CN109313296A - 光学滤波器及光学传感装置 - Google Patents
光学滤波器及光学传感装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109313296A CN109313296A CN201780036284.1A CN201780036284A CN109313296A CN 109313296 A CN109313296 A CN 109313296A CN 201780036284 A CN201780036284 A CN 201780036284A CN 109313296 A CN109313296 A CN 109313296A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical filter
- wavelength
- resin
- compound
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 273
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 302
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 302
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 275
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 267
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 66
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 47
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 37
- -1 compound compound Chemical class 0.000 claims description 35
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 17
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 11
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 7
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 claims description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 3
- XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N osmium dioxide Inorganic materials O=[Os]=O XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 161
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 127
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 59
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 238000013461 design Methods 0.000 description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 7
- QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 6
- ZLCUIOWQYBYEBG-UHFFFAOYSA-N 1-Amino-2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 ZLCUIOWQYBYEBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical compound C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- XFYQEBBUVNLYBR-UHFFFAOYSA-N 12-phthaloperinone Chemical compound C1=CC(N2C(=O)C=3C(=CC=CC=3)C2=N2)=C3C2=CC=CC3=C1 XFYQEBBUVNLYBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 2
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 2
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- AOMUALOCHQKUCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 4-chloro-3-[[3-(4-methoxyphenyl)-3-oxopropanoyl]amino]benzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(Cl)C(NC(=O)CC(=O)C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 AOMUALOCHQKUCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000036541 health Effects 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- GTCAXTIRRLKXRU-UHFFFAOYSA-N methyl carbamate Chemical compound COC(N)=O GTCAXTIRRLKXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- MSKNHYKUZCSREG-UHFFFAOYSA-N (2,6-ditert-butylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1OP(O)O MSKNHYKUZCSREG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWZOKATWICIEMU-UHFFFAOYSA-N (3,5-difluoro-4-formylphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(F)=C(C=O)C(F)=C1 XWZOKATWICIEMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPAPQRFSPBUJAU-CPNJWEJPSA-N (4e)-5-methyl-4-[(3-methyl-5-oxo-1-phenyl-4h-pyrazol-4-yl)methylidene]-2-phenylpyrazol-3-one Chemical compound CC1=NN(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C1\C=C(C1=O)/C(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QPAPQRFSPBUJAU-CPNJWEJPSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBABXJRXGSAJLQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(2,6-diethyl-4-methylanilino)anthracene-9,10-dione Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(CC)=C1NC(C=1C(=O)C2=CC=CC=C2C(=O)C=11)=CC=C1NC1=C(CC)C=C(C)C=C1CC IBABXJRXGSAJLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTEFLEFPDDQMCB-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-butylanilino)-5,8-dihydroxyanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1NC(C=1C(=O)C2=C(O)C=CC(O)=C2C(=O)C=11)=CC=C1NC1=CC=C(CCCC)C=C1 KTEFLEFPDDQMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCQDPIXQTSYZJL-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(butylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NCCCC)=CC=C2NCCCC OCQDPIXQTSYZJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSTVEDABRQTSU-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(methylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NC)=CC=C2NC QOSTVEDABRQTSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLFZMXOCPASACY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(propan-2-ylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NC(C)C)=CC=C2NC(C)C BLFZMXOCPASACY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKBFYMOTEJMJTP-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(3-methylanilino)anthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=CC=CC(NC=2C=3C(=O)C4=CC=CC(NC=5C=C(C)C=CC=5)=C4C(=O)C=3C=CC=2)=C1 CKBFYMOTEJMJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBIJFIUDKPXMAV-UHFFFAOYSA-N 1,8-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC([N+]([O-])=O)=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] MBIJFIUDKPXMAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWQIGAJDKXZJTG-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohexylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1NC1CCCCC1 BWQIGAJDKXZJTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBAJQXFGDKEDBM-UHFFFAOYSA-N 1-(methylamino)-4-(3-methylanilino)anthracene-9,10-dione Chemical compound C1=2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C=2C(NC)=CC=C1NC1=CC=CC(C)=C1 GBAJQXFGDKEDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKPHNZYMLJPYJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-difluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(C#N)=C1F GKPHNZYMLJPYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBZVRROHBDDCQY-UHFFFAOYSA-N 20749-68-2 Chemical compound C1=CC(N2C(=O)C3=C(C(=C(Cl)C(Cl)=C3C2=N2)Cl)Cl)=C3C2=CC=CC3=C1 UBZVRROHBDDCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZGUXCXDBKBCDN-UHFFFAOYSA-N 21295-57-8 Chemical compound C12=C3C(=O)C4=CC=CC=C4C1=CC(=O)N(C)C2=CC=C3NC1CCCCC1 JZGUXCXDBKBCDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWMJPPMTXZJLIK-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[(2,6-dibromo-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-ethylanilino]propanenitrile Chemical compound C1=CC(N(CCC#N)CC)=CC=C1N=NC1=C(Br)C=C([N+]([O-])=O)C=C1Br MWMJPPMTXZJLIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHZRTXVUEZJYNE-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[(2,6-dichloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-ethylanilino]propanenitrile Chemical compound C1=CC(N(CCC#N)CC)=CC=C1N=NC1=C(Cl)C=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl KHZRTXVUEZJYNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTQURCYYMGCGDB-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-2-quinolin-2-ylindene-1,3-dione Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(=O)C4=C(C(=C(Cl)C(Cl)=C4C3=O)Cl)Cl)=CC=C21 FTQURCYYMGCGDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYFMJAMMVDSYFT-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-methylphenyl)diazenyl]naphthalen-1-ol Chemical compound CC1=C(C=CC=C1)N=NC1=CC=C(C2=CC=CC=C12)O PYFMJAMMVDSYFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNNIPFBETXOKIA-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-9h-fluoren-2-yl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(C=2C(=CC=CC=2)C2)C2=C1C1=CC=C(O)C=C1 LNNIPFBETXOKIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCKGFJPFEHHHQA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-4-phenyldiazenyl-4h-pyrazol-3-one Chemical compound CC1=NN(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C1N=NC1=CC=CC=C1 XCKGFJPFEHHHQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJUKWPOWHJITTP-UHFFFAOYSA-N 81-39-0 Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC1=CC=C2C3=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C3=CC(=O)N2C VJUKWPOWHJITTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFNWNDWQIVXEPD-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(N)(O)=O.N Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(N)(O)=O.N CFNWNDWQIVXEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000790917 Dioxys <bee> Species 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELFRKKJPSXVPP-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexylcyclohexanamine 7-hydroxy-8-[(4-phenyldiazenylphenyl)diazenyl]naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound C1CCC(CC1)NC1CCCCC1.Oc1c(cc2cc(cc(c2c1N=Nc1ccc(cc1)N=Nc1ccccc1)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O RELFRKKJPSXVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYGBKXROOQLMY-UHFFFAOYSA-N N=NC=NN.N=NC=NN.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound N=NC=NN.N=NC=NN.C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZMYGBKXROOQLMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPGIHFRTRXVWOY-UHFFFAOYSA-N Oil red O Chemical compound Cc1ccc(C)c(c1)N=Nc1cc(C)c(cc1C)N=Nc1c(O)ccc2ccccc12 NPGIHFRTRXVWOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 1
