CN109669326B - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

提供了电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件具有筒形状并在表面包括多个凹部，其中，凹部的开口面积的总和为电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下，凹部的深度的平均值davg满足以下表达式1：0.4μm≤davg≤3.0μm，具有特定的深度d的凹部的开口面积的总和为凹部的开口面积的总和的95％以上，凹部的开口的在电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下，并且电子照相感光构件具有至少一个区域B。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。
背景技术
因为诸如充电或清洁的电气外力或机械外力施加到筒状电子照相感光构件(以下还简称为电子照相感光构件)的表面，所以需要对这些外力的耐久性(耐磨耗性等)。
响应于该需要，在现有技术中已经使用了例如在电子照相感光构件的表面层等中使用具有高耐磨耗性的树脂(可固化树脂等)的改善的技术。
同时，作为由于增强电子照相感光构件的表面的耐磨耗性而发生的主要问题，存在对清洁刮板进行的清洁性能的影响。作为在长时间维持清洁性能时电子照相设备的主要因素，可以提及清洁刮板的顶端的形状可保持性以及施加到清洁刮板的应力的均匀性。因为清洁刮板的顶端与电子照相感光构件的表面接触以刮掉不需要的调色剂，所以随着显影处理的反复而出现顶端的磨耗。随着与电子照相感光构件的表面的摩擦力减小，进一步抑制了上述磨耗。此外，在图像图案中存在在电子照相感光构件的轴向上的偏移的情况下，可能产生在清洁刮板的纵向上施加到清洁刮板的应力差。因此，提出了通过适当地粗糙化电子照相感光构件的表面并减小电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间的接触面积来减小摩擦力的方法。
例如，日本特许第4059518号公报公开了一种高精度地控制转印到电子照相感光构件的表面上的微细形状的方法。在待转印的形状的多样性和可控制性方面，该方法是优异的。此外，该方法的优异之处在于施加到清洁刮板的应力在纵向上是均匀的。
此外，日本特开2016-218318号公报公开了一种电子照相感光构件，其中，在电子照相感光构件的周向上部分地形成有不均匀形状，作为进一步降低与清洁刮板的摩擦力的方法。日本特开2016-218318号公报中公开的方法在降低电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间产生的摩擦力方面是优异的。
未来，需要进一步延长电子照相设备的寿命，使施加到清洁刮板的应力在纵向上均匀，并减小在电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间产生的摩擦力。
发明内容
本发明的目的是提供一种能够延长清洁刮板、处理盒和电子照相设备的寿命的电子照相感光构件。本发明的另一目的是提供具有如上所述的电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
通过本发明实现该目的。根据本发明的示例性实施方式，提供一种电子照相感光构件，其具有筒形状，所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部，其中，所述凹部的开口面积的总和为所述电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下，
所述凹部的深度的平均值davg满足以下表达式1，
0.4μm≤davg≤3.0μm表达式1
具有满足以下表达式2的深度d的凹部的开口面积的总和为所述凹部的开口面积的总和的95％以上，
davg-0.2μm≤d≤davg+0.2μm表达式2
所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下，并且
所述电子照相感光构件的表面上具有至少一个区域B，其中，
带Y0是，
当所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的轴向上的最大宽度的平均值被定义为Wavg时，
包括线LY0并且具有4×Wavg的宽度的环状带，所述线LY0作为中心线经过所述电子照相感光构件的在所述轴向上的中心；
线X0是，
i)如下的线：当所述带Y0中连续地存在50％以上的开口面积包括在所述带Y0中并且深度是0.5×davg以下的两个或更多个浅凹部时，
该线沿所述电子照相感光构件的轴向、经过线段的中心点并且正交于所述带Y0，所述线段为连接连续存在的所述浅凹部中的位于所述周向上的两端处的两个凹部的最深位置的线段；或者
ii)如下的线：当所述带Y0中单独存在50％以上的开口面积包括在所述带Y0中并且深度是0.5×davg以下的浅凹部时，
该线沿所述电子照相感光构件的轴向、经过所述浅凹部的最深位置并且正交于所述带Y0；
区域A是，
在所述电子照相感光构件的表面上的，
由如下的沿周向的线和沿轴向的线划分的200μm×200μm的四边形区域：
所述沿周向的线与所述线LY0平行地形成并且被配置为所述沿周向的线彼此间具有200μm的间隔，
所述沿轴向的线在直到与所述线X0间隔开35mm的位置的区域中与所述线X0平行地形成并且被配置为所述沿轴向的线彼此间具有200μm的间隔；
所述区域A是如下的四边形区域：深度为0.5×davg以下的浅凹部的数量与50％以上的开口面积包括在所述四边形区域中的凹部的总数量的比为25％以上；
区域B是
由在所述区域A的四条边或四个角中的任一者彼此接触的区域A的集合体中的满足以下条件1的集合体形成的区域；并且
条件1是：
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的长度是凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的90％以上，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述周向上的长度是所述凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，并且
当在以所述电子照相感光构件的所述轴向为X方向且所述电子照相感光构件的所述周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成所述集合体的各所述区域A的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
根据本发明的另一示例性实施方式，提供一种电子照相感光构件，其具有筒形状，所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部，其中，所述凹部的开口面积的总和为所述电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下，
所述凹部的深度的平均值davg满足以下表达式1，
0.4μm≤davg≤3.0μm表达式1
具有满足以下表达式2的深度d的凹部的开口面积的总和为所述凹部的开口面积的总和的95％以上，
davg-0.2μm≤d≤davg+0.2μm表达式2
所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下，并且
所述电子照相感光构件具有由所述电子照相感光构件的表面上的满足以下条件1的集合体形成的至少一个圆弧形状区域，
条件1是：
所述集合体是具有0.5×davg以下的深度的浅凹部的集合体，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的轴向上的长度是凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的90％以上，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述周向上的长度是所述凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，
当在以所述电子照相感光构件的所述轴向为X方向且所述电子照相感光构件的所述周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成所述集合体的各所述浅凹部的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
根据本发明的另一示例性实施方式，提供一种处理盒，其一体地支撑如上所述的电子照相感光构件和清洁单元，并且所述清洁单元具有被布置为与所述电子照相感光构件接触的清洁刮板，所述处理盒能够拆卸地安装到电子照相设备的主体。
根据本发明的另一示例性实施方式，提供一种电子照相设备，其包括：如上所述的电子照相感光构件；充电单元；曝光单元；显影单元；转印单元；以及清洁单元，其具有被布置为与所述电子照相感光构件接触的清洁刮板。
从以下参照附图对示例性实施方式的说明，本发明的其它特征将变得明显。
附图说明
图1A、图1B、图1C和图1D是示意性地示出用于在根据本发明的电子照相感光构件的表面上设定区域的基准线的图。
图2是示出根据本发明的电子照相感光构件的外观的示例的图。
图3是示出根据本发明的电子照相感光构件的表面的凹部的拟合(fitting)的示例的图。
图4是示意性地示出根据本发明的基准面、平坦面、凹部等的关系的图。
图5A是示出根据本发明的电子照相感光构件的表面的凹部的开口的形状的示例的图。
图5B是示出根据本发明的电子照相感光构件的表面的凹部的截面形状的示例的图。
图6A和图6B是示出在根据本发明的电子照相感光构件的表面上形成凹部的方法的示例的图。
图7A、图7B和图7C是示出用于在根据本发明的电子照相感光构件的表面上形成凹部或凸形状部的成型构件的示例的图。
图8A和图8B是示出根据本发明的成型构件的示例的图。
图9是示出包括具有根据本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示例的图。
图10是示出根据本发明的电子照相感光构件与清洁刮板彼此接触的状态的示例的图。
图11是示出根据本发明的清洁刮板的顶端的磨耗状态的示例的截面图。
图12A、图12B和图12C是示出根据本发明的成型构件的另一示例的图。
具体实施方式
现在将根据附图详细说明本发明的优选实施方式。
根据本发明的电子照相感光构件是在表面上包括多个凹部的筒状电子照相感光构件。
在根据本发明的在表面上包括多个凹部的筒状电子照相感光构件中，凹部的开口面积的总和是电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下。
另外，凹部的深度的平均值davg满足以下表达式(1)。
0.4μm≤davg≤3.0μm表达式(1)
此外，在根据本发明的在表面上包括多个凹部的电子照相感光构件中，具有满足以下表达式(2)的深度d的凹部的开口面积的总和是凹部的开口面积的总和的95％以上。
davg-0.2μm≤d≤davg+0.2μm表达式(2)
在根据本发明的在表面上包括多个凹部的筒状电子照相感光构件中，凹部的开口的在电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下。
此外，根据本发明的在表面上包括多个凹部的筒状电子照相感光构件在表面上具有至少一个区域B。
(区域B)
区域B是由在区域A的四条边或四个角中的任一者彼此接触的区域A的集合体中的满足以下条件1的集合体形成的弧形区域。
(条件1)
集合体的在电子照相感光构件的轴向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的90％以上，
集合体的在电子照相感光构件的周向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法(least squares method)对构成集合体的各区域A的中心点进行二次函数近似(quadratic function approximation)时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
参照图1A至图1D说明区域A。首先，如下地定义[带Y0]和[线X0]。
[带Y0]
如图1A所示，带Y0 21是
包括线LY0 25的具有4×Wavg的宽度的环状带，经过电子照相感光构件1的轴向上的中心的线LY0 25作为中心线，并且凹部的开口的在电子照相感光构件1的轴向上的最大宽度的平均值被定义为Wavg。
[线X0]
如图1B所示，线X0 24是
(i)如下的线：当带Y0 21中连续地存在50％以上的开口面积包括在带Y0 21中并且深度是0.5×davg以下的两个或更多个浅凹部22时，该线沿电子照相感光构件1的轴向、正交于带Y0 21并且经过连接连续存在的浅凹部22中的位于周向上的两端处的两个凹部22的最深位置的线段的中心点，或者
(ii)如下的线：当带Y0 21中单独存在50％以上的开口面积包括在带Y021中并且深度是0.5×davg以下的浅凹部22时，该线沿电子照相感光构件1的轴向、正交于带Y0 21并且经过浅凹部22的最深位置。
随后，以下说明[区域A]和[区域B]。
[区域A]
如图1C和图1D所示，
区域A是在电子照相感光构件1的表面上的由如下的沿周向的线和沿轴向的线划分的200μm×200μm的四边形区域：沿周向的线与线LY0 25平行地形成并且该沿周向的线彼此间具有200μm的间隔，沿轴向的线在直到与线X024间隔开35mm的位置的区域中与线X0 24平行地形成并且该沿轴向的线彼此间具有200μm的间隔；区域A是如下四边形区域：深度为0.5×davg以下的浅凹部22的数量与50％以上的开口面积包括在四边形区域中的凹部的总数量的比为25％以上。
[区域B]
区域B是由在区域A的四条边或四个角中的任一者彼此接触的区域A的集合体中的满足以下条件1的集合体形成的弧形区域。
(条件1)
集合体的在电子照相感光构件的轴向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的90％以上，
集合体的在电子照相感光构件的周向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，并且
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成集合体的各区域A的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
另外，凹部的开口面积的意思是电子照相感光构件的表面上的由如下的线包围的区域的面积：当从电子照相机感光构件的表面正上方观察凹部时凹陷部分与凹陷部分周围的平坦部接触之处的线。稍后将详细说明这些凹部的开口面积的确定。
说明了根据本发明的电子照相感光构件与现有技术中已知的电子照相感光构件之间的主要不同在于根据本发明的电子照相感光构件具有形成有凹部的表面。
出于进一步减小与清洁刮板的摩擦力的考虑，现有技术中已知的电子照相感光构件的表面的特征在于，在整个表面上稳定地形成有更均匀的形状。短语“更均匀的形状”的意思是凹部的深度与周围部分平齐。此外，短语“在整个表面上稳定地形成”的意思是在电子照相感光构件的表面中、特别是在与清洁刮板接触的范围中不存在与周围部分相比凹部的深度不足的特定部分。
此外，公开了如下电子照相感光构件：在电子照相感光构件的周向上的一部分中形成有不均匀部分。术语“不均匀部分”的意思是，在具有形成有凹部的表面的电子照相感光构件中，特定部分中形成的凹部的深度比在该特定部分周围的部分中形成的凹部的深度浅。
同时，根据本发明的电子照相感光构件的主要特征(构造)在于(在区域B中)连续地形成有深度比周围凹部的深度浅的凹部。此外，区域B在正交坐标系中以二次曲线形状弯曲，其中，电子照相感光构件的轴向是X方向，电子照相感光构件的周向是Y方向(第二特征)。
另外，根据本发明的电子照相感光构件具有如下特征：在除了连续地形成有深度比周围凹部的深度浅的上述凹部的区域之外的形成有其它凹部的区域中，凹部的深度彼此相同(第一特征)。
接下来，说明具有连续地形成有深度比周围凹部的深度浅的上述凹部的区域B的电子照相感光构件的功能。
在现有技术中已知的电子照相感光构件的表面上，具有形成有凹部的表面，在整个表面上稳定地形成了具有均匀深度的凹部。凹部可以减小与清洁刮板的摩擦，但是当重复通过伴随着预定摩擦力与清洁刮板接触而进行的清洁操作时，通过摩擦产生的应力缓慢且连续地积聚在清洁刮板中。因为连续地形成了具有均匀深度的凹部，所以应力稳定地积聚。随着应力在清洁刮板中积聚，清洁刮板暂时处于清洁刮板失去柔性的状态，因而，在清洁刮板与电子照相感光构件之间产生的摩擦力进一步增大。另外，当应力到达预定积聚量时，从清洁刮板的顶端开始磨耗，并且清洁刮板的顶端的形状由于磨耗而变形，使得清洁状态改变。此外，最后，磨耗或清洁状态的改变继续进行，使得清洁刮板达到其使用寿命的终点。
相反地，在根据本发明的电子照相感光构件中，具有比浅凹部的深度深的均匀深度的凹部在周向上形成于除了形成有深度比周围凹部的深度浅的凹部的一些区域之外的其它区域。当清洁刮板与电子照相感光构件的表面接触以进行清洁时，首先，与现有技术中已知的电子照相感光构件一样，通过摩擦产生的应力积聚于连续地形成了具有均匀深度的凹部的表面。连续地，清洁刮板与深度比周围凹部浅并且在周向上形成于一些区域中的凹部接触，这是由于电子照相感光构件的转动而间歇性地遇到的。这里，与清洁刮板同具有足够深度并且连续地形成直到那时才接触的凹部接触的情况相比，产生了一定程度以上的强摩擦力。摩擦力的该改变能够部分地释放积聚在清洁刮板的应力并且能够缓和应力积聚。因此，能够抑制由磨耗造成的清洁刮板的顶端的变形，由此可以使清洁刮板更长时间地保持在令人满意的状态。
此外，在本发明中，诸如区域B的连续地形成有深度比周围凹部的深度浅的凹部的区域大致以二次曲线形状弯曲。由于两个原因，以这种方式可以获得抑制施加到清洁刮板的应力在长度方向上的变化的效果。
第一个原因是，在本发明中，在区域B中，设置有不在电子照相感光构件的轴向上中断的、深度比周围凹部的深度浅的凹部。结果，与浅凹部分散的情况相比，不太可能出现施加到清洁刮板的不均匀的应力。特别地，在图像图案在电子照相感光构件的轴向上存在偏移的情况下，容易获得该效果。
第二个原因是，当区域B以二次曲线形状弯曲时，连续地布置有深度比周围凹部的深度浅、同时在电子照相感光构件的周向上轻微偏移的凹部。该偏移在电子照相感光构件的轴向上的两端处大，在电子照相感光构件的轴向上的中央部处小。也就是，清洁刮板的接触辊隙(contact nip)与区域B彼此重叠的范围在电子照相感光构件的轴向上的两端部附近窄并且在电子照相感光构件的轴向上的中央部附近宽。
对于清洁刮板的应力趋向于在电子照相感光构件的轴向上的两端部中增大。因此，在该范围中，区域B与清洁刮板之间的接触面积减小，并且在电子照相感光构件的轴向上的中央部中，区域B与清洁刮板之间的接触面积增大。结果，抑制了施加到清洁刮板的应力在长度方向上的变化。
参照附图更详细地说明根据本发明的电子照相感光构件。图2是示出根据本发明的电子照相感光构件的外观的示例的图，并且如图2所示，筒状电子照相感光构件1具有筒状基体2以及形成于筒状基体2的表面的表面层3。另外，在表面层3的表面上形成有多个凹部。该凹部可以在电子照相感光构件1的轴向上形成在与表面层3相同的范围中，并且凹部还可以被形成为短于表面层3的范围，只要凹部大致形成在对应于清洁刮板的接触长度的范围中即可。
此外，在本发明中，电子照相感光构件1的表面上的凹部的开口面积的总和是电子照相感光构件1的表面层的总面积的5％以上且65％以下、特别优选地为5％以上且60％以下。通过如上所述地将电子照相感光构件的表面上的凹部的面积比(％)(电子照相感光构件的表面上的凹部的开口面积的总和/电子照相感光构件的表面层的总面积)设定为5％以上，进一步增强了减小清洁刮板与电子照相感光构件1之间的摩擦力的效果。同时，通过将凹部的面积比设定为65％以下，能够充分地保持电子照相感光构件1的表面上的平坦部，并且能够有效地抑制清洁时调色剂的滑动。另外，通过将面积比设定为60％以下，能够更充分地保持平坦部，并且能够更有效地抑制清洁时调色剂的滑动。
接下来，说明凹部的深度。如上所述，根据本发明的电子照相感光构件具有第一特征，即在大部分表面上(更具体地，除了后述的区域A以外的其它部分)形成有均匀深度的凹部。此外，电子照相感光构件具有如下的第二特征：连续地形成有深度比周围凹部的深度浅的凹部(区域B)，并且区域B在正交坐标系中大致以二次曲线形状弯曲，其中，电子照相感光构件的轴向是X方向，电子照相感光构件的周向是Y方向。
首先，说明第一特征，即在大部分表面上形成具有均匀深度的凹部。重要的是，电子照相感光构件1的表面上形成的凹部满足以下两个要求。
第一个要求是凹部的深度的平均值davg满足表达式(1)，也就是，平均值davg处于0.4μm以上且3.0μm以下的范围。当平均值davg为0.4μm以上时，可以改善清洁刮板与电子照相感光构件1之间的摩擦减小的效果。此外，当平均值davg为3.0μm以下时，能够更有效地抑制清洁时调色剂的滑动。
第二个要求是具有均匀深度的凹部占据形成于电子照相感光构件1的表面的凹部的95％以上。更具体地，具有均匀深度的凹部的开口面积的总和占据形成于电子照相感光构件1的表面的凹部的开口面积的总和的95％。此外，具有均匀深度的凹部的意思是具有处于如下范围的深度d的凹部：深度d与凹部的深度的平均值davg的差异在-0.2μm以上且+0.2μm以下，也就是，深度d满足表达式(2)。当凹部的深度的变化处于该范围中时，清洁刮板与电子照相感光构件1的表面之间的摩擦稳定，并且可以将新添加到清洁刮板从而积聚于清洁刮板中的应力抑制得低。如上所述，具有均匀深度的凹部占据凹部的95％以上，使得能够将清洁刮板与电子照相感光构件1之间的基本摩擦力保持得低。
此外，在将基本摩擦力保持得低并且防止调色剂的滑动之外，第一特征还具有使与下述不均匀凹部的摩擦状态的差异变得明显的功能。
接下来，说明第二特征。在根据本发明的电子照相感光构件1的表面上，除了第一特征之外，必须形成至少一个区域B作为第二特征。
区域B是区域A的集合体。首先，说明确定区域A的过程。
首先，获得在电子照相感光构件1的表面上的凹部的开口的在电子照相感光构件的轴向上的最大宽度的平均值Wavg。
接下来，当凹部的开口的在电子照相感光构件1的轴向上的最大宽度的平均值为Wavg时，设定环状带Y0，环状带Y0包括线LY0 25并且具有4×Wavg的宽度，线LY0 25作为中心线经过电子照相感光构件的轴向上的中心。
(i)线X0对应于如下的线：当带Y0中连续地存在50％以上的开口面积包括在带Y0中并且深度是0.5×davg以下的两个或更多个浅凹部时，该线沿电子照相感光构件1的轴向、正交于带Y0并且经过连接连续存在的浅凹部中的位于周向上的两端处的两个凹部的最深位置的线段的中心点，或者
(ii)设定如下的线：当带Y0中单独存在50％以上的开口面积包括在带Y0中并且深度是0.5×davg以下的浅凹部时，该线沿电子照相感光构件1的轴向、正交于带Y0并且经过浅凹部的最深位置。
在电子照相感光构件1的表面上，当通过与线LY0 25平行地形成并且其间配置有200μm间隔的线以及在直到与线X0间隔开35mm的位置的区域中沿轴向与线X0平行地形成并且其间配置有200μm的间隔的线划分了200μm×200μm的四边形区域时，区域A被定义为如下四边形区域：其中，具有0.5×davg以下的深度的浅凹部的数量与开口面积的50％以上包括在该四边形区域中的凹部的总数量的比为25％以上。
在区域A的四条边或四个角中的任一者彼此接触的区域A的集合体中，由满足以下表达式1的集合体形成的弧形区域被定义为区域B。
(条件1)
集合体的在电子照相感光构件的轴向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的90％以上，
集合体的在电子照相感光构件的周向上的长度是凹部形成区域的在电子照相感光构件的轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成集合体的各区域A的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
接下来，将说明为了获得本发明的效果而由区域B满足的条件。
条件1优选地为以下条件1A至1C中的任一者。
<条件1A>
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成区域B的各区域A的中心点进行二次函数近似来绘制近似曲线时，相关系数R为0.7以上，并且
区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度是凹部形成区域的轴向上的最大长度的3％以上且7％以下。
<条件1B>
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成区域B的各区域A的中心点进行二次函数近似来绘制近似曲线时，相关系数R为0.7以上，并且
区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度是凹部形成区域的轴向上的最大长度的1％以上且10％以下。
<条件1C>
当在以电子照相感光构件的轴向为X方向且电子照相感光构件的周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成区域B的各区域A的中心点进行二次函数近似来绘制近似曲线时，相关系数R为0.5以上，并且
区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度是凹部形成区域的轴向上的最大长度的1％以上且10％以下。
条件1指定了区域B的形状。如上所述，在区域B具有接近二次曲线的形状的情况下，抑制了施加到清洁刮板的应力在长度方向上的变化。为了确定区域B的形状是否理想，评价使用最小二乘法对构成区域B的区域A的中心点进行二次函数近似而获得的近似曲线。当从获得的近似曲线获得的相关系数R为0.5以上时，区域B为二次曲线形状，并且容易获得本发明的效果。
此外，区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度表示区域B的曲率的程度。当区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度为凹部形成区域的轴向上的最大长度的1％以上时，区域B充分地弯曲，使得容易获得抑制施加到清洁刮板的应力在长度方向上的改变的效果。
当区域B的在正交坐标系中的Y方向上的长度为凹部形成区域的轴向上的最大长度的10％以下时，区域B与清洁刮板之间的接触时间缩短，使得积聚在清洁刮板中的应力被部分地释放，由此容易获得缓和应力的积聚的效果。
此外，区域B的形状越接近相对于带Y0的对称形状，当清洁刮板与电子照相感光构件接触时清洁刮板的行为在长度方向上偏移的难度越大，这是优选的。
以下，说明根据本发明的筒状电子照相感光构件的表面上的凹部和平坦部的确定(定义)等。
首先，使用还能够在深度方向上获得信息的激光显微镜放大和观察筒状电子照相感光构件的表面。因为电子照相感光构件的表面(周面)是在周向上弯曲的曲面，所以使用图像处理软件提取曲面的截面轮廓并且将圆弧拟合到获得的曲面的截面轮廓。图3中示出了拟合的示例。在图3中，实线501是电子照相感光构件的表面(曲面)的截面轮廓，并且虚线502是拟合到截面轮廓501的曲线。截面轮廓501在微观上具有凹形状503和与凹形状503相邻的能够在形成凹形状503时形成的凸形状504，凹形状503和凸形状504的部分产生了相对于通过拟合获得的曲线502的偏移。随后，纠正(correct)截面轮廓501使得曲线502变成直线。也就是，截面轮廓501被纠正成使得圆弧形状整体地变为直线。这里，纠正不适用于曲线502与截面轮廓501之间发生偏移的部分的形状，更具体地，纠正不适用于凹形状503和与凹形状503相邻的凸形状504的截面轮廓。也就是，凹形状503和与凹形状503相邻的凸形状504不改变。在电子照相感光构件的长度方向(正交于周向的方向)上使通过纠正之后的拟合截面轮廓获得的直线进行扩展而获得的面被定义为基准面。
被定位为在电子照相感光构件的截面的中心方向上(基准面下方)相对于获得的基准面偏移0.2μm并且与基准面平行的面被定义为第二基准面。与第二基准面相比，被定位在远离电子照相感光构件的截面的中心方向的方向上(第二基准面上方)的部分被定义为平坦部。在对电子照相感光构件的表面上形成的凹部的说明中，与第二基准面相比，被定位在电子照相感光构件的截面的筒状中心方向上(第二基准面下方)的部分被定义为凹部。从第二基准面到凹部的在电子照相感光构件的截面的中心方向上的最远的点的距离被定义为凹部的深度。由第二基准面和凹部彼此相交处的线围绕的部分被定义为凹部的开口，并且开口的面积被限定为凹部的开口面积。当从电子照相感光构件的表面上方直接观察凹部时，围绕开口的线是凹陷部分与周围的平坦部接触的线。
作为凹部的确定示例，图4示意性地示出了基准面601、平坦部(第二基准面602上方)、纠正之后的截面轮廓604、凹部606等之间的关系。
形成在电子照相感光构件的表面上的凹部的形状没有特别的限制。图5A示出了凹部的形状的示例。凹部的开口的形状的示例可以包括圆形、椭圆形、正方形、矩形、三角形、五边形、六边形等。此外，图5B示出了凹部的截面形状的示例。凹部的截面形状的示例可以包括：具有诸如大致半圆形曲线的形状；具有连续曲线的波形；具有三角形边缘、四边形边缘和多边形边缘的形状；以及三角形、四边形或多边形边缘部分地或全部地变形为曲线的形状等。
形成于电子照相感光构件的表面的多个凹部可以具有彼此不同的形状、彼此不同的开口面积或彼此不同的深度，并且可以彼此混合。
作为在电子照相感光构件的表面上形成凹部的方法，可以例示将具有与待形成的凹部对应的凸部的成型构件与电子照相感光构件的表面压接以转印形状的方法。
图6A和图6B示出了用于在电子照相感光构件的表面上形成凹部的压接形状转印加工装置的示例。图6A是示出压接形状转印加工装置的侧视图，图6B是示出压接形状转印加工装置的俯视图。此外，图7A至图7C示出了用于在电子照相感光构件的表面上形成凹部的成型构件的示例。图7A至图7C是示意性地示出用于形成凹部的成型构件的俯视图。
在图6A和图6B的压接形状转印加工装置中，从最靠近作为转印对象的电子照相感光构件1开始，成型构件5、金属层6、弹性层7以及定位构件8依次布置于支撑构件9。在使用如上所述的压接形状转印加工装置将插入构件4插入电子照相感光构件1之后，对插入构件4施加载荷，同时，使用滑动工具等在图6A所示的Y方向上移动成型构件5。以这种方式，可以在使电子照相感光构件1转动的情况下利用电子照相感光构件1的表面(外周面)连续地压接成型构件5来在电子照相感光构件1的表面上形成凹部。基于有效地进行形状转印的观点，优选的是，加热成型构件5或电子照相感光构件1。
图7A至图7C示出了成型构件5，其中在平板上形成有用于在电子照相感光构件的表面上形成凹部的凸形状部。图7A的成型构件5具有第一凸形状部分51，第一凸形状部分51中以预定节距在整个表面上形成多个凸形状部。图7B和图7C的成型构件5具有第一凸形状部分51，第一凸形状部分51中以预定节距形成多个凸形状部。此外，图7B和图7C的成型构件5还具有第二凸形状部分52，第二凸形状部分52中以预定节距在整个表面上形成用于形成满足预定条件的浅凹部的多个凸形状部。具有比形成于第一凸形状部分51的凸形状部的高度低的高度的多个凸形状部形成于第二凸形状部分52。
图8A和图8B示意性地示出了被形成为图7A至图7C的第一凸形状部分51或第二凸形状部分52的凸形状部。图8A是俯视图，图8B是沿着图8A的线A-A’截取的截面图。被形成为第一凸形状部分51或第二凸形状部分52的凸形状部的底面从上方观察时能够具有各种形状。底面的形状的示例能够包括：圆形；椭圆形；诸如三角形、四边形、六边形等的多边形；以及通过将曲线与多边形的一部分或整个边缘或边结合获得的形状等。此外，凸形状部的截面形状也可以是各种形状，例如：具有诸如三角形、四边形、多边形等的边缘的形状；由连续曲线组成的波形；以及通过将曲线与三角形、四边形或多边形的一部分或整个边缘结合获得的形状等。
作为成型构件5，能够提及：精细表面加工过的金属或树脂膜；具有利用抗蚀剂图案化的表面的硅晶片；分布有精细颗粒的树脂膜；或具有精细表面形状的树脂膜，其中在精细表面形状上进行了金属涂覆。
能够通过以均匀压力使图7B和图7C的成型构件5连续地压接电子照相感光构件1来制造根据本发明的形成有特定凹部的电子照相感光构件1。此外，在使用图7B和图7C的成型构件的情况下，通过第二凸形状部分52形成比周围浅的凹部。此外，根据本发明的电子照相感光构件能够使用图7A所示的仅具有形成有相同高度的凸形状部的第一凸形状部分51的成型构件制造。更具体地，能够通过在将电子照相感光构件1与成型构件5彼此分离时调节载荷或运动速度的方法来制造根据本发明的形成有特定凹部的电子照相感光构件。作为调节载荷的方法，例如，在形成形状时，可以在成型构件的运动停止之前启动电子照相感光构件1与成型构件5的分离的操作。
作为在电子照相感光构件的表面上形成凹形状和凸形状的方法，特别地，作为大量生产的方法，能够使用以下方法。也就是，能够使用如下方法：使用包括在表面上具有凸形状的成型构件、金属构件和弹性构件的成型单元在成型构件的表面上压接电子照相感光构件以形成形状。在该方法中，通过在将电子照相感光构件压靠于成型构件的状态下移动电子照相感光构件和成型构件中的至少一者，将成型构件的凹凸形状转印到电子照相感光构件的表面。这里，弹性构件由于来自电子照相感光构件的加压力而变形。因为该变形根据成型构件或电子照相感光构件的运动在形状转印方向上从上游朝向下游依次发生，所以弹性构件接收在形状转印的下游方向上的力并且被轻微移动。
构成成型单元的各构件可以通过诸如螺纹紧固等的方法被固定和使用，由此对应于大量生产。然而，难以完全固定弹性构件，根据如上所述的形状转印，必须考虑弹性构件的从加工的上游方向到下游方向的轻微运动。对应地，为了使弹性构件的运动最小化，优选的是，在形状转印方向上的下游侧形成抵靠构件，但是，甚至在弹性构件与抵靠构件接触之后只要加工还在继续，弹性构件的运动就不会停止。最终，弹性构件的密度在抵靠构件附近增大，使得难以获得作为弹性构件的效果。
为了解决该问题，有效的是，在与形状转印方向正交的方向上使弹性构件与抵靠构件彼此间歇地接触。以这种方式，由于加压力而能够缓和发生于弹性构件与抵靠构件之间的压缩，从而能够抑制弹性构件的弹性模量的增大。
此外，作为解决上述问题的另一方法，降低成型单元的表面的在抵靠构件附近的弹性模量的方法是有效的。通过降低成型单元的表面的在抵靠构件附近的弹性模量，当电子照相感光构件压靠成型单元的表面时，能够缓和发生于弹性构件与抵靠构件之间的压缩。作为降低成型单元的表面的弹性模量的方法，优选的是，使用具有低弹性模量的弹性材料。
此外，在大量生产中，将说明如下的另一方法：根据形状转印，通过弹性层从加工的上游方向朝向下游方向的反复轻微运动，缓和弹性层与抵靠构件之间的压缩。也就是，该方法是增加弹性层和与弹性层接触的构件之间的可滑动性，以使用来自抵靠构件的反作用力促进从加工的下游方向到加工的上游方向的运动从而保持弹性层的弹性模量恒定的方法。
为此，使用图12A至图12C所示的成型单元。成型构件5与定位构件8经由环状构件31彼此间接接触从而形成可减压空间30。构件A32是在减压环境下挥发出润滑剂成分并且布置在减压空间中的构件。润滑剂成分可以是液体，但是优选地为润滑油，更优选地为硅基润滑油。作为构件A 32，例如，优选的是，通过降低二次硫化温度并且增加剩余的低分子量硅氧烷的量制备硅酮树脂等。弹性层7布置于环状构件31以与成型构件5和定位构件8接触。为了说明减压空间30，图12C示出了省略了金属层6和弹性层7的成型单元。此外，使用抽吸泵(未示出)从抽吸口42使可减压空间30减压，从而设定相对于大气压力的负压。此时的减压状态被表示为依据压差计41上显示的值的真空度。这里，润滑剂成分从构件A 32挥发并且粘附到成型单元中的各构件的表面。因此，能够增强弹性层7与和弹性层接触的构件之间的可滑动性。
此外，作为用于在电子照相感光构件的表面上形成凹凸形状的技术，如上所述，诸如电子照相感光构件或成型构件的温度、电子照相感光构件压靠成型构件的压力等的条件是重要的。在这些条件之中，电子照相感光构件或成型构件的温度是特别重要的，因为温度对于控制形成于电子照相感光构件的表面上的凹凸形状的深度具有大的影响。另外，因为电子照相感光构件的表面是树脂膜，所以能够使用辐射温度计等测量电子照相感光构件的温度。另一方面，因为成型构件需要具有一定的强度和耐久性，所以优选的是，成型构件由包含铁、不锈钢、镍等作为主要成分的金属材料制成，并且这些材料具有低的表面放射率，使得难以使用上述辐射温度计。此外，虽然可以通过使用诸如热电偶的接触型测量元件精确地测量温度，但是存在测量元件直接接触成型构件的表面从而导致在成型构件的表面上留下形状的痕迹的风险。
这里，说明在加工中指定成型构件的表面温度的方法。在说明中，使用包括插入物温度到达步骤、插入物插入步骤、转印步骤、插入物分离步骤和插入物温度测量步骤的加工模式。插入物温度到达步骤是将插入到电子照相感光构件的插入物的温度调节到期望温度的步骤。插入物插入步骤是将插入物插入筒状电子照相感光构件的步骤。转印步骤是在成型构件的温度被调节至期望温度的状态下使在表面上具有凹凸形状的成型构件(以下还简称为“成型构件”)与通过将插入物插入电子照相感光构件而被支撑的电子照相感光构件的表面接触的步骤。在该步骤中，成型构件的凹凸形状被转印到电子照相感光构件的表面。插入物分离步骤是将插入物从电子照相感光构件取出并与电子照相感光构件分离的步骤。插入物温度测量步骤是测量插入物的温度的步骤。
成型构件的表面温度是Tm℃，插入物温度到达步骤中插入物的到达温度是T1℃，插入物温度测量步骤中插入物的温度是T2℃。此外，从插入物温度到达步骤到插入物插入步骤花费的时间是t1秒，从插入物插入步骤到转印步骤花费的时间是t2秒。从转印步骤到插入物分离步骤花费的时间是t3秒，从插入物分离步骤到插入物温度测量步骤花费的时间是t4秒。此外，插入物在t1秒的温度改变率是A1℃/秒，插入物在t2秒的温度改变率是A2℃/秒，插入物在t3秒的温度改变率是A3℃/秒，插入物在t4秒的温度改变率是A4℃/秒。各温度改变率均为绝对值。此外，当成型构件的表面温度和插入物的温度之间的差异与通过转印步骤中的转印造成的插入物的温度改变量的比为R时，成型构件的表面温度能够被指定为如下：
Tm＝T2+t3×A3+t4×A4
+(T2+t3×A3+t4×A4
-(T1-(t1×A1+t2×A2)))×R。
该计算基于如下思想：通过在转印步骤中在伴随着电子照相感光构件的情况下获得主要通过与成型构件接触而改变的插入物的温度变化量来指定成型构件的温度。为此原因，表达式的前半部分(T2+t3×A3+t4×A4)是用于计算在伴随着电子照相感光构件的情况下插入物与成型构件接触之后紧接着的温度的表达式。此外，在前半部分中，t3×A3+t4×A4计算在转印步骤终止之后直到插入物温度测量步骤的插入物的温度的损失量。该温度是待进行差值处理的温度，以便指定插入物在与成型构件接触之后紧接着的温度。后半部分(T1-(t1×A1+t2×A2))是用于计算在伴随着电子照相感光构件的情况下即将与成型构件接触的插入物的温度的表达式。此外，在后半部分中，(t1×A1+t2×A2)计算在插入物温度到达步骤终止之后直到转印步骤的插入物的温度的损失量。该温度是待进行差值处理的温度，以便指定插入物在即将与成型构件接触时的温度。另外，如上所述所计算的并且通过在转印步骤中在伴随电子照相感光构件的情况下与成型构件接触而改变的插入物的温度的改变量乘以由于转印造成的插入物与成型构件的温度改变的比R。此外，通过插入物的获得的温度与成型构件的表面温度之间的差值的添加，能够将成型构件的表面温度指定给插入物。
<电子照相感光构件的构造>
根据本发明的筒状电子照相感光构件包括支撑件和形成于支撑件的感光层。感光层的示例可以包括单层感光构件和多层型(功能分离型)感光层，其中，单层感光构件在同一层中包含电荷输送材料和电荷产生材料，多层型感光层被分成包含电荷产生材料的电荷产生层和包含电荷输送材料的电荷输送层。从电子照相特性的观点出发，多层型感光层是优选的。此外，电荷产生层可以具有多层结构，或者电荷输送层可以具有多层结构。
作为支撑件，具有导电性的支撑件(导电支撑件)是优选的。支撑件的材料的示例能够包括金属(合金)，诸如铁、铜、金、银、铝、锌、钛、铅、镍、锡、锑、铟、铬、铝合金、不锈钢等。另外，还可以使用具有通过利用铝、铝合金、氧化铟-氧化锡合金等真空沉积形成的膜的金属支撑件或者塑料支撑件。此外，还可以使用通过将诸如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、银颗粒等的导电颗粒浸渍(impregnating)到塑料或纸中获得的支撑件或者由导电粘合树脂制成的支撑件。
支撑件的表面可以经受切割处理、粗糙化处理、氧化铝膜处理(alumitetreatment)等，用于抑制由于激光的散射造成的干涉条纹。
可以在支撑件与下述底涂层或感光层(电荷产生层、电荷输送层)之间形成导电层，用于抑制由激光的散射造成的干涉条纹以及覆盖支撑件上的划痕。
能够通过涂布导电层用涂覆液以形成涂覆膜并且干燥和/或固化获得的涂覆膜来形成导电层，其中导电层用涂覆液是通过与粘合树脂和溶剂一起分散导电颗粒获得的。
导电层中所使用的导电性颗粒的实例可以包括炭黑颗粒，乙炔黑颗粒，由铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌或银等制成的金属颗粒，和由氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋和ITO等制成的金属氧化物颗粒。此外，也可以使用掺杂有锡的氧化铟或掺杂有锑或钽的氧化锡。
可以使用醚基溶剂、醇基溶剂、酮基溶剂、芳烃溶剂等作为用于导电层的涂覆液的溶剂。导电层的膜厚优选地为0.1μm以上且50μm以下，更优选地为0.5μm以上且40μm以下，进一步更优选地为1μm以上且30μm以下。
导电层中使用的粘结剂树脂的实例可以包括如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯等乙烯基化合物的聚合物和共聚物，聚乙烯醇树脂，聚乙烯醇缩醛树脂，聚碳酸酯树脂，聚酯树脂，聚砜树脂，聚苯醚树脂，聚氨酯树脂，纤维素树脂，酚醛树脂，三聚氰胺树脂，硅酮树脂，环氧树脂和异氰酸酯树脂。
可以在支撑件或导电层与感光层(电荷产生层和电荷输送层)之间形成底涂层(中间层)。
可以通过涂布底涂层用涂覆液以形成涂覆膜并且干燥获得的涂覆膜来形成底涂层，其中底涂层用涂覆液是通过将粘合树脂溶解于溶剂获得的。
用于底涂层的粘结剂树脂的实例可以包括聚乙烯醇树脂、聚-N-乙烯基咪唑、聚氧化乙烯树脂、乙基纤维素、乙烯-丙烯酸共聚物、酪蛋白、聚酰胺树脂、N-甲氧基甲基化6尼龙树脂共聚合尼龙树脂、酚醛树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、丙烯酸系树脂、三聚氰胺树脂和聚酯树脂。
底涂层可以进一步包含金属氧化物颗粒。金属氧化物颗粒的示例可以包括含氧化钛、氧化锌、氧化锡、氧化锆和氧化铝的颗粒。此外，金属氧化物颗粒可以是具有利用诸如硅烷偶联剂等的表面处理剂处理过的表面的金属氧化物颗粒。
诸如醇基溶剂、亚砜基溶剂、酮基溶剂、醚基溶剂、酯基溶剂、脂族卤代烃基溶剂、芳香族化合物等的有机溶剂作为用于底涂层的涂覆液中使用的溶剂。底涂层的膜厚优选地为0.05μm以上且30μm以下，更优选地为1μm以上且25μm以下。底涂层可以进一步包含有机树脂细颗粒或流平剂。
感光层中使用的电荷产生材料的实例可以包括吡喃鎓、噻喃鎓染料、酞菁颜料、二苯并芘二酮(anthanthrone)颜料、二苯并芘醌颜料、皮蒽酮颜料、偶氮颜料、靛蓝颜料、喹吖啶酮颜料、非对称喹啉菁(quinocyanine)颜料和喹啉菁颜料等。可以单独使用这些电荷产生材料中的一种或者也可以使用其两种以上。
感光层中使用的电荷输送材料的实例可以包括腙化合物、N,N-二烷基苯胺化合物、二苯胺化合物、三苯胺化合物、三苯甲烷化合物、吡唑啉化合物、苯乙烯基化合物和二苯乙烯化合物等。
当感光层是多层型感光层时，能够通过涂布电荷产生层用涂覆液以形成涂覆膜并干燥所获得的涂覆膜来形成电荷产生层，其中，电荷产生层用涂覆液是通过将电荷产生材料与粘合树脂以及溶剂一起分散获得的。
电荷产生材料和粘合树脂的质量比的范围优选地为1：0.3到1：4。
分散处理方法的实例可以包括使用均质器、超声波分散、球磨机、振动球磨机、砂磨机、磨碎机和辊磨机等的方法。
电荷输送层能够通过涂布电荷输送层用涂覆液以形成涂覆膜并干燥所形成的涂覆膜来形成，其中，电荷输送层用涂覆液是通过将电荷输送材料和粘合树脂溶解到溶剂中获得的。
电荷产生层和电荷输送层中使用的粘结剂树脂的实例可以包括乙烯基化合物的聚合物、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛、聚碳酸酯、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚氨酯、纤维素树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、硅酮树脂、环氧树脂等。
电荷产生层的膜厚优选地为5μm以下，更优选地为0.1μm以上且2μm以下。
电荷输送层的膜厚优选地为5μm以上且50μm以下，更优选地为10μm以上且35μm以下。
此外，包含导电颗粒或电荷输送材料的保护层以及粘合树脂可以形成于感光层(在多层感光层的情况下为电荷输送层)。在形成有保护层的情况下，保护层是表面层，在未形成有保护层的情况下，感光层是表面层。保护层还可以包含诸如润滑剂等的添加剂。此外，保护层的树脂(粘合树脂)自身可以具有导电性或电荷输送特性。在这种情况下，保护层可以不包含除对应树脂之外的导电颗粒或电荷输送材料。此外，保护层的粘合树脂可以为热塑性树脂或通过利用热、光或辐射(电子束等)固化获得的可固化树脂。
保护层的膜厚优选地为0.1μm以上且30μm以下，更优选地为1μm以上且10μm以下。
能够将添加剂添加到电子照相感光构件的各层。添加剂的示例可以包括：诸如抗氧化剂和紫外线吸收剂的劣化抑制剂；诸如含氟原子树脂颗粒和丙烯酸树脂颗粒的有机树脂颗粒；以及诸如二氧化硅、氧化钛和氧化铝的无机颗粒等。
<处理盒和电子照相设备的构造>
图9示出了包括处理盒的电子照相设备的示例，处理盒具有根据本发明的电子照相感光构件。
在图9中，根据本发明的筒状电子照相感光构件201被驱动成绕着轴202在箭头的方向上以预定圆周速度(加工速度)转动。通过充电单元203(主充电单元；例如充电辊等)将电子照相感光构件201的表面均匀充电至预定的正电位或负电位。随后，电子照相感光构件201的均匀充电的表面接收从曝光单元(图像曝光单元，未示出)射出的曝光光(图像曝光光)204。以这种方式，在电子照相感光构件201的表面上形成对应于目标图像信息的静电潜像。
在本发明中，在使用利用放电作为充电手段的充电单元的情况下，该效果特别大。
然后，使形成在电子照相感光构件201的表面上的静电潜像(正规显影或反转显影)对显影单元205的调色剂显影从而形成调色剂图像。通过来自转印单元206(例如转印辊等)的转印偏压将形成在电子照相感光构件201的表面上的调色剂图像转印到转印材料P。这里，从转印材料供给单元(未示出)取出转印材料P，由此在电子照相感光构件201与转印单元206(接触部)之间与电子照相感光构件201的转动同步地给送转印材料P。此外，从偏压电源(未示出)向转印单元施加极性与调色剂的电荷极性相反的偏压。
将已经转印有调色剂图像的转印材料P与电子照相感光构件的表面分离，将转印材料P输送到定影单元208，并且使转印材料P经受调色剂图像的定影处理，使得转印材料P作为图像形成物(打印品或复印品)被打印输出到电子照相设备外部。
在转印调色剂图像之后，通过具有清洁刮板的清洁单元207移除电子照相感光构件201的表面上的诸如转印残留调色剂等的附着物质，使得电子照相感光构件201的表面被清洁。此外，清洁刮板被布置为在电子照相感光构件201的母线方向(generatrixdirection)上大致接触(抵靠)电子照相感光构件201的整个表面。此外，电子照相感光构件201的被清洁的表面通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光(未示出)经受电荷消除处理，然后被重复用于图像形成。此外，如图9所示，当充电单元203为使用充电辊等的接触充电单元时，预曝光单元不是必须的。在本发明中，因为使用了特定的电子照相感光构件201，所以减小了电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间的摩擦力，由此能够抑制清洁刮板的顶端的磨耗，并且长时间保持令人满意的清洁性能。
在本发明中，将从电子照相感光构件201、充电单元203、显影单元205、转印单元206、清洁单元207等选择的多个组成部件容纳在容器中，由此作为处理盒被一体地支撑。另外，该处理盒能够可拆卸地安装到诸如复印机或激光打印机的电子照相设备的主体。在图9中，电子照相感光构件201、充电单元203、显影单元205和清洁单元207以盒形式被一体地支撑，由此构成处理盒209，处理盒209使用引导单元210(例如电子照相设备的主体的轨道)可拆卸地安装到电子照相设备的主体。
当电子照相设备是复印机或打印机时，曝光光204是来自文稿的反射光或透射光。可选地，曝光光204是利用传感器读取文稿、将其转换成信号、依据该信号扫描激光束、驱动LED阵列或液晶快门阵列等来照射的光。
根据本发明，电子照相感光构件能够减小电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间的摩擦力并且使施加到清洁刮板的应力均衡，由此提供延长了使用寿命的清洁刮板、处理盒和电子照相设备。
以下，将关于具体示例更详细地说明本发明。此外，在本示例中，术语“份”的意思是“质量份”。另外，以下，电子照相感光构件也简称为“感光构件”。
(感光构件的制造例)
具有29.92mm直径和357.5mm长度的铝筒被用作筒状基体2(筒状支撑件)。
接下来，将100份作为金属氧化物的氧化锌颗粒(比表面积：19m2/g，粉末电阻：4.7×106Ω·cm)与500份甲苯混合并搅拌。向该混合物中，添加0.8份硅烷偶联剂(化合物名称：N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷，商品名：KBM602，由Shin-EtsuChemical Co.,Ltd.制造)，接着搅拌6小时。然后，在减压下蒸发出甲苯并且通过在130℃下加热6小时而干燥，从而获得表面处理的氧化锌颗粒。
接下来，准备15份作为多元醇树脂的丁醛树脂(商品名：BM-1，由SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)和15份封端异氰酸酯(商品名：Sumidur 3175，由SumitomoBayern Urethane Co.,Ltd.制造)。将这些材料溶解在73.5份甲基乙基酮和73.5份1-丁醇的混合溶液中。向该溶液中，添加80.8份表面处理的氧化锌颗粒和0.8份2,3,4-三羟基二苯酮(由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)，并且将混合物用使用直径为0.8mm的玻璃珠的砂磨机设备在23±3℃下分散3小时。分散之后，向其中添加0.01份硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)和5.6份交联的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)颗粒(商品名：TECHPOLYMER SSX-102，由Sekisui Plastics Co.,Ltd.制造，平均一次粒径：2.5μm)并且搅拌，从而制备底涂层用涂布液。将该底涂层用涂布液浸涂在筒状基体2上并且将获得的涂膜在160℃下干燥40分钟，从而形成膜厚度为18μm的底涂层。
接下来，准备20份在CuKα特征X-射线衍射中在7.4°和28.2°的布拉格角(Braggangles)(2θ±0.2°)处具有强峰的结晶形羟基镓酞菁晶体(电荷产生材料)，0.2份由以下结构式(A)表示的杯芳烃化合物，10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，由SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)和600份环己酮。在将这些材料放入使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中并且分散4小时之后，将700份乙酸乙酯添加至其中，从而制备电荷产生层用涂布液。将该电荷产生层用涂布液浸涂在底涂层上，并且将获得的涂膜在80℃下干燥15分钟，从而形成膜厚度为0.17μm的电荷产生层。
Figure BDA0001829850610000301
接下来，准备30份由以下结构式(B)表示的化合物(电荷输送材料)，60份由以下结构式(C)表示的化合物(电荷输送材料)，10份由以下结构式(D)表示的化合物，100份聚碳酸酯树脂(商品名：Iupilon Z400，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造，双酚Z型聚碳酸酯)和0.02份由以下结构式(E)表示的聚碳酸酯(粘均分子量Mv：20000)。将这些材料溶解在600份混合的二甲苯和200份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备电荷输送层用涂布液。将该电荷输送层用涂布液浸涂在电荷产生层上，并且将获得的涂膜在100℃下干燥30分钟，从而形成膜厚度为18μm的电荷输送层。
Figure BDA0001829850610000302
(在式(E)中，0.95和0.05为两种结构单元的摩尔比(共聚比)。)
接下来，将20份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：Zeolora H，由ZeonCorporation制造)和20份1-丙醇的混合溶剂用聚四氟乙烯过滤器(polyflon filter)(商品名：PF-040，由Advantec Toyo Kaisha,Ltd.制造)过滤。然后，将90份由以下结构式(F)表示的空穴输送性化合物(电荷输送材料)、70份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷和70份1-丙醇添加至混合溶剂中。将所得物用聚四氟乙烯过滤器(商品名：PF-020，由Advantec ToyoKaisha,Ltd.制造)过滤，从而制备第二电荷输送层(保护层)用涂布液。将该第二电荷输送层用涂布液浸涂在电荷输送层上，并且将获得的涂膜在大气中在50℃下干燥6分钟。然后，在氮气气氛下以200rpm旋转支承体(被照射体)的同时，在加速电压为70kV并且吸收剂量为8000Gy的条件下用电子束照射涂膜1.6秒。随后，在氮气气氛下经30秒将温度从25℃升高至125℃以加热涂膜。在照射电子束和加热时，在气氛中氧的浓度为15ppm。接下来，在大气中在100℃下对其进行热处理30分钟，从而形成通过电子束固化的膜厚度为5μm的第二电荷输送层(保护层)。
Figure BDA0001829850610000311
在各涂布步骤的最后在涂布牵拉方向的下端部使用溶剂剥离在本实施例的制备中涂布的所有层的涂膜。进一步，使所有层的涂布区域距离筒状基体2的上端部1mm和距离在涂布牵拉方向的下端部1mm。
以该方式，制造在表面上形成形状前的筒状电子照相感光构件(形状形成前的电子照相感光构件)。
(实施例1)
(表面加工)
图6A所示的插入构件4在插入构件被预先加热到55℃的状态下插入如上所述地获得的筒状电子照相感光构件1。在插入时，插入构件4以电子照相感光构件1的轴向上的中心位置与插入构件4的中心位置重合的方式插入。作为插入构件的材料，使用主要由碳化钨制成并且纵向弹性模量为540×103N/mm2的硬质合金。
在支撑构件9上，构件从最靠近作为被转印对象的电子照相感光构件1开始以如下顺序配置：成型构件5、金属层6、弹性层7和定位构件8。支撑构件9的材料是SUS430，并且在内部安装有用于加热的加热器。此外，在图6A的Y方向上移动的滑动机构安装于支撑构件9。在由SS400制成的板(厚度：6mm)的表面上进行化学镀镍(Electroless nickel plating)，并且该板被用作定位构件8。使用具有8mm厚度的硅橡胶作为弹性层7。使用由SUS301CSP-3/4H制成的2mm厚度的平板作为金属层6。
这里，说明了在实施例中使用的成型构件5。使用如图7A至图7C所示的由镍制成的具有300μm厚度的平板模具作为成型构件5。此外，图7A至图7C所示的在成型构件5的与电子照相感光构件1接触的表面上，分别在图7B和图7C所示的位置处形成下述的第一凸形状部分51和第二凸形状部分52。此外，所有成型构件5在图中所示的成型构件5的纵向沿电子照相感光构件的轴向布置的状态下使用，并且第一凸形状部分51的在纵向上的长度为345mm。另外，图7A所示的第一凸形状部分51的在横向上的长度为100mm。此外，如图7B和图7C所示的包括第二凸形状部分52的第一凸形状部分51的在横向上的长度为100mm。
在实施例1中，使用如图7B所示的成型构件5，并且在成型构件5的表面上一起布置第一凸形状部分51和第二凸形状部分52，其中，在整个表面上连续地设置如图7A所示的凸半球形状。第一凸形状部分51的所有半球形状的节距X1均为57μm。另外，第一凸形状部分51的所有半球形状的直径Y1均为50μm，并且第一凸形状部分51的所有半球形状的高度Z1均为1.6μm。
第二凸形状部分52的截面中的所有半球形状的节距X2均为57μm。另外，第二凸形状部分52的所有半球形状的直径Y2均为50μm。此外，第二凸形状部分52的半球形状的高度Z2均为0.5μm。作为半径为1000mm并且中心角为19.87度的完美圆形的圆弧形状部分的第二凸形状部分52是弦长53为345mm且高度54为14.99mm的圆弧，并且第二凸形状部分的宽度58为200μm。
这些构件以图6A所示的位置关系固定。此外，成型构件5在如下方向上固定：图7B所示的左侧位于图6A和图6B中的左侧。此外，成型构件5被定位成：在图6B的电子照相感光构件1的轴向上，第一凸形状部分51和第二凸形状部分52的两端分别相对于电子照相感光构件1的表面层3朝向电子照相感光构件1的中心侧5.25mm。另外，在上表面被设定为大致水平的状态下使用支撑构件9的加热器使成型构件5的表面的温度升高到150℃。
为了使电子照相感光构件1的表面压靠成型构件5，在插入构件4的两端部设置载荷机构(未示出)。各载荷机构均在竖直方向上设置有导轨和滚珠丝杠，并且设置有连接到滚珠丝杠和导轨且上下移动的连接支撑构件。伺服马达连接到滚珠丝杠的下侧并且转动，使得连接支撑构件沿着导轨上下移动。连接支撑构件和插入构件4的端部通过球形接头连接。此外，球形接头和连接支撑构件经由载荷传感器连接，使得可以监测施加到插入构件4的两端的载荷量。
在电子照相感光构件1的加工中，使用载荷机构使电子照相感光构件1压靠成型构件5，并且成型构件5通过滑动机构在图6A所示的Y方向上移动。因此，在滚动电子照相感光构件1的过程中，成型构件5的形状被转印到电子照相感光构件的表面上。
在加工中，首先，调整支撑构件9的位置，使得图7A至图7C所示的成型构件5的第一凸形状部分51的左端部被定位于电子照相感光构件1的正下方。接着，通过转动载荷机构的伺服马达在朝向成型构件5的方向上以20mm/秒(Vz1)的速度移动插入构件4。之后，在电子照相感光构件1与成型构件5接触并且通过载荷传感器检测到施加给插入构件4的载荷量到达6000N时，载荷机构的运动停止。接着，支撑构件9开始在图6A的Y方向上以10mm/秒的速度移动，因而，电子照相感光构件1如图6A所示沿顺时针方向转动。以这种方式，成型构件5的表面的凸形状部被转印到电子照相感光构件1的表面。此外，在保持该状态的情况下，当滑动机构移动了95mm时滑动机构停止。之后，通过载荷机构使插入构件4在与成型构件5分离开的方向上以20mm/秒的速度移动，由此使电子照相感光构件1与成型构件5彼此分离。通过在如上所述地滚动电子照相感光构件1的过程中将成型构件5的表面上的凸形状部转印到电子照相感光构件1的表面，使电子照相感光构件1的表面上形成与成型构件5的表面上的凸形状部对应的凹部。通过上述方法制造表面上形成有凹部的筒状电子照相感光构件。
(加工结果的测量)
接着，测量如上所述地在电子照相感光构件1的表面上形成的凹部的深度和面积率。以下说明测量方法。
利用激光显微镜(商品名：VK-9500，由Keyence公司制造)通过50倍镜头放大并观察所获得的电子照相感光构件的表面，并进行如上所述地设置于电子照相感光构件的表面上的凹部和平坦部的确定。在观察时，进行调整使得在电子照相感光构件的纵向上没有倾斜，并且电子照相感光构件的圆弧的顶点在周向上聚焦。然后，通过图像连接应用程序连接经过放大观察的图像，从而获得电子照相感光构件的整个表面上的信息。此外，通过附加图像分析软件选择图像处理高度数据，并且将获得的结果进行滤波器型中值滤波(0.2μm以下)。
通过观察获得在电子照相感光构件的表面上形成的各凹部的深度和开口面积。该结果如表1所示。
此外，使用另一激光显微镜(商品名：X-200，由Keyence公司制造)以与上述相同的方式观察电子照相感光构件的表面，结果与在使用上述激光显微镜(商品名：VK-9500，由Keyence公司制造)可以获得的情况相同。在以下实施例中，使用激光显微镜(商品名：VK-9500，由Keyence公司制造)和50倍镜头观察电子照相感光构件的表面。
作为如上所述测量凹部的深度和开口面积的结果，在实施例1中加工过表面的电子照相感光构件的表面上的凹部的开口面积的总和A是19,787mm2。因此，凹部的开口面积的总和A(表中被表示为“A％”)相对于电子照相感光构件的表面层的总面积为60％。此外，电子照相感光构件的表面上的凹部的深度的平均值B的计算结果为0.8μm。另外，在凹部中，提取基于平均值B的深度在+0.2μm至-0.2μm范围内的凹部、即在实施例1中提取深度为0.6μm至1.0μm的凹部，并且计算这些凹部的开口面积的总和C。结果，开口面积的总和C为19,748mm2。因此，开口面积的总和C(表中被说明为“C％”)占凹部的开口面积的总和的99.8％。
以下，在电子照相感光构件上设定网格，区分区域A和B，测量区域B在X方向和Y方向上的形状，通过最小二乘法在该形状上进行二次函数近似，并且计算相关系数R。
以上，表1示出了所使用的成型构件的构造，表2示出了加工之后的测量结果。
(评价)
将如上所述在实施例1中表面被加工过的电子照相感光构件安装于由Canon公司制造的改进的电子照相复印机iR-ADV C5255，并评价调色剂的滑动。将电子照相感光构件安装于用于电子照相复印机iR-ADV C5255的鼓盒(为了评价调色剂的滑动，移除了充电辊清洁刷)，使得电子照相感光构件的上端侧位于改进的电子照相复印机iR-ADV C5255的深侧。
图10中示出电子照相感光构件和清洁刮板彼此接触的状态的示例。使用安装于电子照相复印机iR-ADV C5255的鼓盒的清洁刮板13(硬度：80JIS A°，25℃时的回弹性：35％)。将电子照相感光构件1与清洁刮板13的刮板下表面132之间的接触角(窄角)设定为25°，并将对电子照相感光构件的接触压力设定为40N/m。
作为用于评价的调色剂，使用具有5.0μm的重量平均粒径的黑色调色剂。
在30℃/RH 80％的环境中进行评价。在10,000张纸上连续形成图像率为1％的图像后，将残留在充电辊上的调色剂粘印(taped)在白纸上，并利用密度计(商品名：504SpectroDensitometer，由X-Rite公司制造)测量与白纸的密度差并依据以下标准评价。A为最好的评价等级，而D为最差的评价等级。
A：残留在充电辊上的调色剂与白纸之间的密度差小于0.03。
B：残留在充电辊上的调色剂与白纸之间的密度差大于等于0.03且小于0.06。
C：残留在充电辊上的调色剂与白纸之间的密度差大于等于0.06且小于0.10。
D：残留在充电辊上的调色剂与白纸之间的密度差大于等于0.10。
随后，使用同一鼓盒评价刮板的磨耗。在30℃/RH 80％的环境下进行评价，与对调色剂的滑动的评价类似，在90,000张纸上连续形成图像率为1％的图像。
在评价调色剂的滑动的情况下总共通过100,000张纸之后，移除清洁刮板13并沿纵向将清洁刮板13切成10等份。此外，切割各刮板的纵向中央部分，利用显微镜观察所有切割表面，并且测量刮板下表面132与刮板前表面131之间的角部处的磨耗量。在测量磨耗量时，如图11所示，测量刮板下表面132的表面上的磨耗距离分量。具体地，作为磨耗距离133，测量了从无磨耗的刮板下表面132的刮板前表面131侧的端部到刮板前表面131的平行于刮板下表面132的距离。结果，在实施例1的评价中，清洁刮板的10个截面中的磨耗距离133的平均值F1为21.3μm。在表3中示出上述内容。
A：清洁刮板的磨耗距离为小于25μm。
B：清洁刮板的磨耗距离为大于等于25μm且小于40μm。
C：清洁刮板的磨耗距离为大于等于40μm且小于50μm。
D：清洁刮板的磨耗距离为大于等于50μm。
[表1]
Figure BDA0001829850610000371
[表2]
Figure BDA0001829850610000381
[表3]
Figure BDA0001829850610000382
(实施例2至实施例10以及比较例1至比较例3)
在表面上形成形状之前以与实施例1相同的方式准备筒状电子照相感光构件(形成形状之前的电子照相感光构件)，并且使用具有表1中所示的第一凸形状部和第二凸形状部的成型构件以与实施例1相同的方式加工电子照相感光构件的表面。以与实施例1相同的方式在表面上形成形状之后对电子照相感光构件进行测量和评价。分别在表2和表3中示出测量结果和评价结果。
(比较例4)
在表面上形成形状之前以与实施例1相同的方式制造筒状电子照相感光构件(形成形状之前的电子照相感光构件)。在加工该表面时，使用图7A所示的成型构件。这里，所使用的成型构件具有连续地设置有凸半球形状的第一凸形状部分51，并且在表1中示出了该构造。除了上述差异之外，以与实施例1相同的方式加工、测量和评价电子照相感光构件的表面。分别在表2和表3中示出测量结果和评价结果。
(实施例11至实施例14以及比较例5和比较例6)
在表面上形成形状之前以与实施例1相同的方式制造筒状电子照相感光构件(形成形状之前的电子照相感光构件)。在加工该表面时，使用图7C所示的成型构件。第一凸形状部分51和第二凸形状部分52分别设置于图7C所示的位置。表4中示出图7C中的第二凸形状部分52的线段a 55、线段b 56、线段c 57的长度以及第二凸形状部分的宽度58。除了上述差异之外，以与实施例1相同的方式加工、测量和评价电子照相感光构件的表面。分别在表5和表6中示出测量结果和评价结果。
[表4]
Figure BDA0001829850610000391
[表5]
Figure BDA0001829850610000401
[表6]
Figure BDA0001829850610000402
虽然已经参照示例性实施方式说明了本发明，但是应当理解，本发明不限于所公开的示例性实施方式。权利要求书的范围应符合最宽泛的解释，以包括所有这样的变型、等同结构和功能。

Claims (6)

1.一种电子照相感光构件，其具有筒形状，所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部，
其特征在于，所述凹部的开口面积的总和为所述电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下，
所述凹部的深度的平均值davg满足以下表达式1，
0.4μm≤davg≤3.0μm 表达式1
具有满足以下表达式2的深度d的凹部的开口面积的总和为所述凹部的开口面积的总和的95％以上，
davg-0.2μm≤d≤davg+0.2μm 表达式2
所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下，并且
所述电子照相感光构件的表面上具有至少一个区域B，其中，
带Y0是，
当所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的轴向上的最大宽度的平均值被定义为Wavg时，
包括线LY0并且具有4×Wavg的宽度的环状带，所述线LY0作为中心线经过所述电子照相感光构件的在所述轴向上的中心；
线X0是，
i)如下的线：当所述带Y0中连续地存在50％以上的开口面积包括在所述带Y0中并且深度是0.5×davg以下的两个或更多个浅凹部时，
该线沿所述电子照相感光构件的轴向、经过线段的中心点并且正交于所述带Y0，所述线段为连接连续存在的所述浅凹部中的位于所述周向上的两端处的两个凹部的最深位置的线段；或者
ii)如下的线：当所述带Y0中单独存在50％以上的开口面积包括在所述带Y0中并且深度是0.5×davg以下的浅凹部时，
该线沿所述电子照相感光构件的轴向、经过所述浅凹部的最深位置并且正交于所述带Y0；
区域A是，
在所述电子照相感光构件的表面上的，
由如下的沿周向的线和沿轴向的线划分的200μm×200μm的四边形区域：
所述沿周向的线与所述线LY0平行地形成并且被配置为所述沿周向的线彼此间具有200μm的间隔，
所述沿轴向的线在直到与所述线X0间隔开35mm的位置的区域中与所述线X0平行地形成并且被配置为所述沿轴向的线彼此间具有200μm的间隔；
所述区域A是如下的四边形区域：深度为0.5×davg以下的浅凹部的数量与50％以上的开口面积包括在所述四边形区域中的凹部的总数量的比为25％以上；
区域B是
由在所述区域A的四条边或四个角中的任一者彼此接触的区域A的集合体中的满足以下条件1的集合体形成的区域；并且
条件1是：
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的长度是凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的90％以上，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述周向上的长度是所述凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，并且
当在以所述电子照相感光构件的所述轴向为X方向且所述电子照相感光构件的所述周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成所述集合体的各所述区域A的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述区域B的相关系数R为0.7以上。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中，所述区域B的在所述周向上的长度为所述凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的3％以上且7％以下。
4.一种电子照相感光构件，其具有筒形状，所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部，
其特征在于，所述凹部的开口面积的总和为所述电子照相感光构件的表面层的总面积的5％以上且65％以下，
所述凹部的深度的平均值davg满足以下表达式1，
0.4μm≤davg≤3.0μm 表达式1
具有满足以下表达式2的深度d的凹部的开口面积的总和为所述凹部的开口面积的总和的95％以上，
davg-0.2μm≤d≤davg+0.2μm 表达式2
所述凹部的开口的在所述电子照相感光构件的周向上的最大宽度的平均值Lavg为20μm以上且200μm以下，并且
所述电子照相感光构件具有由所述电子照相感光构件的表面上的满足以下条件1的集合体形成的至少一个圆弧形状区域，
条件1是：
所述集合体是具有0.5×davg以下的深度的浅凹部的集合体，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的轴向上的长度是凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的90％以上，
所述集合体的在所述电子照相感光构件的所述周向上的长度是所述凹部形成区域的在所述电子照相感光构件的所述轴向上的最大长度的1％以上且10％以下，
当在以所述电子照相感光构件的所述轴向为X方向且所述电子照相感光构件的所述周向为Y方向的正交坐标系中通过最小二乘法对构成所述集合体的各所述浅凹部的中心点进行二次函数近似时，近似曲线的相关系数R为0.5以上。
5.一种处理盒，其一体地支撑根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件和清洁单元，并且所述清洁单元具有被布置为与所述电子照相感光构件接触的清洁刮板，所述处理盒能够拆卸地安装到电子照相设备的主体。
6.一种电子照相设备，其包括：
根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件；
充电单元；
曝光单元；
显影单元；
转印单元；以及
清洁单元，其具有被布置为与所述电子照相感光构件接触的清洁刮板。
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