CS209838B2 - Valve - Google Patents

Valve Download PDF

Info

Publication number
CS209838B2
CS209838B2 CS723366A CS336672A CS209838B2 CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2 CS 723366 A CS723366 A CS 723366A CS 336672 A CS336672 A CS 336672A CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
valve
ball
poppet
valve according
plate
Prior art date
Application number
CS723366A
Other languages
English (en)
Inventor
Max E Grantham
Original Assignee
Max E Grantham
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Max E Grantham filed Critical Max E Grantham
Publication of CS209838B2 publication Critical patent/CS209838B2/cs

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/44Mechanical actuating means
    • F16K31/52Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
    • F16K31/524Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
    • F16K31/52408Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
    • F16K31/52416Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve comprising a multiple-way lift valve
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/44Mechanical actuating means
    • F16K31/52Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
    • F16K31/524Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
    • F16K31/52408Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86389Programmer or timer
    • Y10T137/86405Repeating cycle
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86389Programmer or timer
    • Y10T137/86445Plural, sequential, valve actuations
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86919Sequentially closing and opening alternately seating flow controllers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/87169Supply and exhaust
    • Y10T137/87233Biased exhaust valve
    • Y10T137/87241Biased closed
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/18Mechanical movements
    • Y10T74/18056Rotary to or from reciprocating or oscillating
    • Y10T74/18296Cam and slide
    • Y10T74/18304Axial cam

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mechanically-Actuated Valves (AREA)
  • Multiple-Way Valves (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)
  • Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
  • Taps Or Cocks (AREA)

Description

(54) Ventil
Předmětem vynálezu je ventil. Mnohé ventily se uvádějí v činnost různými vačkami, které však obvykle mají tu nevýhodu, že křivková dráha vačky se při nepřetržitém používání rychle opotřebuje i vzdor jejímu velmi tvrdému povrchu a mazání.
Jsou známy poháněči mechanismy ventilů používající ve snaze po snížení opotřebení valivých členů například podle belgického patentu č. 521 182, znázorňujícího zařízení opatřené otáčivým členem s částí přidržující kuličku, kterážto část i s kuličkou je upravena pod zvláštním zdvihátkem vlastního ventilu.
Nevýhodou popsaného známého uspořádání je, že osa otáčení otáčivého členu je kolmá k ose zdvihátka a že otáčivý člen se nepohybuje plynule v jednom směru, nýbrž koná oscilační pohyb kolem své osy v rozsahu asi 30°, přičemž do styku se zdvihátkem přichází tatáž část povrchu kuličky.
Dále je známo uspořádání podle německého patentu čís. 347 776, znázorňující zařízení s čelní vačkou působící na kuličku pohánějící ventil. Nevýhodou tohoto uspořádání je, že kulička je ve stálém styku s křivkovou drahou čelní vačky.
Úkolem vynálezu je návrh .ventilu opatřeného poháněcím mechanismem, vykazu2 jícím nejmenší míru opotřebení a odstraňujícím nevýhody známých zařízení.
Úkol byl podle vynálezu vyřešen pro ventil s dříkem uváděným do pohybu za účelem otevření a zavření pohybem zdvihátka a opatřený prostředky pro pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa ventilu s přívodem opatřeným prvním talířovým ventilem, vývodem opatřeným druhým talířovým ventilem a výfukem spojeným přes druhý talířový ventil s vývodem, přičemž první talířový ventil má první dřík a druhý talířový ventil má druhý dřík, oba dříky jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou, uloženou v kruhových otvorech kruhové desky, uspořádané otáčivě v tělese ventilu.
Dále podle vynálezu talířové ventily sestávají z hlav, jejichž dříky jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními do komory tělesa ventilu, proti alespoň jedné kuličce.
Rovněž podle vynálezu o hlavy talířových ventilů jsou opřeny tlačné pružiny.
Podle dalšího význaku vynálezu prostor pod prvním talířovým ventilem je spojen s prostorem nad druhým talířovým ventilem kanálem.
Podle ještě dalšího význaku vynálezu kru209838 hováč ' deska je -uložena otočně na čepu- rovnoběžném s dříky, upevněném v tělese . - ventílií; ,
Dalším význakem vynálezu je, že ' - kuličky spočívají na pevné desce, upravené na dolním konci komory tělesa ventilu.
Ještě - dalším - význakem vynálezu je, že pevná deska je tvořena dnem tělesa ventilu.
Dále podle vynálezu kruhová dsska je rovnoběžná s pevnou deskou.
Rovněž podle vynálezu kruhová deska je opatřena na obvodu ozubením v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem.
Ještě dále podle vynálezu kulička je ze skla.
Rovněž podle vynálezu kulička je z oceli.
Konečně podle vynálezu kulička je z materiálu o- tvrdosti 35 - dle Rockwella, kterážto tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky a dříků.
Výhodou uspořádání ventilu podle vynálezu je okolnost, že kruhová deska unášející kuličku, se stále plynule otáčí, čímž snižuje opotřebení kuličky, -poněvadž všechny části - jejího povrchu přicházejí do styku s dřívkem ventilu. Další výhodou vynálezu je, že kulička nebo- kuličky jsou zatíženy pouze v okamžiku styku s dříkem ventilu, což nejen prodlužuje životnost kuličky nebo kuliček samých, ale rovněž životnost povrchu, po němž se odvalují.
Rovněž průměr kuličky -a průměr její odvalovací dráhy na kruhové desce je volen tak, aby do- styku s - dříkem ventilu přicházely nejrůznější - části - jejího- povrchu, což zcela plní úkol vynálezu, vytvořit poháněči mechanismus ventilu s prakticky nejmenším' opotřebením.
Dva příklady vzduchových regulačních ventilů budou dále podrobně popsány na příkladech provedení ve vztahu k výkresu, ría němž - značí: obr. 1 schematický nárysný řež· - - prvním provedením vzduchového- regulačního- ventilu, obr. 2 nárysný schematický řez druhým provedením vzduchového regulačního ventilu.
V - obou obrázcích jsou pro sobě odpovídající - části použity stejné vztahové značky.
Vzduchový - regulační ventil má těleso 11 ventilu, - v němž - je upraven přívod 12, vývod 13 a- výfuk 14. Přívod 12 je připojen k - zásobníku například přes vzduchový pojistný - ventil a výstup 13 může být připojen k čerpací jednotce, například -k pístovým čerpadlům podvozkové mazací jednotky. Vstup - 12 je vytvořen - v první zátce 15, opatřené závitem a zašroubované do· tělesa 11 ventilu, přičemž - první vrtání 16 v první zátce 15, je spojeno- s prvním souosým vrtáním 17 v tělese 11 ventilu. Ventilový prvek ve tvaru prvního* talířového ventilu 18 uzavírá -první sedlo 19 v dolní části souosého vrtání 17, přičemž hlava 20 talířového vrtání -se nachází - v souosém vrtání 17 a první dřík 21 prochází prvním sedlem 19. Povrch - hlavy 20 talířového- ventilu, přivrá cený - ke vstupu, má první - osazení 22. Mezi prvním osazením 22 a druhým osazením 24, tvořeným koncem první zátky 15, vzniklým tak, že průměr vrtání 16 je menší, než průměr souosého- vrtání 17, je vložena tlačná pružina 23.
Hlava 20 prvního talířového ventilu 18 nese v prstencovém sedle O-kroužek 25, z pružně stlačitelného materiálu, například z neopránu, který utěsňuje první sedlo* 19, když je první talířový ventil 18 uzavřen.
Vývod 13 má obdobně druhou zátku 26 s druhým -vrtáním 27, spojeným s - druhým souosým vrtáním 28 v tělese 11 ventilu. V dolní části druhého souosého vrtání 28 se nachází druhé sedlo 29, které se uzavírá ventilovým prvkem ve tvaru druhého talířového- ventilu 30, zavřeného účinkem druhé tlačné -pružiny 33 a -opatřeného druhým dříkem 32.
První vrtání 16 a první souosé vrtání - 17, druhé vrtání 27 a druhé souosé vrtání 28 jsou vzájemně rovnoběžné tak jako i osy prvního- a druhého- talířového ventilu 18, 30. Uspořádání druhého talířového- ventilu 30 je stejné jako prvního talířového- ventilu 18, a proto- nebude dále popisováno. Kanál 31 spojuje prostor pod prvním sedlem 19 protilehlým souosém vrtání 17 s prostorem nad druhým souosým vrtáním 28 na druhým talířovým ventilem 30. Druhé sedlo 29 je spojeno s výfukem 14 na straně protilehlé druhému souosému vrtání 28.
První a druhý talířový ventil 18, 30 jsou uváděny v činnost zvedacími prvky, které zvedají dříky 21, 32, a tím zvedají i talířové - ventily 18, 30 z jejich klidové polohy proti působení první - tlačné pružiny 23 a druhé tlačné pružiny 33. - Tyto zvedací prvky jsou vytvořeny jako- otáčivá kruhová deska 34 s kruhovým -otvorem 43, v němž je uložena kulička 35 ze skla, která se valí po pevné desce 36, uzavírající komoru 37, v níž se nachází kulička 35 a otáčivá deska 34. Kulička je v kruhovém otvoru 43 uložena s vůlí, takže se může volně valit.Ventilové dříky 21, 32 dosahují do komory 37 na straně protilehlé pevné desce 36, přičemž ty části dříků 21, 32, které vyčnívají do komory 37, tvoří zdvihátka. Dříky 21, 32 jsou vedeny vedeními 38, 39 a jsou utěsněny vůči nim O kroužky 40, 41.
. Otáčivá kruhová deska 34 a pevná deska 36 jsou rovnoběžné, ventilové dříky 21, 32 jsou k těmto deskám - kolmé. Otáčivá kruhová deska 34 se nuceně -otáčí kolem' -osy k ní kolmé na čepu 42, který jí prochází, přičemž čep 42 je upraven mezi tělesem 11 ventilu a pevnou deskou 36. Kruhový otvor 43, procházející otáčivou kruhovou deskou unáší kuličku 35 s otáčivou kruhovou deskou 34 při jejím otáčení kolem čepu 42. Kruhový otvor 43 je - umístěn v otáčivé desce 34 tak, že když se deska otáčí, kulička prochází -přímo - pod ventilovými dříky 21, 32 -a jak je patrno- z obr. 1, kulička 35 se nemůže z otvoru 43 vyprostit, protože pevná deska 36 je vzdálena od druhé stěny komory 37 jen o něco více, než je průměr kuličky 35. Ventilové dříky 21, 32 vyčnívají do komory 37 v takové míře, že vzdálenost mezi ' dolním koncem dříku 21, 32 a pevnou deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35.
Otáčivá kruhová -deska 34 má na vnějším okraji zuby 44, které ' zabírají s neznázorněným šnekem, poháněným hnacím . šroubovým vřetenem 45.
Funkce vzduchového regulačního ventilu je tato: Hnací . šroubové vřeteno 45 se otáčí, což působí otáčení šneku a zubů 44, čímž se otáčí i otáčivá deska .na čepu 42. Když kulička 35 není . ve styku s žádným z dříků 21, 32, jsou talířové ventily 18, . 30 v uzavřené poloze, v kterémžto případě neprochází vzduch od přívodu 12, ani· nevychází z vývodu 13, nebo k němu.
Když . se kruhová otáčivá deska 34 otáčí, kulička 35 . se pohybuje tak, že prochází mezi pevnou deskou 36 a ventilovým dříkem 21 a zvedne jej proti síle tlačné pružiny 23, protože vzdálenost mezi dříkem 21 a deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35. Ačkoliv dolní povrch ventilového dříku 21 klouže .po. povrchu kuličky . 35, nebo. alternativně, plocha pevné desky 36 klouže po povrchu kuličky 35, pak při každém dotyku .kuličky 35 s dříkem 21 dotýká se dříku 21 jiná část povrchu kuličky 35, takže opotřebení se rozděluje po celém povrchu kuličky 35. To je v protikladu s používáním normální vačky, kde se ventilového. dříku dotýká vždy stejná část povrchu vačky, která se proto rychle opotřebuje.
Když je první talířový ventil 18 otevřen, může vzduch procházet od přívodu 12 přes vrtání 16, 17 za .první talířový ventil 18 prvním· sedlem 19 do. kanálu 31 k druhému souosému vrtání 28, druhému vrtání 27 a pak ven vývodem 13, například k podvozkové mazací jednotce.
Když se otáčivá kruhová deska 34 dále otáčí, kulička 35 vyjde ze styku s prvním dříkem 21, .a tak se první talířový ventil 18 uzavře. Je vidět, že k podvozkové mazací jednotce byl připuštěn vzduchový impuls. Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí .dále a kulička 35 prochází mezi pevnou deskou 36 a druhým dříkem 32, otevře druhý talířový . ventil 30 zvednutím druhého dříku 32 a posunutím druhého talířového. ventilu' 30 proti účinku druhé tlačné pružiny 33. 0tevření druhého. talířového ventilu 30 umožní, aby vzduch proudil z podvozkové mazací jednotky přes druhé vrtání 27 dru6 hé souosé vrtání 28, druhé sedlo. 29 do výfuku 14.
Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí dále tak, že talířové ventily 18, 30 budou střídavě otevírány na krátkou dobu a vytvoří se spojení od přívodu 12 k vývodu 13 a střídavě od vývodu 13 do výfuku 14.
Výhody tohoto. uspořádání byly uvedeny výše, například snížení opotřebení valivých povrchů, poněvadž kulička .35 se stýká . s ventilovými dříky 21, 32 vždy jinou částí povrchu. Další výhodou je, že když se na pevné desce nachází malé množství maziva, toto mazivo se povrchem kuličky 35 nadzdvihuje při jejím otáčení a ukládá se na dřících 21, 32, čímž . jsou dříky 21, 32 mazány při jejích pohybu ve ventilových vedeních 38, 39. Druhý dřík 32 je vytvořen například z mosazi, která je odolná proti opotřebení při nedostatečném· mazání a kulička 35 má známou, spolehlivou povrchové úpravu a povrch velmi tvrdý, který se stykem s dříkem neopotřebovává, a který ani neabso-rbuje drť z opotřebení dříku, což by urychlovalo. celkové opotřebení. Takto však je opotřebení malé.
Vzduchový regulační ventil podle obr. 2 je ve většině . ohledů podobný regulačnímu vzduchovému ventilu podle obr. 1. Nicméně v tomto. .případě čep 42 je uložen pouze v pevné desce 36 a otáčivá deska 34 místo, aby byla v odstupu od pevné desky 36, nyní na ní spočívá. Tření je zmenšené použitím vhodných materiálů a mazivem v komoře .37.
Jino-u změnou Je, že kulička 35 je z .ocele.
Vynález není omezen na podrobnosti předcházejících příkladů. U jiných aplikací, například může kulička 35 uvádět v činnost pouze jeden ventil nebo alespoň dva ventily za páčku .otáčivé kruhové desky 34. I způsob pohonu otáčivé kruhové desky 34 může být různý, přičemž například otáčivá kruhová deska 34 se pohání přímo, .otáčejícím se hřídelem. U mnoha aplikací nebude potřebné vzájemně spojit talířové ventily . 18, 30 způsobem, znázorněným v tomto příkladu, ale ventily mohou pracovat úplně nezávisle při otevírání a zavírání přidružených vstupních a výstupních otvorů.
Ventily není nutno uvádět v činnost kuličkou působící přímo na dříky, ale lze použít zvláštní zvedákový prvek. I otáčivá deska 34 nemusí být zcela plochá, . ale může mít tvar klece, je přitom pouze nutné, aby měla prvky pro. uchycení kuličky 35 a pro její otáčení kolem osy vzdálené od kuličky 35.

Claims (12)

  1. předmět
    1. Ventil s dříkem uváděným do· pohybu pohybem zdvihátka . a opatřený prostředky pro · pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa (11) ventilu, s přívodem (12) opatřeným prvním talířovým · ventilem (18), vývodem (13) opatřeným druhým talířovým veniilem (30) a výfukem (14) spojeným přes druhý talířový ventil (30) s vývodem (13), přičemž první talířový ventil (18) má první dřík (21) a druhý talířový ventil (30) má druhý dřík (32), kteréžto dříky (21, 32) jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou (35), uloženou v kruhových otvorech (43) kruhové desky (34), uspořádané otáčivě v tělese (11) ventilu.
  2. 2. Ventil podle bodu 1 vyznačený tím, že talířové ventily [18, 30) sestávají z hlav · (20), jejichž dříky (21, 32) jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními (38, 39) do komory (37) tělesa (11) ventilu proti alespoň jedné kuličce (35).
  3. 3. Ventil podle bodů 1 a 2 vyznačený tím, že o hlavy (20) talířových ventilu (18, 30) jsou opřeny tlačné pružiny (23, 33).
  4. 4. Ventil podle bodů 1 až 3 vyznačený tím, že prostor pod prvním talířovým ventilem· (18) je spojen s prostorem nad druVYNALEZU hým talířovým ventilem (30) kanálem (31).
  5. 5. Ventil podle bodů 1 až 4 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je uložena otočně na čepu (42), rovnoběžném s dříky (21, 32) upevněném v tělese (11) ventilu.
  6. 6. Ventil podle bodů 1 až ·5 vyznačený tím, že kuličky (35) spočívají na pevné desce (36) upravené na dolním konci komory (37) tělesa (11) ventilu.
  7. 7. Ventil podle bodů 1 až 6 vyznačený tím, že pevná deska (36) je tvořena dnem tělesa (11) ventilu.
  8. 8. Ventil podle · bodů 1 až 7 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je rovnoběžná s pevnou deskou (36).
  9. 9. Ventil podle bodů 1 až 8 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je •opatřena na obvodu ozubením (44) v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem (45).
  10. 10. Ventil podle bodů 1 až 9 · vyznačený tím, že kulička (35) je ze skla.
  11. 11. Ventil podle bodů 1 až 10 vyznačený tím, že kulička (35) je z oceli.
  12. 12. Ventil podle bodů 1 až 11 vyznačený tím, že kulička (35) je z materiálu o tvrdosti 35 dle Rockwella, kterážto· tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky (36) a dříků (21, 32).
CS723366A 1971-05-17 1972-05-17 Valve CS209838B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1530071 1971-05-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS209838B2 true CS209838B2 (en) 1981-12-31

Family

ID=10056633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS723366A CS209838B2 (en) 1971-05-17 1972-05-17 Valve

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3814128A (cs)
JP (1) JPS549329B2 (cs)
CA (1) CA957240A (cs)
CS (1) CS209838B2 (cs)
DE (1) DE2223687C2 (cs)
FR (1) FR2137920B1 (cs)
GB (1) GB1337173A (cs)
IT (1) IT957871B (cs)
NL (1) NL167019C (cs)
SE (1) SE382105B (cs)

Families Citing this family (283)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2644312C2 (de) * 1976-10-01 1978-11-23 Neiman Gmbh + Co Kg, 5600 Wuppertal Vorrichtung zur Sperrung eines in gesperrter Lage befindlichen, zylinderschloßbetätigbaren Sperriegels
US4747424A (en) * 1986-10-02 1988-05-31 Chapman Leonard T Hydraulic valve
NL9001451A (nl) * 1990-06-25 1992-01-16 Asm Europ Driewegklep.
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10343920B2 (en) 2016-03-18 2019-07-09 Asm Ip Holding B.V. Aligned carbon nanotubes
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR102762543B1 (ko) 2016-12-14 2025-02-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
KR102700194B1 (ko) 2016-12-19 2024-08-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US12040200B2 (en) 2017-06-20 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
TWI815813B (zh) 2017-08-04 2023-09-21 荷蘭商Asm智慧財產控股公司 用於分配反應腔內氣體的噴頭總成
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
US11639811B2 (en) 2017-11-27 2023-05-02 Asm Ip Holding B.V. Apparatus including a clean mini environment
TWI779134B (zh) 2017-11-27 2022-10-01 荷蘭商Asm智慧財產控股私人有限公司 用於儲存晶圓匣的儲存裝置及批爐總成
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TWI852426B (zh) 2018-01-19 2024-08-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沈積方法
KR102695659B1 (ko) 2018-01-19 2024-08-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 플라즈마 보조 증착에 의해 갭 충진 층을 증착하는 방법
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR102657269B1 (ko) 2018-02-14 2024-04-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 주기적 증착 공정에 의해 기판 상에 루테늄-함유 막을 증착하는 방법
US10731249B2 (en) 2018-02-15 2020-08-04 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
KR102600229B1 (ko) 2018-04-09 2023-11-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US12025484B2 (en) 2018-05-08 2024-07-02 Asm Ip Holding B.V. Thin film forming method
KR102709511B1 (ko) 2018-05-08 2024-09-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 산화물 막을 주기적 증착 공정에 의해 증착하기 위한 방법 및 관련 소자 구조
US12272527B2 (en) 2018-05-09 2025-04-08 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
TWI840362B (zh) 2018-06-04 2024-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 水氣降低的晶圓處置腔室
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102854019B1 (ko) 2018-06-27 2025-09-02 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 필름 및 구조체
CN112292477A (zh) 2018-06-27 2021-01-29 Asm Ip私人控股有限公司 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR102707956B1 (ko) 2018-09-11 2024-09-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344B (zh) 2018-10-01 2024-10-25 Asmip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US12378665B2 (en) 2018-10-26 2025-08-05 Asm Ip Holding B.V. High temperature coatings for a preclean and etch apparatus and related methods
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR102748291B1 (ko) 2018-11-02 2024-12-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US12040199B2 (en) 2018-11-28 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
TWI874340B (zh) 2018-12-14 2025-03-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR102727227B1 (ko) 2019-01-22 2024-11-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
JP7509548B2 (ja) 2019-02-20 2024-07-02 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基材表面内に形成された凹部を充填するための周期的堆積方法および装置
TWI838458B (zh) 2019-02-20 2024-04-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於3d nand應用中之插塞填充沉積之設備及方法
TWI873122B (zh) 2019-02-20 2025-02-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
TWI842826B (zh) 2019-02-22 2024-05-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
US11742198B2 (en) 2019-03-08 2023-08-29 Asm Ip Holding B.V. Structure including SiOCN layer and method of forming same
KR102782593B1 (ko) 2019-03-08 2025-03-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR102858005B1 (ko) 2019-03-08 2025-09-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
JP2020167398A (ja) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
KR102809999B1 (ko) 2019-04-01 2025-05-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR102869364B1 (ko) 2019-05-07 2025-10-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP7612342B2 (ja) 2019-05-16 2025-01-14 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
JP7598201B2 (ja) 2019-05-16 2024-12-11 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
KR102918757B1 (ko) 2019-06-10 2026-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR102911421B1 (ko) 2019-07-03 2026-01-12 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP7499079B2 (ja) 2019-07-09 2024-06-13 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646B (zh) 2019-07-10 2026-02-10 Asmip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR102895115B1 (ko) 2019-07-16 2025-12-03 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR102860110B1 (ko) 2019-07-17 2025-09-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
KR102903090B1 (ko) 2019-07-19 2025-12-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법
TWI839544B (zh) 2019-07-19 2024-04-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法
CN112309843B (zh) 2019-07-29 2026-01-23 Asmip私人控股有限公司 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
CN112309899B (zh) 2019-07-30 2025-11-14 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
KR20210015655A (ko) 2019-07-30 2021-02-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 방법
CN112309900B (zh) 2019-07-30 2025-11-04 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
KR20210018759A (ko) 2019-08-05 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서
KR20210018761A (ko) 2019-08-09 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP7810514B2 (ja) 2019-08-21 2026-02-03 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
TWI838570B (zh) 2019-08-23 2024-04-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 使用雙(二乙基胺基)矽烷藉由peald沉積具有經改良品質之氧化矽膜的方法
KR102868968B1 (ko) 2019-09-03 2025-10-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 칼코지나이드 막 및 상기 막을 포함한 구조체를 증착하기 위한 방법 및 장치
KR102806450B1 (ko) 2019-09-04 2025-05-12 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR102733104B1 (ko) 2019-09-05 2024-11-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US12469693B2 (en) 2019-09-17 2025-11-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202128273A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法
KR20210042810A (ko) 2019-10-08 2021-04-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
TWI846953B (zh) 2019-10-08 2024-07-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理裝置
KR102879443B1 (ko) 2019-10-10 2025-11-03 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
TWI834919B (zh) 2019-10-16 2024-03-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR102845724B1 (ko) 2019-10-21 2025-08-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
KR20210050453A (ko) 2019-10-25 2021-05-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR102890638B1 (ko) 2019-11-05 2025-11-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR102861314B1 (ko) 2019-11-20 2025-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
CN112951697B (zh) 2019-11-26 2025-07-29 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112885692B (zh) 2019-11-29 2025-08-15 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693B (zh) 2019-11-29 2025-06-10 Asmip私人控股有限公司 基板处理设备
JP7527928B2 (ja) 2019-12-02 2024-08-05 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN112992667A (zh) 2019-12-17 2021-06-18 Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构
KR20210080214A (ko) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
JP7636892B2 (ja) 2020-01-06 2025-02-27 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー チャネル付きリフトピン
KR20210089077A (ko) 2020-01-06 2021-07-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 공급 어셈블리, 이의 구성 요소, 및 이를 포함하는 반응기 시스템
US11993847B2 (en) 2020-01-08 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Injector
KR102882467B1 (ko) 2020-01-16 2025-11-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고 종횡비 피처를 형성하는 방법
KR102675856B1 (ko) 2020-01-20 2024-06-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TWI889744B (zh) 2020-01-29 2025-07-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 污染物捕集系統、及擋板堆疊
TWI871421B (zh) 2020-02-03 2025-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 包括釩或銦層的裝置、結構及其形成方法、系統
KR20210100010A (ko) 2020-02-04 2021-08-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
KR102916725B1 (ko) 2020-02-13 2026-01-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 수광 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 수광 장치의 교정 방법
TW202146691A (zh) 2020-02-13 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氣體分配總成、噴淋板總成、及調整至反應室之氣體的傳導率之方法
TWI855223B (zh) 2020-02-17 2024-09-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於生長磷摻雜矽層之方法
TWI895326B (zh) 2020-02-28 2025-09-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 專用於零件清潔的系統
KR20210113043A (ko) 2020-03-04 2021-09-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 정렬 고정구
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
KR102775390B1 (ko) 2020-03-12 2025-02-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
US12173404B2 (en) 2020-03-17 2024-12-24 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing epitaxial material, structure formed using the method, and system for performing the method
KR102755229B1 (ko) 2020-04-02 2025-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TWI887376B (zh) 2020-04-03 2025-06-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 半導體裝置的製造方法
TWI888525B (zh) 2020-04-08 2025-07-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
KR20210128343A (ko) 2020-04-15 2021-10-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
US11996289B2 (en) 2020-04-16 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods
TW202143328A (zh) 2020-04-21 2021-11-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於調整膜應力之方法
TWI884193B (zh) 2020-04-24 2025-05-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含氮化釩層及包含該層的結構之方法
TWI887400B (zh) 2020-04-24 2025-06-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於穩定釩化合物之方法及設備
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
TW202208671A (zh) 2020-04-24 2022-03-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括硼化釩及磷化釩層的結構之方法
KR102866804B1 (ko) 2020-04-24 2025-09-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR102783898B1 (ko) 2020-04-29 2025-03-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
JP7726664B2 (ja) 2020-05-04 2025-08-20 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基板を処理するための基板処理システム
JP7736446B2 (ja) 2020-05-07 2025-09-09 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同調回路を備える反応器システム
KR20210137395A (ko) 2020-05-07 2021-11-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 불소계 라디칼을 이용하여 반응 챔버의 인시츄 식각을 수행하기 위한 장치 및 방법
KR102788543B1 (ko) 2020-05-13 2025-03-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
TW202146699A (zh) 2020-05-15 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成矽鍺層之方法、半導體結構、半導體裝置、形成沉積層之方法、及沉積系統
KR102905441B1 (ko) 2020-05-19 2025-12-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210145079A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판을 처리하기 위한 플랜지 및 장치
KR102795476B1 (ko) 2020-05-21 2025-04-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
KR102702526B1 (ko) 2020-05-22 2024-09-03 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 과산화수소를 사용하여 박막을 증착하기 위한 장치
KR20210146802A (ko) 2020-05-26 2021-12-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 붕소 및 갈륨을 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법
TWI876048B (zh) 2020-05-29 2025-03-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202212620A (zh) 2020-06-02 2022-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法
KR20210156219A (ko) 2020-06-16 2021-12-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 붕소를 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법
KR102916735B1 (ko) 2020-06-24 2026-01-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘이 구비된 층을 형성하는 방법
TWI873359B (zh) 2020-06-30 2025-02-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
US12431354B2 (en) 2020-07-01 2025-09-30 Asm Ip Holding B.V. Silicon nitride and silicon oxide deposition methods using fluorine inhibitor
TW202202649A (zh) 2020-07-08 2022-01-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
KR20220010438A (ko) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법
KR20220011092A (ko) 2020-07-20 2022-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 전이 금속층을 포함하는 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템
TWI878570B (zh) 2020-07-20 2025-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202219303A (zh) 2020-07-27 2022-05-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 薄膜沉積製程
KR20220020210A (ko) 2020-08-11 2022-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 티타늄 알루미늄 카바이드 막 구조체 및 관련 반도체 구조체를 증착하는 방법
KR102915124B1 (ko) 2020-08-14 2026-01-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
US12040177B2 (en) 2020-08-18 2024-07-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes
KR20220026500A (ko) 2020-08-25 2022-03-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면을 세정하는 방법
TW202534193A (zh) 2020-08-26 2025-09-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法
KR20220027772A (ko) 2020-08-27 2022-03-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다중 패터닝 공정을 사용하여 패터닝된 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템
TWI904232B (zh) 2020-09-10 2025-11-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沉積間隙填充流體之方法及相關系統和裝置
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
KR20220036866A (ko) 2020-09-16 2022-03-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물 증착 방법
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TWI889903B (zh) 2020-09-25 2025-07-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
US12009224B2 (en) 2020-09-29 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for etching metal nitrides
KR20220045900A (ko) 2020-10-06 2022-04-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치
CN114388427A (zh) 2020-10-06 2022-04-22 Asm Ip私人控股有限公司 用于在特征的侧壁上形成氮化硅的方法和系统
CN114293174A (zh) 2020-10-07 2022-04-08 Asm Ip私人控股有限公司 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
KR102873665B1 (ko) 2020-10-15 2025-10-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자의 제조 방법, 및 ether-cat을 사용하는 기판 처리 장치
TW202217037A (zh) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
TW202229620A (zh) 2020-11-12 2022-08-01 特文特大學 沉積系統、用於控制反應條件之方法、沉積方法
TW202229795A (zh) 2020-11-23 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 具注入器之基板處理設備
TW202235649A (zh) 2020-11-24 2022-09-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 填充間隙之方法與相關之系統及裝置
TW202235675A (zh) 2020-11-30 2022-09-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 注入器、及基板處理設備
US12255053B2 (en) 2020-12-10 2025-03-18 Asm Ip Holding B.V. Methods and systems for depositing a layer
TW202233884A (zh) 2020-12-14 2022-09-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成臨限電壓控制用之結構的方法
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202232639A (zh) 2020-12-18 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 具有可旋轉台的晶圓處理設備
TW202226899A (zh) 2020-12-22 2022-07-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 具匹配器的電漿處理裝置
TW202242184A (zh) 2020-12-22 2022-11-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 前驅物膠囊、前驅物容器、氣相沉積總成、及將固態前驅物裝載至前驅物容器中之方法
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate
USD1099184S1 (en) 2021-11-29 2025-10-21 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1060598S1 (en) 2021-12-03 2025-02-04 Asm Ip Holding B.V. Split showerhead cover

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE521182A (cs) *
DE458776C (de) * 1927-03-15 1928-04-20 Louis Rouanet Verfahren zur Herstellung von Kugelkaefigen fuer Lager
US2289783A (en) * 1939-12-23 1942-07-14 Joyce Cridland Co Valve mechanism
FR1257466A (fr) * 1959-05-26 1961-03-31 Bahco Ab Soupape de changement de marche
US3278155A (en) * 1962-01-24 1966-10-11 Werner F Jehn High thrust valve actuator
GB1063667A (en) * 1964-12-18 1967-03-30 Westinghouse Brake & Signal Fluid control valve
GB1205960A (en) * 1967-10-27 1970-09-23 Wild A G & Co Ltd Improvements in valves

Also Published As

Publication number Publication date
US3814128A (en) 1974-06-04
NL167019C (nl) 1981-10-15
DE2223687C2 (de) 1981-12-24
GB1337173A (en) 1973-11-14
IT957871B (it) 1973-10-20
FR2137920B1 (cs) 1973-07-13
NL7206576A (cs) 1972-11-21
FR2137920A1 (cs) 1972-12-29
AU4222872A (en) 1973-11-15
JPS4917520A (cs) 1974-02-16
CA957240A (en) 1974-11-05
DE2223687A1 (de) 1972-11-30
SE382105B (sv) 1976-01-12
JPS549329B2 (cs) 1979-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS209838B2 (en) Valve
KR101314905B1 (ko) 듀얼 리프트 로커 암 래치 메커니즘 및 그의 액추에이션장치
EP1725744B1 (en) Switching finger follower assembly
US20220235678A1 (en) Variable valve actuation mechanism for engine and engine
US4848285A (en) Valve operating apparatus for an internal combustion engine
US7421761B2 (en) Door closer
US5749340A (en) Hydraulic tappets
US4871143A (en) Gate valve with supplemental actuator
US4200081A (en) Valve selector
US5463988A (en) Valve actuating mechanism for an internal combustion engine
US4538559A (en) Engine cam for use in internal combustion engine
US4921207A (en) Actuated gate valve with manual override
EP0336259A1 (en) Operating arrangement for internal combustion engine poppet valves and the like
US2579982A (en) Fluid control valve
EP3527792A1 (en) Switchable rocker arm with lash adjustment
US4336775A (en) Valve selector
US5327860A (en) Hydraulic tappet-clearance compensating arrangement for a cam-controlled valve lifter
EP0199569B1 (en) Oil supply system in an internal combustion engine
US6027098A (en) Rotary valve
WO2006094213A1 (en) Valve actuator assembly
JP3746786B2 (ja) カム機構
US3379180A (en) Hydraulic valve lifter
JPH07103344A (ja) 仕切弁
JPH0333412A (ja) 単気筒エンジンの可変バルブタイミング装置
US2532346A (en) Mechanical silent tappet