CZ304759B6 - Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody - Google Patents

Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody Download PDF

Info

Publication number
CZ304759B6
CZ304759B6 CZ2009-453A CZ2009453A CZ304759B6 CZ 304759 B6 CZ304759 B6 CZ 304759B6 CZ 2009453 A CZ2009453 A CZ 2009453A CZ 304759 B6 CZ304759 B6 CZ 304759B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
ppm
tantalum powder
tantalum
anodes
sintered
Prior art date
Application number
CZ2009-453A
Other languages
English (en)
Inventor
Karlheinz Reichert
RĂĽdiger Wolf
Christine Rawohl
Original Assignee
H.C. Starck Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7820742&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ304759(B6) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by H.C. Starck Gmbh filed Critical H.C. Starck Gmbh
Publication of CZ304759B6 publication Critical patent/CZ304759B6/cs

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004—Details
    • H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/052—Sintered electrodes
    • H01G9/0525—Powder therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/20—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from solid metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B34/00—Obtaining refractory metals
    • C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045—Alloys based on refractory metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

Řešení se týká tantalového prášku prostého alkálií a fluoru s velikostí primárních částic 30 až 300 nm a hodnotou D-50 velkosti sekundárních částic podle ASTM-B-822 nad 10 .mi.m. Dále se týká slinutých anod z uvedeného prášku.

Description

Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody
Oblast techniky
Vynález se týká tantalového prášku prostého alkálií a fluoru a lisovaných nebo slinutých anod, vyrobených z tohoto tantalového prášku.
Dosavadní stav techniky
Kovový práškový tantal se obvykle vyrábí redukcí K2TaF7 sodíkem. Fyzikální vlastnosti práškových tantalů, jako je například velikost zrna nebo specifický povrch, se řídí přidáním inertních solí, jako je například KC1, NaCl, NaF. Se stoupajícím podílem inertních solí se výsledný práškový tantal zjemňuje, to znamená, že se tím zvětšuje výsledný povrch kovu. Výkonnost výroby kovového tantalu však se stoupající koncentrací inertních solí klesá.
Po vymytí solí se práškový tantal suší a podrobí se dalšímu čištění zpracováním za vysoké teploty ve vakuu, nebo v atmosféře inertního plynu. Při této aglomeraci se specifický povrch výrazně zmenšuje a obsah kyslíku v prášku se značně zvyšuje. Ten se tepelným zpracováním pomocí redukčně působících kovů, zejména hořčíku, opět odbourá. Dalším důsledkem této desoxidace (těchto desoxidací) je mírné zmenšení povrchu. Pro optimalizaci elektrických vlastností kondenzátorů, vyrobených z těchto práškových tantalů, se do práškového tantalu přidávají dotující přísady obsahující fosfor a/nebo bor.
Elektrické vlastnosti práškových tantalů, jako je specifický náboj nebo svodový proud, se zkoušejí na lisované, slinované a pak anodicky oxidované, to znamená formované anodě. Specifický náboj, vyjádřený v pFV/g, je mírou kapacity kondenzátoru a chová se přímo úměrně k povrchu kovu. Svodový proud, vyjádřený v nA/pFV, je indikátorem toho, jak dobře udrží kondenzátor svůj náboj.
Při obvyklé technicky prováděné redukci K2TaF7 sodíkem v solné tavenině se hospodárně vyrábějí kondenzátorové prášky se specifickými náboji od 18 000 do 70 000 pFV/g. Pro docílení kondenzátorů s vysokou kapacitou potřebný tantalový prášek s malou velikostí primárních částic je potřebné, provádět redukci K2TaF7 sodíkem ve větším zředění (zřeďovací soli KC1, KF, NaCl), která vede k menším aglomerátům (velikost sekundárních částic 1 až 5 pm při velikosti primárních částic 0,3 pm). Malé rozměry aglomerátů vyvolávají potřebu tepelné aglomerace práškového tantalu (předslinování), při které se jednak odstraní nežádoucí nečistoty, jednak se ale dále sníží specifický povrch. Pórovitá struktura aglomerátů, výhodná pro výrobu kondenzátorů, jíž se po formování získají kondenzátory s nízkým svodovým proudem, se sice zachová, ale dociluje se teprve několikanásobným předslinováním s rozmělňováním agregátů odtahováním mezi procesy slinování. Práškové tantaly pro kondenzátory s nejvyšší kapacitou jsou popisovány v DE 195 36 013 Al. U slinutých anod z nich vyrobených při upuštění od jinak obvyklých tepelných aglomeračních kroků byly docíleny specifické náboje až 91 810 pFV/g. Tyto práškové tantaly vykazují rušivé nečistoty, jako je například fluorid, v koncentracích > 100 ppm (zde a v následujícím uváděná jednotka „ppm“ značí „díly na milion dílů“). Část vysokého obsahu fluoridu se odbourává při slinování anod. Při tom uvolněné fluoridy vyvolávají ve slinovacích pecích tepelné koroze. Fluorid, zbývající v tantalové anodě, pravděpodobně vyvolává značně zvýšené svodové proudy. Tak práškový tantal, vyrobený podle příkladu 6 z DE 195 36 013 Al, má obsah F 460 ppm a obsah Mg 200 ppm. Dále mají tyto prášky nevýhodu v tom, že jejich sypná hustota je příliš nízká a mez pevnosti z nich vylisovaných anod je proti běžně dostupným práškům příliš nízká. Proto tyto prášky dosud nedosáhly technického významu. Dále mají tyto prášky nevýhodu v tom, že ještě obsahují zbytková množství alkálií, které značně zhoršují svodové proudy, i když jejich množství je v oblasti ppm.
-1 CZ 304759 B6
Velmi jemnozmné prášky se získávají redukcí TaCl5 vodíkem v plynné fázi. Při tom se získají již netekoucí, v podstatě diskrétní prášky. V důsledku technicky obtížného zpracování tyto prášky do technologie kondenzátorů nepronikly.
Úkolem vynálezu je poskytnout práškový tantal, který nemá uvedené nevýhody.
Podstata vynálezu
Nyní se zjistilo, že se zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridu hořčíku získají již předslinuté velmi jemnozmné tantalové prášky, které jsou velmi vhodné pro výrobu vysokokapacitních kondenzátorů. V důsledku rychle probíhající reakce, kteráje ukončena již po několika minutách, vznikají i bez použití zřeďovacích solí velmi malé primární částice s typickými velikostmi od 30 do 300 nm, které se v důsledku vysokého podílu tantalu v reakční směsi dostávají do styku, a během krátké reakční doby se díky své vysoké slinovací aktivitě slinují. Vzniká pánovitý, částečně slinutý koláč s otevřenými póry, z něhož se rozdrcením a proséváním získají výtečně tekoucí prášky se střední velikostí sekundárních částic D-50 podle ASTM-B-822 nad 10 pm, které po promytí a usušení vykazují velmi vysoké specifické povrchy od 1,5 do 10 m3/g podle BET.
Předmětem vynálezu je tantalový prášek prostý alkálií a fluoru s velikostí primárních částic 30 až 300 nm a hodnotou D-50 velikosti sekundárních částic podle ASTM-B-822 nad 10 pm.
Uvedený tantalový prášek po slinování při teplotě mezi 1100 a 1300 °C po dobu 10 minut a po formování při 16 V vykazuje specifický náboj 120 000 až 180 000 pFV/g při hustotě svodového proudu nižší než 2 nA/pFV.
Výhodný je uvedený tantalový prášek s obsahem 30 až 3000 ppm fosforu, s obsahem 4000 až 20 000 ppm kyslíku a 100 až 15 000 ppm dusíku.
Tento tantalový prášek má s výhodou specifický povrch dle BET od 2 do 6 m2/g. Obsahuje výhodně obsahem méně než 20 ppm fluoru, obzvláště méně než 5 ppm.
Dále jsou předmětem vynálezu lisované anody, získátelné z výše uvedeného tantalového prášku, přičemž mez pevnosti anod, měřená dle Chatillona při stupni slisování 5,0 g/cm3 a hmotnosti anod 0,521 g, leží mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg.
Také jsou předmětem vynálezu slinuté anody, získané desetiminutovým slinováním uvedených lisovaných tantalových prášků při teplotách od 1150 do 1300 °C a formováním při 16 až 30 V, které vykazují specifické náboje od 80 000 do 170 000 pmFV/g.
Tantalový prášek podle vynálezu se vyrobí zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridu hořčíku v atmosféře zemního plynu a následným vymýváním reakčního produktu minerálními kyselinami.
Reakce homogenizované směsi chloridu tantaličného a hydridu hořčíku se výhodně provádí v tantalové redukční nádobě. Dále se při tom výhodně do horní vrstvy této homogenizované směsi uloží tenký tantalový drát jako zápalka, která se zvláště elegantně přechodně spojí s vnějším zdrojem nízkého napětí a rozžhaví se do červena. Toto zápalné uspořádání se vloží do ochranné komory, proplachované argonem. Po ochladnutí reakčního produktu, který je v důsledku silně exotermní reakce rozpálen do bělá, a který je ve formě částečně slinutého pórovitého koláče. Tento se rozdrtí nahrubo, promyje minerálními kyselinami a usuší. Jako promývací kapalina se výhodně použije roztok kyseliny sírové a peroxidu vodíku. Promývání pokračuje tak dlouho, až je promývací voda prostá chloridů.
-2CZ 304759 B6
Množstevní poměr výchozích látek pro reakční směs není kritický, protože pro redukci jsou k dispozici jak hořčík, tak i vodík po odštěpení z hydridu hořčíku. Najeden mol pentachloridu se v souladu s tím mohou použít 1,25 až 3 mol hydridu hořčíku. V důsledku nízké teploty varu chloridu tantaličného a nízké rozkladné teploty hydridu hořčíku se však při nízkém molovém poměru výchozích surovin pozorují ztráty na výtěžku. Proto je výhodný molový poměr chloridu tantaličného k hydridu hořčíku 2 až 3. Při tom se docilují výtěžky od 80 do 90 % na použitý tantal. Očekává se, že se výtěžky mohou ještě dále zvýšit, když reakce proběhne pod tlakem, například v autoklávu.
Jako redukční prostředek se výhodně používá hydrid hořčíku o vzorci MgHx, kde x je větší než 1,2, obzvláště výhodně větší než 1,6.
Pomocí uvedeného způsobu se získají tantalové prášky, tvořené slinutými primárními částicemi, kde primární částice mají velikost od 30 do 300 nm, výhodně od 30 do 150 nm, obzvláště výhodně méně než 100 nm, a kde slinutím primárních částic získané sekundární částice vykazují velikost D-50 nad 10 pm, výhodně nad 13 pm.
Hodnota D-50 představuje „střední průměr částic“ a značí, že 50 % částic leží nad a 50 % částic leží pod uvedenou hodnotou. Když je D-50 větší než 10 pm, znamená to, že může být střední průměr částic např. 11 pm. To opět znamená, že 50 % částic má průměr větší než 11 pm, druhých 50 % částic má průměr, který je menší než 11 pm. Hodnota D-50 se při tom stanovuje po ošetření ultrazvukem po dobu 15 minut k desaglomeraci metodou Mastersizer podle ASTM B 822.
V důsledku struktury sekundárních částic prášků podle vynálezu vykazují tyto vynikající tekutost, která je významná pro další zpracování. Hodnoty tekutosti, stanovené zkušebním přístrojem tekutosti Halí Flow ASTM-B-213, činí u prášků podle vynálezu při použití nálevky 2,54 mm 100 až 140 sekund, u nálevky 5,08 mm hodnoty 15 až 25 sekund.
Prášky podle vynálezu jsou v podstatě prosté alkálií a fluoridů, obsahy alkálií leží pod 2 ppm a obsahy fluoridů pod tolerovatelnou hranicí 20 ppm, výhodně pod 5 ppm. Fluor, sodík a draslík jsou zejména v prášcích podle vynálezu obecně neprokazatelné. Obsahy kyslíku činí 4000 až 20 000 ppm.
Specifický povrch podle BET je v rozmezí od 1,5 do 10 m2/g, výhodně nad 2 m2/g, obzvláště výhodně mezi 3 a 6 m2/g.
Podle jedné výhodné formy provedení se do reakční směsi již před zapálením přidávají látky brzdicí růst zárodků a brzdicí slinování, takže výsledný prášek je jimi dotován. Jako dotovací prostředky jsou výhodné látky, obsahující fosfor, a/nebo dusík.
Práškové tantaly podle vynálezu tedy výhodně mají obsahy fosforu od 30 do 2000 ppm, výhodně od 300 do 2000 ppm. Obsah dusíku výhodných práškových tantalů podle vynálezu může činit 100 až 15 000 ppm, obzvláště nejméně 500 ppm dusíku.
Jako fosforový dotovací prostředek se výhodně používá elementární fosfor, výhodně jako práškový červený fosfor. Dotovací prostředek se může přidávat v množství až 5000 ppm zápalné směsi.
Jako dusíkatý dotovací prostředek jsou vhodné amonné soli s těkavou složkou aniontu, jako je například chlorid amonný, nebo též dusík, nebo amoniak.
Při současném dotování dusíkem a fosforem se mohou jako dotovací prostředek výhodně použít fosforečnany amonné.
-3 CZ 304759 B6
I když byl vynález vyvinut s použitím hydridu hořčíku jako redukčního prostředku, je nutné vycházet z toho, že jako redukční prostředek se může též použít hydrid vápníku. Hydrid vápníku se od hydridu hořčíku liší v podstatě tím, že se rozkládá již při nižší teplotě od 280 do 300 °C, avšak má teplotu tavení nad 1000 °C. Je však nutné vycházet z toho, že reakce po zapálení probíhá tak rychle, že mezistav, který je vyznačen rozkladem hydridu hořčíku, nemá na reakci žádný podstatný vliv. Mohou se očekávat pouze nevýznamné vlivy na reakční produkt. Obecně řečeno je předmětem vynálezu způsob výroby práškového tantalu zapálením směsi chloridu tantaličného a hydridů alkalických zemin, přičemž směs případně obsahuje dotovací prostředky, obsahující fosfor a/nebo dusík.
Po ukončené reakci se takto získaný práškový tantal izoluje promytím minerální kyselinou, jako je například kyselina sírová, zejména s přísadou peroxidu vodíku. Takto promytý práškový tantal, prostý chloridů, se může zatížit za účelem dalšího dotování prostředky, obsahujícími fosfor. Když je obsah kyslíku při předem zadaném specifickém povrchu po usušení v požadované koncentraci, může se materiál bez dalšího zpracování použít přímo k výrobě tantalových kondenzátorů. Když se požaduje snížení koncentrace kyslíku v práškovém tantalu, izolovaný a usušený práškový tantal se výhodně podrobí desoxidaci. Ta probíhá výhodně přísadou přimíšených hořčíkových hoblin při nižší teplotě od 650 do 900 °C, výhodně od 750 do 850 °C, v době od ’Λ hodiny do 10 hodin, výhodně od 2 do 4 hodin. Takto získaný práškový tantal se pak zbaví zbytků hořčíku promytím minerální kyselinou s případným přídavkem peroxidu vodíku a usuší se. Jako vhodná se ukázala zejména kyselina sírová. Po vyloužení zbytků hořčíku může dojít znovu k dotování fosforem. To se může výhodně provést smočením roztokem daného dotovacího prostředku. Obsah kyslíku v práškovém tantalu, používaném pro výrobu tantalových kondenzátorů, je výhodně při daném specifickém povrchu mezi 4000 a 20 000 ppm. Dále se výhodně upraví obsah dusíku na hodnoty od 100 do 15 000 ppm, což se dociluje zejména během desoxidace přísadou amoniaku. „Desoxidace“ se výhodně provádí i tehdy, když je obsah kyslíku v prášku již v požadovaném rozmezí. „Desoxidace“ pak slouží k redukci zbytků hořčíku a chloru z reakce zápalné směsi. Přítomnost hořčíku při tom způsobuje, že při šetrném tepelném zpracování do prášku nedifunduje žádný další kyslík. Slinuté anody, vyrobené zodpovídajících práškových tantalů, se vyznačují nízkými svodovými proudy, výhodně < 2 nA/pFV, výhodně zejména méně než 1 nA/pFV.
Tantalový prášek podle vynálezu se dále vyznačuje tím, žeje vhodný pro výrobu elektrolytických kondenzátorů se specifickým nábojem 120 000 až 180 000 pFV/g při specifickém svodovém proudu nižším než 2 nA/pFV desetiminutovým slinováním při teplotě od 1100 °C do 1300 °C a formováním při 16 V.
Ztantalového prášku podle vynálezu se mohou vyrobit lisované anody, které mají překvapivě vysokou mez pevnosti. Tyto lisované anody jsou rovněž předmětem vynálezu. Mez pevnosti těchto lisovaných anod podle vynálezu, měřená podle Chatillona při stupni slisování 5 g/m3, činí mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg. Tato testovací metoda umožňuje prognózu stability výlisků a to, zda výrobce kondenzátorů musí při procesu lisování počítat s mechanicky porušenými anodami. Ke zkoušce se používá Catillonův měřicí přístroj DFGS 10, který je určen k měření tažných a tlakových sil. Pro zjištění meze pevnosti se vylisuje anoda z prášku při stupni slisování 5 g/cm3. Potom se anoda uloží na podložku a raznicí Chatillonova přístroje se za zvyšování tlaku tak dlouho lisuje, až se anoda rozbije. Hmotnost, při které se dosáhne rozbití anody, se odečítá v kilogramech. Zkoušení se při tom provádělo na válcových lisovaných zkušebních anodách s hmotností 0,521 g, průměrem 5,1 mm a délkou 5,1 mm a stupně slisování 5,0 g/cm3. Lisované anody, získané podle DE 1 9536 013 Al, naproti tomu vykazují mez pevnosti pouze < 4 kg.
Slinuté anody, vyrobené z práškového tantalu podle vynálezu, získané 10 minutovým slinováním prášku při teplotách od 1150 do 1300 °C a formováním při 16 až 30 V, vykazují specifické náboje od 80 000 do 170 000 pFV/g, výhodně od 90 000 do 160 000 pFV/g. Obzvláště výhodně činí svodové proudy těchto slinutých anod podle vynálezu <2 nA/pFV.
-4CZ 304759 B6
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se rozdělila na tři stejné dávky a ty se odděleně od sebe uvedly elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou. Při tom se uvolnil chlorovodík. Reakce proběhly během několika málo minut.
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se po prosátí na sítě s velikostí ok 400 pm promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, až byla promývací voda prakticky prostá chloridů. Materiál se opakovanou dekantaci zbavil většiny kyseliny a na nuči se vodou vymyl od zbytků kyseliny, šetrně se usušil při 45 °C a prosil na méně než 220 pm.
Takto vyrobený práškový tantal vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
000 ppm 1770 ppm < 1 ppm < 1 ppm < 2 ppm 361 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer Sypná hmotnost podle Scotta Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) Mastersizer (ASTM-B-822) D 10
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50
D90
0,37 pg 0,58 g/cm3 9,12 m2/g 1,03 pm
10,50 pm 32,33 pm
Získané množství kovového tantalu: 74 g, což odpovídá výtěžku 73,7 %.
.krok: Desoxidace a kyselé loužení g primárního prášku se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakryté tantalové lodičce se v trubkové peci udržovalo po dobu 2 hodin při 900 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál pozvolným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo bez nebezpečí manipulovat na vzduchu. Zbytky hořčíku se z práškového tantalu rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak se materiál vodou zbavil kyseliny, usušil a prosil na < 220 pm.
Analýza:
Kyslík
Dusík
Specifický povrch dle BET (Quantasorb 3-Punkt)
7700 ppm 2600 ppm
2,35 m2/g
-5CZ 304759 B6
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovily specifické náboje a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 1).
Příklad 2 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se uvedla elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Takto vyrobený práškový tantal vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
000 ppm 730 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm 409 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,33 pm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,78 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,73 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 0,94 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 9,84 pm
D 90 31,88 pm
Získané množství kovového tantalu: 151 g, což odpovídá výtěžku 69 %.
3.krok: Dotování a nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
110 g práškového tantalu se smíchalo s 7,26 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se zahřívalo v retortě po 2 hodiny na 850 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál pozvolným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo na vzduchu bezpečně zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak byl práškový tantal vodou zbaven kyseliny a materiál, vlhký z nuče, se dotoval napouštěním 11 ml roztoku dihydrogenfosforečnanu amonného, který obsahoval 1 mg P v ml, na 100 ppm fosforu, usušil se a prosil na velikost < 220 pm.
Analýza:
Kyslík
Mg
Dusík
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt)
7550 ppm 80 ppm
2820 ppm 2,2 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2).
-6CZ 304759 B6
4,krok: Nová desoxidace a loužení kyselinou, nové dotování g výše získaného materiálu se smíchalo s 1,6 g hořčíkových hoblin, jak bylo popsáno v kroku 3, znovu se 2 hodiny desoxidovalo po dobu 2 hodin při 850 °C, pak se zpracovalo roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku, promytím se zbavilo kyseliny a ještě jednou dotovalo 50 ppm fosforu, takže celkový obsah fosforu nyní činil 150 ppm.
Analýza:
Kyslík 6170 ppm
Mg 60 ppm
Dusík 3210 ppm
Spec. povrch podle BET(Quantasorb 3-Punkt) 1,75 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2B).
Příklad 3 .krok: Redukce
Směs 1000 g TaCl5 a 115,5 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se dotovala 71 mg červeného fosforu a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík 26 000 ppm
Dusík 2820 ppm
Fosfor 150 ppm
Hořčík 14 ppm
Sodík <1 ppm
Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid 784 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,34 pm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,82 g/cm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 5,74 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 0,87 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 10,12 pm
D90 30,19 pm
Získané množství kovového tantalu: 329 g, což odpovídá výtěžku 65 %.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3A).
.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
-7 CZ 304759 B6
100 g práškového tantalu se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidaci při 750 °C po dobu 4 hodin, jak bylo popsáno v příkladu 2. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem s 26 % kyseliny sírové a 6 % peroxidu vodíku. Materiál se vodou zbavil kyseliny, sušil při 45 °C, prosil na velikost pod 220 pm a homogenizoval.
Analýza:
Kyslík 9770 ppm
Dusík 6090 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,12 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou v tabulce 2 (viz vzorek 3B).
4.krok: Dotování
Část desoxidovaného prášku se dostatečně dotovala napuštěním roztokem dihydrogenfosforečnanu amonného na 150 ppm fosforu, usušila se a prosila na < 220 pm.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3C).
Příklad 4 .krok: Redukce
Směs 300 g TaCI5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se dotovala 151 mg červeného fosforu (=151 mg P) a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2. Spálení proběhlo při sníženém proudu argonu. V důsledku toho byla během redukce docílena částečná nitridace dusíkem ze vzduchu.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík 12 000 ppm
Dusík 12 000 ppm
Fosfor 680 ppm
Hořčík 1200 ppm
Sodík <1 ppm
Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid71 ppm
Velikost zma pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,57 μηι
Sypná hmotnost podle Scotta 1,05 g/cm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,99 m/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,09 μηι
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 13,63 μιη
D90 40,18 μηι
-8CZ 304759 B6
Získané množství kovového tantalu: 129 g, což odpovídá výtěžku 85 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu se smíchalo s 2,7 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidaci při 750 °C po dobu 4 hodin, jako v příkladu 2, a jako v příkladu 1 se zpracovalo kyselinou.
Analýza:
Kyslík 12 000 ppm
Mg 85 ppm
Dusík 12 000 ppm
Cl 23 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,92 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou v tabulce 2 (viz vzorek 4).
Příklad 5
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 76 mg červeného fosforu se uvedla do reakce, jako v příkladu 4.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
000 ppm 14 000 ppm
360 ppm 460 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm ppm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,18 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,35 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,73 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 19,08 pm
D 90 56,31 pm
Získané množství kovového tantalu: 131 g, což odpovídá výtěžku 86,4 %. 3 .krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou Viz příklad 3.
-9CZ 304759 B6
Analýza:
Kyslík 10 000 ppm
Mg 75 ppm
Dusík 14 000 ppm
Cl 30 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,18 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou v tabulce 2 (viz vzorek 5).
Příklad 6
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se pod proudem argonu uvedla do reakce jako v příkladu 1.
2.krok: Promývání a sušení Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
11 000 PPm
4360 PPm
<1 PPm
980 PPm
<1 PPm
<1 PPm
<2 PPm
258 PPm
Primární zrno (z REM) <300 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,40 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,45 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 3,30 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 33,14 pm
D90 114,95 pm
Získané množství kovového tantalu: 133 g, což odpovídá výtěžku 87,7 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 2,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza:
Kyslík 7100 ppm
Dusík 4460 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 1,99 m2/g
-10CZ 304759 B6
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 6).
Příklad 7
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 152 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intensivním proudem argonu, takže byl vyloučen přístup vzduchu.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
000 ppm 144 ppm 780 ppm 45 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm 100 ppm
Primární zrno (z REM) <150 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,10 g/cm3
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer 0,76 pm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,02 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 2,25 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 23,51 pm
D 90 58,43 pm
Získané množství kovového tantalu: 128 g, což odpovídá výtěžku 84,3 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,00 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza:
Kyslík 10 100 ppm
Dusík 752 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,52 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2.
- 11 CZ 304759 B6
Příklad 8
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 304 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intensivním proudem argonu, takže je vyloučen přístup vzduchu.
2.krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík
Sodík
Draslík
Fluorid
Chlorid
000 ppm 240 ppm 1700 ppm 65 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm 79 ppm
Primární zrno (z REM) <100 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,05 g/cm3
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer 0,55 pm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,82 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,33 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 15,89 pm
D 90 49,19 pm
Velikost zrna byla znázorněna na snímku REM.
Získané množství kovového tantalu: 126 g, což odpovídá výtěžku 83 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) se smíchalo a desoxidovalo po 4 hodiny při 750 °C. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku.
Analýza:
Kyslík 12 000 ppm
Dusík 1440 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,66 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 8).
- 12CZ 304759 B6
Tabulka 1: Elektrické zkoušky
Vzorek PD-stupeň slisování (g/cm3) Mez pevnosti anod Chatíllon (kg) PD=5g/cm3 Teplota slinování CC) Hustota slinku (g/cm3) Formování (V) Kapacita (CV/g) Svodový proud (nA/pFV)
1 5 nestanoveno 1200 4,6 16 79119 8,18
2A 5 nestanoveno 1200 4,9 16 84712 3,95
2B 5 3,1 1200 4,5 16 92113 3,97
3A 5,75 5,34 1200 6,1 16 114456 1,63
3B 5 nestanoveno 1200 4,9 16 119121 1,63
3C 5 nestanoveno 1200 4,9 16 123678 2,01
4 5 5,81 1200 4,6 16 149910 2,19
5 1250 4,8 16 143936 0,77
5 1300 5,5 16 111879 4,1
5 1250 5 30 84724 2,7
5 1250 5 20 106701 1,95
5 5 7,05 1200 4,7 16 133428 3,52
5 1250 4,8 16 123626 0,973
5 1300 5,6 16 104041 4,48
5 1300 5,9 30 80184 3,24
6 5 4,56 1200 5 16 95742 4,57
5 1250 5 16 88500 1,39
7 5 6,5 1200 4,8 16 155911 1,58
5 1250 5,2 16 144255 0,69
8 5 6,3 1200 4,8 16 151745 1,22
5 1250 5,8 16 130031 0,67
- 13 CZ 304759 B6
Hmota anod: 0,05 g Doba slinování: 10 minut
Příklad 9 až 16
l.krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5, 63 g MgH2, x g červeného fosforu a y g NH4C1 se elektrickým zažehnutím ío uvedla do reakce v atmosféře argonu (viz tabulka 2).
Tabulka 2
Příklad P X (mg) nh4ci y (mg)
9 0 0
10 152 0
11 304 0
12 0 2,32
13 0 4,64
14 152 1,16
15 152 2,32
16 152 4,64
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, aby se od20 stranil chlorid hořečnatý. Materiál se jednou až dvěma dekantacemi zbavil větší části kyseliny a na nuči se vodou zbavil kyseliny, usušil se při 45 °C a prosil na menší velikost než 400 pm. Souvislost mezi obsahem dotujících látek s povrchem je uvedena v následující tabulce 3.
- 14CZ 304759 B6
Tabulka 3
Příklad P X ppm N y ppm Spec. povrch dle BET (Quantasorb) (nú/g) Obsah Na/K (ppm) Obsah F (ppm)
9 0 0 2,30 <2 <5
10 1000 0 4,02 <2 <5
11 2000 0 4,82 <2 <5
12 0 4000 3,24 <2 <5
13 0 8000 4,05 <2 <5
14 1000 2000 3,94 <2 <5
15 1000 4000 4,15 <2 <5
16 1000 8000 5,29 <2 <5
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
Práškový tantal se nyní smísil s dvojnásobkem stechiometrického množství hořčíkových hoblin (počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se udržoval v retortě pod ochranným plynem (argon) na teplotě 750 °C po dobu 4 hodin. Po ochladnutí se materiál pasivoval polo zvolným připouštěním vzduchu během asi 18 hodin, aby se s ním mohlo bez nebezpečí na vzduchu zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Potom se práškový tantal zbavil kyseliny vymytím vodou, usušil se při 45 °C a prosil ne méně než 400 pm.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy (viz tabulka 4).
Hmotnost anod: 0,0466 g
Stupeň slisování: 5,0 g/cm3
Formovací napětí: 16 V
- 15CZ 304759 B6
Tabulka 4
Vzorek Mez pevnosti anod Chatilion (kg) PD=5g/cm3 Teplota slinování (“C) Hustota slínku (g/cm3) Kapacita (CV/g) Svodový proud (nA/gFV
9 6,64 1200 1250 5,1 5,3 103027 80681 3,0 1,8
10 6,50 1200 1250 4,6 5,2 147489 143895 0,5 1,7
11 6,50 1200 1250 4.4 5.5 155621 133532 0,6 1,9
12 4,96 1200 1250 5 5,5 107201 84343 2,0 1,9
13 5,14 1200 1250 5,3 5,7 109480 86875 2,9 1,3
14 5,48 1200 1250 5 5,3 148921 127065 1,8 4,0
15 7,37 1150 1200 1200 5 5,1 5,1 173696 160922 108526 0,8 1,7
16 7,52 1200 5,2 173300 1,4
PATENTOVÉ NÁROKY

Claims (8)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru s velikostí primárních částic 30 až 300 nm a hodno5 tou D-50 velikosti sekundárních částic podle ASTM-B-822 nad 10 pm.
  2. 2. Tantalový prášek podle nároku 1, který po slinování při teplotě mezi 1100 a 1300 °C po dobu 10 minut a po formování při 16 V vykazuje specifický náboj 120 000 až 180 000 pFV/g při hustotě svodového proudu nižší než 2 nA/pFV.
  3. 3. Tantalový prášek podle nároku 1 nebo 2 s obsahem 30 až 3000 dílů na milion dílů fosforu.
    io
  4. 4. Tantalový prášek podle některého z nároků 1 až 3 s obsahem 4000 až 20 000 dílů na milion dílů kyslíku a 100 až 15 000 dílů na milion dílů dusíku.
  5. 5. Tantalový prášek podle některého z nároků 1 až 4 se specifickým povrchem dle BET od 2 do 6 m2/g.
  6. 6. Tantalový prášek podle některého z nároků 1 až 5 s obsahem méně než 20 dílů na milion 15 dílů fluoru, výhodně méně než 5 dílů na milion dílů.
  7. 7. Lisované anody, získatelné z práškového tantalu podle jednoho nebo více nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že mez pevnosti anod, měřená dle Chatillona při stupni slisování 5,0 g/cm3 a hmotnosti anod 0,521 g, leží mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg.
  8. 8. Slinuté anody, získané desetiminutovým slinováním lisovaných tantalových prášků podle 20 jednoho nebo více nároků 1 až 6 při teplotách od 1150 do 1300 °C a formováním při 16 až 30 V, vyznačující se tím, že vykazují specifické náboje od 80 000 do 170 000 pmFV/g.
    Konec dokumentu
CZ2009-453A 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody CZ304759B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19706416 1997-02-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ304759B6 true CZ304759B6 (cs) 2014-09-24

Family

ID=7820742

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2009-453A CZ304759B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody
CZ0296199A CZ301097B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ0296199A CZ301097B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6193779B1 (cs)
EP (1) EP0964936B1 (cs)
JP (4) JP3817742B2 (cs)
KR (1) KR100511027B1 (cs)
CN (2) CN1080319C (cs)
AU (1) AU6396398A (cs)
BR (1) BR9807239A (cs)
CZ (2) CZ304759B6 (cs)
DE (1) DE59801634D1 (cs)
HK (2) HK1026459A1 (cs)
IL (2) IL131248A (cs)
PT (1) PT964936E (cs)
WO (1) WO1998037248A1 (cs)

Families Citing this family (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7435282B2 (en) 1994-08-01 2008-10-14 International Titanium Powder, Llc Elemental material and alloy
US20030145682A1 (en) * 1994-08-01 2003-08-07 Kroftt-Brakston International, Inc. Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt
US20030061907A1 (en) * 1994-08-01 2003-04-03 Kroftt-Brakston International, Inc. Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt
US7445658B2 (en) 1994-08-01 2008-11-04 Uchicago Argonne, Llc Titanium and titanium alloys
WO1996004407A1 (en) * 1994-08-01 1996-02-15 Kroftt-Brakston International, Inc. Method of making metals and other elements
US6576038B1 (en) * 1998-05-22 2003-06-10 Cabot Corporation Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties
DE19847012A1 (de) * 1998-10-13 2000-04-20 Starck H C Gmbh Co Kg Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung
JP3871824B2 (ja) * 1999-02-03 2007-01-24 キャボットスーパーメタル株式会社 高容量コンデンサー用タンタル粉末
JP2000306781A (ja) * 1999-04-21 2000-11-02 Showa Kyabotto Super Metal Kk 電解コンデンサ用金属粉末ならびにこれを用いた電解コンデンサ用陽極体および電解コンデンサ
US6375704B1 (en) * 1999-05-12 2002-04-23 Cabot Corporation High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes
US6358625B1 (en) * 1999-10-11 2002-03-19 H. C. Starck, Inc. Refractory metals with improved adhesion strength
JP3585791B2 (ja) * 1999-11-04 2004-11-04 Ｎｅｃトーキン株式会社 固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法及びその製造方法に用いられる連続焼結装置
US6432161B1 (en) * 2000-02-08 2002-08-13 Cabot Supermetals K.K. Nitrogen-containing metal powder, production process thereof, and porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the metal powder
JP4049964B2 (ja) 2000-02-08 2008-02-20 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサー
KR20020091109A (ko) 2000-03-01 2002-12-05 캐보트 코포레이션 질화 밸브 금속 및 그 제조 방법
JP3718412B2 (ja) * 2000-06-01 2005-11-24 キャボットスーパーメタル株式会社 ニオブまたはタンタル粉末およびその製造方法
JP2002060803A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Showa Kyabotto Super Metal Kk 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法
JP4187953B2 (ja) * 2001-08-15 2008-11-26 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
US7442227B2 (en) * 2001-10-09 2008-10-28 Washington Unniversity Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same
JP3610942B2 (ja) * 2001-10-12 2005-01-19 住友金属鉱山株式会社 ニオブおよび／またはタンタルの粉末の製造法
JP3763307B2 (ja) * 2001-11-08 2006-04-05 松下電器産業株式会社 コンデンサとその製造方法
GB2410251B8 (en) * 2002-03-12 2018-07-25 Starck H C Gmbh Valve metal powders and process for producing them
DE10307716B4 (de) * 2002-03-12 2021-11-18 Taniobis Gmbh Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung
UA79310C2 (en) * 2002-09-07 2007-06-11 Int Titanium Powder Llc Methods for production of alloys or ceramics with the use of armstrong method and device for their realization
CA2497999A1 (en) * 2002-09-07 2004-03-18 International Titanium Powder, Llc. Process for separating ti from a ti slurry
US20050284824A1 (en) * 2002-09-07 2005-12-29 International Titanium Powder, Llc Filter cake treatment apparatus and method
AU2003263082A1 (en) * 2002-10-07 2004-05-04 International Titanium Powder, Llc. System and method of producing metals and alloys
WO2004033737A1 (en) * 2002-10-07 2004-04-22 International Titanium Powder, Llc. System and method of producing metals and alloys
EP1462098B1 (en) * 2003-03-03 2007-07-04 SPRL Franpharma Stabilised pharmaceutical composition comprising a non-steroidal anti-inflammatory agent and a prostaglandin
EP1620868A2 (en) * 2003-04-25 2006-02-01 Cabot Corporation A method of forming sintered valve metal material
CN101579743B (zh) * 2003-06-10 2014-11-26 卡伯特公司 钽粉及其制造方法
US20070180951A1 (en) * 2003-09-03 2007-08-09 Armstrong Donn R Separation system, method and apparatus
US7729104B2 (en) * 2004-04-15 2010-06-01 Jfe Mineral Company, Ltd. Tantalum powder and solid electrolyte capacitor including the same
DE102004020052B4 (de) * 2004-04-23 2008-03-06 H.C. Starck Gmbh Verfahren zur Herstellung von Niob- und Tantalpulver
JP5209962B2 (ja) * 2004-06-24 2013-06-12 ハー ツェー シュタルク インコーポレイテッド 改善された物理的性質および電気的性質を有するバルブメタルの製造
US20060070492A1 (en) * 2004-06-28 2006-04-06 Yongjian Qiu High capacitance tantalum flakes and methods of producing the same
DE102004049040B4 (de) * 2004-10-08 2008-11-27 H.C. Starck Gmbh Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytkondensatoren
US20070017319A1 (en) 2005-07-21 2007-01-25 International Titanium Powder, Llc. Titanium alloy
DE102005038551B3 (de) * 2005-08-12 2007-04-05 W.C. Heraeus Gmbh Draht und Gestell für einseitig gesockelte Lampen auf Basis von Niob oder Tantal sowie Herstellungsverfahren und Verwendung
BRPI0616916A2 (pt) 2005-10-06 2017-05-23 Int Titanium Powder Llc titânio metálico ou uma liga de titânio, pó de ti ou pó de liga a base de ti, e, produto
DE112007001100T5 (de) * 2006-05-05 2009-05-14 Cabot Corp., Boston Tantalpulver mit glatter Oberfläche und Verfahren zur Herstellung desselben
US20080031766A1 (en) * 2006-06-16 2008-02-07 International Titanium Powder, Llc Attrited titanium powder
GB0622463D0 (en) * 2006-11-10 2006-12-20 Avx Ltd Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes
US7753989B2 (en) * 2006-12-22 2010-07-13 Cristal Us, Inc. Direct passivation of metal powder
US7856265B2 (en) * 2007-02-22 2010-12-21 Cardiac Pacemakers, Inc. High voltage capacitor route with integrated failure point
US9127333B2 (en) * 2007-04-25 2015-09-08 Lance Jacobsen Liquid injection of VCL4 into superheated TiCL4 for the production of Ti-V alloy powder
EP2214853A4 (en) * 2007-10-15 2013-05-22 Hi Temp Specialty Metals Inc PROCESS FOR PREPARING TANTALUM POWDER USING RECYCLED AGENTS AS AN EXISTING MATERIAL
US7760487B2 (en) * 2007-10-22 2010-07-20 Avx Corporation Doped ceramic powder for use in forming capacitor anodes
GB0902486D0 (en) * 2009-02-13 2009-04-01 Metalysis Ltd A method for producing metal powders
US8203827B2 (en) * 2009-02-20 2012-06-19 Avx Corporation Anode for a solid electrolytic capacitor containing a non-metallic surface treatment
JP2010265520A (ja) 2009-05-15 2010-11-25 Cabot Supermetal Kk タンタル混合粉末及びその製造方法、並びにタンタルペレット及びその製造方法。
US9269498B2 (en) 2009-12-18 2016-02-23 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including multiple thicknesses
US8873220B2 (en) 2009-12-18 2014-10-28 Cardiac Pacemakers, Inc. Systems and methods to connect sintered aluminum electrodes of an energy storage device
US8725252B2 (en) 2009-12-18 2014-05-13 Cardiac Pacemakers, Inc. Electric energy storage device electrode including an overcurrent protector
US9123470B2 (en) 2009-12-18 2015-09-01 Cardiac Pacemakers, Inc. Implantable energy storage device including a connection post to connect multiple electrodes
WO2011075508A2 (en) 2009-12-18 2011-06-23 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including a folded connection
EP2513930B1 (en) 2009-12-18 2020-10-07 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered electrodes to store energy in an implantable medical device
US8848341B2 (en) 2010-06-24 2014-09-30 Cardiac Pacemakers, Inc. Electronic component mounted on a capacitor electrode
US9214709B2 (en) 2010-12-21 2015-12-15 CastCAP Systems Corporation Battery-capacitor hybrid energy storage system for high temperature applications
US8760851B2 (en) 2010-12-21 2014-06-24 Fastcap Systems Corporation Electrochemical double-layer capacitor for high temperature applications
US9001495B2 (en) 2011-02-23 2015-04-07 Fastcap Systems Corporation High power and high energy electrodes using carbon nanotubes
AU2012258672A1 (en) 2011-05-24 2014-01-16 Fastcap Systems Corporation Power system for high temperature applications with rechargeable energy storage
CA3098849A1 (en) 2011-06-07 2012-12-13 Fastcap Systems Corporation Energy storage media for ultracapacitors
US9558894B2 (en) 2011-07-08 2017-01-31 Fastcap Systems Corporation Advanced electrolyte systems and their use in energy storage devices
KR102101778B1 (ko) * 2011-07-08 2020-04-17 패스트캡 시스템즈 코포레이션 고온 에너지 저장 장치
CA2854404C (en) 2011-11-03 2021-05-25 Fastcap Systems Corporation Production logging instrument
JP5222437B1 (ja) 2011-11-15 2013-06-26 昭和電工株式会社 タングステン細粉の製造方法
CN104221107B (zh) 2012-06-22 2017-12-12 昭和电工株式会社 固体电解电容器的阳极体
WO2014142359A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Global Advanced Metals Japan K.K. Method to passivate sintered anodes having a wire
CN103322871B (zh) * 2013-06-28 2015-04-22 柳州长虹机器制造公司 一种不含敏感火工品药剂的电雷管发火装置
US10872737B2 (en) 2013-10-09 2020-12-22 Fastcap Systems Corporation Advanced electrolytes for high temperature energy storage device
US11270850B2 (en) 2013-12-20 2022-03-08 Fastcap Systems Corporation Ultracapacitors with high frequency response
WO2015095858A2 (en) 2013-12-20 2015-06-25 Fastcap Systems Corporation Electromagnetic telemetry device
CN104858436B (zh) * 2014-02-21 2018-01-16 宁夏东方钽业股份有限公司 高可靠高比容电解电容器用钽粉的制备方法
JP2014218748A (ja) * 2014-06-18 2014-11-20 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
EP4036946A1 (en) 2014-10-09 2022-08-03 FastCAP Systems Corporation Nanostructured electrode for energy storage device
CZ309286B6 (cs) * 2014-11-03 2022-07-20 Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd Způsob výroby tantalového prášku
US10290430B2 (en) 2014-11-24 2019-05-14 Avx Corporation Wet Electrolytic Capacitor for an Implantable Medical Device
KR20230164229A (ko) 2015-01-27 2023-12-01 패스트캡 시스템즈 코포레이션 넓은 온도 범위 울트라커패시터
JP2016166422A (ja) * 2016-04-12 2016-09-15 グローバルアドバンストメタルジャパン株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
WO2018010108A1 (zh) * 2016-07-13 2018-01-18 宁夏东方钽业股份有限公司 一种片状钽粉及其制备方法
US20180144874A1 (en) * 2016-10-21 2018-05-24 Global Advanced Metals, Usa, Inc. Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof
MX2019006454A (es) 2016-12-02 2019-08-01 Fastcap Systems Corp Electrodo compuesto.
US11534830B2 (en) * 2017-12-28 2022-12-27 Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd Tantalum powder and preparation method therefor
US11557765B2 (en) 2019-07-05 2023-01-17 Fastcap Systems Corporation Electrodes for energy storage devices

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0347668A2 (de) * 1988-06-22 1989-12-27 H.C. Starck GmbH & Co. KG Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung
US4968481A (en) * 1989-09-28 1990-11-06 V Tech Corporation Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics
DE19536014A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
DE19536013A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
EP0744234A1 (de) * 1995-05-26 1996-11-27 Th. Goldschmidt AG Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE32260E (en) * 1975-07-14 1986-10-07 Fansteel Inc. Tantalum powder and method of making the same
US4441927A (en) * 1982-11-16 1984-04-10 Cabot Corporation Tantalum powder composition
DE3309891A1 (de) * 1983-03-18 1984-10-31 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren
JPS61284501A (ja) * 1985-06-10 1986-12-15 Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk タンタル粉末の製造方法
JPH02310301A (ja) * 1989-05-24 1990-12-26 Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk タンタル粉末及びその製造法
JP2512886B2 (ja) * 1989-09-28 1996-07-03 東亞合成株式会社 含フッ素共重合体および該共重合体からなる塗料
US5234491A (en) * 1990-05-17 1993-08-10 Cabot Corporation Method of producing high surface area, low metal impurity
US5442978A (en) 1994-05-19 1995-08-22 H. C. Starck, Inc. Tantalum production via a reduction of K2TAF7, with diluent salt, with reducing agent provided in a fast series of slug additions
US5954856A (en) * 1996-04-25 1999-09-21 Cabot Corporation Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0347668A2 (de) * 1988-06-22 1989-12-27 H.C. Starck GmbH & Co. KG Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung
US4968481A (en) * 1989-09-28 1990-11-06 V Tech Corporation Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics
DE19536014A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
DE19536013A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
EP0744234A1 (de) * 1995-05-26 1996-11-27 Th. Goldschmidt AG Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver

Also Published As

Publication number Publication date
IL146669A0 (en) 2002-07-25
JP2001512530A (ja) 2001-08-21
CN1080319C (zh) 2002-03-06
BR9807239A (pt) 2000-04-25
KR20000071175A (ko) 2000-11-25
CZ301097B6 (cs) 2009-11-04
JP3817742B2 (ja) 2006-09-06
DE59801634D1 (de) 2001-11-08
JP4616313B2 (ja) 2011-01-19
CN1258785C (zh) 2006-06-07
IL146669A (en) 2007-02-11
JP4137125B2 (ja) 2008-08-20
EP0964936B1 (de) 2001-10-04
JP2007335884A (ja) 2007-12-27
JP2006183150A (ja) 2006-07-13
JP2007335885A (ja) 2007-12-27
US6193779B1 (en) 2001-02-27
IL131248A0 (en) 2001-01-28
IL131248A (en) 2002-09-12
CN1247575A (zh) 2000-03-15
HK1026459A1 (en) 2000-12-15
CN1368744A (zh) 2002-09-11
PT964936E (pt) 2002-03-28
JP4974799B2 (ja) 2012-07-11
HK1047188B (zh) 2007-01-19
EP0964936A1 (de) 1999-12-22
CZ296199A3 (cs) 2000-08-16
KR100511027B1 (ko) 2005-08-31
WO1998037248A1 (de) 1998-08-27
AU6396398A (en) 1998-09-09
HK1047188A1 (en) 2003-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ304759B6 (cs) Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody
JP3174341B2 (ja) 改良されたタンタル粉末の製造方法及びその粉末から得られる高キャパシタンスで電気漏れの少ない電極
US6238456B1 (en) Tantalum powder, method for producing same powder and sintered anodes obtained from it
CZ300132B6 (cs) Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem
US20020050185A1 (en) Tantalum powder for capacitors
JP4187953B2 (ja) 窒素含有金属粉末の製造方法
JPS5827903A (ja) 集塊された弁金属及び焼結された陽極の製造方法
JPS5871614A (ja) 電子材料用金属粉末及びその製造法
CZ301396B6 (cs) Kovový tantalový prášek obsahující dusík, zpusob jeho prípravy, porézní slinuté teleso a elektrolytický kondenzátor jej obsahující
EA020381B1 (ru) Способ получения металлических порошков
US4356028A (en) In situ phosphorus addition to tantalum
JP6824320B2 (ja) タンタル粉末及びその製造方法並びにタンタル粉末から製造される焼結アノード
JP2002030301A (ja) 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサ
JP2008512568A (ja) バルブメタル粉末の脱酸素
CZ309286B6 (cs) Způsob výroby tantalového prášku
RU2284248C1 (ru) Способ получения порошка вентильного металла
RU2409450C1 (ru) Способ получения порошка вентильного металла
JP2009275289A (ja) 窒素含有金属粉末の製造方法
JP2004156060A (ja) 金属粉末の製造方法およびこれに使用する原料または希釈塩の評価方法
JP2004339567A (ja) タンタルおよび／またはニオブの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Patent expired

Effective date: 20180209