JP6403586B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
電子写真感光体の表面には、帯電やクリーニングなどの電気的外力や機械的外力が加えられるため、これらの外力に対する耐久性（耐摩耗性など）が要求される。
この要求に対して、従来から、電子写真感光体の表面層に耐摩耗性の高い樹脂（硬化性樹脂など）を用いるなどの改良技術が用いられている。
一方、電子写真感光体の表面の耐摩耗性を高めることによって生じる課題として、画像流れやクリーニング性能の低下が挙げられる。
この要求に対して、従来から、電子写真感光体の表面層に耐摩耗性の高い樹脂（硬化性樹脂など）を用いるなどの改良技術が用いられている。
一方、電子写真感光体の表面の耐摩耗性を高めることによって生じる課題として、画像流れやクリーニング性能の低下が挙げられる。
画像流れは、電子写真感光体の表面が低抵抗化することが原因であると考えられている。電子写真感光体の表面が低抵抗化は、電子写真感光体の表面の帯電によって生じるオゾンや窒素酸化物などの酸化性ガスによる、電子写真感光体の表面層に用いられている材料の劣化や、電子写真感光体の表面への水分の吸着が原因であると考えられている。特に、電子写真感光体の表面の耐摩耗性が高くなるほど、電子写真感光体の表面のリフレッシュ（劣化した材料や吸着した水分などの除去）がなされにくくなり、画像流れが発生しやすくなる。
画像流れを抑制する技術として、特許文献１には、電子写真感光体の表面に、深さ０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径２０μｍ以上８０μｍ以下の凹部を一辺５００μｍの正方形領域に凹部の面積が１００００μｍ２以上９００００μｍ２以下になるように設け、さらに、凹部以外の部分に含まれる平坦部の面積が８００００μｍ２以上２４００００μｍ２以下設けることが記載されている。これにより、高温高湿環境下に電子写真感光体を放置した場合にもドット再現性を良化させることができる。
また、クリーニング性能を向上させる技術として、特許文献２には、電子写真感光体の表面に複数の凹部と複数の凸部を有する凹凸形状を有させ、凸部の頂面の表面粗さＲｚを０．０１μｍ以上０．５μｍ以下とする技術が記載されている。
また、クリーニング性能を向上させる技術として、特許文献２には、電子写真感光体の表面に複数の凹部と複数の凸部を有する凹凸形状を有させ、凸部の頂面の表面粗さＲｚを０．０１μｍ以上０．５μｍ以下とする技術が記載されている。
しかしながら、特許文献１に記載された技術は、画像流れの改善効果が大きい一方で、低湿環境下で長期間（２万枚程度）画像出力を行うと、スジ状の画像欠陥（以下「低湿スジ」とも表記する。）が生じる場合があるという点で改善の余地がある。
本発明者らは、電子写真感光体の表面に、深さ０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径２０μｍ以上８０μｍ以下の凹部を、一辺５００μｍの正方形領域に該凹部の面積が９５０００μｍ２以上になるように設けて、低湿スジの改善を試みた。
しかしながら、高温高湿環境下で低印字率（１％程度）の画像を短期間（２００枚程度）出力すると、その後に出力した濃度３０％程度のハーフトーン画像にスジ状の画像欠陥（以下「高温高湿スジ」とも表記する。）が生じる場合があるという点で改善の余地があることがわかった。
しかしながら、高温高湿環境下で低印字率（１％程度）の画像を短期間（２００枚程度）出力すると、その後に出力した濃度３０％程度のハーフトーン画像にスジ状の画像欠陥（以下「高温高湿スジ」とも表記する。）が生じる場合があるという点で改善の余地があることがわかった。
特許文献２に記載された技術を用いても、高温高湿スジを抑制する効果は確認できなかった。
本発明の目的は、低湿スジおよび高温高湿スジが発生しにくい電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
本発明は、円筒状の支持体および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体である。
該電子写真感光体の表面が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体である。
また、本発明は、円筒状の支持体および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面のうち、少なくともクリーニングブレードとの接触領域が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体である。
該電子写真感光体の表面のうち、少なくともクリーニングブレードとの接触領域が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体である。
また、本発明は、上記電子写真感光体と上記電子写真感光体に接触配置されたクリーニングブレードを有するクリーニング手段とを一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
また、本発明は、上記電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、および、上記電子写真感光体に接触配置されたクリーニングブレードを有するクリーニング手段を有することを特徴とする電子写真装置である。
本発明によれば、低湿スジおよび高温高湿スジが発生しにくい電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
本発明の電子写真感光体は、その表面に、複数の特定の凹部と複数の特定の線状溝を有する。ここで、特定の凹部とは、深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下の凹部を指す。この特定の凹部を、以下「特定凹部」とも表記する。本発明の電子写真感光体の表面には、その任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における特定凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下となるように特定凹部が設けられている。
また、特定の線状溝とは、電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす線状溝を指す。この特定の線状溝を、以下「特定線状溝」とも表記する。本発明の電子写真感光体の表面において、特定線状溝は、電子写真感光体の表面の上記特定凹部以外の部分に形成されている。
また、特定の線状溝とは、電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす線状溝を指す。この特定の線状溝を、以下「特定線状溝」とも表記する。本発明の電子写真感光体の表面において、特定線状溝は、電子写真感光体の表面の上記特定凹部以外の部分に形成されている。
本発明者らの検討の結果、電子写真感光体の表面に、開口部最長径の大きな特定凹部を高密度で配置し、かつ、特定凹部以外の部分に特定線状溝を設けることにより、低湿スジの発生を抑制することができるようになることが分かった。
開口部最長径の大きな特定凹部を高密度で設けることにより、クリーニングブレードの長手方向の大きなねじれや振動（ビビり）が抑制される。これにより、低湿環境下というクリーニングブレードに対して負荷の大きい環境でも、電子写真感光体とクリーニングブレードとの摺擦が安定することで、長期間の画像出力を行った場合にも、クリーニングブレードの劣化が少なくなる。つまり、長期間にわたってクリーニングブレードの挙動が安定的に維持できることによって、低湿スジが抑制される。
さらに、電子写真感光体の表面の特定凹部以外の部分に特定線状溝を設けることにより、ミクロな領域のクリーニングブレードの挙動がより安定的になる。これにより、クリーニングブレードと電子写真感光体の摺擦状態の安定性が向上する。その結果、電子写真感光体の表面の付着物や、クリーニングブレードと電子写真感光体の摺擦状態の不安定性によって生じうるメモリーが抑制され、高温高湿スジが抑制される。
開口部最長径の大きな特定凹部を高密度で設けることにより、クリーニングブレードの長手方向の大きなねじれや振動（ビビり）が抑制される。これにより、低湿環境下というクリーニングブレードに対して負荷の大きい環境でも、電子写真感光体とクリーニングブレードとの摺擦が安定することで、長期間の画像出力を行った場合にも、クリーニングブレードの劣化が少なくなる。つまり、長期間にわたってクリーニングブレードの挙動が安定的に維持できることによって、低湿スジが抑制される。
さらに、電子写真感光体の表面の特定凹部以外の部分に特定線状溝を設けることにより、ミクロな領域のクリーニングブレードの挙動がより安定的になる。これにより、クリーニングブレードと電子写真感光体の摺擦状態の安定性が向上する。その結果、電子写真感光体の表面の付着物や、クリーニングブレードと電子写真感光体の摺擦状態の不安定性によって生じうるメモリーが抑制され、高温高湿スジが抑制される。
具体的には、本発明の電子写真感光体の表面には、深さ０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部（特定凹部）が設けられる。そして、特定凹部は、電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、その正方形領域における特定凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下になるように、電子写真感光体の表面に設けられる。
あるいは、本発明の電子写真感光体の表面のうち、少なくともクリーニングブレードとの接触領域には、深さ０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部（特定凹部）が設けられる。そして、特定凹部は、上記接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、その正方形領域における特定凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下になるように、電子写真感光体の表面に設けられる。
正方形領域の面積は、２５００００μｍ２である。
ここで、任意の位置とは、電子写真感光体の表面（あるいは上記接触領域）のどの位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置しても、特定凹部の面積が上記範囲であることを意味する。
また、本発明の電子写真感光体の形状は円筒状であるため、電子写真感光体の表面（周面）は周方向に曲がった曲面となっている。「電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置」するとは、上記曲面を平面に補正した場合に、その平面において正方形になるような領域を電子写真感光体の表面の任意の位置に配置するということを意味する。「電子写真感光体の表面のクリーニングブレードとの接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置」する、についても同様である。すなわち、上記曲面を平面に補正した場合に、その平面において正方形になるような領域を上記接触領域の任意の位置に配置するということを意味する。
あるいは、本発明の電子写真感光体の表面のうち、少なくともクリーニングブレードとの接触領域には、深さ０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部（特定凹部）が設けられる。そして、特定凹部は、上記接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、その正方形領域における特定凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下になるように、電子写真感光体の表面に設けられる。
正方形領域の面積は、２５００００μｍ２である。
ここで、任意の位置とは、電子写真感光体の表面（あるいは上記接触領域）のどの位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置しても、特定凹部の面積が上記範囲であることを意味する。
また、本発明の電子写真感光体の形状は円筒状であるため、電子写真感光体の表面（周面）は周方向に曲がった曲面となっている。「電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置」するとは、上記曲面を平面に補正した場合に、その平面において正方形になるような領域を電子写真感光体の表面の任意の位置に配置するということを意味する。「電子写真感光体の表面のクリーニングブレードとの接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置」する、についても同様である。すなわち、上記曲面を平面に補正した場合に、その平面において正方形になるような領域を上記接触領域の任意の位置に配置するということを意味する。
また、電子写真感光体の表面（あるいは上記接触領域）には、特定凹部以外の部分に、電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝が設けられる。
電子写真感光体の表面の特定凹部や平坦部などは、例えば、レーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡、原子間力顕微鏡などの顕微鏡を用いて観察することができる。
電子写真感光体の表面の特定凹部や平坦部などは、例えば、レーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡、原子間力顕微鏡などの顕微鏡を用いて観察することができる。
レーザー顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
（株）キーエンス製の超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−８５５０、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９０００、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００、ＶＫ−Ｘ２００，ＶＫ−Ｘ１００
オリンパス（株）製の走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ３０００
レーザーテック（株）製のリアルカラーコンフォーカル顕微鏡オプテリクスＣ１３０
（株）キーエンス製の超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−８５５０、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９０００、超深度形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００、ＶＫ−Ｘ２００，ＶＫ−Ｘ１００
オリンパス（株）製の走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ３０００
レーザーテック（株）製のリアルカラーコンフォーカル顕微鏡オプテリクスＣ１３０
光学顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
（株）キーエンス製のデジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００
オムロン（株）製の３ＤデジタルマイクロスコープＶＣ−７７００
（株）キーエンス製のデジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００
オムロン（株）製の３ＤデジタルマイクロスコープＶＣ−７７００
電子顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
（株）キーエンス製の３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−９８００、３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−８８００
エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の走査型電子顕微鏡コンベンショナル／Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＳＥＭ
（株）島津製作所製の走査型電子顕微鏡ＳＵＰＥＲＳＣＡＮ ＳＳ−５５０
（株）キーエンス製の３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−９８００、３Ｄリアルサーフェスビュー顕微鏡ＶＥ−８８００
エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の走査型電子顕微鏡コンベンショナル／Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＳＥＭ
（株）島津製作所製の走査型電子顕微鏡ＳＵＰＥＲＳＣＡＮ ＳＳ−５５０
原子間力顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。
（株）キーエンス製のナノスケールハイブリッド顕微鏡ＶＮ−８０００
エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の走査型プローブ顕微鏡ＮａｎｏＮａｖｉステーション
（株）島津製作所製の走査型プローブ顕微鏡ＳＰＭ−９６００
（株）キーエンス製のナノスケールハイブリッド顕微鏡ＶＮ−８０００
エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の走査型プローブ顕微鏡ＮａｎｏＮａｖｉステーション
（株）島津製作所製の走査型プローブ顕微鏡ＳＰＭ−９６００
上記一辺５００μｍの正方形領域の観察は、一辺５００μｍの正方形領域が収まるような倍率で行ってもよいし、より高い倍率で部分的な観察を行った後、ソフトを用いて複数の部分画像を連結するようにしてもよい。
以下に、一辺５００μｍの正方形領域における特定凹部および特定線状溝について説明する。
まず、電子写真感光体の表面を顕微鏡で拡大観察する。本発明の電子写真感光体は円筒状であり、電子写真感光体の表面（周面）が周方向に曲がった曲面となっている。そのため、その曲面の断面プロファイルを抽出し、曲線（電子写真感光体が円筒状であるため円弧）をフィッティングする。図１に、フィッティングの例を示す。図１中、実線の１０１は電子写真感光体の表面（曲面）の断面プロファイルであり、破線の１０２は断面プロファイル１０１にフィッティングした曲線である。その破線の曲線１０２が直線になるように断面プロファイル１０１の補正を行い、得られた直線を電子写真感光体の長手方向（周方向に直交する方向）に拡張した面を基準面とする。
得られた基準面よりも下方に位置する部分を当該正方形領域における凹部とする。基準面から凹部の最低点までの距離を凹部の深さとする。基準面による凹部の断面を開口部とし、開口部を横切る線分のうち、最も長い線分の長さを凹部の開口部最長径とする。また、凹部の開口部を挟む２本の平行線の距離が最も短くなるときの距離を凹部の開口部最短径とする。このようにして求めた深さが０．５μｍ以上５μｍ以下の範囲にあり、開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあるものが、凹部の中でも上記特定凹部に該当する。本発明における特定凹部の深さは、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。また、特定凹部の開口部最短径は、２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
本発明における特定凹部の開口部最長径は、低湿スジを効果的に低減するという観点から２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。さらには、特定凹部の開口部最長径および開口部最短径がともに３０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にあり、かつ、上記正方形領域における特定凹部の面積が１０００００μｍ２以上１６００００μｍ２以下であることがより好ましい。
また、電子写真感光体の表面の任意の５０箇所に配置される上記一辺５００μｍの正方形領域において特定凹部の面積をそれぞれ測定したとき、５０箇所の凹部の面積の測定値の標準偏差が５％以下であることが好ましい。
まず、電子写真感光体の表面を顕微鏡で拡大観察する。本発明の電子写真感光体は円筒状であり、電子写真感光体の表面（周面）が周方向に曲がった曲面となっている。そのため、その曲面の断面プロファイルを抽出し、曲線（電子写真感光体が円筒状であるため円弧）をフィッティングする。図１に、フィッティングの例を示す。図１中、実線の１０１は電子写真感光体の表面（曲面）の断面プロファイルであり、破線の１０２は断面プロファイル１０１にフィッティングした曲線である。その破線の曲線１０２が直線になるように断面プロファイル１０１の補正を行い、得られた直線を電子写真感光体の長手方向（周方向に直交する方向）に拡張した面を基準面とする。
得られた基準面よりも下方に位置する部分を当該正方形領域における凹部とする。基準面から凹部の最低点までの距離を凹部の深さとする。基準面による凹部の断面を開口部とし、開口部を横切る線分のうち、最も長い線分の長さを凹部の開口部最長径とする。また、凹部の開口部を挟む２本の平行線の距離が最も短くなるときの距離を凹部の開口部最短径とする。このようにして求めた深さが０．５μｍ以上５μｍ以下の範囲にあり、開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあるものが、凹部の中でも上記特定凹部に該当する。本発明における特定凹部の深さは、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。また、特定凹部の開口部最短径は、２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
本発明における特定凹部の開口部最長径は、低湿スジを効果的に低減するという観点から２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲にあることが好ましい。さらには、特定凹部の開口部最長径および開口部最短径がともに３０μｍ以上６０μｍ以下の範囲にあり、かつ、上記正方形領域における特定凹部の面積が１０００００μｍ２以上１６００００μｍ２以下であることがより好ましい。
また、電子写真感光体の表面の任意の５０箇所に配置される上記一辺５００μｍの正方形領域において特定凹部の面積をそれぞれ測定したとき、５０箇所の凹部の面積の測定値の標準偏差が５％以下であることが好ましい。
図２に、基準面２−１、凹部２−２（特定凹部）などの関係を模式的に示す。なお、図２は、上記補正（フィッティング）後の断面プロファイルである。
図３の（Ａ）〜（Ｇ）に、凹部（特定凹部）の開口部の形状（特定凹部を上から見たときの形状）の例を示す。
特定凹部の開口部の形状としては、例えば、図３（Ａ）〜（Ｇ）に示すような、円、楕円、正方形、長方形、三角形、五角形、六角形などが挙げられる。また、特定凹部の断面形状としては、例えば、三角形、四角形、多角形などのエッジを有するものや、連続した曲線からなる波型や、三角形、四角形、多角形のエッジの一部または全部を曲線に変形したものなどが挙げられる。
電子写真感光体の表面に設けられる複数の特定凹部は、すべてが同一の形状、開口部最長径、深さであってもよいし、異なる形状、開口部最長径、深さのものが混在していてもよい。
上記特定凹部は、電子写真感光体の表面の全域に形成されていてもよいし、電子写真感光体の表面の一部分に形成されていてもよい。特定凹部が電子写真感光体の表面の一部分に形成されている場合は、少なくともクリーニングブレードとの接触領域の全域には特定凹部が形成されていることが好ましい。
図３の（Ａ）〜（Ｇ）に、凹部（特定凹部）の開口部の形状（特定凹部を上から見たときの形状）の例を示す。
特定凹部の開口部の形状としては、例えば、図３（Ａ）〜（Ｇ）に示すような、円、楕円、正方形、長方形、三角形、五角形、六角形などが挙げられる。また、特定凹部の断面形状としては、例えば、三角形、四角形、多角形などのエッジを有するものや、連続した曲線からなる波型や、三角形、四角形、多角形のエッジの一部または全部を曲線に変形したものなどが挙げられる。
電子写真感光体の表面に設けられる複数の特定凹部は、すべてが同一の形状、開口部最長径、深さであってもよいし、異なる形状、開口部最長径、深さのものが混在していてもよい。
上記特定凹部は、電子写真感光体の表面の全域に形成されていてもよいし、電子写真感光体の表面の一部分に形成されていてもよい。特定凹部が電子写真感光体の表面の一部分に形成されている場合は、少なくともクリーニングブレードとの接触領域の全域には特定凹部が形成されていることが好ましい。
また、電子写真感光体の表面に形成された特定線状溝の幅、長さおよび数についても上記した電子写真感光体の表面観察の結果から求める。本発明において、特定線状溝は、電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下のものをカウントする。なお、図４（Ａ）に示すように、１本の線状溝が凹部によって隔てられているように見える場合は、線状溝の数は２本とカウントする。
高温高湿スジをより効果的に抑制するという観点から、上述のとおり、特定線状溝の幅は、電子写真感光体の母線方向において、０．５μｍ以上１５μｍ以下である。電子写真感光体の表面には、該母線方向における幅が０．５μｍ未満の線状溝や、該母線方向における幅が１５μｍより広い線状溝があっても構わない。
また、電子写真感光体の表面（あるいは上記接触領域）には、特定線状溝の中でも、
電子写真感光体の母線方向における幅が１μｍ以上１０μｍ以下かつ
電子写真感光体の周方向における長さが３０μｍ以上
に該当する線状溝が、上記一辺５００μｍの正方形領域に５０本以上存在することが好ましい。
上述のとおり、本発明において、線状溝（特定線状溝）は、図４（Ｂ）に示すように、電子写真感光体の母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度（電子写真感光体の周方向に対する傾きが±１０°以内）をなすものである。
また、高温高湿スジをより効果的に抑制する観点から、特定線状溝の深さは、特定凹部の深さよりも浅いことが好ましく、具体的は、平均で０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下であることが好ましい。
高温高湿スジをより効果的に抑制するという観点から、上述のとおり、特定線状溝の幅は、電子写真感光体の母線方向において、０．５μｍ以上１５μｍ以下である。電子写真感光体の表面には、該母線方向における幅が０．５μｍ未満の線状溝や、該母線方向における幅が１５μｍより広い線状溝があっても構わない。
また、電子写真感光体の表面（あるいは上記接触領域）には、特定線状溝の中でも、
電子写真感光体の母線方向における幅が１μｍ以上１０μｍ以下かつ
電子写真感光体の周方向における長さが３０μｍ以上
に該当する線状溝が、上記一辺５００μｍの正方形領域に５０本以上存在することが好ましい。
上述のとおり、本発明において、線状溝（特定線状溝）は、図４（Ｂ）に示すように、電子写真感光体の母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度（電子写真感光体の周方向に対する傾きが±１０°以内）をなすものである。
また、高温高湿スジをより効果的に抑制する観点から、特定線状溝の深さは、特定凹部の深さよりも浅いことが好ましく、具体的は、平均で０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下であることが好ましい。
〈電子写真感光体の表面に凹部を形成する方法〉
形成するべき凹部に対応した凸部を有する型部材（モールド）を電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凹部を形成することができる。
図５に、電子写真感光体の表面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の例を示す。
図５に示す圧接形状転写加工装置によれば、被加工物である電子写真感光体５−１を回転させながら、その表面（周面）に連続的にモールド５−２を接触させ、加圧することにより、電子写真感光体５−１の表面に凹部を形成することができる。
形成するべき凹部に対応した凸部を有する型部材（モールド）を電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凹部を形成することができる。
図５に、電子写真感光体の表面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の例を示す。
図５に示す圧接形状転写加工装置によれば、被加工物である電子写真感光体５−１を回転させながら、その表面（周面）に連続的にモールド５−２を接触させ、加圧することにより、電子写真感光体５−１の表面に凹部を形成することができる。
加圧部材５−３の材質としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、プラスチック、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも、機械的強度、寸法精度、耐久性の観点から、ステンレス鋼（ＳＵＳ）が好ましい。
加圧部材５−３の上面には、モールド５−２が設置される。下面側に設置される支持部材（不図示）および加圧システム（不図示）により、支持部材５−４に支持された電子写真感光体５−１の表面に、モールド５−２を所定の圧力で接触させることができる。ここで、支持部材５−４を加圧部材５−３に対して所定の圧力で押し付けてもよいし、支持部材５−４および加圧部材５−３を互いに所定の圧力で押し付けてもよい。
加圧部材５−３の上面には、モールド５−２が設置される。下面側に設置される支持部材（不図示）および加圧システム（不図示）により、支持部材５−４に支持された電子写真感光体５−１の表面に、モールド５−２を所定の圧力で接触させることができる。ここで、支持部材５−４を加圧部材５−３に対して所定の圧力で押し付けてもよいし、支持部材５−４および加圧部材５−３を互いに所定の圧力で押し付けてもよい。
図５に示す例は、加圧部材５−３を電子写真感光体５−１の軸方向と垂直な方向に移動させることにより、電子写真感光体５−１を従動回転または駆動回転させながら、その表面を連続的に加工する例である。また、加圧部材５−３を固定し、支持部材５−４を電子写真感光体５−１の軸方向と垂直な方向に移動させることにより、電子写真感光体５−１の表面を連続的に加工することもできる。また、支持部材５−４および加圧部材５−３の両者を移動させることにより、電子写真感光体５−１の表面を連続的に加工することもできる。
なお、形状転写を効率的に行う観点から、モールド５−２や電子写真感光体５−１を加熱することが好ましい。
モールド５−２としては、例えば、微細な表面加工がなされた金属または樹脂フィルムや、シリコンウエハーの表面にレジストによりパターニングをしたものが挙げられる。また、微粒子を分散させた樹脂フィルムや、微細な表面形状を有する樹脂フィルムに金属コーティングを施したものも挙げられる。
また、電子写真感光体５−１に押し付けられる圧力を均一にする観点から、モールド５−２と加圧部材５−３との間に弾性体を設置することが好ましい。
〈電子写真感光体の表面に線状溝を形成する方法〉
形成するべき線状溝に対応する凹凸形状を有する型部材（モールド）を電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に線状溝を形成することができる。また、電子写真感光体の表面を研磨することにより、電子写真感光体の表面に線状溝を形成することもできる。また、形成するべき線状溝に対応するように粗面化された円筒状の支持体上に感光層などの各層を順次積層していき、支持体の表面（周面）形状を電子写真感光体の表面（周面）に反映させて、表面に線状溝を有する電子写真感光体を得ることもできる。また、表面層用塗布液を用いた塗工により電子写真感光体の表面層を形成する場合、塗布された表面層用塗布液が完全に乾燥（硬化）する前に、流動性のある状態で粗面化し、表面に線状溝を有する電子写真感光体を得ることもできる。
形成するべき線状溝に対応する凹凸形状を有する型部材（モールド）を電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に線状溝を形成することができる。また、電子写真感光体の表面を研磨することにより、電子写真感光体の表面に線状溝を形成することもできる。また、形成するべき線状溝に対応するように粗面化された円筒状の支持体上に感光層などの各層を順次積層していき、支持体の表面（周面）形状を電子写真感光体の表面（周面）に反映させて、表面に線状溝を有する電子写真感光体を得ることもできる。また、表面層用塗布液を用いた塗工により電子写真感光体の表面層を形成する場合、塗布された表面層用塗布液が完全に乾燥（硬化）する前に、流動性のある状態で粗面化し、表面に線状溝を有する電子写真感光体を得ることもできる。
図６に、電子写真感光体の表面に線状溝を形成するための研磨シートを用いた研磨機の例を示す。
研磨シートとしては、例えば、シート状の基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなるシート状の研磨部材が挙げられる。
図６中、研磨シート６０１は、中空の軸６０６に巻かれている。軸６０６に研磨シート６０１が送られる方向と逆方向に、研磨シート６０１に張力が与えられるようモーター（不図示）が配置されている。研磨シート６０１は、図６中の矢印方向に送られ、ガイドローラー６０２ａ、６０２ｂを介して、バックアップローラー６０３を通る。そして、研磨後の研磨シート６０１は、ガイドローラー６０２ｃ、６０２ｄを介して、モーター（不図示）により、巻き取り手段６０５に巻き取られる。研磨は、研磨シート６０１が被加工物（表面（周面）に線状溝が形成される前の電子写真感光体）６０４に常時圧接され、被加工物６０４の表面（周面）を粗面化することで行われる。研磨シート６０１は、絶縁性であることが多いので、研磨シート６０１が接する部位には、アースに接地されたもの、または、導電性を有するものを用いることが好ましい。
被加工物６０４は、研磨シート６０１を介してバックアップローラー６０３と対向した位置に置かれる。この際、研磨シート６０１の基材側からバックアップローラー６０３が被加工物６０４に対して所定の圧力で所定の時間押し当てられ、被加工物６０４の表面（周面）が粗面化される。被加工物６０４の回転方向は、研磨シート６０１の送られる方向と同一であってもよいし、反対方向（対向）であってもよい。また、粗面化の途中で被加工物６０４の回転方向を変更してもよい。
研磨シートとしては、例えば、シート状の基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなるシート状の研磨部材が挙げられる。
図６中、研磨シート６０１は、中空の軸６０６に巻かれている。軸６０６に研磨シート６０１が送られる方向と逆方向に、研磨シート６０１に張力が与えられるようモーター（不図示）が配置されている。研磨シート６０１は、図６中の矢印方向に送られ、ガイドローラー６０２ａ、６０２ｂを介して、バックアップローラー６０３を通る。そして、研磨後の研磨シート６０１は、ガイドローラー６０２ｃ、６０２ｄを介して、モーター（不図示）により、巻き取り手段６０５に巻き取られる。研磨は、研磨シート６０１が被加工物（表面（周面）に線状溝が形成される前の電子写真感光体）６０４に常時圧接され、被加工物６０４の表面（周面）を粗面化することで行われる。研磨シート６０１は、絶縁性であることが多いので、研磨シート６０１が接する部位には、アースに接地されたもの、または、導電性を有するものを用いることが好ましい。
被加工物６０４は、研磨シート６０１を介してバックアップローラー６０３と対向した位置に置かれる。この際、研磨シート６０１の基材側からバックアップローラー６０３が被加工物６０４に対して所定の圧力で所定の時間押し当てられ、被加工物６０４の表面（周面）が粗面化される。被加工物６０４の回転方向は、研磨シート６０１の送られる方向と同一であってもよいし、反対方向（対向）であってもよい。また、粗面化の途中で被加工物６０４の回転方向を変更してもよい。
線状溝の幅などは、研磨シート６０１の送りスピード、バックアップローラー６０３の押し当て圧、研磨砥粒の粒径や形状、研磨シートに分散される研磨砥粒の番手、研磨シートの結着樹脂の膜厚、基材の厚みなどを制御することにより調整できる。
研磨砥粒としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、ダイヤモンド、酸化鉄、酸化セリウム、コランダム、珪石、窒化ケイ素、窒化ホウ素、炭化モリブデン、炭化ケイ素、炭化タングステン、チタンカーバイト、酸化ケイ素などの粒子が挙げられる。
研磨シートに用いられる研磨砥粒を分散させる結着樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、防黴性樹脂などが挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリアミド−シリコーン樹脂などが挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリアミド−シリコーン樹脂などが挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂などが挙げられる。
また、本発明においては、表面に所望の特定線状溝を有する電子写真感光体が得られるように、複数回にわたり粗面化工程（研磨工程）を行うことも可能である。その際は、番手の粗い研磨砥粒が分散された研磨シートから始めて、番手の細かい研磨砥粒が分散された研磨シートに変更する方法でもよい。あるいは、番手の細かい研磨砥粒が分散された研磨シートから始めて、番手の粗い研磨砥粒が分散された研磨シートに変更する方法でもよい。また、番手数が同等で研磨砥粒が異なる研磨シートを用いて複数回研磨する方法でもよい。
研磨シートに用いる基材としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、セルロース樹脂、ポリビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホンおよびポリフェニルスルホンなどが挙げられる。
〈電子写真感光体の構成〉
本発明の電子写真感光体は、円筒状の支持体および支持体上に形成された感光層を有する。
本発明においては、支持体として円筒状のものを用いるため、電子写真感光体の形状は円筒状となる。
本発明の電子写真感光体は、円筒状の支持体および支持体上に形成された感光層を有する。
本発明においては、支持体として円筒状のものを用いるため、電子写真感光体の形状は円筒状となる。
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層と、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型（機能分離型）感光層が挙げられる。電子写真特性の観点から、積層型感光層が好ましい。また、電荷発生層を積層構成としてもよいし、電荷輸送層を積層構成としてもよい。
支持体としては、導電性を示すもの（導電性支持体）であることが好ましい。支持体の材質としては、例えば、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、チタン、鉛、ニッケル、スズ、アンチモン、インジウム、クロム、アルミニウム合金、ステンレス鋼などの金属または合金が挙げられる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などの被膜を真空蒸着によって形成してなる金属製支持体またはプラスチック製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子をプラスチックや紙に含浸してなる支持体や、導電性結着樹脂製の支持体を用いることもできる。
支持体の表面は、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制を目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
支持体の表面は、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制を目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
支持体と、後述の下引き層または感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制や、支持体の傷の被覆などを目的として、導電層を設けてもよい。
導電層は、カーボンブラック、導電性顔料、抵抗調節顔料などを結着樹脂とともに分散処理することによって得られる導電層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。また、導電層用塗布液には、加熱、紫外線照射、放射線照射などにより硬化重合する化合物を添加してもよい。
導電層の膜厚は、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ビニル系重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
導電性顔料および抵抗調節顔料としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス鋼などの金属または合金の粒子や、これらの金属または合金をプラスチックの粒子の表面に蒸着したものなどが挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズがドープされている酸化インジウム、アンチモンやタンタルがドープされている酸化スズなどの金属酸化物の粒子を用いることもできる。これらは、１種のみ用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
導電層の膜厚は、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ビニル系重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
導電性顔料および抵抗調節顔料としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス鋼などの金属または合金の粒子や、これらの金属または合金をプラスチックの粒子の表面に蒸着したものなどが挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズがドープされている酸化インジウム、アンチモンやタンタルがドープされている酸化スズなどの金属酸化物の粒子を用いることもできる。これらは、１種のみ用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
支持体または導電層と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、バリア機能や接着機能を有する下引き層（中間層）を設けてもよい。
下引き層は、樹脂（結着樹脂）を溶剤に溶解させることによって得られる下引き層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
下引き層に用いられる樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロンなどが挙げられる。
下引き層の膜厚は、０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
下引き層に用いられる樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化６ナイロン、共重合ナイロンなどが挙げられる。
下引き層の膜厚は、０．０５μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
感光層に用いられる電荷発生物質としては、例えば、ピリリウム染料、チアピリリウム染料や、フタロシアニン顔料、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料や、非対称キノシアニン顔料、キノシアニン顔料などが挙げられる。これら電荷発生物質は、１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
感光層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、ヒドラゾン化合物、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン化合物、ジフェニルアミン化合物、トリフェニルアミン化合物、トリフェニルメタン化合物、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物などが挙げられる。
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理することによって得られた電荷発生層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
電荷発生物質と結着樹脂の質量比（電荷発生物質／結着樹脂）は、１／４以上１／０．３以下の範囲であることが好ましい。
分散処理方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いる方法が挙げられる。
電荷発生物質と結着樹脂の質量比（電荷発生物質／結着樹脂）は、１／４以上１／０．３以下の範囲であることが好ましい。
分散処理方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波分散、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いる方法が挙げられる。
電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
電荷発生層および電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ビニル系重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。
電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。
電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。
また、電子写真感光体の耐久性の向上の観点から、電子写真感光体の表面層を架橋有機高分子で構成することが好ましい。
本発明においては、例えば、電荷発生層上の電荷輸送層を電子写真感光体の表面層として架橋有機高分子で構成することができる。また、電荷発生層上の電荷輸送層上に第二電荷輸送層または保護層として架橋有機高分子で構成された表面層を形成することができる。また、架橋有機高分子で構成された表面層は、電荷輸送物質または導電性粒子と、架橋重合性のモノマー／オリゴマーとを用いて形成することが好ましい。
電荷輸送物質としては、上述の電荷輸送物質を用いることができる。また、導電性粒子としては、各種の導電性粒子を用いることができる。架橋重合性のモノマー／オリゴマーとしては、例えば、アクリロイルオキシ基やスチリル基などの連鎖重合性官能基を有する化合物や、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基、イソシアネート基などの逐次重合性官能基を有する化合物などが挙げられる。
また、膜の強度と電荷輸送能力の両立の観点から、同一分子内に電荷輸送性構造（好ましくは正孔輸送性構造）およびアクリロイルオキシ基の両方を有する化合物を用いることがより好ましい。
架橋硬化させる方法としては、例えば、熱、紫外線、放射線を用いる方法が挙げられる。
架橋有機高分子で構成された表面層の膜厚は、０．１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。
電荷輸送物質としては、上述の電荷輸送物質を用いることができる。また、導電性粒子としては、各種の導電性粒子を用いることができる。架橋重合性のモノマー／オリゴマーとしては、例えば、アクリロイルオキシ基やスチリル基などの連鎖重合性官能基を有する化合物や、ヒドロキシ基、アルコキシシリル基、イソシアネート基などの逐次重合性官能基を有する化合物などが挙げられる。
また、膜の強度と電荷輸送能力の両立の観点から、同一分子内に電荷輸送性構造（好ましくは正孔輸送性構造）およびアクリロイルオキシ基の両方を有する化合物を用いることがより好ましい。
架橋硬化させる方法としては、例えば、熱、紫外線、放射線を用いる方法が挙げられる。
架橋有機高分子で構成された表面層の膜厚は、０．１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。
電子写真感光体の各層には、添加剤を添加することができる。
添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化防止剤や、フッ素原子含有樹脂粒子、アクリル樹脂粒子などの有機樹脂粒子や、シリカ、チタニア、アルミナなどの無機粒子などが挙げられる。
添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化防止剤や、フッ素原子含有樹脂粒子、アクリル樹脂粒子などの有機樹脂粒子や、シリカ、チタニア、アルミナなどの無機粒子などが挙げられる。
〈プロセスカートリッジおよび電子写真装置の構成〉
図７に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の例を示す。
図７に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の例を示す。
図７において、円筒状の本発明の電子写真感光体１は、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。電子写真感光体１の表面（周面）は、回転過程において、帯電手段３（一次帯電手段：例えば、帯電ローラーなど）により、正または負の所定電位に帯電される。次いで、帯電された電子写真感光体１の表面（周面）は、露光手段（画像露光手段）（不図示）から照射される露光光（画像露光光）４を受ける。このようにして、電子写真感光体１の表面（周面）には、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。
本発明は、放電を利用した帯電手段を用いた場合において、効果が特に大きい。
本発明は、放電を利用した帯電手段を用いた場合において、効果が特に大きい。
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内のトナーで現像（正規現像または反転現像）されてトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段（例えば、転写ローラーなど）６からの転写バイアスによって、転写材Ｐ上に転写されていく。このとき、転写材Ｐは、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて給送される。また、転写手段には、トナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧がバイアス電源（不図示）から印加される。
トナー像が転写された転写材Ｐは、電子写真感光体の表面（周面）から分離されて定着手段８へ搬送されてトナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物（プリント、コピー）として電子写真装置の外へプリントアウトされる。
トナー像が転写された転写材Ｐは、電子写真感光体の表面（周面）から分離されて定着手段８へ搬送されてトナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物（プリント、コピー）として電子写真装置の外へプリントアウトされる。
トナー像を転写した後の電子写真感光体１の表面（周面）は、電子写真感光体１の表面（周面）に接触配置（当接）されたクリーニングブレードを有するクリーニング手段７によって転写残トナーなどの付着物の除去を受ける。その後、電子写真感光体１の表面（周面）は前露光手段（不図示）からの前露光光（不図示）により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図７に示すように、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光手段は必ずしも必要ではない。
電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段７などから選択される構成要素のうち、複数の構成要素を容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に支持することができる。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置の本体に対して着脱自在に構成することができる。図７では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５およびクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化している。そして、電子写真装置の本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置の本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
露光光４は、電子写真装置が複写機である場合、原稿からの反射光や透過光である。または、センサーで原稿を読み取り、信号化し、この信号に従って行われるレーザービームの走査、ＬＥＤアレイや液晶シャッターアレイの駆動などにより照射される光である。
以下、具体的な実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。また、電子写真感光体を、以下単に「感光体」ともいう。また、以下のすべての例において、電子写真感光体の表面に形成された凹部の開口部の形状は、開口部最長径と開口部最短径が等しい円状である。
（感光体−１の製造例）
直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体（円筒状の支持体）とした。
直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体（円筒状の支持体）とした。
次に、金属酸化物として酸化亜鉛粒子（比表面積：１９ｍ２／ｇ、粉体抵抗：４．７×１０６Ω・ｃｍ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、１３０℃で６時間加熱乾燥し、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。シランカップリング剤としては、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）を用いた。
次に、ポリオールとしてのブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部およびブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５部を、メチルエチルケトン７３．５部および１−ブタノール７３．５部の混合溶剤に溶解させた。得られた溶液に上記表面処理された酸化亜鉛粒子８０．８部および２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン０．８部（東京化成工業（株）製）を加えた。これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部および架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲ ＳＳＸ−１０２、積水化成品工業（株）製、平均一次粒径２．５μｍ）を５．６部加えて攪拌し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を４０分間１６０℃で乾燥させて、膜厚が１８μｍの下引き層を形成した。
次に、ポリオールとしてのブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部およびブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５部を、メチルエチルケトン７３．５部および１−ブタノール７３．５部の混合溶剤に溶解させた。得られた溶液に上記表面処理された酸化亜鉛粒子８０．８部および２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン０．８部（東京化成工業（株）製）を加えた。これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部および架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲ ＳＳＸ−１０２、積水化成品工業（株）製、平均一次粒径２．５μｍ）を５．６部加えて攪拌し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を４０分間１６０℃で乾燥させて、膜厚が１８μｍの下引き層を形成した。
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°および２８．２°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）２０部、下記式（Ａ）で示されるカリックスアレーン化合物０．２部、
ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）１０部、および、シクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した。分散処理後、さらに酢酸エチル７００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を上記下引き層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１７μｍの電荷発生層を形成した。
次に、下記式（Ｂ）で示される化合物３０部（電荷輸送物質）、下記式（Ｃ）で示される化合物６０部（電荷輸送物質）、下記式（Ｄ）で示される化合物１０部、
ポリカーボネート（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製、ビスフェノールＺ型のポリカーボネート）１００部、および、下記式（Ｅ）で示される構造単位を有するポリカーボネート（粘度平均分子量Ｍｖ：２００００）０．０２部
（式（Ｅ）中、０．９５および０．０５は２つの構造単位のモル比（共重合比）である。）
を、混合キシレン６００部およびジメトキシメタン２００部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を３０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
を、混合キシレン６００部およびジメトキシメタン２００部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を３０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
次に、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）２０部および１−プロパノール２０部の混合溶剤を、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過した。その後、下記式（Ｆ）で示される正孔輸送性化合物９０部、
１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン７０部、および、１−プロパノール７０部を上記混合溶剤に加えた。これをポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過することによって、第二電荷輸送層（保護層）用塗布液を調製した。この第二電荷輸送層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を大気中において６分間５０℃で乾燥させた。その後、窒素中において、上記支持体（被照射体）を２００ｒｐｍで回転させながら、加速電圧７０ｋＶ、吸収線量８０００Ｇｙの条件で１．６秒間、電子線を塗膜に照射した。引き続いて、窒素中において２５℃から１２５℃まで３０秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射およびその後の加熱時の雰囲気の酸素濃度は１５ｐｐｍであった。次に、大気中において３０分間１００℃で加熱処理を行うことによって、電子線により硬化された膜厚５μｍの第二電荷輸送層（保護層）を形成した。
このようにして、表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（以下「凹部／線状溝形成前の電子写真感光体」とも表記する。）を製造した。
次に、以下のとおり、凹部の形成、線状溝の形成の順で、電子写真感光体の表面（周面）の加工を行った。
・圧接形状転写加工装置を用いた凹部の形成
概ね図５に示す構成の圧接形状転写加工装置に、モールドとして概ね図８（Ａ）に示す形状のモールド（最長径（モールド上の凸部を上から見たときの最長径のこと。以下同じ。）Ｘｍａｘ：４１μｍ、最短径（モールド上の凸部を上から見たときの最短径のこと。以下同じ。）Ｘｍｉｎ：４１μｍ、面積率：５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状）を設置した。そして、製造した凹部／線状溝形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。表面加工時には、電子写真感光体の表面の温度が１２０℃になるように電子写真感光体およびモールドの温度を制御した。そして、７．０ＭＰａの圧力で電子写真感光体と加圧部材を押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面（周面）の全面に凹部を形成した。
次に、以下のとおり、凹部の形成、線状溝の形成の順で、電子写真感光体の表面（周面）の加工を行った。
・圧接形状転写加工装置を用いた凹部の形成
概ね図５に示す構成の圧接形状転写加工装置に、モールドとして概ね図８（Ａ）に示す形状のモールド（最長径（モールド上の凸部を上から見たときの最長径のこと。以下同じ。）Ｘｍａｘ：４１μｍ、最短径（モールド上の凸部を上から見たときの最短径のこと。以下同じ。）Ｘｍｉｎ：４１μｍ、面積率：５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状）を設置した。そして、製造した凹部／線状溝形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。表面加工時には、電子写真感光体の表面の温度が１２０℃になるように電子写真感光体およびモールドの温度を制御した。そして、７．０ＭＰａの圧力で電子写真感光体と加圧部材を押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面（周面）の全面に凹部を形成した。
・線状溝の形成
理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ３０００）を用いた。研磨シートの送りスピードは４０ｍｍ／分とし、被加工物（表面の全面に凹部を形成した電子写真感光体）の回転数は２４０ｒｐｍとし、被加工物に対する研磨シート押し当て圧は７．５Ｎ／ｍ２とした。研磨シートの送り方向と被加工物の回転方向は同方向（以下「ウィズ」とも表記する。逆方向を「カウンター」とも表記する。）とした。また、外径４０ｃｍ、アスカーＣ硬度４０のバックアップローラーを用いた。これらの条件で、１０秒間かけて、被加工物の周面に線状溝を形成した。
理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ３０００）を用いた。研磨シートの送りスピードは４０ｍｍ／分とし、被加工物（表面の全面に凹部を形成した電子写真感光体）の回転数は２４０ｒｐｍとし、被加工物に対する研磨シート押し当て圧は７．５Ｎ／ｍ２とした。研磨シートの送り方向と被加工物の回転方向は同方向（以下「ウィズ」とも表記する。逆方向を「カウンター」とも表記する。）とした。また、外径４０ｃｍ、アスカーＣ硬度４０のバックアップローラーを用いた。これらの条件で、１０秒間かけて、被加工物の周面に線状溝を形成した。
このようにして、表面（周面）に凹部と線状溝を有する電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１」とする。
・電子写真感光体の表面の観察
得られた電子写真感光体（感光体−１）の表面を、レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−１００）で５０倍レンズにより拡大観察し、上述のようにして電子写真感光体の表面に設けられた特定凹部および特定線状溝の判定を行った。観察時には、電子写真感光体の長手方向に傾きが無いように、また、周方向については、電子写真感光体の円弧の頂点にピントが合うように、調整を行った。一辺５００μｍの正方形領域は、拡大観察を行った画像を画像連結アプリケーションによって連結して得た。また、得られた結果については、付属の画像解析ソフトにより、画像処理高さデータを選択し、フィルタタイプメディアンでフィルター処理を行った。
上記観察によって特定凹部の深さ、開口部最長径および開口部最短径、面積ならびに線状溝の電子写真感光体の母線方向における幅、電子写真感光体の周方向における長さ、電子写真感光体の母線方向に対する角度、個数などを求めた。結果を表１に示す。凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。
得られた電子写真感光体（感光体−１）の表面を、レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−１００）で５０倍レンズにより拡大観察し、上述のようにして電子写真感光体の表面に設けられた特定凹部および特定線状溝の判定を行った。観察時には、電子写真感光体の長手方向に傾きが無いように、また、周方向については、電子写真感光体の円弧の頂点にピントが合うように、調整を行った。一辺５００μｍの正方形領域は、拡大観察を行った画像を画像連結アプリケーションによって連結して得た。また、得られた結果については、付属の画像解析ソフトにより、画像処理高さデータを選択し、フィルタタイプメディアンでフィルター処理を行った。
上記観察によって特定凹部の深さ、開口部最長径および開口部最短径、面積ならびに線状溝の電子写真感光体の母線方向における幅、電子写真感光体の周方向における長さ、電子写真感光体の母線方向に対する角度、個数などを求めた。結果を表１に示す。凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。
なお、電子写真感光体（感光体−１）の表面（周面）を、他のレーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−９５００）を用い、上記と同様の方法で観察を行った。そうしたところ、上記のレーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−１００）を用いた場合と同様の結果が得られた。
そこで、以下の製造例では、電子写真感光体（感光体−２〜感光体−７５、感光体−１０１〜感光体−１１０）の表面（周面）の観察に、レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−１００）および５０倍レンズを用いた。
そこで、以下の製造例では、電子写真感光体（感光体−２〜感光体−７５、感光体−１０１〜感光体−１１０）の表面（周面）の観察に、レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製、商品名：Ｘ−１００）および５０倍レンズを用いた。
（感光体−２の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−２」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−２」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。
（感光体−３〜感光体−８の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−３〜感光体−８」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−３〜感光体−８」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−９〜感光体−１１の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０１μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−９〜感光体−１１」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０１μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−９〜感光体−１１」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−１２〜感光体−１７の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−１２〜感光体−１７」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−１２〜感光体−１７」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−１８〜感光体−２３の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０１μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−１８〜感光体−２３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０１μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−１８〜感光体−２３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−２４〜感光体−４１の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−２４〜感光体−４１」とする。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−２４〜感光体−４１」とする。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−４２〜感光体−４７の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−４２〜感光体−４７」とする。感光体−４２〜感光体−４４の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．１５μｍであり、感光体−４５〜感光体−４７の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０２μｍであった。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ６０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−４２〜感光体−４７」とする。感光体−４２〜感光体−４４の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．１５μｍであり、感光体−４５〜感光体−４７の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０２μｍであった。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−４８〜感光体−７１の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−４８〜感光体−７１」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−４８〜感光体−７１」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−７２〜感光体−７３の製造例）
感光体−１の製造例と同様にして支持体上に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。
次に、上記式（Ｆ）で示される化合物１００部、シロキサン変性アクリル化合物３．５部（ＢＹＫ−３５５０、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、１−プロパノール３００部を混合し、撹拌した。シロキサン変性アクリル化合物は容易に溶解した。この溶液を、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過することによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を大気中において１０分間５０℃で乾燥させた。その後、窒素雰囲気下にて、加速電圧１５０ｋＶ、ビーム電流３．０ｍＡの条件で支持体（被照射体）を２００ｒｐｍで回転させながら、１．６秒間電子線を塗膜に照射した。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ｋＧｙであった。引き続いて、窒素雰囲気下にて、塗膜が２５℃から１２５℃になるまで３０秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射から、その後の加熱処理までの酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。次に、大気中において、塗膜が２５℃になるまでを自然冷却し、大気中において塗膜が１００℃になる条件で３０分間加熱処理を行い、膜厚５μｍの表面層を形成した。
このようにして、表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
その後、感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０５μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−７２〜感光体−７３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例と同様にして支持体上に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形成した。
次に、上記式（Ｆ）で示される化合物１００部、シロキサン変性アクリル化合物３．５部（ＢＹＫ−３５５０、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、１−プロパノール３００部を混合し、撹拌した。シロキサン変性アクリル化合物は容易に溶解した。この溶液を、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０２０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過することによって、表面層用塗布液を調製した。
この表面層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を大気中において１０分間５０℃で乾燥させた。その後、窒素雰囲気下にて、加速電圧１５０ｋＶ、ビーム電流３．０ｍＡの条件で支持体（被照射体）を２００ｒｐｍで回転させながら、１．６秒間電子線を塗膜に照射した。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、１５ｋＧｙであった。引き続いて、窒素雰囲気下にて、塗膜が２５℃から１２５℃になるまで３０秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射から、その後の加熱処理までの酸素濃度は１５ｐｐｍ以下であった。次に、大気中において、塗膜が２５℃になるまでを自然冷却し、大気中において塗膜が１００℃になる条件で３０分間加熱処理を行い、膜厚５μｍの表面層を形成した。
このようにして、表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
その後、感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表１に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０５μｍであった。これらの電子写真感光体を「感光体−７２〜感光体−７３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−７４の製造例）
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、概ね図８（Ｂ）に示す形状のモールドを用いて感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。図８（Ｂ）において、最長径Ｘｍａｘ：５０μｍ、最短径Ｘｍｉｎ：５０μｍ、面積率５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状である。８０１は線状溝の幅を示す。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。この電子写真感光体を「感光体−７４」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、概ね図８（Ｂ）に示す形状のモールドを用いて感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。図８（Ｂ）において、最長径Ｘｍａｘ：５０μｍ、最短径Ｘｍｉｎ：５０μｍ、面積率５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状である。８０１は線状溝の幅を示す。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。この電子写真感光体を「感光体−７４」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（感光体−７５の製造例）
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、概ね図８（Ｃ）に示す形状のモールドを用いて、感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。図８（Ｃ）において、最長径Ｘｍａｘ：５０μｍ、最短径Ｘｍｉｎ：５０μｍ、面積率５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状である。８０１は線状溝の幅を示す。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。この電子写真感光体を「感光体−７５」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、概ね図８（Ｃ）に示す形状のモールドを用いて、感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。図８（Ｃ）において、最長径Ｘｍａｘ：５０μｍ、最短径Ｘｍｉｎ：５０μｍ、面積率５０％、高さＨ：３μｍ、形状：ドーム型形状である。８０１は線状溝の幅を示す。電子写真感光体の表面の凹部以外の部分に形成された線状溝の深さは平均０．０３μｍであった。この電子写真感光体を「感光体−７５」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表１に示す。
（電子写真感光体の実機評価）
（実施例１）
感光体−１を、評価装置であるキヤノン（株）製の電子写真装置（複写機）（商品名：ｉＲ−ＡＤＶ Ｃ５２５５）の改造機のシアンステーションに装着し、以下のように試験および評価を行った。
まず、２３℃／５％ＲＨ環境下で、電子写真感光体の暗部電位（Ｖｄ）が−８００Ｖ、明部電位（Ｖｌ）が−３００Ｖになるように帯電装置および画像露光装置の条件を設定し、電子写真感光体の初期電位を調整した。
次に、硬度７７°のウレタンゴム製のクリーニングブレードを、電子写真感光体の表面（周面）に対して当接角２８°、当接圧（線圧）３０ｇ／ｃｍとなるように設定した。電子写真感光体用のヒーター（ドラムヒーター）をＯＦＦにした状態で、２３℃／５％ＲＨ環境下で、Ａ４用紙横の印字率１％の画像（評価用チャート）を連続で２００００枚出力した。その後、シアン濃度３０％のハーフトーン画像（スクリーン画像）を出力し、画像上の低湿スジを以下のように評価した。結果を表２に示す。
（実施例１）
感光体−１を、評価装置であるキヤノン（株）製の電子写真装置（複写機）（商品名：ｉＲ−ＡＤＶ Ｃ５２５５）の改造機のシアンステーションに装着し、以下のように試験および評価を行った。
まず、２３℃／５％ＲＨ環境下で、電子写真感光体の暗部電位（Ｖｄ）が−８００Ｖ、明部電位（Ｖｌ）が−３００Ｖになるように帯電装置および画像露光装置の条件を設定し、電子写真感光体の初期電位を調整した。
次に、硬度７７°のウレタンゴム製のクリーニングブレードを、電子写真感光体の表面（周面）に対して当接角２８°、当接圧（線圧）３０ｇ／ｃｍとなるように設定した。電子写真感光体用のヒーター（ドラムヒーター）をＯＦＦにした状態で、２３℃／５％ＲＨ環境下で、Ａ４用紙横の印字率１％の画像（評価用チャート）を連続で２００００枚出力した。その後、シアン濃度３０％のハーフトーン画像（スクリーン画像）を出力し、画像上の低湿スジを以下のように評価した。結果を表２に示す。
Ａ：画像上にスジ（低湿スジ）は見られない。
Ｅ：画像上にスジ（低湿スジ）が見られる。
Ｅ：画像上にスジ（低湿スジ）が見られる。
次に、３０℃／８０％ＲＨ環境下で、電子写真感光体の暗部電位（Ｖｄ）が−５００Ｖ、明部電位（Ｖｌ）が−１８０Ｖになるように帯電装置および画像露光装置の条件を設定し、電子写真感光体の初期電位を調整した。
次に、硬度７７°のウレタンゴム製のクリーニングブレードを、電子写真感光体の表面（周面）に対して当接角２８°、当接圧（線圧）３０ｇ／ｃｍとなるように設定した。電子写真感光体用のヒーター（ドラムヒーター）をＯＮにした状態で、３０℃／８０％ＲＨ環境下で、Ａ４用紙横の印字率１％の画像（評価用チャート）を連続で２００枚出力した。その後、シアン濃度３０％のハーフトーン画像（スクリーン画像）を出力し、画像上の高温高湿スジを以下のように評価した。結果を表２に示す。
次に、硬度７７°のウレタンゴム製のクリーニングブレードを、電子写真感光体の表面（周面）に対して当接角２８°、当接圧（線圧）３０ｇ／ｃｍとなるように設定した。電子写真感光体用のヒーター（ドラムヒーター）をＯＮにした状態で、３０℃／８０％ＲＨ環境下で、Ａ４用紙横の印字率１％の画像（評価用チャート）を連続で２００枚出力した。その後、シアン濃度３０％のハーフトーン画像（スクリーン画像）を出力し、画像上の高温高湿スジを以下のように評価した。結果を表２に示す。
Ａ：画像上にスジ（高温高湿スジ）は見られない。
Ｂ：画像上にスジ（高温高湿スジ）が疑われるようなものが見られるが、それが明確にスジ（高温高湿スジ）であるかどうかの判定ができないレベルである。
Ｃ：画像上に極軽微なスジ（高温高湿スジ）が見られる。
Ｄ：画像上に軽微なスジ（高温高湿スジ）が見られる。
Ｅ：画像上に明らかなスジ（高温高湿スジ）が見られる。
Ｂ：画像上にスジ（高温高湿スジ）が疑われるようなものが見られるが、それが明確にスジ（高温高湿スジ）であるかどうかの判定ができないレベルである。
Ｃ：画像上に極軽微なスジ（高温高湿スジ）が見られる。
Ｄ：画像上に軽微なスジ（高温高湿スジ）が見られる。
Ｅ：画像上に明らかなスジ（高温高湿スジ）が見られる。
（実施例２〜２３５）
電子写真感光体として表２に示すものを用い、クリーニングブレードの硬度および設定（当接角および当接圧（線圧））を表２に示すようにした。これら以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。結果を表２に示す。
電子写真感光体として表２に示すものを用い、クリーニングブレードの硬度および設定（当接角および当接圧（線圧））を表２に示すようにした。これら以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。結果を表２に示す。
（感光体−１０１の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドを表３に示すように変更し、研磨処理を行わなかった。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体「感光体−１０１」を製造した。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例において、モールドを表３に示すように変更し、研磨処理を行わなかった。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体「感光体−１０１」を製造した。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（感光体−１０２の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドを表３に示すように変更し、研磨処理を行わなかった。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０２」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例において、モールドを表３に示すように変更し、研磨処理を行わなかった。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０２」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（感光体−１０３の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０３」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（感光体−１０４の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ５０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０４」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更し、研磨シート（ＧＣ３０００）の代わりに理研コランダム（株）製の研磨シート（ＧＣ５０００）を用いた。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。この電子写真感光体を「感光体−１０４」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（感光体−１０５〜感光体−１０８の製造例）
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−１０５〜感光体−１０８」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例において、モールドおよび研磨処理時間を表３に示すように変更した。これら以外は、感光体−１の製造例と同様にして電子写真感光体を製造した。これらの電子写真感光体を「感光体−１０５〜感光体−１０８」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（感光体−１０９〜感光体−１１０の製造例）
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、図８（Ｂ）に示すようなモールドを用いて感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。これらの電子写真感光体を「感光体−１０９〜感光体−１１０」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
感光体−１の製造例と同様にして表面に凹部および線状溝を形成する前の円筒状の電子写真感光体（凹部／線状溝形成前の電子写真感光体）を製造した。
次に、図８（Ｂ）に示すようなモールドを用いて感光体−１と同様の方法で電子写真感光体の表面（周面）の全面にモールドの形状に対応した形状を形成した。これらの電子写真感光体を「感光体−１０９〜感光体−１１０」とする。感光体−１の製造例と同様にして、得られた電子写真感光体の表面観察を行った。結果を表３に示す。
（比較例１〜６０）
電子写真感光体として表４に示すものを用い、クリーニングブレードの硬度および設定（当接角および当接圧（線圧））を表４に示すようにした。これら以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。結果を表４に示す。
電子写真感光体として表４に示すものを用い、クリーニングブレードの硬度および設定（当接角および当接圧（線圧））を表４に示すようにした。これら以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体の実機評価を行った。結果を表４に示す。
Claims (10)
- 円筒状の支持体および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下かつ該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該電子写真感光体の表面の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体。 - 円筒状の支持体および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該電子写真感光体の表面のうち、少なくともクリーニングブレードとの接触領域が、
深さが０．５μｍ以上５μｍ以下かつ開口部最長径が２０μｍ以上８０μｍ以下である複数の凹部と、
該凹部以外の部分に形成された、該電子写真感光体の母線方向における幅が０．５μｍ以上１５μｍ以下、および該母線方向に対して８０°以上１００°以下の角度をなす複数の線状溝と、
を有し、
該接触領域の任意の位置に一辺５００μｍの正方形領域を配置したとき、該一辺５００μｍの正方形領域における該凹部の面積が９５０００μｍ２以上１８００００μｍ２以下である
ことを特徴とする電子写真感光体。 - 前記一辺５００μｍの正方形領域において、前記電子写真感光体の母線方向における幅が１μｍ以上１０μｍ以下かつ前記電子写真感光体の周方向における長さが３０μｍ以上の線状溝が、５０本以上存在する請求項１または２に記載の電子写真感光体。
- 前記凹部の開口部最短径が２０μｍ以上８０μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記凹部の開口部最長径が３０μｍ以上６０μｍ以下であり、前記凹部の開口部最短径が３０μｍ以上６０μｍ以下であり、前記正方形領域における前記凹部の面積が１０００００μｍ２以上１６００００μｍ２以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記凹部の深さが０．５μｍ以上３μｍ以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記電子写真感光体の表面の任意の５０箇所に配置される前記一辺５００μｍの正方形領域において前記凹部の面積をそれぞれ測定したとき、５０箇所の凹部の面積の測定値の標準偏差が５％以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記線状溝の深さが、平均で０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下である請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 請求項１〜８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と該電子写真感光体に接触配置されたクリーニングブレードを有するクリーニング手段とを一体に支持し、電子写真装置の本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項１〜８のいずれか１項に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、および該電子写真感光体に接触配置されたクリーニングブレードを有するクリーニング手段を有することを特徴とする電子写真装置。
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