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Technisches Gebiet
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Die vorliegende Erfindung betrifft
ein fluoriertes aromatisches Polymer und dessen Verwendung.
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Stand der Technik
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Elektronische Vorrichtungen und Multischicht-Verdrahtungsplatten,
etc., sind stetig in Mikrodimensionen verkleinert und hochintegriert
worden, und eine Isolationsfolie mit einer niedrigeren relativen
Dielektrizitätskonstante
ist für
Anwendungen darauf erforderlich. Um einem solchen Erfordernis Genüge zu leisten
und Wärmebeständigkeit
von mindestens 350°C,
vorzugsweise mindestens 425°C,
sicherzustellen, was in dem Verfahren zur Herstellung elektronischer
Vorrichtungen und/oder Multischicht-Verdrahtungsplatten benötigt wird,
werden fluorierte aromatische Polymere im folgenden (im folgenden
als FAP abgekürzt)
untersucht. Beispielsweise offenbaren das japanische Patent
3,064,011 , US Patent
5,115,082 , US Patent
5,959,157 , JP-A-9-202824, JP-A-10-247646,
J. Polm. Sci.; Part A; Polm. Chem., Vol. 36, 2881 (1998), etc, fluorierte
aromatische Polymere mit Etherbrücken
(im folgenden als Polyarylenether oder PAE abgekürzt) als FAP. Deren relativen
Dielektrizitätskonstanten
sind von etwa 2,5 bis 2,9 und deren Anwendung hinsichtlich Isolationsfolien für elektronische
Vorrichtungen oder Multischicht-Verdrahtungsplatten (im folgenden
als die diesbezüglichen Isolationsfolien
abgekürzt)
ist ebenfalls untersucht worden.
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Die Arylenstruktur in solchen PAE
kann beispielsweise Perfluorphenylen, Perfluorbiphenylen oder Perfluornaphthylen
sein. PAE ist linear und deren Glasübergangstemperatur (im folgenden
als Tg abgekürzt)
ist gering und somit ist die Wärmebeständigkeit
nicht ausreichend. Wenn eine vernetzbare funktionale Gruppe in PAE zum
Vernetzen eingeführt
wird, kann die Tg hoch sein, aber die relative Dielektrizitätskonstante
wird auf einen Wert von 2,7 bis 3,0 ansteigen, wodurch es schwierig
ist, sowohl eine geringe relative Dielektrizitätskonstante als auch gleichzeitig
eine hohe Tg zu erfüllen.
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Bull. Chem. Soc. Jpn. 66, 1053 (1993)
offenbart ein fluoriertes Poly(1,4-phenylen) als lineares FAP, aber
es wird keine Anwendung hinsichtlich der diesbezüglichen Isolationsfolie offenbart
. Wenn ferner der Polymerisationsgrad 3 übersteigt, nimmt die Löslichkeit
in einem Lösungsmittel
im wesentlichen ab, und die Beschichtungseigenschaft, welche für die diesbezügliche Isolationsfolie
erforderlich ist, geht verloren, und ferner wird es durch Wärmebehandlung
während
des Verfahrens zur Herstellung einer Isolationsfolie sublimiert,
wodurch es nicht für
die vorliegende Isolationsfolie angewandt werden kann.
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J. Am. Chem. Soc., 122, 1832 (2000)
offenbart Dendrimere als FAP mit verzweigten Strukturen. Diese Dendrimere
können
in einem Lösungsmittel
gelöst
werden, aber die Tg ist niedriger als 140°C und sie sind sublimierbar,
wodurch sie nicht hinsichtlich der diesbezüglichen Isolationsfolien angewandt
werden können.
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Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung
besteht darin, FAP mit einer niedrigen relativen Dielektrizitätskonstante
und einer hohen Wärmebeständigkeit
und deren Verwendung als eine Isolationsfolie bereitzustellen.
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Offenbarung der Erfindung
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Die vorliegende Erfindung stellt
ein fluoriertes aromatisches Polymer bereit, welches zwei oder mehrere
vernetzbare funktionale Gruppen (A) pro Molekül enthält und ein Zahlenmittel des
Molekulargewichts von 1×10
3 bis 5×10
5 und eine Etherverknüpfung bzw. Etherbrücke aufweist
und welches aus einer verzweigten fluorierten aromatischen Verbindung
(B), dargestellt durch die folgende Formel 1, über mindestens ein Verfahren, ausgewählt aus
der Gruppe, bestehend aus den folgenden Verfahren ➀, ➁ und ➂,
hergestellt wird:
worin
jedes von m und n, welche voneinander unabhängig sind, eine ganze Zahl
von 1 bis 4 ist, jedes von p, q und r, welche voneinander unabhängig sind,
0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist, und jedes von a, b und c,
welche voneinander unabhängig
sind, 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, mit der Maßgabe, daß 2≤m+n≤5;
➀ ein
Verfahren, worin eine verzweigte fluorierte aromatische Verbindung
(B), dargestellt durch die vorstehende Formel 1, und eine Verbindung
(Y1) mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und einer phenolischen Hydroxylgruppe
einer Kondensationsreaktion in der Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden; ➁ ein Verfahren, worin die
fluorierte aromatische Verbindung (B), eine Verbindung
(Y1)
mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und einer phenolischen
Hydroxylgruppe und eine Verbindung (Y2) mit keiner vernetzbaren
funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren phenolischen Hydroxylgruppen
einer Kondensationsreaktion in Gegenwart eines HF-entfernenden Mittels
unterworfen werden;
➂ ein Verfahren, worin die fluorierte
aromatische Verbindung (B), eine aromatische Verbindung (Z) mit
einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und mit einem fluorierten
Substituenten an dem aromatischen Ring und eine Verbindung (Y2)
mit keiner vernetzbaren funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren
phenolischen Hydroxylgruppen einer Kondensationsreaktion in der
Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden.
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Ferner stellt die vorliegende Erfindung
eine Isolationsfolie bzw. Isolationsfilm für elektronische Vorrichtungen
und eine Isolationsfolie bzw. Isolationsfilm für Mul tischicht-Verdrahtungsplatten
bereit, welche aus einem solchen FAP aufgebaut sind.
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Bester Modus
zum Ausführen
der Erfindung
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Ein FAP der vorliegenden Erfindung
ist ein FAP, welches zwei oder mehrere vernetzbare funktionalen Gruppen
(A) pro Molekül
enthält
und ein Zahlenmittel des Molekulargewichts von 1×10
3 bis
5×10
5 und eine Etherbrücke aufweist und welches aus
einer verzweigten fluorierten aromatischen Verbindung (B), dargestellt durch
die folgende Formel 1, über
mindestens ein Verfahren, ausgewählt
aus der Gruppe, bestehend aus den folgenden Verfahren ➀, ➁ und ➂,
hergestellt worden ist:
worin
jedes von m und n, welche voneinander unabhängig sind, eine ganze Zahl
von 1 bis 4 ist, jedes von p, q und r, welche voneinander unabhängig sind,
0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist, und jedes von a, b und c,
welche voneinander unabhängig
sind, 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, mit der Maßgabe, daß 2≤m+n≤5;
➀ ein
Verfahren, worin eine verzweigte fluorierte aromatische Verbindung
(B), dargestellt durch die vorstehende Formel 1, und eine Verbindung
(Y1) mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und einer phenolischen Hydroxylgruppe
einer Kondensationsreaktion in der Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden;
➁ ein Verfahren, worin
die fluorierte aromatische Verbindung (B), eine Verbindung (Y1)
mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und einer phenolischen
Hydroxylgruppe und eine Verbindung (Y2) mit keiner vernetzbaren
funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren phenolischen Hydroxylgruppen
einer Kondensationsreaktion in Gegenwart eines HF-entfernenden Mittels
unterworfen werden;
➂ ein Verfahren, worin die fluorierte
aromatische Verbindung (B), eine aromatische Verbindung (Z) mit
einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und mit einem fluorierten
Substituenten an dem aromatischen Ring und eine Verbindung (Y2)
mit keiner vernetzbaren funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren
phenolischen Hydroxylgruppen einer Kondensationsreaktion in der
Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden.
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In der vorliegenden Erfindung ist
die verzweigte fluorierte aromatische Verbindung (B) eine fluorierte aromatische
Verbindung, dargestellt durch die vorstehende Formel 1. Vorzugsweise
ist n+m 2 bis 3, jedes von p, q und r, welche voneinander unabhängig sind,
von 0 bis 3 und jedes von a, b und c, welche voneinander unabhängig sind,
von 0 bis 2. Es ist bevorzugt, daß die diesbezüglichen
Werte in diesen Bereichen sind, wodurch das FAP in der Löslichkeit
in einem Lösungsmittel
ausgezeichnet ist und die Herstellung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B) einfach ist.
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Die fluorierte aromatische Verbindung
(B) weist mehr bevorzugt eine Struktur der folgenden Formel 3 auf.
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Es ist hier weiter bevorzugt, daß jedes
von a1, b1 und c1, welche voneinander unabhängig sind, 0, 1 oder 2 ist,
wodurch es möglich
ist, ein FAP mit einer hohen Glasübergangstemperatur zu erhalten,
welches in der Löslichkeit
in einem Lösungsmittel
ausgezeichnet ist.
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Als spezifische Beispiele der fluorierten
aromatischen Verbindung (B) können
die Strukturen, dargestellt durch die folgende Formel 4, angeführt werden.
Diese können
allein oder in Kombination als ein Gemisch von zwei oder mehreren
davon verwendet werden.
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Am meisten bevorzugt ist Perfluor(1,3,5-triphenylbenzol)
oder Perfluor(1,2,4-triphenylbenzol),
dargestellt durch die folgende Formel 2.
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Das FAP der vorliegenden Erfindung
enthält
zwei oder mehrere vernetzbare funktionale Gruppen (A) pro Molekül. Es enthält vorzugsweise
von 2 bis 30, mehr bevorzugt von 3 bis 20 solcher funktionalen Gruppen. Durch
die vernetzbaren funktionalen Gruppen (A) schreitet eine Vernetzung
oder kettenverlängernde
Reaktion unter den FAP Molekülen
fort, wodurch die Wärmebeständigkeit
und Lösungsmittelbeständigkeit
des FAP verbessert wird.
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Die vernetzbaren funktionalen Gruppen
(A) sind vorzugsweise funktionale Gruppen, welche durch Wärme, Licht,
Elektronenstrahlung, etc., vernetzbar sind. Funktionale Gruppen,
die durch Wärme
vernetzbar sind, sind mehr bevorzugt, da sie in der Anwendbarkeit
hinsichtlich eines Verfahrens zur Herstellung elektronischer Vorrichtungen
oder Multischicht-Verdrahtungsplatten ausgezeichnet sind. Ferner
sind vernetzbare funktionale Gruppen (A), die keine polare Gruppe
enthalten, bevorzugt, da sie die relative Dielektrizitätskonstante
des FAP erhöhen.
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Als spezifische Beispiele der vernetzbaren
funktionalen Gruppe (A) können
beispielsweise eine Ethinylgruppe, eine 1-Oxocyclopenta-2,5-dien-3-ylgruppe
(im folgenden auch als eine Cyclopentadienongruppe bezeichnet),
eine Cyanogruppe, eine Alkoxysilylgruppe, eine Diarylhydroxymethylgruppe
und eine Hydroxyfluorenylgruppe angeführt werden. Vom Gesichtspunkt
der Wärmebeständigkeit
ist eine Ethinylgruppe mehr bevorzugt.
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Der Gehalt der vernetzbaren funktionalen
Gruppen (A) in dem FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung ist derart, daß die
vernetzbaren funktionalen Gruppen (A) vor zugsweise in einem Anteil
von 0,05 bis 6 Mol, mehr bevorzugt in einem Anteil von 0,1 bis 4
Mol pro Mol der fluorierten aromatischen Verbindung (B) vorliegen.
Wenn der Gehalt diesen Bereich überschreitet,
neigt die Brüchigkeit
des FAP-Beschichtungsfilms
bzw. – Folie
dazu anzusteigen und die relative Dielektrizitätskonstante neigt dazu anzusteigen.
Wenn auf der anderen Seite der Gehalt weniger als dieser Bereich
ist, neigt die Wärmebeständigkeit
und die Lösungsmittelbeständigkeit
dazu sich zu verschlechtern.
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Das FAP gemäß der vorliegenden Erfindung
kann durch mindestens ein Verfahren, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend
aus den folgenden Verfahren ➀, ➁ und ➂,
hergestellt werden:
➀ ein Verfahren, worin eine verzweigte
fluorierte aromatische Verbindung (B), dargestellt durch die vorstehende
Formel 1, und eine Verbindung (Y1) mit einer vernetzbaren funktionalen
Gruppe (A) und einer phenolischen Hydroxylgruppe einer Kondensationsreaktion
in der Gegenwart eines HF-entfernenden Mittels unterworfen werden;
➁ ein
Verfahren, worin die fluorierte aromatische Verbindung (B), eine
Verbindung (Y1) mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und
einer phenolischen Hydroxylgruppe und eine Verbindung (Y2) mit keiner
vernetzbaren funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren phenolischen
Hydroxylgruppen einer Kondensationsreaktion in Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden;
➂ ein Verfahren, worin
die fluorierte aromatische Verbindung (B), eine aromatische Verbindung
(Z) mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und mit einem
fluorierten Substituenten an dem aromatischen Ring und eine Verbindung
(Y2) mit keiner vernetzbaren funktionalen Gruppe und zwei oder mehreren
phenolischen Hydroxylgruppen einer Kondensationsreaktion in der
Gegenwart eines HF-entfernenden
Mittels unterworfen werden.
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Wie in der folgenden Formel 5 gezeigt,
wird in der Kondensationsreaktion in jedem der Verfahren ➀, ➁ und ➂ zur
Herstellung eines FAP eine Etherbrücke durch z.B. einen Reaktionsmechanismus
gebildet, worin eine Phenoxygruppe (-O– Gruppe),
abgeleitet von einer phenolischen Hydroxylgruppe (-OH-Gruppe), das
Kohlenstoffatom angreift, an welchem ein Fluoratom der fluorierten
aromatischen Verbindung (B) gebunden ist, wonach das Fluoratom abgelöst wird.
Wenn die Verbindung (Y2) zwei phenolische Hydroxylgruppen aufweist, welche
in einer Orthoposition zueinander sind, ist es weiter möglich, daß ein Dioxingerüst durch
z.B. einen ähnlichen
Reaktionsmechanismus gebildet wird, wie in der folgenden Formel
6 gezeigt.
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Als die Verbindung (Y1) mit einer
vernetzbaren funktionalen Gruppe (A) und einer phenolischen Hydroxylgruppe
ist eine aromatische Verbindung mit einer Ethinylgruppe als die
vernetzbare funktionale Gruppe mehr bevorzugt.
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Als ein spezifisches Beispiel der
Verbindung (Y1) mit einer phenolischen Hydroxylgruppe kann beispielsweise
ein Ethinylphenol wie 3-Ethinylphenol, 4-Phenylethinylphenol oder 4-(4-Fluorphenyl)ethinylphenol angeführt werden.
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Als ein spezifisches Beispiel der
Verbindung (Y1) mit zwei oder mehreren phenoli schen Hydroxylgruppen
kann beispielsweise ein Bis(phenylethinyl)hydroxyphenyl wie 2,2'-Bis(phenylethinyl)-5,5'-dihydroxybiphenyl
oder 2,2'-Bis(phenylethinyl)-4,4'-dihydroxybiphenyl, oder ein Dihydroxyphenylacetylen
wie 4,4'-Dihydroxytolan
oder 3,3'-Dihydroxytolan
angeführt
werden. Diese Verbindung können
allein oder in Kombination als ein Gemisch von zwei oder mehreren
davon verwendet werden.
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Als die Verbindung (Y2) mit zwei
oder mehreren phenolischen Hydroxylgruppen ist ein polyfunktionales
Phenol bevorzugt.
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Dessen spezifische Beispiele schließen Dihydroxybenzol,
Dihydroxybiphenyl, Dihydroxyterphenyl, Dihydroxynaphthalin, Dihydroxyanthracen,
Dihydroxyphenanthracen, Dihydroxy-9,9-diphenylfluoren, Dihydroxydibenzofuran,
Dihydroxydiphenylether, Dihydroxybenzophenol, Dihydroxy-2,2-diphenylpropan,
Dihydroxy-2,2-diphenylhexafluorpropan,
Dihydroxybinaphthyl, Tetraphenylhydrochinon, Hexaphenyldihydroxybiphenyl,
Trihydroxybenzol, Trihydroxybiphenyl, Trihydroxynaphthalin, Tetrahydroxybenzol,
Tetrahydroxybiphenyl, Tetrahydroxybinaphthyl und Tetrahydroxyspiroindane
ein.
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Dihydroxybenzol, Dihydroxy-9,9-diphenylfluoren,
Dihydroxy-2,2-diphenylhexafluorpropan, Tetraphenylhydrochinon und
Trihydroxybenzol sind mehr bevorzugt, da die dadurch erhältlichen
FAP eine geringe relative Dielektrizitätskonstante und hohe Wärmebeständigkeit
aufweisen.
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Als die aromatische Verbindung (Z)
mit einer vernetzbaren funktionalen Gruppe und mit einem fluorierten
Substituenten an dem aromatischen Ring ist eine perfluorierte aromatische
Verbindung wie Perfluorphenyl oder Perfluorbiphenyl mit einer Ethinylgruppe
als der vernetzbaren funktionalen Gruppe bevorzugt. Deren spezifische
Beispiele schließen
ein fluoriertes Arylacetylen wie Pentafluorphenylacetylen oder Nonafluorbiphenylacetylen
und ein fluoriertes Diarylacetylen wie Phenylethinylpentafluorbenzol,
Phenylethinylnonafluorbiphenyl oder Decafluortolan ein. Diese Verbindungen
können
alleine oder in Kombination als ein Gemisch von zwei oder mehreren
davon verwendet werden.
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In der vorliegenden Erfindung ist
das HF-entfernende Mittel vorzugsweise eine basische Verbindung, besonders
bevorzugt ein Carbonat, Hydrogencarbonat oder Hydroxid eines Alkalimetalls.
Spezifische Beispiele schließen
Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat,
Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid ein.
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Es ist erforderlich, daß die Menge
des HF-entfernenden Mittels in dem Verfahren ➀ mindestens
das 1-fache, vorzugsweise das 1,1–3-fache, bezogen auf das molare
Verhältnis,
zu der Anzahl an Molen der phenolischen Hydroxylgruppe in der Verbindung
(Y1) ist. Es ist erforderlich, daß sie in dem Verfahren ➁ mindestens
das 1-fache, vorzugsweise
das 1,1–3-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
bezüglich
der Gesamtanzahl an Molen der phenolischen Hyroxylgruppe in der
Verbindung (Y1) und der Verbindung (Y2) ist. Es ist erforderlich,
daß sie
in dem Verfahren ➂ mindestens das 1-fache, vorzugsweise
das 1,1–3-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
bezüglich
der Anzahl an Molen der phenolischen Hydroxylgruppe in der Verbindung (Y2)
ist.
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In jedem der Verfahren ➀, ➁ und ➂ wird
die Kondensationsreaktion vorzugsweise in einem polaren Lösungsmittel
durchgeführt.
Das polare Lösungsmittel
ist vorzugsweise ein Lösungsmittel,
enthaltend ein aprotisches polares Lösungsmittel wie N,N-Dimethylacetamid,
N,N-Dimethylformamid, N-Methylpyrrolidon, Ethylsulfoxid oder Sulfolan.
Das polare Lösungsmittel
kann Toluol, Xylol, Benzol, Benztrifluorid, Xylolhexafluorid oder
dergleichen innerhalb eines Bereiches, der die Kondensationsreaktion
nicht nachteilig beeinflußt
und die Löslichkeit
des resultierenden FAP nicht erniedrigt, enthalten.
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Die Kondensationsreaktionsbedingungen
sind vorzugsweise von 10 bis 200°C
und von 1 bis 80 Stunden, mehr bevorzugt von 60 bis 180°C und von
2 bis 60 Stunden, am meisten bevorzugt von 80 bis 160°C und von
3 bis 24 Stunden.
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Das Zahlenmittel des Molekulargewichts
des FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung beträgt
von 500 bis 1.000.000. Wenn es innerhalb dieses Bereichs liegt,
sind die Beschichtungseigenschaften gut und die dadurch erhaltene
beschichtete Folie weist gute Wärmebeständigkeit,
mechanische Eigenschaften und Lösungsmittelbeständigkeit,
etc., auf. Sie beträgt
vorzugsweise von 1.000 von 500.000, mehr bevorzugt von 1.500 bis 100.000.
Wenn in der Anwendung bezüglich
einer Isolationsfolie für
elektronische Vorrichtungen eine Eigenschaft (sogenannte Lückenfüll- und
Planarisierungsfähigkeit)
gefordert wird, ausreichend in feine Räume des Substrats einzudringen
und die Oberfläche
einzuebnen, beträgt
das Zahlenmittel des Molekulargewichts am meisten bevorzugt von
1.500 bis 50.000.
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Das Zahlenmittel des Molekulargewichts
des FAP kann in dem Verfahren ➀ durch Ändern des Beschickungsverhältnisses
der fluorierten aromatischen Verbindung (B) zu der Verbindung (Y1)
kontrolliert werden. Ebenso kann es durch Ändern des Beschickungsverhältnisses
der fluorierten aromatischen Verbindung (B), der Verbindung (Y1)
und der Verbindung (Y2) in dem Verfahren ➁ oder des Beschickungsverhältnisses
der fluorierten aromatischen Verbindung (B), der aromatischen Verbindung
(Z) und der Verbindung (Y2) in dem Verfahren ➂ kontrolliert
werden.
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In dem Verfahren ➀ beträgt die Menge
der Verbindung (Y1) vorzugsweise das 2–6-fache, mehr bevorzugt das 2–4-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
zu der fluorierten aromatischen Verbindung (B). In dem Verfahren ➁ beträgt die Menge
der Verbindung (Y1) vorzugsweise das 0,3 bis 3-fache, mehr bevorzugt das
0,8–2-fache, bezogen auf
das molare Verhältnis,
zu der fluorierten aromatischen Verbindung (B), und die Menge der
Verbindung (Y2) beträgt
bevorzugt das 0,3–2-fache,
mehr bevorzugt das 0,5–1,5-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
zu der fluorierten aromatischen Verbindung (B).
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In dem Verfahren ➂ beträgt die Menge
der Verbindung (Z) bevorzugt das 0,3–3-fache, mehr bevorzugt das 0,5 – 2-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
zu der fluorierten aromatischen Verbindung (B), und die Menge der
Verbindung (Y2) beträgt
bevorzugt das 0,5–2-fache,
mehr bevorzugt das 0,8–1,8-fache,
bezogen auf das molare Verhältnis,
zu der fluorierten aromatischen Verbindung (B). Es ist bevorzugt, daß die diesbezüglichen
Werte innerhalb dieser Bereiche liegen, wodurch das resultierende
FAP eine niedrige relative Dielektrizitätskonstante und hohe Wärmebeständigkeit
aufweist.
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Wenn in der vorliegenden Erfindung
die Löslichkeit
des durch eines der Verfahren ➀, ➁ und ➂ erhaltenen
FAP unzureichend ist oder die FAP-Beschichtungsfolie brüchig ist,
ist es bevorzugt, eine co-kondensierbare Komponente zum Herstellungszeitpunkt
des FAP zuzugeben, um die Löslichkeit
des FAP zu erhöhen oder
um die Flexibilität
zu verbessern.
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Als eine solche co-kondensierbare
Komponente ist eine nicht-verzweigte monocyclische oder polycyclische
fluorierte aromatische Verbindung (W) bevorzugt und eine perfluoroaromatische
Verbindung ist mehr bevorzugt. Spezifische Beispiele davon können Perfluorbenzol,
Perfluortoluol, Perfluorxylol, Perfluorbiphenyl, Perfluorterphenyl,
Perfluornaphthalin und Perfluoranthracen sein. Diese Verbindungen
können
allein oder in Kombination als ein Gemisch von zwei oder mehreren
davon verwendet werden.
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Die Menge der fluorierten aromatischen
Verbindung (W) beträgt
bevorzugt von 1–100
Masse-%, mehr bevorzugt von 10 bis 150 Masse-%, bezogen auf die
fluorierte aromatische Verbindung (B). Wenn sie zu hoch ist, neigt
die Wärmebeständigkeit
der dadurch erhältlichen
Beschichtungsfolie dazu, niedrig zu sein, und wenn sie zu gering
ist, neigt die Wirkung bezüglich
der Verbesserung der Flexibilität
oder der Löslichkeit
dazu, unzureichend zu sein.
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Nach der Kondensationsreaktion oder
nach Bereitstellung in einer Lösung
wird das FAP gemäß der vorliegenden
Verbindung durch ein Verfahren wie Neutralisation, Rückfällung, Extraktion
oder Filtration verfeinert. Bei dessen Anwendung hinsichtlich einer
Isolationsfolie für
elektronische Vorrichtungen oder einer Isolationsfolie für Multischicht-Verdrahtungsplatten
neigen Metalle wie Kalium, Natrium, etc., als die HF-entfernenden Mittel,
welche während
der Kondensationsreaktion verwendet werden, und freigesetzte Halogenatome
dazu, Substanzen zu sein, die Betriebsversagen von Transistoren
oder Korrosion von Verdrahtungen bewirken, und es wird somit vorzugsweise
ausreichend gereinigt.
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Zum Zeitpunkt der Vernetzungsreaktion
des FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung ist es ebenso bevorzugt, verschiedene Katalysatoren oder
Additive zum Zweck des Erhöhens
der Vernetzungsreaktionsgeschwindigkeit oder zum Vermindern von
Reaktionsdefekten zu verwenden.
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Wenn das FAP gemäß der vorliegenden Erfindung
Ethinylgruppen als die vernetzbaren funktionalen Gruppen (A) enthält, kann
der Katalysator beispielsweise ein Amin wie Anilin, Triethylamin,
Aminophenyltrialkoxysilan oder Aminopropyltrialkoxysilan, oder eine
organische Metallverbindung, die Molybdän oder Nickel enthält, sein.
Die Menge des zuzugebenden Katalysators beträgt vorzugsweise von 0,01 bis
1 Mol, mehr bevorzugt von 0,05 bis 0,5 Mol pro Mol an Ethinylgruppen
im FAP.
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Als ein Additiv ist ein Biscyclopentadienonderivat
bevorzugt. Eine Ethinylgruppe und eine Cyclopentadienongruppe (eine
1-Oxocyclopenta-2,5-dien-3-ylgruppe) bildet ein Addukt über eine
Diels-Alder-Reaktion unter Erwärmen,
gefolgt von einer Kohlenmonoxid-Entfernungsreaktion unter Bildung
eines aromatischen Rings. Wenn demgemäß ein Biscyclopentadienonderivat
verwendet wird, wird eine Vernetzungs- oder Kettenverlängerung
gebildet, wodurch der aromatische Ring eine Verknüpfungsstelle
konstituiert.
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Spezifische Beispiele des Biscyclodienon-Derivats
können
beispielsweise 1,4-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)benzol,
4,4'-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenylcyclopenta-2,5-dien-3-yl)biphenyl, 4,4'-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)-1,1'-oxybisbenzol, 4,4'-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)-1,1'-thiobisbenzol, 1,4-Bis(1-oxo-2,5-di-[4-fluorophenyl]-4-phenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)-benzol, 4,4'-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)-1,1'-(1,2-ethandiyl)bisbenzol
und 4,4'-Bis(1-oxo-2,4,5-triphenyl-cyclopenta-2,5-dien-3-yl)-1,1'-(1,3-propandiyl)bisbenzol sein.
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Unter diesen Biscyclopentadienonderivaten
ist ein Biscyclopentadienonderivat von einem völlig aromatischen Gerüst vom Gesichtspunkt
der Wärmebeständigkeit
bevorzugt. Diese Derivate können
allein oder in Kombination als ein Gemisch von zwei oder mehreren
davon verwendet werden. Die Menge des Biscyclopentadienonderivats
beträgt
vorzugsweise von dem 0,1- bis 0,5-fachen, mehr bevorzugt von dem
0,15 bis 0,5-fachen, bezogen auf das molare Verhältnis, bezüglich der Anzahl an Molen der
Ethinylgruppe im FAP.
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Üblicherweise
wird das FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung praktisch in einem Lösungsmittel
gelöst
verwendet. Hier ist es bevorzugt, daß die funktionalen Gruppen
(A) im FAP nicht in dem Lösungsmittel
reagieren und eine Vernetzungsreaktion in dem Erwärmungs(Erhitzungs)schritt
nach der Folien- bzw. Filmbildung eingehen.
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Wenn ein Vernetzungskatalysator oder
ein Additiv zu der FAP-Lösung
zugegeben wird oder das FAP eine Substanz mit niedrigem Molekulargewicht,
die einen Dampfdruck aufweist, enthält, ist es ebenso bevorzugt,
einen Teil der vernetzbaren funktionalen Gruppen (A) untereinander
und/oder mit dem Katalysator oder dem Additiv in der Lösung umzusetzen,
um ein Verdampfen während
des Erhitzens zu verhindern.
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Als ein solches Verfahren ist Erwärmen bevorzugt.
Die Erwärmungsbedingungen
sind vorzugsweise von 50°C
bis 250°C
und von 1 bis 50 Stunden, mehr bevorzugt von 70 bis 200°C und von
1 bis 20 Stunden. Die Reaktionsgeschwindigkeit der vernetzbaren
funktionalen Gruppen in der Lösung
wird vorzugsweise auf weniger als 50%, mehr bevorzugt auf weniger
als 30% unter dem Gesichtspunkt, ein Gelieren des FAP in der Lösung zu
verhindern, eingestellt.
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Als das Lösungsmittel für das FAP
gemäß der vorliegenden
Erfindung gibt es keine spezifische Beschränkung, soweit es befähigt ist,
das FAP und den Katalysator oder das Additiv wirksam zu lösen, und
soweit eine Beschichtungsfolie bzw. ein Beschichtungsfilm mit einer
gewünschten
Dicke, Einheitlichkeit oder Lückenfüllungs- und Planarisierungsbefähigung durch
ein gewünschtes
Verfahren erhalten werden kann. Beispielsweise können ein aromatischer Kohlenwasserstoff,
ein bipolares aprotisches Lösungsmittel,
ein Keton, ein Ester, ein Ether oder ein halogenierter Kohlenwasserstoff
angeführt
werden.
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Der aromatische Kohlenwasserstoff
kann beispielsweise Benzol, Toluol, Xylol, Ethylbenzol, Cumol, Mesitylen,
Tetralin oder Methylnaphthalin sein.
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Das bipolare aprotische Lösungsmittel
kann beispielsweise N-Methylpyrrolidon, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, γ-Butyrolacton
oder Dimethylsulfoxid sein.
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Das Keton kann beispielsweise Cyclopentanon,
Cyclohexanon, Cycloheptanon, Cycloheptanon oder Methylamylketon
sein.
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Der Ether kann beispielsweise Tetrahydrofuran,
Pyran, Dioxan, Dimethoxyethan, Diethoxyethan, Diphenylether, Anisol,
Phenetol, Diglyme oder Triglyme sein.
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Der Ester kann beispielsweise Ethyllactat,
Methylbenzoat, Ethylbenzoat, Butylbenzoat, Benzylbenzoat, Methylcellosolveacetat,
Ethylcellosolveacetat, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether,
Propylenglycolmonopropylether, Propylenglycolmonobutylether oder
Propylenglycolmonoethyletheracetat sein.
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Der halogenierte Kohlenwasserstoff
kann beispielsweise Tetrachlorkohlenstoff, Chloroform, Methylenchlorid,
Tetrachlorethylen, Chlorbenzol oder Dichlorbenzol sein.
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Die Konzentration an FAP beträgt vorzugsweise
von 1 bis 50 Masse-%, mehr bevorzugt von 5 bis 30 Masse-%.
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Als ein Verfahren zur Bildung einer
Beschichtungsfolie bzw. eines Beschichtungsfilms für ein FAP
gemäß der vorliegenden
Erfindung kann ein bekanntes Beschichtungsverfahren angeführt werden,
wie Schleuderbeschichtung, Eintauchbeschichtung, Sprühbeschichtung,
Plastschmelzeauftragsbeschichtung, Stabbeschichtung, Rakelbeschichtung,
Extrusionsbeschichtung, Rasterbeschichtung, Pinselbeschichtung oder
Vergießen.
Wenn es als eine Isolationsfolie für elektronische Vorrichtun gen
verwendet wird, sind Schleuderbeschichten oder Rasterbeschichten
("scan coating") vom Gesichtspunkt
der Einheitlichkeit der Foliendicke bevorzugt. Nach dem Beschichten
wird ein Erhitzen (Erwärmen)
durchgeführt,
um das Lösungsmittel
zu verdampfen und das Vernetzen oder die Kettenverlängerungsreaktion
zu vervollständigen.
Die Erwärmungsbedingungen
sind vorzugsweise von 200 bis 450°C
und von 1 bis 120 Minuten, mehr bevorzugt von 300 bis 425°C und von
2 bis 60 Minuten.
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Die Dicke der FAP-Beschichtungsfolie
bzw. des FAP-Beschichtungsfilms beträgt vorzugsweise von 0,01–50 μm, mehr bevorzugt
von 0,1 bis 30 μm.
Um die Oberflächenglätte des
Beschichtungsfilms sicherzustellen oder die Fähigkeit des Beschichtungsfilms
zu verbessern, feine Hohlräumlöcher bzw.
Lücken
zu verfüllen,
ist es ebenso möglich,
einen Schritt des Vorerhitzens bei einer Temperatur von etwa 50–250°C hinzuzufügen oder
den Erhitzungsschritt durch Einteilen davon in eine Reihe von Stufen
durchzuführen.
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Um die Haftung zwischen dem Substrat
und dem FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung zu verbessern, ist es ebenso bevorzugt, einen Adhäsionspromotor
zu verwenden. Der Adhäsionspromotor
kann beispielsweise ein Kupplungsmittel vom Silantyp, ein Kupplungsmittel
vom Titanattyp oder ein Kupplungsmittel vom Aluminiumtyp sein, und
ein Kupplungsmittel vom Silantyp wie ein Epoxysilan oder ein Aminosilan
ist bevorzugt. Das Aminosilan kann beispielsweise ein aliphatisches
Aminosilan wie γ-Aminopropylmethyldiethoxysilan
oder γ-Aminopropyltriethoxysilan
oder ein Aminosilan, welches eine aromatische Gruppe enthält, wie Aminophenyltrimethoxysilan,
Aminophenyltriethoxysilan oder N-Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilan,
sein.
-
Als ein Verfahren zum Aufbringen
des Adhäsionspromotors
ist ein Verfahren des Behandelns des Substrats mit dem Adhäsionspromotor
vor dem Beschichten der FAP-Lösung
oder ein Verfahren des Zugebens des Adhäsionspromotors zu der FAP-Lösung bevorzugt.
Als das Verfahren bezüglich
des Behandelns des Substrats mit dem Adhäsionspromotor kann in dem Fall
eines Aminosilans ein Verfahren des Schleuderbeschichtens davon
in der Form einer 0,01–3
Masse-% alkoholischen Lösung
auf das Substrat angeführt
werden. In dem Verfahren des Zugebens des Adhäsionspromotors zu der FAP-Lösung beträgt die Menge
des Adhäsionspromotors
vorzugsweise von 0,05–10
Masse-%, mehr bevorzugt von 0,1–5
Masse-%, bezogen auf enthaltenes FAP. Wenn die Menge des Adhäsionspromotors
zu gering ist, wird keine angemessene Wirkung bezüglich der
Verbesserung der Haftung erhalten, und wenn sie zu groß ist, neigen
die elektrischen Eigenschaften oder die Wärmebeständigkeit dazu sich zu verschlechtern.
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Als Anwendungen der FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung können
beispielsweise eine Schutzfolie, ein Folienmaterial für verschiedene
Zellen wie Brennstoffzellen, ein Photoresist, ein optisches Wellenleitermaterial,
ein Beschichtungsmaterial, eine elektronische Komponente, ein Abdichtmittel,
ein Überzugsmittel, ein
transparentes Folienmaterial, ein Haftmittel, ein Fasermaterial,
ein wetterbeständiges
Beschichtungsmaterial, ein wasserabstoßendes Mittel, ein ölabweisendes
Mittel und ein Feuchtigkeitsschutz-Beschichtungsmittel angeführt werden.
Insbesondere ist eine Anwendung hinsichtlich einer Isolationsfolie
für elektronische
Vorrichtungen oder einer Isolationsfolie für Multischicht-Verdrahtungsplatten
bevorzugt.
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Die elektronischen Vorrichtungen
können
beispielsweise ein unabhängiger
Halbleiter wie eine Diode, ein Transistor, ein Verbindungshalbleiter,
ein Thermistor, ein Varistor oder ein Thyristor, ein Memoryelement wie
DRAM (dynamic random access memory), SRAM (static random access
memory), EPROM (erasable programmable read only memory), mask ROM
(mask read only memory), EEPROM (electrical erasable programmable
read only memory) oder ein Flashmemory, ein theoretisches Schaltkreiselement
wie ein Mikroprozessor, DSP oder ASIC, ein integriertes Schaltkreiselement
wie ein Verbindungshalbleiter, repräsentiert durch MMIC (monolithic
microwave integrated circuit), ein Hybridschaltkreis (Hybrid IC)
oder ein photoelektrisches Umwandlungselement wie eine LED-Diode
oder ein Ladungsspeicherelement sein.
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Die Multischicht-Verdrahtungsplatten
können
verschiedene Substrate zum Anbringen von elektronischen Vorrichtungen,
etc., sein und Verdrahtungsplatten hoher Dichte wie gedruckte Verdrahtungsplatten,
zusammengesetzte Verdrahtungsplatten und MCM können beispielsweise angeführt werden.
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Als die Isolationsfolie bzw. der
Isolationsfilm können
beispielsweise ein Pufferbeschichtungsfilm, ein Passivierungsfilm,
ein Zwischenschicht-Isolationsfilm und ein Röntgenstrahlungsschutzfilm angeführt werden.
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In einer Anwendung bezüglich einer
Isolationsfolie für
elektronische Vorrichtungen oder einer Isolationsfolie für Multischicht-Verdrahtungsplatten
unter Verwenden des FAP-Beschichtungsfilms bzw. der FAP-Beschichtungsfolie
ist es bevorzugt, daß die
FAP-Isolationsfolie Hohlräume
bzw. Hohlraumlöcher
enthält,
um eine Isolationsfolie mit einer niedrigeren relativen Dielektrizitätskonstanten
zu erhalten. Die folgenden zwei Verfahren können beispielsweise als die
Verfahren zum Einführen
solcher Hohlraumlöcher
angeführt
werden.
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- (1) Ein Verfahren, worin ein FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung und ein Polymer mit einer niedrigen thermischen Zersetzungstemperatur
(im folgenden als ein thermisch zersetzbares Polymer bezeichnet) komplexiert
werden und die Anteile des thermisch zersetzbaren Polymers in dem
Verfahren zur Bildung der Isolationsfolie entfernt werden.
- (2) Ein Verfahren, worin zu dispergierende feine Teilchen zu
dem FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung zugegeben werden und die Anteile an feinen Teilchen in
dem Verfahren zur Bildung der Isolationsfolie oder nach Bildung
der Isolationsfolie entfernt werden.
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In dem Verfahren (1) kann das thermisch
zersetzbare Polymer beispielsweise ein aliphatischer Polyether,
ein aliphatischer Polyester, ein Acrylpolymer oder ein Polymer vom
Styroltyp sein. Das Molekulargewicht des thermisch zersetzbaren
Polymers beträgt
vorzugsweise von 1.000 bis 100.000, mehr bevorzugt von 1.000 bis
50.000. Es ist bevorzugt, daß das
Molekulargewicht innnerhalb dieses Bereiches ist, da die Kompatibilität mit FAP
dann sichergestellt werden kann. Als ein Verfahren zum Komplexieren
von FAP und dem thermisch zersetzbaren Polymer können beispielsweise ein Verfahren
zur Herstellung eines Lösungsgemisches
von FAP und dem thermisch zersetzbaren Polymer, gefolgt von Filmbildung
unter Erhalten einer Verbundfolie, oder ein Verfahren des Blockierens
oder Pfropfens von FAP mit dem thermisch zersetzbaren Polymer zum
Komplexieren angeführt
werden.
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Als das Blockierungs- oder Pfropfverfahren
kann ein bekanntes Verfahren angewendet werden, und es kann beispielsweise
eine Technik angeführt
werden, worin ein thermisch zersetzbares Polymer mit einem terminalen
fluorierten aromatischen Ring oder einer phenolischen Hydroxylgruppe
hergestellt wird und zum Zeitpunkt der Kondensationsreaktion bei
der Synthese von FAP co-kondensiert wird. Die Kondensationsreaktion
von FAP wird gemäß dem Reaktionsmechanismus
der vorstehenden Formel 5 oder 6 fortschreiten, wodurch der terminale
fluorierte aromatische Ring oder die phenolische Hydroxylgruppeneinheit
an eine FAP-Kette gebunden wird. Wenn hier das thermisch zersetzbare
Polymer einen fluorierten aromatischen Ring oder eine phenolische
Hydroxylgruppe an einem Terminus aufweist, kann ein FAP mit dem
thermisch zersetzbaren Polymer daran gepfropft erhalten werden.
Wenn das thermisch zersetzbare Polymer fluorierte aromatische Ringe
oder phenolische Hydroxylgruppen an beiden Enden aufweist, kann
ein blockiertes Produkt von FAP und dem thermisch zersetzbaren Polymer
erhalten werden.
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Das thermisch zersetzbare Polymer
weist eine niedrige thermische Zersetzungstemperatur auf, wodurch
es während
des Bildens der Isolationsfolie selektiv zersetzt und durch Erwärmen entfernt
wird, und die entfernten Anteile lassen Hohlraumlöcher zurück. Es ist
möglich,
die Porosität
durch die Menge des thermisch zersetzbaren Polymers, das zugefügt wird,
zu kontrollieren. Üblicherweise
beträgt
die zuzugebende Menge vorzugsweise von 5 bis 80 Vol.-%, mehr bevorzugt
von 10 bis 70 Vol.-%, bezogen auf FAP.
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In dem Verfahren (2) sind die zu
dispergierenden feinen Teilchen im FAP der vorliegenden Erfindung vorzugsweise
feine anorganische Teilchen. Als solche feinen anorganischen Teilchen
können
beispielsweise feine Teilchen von Silica oder Metall angeführt werden.
Die feinen Teilchen werden durch z.B. Säurebehandlung nach der Folienbildung
gelöst
und entfernt, und die entfernten Anteile sind Hohlraumlöcher bzw.
lassen diese zurück.
Es ist möglich,
die Porosität
durch die Menge der feinen Teilchen, die zugegeben werden, zu kontrollieren. Üblicherweise
beträgt
die zuzugebende Menge vorzugsweise von 5 bis 80 Vol.-%, mehr bevorzugt
von 10 bis 70 Vol.-%, bezogen auf FAP.
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Es ist ebenso bevorzugt, daß die FAP-Beschichtungsfolie
mit einer weiteren Folie kombiniert wird. Wenn sie beispielsweise
als eine Passivierungsfolie für
ein Halbleiterelement oder eine Zwischenschicht-Isolationsfolie
für ein
Halbleiterelement verwendet wird, ist es bevorzugt, eine anorganische
Folie als eine Unterschicht und/oder eine Oberschicht einer FAP-Beschichtungsfolie
zu bilden.
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Der anorganische Film bzw. Folie
kann beispielsweise ein Film, gebildet durch ein chemisches Dampfabscheidungsverfahren
(CVD) bei Normaldruck, reduziertem Druck oder mit Plasma, oder ein
Beschichtungsverfahren, sein. Beispielsweise kann ein sogenannter
PSG-Film oder PBSG-Film, ein Siliciumoxidfilm dotiert mit Phosphor
und/oder Bor, sofern es der Fall erfordert, ein Siliciumoxidfilm,
ein Siliciumnitridfilm, ein Siliciumoxynitridfilm, ein SiOC-Film
oder ein Spin-on-Glas (SOG)-Film angeführt werden.
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Durch Bilden eines anorganischen
Films zwischen einem FAP-Beschichtungsfilm und einer Metallverdrahtung
ist es möglich,
das Abschälen
der Metallverdrahtung zu verhindern und Ätzverfahren für z.B. eine Damaszene-Form
zu erleichtern. Es ist auch bevorzugt, daß ein solcher anorganischer
Film als eine Oberschicht einer FAP-Beschichtungsfolie nach stellenweisem
Entfernen der FAP-Beschichtungsfolie durch ein Rückätzverfahren oder ein CMP (chemisch-mechanisches
Polieren) gebildet wird.
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Wenn ein anorganischer Film als eine
Oberschicht einer FAP-Beschichtungsfolie gebildet werden soll, und
wenn die Haftung zwischen der FAP-Beschichtungsfolie und dem anorganischen
Film unzureichend ist oder Filmreduktion zum Zeitpunkt der Bildung
des anorganischen Films stattfindet, ist es bevorzugt, die folgenden
zwei Verfahren anzuwenden.
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- (I) Ein Verfahren des Bildens eines mehrschichtigen
anorganischen Films: Wenn ein Siliziumoxidfilm durch ein Plasma-CVD-Verfahren
gebildet werden soll, findet Filmreduktion in Abhängigkeit
von der Zusammensetzung des zu verwendenden Gases statt. In einem
solchen Fall wird zunächst
ein dünner
Film eines anorganischen Films, welcher keine Filmreduktion bewirkt,
wie ein Siliziumnitridfilm oder ein Normaldruck-CVD-Siliziumoxidfilm
gebildet. Anschließend
wird unter Verwendung dieses dünnen
Films als eine Sperrschicht ein Siliziumoxidfilm gebildet.
- (II) Ein Verfahren des Behandelns eines FAP-Beschichtungsfilms
mit energetischer Strahlung: In einigen Fällen bewirkt die Behandlung
mit energetischer Strahlung eine Wirkung hinsichtlich der Verbesserung
der Grenzflächenhaftung
zwischen einem FAP-Beschichtungsfilm und einem anorganischen Film.
Eine solche Behandlung mit energetischer Strahlung kann beispielsweise
eine Behandlung unter Verwendung elektromagnetischer Wellen in einem
breiten Bereich, einschließlich
Licht wie UV-Strahlung, Laserstrahlung oder Mikrowellenstrahlung,
oder eine Behandlung unter Verwendung von Elektronenstrahlen, wie
Elektronenstrahlung, Glühentladungsbehandlung,
Coronaentladungsbehandlung oder Plasmabehandlung, sein.
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Unter diesen kann als ein Behandlungsverfahren,
das für
einen Massenproduktionsschritt für
Halbleiterelemente geeignet ist, UV-Bestrahlung, Laserbestrahlung,
Coronaentladungsbehandlung oder Plasmabehandlung angeführt werden.
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Plasmabehandlung ist mehr bevorzugt,
da der auf ein Halbleiterelement ausgeübte Schaden dadurch gering
ist. Die Vorrichtung zur Durchführung
der Plasmabehandlung ist nicht besonders beschränkt, solange wie das gewünschte Gas
in die Vorrichtung eingeführt
werden kann und das elektrische Feld angelegt werden kann. Es kann
eine im Handel erhältliche
Plasmaerzeugungsvorrichtung vom Trommel- oder Parallelflachplattentyp
geeignet verwendet werden. Das in die Plasmavorrichtung einzuführende Gas
ist nicht besonders beschränkt,
solange wie es wirksam die Oberfläche aktiviert, und Argon, Helium,
Stickstoff, Sauerstoff oder ein Gasgemisch davon können beispielsweise
angeführt
werden. Ferner kann als das Gas, welches die Oberfläche der
FAP-Beschichtungsfolie aktiviert und welches im wesentlichen frei
von dem Hervorbringen von Filmreduktion ist, ein Gasgemisch von
Stickstoff und Sauerstoff oder Stickstoffgas angeführt werden.
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Im folgenden wird die vorliegende
Erfindung detaillierter unter Bezugnahme auf die Beispiele und Vergleichsbeispiele
beschrieben. Jedoch ist die vorliegende Erfindung dadurch nicht
beschränkt.
Die Beispiele 1 bis 17 und die Beispiele 20 bis 22 sind Beispiele
gemäß der vorliegenden
Erfindung und die Beispiele 18 und 19 sind Vergleichsbeispiele.
Die Beispiele 1 bis 4 legen Synthesen von fluorierten aromatischen
Verbindungen (B), die Beispiele 5 bis 19 Synthesen von FAP und Bewertungsergebnisse
der grundlegenden Eigenschaften, das Beispiel 20 die Bewertung der
Hafteigenschaften der Beschichtungsfolien, das Beispiel 21 die Herstellung einer
Beschichtungsfolie mit darin eingebrachten Hohlräumlöchern und das Beispiel 22 die
Bewertung der Eigenschaften einer Isolationsfolie dar. Darüber hinaus
wurden das Molekulargewicht, die relative Dielektrizitätskonstante
und die Tg durch die folgenden Verfahren gemessen.
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Molekulargewicht: Ein im Vakuum getrocknetes
FAP-Pulver wurde einer Gelpermeationschromatographie (GPC) unterworfen,
um das Zahlenmittel des Molekulargewichts, unter Bezug auf Polystyrol
berechnet, zu erhalten. Tetrahydrofuran wurde als Lösungsmittel
verwendet.
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Relative Dielektrizitätskonstante:
Ein im Vakuum getrocknetes FAP-Pulver wurde in Cyclohexan gelöst, um eine
15%-Lösung
zu erhalten, welche durch einen PTFE-Filter mit einem Porendurchmesser von
0,2 μm gefiltert
wurde. Die erhaltene Lösung
wurde auf einen Siliciumwafer unter Bildung eines Beschichtungsfilms
von 400 bis 700 nm beschichtet. Die Schleuderbeschichtungsbedingungen
waren 2000 Upm × 30
Sekunden, und nach Vorerhitzen mittels einer Heizplatte bei 100°C × 90 Sekunden
und 200°C × 90 Sekunden
wurde das abschließende
Erhitzen in einer Stickstoffatmosphäre bei 425°C × 1 Stunde in einem Vertikalofen
durchgeführt.
Anschließend
wurde die CV-Messung mittels eines Quecksilberprobengeräts unter
Erhalten der relativen Dielektrizitätskonstante bei 1 MHz durchgeführt. Als
die Dicke des Beschichtungsfilms wurde ein Wert, erhalten durch
ein Spektroskopie-Ellipsometer, verwendet.
-
Tg: Ein im Vakuum getrocknetes FAP-Pulver
wurde in Cyclohexan gelöst,
um eine 15%-Lösung
zu erhalten, welche durch einen PTFE-Filter mit einem Porendurchmeser
von 0,2 μm
gefiltert wurde. Die erhaltene Lösung
wurde auf einen Siliciumwafer mittels Vergießen aufgebracht, und nach Vorerhitzen
bei 200°C
bei 300 Sekunden mittels einer Heizplatte wurde das abschließende Erhitzen
in einer Stickstoffatmosphäre
bei 425°C × 1 Stunde
in einem Vertikalofen durchgeführt.
Der Beschichtungsfilm wurde von dem Siliciumwafer abgekratzt und
einer DSC-Messung unter Erhalten der Tg unterworfen. In der DSC-Messung
wurde das Abrastern unter einer Bedingung einer Temperaturanstiegsgeschwindigkeit
von 10°C/min
in einer Stickstoffatmosphäre
von 40°C
bis 450°C
durchgeführt.
-
Beispiel 1
-
Herstellung der fluorierten
aromatischen Verbindung (B) (Perfluor(1,3,5-triphenylbenzol))
-
In einen 2 l-Vierhalskolben aus Pyrex
(eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer, einem Tropftrichter und einem mechanischen
Rührer,
wurden 148,2 g Pentafluorbrombenzol und 500 ml THF eingetragen.
Anschließend
wurden unter Kühlen
in einem Eisbad 600 ml einer THF-Lösung, enthaltend 0,96 Mol/l
Ethylmagnesiumbromid, graduell tropfenweise unter heftigem Rühren zugegeben,
und nach Vervollständigung
der tropfenweise Zugabe wurde das Rühren für eine Stunde fortgesetzt.
Anschließend
wurden 172,2 g festes Kupferbromid (CuBr) zugegeben, gefolgt vom
Rühren für eine Stunde,
wonach 200 ml Dioxan zugegeben wurden, gefolgt von einem Rühren für 30 Minuten.
-
Anschließend wurden 76,5 g 1,3,5-Triiod-2,4,6-trifluorbenzol
zugegeben, und der Betrieb wurde vom Eisbad zu einem Erwärmen auf
einem Ölbad
umgestellt, und das Erhitzen unter Rückfluß wurde für 16 Stunden unter Rühren fortgesetzt.
Anschließend
wurde das Lösungsmittel
von der Reaktionslösung
zur Konzentration abdestilliert, und der Rest wurde in Wasser eingefügt und rasch
gekühlt.
Ein durch Filtration gesammelter Festkörper wurde mit 200 g Dichlorpentafluorpropan
extrahiert, gefolgt von einer Verdampfung zur Trockne mittels eines
Evaporators unter Erhalten von 92 g gelber Kristalle. Anschließend wurden
die Kristalle aus Hexan umkristallisiert und im Vakuum bei 40°C unter Erhalten
weißer
Kristalle getrocknet. Aus dem Massenspektrum und der NMR-Analyse
wurden die Kristalle als Perfluor(1,3,5-triphenylbenzol) (im folgenden als 135
TPB abgekürzt)
identifiziert.
-
Beispiel 2
-
Herstellung der fluorierten
aromatischen Verbindung (B) (Perfluor(1,2,4-triphenylbenzol))
-
Weiße Kristalle von Perfluor(1,2,4-triphenylbenzol)
(im folgenden als 124 TPB abgekürzt)
wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der
Ausnahme, daß 1,3,5-Triiod-2,4,6-trifluorbenzol
zu 1,2,4-Triiod-3,5,6-trifluorbenzol geändert wurde.
-
Beispiel
3
Herstellung der fluorierten aromatischen Verbindung (B) (Verbindung
dargestellt durch die folgenden Formel)
-
In einen 100 ml Vierhalskolben aus
Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer, einem Tropftrichter und einem mechanischen
Rührer,
wurden 5,94 g Pentafluorbrombenzol und 30 ml THF eingetragen. Anschließend wurden
unter Kühlen
in einem Eisbad 25 ml einer THF-Lösung, enthaltend 0,96 Mol/l
Ethylmagnesiumbromid, graduell tropfenweise unter heftigem Rühren zugegeben,
und nach Vervollständigung
der tropfenweisen Zugabe wurde das Rühren für eine Stunde fortgesetzt.
Anschließend
wurden 2,52 g 135 TPB, erhalten in Herstellungsbeispiel 1, zugegeben,
und der Betrieb wurde von dem Eisbad auf Erwärmen auf einem Ölbad umgestellt,
und das Erwärmen
wurde bei 60°C
für 12
Stunden unter Rühren
durchgeführt.
-
Anschließend wurde die Reaktionslösung in
300 ml einer heftig gerührten
0,2 N wässrigen
Salzsäurelösung gegeben,
wonach weiße
Kristalle gebildet wurden. Die Kristalle wurden dreimal mit reinem
Wasser gewaschen und anschließend
bei 60°C
im Vakuum getrocknet, wonach 5,1 g weiße Kristalle erhalten wurden. Aus
der Gaschromatographie-, Massenspektrum- und NMR-Analyse wurden
die Kristalle als die fluorierte aromatische Verbindung identifiziert,
wobei jeder der durchschnittlichen Werte von a, b und c etwa 1,2
beträgt
(im folgenden als TPB-4P bezeichnet).
-
Beispiel 4
-
Herstellung der fluorierten
aromatischen Verbindung (B) (2,2',2'',2''',2'''',3,3'''',4,4',4'', 4''',4'''',5,5'''',6,6',6'',6''',6''''-Nonadecafluoro-5',5''''-bis(pentafluorophenyl)-5''-(tridecafluoro[1,1':3',1''-terphenyl]-5'-yl)-1,1':3',1'':3'',1''':3''',1''''-quinquephenyl)
-
In einen 2 l Vierhalskolben aus Pyrex
(eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer, einem Tropftrichter und einem mechanischen
Rührer,
wurden 126,6 g 1-Brom-2,4,6-trifluorbenzol und 400 ml THF eingetragen.
Anschließend
wurden unter Kühlen
in einem Eisbad 600 ml einer THF-Lösung, enthaltend 0,96 Mol/l
Ethylmagnesiumbromid, graduell tropfenweise unter heftigem Rühren zugegeben,
und nach Vervollständigung
der tropfenweisen Zugabe wurde das Rühren für eine Stunde fortgesetzt.
Anschließend
wurden 172,5 g festes Kupferbromid (CuBr) zugegeben, gefolgt von Rühren für eine Stunde,
wonach 200 ml Dioxan und 200 ml Toluol zugegeben wurden, gefolgt
von Rühren
für 30
Minuten. Anschließend
wurden 55,3 g 1,35-Tribrom-2,4,6-trifluorbenzol zugegeben, und der
Betrieb wurde vom Eisbad auf Erwärmen
auf einem Ölbad
umgestellt, und das Erhitzen unter Rückfluß wurde für 38 Stunden unter Rühren fortgesetzt.
-
Anschließend wurde aus der Reaktionslösung das
Lösungsmittel
zur Konzentration abdestilliert, und der Rest wurde in Wasser gegeben
und rasch gekühlt.
Ein durch Filtration gesammelter Festkörper wurde mit 2000 g Dichlorpentafluorpropan
extrahiert und anschließend
zur Trockne mittels eines Evaporators unter Erhalten von 50,3 g
gelber Kristalle eingedampft. Als ein Ergebnis der NMR-, Gaschromatographie-
und Massenspektroskopiemessungen wurden die Kristalle als 2,2'-2'',4,4',4'',6,6',6''-Nonafluor-5'-(2,4,6-trifluorphenyl)-1,1':3',1''-terphenyl identifiziert.
-
Anschließend wurden in einen 2 l Vierhalskolben
aus Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer, einem Tropftrichter und einem mechanischen
Rührer,
41,8 g der wie vorstehend beschrieben erhaltenen Kristalle und 700
ml Methylenchlorid eingetragen und unter Erhalten einer einheitlichen
Lösung
gerührt,
und dann wurden weiter 3 g Aluminiumbromid zugegeben. 60 g Brom
und 200 ml Methylenchlorid wurden in einen Tropftrichter eingetragen
und graduell tropfenweise in den Kolben unter heftigem Rühren bei
Raumtemperatur zugegeben. Nach Vervollständigung der tropfenweisen Zugabe
wurde die Reaktionslösung
auf einem Ölbad
erwärmt
und für
drei Stunden unter Rückfluß zum Sieden
erhitzt. Nach Abkühlen
auf Raumtemperatur wurde die Reaktionslösung zweimal mit 1 l einer
gesättigten
wässrigen
Natriumthiosulfatlösung
und dann mit 500 ml einer gesättigten
wässrigen
Natriumchloridlösung
gewaschen. Die organische Schicht wurde über Magnesiumsulfat getrocknet.
-
Das Lösungsmittel wurde abdestilliert
und die verbleibenden gelben Kristalle wurden aus Hexan unter Erhalten
von 58,5 g leicht gelber Kristalle umkristallisiert. Als ein Ergebnis
der NMR-, Gaschromatographie- und Massenspektroskopiemessungen wurden
die Kristalle als 3,3'',5,5''-Tetrabrom-5'-(3,5-dibrom-2,4,6-trifluorphenyl)- 2,2',2'',4,4',4'',6,6',6''-nonafluor-1,1':3',1''-terphenyl, eine Hexabromverbindung,
identifiziert.
-
Anschließend wurden in einen 1 l Vierhalskolben
aus Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer, einem Tropftrichter und einem mechanischen
Rührer,
74,1 g Pentafluorbrombenzol und 200 ml THF eingetragen. Unter Kühlen in
einem Eisbad wurden 300 ml einer THF-Lösung, enthaltend 0,96 Mol/l
Ethylmagnesiumbromid, graduell tropfenweise unter heftigem Rühren zugegeben,
und nach Vervollständigung
der tropfenweisen Zugabe wurde das Rühren für eine Stunde fortgesetzt.
Anschließend
wurden 86,1 g festes Kupferbromid (CuBr) zugegeben, gefolgt vom
Rühren für eine Stunde,
wonach 100 ml Dioxan und 200 ml Toluol zugegeben wurden, gefolgt
vom Rühren
für 30
Minuten. Anschließend
wurden 37,3 g der wie vorstehend beschrieben erhaltenen Hexabromverbindung
zugegeben und der Betrieb wurde von dem Eisbad auf Erwärmen auf
einem Ölbad
umgestellt, und das Erhitzen unter Rückfluß wurde für 45 Stunden unter Rühren fortgesetzt.
-
Anschließend wurde das Lösungsmittel
aus der Reaktionslösung
zur Konzentration abdestilliert, und der Rest wurde in Wasser gegeben
und rasch gekühlt.
Ein durch Filtration gesammelter Festkörper wurde mit 1500 g Chloroform
extrahiert und anschließend
zur Trockne mittels eines Evaporators unter Erhalten von 44,1 g
gelber Kristalle verdampft. Anschließend wurde zweimal eine Umkristallisation
aus einem Lösungsmittelgemisch
von Toluol/Hexan durchgeführt,
gefolgt vom Trocknen im Vakuum bei 60°C, wonach 22,9 g weiße Kristalle
erhalten wurden. Als ein Ergebnis der NMR-, Gaschromatographie-
und Massenspektroskopiemessungen wurden die Kristalle als (2,2',2'',2''',2'''',3,3'''',4,4',4'',4''',4'''',5,5'''',6,6',6'',6''',6''''-Nonadecafluoro-5',5''''-bis(pentafluorophenyl)-5"-(tridecafluoro[1,1':3',1''-terphenyl]-5'-yl)-1,1':3',1'':3'',1''':3''',1''''-quinquephenyl),
dargestellt durch die folgende Formel (im folgenden als TPB-35P
bezeichnet), identifiziert. Das Molekulargewicht von TPB-35P war
1700.
-
-
Beispiel 5
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➀ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B) und der Verbindung (Y1)
-
In einen 100 ml Vierhalskolben aus
Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurden
2,19 g TPB-4P, erhalten in Beispiel 3, 1,37 g 4-(4-Fluorphenylethyl)phenol
als die Verbindung (Y1), 35 g N,N-Dimethylacetamid (im folgenden
als DMAc) bezeichnet, und 15 g Toluol eingetragen. Das Gemisch wurde
auf einem Ölbad
unter Rühren
erwärmt,
und nachdem die Temperatur der Flüssigkeit 80°C betrug, wurden rasch 1,84
g Kaliumcarbonat zugegeben, gefolgt von einem Erwärmen bei
120°C für 4 Stunden
unter Rühren.
-
Anschließend wurde die Reaktionslösung auf
Raumtemperatur abgekühlt.
Die Reaktionslösung
wurde graduell in 400 ml eines heftig gerührten Lösungsgemisches von reinem Wasser,
enthaltend 7,1 g Essigsäure/Methanol
(Volumenverhältnis:
etwa 1/1) gegeben, wonach eine feine braune pulvrige Substanz ausfiel.
Diese feine braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration gesammelt
und weiter fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen und anschließend im Vakuum bei 80°C für 15 Stunden
getrocknet, wonach 2,76 g eines weißlich-grauen pulvrigen FAP
erhalten wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und
ein Mittel an 3,0 Ethinylgruppen auf und das Molekulargewicht betrug
1600, und die relative Dielektrizitätskonstante be trug 2,4. In
der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
-
Beispiel 6
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➀ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B) und der Verbindung (Y1)
-
2,5 g gräulich weißes pulvriges FAP wurde in
der gleichen Weise wie in Beispiel 5 erhalten, mit der Ausnahme,
daß 1,15
g 4-Phenylethylphenol anstelle von 1,37 g 4-(4-Fluorphenylethyl)phenol verwendet
wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 2,8
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrugt 1500, und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,4. In der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
-
Beispiel 7
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➀ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B) und der Verbindung (Y1)
-
4,89 g weißes pulvriges FAP wurden in
der gleichen Weise wie in Beispiel 5 erhalten, mit der Ausnahme,
daß 4,56
g TPB-35P, erhalten in Beispiel 4, anstelle von 2,19 g TPB-4P verwendet
wurden und die Menge an 4-(4-Fluorphenylethyl)phenol auf 1,9 g geändert wurde.
Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 3,1
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug 2200, und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,3. In der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
-
Beispiel 8
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (Y1) und der Verbindung (Y2)
-
In einen 100 ml Vierhalskolben aus
Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurden
3,78 g 135 TPB, erhalten in Beispiel 1, 0,33 g 1,3-Dihydroxybenzol als
die Verbindung (Y2), 60 g DMAc, 5 g Toluol und 2,21 g Kaliumcarbonat
eingetragen. Auf einem Ölbad
wurde das Gemisch bei 130°C
für 5 Stunden
unter Rühren
erwärmt,
und anschließend
wurden 2,12 g 4-(4-Fluorphenylethyl)phenol
als die Verbindung (Y1) eingetragen, gefolgt durch weiteres Erwärmen bei
120°C für drei Stunden.
-
Anschließend wurde die Reaktionslösung auf
Raumtemperatur abgekühlt
und graduell in 500 ml eines heftig gerührten Lösungsgemisches von reinem Wasser
enthaltend 8 g Essigsäure/Methanol
(Volumenverhältnis:
etwa 1/1) eingetragen, wonach eine braune pulvrige Substanz ausfiel.
Diese braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration gesammelt
und weiter fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen und anschließend im Vakuum bei 80°C für 15 Stunden
getrocknet, wonach leicht braunes pulvriges FAP erhalten wurde.
Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 3,7
Ethinylgruppen auf und das Molekulargewicht betrug 2200 und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,5. In der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 9
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren von ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (Y1) und der Verbindung (Y2)
-
5,5 g von leicht braunem pulvrigem
FAP wurden in der gleichen Weise wie in Bei spiel 8 erhalten, mit der
Ausnahme, daß die
Menge an 1,3-Dihydroxybenzol auf 0,50 g geändert wurde. Das erhaltene
FAP wies eine Etherverknüpfung
und ein Mittel an 8,3 Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht
betrug 5000 und die relative Dielektrizitätskonstante betrug 2,4. In
der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 10
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (Y1) und der Verbindung (Y2)
-
5,8 g weißes pulvriges FAP wurden in
der gleichen Weise wie in Beispiel 8 erhalten, mit der Ausnahme, daß 1,40 g
9,9-Bis(4-hydroxyphenyl)fluoren anstelle von 0,33 g 1,3-Dihydroxybenzol
verwendet wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und
ein Mittel an 8,4 Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug
5800 und die relative Dielektrizitätskonstante betrug 2,3. In
der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 11
-
Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (Y1) und der Verbindung (Y2)
-
5,3 weißes pulvriges FAP wurden in
der gleichen Weise wie in Beispiel 10 erhalten, mit der Ausnahme, daß 3,79 g
124 TPB, wie in Beispiel 2 erhalten, anstelle von 3,78 g 135 TPB
verwendet wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und
ein Mittel an 11,8 Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht
betrug 8200 und die relative Dielektrizitätskonstante betrug 2,4. In
der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder
keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 12
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (W), der Verbindung (Y1) und der
Verbindung (Y2)
-
In einen 100 ml Vierhalskolben aus
Pyrex (eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurden
nach Durchströmen mit
Stickstoff 3,78 g 135 TPB, 0,99 g 1,3-Dihydroxybenzol als die Verbindung
(Y2), 2,00 g Perfluorbiphenyl als die Verbindung (W), 60 g N-Methylpyrrolidon
und 1,86 g Kaliumcarbonat eingetragen. Das Gemisch wurde bei 160°C für 15 Stunden
auf einem Ölbad
unter Rühren
erwärmt,
und anschließend
wurden 0,85 g Kaliumcarbonat und 1,91 g 4-(4-Fluorphenylethyl)phenol als die Verbindung
(Y1) eingetragen, gefolgt von weiterem Erwärmen bei 120°C für 3 Stunden.
-
Anschließend wurde die Reaktionslösung auf
Raumtemperatur abgekühlt
und graduell in 400 ml eines heftig gerührten Lösungsgemisches von reinem Wasser
enthaltend 8 g Essigsäure/Methanol
(Volumenverhältnis:
etwa 1/1) eingetragen, wonach eine braune pulvrige Substanz ausfiel.
Diese braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration gesammelt
und weiter fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen und anschließend im Vakuum bei 80°C für 15 Stunden
getrocknet, wonach 6,8 g eines leicht braunen, pulvrigen FAP erhalten
wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 9,6
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug 8700 und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,5 und die Tg betrug 384°C.
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Beispiel 13
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➁ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der Verbindung (W), der Verbindung (Y1) und der
Verbindung (Y2)
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8,7 g braunes, pulvriges FAP wurden
in der gleichen Weise wie in Beispiel 12 erhalten, mit der Ausnahme,
daß ein
Gemisch von 2,02 g Dihydroxy-2,2-diphenylhexafluorpropan
und 0,40 g 1,2,4-Trihydroxybenzol anstelle von 0,99 g 1,3-Dihydroxybenzol verwendet
wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 16,8
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug 1700 und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,4. In der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder keine Wärmeerzeugung oder
Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 14
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➂ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der aromatischen Verbindung (Z) und der Verbindung
(Y2)
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Ein 100 ml Vierhalskolben aus Pyrex
(eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurde
mit Stickstoff durchströmt und
anschließend
wurden 2,52 g 135 TPB, 1,66 g 4-Phenylethinylnonafluorbiphenyl als
die Verbindung (Z), 0,51 g 1,3,5-Trihydroxybenzol als die Verbindung
(Y2), 40 g DMAc und weiter 1,25 g Kaliumcarbonat eingetragen. Auf
einem Ölbad
wurde das Gemisch bei 150°C
für 6 Stunden
unter Rühren
erwärmt.
-
Anschließend wurde die Reaktionslösung auf
Raumtemperatur abgekühlt
und graduell in 200 ml einer heftig gerührten 0,2 N wässrigen
Salzsäurelösung eingetragen,
wonach eine feine braune pulvrige Substanz ausfiel. Diese leicht
braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration gesammelt und in
etwa 50 ml Tetrahydrofuran gelöst.
Diese Lösung
wurde graduell in 200 ml eines heftig gerührten Lösungsgemisches von reinem Wasser/Methanol
(Volumenverhältnis:
etwa 1/1) eingetragen, wonach ein grau-weißer Niederschlag erhalten wurde,
welcher fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen wurde und anschließend bei 80°C für 20 Stunden im Vakuum getrocknet
wurde, wonach 4,2 g von weißem
pulvrigem FAP erhalten wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und
ein Mittel an 13,5 Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht
betrug 15.000 und die relative Dielektrizitätskonstante betrug 2,3. In
der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 15
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➂ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der aromatischen Verbindung (Z) und der Verbindung
(Y2)
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5,5 g von braunem, pulvrigem FAP
wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 14 erhalten, mit der Ausnahme,
daß 2,02
g Dihydroxy-2,2-diphenylhexafluorpropan anstelle von 0,51 g 1,3,5-Trihydroxybenzol verwendet
wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 8,7
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug 1.300 und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,4. In der DSC-Messung
wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 16
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➂ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der aromatischen Verbindung (Z) und der Verbindung
(Y2)
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5,2 g von weißem, pulvrigem FAP wurden in
der gleichen Weise wie in Beispiel 14 erhalten, mit der Ausnahme,
daß 1,52
g Decafluortolan anstelle von 1,66 g 4-Phenylethinylnonafluorbiphenyl verwendet
wurden, und 1,95 g 9,9-Bis(4-hydroxyphenyl)fluoren
wurden anstelle von 0,51 g 1,3,5-Trihydroxybenzol verwendet. Das
erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und ein Mittel an 6,6
Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug 9.000 und die
relative Dielektrizitätskonstante
betrug 2,3. In der DSC-Messung wurde kein Übergangspunkt oder keine Wärmeerzeugung
oder Abstraktionspeak beobachtet, und die Tg betrug mindestens 450°C.
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Beispiel 17
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Herstellung von FAP durch
das Verfahren ➂ unter Verwendung der fluorierten aromatischen
Verbindung (B), der aromatischen Verbindung (Z), der Verbindung
(W) und der Verbindung (Y2)
-
Ein 100 ml Vierhalskolben aus Pyrex
(eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einem Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurde
mit Stickstoff durchströmt und
anschließend
wurden 2,52 g 135 TPB, 1,42 g 4-Phenylethinylnonafluorbiphenyl als
die Verbindung (Z), 0,67 g 1,3,5-Trihydroxybenzol als die Verbindung
(Y2), 0,66 g Perfluorbiphenyl als die Verbindung (W), 40 g DMAc
und 1,30 Kaliumcarbonat eingetragen. Auf einem Ölbad wurde das Gemisch bei
130°C für 6 Stunden unter
Rühren
erwärmt.
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Die Reaktionslösung wurde auf Raumtemperatur
abgekühlt
und graduell in 200 ml einer heftig gerührten 0,2 N wässrigen
Salzsäurelösung eingetragen,
wonach eine feine braune pulvrige Substanz ausfiel. Diese feine
braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration gesammelt und in
etwa 50 ml Tetrahydrofuran gelöst. Diese
Lösung
wurde graduell in 300 ml eines heftig gerührten Lösungsgemischs von reinem Wasser/Methanol (Volumenverhältnis: etwa
1/1) eingebracht, wonach ein grauweißer Niederschlag erhalten wurde,
welcher fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen wurde und anschließend bei 80°C für 20 Stunden im Vakuum getrocknet wurde,
wonach 5,5 g eines weißen
pulvrigen FAP erhalten wurden. Das erhaltene FAP wies eine Etherverknüpfung und
ein Mittel an 6,8 Ethinylgruppen auf, und das Molekulargewicht betrug
9.800 und die relative Dielektrizitätskonstante betrug 2,3. In
der DSC-Messung
wurde kein Übergangspunkt
oder keine Wärmeerzeugung
oder Absorptionspeak beobachtet, und die Tg war mindestens 450°C.
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Beispiel 18 (Vergleichsbeispiel)
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Herstellung von bekanntem
FAP
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Ein 100 ml Vierhalskolben aus Pyrex
(eingetragene Marke), ausgestattet mit einem Dimroth-Kondensator,
einen Thermoelement-Thermometer und einem mechanischen Rührer, wurde
mit Stickstoff durchströmt und
anschließend
wurden 2,51 g Perfluorbiphenyl, 1,68 g Dihydroxy-2,2-diphenylhexafluorpropan,
40 g DMAc und 5 g Toluol eingetragen. Weiter wurden 1,6 g Kaliumcarbonat
eingetragen. Auf einem Ölbad
wurde das Gemisch bei 120°C
für 5 Stunden
unter Rühren
erwärmt,
wonach 0,7 g Kaliumcarbonat und 1,05 g Phenylethinylphenol eingetragen
wurden, gefolgt von Erwärmen
bei 120°C
für weitere
3 Stunden.
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Die Reaktionslösung wurde auf Raumtemperatur
abgekühlt
und graduell in 500 ml eines heftig gerührten Lösungsgemischs von reinem Wasser
enthaltend 8 g Essigsäure/Methanol
(Volumenverhältnis:
etwa 1/1) eingetragen, wonach eine feine braune pulvrige Substanz
ausfiel. Diese feine braune pulvrige Substanz wurde durch Filtration
gesammelt, weiter fünfmal
mit reinem Wasser gewaschen und anschließend bei 80°C für 15 Stunden im Vakuum getrocknet,
wonach 4,2 g feines braunes pulvriges FAP erhalten wurden. Das erhaltene FAP
wies ein Molekulargewicht von 5.100, eine relative Dielektrizitätszahl von
2,8 und eine Tg von 295°C
auf.
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Beispiel 19 (Vergleichsbeispiel)
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Bewertung der Eigenschaften
von FAP mit keiner vernetzbaren funktionalen Gruppe
-
Die relative Dielektrizitätszahl bzw.
die Tg von TPB-35P, erhalten in Beispiel 4 und mit einem Molekulargewicht
von 1.700, waren 2,4 bzw. 121°C,
und zwar bezüglich
einem Film nach Vorerhitzen bei 200°C. Nach einem abschließenden Erhitzen
bei 425°C
war der Film bzw. die Folie vollständig verdampft und verschwunden.
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Beispiel 20
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Haftung zwischen
dem FAP-Beschichtungsfilm und dem Substrat
-
Ein Teil der 15%-igen Cyclohexanonlösung von
FAP, erhalten in Beispiel 10 (im folgenden als die Lösung 10
bezeichnet), wurde entnommen und Aminophenyltrimethoxysilan wurde
in einer Menge von 3 Masse-%, bezogen auf FAP, zugegeben, wonach
eine Lösung
10-1 erhalten wurde. Weiter wurde anstelle von Aminophenyltrimethoxysilan γ-Aminopropylethoxysilan
in einer Menge von 3 Masse-%, bezogen auf FAP, zugegeben, wonach
eine Lösung
10-2 erhalten wurde. Anschließend
wurden auf 4-Inch Siliciumwafer mit p-SiN mit einer Filmdicke von
200 nm (gebildet in einen Film durch ein Plasma-CVD-Verfahren unter
Verwendung eines Gasgemisches von einem Monosilan, Ammoniak und
Stickstoff als das Ausgangsmaterial), p-SiO mit einer Filmdicke
von 300 nm (gebildet in einen Film durch ein Plasma-CVD-Verfahren
unter Verwendung eines Gasgemisches von Monosilan und Sauerstoffdinitrid
als das Ausgangsmaterial), Al mit einer Dicke von 500 nm (gebildet
in einen Film durch ein Sputterverfahren) bzw. TiN mit einer Filmdicke
von 50 nm (gebildet in einen Film durch ein Sputterverfahren) die
Lösung
10, die Lösung
10-1 und die Lösung
10-2 unter Bildung von Beschichtungsfilmen schleuderbeschichtet.
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Die Rotationsdrehgeschwindigkeit
wurde derart eingestellt, daß die
Beschichtungsfilmdicke 500 nm war. Nach Vorerhitzen bei 100°C × 90 Sekunden
und bei 200°C × 90 Sekunden
mittels einer Heizplatte wurde das abschließende Erhitzen in einer Stickstoffatmosphäre bei 425°C × 1 Stunde
in einem Vertikalofen durchgeführt.
Bezüglich
solcher Proben wurde die Haftung zwischen dem FAP-Beschichtungsfilm
und dem Substrat durch einen Kreuzschnitt-Abschältest, wie in JIS D0202 beschrieben,
bewertet.
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Bezüglich der aus der Lösung 10
erhaltenen Beschichtungsfilme wurde kein Abschälen der Beschichtungsfilme,
gebildet auf p-SiO und Al, beobachtet. Unter den Kreuzschnitt-Abschnitten
des auf p-SiN gebildeten Beschichtungsfilms wurden 20% abgeschält, und
unter den Kreuzschnitt-Abschnitten des auf Ti gebildeten Beschich tungsfilms
wurden 80% abgeschält.
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Bezüglich der aus der Lösung 10-1
erhaltenen Beschichtungsfilme wurde kein Abschälen auf einem der auf p-SiN,
p-SiO, Al und TiN gebildeten Beschichtungsfilme beobachtet.
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Bezüglich der aus der Lösung 10-2
erhaltenen Beschichtungsfilme wurde kein Abschälen von einem der auf p-SiN,
p-SiO, Al und TiN gebildeten Beschichtungsfilme beobachtet.
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Aus diesem Beispiel ist klar, daß ein Adhäsionspromotor
wie Aminosilan zur Verbesserung der Haftung von FAP wirksam ist.
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Beispiel 21
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Herstellung eines FAP-Beschichtungsfilms,
der Hohlräumlöcher enthält
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Zu einer 15%-igen Cyclohexanonlösung von
FAP, hergestellt in Beispiel 14, wurde Poly(ε-caprolacton) mit einem Zahlenmittel
des Molekulargewichts von 3.000 in einer Menge von 25 Masse-%, bezogen
auf FAP, zugegeben und gelöst,
gefolgt von der Filtration mit einem PTFE-Filter (Porendurchmesser:
0,2 μm),
wonach eine einheitliche transparente Lösung (im folgenden als eine
Lösung
14 bezeichnet) erhalten wurde. Die Lösung 14 wurde auf einen 4 Inch
Siliciumwafer schleuderbeschichtet, gefolgt vom Erhitzen unter Bildung
eines Beschichtungsfilms. Die Schleuderbedingungen waren 2500 Upm × 30 Sekunden,
und Vorerhitzen und abschließendes
Erhitzen wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 20 durchgeführt. Der
Querschnitt des erhaltenen Beschichtungsfilms wurde durch SEM untersucht,
wodurch die Gegenwart von feinen Hohlraumlöcher im Nanometerbereich festgestellt
wurde. Die relative Dielektrizitätskonstante
des Beschichtungsfilms war 1,8. Weiter wurde kein Abschälen oder
Bruch des Films durch einen Kreuzschnitt-Abschältest beobachtet.
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Beispiel 22
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Bewertung
als eine Zwischenschicht-Isolationsfolie
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Aus der Lösung 10, der Lösung 10-1,
der Lösung
14 und der 15%-igen Cyclohexanonlösung, hergestellt in Beispiel
18 (im folgenden als eine Lösung
18 bezeichnet), wurde ein laminierter Film von Siliciumwafer/p-SiO
(300 nm)/FAP-Beschichtungsfilm (500 nm)/p-SiN (50 nm)/p-SiO (500
nm) durch das folgende Verfahren hergestellt.
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Die Lösung wurde auf einen 4-Inch
Siliciumwafer mit einem p-SiO-Film (Filmdicke: 300 nm) unter Bildung
eines FAP-Beschichtungsfilms mit einer Dicke von 500 nm in der gleichen
Weise wie in Beispiel 20 schleuderbeschichtet. Anschließend wurde
ein Siliciumnitridfilm durch ein Gasgemisch von Monosilan, Ammoniak
und Stickstoff gebildet und anschließend wurde ein Siliciumoxidfilm
mit einer Dicke von 500 nm durch ein Gasgemisch von Monosilan und
Sauerstoffdinitrid gebildet.
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Das erhaltene Laminat wurde bei 425°C für 60 Minuten
in einer Wasserstoffatmosphäre
erhitzt, und die Rißbeständigkeit
durch thermische Beanspruchung wurde mittels eines Metallmikroskops
untersucht. Die Ergebnisse sind nachstehend gezeigt.
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Bei dem aus der Lösung 10 gebildeten Laminat
wurden keine Risse oder keine anderen Defekte beobachtet.
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Bei dem aus der Lösung 10-1 gebildeten Laminat
wurden keine Risse oder keine anderen Defekte beobachtet.
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Bei dem aus der Lösung 14 gebildeten Laminat
wurden keine Risse oder keine anderen Defekte beobachtet.
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Bei dem aus der Lösung 18 gebildeten Laminat
waren Risse mit Breiten von etwa 1 μm über die gesamte Oberfläche gebildet
und es wurde stellenweises Abschälen zwischen
FAP und p-SiN beobachtet.
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Anhand dieses Beispiels ist festgestellt
worden, daß das
FAP gemäß der vorliegenden
Erfindung, wenn verglichen mit bekanntem FAP, in der Laminierung
mit einem anorganischen Film gut ist und in der Anwendbarkeit als
eine Zwischenschicht-Isolationsfolie
ausgezeichnet ist.
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Industrielle
Anwendbarkeit
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Das FAP gemäß der vorliegenden Erfindung
ist in der Wärmebeständigkeit
ausgezeichnet. Insbesondere ist die Glasübergangstemperatur Tg hoch,
und die relative Dielektrizitätskonstante
ist gering. Ein solches FAP ist in der Anwendbarkeit als eine Isolationsfolie
bzw. ein isolierender Film für
elektronische Vorrichtungen und eine Isolationsfolie für Multischicht-Verdrahtungsplatten
ausgezeichnet. Ferner weist eine solche Isolationsfolie eine niedrige
relative Dielektrizitätskonstante
auf und ist befähigt,
eine hohe Leistung wie eine Reduktion in der Signalübermittlungs-Verzögerungszeit
eines Elements zu erreichen, wodurch aufgrund der ausgezeichneten
mechanischen Eigenschaften in einem Hochtemperaturbereich hohe Verläßlichkeit
erhalten werden kann.
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Zusammenfassung
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Zur Bereitstellung eines fluorierten
aromatischen Polymers mit ausgezeichneter Wärmebeständigkeit und einer niedrigen
relativen Dielektrizitätskonstante
und einer Isolationsfolie für
elektronische Vorrichtungen und einer Isolationsfolie für Multischicht-Verdrahtungsplatten,
welche aus dem Polymer sind. Ein fluoriertes aromatisches Polymer,
welches zwei oder mehr vernetzbare funktionalen Gruppen (A) pro
Molekül
enthält
und ein Zahlenmittel des Molekulargewichts von 1×10
3 bis
5×10
5 und eine Etherverknüpfung aufweist und welches durch
beispielsweise ein Verfahren hergestellt wird, worin eine verzweigtkettige
fluorierte aromatische Verbindung (B), dargestellt durch die Formel
1, und eine Verbindung (Y1) mit einer vernetzbaren funktionalen
Gruppe (A) und einer phenolischen Hydroxylgruppe einer Kondensationsreaktion
in der Gegenwart eines HF-entfernenden Mittels unterworfen werden: