CS209838B2 - Valve - Google Patents

Valve Download PDF

Info

Publication number
CS209838B2
CS209838B2 CS723366A CS336672A CS209838B2 CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2 CS 723366 A CS723366 A CS 723366A CS 336672 A CS336672 A CS 336672A CS 209838 B2 CS209838 B2 CS 209838B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
valve
ball
poppet
valve according
plate
Prior art date
Application number
CS723366A
Other languages
Czech (cs)
Inventor
Max E Grantham
Original Assignee
Max E Grantham
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Max E Grantham filed Critical Max E Grantham
Publication of CS209838B2 publication Critical patent/CS209838B2/en

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/44Mechanical actuating means
    • F16K31/52Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
    • F16K31/524Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
    • F16K31/52408Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
    • F16K31/52416Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve comprising a multiple-way lift valve
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/44Mechanical actuating means
    • F16K31/52Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam
    • F16K31/524Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam
    • F16K31/52408Mechanical actuating means with crank, eccentric, or cam with a cam comprising a lift valve
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86389Programmer or timer
    • Y10T137/86405Repeating cycle
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86389Programmer or timer
    • Y10T137/86445Plural, sequential, valve actuations
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/86919Sequentially closing and opening alternately seating flow controllers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/8593Systems
    • Y10T137/87169Supply and exhaust
    • Y10T137/87233Biased exhaust valve
    • Y10T137/87241Biased closed
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/18Mechanical movements
    • Y10T74/18056Rotary to or from reciprocating or oscillating
    • Y10T74/18296Cam and slide
    • Y10T74/18304Axial cam

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mechanically-Actuated Valves (AREA)
  • Multiple-Way Valves (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)
  • Taps Or Cocks (AREA)
  • Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)

Abstract

A valve in which the valve member is operable by a tappet means, the tappet means being lifted by a ball which is guided to roll on a plate under the tappet and thereby lift the tappet.

Description

(54) Ventil(54) Valve

Předmětem vynálezu je ventil. Mnohé ventily se uvádějí v činnost různými vačkami, které však obvykle mají tu nevýhodu, že křivková dráha vačky se při nepřetržitém používání rychle opotřebuje i vzdor jejímu velmi tvrdému povrchu a mazání.The subject of the invention is a valve. Many valves are actuated by various cams, but usually have the disadvantage that the cam cam track will wear rapidly in continuous use despite its very hard surface and lubrication.

Jsou známy poháněči mechanismy ventilů používající ve snaze po snížení opotřebení valivých členů například podle belgického patentu č. 521 182, znázorňujícího zařízení opatřené otáčivým členem s částí přidržující kuličku, kterážto část i s kuličkou je upravena pod zvláštním zdvihátkem vlastního ventilu.Valve actuators are known for use in an attempt to reduce the wear of the rolling members, for example according to Belgian Patent No. 521,182, showing a device provided with a rotating member with a ball retaining portion, which portion including the ball is provided under a separate valve lift.

Nevýhodou popsaného známého uspořádání je, že osa otáčení otáčivého členu je kolmá k ose zdvihátka a že otáčivý člen se nepohybuje plynule v jednom směru, nýbrž koná oscilační pohyb kolem své osy v rozsahu asi 30°, přičemž do styku se zdvihátkem přichází tatáž část povrchu kuličky.A disadvantage of the known arrangement described is that the axis of rotation of the rotary member is perpendicular to the axis of the tappet and that the rotary member does not move smoothly in one direction but performs an oscillating movement about its axis within about 30 °. .

Dále je známo uspořádání podle německého patentu čís. 347 776, znázorňující zařízení s čelní vačkou působící na kuličku pohánějící ventil. Nevýhodou tohoto uspořádání je, že kulička je ve stálém styku s křivkovou drahou čelní vačky.Further, the arrangement according to German patent no. 347 776 illustrating a front cam device acting on a ball driving a valve. A disadvantage of this arrangement is that the ball is in constant contact with the cam track path.

Úkolem vynálezu je návrh .ventilu opatřeného poháněcím mechanismem, vykazu2 jícím nejmenší míru opotřebení a odstraňujícím nevýhody známých zařízení.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a valve having a drive mechanism which exhibits the least wear and eliminates the disadvantages of the known devices.

Úkol byl podle vynálezu vyřešen pro ventil s dříkem uváděným do pohybu za účelem otevření a zavření pohybem zdvihátka a opatřený prostředky pro pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa ventilu s přívodem opatřeným prvním talířovým ventilem, vývodem opatřeným druhým talířovým ventilem a výfukem spojeným přes druhý talířový ventil s vývodem, přičemž první talířový ventil má první dřík a druhý talířový ventil má druhý dřík, oba dříky jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou, uloženou v kruhových otvorech kruhové desky, uspořádané otáčivě v tělese ventilu.The object was solved according to the invention for a valve with a stem actuated for opening and closing by movement of the tappet and provided with means for moving the tappet from rest against biasing force, characterized in that it consists of a valve body with inlet provided with a first poppet valve; a first poppet valve having a first stem and a second poppet valve having a second stem, both stems being adapted for stroke in kinematic coupling with at least one ball housed in circular openings of a circular plate arranged rotatably in valve body.

Dále podle vynálezu talířové ventily sestávají z hlav, jejichž dříky jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními do komory tělesa ventilu, proti alespoň jedné kuličce.Further, according to the invention, the poppet valves consist of heads whose shafts are parallel to one another and pass through ducts into the valve body chamber against at least one ball.

Rovněž podle vynálezu o hlavy talířových ventilů jsou opřeny tlačné pružiny.According to the invention, compression springs are also supported on the poppet valve heads.

