JP6150817B2 - 画像形成装置、電子写真感光体、及び電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
画像形成装置、電子写真感光体、及び電子写真感光体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6150817B2 JP6150817B2 JP2014548636A JP2014548636A JP6150817B2 JP 6150817 B2 JP6150817 B2 JP 6150817B2 JP 2014548636 A JP2014548636 A JP 2014548636A JP 2014548636 A JP2014548636 A JP 2014548636A JP 6150817 B2 JP6150817 B2 JP 6150817B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recesses
- image
- photosensitive member
- arrangement
- electrophotographic photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 175
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 119
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 106
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 72
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 66
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 59
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims description 58
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 36
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 34
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 20
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 19
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 97
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 97
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 description 41
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 27
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 23
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 22
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 21
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 18
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 14
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 12
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 5
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 5
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006361 Polyflon Polymers 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 4
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 3
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 3
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 2
- 229920000936 Agarose Polymers 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000004420 Iupilon Substances 0.000 description 2
- 229920005933 JONCRYL® 587 Polymers 0.000 description 2
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKALVNREMFLWAN-VOTSOKGWSA-N (ne)-n-(4-methylpentan-2-ylidene)hydroxylamine Chemical compound CC(C)C\C(C)=N\O ZKALVNREMFLWAN-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- FMCUPJKTGNBGEC-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazol-4-amine Chemical compound NN1C=NN=C1 FMCUPJKTGNBGEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004345 1,2-dihydroxyanthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- KCZQSKKNAGZQSZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(6-isocyanatohexyl)-1,3,5-triazin-2,4,6-trione Chemical compound O=C=NCCCCCCN1C(=O)N(CCCCCCN=C=O)C(=O)N(CCCCCCN=C=O)C1=O KCZQSKKNAGZQSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVXHRXDVNXCARD-UHFFFAOYSA-N 1-[ethoxy-methyl-(2-methylpropyl)silyl]oxy-n-ethylethanamine Chemical compound CCNC(C)O[Si](C)(CC(C)C)OCC DVXHRXDVNXCARD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical compound C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZBCIDSFGUWRA-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]-n-methylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](C)(OC)OC GGZBCIDSFGUWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1h-pyrazole Chemical compound CC1=CC=NN1 XKVUYEYANWFIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical class C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100063942 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) dot-1 gene Proteins 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000971 Silver steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde oxime Chemical compound CC=NO FZENGILVLUJGJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N anthanthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4C=CC=C5C(=O)C6=CC=C1C2=C6C3=C54 PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019658 bitter taste Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N carbon tetrachloride Substances ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 244000145845 chattering Species 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFKGQHYUYGYHIS-UHFFFAOYSA-N dibutyl propanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=O)OCCCC NFKGQHYUYGYHIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical class C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N meldrum's acid Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC(=O)O1 GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007760 metering rod coating Methods 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M molport-000-691-708 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[Ga](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 PRMHOXAMWFXGCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNQFLOSSLHYGLQ-UHFFFAOYSA-N n-[[dimethoxy(methyl)silyl]methyl]aniline Chemical compound CO[Si](C)(OC)CNC1=CC=CC=C1 BNQFLOSSLHYGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920002382 photo conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920003225 polyurethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N pyranthrene-8,16-dione Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1C=C4C=C5 LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004961 triphenylmethanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
- G03G15/751—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing relating to drum
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/75—Details relating to xerographic drum, band or plate, e.g. replacing, testing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
Description
階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、を有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体の表面には深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出された画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする画像形成装置。
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)と該凹部とが重複する部分を前記スクリーンパターン(B)から削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、前記電子写真感光体に接触してクリーニングするブレードと、を有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体の表面の少なくとも前記ブレードとの接触領域には、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする画像形成装置。
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)と該凹部とが重複する部分を前記スクリーンパターン(B)から削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
前記電子写真感光体の表面には、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が所定の配置で形成されており、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体。
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)と該凹部とが重複する部分を前記スクリーンパターン(B)から削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
前記電子写真感光体の表面の前記ブレードとの接触領域には、深さ0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体。
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
さらに、本発明によれば、少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を 備え、階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリ ーンパターンを少なくとも利用して静電潜像が形成される電子写真感光体の製造方法であ って、
前記電子写真感光体の表面に、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が 20μm以上80μm以下の複数の凹部を形成するステップを有し、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したと き、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm 2 以上90000μm 2 以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm 2 以上2400 00μm 2 以下であり、前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出し た画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体の 製造方法。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複 する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標 準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
さらに、本発明によれば、少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を 備え、階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリ ーンパターンを少なくとも利用して静電潜像が形成されるともにブレードによりその表面 がクリーニングされる電子写真感光体の製造方法であって、
前記電子写真感光体の表面の前記ブレードとの接触領域に、深さ0.5μm以上5μm 以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部を形成するステップを 有し、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方 形領域において、前記凹部の総面積が10000μm 2 以上90000μm 2 以下、前記 凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm 2 以上240000μm 2 以 下であり、前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指 数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複 する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標 準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM
が提供される。
特徴2:凹部の面積の割合が少ない
特徴3:平坦部の面積の割合が多い
特徴4:凹部が特定の基準を満たすように配置されている
特徴1〜3は画像流れを抑制する項目であり、特徴4は画質低下を抑制する項目である。以下、詳述する。
まず、画像流れを抑制する項目である、特徴1〜3について説明する。本例の特徴1〜3における、上述したWO05/093518号(国際公開番号)公報記載の技術に対する特徴は、電子写真感光体の表面における平坦部の面積の割合が多い点である。乾式ブラスト処理や湿式ホーニング処理を用いて電子写真感光体の表面にディンプル形状の凹部を設ける場合、電子写真感光体の表面に対してランダムに粒子を衝突させることになるため、凹部以外の部分(凹部を除く部分)のうち、平坦部の面積の割合はきわめて少なくなる。
次に、画質低下を抑制する項目である特徴4について説明する。本発明者らが検討した結果、電子写真感光体の表面に複数の凹部を設けることで画質が低下してしまう場合があった。この理由は、凹部が、凹部でない部分と比べて、電子写真特性が劣る傾向にあるためである。電子写真特性とは、帯電能、潜像再現性、現像効率あるいは転写効率である。凹部の電子写真特性が劣ると、画像データのうち電子写真感光体の凹部に作像される部分が忠実に再現できない。その結果、凹部の配置に応じて出力画像に濃淡が生じ、画像の粒状性(がさつき)が低下してしまう。
画質低下指数(f)の算出方法である演算処理(1)〜(3)について詳細に説明する。
この処理は、想定される出力画像を、画処理によって疑似的に作成する処理である。ドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターン(B)とは、例えば図11の(a)、図12の(a)である。スクリーンから該複数の凹部と重複する部分を削除した画像(C)とは、例えば図11の(d)、(e)、図12の(d)、(e)である。
・メディアンフィルタでエッジは残しつつノイズ成分を除去
・最小輝度(トナー像)、最大輝度(感光体)の差分の50%閾値で2値化
・微小面積部を除去(微小トナー等の微粒子除去)
・トナー像で囲まれた部分を塗りつぶし(穴埋め)
このような画像処理演算は、キーエンス社製粒子解析ソフト(GRADING ANALYSIS)などを用いて行うことができる。
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する。
f=σ/SM・・・式(1)
ドット面積の標準偏差(σ)は、ドット面積の平均値SMの値に依存するため、ドット径が大きいスクリーンパターン(B)とドット径が小さいスクリーンパターン(B)の画質低下は単純に比較することができない。そこで、規格化のために、ドット面積の標準偏差(σ)をドット面積の平均値SMで除する。
画質低下指数(f)が14%以下となる凹部配置は、画像流れを抑制する項目である特徴1〜3を満たす限り、制限されない。別途、凹部配置ではなく、疑似中間調処理をFMスクリーニングとすることで画質低下を抑制する方法もあるが、FMスクリーニング自体、がさつきが低下する傾向にある。そのため、電子写真装置では一般的に、要求画質に応じてAMスクリーニングとFMスクリーニングを使い分けて利用される。
凹部の形成方法としては、上記の凹部に係る要件を満たしうる方法であれば、特に制限されない。例えば、パルス幅が100ns(ナノ秒)以下である出力特性を有するレーザー光照射による電子写真感光体の表面の形成方法、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう方法が挙げられる。
本例の電子写真感光体は、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。電子写真感光体の形状としては、例えば、円筒状、ベルト(エンドレスベルト)状、シート状が挙げられる。
図5に本発明に係る電子写真式の画像形成装置の例を示す。図5において、円筒状の電子写真感光体501は、軸502を中心に矢印方向に所定の周速度(プロセススピード)をもって回転駆動される。電子写真感光体501の周囲には、電子写真感光体501の表面に静電潜像を形成するための画像形成部が配置されている。
具体的には、感光体501の回転方向に沿って、帯電手段(一次帯電手段)503、露光手段(画像露光手段)が配置されている。詳述すると、感光体501は、帯電手段として機能する帯電ローラにより、所定電位(本例では負極性)に均一に帯電され、その後、原稿の画像情報に基づいて露光手段として機能するレーザー光学系から照射されるレーザー(画像露光光)504を受ける。このようにして、電子写真感光体501の表面には、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成されていく。
ロセスカートリッジ(カートリッジ)PCとして一体に結合して構成してもよい。また、このプロセスカートリッジPCを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置の装置本体に対して着脱自在に構成することができる。
以下、具体的な実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。また、電子写真感光体を、以下単に「感光体」ともいう。また、以下のすべての例において、電子写真感光体の表面に形成された凹部の開口部の形状は、開口部の最長径と開口部の最短径が実質等しい円状である。
直径30.52mm、長さ370mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
・・・0.01部
・架橋ポリメタクリル酸メチル(PMMA)粒子(商品名:TECHPOLYMERSSX−102、積水化成品工業(株)社製、平均一次粒径2.5μm)
・・・5.6部
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間160℃で乾燥させて、膜厚が18μmの下引き層を形成した。
・下記構造式(A)で示されるカリックスアレーン化合物 ・・・0.2部
・・・10部
・シクロヘキサノン ・・・600部
この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を15分間80℃で乾燥させることによって、膜厚0.17μmの電荷発生層を形成した。
・下記構造式(C)で示される化合物(電荷輸送物質) ・・・60部
・下記構造式(D)で示される化合物 ・・・10部
・ポリカーボネート樹脂(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ビスフェノールZ型のポリカーボネート) ・・・100部
・下記構造式(E)で示されるポリカーボネート(粘度平均分子量Mv:20000)
・・・0.02部
で乾燥させることによって、膜厚18μmの電荷発生層を形成した。
・1−プロパノール ・・・70部
この第二電荷輸送層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を大気中において6分間50℃で乾燥させた。その後、窒素中において、支持体(被照射体)を200rpmで回転させながら、加速電圧70kV、吸収線量8000Gyの条件で1.6秒間、電子線を塗膜に照射した。
感光体Aの製造例において、支持体(円筒状支持体)として直径84mm、長さ370mmのアルミニウムシリンダーを用いた以外は、感光体Aの製造例と同様にして、表面に凹部を形成する前の電子写真感光体である感光体Bを作製した。
感光体Aの製造例と同様にして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。次に、下記の手順で潤滑剤分散液を得た。
・1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン(商品名:ゼオローラH、日本ゼオン(株)製) ・・・30部
・1−プロパノール ・・・30部
これに、潤滑剤としてのポリテトラフルオロエチレン(商品名:ルブロンL−2、ダイキン工業(株)製)10部を加えた。これを高圧分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−110EH、米Microfluidics社製)に入れ、600kgf/cm2の圧力で、4回の分散処理を施した。これをポリフロンフィルター(商品名:PF−040、アドバンテック東洋(株)製)で濾過することによって、潤滑剤分散液を得た。
感光体Aの製造例と同様にして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。次に、下記の手順で第二電荷輸送層(保護層)用塗布液を調製した。
・クロロベンゼン ・・・90部
さらに、この分散処理を行った混合液をポリフロンフィルター(商品名:PF−040、アドバンテック東洋(株)製)で濾過を行い、分散液を調製した。そして、
・前記構造式(C)で示される構造を有する化合物 ・・・70部
・ポリカーボネート(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチッ
クス(株)製) ・・・100部
・上記分散液 ・・・200部
・モノクロロベンゼン ・・・400部
・ジメトキシメタン ・・・200部
を混合することによって、第二電荷輸送層(保護層)用塗布液を調製した。
凹部形成前の感光体Aの製造例と同様にして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。次に、下記の物質を1−メトキシ−2−プロパノール20.9部に溶解させることによって、第二電荷輸送層(保護層)用塗布液を調製した。
・メラミン樹脂(商品名:CYMEL−303、CytecIndustries製)
・・・2.1部
・電荷輸送成分としてのN,N,N’,N’−テトラキス−[(4−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビフェニル−4,4’−ジアミン(THM−TBD)
・・・1.16部
・電荷輸送成分としてのN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−ヒドロキシフェニル)−テルフェニル−ジアミン(DHTER) ・・・1.93部
・酸触媒(商品名:Nacure5225、King Chemical Industries製) ・・・0.05部
この第二電荷輸送層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、40分間140℃で熱硬化させることによって、膜厚6μmの第二電荷輸送層(保護層)を形成した。
概ね図4に示す構成の圧接形状転写加工装置にて、凸形状を有するモールドを設置し、凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。
表面に凹部を有する電子写真感光体の表面を、レーザー顕微鏡((株)キーエンス製、商品名:VK−9500)で10倍乃至50倍レンズにより拡大観察し、上述のようにして電子写真感光体の表面に設けられた特定凹部および平坦部の判定を行った。
表面に凹部を有する電子写真感光体について、レボックス(株)社製GX−700にて、CCDカメラによる観察を行い、一辺10.84mmの正方形領域における写真データを取得した。取得した画像に対して2値化処理を行い凹部配置の座標を取得した。次に、レーザー顕微鏡観察にて取得した特定凹部の開口形状を、凹部配置の座標に反映して、複数の凹部の配置(A)とした。
・ドット形状が円形で、線数212lpi、角度45°、印字率40%の正方配置スクリーンパターン2(SCR2)
上記で得られた複数の凹部の配置(A)、スクリーンパターン(B)を用い、上述した算出方法に従って画質低下指数の算出を行った。画像(C)の作成には、Adobe社Photoshopを用いた。粒子解析には、キーエンス社製粒子解析ソフト(GRADING ANALYSIS)VH−H1G1を用いた。
表面に凹部を有する電子写真感光体を、キヤノン(株)製の電子写真装置(複写機)(商品名:iR−ADV C7065)の改造機のシアンステーションに装着し、以下のように評価を行った。
B:被験者によって、がさつきが低下しているか否か、判断が分かれた画像
C:被験者によって、モアレが低下化しているか否か、判断が分かれた画像
D:被験者全員が、がさつきが低下化していると判断した画像のうち最も程度の良い画像
E:被験者全員が、モアレが低下していると判断した画像のうち最も程度の良い画像
本例では、A〜Cを許容できる画質低下とした。
画質評価1の画像出力において、電子写真装置のシアンに設定されているディザマトリクスを、線数212lpi、角度45°、解像度1200dpiのディザマトリクスに変更した。Adobe社Photoshopにて、濃度40%のグレースケールをA4サイズで作成した。プリンタードライバーを介して出力することで、線数212lpi、角度45°、印字率40%のスクリーンパターン2(SCR2)で構成されたハーフトーン2(HT2)を得た。得られたハーフトーン2(HT2)について、画質評価1と同様の目視評価によるランク付けを行った。
表面に凹部を有する電子写真感光体を、キヤノン(株)製の電子写真装置(複写機)(商品名:iR−ADV C7065)の改造機のブラックステーションに装着し、以下のように評価を行った。
表面に凹部を有する電子写真感光体を、キヤノン(株)製の電子写真装置(複写機)(商品名:iR−ADV C7065)の改造機のブラックステーションに装着し、以下のように評価を行った。
表面に凹部を有する感光体を、キヤノン(株)製の電子写真装置(複写機)(商品名:iR−ADV C7055)の改造機のシアンステーション(接触帯電方式)に装着した。
クリーニングブレードの硬度および設定(当接角および当接圧)を表3に示すようにした以外は、表面に凹部を有する感光体の画像流れ評価1と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。
表面に凹部を有する感光体を、キヤノン(株)製の電子写真装置(複写機)(商品名:iR−ADV C7055)の改造機のブラックステーション(コロナ帯電方式)に装着した。クリーニングブレードの硬度および設定(当接角および当接圧)を表4に示すようにした以外は、表面に凹部を有する感光体の画像流れ評価1と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。
凹部形成前の電子写真感光体A、B、C、Dを用い、図6の(A)の正方配置モールドを用いて、モールド圧接形状転写による凹部の形成を行い、表面に凹部を有する電子写真感光体AA−1〜40、BA−1〜3、CA−1、DA−1を作成した。圧接形状転写に用いたモールド、表面加工時の電子写真感光体の表面の温度を表5に示す。
凹部形成前の電子写真感光体A、B、C、Dを用い、図6の(B)の不規則配置モールドを用いて、モールド圧接形状転写による凹部の形成を行い、表面に凹部を有する電子写真感光体AB−1〜40、BB−1、CB−1、DB−1を作成した。圧接形状転写に用いたモールド、表面加工時の電子写真感光体の表面の温度を表6に示す。
凹部形成前の電子写真感光体Aを用い、図6の(C)、(D)の配置のモールドを用いて、モールド圧接形状転写による凹部の形成を行い、表面に凹部を有する電子写真感光体AC−1、AD−1を作成した。圧接形状転写に用いたモールド、表面加工時の電子写真感光体の表面の温度を表7に示す。
凹部形成前の感光体Aの製造例と同様にして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。次に下記の物質を1−メトキシ−2−プロパノール20.9部に溶解させることによって、第二電荷輸送層(保護層)用塗布液を調製した。
・メラミン樹脂(商品名:CYMEL−303、CytecIndustries製)
・・・2.1部
・電荷輸送成分としてのN,N,N’,N’−テトラキス−[(4−ヒドロキシメチル)フェニル]−ビフェニル−4,4’−ジアミン(THM−TBD)
・・・1.16部
・電荷輸送成分としてのN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−ヒドロキシフェニル)−テルフェニル−ジアミン(DHTER) ・・・1.93部
・酸触媒(商品名:Nacure5225、King Chemical Industries製) ・・・0.05部
この第二電荷輸送層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を硬化させる前に、表8および表9に示すモールドを用い、塗膜の表面温度を常温(25℃)に保った状態で、塗膜の表面にモールドの形状を転写した。次に、40分間140℃で熱硬化させることによって、膜厚6μmの第二電荷輸送層(保護層)を形成した。
凹部形成前の感光体Aに対して、概ね図9に示す構成の乾式ブラスト装置を用いて乾式ブラスト処理を行い、電子写真感光体の表面(周面)の全面に複数のディンプル形状の凹部を形成した。
た粒子(研磨粒子)を、圧縮エアの吹き付けにより除去した。
・エア(圧縮空気)吹き付け圧力:0.343MPa(3.5kgf/cm2)噴射ノズル移動速度:430mm/s(図9中の上下矢印方向)
・ワークの自転速度:288rpm(図9中の回転矢印方向)
・噴射ノズルの吐出口とワークとの距離:100mm
・粒子(研磨粒子)の吐出角度:90°
・粒子(研磨粒子)の供給量:200g/min
・ブラストの回数:片道×2回
電子写真感光体Pについて、表面に凹部を有する電子写真感光体の製造例1と同様に観察を行い、特定凹部の深さ、開口部の最長径および面積ならびに平坦部の面積、凹部の配置を求め、画質低下指数(f)の算出を行った。結果を表10に示す。
表面に凹部を有する感光体AA−8〜15、18〜20、22〜24、28、29、31、32、35について、上述の画質評価1を行った。また、感光体AB−8、9、12〜15、18〜20、22〜24、28、29、31、32、35および感光体AC−1、感光体AD−1、感光体CA−1、感光体DA−1、感光体CB−1、感光体DB−1について、上述の画質評価1を行った。さらに、画像流れ評価1〜10のうち表11に示す評価を行った。結果を表11に示す。
表面に凹部を有する感光体BA−1、BB−1について、上述の画質評価3を行った。さらに、画像流れ評価11〜20を行った。結果を表12に示す。
表面に凹部を有する感光体AA−8、9、12〜15、18〜20、22〜24について、上述の画質評価2を行った。また、感光体AB−8、9、12〜15、18〜20、22〜24、31、32および感光体AD−1、感光体CA−1,感光体DA−1、感光体CB−1、感光体DB−1について、上述の画質評価2を行った。さらに、画像流れ評価1〜10のうち表13に示す評価を行った。結果を表13に示す。
以上の結果から、以上の要件を満たす電子写真式の画像形成装置は、画像流れが生じにくく、かつ画質低下が抑制された装置であるといえる。
表面に凹部を有する感光体BA−1、BB−1について、上述の画質評価4を行った。さらに、画像流れ評価11〜20を行った。結果を表14に示す。
表面に凹部を有さない電子写真感光体A〜Eについて、上述の画質評価1を行った。さらに、画像流れ評価2、6、9を行った。結果を表15に示す。
表面に凹部を有する感光体AA−1〜7、16、17、21、25〜27、30、33、34、36〜40について、上述の画質評価1を行った。また、感光体AB−1〜7、10、11、16,17、21、25〜27、30、33、34、36〜40および感光体EA−1、感光体EB−1、感光体Pについて、上述の画質評価1を行った。さらに、画像流れ評価1〜10のうち表16に示す評価を行った。結果を表16に示す。
表面に凹部を有する感光体BA−2、3について、上述の画質評価3を行った。さらに、画像流れ評価13、16、19を行った。結果を表17に示す。
表面に凹部を有する感光体AA−1〜11、16、17、21、25〜40および、感光体AB−1〜11、16、17、21、25〜30、33〜40および感光体AC−1、感光体EA−1、感光体EB−1、感光体Pについて、上述の画質評価2を行った。さらに、画像流れ評価1〜10のうち表18に示す評価を行った。結果を表18に示す。
以上の結果から、実施例と同様の要件を満さない電子写真式の画像形成装置は、画像流れおよび/または画質低下の抑制が不十分な装置であるといえる。
表面に凹部を有する感光体BA−2、3について、上述の画質評価4を行った。さらに、画像流れ評価13、16、19を行った。結果を表19に示す。
Claims (12)
- 少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を備えた電子写真感光体と、
階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、を有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体の表面には深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出された画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする画像形成装置。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、前記複数の凹部と重複する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記電子写真感光体は前記感光層の上に保護層を有し、前記保護層に前記複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項1の画像形成装置。
- 少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を備えた電子写真感光体と、
階調を表現する手法としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、前記電子写真感光体に接触してクリーニングするブレードと、を有する画像形成装置であって、
前記電子写真感光体の表面の少なくとも前記ブレードとの接触領域には、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする画像形成装置。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、前記複数の凹部と重複する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記電子写真感光体は前記感光層の上に保護層を有し、前記保護層に前記複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項3の画像形成装置。
- 少なくとも支持体と前記支持体の上に形成された感光層とを備えた電子写真感光体と、ドットで形成される疑似中間調処理で生成されるスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、を有する画像形成装置に用い られる前記電子写真感光体であって、
前記電子写真感光体の表面には、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が所定の配置で形成されており、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)と該凹部とが重複する部分を前記スクリーンパターン(B)から削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記感光層の上に保護層を有し、前記保護層に前記複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項5の電子写真感光体。
- 少なくとも支持体と前記支持体の上に形成された感光層とを備えた電子写真感光体と、ドットで形成される疑似中間調処理で生成されるスクリーンパターンを少なくとも利用して前記電子写真感光体に静電潜像を形成する画像形成部と、前記電子写真感光体の表面を クリーニングするブレードと、を有する画像形成装置に用いられる前記電子写真感光体であって、
前記電子写真感光体の表面の前記ブレードとの接触領域には、深さ0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部が形成されており、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm2以上90000μm2以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm2以上240000μm2以下であり、
前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記感光層の上に保護層を有し、前記保護層に前記複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項7の電子写真感光体。
- 少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を備え、階調を表現する手法 としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも 利用して静電潜像が形成される電子写真感光体の製造方法であって、
前記電子写真感光体の表面に、深さが0.5μm以上5μm以下かつ開口部の最長径が 20μm以上80μm以下の複数の凹部を形成するステップを有し、
前記電子写真感光体の表面において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したと き、前記正方形領域において、前記凹部の総面積が10000μm 2 以上90000μm 2 以下、前記凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm 2 以上2400 00μm 2 以下であり、前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出し た画質低下指数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体の 製造方法。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複 する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標 準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記感光層の上に保護層を形成するステップと、前記保護層に前記複数の凹部を形成す るステップを有することを特徴とする請求項9の電子写真感光体の製造方法。
- 少なくとも支持体および該支持体の上に形成された感光層を備え、階調を表現する手法 としてドットで形成される疑似中間調処理で生成されたスクリーンパターンを少なくとも 利用して静電潜像が形成されるともにブレードによりその表面がクリーニングされる電子 写真感光体の製造方法であって、
前記電子写真感光体の表面の前記ブレードとの接触領域に、深さ0.5μm以上5μm 以下かつ開口部の最長径が20μm以上80μm以下の複数の凹部を形成するステップを 有し、
前記接触領域において一辺が500μmの正方形領域を任意に抽出したとき、前記正方 形領域において、前記凹部の総面積が10000μm 2 以上90000μm 2 以下、前記 凹部を除く部分に含まれる平坦部の総面積が80000μm 2 以上240000μm 2 以 下であり、前記複数の凹部の配置(A)が、下記の演算処理を行って算出した画質低下指 数(f)が14%以下となる配置であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
<演算処理>
(1)前記複数の凹部の配置(A)がなされた電子写真感光体を用いて前記スクリーン パターン(B)を形成した場合として、前記複数の凹部の配置(A)と前記スクリーンパ ターン(B)とを重ね合わせ、前記スクリーンパターン(B)から、該複数の凹部と重複 する部分を削除し、画像(C)とする
(2)画像(C)について粒子解析を行い、ドット面積の平均値SM、ドット面積の標 準偏差(σ)を算出する
(3)下記式(1)にて画質低下指数(f)を得る
式(1):f=σ/SM - 前記感光層の上に保護層を形成するステップと、前記保護層に前記複数の凹部を形成す るステップを有することを特徴とする請求項11の電子写真感光体の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012255277 | 2012-11-21 | ||
JP2012255277 | 2012-11-21 | ||
PCT/JP2013/081984 WO2014081046A1 (ja) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | 画像形成装置及び電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014081046A1 JPWO2014081046A1 (ja) | 2017-01-05 |
JP6150817B2 true JP6150817B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=50776217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014548636A Active JP6150817B2 (ja) | 2012-11-21 | 2013-11-21 | 画像形成装置、電子写真感光体、及び電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9772596B2 (ja) |
JP (1) | JP6150817B2 (ja) |
WO (1) | WO2014081046A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6403586B2 (ja) * | 2014-02-21 | 2018-10-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP2016038577A (ja) | 2014-08-06 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
US9766561B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-09-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus |
JP6541429B2 (ja) * | 2015-05-22 | 2019-07-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP6486241B2 (ja) * | 2015-08-19 | 2019-03-20 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
US10416581B2 (en) | 2016-08-26 | 2019-09-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
JP6983543B2 (ja) | 2017-06-09 | 2021-12-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP6896556B2 (ja) | 2017-08-10 | 2021-06-30 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7240124B2 (ja) | 2017-10-16 | 2023-03-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7034768B2 (ja) | 2018-02-28 | 2022-03-14 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP7034769B2 (ja) | 2018-02-28 | 2022-03-14 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP2019152699A (ja) | 2018-02-28 | 2019-09-12 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
US10747130B2 (en) | 2018-05-31 | 2020-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Process cartridge and electrophotographic apparatus |
JP7150485B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-10-11 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP7059111B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-04-25 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法、並びにプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 |
JP7054366B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-04-13 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7059112B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-04-25 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 |
JP7129225B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-09-01 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体および電子写真感光体の製造方法 |
JP7143137B2 (ja) | 2018-07-31 | 2022-09-28 | キヤノン株式会社 | 電子写真用部材、電子写真プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置 |
US20200067002A1 (en) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | Nanoco 2D Materials Limited | Photodetectors Based on Two-Dimensional Quantum Dots |
JP7222670B2 (ja) * | 2018-11-16 | 2023-02-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
JP7413054B2 (ja) | 2019-02-14 | 2024-01-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7358276B2 (ja) | 2019-03-15 | 2023-10-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP7337649B2 (ja) | 2019-10-18 | 2023-09-04 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP7337652B2 (ja) | 2019-10-18 | 2023-09-04 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ及びそれを用いた電子写真装置 |
JP7406427B2 (ja) | 2020-03-26 | 2023-12-27 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7413115B2 (ja) * | 2020-03-26 | 2024-01-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP7413123B2 (ja) | 2020-03-30 | 2024-01-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置、並びに電子写真感光体の製造方法 |
CN116703931B (zh) * | 2023-08-09 | 2023-10-24 | 山东津庭名企建材有限公司 | 一种用于建筑高分子材料的表面银纹检测方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1734410B1 (en) | 2004-03-26 | 2016-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotography photosensitive body, method for producing electrophotography photosensitive body, process cartridge, and electrophotograph |
EP1734412B1 (en) | 2004-03-26 | 2014-05-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor, method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device |
JP4101279B2 (ja) | 2006-01-31 | 2008-06-18 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP4183267B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2008-11-19 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP4101278B2 (ja) | 2006-01-31 | 2008-06-18 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP5241156B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2013-07-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体および電子写真装置 |
JP2010008898A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Canon Inc | 電子写真装置 |
US8846281B2 (en) | 2008-09-26 | 2014-09-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
JP5371573B2 (ja) * | 2009-06-22 | 2013-12-18 | キヤノン株式会社 | 画像形成方法 |
US20110014557A1 (en) | 2009-07-20 | 2011-01-20 | Xerox Corporation | Photoreceptor outer layer |
US20140093281A1 (en) | 2011-05-31 | 2014-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
-
2013
- 2013-11-21 WO PCT/JP2013/081984 patent/WO2014081046A1/ja active Application Filing
- 2013-11-21 JP JP2014548636A patent/JP6150817B2/ja active Active
-
2015
- 2015-05-19 US US14/716,827 patent/US9772596B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9772596B2 (en) | 2017-09-26 |
WO2014081046A1 (ja) | 2014-05-30 |
JPWO2014081046A1 (ja) | 2017-01-05 |
US20150286182A1 (en) | 2015-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6150817B2 (ja) | 画像形成装置、電子写真感光体、及び電子写真感光体の製造方法 | |
JP6433238B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP5127991B1 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP5857827B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP5597967B2 (ja) | 有機感光体、画像形成方法、画像形成装置 | |
JP2016038577A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
US20040183883A1 (en) | Image forming apparatus | |
JP5318204B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2014038138A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2014153468A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2017227885A (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2009134002A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JP2008096964A (ja) | 画像形成装置および画像形成方法 | |
JP2017134279A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2008165156A (ja) | 電子写真感光体およびこれを用いた画像形成装置 | |
JP6723790B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2008151999A (ja) | 画像形成方法 | |
JP2009031342A (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた画像形成方法、ならびに該画像形成方法を用いた電子写真装置 | |
JP2005017580A (ja) | 有機感光体、プロセスカートリッジ、画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP7146459B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JP6415170B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2008292572A (ja) | 電子写真装置 | |
JP4181763B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP4114578B2 (ja) | 有機感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法 | |
JP4853272B2 (ja) | 有機感光体の表面保護層の分散液の製造方法、有機感光体、画像形成装置及び画像形成ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160308 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160506 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170425 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170523 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6150817 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |