CZ301097B6 - Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody - Google Patents

Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody Download PDF

Info

Publication number
CZ301097B6
CZ301097B6 CZ0296199A CZ296199A CZ301097B6 CZ 301097 B6 CZ301097 B6 CZ 301097B6 CZ 0296199 A CZ0296199 A CZ 0296199A CZ 296199 A CZ296199 A CZ 296199A CZ 301097 B6 CZ301097 B6 CZ 301097B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
ppm
tantalum
anodes
powder
magnesium
Prior art date
Application number
CZ0296199A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ296199A3 (cs
Inventor
Reichert@Karlheinz
Wolf@Rüdiger
Rawohl@Christine
Original Assignee
H.C. Starck Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7820742&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ301097(B6) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by H.C. Starck Gmbh filed Critical H.C. Starck Gmbh
Publication of CZ296199A3 publication Critical patent/CZ296199A3/cs
Publication of CZ301097B6 publication Critical patent/CZ301097B6/cs

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004—Details
    • H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/052—Sintered electrodes
    • H01G9/0525—Powder therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
    • B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
    • B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
    • B22F9/20—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from solid metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B34/00—Obtaining refractory metals
    • C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/045—Alloys based on refractory metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

Tantalové prášky prosté alkálií a fluoru, s velikostí primárních zrn 50 až 300 nm a s velikostí sekundárních zrn vzniklých slinutím primárních cástic, nad 10 .mi.m, ze kterých se mohou slinováním pri 1200 .degree.C po dobu 10 minut a formování napetím 16 až 30 V získat slinuté anody se specifickým nábojem až 80 000 až 170 000 .mi.mFV/g. Pri zpusobu výroby tantalových prášku se smes chloridu tantalu a hydridu alkalických zemin nechá reagovat po zapálení v atmosfére inertního plynu, a vzniklý cástecne slinutý porovitý reakcní produkt se rozdrtí, promyje minerálními kyselinami a usuší se.

Description

Vynález se týká tantalového prášku sestávajícího z aglomerátů, lisovaných nebo slinutých anod získaných z tohoto tantalového prášku, jakož i způsobu výroby tohoto tantalového prášku.
ío Dosavadní stav techniky
Kovový práškový tantal se obvykle vyrábí redukcí K?TaF7 sodíkem. Fyzikální vlastnosti práškových tantalů, jako je například velikost zrna, nebo specifický povrch, se řídí přidáním inertních solí, jako je například KCI, NaCl, NaF. Se stoupajícím podílem inertních solí se výsledný prášíš kový tantal zjemňuje, to znamená, že se tím zvětšuje výsledný povrch kovu. Výkonnost výroby kovového tantalu však se stoupající koncentrací inertních solí klesá.
Po vymytí solí se práškový tantal suší a podrobí se dalšímu čištění zpracováním za vysoké teploty ve vakuu, nebo v atmosféře inertního plynu. Při této aglomeraci se specifický povrch výraz20 ně zmenšuje a obsah kyslíku v prášku se značně zvyšuje. Ten se tepelným zpracováním pomocí redukčně působících kovů, zejména hořčíku, opět odbourá. Dalším důsledkem této desoxidace (těchto desoxidací) je mírné zmenšení povrchu. Pro optimalizaci elektrických vlastností kondenzátorů, vyrobených z těchto práškových tantalů, se do práškového tantalu přidávají dotující přísady, obsahující fosfor, a/nebo bor.
Elektrické vlastnosti práškových tantalů, jako je specifický náboj, nebo svodový proud, se zkoušejí na lisované, slinované a pak anodicky oxidované, to znamená formované anodě. Specifický náboj, vyjádřený v pFV/g, je mírou kapacity kondenzátorů a chová se přímo uměmě k povrchu kovu. Svodový proud, vyjádřený v nA/pFV, je indikátorem toho, jak dobře udrží kondenzator svůj náboj.
Při obvyklé technicky prováděné redukci K2TaF7 sodíkem v solné tavenině se hospodárně vyrábějí kondenzátorové prášky se specifickými náboji od 18 000 do 70 000 pFV/g. Pro docílení kondenzátorů s vysokou kapacitou potřebný tantalový prášek s malou velikostí primárních Částic je potřebné, provádět redukci K7TaF7 sodíkem ve větším zředění (zřeďovací soli KCI, KF, NaCl), která vede k menším aglomerátům (velikost sekundárních částic 1 až 5 pm při velikosti primárních Částic 0,3 pm). Malé rozměry aglomerátů vyvolávají potřebu tepelné aglomerace práškového tantalu (předsunování), při které se jednak odstraní nežádoucí nečistoty, jednak se ale dále sníží specifický povrch. Pórovitá struktura aglomerátů, výhodná pro výrobu kondenzátorů, jíž se po formování získají kondenzátory s nízkým svodovým proudem, se sice zachová, ale dociluje se teprve několikanásobným předšli nováním s rozmělňováním agregátů odtahováním mezi procesy slinování. Práškové tantaly pro kondenzátory s nejvyšší kapacitou jsou popisovány v DE 195 36 013 Al. U slinutých anod z nich vyrobených při upuštění od jinak obvyklých tepelných aglomeračních kroků byly docíleny specifické náboje až 91 810 pFV/g. Tyto práškové tantaly vykazují rušivé nečistoty, jako je například fluorid, v koncentracích > 100 ppm. Část vysokého obsahu fluoridu se odbourává při slinování anod. Při tom uvolněné fluoridy vyvolávají ve sl inovacích pecích tepelné koroze. Fluorid, zbývající vtantalové anodě, pravděpodobně vyvolává značné zvýšené svodové proudy. Tak práškový tantal, vyrobený podle příkladu 6 z DE 195 36 013 Al, má obsah F 460 ppm a obsah Mg 200 ppm. Dále mají tyto prášky nevýhodu so v tom, že jejich sypná hustota je příliš nízká a mez pevnosti z nich vylisovaných anod je proti běžně dostupných práškům příliš nízká. Proto tyto prášky dosud nedosáhly technického významu. Dále mají tyto prášky nevýhodu v tom, že ještě obsahují zbytková množství alkalií, které značně zhoršují svodové proudy, i když jejich množství je v oblasti ppm.
Velmi jemnozmné prášky se získávají redukcí TaCls vodíkem v plynné fázi. Při tom se získají již netekoucí, v podstatě diskrétní prášky. V důsledku technicky obtížného zpracování tyto prášky do technologie kondenzátorů nepronikly.
Úkolem vynálezu je poskytnout práškový tantal, který nemá uvedené nevýhody. Dalším úkolem tohoto vynálezu je poskytnout hospodárný způsob výroby práškového tantalu s nejvyššími kapacitami.
Podstata vynálezu
Nyní se zjistilo, že zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku se získají již předslinuté velmi jemnozmné tantalové prášky sestávající z aglomerátů, které jsou velmi vhodné pro výrobu vysokokapacitních kondenzátorů. V důsledku rychle probíhající reakce, která je ukončena již po několika minutách, vznikají i bez použití zřeďovacích solí velmi malé primární částice s typickými velikostmi od 50 do 300 nm, které se v důsledku vysokého podílu tantalu v reakční směsi dostávají do styku, a během krátké reakční doby se díky své vysoké sl inovací aktivitě slinují. Vzniká pěnovitý, částečně slinutý koláč s otevřenými póry, z něhož se rozdrcením a proseváním získají výtečně tekoucí aglomeráty se střední velikostí sekundárních částic od 10 do 50 pm nebo více, které po promytí a usušení vykazují velmi vysoké specifické povrchy od 1,5 do i 0 m3/g podle BET,
V souladu s výše uvedeným je předmětem předkládaného vynálezu způsob výroby tantalového prášku zažehnutím směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku v atmosféře zemního plynu a následné vymývání produktu minerálními kyselinami.
Reakce homogenizované směsi chloridu tantaličného a hydridů hořčíku se výhodně provádí v tantalové redukční nádobě. Dále se při tom výhodně do homí vrstvy této homogenizované směsi uloží tenký tantalový drát jako zápalka, který se zvláště elegantně přechodně spojí s vnějším zdrojem nízkého napětí a rozžhaví se do červena. Toto zápalné uspořádání se vloží do ochranné komory, proplachované argonem. Po ochladnutí se reakční produkt, který je v důsledku silně exotermní reakce rozpálen do bělá, a který je ve formě částečně slinutého pórovitého koláče, rozdrtí na hrubo, promyje minerálními kyselinami a usuší. Jako promývací kapalina se výhodně použije roztok kyseliny sírové a peroxidu vodíku. Promývání pokračuje tak dlouho, až je promývací voda prostá chloridů.
Množstevní poměr výchozích látek pro reakční směs není kritický, protože pro redukci jsou k dispozici jak hořčík, tak i vodík po odštěpení z hydridů hořčíku. Najeden mol pentachloridu se v souladu stím mohou použít 1,25 až 3 moly hydridů hořčíku. V důsledku nízké teploty varu chloridu tantaličného a nízké rozkladné teploty hydridů hořčíku se vsak při nízkém molovém poměru výchozích surovin pozorují ztráty na výtěžku. Proto je výhodný molový poměr chloridu tantaličného k hydridů hořčíku 2 až 3. Při tom se docilují výtěžky od 80 do 90 % na použitý tantal. Očekává se, že se výtěžky mohou ještě dále zvýšit, když reakce proběhne pod tlakem, například v autoklávu.
Jako redukční prostředek se výhodně používá hydrid hořčíku o vzorci MgHx, kde x je větší než 1,2, obzvláště výhodně větší než 1,6.
Pomocí vynálezu se poprvé získaly tantalové prášky, tvořené slinutými primárními částicemi, kde primární částice mají velikost od 30 do 300 nm, výhodně od 30 do 150 nm, obzvláště výhodně méně než 100 nm, a kde slinutím primárních částic získané sekundární částice vykazují velikost D-50 nad 10 pm, výhodně nad 13 pm.
Hodnota 0-50 představuje „střední průměr částic“ a značí, že 50 % částic leží nad a 50 % částic leží pod uvedenou hodnotou. Když je D-50 větší než 10 pm, znamená to, že může být střední průměr částic např. 11 pm. To opět znamená, že 50 % částic má průměr větší než 11 pm, druhých 50 % Částic má průměr, který je menší než 11 pm. Hodnota D-50 se při tom stanovuje po ošetření ultrazvukem po dobu 15 minut k desaglomeraci metodou Mastersizer podle ASTM B 822.
V důsledku struktury sekundárních částic prášků podle vynálezu vykazují tyto vynikající tekutost, která je významná pro další zpracování. Hodnoty tekutosti, stanovené zkušebním přístrojem tekutosti Halí Flow ASTM-B-213, činí u prášků podle vynálezu při použití nálevky 2,54 m 100 až 140 sekund, u nálevky 5,08 mm hodnoty 15 až 25 sekund.
io
Prášky podle vynálezu jsou dále prosté alkálií a fluoridů. Zejména obsahy alkálií leží pod 2 ppm a obsahy fluoridů pod tolerovatelnou hranicí 20 ppm, výhodně pod 5 ppm. Fluor, sodík a draslík jsou zejména v prášcích podle vynálezu obecně neprokazatelné. Obsahy kyslíku činí 4000 až 20 000 ppm.
Specifický povrch podle BET je v rozmezí od 1,5 do 10m2/g, výhodně nad 2m2/g, obzvláště výhodně mezi 3 a 6 m2/g.
Podle jedné výhodné formy provedení vynálezu se do reakční směsi již před zapálením přidávají látky brzdicí růst zárodků a brzdicí slinování, takže výsledný prášek je jimi dotován. Jako dotovací prostředky jsou výhodné látky, obsahující fosfor, a/nebo dusík.
Práškové tantaly podle vynálezu tedy výhodně mají obsahy fosforu od 30 do 2000 ppm, výhodně od 300 do 2000 ppm. Obsah dusíku výhodných práškových tantalů podle vynálezu může činit
1 00 až 15 000 ppm, obzvláště nejméně 500 ppm dusíku.
Jako fosforový dotovací prostředek se výhodně používá elementární fosfor, výhodně jako práškový červený fosfor. Dotovací prostředek se může přidávat v množství až 5000 ppm zápalné směsi.
Jako dusíkatý dotovací prostředek jsou vhodné amonné soli s těkavou složkou aniontu, jako je například chlorid amonný, nebo též dusík, nebo amoniak.
Při současném dotování dusíkem a fosforem se mohou jako dotovací prostředek výhodně použít fosforečnany amonné.
I když byl vynález vyvinut s použitím hydridu hořčíku jako redukčního prostředku je nutné vycházet z toho, že jako redukční prostředek se může též použít hydrid vápníku. Hydrid vápníku se od hydridu hořčíku liší v podstatě tím, že se rozkládá již při nižší teplotě od 280 do 300 °C, avšak má teplotu tavení nad 1000 °C. Je však nutné vycházet z toho, že reakce po zapálení probíhá tak rychle, že mezistav, kteiý je vyznačen rozkladem hydridu hořčíku, nemá na reakci žádný podstatný vliv. Mohou se očekávat pouze nevýznamné vlivy na reakční produkt. Obecně řečeno je předmětem vynálezu způsob výroby práškového tantalu zapálením směsi chloridu tantaličného a hydridu alkalických zemin, přičemž směs případně obsahuje dotovací prostředky, obsahující fosfor a/nebo dusík.
Po ukončené reakci se takto získaný práškový tantal izoluje promytím minerálním kyselinou, jako je například kyselina sírová, zejména s přísadou peroxidu vodíku. Takto promytý práškový tantal, prostý chloridů, se může zatížit za účelem dalšího dotování prostředky, obsahujícími fos50 for. Když je obsah kyslíku při předem zadaném specifickém povrchu po usušení v požadované koncentraci, může se materiál bez dalšího zpracování použít přímo k výrobě tantalových kondenzátorů. Když se požaduje snížení koncentrace kyslíku v práškovém tantalu, izolovaný a usušený práškový tantal se výhodně podrobí desoxidaci. Ta probíhá výhodně přísadou přimíšených hořčíkových hoblin při nižší teplotě od 650 do 900 °C, výhodně od 750 do 850 °C, v době od /2 hodi55 ny do 10 hodin, výhodně od 2 do 4 hodin. Takto získaný práškový tantal se pak zbaví zbytků
hořčíku promytím minerální kyselinou s případným přídavkem peroxidu vodíku a usuší se. Jako vhodná se ukázala zejména kyselina sírová. Po vyloužení zbytků hořčíku může dojít znovu k dotování fosforem. To se může výhodně provést smočením roztokem daného dotovacího prostředku. Obsah kyslíku v práškovém tantalu, používaném pro výrobu tantalových kondenzátorů, je výhodně při daném specifickém povrchu mezi 4000 a 20 000 ppm. Dále se výhodně upraví obsah dusíku na hodnoty od 100 do 15 000 ppm, což se dociluje zejména během desoxidace přísadou amoniaku. „Desoxidace“ se výhodně provádí i tehdy, když je obsah kyslíku v prášku již v požadovaném rozmezí. „Desoxidace“ pak slouží k redukci zbytků hořčíku a chloru z reakce zápalné směsi. Přítomnost hořčíku při tom způsobuje, že pri šetrném tepelném zpracování do io prášku nedifunduje žádný další kyslík. Slinuté anody, vyrobené zodpovídajících práškových tantalů, se vyznačují nízkými svodovými proudy, výhodně < 2 nA/pFV, výhodně zejména méně než 1 nA/pFV.
Tantalový prášek podle vynálezu se dále vyznačuje tím, zeje vhodný pro výrobu elektrolytických kondenzátorů se specifickým nábojem 120 000 až 180 000 pFV/g při specifickém svodovém proudu nižším než 2 nA/pFV desetiminutovým slinováním pri teplotě od 1100 do 1300 °C a formováním pri 16 V.
Ztantalového prášku podle vynálezu se mohou vyrobit lisované anody, které mají překvapivě vysokou mez pevnosti. Tyto lisované anody jsou rovněž předmětem vynálezu. Mez pevnosti těchto lisovaných anod podle vynálezu, měřená podle Chatiliona pří stupni slisování 5 g/cm3, činí mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg. Tato testovací metoda umožňuje prognózu stability výlisků a to, zda výrobce kondenzátorů musí pri procesu lisování počítat s mechanicky porušenými anodami. Ke zkoušce se používá Catillonův měřicí přístroj DFGS 10, který je určen k měření tažných a tlakových sil. Pro zjištění meze pevnosti se vylisuje anoda z prášku pri stupni slisování 5 g/cm3. Potom se anoda uloží na podložku a raznicí Chatillonova přístroje se za zvyšování tlaku tak dlouho lisuje, až se anoda rozbije. Hmotnost, při které se dosáhne rozbití anody se odečítá v kilogramech. Zkoušení se při tom provádělo na válcových lisovaných zkušebních anodách s hmotností 0,521 g, průměrem 5,1 mm a délkou 5,1 mm a stupněm slisování 5,0 g/cm3. Lisované anody, získané podle DE 1 9536 013 Al, naproti tomu vykazují mez pevnosti pouze < 4 kg.
Slinuté anody, vyrobené z práškového tantalu podle vynálezu, získané 10 minutovým slinováním prášku pri teplotách od 1 150 do 1 300 °C a formováním při 16 - 30 V, vykazují specifické náboje od 80 000 do 170 000 pFV/g, výhodně od 90 000 do 160 000 pFV/g. Obzvláště výhodně činí svodové proudy těchto slinutých anod podle vynálezu <2 nA/pFV.
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se rozdělila na tři stejné dávky a ty se odděleně od sebe uvedly elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou. Při tom se uvolnil chlorovodík. Reakce proběhly během několika málo minut.
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se po prosátí na sítě s velikostí ok 400 pm promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, až byla promývací voda prakticky prostá chloridů. Materiál se opakovanou dekantací zbavil většiny kyseliny a na nuČi se vodou vymyl od zbytků kyseliny, šetrně se usušil pri 45 °C a prosel na méně než 220 pm.
Takto vyrobený práškový tantaí vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík 33 000 ppm
Hořčík 1770 ppm
Sodík < 1 ppm
Draslík < 1 ppm
Fluorid < 2 ppm
Chlorid 361 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,37 pm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,58 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 9,12 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,03 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 10,50 pm
D 90 32,33 pm
Získané množství kovového tantalu: 74 g, což odpovídá výtěžku 73,7 %.
3 .krok: Desoxidace a kyselé toužení g primárního prášku se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakryté tantalové lodičce se v trubkové peci udržovalo po dobu 2 hodin při 900 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál pozvolným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo bez nebezpečí manipulovat na vzduchu, Zbytky hořčíku se z práškového tantalu rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak se materiál vodou zbavil kyseliny, usušil a prosel na < 220 pm.
Analýza:
Kyslík 7700 ppm
Dusík 2600 ppm
Specifický povrch dle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,35 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovily specifické náboje a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 1).
Příklad 2 .krok: Redukce
Směs 200 g TaCl5 a 22 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se uvedla elektrickým zapálením do reakce pod argonovou atmosférou.
2,krok: Promývání a sušení so Viz příklad 1,
Takto vyrobený práškový tantal vykazoval následující analytické údaje:
Kyslík 22 000 ppm
Hořčík 730 ppm
Sodík <1 ppm
Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid 409 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,33 gm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,78 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,73 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 0,94 gm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 9,84 gm
D90 31,88 gm
Získané množství kovového tantalu: 151 g, což odpovídá výtěžku 69 %.
3.krok: Dotování a nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
110 g práškového tantalu se smíchalo s 7,26 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se zahřívalo v retortě po 2 hodiny na 850 °C pod ochranným plynem (argon). Po ochlazení se materiál poz20 volným vpouštěním vzduchu po asi 18 hodin pasivoval, takže se s ním mohlo na vzduchu bezpečně zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Pak byl práškový tantal vodou zbaven kyseliny a materiál, vlhký z nuěe, se dotoval napouštěním 11 ml roztoku dihydrogenfosforečnanu amonného, který obsahoval 1 mg P v ml, na 100 ppm fosforu, usušil se a prosel na velikost < 220 gm.
Analýza;
Kyslík 7550 ppm
Mg 80 ppm
Dusík 2820 ppm
Cl 59 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,2 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2).
4.krok: Nová desoxidace a loužení kyselinou, nové dotování g výše získaného materiálu se smíchalo s 1,6 g hořčíkových hoblin, jak bylo popsáno v kroku 3, znovu se 2 hodiny desoxidovalo po dobu 2 hodin při 850 °C, pak se zpracovalo roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku, promytím se zbavilo kyseliny a ještě jednou dotovalo 50 ppm fosforu, takže celkový obsah fosforu nyní činil 150 ppm.
Analýza:
Kyslík 6170 ppm
Mg 60 ppm
Dusík 3210 ppm so Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 1,75 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 2B).
Příklad 3 l .krok: Redukce
Směs 1000 g TaCl5 a 115,5 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se dotovalo 71 mg červeného fosforu a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2.
2.krok: Promývání a sušení io Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
15 Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík Draslík 26 000 ppm 2820 ppm 150 ppm 14 ppm <1 ppm <1 ppm
20 Fluorid <2 ppm
Chlorid 784 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,34 pm
Sypná hmotnost podle Scotta 0,82 g/cm3
25 Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 5,74 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D10 0,87 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 10,12 pm
D90 30,19 pm
Získané množství kovového tantalu: 329 g, což odpovídá výtěžku 65 %.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3A).
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
100 g práškového tantalu se smíchalo s 7,8 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidací při 750 °C po dobu 4 hodin, jak bylo popsáno v příkladu 2. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem s 26 % kyseliny sírové a 6 % peroxidu vodíku. Materiál se vodou zbavil kyseliny, sušil při 45 °C, prosel na velikost pod 220 pm a homogenízoval.
Analýza: Kyslík 9770 ppm
Dusík 6090 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,12 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastností jsou v tabulce 2 (viz vzorek 3B).
CZ 301097 Bó
4.krok: Dotování
Část desoxidovaného prášku se dodatečně dotovala napuštěním roztokem dihydrogenfosforečnanu amonného na 150 ppm fosforu, usušila se a prosila na < 220 gm.
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 3C).
Příklad 4 .krok: Redukce is Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90%) se dotovala 151 mg červeného fosforu (=151 mg P) a pak se uvedla do reakce, jako v příkladu 2. Spálení proběhlo při sníženém proudu argonu. V důsledku toho byla během redukce docílena částečná nitridace dusíkem ze vzduchu.
2.krok: Promývání a sušení
Viz přikladl.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
25 Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík 12 000 ppm 12 000 ppm 680 ppm 1200 ppm <1 ppm
30 Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid 71 ppm
Velikost zrna pomocí Fisher Sub Sieve Sizer 0,57 gm
35 Sypná hmotnost podle Scotta 1,05 g/cm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,99 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,09 gm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 13,63 gm
D90 40,18 gm
Získané množství kovového tantalu: 129 g, což odpovídá výtěžku 85 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
75 g práškového tantalu se smíchalo s 2,7 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) a podrobilo se desoxidaci při 750 °C po dobu 4 hodin, jako v příkladu 2, a jako v příkladu 1 se zpracovalo kyselinou.
Analýza:
Kyslík 12 000 ppm
Mg 85 ppm
Dusík 12 000 ppm
Cl 23 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,92 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou v tabulce 2 (viz vzorek 4).
Příklad 5
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCb a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 76 mg červeného fosforu se uvedla do reakce, jako v příkladu 4.
2. krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
20 Kyslík Dusík Fosfor 12 000 ppm 14 000 ppm 360 ppm
Hořčík 460 ppm
Sodík <1 ppm
25 Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid 71 ppm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,18 g/cm3
30 Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,35 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,73 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 19,08 pm
D90 56,31 pm
Získané množství kovového tantalu: 131 g, což odpovídá výtěžku 86,4 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
Viz příklad 3.
Analýza:
Kyslík 10 000 ppm
Mg 75 ppm
Dusík 14 000 ppm
Cl 30 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,18 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 5).
Λ
Příklad 6 .krok: Redukce
Směs 300 g TaCI5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) se pod proudem argonu uvedla do reakce jako v příkladu 1.
2.krok: Promývání a sušení Viz příklad 1,
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
15 Kyslík Dusík Fosfor Hořčík Sodík 11 000 ppm 4360 ppm <1 ppm 980 ppm <1 ppm
20 Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
Chlorid 258 ppm
Primární zrno (z REM) <300 nm
25 Sypná hmotnost podle Scotta 1,40 g/cm3
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 2,45 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 3,30 μπι
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 33,14 pm
D90 114,95 pm
Získané množství kovového tantalu: 133 g, což odpovídá výtěžku 87,7 %.
3,krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
75 g práškového tantalu a 2,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza: Kyslík 7100 ppm
Dusík 4460 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 1,99 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 6).
Přiklad 7
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCls a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 152 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intenzivním proudem argonu, takže byl vyloučen přístup vzduchu.
2. krok: Promývání a sušení
Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
Kyslík
Dusík
Fosfor
Hořčík io Sodík Draslík Fluorid Chlorid
000 ppm 144 ppm 780 ppm 45 ppm <1 ppm <1 ppm <2 ppm 100 ppm
Primární zrno (z REM) < 150 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,10 g/cm3
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer 0,76 pm
Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,02 m2/g Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 2,25 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D 50 23,51 pm
D 90 58,43 pm
Získané množství kovového tantalu: 128 g, což odpovídá výtěžku 84,3 %.
3 .krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,00 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) - další zpracování viz příklad 3.
Analýza: Kyslík 11 000 ppm
Dusík 752 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,52 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2.
Příklad 8
1. krok: Redukce
Směs 300 g TaCI5 a 63 g MgH2 (obsah MgH2 90 %) a 304 mg červeného fosforu se uvedla do reakce pod intenzivním proudem argonu, takže je vyloučen přístup vzduchu.
2. krok: Promývání a sušení Viz příklad 1.
Práškový tantal vykazoval tyto analytické údaje:
000 ppm 240 ppm 1700 ppm
Kyslík
Dusík
Fosfor
1
Hořčík 65 ppm
Sodík <1 ppm
Draslík <1 ppm
Fluorid <2 ppm
5 Chlorid 79 ppm
Primární zrno (z REM) <100 nm
Sypná hmotnost podle Scotta 1,05 g/cm3
Velikost zrna podle Fisher Sub Sieve Sizer 0,55 pm
ío Specifický povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 4,82 m2/g
Mastersizer (ASTM-B-822) D 10 1,33 pm
Úprava ultrazvukem 15 min. D50 15,89pm
D90 49,19 pm
Velikost zrna byla znázorněna na snímku REM.
Získané množství kovového tantalu: 126 g, což odpovídá výtěžku 83 %.
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou g práškového tantalu a 4,47 g hořčíkových hoblin (dvojnásobek stechiometrického množství, počítáno na obsah kyslíku) se smíchalo a desoxidovalo po 4 hodiny při 750 °C. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku.
Analýza: Kyslík 12 000 ppm
Dusík 1440 ppm
Spec. povrch podle BET (Quantasorb 3-Punkt) 3,66 m2/g
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy. Podmínky pro výrobu anod, jakož i na nich naměřené elektrické vlastnosti jsou uvedené v tabulce 2 (viz vzorek 8).
Tabulka 1: Elektrické zkoušky
Vzorek PD-stupeň slisováni (g/cn3) Mez pevností anod Chatillon (kg) PD=5g/cn3 Teplota slinování CC) Bustota slinku (g/cn3) Fomování (V) Kapacita (CV/g) Svodový proud (oA/pFV)
1 5 nestanoveno 1200 4,6 16 79119 8,18
2A 5 nestanoveno 1200 4,9 16 84712 3,95
2B 5 3,1 1200 4,5 16 92113 3,97
3A 5,75 5,34 1200 6,1 16 114456 1,63
3B 5 nestanoveno 1200 4,9 16 119121 1,63
3C 5 nestanoveno 1200 4,9 16 123678 2,01
4 5 5,81 1200 4,6 16 149910 2,19
5 1250 4,8 16 143936 0,77
5 1300 5,5 16 111879 4,1
5 1250 5 30 84724 2,7
5 1250 5 20 106701 1,95
5 5 7,05 1200 4,7 16 133428 3,52
5 1250 4,8 16 123626 0,973
5 1300 5,6 16 104041 4,48
5 1300 5,9 30 80184 3,24
6 5 4,56 1200 5 16 95742 4,57
5 1250 5 16 88500 1,39
7 5 6.5 1200 4,8 16 155911 1,58
5 1250 5,2 16 144255 0,69
8 5 6,3 1200 4,8 16 151745 1,22
5 1250 5,8 16 130031 0,67
Hmota anod: 0,05 g Doba slinování: 10 minut
Příklady 9 až 16
l.krok: Redukce
Směs 300 g TaCl5 a 63 g MgH2 x g červeného fosforu a y g NH4C1 se elektrickým zažehnutím uvedla do reakce v atmosféře argonu (viz tabulka 2).
Tabulka 2
Příklad P X (mg) nh4ci y (mg)
9 0 0
10 152 0
11 304 0
12 0 2,32
13 0 4,64
14 152 1,16
15 152 2,32
16 152 4,64
2.krok: Promývání a sušení
Vychladlý reakční produkt se promýval roztokem kyseliny sírové a peroxidu vodíku, aby se odstranil chlorid hořečnatý. Materiál se jednou až dvěma dekantacemi zbavil větší části kyseliny a na nuči se vodou zbavil kyseliny, usušil se při 45 °C a prosil na menší velikost než 400 gm. Souvislost mezi obsahem dotujících látek s povrchem je uvedena v následující tabulce 3.
Tabulka 3
Příklad P X ppm N y ppm Spec. povrch dle BET (Quantasorb) (m2/g) Obsah Na/K (ppm) Obsah F (ppm)
9 0 0 2,30 <2 <5
10 1000 0 4,02 <2 <5
11 2000 0 4,82 <2 <5
12 0 4000 3,24 <2 <5
13 0 8000 4,05 <2 <5
14 1000 2000 3,94 <2 <5
15 1000 4000 4,15 <2 <5
16 1000 8000 5,29 <2 <5
3.krok: Nízkoteplotní desoxidace, jakož i loužení kyselinou
Práškový tantal se nyní smísil s dvojnásobkem stechiometrického množství hořčíkových hoblin (počítáno na obsah kyslíku) a v zakrytém tantalovém kelímku se udržoval v retortě pod ochran5 ným plynem (argon) na teplotě 750 °C po dobu 4 hodin. Po ochladnutí se materiál pasivoval pozvolným připouštěním vzduchu během asi 18 hodin, aby se s ním mohlo bez nebezpečí na vzduchu zacházet. Zbytky hořčíku se rozpustily roztokem, obsahujícím 8 % kyseliny sírové a 1,8 % peroxidu vodíku. Potom se práškový tantal zbavil kyseliny vymytím vodou, usušil se pří 45 °C a prosel na méně než 400 pm.
io
Výsledný prášek se slisoval na anody, slinoval a formoval, aby se pak stanovil specifický náboj a svodové proudy (viz tabulka 4).
Hmotnost anod: 0,0466 g
Stupeň slisování: 5,0 g/cm3
Formovací napětí: 16 V
Tabulka 4
Vzorek Mez pevnosti anod ChatilIon (kg) PD-5g/cm3 Teplota slinování CC) Hustota slinku (g/cm3) Kapacita (CV/g) Svodový proud ; (nA/gFV
9 6,64 1200 1250 5,1 5,3 103027 80681 3,0 1,8
10 6,50 1200 1250 4,6 5,2 147489 143895 0,5 1,7
11 6,50 1200 1250 4.4 5.5 155621 133532 0,6 1,9
12 4,96 1200 1250 5 5,5 107201 84343 2,0 1,9
13 5,14 1200 1250 5,3 5,7 109480 86875 2,9 1,3
14 5,48 1200 1250 5 5,3 148921 127065 1,8 4,0
15 7,37 1150 1200 1200 5 5,1 5,1 173696 160922 108526 0,8 1,7
16 7,52 1200 5,2 173300 1,4
<

Claims (6)

1. Tantalový prásek sestávající z aglomerátů s velikostí primárních částic 50 až 300 nm a hodnotou D-50 velikosti sekundárních částic podle ASTM-B-822 nad 10 pm, s obsahem alkaiií menším než 2 ppm a s obsahem fluoru menším než 20 ppm.
ío
2. Lisované anody vyrobené ztantalového prášku podle nároku 1. vyznačující se tím, že mez pevnosti anod, měřená dle Chat i liona při stupni slisování 5,0 g/cm'’ a hmotnosti anod 0,521 g, leží mezi 3 a 8 kg, výhodně mezi 4 a 7 kg.
3. Slinuté anody, vyrobené deseliminutovým slinováním lisovaných tantalových prášků podle
15 nároku 1 při teplotách od 1150 do 1300 °C a formováním při Ió až 30 V, v y z n a č u j í e í se tím, že vykazují specifické nábojeod 80 000 do 170 000 pmFV/g.
4. Způsob výroby tantalových prášků podle nároku 1, vyznačující se tím, že se směs chloridu tantalu a hydridů alkalických zemin nechá zreagovat zažehnutím v atmosféře
2o inertního plynu a při tom vzniklý tantalový prášek se izoluje vymytím minerálními kyselinami a usuší se.
5. Způsob podle nároku 4, vyznačující se tím. že směs obsahuje jako dotovací prostředek látky obsahující fosfor a/nebo dusík.
6. Způsob podle některého nároku 4 nebo 5, vyznačující se tím, že se izolovaný a usušený tantalový prášek podrobí desoxidaci.
CZ0296199A 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody CZ301097B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19706416 1997-02-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ296199A3 CZ296199A3 (cs) 2000-08-16
CZ301097B6 true CZ301097B6 (cs) 2009-11-04

Family

ID=7820742

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ0296199A CZ301097B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody
CZ2009-453A CZ304759B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2009-453A CZ304759B6 (cs) 1997-02-19 1998-02-09 Tantalový prášek prostý alkálií a fluoru a z něj vyrobené slinuté anody

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6193779B1 (cs)
EP (1) EP0964936B1 (cs)
JP (4) JP3817742B2 (cs)
KR (1) KR100511027B1 (cs)
CN (2) CN1080319C (cs)
AU (1) AU6396398A (cs)
BR (1) BR9807239A (cs)
CZ (2) CZ301097B6 (cs)
DE (1) DE59801634D1 (cs)
HK (2) HK1026459A1 (cs)
IL (2) IL131248A (cs)
PT (1) PT964936E (cs)
WO (1) WO1998037248A1 (cs)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ306436B6 (cs) * 2006-05-05 2017-01-25 Cabot Corporation Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru

Families Citing this family (84)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7435282B2 (en) 1994-08-01 2008-10-14 International Titanium Powder, Llc Elemental material and alloy
US7445658B2 (en) 1994-08-01 2008-11-04 Uchicago Argonne, Llc Titanium and titanium alloys
KR100241134B1 (ko) * 1994-08-01 2000-03-02 리차드 피. 앤더슨 금속 및 다른 원소들의 제조방법
US20030145682A1 (en) * 1994-08-01 2003-08-07 Kroftt-Brakston International, Inc. Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt
US20030061907A1 (en) * 1994-08-01 2003-04-03 Kroftt-Brakston International, Inc. Gel of elemental material or alloy and liquid metal and salt
US6576038B1 (en) * 1998-05-22 2003-06-10 Cabot Corporation Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties
DE19847012A1 (de) * 1998-10-13 2000-04-20 Starck H C Gmbh Co Kg Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung
JP3871824B2 (ja) * 1999-02-03 2007-01-24 キャボットスーパーメタル株式会社 高容量コンデンサー用タンタル粉末
JP2000306781A (ja) * 1999-04-21 2000-11-02 Showa Kyabotto Super Metal Kk 電解コンデンサ用金属粉末ならびにこれを用いた電解コンデンサ用陽極体および電解コンデンサ
US6375704B1 (en) 1999-05-12 2002-04-23 Cabot Corporation High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes
US6358625B1 (en) * 1999-10-11 2002-03-19 H. C. Starck, Inc. Refractory metals with improved adhesion strength
JP3585791B2 (ja) * 1999-11-04 2004-11-04 Ｎｅｃトーキン株式会社 固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法及びその製造方法に用いられる連続焼結装置
US6432161B1 (en) * 2000-02-08 2002-08-13 Cabot Supermetals K.K. Nitrogen-containing metal powder, production process thereof, and porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the metal powder
JP4049964B2 (ja) 2000-02-08 2008-02-20 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサー
IL151549A0 (en) 2000-03-01 2003-04-10 Cabot Corp Nitrided valve metals and processes for making the same
JP3718412B2 (ja) 2000-06-01 2005-11-24 キャボットスーパーメタル株式会社 ニオブまたはタンタル粉末およびその製造方法
JP2002060803A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Showa Kyabotto Super Metal Kk 電解コンデンサ用タンタル焼結体の製造方法
JP4187953B2 (ja) * 2001-08-15 2008-11-26 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
US7442227B2 (en) * 2001-10-09 2008-10-28 Washington Unniversity Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same
US7621977B2 (en) * 2001-10-09 2009-11-24 Cristal Us, Inc. System and method of producing metals and alloys
JP3610942B2 (ja) * 2001-10-12 2005-01-19 住友金属鉱山株式会社 ニオブおよび／またはタンタルの粉末の製造法
CN100351963C (zh) * 2001-11-08 2007-11-28 松下电器产业株式会社 电容器及其制造方法
DE10307716B4 (de) * 2002-03-12 2021-11-18 Taniobis Gmbh Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung
GB2410251B8 (en) * 2002-03-12 2018-07-25 Starck H C Gmbh Valve metal powders and process for producing them
US20050284824A1 (en) * 2002-09-07 2005-12-29 International Titanium Powder, Llc Filter cake treatment apparatus and method
UA79310C2 (en) * 2002-09-07 2007-06-11 Int Titanium Powder Llc Methods for production of alloys or ceramics with the use of armstrong method and device for their realization
WO2004022800A1 (en) * 2002-09-07 2004-03-18 International Titanium Powder, Llc. Process for separating ti from a ti slurry
WO2004033737A1 (en) * 2002-10-07 2004-04-22 International Titanium Powder, Llc. System and method of producing metals and alloys
DE602004007315D1 (de) * 2003-03-03 2007-08-16 Personnes A Responsibilite Lim Stabilisierte pharmazeutische Zusammensetzung enthaltend einen NSAID und einen Prostaglandin
WO2004097869A2 (en) * 2003-04-25 2004-11-11 Cabot Corporation A method of forming sintered valve metal material
CN100528417C (zh) * 2003-06-10 2009-08-19 卡伯特公司 钽粉及其制造方法
US20070180951A1 (en) * 2003-09-03 2007-08-09 Armstrong Donn R Separation system, method and apparatus
CN100450673C (zh) * 2004-04-15 2009-01-14 杰富意矿物股份有限公司 钽粉末及使用有它的固体电解电容器
DE102004020052B4 (de) * 2004-04-23 2008-03-06 H.C. Starck Gmbh Verfahren zur Herstellung von Niob- und Tantalpulver
RU2408450C2 (ru) * 2004-06-24 2011-01-10 Х.К. Штарк Инк. Получение порошков вентильных металлов с улучшенными физическими и электрическими свойствами
JP2008504692A (ja) * 2004-06-28 2008-02-14 キャボット　コーポレイション 高キャパシタンスのタンタルフレークス及びその生産方法
DE102004049040B4 (de) * 2004-10-08 2008-11-27 H.C. Starck Gmbh Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytkondensatoren
US20070017319A1 (en) * 2005-07-21 2007-01-25 International Titanium Powder, Llc. Titanium alloy
DE102005038551B3 (de) * 2005-08-12 2007-04-05 W.C. Heraeus Gmbh Draht und Gestell für einseitig gesockelte Lampen auf Basis von Niob oder Tantal sowie Herstellungsverfahren und Verwendung
JP2009511739A (ja) 2005-10-06 2009-03-19 インターナショナル・タイテイニアム・パウダー・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー ホウ化チタン
US20080031766A1 (en) * 2006-06-16 2008-02-07 International Titanium Powder, Llc Attrited titanium powder
GB0622463D0 (en) * 2006-11-10 2006-12-20 Avx Ltd Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes
US7753989B2 (en) * 2006-12-22 2010-07-13 Cristal Us, Inc. Direct passivation of metal powder
US7856265B2 (en) * 2007-02-22 2010-12-21 Cardiac Pacemakers, Inc. High voltage capacitor route with integrated failure point
US9127333B2 (en) * 2007-04-25 2015-09-08 Lance Jacobsen Liquid injection of VCL4 into superheated TiCL4 for the production of Ti-V alloy powder
EP2214853A4 (en) * 2007-10-15 2013-05-22 Hi Temp Specialty Metals Inc PROCESS FOR PREPARING TANTALUM POWDER USING RECYCLED AGENTS AS AN EXISTING MATERIAL
US7760487B2 (en) * 2007-10-22 2010-07-20 Avx Corporation Doped ceramic powder for use in forming capacitor anodes
GB0902486D0 (en) * 2009-02-13 2009-04-01 Metalysis Ltd A method for producing metal powders
US8203827B2 (en) * 2009-02-20 2012-06-19 Avx Corporation Anode for a solid electrolytic capacitor containing a non-metallic surface treatment
JP2010265520A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Cabot Supermetal Kk タンタル混合粉末及びその製造方法、並びにタンタルペレット及びその製造方法。
WO2011075511A2 (en) 2009-12-18 2011-06-23 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including multiple thicknesses
US8619408B2 (en) * 2009-12-18 2013-12-31 Cardiac Pacemakers, Inc. Sintered capacitor electrode including a folded connection
US8873220B2 (en) 2009-12-18 2014-10-28 Cardiac Pacemakers, Inc. Systems and methods to connect sintered aluminum electrodes of an energy storage device
JP5555331B2 (ja) 2009-12-18 2014-07-23 カーディアック ペースメイカーズ， インコーポレイテッド 植込み型医療デバイスにエネルギーを貯蔵する焼結電極を備えた装置
US9123470B2 (en) 2009-12-18 2015-09-01 Cardiac Pacemakers, Inc. Implantable energy storage device including a connection post to connect multiple electrodes
US8725252B2 (en) 2009-12-18 2014-05-13 Cardiac Pacemakers, Inc. Electric energy storage device electrode including an overcurrent protector
US8848341B2 (en) 2010-06-24 2014-09-30 Cardiac Pacemakers, Inc. Electronic component mounted on a capacitor electrode
US9214709B2 (en) 2010-12-21 2015-12-15 CastCAP Systems Corporation Battery-capacitor hybrid energy storage system for high temperature applications
US8760851B2 (en) 2010-12-21 2014-06-24 Fastcap Systems Corporation Electrochemical double-layer capacitor for high temperature applications
US9001495B2 (en) 2011-02-23 2015-04-07 Fastcap Systems Corporation High power and high energy electrodes using carbon nanotubes
BR112013030106B1 (pt) 2011-05-24 2022-02-22 Fastcap Systems Corporation Sistema de energia adaptado para suprir energia em um ambiente de alta temperatura
JP2014523841A (ja) 2011-06-07 2014-09-18 ファーストキャップ・システムズ・コーポレイション ウルトラキャパシタのためのエネルギー貯蔵媒体
US9558894B2 (en) 2011-07-08 2017-01-31 Fastcap Systems Corporation Advanced electrolyte systems and their use in energy storage devices
KR102413496B1 (ko) 2011-07-08 2022-06-24 패스트캡 시스템즈 코포레이션 고온 에너지 저장 장치
BR112014010635B1 (pt) 2011-11-03 2020-12-29 Fastcap Systems Corporation sistema de registro em log
US9669460B2 (en) 2011-11-15 2017-06-06 Showa Denko K.K. Method for producing fine tungsten powder
EP2866240B1 (en) * 2012-06-22 2018-02-21 Showa Denko K.K. Anode body for solid electrolytic capacitor
WO2014142359A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Global Advanced Metals Japan K.K. Method to passivate sintered anodes having a wire
CN103322871B (zh) * 2013-06-28 2015-04-22 柳州长虹机器制造公司 一种不含敏感火工品药剂的电雷管发火装置
US10872737B2 (en) 2013-10-09 2020-12-22 Fastcap Systems Corporation Advanced electrolytes for high temperature energy storage device
US11270850B2 (en) 2013-12-20 2022-03-08 Fastcap Systems Corporation Ultracapacitors with high frequency response
WO2015095858A2 (en) 2013-12-20 2015-06-25 Fastcap Systems Corporation Electromagnetic telemetry device
CN104858436B (zh) * 2014-02-21 2018-01-16 宁夏东方钽业股份有限公司 高可靠高比容电解电容器用钽粉的制备方法
JP2014218748A (ja) * 2014-06-18 2014-11-20 キャボットスーパーメタル株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
EP3204955B1 (en) 2014-10-09 2022-01-05 Fastcap Systems Corporation Nanostructured electrode for energy storage device
WO2016070303A1 (zh) * 2014-11-03 2016-05-12 宁夏东方钽业股份有限公司 钽粉及其制造方法和由其制成的烧结阳极
US10290430B2 (en) 2014-11-24 2019-05-14 Avx Corporation Wet Electrolytic Capacitor for an Implantable Medical Device
KR20230164229A (ko) 2015-01-27 2023-12-01 패스트캡 시스템즈 코포레이션 넓은 온도 범위 울트라커패시터
JP2016166422A (ja) * 2016-04-12 2016-09-15 グローバルアドバンストメタルジャパン株式会社 窒素含有金属粉末の製造方法
JP6977021B2 (ja) * 2016-07-13 2021-12-08 ニンシア オリエント タンタル インダストリー カンパニー、 リミテッド 薄片状タンタル粉末およびその調製方法
US20180144874A1 (en) * 2016-10-21 2018-05-24 Global Advanced Metals, Usa, Inc. Tantalum Powder, Anode, And Capacitor Including Same, And Manufacturing Methods Thereof
KR20190083368A (ko) 2016-12-02 2019-07-11 패스트캡 시스템즈 코포레이션 복합 전극
US11534830B2 (en) * 2017-12-28 2022-12-27 Ningxia Orient Tantalum Industry Co., Ltd Tantalum powder and preparation method therefor
US11557765B2 (en) 2019-07-05 2023-01-17 Fastcap Systems Corporation Electrodes for energy storage devices

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0347668A2 (de) * 1988-06-22 1989-12-27 H.C. Starck GmbH & Co. KG Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung
US4968481A (en) * 1989-09-28 1990-11-06 V Tech Corporation Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics
DE19536014A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
DE19536013A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
EP0744234A1 (de) * 1995-05-26 1996-11-27 Th. Goldschmidt AG Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE32260E (en) * 1975-07-14 1986-10-07 Fansteel Inc. Tantalum powder and method of making the same
US4441927A (en) * 1982-11-16 1984-04-10 Cabot Corporation Tantalum powder composition
DE3309891A1 (de) * 1983-03-18 1984-10-31 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren
JPS61284501A (ja) * 1985-06-10 1986-12-15 Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk タンタル粉末の製造方法
JPH02310301A (ja) * 1989-05-24 1990-12-26 Showa Kiyabotsuto Suupaa Metal Kk タンタル粉末及びその製造法
JP2512886B2 (ja) * 1989-09-28 1996-07-03 東亞合成株式会社 含フッ素共重合体および該共重合体からなる塗料
US5234491A (en) * 1990-05-17 1993-08-10 Cabot Corporation Method of producing high surface area, low metal impurity
US5442978A (en) 1994-05-19 1995-08-22 H. C. Starck, Inc. Tantalum production via a reduction of K2TAF7, with diluent salt, with reducing agent provided in a fast series of slug additions
US5954856A (en) * 1996-04-25 1999-09-21 Cabot Corporation Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0347668A2 (de) * 1988-06-22 1989-12-27 H.C. Starck GmbH & Co. KG Feinkörnige hochreine Erdsäuremetallpulver, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung
US4968481A (en) * 1989-09-28 1990-11-06 V Tech Corporation Tantalum powder with improved capacitor anode processing characteristics
DE19536014A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
DE19536013A1 (de) * 1994-09-28 1996-04-04 Starck Vtech Ltd Tantalpulver und seine Verwendung bei einem Elektrolytkondensator
EP0744234A1 (de) * 1995-05-26 1996-11-27 Th. Goldschmidt AG Verfahren zur Herstellung röntgenamorpher und nanokristalliner Metallpulver

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ306436B6 (cs) * 2006-05-05 2017-01-25 Cabot Corporation Tantalový prášek a způsob jeho výroby a anoda elektrolytického kondenzátoru

Also Published As

Publication number Publication date
CN1258785C (zh) 2006-06-07
DE59801634D1 (de) 2001-11-08
JP3817742B2 (ja) 2006-09-06
EP0964936B1 (de) 2001-10-04
HK1047188A1 (en) 2003-02-07
CN1080319C (zh) 2002-03-06
CN1247575A (zh) 2000-03-15
JP4974799B2 (ja) 2012-07-11
KR100511027B1 (ko) 2005-08-31
HK1047188B (zh) 2007-01-19
JP2006183150A (ja) 2006-07-13
PT964936E (pt) 2002-03-28
WO1998037248A1 (de) 1998-08-27
KR20000071175A (ko) 2000-11-25
JP4616313B2 (ja) 2011-01-19
CZ296199A3 (cs) 2000-08-16
IL131248A0 (en) 2001-01-28
US6193779B1 (en) 2001-02-27
IL131248A (en) 2002-09-12
EP0964936A1 (de) 1999-12-22
AU6396398A (en) 1998-09-09
CN1368744A (zh) 2002-09-11
IL146669A (en) 2007-02-11
JP2007335884A (ja) 2007-12-27
IL146669A0 (en) 2002-07-25
JP4137125B2 (ja) 2008-08-20
JP2001512530A (ja) 2001-08-21
HK1026459A1 (en) 2000-12-15
CZ304759B6 (cs) 2014-09-24
BR9807239A (pt) 2000-04-25
JP2007335885A (ja) 2007-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ301097B6 (cs) Tantalový prášek sestávající z aglomerátu, zpusob jeho výroby a z nej získané slinuté anody
KR100522066B1 (ko) 탄탈 분말, 그의 제조 방법 및 그로부터 얻어진 소결 양극
JP3174341B2 (ja) 改良されたタンタル粉末の製造方法及びその粉末から得られる高キャパシタンスで電気漏れの少ない電極
KR102546515B1 (ko) 구형 분말을 함유하는 애노드 및 커패시터
AU755289B2 (en) Niobium powder and a process for the production of niobium and/or tantalum powders
US20020050185A1 (en) Tantalum powder for capacitors
CZ300132B6 (cs) Zpusob výroby tantalových a/nebo niobových práškus velkým specifickým povrchem
JP4187953B2 (ja) 窒素含有金属粉末の製造方法
JPS5871614A (ja) 電子材料用金属粉末及びその製造法
EA020381B1 (ru) Способ получения металлических порошков
CZ301396B6 (cs) Kovový tantalový prášek obsahující dusík, zpusob jeho prípravy, porézní slinuté teleso a elektrolytický kondenzátor jej obsahující
JPH08239207A (ja) 窒化タンタル粉末
JP2002030301A (ja) 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサ
CZ309286B6 (cs) Způsob výroby tantalového prášku
JP2688452B2 (ja) 高表面積、低金属不純物のタンタル粉末の製造方法
US20080011124A1 (en) Deoxidation of Valve Metal Powders
RU2236930C1 (ru) Способ получения легированного порошка вентильного металла
JP2004339567A (ja) タンタルおよび／またはニオブの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic
MK4A Patent expired

Effective date: 20180209