JP2014153468A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents
電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014153468A JP2014153468A JP2013021565A JP2013021565A JP2014153468A JP 2014153468 A JP2014153468 A JP 2014153468A JP 2013021565 A JP2013021565 A JP 2013021565A JP 2013021565 A JP2013021565 A JP 2013021565A JP 2014153468 A JP2014153468 A JP 2014153468A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photosensitive member
- electrophotographic photosensitive
- conductive substrate
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
【課題】導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体の提供。
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である電子写真感光体による。
【選択図】なし
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である電子写真感光体による。
【選択図】なし
Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
特許文献1には、基体上に、電荷発生層と、電荷輸送層と、を含む積層型電子写真感光体であって、前記電荷発生層が電子輸送能を有する化合物を含有するとともに、前記電荷発生層を前記基体上に形成した状態で測定される電荷発生層のJIS Z 8722に準拠して色差計で測定されるb値から、前記基体単独で測定されるb値を差し引いた値をΔb値とした場合に、当該Δb値を−5〜5の範囲内の値とすることを特徴とする積層型電子写真感光体が開示されている。
本発明は、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体を提供することを目的とする。
請求項1に係る発明は、
導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、
前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である電子写真感光体である。
導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、
前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である電子写真感光体である。
請求項2に係る発明は、
前記導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下である請求項1に記載の電子写真感光体である。
前記導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下である請求項1に記載の電子写真感光体である。
請求項3に係る発明は、
前記導電性基体が衝撃押出し法により成形された導電性基体である請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体である。
前記導電性基体が衝撃押出し法により成形された導電性基体である請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体である。
請求項4に係る発明は、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。
請求項5に係る発明は、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置である。
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置である。
請求項1に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が導電性基体上に設けられた電子写真感光体に比べて、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体が得られる。
請求項2に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上の下引き層が、最大粗さRmaxが4.0μmを超える導電性基体上に設けられた電子写真感光体に比べて、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体が得られる。
請求項3に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が、衝撃押出し法により成形された導電性基体上に設けられた電子写真感光体に比べて、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体が得られる。
請求項4に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲おいて1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が導電性基体上に設けられた電子写真感光体を備える場合に比べ、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制するプロセスカートリッジが提供される。
請求項5に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲おいて1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が導電性基体上に設けられた電子写真感光体を備える場合に比べ、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する画像形成装置が提供される。
請求項2に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上の下引き層が、最大粗さRmaxが4.0μmを超える導電性基体上に設けられた電子写真感光体に比べて、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体が得られる。
請求項3に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が、衝撃押出し法により成形された導電性基体上に設けられた電子写真感光体に比べて、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する電子写真感光体が得られる。
請求項4に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲おいて1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が導電性基体上に設けられた電子写真感光体を備える場合に比べ、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制するプロセスカートリッジが提供される。
請求項5に係る発明によれば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲おいて1.0以上の吸光度を有さず、且つ、膜厚が4μm未満である下引き層が導電性基体上に設けられた電子写真感光体を備える場合に比べ、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する画像形成装置が提供される。
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
<電子写真感光体>
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、
前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、
前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である。
電子写真感光体は、導電性基体が、粗い、傷がある、といった凹凸を有する表面性状である場合、例えば、黒点・色点、白抜きのような画像欠陥を画像上に発生させる傾向にあると考えられる。また、電子写真感光体は、導電性基体が光を反射し易い表面性状である場合、反射光によって感光層に影響を受けることとなり、例えば、画像上に干渉縞といった画像欠陥を生じさせる傾向にあると考えられる。
そこで、本実施形態においては、上記構成の下引き層を導電性基体上に設けた電子写真感光体とする。
つまり、本実施形態に係る電子写真感光体は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲内にある光を吸収し易い下引き層が導電性基体上に設けられることとなるため、上記範囲内の光(例えば、露光光や表面検査装置の光)が照射された場合に該光が導電性基体に届き難くなると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体は、膜厚が4μm以上の厚みのある下引き層が導電性基体の表面上を覆って設けられる。
その結果、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の表面による光の反射が抑制され、且つ、下引き層の表面が導電性基体の表面性状に関わらず平坦化されると考えられる。
つまり、本実施形態に係る電子写真感光体は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲内にある光を吸収し易い下引き層が導電性基体上に設けられることとなるため、上記範囲内の光(例えば、露光光や表面検査装置の光)が照射された場合に該光が導電性基体に届き難くなると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体は、膜厚が4μm以上の厚みのある下引き層が導電性基体の表面上を覆って設けられる。
その結果、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の表面による光の反射が抑制され、且つ、下引き層の表面が導電性基体の表面性状に関わらず平坦化されると考えられる。
以上より、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する。
なお、本来、導電性基体が表面に凹凸や傷を有している場合、該導電性基体を有する電子写真感光体は、光を用いた表面検査装置による検査過程において不良と判断されやすいところ、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体上に光を吸収し易い下引き層を設けているため、導電性基体が表面に凹凸や傷を有していたとしても、検査過程において不良判定を受け難いと考えられる。その結果、本実施形態に係る電子写真感光体は、歩留まりが上昇する傾向にあると予測される。
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の構成について、図1乃至図3を参照して説明するが、本実施形態は図1乃至図3によって限定されることはない。
図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図1中、1は導電性基体、2は感光層、2Aは電荷発生層、2Bは電荷輸送層、4は下引き層、5は保護層を表す。
図1に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B、保護層5がこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの2層から構成される。
なお、図1に示す電子写真感光体においては保護層5が最外表面層である。
図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図1中、1は導電性基体、2は感光層、2Aは電荷発生層、2Bは電荷輸送層、4は下引き層、5は保護層を表す。
図1に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B、保護層5がこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの2層から構成される。
なお、図1に示す電子写真感光体においては保護層5が最外表面層である。
図2は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。図2中、1は導電性基体、2は感光層、2Aは電荷発生層、2Bは電荷輸送層、4は下引き層を表す。
図2に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2Bがこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの2層から構成される。
なお、図2に示す電子写真感光体においては電荷輸送層2Bが最外表面層である。
図2に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2Bがこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの2層から構成される。
なお、図2に示す電子写真感光体においては電荷輸送層2Bが最外表面層である。
図3は、本実施形態に係る感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図3中、6は機能一体型の感光層を表し、他は、図1中に示したものと同様である。
図3に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、感光層6がこの順に積層された層構成を有し、感光層6は、図1に示す電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの機能が一体となった層である。
なお、図3に示す電子写真感光体においては機能一体型の感光層6が最外表面層である。
次に、電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
図3に示す電子写真感光体は、導電性基体1上に、下引き層4、感光層6がこの順に積層された層構成を有し、感光層6は、図1に示す電荷発生層2Aおよび電荷輸送層2Bの機能が一体となった層である。
なお、図3に示す電子写真感光体においては機能一体型の感光層6が最外表面層である。
次に、電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
(導電性基体)
導電性基体としては、導電性を有する基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
導電性基体としては、導電性を有する基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
導電性基体には、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、湿式ホーニングなどの処理が施されていてもよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下であることがよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmax(最大高さ)が4.0μm以下であれば、導電性基体表面の凹凸が抑制されることとなるため、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥が抑制されると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下の平坦な表面であっても、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有する下引き層が導電性基体上に設けられているため、導電性基体による光の反射に起因する画像欠陥を抑制すると考えられる。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下であることがよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmax(最大高さ)が4.0μm以下であれば、導電性基体表面の凹凸が抑制されることとなるため、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥が抑制されると考えられる。
また、本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下の平坦な表面であっても、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有する下引き層が導電性基体上に設けられているため、導電性基体による光の反射に起因する画像欠陥を抑制すると考えられる。
導電性基体の最大粗さRmaxは、3.5μm以下が望ましく、1.8μm以下がより望ましい。
また、導電性基体の表面粗さRz(十点平均粗さ)は、3.0μm以下がよく、1.5μm以下が望ましく、1.0μm以下がより望ましい。
また、導電性基体の表面粗さRz(十点平均粗さ)は、3.0μm以下がよく、1.5μm以下が望ましく、1.0μm以下がより望ましい。
導電性基体の粗さの測定は、電子写真感光体から感光層及び下引き層を剥離後、導電性基体の表面に対して、表面粗さ計サーフコム1400A(東京精密社製)を用いて、JIS B0601−1994に準拠した測定条件で行う。
なお、表面粗さRmax及び表面粗さRzのいずれも、上述の方法で測定する。
なお、表面粗さRmax及び表面粗さRzのいずれも、上述の方法で測定する。
導電性基体を得る方法としては、例えば、金属又は合金製のインゴット(鋳塊)を押出加工により円筒状に成形することにより得る方法や、衝撃押出し法(インパクトプレス加工)により金属又は合金製の被加工材料(以下「スラグ」という場合がある)を円筒状に成形した後、得られた円筒状の成形体にしごき加工を施すことにより、目的とする厚みの円筒状の成形体とすることにより得る方法が挙げられる。
また、衝撃押出し法により加工後、円筒状の成形体に絞り加工を施してから、しごき加工を施してもよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、上記導電性基体を衝撃押出し法のような成形体表面に凹凸ができるような方法で得た場合であっても、膜厚が4μm以上である下引き層を導電性基体上に設けるため、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する点で有利であると考えられる。
また、衝撃押出し法により加工後、円筒状の成形体に絞り加工を施してから、しごき加工を施してもよい。
本実施形態に係る電子写真感光体は、上記導電性基体を衝撃押出し法のような成形体表面に凹凸ができるような方法で得た場合であっても、膜厚が4μm以上である下引き層を導電性基体上に設けるため、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する点で有利であると考えられる。
なお、導電性基体の最大粗さRmax及び表面粗さRzは、例えば、しごき加工の回数等によって調整される。
(下引き層)
下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である。
下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である。
ここで、1.0以上の吸光度を有するとは、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において下引き層が有する吸光度のうち最小の吸光度が1.0以上であることを示す。
下引き層における上記範囲内の光の吸光度は、大きいほど(つまり最小の吸光度が大きいほど)向上する傾向にあり、導電性基体の表面による光の反射に起因する画像欠陥の抑制を実現すると考えられる。
そのため、上記吸光度(最小の吸光度)は、1.0以上が望ましく、2.0以上であることがより望ましい。
また、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲における最大の吸光度は、下引き層における上記範囲内の光の吸収を向上させ、導電性基体の表面による光の反射に起因する画像欠陥の抑制を実現する観点から、1.5以上であることがよい。但し、下引き層の機能から実質的に、3.0以下であることが望ましい。
なお、最小の吸光度とは、分光吸収スペクトルが上記範囲内である場合において波長が示す、最小の値をいう。また、最大の吸光度とは、分光吸収スペクトルが上記範囲内である場合の波長のピークトップの値であり、上記範囲内に波長が複数ある場合は、最大のピークトップの値をいう。
下引き層における上記範囲内の光の吸光度は、大きいほど(つまり最小の吸光度が大きいほど)向上する傾向にあり、導電性基体の表面による光の反射に起因する画像欠陥の抑制を実現すると考えられる。
そのため、上記吸光度(最小の吸光度)は、1.0以上が望ましく、2.0以上であることがより望ましい。
また、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲における最大の吸光度は、下引き層における上記範囲内の光の吸収を向上させ、導電性基体の表面による光の反射に起因する画像欠陥の抑制を実現する観点から、1.5以上であることがよい。但し、下引き層の機能から実質的に、3.0以下であることが望ましい。
なお、最小の吸光度とは、分光吸収スペクトルが上記範囲内である場合において波長が示す、最小の値をいう。また、最大の吸光度とは、分光吸収スペクトルが上記範囲内である場合の波長のピークトップの値であり、上記範囲内に波長が複数ある場合は、最大のピークトップの値をいう。
吸光度の測定は、電子写真感光体から感光層を剥離後、さらに下引き層を導電性基体から剥離し、剥離した下引き層に対して紫外可視分光光度計(UV−3600島津製作所)を用いて行う。光源は、ハロゲンランプ(波長400〜1000nm)を用いた。
また、上記下引き層における膜厚は、導電性基体の表面の凹凸を均して導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制する観点から、厚いことがよく、10μm以上であることが望ましく、20μm以上であることがより望ましい。但し、下引き層の機能から実質的に、50μm以下であることが望ましい。
膜厚は、渦電流式膜厚計(Surfix N:PHYNIX社製)によって、下引き層の軸方向10点×周方向4点=40箇所について測定し、その平均値を算出することで求める。
−構成−
下引き層は、例えば、結着樹脂と、その他の化合物として、例えば、無機粒子と、電子受容性化合物と、を含んで構成されていてもよい。また、下引き層の機能を損なわない範囲で、種々の添加剤が加えられていてもよい。
下引き層は、例えば、結着樹脂と、その他の化合物として、例えば、無機粒子と、電子受容性化合物と、を含んで構成されていてもよい。また、下引き層の機能を損なわない範囲で、種々の添加剤が加えられていてもよい。
また、下引き層は、吸光度を上記範囲とするため、例えば、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲に吸収を持つ着色剤を含んでいてもよい。
吸光度を上記範囲とする具体的な方法としては、例えば、上記着色剤の分散時間、種類又はその含有量で吸光度を調製する方法が挙げられる。
吸光度を上記範囲とする具体的な方法としては、例えば、上記着色剤の分散時間、種類又はその含有量で吸光度を調製する方法が挙げられる。
・着色剤
添加する着色剤は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲に吸収を持つものであればよく、無機顔料、有機顔料、染料のいずれの着色剤であってもよい。
着色剤としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ペリレン系、インジゴ系、スレン系、モリブデンレッド、亜鉛黄、紺青、インダンスレン青の着色剤が挙げられ、フタロシアニン系、インジゴ系、アゾ系の着色剤が望ましく、フタロシアニン系の着色剤がより望ましい。
添加する着色剤は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲に吸収を持つものであればよく、無機顔料、有機顔料、染料のいずれの着色剤であってもよい。
着色剤としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ペリレン系、インジゴ系、スレン系、モリブデンレッド、亜鉛黄、紺青、インダンスレン青の着色剤が挙げられ、フタロシアニン系、インジゴ系、アゾ系の着色剤が望ましく、フタロシアニン系の着色剤がより望ましい。
フタロシアニン系着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン(α型、β型)、ハロゲン化銅フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、オキシチタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられ、これらの中でも、銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニンの着色剤が望ましく、銅フタロシアニン、無金属フタロシアニンの着色剤がより望ましい。
具体的には、例えば、Pigment Blue 15:1、15:2、15:3、15:4、16、Pigment Green 7、36が挙げられる。
具体的には、例えば、Pigment Blue 15:1、15:2、15:3、15:4、16、Pigment Green 7、36が挙げられる。
その他の着色剤として、具体的には例えば、アゾ系の着色剤である、例えばPigment yellow 1、2、3、5、6、34、83、128、150が挙げられ、これらの中でも、Pigment yellow 3、128、83、の着色剤が望ましく、Pigment yellow 3、128の着色剤がより望ましい。
添加する着色剤は、上記のうち1種類であってもよいが、2種類以上であることが望ましい。
添加する着色剤が2種類以上になると、吸光度の波長が多様になり、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において吸光度を1.0以上とし易くなると考えられる。
添加する着色剤が2種類以上になると、吸光度の波長が多様になり、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において吸光度を1.0以上とし易くなると考えられる。
着色剤(顔料)の体積平均粒径は、0.1μm以上3.0μm以下がよく、0.2μm以上2.0μm以下が望ましく、0.2μm以上0.9μm以下がより望ましい。
着色剤(顔料)の体積平均粒径は、マルチサイザーII(コールター社製)等の測定器で測定される粒度分布を基にして分割された粒度範囲(チャネル)に対して体積、数をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積50%となる粒径を体積平均粒径として求める。
着色剤の含有量は、下引き層の単位体積あたり1質量%以上10質量%以下がよく、1.5質量%以上3質量%以下が望ましく、1.5質量%以上2質量%以下がより望ましい。
・結着樹脂
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、不飽和ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、結着樹脂としては、上層(電荷発生層)の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、不飽和ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、結着樹脂としては、上層(電荷発生層)の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
・無機粒子
無機粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。
上記抵抗値を有する無機粒子の中でも、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物である無機粒子を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。
無機粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。
上記抵抗値を有する無機粒子の中でも、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物である無機粒子を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。
金属酸化物粒子としては、望ましくは粒径が100nm以下、特に10nm以上100nm以下の導電粉が望ましく用いられる。ここでいう粒径とは、平均1次粒径を意味する。金属酸化物粒子の平均1次粒径は、SEM(走査型電子顕微鏡)により観察し測定される値である。
金属酸化物粒子の粒径が10nm以下の場合、金属酸化物粒子の表面積が大きくなり、分散液の均一性が低下する場合がある。一方、金属酸化物粒子の粒径が100nmを越える場合、2次粒子、又はそれ以上の高次粒子は1μm程度の粒径になると予想され、下引き層内で金属酸化物粒子の存在する部分と存在しない部分、いわゆる海島構造となりやすく、例えばハーフトーン濃度の不均一など画質欠陥が発生する場合がある。
金属酸化物粒子の粒径が10nm以下の場合、金属酸化物粒子の表面積が大きくなり、分散液の均一性が低下する場合がある。一方、金属酸化物粒子の粒径が100nmを越える場合、2次粒子、又はそれ以上の高次粒子は1μm程度の粒径になると予想され、下引き層内で金属酸化物粒子の存在する部分と存在しない部分、いわゆる海島構造となりやすく、例えばハーフトーン濃度の不均一など画質欠陥が発生する場合がある。
金属酸化物粒子としては104Ω・cm以上1010Ω・cm以下の粉体抵抗とすることが望ましい。これにより、下引き層は、電子写真プロセス速度に対応した周波数で適切なインピーダンスを得ることが実現され易くなる。
金属酸化物粒子の抵抗値が104Ω・cmよりも低いと、インピーダンスの粒子添加量依存性の傾きが大きすぎて、インピーダンスの制御が難しくなる場合がある。一方、金属酸化物粒子の抵抗値が1010Ω・cmよりも高いと残留電位の上昇を引き起こす場合がある。
金属酸化物粒子の抵抗値が104Ω・cmよりも低いと、インピーダンスの粒子添加量依存性の傾きが大きすぎて、インピーダンスの制御が難しくなる場合がある。一方、金属酸化物粒子の抵抗値が1010Ω・cmよりも高いと残留電位の上昇を引き起こす場合がある。
金属酸化物粒子は、必要に応じて分散性等の諸特性の改善の目的で、少なくとも1種のカップリング剤で表面処理されていることがよい。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、及びアルミネート系カップリング剤から選ばれる少なくとも1種であることがよい。
具体的なカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチルピロホスフェート)、イソプロピルトリ(N―アミノエチルーアミノエチル)チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらのカップリング剤は2種以上を混合して使用してもよい。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、及びアルミネート系カップリング剤から選ばれる少なくとも1種であることがよい。
具体的なカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス(ジオクチルピロホスフェート)、イソプロピルトリ(N―アミノエチルーアミノエチル)チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらのカップリング剤は2種以上を混合して使用してもよい。
カップリング剤の処理量は、金属酸化物粒子に対して、0.1質量%以上3質量%以下であることがよく、望ましくは0.3質量%以上2.0質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上1.5質量%以下である。
なお、カップリング剤の処理量は、次のように測定する。
FT−IR法、29Si固体NMR法、熱分析、XPSなどの分析法があるが、FT−IR法が特に簡便である。FT−IR法では通常のKBr錠剤法でも、ATR法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子をKBrと混合し、FT−IRを測定することで、カップリング剤の処理量を測定する。
FT−IR法、29Si固体NMR法、熱分析、XPSなどの分析法があるが、FT−IR法が特に簡便である。FT−IR法では通常のKBr錠剤法でも、ATR法でもよい。少量の処理済金属酸化物粒子をKBrと混合し、FT−IRを測定することで、カップリング剤の処理量を測定する。
金属酸化物粒子は、上記カップリング剤で表面処理後、必要に応じて抵抗値の環境依存性等の改善のために熱処理を行ってもよい。熱処理温度は、例えば、150℃以上300℃以下、処理時間は30分以上5時間以下がよい。
金属酸化物粒子の含有量は、電気特性維持の観点から、30質量%以上60質量%以下が望ましく、35質量%以上55質量%以下がより望ましい。
・電子受容性化合物
電子受容性化合物としては、電子受容性を有する化合物であればいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有する電子受容性化合物が望ましく用いられ、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
電子受容性化合物としては、電子受容性を有する化合物であればいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有する電子受容性化合物が望ましく用いられ、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
電子受容性化合物の含有量は、目的の範囲で設定してもよいが、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下含有されることが望ましく、0.05質量%以上10質量%以下がさらに望ましい。
電子受容性化合物は、下引き層の塗布する際に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面に電子受容性化合物を付与させる方法としては、公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理する。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については目的の範囲で実施される。
湿式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、電子受容性化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理する。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については目的の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理する。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については目的の範囲で実施される。
湿式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、電子受容性化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理する。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については目的の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。
・添加剤
下引き層中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。
これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。
下引き層中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。
これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。
−下引き層の形成−
下引き層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引き層形成用塗布液が使用される。下引き層形成用塗布液の調製は、例えば、上記成分と後述する溶媒とを混合して行うことがよい。
着色剤は、撹拌しながら混合して着色剤を溶媒中に分散させることがよい。
下引き層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引き層形成用塗布液が使用される。下引き層形成用塗布液の調製は、例えば、上記成分と後述する溶媒とを混合して行うことがよい。
着色剤は、撹拌しながら混合して着色剤を溶媒中に分散させることがよい。
分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。
下引き層形成用塗布液を得るために用いる溶剤としては前述した結着樹脂を溶解する公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系の溶剤が挙げられる。これらの溶剤は単独又は2種類以上混合して用いてもよい。
下引き層形成用塗布液に金属酸化物粒子を分散させる方法としては公知の分散方法が用いられる。例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどが挙げられる。
下引き層形成用塗布液に金属酸化物粒子を分散させる方法としては公知の分散方法が用いられる。例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどが挙げられる。
下引き層形成用塗布液の塗布方法としては浸漬塗布法、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法など公知の塗布方法が用いられる。
下引き層は、ビッカース硬度が35以上50以下であることが望ましい。
(中間層)
ここで、本実施形態の電子写真感光体は、導電性基体と下引き層との間に中間層が設けられていてもよい。中間層は、例えば、下引き層と感光層との間に、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために、必要に応じて設けられるものである。
ここで、本実施形態の電子写真感光体は、導電性基体と下引き層との間に中間層が設けられていてもよい。中間層は、例えば、下引き層と感光層との間に、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために、必要に応じて設けられるものである。
中間層に用いられる結着樹脂としては、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。
中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。
(感光層)
−電荷発生層−
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含んで構成される。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着膜で構成されていてもよい。
電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
−電荷発生層−
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含んで構成される。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着膜で構成されていてもよい。
電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプ又はビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。
電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。
−電荷輸送層−
電荷輸送層は、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送材料としては、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
電荷輸送層は、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送材料としては、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプ又はビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
なお、電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
電荷輸送層は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下である。
(保護層)
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、積層構造である感光体では帯電時の電荷輸送層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する為に設ける。
そのため、保護層は、架橋物(硬化物)を含んで構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、反応性電荷輸送材料と必要に応じて硬化性樹脂とを含む組成物の硬化層、硬化性樹脂に電荷輸送材料を分散させた硬化層等の周知の構成が挙げられる。また、保護層は、結着樹脂に電荷輸送材料を分散させた層で構成してもよい。
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、積層構造である感光体では帯電時の電荷輸送層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する為に設ける。
そのため、保護層は、架橋物(硬化物)を含んで構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、反応性電荷輸送材料と必要に応じて硬化性樹脂とを含む組成物の硬化層、硬化性樹脂に電荷輸送材料を分散させた硬化層等の周知の構成が挙げられる。また、保護層は、結着樹脂に電荷輸送材料を分散させた層で構成してもよい。
保護層は、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液を用いて形成される。
保護層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
保護層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
保護層の膜厚は、例えば、望ましくは1μm以上20μm以下、より望ましくは2μm以上10μm以下の範囲に設定される。
(単層型の感光層)
単層型の感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、例えば、結着樹脂、電荷発生材料、電荷輸送材料を含んで構成される。これら材料については、電荷発生層や電荷輸送層で説明したものと同様である。
単層型の感光層において、電荷発生材料の含有量は10質量%以上85質量%以下が望ましく、より望ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、電荷輸送材料の含有量は5質量%以上50質量%以下とすることが望ましい。
単層型の感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層の厚さは5μm以上50μm以下が望ましく、10μm以上40μm以下とするのがさらに望ましい。
単層型の感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、例えば、結着樹脂、電荷発生材料、電荷輸送材料を含んで構成される。これら材料については、電荷発生層や電荷輸送層で説明したものと同様である。
単層型の感光層において、電荷発生材料の含有量は10質量%以上85質量%以下が望ましく、より望ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、電荷輸送材料の含有量は5質量%以上50質量%以下とすることが望ましい。
単層型の感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。単層型感光層の厚さは5μm以上50μm以下が望ましく、10μm以上40μm以下とするのがさらに望ましい。
(その他)
本実施形態に係る電子写真感光体の最表面層となる層(例えば、保護層または電荷輸送層)は、更に、潤滑性を付与させ、表面層を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくするため、また電子写真感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めるために、潤滑性粒子(例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子)を含有することが好ましい。これらの潤滑性粒子は、2種以上を混合して用いてもよい。特に、フッ素系樹脂粒子は望ましく用いられる。
本実施形態に係る電子写真感光体の最表面層となる層(例えば、保護層または電荷輸送層)は、更に、潤滑性を付与させ、表面層を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくするため、また電子写真感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めるために、潤滑性粒子(例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子)を含有することが好ましい。これらの潤滑性粒子は、2種以上を混合して用いてもよい。特に、フッ素系樹脂粒子は望ましく用いられる。
最表面層となる層に含有してもよいフッ素樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、4フッ化エチレン樹脂(PTFE)、3フッ化塩化エチレン樹脂、6フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、2フッ化2塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から1種又は2種以上を選択するのが望ましいが、さらに望ましくは4フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂であり、特に望ましくは4フッ化エチレン樹脂である。
またフッ素樹脂粒子を分散させるための助剤を用いても良い。
またフッ素樹脂粒子を分散させるための助剤を用いても良い。
フッ素樹脂粒子の平均一次粒径は0.05μm以上1μm以下が望ましく、更には0.1μm以上0.5μm以下が望ましい。
尚、上記フッ素樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置LA−920(堀場製作所製)を用いて、フッ素樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率1.35で測定した値をいう。
尚、上記フッ素樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置LA−920(堀場製作所製)を用いて、フッ素樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率1.35で測定した値をいう。
電荷輸送層が最表面層である場合、電荷輸送層の固形分全量に対するフッ素樹脂粒子の含有量は1質量%以上30質量%以下が望ましく、5質量%以上20質量%以下がさらに望ましい。
また、最表面層中のフッ素系樹脂粒子の分散安定剤として、フッ素系界面活性剤や、フッ素系グラフトポリマーを用いることで、塗布液としての分散性が安定する。フッ素系グラフトポリマーとしては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、スチレン化合物等から構成された巨視的モノマー及びパーフルオロアルキルエチルメタクリレートよりグラフト重合された樹脂が好ましい。
フッ素系界面活性剤やフッ素系グラフトポリマーの含有量は、フッ素系樹脂粒子の全質量に対して1質量%以上5質量%以下であることが好ましい。
フッ素系界面活性剤やフッ素系グラフトポリマーの含有量は、フッ素系樹脂粒子の全質量に対して1質量%以上5質量%以下であることが好ましい。
さらに、表面の平滑性を向上させる目的で、最表面層中にフッ素変性シリコーンオイルを添加してもよい。このフッ素変性シリコーンオイルは、フルオロアルキル基を有するものが望ましい。
また、同様の目的で、最表面層にはシリコーンオイル等の潤滑剤を添加してもよい。シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノ−ル変性ポリシロキサン、フッ素変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等が挙げられる。このなかでも、表面の平滑性を向上させる観点からは、フッ素変性シリコーンオイルが望ましく、フルオロアルキル基を有するものがより望ましい。
フッ素変性シリコーン潤滑剤は所望の特性が得られる範囲であれば添加量に制限は無く、例えば、電荷輸送層用塗布液中に0.1ppmから1000ppmの範囲で使用され、0.5ppmから500ppmの範囲が望ましい。フッ素変性シリコーンオイルの添加量が上記範囲内にあると、十分な平滑面が得られ、電子写真感光体を繰り返し使用したときに残留電位の上昇が抑えられる。
本実施形態に係る電子写真感光体において、感光層や保護層には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
また、感光層や保護層には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を添加してもよい。
また、感光層や保護層には、各層を形成する塗布液にレベリング剤としてシリコーンオイルを添加し、塗膜の平滑性を向上させてもよい。
また、感光層や保護層には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を添加してもよい。
また、感光層や保護層には、各層を形成する塗布液にレベリング剤としてシリコーンオイルを添加し、塗膜の平滑性を向上させてもよい。
<プロセスカートリッジ及び画像形成装置>
次に、本実施形態に係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置について説明する。
本実施形態に係るプロセスカートリッジは、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、例えば、前記した本実施形態に係る電子写真感光体7を備えたプロセスカートリッジを画像形成装置に着脱させる形態であってもよい。
本実施形態に係るプロセスカートリッジの構成は、少なくとも、本実施形態に係る電子写真感光体7を備えていればよく、電子写真感光体7のほかに、例えば、帯電手段(帯電装置)8、露光手段(露光装置)10、現像手段(現像装置)11、転写手段(転写装置)12、から選択される少なくとも1つの構成部材を備えていてもよい。
次に、本実施形態に係る電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置について説明する。
本実施形態に係るプロセスカートリッジは、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、例えば、前記した本実施形態に係る電子写真感光体7を備えたプロセスカートリッジを画像形成装置に着脱させる形態であってもよい。
本実施形態に係るプロセスカートリッジの構成は、少なくとも、本実施形態に係る電子写真感光体7を備えていればよく、電子写真感光体7のほかに、例えば、帯電手段(帯電装置)8、露光手段(露光装置)10、現像手段(現像装置)11、転写手段(転写装置)12、から選択される少なくとも1つの構成部材を備えていてもよい。
また、本実施形態の画像形成装置は、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、具体的には、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段(帯電装置)と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段(露光装置)と、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段(現像装置)と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段(転写装置)と、を備えた構成であることが望ましい。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。
図4は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置100は、図4に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。
図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11およびクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。
また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。
帯電装置8としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザの波長としては、780nm近くに発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下近くに発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。
画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
図5は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置120は、図5に示すように、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
なお、本実施形態に係る電子写真感光体は、除電装置を備えていない画像形成装置にも適用してもよい。
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
[実施例1]
(導電性基体)
−導電性基体1−
潤滑剤を塗布したアルミニウム純度99.5%以上のJIS呼称1050合金のスラグ(被加工材料)を用意し、450℃で40分間の均質化処理を行った。均質化処理を行ったスラグを用いて、ダイ(雌型)とパンチ(雄型)によりインパクトプレス加工にて底面の有る円筒体を作製し、その後、しごき加工(回数:3回)にて、直径24mm、長さ251mm、厚み0.5mmの円筒状のアルミニウム基体を作製した。その後、アルミニウム基体に対して、220℃で60分間の焼き鈍し処理を行って、導電性基体1を得た。
導電性基体1は、既述の方法で測定したところ、最大粗さRmaxが2μm、表面粗さRzが1.5μmであった。
(導電性基体)
−導電性基体1−
潤滑剤を塗布したアルミニウム純度99.5%以上のJIS呼称1050合金のスラグ(被加工材料)を用意し、450℃で40分間の均質化処理を行った。均質化処理を行ったスラグを用いて、ダイ(雌型)とパンチ(雄型)によりインパクトプレス加工にて底面の有る円筒体を作製し、その後、しごき加工(回数:3回)にて、直径24mm、長さ251mm、厚み0.5mmの円筒状のアルミニウム基体を作製した。その後、アルミニウム基体に対して、220℃で60分間の焼き鈍し処理を行って、導電性基体1を得た。
導電性基体1は、既述の方法で測定したところ、最大粗さRmaxが2μm、表面粗さRzが1.5μmであった。
(下引き層)
酸化亜鉛(平均粒子径:70nm、テイカ社製、比表面積値:15m2/g)100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、KBM603(信越化学工業社製)1.25質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子60質量部と、アリザリン0.6質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート(スミジュール3173、住友バイエルンウレタン社製)13.5質量部と、ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15質量部と、銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部と、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を、メチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間の分散、濾過(フィルターMBS1001RM、PALL社製)を行い、分散液を得た。
酸化亜鉛(平均粒子径:70nm、テイカ社製、比表面積値:15m2/g)100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、KBM603(信越化学工業社製)1.25質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子60質量部と、アリザリン0.6質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート(スミジュール3173、住友バイエルンウレタン社製)13.5質量部と、ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15質量部と、銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部と、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を、メチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間の分散、濾過(フィルターMBS1001RM、PALL社製)を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005質量部と、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製)4.0質量部とを添加し、下引き層形成用塗布液を得た。
この塗布液を、浸漬塗布法にて直径30mmのアルミニウム基材上に塗布し、180℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ15μmの下引き層を得た。
この塗布液を、浸漬塗布法にて直径30mmのアルミニウム基材上に塗布し、180℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ15μmの下引き層を得た。
(感光層)
−電荷発生層−
次に、電荷発生材料として、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜および28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶15質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニオンカーバイト社製)10質量部およびn−ブチルアルコール300質量部の混合物を、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散して電荷発生層用塗布液を得た。
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、120℃、5分間乾燥して、厚みが0.2μmの電荷発生層を得た。
−電荷発生層−
次に、電荷発生材料として、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜および28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶15質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニオンカーバイト社製)10質量部およびn−ブチルアルコール300質量部の混合物を、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散して電荷発生層用塗布液を得た。
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、120℃、5分間乾燥して、厚みが0.2μmの電荷発生層を得た。
−電荷輸送層−
続いて、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(45質量部と、ビスフェノールZポリカーボネート樹脂(TS2050:粘度平均分子量50,000:帝人化成社製)55質量部と、をテトロヒドロフラン280質量部およびトルエン120質量部に溶解混合し、電荷輸送層用塗布液を得た。
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層まで形成した前記アルミニウム支持体上に浸漬塗布し、135℃、40分で乾燥することにより、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
続いて、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(45質量部と、ビスフェノールZポリカーボネート樹脂(TS2050:粘度平均分子量50,000:帝人化成社製)55質量部と、をテトロヒドロフラン280質量部およびトルエン120質量部に溶解混合し、電荷輸送層用塗布液を得た。
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層まで形成した前記アルミニウム支持体上に浸漬塗布し、135℃、40分で乾燥することにより、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
以上のようにして作製した電子写真感光体を、電子写真感光体1とした。
[評価]
(吸光度、膜厚の測定)
下引き層における分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲の吸光度と下引き層の膜厚とを、既述の方法で測定した。
(吸光度、膜厚の測定)
下引き層における分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲の吸光度と下引き層の膜厚とを、既述の方法で測定した。
(画質欠陥の評価)
画質評価を行うため、得られた電子写真感光体1を富士ゼロックス社製DocuCentre C6550Iに搭載し、20℃/20%の環境下で40%ハーフトーン画像を形成し、画像欠陥の有無を確認した。
導電性基体の凹凸や傷に起因する画像欠陥については、黒点・色点、白抜けの有無を目視で確認することで評価した。導電性基体の光の反射に起因する画像欠陥については、干渉縞の有無を目視で確認することで評価した。
評価基準は以下のようにし、結果は表1に示した。
画質評価を行うため、得られた電子写真感光体1を富士ゼロックス社製DocuCentre C6550Iに搭載し、20℃/20%の環境下で40%ハーフトーン画像を形成し、画像欠陥の有無を確認した。
導電性基体の凹凸や傷に起因する画像欠陥については、黒点・色点、白抜けの有無を目視で確認することで評価した。導電性基体の光の反射に起因する画像欠陥については、干渉縞の有無を目視で確認することで評価した。
評価基準は以下のようにし、結果は表1に示した。
−黒点・色点の評価−
A: 径0.2mm以下の黒点・色点が3個未満
B: 径0.2mm以下の黒点・色点が3個以上10個未満
C: 径0.2mm以下の黒点・色点が0個以上
A: 径0.2mm以下の黒点・色点が3個未満
B: 径0.2mm以下の黒点・色点が3個以上10個未満
C: 径0.2mm以下の黒点・色点が0個以上
−白抜けの評価−
A: 径0.35mm以下の白点が5個未満
B: 径0.35mm以下の白点が5個以上15個未満
C: 径0.35mm以下の白点が15個以上
A: 径0.35mm以下の白点が5個未満
B: 径0.35mm以下の白点が5個以上15個未満
C: 径0.35mm以下の白点が15個以上
−干渉縞の評価−
A: 干渉縞は認められない。
B: わずかに干渉縞が認められる。
C: 干渉縞が認められる。
A: 干渉縞は認められない。
B: わずかに干渉縞が認められる。
C: 干渉縞が認められる。
[実施例2]
キナクリドン(Pigment Violet 19)を2−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]−N−(2−クロロフェニル)−3−オキソブタンアミド(Pigment Yellow 3)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体2を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
キナクリドン(Pigment Violet 19)を2−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]−N−(2−クロロフェニル)−3−オキソブタンアミド(Pigment Yellow 3)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体2を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例3]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部を銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)1質量部、2−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]−N−(2−クロロフェニル)−3−オキソブタンアミド(Pigment Yellow 3)1質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体3を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部を銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)1質量部、2−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]−N−(2−クロロフェニル)−3−オキソブタンアミド(Pigment Yellow 3)1質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体3を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例4]
キナクリドン(Pigment Violet 19)をN,N’−(2−クロロ-5−メチル−1,4−フェニレン)ビス[2−[2−[5−[[[2−(4−クロロフェノキシ)−5−(トリフルオロメチル)フェニル]アミノ]カルボニル]−2−クロロフェニル]ヒドラゾノ]−3−オキソブタンアミド](Pigment Yellow 128)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体4を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
キナクリドン(Pigment Violet 19)をN,N’−(2−クロロ-5−メチル−1,4−フェニレン)ビス[2−[2−[5−[[[2−(4−クロロフェノキシ)−5−(トリフルオロメチル)フェニル]アミノ]カルボニル]−2−クロロフェニル]ヒドラゾノ]−3−オキソブタンアミド](Pigment Yellow 128)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体4を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例5]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を高塩素化銅フタロシアニン(Pigment Green 7)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体5を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を高塩素化銅フタロシアニン(Pigment Green 7)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体5を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例6]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を無金属フタロシアニン(Pigment Blue 16)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体6を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を無金属フタロシアニン(Pigment Blue 16)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体6を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例7]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を低塩素化フタロシアニン(Pigment Green 36)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体7を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を低塩素化フタロシアニン(Pigment Green 36)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体7を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例8]
下引き層の膜厚を4μmに変更した以外は実施例3に記載の方法により電子写真感光体8を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
下引き層の膜厚を4μmに変更した以外は実施例3に記載の方法により電子写真感光体8を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例9]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を紺青(Pigment Blue 27)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体9を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)を紺青(Pigment Blue 27)に変更した以外は実施例1に記載の方法により電子写真感光体9を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例10]
導電性基体1を以下の導電性基体2に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体11を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
導電性基体1を以下の導電性基体2に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体11を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
−導電性基体2−
しごき加工の回数を2回に変更した以外は、導電性基体1と同様にして導電性基体2を作製した。
導電性基体2の表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが3.8μm、Rzが3.4μmであった。
しごき加工の回数を2回に変更した以外は、導電性基体1と同様にして導電性基体2を作製した。
導電性基体2の表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが3.8μm、Rzが3.4μmであった。
[実施例11]
導電性基体1を以下の導電性基体3に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体12を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
導電性基体1を以下の導電性基体3に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体12を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
−導電性基体3−
しごき加工の回数を1回に変更した以外は、導電性基体1と同様にして導電性基体3を作製した。
導電性基体3の表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが4.2μm、Rzが3.9μmであった。
しごき加工の回数を1回に変更した以外は、導電性基体1と同様にして導電性基体3を作製した。
導電性基体3の表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが4.2μm、Rzが3.9μmであった。
[実施例12]
着色剤を銅フタロシアニンからインジゴ(Vat Blue 1)を1質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体13を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
着色剤を銅フタロシアニンからインジゴ(Vat Blue 1)を1質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体13を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[実施例13]
導電性基体1を、衝撃押出し法で作製していない、Φ30の切削アルミニウムパイプに変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体14を作製した。
切削アルミニウムパイプの表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが1.4μm、Rzが0.8μmであった。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
導電性基体1を、衝撃押出し法で作製していない、Φ30の切削アルミニウムパイプに変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体14を作製した。
切削アルミニウムパイプの表面は、既述の方法で測定したところ、Rmaxが1.4μm、Rzが0.8μmであった。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[比較例1]
下引き層形成用塗布液の調製において、サンドミルにて分散した時間(4時間)を、2時間に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体1を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
下引き層形成用塗布液の調製において、サンドミルにて分散した時間(4時間)を、2時間に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体1を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[比較例2]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部と、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を0質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体2を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部と、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を0質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体2を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[比較例3]
下引き層の膜厚を3μmに変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体3を作製した
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
下引き層の膜厚を3μmに変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体3を作製した
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
[比較例4]
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部を0.5質量部、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を2質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体4を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
銅フタロシアニン(Pigment Blue 15:4)2.5質量部を0.5質量部、キナクリドン(Pigment Violet 19)2.5質量部を2質量部に変更した以外は実施例1に記載の方法により比較電子写真感光体4を作製した。
作製した電子写真感光体について、実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
上記の結果より、本実施例は比較例に比べ、黒点・色点、白抜け及び干渉縞の発生が抑制されていることから、導電性基体の表面性状に起因する画像欠陥を抑制されていることが明らかである。
1 基体、2 感光層、2A 電荷発生層、2B 電荷輸送層、4 下引き層、5 保護層、6 機能一体型の感光層、7 電子写真感光体、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑剤、40 転写装置、50 中間転写体、100 画像形成装置、120 画像形成装置、132 繊維状部材(ロール状)、133 繊維状部材(平ブラシ状)
Claims (5)
- 導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた下引き層と、前記下引き層上に設けられた感光層と、を有し、
前記下引き層は、分光吸収スペクトルが400nm以上900nm以下の範囲において1.0以上の吸光度を有し、且つ、膜厚が4μm以上である電子写真感光体。 - 前記導電性基体の最大粗さRmaxが4.0μm以下である請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記導電性基体が衝撃押出し法により成形された導電性基体である請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。
- 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。 - 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013021565A JP2014153468A (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013021565A JP2014153468A (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014153468A true JP2014153468A (ja) | 2014-08-25 |
Family
ID=51575403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013021565A Pending JP2014153468A (ja) | 2013-02-06 | 2013-02-06 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014153468A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017037327A (ja) * | 2016-10-04 | 2017-02-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用基材の製造方法、電子写真感光体の製造方法、インパクトプレス加工による電子写真感光体用基材の製造に用いる金属塊、及び筒状体の製造方法 |
JP2017062401A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用円筒状部材、電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び電子写真感光体用円筒状部材の製造方法 |
JP2017102171A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 株式会社リコー | 感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
JP2017173378A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び電子写真感光体用導電性支持体の製造方法 |
WO2017190621A1 (zh) * | 2016-05-06 | 2017-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜、基板及显示装置 |
JP2017223929A (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び導電性支持体の製造方法 |
JP2018018114A (ja) * | 2017-11-07 | 2018-02-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用基材の製造方法、及び電子写真感光体の製造方法 |
JP2018159761A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2019056870A (ja) * | 2017-09-22 | 2019-04-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
-
2013
- 2013-02-06 JP JP2013021565A patent/JP2014153468A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017062401A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用円筒状部材、電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び電子写真感光体用円筒状部材の製造方法 |
JP2017102171A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 株式会社リコー | 感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
JP2017173378A (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び電子写真感光体用導電性支持体の製造方法 |
WO2017190621A1 (zh) * | 2016-05-06 | 2017-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜、基板及显示装置 |
JP2017223929A (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び導電性支持体の製造方法 |
JP2017037327A (ja) * | 2016-10-04 | 2017-02-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用基材の製造方法、電子写真感光体の製造方法、インパクトプレス加工による電子写真感光体用基材の製造に用いる金属塊、及び筒状体の製造方法 |
JP2018159761A (ja) * | 2017-03-22 | 2018-10-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2019056870A (ja) * | 2017-09-22 | 2019-04-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2018018114A (ja) * | 2017-11-07 | 2018-02-01 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体用基材の製造方法、及び電子写真感光体の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5915363B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2014153468A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP5857827B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2009237568A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
US20140045110A1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP6333629B2 (ja) | 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置 | |
US8974992B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP2015184493A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP4403965B2 (ja) | 電子写真感光体およびその製造方法、プロセスカートリッジ並びに電子写真装置 | |
JP5942693B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ | |
US20150160572A1 (en) | Coating solution for forming charge transport layer, electrophotographic photoreceptor prepared therewith and image forming apparatus comprising the same | |
US20140212799A1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP3986019B2 (ja) | 電子写真感光体及びそれを用いた画像形成装置、画像形成方法、画像形成装置用プロセスカートリッジ | |
JP2016031407A (ja) | 電子写真感光体及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP4333511B2 (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP4140473B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
JP2014137547A (ja) | 画像形成装置、画像形成方法、及びプロセスカートリッジ | |
JP2018081180A (ja) | 電子写真感光体及び画像形成装置 | |
JP4151628B2 (ja) | 有機感光体、該有機感光体を用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP4194932B2 (ja) | 感光層形成用塗工液とその製造方法、及び該塗工液を用いた電子写真感光体、画像形成装置、画像形成方法、プロセスカートリッジ | |
JP2023179249A (ja) | 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置 | |
JP2015230406A (ja) | 電子写真感光体及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2015114348A (ja) | 電荷輸送層形成用塗布液、それを用いた電子写真感光体および画像形成装置 | |
JP2005249876A (ja) | 電子写真感光体、電子写真装置及びプロセスカートリッジ、並びに電子写真感光体の電気特性の制御方法 | |
JP2018159762A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |