DE19754616A1 - Halbleitersensorbauelement - Google Patents

Halbleitersensorbauelement

Info

Publication number
DE19754616A1
DE19754616A1 DE19754616A DE19754616A DE19754616A1 DE 19754616 A1 DE19754616 A1 DE 19754616A1 DE 19754616 A DE19754616 A DE 19754616A DE 19754616 A DE19754616 A DE 19754616A DE 19754616 A1 DE19754616 A1 DE 19754616A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pressure
resin
chip
sensor
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19754616A
Other languages
English (en)
Other versions
DE19754616B4 (de
Inventor
Hiroshi Nomura
Yukihiro Kato
Akira Shintai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP32879496A external-priority patent/JP3620184B2/ja
Priority claimed from JP32981896A external-priority patent/JP3620185B2/ja
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Publication of DE19754616A1 publication Critical patent/DE19754616A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19754616B4 publication Critical patent/DE19754616B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/142Multiple part housings
    • G01L19/143Two part housings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/14Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
    • B29C45/14639Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles for obtaining an insulating effect, e.g. for electrical components
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/0061Electrical connection means
    • G01L19/0084Electrical connection means to the outside of the housing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/147Details about the mounting of the sensor to support or covering means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/85909Post-treatment of the connector or wire bonding area
    • H01L2224/8592Applying permanent coating, e.g. protective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Halblei­ tersensorbauelement, welches beispielsweise als Drucksensor zum Erfassen eines Einlaßdrucks eines Motors in einem Kraftfahrzeug verwendet werden kann.
Fig. 15 stellt die Struktur eines herkömmlichen Einlaß­ drucksensors für ein Kraftfahrzeug dar. Ein druckempfindli­ ches Element 101 ist an einer Oberflächenseite eines Kera­ miksubstrats 100 befestigt. Das druckempfindliche Element 101 ist durch einen Sensorchip 101a und einen Glassockel 101b gebildet und erfaßt einen zu messenden Druck eines Me­ diums (Einlaßluft eines Motors). Ein IC (Integrated Circuit) für eine Signalverarbeitungsschaltung 102 ist an der anderen Oberflächenseite des Keramiksubstrats 100 befe­ stigt. Der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 102 und das druckempfindliche Element 101 sind durch eine auf dem Keramiksubstrat 100 gebildete Verdrahtung und Bond­ drähte 103 und 104 elektrisch miteinander verbunden. Ein Sensorsignal wird im Ansprechen auf einen von dem druckemp­ findlichen Element 101 erfaßten Druck von dem IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 102 ausgegeben.
Das Keramiksubstrat 100 ist an einem Gehäuse 106 befe­ stigt, in welchen ein Anschluß 105 durch Umgießen bzw. Um­ spritzen eingesetzt ist. Ein Ende des Anschlusses 105 ist über einen Bonddraht 107 und eine Verdrahtung auf dem Ke­ ramiksubstrat 100 mit dem IC-Chip für die Signalverarbei­ tungsschaltung 102 elektrisch verbunden. Ein anderes Ende des Anschlusses 105 ist an einem Verbindungsstück 106a des Gehäuses 106 bloßgelegt. Eine elektrische Leitung nach au­ ßen ist an dem anderen Ende des Anschlusses 105 vorgesehen.
Ein oberer Deckel 108 und ein unterer Deckel 109, wel­ cher ein Druckeinführungsloch 109a besitzt, sind an dem Ge­ häuse 106 befestigt. Der Druck wird von dem Druckeinfüh­ rungsloch 109a des unteren Deckels 109 in eine Druckaufnah­ mekammer 110 eingeführt, und der eingeführte Druck wird von dem druckempfindlichen Element 101 erfaßt. Des weiteren sind der obere Deckel 108, der untere Deckel 109 und das Gehäuse 106 aus Harz gebildet. Der obere Deckel 108 und der untere Deckel 109 sind an dem Gehäuse 106 mit einem Haft- bzw. Klebemittel 111 befestigt. Ebenfalls ist das Kera­ miksubstrat 100 an dem Gehäuse 106 mit dem Haftmittel 111 befestigt. Infolge der Befestigung unter Verwendung des Haftmittels sind die Druckaufnahmekammer 110 und eine Kam­ mer (Schaltkreiskammer) 112, in welcher der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung angeordnet ist, luftdicht ab­ geschlossen. Des weiteren ist ein Entlüftungsloch 108a zum Entlassen von Luft aus dem Inneren während einer Erwärmungs- und Trocknungs- bzw. Aushärtungsoperation, welches auf dem oberen Deckel 108 gebildet ist, durch das Haft- bzw. Klebe­ mittel 111 verschlossen.
Ein zu messendes Medium (Luft), welches durch das Druckeinführungsloch 109a eingeführt wird, enthält Abgas und säurehaltiges bzw. säurebildendes kondensiertes Wasser, welches durch Kühlung des Abgases erzeugt wird. Daher kann durch Bereitstellen des druckempfindlichen Elements 101 zum Erfassen eines Drucks und des IC-Chips für die Signalverar­ beitungsschaltung 102 zum Durchführen einer Signalverarbei­ tung in getrennten Kammern der IC-Chip für die Signalverar­ beitungsschaltung 102 vor einer verunreinigten Umgebung der Druckaufnahmekammer 110 geschützt werden.
Um jedoch das druckempfindliche Element 101 und den IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 102 in getrennten Kammern bereitzustellen und sie in einem luftdichten Zu­ stand zu halten, muß zusätzlich zu der luftdichten Haftung des unteren Deckels 109 und des Gehäuses 106 eine luft­ dichte Haftung zwischen dem oberen Deckel 108 und dem Ge­ häuse 106, zwischen dem Keramiksubstrat 100 und dem Gehäuse 106 und dem Entlüftungsloch 108a in dem unteren Deckel je­ weils erzielt werden, was eine Schwierigkeit im Hinblick auf die Luftdichtigkeit und Komplexidität der Struktur dar­ stellt. In der offengelegten japanischen Patentanmeldung Nr. H.7-243926 wird als Bauelement zur Unterstützung der Luftdichtigkeit ein Bauelement mit einer Struktur offen­ bart, bei welcher ein Metalldiaphragma verwendet wird und eine Verschiebung des Metalldiaphragmas auf ein druckemp­ findliches Element durch Silikonöl übertragen wird. Wenn jedoch Silikonöl verwendet wird, wird die Druckerfassungs­ genauigkeit durch thermische Ausdehnung davon verringert.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Halblei­ tersensorbauelement bereitzustellen, welches zum Schützen eines IC-Chips für eine Signalverarbeitungsschaltung gegen­ über einer verunreinigten Umgebung und außerdem zum Durch­ führen einer Erfassung mit hoher Genauigkeit geeignet ist, ohne daß ein druckempfindliches Element und der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung in separaten Kammern vor­ gesehen werden.
Die Lösung der Aufgabe erfolgt durch die Merkmale der nebengeordneten unabhängigen Ansprüche.
Entsprechend der vorliegenden Erfindung ist ein IC-Chip für eine Signalverarbeitungsschaltung in einem umspritzten bzw. umgegossenen IC integriert (enthalten), und ein druck­ empfindliches Element ist integriert darauf vorgesehen. Der umspritzte IC, welcher wie oben beschrieben gebildet ist, ist in einem Gehäuse untergebracht. Wenn der umspritzte IC in dem Gehäuse untergebracht wird, wird der umspritzte IC an dem Gehäuse in einem Zustand befestigt, bei welchem beide Enden der Kontaktstifte des Verbindungsstücks, welche in dem Gehäuse umspritzt werden, elektrisch mit äußeren An­ schlüssen des umspritzten IC's verbunden. Dadurch wird ein Sensorsignal von anderen Enden der Kontaktstifte des Ver­ bindungsstücks ausgegeben. Durch Integrieren des IC-Chips für die Signalverarbeitungsschaltung in dem umspritzten IC kann der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung vor einer verunreinigten Umgebung an einer Stelle geschützt werden, an welcher das druckempfindliche Element angeordnet ist.
Das druckempfindliche Element und der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung können unter Verwendung von Leiterrahmen spezifisch miteinander verbunden werden. In diesem Fall können die Leiterrahmen als externe Anschlüsse verwendet werden.
Wenn eine Öffnung auf dem umspritzten IC gebildet wird und das druckempfindliche Element in der Öffnung instal­ liert wird, werden das druckempfindliche Element und die Leiterrahmen, welche durch die Öffnung bloßgelegt sind, durch Drahtbonden elektrisch miteinander verbunden, und das druckempfindliche Element und die Leiterrahmen können her­ vorragend gebondet werden.
Wenn der Leiterrahmen durch eine 42er Legierung (42 al­ loy) gebildet wird und der umspritzte IC durch ein in Wärme ausgehärtendes Harz umspritzt wird, können die jeweiligen thermischen Ausdehnungskoeffizienten angepaßt werden, und es kann daher verhindert werden, daß die Leiterrahmen sich von dem umspritzten IC durch thermische Spannung abtrennen.
Wenn der umspritzte IC durch ein Harzeinspritzmittel fest an dem Harzgehäuse anhaftet und die äußeren Anschlüsse des umspritzten IC's und die in das Gehäuse durch Umsprit­ zen eingesetzte Kontaktstifte des Verbindungsstücks durch das Harzeinspritzmittel bedeckt werden, können die äußeren Anschlüsse und die Kontaktstifte des Verbindungsstücks ebenfalls vor einer verunreinigten Umgebung in einer Druck­ aufnahmekammer geschützt werden.
Wenn eine Öffnung in Form einer Ausnehmung in dem um­ spritzten IC gebildet wird und ein druckempfindliches Ele­ ment in der Öffnung angeordnet wird, wird es bevorzugt, ein anderes Ausnehmungsteil an einem Teil gegenüberliegend der in Form einer Ausnehmung gebildeten Öffnung auf der Rück­ seitenoberfläche des umspritzten IC's zu bilden. Wenn ein Harzblock zur Bildung des umspritzten IC's gegossen wird, wird dadurch ein Widerstand gegenüber dem Harzfluß sowohl von der als Aussparung gebildeten Öffnung zum Anordnen des druckempfindlichen Elements als auch von dem Aussparungs­ teil auf der Rückseitenoberfläche aufgebracht. Dementspre­ chend wird es dem Harz nicht ermöglicht, abweichend zu ei­ ner Oberflächenseite zu fließen. Als Ergebnis kann ein Harzblock, welcher hervorragend mit Harz angefüllt ist, ge­ bildet werden, ohne daß Blasen in dem Harzblock verbleiben.
Die vorliegende Erfindung wird in der nachfolgenden Be­ schreibung unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert.
Fig. 1 zeigt eine Draufsicht auf einen Halbleiterdruck­ sensor einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfin­ dung;
Fig. 2 zeigt eine Querschnittsansicht entlang Linie II-II von Fig. 1;
Fig. 3 zeigt eine Querschnittsansicht entlang Linie III-III eines in Fig. 1 dargestellten umspritzten IC's;
Fig. 4 zeigt eine Querschnittsansicht entlang Linie IV-IV von Fig. 1;
Fig. 5 zeigt eine Querschnittsansicht, welche den Drucksensor in einem Zustand darstellt, bei welchem ein Deckel 30 auf einem Gehäuse 20 befestigt ist;
Fig. 6 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Halbleiterdrucksensor einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
Fig. 7 zeigt eine Draufsicht auf den Halbleiterdruck­ sensor der zweiten Ausführungsform;
Fig. 8 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Drucksensor in einem Zustand darstellt, bei welchem ein um­ spritzter IC auf einem Gehäuse eines Hauptkörpers ange­ bracht ist;
Fig. 9 zeigt eine Draufsicht, welche den Drucksensor in einem Zustand darstellt, bei welchem ein Deckel des Gehäu­ ses des Hauptkörpers entfernt ist;
Fig. 10 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Zustand darstellt, bei welchem Harz beim Gießen eines Harz­ blocks fließt;
Fig. 11 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Halbleiterdrucksensor einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dargestellt;
Fig. 12 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Halbleiterdrucksensor einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
Fig. 13 zeigt eine Querschnittsansicht, welche einen Halbleiterdrucksensor einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt;
Fig. 14 zeigt eine Draufsicht, welche den Drucksensor in einem Zustand darstellt, bei welchem ein Deckel eines Gehäuses des Hauptkörpers entfernt ist; und
Fig. 15 zeigt eine Querschnittsansicht, welche eine Struktur eines herkömmlichen Halbleiterdrucksensors dar­ stellt.
Fig. 1 bis 4 stellen die Struktur eines Halbleiter­ drucksensors einer ersten Ausführungsform dar. Fig. 1 zeigt eine Draufsicht darauf, Fig. 2 zeigt eine Querschnittsan­ sicht entlang Linie II-II eines umspritzten IC's von Fig. 1, Fig. 3 zeigt eine Querschnittsansicht entlang Linie III-III des in Fig. 1 dargestellten umspritzten IC's 1, und Fig. 4 zeigt eine Querschnittsansicht entlang Linie IV-IV des umspritzten IC's 1 von Fig. 1.
Der Halbleiterdrucksensor der ersten Ausführungsform wird als Einlaßdrucksensor für einen Motor eines Kraftfahr­ zeugs verwendet, welcher durch Anordnen eines umspritzten IC's 1 in einem Gehäuse 20 gebildet wird.
Der umspritzte IC 1 wird durch Gießen eines Harzblocks 3 gebildet, in welchen Leiterrahmen 2 eingesetzt sind, die durch eine 42er Legierung (42 alloy) gebildet sind, wobei Epoxidharz einschließlich eines Füllmittels verwendet wird. Eine Öffnung 3a ist in dem Harzblock 3 des umspritzten IC's 1 gebildet. Ein druckempfindliches Element (Abtasteinheit) 10 zum Erfassen eines Drucks ist innerhalb der Öffnung 3a angebracht. Wie in Fig. 3 und Fig. 4 dargestellt ist das druckempfindliche Element 10 durch einen aus einem Silizi­ umsubstrat gebildeten Sensorchip 11 und einem anodisch auf den Sensorchip 11 gebondeten Glassockel 13 gebildet. Ein Diaphragma 11a, welches durch einen aufgenommenen Druck verschoben wird, ist in dem Sensorchip 11 gebildet. Eine Diffusionslehre 12, deren Widerstandswert entsprechend der Verschiebung des Diaphragmas 11a geändert wird, ist auf der Oberfläche des Diaphragmas 11a gebildet. Des weiteren ist eine Bezugsdruckkammer zwischen dem Sensorchip 11 und dem Glassockel 13 gebildet, und das Diaphragma 11a wird ent­ sprechend einer Differenz zwischen einem an die Oberfläche angelegten Druck und einem Druck in der Bezugsdruckkammer verschoben. Das druckempfindliche Element 10 haftet fest auf dem Harzblock 3 innerhalb der Öffnung 3a durch ein Harzhaftmittel 14 an. Des weiteren bedeckt ein organisches, gelähnliches Schutzteil 15 die Umgebung des druckempfindli­ chen Elements 10 und das druckempfindliche Element 10. Das Schutzteil 15 schützt nicht nur den Sensorchip 11 vor einer Verunreinigung, sondern isoliert die Leiterrahmen 2 elek­ trisch voneinander. Des weiteren sind Bonddrähte 16, welche nicht von dem gelähnlichen Schutzteil 10 bedeckt sind, mit einer nicht dargestellten organischen, aufgedampften Schicht versehen, wodurch die Bonddrähte 16 elektrisch von­ einander isoliert sind.
Die auf der Oberfläche des Sensorchips 11 gebildete Diffusionslehre 12 ist elektrisch mit den Leiterrahmen 2 durch eine nicht dargestellte Verdrahtungsstruktur einer Aluminiumdünnschicht verbunden, welche auf dem Sensorchip und den Bonddrähten 16 gebildet ist. Wie in Fig. 4 darge­ stellt wird ein elektrisches Signal davon einem IC-Chip für eine Signalverarbeitungsschaltung 17 ausgegeben, welche auf dem Rahmen 2 an der Innenseite des umspritzten IC's 1 vor­ gesehen ist, und wird als Sensorsignal ausgegeben, nachdem eine vorbestimmte Signalverarbeitung in dem IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 17 durchgeführt worden ist. D.h. der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 17 ist elektrisch mit drei äußeren Anschlüssen 2a, 2b und 2c verbunden, die durch die Leiterrahmen 2 gebildet sind. Die äußeren Anschlüsse 2a, 2b bzw. 2c bilden einen Spannungs­ quellenanschluß, einen Masseanschluß und einen Sensorsi­ gnalausgangsanschluß des IC-Chips für die Signalverarbei­ tungsschaltung 17.
Das Gehäuse 20 ist aus Harz gebildet, beispielsweise aus PBT (Polybuthylentherephtalat). Wie in Fig. 2 darge­ stellt ist das Gehäuse 20 mit einer Öffnung 20a zum Unter­ bringen des umspritzten IC's 1 und eines Verbindungsstücks 20b versehen. Drei aus Kupfer hergestellte Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbindungsstücks sind in das Gehäuse 20 eingesetzt. Enden der Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbindungsstücks sind jeweils an den äußeren Anschlüssen 2a, 2b und 2c durch Schweißen in einem elektrisch leitenden Zustand befestigt. Des weiteren sind jeweils die anderen Enden der Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbindungs­ stücks in dem Verbindungsstück 20b bloßgelegt, und die elektrische Leitung nach außen erfolgt durch die bloßgeleg­ ten Teile.
Der umspritzte IC 1 ist in der Öffnung 20a des Gehäuses 20 durch ein Harzeinspritzmittel (Vergußmittel) 4 befe­ stigt. In diesem Fall werden die äußeren Anschlüsse 2a, 2b und 2c und die Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbin­ dungsstücks durch das Harzeinspritzmittel 4 bedeckt, und daher kann verhindert werden, daß Wasser oder dergleichen zwischen den äußeren Anschlüssen 2a, 2b und 2c und dem Harzblock 3 in den umspritzten IC 1 eindringt. Des weiteren wird eine Korrosion der Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbindungsstücks verhindert, so daß ein elektrisches Leck nicht auftritt.
Nach dem Anbringen des umspritzten IC's 1 auf dem Ge­ häuse 20 wird wie in Fig. 5 dargestellt das Gehäuse mit ei­ nem Deckel 30 versehen. Der Deckel 30 ist mit einem Druck­ einführungsloch 30a zum Einführen eines Drucks in eine Druckaufnahmekammer 22 in dem Gehäuse 20 ausgestattet. Der Deckel 30 ist durch ein Haft- bzw. Klebemittel 31 fest mit dem Gehäuse 20 verbunden, wodurch die Druckaufnahmekammer 22 bezüglich der äußeren Umgebung verschlossen bzw. versie­ gelt ist. Des weiteren ist das Druckeinführungsloch 30a über einen nicht dargestellten Gummischlauch mit einem Aus­ gleichs- bzw. Auffangbehälter verbunden.
Entsprechend der oben beschriebenen Struktur wird der zu messende Druck eines Mediums (Luft), welche über das Druckeinführungsloch 30a des Deckels 30 in die Druckaufnah­ mekammer 22 eingeführt wird, durch das druckempfindliche Element 10 erfaßt. Das elektrische Signal von dem druckemp­ findlichen Element 10 wird dem IC-Chip für die Signalverar­ beitungsschaltung 17 über die Bonddrähte 16 und die Leiter­ rahmen 2 eingespeist. Des weiteren wird das elektrische Si­ gnal von dem IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 17 verstärkt und nach außen als Sensorsignal über den äuße­ ren Anschluß 2c und den Kontaktstift 21c des Verbindungs­ stücks ausgegeben.
Obwohl die Druckaufnahmekammer 22 wie bezüglich der herkömmlichen Technik beschrieben einer verschmutzten Umge­ bung ausgesetzt wird, kann der IC-Chip für die Signalverar­ beitungsschaltung 17 vor der verunreinigten Umgebung in der Druckaufnahmekammer 22 geschützt werden, da der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung in dem umspritzten IC 1 enthalten (vergraben) ist. Darüber hinaus sind die äußeren Anschlüsse 2a, 2b und 2c in dem umspritzten IC 1 und die Kontaktstifte 21a, 21b und 21c des Verbindungsstücks von dem Harzeinspritzmittel 4 bedeckt. Daher können diese vor der verschmutzten Umgebung der Druckaufnahmekammer 22 ge­ schützt werden.
Der umspritzte IC 1 ist in dem Gehäuse 20 fest unterge­ bracht bzw. angeordnet, und daher kann die Innenseite der Druckaufnahmekammer 22 lediglich durch luftdichtes Anhaften bzw. Kleben des Deckels 30 und des Gehäuses 20 in einem luftdichten Zustand gehalten werden, wodurch die Luftdich­ tigkeit durch eine einfache Struktur unterstützt werden kann.
Ein in Wärme aushärtendes Harz (Epoxidharz) wird für den Harzblock 3 verwendet, und dementsprechend wird der Harzblock 3 mit einer hervorragenden Verunreinigungswider­ standsfähigkeit versehen. Der thermische Ausdehnungskoeffi­ zient des Epoxidharzes einschließlich eines Füllmittels be­ trägt 14 ppm, welcher vergleichsweise nahe an dem thermi­ schen Ausdehnungskoeffizienten der 42er Legierung von 4 ppm liegt, welche das Material für die Leiterrahmen 2 bildet bzw. darstellt. Daher kann verhindert werden, daß sich der Harzblock 3 und die Leiterrahmen 2 durch thermische Span­ nung voneinander abtrennen.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben be­ schriebene erste Ausführungsform beschränkt, sondern kann innerhalb des Rahmens der Erfindung angemessen abgeändert werden. Beispielsweise können als Materialien zur Bildung des umspritzten IC's 1 und des Gehäuses 20 andere Materia­ lien als die oben beschriebenen angewandt werden.
Des weiteren können Löten, Abdichten bzw. Verstemmen (caulking) oder dergleichen außer Schweißen zum Befestigen der äußeren Anschlüsse 2a, 2b und 2c und der Kontaktstifte 21a, 21b bzw. 21c des Verbindungsstücks verwendet werden.
Des weiteren können die Leiterrahmen 2 und die Kontakt­ stifte 21a, 21b und 21c des Verbindungsstücks wie bei der oben beschriebenen Ausführungsform dargestellt unterschied­ liche Metalle aufweisen bzw. daraus bestehen oder können dasselbe Metall wie Kupfer oder dergleichen aufweisen bzw. daraus bestehen. In diesem Fall kann eine Signalleitung zum Übertragen eines Signals von dem IC-Chip für die Signalver­ arbeitungsschaltung zu dem Verbindungsstück 20b durch ein Material gebildet werden.
Des weiteren darf das druckempfindliche Element 10 nicht an der Innenseite der Öffnung 3a des umspritzten IC's 1 angeordnet werden, soweit es integriert mit dem umspritz­ ten IC 1 gebildet ist. Beispielsweise kann die obere Seite des umspritzten IC's 1 eben ausgebildet sein, und das druckempfindliche Element 10 kann darauf angebracht sein. Unter Berücksichtigung der Tatsache jedoch, daß das Draht­ bonden auf die Leiterrahmen 2 angewandt wird, wird das druckempfindliche Element 10 vorzugsweise an der Innenseite der Öffnung 3a dort angeordnet, wo die Leiterrahmen 2 wie bei der oben beschriebenen Ausführungsform bloßgelegt sind.
Im folgenden wird eine Erklärung einer zweiten Ausfüh­ rungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf Fig. 6 bis 10 beschrieben.
Fig. 6 und 7 zeigen einen Halbleiterdrucksensor 121 der zweiten Ausführungsform. Der Sensor wird beispielsweise zum Erfassen eines Einlaßluftdrucks eines Motors verwendet, dessen Druckmeßbereich beispielsweise bei etwa 10 kPa [abs] bis 250 kPa [abs] liegt. Die Einlaßluft, welche ein Medium zum Erfassen des Drucks darstellt, enthält Abgas, säurehal­ tiges bzw. säurebildendes kondensiertes Wasser, welches beim Kühlen des Abgases gebildet wird, und dergleichen. Da­ her wird der Halbleiterdrucksensor 121 in einer verunrei­ nigten Umgebung verwendet.
Der Halbleiterdrucksensor 121 ist derart gebildet, daß drei Anschlüsse 123 von einer Oberflächenseite eines Harz­ blocks 122 in ein rechteckiges Gefäß heraus geleitet werden, welches durch das später erwähnte Übertragungs- bzw. Trans­ fergußverfahren (transfer molding process) gebildet wird. Die drei Anschlüsse 123 sind entsprechend einem Spannungs­ quellenanschluß, einem Signalausgangsanschluß bzw. einem Masseanschluß vorgesehen. An der Innenseite des Harzblocks 122 sind ein Leiterrahmen 124 und ein IC-Chip für die Si­ gnalverarbeitungsschaltung 125 enthalten, welcher auf einem Leiterteil für die Signalverarbeitungsschaltung 124a des Leiterrahmens 124 angebracht ist.
Der Leiterrahmen 124 ist durch das Leiterteil für die Signalverarbeitungsschaltung 124a, drei Anschlußleiterteile 124b zum Bilden der Anschlüsse 123 und vier Leiterteile für das druckempfindliche Element 124c gebildet. Wenn ein Sen­ sorsignal dem IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 125 eingespeist wird, unterwirft der IC-Chip für die Si­ gnalverarbeitungsschaltung 125 das Signal der Signalverar­ beitung und gibt es als erfaßtes Signal aus. Sieben auf der Oberfläche des IC-Chips für die Signalverarbeitungsschal­ tung 125 gebildete Bondinseln und jeweilige Teile des Lei­ terrahmens 124 sind durch Bonddrähte 126 elektrisch verbun­ den.
Der Harzblock 122 ist mit einem in einer rechtwinkligen Aussparung auf einer Seite gebildeten Sensoranbringungsteil 127 vorgesehen, wo der IC-Chip für die Signalverarbeitungs­ schaltung 125 angebracht ist. Enden der Leiterteile für das druckempfindliche Element 124c des Leiterrahmens 124 sind an vier Ecken der Unterseite des Sensoranbringungsteils 127 bloßgelegt. Des weiteren sind auf der Rückseite des Sen­ soranbringungsteils 127 des Harzblocks 122 zwei Rinnen bzw. Gräben 128 mit einer Aussparungsform als Aussparungsteile gebildet. Die Gräben 128 dienen wie später erwähnt dazu, dem Harzfluß beim Gießen des Harzblocks 122 einen Wider­ stand entgegenzustellen. Haltestiftlöcher 128a, welche den umspritzten IC durchdringen, um die Rückseite der Leiter­ teile für das druckempfindliche Element 124c bloßzulegen, sind an beiden Enden der jeweiligen als Ausnehmung gebilde­ ten Rinnen 128 gebildet. Die Löcher 128a sind durch Halte­ stifte gebildet, welche die Leiterteile für das druckemp­ findliche Element 124c halten und welche von der Rückseite des umspritzten IC's beim Gießen des Harzblocks 122 einge­ setzt werden.
Ein Glassockel 129 ist an der Mitte des wie oben be­ schrieben gebildeten Sensoranbringungsteils 127 befestigt, und auf der Oberseite davon ist ein Drucksensorchip 130 durch anodisches Bonden befestigt. Der Drucksensorchip 130 ist aus einem Siliziumsubstrat gebildet. Ein Diaphragma ist durch Ätzen an dem mittleren Teil des Drucksensorchips 130 gebildet. Ein hermetisch umschlossener Raum ist zwischen dem Drucksensorchip 130 und dem Sockel 129 gebildet. Der Raum wird als Druckbezugskammer 130a verwendet. Eine Mehr­ zahl von Widerständen zur Anwendung eines piezoelektrischen Widerstandseffekts sind auf dem Diaphragmateil des Druck­ sensorchips 130 gebildet. Die in einer Mehrzahl vorkommen­ den Widerstände sind zur Bildung einer Brückenschaltung miteinander verbunden. Signalanschlüsse und Spannungsquel­ lenanschlüsse der Brückenschaltung sind mit vier Elektro­ denanschlußflächen des Drucksensorchips 130 jeweils verbun­ den.
Die Elektrodenanschlußflächen an vier Ecken des Druck­ sensorchips 130 und bloßgelegte Teile der Leiterteile für das druckempfindliche Element 124c sind durch Bonddrähte 131 elektrisch verbunden. Ein von dem Drucksensorchip 130 ausgegebenes Sensorsignal wird dem IC-Chip für die Signal­ verarbeitungsschaltung 125 über die Bonddrähte 131 und die Leiterteile für das druckempfindliche Element 124c einge­ speist. Wenn das Diaphragma des Drucksensorchips 130 durch den aufgenommenen Druck verschoben wird, ändern sich die Widerstandswerte der Widerstände durch den piezoelektri­ schen Widerstandseffekt. Daher wird der abgeglichene Zu­ stand der Brückenschaltung nicht aufrechterhalten, und es wird das Sensorsignal entsprechend dem Druck ausgegeben.
Wenn der Drucksensorchip 130 angebracht wird, wird ein Harz 132 zum Schutz auf das Diaphragma des Drucksensorchips 130 und auf die Oberflächenteile der Leiterteile für das druckempfindliche Element 124c aufgetragen, welche mit den Bonddrähten 131 verbunden sind. Das Harz 132 besitzt eine Härte eines Grads, bei welchem die Druckerfassungsoperation des Drucksensorchips 130 nicht behindert wird. Beispiels­ weise wird ein gelähnliches Material einer Silikonharz­ gruppe als Harz 132 verwendet. Der komplexe Elastizitätsmo­ dul des Materials beträgt beispielsweise 103 bis 105Pa. Ein dünnes Ummantelungsmittel ist auf die Oberfläche der Bond­ drähte 131 aufgetragen, wodurch ein elektrischer Isolie­ rungszustand sogar bei einer verschmutzten Umgebung auf­ rechterhalten wird.
Als nächstes wird eine Erklärung eines Zustands gege­ ben, bei welchem der Halbleiterdrucksensor 121 auf einem Gehäuse 133 angebracht ist. Entsprechend der Fig. 8 und 9 ist das Gehäuse 133 beispielsweise aus PBT-Harz gebildet. Das Gehäuse 133 ist mit einem Anbringungsteil 133a, dessen Anbringungsseite geöffnet ist, und einem Verbindungsteil 133b versehen. Drei Kontaktstifte 134 des Verbindungsstücks sind in dem Gehäuse 133 derart umspritzt, daß ein Ende der drei Kontaktstifte 134 des Verbindungsstücks in dem Verbin­ dungsteil 133b bloßgelegt sind.
Der Halbleiterdrucksensor 121 ist in dem Anbringungs­ teil 133a des Gehäuses 133 untergebracht. Drei Anschlüsse 123 (drei Anschlußleiterteile 124b) und die Kontaktstifte 134 des Verbindungsstücks sind durch Schweißen elektrisch verbunden. Des weiteren ist der Harzblock 122 des Halblei­ terdrucksensors 121 durch ein Vergußharz unter Verwendung eines Harzeinspritzmittels (Vergußversiegelungsmittel) 135 versiegelt bzw. verschlossen. Auf diese Weise ist der Halb­ leiterdrucksensor 121 mit der Innenseite des Gehäuses 133 fest verbunden.
Das Harzeinspritzmittel 135 muß eine derartige Härte und ein derartiges Haftvermögen besitzen, daß sogar dann nicht an der Innenseite des Anbringungsteils 133a Blasen erzeugt werden, wenn ein negativer Druck auf eine Lücke zwischen dem umspritzten IC und den eingesetzten Kontakt­ stiften 134 des Verbindungsstücks aufgebracht wird, der Harzblock 122, in welchem der IC-Chip für die Signalverar­ beitungsschaltung 125 enthalten ist, dauerhaft und fest an dem Anbringungsteil 133a anhaftet und die geschweißten Teile der Anschlüsse 123 und die Kontaktstifte 134 des Ver­ bindungsstücks sogar in einer verschmutzten Umgebung ge­ schützt werden können. Als derartiges Harzeinspritzmittel 135 ist beispielsweise ein Gummi einer Silikonharzgruppe, ein Harz einer Epoxidgruppe und dergleichen vorgesehen, welche ein Elastizitätsmodul von etwa 105 bis 106Pa besit­ zen.
Wenn der Halbleiterdrucksensor 121 in dem Gehäuse 133 angebracht worden ist, wird ein Deckel 137 aus einem PBT-Harz mit einer Öffnung 136 des Anbringungsteils 133a fest verbunden. Der Deckel 137 ist mit einem Druckeinführungs­ loch 138 versehen, welches in einer zylindrischen Form an einem mittleren Teil davon gebildet ist.
Im folgenden wird eine einfache Erklärung des Verfah­ rens des Gießens des Harzblocks 122 des Halbleiterdrucksen­ sors 121 gegeben. In Fig. 10 ist ein Zustand dargestellt, bei welchem Harz während der Gießoperation in einen Stempel bzw. eine Druckplatte fließt und der IC-Chip für die Si­ gnalverarbeitungsschaltung 125 auf dem Leiterrahmen 124 an­ gebracht ist. Die Bonddrähte 126 sind zwischen dem Leiter­ rahmen 124 und dem IC-Chip für die Signalverarbeitungs­ schaltung 125 angeschlossen. In diesem Zustand ist der Lei­ terrahmen 124 auf einem vorbestimmten Teil einer unteren Druckplatte 139 angebracht und wird von Haltestiften gehal­ ten. Nachdem die Druckplatte durch eine obere Druckplatte 140 geschlossen ist, wird als nächstes in Wärme aushärten­ des Harz 141 in die Druckplatte gegossen und durch einen Kolben 142 gepreßt. Wenn das in Wärme aushärtende Harz 141 unter Hitze in die obere und untere Druckplatte 139 und 140 gegossen wird, fließt das in Hitze aushärtende Harz unter einem durch den Kolben 142 hervorgerufenen Druck über einen Einlauf 143 in einen Hohlraum 144 zwischen der oberen und unteren Druckplatte 139 und 140. Da in diesem Fall ein In­ tervall zwischen einem Vorsprung 140a der oberen Druck­ platte 140 (einem Teil entsprechend dem Sensoranbringungs­ teil 127 des Harzblocks 122) und Vorsprüngen 139a und 139b der unteren Druckplatte 139 (Teilen entsprechend den Gräben 128 des Harzblocks 122) schmal gemacht wird, wird der Fluß des in Wärme aushärtenden Harzes 141 gleichförmig sowohl an der oberen als auch der unteren Seite des Leiterrahmens 124 unter Empfang eines Widerstands von den Vorsprüngen 140a, 139a und 139b gehemmt. Dadurch wird das in Wärme aushär­ tende Harz 141 in distale Endteile des Hohlraums 144 ge­ füllt, ohne daß Blasen zurückbleiben. Zu diesem Zeitpunkt wird Luft in der Innenseite des Hohlraums 144 über eine Entlüftung 145 nach außen entladen. Das auf diese Weise eingefüllte in Wärme aushärtende Harz 141 wird in der Druckplatte weiter erwärmt, getrocknet bzw. ausgehärtet und verfestigt, wodurch der Harzblock 122 gebildet wird. Danach wird das gegossene Produkt aus der oberen und unteren Druckplatte 139 und 140 herausgenommen und an dem Einlauf 143 abgetrennt, wodurch der Harzblock 122 erlangt werden kann.
Bei der Ausführungsform ist das Sensoranbringungsteil 127 in dem Harzblock 122 in einem Zustand gebildet, bei welchem der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschaltung 125 durch den mit dem in Wärme aushärtenden Harz 141 um­ spritzten Harzblock 122 eingeschlossen ist. Es ist daher nicht nötig, eine Umhüllung zum Schutz des IC-Chips für die Signalverarbeitungsschaltung 125 vor einer verschmutzten Umgebung vorzusehen, wenn der IC-Chip für die Signalverar­ beitungsschaltung 125 auf dem Gehäuse 133 angebracht wird, wodurch eine Zusammenbau- oder Anbringungsoperation einfach und kostengünstig durchgeführt werden kann. Des weiteren kann der umschlossene Zustand des IC-Chips für die Signal­ verarbeitungsschaltung 125 noch besser als bei Verwendung eines thermoplastischen Harzes oder dergleichen aufrechter­ halten werden.
Da das Sensoranbringungsteil 127 zum Anbringen des Drucksensorchips 130 auf dem Harzblock 122 in Form einer Ausnehmung gebildet wird, braucht ein Teil zum Trennen des Drucksensorchips 130 von dem Harzeinspritzmittel 135 zum Schützen der geschweißten Teile der Anschlüsse 123 und der Kontaktstifte 134 des Verbindungsstücks nicht getrennt vor­ gesehen werden. Daher kann eine Zahl von Teilen und eine Zahl von Anbringungsschritten verringert werden.
Des weiteren sind zwei der Gräben 128 entsprechend dem Sensoranbringungsteil 127 auf der Rückseite des Harzblocks 122 vorgesehen. Des weiteren wird ein Fluß des in Wärme aushärtenden Harzes 141 bei der Transfergußoperation an beiden Seiten des Leiterrahmens 124 gleichförmig gemacht. Als Ergebnis kann das Harz in distale Endteile des Hohl­ raums 144 eingefüllt werden, ohne daß Blasen oder derglei­ chen an der Innenseite davon verbleiben, wodurch ein höchstzuverlässiger Harzblock 122 hergestellt werden kann. Die Gräben 128 und die Haltekontaktstiftlöcher 128a werden vorzugsweise mit einem weichen Harz gefüllt. Da in diesem Fall die Haltekontaktstiftlöcher 128a in den Gräben 128 ge­ bildet werden, kann ein derartiges weiches Gebiet in den Haltekontaktstiftlöchern 128a leicht vorgesehen werden.
Fig. 11 zeigt eine dritte Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung. Ein Unterschied zu der zweiten Ausfüh­ rungsform besteht darin, daß der Harzblock 122 und ein Harzblock 147 verwendet wird, in welchem ein Graben 146 breit und flach auf der Rückseite des Harzblocks 147 gebil­ det wird. Die Dimensionen des Grabens 146 sind im wesentli­ chen gleich den Dimensionen der Öffnung des Sensoranbrin­ gungsteils 127. Die Dimension der Tiefe des Grabens 146 kann kleiner als bei der ersten Ausführungsform vorgesehen sein. Sogar mit einer derartigen Struktur kann beim Gießen des Harzblocks 147 durch den Transferguß das in Wärme aus­ härtende Harz 141 dazu gebracht werden, daß es gleichförmig in die oberen und unteren Teile des Leiterrahmens 124 fließt. Als Ergebnis kann der Harzblock 147 in einem Zu­ stand gegossen werden, bei welchem keine verbleibende Luft wie Blasen vorhanden ist.
Fig. 12 zeigt eine vierte Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung, und ein Unterschied zu der zweiten Aus­ führungsform besteht darin, daß anstelle des Harzblocks 122 ein Harzblock 149 verwendet werden, bei welchem ein Graben 148 schmal und tief auf der Rückseite des Harzblocks gebil­ det wird. Mit der vierten Ausführungsform kann eine Opera­ tion und ein Effekt ähnlich denen der zweiten Ausführungs­ form erzielt werden. Des weiteren wird es bevorzugt, daß die Dimension der Dicke des Harzblocks auf der Rückseite des Sensoranbringungsteils 127 auf einen Grad festgelegt wird, bei welchem die Stärke beim Anbringen des Drucksen­ sorchips 130 beibehalten werden kann.
Fig. 13 und 14 zeigen eine fünfte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Ein Unterschied zu der zweiten Ausführungsform besteht darin, daß anstelle des Harzblocks 122 ein Harzblock 150 vorgesehen wird. D.h. bei dem Harz­ block 150 gibt es kein Teil, welches eine Umfangswand an dem gesamten Rand eines Sensoranbringungsteils 151 bildet. Das in Wärme aushärtende Harz wird lediglich an einem Teil gebildet, an welchem der IC-Chip für die Signalverarbei­ tungsschaltung 125 angebracht wird.
Diese Ausführungsform ist für den Fall vorgesehen, bei welchem das Harz 132 zum Schutz des Drucksensorchips 130 ebenfalls als Harzeinspritzmittel zum Schutz von geschweiß­ ten Teilen von Anschlüssen 123 und der Kontaktstifte 134 des Verbindungsstücks verwendet werden kann. Wenn der Harz­ block 150 in dem Gehäuse 133 angebracht wird, wird das Ver­ siegeln mit vergossenem Harz durch das Harz 132 zum Schutz derart durchgeführt, daß ein ganzer Harzblock 150 bedeckt wird. Bei der fünften Ausführungsform wird das Harz 132 zum Schutz eingefüllt, um den Drucksensorchip 130 und den äuße­ ren Rand des Harzblocks 150 gleichzeitig durch Vergießen des Harzes derart zu bedecken, daß das Versiegeln mit ver­ gossenem Harz entsprechend der Verwendung durchgeführt wer­ den kann.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben be­ schriebenen Ausführungsformen beschränkt, sondern kann wie folgt modifiziert oder erweitert werden.
Das Harz 132 zum Schutz des Drucksensorchips 130 kann über dem gesamten Gebiet des Sensoranbringungsteils 127 vergossen werden.
Die vorliegende Erfindung kann zusätzlich zu dem Gas­ drucksensor (Luftdrucksensor) auf alle Halbleitersensorbau­ elemente wie einen Hydraulikdrucksensor, einen Feuchtesen­ sor, einen zusammengesetzten Sensor, einen optischen Sen­ sor, einen Beschleunigungssensor und dergleichen angewandt werden, wobei die Erfassungsoperation in einem Zustand durchgeführt wird, bei welchem die Halbleitersensorchips einem Einfluß einer Erfassungsumgebung unterliegen.
Vorstehend wurde ein Halbleitersensorbauelement offen­ bart. Ein IC-Chip für eine Signalverarbeitungsschaltung ist in einem umspritzten IC eingeschlossen, und ein druckemp­ findliches Element ist integriert darauf vorgesehen. Wenn der umspritzte IC in einem Gehäuse untergebracht wird, wird der umspritzte IC mit dem Gehäuse in einem Zustand befe­ stigt, bei welchem die Enden von Kontaktstiften eines Ver­ bindungsstücks, welche durch Umspritzen bzw. Umgießen in das Gehäuse eingesetzt sind, mit äußeren Anschlüssen des umspritzten IC's elektrisch verbunden sind. Dadurch wird ein Sensorsignal an anderen Enden der Kontaktstifte des Verbindungsstücks ausgegeben. Durch Eingliedern des IC-Chips für die Signalverarbeitungsschaltung in dem umspritz­ ten IC kann der IC-Chip für die Signalverarbeitungsschal­ tung gegenüber einer verschmutzten Umgebung an einer Stelle geschützt werden, an welcher das druckempfindliche Element angeordnet wird.

Claims (21)

1. Drucksensor mit:
einem umspritzten IC (1), in welchen ein IC-Chip (17) für eine Signalverarbeitungsschaltung eingegliedert ist und welcher einen äußeren Anschluß (2a bis 2c) aufweist;
einem druckempfindlichen Element (10), welches einge­ gliedert auf dem umspritzten IC (1) vorgesehen ist, wobei der IC-Chip (17) für die Signalverarbeitungsschaltung und das druckempfindliche Element (10) elektrisch miteinander verbunden sind und der IC-Chip (17) für die Signalverarbei­ tungsschaltung ein Sensorsignal entsprechend einem von dem druckempfindlichen Element erfaßten Druck an dem äußeren Anschluß (2a bis 2c) ausgibt;
einem Gehäuse (20, 30) zum Unterbringen des umspritz­ ten IC's (1); und
einem Kontaktstift (21a bis 21c) eines Verbindungs­ stücks, welches in dem Gehäuse durch Umspritzen eingesetzt ist, wobei ein Ende des Kontaktstifts (21a bis 21c) des Verbindungsstücks mit dem äußeren Anschluß (2a bis 2c) des umspritzten IC's (1) elektrisch verbunden wird, wenn der umspritzte IC (1) an dem Gehäuse befestigt wird, und das andere Ende des Kontaktstifts (21a bis 21c) des Verbin­ dungsstücks außerhalb des Gehäuses (20) bloßgelegt wird, um eine elektrische Leitung nach außen zu bilden.
2. Drucksensor nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Leiterrahmen (2), welcher innerhalb des umspritzten IC's (1) vorgesehen ist, wodurch das druckempfindliche Element (10) und der IC-Chip (17) für die Signalverarbeitungsschal­ tung elektrisch miteinander verbunden sind, und welcher den äußeren Anschluß (2a bis 2c) bildet.
3. Drucksensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Öffnung (3a) an dem umspritzten IC (1) derart ge­ bildet ist, daß ein Teil des Leiterrahmens (2) bloßgelegt ist, wobei das druckempfindliche Element (10) in der Öff­ nung installiert ist und das druckempfindliche Element (10) und der durch die Öffnung (3a) bloßgelegte Leiterrahmen (2) durch Drahtbonden elektrisch verbunden sind.
4. Drucksensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Leiterrahmen (2) durch eine 42er Legierung gebildet ist und der umspritzte IC (1) durch ein in Wärme aushärten­ des Harz umspritzt wird.
5. Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (20, 30) aus Harz gebildet ist, der um­ spritzte IC (1) durch ein Harzeinspritzmittel (4) fest an dem Gehäuse (20) anhaftet und das Harzeinspritzmittel (4) den äußeren Anschluß (2a bis 2c) und den Kontaktstift (21a bis 21c) des Verbindungsstücks bedeckt.
6. Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (20, 30) einen Deckel (30) mit einem Druck­ einführungsloch (30a) zum Einführen eines zu erfassenden Drucks eines Mediums in eine Kammer (22) aufweist, in wel­ cher das druckempfindliche Element (10) angeordnet ist.
7. Drucksensor mit:
einem umspritzten IC (1), in welchem ein IC-Chip (17) für eine Signalverarbeitungsschaltung mit Harz eingeschlos­ sen ist;
einem druckempfindlichen Element (10) zum Fühlen eines Drucks, welches integriert auf dem umspritzten IC (1) vor­ gesehen ist, wobei der IC-Chip (17) für die Signalverarbei­ tungsschaltung und das druckempfindliche Element (10) elek­ trisch miteinander verbunden sind, so daß der IC-Chip (17) für die Signalverarbeitungsschaltung ein Sensorsignal ent­ sprechend einem von dem druckempfindlichen Element (10) ab­ getasteten Druck ausgibt;
einem Gehäuse (20, 30), welches aus Harz gebildet ist und ein Öffnungsteil (20a) aufweist, wobei der umspritzte IC (1) innerhalb des Öffnungsteils (20a) durch ein Harzein­ spritzmittel (4) fest anhaftet; und
einer Signalübertragungseinrichtung (2a bis 2c, 21a bis 21c) zum Übertragen des von dem IC-Chip (17) für die Si­ gnalverarbeitungsschaltung ausgegebenen Sensorsignals von dem Inneren des umspritzten IC's (1) aus dem Gehäuse (20; 30) heraus.
8. Drucksensor nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch einen Leiterrahmen (2), welcher innerhalb des umspritzten IC's (1) vorgesehen ist, wodurch das druckempfindliche Element (10) und der IC-Chip (17) für die Signalverarbeitungsschal­ tung elektrisch miteinander verbunden sind.
9. Drucksensor nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine Öffnung (3a) an dem umspritzten IC (1) derart ge­ bildet ist, daß ein Teil des Leiterrahmens (2) bloßgelegt ist, das druckempfindliche Element (10) in der Öffnung (3a) installiert ist und das druckempfindliche Element (10) und der durch die Öffnung (3a) bloßgelegte Leiterrahmen (2) durch Drahtbonden miteinander elektrisch verbunden sind.
10. Drucksensor nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Leiterrahmen (2) durch eine 42er Legierung gebildet ist und der umspritzte IC (1) durch ein in Wärme aushärten­ des Harz umspritzt ist.
11. Drucksensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (20, 30) einen Deckel (30) mit einem Druck­ einführungsloch (30a) besitzt, um einen zu erfassenden Druck eines Mediums in eine Kammer (22) einzuführen, in welcher das druckempfindliche Element (10) angeordnet ist.
12. Halbleitersensor mit:
einem Halbleitersensorchip (130), welcher eine physika­ lische Größe erfaßt und ein dementsprechendes Signal er­ zeugt;
einem Hableiterschaltungschip (125), welcher das Signal von dem Halbleitersensorchip (130) verarbeitet, um ein Er­ fassungssignal zu erzeugen;
einem Leiterrahmen (124a bis 124c), welcher ein Halb­ leitersensorleiterteil (124c) für den elektrisch anzu­ schließenden Halbleitersensorchip (130) und ein Halbleiter­ schaltungsleiterteil (124a) für den anzubringenden Halblei­ terschaltungschip (125) aufweist; und
einem Harzblock (122), in welchem der auf dem Halblei­ terschaltungsleiterteil (124a) angebrachte und elektrisch damit verbundene Halbleiterschaltungschip (125) einge­ schlossen ist, wobei der Harzblock (122) ein Sensoranbrin­ gungsteil (127) aufweist, an welchem das Hableitersensor­ leiterteil (124c) bloßgelegt ist, und der Halbleitersen­ sorchip (130) auf dem Sensoranbringungsteil (127) ange­ bracht und mit dem Halbleitersensorleiterteil (124c) elek­ trisch verbunden ist, welches an dem Sensoranbringungsteil (127) bloßgelegt ist,
das Sensoranbringungsteil (127) in Form einer Ausspa­ rung derart gebildet ist, daß der Harzblock (122) den Rand des Sensoranbringungsteils (127) umgibt, und
ein Graben (128) auf der Rückseite des Harzblocks (122) in Übereinstimmung mit dem Sensoranbringungsteil (127) ge­ bildet ist, wobei der Graben (128) einen Widerstand gegen­ über einem Fluß von Harz beim Gießen des Harzblocks (122) bildet.
13. Halbleitersensor nach Anspruch 12, dadurch gekennzeich­ net, daß der Harzblock (122) unter Verwendung eines in Wärme aushärtenden Harzes gebildet wird.
14. Halbleitersensor nach Anspruch 12, dadurch gekennzeich­ net, daß der Graben (128) ein Teil (820) aufweist, welches nicht das Halbeitersensorleiterteil (124c) erreicht.
15. Halbleitersensor nach Anspruch 12, dadurch gekennzeich­ net, daß der Graben (128) ein erstes Teil (128), welches das Halbeitersensorleiterteil (124c) nicht erreicht, und ein zweites Teil (128a) aufweist, welches das Hableitersen­ sorleiterteil (124c) erreicht.
16. Halbleitersensor nach Anspruch 15, dadurch gekennzeich­ net, daß eine Längsrichtung des ersten Teils sich in etwa senkrecht zu einer Richtung des Flusses des Harzes beim Gießen des Harzblocks (122) erstreckt.
17. Halbleitersensor nach Anspruch 15, dadurch gekennzeich­ net, daß das zweite Teil (128a) in einem Gebiet gebildet ist, in welchem das erste Teil (128) gebildet ist.
18. Verfahren zum Herstellen eines Halbleitersensors mit den Schritten:
Festklemmen eines Leiterrahmens (124a bis 124c) zwi­ schen einer oberen Druckplatte (140) und einer unteren Druckplatte (139), wobei ein Hohlraum (144) zwischen der oberen Druckplatte (140) und der unteren Druckplatte (139) gebildet wird, die obere Druckplatte (140) mit einem in den Hohlraum (144) vorspringenden Vorsprung (140a) versehen ist, die untere Druckplatte (139) mit einem Vorsprung (139a, 139b) an einer Position gegenüberliegend dem Vor­ sprung (140a) der oberen Druckplatte (140) versehen ist und eine vorbestimmte Lücke zwischen dem Vorsprung (140a) der oberen Druckplatte (140) und dem Vorsprung (139a, 139b) der unteren Druckplatte (139) vorgesehen ist;
Einspritzen von Harz (141) in den Hohlraum (144), wobei das Harz (141) durch die Lücke zwischen dem Vorsprung (140a) der oberen Druckplatte (140) und dem Vorsprung (139a, 139b) der unteren Druckplatte (139) hindurchtritt;
Bilden eines Harzblocks (122) durch Aushärten des Har­ zes (141) und Entfernen des Harzblocks (122) aus der oberen Druckplatte (140) und der unteren Druckplatte (139); und
Anbringen eines Halbleitersensorchips (130) an der In­ nenseite einer Aussparung (127) des Harzblocks (122), wel­ che an einer Position entsprechend dem Vorsprung (140a) der oberen Druckplatte (140) gebildet ist.
19. Verfahren zum Herstellen eines Halbleitersensors nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorsprung (139a, 139b) der unteren Druckplatte (139) mit einer Form versehen ist, bei welcher eine Längsrichtung des Vorsprungs (139a, 139b) der unteren Druckplatte (139) sich in eine Richtung erstreckt, die im wesentlichen senkrecht zu einer Richtung eines Flusses des Harzes (141) in dem Schritt des Einspritzens des Harzes (141) in den Hohlraum (144) ausge­ richtet ist.
20. Verfahren zum Herstellen eines Halbleitersensors nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorsprung (140a) der oberen Druckplatte (140) gebildet wird, um einen Kontakt mit dem Leiterrahmen (124c) in dem Hohlraum (144) herzustellen.
21. Verfahren zum Herstellen eines Halbleitersensors nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des Vor­ sprungs (139a, 139b) der unteren Druckplatte (139) gebildet wird, um einen Kontakt mit dem Leiterrahmen (124c) in dem Hohlraum (144) herzustellen.
DE19754616A 1996-12-09 1997-12-09 Drucksensor Expired - Fee Related DE19754616B4 (de)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-328794 1996-12-09
JP32879496A JP3620184B2 (ja) 1996-12-09 1996-12-09 圧力センサ
JP8-329818 1996-12-10
JP32981896A JP3620185B2 (ja) 1996-12-10 1996-12-10 半導体センサ装置
DE19758891A DE19758891B4 (de) 1996-12-09 1997-12-09 Halbleitersensor und Verfahren zu dessen Herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19754616A1 true DE19754616A1 (de) 1998-06-10
DE19754616B4 DE19754616B4 (de) 2007-09-27

Family

ID=26572984

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19758891A Expired - Fee Related DE19758891B4 (de) 1996-12-09 1997-12-09 Halbleitersensor und Verfahren zu dessen Herstellung
DE19754616A Expired - Fee Related DE19754616B4 (de) 1996-12-09 1997-12-09 Drucksensor

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19758891A Expired - Fee Related DE19758891B4 (de) 1996-12-09 1997-12-09 Halbleitersensor und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5948991A (de)
DE (2) DE19758891B4 (de)
FR (1) FR2756923B1 (de)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19840829A1 (de) * 1998-09-07 2000-03-23 Siemens Ag Verfahren zum Befestigen eines mikromechanischen Sensors in einem Gehäuse und Sensoranordnung
FR2792411A1 (fr) * 1999-04-14 2000-10-20 Denso Corp Capteur de deformation a semiconducteurs
DE10054013A1 (de) * 2000-11-01 2002-05-23 Bosch Gmbh Robert Drucksensormodul
DE10330739A1 (de) * 2003-07-07 2004-09-23 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanisches Modul mit Sensor und Gehäuse sowie Verfahren zur Herstellung derselben
EP1602625A1 (de) * 2004-06-02 2005-12-07 Infineon Technologies AG Halbleitermodul mit einem Halbleiter-Sensorchip und einem Kunststoffgehäuse sowie Verfahren zu dessen Herstellung
EP1659386A1 (de) * 2003-08-26 2006-05-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Sensoreinrichtung
EP1726702A1 (de) 2005-05-23 2006-11-29 ITW Metalflex d.o.o. Tolmin Wasserdrucksensor für Waschmaschinen
DE102005046008A1 (de) * 2005-09-26 2007-03-29 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Sensorchip und Verfahren zur Herstellung desselben
WO2009115147A1 (de) * 2008-03-20 2009-09-24 Robert Bosch Gmbh Sensorvorrichtung und verfahren zur herstellung einer sensorvorrichtung
DE102009029281A1 (de) * 2009-09-08 2010-10-07 Robert Bosch Gmbh Modul und Verfahren zur Herstellung eines Moduls
DE102005060642B4 (de) * 2005-07-22 2011-03-31 Mitsubishi Denki K.K. Halbleiterdrucksensor
DE10321692B4 (de) * 2002-05-17 2011-12-29 Denso Corporation Verbesserung einer Drahtkontaktierbarkeit in einer gehäusten Sensoranordnung
EP3211394A1 (de) * 2016-02-29 2017-08-30 Melexis Technologies NV Halbleiterdrucksensor für anwendung in rauen medien
EP3396864A4 (de) * 2015-12-21 2019-05-01 Hosiden Corporation Kontaktloses kommunikationsmodul
DE102006017535B4 (de) * 2005-04-27 2020-07-09 Fuji Electric Co., Ltd. Druckfühler
US11697230B2 (en) 2019-01-23 2023-07-11 Zf Friedrichshafen Ag Method and tool for molding an electronic module, and molded electronic module

Families Citing this family (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19626081A1 (de) * 1996-06-28 1998-01-02 Siemens Ag Halbleiter-Bauelement
JPH11295172A (ja) * 1998-04-06 1999-10-29 Denso Corp 半導体圧力センサ
JP3521116B2 (ja) * 1998-08-26 2004-04-19 矢崎総業株式会社 パッキン一体型コネクタ及びその製造方法
JP3519958B2 (ja) * 1998-10-07 2004-04-19 株式会社リコー 基準電圧発生回路
JP3367458B2 (ja) 1999-03-30 2003-01-14 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
JP3452835B2 (ja) * 1999-05-28 2003-10-06 三菱電機株式会社 圧力センサ装置
JP4281178B2 (ja) * 1999-10-06 2009-06-17 株式会社デンソー 半導体圧力センサ
US20020095134A1 (en) * 1999-10-14 2002-07-18 Pettis Ronald J. Method for altering drug pharmacokinetics based on medical delivery platform
FR2812969B1 (fr) * 2000-08-11 2003-08-01 Thomson Csf Capteur micro-usine avec soudure electrolytique et procede de fabrication
JP2002183494A (ja) * 2000-12-15 2002-06-28 R & B 21:Kk グレーディングシステム、サーバコンピュータ、カードケース、及びカード
US20020079572A1 (en) 2000-12-22 2002-06-27 Khan Reza-Ur Rahman Enhanced die-up ball grid array and method for making the same
WO2002079743A1 (fr) * 2001-03-29 2002-10-10 Hitachi, Ltd. Capteur de pression a semi-conducteur
JP2003021647A (ja) * 2001-07-06 2003-01-24 Denso Corp 電子装置
JP4127396B2 (ja) * 2001-10-18 2008-07-30 株式会社日立製作所 センサ装置
JP3752444B2 (ja) 2001-11-16 2006-03-08 株式会社日立製作所 圧力検出装置
JP2003247903A (ja) * 2002-02-21 2003-09-05 Denso Corp 圧力センサ
US7304362B2 (en) * 2002-05-20 2007-12-04 Stmicroelectronics, Inc. Molded integrated circuit package with exposed active area
US7514283B2 (en) 2003-03-20 2009-04-07 Robert Bosch Gmbh Method of fabricating electromechanical device having a controlled atmosphere
JP2004356494A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Hitachi Ltd 電子装置および圧力検出装置
US6936491B2 (en) 2003-06-04 2005-08-30 Robert Bosch Gmbh Method of fabricating microelectromechanical systems and devices having trench isolated contacts
US7075160B2 (en) 2003-06-04 2006-07-11 Robert Bosch Gmbh Microelectromechanical systems and devices having thin film encapsulated mechanical structures
US6952041B2 (en) 2003-07-25 2005-10-04 Robert Bosch Gmbh Anchors for microelectromechanical systems having an SOI substrate, and method of fabricating same
US6927482B1 (en) 2003-10-01 2005-08-09 General Electric Company Surface mount package and method for forming multi-chip microsensor device
US7068125B2 (en) 2004-03-04 2006-06-27 Robert Bosch Gmbh Temperature controlled MEMS resonator and method for controlling resonator frequency
DE102004012593A1 (de) * 2004-03-12 2005-09-29 Robert Bosch Gmbh Sensormodul
US7102467B2 (en) 2004-04-28 2006-09-05 Robert Bosch Gmbh Method for adjusting the frequency of a MEMS resonator
JP2006019700A (ja) * 2004-06-03 2006-01-19 Denso Corp 半導体装置
JP4277079B2 (ja) * 2004-06-18 2009-06-10 Okiセミコンダクタ株式会社 半導体加速度センサ装置及びその製造方法
DE102005015455B4 (de) 2005-04-04 2021-03-18 Infineon Technologies Ag Kunststoffgehäuse und Halbleiterbauteil mit derartigem Kunststoffgehäuse sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Kunststoffgehäuses
DE102005015454B4 (de) * 2005-04-04 2010-02-18 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Hohlraumgehäuse und Sensorchip sowie Verfahren zur Herstellung desselben
SE528602C2 (sv) * 2005-06-10 2006-12-27 Assa Ab Nyckel samt sätt att tillverka sådan nyckel
DE102005054177B4 (de) * 2005-11-14 2011-12-22 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von gehäusten Sensormodulen
US20070170528A1 (en) 2006-01-20 2007-07-26 Aaron Partridge Wafer encapsulated microelectromechanical structure and method of manufacturing same
US20070197922A1 (en) * 2006-02-17 2007-08-23 Honeywell International Inc. Disposable pressure sensor systems and packages therefor
JP4249193B2 (ja) * 2006-02-20 2009-04-02 三菱電機株式会社 半導体圧力センサ装置
US7377177B1 (en) * 2007-04-13 2008-05-27 Honeywell International Inc. Pressure sensor method and apparatus
NL2000566C2 (nl) * 2007-03-30 2008-10-02 Elmos Advanced Packaging B V Sensorelement en sensorsamenstel met omhulling.
JP4348643B2 (ja) * 2007-06-19 2009-10-21 株式会社デンソー 樹脂漏れ検出方法及び樹脂漏れ検出装置
DE102007031562B4 (de) * 2007-07-06 2024-01-18 Robert Bosch Gmbh Gehäuse mit einem elektrischen Modul
ITMI20072099A1 (it) * 2007-10-30 2009-04-30 St Microelectronics Srl Metodo di fabbricazione di un dispositivo elettronico comprendente dispositivi mems incapsulati per stampaggio
US7832278B2 (en) * 2008-05-29 2010-11-16 Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co., Ltd. Multi-chip package
WO2010113712A1 (ja) * 2009-03-31 2010-10-07 アルプス電気株式会社 容量型湿度センサ及びその製造方法
DE102011004381A1 (de) * 2011-02-18 2012-08-23 Robert Bosch Gmbh Moldmodul mit Sensorelement
US9645163B2 (en) 2011-08-24 2017-05-09 Continental Teves Ag & Co. Ohg Sensor with a single electrical carrier means
US9368429B2 (en) 2011-10-25 2016-06-14 Intel Corporation Interposer for hermetic sealing of sensor chips and for their integration with integrated circuit chips
WO2013062533A1 (en) * 2011-10-25 2013-05-02 Intel Corporation Interposer for hermetic sealing of sensor chips and for their integration with integrated circuit chips
US20140238741A1 (en) * 2012-03-19 2014-08-28 Delphi Technologies, Inc. Hermetically sealed wire connector assembly and method of making same
CN102661829A (zh) * 2012-04-28 2012-09-12 无锡永阳电子科技有限公司 So8塑料封装传感器
DE102012010842A1 (de) * 2012-05-31 2013-12-05 Hella Kgaa Hueck & Co. Sensor mit von einem Substrat umhüllten Sensorelement
DE112013003548T5 (de) 2012-07-16 2015-04-02 Denso Corporation Elektronische Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE102012215285A1 (de) * 2012-08-29 2014-03-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Gehäuse, elektronische Baugruppe, Verfahren zum Herstellen eines Gehäuses und Verfahren zum Herstellen einer elektronischen Baugruppe
DE102012215928A1 (de) * 2012-09-07 2014-03-13 Zf Friedrichshafen Ag Verfahren und Vorrichtung mit einem Werkzeug zum Herstellen eines Elektrokomponententrägers
US8796866B2 (en) * 2012-10-16 2014-08-05 Continential Automotive Systems, Inc. Micro-electromechanical pressure sensor having reduced thermally-induced stress
DE102013217892A1 (de) 2012-12-20 2014-06-26 Continental Teves Ag & Co. Ohg Elektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Vorrichtung
US9448130B2 (en) * 2013-08-31 2016-09-20 Infineon Technologies Ag Sensor arrangement
JP6214433B2 (ja) 2013-10-04 2017-10-18 株式会社フジクラ 半導体圧力センサ
FR3015026B1 (fr) * 2013-12-12 2016-01-29 Sc2N Sa Capteur de mesure
DE102013226236A1 (de) * 2013-12-17 2015-06-18 Robert Bosch Gmbh Elektrische Baugruppe
KR20150074649A (ko) * 2013-12-24 2015-07-02 삼성전기주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US10395947B2 (en) 2014-02-27 2019-08-27 Denso Corporation Manufacturing method of a resin molded article
JP6352414B2 (ja) * 2014-06-17 2018-07-04 株式会社鷺宮製作所 センサユニット、および、それを備える圧力検出装置
US9598280B2 (en) * 2014-11-10 2017-03-21 Nxp Usa, Inc. Environmental sensor structure
JP6218724B2 (ja) * 2014-12-08 2017-10-25 アルプス電気株式会社 センサーモジュールおよびその製造方法
DE102015218876A1 (de) 2015-09-30 2017-03-30 Hella Kgaa Hueck & Co. Verfahren zur Herstellung eines Radoms und ein solches Radom
DE102016223816A1 (de) * 2016-11-30 2018-05-30 Robert Bosch Gmbh Verfahren zum Herstellen eines elektrischen oder mechanischen Elements
JP2018166083A (ja) * 2017-03-28 2018-10-25 アイシン精機株式会社 電子部品モジュール、及び電子部品モジュールの製造方法
CN108398203B (zh) * 2018-05-14 2024-06-04 苏州名列膜材料有限公司 一种阻液测试装置以及阻液测试系统
CN109830477B (zh) * 2019-03-01 2024-06-11 日月新半导体(苏州)有限公司 集成电路封装体及其制造方法与注塑治具
DE102019126763A1 (de) * 2019-10-04 2021-04-08 Schlaeger Kunststofftechnik Gmbh Verfahren zur Herstellung eines mit wenigstens einem Bauelement, insbesondere mit einem Funktionselement, versehenen Bauteils
DE102020212123A1 (de) 2020-09-25 2021-12-16 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Sensor und Verfahren zur Herstellung eines Sensors
DE102021212582A1 (de) 2021-11-09 2023-05-11 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Sensoranordnung, Brennstoffzellensystem mit einer Sensoranordnung und Verfahren zum Herstellen einer Sensoranordnung

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4295117A (en) * 1980-09-11 1981-10-13 General Motors Corporation Pressure sensor assembly
DE3200448C2 (de) * 1982-01-09 1986-03-06 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Druckwandleranordnung
JPS6097817A (ja) * 1983-11-02 1985-05-31 Hitachi Ltd 成形方法および成形機
US4655088A (en) * 1985-10-07 1987-04-07 Motorola, Inc. Unibody pressure transducer package
JPS62175633A (ja) * 1986-01-30 1987-08-01 Fujikura Ltd 半導体圧力センサ
JPH061226B2 (ja) * 1986-05-07 1994-01-05 日本電装株式会社 半導体圧力センサ
JPH0684918B2 (ja) * 1986-05-14 1994-10-26 日本電装株式会社 圧力センサ
US4850227A (en) * 1987-12-22 1989-07-25 Delco Electronics Corporation Pressure sensor and method of fabrication thereof
US4879903A (en) * 1988-09-02 1989-11-14 Nova Sensor Three part low cost sensor housing
JPH0290633A (ja) * 1988-09-28 1990-03-30 Nec Corp 半導体装置用樹脂封止金型
JP2634341B2 (ja) * 1991-11-11 1997-07-23 三菱電機株式会社 圧力センサ用リードフレームおよびその製造方法
JP2784286B2 (ja) * 1991-12-09 1998-08-06 三菱電機株式会社 半導体センサー装置の製造方法
JPH05203522A (ja) * 1992-01-23 1993-08-10 Mitsubishi Electric Corp モールドパッケージ半導体圧力センサおよびその製造方法
FR2707002A1 (en) * 1993-06-21 1994-12-30 Jaeger Improved screened electrical sensor
JP2991014B2 (ja) * 1993-10-08 1999-12-20 三菱電機株式会社 圧力センサ
JP3198773B2 (ja) * 1994-01-25 2001-08-13 株式会社デンソー 半導体圧力検出器及びその製造方法
JP3198779B2 (ja) * 1994-03-04 2001-08-13 株式会社デンソー 半導体圧力検出器の製造方法
JPH0868709A (ja) * 1994-08-31 1996-03-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガス圧力検知装置
AU5417096A (en) * 1995-02-24 1996-09-11 Lucas Novasensor Pressure sensor with transducer mounted on a metal base

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6350630B1 (en) 1998-09-07 2002-02-26 Siemens Aktiengesellschaft Method for attaching a micromechanical sensor in a housing and sensor assembly
DE19840829A1 (de) * 1998-09-07 2000-03-23 Siemens Ag Verfahren zum Befestigen eines mikromechanischen Sensors in einem Gehäuse und Sensoranordnung
DE19840829B4 (de) * 1998-09-07 2005-10-20 Siemens Ag Verfahren zum Befestigen eines mikromechanischen Sensors in einem Gehäuse und Sensoranordnung
FR2792411A1 (fr) * 1999-04-14 2000-10-20 Denso Corp Capteur de deformation a semiconducteurs
DE10054013B4 (de) * 2000-11-01 2007-06-21 Robert Bosch Gmbh Drucksensormodul
DE10054013A1 (de) * 2000-11-01 2002-05-23 Bosch Gmbh Robert Drucksensormodul
AU775608B2 (en) * 2000-11-01 2004-08-05 Robert Bosch Gmbh Pressure sensor module
CN1332190C (zh) * 2000-11-01 2007-08-15 罗伯特·博施有限公司 压力传感器组件
DE10321692B4 (de) * 2002-05-17 2011-12-29 Denso Corporation Verbesserung einer Drahtkontaktierbarkeit in einer gehäusten Sensoranordnung
DE10321692B9 (de) * 2002-05-17 2012-04-12 Denso Corporation Verbesserung einer Drahtkontaktierbarkeit in einer gehäusten Sensoranordnung
DE10330739A1 (de) * 2003-07-07 2004-09-23 Infineon Technologies Ag Mikroelektromechanisches Modul mit Sensor und Gehäuse sowie Verfahren zur Herstellung derselben
EP1659386A1 (de) * 2003-08-26 2006-05-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Sensoreinrichtung
EP1659386A4 (de) * 2003-08-26 2007-08-29 Matsushita Electric Works Ltd Sensoreinrichtung
DE102004027094A1 (de) * 2004-06-02 2005-12-29 Infineon Technologies Ag Halbleitermodul mit einem Halbleiter-Sensorchip und einem Kunststoffgehäuse sowie Verfahren zu dessen Herstellung
EP1602625A1 (de) * 2004-06-02 2005-12-07 Infineon Technologies AG Halbleitermodul mit einem Halbleiter-Sensorchip und einem Kunststoffgehäuse sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE102006017535B4 (de) * 2005-04-27 2020-07-09 Fuji Electric Co., Ltd. Druckfühler
EP1726702A1 (de) 2005-05-23 2006-11-29 ITW Metalflex d.o.o. Tolmin Wasserdrucksensor für Waschmaschinen
US7449647B2 (en) 2005-05-23 2008-11-11 Itw Metalflex Position transducer of water level in machine basin
DE102005060642B4 (de) * 2005-07-22 2011-03-31 Mitsubishi Denki K.K. Halbleiterdrucksensor
DE102005046008B4 (de) * 2005-09-26 2007-05-24 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Sensorchip und Verfahren zur Herstellung desselben
US7732915B2 (en) 2005-09-26 2010-06-08 Infineon Technologies Ag Semiconductor sensor device with sensor chip and method for producing the same
DE102005046008A1 (de) * 2005-09-26 2007-03-29 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Sensorchip und Verfahren zur Herstellung desselben
WO2009115147A1 (de) * 2008-03-20 2009-09-24 Robert Bosch Gmbh Sensorvorrichtung und verfahren zur herstellung einer sensorvorrichtung
DE102009029281A1 (de) * 2009-09-08 2010-10-07 Robert Bosch Gmbh Modul und Verfahren zur Herstellung eines Moduls
EP3396864A4 (de) * 2015-12-21 2019-05-01 Hosiden Corporation Kontaktloses kommunikationsmodul
EP3211394A1 (de) * 2016-02-29 2017-08-30 Melexis Technologies NV Halbleiterdrucksensor für anwendung in rauen medien
US10308502B2 (en) 2016-02-29 2019-06-04 Melexis Technologies Nv Semiconductor pressure sensor for harsh media application
US11697230B2 (en) 2019-01-23 2023-07-11 Zf Friedrichshafen Ag Method and tool for molding an electronic module, and molded electronic module

Also Published As

Publication number Publication date
DE19758891B4 (de) 2012-02-23
FR2756923B1 (fr) 1999-10-15
FR2756923A1 (fr) 1998-06-12
DE19754616B4 (de) 2007-09-27
US5948991A (en) 1999-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19754616A1 (de) Halbleitersensorbauelement
DE102005025667B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung mit einem umgossenen Signalausgabeabschnitt
DE102006043884B4 (de) Halbleiterdrucksensor und Form zum Formen des Sensors
DE69209772T2 (de) Gehäuseanordnung für ein funktionales bauelement und herstellungsverfahren
DE102009038706B4 (de) Sensorbauelement
RU2372194C2 (ru) Способ изготовления посредством литья пластиковой отформованной детали
CN107615034B (zh) 用于感测流体介质的压力的装置和用于制造所述装置的方法
DE10157402B4 (de) Drucksensor mit einem Halbleitersensorchip
DE102008011943B4 (de) Sensoranordnung zur Differenzdruckmessung
DE10216019A1 (de) Behälter für Halbleitersensor, Verfahren zu dessen Herstellung und Halbleitersensorvorrichtung
DE102005038443A1 (de) Sensoranordnung mit einem Substrat und mit einem Gehäuse und Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung
WO2005047878A1 (de) Sensoranordnung mit mehreren potentiometrischen sensoren
DE19938868A1 (de) Sensoreinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Sensoreinrichtung
DE19707503A1 (de) Drucksensor-Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE102008043517A1 (de) Sensormodul und Verfahren zur Herstellung eines Sensormoduls
DE102013202212A1 (de) Zweistufig gemoldeter Sensor
DE69734039T2 (de) Vorrichtung mit zwei mikromechanischen Substraten für ein mikromechanisches System oder Teil eines mikromechanischen Systems und Verfahren zur Zusammensetzung zweier mikromechanischer Substrate
DE19626084C2 (de) Drucksensorvorrichtung für eine Montage auf der Bestückungsoberfläche einer Leiterplatte
DE102017212422B4 (de) Drucksensoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung
DE112012005022T5 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Fertigung
DE10392224T5 (de) Drucksensor, Elektroikkomponente für Durchflussmesser und Verfahren zum Herstellen derselben
DE4315962C2 (de) Kapsel für einen Drucksensor und Verfahren zur Einkapselung desselben
DE102016115532B4 (de) Verfahren zum Ausbilden einer Schutzbeschichtung für eine gekapselte Halbleitervorrichtung
DE19902450B4 (de) Miniaturisiertes elektronisches System und zu dessen Herstellung geeignetes Verfahren
WO2019020410A1 (de) Drucksensoranordnung, messvorrichtung und verfahren zu deren herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8172 Supplementary division/partition in:

Ref document number: 19758891

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

Q171 Divided out to:

Ref document number: 19758891

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

AH Division in

Ref document number: 19758891

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee