CN111512188B - 用于投射光刻系统的光瞳分面反射镜、光学系统和照明光学系统 - Google Patents

用于投射光刻系统的光瞳分面反射镜、光学系统和照明光学系统 Download PDF

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Abstract

在包括具有不可接近的入瞳的变形成像投射光学系统(7)的投射光刻系统(1)中，通过传输光学系统(15)对光瞳分面反射镜(14)和/或其光瞳分面(14a)和/或其成像动作进行各种适配可以是有利的。

Description

用于投射光刻系统的光瞳分面反射镜、光学系统和照明光学 系统
本专利申请要求德国专利申请DE 10 2017 220 586.5的优先权，其内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及用于投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜。此外，本发明涉及投射曝光设备的光学系统。本发明还涉及用于投射曝光设备的照明光学单元。此外，本发明涉及投射曝光设备。最后，本发明涉及微结构或纳米结构部件的制造方法，还涉及根据该方法制造的部件。
背景技术
已知投射曝光设备的基本结构，特别是照明光学单元的基本结构具有蜂窝状的聚集器。具体地，应该以示例性方式参考WO 2009/100 856 A1。
发明内容
总是期望研发这样的投射曝光设备及其部件。该目的通过根据本申请的独立权利要求的投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜、投射曝光设备的光学系统、用于将照明辐射从辐射源引导到物平面的照明光学单元、以及投射曝光设备来实现。
根据本发明的第一方面，投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜包括多个光瞳分面，其中光瞳分面的全体具有包络光瞳分面的最小椭圆边缘曲线，所述椭圆边缘曲线的轴线比率a/b的范围从1.1到1.68，特别是从1.24到1.52，其中a表示半长轴且b表示半短轴。在此，最小包络椭圆边缘曲线表示围绕光瞳分面的全体的闭合的椭圆曲线，并且这样做具有最小可能的区域。
根据本发明的其他方面，投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜包括多个光瞳分面，其中光瞳分面的至少一子集在正切方向和弧矢方向上具有不同的屈光力。在此，正切和弧矢表示光瞳分面表面的两个正交的法线截面，其通常关于物体的对准取向，即待成像的场分面。因此，光瞳分面的非球面实施例特别优选地是复曲面实施例。
在弧矢和正切截面中的两个主曲率半径之间的相对差值δRrel
Figure GDA0002545689770000021
至少为20％，然而，甚至可以大于100％或甚至500％。实际上，光瞳分面还可以是圆柱形的，意思是两个主曲率半径中的一个在分面中心处变得无穷大。光瞳分面同样可以形成鞍形表面，即一个主曲率半径是正的而另一个是负的。
根据本发明，认识到这可以降低投射曝光设备的出瞳的照明的场依赖性。具体地，这支持像散入瞳，即存在其相对位置不会重合的正切入瞳和弧矢入瞳，并且同时支持掩模母版上的场分面的成像条件。假设在两个入瞳的相对位置不同的情况下仅注意场分面的成像，则可以将光瞳分面和传输光学单元设计为球面形式并且接受在晶片上出瞳的场依赖性。
根据本发明的光瞳分面反射镜是有利的，特别是在具有变形形式的投射光学单元的投射曝光设备的情况下。
本发明的其他方面涉及投射曝光设备的光学系统，其中第二分面反射镜上覆盖区的包络具有第一纵横比AV1，并且投射光学单元的入瞳具有第二纵横比AV2，其中AV1≠AV2。
在此，覆盖区表示第二分面反射镜的表面(特别是其中设置第二分面反射镜的平面)与由晶片上(即像场中的)数值孔径所限定的光管的交点。场尺寸还包含在光管的定义中。特别是在不同于光瞳表面(取向、曲率)的光瞳分面反射镜的相对位置的情况下，分配到单独场点的覆盖区的总体将会出现在光瞳分面反射镜上。这也是覆盖区并非准确的椭圆形的原因，参见下文。
覆盖区的包络可以是最小凸的包络，特别是最小椭圆形包络。
通过特别是第二分面反射镜的适当实施例，可以考虑影响该纵横比的其他反射镜设置在第二分面反射镜和掩模母版之间的事实。换言之，通过适当调整第二分面反射镜上的覆盖区，调整投射光学单元的入瞳上的覆盖区是可能的。
特别地，第二分面反射镜可以实施为根据前述描述的光瞳分面反射镜的形式。在此，光瞳分面的总体可以具有最小包络椭圆边缘曲线，该椭圆边缘曲线的轴线比率a/b的范围为从1.1至1.68。然而，这不是强制的。与此偏离的第二分面反射镜的实施例同样是可能。
特别是，两个纵横比AV1和AV2之间的相对差值至少为10％：
Figure GDA0002545689770000031
根据本发明的其他方面，投射曝光设备的光学系统包括照明光学单元，其包括至少两个分面反射镜，其中第二分面反射镜上的覆盖区具有非椭圆形形状。
在局部坐标(例如极坐标)中，第二分面反射镜上的覆盖区的形式可以表示为如下：
Figure GDA0002545689770000032
其中
Figure GDA0002545689770000033
表示拟合到平坦覆盖区的椭圆的参数化，例如最小二乘拟合，并且
Figure GDA0002545689770000034
表示具有方向相关的拉伸因子
Figure GDA0002545689770000035
的拉伸，其中例如以下适用于
Figure GDA0002545689770000036
Figure GDA0002545689770000037
其中0.005＜A＜0.02。
覆盖区与最佳拟合的椭圆的径向偏离的范围特别是从0.5％至2％。
特别是，根据前述描述的光学系统可以包括根据前述描述的光瞳分面反射镜和/或照明光学单元。
根据本发明的其他方面，投射曝光设备的投射光学单元以变形形式进行成像。特别是，它具有扫描方向和与其垂直的方向上的成像比例，它们在绝对值方面的区别至少为10％、特别是至少为50％、特别是至少为100％、特别是至少为200％、特别是至少为400％。成像比例可以具有相同符号。它们也可以具有不同符号。
根据本发明的其他方面，投射光学单元具有不可机械上接近的入瞳。
根据本发明的其他方面，用于将照明辐射从辐射源引导到物平面的照明光学单元包括束路径中连续设置的至少两个分面反射镜，其中第二分面反射镜相对于第一分面反射镜倾斜，使得平均折叠角的范围为从20°至35°。
已经发现，这导致在以下二者之间良好的折衷：通过第一分面反射镜的可切换分面将中间焦点尽可能聚焦地成像到第二分面反射镜的分面；以及，尽可能与场无关地照明投射光学单元中的出瞳，特别是在表示与投射光学单元的入瞳共轭的表面最佳可能近似的平面中的第二分面反射镜的布置。总体上，与入瞳共轭的表面不是平面，而是具有与零不同的曲率的表面。为了简化起见，下文仍称为光瞳平面。
根据本发明的其他方面，设置第二分面反射镜，以便在最大可能的程度上相对于与投射光学单元的入瞳平面共轭的表面或相对于对其进行拟合的平面是倾斜的。
根据本发明的其他方面，用于将照明辐射从辐射源引导到物平面的照明光学单元包括在束路径中第二反射镜的下游设置的传输光学单元，其中传输光学单元在正切方向和弧矢方向上具有不同的屈光力。特别是，传输光学单元形成聚光系统，用于将第二分面反射镜成像到投射光学单元的入瞳中。
传输光学单元的这样的实施例促进了掩模母版的会聚照明，同时，它有利于补偿由聚光反射镜处的折叠角生成的像散。传输光学单元具有成像像差；像散在这种情况下占主导。该像散通过引入复曲表面来补偿。此外，传输光学单元可以用于帮助投射光学单元的入瞳到出瞳中的像散成像，即，该成像特别地设计为与场无关。
根据本发明的其他方面，由在正切和弧矢方向上的不同曲率半径表示的相对屈光力差
Figure GDA0002545689770000051
的范围为从5％至30％，更特别是从7％至22％。在第二分面反射镜和聚光反射镜之间的距离的范围为从1.5m至2.5m的情况下，发现这些值是特别有利的。
根据本发明的其他方面，传输光学单元包括一个、两个或更多个反射镜。特别地，它可以包括一个或两个法线入射反射镜(NI反射镜)和/或一个或两个掠入射反射镜(GI反射镜)。
本发明的其他方面涉及一种投射曝光设备，其具有根据前述描述的光瞳分面反射镜和/或根据前述描述的照明光学单元和/或根据前述描述的光学系统。
本发明的其他目的在于改进用于制造微结构或纳米结构部件以及对应部件的方法。这些目的通过提供根据上述描述的投射曝光设备来实现。通过投射曝光设备，优点是显而易见的。
附图说明
根据以下参考附图对示例性实施例的描述，本发明的更多细节和优点将变得显而易见。具体为：
图1示意性示出了投射曝光设备的光路的子午截面，
图2示意性示出了投射曝光设备的来自照明光学单元的区域的光路的截由，
图3以示例性方式示出了根据图2的照明光学单元的第一分面反射镜上的强度分布，
图4以示意性方式示出了根据图2的照明光学单元的第二分面反射镜上的强度分布，
图5示意性示出了根据图2的照明光学单元的物场中的强度分布，
图6示出了解释在最大可能的程度上与投射光学单元的入瞳平面共轭的平面(EPK)相对于正交于参考主光线的平面的倾斜的示意图，
图7示意性示出了第二分面反射镜上的实际覆盖区与椭圆的比较，以及
图8示意性示出了根据一个替代例的根据图1的图示，以及
图9示出了阐明入瞳的双同心相对位置的示意草图。
具体实施方式
首先，以下参照图1以示例性方式描述微光刻投射曝光设备1的基本构成部分。在该情况下，投射曝光设备1的基本设计及其构成部分的描述不应解释为限制性的。现有技术已经公开了一般原理的许多发展例和替代例。
投射曝光设备1的照明系统2除具有辐射源3以外，还具有照明物平面6中物场5的照明光学单元4。在此，该物场5中设置的掩模母版20被曝光。掩模母版20由掩模母版夹持器21保持。
掩模母版20特别是在扫描方向上可位移的。
为了便于解释，图1中绘制局部笛卡尔xyz坐标系。掩模母版20用作图1中绘制的坐标系的参考点。这里，掩模母版20的扫描方向与y方向相对应。z方向垂直于物平面6延伸。
此外，投射曝光设备1包括投射光学单元7。投射光学单元7用于将物场5成像到像平面9中的像场8中。将掩模母版20上的结构成像到像平面9中的像场8的区域中设置的晶片22的感光层上。晶片22由晶片夹持器23保持。特别地，它通过晶片夹持器23是可位移的。优选地，它以与掩模母版20同步的方式是可位移的。
辐射源3是EUV辐射源。特别地，辐射源3发射EUV辐射10，其在下文中还被称为使用的辐射或照明辐射。特别是，使用的辐射的波长范围为从5nm至30nm。辐射源3可以是等离子体源。辐射源3还可以是基于同步加速器的辐射源。
集光器11将从辐射源3发出的照明辐射10聚焦。
照明辐射10传播穿过集光器11下游的中间焦平面12。中间焦平面12可以表示辐射源模块和照明光学单元之间的分隔。
照明光学单元4包括第一分面反射镜13。提供的第一分面反射镜13设置在照明光学单元4的与物平面6光学共轭的平面中，所述分面反射镜也称为场分面反射镜13。第一分面反射镜13包括多个单独的第一分面13a，其在下文也称为场分面。
例如从DE 10 2008 009 600 A1已知，第一分面13a本身可以各自由多个单独反射镜，特别是多个微反射镜构成。特别地，第一分面反射镜13可以实施为微机电系统(MEMS系统)。具体地，请参考DE 10 2008 009 600 A1。
第二分面反射镜14在照明光学单元4的束路径中设置在第一分面反射镜13的下游。提供的第二分面反射镜14设置在照明光学单元4的光瞳平面中，所述分面反射镜还被称为光瞳分面反射镜。第二分面反射镜14还可以布置在与照明光学单元4的光瞳平面相距一距离处。在这种情况下，第一分面反射镜13和第二分面反射镜14的组合还可以被称为镜面反射器。
第二分面反射镜14a包括多个第二分面14a。在光瞳分面反射镜的情况下，第二分面14a还被称为光瞳分面。
图2中以示例性方式再次阐明了第一分面反射镜13和第二分面反射镜14的分面化的细节。
因此，照明光学单元4形成了双分面的系统。该基本原理还被称为蝇眼积分器。
如仍将在下面更详细地解释的，没有准确地将第二分面反射镜14设置在与投射光学单元7的光瞳平面光学共轭的平面中可以是有利的。
借助于第二分面镜14和传输光学单元15的形式的成像光学组装件，将单独的第一分面13a成像到物场5中。
然而，已经认识到，通过第二分面14a或由第二分面14a和传输光学单元15将第一分面13a成像到物平面6中只是近似的。这将在下面更详细地说明。
图1中，传输光学单元15被示意性图示为单独的反射镜。图2图示了不具有传输光学单元15的替代例。通常，传输光学单元15包括一个、两个或更多个反射镜，这些反射镜连续地布置在照明光学单元4的束路径中。特别地，它可以包括一个或两个垂直入射反射镜(NI反射镜)和/或一个或两个掠入射反射镜(GI反射镜)。
在此，NI反射镜是指：设置在照明光学单元的束路径中使得入射在其上的照明辐射相对于反射镜法线的入射角不大于30°的反射镜。
此处，GI反射镜是指：设置在照明光学单元的束路径中使得入射到其上的照明辐射相对于反射镜法线的入射角至少为70°的反射镜。
投射光学单元7包括多个反射镜Mi，其根据它们在投射曝光设备1的束路径中的布置来编号。
在图1所图示的示例中，投射光学单元7包括八个反射镜M1至M8。替代地，投射光学单元7还可以具有四个、六个、十个、十二个或任何其他数目的反射镜Mi。
特别地，投射光学单元7具有变形实施例。特别地，其在x方向和y方向上具有不同的成像比例βx、βy。投射光学单元7的两个成像比例βx、βy优选为(βx，βy)＝(+0.25，-0.125)。因此，在x方向上，即与扫描方向垂直的方向上，投射光学单元7导致以4∶1的比率缩小。
在y方向上，即扫描方向上，投射光学单元7导致8∶1的缩小。
使用其他成像比例同样是可能的。在x方向和y方向上使用具有相同符号的成像比例也是可能的。
图2再次以简化的方式图示了照明系统2中的照明辐射10的束路径。以示例性方式图示将两个光瞳分面14a分配到两个场分面13a，以形成两个照明通道以照明物场5。图示了科勒型照明。借助于场分面13a，远场被分解成大量物场5。场分面13a分别在相应分配到场分面13a的光瞳分面14a上生成中间焦点的大量的像。
图3中以示例性方式图示了场分面反射镜13的照明。
图4中以示例性方式图示了光瞳分面反射镜14的照明。在此特别地图示了光瞳分面反射镜14上的中间焦点16的像。
将场分面13a各自通过相关联的光瞳分面14a成像在掩模母版20上，以照明物场5。
图5中图示了物场5的示例性照明。特别地，物场5的照明是尽可能均匀的。优选地，照明的均匀度误差小于2％。
场均匀性可以通过不同照明通道的叠加来实现。
光瞳均匀性可以通过照明通道的重新分配来实现。
投射光学单元7的入瞳的照明可以通过光瞳分面的布置来几何地限定。可以通过选择照明通道，特别是引导光的光瞳分面的子集，来设定投射光学单元7的入瞳的强度分布。
下面描述物场5的照明，以及特别是投射光学单元7的入瞳的其他方面和细节。
投射光学单元7特别地具有共心入瞳。它可以是可接近的。它还可以是不可接近的。
已经认识到，通常不可能使用光瞳分面反射镜14来准确地照明投射光学单元7的入瞳。特别地，已经认识到，在投射光学单元7的成像(该投射光学单元7以远心方式将光瞳分面反射镜14的中心成像在晶片22上)的情况下，孔径射线通常不会相交于单一点处。然而，可以找到一表面，其中以成对方式确定的孔径射线的间隔变成最小。该表面表示入瞳或在真实空间中与其共轭的表面。根据本发明，已经认识到，光瞳分面14a需要尽可能地设置在该表面上，以便在晶片22的像侧生成的投射光学单元7的出瞳的照明尽可能地与场无关。特别是，该表面呈现有限的曲率。
甚至可以是这样的情况，投射光学单元7对于正切束路径和弧矢束路径具有入瞳的不同相对位置。在这种情况下，成像元件，特别是传输光学单元15的光学部件，应该配备在第二分面反射镜14和掩模母版20之间。借助于该光学元件，可以考虑正切入瞳和弧矢入瞳的不同相对位置。
图1所图示的照明光学单元4的部件的布置中，光瞳分面反射镜14没有设置在与投射光学单元7的入瞳共轭的表面上。此外，它相对于物平面5倾斜。此外，它以相对于由场分面反射镜13限定的平面倾斜的方式设置。根据本发明，可以识别的是，光瞳分面反射镜14相对于场分面反射镜13的剧烈倾斜导致：当在不同的照明设定之间切换时，场分面13a部分地生成中间焦点16的非常散焦的像。这导致光瞳填充的程度提高并因此导致最大可实现的分辨率极限，或者导致照明辐射的损失，并且因此降低传输且同时降低系统稳定性。
然而，光瞳分面反射镜14平行于场分面反射镜13的对准导致投射光学单元7的出瞳在晶片22处的与场相关的照明。
已经表明，导致折叠角的范围为从20°至35°的光瞳分面反射镜14的对准代表这两种替代例之间的特别好的折衷。在此，折叠角表示中心照明射线在光瞳分面14a上的平均入射角的两倍。
此外，发现了，还通过角度
Figure GDA0002545689770000101
来描述光瞳分面反射镜14的有利布置，光瞳分面反射镜14在最大可能的程度上相对于表示共轭的入瞳表面(EPK)的平面成该角度
Figure GDA0002545689770000102
同样垂直于场分面反射镜13和光瞳分面反射镜14之间的连接线的布置的情况下，在光瞳分面反射镜14上出现最小源图像。在这种情况下，适用如下：
Figure GDA0002545689770000111
在此，
Figure GDA0002545689770000112
表示在垂直于在聚光反射镜25处反射之后的参考主射线
Figure GDA0002545689770000113
的平面26相对于平面EPK 27的角度(见图6)。参考主射线属于晶片侧像场的外接矩形的形心。在此，出瞳是远心的或实质上是远心的。特别地，聚光反射镜25是传输光学单元15的光学构成部分。
为了减小几何光瞳误差，将光瞳分面反射镜14放置在聚光反射镜、光瞳分面反射镜14和场分面反射镜13之间的夹角的角平分线上是有利的。适用如下：
Figure GDA0002545689770000114
有利地，角度
Figure GDA0002545689770000115
是在两个指定值之间：
Figure GDA0002545689770000116
投射光学单元7的其他边界条件，特别是对于自由形式的表面设计，是入瞳的严格同心相对位置。然而，可以存在两个彼此间隔开的同心中心，并且甚至符号可以不同；即，同心中心中的一个在辐射方向上坐落掩模母版20的上游，而另一个在其后。
根据本发明，已经认识到，特别是借助于传输光学单元15，可以向一个光学系统在光瞳分面反射镜14与掩模母版20之间提供两个同心中心。特别是，这可以通过聚光反射镜25的复曲面实施例来实现。这具有以下结果：包络所有光瞳分面14a的最小椭圆边缘曲线(覆盖区)的两个主轴a和b的纵横比不一定对应于以变形方式成像的投射光学单元7的两个成像比例的比率。
如果两个同心中心EPx、EPy彼此间隔开，则轴线比率a/b将以傍轴方式计算为
Figure GDA0002545689770000121
其中dCM表示从掩模母版20(例如从包络物场5的矩形的几何形心)到聚光反射镜25的距离。
发现对于系统传输特别有利的是，掩模母版20与聚光反射镜25之间的距离dCM较大。特别是，适用2000mm＜dCM＜3000mm。
此外，发现在投射光学单元7的设计中特别有利的是，两个同心中心之间的差异较大。以下适用于特别有利的光学系统：2000mm＜EPx＜3000mm并且5000mm＜EPy＜8000mm。这些距离是从掩模母版侧的像场的外接矩形的形心开始测量。“正距离”意味着同心中心在光方向上设置在掩模母版的下游。
以下适用于优选的轴线比率a/b：1.10＜a/b＜1.68，特别是1.24＜a/b＜1.52。
图9以示例性方式图示在双同心入瞳的情况下的几何关系，特别是同心中心与同心直线的相对位置。在所图示的情况下，两个同心中心(EPx，EPy)均在辐射方向上设置在掩模母版20的下游。因此，它们对照明而言是不可接近的。图9中，除了掩模母版20处的场点
Figure GDA0002545689770000122
以外，参考主射线方向
Figure GDA0002545689770000123
弧矢远心直线
Figure GDA0002545689770000124
和正切远心直线
Figure GDA0002545689770000125
以示意性方式被图示。如图9所阐明，相对弧矢光瞳位置和相对正切光瞳位置不必重合，即它们可以彼此间隔开。
以会聚方式照明掩模母版20对于投射光学单元7的设计可以是有利的。这使得投射光学单元7的入瞳的相对位置是不可接近的。在这种情况下，照明系统2例如在光瞳分面反射镜14与掩模母版20之间具有至少一个带有屈光力的光学元件，例如对应的聚光反射镜25。借助于该光学元件，可以将光瞳分面反射镜14成像到入瞳中。
如已经提及的，该光学元件的正切屈光力与弧矢屈光力之间可能存在偏差。因此，首先，可以补偿由聚光反射镜25处的折叠角产生的像散；其次，这可以辅助入瞳的像散成像。
屈光力之间的相对差
Figure GDA0002545689770000131
的范围
优选地为从5％至30％，特别是从7％至22％。
对应的屈光力或半径差可以由单个聚光反射镜或由具有多个反射镜的传输光学单元15来实现。特别是，传输光学单元15可以包括一个或两个垂直入射反射镜(NI反射镜)和/或一个或两个掠入射反射镜(GI反射镜)。
光瞳分面反射镜14和聚光反射镜25之间的距离dMM2-CM的范围优选为从1500mm至2500mm。
此外，已经认识到，照明光学单元4，特别是传输光学单元15的这样的实施例导致照明辐射10在光瞳分面反射镜14上偏离椭圆形状的覆盖区。在此，覆盖区表示光瞳分面反射镜14的表面与由晶片22上的数值孔径限定的光管的交点。所有光瞳分面14a都设置在该覆盖区内。光瞳分面反射镜14上的实际光学覆盖区通常为锯齿状，即碎片状。
在图7中以示例性方式图示了覆盖区31与椭圆32的偏离。椭圆32是最大可能程度地近似覆盖区31的椭圆。例如，最大可能程度意味着在最小二乘方法(最小二乘拟合)的含义内。
如果近似的椭圆在局部坐标中被参数化如下：
Figure GDA0002545689770000132
则可以通过从该椭圆拉伸
Figure GDA0002545689770000133
来生成实际覆盖区31(rreal)：
Figure GDA0002545689770000134
其中如下适用：
Figure GDA0002545689770000135
其中0.005＜A＜0.02。
根据本发明的其他方面，光瞳分面14a在正切和弧矢方向上具有不同的屈光力。因此，将场分面13a至少近似成像到掩模母版20上是可能的。
光瞳分面14a，特别是光瞳分面14a的至少一子集，可以具有在弧矢和正切截面中的主曲率半径，其相对差至少为20％，特别是至少为50％，特别是至少100％。所有光瞳分面14a在正切和弧矢方向上具有不同的屈光力也是可能的。
图8示意性图示了在具有替代设计的投射曝光设备1中的束路径，特别是第一分面反射镜13和第二分面反射镜14的替代布置。根据该替代例，传输光学单元15包括两个GI反射镜。

Claims (17)

1.一种照明光学单元(4)，用于将照明辐射(10)从辐射源(3)引导到物平面(6)，包括：
1.1第一分面反射镜(13),
1.2第二分面反射镜(14)，在束路径中设置在所述第一分面反射镜(13)的下游，以及
1.3传输光学单元(15)，在束路径中设置在所述第二分面反射镜(14)的下游，
1.4其中，所述传输光学单元(15)在正切和弧矢方向上具有不同的屈光力(Rtan,Rsag)，以及
1.5其中，所述物平面(6)中设置的掩模母版(20)与所述传输光学单元(15)的聚光反射镜(25)之间的距离dCM较大，适用2000mm<dCM<3000mm。
2.根据权利要求1所述的照明光学单元(4)，其特征在于，相对屈光力差
Figure FDA0003856484420000011
的范围为从5％至30％。
3.根据权利要求1或2所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述传输光学单元(15)包括一个、两个或更多个反射镜。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述传输光学单元(15)包括一个或两个垂直入射反射镜(NI反射镜)和/或一个或两个掠入射入射镜(GI反射镜)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，其中，所述传输光学单元形成聚光系统，其是复曲面聚光反射镜。
6.根据前述权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，其中，所述传输光学单元形成聚光系统，用于将所述第二分面反射镜成像到用于将所述物平面(6)中设置的物场成像到像平面中的像场中的投射光学单元的入瞳中。
7.根据前述权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，
其中，所述照明光学单元的光瞳分面反射镜的光瞳分面(14a)的总体具有包络所述光瞳分面(14a)的最小椭圆形边缘曲线，所述椭圆形边缘曲线的轴线比率a/b的范围为1.1至1.68。
8.根据前述权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，其中，所述照明光学单元的光瞳分面反射镜的光瞳分面(14a)的至少一子集在正切和弧矢方向上具有不同屈光力。
9.一种投射曝光设备(1)的光学系统，包括：
9.1根据权利要求7所述的照明光学单元(4)，其中所述第二分面反射镜具有光瞳分面反射镜的形式，以及，
9.2投射光学单元(7)，用于将所述物平面(6)中设置的掩模母版(20)成像到像平面(9)中设置的晶片(22)上，
9.3其中，所述第二分面反射镜(14)上的覆盖区(31)的包络具有第一纵横比AV1，
9.4其中，所述投射光学单元(7)的入瞳具有第二纵横比AV2，并且
9.5其中：AV1≠AV2。
10.根据权利要求9所述的投射曝光设备(1)的光学系统，
其中所述第二分面反射镜(14)上的覆盖区具有非椭圆形状。
11.根据权利要求9或10所述的投射曝光设备(1)的光学系统，其特征在于，所述投射光学单元(7)以变形形式成像。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的投射曝光设备(1)的光学系统，其特征在于，所述投射光学单元(7)具有机械上不可接近的入瞳。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的光学系统，
其中，所述第二分面反射镜(14)相对于所述第一分面反射镜(13)倾斜，使得平均折叠角
Figure FDA0003856484420000031
的范围为从20°至35°。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的光学系统，其中，设置所述第二分面反射镜(14)，以便在最大可能的程度上相对于与所述投射光学单元(4)的入瞳平面共轭的平面(EPK)倾斜角度
Figure FDA0003856484420000032
并且相对于垂直于主射线
Figure FDA0003856484420000033
延伸的平面倾斜角度
Figure FDA0003856484420000034
其中如下适用：
Figure FDA0003856484420000035
Figure FDA0003856484420000036
15.一种微光刻的投射曝光设备(1)，包括：
15.1根据权利要求1至8中任一项所述的照明光学单元(4)，或者
15.2根据权利要求9至14中任一项所述的光学系统。
16.一种制造微结构或纳米结构部件的方法，包括以下步骤：
16.1提供根据权利要求15所述的投射曝光设备(1)，
16.2提供具有待成像的结构的掩模母版(20)，
16.3提供晶片(22)，在至少一个区域中向所述晶片施加由感光材料构成的层，
16.4借助于所述投射曝光设备(1)将所述掩模母版(20)的至少一部分投射到基板的感光层的区域上。
17.根据权利要求16所述的方法制造的部件。
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