Podle dalšího význaku vynálezu prostor pod prvním talířovým ventilem je spojen s prostorem nad druhým talířovým ventilem kanálem.According to a further feature of the invention, the space below the first poppet valve is connected to the space above the second poppet valve by a channel.

Podle ještě dalšího význaku vynálezu kru209838 hováč ' deska je -uložena otočně na čepu- rovnoběžném s dříky, upevněném v tělese . - ventílií; ,According to yet another feature of the invention, the drive plate is rotatably mounted on a pin parallel to the shanks fixed in the body. - valves; ,

Dalším význakem vynálezu je, že ' - kuličky spočívají na pevné desce, upravené na dolním konci komory tělesa ventilu.Another feature of the invention is that the balls rest on a fixed plate provided at the lower end of the valve body chamber.

Ještě - dalším - význakem vynálezu je, že pevná deska je tvořena dnem tělesa ventilu.Yet another feature of the invention is that the rigid plate is formed by the bottom of the valve body.

Dále podle vynálezu kruhová dsska je rovnoběžná s pevnou deskou.Further, according to the invention, the circular plate is parallel to the fixed plate.

Rovněž podle vynálezu kruhová deska je opatřena na obvodu ozubením v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem.Also according to the invention, the circular plate is provided on the periphery with a toothing in kinematic coupling with a driving screw spindle.

Ještě dále podle vynálezu kulička je ze skla.Still further according to the invention the ball is of glass.

Rovněž podle vynálezu kulička je z oceli.Also according to the invention the ball is made of steel.

Konečně podle vynálezu kulička je z materiálu o- tvrdosti 35 - dle Rockwella, kterážto tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky a dříků.Finally, according to the invention, the ball is of a Rockwell hardness 35 material, which hardness is higher than that of the rigid plate and shaft material.

Výhodou uspořádání ventilu podle vynálezu je okolnost, že kruhová deska unášející kuličku, se stále plynule otáčí, čímž snižuje opotřebení kuličky, -poněvadž všechny části - jejího povrchu přicházejí do styku s dřívkem ventilu. Další výhodou vynálezu je, že kulička nebo- kuličky jsou zatíženy pouze v okamžiku styku s dříkem ventilu, což nejen prodlužuje životnost kuličky nebo kuliček samých, ale rovněž životnost povrchu, po němž se odvalují.An advantage of the valve arrangement according to the invention is that the circular plate carrying the ball still rotates continuously, thereby reducing the wear of the ball, since all parts of its surface come into contact with the valve stem. A further advantage of the invention is that the ball or balls is loaded only at the moment of contact with the valve stem, which not only extends the life of the ball or balls themselves, but also the life of the surface over which they roll.

Rovněž průměr kuličky -a průměr její odvalovací dráhy na kruhové desce je volen tak, aby do- styku s - dříkem ventilu přicházely nejrůznější - části - jejího- povrchu, což zcela plní úkol vynálezu, vytvořit poháněči mechanismus ventilu s prakticky nejmenším' opotřebením.Also, the diameter of the ball - and the diameter of its rolling path on the circular plate - is chosen so that various parts of its surface come into contact with the valve stem, which fully fulfills the object of the invention, to create a valve actuator with virtually the least wear.

Dva příklady vzduchových regulačních ventilů budou dále podrobně popsány na příkladech provedení ve vztahu k výkresu, ría němž - značí: obr. 1 schematický nárysný řež· - - prvním provedením vzduchového- regulačního- ventilu, obr. 2 nárysný schematický řez druhým provedením vzduchového regulačního ventilu.Two examples of air control valves will be described in detail below with reference to the drawing, in which: - Fig. 1 is a schematic front view of a first embodiment of an air control valve; Fig. 2 is a schematic sectional view of a second embodiment of an air control valve; .

V - obou obrázcích jsou pro sobě odpovídající - části použity stejné vztahové značky.In the two figures, corresponding parts are used with the same reference numerals.

Vzduchový - regulační ventil má těleso 11 ventilu, - v němž - je upraven přívod 12, vývod 13 a- výfuk 14. Přívod 12 je připojen k - zásobníku například přes vzduchový pojistný - ventil a výstup 13 může být připojen k čerpací jednotce, například -k pístovým čerpadlům podvozkové mazací jednotky. Vstup - 12 je vytvořen - v první zátce 15, opatřené závitem a zašroubované do· tělesa 11 ventilu, přičemž - první vrtání 16 v první zátce 15, je spojeno- s prvním souosým vrtáním 17 v tělese 11 ventilu. Ventilový prvek ve tvaru prvního* talířového ventilu 18 uzavírá -první sedlo 19 v dolní části souosého vrtání 17, přičemž hlava 20 talířového vrtání -se nachází - v souosém vrtání 17 a první dřík 21 prochází prvním sedlem 19. Povrch - hlavy 20 talířového- ventilu, přivrá cený - ke vstupu, má první - osazení 22. Mezi prvním osazením 22 a druhým osazením 24, tvořeným koncem první zátky 15, vzniklým tak, že průměr vrtání 16 je menší, než průměr souosého- vrtání 17, je vložena tlačná pružina 23.The air-regulating valve has a valve body 11, in which inlet 12, outlet 13, and exhaust 14 are provided. Inlet 12 is connected to the reservoir via, for example, an air relief valve and the outlet 13 can be connected to a pump unit, for example to the piston pumps of the bogie lubrication unit. The inlet 12 is formed in a threaded first plug 15 screwed into the valve body 11, wherein a first bore 16 in the first plug 15 is connected to a first coaxial bore 17 in the valve body 11. The valve member 18 in the form of the first poppet valve 18 closes the first seat 19 at the bottom of the coaxial bore 17, the poppet bore head 20 being located in the coaxial bore 17 and the first stem 21 extending through the first seat 19. facing the inlet has a first shoulder 22. A compression spring 23 is inserted between the first shoulder 22 and the second shoulder 24 formed by the end of the first plug 15, such that the bore diameter 16 is smaller than the bore diameter 17. .

Hlava 20 prvního talířového ventilu 18 nese v prstencovém sedle O-kroužek 25, z pružně stlačitelného materiálu, například z neopránu, který utěsňuje první sedlo* 19, když je první talířový ventil 18 uzavřen.The head 20 of the first poppet valve 18 carries in the annular seat an O-ring 25, of a resiliently compressible material, such as a neoprene, that seals the first poppet 19 when the first poppet valve 18 is closed.

Vývod 13 má obdobně druhou zátku 26 s druhým -vrtáním 27, spojeným s - druhým souosým vrtáním 28 v tělese 11 ventilu. V dolní části druhého souosého vrtání 28 se nachází druhé sedlo 29, které se uzavírá ventilovým prvkem ve tvaru druhého talířového- ventilu 30, zavřeného účinkem druhé tlačné -pružiny 33 a -opatřeného druhým dříkem 32.The outlet 13 likewise has a second plug 26 with a second bore 27 connected to a second coaxial bore 28 in the valve body 11. In the lower part of the second coaxial bore 28 there is a second seat 29 which is closed by a valve element in the form of a second disk valve 30, closed by the action of a second compression spring 33 and provided with a second stem 32.

První vrtání 16 a první souosé vrtání - 17, druhé vrtání 27 a druhé souosé vrtání 28 jsou vzájemně rovnoběžné tak jako i osy prvního- a druhého- talířového ventilu 18, 30. Uspořádání druhého talířového- ventilu 30 je stejné jako prvního talířového- ventilu 18, a proto- nebude dále popisováno. Kanál 31 spojuje prostor pod prvním sedlem 19 protilehlým souosém vrtání 17 s prostorem nad druhým souosým vrtáním 28 na druhým talířovým ventilem 30. Druhé sedlo 29 je spojeno s výfukem 14 na straně protilehlé druhému souosému vrtání 28.The first bore 16 and the first coaxial bore 17, the second bore 27 and the second coaxial bore 28 are parallel to each other as well as the axes of the first and second poppet valves 18, 30. The arrangement of the second poppet valve 30 is the same as the first poppet valve 18 and, therefore, will not be further described. The channel 31 connects the space below the first seat 19 opposite the coaxial bore 17 to the space above the second coaxial bore 28 on the second poppet valve 30. The second seat 29 is connected to the exhaust 14 on the side opposite the second coaxial bore 28.

První a druhý talířový ventil 18, 30 jsou uváděny v činnost zvedacími prvky, které zvedají dříky 21, 32, a tím zvedají i talířové - ventily 18, 30 z jejich klidové polohy proti působení první - tlačné pružiny 23 a druhé tlačné pružiny 33. - Tyto zvedací prvky jsou vytvořeny jako- otáčivá kruhová deska 34 s kruhovým -otvorem 43, v němž je uložena kulička 35 ze skla, která se valí po pevné desce 36, uzavírající komoru 37, v níž se nachází kulička 35 a otáčivá deska 34. Kulička je v kruhovém otvoru 43 uložena s vůlí, takže se může volně valit.Ventilové dříky 21, 32 dosahují do komory 37 na straně protilehlé pevné desce 36, přičemž ty části dříků 21, 32, které vyčnívají do komory 37, tvoří zdvihátka. Dříky 21, 32 jsou vedeny vedeními 38, 39 a jsou utěsněny vůči nim O kroužky 40, 41.The first and second poppet valves 18, 30 are actuated by lifting elements that lift the stem 21, 32 and thereby lift the poppet valves 18, 30 from their rest position against the action of the first compression spring 23 and the second compression spring 33. - These lifting elements are formed as a rotatable circular plate 34 with a circular bore 43 in which a glass ball 35 is mounted which rolls on a fixed plate 36 enclosing a chamber 37 in which the ball 35 and the rotary plate 34 are located. The valve stems 21, 32 reach into the chamber 37 on the side of the opposite fixed plate 36, the portions of the stems 21, 32 which project into the chamber 37 form tappets. The shafts 21, 32 are guided by guides 38, 39 and are sealed against them by O-rings 40, 41.

. Otáčivá kruhová deska 34 a pevná deska 36 jsou rovnoběžné, ventilové dříky 21, 32 jsou k těmto deskám - kolmé. Otáčivá kruhová deska 34 se nuceně -otáčí kolem' -osy k ní kolmé na čepu 42, který jí prochází, přičemž čep 42 je upraven mezi tělesem 11 ventilu a pevnou deskou 36. Kruhový otvor 43, procházející otáčivou kruhovou deskou unáší kuličku 35 s otáčivou kruhovou deskou 34 při jejím otáčení kolem čepu 42. Kruhový otvor 43 je - umístěn v otáčivé desce 34 tak, že když se deska otáčí, kulička prochází -přímo - pod ventilovými dříky 21, 32 -a jak je patrno- z obr. 1, kulička 35 se nemůže z otvoru 43 vyprostit, protože pevná deska 36 je vzdálena od druhé stěny komory 37 jen o něco více, než je průměr kuličky 35. Ventilové dříky 21, 32 vyčnívají do komory 37 v takové míře, že vzdálenost mezi ' dolním koncem dříku 21, 32 a pevnou deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35.. The rotatable circular plate 34 and the fixed plate 36 are parallel, the valve stems 21, 32 being perpendicular to these plates. The rotatable circular plate 34 is forcibly rotated about an axis perpendicular thereto on the pin 42 passing therethrough, the pin 42 being provided between the valve body 11 and the fixed plate 36. The circular hole 43 passing through the rotatable circular plate carries the ball 35 with the rotatable the circular plate 34 as it rotates around the pin 42. The circular bore 43 is positioned in the rotatable plate 34 such that when the plate rotates, the ball passes - directly - below the valve stems 21, 32 -and as shown in FIG. the ball 35 cannot escape from the aperture 43 because the fixed plate 36 is only slightly more than the diameter of the ball 35 from the second wall of the chamber 37. The valve stems 21, 32 protrude into the chamber 37 to such an extent that the distance between the lower end The shank 21, 32 and the fixed plate 36 are smaller than the diameter of the ball 35.

Otáčivá kruhová -deska 34 má na vnějším okraji zuby 44, které ' zabírají s neznázorněným šnekem, poháněným hnacím . šroubovým vřetenem 45.The rotatable circular plate 34 has teeth 44 at the outer edge that engage a drive screw (not shown). screw spindle 45.

Funkce vzduchového regulačního ventilu je tato: Hnací . šroubové vřeteno 45 se otáčí, což působí otáčení šneku a zubů 44, čímž se otáčí i otáčivá deska .na čepu 42. Když kulička 35 není . ve styku s žádným z dříků 21, 32, jsou talířové ventily 18, . 30 v uzavřené poloze, v kterémžto případě neprochází vzduch od přívodu 12, ani· nevychází z vývodu 13, nebo k němu.The function of the air control valve is as follows: Driving. the screw spindle 45 rotates, causing the screw and teeth 44 to rotate, thereby rotating the rotating plate on the pin 42. When the ball 35 is not. in contact with any of the stems 21, 32, the poppet valves 18, 32 are provided. 30 in the closed position, in which case the air does not pass from the inlet 12 or from the outlet 13 or towards it.

Když . se kruhová otáčivá deska 34 otáčí, kulička 35 . se pohybuje tak, že prochází mezi pevnou deskou 36 a ventilovým dříkem 21 a zvedne jej proti síle tlačné pružiny 23, protože vzdálenost mezi dříkem 21 a deskou 36 je menší, než průměr kuličky 35. Ačkoliv dolní povrch ventilového dříku 21 klouže .po. povrchu kuličky . 35, nebo. alternativně, plocha pevné desky 36 klouže po povrchu kuličky 35, pak při každém dotyku .kuličky 35 s dříkem 21 dotýká se dříku 21 jiná část povrchu kuličky 35, takže opotřebení se rozděluje po celém povrchu kuličky 35. To je v protikladu s používáním normální vačky, kde se ventilového. dříku dotýká vždy stejná část povrchu vačky, která se proto rychle opotřebuje.When. the rotary plate 34 rotates, the ball 35. it moves so that it passes between the fixed plate 36 and the valve stem 21 and lifts it against the force of the compression spring 23 because the distance between the stem 21 and the plate 36 is smaller than the diameter of the ball 35. Although the lower surface of the valve stem 21 slides. surface of the ball. 35, or. alternatively, the surface of the rigid plate 36 slides over the surface of the ball 35, then each time the ball 35 contacts the shaft 21, another portion of the surface 35 of the ball 35 contacts the shaft 21 so that wear is distributed over the entire surface of the ball 35. This where to valve. the same part of the cam surface always touches the shaft, which is therefore subject to rapid wear.

Když je první talířový ventil 18 otevřen, může vzduch procházet od přívodu 12 přes vrtání 16, 17 za .první talířový ventil 18 prvním· sedlem 19 do. kanálu 31 k druhému souosému vrtání 28, druhému vrtání 27 a pak ven vývodem 13, například k podvozkové mazací jednotce.When the first poppet valve 18 is opened, air may pass from the inlet 12 through the bore 16, 17 beyond the first poppet valve 18 through the first seat 19 into the. channel 31 to the second coaxial bore 28, the second bore 27 and then out through the outlet 13, for example to the bogie lubrication unit.

Když se otáčivá kruhová deska 34 dále otáčí, kulička 35 vyjde ze styku s prvním dříkem 21, .a tak se první talířový ventil 18 uzavře. Je vidět, že k podvozkové mazací jednotce byl připuštěn vzduchový impuls. Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí .dále a kulička 35 prochází mezi pevnou deskou 36 a druhým dříkem 32, otevře druhý talířový . ventil 30 zvednutím druhého dříku 32 a posunutím druhého talířového. ventilu' 30 proti účinku druhé tlačné pružiny 33. 0tevření druhého. talířového ventilu 30 umožní, aby vzduch proudil z podvozkové mazací jednotky přes druhé vrtání 27 dru6 hé souosé vrtání 28, druhé sedlo. 29 do výfuku 14.When the rotating circular plate 34 continues to rotate, the ball 35 comes out of contact with the first stem 21, and thus the first poppet valve 18 is closed. It can be seen that an air pulse has been allowed to the undercarriage lubrication unit. The rotatable circular plate 34 rotates further and the ball 35 extends between the fixed plate 36 and the second shaft 32, opening the second plate. valve 30 by lifting the second stem 32 and sliding the second disc. valve 30 against the action of the second compression spring 33. Opening of the second. The valve 30 allows air to flow from the bogie lubrication unit through the second bore 27 of the second coaxial bore 28, the second seat. 29 to the exhaust 14.

Otáčivá kruhová deska 34 se otáčí dále tak, že talířové ventily 18, 30 budou střídavě otevírány na krátkou dobu a vytvoří se spojení od přívodu 12 k vývodu 13 a střídavě od vývodu 13 do výfuku 14.The rotatable circular plate 34 is further rotated such that the poppet valves 18, 30 are alternately opened for a short period of time and a connection is made from the inlet 12 to the outlet 13 and alternately from the outlet 13 to the exhaust 14.

Výhody tohoto. uspořádání byly uvedeny výše, například snížení opotřebení valivých povrchů, poněvadž kulička .35 se stýká . s ventilovými dříky 21, 32 vždy jinou částí povrchu. Další výhodou je, že když se na pevné desce nachází malé množství maziva, toto mazivo se povrchem kuličky 35 nadzdvihuje při jejím otáčení a ukládá se na dřících 21, 32, čímž . jsou dříky 21, 32 mazány při jejích pohybu ve ventilových vedeních 38, 39. Druhý dřík 32 je vytvořen například z mosazi, která je odolná proti opotřebení při nedostatečném· mazání a kulička 35 má známou, spolehlivou povrchové úpravu a povrch velmi tvrdý, který se stykem s dříkem neopotřebovává, a který ani neabso-rbuje drť z opotřebení dříku, což by urychlovalo. celkové opotřebení. Takto však je opotřebení malé.The advantages of this. The arrangements have been mentioned above, for example, to reduce the wear of the rolling surfaces, since the ball 35 contacts. with valve stems 21, 32 each having a different surface area. A further advantage is that when a small amount of lubricant is present on the rigid plate, the lubricant is lifted by the surface of the ball 35 as it rotates and is deposited on the stems 21, 32, thereby. the shafts 21, 32 are lubricated as they move in the valve guides 38, 39. The second stem 32 is formed, for example, from brass that is resistant to wear under inadequate lubrication and the ball 35 has a known, reliable surface finish and a very hard surface. by contact with the shaft it does not wear out and which does not absorb the pulp from the shaft wear, which would accelerate. total wear. In this way, however, wear is low.

Vzduchový regulační ventil podle obr. 2 je ve většině . ohledů podobný regulačnímu vzduchovému ventilu podle obr. 1. Nicméně v tomto. .případě čep 42 je uložen pouze v pevné desce 36 a otáčivá deska 34 místo, aby byla v odstupu od pevné desky 36, nyní na ní spočívá. Tření je zmenšené použitím vhodných materiálů a mazivem v komoře .37.The air control valve of Fig. 2 is in most. similar to the control air valve of FIG. 1. In the case of the pin 42, it is housed only in the fixed plate 36 and the pivot plate 34, instead of being spaced from the fixed plate 36, now rests thereon. The friction is reduced by using suitable materials and lubricant in the chamber .37.

Jino-u změnou Je, že kulička 35 je z .ocele.Another change is that the ball 35 is of steel.

Vynález není omezen na podrobnosti předcházejících příkladů. U jiných aplikací, například může kulička 35 uvádět v činnost pouze jeden ventil nebo alespoň dva ventily za páčku .otáčivé kruhové desky 34. I způsob pohonu otáčivé kruhové desky 34 může být různý, přičemž například otáčivá kruhová deska 34 se pohání přímo, .otáčejícím se hřídelem. U mnoha aplikací nebude potřebné vzájemně spojit talířové ventily . 18, 30 způsobem, znázorněným v tomto příkladu, ale ventily mohou pracovat úplně nezávisle při otevírání a zavírání přidružených vstupních a výstupních otvorů.The invention is not limited to the details of the preceding examples. In other applications, for example, the ball 35 may actuate only one valve or at least two valves per lever of the rotatable circular plate 34. The method of driving the rotatable circular plate 34 may also be different, for example the rotatable circular plate 34 is driven directly by the rotating rotary plate. shaft. In many applications, it will not be necessary to connect the poppet valves to each other. 18, 30 in the manner shown in this example, but the valves can operate completely independently in opening and closing the associated inlet and outlet openings.

Ventily není nutno uvádět v činnost kuličkou působící přímo na dříky, ale lze použít zvláštní zvedákový prvek. I otáčivá deska 34 nemusí být zcela plochá, . ale může mít tvar klece, je přitom pouze nutné, aby měla prvky pro. uchycení kuličky 35 a pro její otáčení kolem osy vzdálené od kuličky 35.The valves do not need to be actuated by a ball acting directly on the stems, but a separate jack element may be used. Even the rotating plate 34 need not be completely flat. but it may have the shape of a cage, it only needs to have elements for it. gripping the ball 35 and rotating it about an axis remote from the ball 35.

Claims (12)

předmětSubject 1. Ventil s dříkem uváděným do· pohybu pohybem zdvihátka . a opatřený prostředky pro · pohyb zdvihátka z klidu proti síle předpětí, vyznačený tím, že sestává z tělesa (11) ventilu, s přívodem (12) opatřeným prvním talířovým · ventilem (18), vývodem (13) opatřeným druhým talířovým veniilem (30) a výfukem (14) spojeným přes druhý talířový ventil (30) s vývodem (13), přičemž první talířový ventil (18) má první dřík (21) a druhý talířový ventil (30) má druhý dřík (32), kteréžto dříky (21, 32) jsou upraveny pro zdvih v kinematické vazbě s alespoň jednou kuličkou (35), uloženou v kruhových otvorech (43) kruhové desky (34), uspořádané otáčivě v tělese (11) ventilu.1. Valve with stem actuated by movement of the tappet. and provided with means for moving the tappet from rest against biasing force, characterized in that it comprises a valve body (11) with an inlet (12) provided with a first poppet valve (18), an outlet (13) provided with a second poppet (30) and an exhaust (14) connected via a second poppet valve (30) to an outlet (13), the first poppet valve (18) having a first stem (21) and a second poppet valve (30) having a second stem (32), which stem (21) 32) are arranged for stroke in kinematic coupling with at least one ball (35) housed in the circular openings (43) of the circular plate (34) rotatably arranged in the valve body (11). 2. Ventil podle bodu 1 vyznačený tím, že talířové ventily [18, 30) sestávají z hlav · (20), jejichž dříky (21, 32) jsou vzájemně rovnoběžné a prochází vedeními (38, 39) do komory (37) tělesa (11) ventilu proti alespoň jedné kuličce (35).Valve according to claim 1, characterized in that the poppet valves (18, 30) consist of heads (20) whose shafts (21, 32) are parallel to one another and pass through guides (38, 39) into the chamber (37) of the body (37). 11) a valve against at least one ball (35). 3. Ventil podle bodů 1 a 2 vyznačený tím, že o hlavy (20) talířových ventilu (18, 30) jsou opřeny tlačné pružiny (23, 33).Valve according to Claims 1 and 2, characterized in that compression springs (23, 33) are supported on the heads (20) of the poppet valves (18, 30). 4. Ventil podle bodů 1 až 3 vyznačený tím, že prostor pod prvním talířovým ventilem· (18) je spojen s prostorem nad druVYNALEZU hým talířovým ventilem (30) kanálem (31).Valve according to one of Claims 1 to 3, characterized in that the space below the first poppet valve (18) is connected to the space above the second poppet valve (30) by a channel (31). 5. Ventil podle bodů 1 až 4 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je uložena otočně na čepu (42), rovnoběžném s dříky (21, 32) upevněném v tělese (11) ventilu.Valve according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the annular plate (34) is mounted rotatably on a pin (42) parallel to the stems (21, 32) mounted in the valve body (11). 6. Ventil podle bodů 1 až ·5 vyznačený tím, že kuličky (35) spočívají na pevné desce (36) upravené na dolním konci komory (37) tělesa (11) ventilu.Valve according to Claims 1 to 5, characterized in that the balls (35) rest on a fixed plate (36) provided at the lower end of the chamber (37) of the valve body (11). 7. Ventil podle bodů 1 až 6 vyznačený tím, že pevná deska (36) je tvořena dnem tělesa (11) ventilu.Valve according to one of Claims 1 to 6, characterized in that the fixed plate (36) is formed by the bottom of the valve body (11). 8. Ventil podle · bodů 1 až 7 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je rovnoběžná s pevnou deskou (36).Valve according to Claims 1 to 7, characterized in that the annular plate (34) is parallel to the fixed plate (36). 9. Ventil podle bodů 1 až 8 vyznačený tím, že kruhová deska (34) je •opatřena na obvodu ozubením (44) v kinematické vazbě s hnacím šroubovým vřetenem (45).Valve according to one of Claims 1 to 8, characterized in that the annular plate (34) is provided on the circumference with a toothing (44) in kinematic coupling with a drive screw spindle (45). 10. Ventil podle bodů 1 až 9 · vyznačený tím, že kulička (35) je ze skla.Valve according to Claims 1 to 9, characterized in that the ball (35) is of glass. 11. Ventil podle bodů 1 až 10 vyznačený tím, že kulička (35) je z oceli.Valve according to Claims 1 to 10, characterized in that the ball (35) is made of steel. 12. Ventil podle bodů 1 až 11 vyznačený tím, že kulička (35) je z materiálu o tvrdosti 35 dle Rockwella, kterážto· tvrdost je vyšší, než tvrdost materiálu pevné desky (36) a dříků (21, 32).Valve according to one of Claims 1 to 11, characterized in that the ball (35) is of a Rockwell hardness material of 35, which hardness is higher than that of the rigid plate (36) and the stems (21, 32).
CS723366A 1971-05-17 1972-05-17 Valve CS209838B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1530071 1971-05-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS209838B2 true CS209838B2 (en) 1981-12-31

Family

ID=10056633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS723366A CS209838B2 (en) 1971-05-17 1972-05-17 Valve

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3814128A (en)
JP (1) JPS549329B2 (en)
CA (1) CA957240A (en)
CS (1) CS209838B2 (en)
DE (1) DE2223687C2 (en)
FR (1) FR2137920B1 (en)
GB (1) GB1337173A (en)
IT (1) IT957871B (en)
NL (1) NL167019C (en)
SE (1) SE382105B (en)

Families Citing this family (222)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2644312C2 (en) * 1976-10-01 1978-11-23 Neiman Gmbh + Co Kg, 5600 Wuppertal Device for locking a cylinder lock-operated locking bolt in a locked position
JPH041651Y2 (en) * 1985-01-14 1992-01-21
US4747424A (en) * 1986-10-02 1988-05-31 Chapman Leonard T Hydraulic valve
NL9001451A (en) * 1990-06-25 1992-01-16 Asm Europ THREE-WAY VALVE.
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
KR102532607B1 (en) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus and method of operating the same
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (en) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Gas supply unit and substrate processing apparatus including the same
KR20180068582A (en) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
KR20180070971A (en) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (en) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods for forming a semiconductor device structure and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
KR102491945B1 (en) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
KR102597978B1 (en) 2017-11-27 2023-11-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Storage device for storing wafer cassettes for use with batch furnaces
CN111344522B (en) 2017-11-27 2022-04-12 阿斯莫Ip控股公司 Including clean mini-environment device
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
KR20200108016A (en) 2018-01-19 2020-09-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of depositing a gap fill layer by plasma assisted deposition
TW202325889A (en) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 Deposition method
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
CN111699278B (en) 2018-02-14 2023-05-16 Asm Ip私人控股有限公司 Method for depositing ruthenium-containing films on substrates by cyclical deposition processes
KR102636427B1 (en) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing method and apparatus
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (en) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of forming an electrode on a substrate and a semiconductor device structure including an electrode
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
TWI811348B (en) 2018-05-08 2023-08-11 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 Methods for depositing an oxide film on a substrate by a cyclical deposition process and related device structures
KR102596988B1 (en) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of processing a substrate and a device manufactured by the same
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102568797B1 (en) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing system
CN112292478A (en) 2018-06-27 2021-01-29 Asm Ip私人控股有限公司 Cyclic deposition methods for forming metal-containing materials and films and structures containing metal-containing materials
TWI815915B (en) 2018-06-27 2023-09-21 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR20200030162A (en) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for deposition of a thin film
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (en) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 Substrate holding apparatus, system including the same, and method of using the same
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (en) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate support unit and apparatuses for depositing thin film and processing the substrate including the same
KR102546322B1 (en) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR102605121B1 (en) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus and substrate processing method
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (en) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate support unit and substrate processing apparatus including the same
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (en) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. A method for cleaning a substrate processing apparatus
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
TW202037745A (en) 2018-12-14 2020-10-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of forming device structure, structure formed by the method and system for performing the method
TW202405220A (en) 2019-01-17 2024-02-01 荷蘭商Asm Ip 私人控股有限公司 Methods of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR20200091543A (en) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Semiconductor processing device
CN111524788B (en) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 Method for topologically selective film formation of silicon oxide
JP2020136678A (en) 2019-02-20 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー Method for filing concave part formed inside front surface of base material, and device
CN111593319B (en) 2019-02-20 2023-05-30 Asm Ip私人控股有限公司 Cyclical deposition method and apparatus for filling recesses formed in a substrate surface
KR102626263B1 (en) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Cyclical deposition method including treatment step and apparatus for same
KR20200102357A (en) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-d nand applications
JP2020133004A (en) 2019-02-22 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー Base material processing apparatus and method for processing base material
KR20200108243A (en) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Structure Including SiOC Layer and Method of Forming Same
US11742198B2 (en) 2019-03-08 2023-08-29 Asm Ip Holding B.V. Structure including SiOCN layer and method of forming same
KR20200108242A (en) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for Selective Deposition of Silicon Nitride Layer and Structure Including Selectively-Deposited Silicon Nitride Layer
JP2020167398A (en) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー Door opener and substrate processing apparatus provided therewith
KR20200116855A (en) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of manufacturing semiconductor device
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (en) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Gas-phase reactor system and method of using same
KR20200130118A (en) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for Reforming Amorphous Carbon Polymer Film
KR20200130121A (en) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Chemical source vessel with dip tube
KR20200130652A (en) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of depositing material onto a surface and structure formed according to the method
JP2020188255A (en) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. Wafer boat handling device, vertical batch furnace, and method
JP2020188254A (en) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. Wafer boat handling device, vertical batch furnace, and method
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (en) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of using a gas-phase reactor system including analyzing exhausted gas
KR20200143254A (en) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of forming an electronic structure using an reforming gas, system for performing the method, and structure formed using the method
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (en) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Temperature control assembly for substrate processing apparatus and method of using same
JP7499079B2 (en) 2019-07-09 2024-06-13 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー Plasma device using coaxial waveguide and substrate processing method
CN112216646A (en) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate supporting assembly and substrate processing device comprising same
KR20210010307A (en) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
KR20210010820A (en) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods of forming silicon germanium structures
KR20210010816A (en) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Radical assist ignition plasma system and method
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (en) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 Method of forming topologically controlled amorphous carbon polymer films
TW202113936A (en) 2019-07-29 2021-04-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Methods for selective deposition utilizing n-type dopants and/or alternative dopants to achieve high dopant incorporation
CN112309900A (en) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus
CN112309899A (en) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
CN112323048B (en) 2019-08-05 2024-02-09 Asm Ip私人控股有限公司 Liquid level sensor for chemical source container
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (en) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. Production apparatus of mixed gas of film deposition raw material and film deposition apparatus
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
KR20210024423A (en) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for forming a structure with a hole
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
KR20210024420A (en) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for depositing silicon oxide film having improved quality by peald using bis(diethylamino)silane
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (en) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods for selective deposition using a sacrificial capping layer
KR20210029663A (en) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (en) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 Method for forming topologically selective silicon oxide film by cyclic plasma enhanced deposition process
KR20210042810A (en) 2019-10-08 2021-04-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Reactor system including a gas distribution assembly for use with activated species and method of using same
CN112635282A (en) 2019-10-08 2021-04-09 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus having connection plate and substrate processing method
KR20210043460A (en) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of forming a photoresist underlayer and structure including same
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
TWI834919B (en) 2019-10-16 2024-03-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of topology-selective film formation of silicon oxide
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (en) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Apparatus and methods for selectively etching films
KR20210050453A (en) 2019-10-25 2021-05-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (en) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Structures with doped semiconductor layers and methods and systems for forming same
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (en) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method of depositing carbon-containing material on a surface of a substrate, structure formed using the method, and system for forming the structure
CN112951697A (en) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus
US11450529B2 (en) 2019-11-26 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface
CN112885692A (en) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus
CN112885693A (en) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing apparatus
JP2021090042A (en) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20210070898A (en) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
US11885013B2 (en) 2019-12-17 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer
KR20210080214A (en) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods for filling a gap feature on a substrate and related semiconductor structures
TW202140135A (en) 2020-01-06 2021-11-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Gas supply assembly and valve plate assembly
US11993847B2 (en) 2020-01-08 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Injector
TW202129068A (en) 2020-01-20 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip控股公司 Method of forming thin film and method of modifying surface of thin film
TW202130846A (en) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of forming structures including a vanadium or indium layer
TW202146882A (en) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of verifying an article, apparatus for verifying an article, and system for verifying a reaction chamber
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
TW202146715A (en) 2020-02-17 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method for growing phosphorous-doped silicon layer and system of the same
TW202203344A (en) 2020-02-28 2022-01-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 System dedicated for parts cleaning
KR20210116240A (en) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate handling device with adjustable joints
KR20210116249A (en) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. lockout tagout assembly and system and method of using same
CN113394086A (en) 2020-03-12 2021-09-14 Asm Ip私人控股有限公司 Method for producing a layer structure having a target topological profile
KR20210124042A (en) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Thin film forming method
TW202146689A (en) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 Method for forming barrier layer and method for manufacturing semiconductor device
TW202145344A (en) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Apparatus and methods for selectively etching silcon oxide films
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
US11996289B2 (en) 2020-04-16 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods
TW202140831A (en) 2020-04-24 2021-11-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of forming vanadium nitride–containing layer and structure comprising the same
TW202146831A (en) 2020-04-24 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Vertical batch furnace assembly, and method for cooling vertical batch furnace
KR20210132600A (en) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Methods and systems for depositing a layer comprising vanadium, nitrogen, and a further element
KR20210134226A (en) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Solid source precursor vessel
KR20210134869A (en) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Fast FOUP swapping with a FOUP handler
KR20210141379A (en) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Laser alignment fixture for a reactor system
KR20210143653A (en) 2020-05-19 2021-11-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Substrate processing apparatus
KR20210145078A (en) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Structures including multiple carbon layers and methods of forming and using same
KR20210145080A (en) 2020-05-22 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Apparatus for depositing thin films using hydrogen peroxide
TW202201602A (en) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing device
TW202218133A (en) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method for forming a layer provided with silicon
TW202217953A (en) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Substrate processing method
KR20220006455A (en) 2020-07-08 2022-01-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Method for processing a substrate
KR20220010438A (en) 2020-07-17 2022-01-25 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Structures and methods for use in photolithography
TW202204662A (en) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method and system for depositing molybdenum layers
US11725280B2 (en) 2020-08-26 2023-08-15 Asm Ip Holding B.V. Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
US12009224B2 (en) 2020-09-29 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for etching metal nitrides
TW202229613A (en) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of depositing material on stepped structure
TW202217037A (en) 2020-10-22 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method of depositing vanadium metal, structure, device and a deposition assembly
TW202223136A (en) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Method for forming layer on substrate, and semiconductor processing system
KR20220076343A (en) 2020-11-30 2022-06-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. an injector configured for arrangement within a reaction chamber of a substrate processing apparatus
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202231903A (en) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 Transition metal deposition method, transition metal layer, and deposition assembly for depositing transition metal on substrate
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE521182A (en) *
DE458776C (en) * 1927-03-15 1928-04-20 Louis Rouanet Process for the production of ball cages for bearings
US2289783A (en) * 1939-12-23 1942-07-14 Joyce Cridland Co Valve mechanism
FR1257466A (en) * 1959-05-26 1961-03-31 Bahco Ab Gear shift valve
US3278155A (en) * 1962-01-24 1966-10-11 Werner F Jehn High thrust valve actuator
GB1063667A (en) * 1964-12-18 1967-03-30 Westinghouse Brake & Signal Fluid control valve
GB1205960A (en) * 1967-10-27 1970-09-23 Wild A G & Co Ltd Improvements in valves

Also Published As

Publication number Publication date
NL167019C (en) 1981-10-15
DE2223687C2 (en) 1981-12-24
CA957240A (en) 1974-11-05
NL7206576A (en) 1972-11-21
US3814128A (en) 1974-06-04
GB1337173A (en) 1973-11-14
JPS4917520A (en) 1974-02-16
FR2137920B1 (en) 1973-07-13
JPS549329B2 (en) 1979-04-24
DE2223687A1 (en) 1972-11-30
SE382105B (en) 1976-01-12
FR2137920A1 (en) 1972-12-29
AU4222872A (en) 1973-11-15
IT957871B (en) 1973-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS209838B2 (en) Valve
KR101314905B1 (en) Dual lift rocker arm latch mechanism and actuation arrangement therefor
EP1725744B1 (en) Switching finger follower assembly
US7421761B2 (en) Door closer
US4848285A (en) Valve operating apparatus for an internal combustion engine
US4871143A (en) Gate valve with supplemental actuator
JPH08189316A (en) Variable valve lift device
US20220235678A1 (en) Variable valve actuation mechanism for engine and engine
WO2006094213A1 (en) Valve actuator assembly
US4200081A (en) Valve selector
US4538559A (en) Engine cam for use in internal combustion engine
EP0384607B1 (en) Actuated gate valve with manual override
US4921207A (en) Actuated gate valve with manual override
CA2002747A1 (en) Gate valve with supplemental actuator
EP0199569B1 (en) Oil supply system in an internal combustion engine
US2579982A (en) Fluid control valve
US6027098A (en) Rotary valve
JPH10115206A (en) Constitution for intercepting flow of force between camshaft and valve
JP3746786B2 (en) Cam mechanism
US4336775A (en) Valve selector
CN109184844B (en) Electromagnetic collapsible valve bridge device
US2887996A (en) Hydraulic lash adjusters
US6817326B1 (en) Valve system for internal combustion engines
US2532346A (en) Mechanical silent tappet
JPH07103344A (en) Sluice valve