- 229910003978 SiClx Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N Sudan III Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC(C=C1)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N Sudan black B Chemical compound C1=CC(=C23)NC(C)(C)NC2=CC=CC3=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- PJGAMXJGQBJMDL-UHFFFAOYSA-N [B].N1=CC=NC=C1 Chemical compound [B].N1=CC=NC=C1 PJGAMXJGQBJMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVNRUPSDZZZUQJ-UHFFFAOYSA-N [O].NC1=CC=CC=C1 Chemical compound [O].NC1=CC=CC=C1 YVNRUPSDZZZUQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003042 antagnostic effect Effects 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- LFZDEAVRTJKYAF-UHFFFAOYSA-L barium(2+) 2-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)diazenyl]naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Ba+2].C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=CC=C21.C1=CC=CC2=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=CC=C21 LFZDEAVRTJKYAF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- CKAAOCRYHRAMEC-UHFFFAOYSA-N butanoic acid;propane-1,2-diol Chemical class CC(O)CO.CCCC(O)=O CKAAOCRYHRAMEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JBTHDAVBDKKSRW-UHFFFAOYSA-N chembl1552233 Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 JBTHDAVBDKKSRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALLOLPOYFRLCCX-UHFFFAOYSA-N chembl1986529 Chemical compound COC1=CC=CC=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 ALLOLPOYFRLCCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCJXQCUJXDUNDN-UHFFFAOYSA-N chlordene Chemical class C12C=CCC2C2(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1(Cl)C2(Cl)Cl XCJXQCUJXDUNDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N disperse red 9 Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000011430 maximum method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- RSVHGEGGKUXRBR-UHFFFAOYSA-N methylideneboron Chemical compound C=[B] RSVHGEGGKUXRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N porphin Chemical compound N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVRGPOFMYCMNRB-UHFFFAOYSA-N quinizarine green ss Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC(C=1C(=O)C2=CC=CC=C2C(=O)C=11)=CC=C1NC1=CC=C(C)C=C1 TVRGPOFMYCMNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- RCTGMCJBQGBLKT-PAMTUDGESA-N scarlet red Chemical compound CC1=CC=CC=C1\N=N\C(C=C1C)=CC=C1\N=N\C1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 RCTGMCJBQGBLKT-PAMTUDGESA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229940033816 solvent red 27 Drugs 0.000 description 1
- LJFWQNJLLOFIJK-UHFFFAOYSA-N solvent violet 13 Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC1=CC=C(O)C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LJFWQNJLLOFIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004646 sulfenyl group Chemical group S(*)* 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000472 traumatic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- MEYZYGMYMLNUHJ-UHFFFAOYSA-N tunicamycin Natural products CC(C)CCCCCCCCCC=CC(=O)NC1C(O)C(O)C(CC(O)C2OC(C(O)C2O)N3C=CC(=O)NC3=O)OC1OC4OC(CO)C(O)C(O)C4NC(=O)C MEYZYGMYMLNUHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012801 ultraviolet ray absorbent Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0488—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
Abstract
本发明的目的在于提供一种伴随设置有光学传感装置的设备的低背化，即便在入射角度变大时也可使优异的可见光截止特性与特定波长的近红外线透过特性并存的光学滤波器。本发明的光学滤波器的特征在于包括：基材(i)，包含含有在波长700nm～930nm的区域中具有最大吸收的化合物(Z)的树脂层；及介电质多层膜，形成于所述基材(i)的至少一个面上，且具有特定的光学特性。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学滤波器及光学传感装置。更详细而言，本发明涉及一种将可见光线截止并使一部分波长的近红外线透过的光学滤波器及使用所述光学滤波器的光学传感装置。
背景技术
近年来，作为针对智能手机(smartphone)、平板(tablet)终端、可穿戴(wearable)设备等移动信息终端装置的用途，进行有使用近红外线的各种光学传感装置的开发。在信息终端装置中，对光学传感装置在多种用途中的应用进行了研究，作为一例，可列举：距离测定等空间识别用途、动作(motion)识别用途、虹膜(iris)认证或白眼珠的静脉认证、人脸认证等安全用途、脉搏测定或血中氧浓度测定等医疗保健(health care)用途。
在使用近红外线的光学传感装置中，为了精度佳地发挥传感功能，重要的是将成为不需要的波长的光、尤其是可见光线截止。另外，根据用于传感中的近红外线的波长，通过将波长短于其的近红外线截止(例如，当将850nm附近的近红外线用于传感中时，除可见光线以外，也将780nm附近为止的近红外线截止)，可减低使用时的噪声，且可提高光学传感装置的特性。
另一方面，移动信息终端装置的低背化进展而光自入射窗至光学传感器的距离变短，因此来自倾斜方向的入射光的比例较之前增加。为了提高传感器精度，而要求即便对于来自倾斜方向的入射光，到达光学传感器的光的分光特性(尤其是可见光线或不需要的波长的近红外线的截止特性)也不会发生变化。
作为将可见光线截止并使特定波长的近红外线透过的机构，公开有在玻璃基板上使高折射率材料与低折射率材料交替地层叠而成的带通滤波器(band pass filter)(例如参照专利文献1)。然而，形成有此种多层薄膜的光学滤波器的光学特性会因入射光的入射角度而大幅变化。因此，当用于移动信息终端装置用途时，存在光学传感器的检测精度降低的问题。
另一方面，作为无论入射角度如何均可截止可见光线的光学滤波器，已知有具有金属系的着色成分的玻璃制滤波器(例如参照专利文献2)及包含着色颜料的滤波器(例如参照专利文献3)。这些任一者均可通过吸收而截止可见光线，且由入射角引起的光学特性变化小，但为了达成充分的光线截止特性，而需要1.0mm左右的厚度，且存在无法优选地用于近年来急速推进小型化·轻量化的移动信息终端用途的情况。另外，若对这些滤波器进行薄型化，则存在由吸收引起的光线截止性能会大幅降低、传感时的噪声会增加等问题。进而，这些滤波器中，当用于传感中的近红外线的波长为800nm以上(就不可见性的观点而言，目前此种波长为主流)时，存在波长短于其的近红外线的截止特性不充分的情况，而且尤其是包含着色颜料的光学滤波器中，有吸收光谱的倾斜度变缓、光线截止与光线透过的对比度变低(传感时的噪声变多)的倾向。
再者，作为可使薄型化与入射角依存减低并存的红外光透过滤波器，提出有在包含可见光吸收剂的基材上具备含有近红外线吸收剂的膜的红外光透过滤波器(例如参照专利文献4)，但存在入射角依存减低效果不充分的情况，且有无法达成近年来所要求的精密的传感。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2015-184627号公报
专利文献2：日本专利特开平07-126036号公报
专利文献3：日本专利特开昭60-139757号公报
专利文献4：日本专利5741283号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的课题之一在于提供一种伴随设置有光学传感装置的设备的低背化，即便在入射角度变大时也可使优异的可见光截止特性与特定波长的近红外线透过特性并存的光学滤波器。
解决问题的技术手段
[1]一种光学滤波器，其特征在于包括：基材(i)，包含含有在波长700nm～930nm的区域中具有最大吸收的化合物(Z)的树脂层；及介电质多层膜，形成于所述基材(i)的至少一个面上，且满足下述(a)～(c)的必要条件：
(a)在波长380nm～700nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为10％以下；
(b)在波长750nm以上的区域中具有光线透过频带(Za)，并在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率(Td)为45％以上；
(c)在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xa)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xb)的差的绝对值|Xa-Xb|为15nm以下，且所述波长(Xa)处于730nm～980nm的范围内。
[2]根据项[1]所述的光学滤波器，其特征在于，进而满足下述(d)的必要条件：
(d)在波长701nm～750nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为15％以下。
[3]根据项[1]或项[2]所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为最大的波长(Xc)处于780nm～1000nm的范围内。
[4]根据项[1]至项[3]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，进而满足下述(e)的必要条件：
(e)在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率为75％以上，且在所述光线透过频带(Za)中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为70％的最短的短波长侧的波长(Xd)、与在波长720nm以上的区域中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为30％的最短的短波长侧的波长(Xe)的差的绝对值|Xd-Xe|为30nm以下。
[5]根据项[3]所述的光学滤波器，其特征在于，在所述波长(Xc)中，自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率(Tc)为45％以上。
[6]根据项[1]至项[5]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述光学滤波器的厚度为180μm以下。
[7]根据项[1]至项[6]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述化合物(Z)为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓(croconium)系化合物、六元卟啉(hexaphyrin)系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。
[8]根据项[1]至项[7]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，用以形成所述树脂层的树脂为选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
[9]根据项[7]所述的光学滤波器，其特征在于，所述方酸内鎓盐系化合物为下述式(Z)所表示的化合物。
[化1]
式(Z)中，取代单元A及取代单元B分别独立地表示下述式(I)～式(III)所表示的取代单元的任一者。
[化2]
式(I)～式(III)中，波形线所表示的部分表示与中央四元环的键结部位，
X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碲原子或-NR8-，
R1～R8分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，Ri表示下述La～Le的任一者，
(La)碳数1～12的脂肪族烃基
(Lb)碳数1～12的卤素取代烷基
(Lc)碳数3～14的脂环式烃基
(Ld)碳数6～14的芳香族烃基
(Le)碳数3～14的杂环基
(Lf)碳数1～12的烷氧基
(Lg)可具有取代基L的碳数1～12的酰基、
(Lh)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基
取代基L为选自由碳数1～12的脂肪族烃基、碳数1～12的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的群组中的至少一种。
[10]根据项[1]至项[9]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)包含含有所述化合物(Z)的树脂制基板(ii)。
[11]根据项[1]至项[10]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)进而含有在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S)。
[12]根据项[10]所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)进而含有在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S)。
[13]根据项[10]或项[12]所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)的玻璃化温度为130℃～300℃。
[14]根据项[10]、项[12]或项[13]所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)的玻璃化温度与所述树脂制基板(ii)中所含的树脂的玻璃化温度的差为0℃～10℃。
[15]根据项[1]至项[14]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)含有在波长350nm～500nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-a)、在波长501nm～600nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-b)及在波长601nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-c)。
[16]根据项[15]所述的光学滤波器，其特征在于，所述化合物(S-a)与所述化合物(S-b)的最大吸收波长的差为50nm～140nm，且所述化合物(S-b)与所述化合物(S-c)的最大吸收波长的差为30nm～100nm。
[17]根据项[1]至项[16]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧的区域中具有光线阻止频带(Zb)，并在所述光线透过频带(Zb)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最小透过率(Te)为10％以下。
[18]根据项[17]所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xg)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xh)的差的绝对值|Xg-Xh|为30nm以下。
[19]根据项[17]或项[18]所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)进而含有在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧具有最大吸收的化合物(Y)。
[20]根据项[19]所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，当将自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为最大的波长设为波长(Xc)时，
所述化合物(Y)的最大吸收波长为波长(Xc)+10nm～波长(Xc)+100nm。
[21]根据项[1]至项[20]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，用于光学传感装置。
[22]一种光学传感装置，其特征在于，包括根据项[1]至项[21]中任一项所述的光学滤波器。
发明的效果
本发明的光学滤波器具有优异的可见光截止特性与近红外线透过特性，且在光线自倾斜方向入射时，光学特性变化也少，因此可优选地用于光学传感器用途。
附图说明
图1是对本发明的光学滤波器的方案例进行说明的图。
图2是对构成本发明的光学滤波器的基材的方案例进行说明的图。
图3是关于透过光谱，对测定(A)自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率、及(B)自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率的方案进行说明的图。
图4是表示实施例1中所制作的基材的分光透过率的图表。
图5是表示实施例1中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图6是表示实施例2中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图7是表示实施例3中所制作的基材的分光透过率的图表。
图8是表示实施例3中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图9是表示实施例4中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图10是表示实施例5中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图11是表示实施例7中所制作的基材的分光透过率的图表。
图12是表示实施例7中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图13是表示实施例16中所制作的基材的分光透过率的图表。
图14是表示实施例16中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图15是表示实施例18中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图16是表示实施例19中所制作的基材的分光透过率的图表。
图17是表示实施例19中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图18是表示实施例20中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
图19是表示实施例21中所制作的光学滤波器的分光透过率的图表。
具体实施方式
以下，一面参照附图等一面对本发明的光学滤波器的实施方式进行说明。其中，本发明可以多个不同的方案实施，并不由以下例示的实施方式的记载内容限定性地解释。为了更明确地进行说明，与实际的方案相比，存在附图对各部的宽度、厚度、形状等进行示意性表示的情况，仅为一例，并不限定本发明的解释。另外，在本说明书与各图中，关于已示出的图，对于与所述相同的构件标注相同的符号或标注类似的符号(在数字后仅标注a、b等的符号)，并适宜省略详细的说明。
在本说明书中，所谓“上”，是指以支撑基板的主面(配置固体摄像元件的面)为基准的相对的位置，离开支撑基板的主面的方向为“上”。在本附图中，面向纸面时上方为“上”。另外，“上”包括相接于物体上的情况(即，“在...上面”的情况)以及位于物体的上方的情况(即，“在...上方”的情况)。相反地，所谓“下”，是指以支撑基板的主面为基准的相对的位置，靠近支撑基板的主面的方向为“下”。在本附图中，面向纸面时下方为“下”。
[光学滤波器]
本发明的光学滤波器包括：基材(i)，包含含有在波长700nm～930nm的区域中具有最大吸收的化合物(Z)的透明树脂层；及介电质多层膜，形成于所述基材(i)的至少一个面上，且满足下述(a)～(c)的必要条件。
必要条件(a)；在波长380nm～700nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为10％以下。
所述透过率的平均值优选为8％以下，更优选为5％以下，进而更优选为2％以下，特别优选为1％以下。若所述透过率的平均值处于所述范围内，则可在近红外传感中效率佳地将不需要的可见光线截止，且可达成噪声少的优异传感性能。
必要条件(b)；在波长750nm以上的区域中具有光线透过频带(Za)，并在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率(Td)为45％以上。
光线透过频带(Za)为在波长750nm以上且1050nm以下中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率为40％以上的波长频带，且是指满足下述条件(1)及条件(2)的波长频带。
(1)存在于自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率随着自短波长侧到长波长侧而自未满40％成为40％以上的最短的波长(Za1)以上的长波长侧。
(2)宽度为5nm以上。
光线透过频带(Za)的宽度优选为10nm以上，进而更优选为25nm以上，特别优选为50nm以上。在相同的光学滤波器中，可存在多个光线透过频带(Za)，其中之一优选为自所述波长(Zal)直接连续的波长频带。光线透过频带(Za)中的平均透过率优选为45％以上，更优选为50％以上，进而更优选为60％以上，特别优选为70％以上。
光线透过频带(Za)只要满足所述条件(1)及条件(2)，则即便在超过1050nm的波长频带中，透过率也可成为40％以上。另外，在光线透过频带(Za)以上的波长区域中，也可存在自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率随着自短波长侧到长波长侧而自40％以上成为未满40％的最短的波长(Za2)。若为后者，则可有效地将波长长于光线透过频带(Za)的长波长侧的不需要的近红外线截止，因此作为光学滤波器的特性而更优选。
所述最大透过率(Td)优选为55％以上，更优选为65％以上，进而更优选为75％以上，特别优选为80％以上。若所述最大透过率(Td)处于所述范围内，则可在传感中效率佳地将所需的近红外线取入，且可达成良好的传感性能。
在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为最大的波长(Xc)优选为780nm～1000nm，进而优选为800nm～980nm，特别优选为820nm～960nm。另外，所述波长(Xc)下的自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率(Tc)优选为45％以上，更优选为55％以上，进而优选为60％以上，特别优选为65％以上。若考虑不可见性与近红外光源的获取容易性，则用于传感中的近红外线的中心波长优选为处于780nm～1000nm的范围内。而且，若所述波长(Xc)及所述透过率(Tc)处于所述范围内，则光学滤波器可使用于传感中的近红外线进一步效率佳地透过，且可提高传感感度，故优选。
必要条件(c)；在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xa)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xb)的差的绝对值|Xa-Xb|为15nm以下，且所述波长(Xa)处于730nm～980nm的范围内。再者，当存在多个所述光线透过频带(Za)时，在至少一个光线透过频带(Za)中，只要满足所述必要条件(c)即可。
所述波长(Xa)优选为740nm～940nm，进而优选为750nm～930nm，特别优选为760nm～920nm。若所述波长(Xa)处于所述范围内，则可确保用于传感中的近红外光的不可见性，并且可应用相对廉价的近红外光源(近红外线发光二极管(Light Emitting Diode，LED)等)，故优选。
所述绝对值|Xa-Xb|优选为12nm以下，更优选为10nm以下，进而优选为8nm以下，特别优选为5nm以下。若所述绝对值|Xa-Xb|处于所述范围内，则在光线自倾斜入射时，光学滤波器的光学特性变化也小，也可达成噪声少的优异传感性能。此种光学滤波器尤其可优选地用于信息终端装置那样的要求低背化的光学传感器用途。
自之前以来，存在有满足必要条件(a)～必要条件(c)的任一个或两个的光学滤波器，但不存在满足所有的必要条件者，而无法优选地用于面向近年来性能显著提高的信息终端装置的光学传感器用途。另一方面，关于本发明的光学滤波器，通过将利用介电质多层膜的反射的光线截止、与利用基材(i)的透明树脂层中所含的所述化合物(Z)的光线截止加以组合，可满足所有的必要条件(a)～必要条件(c)，尤其可优选地用于面向信息终端装置的光学传感器用途。
本发明的光学滤波器优选为进而满足下述(d)的必要条件。
必要条件(d)；在波长701nm～750nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为15％以下。
必要条件(d)中的透过率的平均值优选为12％以下，更优选为10％以下，进而优选为5％以下，特别优选为1％以下。就不可见性的观点而言，目前成为主流的是用于传感中的近红外线的波长为800nm以上。在所述情况下，不需要波长701nm～750nm的光，因此通过将所述波长区域中的光学滤波器的平均透过率设为所述范围，可抑制传感时的误动作。
本发明的光学滤波器优选为进而满足下述(e)的必要条件。
必要条件(e)；在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率为75％以上，且在所述光线透过频带(Za)中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为70％的最短的短波长侧的波长(Xd)、与在波长720nm以上的区域中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为30％的最短的短波长侧的波长(Xe)的差的绝对值|Xd-Xe|为30nm以下。再者，当存在多个所述光线透过频带(Za)时，在至少一个光线透过频带(Za)中，只要满足所述必要条件(e)即可。
所述绝对值|Xd-Xe|优选为28nm以下，进而优选为25nm以下，特别优选为22nm以下。若所述绝对值|Xd-Xe|处于所述范围内，则截止光线的波长区域与近红外线透过频带之间的波形成为陡峭的倾斜度，可提高光线截止与光线透过的对比度，且可提高传感性能，故优选。
本发明的光学滤波器优选为在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧的区域中具有光线阻止频带(Zb)。
光线阻止频带(Zb)为在波长800nm以上且1400nm以下中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率为15％以下的波长频带，且是指满足下述条件(3)及条件(4)的波长频带。
(3)存在于自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率随着自短波长侧到长波长侧而自超过20％成为20％以下的最短的波长(Zb1)以上的长波长侧。
(4)宽度为5nm以上。
光线透过频带(Zb)的宽度优选为10nm以上，进而优选为25nm以上，特别优选为50nm以上。在相同的光学滤波器中，可存在多个光线透过频带(Zb)，其中之一优选为自所述波长(Zb1)直接连续的波长频带。
光线阻止频带(Zb)中的自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最小透过率(Te)优选为10％以下，更优选为8％以下，进而优选为5％以下，特别优选为2％以下。另外，光线阻止频带(Zb)中的自光学滤波器的垂直方向进行测定时的平均透过率优选为8％以下，更优选为5％以下，进而优选为2％以下，特别优选为1％以下。若光线阻止频带(Zb)中的最大透过率(Te)或平均透过率处于所述范围内，则可有效地将不需要的近红外线截止，且可进行更精密的传感，故优选。
当本发明的光学滤波器具有光线阻止频带(Zb)时，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xg)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xh)的差的绝对值|Xg-Xh|优选为30nm以下，进而优选为28nm以下，特别优选为25nm以下。若所述绝对值|Xg-Xh|为此种范围，则可在光线透过频带(Za)的短波长侧与长波长侧两者减低由入射角度引起的光学特性变化，且可进行更精密的传感，故优选。
作为用以减低所述绝对值|Xg-Xh|的具体方法，例如可列举：
将在光线阻止频带(Zb)中具有反射特性的介电质多层膜的平均折射率设为2.0以上的方法；
将在光线阻止频带(Zb)中具有反射特性的介电质多层膜的设计设为nH·dH/nL·dL≥1.5(其中，nH表示介电质多层膜中所含的高折射率材料在550nm下的折射率，dH表示介电质多层膜中的高折射率材料层的合计膜厚，nL表示介电质多层膜中所含的低折射率材料在550nm下的折射率，dL表示介电质多层膜中的低折射率材料层的合计膜厚，nH·dH/nL·dL更优选为2.0以上，进而优选为2.5以上，特别优选为3.0以上)的方法；
进而添加在波长长于光线透过频带(Za)的长波长侧具有最大吸收的化合物(Y)的方法等。
图1(A)～(C)中示出本发明的光学滤波器的实施方式的例子。
图1(A)所示的光学滤波器100a在基材102的至少一个面上具有介电质多层膜104。介电质多层膜104可对应于基材(i)的光学特性而自具有对可见区域及一部分近红外线进行反射的特性的波长选择反射膜、对可见区域～光线透过频带(Za)的光线反射进行抑制的抗反射膜、对波长长于光线透过频带(Za)的长波长侧的近红外线进行反射的近红外线反射膜中适宜选择。例如，当基材(i)具有充分的可见光截止性能时，存在即便不使用使可见区域反射的介电质多层膜(成为如镜子那样的外观)，在使用方面也无问题的情况，且存在对可见区域的光线反射进行抑制的介电质多层膜在设计性的方面优选的情况(可保持黑色的外观)。另外，图1(B)表示在基材102的两面上具有介电质多层膜104的光学滤波器100b。如此，介电质多层膜可设置于基材的一面上，也可设置于两面上。当设置于一面上时，制造成本或制造容易性优异，当设置于两面上时，可获得具有高强度且难以产生翘曲或扭曲的光学滤波器。当将光学滤波器应用于光学传感装置用途时，优选为光学滤波器的翘曲或扭曲小，因此优选为将介电质多层膜设置于基材的两面上。
介电质多层膜104优选为对如下的光具有反射特性，所述光为自相对于垂直方向为5°的角度入射的光中的用于近红外传感中的波长区域以外的光。例如，当在近红外传感中利用850nm附近的光时，优选为在400nm～750nm附近与950nm～1150nm附近具有反射特性，特别优选为在380nm～780nm附近与920nm～1200nm附近具有反射特性。其中，根据光学传感装置的构成，存在利用其他光学滤波器(例如，短波通滤波器(Shortwave PassFilter)等)将波长长于用于近红外传感中的波长区域的长波长侧的光截止的情况，当将本发明的光学滤波器应用于此种构成的传感器时，介电质多层膜104未必需要具有对波长长于用于近红外传感中的波长区域的长波长侧的光的反射特性。
作为在基材102的两面上具有介电质多层膜的形态，例如可列举图1(B)所示的(B-1)～(B-3)的形态。
(B-1)为如下的形态：在基材102的一面上设置自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在波长短于用于近红外传感中的波长区域的短波长侧(以下，也称为波长区域1)具有反射特性的第1介电质多层膜104a，在基材102的另一面上具有自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在波长长于用于近红外传感中的波长区域的长波长侧(以下，也称为波长区域2)具有反射特性的第2介电质多层膜104b。
(B-2)为将所述第1介电质多层膜104a设置于基材102的两面上的形态。
(B-3)为如下的形态：在基材102的一面上设置自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在所述波长区域1中的550nm以下的波长区域中具有反射特性的第3介电质多层膜104c，在基材102的另一面上具有自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在所述波长区域1中的550nm以上的波长区域中具有反射特性的第4介电质多层膜104d。
另外，图1(C)所示的光学滤波器100c为如下的形态：在基材102的一面上设置自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在可见区域及一部分近红外线、具体而言用于近红外传感中的波长区域以外的波长区域中具有反射特性的介电质多层膜104，在基材102的另一面上具有具备用于近红外传感中的波长区域的抗反射特性的抗反射膜106。当基材在波长短于用于近红外传感中的波长区域的短波长侧整个区域(例如，380nm～750nm的波长区域)中具有充分的吸收时，也可采取如下的形态：在基材102的一面上设置自相对于光学滤波器(或基材)的垂直方向为5°的角度进行测定时主要在波长区域2中具有反射特性的第2介电质多层膜104b，在基材102的另一面上具有具备用于近红外传感中的波长区域的抗反射特性的抗反射膜106。通过对基材组合介电质多层膜与抗反射膜，可提高用于近红外传感中的波长区域的透过率，并且反射传感中不需要的光。
另外，图1(D)所示的光学滤波器100d为如下的形态：在光学滤波器(或基材)的两面上具有具备可见光区域及用于近红外传感中的波长区域的抗反射特性的抗反射膜106a。当基材(i)在可见光区域中具有充分的吸收特性时，介电质多层膜未必需要在可见区域中具有反射特性，可优选地使用在可见光区域及用于近红外传感中的波长区域的任一者中均具有抗反射特性的介电质多层膜。
光学滤波器的厚度只要对应于所期望的用途而适宜选择即可，若考虑近年来的信息终端的薄型化、轻量化等趋势，则优选为薄。尤其，光学传感装置用途中，非常重要的是使良好的光学特性(传感光透过特性、不要光截止特性)与薄型化并存，通过应用本发明的光学滤波器，可以现有品中无法达成的电平使这些特性并存。
本发明的光学滤波器的厚度优选为180μm以下，更优选为160μm以下，进而优选为150μm以下，特别优选为120μm以下。下限并无特别限制，若考虑光学滤波器的强度或操作的容易性，则理想的是例如为20μm。
[基材]
图2(A)～(C)表示所述基材(i)的构成例。基材(i)102只要包含含有一种以上的在波长700nm～930nm中具有最大吸收的化合物(Z)的透明树脂层即可，可为单层，也可为多层。
以下，也将含有至少一种化合物(Z)与透明树脂的树脂层称为“透明树脂层”，将其以外的树脂层简称为“树脂层”。
图2(A)表示包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)108的单层结构的基材(i)102a。所述透明树脂制基板(ii)相当于所述透明树脂层。图2(B)表示多层结构的基材(i)102b，作为所述方案，例如可列举在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体等支撑体110上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂或热塑性树脂的外涂层等树脂层112而成的构成等。再者，相当于树脂层112的层也可设置于支撑体110的两面上。图2(C)表示在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)108上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等树脂层112而成的基材(i)102c。
当具有玻璃支撑体时，就基材(i)的强度与近红外波长区域中的透过率的观点而言，玻璃支撑体优选为不含吸收剂的无色透明的玻璃基板。包含铜作为吸收剂的氟磷酸盐玻璃等中，有基材强度降低的倾向，并且存在近红外波长区域的透过率降低而无法感度佳地实施近红外传感的情况。
当具有树脂制支撑体时，就光学特性调整的容易性、进而可达成树脂制支撑体的消除损伤的效果或提高基材的耐损伤性等方面而言，特别优选为在树脂制支撑体的两面上层叠包含硬化性树脂或热塑性树脂的外涂层等树脂层且所述树脂层的至少一者包含化合物(Z)的形态。
作为所述基材(i)，特别优选为包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)。若使用此种基材(i)，则可使薄型化与难以破裂性并存，且可优选地用于光学传感装置用途。
所述基材(i)理想的是满足下述条件(i-1)～条件(i-3)的至少一个。
(i-1)在波长700nm～930nm的区域中，自所述基材(i)的垂直方向所测定的最低的透过率(Ta)优选为30％以下，更优选为20％以下，进而优选为10％以下，特别优选为5％以下。
(i-2)在波长700nm以上的区域中，自所述基材(i)的垂直方向所测定的透过率自未满50％成为50％以上的最短的波长(Xf)优选为750nm～970nm，更优选为770nm～950nm，进而优选为780nm～940nm，特别优选为790nm～930nm。
(i-3)在波长780nm～1000nm的区域中，自所述基材(i)的垂直方向所测定的最高的透过率(Tb)优选为60％以上，进而优选为70％以上，特别优选为80％以上。
若所述基材(i)的所述透过率(Ta)、所述波长(Xf)及所述透过率(Tb)处于所述范围内，则可在用于近红外传感中的波长区域中确保充分的透过率，而且可选择性效率佳地将附近的波长区域的不需要的近红外线截止，可提高传感用近红外线S/N比，并且当在基材(i)上制成介电质多层膜时，可减低光线透过频带(Za)中的短波长侧的光学特性的入射角依存性。
所述基材(i)的厚度理想的是以可使基材强度与薄型化并存的方式选择，优选为10μm～180μm，更优选为10μm～160μm，进而优选为15μm～150μm，特别优选为20μm～120μm。若所述基材(i)的厚度处于所述范围内，则可将使用所述基材(i)的光学滤波器加以薄型化及轻量化，尤其可优选地用于搭载于移动设备上的光学传感装置等多种用途。
<化合物(Z)>
化合物(Z)只要在波长700nm～930nm的区域中具有最大吸收，则并无特别限制，优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、吡略并吡略系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物、金属二硫醇盐系化合物及环扩张硼二吡咯亚甲基(Boron-Dipyrromethene，BODIPY)系化合物所组成的群组中的至少一种，进而优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、花青系化合物、克酮鎓系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物及吡咯并吡咯系化合物所组成的群组中的至少一种，特别优选为下述式(Z)所表示的方酸内鎓盐系化合物。通过使用此种化合物(Z)，可同时达成最大吸波长收附近的有效的光线截止特性、陡峭的光谱形状。
[化3]
式(Z)中，取代单元A及取代单元B分别独立地表示下述式(I)～式(III)所表示的取代单元的任一者。
[化4]
式(I)～式(III)中，波形线所表示的部分表示与中央四元环的键结部位，
X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碲原子或-NR8-，
R1～R8分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，R1表示下述La～Le的任一者，
(La)碳数1～12的脂肪族烃基
(Lb)碳数1～12的卤素取代烷基
(Lc)碳数3～14的脂环式烃基
(Ld)碳数6～14的芳香族烃基
(Le)碳数3～14的杂环基
(Lf)碳数1～12的烷氧基
(Lg)可具有取代基L的碳数1～12的酰基、
(Lh)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基
取代基L为选自由碳数1～12的脂肪族烃基、碳数1～12的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的群组中的至少一种。
作为所述R1，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、硝基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基。
作为所述R2～R7，优选为分别独立地为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基、正丁基磺酰基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、正丁硫基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、羟基、二甲基氨基、甲氧基、乙氧基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基、甲硫基、乙硫基。
作为所述R8，优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正辛基、正壬基、正癸基、苯基，更优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、正癸基。
作为所述X，优选为氧原子、硫原子、-NR8-，特别优选为在式(I)及式(III)的取代单元中为氧原子、硫原子，在式(II)的取代单元中为-NR8-。
方酸内鎓盐系化合物除如下述式(Z1)那样的记载方法以外，也可利用如下述式(Z2)那样采用共振结构那样的记载方法来表示结构。即，下述式(Z1)与下述式(Z2)的不同之处仅在于结构的记载方法，所述等均表示相同的化合物。本发明中只要事先无特别说明，则设为利用如下述式(Z1)那样的记载方法来表示方酸内鎓盐系化合物的结构。
[化5]
进而，例如可将下述式(Z1)所表示的化合物与下述式(Z3)所表示的化合物视作相同的化合物。
[化6]
在式(Z)所表示的化合物中，键结于中央的四元环上的左右的单元只要分别为式(I)、式(II)或式(III)所表示者，则可相同，也可不同，但也包含单元中的取代基而相同者在合成方面容易，故优选。即，式(Z)所表示的化合物中，优选为下述式(IV)～式(VI)所表示者。
[化7]
作为式(Z)所表示的化合物的具体例，例如可列举：下述表1及表2中记载的化合物(z-1)～化合物(z-68)、以及下述化学式所表示的化合物(z-69)及化合物(z-70)。
[表1]
表1
[表2]
表2
[化8]
作为所述式(Z)所表示的方酸内鎓盐系化合物以外的方酸内鎓盐系化合物、花青系化合物、吡咯并吡咯系化合物，只要在波长700nm～900nm中具有最大吸收，则并无特别限定，例如可列举如下述那样的化合物类(z-71)～化合物类(z-74)。
[化9]
[化10]
化合物(Z)的最大吸收波长为700nm～930nm，优选为720nm～920nm以下，进而优选为730nm以上且900nm以下，特别优选为750nm以上且890nm以下。若化合物(Z)的最大吸收波长处于此种范围内，则可使对近红外传感有用的波长的光透过且将不需要的近红外线截止，并且可减低近红外透过频带的入射角依存性。
化合物(Z)只要利用通常为人所知的方法来合成即可，例如可参照日本专利特开平1-228960号公报、日本专利特开2001-40234号公报、日本专利第3094037号公报、日本专利第3196383号公报等中所记载的方法等来合成。
例如当使用包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)的基材、或在透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材(i)时，相对于透明树脂100重量份，化合物(Z)的含量优选为0.01重量份～2.0重量份，更优选为0.02重量份～1.5重量份，特别优选为0.03重量份～1.0重量份，当使用在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材作为所述基材(i)时，相对于形成含有化合物(Z)的透明树脂层的树脂100重量份，化合物(Z)的含量优选为0.1重量份～5.0重量份，更优选为0.2重量份～4.0重量份，特别优选为0.3重量份～3.0重量份。若化合物(Z)的含量处于所述范围内，则可达成良好的近红外线吸收特性。
<化合物(S)>
所述基材(i)优选为除化合物(Z)以外，也含有在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S)，含有化合物(S)的层可与含有化合物(Z)的层相同，也可不同。当化合物(S)与化合物(Z)包含于同一层中时，例如可列举：所述透明树脂制基板(ii)含有化合物(S)的构成或者在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(S)与化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的构成，当化合物(S)与化合物(Z)包含于不同的层中时，例如可列举：在所述透明树脂制基板(ii)上层叠包含含有化合物(S)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的构成、在含有化合物(S)的透明树脂制基板(iii)上层叠包含含有化合物(S)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的构成及将所述透明树脂制基板(ii)与所述透明树脂制基板(iii)加以贴合而成的构成。就光学特性的调整容易性或制造成本的观点而言，特别优选为所述透明树脂制基板(ii)含有化合物(S)的构成。
化合物(S)只要在波长350nm～699nm中具有最大吸收，则并无特别限定，就光学滤波器的耐热性的观点而言，优选为分别包含一种以上的在波长350nm～500nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-a)、在波长501nm～600nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-b)及在波长601nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-c)，特别优选为所述化合物(S-a)与所述化合物(S-b)的最大吸收波长的差为50nm～140nm且所述化合物(S-b)与所述化合物(S-c)的最大吸收波长的差为30nm～100nm。当化合物(S)包含于树脂层中时，化合物(S)作为可见区域的吸收剂发挥作用，并且也作为树脂层的塑化剂发挥作用，而使树脂层的玻璃化温度降低，其结果，有时使光学滤波器的耐热性降低。另一方面，若化合物(S)包含满足所述条件的化合物(S-a)、化合物(S-b)及化合物(S-c)，则可以少的添加量而有效地将不需要的可见光线截止，且可以最小限度抑制树脂层的玻璃化温度的降低。
化合物(S)优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、次甲基系化合物、四氮杂卟啉系化合物、卟啉系化合物、三芳基甲烷系化合物、亚酞菁系化合物、苝系化合物、半方酸内鎓盐系化合物、苯乙烯基系化合物、吩嗪系化合物、吡啶并亚甲基-硼络合物系化合物、吡嗪-硼络合物系化合物、吡啶酮偶氮系化合物、氧杂蒽系化合物、硼二吡咯亚甲基(BODIPY)系化合物所组成的群组中的至少一种，特别优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、次甲基系化合物、三芳基甲烷系化合物、氧杂蒽系化合物、吡啶酮偶氮系化合物所组成的群组中的至少一种。
作为化合物(S)的市售品，可列举通常的可见吸收染料或可见吸收颜料，但可见吸收染料有可见光截止效率优异的倾向，而优选。化合物(S)的市售品只要在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收，则并无特别限定，例如可列举：染料索引(Colour Index，C.I.)溶剂黄(Solvent Yellow)14、C.I.溶剂黄16、C.I.溶剂黄21、C.I.溶剂黄61、C.I.溶剂黄81、C.I.分散橙(Disperse Orange)3、C.I.分散橙11、C.I.分散橙35、C.I.分散橙37、C.I.分散橙47、C.I.分散橙61、C.I.溶剂红1、C.I.溶剂红2、C.I.溶剂红8、C.I.溶剂红12、C.I.溶剂红19、C.I.溶剂红23、C.I.溶剂红24、C.I.溶剂红27、C.I.溶剂红31、C.I.溶剂红83、C.I.溶剂红84、C.I.溶剂红121、C.I.溶剂红132、C.I.溶剂紫21、C.I.溶剂黑3、C.I.溶剂黑4、C.I.溶剂黑21、C.I.溶剂黑23、C.I.溶剂黑27、C.I.溶剂黑28、C.I.溶剂黑31、C.I.溶剂橙7、C.I.溶剂橙9、C.I.溶剂橙37、C.I.溶剂橙40、C.I.溶剂橙45、C.I.溶剂红52、C.I.溶剂红111、C.I.溶剂红149、C.I.溶剂红150、C.I.溶剂红151、C.I.溶剂红168、C.I.溶剂红191、C.I.溶剂红207、C.I.溶剂蓝7、C.I.溶剂蓝35、C.I.溶剂蓝36、C.I.溶剂蓝63、C.I.溶剂蓝78、C.I.溶剂蓝83、C.I.溶剂蓝87、C.I.溶剂蓝94、C.I.溶剂蓝97、C.I.溶剂绿3、C.I.溶剂绿20、C.I.溶剂绿28、C.I.溶剂紫13、C.I.溶剂紫14、C.I.溶剂紫36、C.I.溶剂橙60、C.I.溶剂橙78、C.I.溶剂橙90、C.I.溶剂紫29、C.I.溶剂红135、C.I.溶剂红162、C.I.溶剂橙179、C.I.溶剂绿5、C.I.溶剂橙55、C.I.还原红(VatRed)15、C.I.还原橙7、C.I.溶剂橙80、C.I.溶剂黄93、C.I.溶剂黄33、C.I.溶剂黄98、C.I.溶剂黄157、C.I.溶剂黑5、C.I.溶剂黑7等。
例如当使用包含含有化合物(Z)与化合物(S)的透明树脂制基板(ii)或含有化合物(S)的透明树脂制基板(iii)的基材、或者在透明树脂制基板(iii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材(i)时，相对于透明树脂100重量份，化合物(S)的含量优选为0.10重量份～5.0重量份，更优选为0.25重量份～3.5重量份，特别优选为0.50重量份～2.0重量份，当使用在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(S)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材作为所述基材(i)时，相对于形成含有化合物(S)的透明树脂层的树脂100重量份，化合物(S)的含量优选为1.0重量份～30.0重量份，更优选为2.0重量份～25.0重量份，特别优选为3.0重量份～20.0重量份。若化合物(S)的含量处于所述范围内，则可达成良好的近红外线吸收特性。尤其，当所述基材(i)包含含有化合物(Z)与化合物(S)的透明树脂制基板(ii)时，若化合物(S)的含量处于所述范围内，则可抑制透明树脂制基板(ii)的玻璃化温度降低，且可制成耐热性优异的光学滤波器。
<化合物(Y)>
化合物(Y)只要在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧具有最大吸收，则无特别限制，优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、吡咯并吡咯系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物及环扩张硼二吡咯亚甲基(BODIPY)系化合物所组成的群组中的至少一种，特别优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、花青系化合物、克酮鎓系化合物及吡咯并吡咯系化合物所组成的群组中的至少一种。化合物(Y)的最大吸收波长优选为所述波长(Xc)+10nm～波长(Xc)+100nm，更优选为波长(Xc)+15nm～波长(Xc)+90nm，特别优选为波长(Xe)+20nm～波长(Xc)+80nm。若化合物(Y)在此种波长中具有最大吸收，则可减低光线透过频带(Za)的长波长侧中的入射角依存性，且可达成更精密的传感性能，故优选。
<透明树脂>
层叠于树脂制支撑体或玻璃支撑体等上的透明树脂层及所述透明树脂制基板(ii)可使用透明树脂来形成。作为此种透明树脂，可为单独一种，也可为两种以上。
作为透明树脂，只要是无损本发明的效果者，则并无特别限制，例如，为了确保热稳定性及对于膜的成形性、且制成可通过以100℃以上的蒸镀温度进行的高温蒸镀来形成介电质多层膜的膜，可列举玻璃化温度(Tg)优选为110℃～380℃，更优选为115℃～370℃，进而优选为120℃～360℃，特别优选为130℃～300℃的树脂。若所述树脂的玻璃化温度处于所述范围内，则在制成树脂制基板时，可以更高的温度蒸镀形成介电质多层膜，且可获得耐裂纹性或耐候性优异的光学滤波器。
当将所述透明树脂用作构成含有化合物(S)的透明树脂制基板(ii)的树脂时，透明树脂制基板(ii)的玻璃化温度与透明树脂制基板(ii)中所含的树脂的玻璃化温度的差优选为0℃～10℃，更优选为0℃～8℃，进而优选为0℃～5℃。如上所述，化合物(S)存在作为树脂层的塑化剂发挥作用的情况，但通过适当选择化合物(S)的种类或添加量，可减低透明树脂制基板(ii)的玻璃化温度降低，且可获得耐热性或耐裂纹性优异的光学滤波器。
作为透明树脂，当形成包含所述树脂的厚度为0.1mm的树脂板时，可使用所述树脂板的全光线透过率(日本工业标准(Japanese Industrial Standards，JIS)K7105)优选为成为75％～95％，进而优选为成为78％～95％，特别优选为成为80％～95％的树脂。若使用全光线透过率成为此种范围的树脂，则所获得的基板作为光学膜而显示出良好的透明性。
透明树脂的利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography，GPC)法所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)通常为15,000～350,000，优选为30,000～250,000，数量平均分子量(Mn)通常为10,000～150,000，优选为20,000～100,000。
作为透明树脂，例如可列举：环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、茀聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalatc，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂。
《环状(聚)烯烃系树脂》
作为环状(聚)烯烃系树脂，优选为自选自由下述式(X0)所表示的单体及下述式(Y0)所表示的单体所组成的群组中的至少一种单体所获得的树脂、及通过将所述树脂加以氢化所获得的树脂。
[化11]
式(X0)中，Rx1～Rx4分别独立地表示选自下述(i′)～(ix′)中的原子或基，kx、mx及px分别独立地表示0或正的整数。
(i′)氢原子
(ii′)卤素原子
(iii′)三烷基甲硅烷基
(iv′)具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(v′)经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(vi′)极性基(其中，(iv′)除外)
(vii′)Rx1与Rx2、或Rx3与Rx4相互键结而形成的亚烷基(其中，不参与所述键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)中的原子或基)
(viii′)Rx1与Rx2、或Rx3与Rx4相互键结而形成的单环或多环的烃环或杂环(其中，不参与所述键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)中的原子或基)
(ix′)Rx2与Rx3相互键结而形成的单.环的烃环或杂环(其中，不参与所述键结的Rx1与Rx4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)中的原子或基)
[化12]
式(Y0)中，Ry1及Ry2分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)中的原子或基，或者表示Ry1与Ry2相互键结而形成的单环或多环的脂环式烃、芳香族烃或杂环，ky及py分别独立地表示0或正的整数。
《芳香族聚醚系树脂》
芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。
[化13]
式(1)中，R1～R4分别独立地表示碳数1～12的一价的有机基，a～d分别独立地表示0～4的整数。
[化14]
式(2)中，R1～R4及a～d分别独立地与所述式(1)中的R1～R4及a～d为相同含义，Y表示单键、-SO2-或＞C＝O，R7及R8分别独立地表示卤素原子、碳数1～12的一价的有机基或硝基，g及h分别独立地表示0～4的整数，m表示0或1。其中，当m为0时，R7不为氰基。
另外，所述芳香族聚醚系树脂优选为进而具有选自由下述式(3)所表示的结构单元及下述式(4)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。
[化15]
式(3)中，R5及R6分别独立地表示碳数1～12的一价的有机基，Z表示单键、-O-、-S-、-SO2-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或碳数1～12的二价的有机基，e及f分别独立地表示0～4的整数，n表示0或1。
[化16]
式(4)中，R7、R8、Y、m、g及h分别独立地与所述式(2)中的R7、R8、Y、m、g及h为相同含义，R5、R6、Z、n、e及f分别独立地与所述式(3)中的R5、R6、Z、n、e及f为相同含义。
《聚酰亚胺系树脂》
作为聚酰亚胺系树脂，并无特别限制，只要是在重复单元中含有酰亚胺键的高分子化合物即可，例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报中所记载的方法来合成。
《茀聚碳酸酯系树脂》
作为茀聚碳酸酯系树脂，并无特别限制，只要是含有茀部位的聚碳酸酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2008-163194号公报中所记载的方法来合成。
《茀聚酯系树脂》
作为茀聚酯系树脂，并无特别限制，只要是含有茀部位的聚酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报中所记载的方法来合成。
《氟化芳香族聚合物系树脂》
作为氟化芳香族聚合物系树脂，并无特别限制，但优选为含有：具有至少一个氟原子的芳香族环及包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成的群组中的至少一个键的重复单元的聚合物，例如可利用日本专利特开2008-181121号公报中所记载的方法来合成。
《丙烯酸系紫外线硬化型树脂》
作为丙烯酸系紫外线硬化型树脂，并无特别限制，可列举：自含有分子内具有一个以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、及通过紫外线而分解并产生活性自由基的化合物的树脂组合物所合成者。当使用在玻璃支撑体上或成为基底的树脂制支撑体上层叠含有化合物(Z)及硬化性树脂的透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材(i)时，丙烯酸系紫外线硬化型树脂可特别适宜地用作所述硬化性树脂。
《市售品》
作为透明树脂的市售品，可列举以下的市售品等。作为环状(聚)烯烃系树脂的市售品，可列举：日本合成橡胶(Japan Synthetic Rubber，JSR)(股份)制造的阿通(Arton)、日本瑞翁(Zeon)(股份)制造的瑞翁诺阿(Zeonor)、三井化学(股份)制造的阿派尔(APEL)、宝理塑料(Polyplastics)(股份)制造的托帕斯(TOPAS)等。作为聚醚砜系树脂的市售品，可列举：住友化学(股份)制造的斯密卡爱克塞尔(Sumikaexcel)PES等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，可列举：三菱瓦斯化学(股份)制造的尼欧普利姆(Neopulim)L等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举：帝人(股份)制造的普艾斯(PURE-ACE)等。作为茀聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举：三菱瓦斯化学(股份)制造的优比泽塔(Iupizeta)EP-5000等。作为茀聚酯系树脂的市售品，可列举：大阪燃气化学(Osaka Gas Chemicals)(股份)制造的OKP4HT等。作为丙烯酸系树脂的市售品，可列举：日本催化剂(股份)制造的阿库利维阿(Acryviewa)等。作为倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂的市售品，可列举：新日铁化学(股份)制造的希鲁普拉斯(Silplus)等。
<其他成分>
在无损本发明的效果的范围内，所述基材(i)可进而含有抗氧化剂、近紫外线吸收剂、荧光消光剂、金属络合物系化合物等添加剂作为其他成分。所述其他成分可单独使用一种，也可并用两种以上。
作为近紫外线吸收剂，例如可列举：甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。
作为抗氧化剂，例如可列举：2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2，2′-二氧基-3，3′-二-叔丁基-5，5′-二甲基二苯基甲烷及四[亚甲基-3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、三(2，6-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯等。
再者，这些添加剂可在制造基材时与树脂等一同混合，也可在合成树脂时添加。另外，添加量对应于所期望的特性而适宜选择，但相对于树脂100重量份，通常为0.01重量份～5.0重量份，优选为0.05重量份～2.0重量份。
<基材的制造方法>
当基材为包含透明树脂制基板的基材时，所述透明树脂制基板例如可通过熔融成形或浇铸成形来形成，进而，视需要可在成形后涂布抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂，由此制造层叠有外涂层的基材。
当基材为在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材时，例如在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上对含有化合物(Z)的树脂溶液进行熔融成形或浇铸成形，优选为利用旋涂、狭缝涂布、喷墨等方法进行涂敷后将溶媒干燥去除，视需要进而进行光照射或加热，由此可制造在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体上形成有透明树脂层的基材。
《熔融成型》
作为熔融成形，具体而言，可列举：对将树脂与化合物(Z)熔融混练所获得的颗粒进行熔融成形的方法；对含有树脂与化合物(Z)的树脂组合物进行熔融成形的方法；或对自含有化合物(Z)、树脂及溶剂的树脂组合物中去除溶剂而获得的颗粒进行熔融成形的方法等。作为熔融成形方法，可列举：射出成形、熔融挤出成形或吹塑成形等。
《浇铸成型》
作为浇铸成形，也可利用如下的方法等来制造：将含有化合物(Z)、树脂及溶剂的树脂组合物浇铸于适当的支撑体上并去除溶剂的方法；或将含有化合物(Z)与光硬化性树脂和/或热硬化性树脂的硬化性组合物浇铸于适当的支撑体上并去除溶媒后，通过紫外线照射或加热等适当的方法来使其硬化的方法。
当基材为包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板的基材时，所述基材可通过在浇铸成形后，自成形用支撑体剥离涂膜而获得，另外，当所述基材为在玻璃支撑体或成为基底的树脂制支撑体等支撑体等上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材时，所述基材可通过在浇铸成形后，不剥离涂膜而获得。
[介电质多层膜]
作为介电质多层膜，可列举使高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成者。作为构成高折射率材料层的材料，可使用折射率为1.7以上的材料，且选择折射率通常为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分，且含有少量(例如，相对于主成分为0重量％～10重量％)的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等者。
作为构成低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，且选择折射率通常为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。
关于将高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法，只要形成层叠有这些材料层的介电质多层膜，则并无特别限制。例如可利用化学气相沉积(Chemical VaporDeposition，CVD)法、溅镀法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀法等，在基材上直接形成使高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成的介电质多层膜。
高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度通常优选为1nm～500nm，进而优选为2nm～450nm，特别优选为5nm～400nm。若各层的厚度为所述范围，则除在制膜时容易控制以外，根据反射·折射的光学特性的关系，有可容易地控制特定波长的阻断·透过的倾向。
作为光学滤波器整体，介电质多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计的层叠数优选为8层～120层，更优选为12层～110层，特别优选为16层～100层。若各层的厚度、作为光学滤波器整体而言的介电质多层膜的厚度或合计的层叠数处于所述范围内，则可确保充分的制造边际，而且可减低光学滤波器的翘曲或介电质多层膜的裂纹。
此处，为了使介电质多层膜的设计最佳化，例如只要使用光学薄膜设计软件(例如，核心麦克劳德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司制造)，以可使可见区域的光线截止特性与作为目标的近红外透过频带(用于近红外传感中的波长区域)的光线透过特性并存的方式设定参数即可。例如，当在近红外传感中使用850nm附近的近红外线时，虽也取决于基材(i)的光学特性，但可列举：将波长350nm～750nm的自垂直方向进行测定时的目标透过率设为0％、目标公差(Target Tolerance)的值设为1，将波长820nm～880nm的自垂直方向进行测定时的目标透过率设为100％、目标公差(Target Tolerance)的值设为0.5，将波长950nm～1200nm的自垂直方向进行测定时的目标透过率设为100％、目标公差(Target Tolerance)的值设为0.8，而以在用于近红外传感中的波长频带以外的波长频带中具有反射特性的方式设计的参数设定方法；或将波长400nm～880nm的自垂直方向进行测定时的目标透过率设为100％、目标公差(Target Tolerance)的值设为0.5，将波长950nm～1200nm的自垂直方向进行测定时的目标透过率设为100％，而以在可见区域～用于近红外线传感中的波长频带中具有抗反射效果，且在波长长于用于近红外传感中的波长频带的长波长侧具有反射特性的方式设计的参数设定方法等。这些参数也可结合基材(i)的光学特性而更细地划分波长范围来改变使设计最佳化的光线入射角度或目标公差(TargetTolerance)的值。另外，当为在基材(i)的两面上具有介电质多层膜的构成时，也可在两面上设置相同设计的介电质多层膜，也可在两面设置设计不同的介电质多层膜。当在两面上设置设计不同的介电质多层膜时，例如可列举：在基材(i)的一面上设置将波长350nm～750nm附近截止的介电质多层膜，在另一面上设置将波长950nm～1200nm附近截止的介电质多层膜的设计方法；或在一面上设置在波长400nm～880nm中具有抗反射效果的介电质多层膜，在另一面上设置将波长950nm～1200nm附近截止的介电质多层膜的设计方法等。
[其他功能膜]
以提高基材或介电质多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电及消除损伤等为目的，本发明的光学滤波器可在无损本发明的效果的范围内，在基材与介电质多层膜之间、基材的与设置有介电质多层膜的面相反侧的面、或介电质多层膜的与设置有基材的面相反侧的面上适宜设置抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
本发明的光学滤波器可含有一层包含所述功能膜的层，也可含有两层以上。当本发明的光学滤波器含有两层以上的包含此种功能膜的层时，可含有两层以上的相同的层，也可含有两层以上的不同的层。
作为层叠此种功能膜的方法，并无特别限制，可列举：与所述同样地，在基材或介电质多层膜上对抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等进行熔融成形或浇铸成形的方法等。
另外，也可通过利用棒涂机等将含有涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材或介电质多层膜上后，利用紫外线照射等进行硬化来制造。
作为涂布剂，可列举紫外线(Ultraviolet，UV)/电子束(Electron Beam，EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体而言，可列举：乙烯基化合物类或氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。作为含有这些涂布剂的硬化性组合物，可列举：乙烯基系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。
另外，硬化性组合物也可含有聚合引发剂。作为聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂，也可并用光聚合引发剂与热聚合引发剂。聚合引发剂可单独使用一种，也可并用两种以上。
硬化性组合物中，当将硬化性组合物的总量设为100重量％时，聚合引发剂的调配比例优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.5重量％～10重量％，进而优选为1重量％～5重量％。若聚合引发剂的调配比例处于所述范围内，则硬化性组合物的硬化特性及操作性优异，可获得具有所期望的硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
进而，也可向硬化性组合物中添加作为溶剂的有机溶剂，作为有机溶剂，可使用公知的有机溶剂。作为有机溶剂的具体例，可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲基醚、二乙二醇单丁基醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。这些溶剂可单独使用一种，也可并用两种以上。
功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，进而更优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。
另外，为了提高基材与功能膜和/或介电质多层膜的密接性、或功能膜与介电质多层膜的密接性，也可对基材、功能膜或介电质多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
[光学滤波器的用途]
本发明的光学滤波器具有如下的特征：具有优异的可见光截止性能与用于近红外传感中的波长区域中的光线透过特性，以及由入射角度引起的光学特性变化小等。因此，可有效用作光学传感装置用途。尤其，可有效用作搭载于智能手机、平板终端、移动电话、可穿戴装置、汽车、电视机、游戏机、无人机等中的光学传感器用途。
[实施例]
以下，基于实施例来更具体地说明本发明，但本发明并不受这些实施例任何限定。再者，只要事先无特别说明，则“份”是指“重量份”。另外，各物理特性值的测定方法及物理特性的评价方法如下所述。
<分子量>
树脂的分子量是考虑各树脂对于溶剂的溶解性等，利用下述(a)或(b)的方法来进行测定。
(a)使用沃特斯(WATERS)公司制造的凝胶渗透色谱(GPC)装置(150C型，管柱：东曹(Tosoh)公司制造的H型管柱，展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
(b)使用东曹公司制造的GPC装置(HLC-8220型，管柱：TSKgel α-M，展开溶剂：四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF))，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。
再者，关于后述的树脂合成例3中所合成的树脂，进行利用下述方法(c)的对数粘度的测定而非利用所述方法的分子量的测定。
(c)将聚酰亚胺树脂溶液的一部分投入至无水甲醇中来使聚酰亚胺树脂析出，进行过滤后自未反应单体中分离。使在80℃下真空干燥12小时而获得的聚酰亚胺0.1g溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮20mL中，使用佳能-芬斯基(Cannon-Fenske)粘度计，利用下述式来求出30℃下的对数粘度(μ)。
μ＝{1n(ts/t0)}/C
t0：溶媒的流下时间
ts：稀薄高分子溶液的流下时间
C：0.5g/dL
<玻璃化温度(Tg)>
使用SII纳米科技(SII Nano Technologies)股份有限公司制造的示差扫描热量计(DSC6200)，在氮气气流下，以升温速度：20℃/min进行测定。
<分光透过率>
光学滤波器的各波长区域中的透过率是使用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)股份有限公司制造的分光光度计(U-4100)来测定。
此处，若为自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率，则如图3(A)那样以分光光度计3测定相对于光学滤波器2垂直地透过的光1，若为自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率，则如图3(B)那样以分光光度计3测定相对于光学滤波器2的垂直方向以30°的角度透过的光1′。
[合成例]
下述实施例中所使用的色素化合物是利用通常为人所知的方法来合成。作为通常的合成方法，例如可列举：日本专利第3366697号公报、日本专利第2846091号公报、日本专利第2864475号公报、日本专利第3703869号公报、日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号公报、日本专利特开昭63-124054号公报、《酞菁-化学与功能-》(IPC、1997年)、日本专利特开2007-169315号公报、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号公报、日本专利第4740631号公报等中所记载的方法。
<树脂合成例1>
将下述式(X1)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]十二-3-烯(以下也称为“DNM”)100份、1-己烯(分子量调节剂)18份及甲苯(开环聚合反应用溶媒)300份加入至经氮气置换的反应容器中，并将所述溶液加热至80℃。继而，向反应容器内的溶液中添加作为聚合催化剂的三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/L)0.2份、及甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度为0.025mol/L)0.9份，并在80℃下将所述溶液加热搅拌3小时，由此进行开环聚合反应而获得开环聚合体溶液。所述聚合反应中的聚合转化率为97％。
[化17]
将以所述方式获得的开环聚合体溶液1，000份加入至高压釜中，向所述开环聚合体溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3，然后在氢气压100kg/cm2、反应温度165℃的条件下加热搅拌3小时来进行氢化反应。将所获得的反应溶液(氢化聚合体溶液)冷却后，对氢气进行放压。将所述反应溶液注入至大量的甲醇中后分离回收凝固物，并对其进行干燥，而获得氢化聚合体(以下也称为“树脂A”)。所获得的树脂A的数量平均分子量(Mn)为32,000，重量平均分子量(Mw)为137,000，玻璃化温度(Tg)为165℃。
<树脂合成例2>
向3L的四口烧瓶中添加2，6-二氟苄腈35.12g(0.253mol)、9，9-双(4-羟基苯基)茀87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、N，N-二甲基乙酰胺(以下也称为“DMAc”)443g及甲苯111g。继而，在四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、带有氮气导入管的三通旋塞、迪安-斯塔克(Dean-Stark)管及冷却管。继而，对烧瓶内进行氮气置换后，使所获得的溶液在140℃下反应3小时，并随时将所生成的水自迪安-斯塔克管去除。在看不到水的生成的时间点，使温度缓慢地上升至160℃为止，并在所述温度下反应6小时。冷却至室温(25℃)为止后，利用滤纸去除所生成的盐，将滤液投入至甲醇中进行再沉淀，并通过过滤分离来将滤物(残渣)分离。将所获得的滤物在60℃下真空干燥一夜，而获得白色粉末(以下也称为“树脂B”)(产率95％)。所获得的树脂B的数量平均分子量(Mn)为75,000，重量平均分子量(Mw)为188,000，玻璃化温度(Tg)为285℃。
<树脂合成例3>
在氮气气流下，向具备温度计、搅拌器、氮气导入管、带有侧管的滴液漏斗、迪安-斯塔克管及冷却管的500mL的五口烧瓶中加入1，4-双(4-氨基-α，α-二甲基苄基)苯27.66g(0.08摩尔)及4，4′-双(4-氨基苯氧基)联苯7.38g(0.02摩尔)，并溶解于γ-丁内酯68.65g及N，N-二甲基乙酰胺17.16g中。使用冰水浴将所获得的溶液冷却至5℃，一面保持为等温一面一次性添加1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐22.62g(0.1摩尔)及作为酰亚胺化催化剂的三乙基胺0.50g(0.005摩尔)。添加结束后，升温至180℃，一面随时蒸馏去除馏出液，一面进行6小时回流。反应结束后，进行气冷直至内温成为100℃为止后，添加N，N-二甲基乙酰胺143.6g来进行稀释，然后一面进行搅拌一面进行冷却，而获得固体成分浓度20重量％的聚酰亚胺树脂溶液264.16g。将所述聚酰亚胺树脂溶液的一部分注入至1L的甲醇中来使聚酰亚胺沉淀。利用甲醇对所过滤分离的聚酰亚胺进行清洗后，在100℃的真空干燥机中进行24小时干燥而获得白色粉末(以下也称为“树脂C”)。对所获得的树脂C的红外线(Infrared，IR)光谱进行测定，结果看到酰亚胺基中特有的1704cm-1、1770cm-1的吸收。树脂C的玻璃化温度(Tg)为310℃，测定对数粘度的结果为0.87。
[实施例1]
实施例1中，通过以下的程序及条件来制作具有包含透明树脂制基板的基材且使波长850nm附近的近红外线透过的光学滤波器。
向容器中添加树脂合成例1中所获得的树脂A 100份、作为化合物(Z)的所述表1中记载的化合物(z-5)(在二氯甲烷中的最大吸收波长770nm)0.04份、作为化合物(Z)的下述式(a-1)所表示的化合物(a-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长738nm)0.21份及二氯甲烷，而制备树脂浓度为20重量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下进行8小时干燥后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃对所剥离的涂膜进行8小时干燥，而获得包含厚度0.1mm、长度60mm、宽度60mm的透明树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出所述透过率(Ta)及所述透过率(Tb)以及所述波长(Xf)。将结果示于图4及表23中。
[化18]
继而，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(I)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(II)，而获得厚度约0.105mm的光学滤波器。
介电质多层膜(I)是在蒸镀温度100℃下使二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而形成(合计36层)。介电质多层膜(II)是在蒸镀温度100℃下使二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层交替地层叠而形成(合计26层)。在介电质多层膜(I)及介电质多层膜(II)的任一者中，二氧化硅层及二氧化钛层均自基材侧起以二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、...二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层的顺序交替地层叠，并将光学滤波器的最外层设为二氧化硅层。
介电质多层膜(I)及介电质多层膜(II)的设计是以如下方式来进行。
关于各层的厚度与层数，以可达成可见区域的光线截止特性与作为目标的近红外区域的透过特性的方式，结合基材折射率的波长依存特性、或所应用的化合物(Z)的吸收特性，使用光学薄膜设计软件(核心麦克劳德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin FilmCenter)公司制造)进行最佳化。当进行最佳化时，在本实施例中，将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表3那样。
[表3]
表3
膜构成最佳化的结果，实施例1中，介电质多层膜(I)成为膜厚57nm～169nm的二氧化硅层与膜厚16nm～45nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数36的多层蒸镀膜，介电质多层膜(II)成为膜厚22nm～480nm的二氧化硅层与膜厚22nm～65nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数26的多层蒸镀膜。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表4中。
[表4]
表4
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图5及表23中。
[实施例2]
实施例2中，通过以下的程序及条件来制作具有包含透明树脂制基板的基材且使波长850nm附近的近红外线选择性透过的光学滤波器。
以与实施例1相同的程序制作包含透明树脂制基板的基材。继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，通过与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(III)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(IV)，而获得厚度约0.108mm的光学滤波器。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表5那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(III)及介电质多层膜(IV)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表6中。
[表5]
表5
[表6]
表6
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图6及表23中。
[实施例3]
实施例3中，通过以下的程序及条件来制作如下的光学滤波器，所述光学滤波器具有包含在两面上具有树脂层的透明树脂制基板的基材且使波长950nm附近的近红外线透过。
在实施例1中，代替作为化合物(Z)而使用的化合物(z-5)0.04份及化合物(a-1)0.21份，来使用作为化合物(Z)的所述表1中记载的化合物(z-27)(在二氯甲烷中的最大吸收波长868nm)0.10份，除此以外，通过与实施例1相同的程序及条件而获得含有化合物(Z)的透明树脂制基板。
利用棒涂机将下述组成的树脂组合物(1)涂布于所获得的透明树脂制基板的一面上，并在烘箱中以70℃加热2分钟，而将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为2.5μm的方式调整棒涂机的涂布条件。继而，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mJ/cm2、200mW)，使树脂组合物(1)硬化，而在透明树脂制基板上形成树脂层。同样地，在透明树脂制基板的另一面上也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，而获得在含有化合物(Z)的透明树脂制基板的两面上具有树脂层的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出所述透过率(Ta)及所述透过率(Tb)以及所述波长(Xf)。将结果示于图7及表23中。
树脂组合物(1)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶剂，固体成分浓度(TSC)：30％)
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，通过与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(V)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(VI)，而获得厚度约0.110mm的光学滤波器。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表7那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(V)及介电质多层膜(VI)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表8中。
[表7]
表7
[表8]
表8
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图8及表23中。
[实施例4]
实施例4中，通过以下的程序及条件来制作如下的光学滤波器，所述光学滤波器具有包含在两面上具有树脂层的透明树脂制基板的基材且使波长950nm附近的近红外线选择性透过。
以与实施例3相同的程序制作包含在两面上具有树脂层的透明树脂制基板的基材。继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，通过与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(VII)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(VIII)，而获得厚度约0.111mm的光学滤波器。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表9那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(VII)及介电质多层膜(VIII)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表10中。
[表9]
表9
[表10]
表10
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图9及表23中。
[实施例5]
实施例5中，通过以下的程序及条件来制作如下的光学滤波器，所述光学滤波器具有包含如下的透明玻璃基板的基材，所述透明玻璃基板在一面上具有含有化合物(Z)的透明树脂层。
利用旋涂机将下述组成的树脂组合物(2)涂布于切割成长度60mm、宽度60mm的大小的透明玻璃基板“OA-10G(厚度200um)”(日本电气硝子(Nippon Electric Glass)(股份)制造)上，并在热板上以80℃加热2分钟，而将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为5μm的方式调整旋涂机的涂布条件。继而，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量500mJ/cm2、200mW)，使树脂组合物(2)硬化，而获得包含透明玻璃基板的基材，所述透明玻璃基板具有含有化合物(Z)的透明树脂层。测定所述基材的分光透过率，并求出所述透过率(Ta)及所述透过率(Tb)以及所述波长(Xf)。将结果示于表23中。
树脂组合物(2)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(z-5)0.8重量份、化合物(a-1)4.2重量份、甲基乙基酮(溶剂，TSC：35％)
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，通过与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(IX)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(X)，而获得厚度约0.110mm的光学滤波器。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表11那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(IX)及介电质多层膜(X)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表12中。
[表11]
表11
[表12]
表12
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图10及表23中。
[实施例6]
实施例6中，通过以下的程序及条件来制作如下的光学滤波器，所述光学滤波器具有包含树脂制基板的基材，所述树脂制基板在两面上具有含有化合物(Z)的透明树脂层。
向容器中添加树脂合成例1中所获得的树脂A及二氯甲烷，而制备树脂浓度为20重量％的溶液。继而，除使用所获得的溶液以外，以与实施例1相同的方式制作树脂制基板。
除代替树脂组合物(1)而使用树脂组合物(2)以外，以与实施例3相同的程序，在所获得的树脂制基板的两面上形成树脂层，而获得包含在两面上具有含有化合物(Z)的透明树脂层的树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出所述透过率(Ta)及所述透过率(Tb)以及所述波长(Xf)。将结果示于表23中。
继而，以与实施例2相同的程序，在所获得的基材的两面上形成介电质多层膜，而获得厚度约0.112mm的光学滤波器。测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于表23中。
[实施例71
实施例7中，通过以下的程序及条件来制作如下的光学滤波器，所述光学滤波器具有包含在两面上具有树脂层的透明树脂制基板的基材且使波长850nm附近的近红外线选择性透过。
在实施例1中，作为化合物(Z)，除使用化合物(z-5)0.04份及化合物(a-1)0.21份以外，也使用下述式(a-2)所表示的化合物(a-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长704nm)0.15份，以及作为化合物(S)而使用下述式(s-1)所表示的化合物(s-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长429nm)0.40份、下述式(s-2)所表示的化合物(s-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长550nm)0.40份及下述式(s-3)所表示的化合物(s-3)(在二氯甲烷中的最大吸收波长606nm)0.30份，除此以外，以与实施例1相同的程序及条件获得含有化合物(Z)的透明树脂制基板。
[化19]
[化20]
[化21]
[化22]
以与实施例3相同的程序，在所获得的树脂制基板的两面上形成树脂层，而获得包含在两面上具有透明树脂层的树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出所述透过率(Ta)及所述透过率(Tb)以及所述波长(Xf)。将结果示于图11及表23中。
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，以与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(XI)，进而在基材的另一而上形成介电质多层膜(XII)，而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表13那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(XI)及介电质多层膜(XII)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表14中。
[表13]
表13
[表14]
表14
*λ＝550nm
测定自所获得的光学滤波器的垂直方向及相对于垂直方向为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图11及表23中。
[实施例8]
除将化合物(Z)变更为表23所示的种类及量以外，以与实施例3相同的方式制作基材及光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表23中。
[实施例9～实施例13]
除将树脂、化合物(Z)、化合物(S)、溶媒及树脂制基板的干燥条件变更为表23所示的内容以外，以与实施例3相同的方式制作包含在两面上具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并使用与实施例2相同的设计参数而制作光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表23中。
[实施例14及实施例15]
除将化合物(Z)及化合物(S)变更为表23所示的内容以外，以与实施例7相同的方式制作光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表23中。
[实施例16]
除将化合物(Z)及化合物(S)变更为表24所示的内容以外，以与实施例1相同的方式制作包含透明树脂制基板的基材。将所获得基材的光学特性示于图13及表24中。
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，以与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(XIII)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(XIV)，而获得使波长910nm附近的近红外线选择性透过的厚度约0.104mm的光学滤波器。将所获得的光学滤波器的光学特性示于图14及表24中。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表15那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(XIII)及介电质多层膜(XIV)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表16中。
[表15]
表15
[表16]
表16
*λ＝550nm
[实施例17]
除将化合物(Z)及化合物(S)变更为表24所示的内容以外，以与实施例16相同的方式制作光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表24中。
[实施例18]
除将化合物(Z)及化合物(S)变更为表24所示的内容以外，以与实施例1相同的方式制作包含透明树脂制基板的基材。将所获得的基材的光学特性示于表24中。
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，以与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(XV)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(XVI)，而获得使波长850nm附近的近红外线选择性透过的厚度约0.104mm的光学滤波器。将所获得的光学滤波器的光学特性示于图15及表24中。
关于介电质多层膜(XV)及介电质多层膜(XVI)的设计，将针对软件的输入参数(目标(Target)值)均设为下述表17那样，然后以nH·dH/nL·dL成为3.2的方式进行各层的膜厚调整。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表18中。
[表17]
表17
[表18]
表18
*λ＝550nm
[实施例19]
除将化合物(Z)、化合物(S)及化合物(Y)变更为表24所示的内容以外，以与实施例1相同的方式制作包含透明树脂制基板的基材。将所获得基材的光学特性示于图16及表24中。
继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，以与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(XVII)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(XVIII)，而获得使波长850nm附近的近红外线选择性透过的厚度约0.104mm的光学滤波器。将所获得的光学滤波器的光学特性示于图17及表24中。
除将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表19那样以外，以与实施例1相同的程序进行介电质多层膜(XVII)及介电质多层膜(XVIII)的设计。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表20中。
[表19]
表19
[表20]
表20
*λ＝550nm
[实施例20]
以与实施例19相同的方式制作包含透明树脂制基板的基材。继而，以与实施例18相同的设计及程序，在基材的两面上形成介电质多层膜，而获得使波长850nm附近的近红外线选择性透过的厚度约0.104nm的光学滤波器。将所获得的光学滤波器的光学特性示于图18及表24中。
[实施例21]
以与实施例19相同的方式制作包含透明树脂制基板的基材。继而，除介电质多层膜的设计(层数及各层的厚度)不同以外，以与实施例1相同的程序，在所获得的基材的一面上形成介电质多层膜(XIX)，进而在基材的另一面上形成介电质多层膜(XX)，而获得使波长850nm附近的近红外线选择性透过的厚度约0.105mm的光学滤波器。将所获得的光学滤波器的光学特性示于图19及表24中。
关于介电质多层膜(XIX)及介电质多层膜(XX)的设计，将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为下述表21那样，然后针对介电质多层膜(XX)，以nH·dH/nL·dL成为3.2的方式进行各层的膜厚调整。将进行了最佳化的膜构成的一例示于表22中。
[表21]
表21
[表22]
表22
*λ＝550nm
[比较例1]
在实施例1中，除不使用化合物(Z)以外，以与实施例1相同的方式制作基材及光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表24中。
[比较例2]
除不使用化合物(Z)以外，以与实施例10相同的方式制作基材及光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表24中。
[比较例3]
除使用切割成长度60mm、宽度60mm的大小的近红外线吸收玻璃支撑体“BS-8(厚度210μm)”(松浪硝子工业(股份)制造)作为基材以外，与实施例1同样地制作光学滤波器。将基材及所获得的光学滤波器的光学特性示于表24中。
与表23及表24中的基材的构成、各种化合物等相关的几号等内容如下所述。
<基材的形态>
形态(1)：含有化合物(Z)的透明树脂制基板
形态(2)：在含有化合物(Z)的透明树脂制基板的两面上具有树脂层
形态(3)：在玻璃基板的一面上具有含有化合物(Z)的透明树脂层
形态(4)：在树脂制基板的两面上具有含有化合物(Z)的透明树脂层
形态(5)：不含化合物(Z)的透明树脂制基板(比较例)
形态(6)：在不含化合物(Z)而含有化合物(S)的透明树脂制基板的两面上具有树脂层(比较例)
形态(7)：近红外线吸收玻璃基板(比较例)
<透明树脂>
树脂A：环状烯烃系树脂(树脂合成例1，玻璃化温度165℃)
树脂B：芳香族聚醚系树脂(树脂合成例2，玻璃化温度285℃)
树脂C：聚酰亚胺系树脂(树脂合成例3，玻璃化温度310℃)
树脂D：环状烯烃系树脂“瑞翁诺阿(Zeonor)1420R”(日本瑞翁(Zeon)(股份)制造，玻璃化温度136℃)
<玻璃基板>
玻璃基板(1)：切割成长度60mm、宽度60mm的大小的透明玻璃基板“OA-10G”(厚度200μm)(日本电气硝子(股份)制造)
玻璃基板(2)：切割成长度60mm、宽度60mm的大小的近红外线吸收玻璃支撑体“BS-8”(厚度210μm)(松浪硝子工业(股份)制造)
<化合物(Z)>
z-5：表1中记载的化合物(z-5)(在二氯甲烷中的最大吸收波长770nm)
z-25：表1中记载的化合物(z-25)(在二氯甲烷中的最大吸收波长781nm)
z-27：表1中记载的化合物(z-27)(在二氯甲烷中的最大吸收波长868nm)
z-35：表1中记载的化合物(z-35)(在二氯甲烷中的最大吸收波长882nm)
z-63：表2中记载的化合物(z-63)(在二氯甲烷中的最大吸收波长813nm)
a-1：式(a-1)所表示的化合物(a-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长738nm)
a-2：式(a-2)所表示的化合物(a-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长704nm)
<化合物(S)>
s-1：式(s-1)所表示的化合物(s-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长429nm)
s-2：式(s-2)所表示的化合物(s-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长550nm)
s-3：式(s-3)所表示的化合物(s-3)(在二氯甲烷中的最大吸收波长606nm)
s-4：下述式(s-4)所表示的化合物(s-4)(在二氯甲烷中的最大吸收波长466nm)
[化23]
s-5：下述式(s-5)所表示的化合物(s-5)(在二氯甲烷中的最大吸收波长549nm)
[化24]
s-6：下述式(s-6)所表示的化合物(s-6)(在二氯甲烷中的最大吸收波长604nm)
[化25]
s-7：式(s-7)所表示的化合物(s-7)(在二氯甲烷中的最大吸收波长646nm)
[化26]
<化合物(Y)>
y-1：下述式(y-1)所表示的化合物(y-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长882nm)
[化27]
<溶媒>
溶媒(1)：二氯甲烷
溶媒(2)：N，N-二甲基乙酰胺
溶媒(3)：环己烷/二甲苯(重量比：7/3)
表23及表24中的实施例及比较例的(透明)树脂制基板的干燥条件如下所述。再者，在减压干燥前，将涂膜自玻璃板剥离。
<树脂制基板干燥条件>
条件(1)：20℃/8hr→减压下100℃/8hr
条件(2)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下140℃/8hr
条件(3)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下100℃/24hr
符号的说明
1、1′：光
2：光学滤波器
3：分光光度计
100：光学滤波器
102：基材
104：介电质多层膜
106抗反射膜
108：含有化合物(Z)的透明树脂制基板
110：支撑体
112：树脂层
Claims (22)
1.一种光学滤波器，其特征在于，包括：基材(i)，包含含有在波长700nm～930nm的区域中具有最大吸收的化合物(Z)的树脂层；及介电质多层膜，形成于所述基材(i)的至少一个面上，且满足下述(a)～(c)的必要条件：
(a)在波长380nm～700nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为10％以下；
(b)在波长750nm以上的区域中具有光线透过频带(Za)，并在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率(Td)为45％以上；
(c)在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xa)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最短的短波长侧的波长(Xb)的差的绝对值|Xa-Xb|为15nm以下，且所述波长(Xa)处于730nm～980nm的范围。
2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于，进而满足下述(d)的必要条件：
(d)在波长701nm～750nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为15％以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为最大的波长(Xc)处于780nm～1000nm的范围内。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，进而满足下述(e)的必要条件：
(e)在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最大透过率为75％以上，且在所述光线透过频带(Za)中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为70％的最短的短波长侧的波长(Xd)、与在波长720nm以上的区域中自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为30％的最短的短波长侧的波长(Xe)的差的绝对值|Xd-Xe|为30nm以下。
5.根据权利要求3所述的光学滤波器，其特征在于，在所述波长(Xc)中，自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率(Tc)为45％以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述光学滤波器的厚度为180μm以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述化合物(Z)为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，用以形成所述树脂层的树脂为选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、茀聚碳酸酯系树脂、弗聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。
9.根据权利要求7所述的光学滤波器，其特征布于，所述方酸内鎓盐系化合物为下述式(Z)所表示的化合物，
[化1]
[式(Z)中，取代单元A及取代单元B分别独立地表示下述式(I)～式(III)所表示的取代单元的任一者]
[化2]
[式(I)～式(III)中，波形线所表示的部分表示与中央四元环的键结部位，
X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碲原子或-NR8-，
R1～R8分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，Ri表示下述La～Le的任一者，
(La)碳数1～12的脂肪族烃基
(Lb)碳数1～12的卤素取代烷基
(Lc)碳数3～14的脂环式烃基
(Ld)碳数6～14的芳香族烃基
(Le)碳数3～14的杂环基
(Lf)碳数1～12的烷氧基
(Lg)可具有取代基L的碳数1～12的酰基、
(Lh)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基
取代基L为选自由碳数1～12的脂肪族烃基、碳数1～12的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的群组中的至少一种]。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)包含含有所述化合物(Z)的树脂制基板(ii)。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)进而含有在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S)。
12.根据权利要求10所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)进而含有在波长350nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S)。
13.根据权利要求10或12所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)的玻璃化温度为130℃～300℃。
14.根据权利要求10、12或13所述的光学滤波器，其特征在于，所述树脂制基板(ii)的玻璃化温度与所述树脂制基板(ii)中所含的树脂的玻璃化温度的差为0℃～10℃。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)含有在波长350nm～500nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-a)、在波长501nm～600nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-b)及在波长601nm～699nm的区域中具有最大吸收的化合物(S-c)。
16.根据权利要求15所述的光学滤波器，其特征在于，所述化合物(S-a)与所述化合物(S-b)的最大吸收波长的差为50nm～140nm，且所述化合物(S-b)与所述化合物(S-c)的最大吸收波长的差为30nm～100nm。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧的区域中具有光线阻止频带(Zb)，并在所述光线透过频带(Zb)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的最小透过率(Te)为10％以下。
18.根据权利要求17所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，自光学滤波器的垂直方向进行测定时的成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xg)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率成为所述透过率(Td)的一半的最长的长波长侧的波长(Xh)的差的绝对值|Xg-Xh|为30nm以下。
19.根据权利要求17或18所述的光学滤波器，其特征在于，所述基材(i)进而含有在波长长于所述光线透过频带(Za)的长波长侧具有最大吸收的化合物(Y)。
20.根据权利要求19所述的光学滤波器，其特征在于，在所述光线透过频带(Za)中，当将自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率成为最大的波长设为波长(Xc)时，
所述化合物(Y)的最大吸收波长为波长(Xc)+10nm～波长(Xc)+100nm。
21.根据权利要求1至20中任一项所述的光学滤波器，其特征在于，用于光学传感装置。
22.一种光学传感装置，其包括根据权利要求1至21中任一项所述的光学滤波器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011485677.0A CN112596141B (zh) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学滤波器及光学传感装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016-114314 | 2016-06-08 | ||
| JP2016114314 | 2016-06-08 | ||
| PCT/JP2017/020632 WO2017213047A1 (ja) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011485677.0A Division CN112596141B (zh) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学滤波器及光学传感装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109313296A true CN109313296A (zh) | 2019-02-05 |
| CN109313296B CN109313296B (zh) | 2021-05-11 |
Family
ID=60578741
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011485677.0A Active CN112596141B (zh) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学滤波器及光学传感装置 |
| CN201780036284.1A Active CN109313296B (zh) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学滤波器及光学传感装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011485677.0A Active CN112596141B (zh) | 2016-06-08 | 2017-06-02 | 光学滤波器及光学传感装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11163098B2 (zh) |
| JP (2) | JP6777146B2 (zh) |
| KR (1) | KR102425315B1 (zh) |
| CN (2) | CN112596141B (zh) |
| TW (2) | TWI731984B (zh) |
| WO (1) | WO2017213047A1 (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112147731A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | Jsr株式会社 | 光学滤波器、固体摄像装置、照相机模块、生物体认证装置、光学滤波器用树脂层 |
| CN113811568A (zh) * | 2019-05-14 | 2021-12-17 | 三井化学株式会社 | 光学部件形成用树脂组合物、成型体和光学部件 |
| CN114402017A (zh) * | 2019-10-07 | 2022-04-26 | 住友化学株式会社 | 着色树脂组合物 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019022169A1 (ja) * | 2017-07-26 | 2019-01-31 | Jsr株式会社 | 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置 |
| WO2019039386A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルタおよび光センサ |
| JP6950522B2 (ja) | 2017-12-27 | 2021-10-13 | ウシオ電機株式会社 | 微生物の不活化処理装置および細胞活性化処理装置、並びに微生物の不活化処理方法 |
| JPWO2019159985A1 (ja) * | 2018-02-15 | 2021-02-04 | Jsr株式会社 | 赤外線透過膜用組成物、およびカバー部材の製造方法 |
| US11092727B2 (en) * | 2018-06-29 | 2021-08-17 | Viavi Solutions Inc. | High-resolution single photodiode spectrometer using a narrowband optical filter |
| WO2020017495A1 (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | Ａｇｃ株式会社 | 光学部材 |
| CN110824599B (zh) | 2018-08-14 | 2021-09-03 | 白金科技股份有限公司 | 一种红外带通滤波器 |
| KR20210055704A (ko) * | 2018-09-12 | 2021-05-17 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 그 용도 |
| JP2020056873A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | キヤノン電子株式会社 | 光学フィルタ、及び撮像装置 |
| JP7331635B2 (ja) | 2018-11-06 | 2023-08-23 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| JP7309867B2 (ja) * | 2019-05-31 | 2023-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 光センサおよびセンシング装置 |
| JP7293875B2 (ja) * | 2019-05-31 | 2023-06-20 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 |
| WO2021107040A1 (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 住友ベークライト株式会社 | 光学性積層体、移動体およびカメラ |
| TW202231641A (zh) | 2020-12-16 | 2022-08-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、膜、濾光器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 |
| WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1918489A (zh) * | 2004-07-09 | 2007-02-21 | 株式会社大真空 | 光学滤波器和光学滤波器的制造方法 |
| US20070202272A1 (en) * | 2005-07-01 | 2007-08-30 | Toyo Ink Co., Ltd. | Red colored film, red colored composition, color filter and liquid crystal display device |
| CN102262254A (zh) * | 2010-05-26 | 2011-11-30 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤光片和使用近红外线截止滤光片的装置 |
| US20120145901A1 (en) * | 2010-12-10 | 2012-06-14 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared transmission filter and imaging device |
| CN103874940A (zh) * | 2011-09-15 | 2014-06-18 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器及使用近红外线截止滤波器的装置 |
| CN103930806A (zh) * | 2012-04-25 | 2014-07-16 | 株式会社艾迪科 | 波长截止滤光器 |
| WO2015022892A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-02-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| CN104838294A (zh) * | 2012-12-06 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器 |
| CN105452911A (zh) * | 2013-10-17 | 2016-03-30 | Jsr株式会社 | 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块 |
| CN105503699A (zh) * | 2014-10-08 | 2016-04-20 | 株式会社日本触媒 | 氧碳系化合物、含有其的树脂组合物和含有该树脂组合物的滤波器 |
| CN105518493A (zh) * | 2013-09-06 | 2016-04-20 | 株式会社Lms | 光学滤光片及包括该光学滤光片的摄像装置 |
| CN105531608A (zh) * | 2013-08-20 | 2016-04-27 | Jsr株式会社 | 滤光器及使用滤光器的装置 |
Family Cites Families (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5621610A (en) | 1979-07-27 | 1981-02-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Collecting and discharging device for sludge of suspension |
| JPS60139757A (ja) | 1983-12-28 | 1985-07-24 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 近赤外透過フイルタ−用樹脂組成物 |
| JPS60228448A (ja) | 1984-04-27 | 1985-11-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | スクアリリウム化合物 |
| JPH0654394B2 (ja) | 1986-11-14 | 1994-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光導電性組成物 |
| JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1995-11-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
| JPH01228960A (ja) | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
| JP2864475B2 (ja) | 1989-04-14 | 1999-03-03 | ケミプロ化成株式会社 | ２―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法 |
| JP2846091B2 (ja) | 1990-09-25 | 1999-01-13 | オリヱント化学工業株式会社 | インドール系化合物およびその用途 |
| JP3094037B2 (ja) | 1990-11-21 | 2000-10-03 | ポラロイド コーポレーシヨン | スクエアリリウムおよびクロコニリウム染料 |
| US5977351A (en) | 1990-11-21 | 1999-11-02 | Polaroid Corporation | Benzpyrylium squarylium and croconylium dyes, and processes for their preparation and use |
| US5405976A (en) | 1990-11-21 | 1995-04-11 | Polaroid Corporation | Benzpyrylium squarylium and croconylium dyes, and processes for their preparation and use |
| JP3196383B2 (ja) | 1992-12-16 | 2001-08-06 | 三菱化学株式会社 | スクアリリウム系化合物 |
| JP3366697B2 (ja) | 1993-08-27 | 2003-01-14 | オリヱント化学工業株式会社 | 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法 |
| TW254936B (zh) | 1993-10-22 | 1995-08-21 | Ciba Geigy | |
| JPH07126036A (ja) | 1993-10-29 | 1995-05-16 | Ohara Inc | 近赤外透過黒色フィルター用ガラス |
| JP4081149B2 (ja) | 1996-01-12 | 2008-04-23 | 山本化成株式会社 | フタロシアニン化合物を用いる湿式太陽電池 |
| JP2001040234A (ja) | 1999-08-03 | 2001-02-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 新規色素化合物 |
| EP1403666A4 (en) | 2001-07-04 | 2008-04-16 | Nippon Kayaku Kk | DIIMONIUM SALT COMPOSITION AND ABSORPTION FILTER FOR THE NEAR INFRARED RANGE AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM |
| JP2006199945A (ja) | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 低吸水性ポリイミド樹脂およびその製造方法 |
| EP1829910B1 (en) | 2004-12-24 | 2011-11-30 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Low water-absorptive polyimide resin and method for producing same |
| JP4740631B2 (ja) | 2005-04-18 | 2011-08-03 | 日本カーリット株式会社 | ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター |
| JP5140923B2 (ja) | 2005-12-19 | 2013-02-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | クロコニウム化合物 |
| JP2008163107A (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学部材 |
| JP2008163194A (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学フィルム用ポリカーボネート樹脂 |
| WO2008081892A1 (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | 光選択透過フィルター |
| JP2009108267A (ja) | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujifilm Corp | シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物 |
| JP5431001B2 (ja) | 2009-04-01 | 2014-03-05 | 株式会社Ａｄｅｋａ | シアニン化合物及び該シアニン化合物を含有する光学フィルター |
| JP5225209B2 (ja) | 2009-06-10 | 2013-07-03 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 |
| JP2011197450A (ja) | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Osaka Gas Chem Kk | プリズムシート及びその製造方法 |
| KR101931072B1 (ko) | 2011-06-06 | 2018-12-19 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 광학 필터, 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 촬상 장치 |
| CN103858028B (zh) * | 2011-10-14 | 2016-12-28 | Jsr株式会社 | 固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块 |
| WO2014034386A1 (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-06 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
| JP6020746B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-11-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP6228020B2 (ja) | 2014-01-15 | 2017-11-08 | 株式会社吉野工作所 | 搬送台車およびその製造方法 |
| KR102269949B1 (ko) * | 2014-03-11 | 2021-06-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 광학 필터를 이용한 장치, 신규 시아닌 화합물, 및 수지 조성물 |
| JP6269236B2 (ja) | 2014-03-26 | 2018-01-31 | 株式会社大真空 | バンドパスフィルタ |
| CN110596806A (zh) | 2014-12-19 | 2019-12-20 | Ａｇｃ株式会社 | 光学滤波器和使用该光学滤波器的装置 |
| US10168459B2 (en) * | 2016-11-30 | 2019-01-01 | Viavi Solutions Inc. | Silicon-germanium based optical filter |
| KR20210023565A (ko) * | 2019-08-23 | 2021-03-04 | 현대자동차주식회사 | 라이다 윈도우 일체형 광학필터 |
-
2017
- 2017-06-02 JP JP2018522454A patent/JP6777146B2/ja active Active
- 2017-06-02 WO PCT/JP2017/020632 patent/WO2017213047A1/ja active Application Filing
- 2017-06-02 US US16/306,687 patent/US11163098B2/en active Active
- 2017-06-02 CN CN202011485677.0A patent/CN112596141B/zh active Active
- 2017-06-02 CN CN201780036284.1A patent/CN109313296B/zh active Active
- 2017-06-02 KR KR1020187035234A patent/KR102425315B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-06 TW TW106118599A patent/TWI731984B/zh active
- 2017-06-06 TW TW110112765A patent/TWI792256B/zh active
-
2020
- 2020-07-27 JP JP2020126496A patent/JP6881660B2/ja active Active
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1918489A (zh) * | 2004-07-09 | 2007-02-21 | 株式会社大真空 | 光学滤波器和光学滤波器的制造方法 |
| US20070202272A1 (en) * | 2005-07-01 | 2007-08-30 | Toyo Ink Co., Ltd. | Red colored film, red colored composition, color filter and liquid crystal display device |
| CN102262254A (zh) * | 2010-05-26 | 2011-11-30 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤光片和使用近红外线截止滤光片的装置 |
| US20120145901A1 (en) * | 2010-12-10 | 2012-06-14 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared transmission filter and imaging device |
| CN103874940A (zh) * | 2011-09-15 | 2014-06-18 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器及使用近红外线截止滤波器的装置 |
| CN103930806A (zh) * | 2012-04-25 | 2014-07-16 | 株式会社艾迪科 | 波长截止滤光器 |
| CN104838294A (zh) * | 2012-12-06 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器 |
| WO2015022892A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-02-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| CN105531608A (zh) * | 2013-08-20 | 2016-04-27 | Jsr株式会社 | 滤光器及使用滤光器的装置 |
| CN105518493A (zh) * | 2013-09-06 | 2016-04-20 | 株式会社Lms | 光学滤光片及包括该光学滤光片的摄像装置 |
| CN105452911A (zh) * | 2013-10-17 | 2016-03-30 | Jsr株式会社 | 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块 |
| CN105503699A (zh) * | 2014-10-08 | 2016-04-20 | 株式会社日本触媒 | 氧碳系化合物、含有其的树脂组合物和含有该树脂组合物的滤波器 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113811568A (zh) * | 2019-05-14 | 2021-12-17 | 三井化学株式会社 | 光学部件形成用树脂组合物、成型体和光学部件 |
| CN112147731A (zh) * | 2019-06-27 | 2020-12-29 | Jsr株式会社 | 光学滤波器、固体摄像装置、照相机模块、生物体认证装置、光学滤波器用树脂层 |
| CN112147731B (zh) * | 2019-06-27 | 2023-12-05 | Jsr株式会社 | 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块 |
| CN114402017A (zh) * | 2019-10-07 | 2022-04-26 | 住友化学株式会社 | 着色树脂组合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI792256B (zh) | 2023-02-11 |
| CN109313296B (zh) | 2021-05-11 |
| CN112596141A (zh) | 2021-04-02 |
| US11163098B2 (en) | 2021-11-02 |
| TW201743439A (zh) | 2017-12-16 |
| WO2017213047A1 (ja) | 2017-12-14 |
| CN112596141B (zh) | 2022-11-15 |
| KR20190015282A (ko) | 2019-02-13 |
| TW202129933A (zh) | 2021-08-01 |
| KR102425315B1 (ko) | 2022-07-27 |
| JPWO2017213047A1 (ja) | 2019-04-04 |
| US20190227207A1 (en) | 2019-07-25 |
| JP6881660B2 (ja) | 2021-06-02 |
| TWI731984B (zh) | 2021-07-01 |
| JP6777146B2 (ja) | 2020-10-28 |
| JP2020177253A (ja) | 2020-10-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109313296A (zh) | 光学滤波器及光学传感装置 | |
| CN105452911B (zh) | 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块 | |
| CN107407754A (zh) | 光学滤波器及使用光学滤波器的装置 | |
| CN108885287A (zh) | 光学滤波器和使用光学滤波器的装置 | |
| CN103858028B (zh) | 固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块 | |
| CN104364681B (zh) | 固体摄影组件用光学滤波器及其用途 | |
| CN109642973A (zh) | 光学滤波器及使用光学滤波器的装置 | |
| CN106662686A (zh) | 光学滤波器及具备光学滤波器的环境光传感器 | |
| CN108449956A (zh) | 光学滤波器、环境光传感器及传感器模块 | |
| CN103052897B (zh) | 光学滤波器及含有它的摄像装置 | |
| JP7015128B2 (ja) | 光選択透過フィルター | |
| CN106397300A (zh) | 花青化合物、滤光片、使用滤光片的装置及树脂组合物 | |
| TW201506462A (zh) | 濾光器及使用前述濾光器的裝置 | |
| TW201906813A (zh) | 乙烯化合物、紫外線吸收劑及樹脂組合物 | |
| JP2018041047A (ja) | オキソカーボン系化合物、樹脂組成物、および光選択透過フィルター | |
| JPWO2020054786A1 (ja) | 光学フィルタおよび撮像装置 | |
| JP7231430B2 (ja) | 樹脂組成物、インクおよび光学フィルター | |
| JP7128633B2 (ja) | 樹脂組成物および光学フィルター | |
| JP7061045B2 (ja) | 積層体および光学物品 | |
| JP2020197588A (ja) | 光学フィルターおよび光学センサー装置 | |
| KR20160041786A (ko) | 옥소카본계 화합물, 이것을 함유하는 수지 조성물, 및 그 수지 조성물을 함유하는 필터 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |