CZ300132B6 - Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem - Google Patents
Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem Download PDFInfo
- Publication number
- CZ300132B6 CZ300132B6 CZ20040547A CZ2004547A CZ300132B6 CZ 300132 B6 CZ300132 B6 CZ 300132B6 CZ 20040547 A CZ20040547 A CZ 20040547A CZ 2004547 A CZ2004547 A CZ 2004547A CZ 300132 B6 CZ300132 B6 CZ 300132B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- tantalum
- niobium
- powder
- ppm
- alkali metal
- Prior art date
Links
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 104
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 91
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 70
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 42
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 33
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 18
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta+5] WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 23
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 20
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 10
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- -1 NaCl Chemical class 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 238000005029 sieve analysis Methods 0.000 description 5
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 101001111252 Homo sapiens NADH dehydrogenase [ubiquinone] 1 beta subcomplex subunit 11, mitochondrial Proteins 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100023955 NADH dehydrogenase [ubiquinone] 1 beta subcomplex subunit 11, mitochondrial Human genes 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000013351 cheese Nutrition 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016287 MxOy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910000753 refractory alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
- H01G9/0525—Powder therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/20—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from solid metal compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21B—MANUFACTURE OF IRON OR STEEL
- C21B15/00—Other processes for the manufacture of iron from iron compounds
- C21B15/006—By a chloride process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B5/00—General methods of reducing to metals
- C22B5/02—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes
- C22B5/04—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes by aluminium, other metals or silicon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/10—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions
- Y02P10/134—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions by avoiding CO2, e.g. using hydrogen
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
Pri zpusobu výroby tantalových a/nebo niobových prášku s velkým specifickým povrchem redukcí príslušných oxidu tantalu a/nebo niobu se redukce provádí reakcí oxidu tantalu a/nebo niobu s nejméne jedním halogenidem kovu vybraného ze skupiny halogenidu Mg, Ca, Sr, Ba a Ce a alkalickým kovem pri teplote, pri které se tvorí tantalový a/nebo niobový prášek.
Description
Obiast vynálezu
Vynález se týká způsobu výroby tantalových a/nebo niobových prášků s velkým specifickým povrchem.
ιn Dosavadní stav techniky
Důležitou oblastí aplikace tantalových a niobových prášku je výroba elektrolytických kondenzátorů. Výroba tantalových nebo niobových pevných elektrolytických kondenzátoru obsahuje nejčastěji tyto operace: slisování tantalového nebo niobového prášku do pelety a zabudování tanta15 lového nebo niobového vodiče, slinování pelety do pórovitého tělesa následným vytvořením souvislého dielektrika ve formě slabé vrstvy oxidu na povrchu porézní pelety anodickou oxidací, vytvoření povlaku z katodového materiálu a konečně vytvoření obalu. Kapacita kondenzátoru závisí na velikosti povrchu tantalových a/nebo niobových prášku. Čím jc použit větší specifický povrch, tím vyšší lze získat kapacitu kondenzátoru. Svodový proud kondenzátoru je rovněž důlc20 žitým parametrem při hodnocení kapacity kondenzátoru. Protože nečistoty znehodnocují dielektrickč vlastnosti vrstvy oxidu, lze kondenzátory s nízkým svodovým proudem získat pouze použitím tantalových a/nebo niobových prášků o vysoké čistotě.
Podle známého stavu techniky existují dva způsoby výroby tantalového a niobového prášku.
Jeden způsob spočívá v použití elektronového paprsku, při kterém je tantalový nebo niobový ingot roztavený elektronickým paprskem hydrogen izován a poté je z nej vyroben prášek, který má sice vysokou čistotu, ale malý specifický povrch, což vede k nízké kapacitě kondenzátoru vyrobených z těchto prášků. Jiný způsob je založen na metodě chemické redukce, při které se sloučenina obsahující lantal nebo niob redukuje redukčním činidlem a získaný prášek se vyluhuje ?o kyselinou a vodou.
Typický způsob výroby tantalového prášku spočívá v redukci fluorotantalátu draselného (Kýla®) sodíkem a jc popsán v patentu US 3 012 877. Z WO 91/18 121 vyplývá, žc za účelem získání velkého specifického povrchu tantalového prášku chemickým redukčním způsobem bylo přidáváno do výchozího materiálu pro redukční proces určité množství ředidla vybraného například ze skupiny halogenidů alkalických kovů jako jsou NaCI, KG, KF a NaF. Nicméně, jestliže je požadován větší specifický povrch prášku, je třeba při tomto způsobu výroby tantalového prášku přidat větší množství ředidla. Žel. v případě použití většího množství ředidla bude tantalový prášek zatížen větším množstvím nečistot a výtěžek se proto sníží. Kromě toho, jakmile io dosáhne specifický povrch prášku určité hodnoty, lze jej těžko zvyšovat, i když bude použito pro redukční reakci většího množství ředidla. Výsledkem je, že tantalový prášek získaný průmyslově redukcí K2Ta® sodíkem má obvykle specifický povrch v hodnotě 0,2 až 2,0 nr/g a vyrobit tantalový prášek s vyšším specifickým povrchem chemickým redukčním způsobem je téměř nemožné.
Patent US 6 136 062 popisuje způsob výroby niobových a/nebo tantalových prášků redukcí příslušných oxidů niobu a/nebo tantalu kovem hořčíkem, přičemž první redukční stupeň je prováděn do průměrného složení odpovídajícího (Nb, Ta) Ox (x - 0,5 1,5) a před druhým redukčním stupněm je redukovaný produkt z prvního stupně zbaven přebytečných redukujících kovů a oxidů kovů alkalických zemin vytvářených při redukci při proplachováni minerálními kyselinami.
Ačkoli může tento způsob vést k výrobě niobových a/nebo tantalových prášků s vysokým specifickým povrchem, jeho nevýhodou jc, že množství použitého redukčního činidla je příliš velké a potřebné množství kyseliny je rovněž, velké. Kromě toho má tento způsob dva redukční stupně a stupeň redukce v prvním stupni musí být velmi přísně kontrolován. Proto jc způsob příliš kom55 plikovaný· a málo účinný.
Podstata vynálezu
Za účelem vyřešení výše uvedeného problému byl podle tohoto vynálezu vyvinut ekonomický způsob přípravy tantalových a/nebo niobových prášků s vysokým specifickým povrchem, při kterem se redukce oxidů tantalu a/nebo niobu provádí alkalickým kovem a nejméně jedním halogenidem vybraným ze skupiny halogenidú Mg, Ca, Sr, Ba a Ce.
Úlohou vynálezu je poskytnout ekonomický způsob výroby tantalových a/nebo niobových prášků io s vysokým specifickým povrchem redukcí příslušných oxidů tantalu a/ncbo niobu, přičemž se redukce provádí reakcí oxidů tantalu a/nebo niobu s nejméně jedním halogenidem kovu a alkalickým kovem vybraným ze skupiny halogen idu kovů Mg, Ca. Sr. Ba a Ce při zvýšené teplotě.
při které se tvoří tantalovc a/ncbo niobové prášky.
Podle přednostního provedení tohoto vy nálezu se dále při redukci použi je nejméně jeden halogcnid alkalického kovu jako ředidlo, přičemž tento halogenid alkalického kovu může být vybrán ze skupiny chlorid sodný, chlorid draselný, lithium chlorid, fluorid draselný a fluorid sodný.
Podle dalšího provedení vynálezu zahrnuje tento způsob vložení do reaktoru nejméně jednoho
2o halogen idu kovu vybraného ze skupiny obsahující halogen idy Mg. Ca, Sr, Ba a Ce, alkalického kovu, oxidů tantalu a/nebo niobu a podle volby nejméně jednoho halogenidú alkalického kovu, zahřátí reaktoru na zvýšenou teplotu, při které se oxidy tantalu a/nebo niobu redukuji na tantalovc a/nebo niobové prášky.
Podle jincho provedení vynálezu zahrnuje daný způsob vsazení do reaktoru nejméně jednoho z uvedených halogenidú kovů vybraných ze skupiny obsahující halogen idy Mg. Ca, Sr, Ba a Ce, a případně podle volby halogen alkalického kovu, zahřátí reaktoru na zvýšenou teplotu, při které sc vytvoří taviči lázeň a pak odměření potřebného množství oxidů tantalu a/nebo niobu a alkalického kovu do taviči lázně při současném řízení teploty reaktoru tak. že oxidy tantalu a/nebo niobu ni jsou redukovány na tantalový a/nebo niobový prášek.
Způsobem podle tohoto vynálezu se redukce obvykle provádí při teplotě v rozsahu 400 až 1200 °C’ přednostně 600 až 1000 °C po dobu 20 až 300 minut až do úplného provedení redukce.
Podle tohoto vynálezu jsou uvedené alkalické kovy použity jako redukční činidlo, přičemž tyto alkalické kovy jsou přednostně vybrány ze skupiny sodík, draslík a lithium, přičemž přednostně se použije sodík a/nebo draslík. Množství použitých alkalických kovů je 1,0 až 1,3 násobek stechiomelriekého množství potřebného pro redukci oxidů tantalu a/nebo niobu. Podle vynálezu je halogenid vybraný z halogenidú Mg. Ca, Sr. Ba a Ce použit jednak jako ředidlo a jednak jako nepřímé redukční činidlo, přičemž je dávána přednost halogenidňm Mg a Ca. Použité molové množství uvedených halogenidú činí 0,5 až 8.0 násobek množství použitého alkalického kovu.
Oxidy tantalu a/nebo niobu použité pro účely tohoto vynálezu mohou být oxidy tantalu a/nebo niobu nebo jejich směs. jaké lze zredukovat na kov tantal a/nebo niob. například Ta2O^ (x < 5)
NbZ_\ (x < 5). Všeobecně jsou dostupné jako Ta2Os aNb2O5.
Za účelem získání velkého specifického povrchu oxidů tantalu a/nebo niobu, jakož i slinutých anod z nich vytvořených lze podle vynálezu dále přidat k výše uvedenému výchozímu materiálu dopující přísadu obsahující N, P, S. B nebo Si k využití při redukční reakci a/nebo ji přidat během redukční reakce a/nebo ji přidat po redukční reakci.
Podle vynálezu se redukce obvykle provádí v uzavřeném reaktoru vyrobeném ze žáruvzdorné slitiny. Za účelem dosažení homogenního disperze látky vstupujících do reakce v roztavených solích a zabránění místnímu přehřátí je reaktor s výhodou vybaven rníchadlem. Kromě toho je reaktor přednostně vybaven ohřívacím a chladicím zařízením za účelem řízení teploty reaktoru.
Uvedený reaktor, jakož i míchadlo. ohřívací a chladicí zařízení může být jakékoli zařízení, které je velmi dobře známé odborníkům v daném oboru.
Podle způsobu provádění vynálezu se redukce provádí v inertní atmosféře, například argonu a/nebo dusíku. Reaktor je udržován pod inertním plynem, dokud není obsah reakční nádoby ochlazen na teplotu okolí.
Po redukci byl produkt redukce ochlazen a vypuštěn z reaktoru, rozemlet a pak promyt roztokem anorganické kyseliny a neionizované vody za účelem odstranění přebytku alkalických kovů, io halogenidu alkalických kovů, halogenidu a oxidů Mg. Ca, Sr, a Ce k získání aglomerátu tantalových a/nebo niobových prášků. Vhodnou anorganickou kyselinou pro promývání produktu je nejméně jedna z kyselin vybraná ze skupiny kyselina chlorovodíková /solná/, dusičná, sírová, fluorová a peroxid vodíku či jejich směs.
i? Tantalové a/nebo niobové prášky získané výše uvedeným způsobem se vysušují známými metodami. Vysušené tantalové a/nebo niobové prášky jsou prosívány na sítu se 40 až 100 oky na délkový palec a proseté jemné prášky jsou podrobeny chemické analýze a zkouškám jejich fyzikálních vlastností.
2o Bez nutnosti vazby na zvláštní teorii, se má zato, že redukce oxidů tantalu a/nebo niobu podle tohoto vynálezu probíhá podle vzorce:
MxC\ + 2yMa i vMeR2 = xM + yMeO » 2yMaR kde M představuje Ta a/nebo Nb; Maje alkalický kov, vybraný přednostně nejméně jednoho z kovů Na, K a Li: Me jc nejméně jeden prvek vybrán ze skupiny Mg. Ca, Sr. Ba a Ce; R jsou halogenidové ionty. MxOy představuje oxidy tantalu a/nebo niobu s pěti valencemi nebo méně jak s pěti valencemi. Takže lze učinit závěr, že alkalické kovy jsou použity jako redukční činidlo a halogenidy Mg, Ca, Sr, Ba a CE jsou použity současně jednak jako nepřímé redukční činidlo a jednak jako ředidlo.
Tantalové a/nebo niobové prášky vyrobené způsobem podle tohoto vynálezu sestávají z porézních aglomerátu obsahujících mnoho primárních částic. Tantalový prášek má specifický povrch BET v rozsahu 1 až 30 nr/g a niobové prášky specifický povrch BET 1 až 40 nr/g a primární velikost částic prášku je v rozsahu 10 až 250 nm, a přednostně 20 až 100 nm. Obsah kyslíku v tantalových a nebo niobových prášcích vyrobených podle vynálezu jc v rozsahu 4000 až 80 000 ppm a obsah alkalického kovu je nižší jak 20 ppm. přednostně nižší jak 5 ppm.
Tantalové a/nebo niobové prášky vyrobené způsobem podle vynálezu lze dále podrobil rafinačni operaci jako je dopování, tepelná aglomerace a dezoxidace.
Technologie dopování, tepelné aglomerace a dezoxidace jsou ze stavu techniky dobře známy. Dopování lze provádět zpracováním tantalových a/nebo niobových prášků vyrobeným způsobem podle vynálezu dopující přísadou obsahujícími N, P, S. B nebo Si. Dezoxidaci lze provádět zahříváním tantalových a/nebo niobových prášků vyrobených způsobem podle vynálezu s redukčním činidlem jako je například hořčík nebo vápník a ředidlem podle volby, jakoje například halogenid alkalického kovu. Aglomeraci za tepla lze provádět ve vakuové peci při teplotě 700 až 1400 °C po dobu 10 až 120 minut. Uvedený aglomerát tantalových a/nebo niobových prášků má obvykle střední velikost částic (D50) v hodnotě 40 až 300 pm, přednostně 40 až
200 μιη a aglomerované částice mají dobrou roztékavost a jsou vhodné pro výrobu kondenzátorů.
CZ 300132 Bó
Přehled obrázku na výkresech
Obr. 1 představuje fotografii SEM {rastrovacího elektronového mikroskopu) (při zvětšení 50 OOOx) lantalových prášků připravených podle příkladu 2 dále uvedeného popisu. Z obrázku je zřejmé, že primární velikost částic práškuje kolem 40až 80 nm.
Obr. 2 je představuje fotografii SEM (řádkovacího elektronového mikroskopu) (při zvětšení 50000x ) niobových prášků připravených podle příkladu 2 dále uvedeného popisu. Z obrázku je zřejmé, že primární velikost částic prášku je kolem 40 až 80 nm.
io
Pří klady provedení vynálezu
Vynález bude dále popsán pomocí a s odkazy' na níže uvedené příklady a výkresy . Rozumí se, že is tyto příklady slouží pouze k vyjádření charakteristických znaků a výhod vynálezu a nelze je považovat za omezující, pokud jde o rozsah vynálezu.
Údaje uvedené v tomto popisu vynálezu byly získány takto: sypná /objemová/ hmotnost podle Scotta (SBD) prášku byla testována v souladu sc způsobem podle čínské státní normy GB 5060
2ii až 85, velikost prosátého prášku podle Fishera (FSSS) byla testována v souladu se způsobeni podle čínské státní normy GB 3249-82, specifický povrch prášku BET byl testován v souladu se způsobem absorpce dusíku podle BET analyzátorem specifického povrchu ASAP2021 vyrobeného Mieromeritics Corporation a střední velikost částic (D50) prášků, jakož i rozložení velikostí částic prášků bylo testováno laserovým analyzátorem distribucí částic LS-230 vyrobeným firmou
BECKMAN COULTER Corporation po ultrazvukové vlnové vibraci v trvání 70 sekund. Fotografie SEM byly snímány rastrovacím mikroskopem s autoemisní projekcí JSM- 6301 E.
V popisu uvedená roztékavost prášku byla testována s odkazem na způsob ASTM-B-213-90 a distribuce velikosti aglomerovaných částic byla testována podle způsobu ASTM - B-214-86.
5(1
Při testování tantalovýeh a/nebo niobových prášku vyrobených způsobem podle vynálezu byla nejdříve vytvořena anoda z lantalových a/nebo niobových prášků, jak je dále popsáno a pak byly měřeny elektronické vlastnosti anody.
V případě tan tulového prášku byla vylisována peleta ve tvaru pravoúhlého rovnoběžnostěnu (T (délka 2,62 mm x W /šířka/ 2,22 mm) s hustotou 4,5 až 5,6 g/cm' ze 40 mg prášku, poté byla slinována ve vakuové peci při teplotě 1200°C po dobu 20 minul. Slinuté těleso bylo anodicky okysličeno (eloxováno) v 0,1 (obj.) % roztoku H3PO4 při 60 °C pod napětím 16 V stejnosměrného proudu za účelem vytvoření tantalové anody. Kapacita anody vyrobené z. tantalovýeh prášků podle tohoto vynálezu je v rozsahu 50 000 až 200 000 pFV/g a svodový proud anody je menší než 5 nA/pFV.
V případě niobového prášku byla vylisována peleta válcového tvaru (průměr 3,0 mm) s hustotou 2,5 až 3.0 g/cm' ze 100 mg prášku, poté byla slinována ve vakuové peci při teplotě 1150 °C po dobu 20 minut. Slinuté těleso bylo anodicky okysličeno (eloxováno) v OJ (obj.) % roztoku I Ι;ΡΟ4 při 80 °C pod napětím 20 V stejnosměrného proudu za účelem vytvoření niobové anody. Kapacita anody vyrobené z niobových prášků podle tohoto vynálezu je v rozsahu 60 000 až 300 000 pEV/g a svodový proud anody je menší než 5 nA/pEV.
Příklad 1
První stupen (redukce oxidu tantalu): 4 kg Ta2O5, 6 kg MgCE, 6 kg KCL a 3 kg NaCl byly smíchány na homogenní směs. Kelímek, do kterého byla vložena směs a následně přidán navíc 1 kg sodíku, byl vložen do uzavřené reakční nádoby. Uzavřená reakční nádoba byla poté evakuována.
-4 CZ 300132 B6 následně naplněna argonem a poté zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu
800 °C a na této teplotě udržována po dobu 30 minut. Teplota v reakční nádobě byla pote zvýšena na 900 °C a udržována po dobu 30 minut.
> Druhý stupeň (získání tantalového prášku): Když byly reakční produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený tantalový prášek z kelímku vyjmut, rozemlet, promyt neionizovanou vodou za účelem odstranění rozpustných solí a alkalických kovů. vyluhován roztokem kyseliny chlorovodíkové /solné/, pak promýván neionizovanou vodou tak dlouho, dokud pil vody nedosáhlo neutrální hodnoty. Získaný tantalový prášek byl vysušen, proset na sítu se io 100 oky na palec a bylo získáno 2953 gramů tantalového prášku (surového prášku), přičemž výtěžnost tantalu činila 90,15 %. Sypná hmotnost podle Scolla, rozměr částic (FSSS). specifický povrch (BET) a střední velikost částic prášku byla testována s těmito výsledky:
sypna/objemová hmotnost podle Scotta: 1,4 g/cin' velikost částic (FSSS) 0,3 μηι specifický povrch BET 7.2 m“/g střední velikost částic 2,1 μιη
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž byl zjištěn tento obsah prvků O, C,
Fe, Nj. Cr:
O 19 000 ppm
C 120 ppm
Fe 15 ppm
Ni 5 ppm
Cr 5ppm
Třetí stupeň (aglomerace tantalového prášku): Surový prášek získaný v druhém stupni byl dopován fosforem, tepelně zpracován konvenčním způsobem ve vakuové peci pod tlakem nižším než so 5.0 x 10 1 Pa. ochlazený prášek byl vyjmut z pece, rozemlet a proset na sítu se 40 oky na palec.
A takto byl získán aglomerovaný prášek.
Čtvrtý stupeň (dezoxidace tantalového prášku): Do tantalového prášku získaného ve třetím slupni byl přidán práškový hořčík a prášek byl zahříván na teplotu 850 °C a při léto teplotě udržován po *s dobu I hodiny a pak ochlazen na okolní teplotu, vyjmut, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak promýván neionizovanou vodou až do dosažení neutrální hodnoty pi l, načež byl prášek vysušen a proset na sítu se 40 oky na palec.
Fyzikální vlastnosti výše popsaného získaného tantalového prášku byly tyto:
4(1 sypná hmotnost podle Scotta: 2,2 g/cm ’ velikost částic (FSSS) 1.95 μηι specifický povrch BET 2,8 m?/g střední velikost částic 140 μηι
Sítová analýza výše popsaných prášků byla sestavena do následující tabulky 1
Tabulka 1: sítová analýza tantalového prášku
Velikost částic | -40 /+80 ok na palec | -80/+200 ok na palec | -200/+325 ok na palec | -325 /1400 ok na palec | -400 ok na palec |
% | 1,2 | 64,1 | 18,5 | 10,0 | 6,2 |
Roztckavost tantalového prášku: 7 sekund /50g
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah O, C, N, Fe, Ni, Cr, Si, K. Na,
Ca, Mg byl následující: | |
O | 5400 ppm |
C | 100 ppm |
N | 1200 ppm |
Ee | 17 ppm |
Ni | 5 ppm |
Cr | 5 ppm |
K | 3 ppm |
Na | 3 ppm |
Ca | 5 ppm |
Mg | 20 ppm |
Elektrické vlastnosti anody vyrobené z prášku, jako je kapacita, svodový proud jsou uvedeny v tabulce 6.
Příklad 2
První stupen (redukce oxidu tantalu): 10 kg Ta2Os, 15 kg MgCE, 22 kg KCE a 10 kg NaCl bylo vsazeno do relorty vybavené míchadlem. Uzavřená reakční retorta a její vsázka byla cvakuována, následně naplněna argonem a pak zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu 850 °C. až se vytvořila tavná lázeň. Množství 5250 gramů sodíku bylo injektováno do tavné lázně rychlostí přibližně 640 gramů Na/min. zatímco retorta byla chlazena a dále udržována na teplotě přibližně 850 °C. Pak byla teplota retorty zvýšena na 900 °C a na té udržována po dobu 60 min. až byl oxid tantalu kompletně redukován na tantalový prášek.
Druhý stupen (získání tantalového prášku): Když byly reakění produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený tantalový prášek vyprázdněn z retorty . rozemlet, promyt neionizovanou vodou, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak promyt neionizovanou vodou až voda dosáhla neutrální hodnotu pil. Tantalový prášek byl vysušen, proset na sítu s 80 oky na palec. Získáno bylo 7470 gramů tanta lového prášku (surový prášek), přičemž výtěžnost tantalu byla 91.2 %. Sypná hmotnost podle Seotta, rozměr částic (ESSS), specifický povrch (BET) a střední velikost částic prášku byla testována s těmito výsledky:
sy ρ n á h mot nost pod I e Seotta: 0,56 g/cm' velikost částic (FSSS) 0,14 μιη specifický povrch BET 9.72 m2/g střední velikost částic 6,7 pm
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž byl zjištěn následující obsah prvků O,
C, Ee, Ni, Cr:
O | 37 000 ppm |
C | 110 ppm |
Fe | 25 ppm |
Ni | 55 ppm |
Cr | 5 ppm |
Iřetí stupeň (aglomerace tantalového prášku): Surový prášek získaný v druhém stupni byl dopován fosforem, konvenčním způsobem tepelně zpracován ve vakuové peci pod tlakem nižším než
-6 CZ 300132 Bó
5,0 x 10 1 Pa, ochlazený prášek byl vyjmut z pece a proset na sítu se 40 oky na palec. Získán byl aglomerovaný tantalový prášek.
Čtvrtý stupeň (deoxidace tantalového prášku): Do tantalového prášku získaného ve třetím stupni 5 byl přidán práškový hořčík a prášek byl zahříván na teplotu 800 °C a na této teplotě udržován po dobu 1 hodiny a pak ochlazen na okolní teplotu, vysypán, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak prornýván neionizovanou vodou až voda dosáhla neutrální hodnotu pH, dále pak vysušen a proset na sítu se 40 oky na palec, io Fyzikální vlastnosti výše popsaného získaného tantalového prášku byly tyto:
sypná hmotnost podle Scolla: 1,7 g/cm' velikost částic (FSSS) 0,5 μπι specifický povrch BET 3,8 nf/g střední velikost částic 100 μιη
Sítová analýza tantalového práškuje shrnuta do tabulky 2:
2o Tabulka 2: sítová analýza tantalového prášku
Velikost částic | -40 /+80 ok na palec | -80/+200 ok na palec | -200 /+325 ok na palec | -325 /+400 ok na palec | -400 ok na palec |
1 % | 2 2 | 61,1 | 20,1 | 10,5 | 6,1 |
Rozlókavost tantalového prášku: 12 sekund /50g
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah O, C’, N. Fe, Ni. Cr. Si, K, Na, Ca, Mg byl následující:
O C | 10 500 ppm 100 ppm |
N | 1200 ppm |
Fe | 24 ppm |
Ni | 60 ppm |
Cr | 5 ppm |
K | 3 ppm |
Na | 3 ppm |
Ca | 30 ppm |
Mg | 12 ppm |
io Elektrické vlastnosti anody vyrobené z prášku, jakoje kapacita a svodový proud jsou uvedeny v tabulce 6,
Příklad 3 45
První stupeň (redukce oxidu tantalu): 10 kg TaXN, 15 kg MgCh. 22 kg KCL a 10 kg NaCl bylo vsazeno do retorty vybavené míchadlem. Uzavřená reakční retorta a její vsázka byla evakuována, následně naplněna argonem a pak zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu 1050 °C, až se vytvořila tavná lázeň, která byla promíchávána za účelem dosažení homogenní disperze Ta2Os. Sodík v množství 5510 gramů byl injektován do tavné lázně rychlostí přibližné
1020 gramů Na/min., zatímco retorta byla chlazena a dále udržována na teplotě přibližně
1050 °C. Na této teplotě 1050 °C byla retorta udržována po dobu 20 min. tak, že oxid tantalu by I kompletně redukován na tantalový prášek.
Druhý stupeň (získání tantalového prášku): Když byly reakční produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený tantalový prášek vyprázdněn z retorty, rozemlet, promy t neionizovanou vodou, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak promýván neionizovanou vodou, dokud voda dosáhla neutrální hodnotu pH. Tantalový prášek byl vysušen, proset na sítu s 80 oky na palec. Získáno bylo 7510 gramů tantalového prášku (surový prášek), přičemž výtěžnost tantalu byla 91,8 %. Sypná hmotnost podle Seotta, rozměr částic (FSSS), specifický povrch (BET) a to střední velikost částic prášku byla testována s těmito výsledky:
sypná hmotnost podle Seotta: 0,63 g/cm1 velikost částic (ESSS) 0,28 pm specifický povrch BET 7.68 nr/g střední velikost částic 8.6 pm
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah prvků O, C. Fe. Ni, Cr byl následující:
O 21 000 ppm
C 80 ppm
Fe 25 ppm
Ni 65 ppm
Cr 10 ppm
Třetí stupeň (aglomerace tantalového prášku): Surový prášek získaný v druhém stupni byl dopován fosforem, konvenčním způsobem tepelně zpracován ve vakuové peci pod tlakem nižším než 5,0 x 10 1 Pa, ochlazený prášek byl vyprázdněn z pece a proset na sítu se 40 oky na palec. Získán byl aglomerovaný tantalový prášek.
ιθ Čtvrtý stupeň (dezoxidaee tantalového prášku): Do tantalového prášku získaném ve třetím stupni byl přidán práškový hořčík a prášek byl zahříván na teplotu 860 °C a na této teplotě udržován po dobu 1 hodiny a pak ochlazen na okolní teplotu, vyluhován roztokem kyseliny dusičné, pak promýván neionizovanou vodou, až voda dosáhla neutrální hodnotu pl 1, dále pak vysušen při teplotě 80 °C a proset na sítu se 40 oky na palec.
Fyzikální vlastnosti výše popsaného získaného tantalového prášku by ly tyto:
sypná hmotnost podle Seotta: 1,75 g/cm’ velikost částic (FSSS) 2.5 pm specifický povrch BET 2,1 nr/g střední velikost částic 120 pm
Sítová analýza tantalového práškuje shrnuta do tabulky 3:
Tabulka 3: sítová analýza prášku
Velikost částic | -40 /+80 ok na palec | -80 /+200 ok na palec | -200 /+325 ok na palec | -325/+400 Ί ok na palec | -400 ok na palec |
1 % | 2,0 | 49,1 | 19,2 | 18,6 | HJ |
5o Roztékavost tantalového prášku: 9 sekund /50g
-8CZ 300132 B6
Tantalový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah O, C, N, Te. Ni, Cr. Si, K, Na.
Ca, Mg byl následující:
O 6600 ppm
C 80 ppm N 1000 ppm Te 20 ppm
Ni 60 ppm
Cr 5 ppm io K 5 ppm
Na 3ppm Ca 20 ppm
Mg 10 ppm
Elektrické vlastnosti anody vyrobené z prášku, jako je kapacita a svodový proud jsou uvedeny v tabulce 6.
Příklad 4
První stupeň (redukce oxidu niobu): 30 kg CaCF. I kg KCL a 15 kg NaCI bylo vsazeno do retorty vybavené míchadlem. Uzavřená reakční retorta a její vsázka byla evakuována. následně naplněna argonem a pak zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu 500 °C. Dávka 9650 gramů kapalného kovu, sodíku bylo injektováno do retorty. poté byly CaCF, KCE a ?5 NaCI roztaveny k vytvoření tavné lázně a lázeň byla míchána. Dávka 10 kilogramů oxidu niobu (Nb2O$) byla odměřena a dávkována do tavné lázně rychlostí přibližně 850 gramů /min., zatímco retorta byla chlazena, aby se její teplota udržovala na cca 480 °C. Pak byla teplota zvýšena na 750 °C a udržována po dobu 60 min., až byl oxid niobu kompletně redukován na niobový prášek.
Druhý stupeň (získání lantalovcho prášku): Když byly reakční produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený niobový prášek vyprázdněn z retorty, rozemlet, promyt neionizovanou vodou, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak proplachován neionizovanou vodou, až voda dosáhla neutrální hodnotu pH. Niobový prášek byl vysušen, proset na sítu s 80 oky na palec. Získáno bylo 6300 gramů niobového prášku (surový prášek), přičemž výtěžnost niobu byla 90.2 %. Sypná hmotnost podle Seotta, rozměr částic (FSSS), specifický povrch (BET) a střední velikost částic prášku byla testována s těmito výsledky:
sypná hmotnost podle Seotta: 0,54 g/cnT velikost Částic (FSSS) 0,13 pm specifický povrch BET 26,72 m’/g střední velikost částic 5,7 pm
Niobový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah prvků O, C, Fe, Ni, Cr byl následující;
O | 67 000 ppm |
C | 90 ppm |
Fe | 25 ppm |
Ni | 60 ppm |
Cr | 5 ppm |
-9CZ 300132 B6
Příklad 5
První stupeň (redukce oxidu niobu): 4 kg Nb2O5. 6 kg MgCU, 10 kg KCI. a 8 kg NaCI bylo vsazeno do retorty vybavené míchadlem. Uzavřená reakění retorta a její vsázka byla evakuována.
následně naplněna argonem a pak zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu 780 °C. Poté byly CaCI2, KCL a NaCI roztaveny na tavnou lázeň a lázeň byla míchána, až bylo dosaženo homogenní disperze Nb2()s v lázni. Do tavné lázně byla pak injektována dávka 3.5 kilogramů sodíku rychlostí přibližně 520 gramů/min. a přitom byla lázeň chlazena, aby se teplota retorty udržovala na cca 780 °C. Pak byla teplota zvýšena na 860 °C' a udržována po dobu 30 io min. tak. že oxid niobu byl kompletně zredukován na niobový prášek.
Druhý stupeň (získání niobového prášku): Když byly reakění produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený niobový prášek vyprázdněn z retorty. rozemlet, promyt neionizovanou vodou, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak proplachován neionizovanou vodou, až voda dosáhla neutrální hodnotu pH. Niobový prášek byl dále vysušen, proset na sílu s 80 oky na palec. Získáno bylo 2718 gramů niobového prášku (surový prášek). Sypná hmotnost podle Seotta, rozměr ěástic (FSSS), specifický povrch (BE F) a střední velikost ěástic prášku byla testována s těmito výsledky:
sypná hmotnost podle Seotta: 0,46 g/cm1 velikost částic (FSSS) 0,45 μηι specifický povrch BET 24,5 m'/g střední velikost částic 5,8 μιη
Niobové prášky byly podrobeny chemické analýze, přičemž obsah prvků O, C, Fe, Ni, Cr byl shledán následující:
O 6,5 %
C 90 ppm
Fe 50 ppm Ni <50 ppm Cr <50 ppm
Třetí stupeň (deoxidaee niobového prášku ): Surový prášek v množství 2000 gramů získaný v druhém slupni byl dopován fosforem, přidán byl hořčík a smíchán se 3 kg KCL, dále ohřát na teplotu 840 °C a udržován po dobu l h v inertní atmosféře obsahující plyny argon a dusík. Poté byl prášek ochlazen na okolní teplotu a vyluhován kyselinou solnou a proplachován neionizovanou vedou, až její pi l dosáhlo neutrální hodnoty a dále sušen a proset na sítu se 40 oky na palec. Byl získán deoxidovaný niobový prášek, jehož vlastnosti byly následující:
sypná hmotnost podle Seotta: I, l g/enT velikost částic (FSSS) 2,5 μιη specifický povrch BE F 5,6 m7g střední velikost částic 100 μηι
Sítová analýza práškuje shrnuta do tabulky 4:
Tabulka 4: sílová analýza prášku
! Velikost í částic | -40 /+80 ok na palec | -80 /<200 ok na palec | -200/+325 ok na palec | -325 /+400 ok na palec | -400 j ok na palec |
L% | 5,0 | 5 i,4 | 18,9 | 10,6 | 13,9 |
- IOCZ 300132 B6
Roztékavost tantalového prášku: 17 sekund /50g
Niobový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah O. C, N, Le. Ni. Cr. Si, K, Na,
Ca, Mg byl následující | |
O | 11 000 ppm |
C | 130 ppm |
N | 7300 ppm |
Fe | 60 ppm |
Ni Cr | <50 ppm <50 ppm |
K | 15 ppm |
Na | 18 ppm |
Ca | 80 ppm |
Mg | 14 ppm |
Elektrické vlastnosti anody vyrobené z prášku, jako je kapacita a svodový proud jsou uvedeny v tabulce 7.
2(1
Přiklad 6
První stupeň (redukce oxidu niobu): 3 kg Nb>()>, 12 kg CaCE. bylo vsazeno do retorty vybavené míchadlem. Uzavřená reakční retorta a její vsázka byla evakuována, následně naplněna argonem a pak zahřívána elektrickými odporovými topnými tělesy na teplotu 860 °C. Poté byl CaCh. roztaven, míchán v lázni až se dosáhlo homogenní disperze NbO> v tavné lázni. Dávka 2.9 kilogramů sodíku byla injektována do tavné lázně rychlostí přibližně 680 gramů/min, a přitom byla lázeň chlazena, aby teplota retorty byla udržována na cca 860 °C. Retorta byla udržována při teplotě 860 °C po dobu 30 min. až byl oxid niobu kompletně redukován na niobový prášek.
Druhý stupeň (získání niobového prášku): Když byly reakční produkty získané v prvním stupni ochlazeny na teplotu okolí, byl vyrobený niobový prášek vyjmut z retorty, rozemlet, prornyt neionizovanou vodou, vyluhován roztokem kyseliny solné, pak proplaehován neionizovanou vodou, až voda dosáhla neutrální hodnotu pH. Niobový prášek byl dále vysušen, prosel na sítu s 80 oky na palec. Získáno bylo 1901 gramů niobového prášku (surový prášek). Sypná hmotnost podle Scotta, rozměr částic (FSSS), specifický povrch (BET) a střední velikost částic prášku byla testována s těmito výsledky:
sypná hmotnost podle Scotta: 0,48 g/cm'1 velikost částic (FSSS) 0.49 pm specifický povrch BET 21,5 m”/g střední velikost částic 6,8 pm
Niobový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah prvku O, C, Fc, Ni, C'r byl shle45 dán následující:
O 9,0 %
C 100 ppm Fe 50 ppin
Ni <50 ppm Cr <50 ppm
Třetí stupeň (deoxidace niobového prášku ): Surový prášek v množství 2000 gramů získaný v druhém stupni byl dopován fosforem, přidán byl hořčík a smíchán se 2 kg KCL, ohřát na 840 °C a udržován po dobu 1 h atmosféře obsahující plyny argon a dusík. Poté byl prášek ochlazen na
-11CZ 300132 B6 okolní teplotu, vyjmut z retorty a vyluhován kyselinou solnou a proplač li ován neionizovanou vodou až její pH dosáhlo neutrální hodnoty a dále sušen a proset na sílu se 40 oky na palec. Byl získán deoxidovaný niobový prášek, jehož vlastnosti byly následující:
sypná hmotnost podle Scotta: 1,2 g/cm' velikost částic (FSSS) 2,6 μηι specifický povrch BET 4,9 m'/g střední velikost částic 120 μηι io Sítová analýza práškuje shrnuta do tabulky 5:
Tabulka 5: sítová analýza prášku z příkladu 6
Velikost | -40 /+80 | -80 /+200 | -200 /+325 | -325/+400 | -400 |
částic | ok na palec | ok na palec | ok na palec | ok na palec | ok na palec |
0/ /0 | 5,5 | 51,0 | 20 J | 10,4 | 13,0 |
Roztékavost tantalového prášku: 16 sekund /50g
Niobový prášek byl podroben chemické analýze, přičemž obsah O, C, N. Fe, Ni. Cr. Si, K, Na, 20 Ca. Mg byl následující:
O 10 000 ppm C 130 ppm
N 900 ppm
Fe 60 ppm
Ni <50 ppm
Cr <50 ppm
K 11 ppm
Na 10 ppm
3a Ca 80 ppm
Mg 25 ppm
Elektrické vlastnosti anody vyrobené z prášku, jako je kapacita a svodový proud, jsou uvedeny v tabulce 7.
Tabulka 6 Elektrické vlastnosti Ta prášků (slinutých při 1200 °C/20 min.; OJ (obj.) % IEP()4 60 °C)
Vzorek | DCL (svodový proud) nA/CV | čv μΡν/g | tg δ % | Syrová hustota g/cc | Slinutá hustota g/cc |
příklad 1 | 0,95 | 112580 1 | 67,4 | 5,60 | 5,95 |
příklad 2 | 1,51 | 155800 | 72,6 | 4,75 | 5.16 |
příklad 3 | 0,45 | 102300 | 50,2 | 5,60 | 5,80 |
Tabulka 7 Elektrické vlastnosti Nb prášků (slinutých při 1150 °C/20 min.; 0,5 (obj.) % H?PO| °C)
1 Vzorek 1 | DC L ! nA/CV í | cv μ FV /g | tg δ Ί % | Syrová hustota g/ec | Slinutá 1 hustota g/cc |
příklad 5 | 1.30 | 135000 | 70,3 ’ | 2,50 1 | 2,61 |
přiklad 6 | 1,41 | 126500 | 85.1 | 2,50 | 2,7 i 1 |
Jak jc výše popsáno, spočívají výhody tohoto vynálezu v tom. že kombinací tantalových a/nebo niobových prášků o velkém specifickém povrchu a vysoké čistotě lze vyrábět s vysokým výtěžkem. přičemž aglomerovanc prášky mají vysokou roztekavost a anoda vyrobená z těchto prášků io se vyznačuje vysokou kapacitou a nízkým svodovým stejnosměrným proudem.
Ostatní provedení tohoto vynálezu vyplynou odborníkovi znalého oboru při prostudování popisu a praktických příkladů tohoto vynálezu. Záměrem je, aby popis a příklady byl\ považovány pouze za příkladné, přičemž skutečný rozsah a podstata tohoto vynálezu jc následně nárokována.
Claims (10)
- PATENTOVÉ NÁROKY
- 2l)1. Způsob výroby tantalových a/nebo niobových prášků s vysokým specifickým povrchem redukcí příslušného oxidu tantalu a/nebo niobu, vyznačující se t í m . že redukce se provádí reakcí oxidů tantalu a/nebo niobu s nejméně jedním halogenidem kovu a alkalickým kovem25 při zvýšené teplotě, při které se vytváří tantalový a/nebo niobový prášek, přičemž uvedený nejméně jeden halogenid kovu je vybrán ze skupiny halogenidů Mg, Ca, Sr, Ba a Ce.2. Způsob podle nároku EvyznaČující se t í m , žc při redukční reakcí se dále použije nejméně jeden alkalický halogenid kovu jako ředidlo.to
- 3. Způsob podle nároku 1 nebo 2. vyznačující s c t í ni, že do reaktoru se vloží nejméně jeden z uvedených halogenidů kovu vybraný ze skupiny obsahující halogenidy Mg, Ca. Sr, Ba a Ce, dále alkalický kov, oxidy tantalu a/nebo niobu, a podle volby nejméně jeden další halogenid alkalického kovu, a reaktor se zahřeje na dostatečně vysokou teplotu, při které sc oxidy35 tantalu a/nebo niobu redukují na tantalové a/nebo niobové prášky.
- 4. Způsob podle nároku 1 nebo 2. vyznačující s c t í m , že do reaktoru se vloží nejméně jeden z uvedených halogenidů kovu vybraný ze skupiny obsahující halogenidy Mg, Ca. Sr, Ba a Ce, a případně nejméně jeden další halogenid alkalického kovu. reaktor se zahřeje na zvýše+0 nou teplotu, při které se vytvoří tavící lázeň a pak se do lavicí lázně odměří požadované množství oxidů tantalu a/nebo niobu a alkalického kovu. a teplota reaktoru se řídí tak, aby oxidy tantalu a/nebo niobu byly redukovány na tantalový a/nebo niobový prášek.
- 5. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že zvýšená teplota t5 redukce je v rozsahu 400 až 1200 °C.
- 6. Způsob podle kteréhokoli nároku 5. vyznačující se t í ni, že zvýšená teplota redukce je v rozsahu 600 až 1000 °C.- 13 CZ 300132 Bó
- 7. Způsob podle kteréhokoli nároků 1 až 4, vy zn a č u j í c í se t í m , žc alkalickým kovem je sodík nebo draslík a množství použitého alkalického kovu činí 1,0 až 1,3 násobek stechíometrického množství pro redukci oxidů lantalu a/nebo niobu.5
- 8. Způsob podle kteréhokoli nároků 1 až 7, v y z n a č u j í c í se t í m , že molové množství použitého halogenidu kovu vyhraného zc skupiny obsahující halogenidy Mg, Sr. Ba a Ce činí 0,5 až 8,0 násobek molovcho množství použitého alkalického kovu.
- 9, Způsob podle kteréhokoli nároků 1 až4. vy z n a č u j í c í se t í m . že oxidy tantalu ío a/nebo niobu jsou vybrány z oxidů tantalu s valencí pět nebo menší, oxidy niobu s valencí pět nebo menší nebo z jejich směsi.
- 10. Způsob podle kteréhokoli nároků 1 až 4, v y z n a ě u j í e í se tím. že při redukční reakci a/nebo během reakce a/nebo po redukční reakci se do výše uvedených výchozích použili tých materiálů přidává dopující příměs obsahující N. P, S, B nebo Si,
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB011353252A CN1169643C (zh) | 2001-09-29 | 2001-09-29 | 高比表面积钽粉和/或铌粉的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ2004547A3 CZ2004547A3 (cs) | 2005-01-12 |
CZ300132B6 true CZ300132B6 (cs) | 2009-02-18 |
Family
ID=4673123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ20040547A CZ300132B6 (cs) | 2001-09-29 | 2002-09-29 | Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6786951B2 (cs) |
JP (1) | JP4756825B2 (cs) |
KR (1) | KR100785153B1 (cs) |
CN (1) | CN1169643C (cs) |
AU (1) | AU2002335301A1 (cs) |
CZ (1) | CZ300132B6 (cs) |
DE (1) | DE10297448B4 (cs) |
GB (1) | GB2396161B (cs) |
IL (2) | IL161076A0 (cs) |
WO (1) | WO2003068435A1 (cs) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014044233A1 (en) | 2012-09-19 | 2014-03-27 | Vysoké učeni technické v Brně | Method of preparation of magnetically conductive powders by cavitation and device to carry out the method |
CZ306436B6 (cs) * | 2006-05-05 | 2017-01-25 | Cabot Corporation | Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6375704B1 (en) * | 1999-05-12 | 2002-04-23 | Cabot Corporation | High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes |
US7149074B2 (en) * | 2001-04-19 | 2006-12-12 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide |
JP3610942B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2005-01-19 | 住友金属鉱山株式会社 | ニオブおよび/またはタンタルの粉末の製造法 |
DE10332033A1 (de) | 2003-07-15 | 2005-02-03 | Chemetall Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Metallpulvern, bzw. von Metallhydridpulvern der Elemente Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta und Cr |
TW200519993A (en) * | 2003-11-10 | 2005-06-16 | Showa Denko Kk | Niobium powder for capacitor, niobium sintered body, and capacitor |
JPWO2005046912A1 (ja) * | 2003-11-12 | 2007-05-31 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 金属タンタルもしくはニオブの製造方法 |
DE102004020052B4 (de) | 2004-04-23 | 2008-03-06 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Niob- und Tantalpulver |
EP1761352B1 (en) * | 2004-06-24 | 2008-08-13 | H.C. Starck Inc. | Production of valve metal powders with improved physical and electrical properties |
US20080011124A1 (en) * | 2004-09-08 | 2008-01-17 | H.C. Starck Gmbh & Co. Kg | Deoxidation of Valve Metal Powders |
US7431751B2 (en) * | 2004-09-29 | 2008-10-07 | H.C. Starck Inc. | Magnesium removal from magnesium reduced metal powders |
DE102004049039B4 (de) * | 2004-10-08 | 2009-05-07 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Ventilmetallpulver |
DE102004049040B4 (de) * | 2004-10-08 | 2008-11-27 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytkondensatoren |
US7594937B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-09-29 | Showa Denko K.K. | Porous anode body for solid electrolytic capacitor, production method thereof and solid electrolytic capacitor |
WO2006089222A2 (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Nanomat, Inc. | Metal nano-powder compositions and methods for preparing same |
KR100684416B1 (ko) * | 2005-07-29 | 2007-02-16 | 한국원자력연구소 | 커패시터용 탄탈 또는 니오븀 분말의 제조방법 |
KR100964565B1 (ko) * | 2005-09-29 | 2010-06-21 | 닝시아 오리엔트 탄탈럼 인더스트리 코포레이션 엘티디 | 금속 입자의 구형 입상화 및 응집화 방법 및 상기 방법으로제조된 금속 입자, 상기 금속 입자로부터 제조된 애노드 |
US20070295609A1 (en) * | 2006-06-23 | 2007-12-27 | Korea Atomic Energy Research Institute | Method for preparing tantalum or niobium powders used for manufacturing capacitors |
CN101182602B (zh) * | 2006-11-14 | 2010-04-14 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 粉末冶金用钽和/或铌粉末及其制备方法 |
CN100577574C (zh) | 2007-08-25 | 2010-01-06 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 低价氧化铌或铌粉的制备方法 |
JP4868601B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2012-02-01 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
JP2009164412A (ja) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Kobe Steel Ltd | 多孔質金属薄膜およびその製造方法、ならびにコンデンサ |
CN100528418C (zh) * | 2008-01-11 | 2009-08-19 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 含氮均匀的阀金属粉末及其制造方法,阀金属坯块和阀金属烧结体以及电解电容器的阳极 |
CN101491834B (zh) * | 2009-03-05 | 2012-06-20 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钽粉的制备方法 |
CN101574741B (zh) * | 2009-06-25 | 2011-05-18 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 电容器用钽粉的制备方法 |
RU2416493C1 (ru) * | 2009-12-15 | 2011-04-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" | Способ получения порошков редких металлов |
CN102191389B (zh) * | 2011-04-19 | 2013-09-25 | 潘伦桃 | 钠还原氟钽酸钾产物的水洗方法 |
WO2012158592A2 (en) * | 2011-05-16 | 2012-11-22 | Boston Electronic Materials, Llc | Manufacturing and applications of metal powders and alloys |
WO2013006600A1 (en) * | 2011-07-05 | 2013-01-10 | Orchard Material Technology, Llc | Retrieval of high value refractory metals from alloys and mixtures |
JP2016516124A (ja) * | 2013-02-26 | 2016-06-02 | ニンシア オリエント タンタル インダストリー カンパニー、 リミテッド | コンデンサ・グレードのタンタル・ニオブ合金ワイヤ用の粉末材料及びその調製方法 |
US10190191B2 (en) | 2013-08-19 | 2019-01-29 | University Of Utah Research Foundation | Producing a titanium product |
JP6568104B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2019-08-28 | ザ ユニバーシティ オブ ユタ リサーチ ファウンデイション | 実質的に球状の金属粉末の製造 |
US10290430B2 (en) | 2014-11-24 | 2019-05-14 | Avx Corporation | Wet Electrolytic Capacitor for an Implantable Medical Device |
JP2018502218A (ja) * | 2014-12-02 | 2018-01-25 | ザ ユニバーシティ オブ ユタ リサーチ ファウンデイション | 粉末金属の溶融塩による脱酸素 |
US9786440B2 (en) | 2014-12-17 | 2017-10-10 | Avx Corporation | Anode for use in a high voltage electrolytic capacitor |
US10245642B2 (en) * | 2015-02-23 | 2019-04-02 | Nanoscale Powders LLC | Methods for producing metal powders |
CN107427925A (zh) * | 2015-06-03 | 2017-12-01 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种微细钽粉及其制备方法 |
CN105458284B (zh) * | 2015-11-27 | 2018-01-02 | 王娜 | 一种熔盐中金属热还原合成纳米硬质合金粉末的方法 |
RU2649099C2 (ru) * | 2016-06-27 | 2018-03-29 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр "Кольский научный центр Российской академии наук" (ФИЦ КНЦ РАН) | Способ получения порошка вентильного металла |
US10832871B2 (en) | 2016-11-14 | 2020-11-10 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for an implantable medical device |
US10737101B2 (en) | 2016-11-14 | 2020-08-11 | Avx Corporation | Medical device containing a solid electrolytic capacitor |
US10431389B2 (en) | 2016-11-14 | 2019-10-01 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for high voltage environments |
WO2019113055A1 (en) | 2017-12-05 | 2019-06-13 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor for an implantable medical device |
KR102355131B1 (ko) * | 2018-03-23 | 2022-01-25 | 충남대학교산학협력단 | 수소화물 매개 금속 열 환원 공정에 의한 금속 나노분말 제조 방법 |
KR102359159B1 (ko) * | 2019-12-30 | 2022-02-08 | 충남대학교산학협력단 | 연소 반응을 이용한 금속 나노분말 제조방법 |
US10907239B1 (en) | 2020-03-16 | 2021-02-02 | University Of Utah Research Foundation | Methods of producing a titanium alloy product |
US12119186B2 (en) | 2020-04-03 | 2024-10-15 | Greatbatch Ltd. | Electrolytic capacitor having an anode formed from a tantalum powder with a relatively low specific charge |
US11450486B2 (en) | 2020-04-03 | 2022-09-20 | Greatbatch Ltd. | Electrolytic capacitor having a tantalum anode |
CN113500204A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-15 | 安徽理工大学 | 一种氯化钙熔盐中钙热还原氯化铌制备细微铌粉的方法 |
CN114192791B (zh) * | 2021-12-15 | 2023-10-24 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 采用碱土金属还原氧化钽生产电容器用钽粉的方法 |
CN114210973B (zh) | 2021-12-15 | 2023-03-24 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种钽粉的生产方法以及由该方法得到的钽粉 |
CN115570127B (zh) * | 2022-10-11 | 2023-07-21 | 江门富祥电子材料有限公司 | 一种钽粉的制备方法 |
KR20250078344A (ko) | 2023-11-24 | 2025-06-02 | 경상국립대학교산학협력단 | 고전도성 및 흡광성을 갖는 탄탈럼 옥시아이오다이드 및 이의 제조 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3012877A (en) * | 1958-06-20 | 1961-12-12 | Nat Distillers Chem Corp | Method of producing columbium and tantalum |
JPS60145304A (ja) * | 1984-01-09 | 1985-07-31 | Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk | タンタル粉末の製造法 |
WO1991018121A1 (en) * | 1990-05-17 | 1991-11-28 | Cabot Corporation | Method of producing high surface area low metal impurity tantalum powder |
DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5014604B1 (cs) * | 1970-12-24 | 1975-05-29 | ||
US3803257A (en) * | 1973-06-14 | 1974-04-09 | Texaco Inc | Olefin treatment by solvent extraction |
US4009007A (en) * | 1975-07-14 | 1977-02-22 | Fansteel Inc. | Tantalum powder and method of making the same |
US4149876A (en) * | 1978-06-06 | 1979-04-17 | Fansteel Inc. | Process for producing tantalum and columbium powder |
US4445931A (en) * | 1980-10-24 | 1984-05-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Production of metal powder |
DE3140248C2 (de) * | 1981-10-09 | 1986-06-19 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verwendung von dotiertem Ventilmetallpulver für die Herstellung von Elektrolytkondensatoranoden |
DE3330455A1 (de) * | 1983-08-24 | 1985-03-14 | GfE Gesellschaft für Elektrometallurgie mbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur herstellung von ventilmetallpulver fuer elektrolytkondensatoren und dergleichen |
US4508563A (en) * | 1984-03-19 | 1985-04-02 | Sprague Electric Company | Reducing the oxygen content of tantalum |
US6171363B1 (en) * | 1998-05-06 | 2001-01-09 | H. C. Starck, Inc. | Method for producing tantallum/niobium metal powders by the reduction of their oxides with gaseous magnesium |
CN1069564C (zh) * | 1998-07-07 | 2001-08-15 | 宁夏有色金属冶炼厂 | 钽粉末的制造方法 |
JP3610942B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2005-01-19 | 住友金属鉱山株式会社 | ニオブおよび/またはタンタルの粉末の製造法 |
-
2001
- 2001-09-29 CN CNB011353252A patent/CN1169643C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-09-29 IL IL16107602A patent/IL161076A0/xx unknown
- 2002-09-29 KR KR1020047004466A patent/KR100785153B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-29 AU AU2002335301A patent/AU2002335301A1/en not_active Abandoned
- 2002-09-29 WO PCT/CN2002/000700 patent/WO2003068435A1/zh active Application Filing
- 2002-09-29 DE DE10297448T patent/DE10297448B4/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-29 CZ CZ20040547A patent/CZ300132B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2002-09-29 GB GB0407844A patent/GB2396161B/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-29 JP JP2003567609A patent/JP4756825B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-30 US US10/262,229 patent/US6786951B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-03-25 IL IL161076A patent/IL161076A/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3012877A (en) * | 1958-06-20 | 1961-12-12 | Nat Distillers Chem Corp | Method of producing columbium and tantalum |
JPS60145304A (ja) * | 1984-01-09 | 1985-07-31 | Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk | タンタル粉末の製造法 |
WO1991018121A1 (en) * | 1990-05-17 | 1991-11-28 | Cabot Corporation | Method of producing high surface area low metal impurity tantalum powder |
DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ306436B6 (cs) * | 2006-05-05 | 2017-01-25 | Cabot Corporation | Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru |
WO2014044233A1 (en) | 2012-09-19 | 2014-03-27 | Vysoké učeni technické v Brně | Method of preparation of magnetically conductive powders by cavitation and device to carry out the method |
US9925590B2 (en) | 2012-09-19 | 2018-03-27 | Vysoke Uceni Technicke V Brne | Method of preparation of magnetically conductive powders by cavitation and device to carry out the method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2396161A (en) | 2004-06-16 |
DE10297448T5 (de) | 2004-10-14 |
AU2002335301A1 (en) | 2003-09-04 |
KR20050009274A (ko) | 2005-01-24 |
CN1410209A (zh) | 2003-04-16 |
JP4756825B2 (ja) | 2011-08-24 |
IL161076A (en) | 2010-04-29 |
JP2005517091A (ja) | 2005-06-09 |
GB0407844D0 (en) | 2004-05-12 |
CN1169643C (zh) | 2004-10-06 |
CZ2004547A3 (cs) | 2005-01-12 |
US20030110890A1 (en) | 2003-06-19 |
WO2003068435A1 (fr) | 2003-08-21 |
US6786951B2 (en) | 2004-09-07 |
DE10297448B4 (de) | 2008-09-25 |
KR100785153B1 (ko) | 2007-12-11 |
IL161076A0 (en) | 2004-08-31 |
GB2396161B (en) | 2004-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ300132B6 (cs) | Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem | |
US5448447A (en) | Process for making an improved tantalum powder and high capacitance low leakage electrode made therefrom | |
US5234491A (en) | Method of producing high surface area, low metal impurity | |
JP4187953B2 (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JP5638010B2 (ja) | 金属粉末の製造方法 | |
JP2002206105A (ja) | タンタル粉末の製法、タンタル粉末およびタンタル電解コンデンサ | |
US4356028A (en) | In situ phosphorus addition to tantalum | |
WO1991018121A1 (en) | Method of producing high surface area low metal impurity tantalum powder | |
US9607770B2 (en) | Method for producing capacitor | |
JP2002030301A (ja) | 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサ | |
JP6077274B2 (ja) | 窒素含有タンタル粉末およびその製造方法 | |
JP2688452B2 (ja) | 高表面積、低金属不純物のタンタル粉末の製造方法 | |
JP2019163542A (ja) | タンタル粉末及びその製造方法並びにタンタル粉末から製造される焼結アノード | |
RU2284248C1 (ru) | Способ получения порошка вентильного металла | |
JP6258222B2 (ja) | ニオブコンデンサ陽極用化成体及びその製造方法 | |
AU2005281918A1 (en) | Deoxidisation of valve metal powders | |
JP2008095200A (ja) | 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサ | |
KR101616559B1 (ko) | 탄탈륨 분말의 제조방법 | |
JP2009275289A (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JP2016166422A (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JPWO2006062234A1 (ja) | 金属粉末および多孔質焼結体の製造方法、金属粉末、およびコンデンサ | |
JP2013136841A (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JP2014218748A (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JP2004339567A (ja) | タンタルおよび/またはニオブの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK4A | Patent expired |
Effective date: 20220929 |