DE102016109771A1 - Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche - Google Patents
Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche Download PDFInfo
- Publication number
- DE102016109771A1 DE102016109771A1 DE102016109771.3A DE102016109771A DE102016109771A1 DE 102016109771 A1 DE102016109771 A1 DE 102016109771A1 DE 102016109771 A DE102016109771 A DE 102016109771A DE 102016109771 A1 DE102016109771 A1 DE 102016109771A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- water
- rinsing
- plastic surface
- electrolyzed water
- deionized water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 87
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 9
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 7
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/4618—Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/02—Inorganic compounds
- C11D7/04—Water-soluble compounds
- C11D7/10—Salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/4618—Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water
- C02F2001/46195—Devices therefor; Their operating or servicing for producing "ionised" acidic or basic water characterised by the oxidation reduction potential [ORP]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/46115—Electrolytic cell with membranes or diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/18—Glass; Plastics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, welches sich durch die folgenden Schritte auszeichnet: a) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser, b) Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und c) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche.
- Herstellung von Prozessoren und integrierten Schaltkreisen erfolgt heute auf Siliziumwafern in einer Vielzahl unterschiedlicher, nacheinander durchzuführende Arbeitsschritte, in denen die Wafer mit unterschiedlichsten Materialien beschichtet, oder belichtet werden oder Teile von aufgebrachten Schichten durch unterschiedliche Ätzverfahren oder andere Verfahren wieder entfernt werden. Zwischen diesen einzelnen Arbeitsschritten müssen die teilbeschichteten Wafer von einer Bearbeitungsmaschine zu einer anderen Maschine transportiert werden. Dabei ist von größter Wichtigkeit, dass die sehr empfindlichen sehr filigran beschichteten Oberflächen nicht beschädigt werden. Insbesondere müssen aufgebrachte elektrische Leiterbahnen elektrisch voneinander getrennt bleiben, um die Funktionsfähigkeit des herzustellenden Bauteils, beispielsweise eines Prozessors, zu gewährleisten.
- Zur Lagerung und zum Transport werden die Teilbeschichteten Wafer in sogenannten FOUPs (Front Opening Unified Pod) gelagert. Diese bestehen aus einem Kunststoff, beispielsweise Polycarbonat oder Polyetheretherketon (PEEK). Beim Einsetzen der beschichteten Siliziumwafer ist es möglich, das Material am Kunststoff des Behältnisses anhaftet und so zu einer Verunreinigung führt. Wird bei einem nächsten Arbeitsschritt ein anderer Wafer in dem Behälter gelagert, ist es möglich, dass auf diese Weise angebrachte metallische Verunreinigungen und/oder Partikel auf den neuen beschichteten Wafer übertragen werden und so beispielsweise für Kurzschlüsse elektrischer Leitungen oder sonstige Beschädigungen sorgen. Derartige Verunreinigungen können daher zu erheblichen Verlusten und funktionsunfähigen Bauteilen führen. Daher ist es notwendig, die Kunststoffoberflächen zu reinigen, um die Kontamination der Siliziumwafer zu vermeiden. Natürlich sind entsprechende Reinigungsverfahren auch für andere Anwendungsbeispiele geeignet, bei denen Kunststoffflächen gereinigt und insbesondere von metallischen Verunreinigungen befreit werden sollen.
- Heute werden die Kunststoffbehälter, in denen die Siliziumwafer gelagert und transportiert werden, hauptsächlich mit deionisiertem Wasser behandelt, das auch als destilliertes Wasser bezeichnet wird. Dies ist jedoch insbesondere aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung der Beschichtungen und der hergestellten Strukturen der integrierten Schaltkreise oftmals nicht mehr ausreichend, da bereits kleine und kleinste Kontaminationen zu Fehlfunktionen der integrierten Schaltkreise führen, die somit Ausschuss sind und nicht verwendet werden können. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, ein Verfahren zum Reinigen von Kunststoffoberflächen so weiterzuentwickeln, dass es einfach, kostengünstig und schnell durchführbar ist und die Reinigungswirkung insbesondere für metallische Verunreinigungen verbessert wird.
- Die Erfindung löst die gestellte Aufgabe durch ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist:
- a) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser,
- b) Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und
- c) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.
- Unter dem Begriff „Spülen“ wird im Sinne der vorliegenden Erfindung verstanden, dass die jeweilige Flüssigkeit auf die zu reinigende Kunststoffoberfläche aufgebracht wird. Dies kann beispielsweise geschehen, indem die jeweilige Flüssigkeit auf die Oberfläche aufgesprüht wird, oder die Kunststoffoberfläche in die jeweilige Flüssigkeit eingetaucht wird. Selbstverständlich ist es auch möglich, die Flüssigkeit über die Kunststoffoberfläche rinnen zu lassen.
- In einem ersten Verfahrensschritt wird die zu reinigende Kunststoffoberfläche folglich mit deionisiertem Wasser gespült, das auch als destilliertes Wasser bezeichnet wird. Damit werden zunächst auf der Oberfläche anhaftende oder aufliegende grobe Partikel entfernt. Besonders vorteilhafterweise ist, dass das ionisierte Wasser auf die zu reinigende Kunststoffoberfläche aufgesprüht wird.
- In einem zweiten Verfahrensschritt wird die Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser gespült. Elektrolysiertes Wasser wird hergestellt, indem beispielsweise deionisiertes Wasser mit einem Elektrolyt versetzt und anschließend durch eine Elektrolysezelle geleitet wird. Durch die Verwendung des elektrolysierten Wassers wird zumindest ein Teil des an der Kunststoffoberfläche anhaftenden Metalls gelöst und auf diese Weise von der Oberfläche entfernt. Vorzugsweise wird das anhaftende Metall vollständig entfernt.
- Insbesondere um Rückstände des elektrolysierten Wassers an der zu reinigenden Kunststoffoberfläche zu entfernen, wird in einem dritten Verfahrensschritt die Oberfläche erneut mit deionisiertem Wasser gespült. Hierzu wird vorteilhafterweise ein sogenannter „rinse cleaning process“ verwendet, bei dem das deionisierte Wasser über die Oberfläche, die zu reinigen ist, rinnt.
- Im Vergleich zu den aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren, bei denen die Reinigung ausschließlich durch die Verwendung von deionisiertem Wasser erfolgt, macht sich das erfindungsgemäße Verfahren die Erkenntnis zunutze, dass die Löslichkeit von Metallen in Wasser insbesondere vom pH-Wert und von Redoxpotential des Wassers abhängt. Daher ist die Löslichkeit der Metalle in elektrolysiertem Wasser in der Regel höher als in deionisiertem Wasser, sodass durch den zusätzlichen Verfahrensschritt des Spülens mit elektrolysiertem Wasser metallische Verunreinigungen besser entfernt werden können, als beim Reinigen mit deionisiertem Wasser allein.
- Vorteilhafterweise beinhaltet das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit anodischem Wasser, das einen pH-Wert hat, der kleiner ist als 7. Anodisches Wasser ist daher sauer und kann eine Reihe von Metallen lösen.
- Alternativ oder zusätzlich dazu beinhaltet das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit kathodischem Wasser, das einen pH-Wert aufweist, der größer ist als 7. Insbesondere können vorzugsweise Partikel – beispielsweise metallische Partikel – mit kathodischem Wasser zumindest größtenteils, verzugsweise jedoch vollständig entfernt werden.
- Es hat sich als Vorteilhaft herausgestellt, wenn das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen sowohl mit anodischem Wasser als auch mit kathodischem Wasser beinhaltet, wobei die beiden unterschiedlich elektrolysierten Wasser nacheinander verwendet werden. Vorteilhafterweise wird die Kunststoffoberfläche zunächst mit anodischem Wasser gespült, bevor sie mit kathodischem Wasser gespült wird. Durch die Spülung der Kunststoffoberfläche mit anodischem Wasser können leichte positive Ladungen auf der Oberfläche zurückbleiben. Dadurch wird eine spätere erneute Anhaftung Partikel erleichtert und die Anhaftung verbessert, sodass diese zurückbleibenden leicht positiven Ladungen vermieden werden sollten. Durch eine spätere alkalische Nachbehandlung der Oberfläche durch das Spülen mit kathodischem Wasser werden diese leicht positiven Ladungen entfernt, sodass die Anhaftung neuer Partikel erschwert wird.
- Unabhängig davon, welches elektrolysierte Wasser zum Spülen verwendet wird, wird abschließend deionisiertes Wasser zum Spülen verwendet, um die Rückstände des elektrolysierten Wassers möglichst vollständig zu entfernen.
- Vorteilhafterweise wird das elektrolysierte Wasser in einer Elektrolysezelle hergestellt, die zwei Elektroden aufweist, und in die Wasser eingeleitet wird, das mit einem Elektrolyt versetzt wird. Die Herstellung von elektrolysiertem Wasser ist aus dem Stand der Technik seit langem bekannt. Vorteilhafterweise lassen sich jedoch der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers einstellen, indem die Konzentration des Elektrolyten und/oder ein zwischen den beiden Elektroden fließender elektrischer Strom als Steuerparameter verwendet werden. Die Elektrolysezelle verfügt in der Regel über zwei Elektrolysekammern, von denen eine die Kathodenkammer mit der sich darin befindenden Kathode und die andere die Anodenkammer mit der sich darin befindenden Anode darstellt. Vorzugsweise werden die beiden Elektroden als Diamantelektroden ausgebildet. In wenigstens eine der beiden Kammern wird mit einem Elektrolyt versetztes deionisiertes Wasser eingeleitet, das somit dem elektrischen Feld, das zwischen den beiden Elektroden herrscht, ausgesetzt wird. Die beiden Kammern werden durch eine Membran voneinander getrennt, die für Ionen einer bestimmten Ladung durchlässig ist. So gibt es beispielsweise für Anionen durchlässige Membrane und für Kationen durchlässige Membranen, durch die folglich gesteuert werden kann, welche Ionensorte die Membran passieren kann.
- Durch die Auswahl des jeweiligen Elektrolyten und der jeweiligen Konzentration des Elektrolyten lässt sich der pH-Wert des herzustellenden elektrolysierten Wassers auf einen vorbestimmten Wert einstellen. Gegebenenfalls müssen dafür die Verweildauer des mit Elektrolyten versehenen deionisierten Wassers innerhalb der jeweiligen Kammer der Elektrolysezelle, also die Durchflussgeschwindigkeit, und/oder der Strom, der durch die beiden Elektroden fließt, eingestellt und angepasst werden. Durch den elektrischen Strom kann zudem auch das Redoxpotential des hergestellten elektrolysierten Wassers eingestellt werden. Es ist folglich möglich, sowohl den pH-Wert als auch das Redoxpotential zumindest innerhalb vorbestimmter Bereiche unabhängig voneinander auf eine gewünschte Wertekombination einzustellen und somit das elektrolysierte Wasser optimal auf das zu lösende Metall, das als Verunreinigung an der zu reinigenden Kunststoffoberfläche anhaftet, einzustellen.
- Insbesondere können Elektrolyte gewählt werden, die Chlorid-Ionen (Cl–), Fluorid-Ionen (F–), Sulfat-Ionen (SO4 2–), Phosphat-Ionen (PO4 3–), Nitrat-Ionen (NO3 –) oder Kombinationen dieser Ionen bilden. Selbstverständlich müssen auch Elektrolyte verwendet werden, die Kationen bilden, um die elektrische Neutralität zu gewährleisten. Als Kationen kommen insbesondere Wasserstoffionen (H+) und/oder Ammonium-Ionen (NH4+) in Frage.
- Dies ist einfach, schnell und sicher möglich, sodass das Verfahren kostengünstig durchführbar ist.
- Vorteilhafterweise dauert das Spülen der Kunststoffoberfläche in jedem der Verfahrensschritte zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden. Wird im Verfahrensschritt b) sowohl mit anodischem als auch mit kathodischem Wasser gespült, kann für jede dieser beiden Spülungen eine Spüldauer zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden vorgesehen werden. Es hat sich als Vorteilhaft herausgestellt, wenn das Spülen in den unterschiedlichen Verfahrensschritten unterschiedlich lange dauert. Vorzugsweise wird die jeweilige Spüldauer auf die zu erwartenden Verschmutzungen oder Verunreinigungen und den gewünschten Grad der Reinigung eingestellt.
- Um die Spül- und Reinigungswirkung weiter zu verbessern, kann die Temperatur des deionisierten Wassers und/oder des elektrolysierten Wassers zwischen 10 °C und 70 °C betragen. Dabei hat sich gezeigt, dass die Reinigungswirkung mit steigender Temperatur zunimmt. Selbstverständlich kann auch hier die Temperatur in unterschiedlichen Verfahrensschritten für die jeweilige Flüssigkeit unterschiedlich gewählt werden. Insbesondere kann auch das deionisierte Wasser, mit dem im Verfahrensschritt a) gespült wird, eine andere Temperatur aufweisen und insbesondere wärmer oder kälter sein als das deionisierte Wasser, mit dem im Verfahrensschritt c) gespült wird.
- Die Erfindung löst die gestellte Aufgabe zudem durch eine Vorrichtung zum Durchführen eines hier beschriebenen Verfahrens. Vorzugsweise verfügt eine derartige Vorrichtung nicht nur über die Möglichkeit, die Kunststoffoberfläche mit den jeweils verschiedenen Flüssigkeiten zu spülen, sondern umfasst auch eine Elektrolysezelle, um das benötigte elektrolysierte Wasser selbst herzustellen. Dabei kann die Elektrolysezelle durchgängig im Permanentbetrieb betrieben werden.
- Alternativ dazu kann auch ein zeitlich begrenzter Betrieb der Elektrolysezelle sinnvoll sein, wenn die Vorrichtung beispielsweise über einen oder mehrere Zwischentanks oder Speicher verfügt, in dem oder denen die elektrolysierte Flüssigkeit zwischengespeichert werden kann. In diesem Fall ist es möglich, eine Elektrolysezelle mit größerer Kapazität zu verwenden, die gegebenenfalls effizienter betrieben werden kann.
- Mit Hilfe der beiliegenden Zeichnungen wird nachfolgend ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung näher erläutert. Es zeigt:
-
1 – die schematische Darstellung einer Elektrolysezelle, -
2 – die schematische Darstellung eines Aufbaus einer Vorrichtung gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung und -
3 und4 – schematische Diagramme, aus denen sich die Reinigungswirkung ergibt. -
1 zeigt eine Elektrolysezelle1 , die eine Anodenkammer2 , in der sich eine Anode4 befindet, und eine Kathodenkammer6 aufweist, in der sich eine Kathode8 befindet. Zwischen der Anodenkammer2 und der Kathodenkammer6 befindet sich eine Ionentauschermembran10 , die im gezeigten Ausführungsbeispiel als Anionen-Tauschermembran10 ausgebildet ist. Durch einen Anodenkammerzulauf12 wird deionisiertes Wasser oder destilliertes Wasser, das auch Reinst- oder Ultrareinstwasser sein kann, in die Anodenkammer2 eingeleitet. Gleichzeitig wird deionisiertes Wasser, in dem sich ein Elektrolyt befindet, der im gezeigten Ausführungsbeispiel Chlorid-Ionen bildet, durch einen Kathodenkammerzulauf14 in die Kathodenkammer6 geleitet. Schematisch ist in1 dargestellt, dass sich in der Kathodenkammer6 neben dem Wasser (H2O) auch Ammonium-Ionen (NH4 +) und Chlorid-Ionen (Cl–) befinden. - Zwischen der Anode
4 und der Kathode8 wird eine elektrische Spannung angelegt, die die Chlorid-Ionen (Cl–) entlang des Pfeiles16 in Richtung auf die Anode4 beschleunigt. Sie können durch die Ionentauschermembran10 hindurchtreten und befinden sich dann in der Anodenkammer2 . - In einer alternativen Ausgestaltung kann statt einer Anionen-Tauschermembran auch eine Kationen-Tauschermembran verwendet werden, sodass positiv geladene Kationen von der Anodenkammer
2 in die Kathodenkammer6 gelangen können. - Durch einen Anodenkammerablauf
18 verlassen die in1 dargestellten Bestandteile die Anodenkammer2 . Es handelt sich um Wasser, Chlorid-Ionen (Cl–) und Hydronium-Ionen (H+), die durch die elektrische Spannung zwischen der Anode4 und der Kathode8 erzeugt werden. Gleichzeitig wird in der Anodenkammer2 Ozon (O3) gebildet, das ebenfalls durch den Anodenkammerablauf18 die Anodenkammer2 verlässt. - Aus einem Anodenkammerablauf
20 verlassen neben dem Wasser auch die Ammonium-Ionen (NH4 +) sowie die Hydroxid-Ionen (OH–) die Kathodenkammer8 . - Aus der Konzentration des Elektrolytes, aus dem im gezeigten Beispiel die Chlorid-Ionen (Cl–) gebildet werden, und dem elektrischen Strom, der durch die zwischen der Anode
4 und der Kathode8 angelegte Spannung hervorgerufen wird, lassen sich der pH-Wert sowie das Redoxpotential des aus dem Anodenkammerablauf18 austretenden elektrolysierten Wassers einstellen. -
2 zeigt schematisch eine Vorrichtung zum Durchführen eines Verfahrens zum Reinigen gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. - Die Vorrichtung verfügt über zwei Elektrolysezellen
1 , die jeweils eine Anodenkammer2 und eine Kathodenkammer6 aufweisen. Zwischen den beiden Kammern ist jeweils eine Ionentauschermembran10 angeordnet, die in der in2 links dargestellten Elektrolysezelle1 als Anionen-Tauschermembran und in der rechts dargestellten Elektrolysezelle1 als Kationentauschermembran ausgebildet ist. Den Pfeilen16 entsprechend können daher in der links dargestellten Elektrolysezelle1 Anionen durch die Ionentauschermembran10 hindurchtreten, während in der rechts dargestellten Elektrolysezelle1 Kationen aus der Anodenkammer2 in die Kathodenkammer6 übertreten können. - Die in
1 gezeigte Vorrichtung verfügt über einen Anolyt-Mischtank22 . In Ihm wird deionisiertes Wasser, das über eine Zuleitung24 bereitgestellt wird, mit einem Anolyten vermischt, bevor es über den Anodenkammerzulauf12 in die Anodenkammer2 der in2 rechts dargestellten Elektrolysezelle1 eingespeist wird. Durch den Kathodenkammerzulauf14 wird deionisiertes Wasser zugeführt. - In der in
2 rechts dargestellten Elektrolysezelle wird kathodisches Wasser hergestellt, das über eine Kathodenleitung26 in einen Kathodentank28 eingeleitet wird. Von dort kann es einer Aufbringvorrichtung30 zugeführt werden, durch die es auf zu reinigende Oberfläche aus Kunststoff aufgebracht wird. - Die in
2 gezeigte Vorrichtung verfügt zudem über einen Katholyt-Mischtank32 . In ihm wird deionisiertes Wasser, das über die Zuleitung24 zugeführt wird, mit einem Katholyten vermischt, bevor es über den Kathodenkammerzulauf14 in die Kathodenkammer6 eingeleitet wird. In die Anodenkammer2 der in2 links dargestellten Elektrolysezelle1 wird deionisiertes Wasser über den Anodenkammerzulauf12 eingeleitet. Aus dem Anodenkammerablauf18 wird das in der links dargestellten Elektrolysezelle hergestellte anodische Wasser durch eine Anodenleitung34 in einen Anodentank36 eingeleitet, aus dem es ebenfalls der Aufbringvorrichtung30 zugeführt werden kann. - In den
3 und4 ist schematisch dargestellt, wie die Reinigungswirkung eines Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist. - Dabei geht es um das Entfernen von Eisen-Verunreinigungen von einem Bauteil aus Polycarbonat. Aufgetragen ist jeweils B, das Redoxpotential in Millivolt (mV) über A, dem pH-Wert. Die durchgezogenen Linien beinhalten jeweils eine Zahl in einem viereckigen Kasten. Diese Zahl bezeichnet den prozentualen Anteil der Eisenverunreinigungen, der mit dem jeweiligen Verfahren entfernt werden konnte. So werden beispielsweise bei dem in
3 dargestellten Ergebnis eines Verfahrens bei einem pH-Wert von 5,2 und einem Redoxpotential von 422 mV 25 % der Eisenverunreinigungen entfernt. - Bei dem Verfahren, dessen Ergebnis in
3 dargestellt ist, wird die Oberfläche für 15 Sekunden bei einer Temperatur von 22,1 °C mit der jeweiligen Flüssigkeit behandelt, während bei dem Verfahren, dessen Ergebnis in4 dargestellt ist, die Behandlung mit der jeweiligen Flüssigkeit für 180 Sekunden bei einer Temperatur von 70 °C geschieht. Man erkennt, dass bei identischen Bereichen des Redoxpotentiales B und des pH-Wertes A durch die längere Einwirkzeit der jeweiligen Flüssigkeit deutlich größere Anteile der Eisenverschmutzungen und Verunreinigungen entfernt werden konnten. - Bezugszeichenliste
-
- 1
- Elektrolysezelle
- 2
- Anodenkammer
- 4
- Anode
- 6
- Kathodenkammer
- 8
- Kathode
- 10
- Ionentauschermembran
- 12
- Anodenkammerzulauf
- 14
- Kathodenkammerzulauf
- 16
- Pfeil
- 18
- Anodenkammerablauf
- 20
- Kathodenkammerablauf
- 22
- Anolyt-Mischtank
- 24
- Zuleitung
- 26
- Kathodenleitung
- 28
- Kathodentank
- 30
- Aufbringvorrichtung
- 32
- Katholyt-Mischtank
- 34
- Anodenleitung
- 36
- Anodentank
Claims (10)
- Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: a) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser, b) Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und c) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit anodischem Wasser mit einem pH-Wert, der kleiner ist als 7, beinhaltet.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit kathodischem Wasser mit einem pH-Wert, der größer ist als 7, beinhaltet.
- Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoffoberfläche mit anodischem Wasser gespült wird bevor sie mit kathodischem Wasser gespült wird.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers auf einen vorbestimmten Wert eingestellt wird.
- Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das elektrolysierte Wasser in einer Elektrolysezelle (
1 ) hergestellt wird, die zwei Elektroden (4 ,8 ) aufweist und in die Wasser eingeleitet wird, das mit einem Elektrolyten versetzt ist, wobei der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers eingestellt wird, in dem eine Konzentration des Elektrolyten und/oder ein zwischen den beiden Elektroden (4 ,8 ) fließender elektrischer Strom als Steuerparameter verwendet werden. - Verfahren nach einem vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen der Kunststoffoberfläche in jedem Verfahrensschritt zwischen 5 Sekunden und 600 Sekunden, vorzugsweise zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden, dauert.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen in den verschiedenen Verfahrensschritten unterschiedlich lange dauert.
- Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Temperatur des deionisierten Wassers und/oder des elektrolysierten Wassers zwischen 10 °C und 70 °C beträgt.
- Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der vorstehenden Ansprüche.
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016109771.3A DE102016109771B4 (de) | 2016-05-27 | 2016-05-27 | Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche |
CN201780032085.3A CN110099755A (zh) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | 用于清洁塑料表面的方法 |
EP17730392.2A EP3487639A1 (de) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | Verfahren zum reinigen einer kunststoffoberfläche |
US16/304,836 US11872603B2 (en) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | Method for cleaning a synthetic surface |
JP2019514856A JP2019519688A (ja) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | プラスチック表面を洗浄する方法 |
KR1020187037276A KR102424386B1 (ko) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | 합성 표면 세척 방법 |
SG11201810844VA SG11201810844VA (en) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | Method for cleaning a synthetic surface |
PCT/EP2017/062693 WO2017203007A1 (de) | 2016-05-27 | 2017-05-24 | Verfahren zum reinigen einer kunststoffoberfläche |
TW106117602A TWI800482B (zh) | 2016-05-27 | 2017-05-26 | 用於清潔塑膠表面的方法及用於執行該方法的設備 |
IL263210A IL263210A (en) | 2016-05-27 | 2018-11-22 | A method for cleaning a synthetic surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016109771.3A DE102016109771B4 (de) | 2016-05-27 | 2016-05-27 | Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102016109771A1 true DE102016109771A1 (de) | 2017-11-30 |
DE102016109771B4 DE102016109771B4 (de) | 2020-09-10 |
Family
ID=59067625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102016109771.3A Active DE102016109771B4 (de) | 2016-05-27 | 2016-05-27 | Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11872603B2 (de) |
EP (1) | EP3487639A1 (de) |
JP (1) | JP2019519688A (de) |
KR (1) | KR102424386B1 (de) |
CN (1) | CN110099755A (de) |
DE (1) | DE102016109771B4 (de) |
IL (1) | IL263210A (de) |
SG (1) | SG11201810844VA (de) |
TW (1) | TWI800482B (de) |
WO (1) | WO2017203007A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019185592A1 (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | Lam Research Ag | Method of producing rinsing liquid |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109530374B (zh) * | 2018-11-21 | 2021-07-27 | 上海超硅半导体有限公司 | 一种晶圆盒清洗方法 |
CN110880449B (zh) * | 2019-09-30 | 2022-07-19 | 王偲偲 | 一种硅片清洗方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19540471A1 (de) * | 1994-10-28 | 1996-05-02 | Nec Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von elektronischen Teilen |
DE69619039T2 (de) * | 1995-09-06 | 2002-08-29 | Sharp Kk | Geschirrspülmaschine |
WO2006025639A1 (en) * | 2004-09-02 | 2006-03-09 | Sfa Engineering Corp. | Apparatus for cleaning a substrate and method thereof |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6114233A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-22 | N V C:Kk | プラスチツク製品の洗浄方法 |
EP0605882B1 (de) | 1993-01-08 | 1996-12-11 | Nec Corporation | Verfahren und Vorrichtung zur Nassbehandlung von festen Oberflächen |
JP2743823B2 (ja) * | 1994-03-25 | 1998-04-22 | 日本電気株式会社 | 半導体基板のウエット処理方法 |
JP2737643B2 (ja) * | 1994-03-25 | 1998-04-08 | 日本電気株式会社 | 電解活性水の生成方法および生成装置 |
JP2830733B2 (ja) * | 1994-03-25 | 1998-12-02 | 日本電気株式会社 | 電解水生成方法および電解水生成機構 |
US5599438A (en) * | 1994-03-25 | 1997-02-04 | Nec Corporation | Method for producing electrolyzed water |
JP3181795B2 (ja) * | 1994-10-28 | 2001-07-03 | オルガノ株式会社 | 電解水製造装置 |
JP3313263B2 (ja) * | 1995-04-15 | 2002-08-12 | 株式会社東芝 | 電解水生成方法及びその生成装置、半導体製造装置 |
JP2832171B2 (ja) * | 1995-04-28 | 1998-12-02 | 信越半導体株式会社 | 半導体基板の洗浄装置および洗浄方法 |
JP3299662B2 (ja) | 1995-09-06 | 2002-07-08 | シャープ株式会社 | 食器洗い機 |
JP3590470B2 (ja) * | 1996-03-27 | 2004-11-17 | アルプス電気株式会社 | 洗浄水生成方法および洗浄方法ならびに洗浄水生成装置および洗浄装置 |
US6273107B1 (en) * | 1997-12-05 | 2001-08-14 | Texas Instruments Incorporated | Positive flow, positive displacement rinse tank |
JP3378543B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2003-02-17 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ | ウェーハ・キャリア洗浄方法 |
JP4462513B2 (ja) * | 2000-01-12 | 2010-05-12 | 有限会社コヒーレントテクノロジー | 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法 |
KR100389917B1 (ko) * | 2000-09-06 | 2003-07-04 | 삼성전자주식회사 | 산화성 물질을 포함하는 아노드 수 및/또는 환원성 물질을포함하는 캐소드 수를 사용하는 반도체 제조를 위한 습식공정 및 이 공정에 사용되는 아노드수 및/또는 캐소드수 |
JP2002153827A (ja) * | 2000-11-19 | 2002-05-28 | Nofil Corp | 洗浄方法 |
JP3988827B2 (ja) * | 2001-12-05 | 2007-10-10 | オキュラス イノヴェイティヴ サイエンシズ、インコーポレイテッド | 負および正の酸化還元電位(orp)水を生成するための方法および装置 |
JP2006255603A (ja) | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 電解水での洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2007123770A (ja) | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Kaijo Corp | ドアシェル洗浄装置及びドアシェル洗浄方法 |
WO2008138357A1 (en) * | 2007-05-13 | 2008-11-20 | Magued George Amin | Electrolyzed alkaline water multipurpose cleaner ph 12.5+/-1.5 |
JP2010155435A (ja) * | 2009-01-05 | 2010-07-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | デブリー除去方法及びデブリー除去装置 |
CN102658270B (zh) | 2012-05-09 | 2016-05-11 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 一种晶圆盒清洗装置及其清洗方法 |
US9579697B2 (en) | 2012-12-06 | 2017-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method of cleaning FOUP |
KR102107987B1 (ko) * | 2012-12-27 | 2020-05-08 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
CN104043605A (zh) * | 2013-03-13 | 2014-09-17 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 载体清洗装置和载体清洗方法 |
JP2015041756A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 株式会社東芝 | ウェハキャリアの洗浄方法 |
JP6114233B2 (ja) | 2014-06-20 | 2017-04-12 | 株式会社バンダイナムコエンターテインメント | プログラム及びゲーム装置 |
-
2016
- 2016-05-27 DE DE102016109771.3A patent/DE102016109771B4/de active Active
-
2017
- 2017-05-24 WO PCT/EP2017/062693 patent/WO2017203007A1/de unknown
- 2017-05-24 EP EP17730392.2A patent/EP3487639A1/de not_active Withdrawn
- 2017-05-24 SG SG11201810844VA patent/SG11201810844VA/en unknown
- 2017-05-24 KR KR1020187037276A patent/KR102424386B1/ko active IP Right Grant
- 2017-05-24 US US16/304,836 patent/US11872603B2/en active Active
- 2017-05-24 JP JP2019514856A patent/JP2019519688A/ja active Pending
- 2017-05-24 CN CN201780032085.3A patent/CN110099755A/zh active Pending
- 2017-05-26 TW TW106117602A patent/TWI800482B/zh active
-
2018
- 2018-11-22 IL IL263210A patent/IL263210A/en unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19540471A1 (de) * | 1994-10-28 | 1996-05-02 | Nec Corp | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von elektronischen Teilen |
DE69619039T2 (de) * | 1995-09-06 | 2002-08-29 | Sharp Kk | Geschirrspülmaschine |
WO2006025639A1 (en) * | 2004-09-02 | 2006-03-09 | Sfa Engineering Corp. | Apparatus for cleaning a substrate and method thereof |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019185592A1 (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | Lam Research Ag | Method of producing rinsing liquid |
CN111918842A (zh) * | 2018-03-27 | 2020-11-10 | 朗姆研究公司 | 产生清洗液体的方法 |
US11975992B2 (en) | 2018-03-27 | 2024-05-07 | Lam Research Ag | Method of producing rinsing liquid |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017203007A1 (de) | 2017-11-30 |
IL263210A (en) | 2018-12-31 |
CN110099755A (zh) | 2019-08-06 |
US11872603B2 (en) | 2024-01-16 |
TW201742677A (zh) | 2017-12-16 |
SG11201810844VA (en) | 2019-01-30 |
TWI800482B (zh) | 2023-05-01 |
KR20190035621A (ko) | 2019-04-03 |
DE102016109771B4 (de) | 2020-09-10 |
US20200043766A1 (en) | 2020-02-06 |
JP2019519688A (ja) | 2019-07-11 |
KR102424386B1 (ko) | 2022-07-25 |
EP3487639A1 (de) | 2019-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0878561B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren von Verzinnungslösungen | |
DE112012004983T5 (de) | Verfahren zum Regenerieren einer Beschichtungsflüssigkeit,Beschichtungsverfahren und Beschichtungsvorrichtung | |
DE2604371C2 (de) | ||
EP3137651B1 (de) | Behandlungsvorrichtung und behandlungsverfahren zum beizen und phosphatieren von metallteilen | |
DE102016109771B4 (de) | Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche | |
EP1106711B1 (de) | Verfahren zur Rückgewinnung von Wasserspüllösungen der Herstellung von Phosphatkonversionsüberzügen und Einrichtung zur Metalloberflächenbehandlung | |
DE60303393T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zur regeneration eines bads zur stromlosen metallabscheidung | |
DE2115687A1 (de) | Verfahren zur Aufbereitung und Wieder verwertung der bei der Reinigung von elektroplatüerten oder stromlos behan delten Werkstucken anfallenden Waschwasser | |
DE4200849C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung des bei der chemischen und/oder elektrolytischen Oberflächenbehandlung von Metallen anfallenden Spülwassers | |
DE4231028C2 (de) | Verfahren zur Aufbereitung der bei der Oberflächenbehandlung von Metallen anfallenden wässerigen Flüssigkeiten | |
DE102006016688B3 (de) | Elektroentionisierungsverfahren zur Aufbereitung von bei der chemischen und/oder elektrochemischen Oberflächenbehandlung von Metallen entstehenden Spülwässern | |
DE4405741C1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Metallen aus Elektrolyten mit Prozeßorganik | |
DE102018115289A1 (de) | Tauchlackieranlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen | |
DE2729387A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen aufbereitung eines galvanischen nickelbades sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE102017110297A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung einer Objektoberfläche mittels einer Behandlungslösung | |
DE102004038693B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung von Fremdstoffen aus Prozesslösungen und Verfahren zur Regenerierung eines Kationenaustauschers | |
DE4110423A1 (de) | Vorrichtung zur chemischen metallbearbeitung | |
DE10132349A1 (de) | Verfahren und Anlage zur elektrophoretischen, insbesondere kataphoretischen, Tauchlackierung von Gegenständen | |
EP3552691B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur deionisation eines fluids mit darin gelösten ionen, insbesondere von wasser | |
DE10107936C2 (de) | Verfahren zur Aufbereitung von Prozessflüssigkeiten in Feuerverzinkungsanlagen | |
DE10247318A1 (de) | Verfahren zur Metallabreicherung in Nitratelektrolyten | |
DE102009028843A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Auftragen einer Beschichtung auf ein Werkstück mittels elektrolytischer Metallabscheidung | |
DE19729493C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Metallionen verunreinigtem Spülwasser | |
EP3715335A1 (de) | Oberflächenbehandlungsanlage, präkonditionierungseinrichtung und verfahren zum aufbereiten von prozessmedium und/oder spülmedium | |
DD235626A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von galvanischem abwasser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |