CN1045401C - 清洗装置 - Google Patents

清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN1045401C
CN1045401C CN93101133A CN93101133A CN1045401C CN 1045401 C CN1045401 C CN 1045401C CN 93101133 A CN93101133 A CN 93101133A CN 93101133 A CN93101133 A CN 93101133A CN 1045401 C CN1045401 C CN 1045401C
Authority
CN
China
Prior art keywords
mounting table
cleaning
cleaned
thing
water jacket
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN93101133A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1076643A (zh
Inventor
内野正英
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Field Co Ltd
Original Assignee
Japan Field Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Field Co Ltd filed Critical Japan Field Co Ltd
Publication of CN1076643A publication Critical patent/CN1076643A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1045401C publication Critical patent/CN1045401C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/044Cleaning involving contact with liquid using agitated containers in which the liquid and articles or material are placed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明涉及适用于电子、机械部件等的清洗装置,包括能容纳载放台的外槽,使载放台位于外槽内可移动位置,而且,在载放台处于载放清洗物的状态,用被覆体密固此载放台,具有能按照清洗目的进行多种清洗作业,能对少量的清洗液进行加热蒸发,以较少的能量消耗进行被清洗物的蒸汽清洗,或对被清洗物的真空干燥,能将包含在清洗液中的气体除去,以及能显著提高超声波清洗效果等优点。

Description

清洗装置
本发明有关能对电子部件、机械部件和医疗用具等被清洗物,按清洗目的,简易地进行多种不同清洗作业的清洗装置。
传统的清洗装置如日本专利特公平3-58789号公报或特公平3551925号公报记载的发明那样,是在一个清洗槽内进行浸渍清洗、蒸汽清洗等不同的清洗作业。
这些传统装置都是使被清洗物一面移动一面进行清洗液清洗、蒸汽清洗,然而使被清洗物经常在清洗槽内露出,不能相对清洗槽另外使被清洗物在密闭状态下移动,或是在此密闭状态清洗被清洗物。
因此,以往,在对被清洗物进行蒸汽清洗场合,必需对蒸汽发生槽内的全部溶剂进行加热使发生蒸汽,需要消耗为获得必要蒸汽所需能量多得多的能量,因而不经济。
此外,用一般传统的装置采用可燃烧溶剂进行被清洗物的清洗非常危险。虽然也存在可用此可燃性溶剂进行清洗的装置,但存在装置复杂、庞大,不适宜适用的缺点。
此外,在用传统装置完成被清洗物清洗后,要对其进行干燥的场合,特别是要对被清洗物进行真空干燥的场合,需要使整个清洗槽密封,在抽出清洗液后进行真空干燥。而且,在完成真空干燥后,需取出被清洗物,将清洗液再次充填入清洗槽,进行下次清洗作业,因此,存在抽出,充入清洗液的作业复杂,作业性差的问题。
此外,上述传统装置还存在不能在一个清洗槽中连续进行清洗液清洗作业和真空干燥作业。
此外,在仅连续地进行真空干燥作业场合,需设置清洗槽和另外设置真空干燥室,将完成清洗液清洗后的被清洗物放入真空干燥室而后进行真空干燥。即使也能使用传统装置来进行此作业,然而,在清洗作业中使用溶剂的场合,在向真空干燥室移动过程中,存在产生附着在被清洗物上溶剂扩散的缺点。此外,由于需要另外设置真空干燥装置,存在整个机构庞大、价格高的缺点。
此外,如象传统装置那样,由于为使整个清洗槽成为真空状态、必需使远比被清洗物占据的空间大的空间成为真空状态,因此效率极差。
因此,本发明正是为解决上述问题而提出,目的在于提供能在一个清洗槽内高效、安全进行各种不同清洗作业的清洗装置。
为了完成上述课题的本发明的装置包括在其底部容纳清洗液的外槽、至少可沿上下方向移动位于所述外槽内、用于载放被清洗物的载放台、以及用于在载放了被清洗物状态、将载放台上被清洗物密闭覆盖的覆盖体,其特点在于通过将所述覆盖体放置在所述载放台的上面,使所述覆盖体的底部与所述载放台的上面密切接触、形成所述密闭覆盖、且通过真空抽吸可使所述密闭覆盖内成为减压状态。
若根据如上所述的本发明,在进行清洗作业时,能进行各种清洗作业。
首先,作为一例,在外槽的下底部装入清洗液,使载放被清洗物的载放台下降到此清洗液内进行浸渍。而且,用此清洗液进行被清洗物的浸渍清洗。
此浸渍清洗,若将载放被清洗物的载放台形成不能使清洗液沿上下方向流通的板状,当载放台上下运动时,由于能使外槽内的清洗液产生强烈搅拌,使被清洗物和清洗液形成强烈接触,能获得良好的清洗效果。
此外,若使载放台具备超声波振子,当使载放台在清洗液内上下运动,能一面使被清洗物和清洗液产生强烈接触,同时进行超声波清洗,使清洗效果提高。
若使载放台具备回转机构,能使被清洗物一面回转而进行清洗,即使在进行具有凹部的被清洗物清洗时,成为能向凹部确实供给清洗液,此外,在完成浸渍清洗后,也能有效进行液流切断。
在结束用此清洗液的清洗后,使载放台上升,和移动到没有清洗液的位置为止。其后,用覆盖体密闭覆盖载放台的上面,用设置在外槽内的加热装置,从外周对载放台和覆盖体进行加热。
利用此加热对残存在载放台和被清洗物内的少量清洗液加热蒸发。用此清洗液的加热蒸发,能以较少的能量对被清洗物进行蒸汽清洗作业。
在进行被清洗物的清洗作业时使用可燃性溶剂的场合,能用覆盖体对载放被清洗物的载放台进行密闭覆盖,在此密闭状态用可燃性溶剂进行清洗作业。同时,当预先向外槽内充填完全氟化液化气、氦等不燃性气体,能防止引火。此外,在万一发生引火场合,也能用外槽内的不燃性气体自动进行灭火。
当通过接口把和外部机构连通的柔性连接管和被覆载放台的覆盖体相连,能进行更多种多样的清洗作业。
例如,若使真空泵和连接管连接且使其动作,能在用覆盖体使载放台成为密闭状态,对用载放台和覆盖体形成的清洗室内的被清洗物进行真空干燥。
此外,若在使载放台的被清洗物和清洗液接触后,用覆盖体使此载放台密闭,使清洗室形成真空减压,能抽出除去包含在清洗室内清洗液中的气体。通过除去此清洗液中的气体,成为使超声波振动极易在清洗液中传播。因此能显著提高用设置在载放台上的超声波振子的超声波清洗效果,能效果极高地进行超声波清洗。
此外,若用覆盖体密闭载放台,在使清洗室成为减压状态进行被清洗物的蒸汽清洗时,具有各种优点。
也就是即使使用含有碳化氢系、萜烯系、亲水性以及硅系溶剂等可燃性溶剂,由于是在减压环境中,在空气极稀薄状态进行蒸汽清洗,因此,使引火危险极少,能安全地进行蒸汽清洗。
此外,若在减压环境进行蒸汽清洗,能以比在常压下使溶剂沸腾产生蒸汽还要低的温度产生蒸汽,从而能以此低的蒸汽温度进行被清洗物的蒸汽清洗。因此,即使对于包含不耐高温材料的被清洗物,能使用沸点为100℃以上的溶剂,以100℃以下的较低温度进行蒸汽清洗。因此,能不受被清洗物的耐热性质的约束,自由地进行被清洗物的蒸汽清洗。
此外,在进行减压状态的蒸汽清洗场合,完成蒸汽清洗后,停止清洗蒸汽供给时,从仅是在减压环境内不存在蒸汽的减压状态,能用此减压进行因蒸汽清洗受到普遍加热的被清洗物的减压真空干燥,成为能使被清洗物迅速干燥。
此外,若在外槽内下端没浸渍清洗部,在此浸渍清洗部的上部设上部作业室,在此上部作业室的上部设被清洗物的出入室,能用一个清洗槽进行浸渍清洗、蒸汽清洗那样的不同的清洗作业。
此外,不仅是浸渍清洗和蒸汽清洗那样的机构,也可向用覆盖体密闭的清洗室内导入和浸渍清洗部不同的清洗液,进行清洗作业。也就是可在浸渍清洗部进行被清洗物的第1次清洗,在上部作业室,向用覆盖体密闭的清洗室内导入不同的清洗液,进行最后的清洗等。
对附图的简单说明。
图1为本发明实施例装置的剖面图,
图2为覆盖体部分的放大俯视图,
图3为清洗室部分的放大剖面图。
实施例
以下参照附图对本发明一实施例进行说明,1为外槽,将充填了清洗液2的浸渍清洗室3设置在其下端部。
在此浸渍清洗室3的上部内周表面上盘绕着冷却盘管而形成上部作业室5。进而在此上部作业室5的上部形成被清洗物6的出入室7。此外,沿图1的前后方向形成此出入室7的出入口(图中未表示),此出入室的上端用盖板8密封。
在外槽1的内部放入载放被清洗物6、进行清洗作业的载放台10。此外,将此载放台10形成不使清洗液2沿上下方向流通的板状,在载放台10上下运动时,能使外槽1内的清洗液2强烈搅拌,使被清洗物6和清洗液的接触强烈,达到良好的清洗效果。
在载放台10的上面形成超声波振子11,这样,使载放台10在清洗液2内上下运动,使被清洗物6和清洗液2的接触强烈的同时,还能进行超声波清洗,使清洗效果提高。
在载放台10的上面形成超声波振子11,在此载放台10的上面用覆盖体13进行覆盖。
将此覆盖体13的断面形成形状,使其下端能和载放台10的上面密切接触地进行载放的同时,在其内部空间形成清洗室14。
在此覆盖体13的外周两侧伸出形成导向片15,使导杆17能自由滑动地安放在导向片15的结合孔16内。将此导杆17的下端固定在载放台10上。当上下动时,使覆盖体13不产生沿横方向摇动,而只能上下移动。
使开关链条20和在覆盖体13的上端面上形成的安装件18相连,通过滑轮22使此开关链条20和在外槽1的盖板8上形成的传动轴21相连。用固定在外槽1外面的电动机23使传动轴21回转,从而形成通过开关链条20能使覆盖体13的下端和载放台10分离和上升。
使载放台10和升降链条24相连,通过滑轮26使此升降链条24和在外槽1的盖板8上形成的回转轴25相连,使其能在外槽1内上下移动。
上述升降链条24和开关链条20是用同一个电动机23使进行动作,然而可通过图中未表示的转换装置能各别地使进行动作。
在此载放台10的外周四角伸出设置安装件27,使载放台导杆28滑动自由地插通在此安装件27内,使此载放台导杆28和外槽1的下端相连,通过使载放台导杆28垂直地位于上下方向,形成在用链条24使载放台进行升降时,载放台10不沿横向摇动。
覆盖体13是在其顶板29上形成连接口30和31,且使其分别与连接管32和33相连。而且,使连接管32和与外槽1分别形成的,为进行被清洗物6的清洗作业必要的外部机构(未图示)相连。
此外部机构能按照清洗目的进行任意选择。例如,可将此外部机构作为清洗蒸汽槽,能向清洗室14内供给清洗蒸汽。
此外,在其他例中,将外部机构作为真空泵,使与连接管32的另一端相连,能通过使清洗室14内成为真空状态对被清洗物6进行真空干燥。
此外,用覆盖体13使载放台10密封,能在使清洗室14成为减压状态,对被清洗物6进行蒸汽清洗。在此场合,即使使用含碳化氢系溶剂、萜烯系溶剂、亲水性溶剂、硅系溶剂等可燃性溶剂,由于是在减压气氛中,在空气极稀薄状态下进行蒸汽清洗,将引火的危险性降到最小,因而能安全地进行蒸汽清洗。
若能在减压气氛进行蒸汽清洗,能比在常压下使溶剂沸腾而产生蒸汽的温度还低的温度发生蒸汽,且以此低的蒸汽温度进行被清洗物6的蒸汽清洗。因此,即使对于具有不能耐高温材料的被清洗物,能使用沸点为100℃以上的溶剂,在100℃以下的低温进行蒸汽清洗。因此,能不受被清洗物6的耐热性等的约束而自由地进行被清洗物的蒸汽清洗。
在减压下进行蒸汽清洗场合,若在完成蒸汽清洗后,停止供给清洗蒸汽的话,由于用覆盖体13进行密闭的减压气氛成为仅是不存在蒸汽的减压状态,能利用此减压,对用蒸汽清洗时得到普遍加热的被清洗物6进行减压真空干燥,能使被清洗物6迅速干燥。
若向清洗室14内放入和引入被清洗物6和清洗液2后,使此清洗室14密闭,将清洗室14内维持真空减压,能将包含在清洗室14内的清洗液2中的气体抽吸除去。通过除去此清洗液2中的气体,能使超声波振动极易在清洗液中传递。因此,能显著提高设置在载放台10内的超声波振子11的超声波清洗效果,能效率极高地进行超声波清洗。
使蒸汽发生槽34和外槽1相连。此蒸汽发生槽34通过在其内部放入适宜的溶剂35,用加热器36加热溶剂35就能产生蒸汽。在此蒸汽发生槽34和外槽1的浸渍清洗部3的上部开设蒸汽导入口37,形成能向上部作业室导入蒸汽。此外,此蒸汽发生槽34在能通过连接管32从外部机构供给清洗蒸汽的场合成为不必要。
在外槽1的外周,相隔一定间隔用保护层38进行覆盖,能防止万一发生溶剂蒸汽向外部泄漏。但也不一定需要。
根据如上所述构成的装置,能进行被清洗物6的清洗中的各种清洗作业。作为一例,使载放台10位于外槽1的出入室7内,将外槽1的出入口(未图示)打开。将被清洗物6载放在载放台10上或载放在设置在载放台10上的出入辊39上。
接下来,使电动机23动作,通过同时使开关链条20和升降链条24下伸,使载放台10下降至设置在外槽1的下端的浸渍清洗部为止,将载放台10和被清洗物6浸渍在清洗液2中。
而且,通过采用使此浸渍清洗部3内的超声波振子动作等方法,进行被清洗物6的浸渍清洗。此外,此浸渍清洗通过让升降链条24作小范围的上下运动,而使载放台10进行上下摇动,且因将载放台10形成不能使清洗液2沿上下方向流通的板状,当载放台10上下运动时,能使外槽1内的清洗液2得到强烈搅拌。因此,使被清洗物6和清洗液2的接触更强烈,能得到良好的清洗效果。
此外,由于在载放台10的上面设置超声波振子11,能一面使载放台10在清洗液2内上下运动,而使被清洗物6和清洗液2的接触加强,同时能进行超声波清洗,因此能提高清洗效果。
此外,也可以将能使被清洗物6或容纳被清洗物6的清洗笼回转的回转机构组装到载放台10,形成使被清洗物6一面回转而进行清洗。
接着,在完成此浸渍清洗后,使电动机动作,用升降链条24使载放台10移动到设在浸渍清洗部3的上方的上部作业室5为止。在此上部作业室5内,用在蒸汽发生槽34发生的,从导入口37导入的清洗蒸汽进行被清洗物6的蒸汽清洗。在此场合,使载放台10和覆盖体13分离,保持开放状态。
而且,在完成蒸汽清洗,使导入口37密闭后,向冷却管4通入冷却水,进行蒸汽的冷凝。用此蒸汽的冷凝进行被清洗物6的冷却干燥。
此外,作为另外的方法,也可以在上部作业室5中,将覆盖体13载放在载放台10上,在使清洗室14内成为密闭状态后,使真空泵和连接管32的另一端相连,能使清洗室14内成减压状态,进行被清洗物6的减压干燥。
此外,在另一不同的应用例中,也可以预先在上部作业室5内设置加热器(未图示),通过使此加热器动作来加热用覆盖体13密闭的清洗室14,对放置在清洗室14内的被清洗物6进行加热干燥。
在此场合,如果还使清洗室14内成为减压状态,由于能进行加热干燥的同时,还能进行减压干燥,因而能更迅速可靠地进行被清洗物6的干燥。
此外,在上述实施例中,在进行被清洗物6的蒸汽清洗时,使从邻接外槽1设置的蒸汽发生槽34发生蒸汽,然而,也可不必如此,可以根据在从浸渍清洗部3上升的载放台10和被清洗物6上是否残留少量清洗液2,而充填另外的溶剂,用覆盖体13进行密闭,用设置在上部作业室5的内面上加热器(未图示)进行加热,利用此加热,使在清洗室14内发生蒸汽,用此蒸汽进行被清洗物6的蒸汽清洗。
用这样的构造,能避免在蒸汽发生槽34中必需一时对大量的溶剂进行加热汽化产生不经济问题,如仅对残留在清洗室14内的少量清洗液进行加热汽化,可进行经济的蒸汽清洗。
当使此蒸汽清洗在用覆盖体13密闭的清洗室14成为减压状态进行时,即使使用含碳化氢溶剂、萜烯系溶剂、亲水性溶剂和硅系溶剂等可燃性溶剂,因引火的危险性极少,能安全地进行蒸汽清洗。
此外,若在减压环境进行蒸汽清洗,由于能以较低的温度产生蒸汽,即使对于包含不能耐高温材料的被清洗物6,采用高沸点溶剂,对被清洗物6的耐热性等没有约束,能自由地进行被清洗物的蒸汽清洗。
在进行减压蒸汽清洗场合,由于只要停止供给清洗蒸汽,使减压环境成为不存在蒸汽的减压状态,能用此减压对因蒸汽清洗而得到普遍加热的被清洗物6进行减压真空干燥,因而能使被清洗物6迅速得到干燥。
此外,在上述实施例中,是用开关链条20使覆盖体13能上下运动,但也未必一定这样,也就是将覆盖体13固定在出入室7上端等的适当位置,通过使载放台10移动而和覆盖体13密切接触时将载放台10覆盖,只要形成能将清洗室14密闭就可以。在此场合,具有省去使覆盖体13上下运动机构的优点。但却不具有能在外槽1的上下方向的任意位置形成密闭的清洗室14的优点。
此外,在上述各实施例中,是采用使载放台10、覆盖体13等沿上下方向移动的结构,然而也可以沿外槽1内的横向设置多个浸渍清洗部3,使载放台10、覆盖体13等也能沿横方向移动。
在上述各实施例中,是使用溶剂作为清洗液,然而也可以使用水溶性清洗剂,能按照清洗目的选择任意的清洗液。
由于本发明为如上所述构造,和传统的在清洗槽(本发明的外槽)内使被清洗物露出进行清洗作业方法,能按照清洗目的进行多种清洗作业。
首先,在完成用清洗液的清洗后,使被清洗物和载放台一起上升,在没有清洗液的位置,用覆盖体使被清洗物密闭,从外周对其进行加热,由于对残留在较小容积清洗室内的少量清洗液进行加热蒸发,能以较少的能量进行蒸汽清洗作业。
此外,通过在外槽内充填不可燃烧气体,能在密闭的较小容积的清洗室内,用可燃烧性溶剂安全地进行被清洗物的清洗。
此外,若将和外部机构连通的连接管和覆盖体相连的话,能进行更多样的清洗作业。
例如,使真空泵和连接管相连接,在外槽内完成浸渍清洗后,将被清洗物引入清洗室内,能在同一的清洗装置内进行和浸渍清洗相连续的真空干燥作业。
此外,若在减压状态进行蒸汽清洗,即使对耐热性低的被清洗物,能用高沸点溶剂进行不受温度条件约束的清洗。
此外,成为能在同一的清洗装置中,在浸渍清洗部和用覆盖体密闭的清洗室内进行用不同清洗液的清洗,能容易地进行第1次清洗和漂洗等不同的清洗作业。
此外,在若将被清洗物和清洗液导入用覆盖体密闭的清洗室内后,进行真空减压,成为能抽吸除去包含在清洗室内的清洗液中的气体,使超声波振动极易在清洗液中传播,能显著提高用超声波振子的超声波清洗效果,能以极好的效果进行超声波清洗。

Claims (9)

1.清洗装置,包括在其底部容纳清洗液的外槽、至少可沿上下方向移动地位于所述外槽内、用于载放被清洗物的载放台、以及用于在载放了被清洗物状态,将载放台上被清洗物密闭覆盖的覆盖体,其特征在于通过将所述覆盖体放置在所述载放台上面,使所述覆盖体的下端面与所述载放台的上面密切接触、形成所述密闭覆盖、且通过真空抽吸可使所述密闭覆盖内成为减压状态。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于在所述被覆体上形成为进行清洗作业必需的与外部机构连接的接口。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于将所述被覆体形成可在所这外槽内至少沿上下方向移动。
4.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于将所述被覆体形成固定在外槽内的一定位置上。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于将所述载放台形成使清洗液不能沿上下方向流通的板状,当所述载放台沿上下方向运动时,能使外槽内的清洗液得到强烈搅拌。
6.根据权利要求1或5所述的装置,其特征在于在所述载放台具备超声波振子。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于所述载放台具备使被清洗物回转的机构。
8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于所述被覆体通过连接管和减压机构相连。
9.根据权利要求1所述的装置,其特征在于在外槽内的下端设浸渍清洗部,在此浸渍清洗部的上部设上部作业室,在此上部作业室的上部设被清洗物的出入室。
CN93101133A 1992-01-22 1993-01-22 清洗装置 Expired - Lifetime CN1045401C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31407/92 1992-01-22
JP3140792 1992-01-22
JP431407 1992-01-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1076643A CN1076643A (zh) 1993-09-29
CN1045401C true CN1045401C (zh) 1999-10-06

Family

ID=12330410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN93101133A Expired - Lifetime CN1045401C (zh) 1992-01-22 1993-01-22 清洗装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5499642A (zh)
JP (1) JP2804210B2 (zh)
KR (1) KR970009342B1 (zh)
CN (1) CN1045401C (zh)
AU (1) AU3366893A (zh)
TW (1) TW213873B (zh)
WO (1) WO1993014885A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102626701A (zh) * 2012-05-07 2012-08-08 舟山市金秋机械有限公司 一种超声波清洗装置

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997029860A1 (fr) * 1996-02-15 1997-08-21 Japan Field Co., Ltd. Appareil de nettoyage
JP3171807B2 (ja) * 1997-01-24 2001-06-04 東京エレクトロン株式会社 洗浄装置及び洗浄方法
US5996596A (en) * 1997-11-19 1999-12-07 Coburn Optical Industries, Inc. Method and apparatus for cleaning ophthalmic lenses and blocks
US6214128B1 (en) * 1999-03-31 2001-04-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method and apparatus for preventing silicon hole defect formation after wet cleaning
DE10317275A1 (de) * 2003-04-11 2004-11-11 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen
DE502004004812D1 (de) * 2003-04-11 2007-10-11 Dynamic Microsystems Semicondu Vorrichtung und verfahren zum reinigen und trocknen von bei der herstellung von halbleitern verwendeten gegenständen, insbesondere von transport- und reinigungsbehältern für wafer
DE10347464B4 (de) * 2003-10-02 2010-05-12 Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen und Trocknen von Halbleitererzeugnissen oder von bei der Herstellung von Halbleitererzeugnissen verwendeten Handhabungskörben
US7444761B2 (en) * 2006-03-06 2008-11-04 Gray Donald J Intrinsically safe flammable solvent processing method and system
JP4846057B1 (ja) * 2011-03-17 2011-12-28 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄装置
CN102698977A (zh) * 2011-03-28 2012-10-03 东莞新科技术研究开发有限公司 真空清洗装置
RU2541075C1 (ru) * 2013-07-15 2015-02-10 Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Институт "Гермес" Способ очистки изделий
JP2017202469A (ja) * 2016-05-13 2017-11-16 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄方法及びその装置
DK179189B1 (en) * 2016-07-06 2018-01-22 Techsave As Method for restoring damaged electronic devices by cleaning and apparatus
CN106563666A (zh) * 2016-11-11 2017-04-19 中国海洋石油总公司 一种全自动重矿泥砂分离仪及分离重矿泥砂的方法
KR101942870B1 (ko) * 2017-06-16 2019-04-29 (주)소니텍 하이브리드 내금형 세척장치
CN107931235B (zh) * 2017-11-07 2020-12-15 无锡市第二人民医院 一种医疗用手术器械高效清洗消毒设备
JP7232395B2 (ja) * 2019-03-16 2023-03-03 株式会社不二越 真空脱脂洗浄装置およびそれを用いた真空脱脂洗浄方法
CN112605084A (zh) * 2020-12-25 2021-04-06 红云红河烟草(集团)有限责任公司 自动清洗胶缸装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624552Y2 (zh) * 1977-08-05 1981-06-09
JPS5858181A (ja) * 1981-10-01 1983-04-06 ジヤパン・フイ−ルド株式会社 被洗滌物の噴射洗滌方法および装置
JPH0347576A (ja) * 1989-07-13 1991-02-28 Marine Instr Co Ltd 洗浄乾操方法並びにその装置
JPH0319996Y2 (zh) * 1985-09-30 1991-04-26

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1959215A (en) * 1932-02-09 1934-05-15 Pittsburgh Plate Glass Co Process and apparatus for making case hardened glass
JPS5624552A (en) * 1979-08-07 1981-03-09 Toshiba Corp Polarization curve measuring apparatus
JPS56141887A (en) * 1980-04-04 1981-11-05 Japan Field Kk Washing method and its device
US4471792A (en) * 1981-11-24 1984-09-18 Lpw Reinigungstechnik Gmbh Apparatus for the treatment of articles with a volatile liquid
JPS5939682U (ja) * 1982-09-08 1984-03-13 ジヤパン・フイ−ルド株式会社 洗浄装置
US4558524A (en) * 1982-10-12 1985-12-17 Usm Corporation Single vapor system for soldering, fusing or brazing
JPS6212470U (zh) * 1985-07-05 1987-01-26
JPH0679703B2 (ja) * 1986-11-06 1994-10-12 トヨタ自動車株式会社 有機溶剤洗浄装置
JPS6324754A (ja) * 1986-07-16 1988-02-02 Nec Corp 端末制御方式
US4817652A (en) * 1987-03-26 1989-04-04 Regents Of The University Of Minnesota System for surface and fluid cleaning
US4911189A (en) * 1988-02-16 1990-03-27 Halbert James B Motorized vapor degreaser
JP2641729B2 (ja) 1988-03-22 1997-08-20 株式会社千代田製作所 被洗浄物の処理方法及び装置
JPH023831U (zh) * 1988-06-13 1990-01-11
JPH023831A (ja) * 1988-06-17 1990-01-09 Nec Corp 複数ソースプログラム言語処理方式
JPH0319996A (ja) * 1989-06-13 1991-01-29 Shin Nippon Burasuto Kaihatsu Kk 自然葉形を呈する受紙の製造方法およびその受紙
JPH0319996U (zh) * 1989-07-07 1991-02-27
JPH03238072A (ja) * 1990-02-09 1991-10-23 Japan Fuirudo Kk 洗浄装置
JPH049885A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Mita Ind Co Ltd 画像形成装置用現像装置
JPH0437580A (ja) * 1990-06-01 1992-02-07 Ricoh Co Ltd 感熱記録紙
JPH0437580U (zh) * 1990-07-19 1992-03-30
JP2593237B2 (ja) * 1990-07-31 1997-03-26 三菱電機株式会社 浸漬洗浄装置
JPH0448267U (zh) * 1990-08-24 1992-04-23
JPH071796Y2 (ja) * 1990-12-28 1995-01-18 大日本スクリーン製造株式会社 浸漬型基板処理装置
US5143103A (en) * 1991-01-04 1992-09-01 International Business Machines Corporation Apparatus for cleaning and drying workpieces

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624552Y2 (zh) * 1977-08-05 1981-06-09
JPS5858181A (ja) * 1981-10-01 1983-04-06 ジヤパン・フイ−ルド株式会社 被洗滌物の噴射洗滌方法および装置
JPH0319996Y2 (zh) * 1985-09-30 1991-04-26
JPH0347576A (ja) * 1989-07-13 1991-02-28 Marine Instr Co Ltd 洗浄乾操方法並びにその装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102626701A (zh) * 2012-05-07 2012-08-08 舟山市金秋机械有限公司 一种超声波清洗装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05261347A (ja) 1993-10-12
CN1076643A (zh) 1993-09-29
WO1993014885A1 (en) 1993-08-05
TW213873B (en) 1993-10-01
US5499642A (en) 1996-03-19
JP2804210B2 (ja) 1998-09-24
KR970009342B1 (en) 1997-06-10
AU3366893A (en) 1993-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1045401C (zh) 清洗装置
JP2639771B2 (ja) 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
US5232476A (en) Solvent recovery and reclamation system
JP3347814B2 (ja) 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
CN1059362C (zh) 超声波脱脂装置
CN1442881A (zh) 干燥洗涤物的装置和方法
CN215638381U (zh) 一种分层式真空冷冻干燥机
CA1175319A (en) Process and apparatus for controlling losses in volatile working fluid systems
CN113800473A (zh) 一种使用压缩空气的工业制氧机
CN212093429U (zh) 一种ipa干燥设备
CN100337311C (zh) 纵型热处理装置
CN108871692A (zh) 一种锂电池自动化检测生产线及其检测方法
JPS62502107A (ja) 集積回路製造用の反応室として使用される石英管内の初期清浄度状態回復手段
US4263053A (en) Method for cleaning and drying hollow fibers
CN213254480U (zh) 一种新型活性炭再生炉装置
CN211802758U (zh) 一种石油钻头清洗装置
CN210596231U (zh) 一种软氮化热处理连续炉
JP3545531B2 (ja) 処理装置および処理方法
KR20100053126A (ko) 웨이퍼의 린스 및 건조를 위한 방법 및 장치
JP3982573B2 (ja) 基板の洗浄・乾燥処理装置
JP2820324B2 (ja) ワークの乾燥装置
CN220015435U (zh) 一种具有进气口过滤结构的真空泵
CN109302022B (zh) 一种用于电机浇浸过程中的真空预烘设备
JPS60174889A (ja) 洗浄装置
CN117190753B (zh) 一种蒸汽锅炉尾气降温装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CX01 Expiry of patent term

Expiration termination date: 20130122

Granted publication date: 19991006