EP3487639A1 - Verfahren zum reinigen einer kunststoffoberfläche - Google Patents

Verfahren zum reinigen einer kunststoffoberfläche

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Publication number
EP3487639A1
EP3487639A1 EP17730392.2A EP17730392A EP3487639A1 EP 3487639 A1 EP3487639 A1 EP 3487639A1 EP 17730392 A EP17730392 A EP 17730392A EP 3487639 A1 EP3487639 A1 EP 3487639A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
water
rinsing
plastic surface
electrolyzed water
deionized water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP17730392.2A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Lutz Rebstock
Matthias Fryda
Thorsten Matthée
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brooks Automation Germany GmbH
Original Assignee
Brooks Automation Germany GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Brooks Automation Germany GmbH filed Critical Brooks Automation Germany GmbH
Publication of EP3487639A1 publication Critical patent/EP3487639A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/18—Glass; Plastics

Definitions

  • the invention relates to a method for cleaning, in particular for removing metallic contaminants and / or particles, from a plastic surface.
  • processors and integrated circuits are produced on silicon wafers in a multiplicity of different work steps to be carried out successively, in which the wafers are coated or exposed to a wide variety of materials, or parts of applied layers are removed again by different etching methods or other methods. Between these individual steps, the partially coated wafers must be transported from one processing machine to another machine. It is of utmost importance that the very delicate very filigree coated surfaces are not damaged. In particular, applied electrical conductor tracks must remain electrically separated from one another in order to ensure the functionality of the component to be produced, for example a processor.
  • FOUPs Front Opening Unified Pod
  • FOUPs Front Opening Unified Pod
  • PEEK polyetheretherketone
  • the invention achieves the stated object by a method for cleaning, in particular for removing metallic contaminants and / or particles, from a plastic surface, the method having the following steps: a) rinsing the plastic surface with deionized water,
  • the term "purging" is understood to mean that the respective liquid is applied to the plastic surface to be cleaned, for example by spraying the respective liquid onto the surface or by dipping the plastic surface into the respective liquid Of course, it is also possible to let the liquid run over the plastic surface.
  • the plastic surface to be cleaned is consequently rinsed with deionized water, which is also referred to as distilled water. This initially removes adhering or resting coarse particles on the surface. It is particularly advantageous that the ionized water is sprayed onto the plastic surface to be cleaned.
  • the plastic surface is rinsed with electrolyzed water. Electrolyzed water is produced by, for example, adding an electrolyte to deionized water and then passing it through an electrolytic cell. By using the electrolyzed water at least part of the adhering to the plastic surface metal is dissolved and removed in this way from the surface. Preferably, the adhered metal is completely removed.
  • the surface is rinsed again with deionized water in a third step.
  • a so-called “rinse cleaning process” is advantageously used in which the deionized water flows over the surface to be cleaned.
  • the inventive method makes use of the knowledge that the solubility of metals in water, in particular the pH and redox potential of the Water depends. Therefore, the solubility of the metals in electrolyzed water is usually higher than in deionized water, so that the additional process step of rinsing with electrolyzed water can better remove metallic contaminants than when purifying with deionized water alone.
  • rinsing with electrolyzed water involves rinsing with anodic water having a pH that is less than 7.
  • Anodic water is therefore acidic and can dissolve a variety of metals.
  • purging with electrolyzed water includes purging with cathodic water having a pH greater than 7.
  • particles, such as metallic particles may be at least mostly, but preferably completely, removed with cathodic water.
  • rinsing with electrolyzed water involves rinsing with both anodic and cathodic water, using the two differently electrolyzed water in succession.
  • the plastic surface is first rinsed with anodic water before it is rinsed with cathodic water. Rinsing the plastic surface with anodic water may leave slight positive charges on the surface. This facilitates later re-adhesion of particles and improves adhesion so that these remaining slightly positive charges should be avoided. Subsequent alkaline surface aftertreatment by cathodic water rinsing removes these slightly positive charges, making it difficult to adhere new particles.
  • deionized water is used for rinsing to remove as much as possible the residue of the electrolyzed water.
  • the electrolyzed water is produced in an electrolysis cell having two electrodes and into which water is added, which is treated with an electrolyte.
  • the production of electrolyzed water has been known for a long time from the prior art.
  • the pH and / or the redox potential of the electrolyzed water can be adjusted by using the concentration of the electrolyte and / or an electric current flowing between the two electrodes as control parameters.
  • the electrolysis cell generally has two electrolysis chambers, one of which represents the cathode chamber with the cathode located therein and the other represents the anode chamber with the anode located therein.
  • the two electrodes are formed as diamond electrodes.
  • the two chambers Into at least one of the two chambers is introduced with an electrolyte-added deionized water, which is thus exposed to the electric field that prevails between the two electrodes.
  • the two chambers are separated by a membrane which is permeable to ions of a given charge.
  • a membrane which is permeable to ions of a given charge.
  • the pH of the produced electrolyzed water can be adjusted to a predetermined value. If necessary, the residence time of the deionized water provided with electrolytes within the respective chamber of the electrolysis cell, ie the flow rate, and / or the current flowing through the two electrodes must be adjusted and adjusted.
  • the redox potential of the produced electrolyzed water can be adjusted by the electric current. It is thus possible to adjust both the pH and the redox potential independently of one another to a desired combination of values at least within predetermined ranges and thus optimally adjust the electrolyzed water to the metal to be dissolved, which adheres as an impurity to the plastic surface to be cleaned.
  • electrolytes can be selected which include chloride ions (Cl “ ), fluoride ions (F “ ), sulfate ions (SO 2 “ ), phosphate ions (PO 3” ), nitrate ions (NO 3 “ ) or It goes without saying that electrolytes which form cations in order to ensure electrical neutrality must also be used as cations, in particular hydrogen ions (H + ) and / or ammonium ions (NH4 + ).
  • the rinsing of the plastic surface in each of the process steps takes between 15 seconds and 90 seconds. If rinsing with both anodic and cathodic water in step b), a rinsing period between 15 seconds and 90 seconds can be provided for each of these two rinses. It has proven to be advantageous if the rinsing in the different process steps for different lengths lasts.
  • the respective rinsing time is set to the expected dirt or impurities and the desired degree of cleaning.
  • the temperature of the deionized water and / or the electrolyzed water may be between 10 ° C and 70 ° C. It has been shown that the cleaning effect increases with increasing temperature. Of course, the temperature in different process steps for the respective liquid can also be chosen differently here. In particular, the deionized water with which is flushed in step a), have a different temperature and in particular be warmer or colder than the deionized water with which in step c) is rinsed.
  • the invention also achieves the stated object by a device for carrying out a method described here.
  • a device for carrying out a method described here not only has the ability to rinse the plastic surface with the respective different liquids, but also includes an electrolytic cell to produce the required electrolyzed water itself.
  • the electrolysis cell can be operated continuously in permanent operation.
  • a temporally limited operation of the electrolytic cell may be useful if the device has, for example, one or more intermediate tanks or storage in which or which the electrolyzed liquid can be temporarily stored. In this case, it is possible to use a larger capacity electrolytic cell, which may be operated more efficiently if necessary.
  • FIG. 1 the schematic representation of an electrolysis cell
  • Figure 2 the schematic representation of a structure of a device according to a first embodiment of the present invention
  • Figures 3 and 4 - are schematic diagrams that make up the cleaning effect.
  • FIG. 1 shows an electrolytic cell 1 which has an anode chamber 2, in which an anode 4 is located, and a cathode chamber 6, in which a cathode 8 is located. Between the anode chamber 2 and the cathode chamber 6 is an ion exchange membrane 10, which is formed in the embodiment shown as an anion exchange membrane 10. Deionized water or distilled water, which may also be ultrapure ultrafine water, is introduced into the anode chamber 2 through an anode chamber inlet 12. At the same time deionized water in which an electrolyte is located, which forms chloride ions in the embodiment shown, passed through a cathode chamber inlet 14 into the cathode chamber 6. Schematically, it is shown in FIG. 1 that ammonium ions (NH 4 + ) and chloride ions (Cl " ) are present in the cathode chamber 6 in addition to the water (H 2 O).
  • NH 4 + ammonium ions
  • Cl " chloride ions
  • An electrical voltage is applied between the anode 4 and the cathode 8, which accelerates the chloride ions (Cl " ) along the arrow 16 in the direction of the anode 4. They can pass through the ion exchange membrane 10 and are then located in the anode chamber 2 ,
  • a cation exchange membrane instead of an anion exchange membrane so that positively charged cations can pass from the anode chamber 2 into the cathode chamber 6.
  • anode chamber outlet 18 By an anode chamber outlet 18, the components shown in Figure 1 leave the anode chamber 2. It is water, chloride ions (Cl " ) and hydronium ions (H + ), by the electrical voltage between the Anode 4 and the cathode 8 are generated. At the same time, ozone (O 3) is formed in the anode chamber 2, which likewise leaves the anode chamber 2 through the anode chamber outlet 18.
  • Figure 2 shows schematically an apparatus for carrying out a method for cleaning according to a first embodiment of the present invention.
  • the device has two electrolysis cells 1, each having an anode chamber 2 and a cathode chamber 6.
  • an ion exchange membrane 10 is arranged between the two chambers, which is formed as an anion exchange membrane in the electrolysis cell 1 shown on the left in FIG. 2 and as a cation exchange membrane in the electrolysis cell 1 shown on the right.
  • anions can pass through the ion exchange membrane 10 in the electrolysis cell 1 shown on the left, while in the electrolysis cell 1 shown on the right, cations from the anode chamber 2 can pass into the cathode chamber 6.
  • the device shown in FIG. 1 has an anolyte mixing tank 22.
  • deionized water which is provided via a supply line 24, is mixed with an anolyte before it passes via the anode chamber inlet 12 into the anode chamber 2 of the electrolytic cell shown on the right in FIG 1 is fed.
  • Deionized water is supplied through the cathode chamber inlet 14.
  • cathodic water is produced, which is introduced via a cathode line 26 into a cathode tank 28. From there it can be fed to an applicator 30, by which it is applied to surface to be cleaned of plastic.
  • the device shown in FIG. 2 also has a catholyte mixing tank 32.
  • deionized water which is supplied via the supply line 24, is mixed with a catholyte before it is introduced into the cathode chamber 6 via the cathode chamber inlet 14.
  • Deionized water is introduced via the anode chamber inlet 12 into the anode chamber 2 of the electrolysis cell 1 shown on the left in FIG. From the anode chamber outlet 18, the anodic water produced in the electrolysis cell shown on the left is introduced through an anode line 34 into an anode tank 36, from which it can also be fed to the applicator 30.
  • FIGS. 3 and 4 show schematically how the cleaning effect of a method according to an exemplary embodiment of the present invention is. It is about the removal of iron impurities from a component made of polycarbonate.
  • B is plotted, the redox potential in millivolts (mV) over A, the pH value.
  • the solid lines each contain a number in a square box. This number indicates the percentage of iron impurities that could be removed by the particular process. Thus, for example, in the result of a process shown in FIG. 3 at a pH of 5.2 and a redox potential of 422 mV, 25% of the iron impurities are removed.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, welches sich durch die folgenden Schritte auszeichnet: a)Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser, b)Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und c)Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.

Description

Verfahren zum Reinigen einer Kunststoffoberfläche
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche.
Herstellung von Prozessoren und integrierten Schaltkreisen erfolgt heute auf Silizi- umwafern in einer Vielzahl unterschiedlicher, nacheinander durchzuführende Arbeitsschritte, in denen die Wafer mit unterschiedlichsten Materialien beschichtet, oder belichtet werden oder Teile von aufgebrachten Schichten durch unterschiedliche Ätzverfahren oder andere Verfahren wieder entfernt werden. Zwischen diesen einzelnen Arbeitsschritten müssen die teilbeschichteten Wafer von einer Bearbeitungsmaschine zu einer anderen Maschine transportiert werden. Dabei ist von größter Wichtigkeit, dass die sehr empfindlichen sehr filigran beschichteten Oberflächen nicht beschädigt werden. Insbesondere müssen aufgebrachte elektrische Leiterbahnen elektrisch voneinander getrennt bleiben, um die Funktionsfähigkeit des herzustellenden Bauteils, beispielsweise eines Prozessors, zu gewährleisten.
Zur Lagerung und zum Transport werden die Teilbeschichteten Wafer in sogenannten FOUPs (Front Opening Unified Pod) gelagert. Diese bestehen aus einem Kunststoff, beispielsweise Polycarbonat oder Polyetheretherketon (PEEK). Beim Einsetzen der beschichteten Siliziumwafer ist es möglich, das Material am Kunststoff des Behältnisses anhaftet und so zu einer Verunreinigung führt. Wird bei einem nächsten Arbeitsschritt ein anderer Wafer in dem Behälter gelagert, ist es möglich, dass auf diese Weise angebrachte metallische Verunreinigungen und/oder Partikel auf den neuen beschichteten Wafer übertragen werden und so beispielsweise für Kurzschlüsse elektrischer Leitungen oder sonstige Beschädigungen sorgen. Derartige Verunreinigungen können daher zu erheblichen Verlusten und funktionsunfähigen Bauteilen führen. Daher ist es notwendig, die Kunststoffoberflächen zu reinigen, um die Kontamination der Siliziumwafer zu vermeiden. Natürlich sind entsprechende Reinigungsverfahren auch für andere Anwendungsbeispiele geeignet, bei denen Kunststoffflächen gereinigt und insbesondere von metallischen Verunreinigungen befreit werden sollen. Heute werden die Kunststoffbehälter, in denen die Siliziumwafer gelagert und transportiert werden, hauptsächlich mit deionisiertem Wasser behandelt, das auch als destilliertes Wasser bezeichnet wird. Dies ist jedoch insbesondere aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung der Beschichtungen und der hergestellten Strukturen der integrierten Schaltkreise oftmals nicht mehr ausreichend, da bereits kleine und kleinste Kontaminationen zu Fehlfunktionen der integrierten Schaltkreise führen, die somit Ausschuss sind und nicht verwendet werden können. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, ein Verfahren zum Reinigen von Kunststoffoberflächen so weiterzuentwickeln, dass es einfach, kostengünstig und schnell durchführbar ist und die Reinigungswirkung insbesondere für metallische Verunreinigungen verbessert wird.
Die Erfindung löst die gestellte Aufgabe durch ein Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: a) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser,
b) Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und
c) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.
Unter dem Begriff„Spülen" wird im Sinne der vorliegenden Erfindung verstanden, dass die jeweilige Flüssigkeit auf die zu reinigende Kunststoffoberfläche aufgebracht wird. Dies kann beispielsweise geschehen, indem die jeweilige Flüssigkeit auf die Oberfläche aufgesprüht wird, oder die Kunststoffoberfläche in die jeweilige Flüssigkeit eingetaucht wird. Selbstverständlich ist es auch möglich, die Flüssigkeit über die Kunststoffoberfläche rinnen zu lassen.
In einem ersten Verfahrensschritt wird die zu reinigende Kunststoffoberfläche folglich mit deionisiertem Wasser gespült, das auch als destilliertes Wasser bezeichnet wird. Damit werden zunächst auf der Oberfläche anhaftende oder aufliegende grobe Partikel entfernt. Besonders vorteilhafterweise ist, dass das ionisierte Wasser auf die zu reinigende Kunststoffoberfläche aufgesprüht wird. ln einem zweiten Verfahrensschritt wird die Kunststoffoberfläche mit elektrolysier- tem Wasser gespült. Elektrolysiertes Wasser wird hergestellt, indem beispielsweise deionisiertes Wasser mit einem Elektrolyt versetzt und anschließend durch eine Elektrolysezelle geleitet wird. Durch die Verwendung des elektrolysierten Wassers wird zumindest ein Teil des an der Kunststoffoberfläche anhaftenden Metalls gelöst und auf diese Weise von der Oberfläche entfernt. Vorzugsweise wird das anhaftende Metall vollständig entfernt.
Insbesondere um Rückstände des elektrolysierten Wassers an der zu reinigenden Kunststoffoberfläche zu entfernen, wird in einem dritten Verfahrensschritt die Oberfläche erneut mit deionisiertem Wasser gespült. Hierzu wird vorteilhafterweise ein sogenannter„rinse cleaning process" verwendet, bei dem das deionisierte Wasser über die Oberfläche, die zu reinigen ist, rinnt.
Im Vergleich zu den aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren, bei denen die Reinigung ausschließlich durch die Verwendung von deionisiertem Wasser erfolgt, macht sich das erfindungsgemäße Verfahren die Erkenntnis zunutze, dass die Löslichkeit von Metallen in Wasser insbesondere vom pH-Wert und von Redoxpotential des Wassers abhängt. Daher ist die Löslichkeit der Metalle in elektro- lysiertem Wasser in der Regel höher als in deionisiertem Wasser, sodass durch den zusätzlichen Verfahrensschritt des Spülens mit elektrolysiertem Wasser metallische Verunreinigungen besser entfernt werden können, als beim Reinigen mit deionisiertem Wasser allein.
Vorteilhafterweise beinhaltet das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit anodischem Wasser, das einen pH-Wert hat, der kleiner ist als 7. Anodisches Wasser ist daher sauer und kann eine Reihe von Metallen lösen.
Alternativ oder zusätzlich dazu beinhaltet das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit kathodischem Wasser, das einen pH-Wert aufweist, der größer ist als 7. Insbesondere können vorzugsweise Partikel - beispielsweise metallische Partikel - mit kathodischem Wasser zumindest größtenteils, verzugsweise jedoch vollständig entfernt werden. Es hat sich als Vorteilhaft herausgestellt, wenn das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen sowohl mit anodischem Wasser als auch mit kathodischem Wasser beinhaltet, wobei die beiden unterschiedlich elektrolysierten Wasser nacheinander verwendet werden. Vorteilhafterweise wird die Kunststoffoberfläche zunächst mit anodischem Wasser gespült, bevor sie mit kathodischem Wasser gespült wird. Durch die Spülung der Kunststoffoberfläche mit anodischem Wasser können leichte positive Ladungen auf der Oberfläche zurückbleiben. Dadurch wird eine spätere erneute Anhaftung Partikel erleichtert und die Anhaftung verbessert, sodass diese zurückbleibenden leicht positiven Ladungen vermieden werden sollten. Durch eine spätere alkalische Nachbehandlung der Oberfläche durch das Spülen mit kathodischem Wasser werden diese leicht positiven Ladungen entfernt, sodass die Anhaftung neuer Partikel erschwert wird.
Unabhängig davon, welches elektrolysierte Wasser zum Spülen verwendet wird, wird abschließend deionisiertes Wasser zum Spülen verwendet, um die Rückstände des elektrolysierten Wassers möglichst vollständig zu entfernen.
Vorteilhafterweise wird das elektrolysierte Wasser in einer Elektrolysezelle hergestellt, die zwei Elektroden aufweist, und in die Wasser eingeleitet wird, das mit einem Elektrolyt versetzt wird. Die Herstellung von elektrolysiertem Wasser ist aus dem Stand der Technik seit langem bekannt. Vorteilhafterweise lassen sich jedoch der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers einstellen, indem die Konzentration des Elektrolyten und/oder ein zwischen den beiden Elektroden fließender elektrischer Strom als Steuerparameter verwendet werden. Die Elektrolysezelle verfügt in der Regel über zwei Elektrolysekammern, von denen eine die Kathodenkammer mit der sich darin befindenden Kathode und die andere die Anodenkammer mit der sich darin befindenden Anode darstellt. Vorzugsweise werden die beiden Elektroden als Diamantelektroden ausgebildet. In wenigstens eine der beiden Kammern wird mit einem Elektrolyt versetztes deionisiertes Wasser eingeleitet, das somit dem elektrischen Feld, das zwischen den beiden Elektroden herrscht, ausgesetzt wird. Die beiden Kammern werden durch eine Membran voneinander getrennt, die für Ionen einer bestimmten Ladung durchlässig ist. So gibt es beispielsweise für Anionen durchlässige Membrane und für Kationen durchlässige Membranen, durch die folglich gesteuert werden kann, welche lo- nensorte die Membran passieren kann.
Durch die Auswahl des jeweiligen Elektrolyten und der jeweiligen Konzentration des Elektrolyten lässt sich der pH-Wert des herzustellenden elektrolysierten Wassers auf einen vorbestimmten Wert einstellen. Gegebenenfalls müssen dafür die Verweildauer des mit Elektrolyten versehenen deionisierten Wassers innerhalb der jeweiligen Kammer der Elektrolysezelle, also die Durchflussgeschwindigkeit, und/oder der Strom, der durch die beiden Elektroden fließt, eingestellt und ange- passt werden. Durch den elektrischen Strom kann zudem auch das Redoxpotential des hergestellten elektrolysierten Wassers eingestellt werden. Es ist folglich möglich, sowohl den pH-Wert als auch das Redoxpotential zumindest innerhalb vorbestimmter Bereiche unabhängig voneinander auf eine gewünschte Wertekombination einzustellen und somit das elektrolysierte Wasser optimal auf das zu lösende Metall, das als Verunreinigung an der zu reinigenden Kunststoffoberfläche anhaftet, einzustellen.
Insbesondere können Elektrolyte gewählt werden, die Chlorid-Ionen (Cl"), Fluorid- lonen (F"), Sulfat-Ionen (SO 2"), Phosphat-Ionen (PO 3"), Nitrat-Ionen (NO3 ") oder Kombinationen dieser Ionen bilden. Selbstverständlich müssen auch Elektrolyte verwendet werden, die Kationen bilden, um die elektrische Neutralität zu gewährleisten. Als Kationen kommen insbesondere Wasserstoffionen (H+) und/oder Ammonium-Ionen (NH4+) in Frage.
Dies ist einfach, schnell und sicher möglich, sodass das Verfahren kostengünstig durchführbar ist.
Vorteilhafterweise dauert das Spülen der Kunststoffoberfläche in jedem der Verfahrensschritte zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden. Wird im Verfahrensschritt b) sowohl mit anodischem als auch mit kathodischem Wasser gespült, kann für jede dieser beiden Spülungen eine Spüldauer zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden vorgesehen werden. Es hat sich als Vorteilhaft herausgestellt, wenn das Spülen in den unterschiedlichen Verfahrensschritten unterschiedlich lange dauert. Vorzugsweise wird die jeweilige Spüldauer auf die zu erwartenden Verschmutzungen oder Verunreinigungen und den gewünschten Grad der Reinigung eingestellt.
Um die Spül- und Reinigungswirkung weiter zu verbessern, kann die Temperatur des deionisierten Wassers und/oder des elektrolysierten Wassers zwischen 10 °C und 70 °C betragen. Dabei hat sich gezeigt, dass die Reinigungswirkung mit steigender Temperatur zunimmt. Selbstverständlich kann auch hier die Temperatur in unterschiedlichen Verfahrensschritten für die jeweilige Flüssigkeit unterschiedlich gewählt werden. Insbesondere kann auch das deionisierte Wasser, mit dem im Verfahrensschritt a) gespült wird, eine andere Temperatur aufweisen und insbesondere wärmer oder kälter sein als das deionisierte Wasser, mit dem im Verfahrensschritt c) gespült wird.
Die Erfindung löst die gestellte Aufgabe zudem durch eine Vorrichtung zum Durchführen eines hier beschriebenen Verfahrens. Vorzugsweise verfügt eine derartige Vorrichtung nicht nur über die Möglichkeit, die Kunststoffoberfläche mit den jeweils verschiedenen Flüssigkeiten zu spülen, sondern umfasst auch eine Elektrolysezelle, um das benötigte elektrolysierte Wasser selbst herzustellen. Dabei kann die Elektrolysezelle durchgängig im Permanentbetrieb betrieben werden.
Alternativ dazu kann auch ein zeitlich begrenzter Betrieb der Elektrolysezelle sinnvoll sein, wenn die Vorrichtung beispielsweise über einen oder mehrere Zwischentanks oder Speicher verfügt, in dem oder denen die elektrolysierte Flüssigkeit zwischengespeichert werden kann. In diesem Fall ist es möglich, eine Elektrolysezelle mit größerer Kapazität zu verwenden, die gegebenenfalls effizienter betrieben werden kann.
Mit Hilfe der beiliegenden Zeichnungen wird nachfolgend ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung näher erläutert. Es zeigt:
Figur 1 - die schematische Darstellung einer Elektrolysezelle, Figur 2 - die schematische Darstellung eines Aufbaus einer Vorrichtung gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung und
Figur 3 und 4 - schematische Diagramme, aus denen sich die Reinigungswirkung ergibt.
Figur 1 zeigt eine Elektrolysezelle 1 , die eine Anodenkammer 2, in der sich eine Anode 4 befindet, und eine Kathodenkammer 6 aufweist, in der sich eine Kathode 8 befindet. Zwischen der Anodenkammer 2 und der Kathodenkammer 6 befindet sich eine lonentauschermembran 10, die im gezeigten Ausführungsbeispiel als Anionen-Tauschermembran 10 ausgebildet ist. Durch einen Anodenkammer- zulauf 12 wird deionisiertes Wasser oder destilliertes Wasser, das auch Reinst- o- der Ultrareinstwasser sein kann, in die Anodenkammer 2 eingeleitet. Gleichzeitig wird deionisiertes Wasser, in dem sich ein Elektrolyt befindet, der im gezeigten Ausführungsbeispiel Chlorid-Ionen bildet, durch einen Kathodenkammerzulauf 14 in die Kathodenkammer 6 geleitet. Schematisch ist in Figur 1 dargestellt, dass sich in der Kathodenkammer 6 neben dem Wasser (H2O) auch Ammonium-Ionen (NH4 +) und Chlorid-Ionen (Cl") befinden.
Zwischen der Anode 4 und der Kathode 8 wird eine elektrische Spannung angelegt, die die Chlorid-Ionen (Cl") entlang des Pfeiles 16 in Richtung auf die Anode 4 beschleunigt. Sie können durch die lonentauschermembran 10 hindurchtreten und befinden sich dann in der Anodenkammer 2.
In einer alternativen Ausgestaltung kann statt einer Anionen-Tauschermembran auch eine Kationen-Tauschermembran verwendet werden, sodass positiv geladene Kationen von der Anodenkammer 2 in die Kathodenkammer 6 gelangen können.
Durch einen Anodenkammerablauf 18 verlassen die in Figur 1 dargestellten Bestandteile die Anodenkammer 2. Es handelt sich um Wasser, Chlorid-Ionen (Cl") und Hydronium-Ionen (H+), die durch die elektrische Spannung zwischen der Anode 4 und der Kathode 8 erzeugt werden. Gleichzeitig wird in der Anodenkam- mer 2 Ozon (O3) gebildet, das ebenfalls durch den Anodenkammerablauf 18 die Anodenkammer 2 verlässt.
Aus einem Anodenkammerablauf 20 verlassen neben dem Wasser auch die Ammonium-Ionen (NH4 +) sowie die Hydroxid-Ionen (OH") die Kathodenkammer 8.
Aus der Konzentration des Elektrolytes, aus dem im gezeigten Beispiel die Chlorid-Ionen (Cl") gebildet werden, und dem elektrischen Strom, der durch die zwischen der Anode 4 und der Kathode 8 angelegte Spannung hervorgerufen wird, lassen sich der pH-Wert sowie das Redoxpotential des aus dem Anodenkammerablauf 18 austretenden elektrolysierten Wassers einstellen.
Figur 2 zeigt schematisch eine Vorrichtung zum Durchführen eines Verfahrens zum Reinigen gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
Die Vorrichtung verfügt über zwei Elektrolysezellen 1 , die jeweils eine Anodenkammer 2 und eine Kathodenkammer 6 aufweisen. Zwischen den beiden Kammern ist jeweils eine lonentauschermembran 10 angeordnet, die in der in Figur 2 links dargestellten Elektrolysezelle 1 als Anionen-Tauschermembran und in der rechts dargestellten Elektrolysezelle 1 als Kationentauschermembran ausgebildet ist. Den Pfeilen 16 entsprechend können daher in der links dargestellten Elektrolysezelle 1 Anionen durch die lonentauschermembran 10 hindurchtreten, während in der rechts dargestellten Elektrolysezelle 1 Kationen aus der Anodenkammer 2 in die Kathodenkammer 6 übertreten können.
Die in Figur 1 gezeigte Vorrichtung verfügt über einen Anolyt-Mischtank 22. In Ihm wird deionisiertes Wasser, das über eine Zuleitung 24 bereitgestellt wird, mit einem Anolyten vermischt, bevor es über den Anodenkammerzulauf 12 in die Anodenkammer 2 der in Figur 2 rechts dargestellten Elektrolysezelle 1 eingespeist wird. Durch den Kathodenkammerzulauf 14 wird deionisiertes Wasser zugeführt. ln der in Figur 2 rechts dargestellten Elektrolysezelle wird kathodisches Wasser hergestellt, das über eine Kathodenleitung 26 in einen Kathodentank 28 eingeleitet wird. Von dort kann es einer Aufbringvorrichtung 30 zugeführt werden, durch die es auf zu reinigende Oberfläche aus Kunststoff aufgebracht wird.
Die in Figur 2 gezeigte Vorrichtung verfügt zudem über einen Katholyt-Misch- tank 32. In ihm wird deionisiertes Wasser, das über die Zuleitung 24 zugeführt wird, mit einem Katholyten vermischt, bevor es über den Kathodenkammerzulauf 14 in die Kathodenkammer 6 eingeleitet wird. In die Anodenkammer 2 der in Figur 2 links dargestellten Elektrolysezelle 1 wird deionisiertes Wasser über den Ano- denkammerzulauf 12 eingeleitet. Aus dem Anodenkammerablauf 18 wird das in der links dargestellten Elektrolysezelle hergestellte anodische Wasser durch eine Anodenleitung 34 in einen Anodentank 36 eingeleitet, aus dem es ebenfalls der Aufbringvorrichtung 30 zugeführt werden kann.
In den Figuren 3 und 4 ist schematisch dargestellt, wie die Reinigungswirkung eines Verfahrens gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist. Dabei geht es um das Entfernen von Eisen-Verunreinigungen von einem Bauteil aus Polycarbonat. Aufgetragen ist jeweils B, das Redoxpotential in Millivolt (mV) über A, dem pH-Wert. Die durchgezogenen Linien beinhalten jeweils eine Zahl in einem viereckigen Kasten. Diese Zahl bezeichnet den prozentualen Anteil der Eisenverunreinigungen, der mit dem jeweiligen Verfahren entfernt werden konnte. So werden beispielsweise bei dem in Figur 3 dargestellten Ergebnis eines Verfahrens bei einem pH-Wert von 5,2 und einem Redoxpotential von 422 mV 25 % der Eisenverunreinigungen entfernt.
Bei dem Verfahren, dessen Ergebnis in Figur 3 dargestellt ist, wird die Oberfläche für 15 Sekunden bei einer Temperatur von 22,1 °C mit der jeweiligen Flüssigkeit behandelt, während bei dem Verfahren, dessen Ergebnis in Figur 4 dargestellt ist, die Behandlung mit der jeweiligen Flüssigkeit für 180 Sekunden bei einer Temperatur von 70 °C geschieht. Man erkennt, dass bei identischen Bereichen des Redoxpotentials B und des pH-Wertes A durch die längere Einwirkzeit der jeweiligen Flüssigkeit deutlich größere Anteile der Eisenverschmutzungen und Verunreinigungen entfernt werden konnten. Bezugszeichenliste
1 Elektrolysezelle
2 Anodenkammer
4 Anode
6 Kathodenkammer
8 Kathode
10 lonentauschernnennbran
12 Anodenkammerzulauf
14 Ka th od en ka m m erzu I a uf
16 Pfeil
18 Anodenkammerablauf
20 Kathodenkammerablauf
22 Anolyt-Mischtank
24 Zuleitung
26 Kathodenleitung
28 Kathodentank
30 Aufbringvorrichtung
32 Katholyt-Mischtank
34 Anodenleitung
36 Anodentank

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zum Reinigen, insbesondere zum Entfernen metallischer Verunreinigungen und/oder Partikel, von einer Kunststoffoberfläche, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist:
a) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser,
b) Spülen der Kunststoffoberfläche mit elektrolysiertem Wasser und c) Spülen der Kunststoffoberfläche mit deionisiertem Wasser.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit anodischem Wasser mit einem pH-Wert, der kleiner ist als 7, beinhaltet.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen mit elektrolysiertem Wasser das Spülen mit kathodischem Wasser mit einem pH-Wert, der größer ist als 7, beinhaltet.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Kunststoffoberfläche mit anodischem Wasser gespült wird bevor sie mit kathodischem Wasser gespült wird.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers auf einen vorbestimmten Wert eingestellt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das elektroly- sierte Wasser in einer Elektrolysezelle (1 ) hergestellt wird, die zwei Elektroden (4, 8) aufweist und in die Wasser eingeleitet wird, das mit einem Elektrolyten versetzt ist, wobei der pH-Wert und/oder das Redoxpotential des elektrolysierten Wassers eingestellt wird, in dem eine Konzentration des Elektrolyten und/oder ein zwischen den beiden Elektroden (4, 8) fließender elektrischer Strom als Steuerparameter verwendet werden.
7. Verfahren nach einem vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen der Kunststoffoberfläche in jedem Verfahrensschritt zwischen 5 Sekunden und 600 Sekunden, vorzugsweise zwischen 15 Sekunden und 90 Sekunden, dauert.
8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Spülen in den verschiedenen Verfahrensschritten unterschiedlich lange dauert.
9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Temperatur des deionisierten Wassers und/oder des elektroly- sierten Wassers zwischen 10 °C und 70 °C beträgt.
10. Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens nach einem der vorstehenden Ansprüche.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201804881D0 (en) 2018-03-27 2018-05-09 Lam Res Ag Method of producing rinsing liquid
CN109530374B (zh) * 2018-11-21 2021-07-27 上海超硅半导体有限公司 一种晶圆盒清洗方法
CN110880449B (zh) * 2019-09-30 2022-07-19 王偲偲 一种硅片清洗方法

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6114233A (ja) * 1984-06-29 1986-01-22 N V C:Kk プラスチツク製品の洗浄方法
EP0605882B1 (de) 1993-01-08 1996-12-11 Nec Corporation Verfahren und Vorrichtung zur Nassbehandlung von festen Oberflächen
JP2743823B2 (ja) * 1994-03-25 1998-04-22 日本電気株式会社 半導体基板のウエット処理方法
JP2737643B2 (ja) * 1994-03-25 1998-04-08 日本電気株式会社 電解活性水の生成方法および生成装置
JP2830733B2 (ja) * 1994-03-25 1998-12-02 日本電気株式会社 電解水生成方法および電解水生成機構
US5599438A (en) * 1994-03-25 1997-02-04 Nec Corporation Method for producing electrolyzed water
JP3181795B2 (ja) * 1994-10-28 2001-07-03 オルガノ株式会社 電解水製造装置
JPH08126873A (ja) * 1994-10-28 1996-05-21 Nec Corp 電子部品等の洗浄方法及び装置
JP3313263B2 (ja) * 1995-04-15 2002-08-12 株式会社東芝 電解水生成方法及びその生成装置、半導体製造装置
JP2832171B2 (ja) * 1995-04-28 1998-12-02 信越半導体株式会社 半導体基板の洗浄装置および洗浄方法
TW338713B (en) * 1995-09-06 1998-08-21 Sharp Kk A dishwasher
JP3299662B2 (ja) 1995-09-06 2002-07-08 シャープ株式会社 食器洗い機
JP3590470B2 (ja) * 1996-03-27 2004-11-17 アルプス電気株式会社 洗浄水生成方法および洗浄方法ならびに洗浄水生成装置および洗浄装置
US6273107B1 (en) * 1997-12-05 2001-08-14 Texas Instruments Incorporated Positive flow, positive displacement rinse tank
JP3378543B2 (ja) * 1999-11-26 2003-02-17 株式会社半導体先端テクノロジーズ ウェーハ・キャリア洗浄方法
JP4462513B2 (ja) * 2000-01-12 2010-05-12 有限会社コヒーレントテクノロジー 電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法
KR100389917B1 (ko) * 2000-09-06 2003-07-04 삼성전자주식회사 산화성 물질을 포함하는 아노드 수 및/또는 환원성 물질을포함하는 캐소드 수를 사용하는 반도체 제조를 위한 습식공정 및 이 공정에 사용되는 아노드수 및/또는 캐소드수
JP2002153827A (ja) * 2000-11-19 2002-05-28 Nofil Corp 洗浄方法
JP3988827B2 (ja) * 2001-12-05 2007-10-10 オキュラス イノヴェイティヴ サイエンシズ、インコーポレイテッド 負および正の酸化還元電位（ｏｒｐ）水を生成するための方法および装置
KR100528286B1 (ko) * 2004-09-02 2005-11-15 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치 및 세정방법
JP2006255603A (ja) 2005-03-17 2006-09-28 Hitachi Chem Co Ltd 電解水での洗浄方法及び洗浄装置
JP2007123770A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Kaijo Corp ドアシェル洗浄装置及びドアシェル洗浄方法
WO2008138357A1 (en) * 2007-05-13 2008-11-20 Magued George Amin Electrolyzed alkaline water multipurpose cleaner ph 12.5+/-1.5
JP2010155435A (ja) * 2009-01-05 2010-07-15 Asahi Kasei E-Materials Corp デブリー除去方法及びデブリー除去装置
CN102658270B (zh) 2012-05-09 2016-05-11 上海华虹宏力半导体制造有限公司 一种晶圆盒清洗装置及其清洗方法
US9579697B2 (en) 2012-12-06 2017-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. System and method of cleaning FOUP
KR102107987B1 (ko) * 2012-12-27 2020-05-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치
CN104043605A (zh) * 2013-03-13 2014-09-17 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 载体清洗装置和载体清洗方法
JP2015041756A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 株式会社東芝 ウェハキャリアの洗浄方法
JP6114233B2 (ja) 2014-06-20 2017-04-12 株式会社バンダイナムコエンターテインメント プログラム及びゲーム装置

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