss und
einem Drainanschluss aufweist, der mit der anderen Seite
eines ferroelektrischen Kondensators (FC1) verbunden ist,
dessen eine Seite mit der Plattenleitung (P/L) verbunden
ist.
4. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
die Hauptbitleitungssteuerung (67) ferner eine Vorablade
schaltung (68_1, 68_2, . . .) zum Vorabladen benachbarter glo
baler Bitleitungen auf einen erforderlichen Pegel aufweist.
5. Speicher nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass
eine der globalen Bitleitungen mit dem Datenwert nur einer
Einheitszelle versorgt wird, die aus einer Anzahl von mit
relevanten lokalen Bitleitungen verbundenen Einheitszellen
ausgewählt wurde.
6. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
an eine globale Bezugsbitleitung (BLRG_1), die unter den
globalen Bezugsbitleitungen (BLRG_1, BLRG_2) nicht mit dem
Bezugsleseverstärker verbunden wurde, eine konstante Span
nung angelegt wird.
7. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
die Bezugsbitleitungssteuerung (69) ferner eine Bitleitungs-
Vorabladeschaltung aufweist, die zwischen der mit dem Be
zugsleseverstärker (69_1) verbundenen globalen Bezugsbitlei
tung und der letzten globalen Hauptbitleitung (BLG_n+n) un
ter den globalen Hauptbitleitungen (BLG_n, BLG_n+1, . . .)
ausgebildet ist.
8. Speicher nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass
die Bitleitungs-Vorabladeschaltung Folgendes aufweist:
- - eine Anzahl globaler Bitleitungen (BLG_n, BLG_n+1, . . .);
- - einen Ausgleichsschalter (71_1, 71_2, . . .), der zwischen benachbarten globalen Bitleitungen vorhanden ist; und
- - eine Anzahl von Bitleitungs-Vorabladeschaltern (72_1, 72_2, . . .), von denen jeder zum Schalten eines Vorabladesig nals dient, das die Bitleitung auf die globale Bitleitung vorab lädt.
9. Speicher nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass
jeder Bitleitungs-Ausgleichsschalter und jeder Bitleitungs-
Vorabladeschalter einen NMOS-Transistor enthält.
10. Speicher nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass
der Pegel des Bitleitungs-Vorabladesignals der Schwellen
spannung des NMOS-Transistors entspricht oder geringfügig
höher ist.
11. Speicher nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass
der Bitleitungs-Ausgleichsschalter (71_1, 71_2, . . .) auf ein
Schaltersteuerungssignal zum Ausgleichen zweier benachbarter
globaler Bitleitungen auf gleiche Pegel eingeschaltet wird.
12. Speicher nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
dass das Vorabladesignal durch eine Bitleitungsvorabla
depegel-Liefereinrichtung geliefert wird, die folgendes
aufweist:
- - einen ersten PMOS-Transistor, dessen Source mit einer Spannungsquelle verbunden ist und der so ausgebildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal zur Verwendung beim Aktivieren der Bitleitungsvorabladepegel-Liefereinrich tung gesteuert wird;
- - einen zweiten PMOS-Transistor und einen dritten PMOS- Transistor, deren Source jeweils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und deren Gate miteinander verbunden sind;
- - einen ersten NMOS-Transistor, der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS-Transis tors gesteuert wird, um selektiv eine Massespannung zu liefern;
- - einen zweiten NMOS-Transistor, der zwischen den zwei ten PMOS-Transistor und den ersten NMOS-Transistor ge schaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch eine ex terne Bezugsspannung gesteuert wird;
- - einen dritten NMOS-Transistor, der zwischen den drit ten PMOS-Transistor und den ersten NMOS-Transistor ge schaltet und so ausgebildet ist, dass er durch die Span nung an einem Ausgangsanschluss (Knoten 1) gesteuert wird;
- - einen vierten PMOS-Transistor und einen fünften PMOS- Transistor, deren Drain jeweils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistor verbunden ist und deren Gates miteinander verbunden sind;
- - einen vierten NMOS-Transistor, der so ausgebildet ist, dass er durch die Gatespannungen des vierten und des fünften PMOS-Transistors gesteuert wird, um selektiv die Massespannung zu liefern;
- - einen fünften NMOS-Transistor, dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des fünf ten PMOS-Transistors gesteuert wird;
- - einen sechsten NMOS-Transistor, der zwischen das Gate und den Drain des fünften NMOS-Transistors geschaltet und so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Transistors gesteuert wird;
- - einen siebten NMOS-Transistor, der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS- Transistors gesteuert wird, und der zwischen den vierten PMOS-Transistor und den vierten NMOS-Transistor geschal tet ist;
- - einen achten NMOS-Transistor, der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Transis tors geschaltet wird, und der zwischen den fünften PMOS- Transistor und den vierten NMOS-Transistor geschaltet ist;
- - einen neunten NMOS-Transistor, der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS- Transistors gesteuert wird, und dessen Drain mit dem Aus gangsanschluss (Knoten 1) verbunden ist; und
- - einen zehnten Transistor, der zwischen die Source des neunten NMOS-Transistors und den Masseanschluss geschal tet ist, und dessen Gate und Drain miteinander verbunden sind.
13. Speicher nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass
das Vorabladesignal an eine Bitleitungsvorabladepegel-Lie
fereinrichtung geliefert wird, die Folgendes aufweist:
- - einen ersten PMOS-Transistor (MP1), dessen Source mit einer Spannungsquelle (Vcc) verbunden ist und der so ausge bildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal (BQLEN) zur Verwendung beim Aktivieren der Bitleitungsvorabladepegel- Liefereinrichtung gesteuert wird;
- - einen zweiten PMOS-Transistor (MP2) und einen dritten PMOS-Transistor (MP3), deren Source jeweils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und deren Gates miteinander verbunden sind;
- - einen ersten NMOS-Transistor (MN1), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS-Tran sistors gesteuert wird, um selektiv eine Massespannung zu liefern;
- - einen zweiten NMOS-Transistor (MN2), der zwischen den zweiten PMOS-Transistor und den ersten NMOS-Transistor ge schaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch eine ex terne Bezugsspannung (REF_IN) gesteuert wird;
- - einen dritten NMOS-Transistor (MN3), der zwischen den dritten PMOS-Transistor und den ersten NMOS-Transistor ge schaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch die Span nung an einem Ausgangsanschluss (Knoten 1) gesteuert wird;
- - einen vierten PMOS-Transistor (MP4) und einen fünften PMOS-Transistor (MP5), deren Drain jeweils mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und deren Gates mit einander verbunden sind;
- - einen vierten NMOS-Transistor (MN4), der so ausgebildet ist, dass er durch die Gatespannungen des vierten und des fünften PMOS-Transistors gesteuert wird, um selektiv die Massespannung liefern;
- - einen fünften NMOS-Transistor (MN5), dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des fünften PMOS-Transistors gesteuert wird;
- - einen sechsten NMOS-Transistor (MN6), der zwischen das Gate und den Drain des fünften NMOS-Transistors geschaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Transistors gesteuert wird;
- - einen siebten NMOS-Transistor (MN7), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS-Tran sistors gesteuert wird, und der zwischen den vierten PMOS- Transistor und den vierten NMOS-Transistor geschaltet ist;
- - einen achten NMOS-Transistor (MN8), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Tran sistors geschaltet wird, und der zwischen den fünften PMOS- Transistor und den vierten NMOS-Transistor geschaltet ist;
- - einen neunten NMOS-Transistor (MN9), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten NMOS-Tran sistors gesteuert wird und dessen Drain mit dem Ausgangsan schluss (Knoten 1) verbunden ist;
- - einen zehnten Transistor (MN10), der zwischen die Source des neunten NMOS-Transistors (MN9) und den Masseanschluss (Vss) geschaltet ist und dessen Gate und Drain miteinander verbunden sind;
- - einen sechsten PMOS-Transistor (MP6), der zwischen die Spannungsquelle und den ersten PMOS-Transistor geschaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch ein Aktivierungs signal (BQLEN) zur Verwendung beim Aktivieren der Bitlei tungsvorabladepegel-Liefereinrichtung gesteuert wird; und
- - einen siebten PMOS-Transistor (MP7) und einen elften NMOS- Transistor (MN11), die in Reihe zwischen den sechsten PMOS- Transistor und den Masseanschluss geschaltet sind.
14. Speicher nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass
das Gate und der Drain des elften NMOS-Transistors gemeinsam
mit dem Gate des zweiten NMOS-Transistors verbunden sind.
15. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
der Bezugsleseverstärker Folgendes aufweist:
- - eine Pegelschiebeeinrichtung (80) zum Empfangen eines Sig nals über eine globale Bezugsbitleitung und zum Verschieben des Pegels des Signals; und
- - eine Pulldownsteuerung zum Herunterziehen des Pegels der Bezugsbitleitung;
- - wobei die Pegelschiebeeinrichtung Folgendes aufweist:
- - einen ersten PMOS-Transistor (MP1), der so ausgebildet ist, dass er durch ein Aktivierungssignal (LSEN) zum Akti vieren der Pegelschiebeeinrichtung gesteuert wird, und des sen Source mit einer Spannungsquelle (Vcc) verbunden ist;
- - einen zweiten PMOS-Transistor (MP2) und einen dritten PMOS-Transistor (MP3), die mit dem Drain des ersten PMOS- Transistors verbunden sind;
- - einen ersten NMOS-Transistor (MN1), der mit dem zweiten PMOS-Transistor verbunden ist und so ausgebildet ist, dass er durch ein Signal (BLRG_2) auf der globalen Bezugsbitlei tung gesteuert wird;
- - einen zweiten NMOS-Transistor (MN2), der zwischen den ersten NMOS-Transistor und den dritten NMOS-Transistor ge schaltet ist und dessen Source mit dem Drain des ersten NMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen dritten NMOS-Transistor (MN3), der zwischen die Sources des ersten und zweiten NMOS-Transistor und den Mas seanschluss (Vss) geschaltet ist und so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des zweiten PMOS-Transistors gesteuert wird;
- - einen vierten PMOS-Transistor (MP4) und einen fünften PMOS-Transistor (MP5), deren Source jeweils gemeinsam mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und de ren Gates miteinander verbunden sind;
- - einen vierten NMOS-Transistor (MN4), der so ausgebildet ist, dass er durch ein Signal (BLRG_2) auf der globalen Be zugsbitleitung gesteuert wird und dessen Drain mit dem Drain des vierten PMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen fünften NMOS-Transistor (MN5), der so ausgebildet ist, dass er durch die Spannung am Ausgangsanschluss (Knoten 1) gesteuert wird und dessen Drain mit dem Drain des fünften PMOS-Transistors verbunden ist und dessen Source mit der Source des vierten NMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen sechsten NMOS-Transistor (MN6), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des fünften NMOS-Tran sistors gesteuert wird und der zwischen die Sources des vierten und fünften NMOS-Transistor und den Masseanschluss geschaltet ist;
- - einen sechsten PMOS-Transistor (MP6), der so ausgebildet ist, dass er durch ein Steuerungssignal (REFCON) für die ex terne Bezugsspannung gesteuert wird und dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen siebten NMOS-Transistor (MN7), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des dritten PMOS-Tran sistors gesteuert wird und dessen Source mit dem Drain des sechsten PMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen achten NMOS-Transistor (MN8), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des vierten NMOS-Tran sistors gesteuert wird und der zwischen den Drain des drit ten PMOS-Transistors und den Drain des siebten NMOS-Transis tors geschaltet ist;
- - einen neunten NMOS-Transistor (MN9) und einen zehnten NMOS-Transistor (MN10), die so ausgebildet sind, dass sie durch das Bezugsspannungs-Steuerungssignal gesteuert werden, und die in Reihe zwischen den siebten NMOS-Transistor und den Masseanschluss geschaltet sind; und
- - einen siebten PMOS-Transistor (MP7), der so ausgebildet ist, dass er durch die Drainspannung des vierten NMOS-Tran sistors gesteuert wird und dessen Source mit dem Drain des ersten PMOS-Transistors verbunden ist und dessen Drain mit dem Ausgangsanschluss (Knoten 1) verbunden ist.
16. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
der Hauptleseverstärker (67_1, 67_2, . . .) Folgendes auf
weist:
- - einen ersten NMOS-Transistor (MN1), mit einer Source, die sowohl an einer globalen Bitleitung, die mit einer oberen Hauptzelle verbunden ist, als auch einer globalen Bitlei tung, die mit einer unteren Hauptzelle verbunden ist, ange schlossen ist;
- - einen zweiten NMOS-Transistor (MN2) mit einer Source, die an die mit einer oberen Bezugszelle verbundene globale Be zugsbitleitung und die mit einer unteren Bezugszelle verbun dene globale Bezugsbitleitung angeschlossen ist und dessen Gate mit dem Gate des ersten NMOS-Transistors verbunden ist;
- - einen dritten NMOS-Transistor (MN3) zum Verstärken der vom ersten NMOS-Transistor empfangenen Signalspannung;
- - einen vierten NMOS-Transistor (MN4) zum Verstärken einer über den zweiten NMOS-Transistor empfangenen Bezugsspannung; und
- - einen zweiten Verstärker (103) mit einer Latchstufe zur Sekundärverstärkung einer durch den dritten und vierten NMOS-Transistor verstärkten Spannung.
17. Speicher nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass
die Latchstufe einen ersten Inverter (103a) und einen zwei
ten Inverter (103b) aufweist, wobei das gemeinsame Gate des
PMOS-Transistors und des NMOS-Transistors im ersten Inverter
mit dem Drain eines PMOS-Transistors im zweiten Inverter
verbunden ist und das gemeinsame Gate des PMOS-Transistors
und des NMOS-Transistors im zweiten Inverter mit dem Drain
des PMOS-Transistors im ersten Inverter verbunden ist.
18. Speicher nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass
die Drains des NMOS-Transistors im ersten Inverter (103a)
und des NMOS-Transistors im zweiten Inverter (103b) gemein
sam an einen Eingangsanschluss für ein Leseverstärker-Akti
vierungssignal (SEN) angeschlossen sind.
19. Speicher nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch einen
fünften NMOS-Transistor (MN5) zwischen der Source des ersten
NMOS-Transistors (MN1) und einer mit der oberen Hauptzelle
verbundenen globalen Bitleitung (BLGT), einen sechsten NMOS-
Transistor (MN6) zwischen der Source des ersten NMOS-Tran
sistors und einer globalen Bitleitung (BLGB), die mit der
unteren Hauptzelle verbunden ist, einen siebten NMOS-Tran
sistor (MN7) zwischen der Source des zweiten NMOS-Transis
tors (MN2) und einer mit der oberen Bezugszelle verbundenen
globalen Bezugsbitleitung (CREF), und einen achten NMOS-
Transistor (MN8) zwischen der Source des zweiten NMOS-Tran
sistors (MN2) und der mit der unteren Hauptzelle verbundenen
globalen Bitleitung (CREFB).
20. Speicher nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch einen
neunten NMOS-Transistor (MN9) zum selektiven Umschalten zwi
schen dem Ausgangsanschluss des Leseverstärkers und dem Da
tenbus auf ein Spaltenauswählsignal hin, und einen zehnten
NMOS-Transistor (MN10) zum selektiven Umschalten zwischen
dem Datenbus.
21. Nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher mit:
- - einem Hauptzellenarray (201) mit einer Anzahl von Unter zellenarrays (201_1, 201_2, . . .); einer Anzahl globaler Bit leitungen (BLG_n, BLG_n+1, . . .) über die Unterzellenarrays hinweg, und mit mindestens einem Paar aus globalen Bezugs bitleitungen (BLRG_1, BLRG_2), lokalen Hauptbitleitungen (BLL_n, BLL_n+1, . . .) und lokalen Bezugsbitleitungen (BLLR_1, BLLR_2), die entsprechend den globalen Hauptbitlei tungen und den globalen Bezugsbitleitungen ausgebildet sind, und Schaltern (SW21, SW22, . . .), die jeweils zwischen einer der lokalen Bitleitungen und einer relevanten globalen Bit leitung angeordnet sind;
- - einer ersten Bezugsbitleitungssteuerung (209a) eines ersten Bezugsleseverstärkers, der über dem Hauptzellenarray ausgebildet ist, um ein Signal zu erfassen, das über eine Bitleitung eines Paars globaler Bezugsbitleitungen geliefert wurde, um eine erste Bezugsspannung zu liefern;
- - einer zweiten Bezugsbitleitungssteuerung (209b) eines zweiten Bezugsleseverstärkers, der unter dem Hauptzellenar ray ausgebildet ist, um eine mit der ersten Bezugsspannung identische Spannung zu liefern;
- - einer ersten Hauptbitleitungssteuerung (203a) für Hauptle severstärker, die auf einer Seite der ersten Bezugsbitlei tungssteuerung (209a) ausgebildet sind, die mit allen gerad zahligen globalen Hauptbitleitungen unter der Anzahl global er Hauptbitleitungen verbunden ist, um die erste Bezugsspan nung zu empfangen, um ein über eine relevante globale Bit leitung geliefertes Signal zu erfassen;
- - einer zweiten Hauptbitleitungssteuerung (203b) für Haupt leseverstärker, die auf einer Seite der zweiten Bezugsbit leitungssteuerung (209b) ausgebildet sind, die mit allen ungeradzahligen globalen Hauptbitleitungen unter der Anzahl globaler Hauptbitleitungen verbunden ist, um die zweite Be zugsspannung zu empfangen, um ein über eine relevante globa le Bitleitung geliefertes Signal zu erfassen;
- - einem Wortleitungstreiber (205), der auf einer Seite des Hauptzellenarrays ausgebildet ist, um ein Ansteuerungssignal zum Auswählen einer Zelle zu liefern; und
- - einem Plattenleitungstreiber (207), der auf der anderen Seite des Hauptzellenarrays ausgebildet ist, um ein Ansteue rungssignal zum Auswählen einer Zelle, gemeinsam mit einem vom Wortleitungstreiber gelieferten Ansteuerungssignal, zu liefern.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR60408/98 | 1998-12-29 | ||
KR1019980060408A KR100281125B1 (ko) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | 비휘발성 강유전체 메모리장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19963417A1 true DE19963417A1 (de) | 2000-07-20 |
DE19963417B4 DE19963417B4 (de) | 2007-02-15 |
Family
ID=19567225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19963417A Expired - Fee Related DE19963417B4 (de) | 1998-12-29 | 1999-12-28 | Nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000195278A (de) |
KR (1) | KR100281125B1 (de) |
DE (1) | DE19963417B4 (de) |
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1998
- 1998-12-29 KR KR1019980060408A patent/KR100281125B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-12-22 JP JP11364055A patent/JP2000195278A/ja active Pending
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DE19963417B4 (de) | 2007-02-15 |
JP2000195278A (ja) | 2000-07-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
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