CZ301097B6 - Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody - Google Patents
Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody Download PDFInfo
- Publication number
- CZ301097B6 CZ301097B6 CZ0296199A CZ296199A CZ301097B6 CZ 301097 B6 CZ301097 B6 CZ 301097B6 CZ 0296199 A CZ0296199 A CZ 0296199A CZ 296199 A CZ296199 A CZ 296199A CZ 301097 B6 CZ301097 B6 CZ 301097B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- ppm
- tantalum
- anodes
- powder
- magnesium
- Prior art date
Links
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 71
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims abstract description 8
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 21
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 15
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229910000095 alkaline earth hydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 28
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 25
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 20
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 229910012375 magnesium hydride Inorganic materials 0.000 description 11
- -1 magnesium hydrides Chemical class 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 9
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 9
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJWUULVPYAMRCJ-UHFFFAOYSA-N [N].[O].[P] Chemical compound [N].[O].[P] SJWUULVPYAMRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N ammonium phosphates Chemical class [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])([O-])=O ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 235000019788 craving Nutrition 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I manganese(3+) 5,10,15-tris(1-methylpyridin-1-ium-4-yl)-20-(1-methylpyridin-4-ylidene)porphyrin-22-ide pentachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mn+3].C1=CN(C)C=CC1=C1C(C=C2)=NC2=C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)C([N-]2)=CC=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C(C=C2)N=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C2N=C1C=C2 OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- VHEXHOUECVNIQQ-UHFFFAOYSA-L potassium sodium chloride fluoride Chemical compound [F-].[Na+].[Cl-].[K+] VHEXHOUECVNIQQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
- H01G9/0525—Powder therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/20—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from solid metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/045—Alloys based on refractory metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
Tantalové prášky prosté alkálií a fluoru, s velikostí primárních zrn 50 až 300 nm a s velikostí sekundárních zrn vzniklých slinutím primárních cástic, nad 10 .mi.m, ze kterých se mohou slinováním pri 1200 .degree.C po dobu 10 minut a formování napetím 16 až 30 V získat slinuté anody se specifickým nábojem až 80 000 až 170 000 .mi.mFV/g. Pri zpusobu výroby tantalových prášku se smes chloridu tantalu a hydridu alkalických zemin nechá reagovat po zapálení v atmosfére inertního plynu, a vzniklý cástecne slinutý porovitý reakcní produkt se rozdrtí, promyje minerálními kyselinami a usuší se.
Description
Vynález se týká tantalového prášku sestávajícího z aglomerátů, lisovaných nebo slinutých anod získaných z tohoto tantalového prášku, jakož i způsobu výroby tohoto tantalového prášku.
ío Dosavadní stav techniky
Kovový práškový tantal se obvykle vyrábí redukcí K?TaF7 sodíkem. Fyzikální vlastnosti práškových tantalů, jako je například velikost zrna, nebo specifický povrch, se řídí přidáním inertních solí, jako je například KCI, NaCl, NaF. Se stoupajícím podílem inertních solí se výsledný prášíš kový tantal zjemňuje, to znamená, že se tím zvětšuje výsledný povrch kovu. Výkonnost výroby kovového tantalu však se stoupající koncentrací inertních solí klesá.
Po vymytí solí se práškový tantal suší a podrobí se dalšímu čištění zpracováním za vysoké teploty ve vakuu, nebo v atmosféře inertního plynu. Při této aglomeraci se specifický povrch výraz20 ně zmenšuje a obsah kyslíku v prášku se značně zvyšuje. Ten se tepelným zpracováním pomocí redukčně působících kovů, zejména hořčíku, opět odbourá. Dalším důsledkem této desoxidace (těchto desoxidací) je mírné zmenšení povrchu. Pro optimalizaci elektrických vlastností kondenzátorů, vyrobených z těchto práškových tantalů, se do práškového tantalu přidávají dotující přísady, obsahující fosfor, a/nebo bor.
Elektrické vlastnosti práškových tantalů, jako je specifický náboj, nebo svodový proud, se zkoušejí na lisované, slinované a pak anodicky oxidované, to znamená formované anodě. Specifický náboj, vyjádřený v pFV/g, je mírou kapacity kondenzátorů a chová se přímo uměmě k povrchu kovu. Svodový proud, vyjádřený v nA/pFV, je indikátorem toho, jak dobře udrží kondenzator svůj náboj.
Při obvyklé technicky prováděné redukci K2TaF7 sodíkem v solné tavenině se hospodárně vyrábějí kondenzátorové prášky se specifickými náboji od 18 000 do 70 000 pFV/g. Pro docílení kondenzátorů s vysokou kapacitou potřebný tantalový prášek s malou velikostí primárních Částic je potřebné, provádět redukci K7TaF7 sodíkem ve větším zředění (zřeďovací soli KCI, KF, NaCl), která vede k menším aglomerátům (velikost sekundárních částic 1 až 5 pm při velikosti primárních Částic 0,3 pm). Malé rozměry aglomerátů vyvolávají potřebu tepelné aglomerace práškového tantalu (předsunování), při které se jednak odstraní nežádoucí nečistoty, jednak se ale dále sníží specifický povrch. Pórovitá struktura aglomerátů, výhodná pro výrobu kondenzátorů, jíž se po formování získají kondenzátory s nízkým svodovým proudem, se sice zachová, ale dociluje se teprve několikanásobným předšli nováním s rozmělňováním agregátů odtahováním mezi procesy slinování. Práškové tantaly pro kondenzátory s nejvyšší kapacitou jsou popisovány v DE 195 36 013 Al. U slinutých anod z nich vyrobených při upuštění od jinak obvyklých tepelných aglomeračních kroků byly docíleny specifické náboje až 91 810 pFV/g. Tyto práškové tantaly vykazují rušivé nečistoty, jako je například fluorid, v koncentracích > 100 ppm. Část vysokého obsahu fluoridu se odbourává při slinování anod. Při tom uvolněné fluoridy vyvolávají ve sl inovacích pecích tepelné koroze. Fluorid, zbývající vtantalové anodě, pravděpodobně vyvolává značné zvýšené svodové proudy. Tak práškový tantal, vyrobený podle příkladu 6 z DE 195 36 013 Al, má obsah F 460 ppm a obsah Mg 200 ppm. Dále mají tyto prášky nevýhodu so v tom, že jejich sypná hustota je příliš nízká a mez pevnosti z nich vylisovaných anod je proti běžně dostupných práškům příliš nízká. Proto tyto prášky dosud nedosáhly technického významu. Dále mají tyto prášky nevýhodu v tom, že ještě obsahují zbytková množství alkalií, které značně zhoršují svodové proudy, i když jejich množství je v oblasti ppm.
Velmi jemnozmné prášky se získávají redukcí TaCls vodíkem v plynné fázi. Při tom se získají již netekoucí, v podstatě diskrétní prášky. V důsledku technicky obtížného zpracování tyto prášky do technologie kondenzátorů nepronikly.
Úkolem vynálezu je poskytnout práškový tantal, který nemá uvedené nevýhody. Dalším úkolem tohoto vynálezu je poskytnout hospodárný způsob výroby práškového tantalu s nejvyššími kapacitami.
Podstata vynálezu
Nyní se zjistilo, že zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku se získají již předslinuté velmi jemnozmné tantalové prášky sestávající z aglomerátů, které jsou velmi vhodné pro výrobu vysokokapacitních kondenzátorů. V důsledku rychle probíhající reakce, která je ukončena již po několika minutách, vznikají i bez použití zřeďovacích solí velmi malé primární částice s typickými velikostmi od 50 do 300 nm, které se v důsledku vysokého podílu tantalu v reakční směsi dostávají do styku, a během krátké reakční doby se díky své vysoké sl inovací aktivitě slinují. Vzniká pěnovitý, částečně slinutý koláč s otevřenými póry, z něhož se rozdrcením a proseváním získají výtečně tekoucí aglomeráty se střední velikostí sekundárních částic od 10 do 50 pm nebo více, které po promytí a usušení vykazují velmi vysoké specifické povrchy od 1,5 do i 0 m3/g podle BET,
V souladu s výše uvedeným je předmětem předkládaného vynálezu způsob výroby tantalového prášku zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku v atmosféře zemního plynu a následné vymývání produktu minerálními kyselinami.
Reakce homogenizované směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku se výhodně provádí v tantalové redukční nádobě. Dále se při tom výhodně do homí vrstvy této homogenizované směsi uloží tenký tantalový drát jako zápalka, který se zvláště elegantně přechodně spojí s vnějším zdrojem nízkého napětí a rozžhaví se do červena. Toto zápalné uspořádání se vloží do ochranné komory, proplachované argonem. Po ochladnutí se reakční produkt, který je v důsledku silně exotermní reakce rozpálen do bělá, a který je ve formě částečně slinutého pórovitého koláče, rozdrtí na hrubo, promyje minerálními kyselinami a usuší. Jako promývací kapalina se výhodně použije roztok kyseliny sírové a peroxidu vodíku. Promývání pokračuje tak dlouho, až je promývací voda prostá chloridů.
Množstevní poměr výchozích látek pro reakční směs není kritický, protože pro redukci jsou k dispozici jak hořčík, tak i vodík po odštěpení z hydridů hořčíku. Najeden mol pentachloridu se v souladu stím mohou použít 1,25 až 3 moly hydridů hořčíku. V důsledku nízké teploty varu chloridu tantaličného a nízké rozkladné teploty hydridů hořčíku se vsak při nízkém molovém poměru výchozích surovin pozorují ztráty na výtěžku. Proto je výhodný molový poměr chloridu tantaličného k hydridů hořčíku 2 až 3. Při tom se docilují výtěžky od 80 do 90 % na použitý tantal. Očekává se, že se výtěžky mohou ještě dále zvýšit, když reakce proběhne pod tlakem, například v autoklávu.
Jako redukční prostředek se výhodně používá hydrid hořčíku o vzorci MgHx, kde x je větší než 1,2, obzvláště výhodně větší než 1,6.
Pomocí vynálezu se poprvé získaly tantalové prášky, tvořené slinutými primárními částicemi, kde primární částice mají velikost od 30 do 300 nm, výhodně od 30 do 150 nm, obzvláště výhodně méně než 100 nm, a kde slinutím primárních částic získané sekundární částice vykazují velikost D-50 nad 10 pm, výhodně nad 13 pm.
Hodnota 0-50 představuje „střední průměr částic“ a značí, že 50 % částic leží nad a 50 % částic leží pod uvedenou hodnotou. Když je D-50 větší než 10 pm, znamená to, že může být střední průměr částic např. 11 pm. To opět znamená, že 50 % částic má průměr větší než 11 pm, druhých 50 % Částic má průměr, který je menší než 11 pm. Hodnota D-50 se při tom stanovuje po ošetření ultrazvukem po dobu 15 minut k desaglomeraci metodou Mastersizer podle ASTM B 822.
V důsledku struktury sekundárních částic prášků podle vynálezu vykazují tyto vynikající tekutost, která je významná pro další zpracování. Hodnoty tekutosti, stanovené zkušebním přístrojem tekutosti Halí Flow ASTM-B-213, činí u prášků podle vynálezu při použití nálevky 2,54 m 100 až 140 sekund, u nálevky 5,08 mm hodnoty 15 až 25 sekund.
io
Prášky podle vynálezu jsou dále prosté alkálií a fluoridů. Zejména obsahy alkálií leží pod 2 ppm a obsahy fluoridů pod tolerovatelnou hranicí 20 ppm, výhodně pod 5 ppm. Fluor, sodík a draslík jsou zejména v prášcích podle vynálezu obecně neprokazatelné. Obsahy kyslíku činí 4000 až 20 000 ppm.
Specifický povrch podle BET je v rozmezí od 1,5 do 10m2/g, výhodně nad 2m2/g, obzvláště výhodně mezi 3 a 6 m2/g.
Podle jedné výhodné formy provedení vynálezu se do reakční směsi již před zapálením přidávají látky brzdicí růst zárodků a brzdicí slinování, takže výsledný prášek je jimi dotován. Jako dotovací prostředky jsou výhodné látky, obsahující fosfor, a/nebo dusík.
Práškové tantaly podle vynálezu tedy výhodně mají obsahy fosforu od 30 do 2000 ppm, výhodně od 300 do 2000 ppm. Obsah dusíku výhodných práškových tantalů podle vynálezu může činit
1 00 až 15 000 ppm, obzvláště nejméně 500 ppm dusíku.
Jako fosforový dotovací prostředek se výhodně používá elementární fosfor, výhodně jako práškový červený fosfor. Dotovací prostředek se může přidávat v množství až 5000 ppm zápalné směsi.
Jako dusíkatý dotovací prostředek jsou vhodné amonné soli s těkavou složkou aniontu, jako je například chlorid amonný, nebo též dusík, nebo amoniak.
Při současném dotování dusíkem a fosforem se mohou jako dotovací prostředek výhodně použít fosforečnany amonné.
I když byl vynález vyvinut s použitím hydridu hořčíku jako redukčního prostředku je nutné vycházet z toho, že jako redukční prostředek se může též použít hydrid vápníku. Hydrid vápníku se od hydridu hořčíku liší v podstatě tím, že se rozkládá již při nižší teplotě od 280 do 300 °C, avšak má teplotu tavení nad 1000 °C. Je však nutné vycházet z toho, že reakce po zapálení probíhá tak rychle, že mezistav, kteiý je vyznačen rozkladem hydridu hořčíku, nemá na reakci žádný podstatný vliv. Mohou se očekávat pouze nevýznamné vlivy na reakční produkt. Obecně řečeno je předmětem vynálezu způsob výroby práškového tantalu zapálením směsi chloridu tantaličného a hydridu alkalických zemin, přičemž směs případně obsahuje dotovací prostředky, obsahující fosfor a/nebo dusík.
Po ukončené reakci se takto získaný práškový tantal izoluje promytím minerálním kyselinou, jako je například kyselina sírová, zejména s přísadou peroxidu vodíku. Takto promytý práškový tantal, prostý chloridů, se může zatížit za účelem dalšího dotování prostředky, obsahujícími fos50 for. Když je obsah kyslíku při předem zadaném specifickém povrchu po usušení v požadované koncentraci, může se materiál bez dalšího zpracování použít přímo k výrobě tantalových kondenzátorů. Když se požaduje snížení koncentrace kyslíku v práškovém tantalu, izolovaný a usušený práškový tantal se výhodně podrobí desoxidaci. Ta probíhá výhodně přísadou přimíšených hořčíkových hoblin při nižší teplotě od 650 do 900 °C, výhodně od 750 do 850 °C, v době od /2 hodi55 ny do 10 hodin, výhodně od 2 do 4 hodin. Takto získaný práškový tantal se pak zbaví zbytků
hořčíku promytím minerální kyselinou s případným přídavkem peroxidu vodíku a usuší se. Jako vhodná se ukázala zejména kyselina sírová. Po vyloužení zbytků hořčíku může dojít znovu k dotování fosforem. To se může výhodně provést smočením roztokem daného dotovacího prostředku. Obsah kyslíku v práškovém tantalu, používaném pro výrobu tantalových kondenzátorů, je výhodně při daném specifickém povrchu mezi 4000 a 20 000 ppm. Dále se výhodně upraví obsah dusíku na hodnoty od 100 do 15 000 ppm, což se dociluje zejména během desoxidace přísadou amoniaku. „Desoxidace“ se výhodně provádí i tehdy, když je obsah kyslíku v prášku již v požadovaném rozmezí. „Desoxidace“ pak slouží k redukci zbytků hořčíku a chloru z reakce zápalné směsi. Přítomnost hořčíku při tom způsobuje, že pri šetrném tepelném zpracování do io prášku nedifunduje žádný další kyslík. Slinuté anody, vyrobené zodpovídajících práškových tantalů, se vyznačují nízkými svodovými proudy, výhodně < 2 nA/pFV, výhodně zejména méně než 1 nA/pFV.
Tantalový prášek podle vynálezu se dále vyznačuje tím, zeje vhodný pro výrobu elektrolytických kondenzátorů se specifickým nábojem 120 000 až 180 000 pFV/g při specifickém svodovém proudu nižším než 2 nA/pFV desetiminutovým slinováním pri teplotě od 1100 do 1300 °C a formováním pri 16 V.
Ztantalového prášku podle vynálezu se mohou vyrobit lisované anody, které mají překvapivě vysokou mez pevnosti. Tyto lisované anody jsou rovněž předmětem vynálezu. Mez pevnosti těchto lisovaných anod podle vynálezu, měřená podle Chatiliona pří stupni slisování 5 g/cm3, činí mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg. Tato testovací metoda umožňuje prognózu stability výlisků a to, zda výrobce kondenzátorů musí pri procesu lisování počítat s mechanicky porušenými anodami. Ke zkoušce se používá Catillonův měřicí přístroj DFGS 10, který je určen k měření tažných a tlakových sil. Pro zjištění meze pevnosti se vylisuje anoda z prášku pri stupni slisování 5 g/cm3. Potom se anoda uloží na podložku a raznicí Chatillonova přístroje se za zvyšování tlaku tak dlouho lisuje, až se anoda rozbije. Hmotnost, při které se dosáhne rozbití anody se odečítá v kilogramech. Zkoušení se při tom provádělo na válcových lisovaných zkušebních anodách s hmotností 0,521 g, průměrem 5,1 mm a délkou 5,1 mm a stupněm slisování 5,0 g/cm3. Lisované anody, získané podle DE 1 9536 013 Al, naproti tomu vykazují mez pevnosti pouze < 4 kg.
Slinuté anody, vyrobené z práškového tantalu podle vynálezu, získané 10 minutovým slinováním prášku pri teplotách od 1 150 do 1 300 °C a formováním při 16 - 30 V, vykazují specifické náboje od 80 000 do 170 000 pFV/g, výhodně od 90 000 do 160 000 pFV/g. Obzvláště výhodně činí svodové proudy těchto slinutých anod podle vynálezu <2 nA/pFV.
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se rozdělila na tři stejné dávky a ty se odděleně od sebe uvedly elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou. Při tom se uvolnil chlorovodík. Reakce proběhly během několika málo minut.
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se po prosátí na sítě s velikostí ok 400 pm promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, až byla promývací voda prakticky prostá chloridů. Materiál se opakovanou dekantací zbavil většiny kyseliny a na nuČi se vodou vymyl od zbytků kyseliny, šetrně se usušil pri 45 °C a prosel na méně než 220 pm.
Takto vyrobený práškový tantaí vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík 33 000 ppm
Hořčík 1770 ppm
Sodík < 1 ppm
Draslík < 1 ppm
Fluorid < 2 ppm
Chlorid 361 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,37 pm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,58 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 9,12 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,03 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 10,50 pm
D 90 32,33 pm
Získané množství kovového tantalu: 74 g, což odpovídá výtěžku 73,7 %.
3 .krok: Desoxidace a kyselé toužení g primárního prášku se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakryté tantalové lodičce se v trubkové peci udržovalo po dobu 2 hodin při 900 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál pozvolným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo bez nebezpečí manipulovat na vzduchu, Zbytky hořčíku se z práškového tantalu rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak se materiál vodou zbavil kyseliny, usušil a prosel na < 220 pm.
Analýza:
Kyslík 7700 ppm
Dusík 2600 ppm
Specifický povrch dle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,35 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovily specifické náboje a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 1).
Příklad 2 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se uvedla elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou.
2,krok: Promývání a sušení so Viz příklad 1,
Takto vyrobený práškový tantal vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík 22 000 ppm
Hořčík 730 ppm
Sodík | <1 ppm | |
Draslík | <1 ppm | |
Fluorid | <2 ppm | |
Chlorid | 409 ppm | |
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer | 0,33 gm | |
Sypná hmotnost podle Scotta | 0,78 g/cm3 | |
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 4,73 m2/g | |
Mastersizer (ASTM-B-822) | D 10 | 0,94 gm |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 9,84 gm |
D90 | 31,88 gm |
Získané množství kovového tantalu: 151 g, což odpovídá výtěžku 69 %.
3.krok: Dotování a nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
110 g práškového tantalu se smíchalo s 7,26 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se zahřívalo v retortě po 2 hodiny na 850 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál poz20 volným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo na vzduchu bezpečně zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak byl práškový tantal vodou zbaven kyseliny a materiál, vlhký z nuěe, se dotoval napouštěním 11 ml roztoku dihydrogenfosforečnanu amonného, který obsahoval 1 mg P v ml, na 100 ppm fosforu, usušil se a prosel na velikost < 220 gm.
Analýza;
Kyslík 7550 ppm
Mg 80 ppm
Dusík 2820 ppm
Cl 59 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,2 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2).
4.krok: Nová desoxidace a loužení kyselinou, nové dotování g výše získaného materiálu se smíchalo s 1,6 g hořčíkových hoblin, jak bylo popsáno v kroku 3, znovu se 2 hodiny desoxidovalo po dobu 2 hodin při 850 °C, pak se zpracovalo roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku, promytím se zbavilo kyseliny a ještě jednou dotovalo 50 ppm fosforu, takže celkový obsah fosforu nyní činil 150 ppm.
Analýza:
Kyslík 6170 ppm
Mg 60 ppm
Dusík 3210 ppm so Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 1,75 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2B).
Příklad 3 l .krok: Redukce
Směs 1000 g TaCl5 a 115,5 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se dotovalo 71 mg červeného fosforu a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2.
2.krok: Promývání a sušení io Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
15 | Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík Draslík | 26 000 ppm 2820 ppm 150 ppm 14 ppm <1 ppm <1 ppm | |
20 | Fluorid | <2 ppm | |
Chlorid | 784 ppm | ||
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer | 0,34 pm | ||
Sypná hmotnost podle Scotta | 0,82 g/cm3 | ||
25 | Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 5,74 m2/g | |
Mastersizer (ASTM-B-822) | D10 | 0,87 pm | |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 10,12 pm | |
D90 | 30,19 pm |
Získané množství kovového tantalu: 329 g, což odpovídá výtěžku 65 %.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3A).
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
100 g práškového tantalu se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidací při 750 °C po dobu 4 hodin, jak bylo popsáno v příkladu 2. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem s 26 % kyseliny sírové a 6 % peroxidu vodíku. Materiál se vodou zbavil kyseliny, sušil při 45 °C, prosel na velikost pod 220 pm a homogenízoval.
Analýza: Kyslík 9770 ppm
Dusík 6090 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,12 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastností jsou v tabulce 2 (viz vzorek 3B).
CZ 301097 Bó
4.krok: Dotování
Část desoxidovaného prášku se dodatečně dotovala napuštěním roztokem dihydrogenfosforečnanu amonného na 150 ppm fosforu, usušila se a prosila na < 220 gm.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3C).
Příklad 4 .krok: Redukce is Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90%) se dotovala 151 mg červeného fosforu (=151 mg P) a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2. Spálení proběhlo při sníženém proudu argonu. V důsledku toho byla během redukce docílena částečná nitridace dusíkem ze vzduchu.
2.krok: Promývání a sušení
Viz přikladl.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
25 | Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík | 12 000 ppm 12 000 ppm 680 ppm 1200 ppm <1 ppm | |
30 | Draslík | <1 ppm | |
Fluorid | <2 ppm | ||
Chlorid | 71 ppm | ||
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer | 0,57 gm | ||
35 | Sypná hmotnost podle Scotta | 1,05 g/cm | |
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 3,99 m2/g | ||
Mastersizer (ASTM-B-822) | D 10 | 1,09 gm | |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 13,63 gm | |
D90 | 40,18 gm |
Získané množství kovového tantalu: 129 g, což odpovídá výtěžku 85 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
75 g práškového tantalu se smíchalo s 2,7 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidaci při 750 °C po dobu 4 hodin, jako v příkladu 2, a jako v příkladu 1 se zpracovalo kyselinou.
Analýza:
Kyslík 12 000 ppm
Mg 85 ppm
Dusík 12 000 ppm
Cl 23 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,92 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou v tabulce 2 (viz vzorek 4).
Příklad 5
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCb a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 76 mg červeného fosforu se uvedla do reakce, jako v příkladu 4.
2. krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
20 | Kyslík Dusík Fosfor | 12 000 ppm 14 000 ppm 360 ppm | |
Hořčík | 460 ppm | ||
Sodík | <1 ppm | ||
25 | Draslík | <1 ppm | |
Fluorid | <2 ppm | ||
Chlorid | 71 ppm | ||
Sypná hmotnost podle Scotta | 1,18 g/cm3 | ||
30 | Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 3,35 m2/g | |
Mastersizer (ASTM-B-822) | D 10 | 1,73 pm | |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 19,08 pm | |
D90 | 56,31 pm |
Získané množství kovového tantalu: 131 g, což odpovídá výtěžku 86,4 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
Viz příklad 3.
Analýza:
Kyslík 10 000 ppm
Mg 75 ppm
Dusík 14 000 ppm
Cl 30 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,18 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 5).
Λ
Příklad 6 .krok: Redukce
Směs 300 g TaCI5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se pod proudem argonu uvedla do reakce jako v příkladu 1.
2.krok: Promývání a sušení Viz příklad 1,
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
15 | Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík | 11 000 ppm 4360 ppm <1 ppm 980 ppm <1 ppm | |
20 | Draslík | <1 ppm | |
Fluorid | <2 ppm | ||
Chlorid | 258 ppm | ||
Primární zrno (z REM) | <300 nm | ||
25 | Sypná hmotnost podle Scotta | 1,40 g/cm3 | |
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 2,45 m2/g | ||
Mastersizer (ASTM-B-822) | D 10 | 3,30 μπι | |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 33,14 pm | |
D90 | 114,95 pm |
Získané množství kovového tantalu: 133 g, což odpovídá výtěžku 87,7 %.
3,krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
75 g práškového tantalu a 2,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza: Kyslík 7100 ppm
Dusík 4460 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 1,99 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 6).
Přiklad 7
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCls a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 152 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intenzivním proudem argonu, takže byl vyloučen přístup vzduchu.
2. krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík io Sodík Draslík Fluorid Chlorid
000 ppm 144 ppm 780 ppm 45 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm 100 ppm
Primární zrno (z REM) < 150 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,10 g/cm3
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer 0,76 pm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,02 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 2,25 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 23,51 pm
D 90 58,43 pm
Získané množství kovového tantalu: 128 g, což odpovídá výtěžku 84,3 %.
3 .krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,00 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza: Kyslík 11 000 ppm
Dusík 752 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,52 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2.
Příklad 8
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCI5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 304 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intenzivním proudem argonu, takže je vyloučen přístup vzduchu.
2. krok: Promývání a sušení Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
000 ppm 240 ppm 1700 ppm
Kyslík
Dusík
Fosfor
1
Hořčík | 65 ppm | |
Sodík | <1 ppm | |
Draslík | <1 ppm | |
Fluorid | <2 ppm | |
5 Chlorid | 79 ppm | |
Primární zrno (z REM) | <100 nm | |
Sypná hmotnost podle Scotta | 1,05 g/cm3 | |
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer | 0,55 pm | |
ío Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) | 4,82 m2/g | |
Mastersizer (ASTM-B-822) | D 10 | 1,33 pm |
Úprava ultrazvukem 15 min. | D50 | 15,89pm |
D90 | 49,19 pm |
Velikost zrna byla znázorněna na snímku REM.
Získané množství kovového tantalu: 126 g, což odpovídá výtěžku 83 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) se smíchalo a desoxidovalo po 4 hodiny při 750 °C. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku.
Analýza: Kyslík 12 000 ppm
Dusík 1440 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,66 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 8).
Tabulka 1: Elektrické zkoušky
Vzorek | PD-stupeň slisováni (g/cn3) | Mez pevností anod Chatillon (kg) PD=5g/cn3 | Teplota slinování CC) | Bustota slinku (g/cn3) | Fomování (V) | Kapacita (CV/g) | Svodový proud (oA/pFV) |
1 | 5 | nestanoveno | 1200 | 4,6 | 16 | 79119 | 8,18 |
2A | 5 | nestanoveno | 1200 | 4,9 | 16 | 84712 | 3,95 |
2B | 5 | 3,1 | 1200 | 4,5 | 16 | 92113 | 3,97 |
3A | 5,75 | 5,34 | 1200 | 6,1 | 16 | 114456 | 1,63 |
3B | 5 | nestanoveno | 1200 | 4,9 | 16 | 119121 | 1,63 |
3C | 5 | nestanoveno | 1200 | 4,9 | 16 | 123678 | 2,01 |
4 | 5 | 5,81 | 1200 | 4,6 | 16 | 149910 | 2,19 |
5 | 1250 | 4,8 | 16 | 143936 | 0,77 | ||
5 | 1300 | 5,5 | 16 | 111879 | 4,1 | ||
5 | 1250 | 5 | 30 | 84724 | 2,7 | ||
5 | 1250 | 5 | 20 | 106701 | 1,95 | ||
5 | 5 | 7,05 | 1200 | 4,7 | 16 | 133428 | 3,52 |
5 | 1250 | 4,8 | 16 | 123626 | 0,973 | ||
5 | 1300 | 5,6 | 16 | 104041 | 4,48 | ||
5 | 1300 | 5,9 | 30 | 80184 | 3,24 | ||
6 | 5 | 4,56 | 1200 | 5 | 16 | 95742 | 4,57 |
5 | 1250 | 5 | 16 | 88500 | 1,39 | ||
7 | 5 | 6.5 | 1200 | 4,8 | 16 | 155911 | 1,58 |
5 | 1250 | 5,2 | 16 | 144255 | 0,69 | ||
8 | 5 | 6,3 | 1200 | 4,8 | 16 | 151745 | 1,22 |
5 | 1250 | 5,8 | 16 | 130031 | 0,67 |
Hmota anod: 0,05 g Doba slinování: 10 minut
Příklady 9 až 16
l.krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 x g červeného fosforu a y g NH4C1 se elektrickým zažehnutím uvedla do reakce v atmosféře argonu (viz tabulka 2).
Tabulka 2
Příklad | P X (mg) | nh4ci y (mg) |
9 | 0 | 0 |
10 | 152 | 0 |
11 | 304 | 0 |
12 | 0 | 2,32 |
13 | 0 | 4,64 |
14 | 152 | 1,16 |
15 | 152 | 2,32 |
16 | 152 | 4,64 |
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, aby se odstranil chlorid hořečnatý. Materiál se jednou až dvěma dekantacemi zbavil větší části kyseliny a na nuči se vodou zbavil kyseliny, usušil se při 45 °C a prosil na menší velikost než 400 gm. Souvislost mezi obsahem dotujících látek s povrchem je uvedena v následující tabulce 3.
Tabulka 3
Příklad | P X ppm | N y ppm | Spec. povrch dle BET (Quantasorb) (m2/g) | Obsah Na/K (ppm) | Obsah F (ppm) |
9 | 0 | 0 | 2,30 | <2 | <5 |
10 | 1000 | 0 | 4,02 | <2 | <5 |
11 | 2000 | 0 | 4,82 | <2 | <5 |
12 | 0 | 4000 | 3,24 | <2 | <5 |
13 | 0 | 8000 | 4,05 | <2 | <5 |
14 | 1000 | 2000 | 3,94 | <2 | <5 |
15 | 1000 | 4000 | 4,15 | <2 | <5 |
16 | 1000 | 8000 | 5,29 | <2 | <5 |
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
Práškový tantal se nyní smísil s dvojnásobkem stechiometrického množství hořčíkových hoblin (počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se udržoval v retortě pod ochran5 ným plynem (argon) na teplotě 750 °C po dobu 4 hodin. Po ochladnutí se materiál pasivoval pozvolným připouštěním vzduchu během asi 18 hodin, aby se s ním mohlo bez nebezpečí na vzduchu zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Potom se práškový tantal zbavil kyseliny vymytím vodou, usušil se pří 45 °C a prosel na méně než 400 pm.
io
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy (viz tabulka 4).
Hmotnost anod: 0,0466 g
Stupeň slisování: 5,0 g/cm3
Formovací napětí: 16 V
Tabulka 4
Vzorek | Mez pevnosti anod ChatilIon (kg) PD-5g/cm3 | Teplota slinování CC) | Hustota slinku (g/cm3) | Kapacita (CV/g) | Svodový proud ; (nA/gFV |
9 | 6,64 | 1200 1250 | 5,1 5,3 | 103027 80681 | 3,0 1,8 |
10 | 6,50 | 1200 1250 | 4,6 5,2 | 147489 143895 | 0,5 1,7 |
11 | 6,50 | 1200 1250 | 4.4 5.5 | 155621 133532 | 0,6 1,9 |
12 | 4,96 | 1200 1250 | 5 5,5 | 107201 84343 | 2,0 1,9 |
13 | 5,14 | 1200 1250 | 5,3 5,7 | 109480 86875 | 2,9 1,3 |
14 | 5,48 | 1200 1250 | 5 5,3 | 148921 127065 | 1,8 4,0 |
15 | 7,37 | 1150 1200 1200 | 5 5,1 5,1 | 173696 160922 108526 | 0,8 1,7 |
16 | 7,52 | 1200 | 5,2 | 173300 | 1,4 |
<
Claims (6)
1. Tantalový prásek sestávající z aglomerátů s velikostí primárních částic 50 až 300 nm a hodnotou D-50 velikosti sekundárních částic podle ASTM-B-822 nad 10 pm, s obsahem alkaiií menším než 2 ppm a s obsahem fluoru menším než 20 ppm.
ío
2. Lisované anody vyrobené ztantalového prášku podle nároku 1. vyznačující se tím, že mez pevnosti anod, měřená dle Chat i liona při stupni slisování 5,0 g/cm'’ a hmotnosti anod 0,521 g, leží mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg.
3. Slinuté anody, vyrobené deseliminutovým slinováním lisovaných tantalových prášků podle
15 nároku 1 při teplotách od 1150 do 1300 °C a formováním při Ió až 30 V, v y z n a č u j í e í se tím, že vykazují specifické nábojeod 80 000 do 170 000 pmFV/g.
4. Způsob výroby tantalových prášků podle nároku 1, vyznačující se tím, že se směs chloridu tantalu a hydridů alkalických zemin nechá zreagovat zažehnutím v atmosféře
2o inertního plynu a při tom vzniklý tantalový prášek se izoluje vymytím minerálními kyselinami a usuší se.
5. Způsob podle nároku 4, vyznačující se tím. že směs obsahuje jako dotovací prostředek látky obsahující fosfor a/nebo dusík.
6. Způsob podle některého nároku 4 nebo 5, vyznačující se tím, že se izolovaný a usušený tantalový prášek podrobí desoxidaci.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19706416 | 1997-02-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ296199A3 CZ296199A3 (cs) | 2000-08-16 |
CZ301097B6 true CZ301097B6 (cs) | 2009-11-04 |
Family
ID=7820742
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ2009-453A CZ304759B6 (cs) | 1997-02-19 | 1998-02-09 | Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody |
CZ0296199A CZ301097B6 (cs) | 1997-02-19 | 1998-02-09 | Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ2009-453A CZ304759B6 (cs) | 1997-02-19 | 1998-02-09 | Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6193779B1 (cs) |
EP (1) | EP0964936B1 (cs) |
JP (4) | JP3817742B2 (cs) |
KR (1) | KR100511027B1 (cs) |
CN (2) | CN1080319C (cs) |
AU (1) | AU6396398A (cs) |
BR (1) | BR9807239A (cs) |
CZ (2) | CZ304759B6 (cs) |
DE (1) | DE59801634D1 (cs) |
HK (2) | HK1026459A1 (cs) |
IL (2) | IL131248A (cs) |
PT (1) | PT964936E (cs) |
WO (1) | WO1998037248A1 (cs) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ306436B6 (cs) * | 2006-05-05 | 2017-01-25 | Cabot Corporation | Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru |
Families Citing this family (84)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030061907A1 (en) * | 1994-08-01 | 2003-04-03 | Kroftt-Brakston International, Inc. | Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt |
US7445658B2 (en) | 1994-08-01 | 2008-11-04 | Uchicago Argonne, Llc | Titanium and titanium alloys |
RU2152449C1 (ru) * | 1994-08-01 | 2000-07-10 | Интернэшнл Титаниум Паудер Л.Л.С. | Способ получения металлов и других элементов |
US20030145682A1 (en) * | 1994-08-01 | 2003-08-07 | Kroftt-Brakston International, Inc. | Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt |
US7435282B2 (en) | 1994-08-01 | 2008-10-14 | International Titanium Powder, Llc | Elemental material and alloy |
US6576038B1 (en) * | 1998-05-22 | 2003-06-10 | Cabot Corporation | Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties |
DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP3871824B2 (ja) * | 1999-02-03 | 2007-01-24 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 高容量コンデンサー用タンタル粉末 |
JP2000306781A (ja) * | 1999-04-21 | 2000-11-02 | Showa Kyabotto Super Metal Kk | 電解コンデンサ用金属粉末ならびにこれを用いた電解コンデンサ用陽極体および電解コンデンサ |
US6375704B1 (en) * | 1999-05-12 | 2002-04-23 | Cabot Corporation | High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes |
US6358625B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-03-19 | H. C. Starck, Inc. | Refractory metals with improved adhesion strength |
JP3585791B2 (ja) * | 1999-11-04 | 2004-11-04 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法及びその製造方法に用いられる連続焼結装置 |
JP4049964B2 (ja) | 2000-02-08 | 2008-02-20 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサー |
US6432161B1 (en) | 2000-02-08 | 2002-08-13 | Cabot Supermetals K.K. | Nitrogen-containing metal powder, production process thereof, and porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the metal powder |
CA2401779A1 (en) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Cabot Corporation | Nitrided valve metals and processes for making the same |
JP3718412B2 (ja) * | 2000-06-01 | 2005-11-24 | キャボットスーパーメタル株式会社 | ニオブまたはタンタル粉末およびその製造方法 |
JP2002060803A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-28 | Showa Kyabotto Super Metal Kk | 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法 |
JP4187953B2 (ja) * | 2001-08-15 | 2008-11-26 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 窒素含有金属粉末の製造方法 |
US7442227B2 (en) * | 2001-10-09 | 2008-10-28 | Washington Unniversity | Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same |
WO2004033736A1 (en) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | International Titanium Powder, Llc. | System and method of producing metals and alloys |
JP3610942B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2005-01-19 | 住友金属鉱山株式会社 | ニオブおよび/またはタンタルの粉末の製造法 |
US7049679B2 (en) * | 2001-11-08 | 2006-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Capacitor and production method therefor |
DE10307716B4 (de) * | 2002-03-12 | 2021-11-18 | Taniobis Gmbh | Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung |
GB2410251B8 (en) * | 2002-03-12 | 2018-07-25 | Starck H C Gmbh | Valve metal powders and process for producing them |
CA2497999A1 (en) * | 2002-09-07 | 2004-03-18 | International Titanium Powder, Llc. | Process for separating ti from a ti slurry |
UA79310C2 (en) * | 2002-09-07 | 2007-06-11 | Int Titanium Powder Llc | Methods for production of alloys or ceramics with the use of armstrong method and device for their realization |
WO2004028655A2 (en) * | 2002-09-07 | 2004-04-08 | International Titanium Powder, Llc. | Filter cake treatment method |
US20060107790A1 (en) * | 2002-10-07 | 2006-05-25 | International Titanium Powder, Llc | System and method of producing metals and alloys |
EP1462098B1 (en) * | 2003-03-03 | 2007-07-04 | SPRL Franpharma | Stabilised pharmaceutical composition comprising a non-steroidal anti-inflammatory agent and a prostaglandin |
CN1809904A (zh) * | 2003-04-25 | 2006-07-26 | 卡伯特公司 | 一种形成烧结阀金属材料的方法 |
JP2007511667A (ja) * | 2003-06-10 | 2007-05-10 | キャボット コーポレイション | タンタル粉末およびその製造方法 |
US20070180951A1 (en) * | 2003-09-03 | 2007-08-09 | Armstrong Donn R | Separation system, method and apparatus |
KR100829277B1 (ko) * | 2004-04-15 | 2008-05-13 | 제이에프이미네라르 가부시키가이샤 | 탄탈 분말 및 그것을 이용한 고체전해콘덴서 |
DE102004020052B4 (de) * | 2004-04-23 | 2008-03-06 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Niob- und Tantalpulver |
KR20070027731A (ko) * | 2004-06-24 | 2007-03-09 | 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 | 향상된 물리적 및 전기적 특성을 갖는 밸브 금속 분말의생성 |
CN101010160A (zh) * | 2004-06-28 | 2007-08-01 | 卡伯特公司 | 高电容钽片及其制备方法 |
DE102004049040B4 (de) * | 2004-10-08 | 2008-11-27 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytkondensatoren |
US20070017319A1 (en) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | International Titanium Powder, Llc. | Titanium alloy |
DE102005038551B3 (de) * | 2005-08-12 | 2007-04-05 | W.C. Heraeus Gmbh | Draht und Gestell für einseitig gesockelte Lampen auf Basis von Niob oder Tantal sowie Herstellungsverfahren und Verwendung |
JP2009511739A (ja) | 2005-10-06 | 2009-03-19 | インターナショナル・タイテイニアム・パウダー・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | ホウ化チタン |
US20080031766A1 (en) * | 2006-06-16 | 2008-02-07 | International Titanium Powder, Llc | Attrited titanium powder |
GB0622463D0 (en) * | 2006-11-10 | 2006-12-20 | Avx Ltd | Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes |
US7753989B2 (en) * | 2006-12-22 | 2010-07-13 | Cristal Us, Inc. | Direct passivation of metal powder |
US7856265B2 (en) * | 2007-02-22 | 2010-12-21 | Cardiac Pacemakers, Inc. | High voltage capacitor route with integrated failure point |
US9127333B2 (en) * | 2007-04-25 | 2015-09-08 | Lance Jacobsen | Liquid injection of VCL4 into superheated TiCL4 for the production of Ti-V alloy powder |
WO2009052007A1 (en) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Hi-Temp Specialty Metals, Inc. | Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material |
US7760487B2 (en) * | 2007-10-22 | 2010-07-20 | Avx Corporation | Doped ceramic powder for use in forming capacitor anodes |
GB0902486D0 (en) | 2009-02-13 | 2009-04-01 | Metalysis Ltd | A method for producing metal powders |
US8203827B2 (en) * | 2009-02-20 | 2012-06-19 | Avx Corporation | Anode for a solid electrolytic capacitor containing a non-metallic surface treatment |
JP2010265520A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Cabot Supermetal Kk | タンタル混合粉末及びその製造方法、並びにタンタルペレット及びその製造方法。 |
US8725252B2 (en) | 2009-12-18 | 2014-05-13 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Electric energy storage device electrode including an overcurrent protector |
US8873220B2 (en) * | 2009-12-18 | 2014-10-28 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Systems and methods to connect sintered aluminum electrodes of an energy storage device |
US9123470B2 (en) * | 2009-12-18 | 2015-09-01 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Implantable energy storage device including a connection post to connect multiple electrodes |
WO2011075511A2 (en) | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Sintered capacitor electrode including multiple thicknesses |
US9129749B2 (en) | 2009-12-18 | 2015-09-08 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Sintered electrodes to store energy in an implantable medical device |
US8619408B2 (en) * | 2009-12-18 | 2013-12-31 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Sintered capacitor electrode including a folded connection |
US8848341B2 (en) | 2010-06-24 | 2014-09-30 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Electronic component mounted on a capacitor electrode |
US8760851B2 (en) | 2010-12-21 | 2014-06-24 | Fastcap Systems Corporation | Electrochemical double-layer capacitor for high temperature applications |
US9214709B2 (en) | 2010-12-21 | 2015-12-15 | CastCAP Systems Corporation | Battery-capacitor hybrid energy storage system for high temperature applications |
US9001495B2 (en) | 2011-02-23 | 2015-04-07 | Fastcap Systems Corporation | High power and high energy electrodes using carbon nanotubes |
JP2014525219A (ja) | 2011-05-24 | 2014-09-25 | ファーストキャップ・システムズ・コーポレイション | 再充電可能エネルギ貯蔵を伴う高温用途のためのパワーシステム |
CA3098849A1 (en) | 2011-06-07 | 2012-12-13 | Fastcap Systems Corporation | Energy storage media for ultracapacitors |
EA033199B1 (ru) | 2011-07-08 | 2019-09-30 | Фасткэп Системз Корпорейшн | Высокотемпературное устройство аккумулирования энергии |
US9558894B2 (en) | 2011-07-08 | 2017-01-31 | Fastcap Systems Corporation | Advanced electrolyte systems and their use in energy storage devices |
BR112014010635B1 (pt) | 2011-11-03 | 2020-12-29 | Fastcap Systems Corporation | sistema de registro em log |
WO2013073253A1 (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-23 | 昭和電工株式会社 | タングステン細粉の製造方法 |
JP5613861B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2014-10-29 | 昭和電工株式会社 | 固体電解コンデンサの陽極体 |
WO2014142359A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Global Advanced Metals Japan K.K. | Method to passivate sintered anodes having a wire |
CN103322871B (zh) * | 2013-06-28 | 2015-04-22 | 柳州长虹机器制造公司 | 一种不含敏感火工品药剂的电雷管发火装置 |
US10872737B2 (en) | 2013-10-09 | 2020-12-22 | Fastcap Systems Corporation | Advanced electrolytes for high temperature energy storage device |
WO2015095858A2 (en) | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Fastcap Systems Corporation | Electromagnetic telemetry device |
US11270850B2 (en) | 2013-12-20 | 2022-03-08 | Fastcap Systems Corporation | Ultracapacitors with high frequency response |
CN104858436B (zh) * | 2014-02-21 | 2018-01-16 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 高可靠高比容电解电容器用钽粉的制备方法 |
JP2014218748A (ja) * | 2014-06-18 | 2014-11-20 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 窒素含有金属粉末の製造方法 |
CN107533925B (zh) | 2014-10-09 | 2021-06-29 | 快帽系统公司 | 用于储能装置的纳米结构化电极 |
CN105916616B (zh) * | 2014-11-03 | 2018-09-14 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钽粉及其制造方法和由其制成的烧结阳极 |
US10290430B2 (en) | 2014-11-24 | 2019-05-14 | Avx Corporation | Wet Electrolytic Capacitor for an Implantable Medical Device |
KR102668693B1 (ko) | 2015-01-27 | 2024-05-27 | 패스트캡 시스템즈 코포레이션 | 넓은 온도 범위 울트라커패시터 |
JP2016166422A (ja) * | 2016-04-12 | 2016-09-15 | グローバルアドバンストメタルジャパン株式会社 | 窒素含有金属粉末の製造方法 |
RU2734851C2 (ru) * | 2016-07-13 | 2020-10-23 | Нинся Ориэнт Танталум Индастри Ко.,Лтд. | Хлопьевидный порошкообразный тантал и способ его получения |
US20180144874A1 (en) * | 2016-10-21 | 2018-05-24 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof |
CN110178194B (zh) | 2016-12-02 | 2023-10-03 | 快帽系统公司 | 复合电极 |
US11534830B2 (en) * | 2017-12-28 | 2022-12-27 | Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd | Tantalum powder and preparation method therefor |
US11557765B2 (en) | 2019-07-05 | 2023-01-17 | Fastcap Systems Corporation | Electrodes for energy storage devices |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0347668A2 (de) * | 1988-06-22 | 1989-12-27 | H.C. Starck GmbH & Co. KG | Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
US4968481A (en) * | 1989-09-28 | 1990-11-06 | V Tech Corporation | Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics |
DE19536013A1 (de) * | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Starck Vtech Ltd | Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator |
DE19536014A1 (de) * | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Starck Vtech Ltd | Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator |
EP0744234A1 (de) * | 1995-05-26 | 1996-11-27 | Th. Goldschmidt AG | Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE32260E (en) * | 1975-07-14 | 1986-10-07 | Fansteel Inc. | Tantalum powder and method of making the same |
US4441927A (en) * | 1982-11-16 | 1984-04-10 | Cabot Corporation | Tantalum powder composition |
DE3309891A1 (de) * | 1983-03-18 | 1984-10-31 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren |
JPS61284501A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk | タンタル粉末の製造方法 |
JPH02310301A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-26 | Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk | タンタル粉末及びその製造法 |
JP2512886B2 (ja) * | 1989-09-28 | 1996-07-03 | 東亞合成株式会社 | 含フッ素共重合体および該共重合体からなる塗料 |
US5234491A (en) * | 1990-05-17 | 1993-08-10 | Cabot Corporation | Method of producing high surface area, low metal impurity |
US5442978A (en) | 1994-05-19 | 1995-08-22 | H. C. Starck, Inc. | Tantalum production via a reduction of K2TAF7, with diluent salt, with reducing agent provided in a fast series of slug additions |
US5954856A (en) * | 1996-04-25 | 1999-09-21 | Cabot Corporation | Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP53620598A patent/JP3817742B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-09 WO PCT/EP1998/000698 patent/WO1998037248A1/de active Search and Examination
- 1998-02-09 PT PT98909422T patent/PT964936E/pt unknown
- 1998-02-09 CN CN98802473A patent/CN1080319C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-09 US US09/367,730 patent/US6193779B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-09 EP EP98909422A patent/EP0964936B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-09 CZ CZ2009-453A patent/CZ304759B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-02-09 AU AU63963/98A patent/AU6396398A/en not_active Abandoned
- 1998-02-09 BR BR9807239-0A patent/BR9807239A/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-02-09 DE DE59801634T patent/DE59801634D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-09 CZ CZ0296199A patent/CZ301097B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1998-02-09 KR KR10-1999-7007465A patent/KR100511027B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-02-09 IL IL13124898A patent/IL131248A/en not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-09-12 HK HK00105753A patent/HK1026459A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-05-21 CN CNB011191945A patent/CN1258785C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-22 IL IL146669A patent/IL146669A/en not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-11-25 HK HK02108507.7A patent/HK1047188B/zh not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-01-11 JP JP2006003789A patent/JP4137125B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-07-23 JP JP2007190615A patent/JP4616313B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2007-07-23 JP JP2007190605A patent/JP4974799B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0347668A2 (de) * | 1988-06-22 | 1989-12-27 | H.C. Starck GmbH & Co. KG | Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
US4968481A (en) * | 1989-09-28 | 1990-11-06 | V Tech Corporation | Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics |
DE19536013A1 (de) * | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Starck Vtech Ltd | Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator |
DE19536014A1 (de) * | 1994-09-28 | 1996-04-04 | Starck Vtech Ltd | Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator |
EP0744234A1 (de) * | 1995-05-26 | 1996-11-27 | Th. Goldschmidt AG | Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ306436B6 (cs) * | 2006-05-05 | 2017-01-25 | Cabot Corporation | Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000071175A (ko) | 2000-11-25 |
DE59801634D1 (de) | 2001-11-08 |
HK1047188B (zh) | 2007-01-19 |
HK1047188A1 (en) | 2003-02-07 |
PT964936E (pt) | 2002-03-28 |
IL131248A0 (en) | 2001-01-28 |
KR100511027B1 (ko) | 2005-08-31 |
CN1258785C (zh) | 2006-06-07 |
EP0964936A1 (de) | 1999-12-22 |
CN1247575A (zh) | 2000-03-15 |
AU6396398A (en) | 1998-09-09 |
US6193779B1 (en) | 2001-02-27 |
WO1998037248A1 (de) | 1998-08-27 |
JP2006183150A (ja) | 2006-07-13 |
CN1080319C (zh) | 2002-03-06 |
HK1026459A1 (en) | 2000-12-15 |
JP4137125B2 (ja) | 2008-08-20 |
JP2007335885A (ja) | 2007-12-27 |
JP2001512530A (ja) | 2001-08-21 |
IL146669A0 (en) | 2002-07-25 |
JP4616313B2 (ja) | 2011-01-19 |
CN1368744A (zh) | 2002-09-11 |
IL131248A (en) | 2002-09-12 |
BR9807239A (pt) | 2000-04-25 |
CZ304759B6 (cs) | 2014-09-24 |
JP3817742B2 (ja) | 2006-09-06 |
IL146669A (en) | 2007-02-11 |
EP0964936B1 (de) | 2001-10-04 |
JP4974799B2 (ja) | 2012-07-11 |
JP2007335884A (ja) | 2007-12-27 |
CZ296199A3 (cs) | 2000-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ301097B6 (cs) | Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody | |
KR100522066B1 (ko) | 탄탈 분말, 그의 제조 방법 및 그로부터 얻어진 소결 양극 | |
KR102546515B1 (ko) | 구형 분말을 함유하는 애노드 및 커패시터 | |
JP3174341B2 (ja) | 改良されたタンタル粉末の製造方法及びその粉末から得られる高キャパシタンスで電気漏れの少ない電極 | |
AU755289B2 (en) | Niobium powder and a process for the production of niobium and/or tantalum powders | |
US20020050185A1 (en) | Tantalum powder for capacitors | |
CZ300132B6 (cs) | Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem | |
JP4187953B2 (ja) | 窒素含有金属粉末の製造方法 | |
JPS5871614A (ja) | 電子材料用金属粉末及びその製造法 | |
EA020381B1 (ru) | Способ получения металлических порошков | |
CZ301396B6 (cs) | Kovový tantalový prášek obsahující dusík, zpusob jeho prípravy, porézní slinuté teleso a elektrolytický kondenzátor jej obsahující | |
JPH08239207A (ja) | 窒化タンタル粉末 | |
JP6824320B2 (ja) | タンタル粉末及びその製造方法並びにタンタル粉末から製造される焼結アノード | |
JP2002030301A (ja) | 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサ | |
JP2008512568A (ja) | バルブメタル粉末の脱酸素 | |
CZ309286B6 (cs) | Způsob výroby tantalového prášku | |
JP2688452B2 (ja) | 高表面積、低金属不純物のタンタル粉末の製造方法 | |
RU2236930C1 (ru) | Способ получения легированного порошка вентильного металла | |
JP2004339567A (ja) | タンタルおよび/またはニオブの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
MK4A | Patent expired |
Effective date: 20180209 |