JPH0347576A

JPH0347576A - 洗浄乾操方法並びにその装置

Info

Publication number: JPH0347576A
Application number: JP17913289A
Authority: JP
Inventors: Kazuki Kubo; 和樹久保
Original assignee: Marine Instr Co Ltd
Current assignee: Marine Instr Co Ltd
Priority date: 1989-07-13
Filing date: 1989-07-13
Publication date: 1991-02-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は洗浄乾燥方法並びに該装置を用いて行う洗浄方
法に関し、特にアルカリ等の水溶性洗剤や水等を用いて
洗浄した後のすすぎ工程及び乾燥工程の改良に関する。

［背景技術１従来、この種の洗浄乾燥装置を用いて被洗浄物に付着し
た水を乾燥する方法としては種々のものが知られている
。

第１に、空気吹き付けによる乾燥方法がある。

これは、洗浄物に空気を吹き付けて乾燥させるものであ
る。

第２に、熱風乾燥による方法がある。

第３に、遠赤ヒーターによる方法がある。

第４に、フロン、トリエタン等の有機溶剤からなるベー
パーを用いて乾燥する方法がある。

上記以外の方法もあるが、特に第４の方法であるフロン
（Ｒ−１１３）は洗浄効率等が良いので広く用いられて
いる。

［発明が解決しようとする課題］しかしながら、従来の洗浄装置では以下のような欠点が
ある。

すなわち、第１に、空気吹き付けによる方法は、直接洗浄物への吹
き付は面以外には効果が少なく、静電気への配慮も必要
となる欠点がある。

第２及び第３の熱風乾燥、遠赤ヒーターによる方法では
、洗浄物乾燥後に乾燥シミ等が発生し易くなり、乾燥時
間も長（掛るという欠点がある。

第４のフロン等のペーパーを用いる方法では、洗浄装置
内の溶剤ガスの拡散に伴なう人体への悪影響、オゾン層
の破壊、地下水汚染等の環境汚染を招き、ランニングコ
ストも掛るという欠点がある。

そこで、本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたも
ので、洗浄効率を低下させることなく純水による蒸気洗
浄及び乾燥が可能であり、洗浄装置内の溶剤ガスの拡散
に伴なう人体への悪影響、オゾン層の破壊、地下水汚染
等の環境汚染の恐れがな（、ランニングコストの低減等
を図ることのできる洗浄乾燥方法並びにその装置を提供
することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］本発明は、加熱手段と、霧を発生させる霧発生手段とを
有する水蒸気発生手段であって、前記加熱手段による加
熱に加えて前記霧発生手段による霧発生により水蒸気発
生を促進させるようにしたものである。

［実施例］次に本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明す
る。

第１図において、洗浄乾燥装置は搬送手段（図示せず）
により糸外の■工程から搬送されてくる洗浄物を収納し
て■工程にて蒸気洗浄し、■工程で乾燥された後は他工
程へ移送するように構成されている。

この洗浄乾燥装置は、装置底部に超音波発生器１が設け
られており、この超音波発生器１は約１００ＫＨｚ以上
の高い周波数を発生するように構成されている。この洗
浄装置の槽内には水２が所定の高さまで満たされており
、この水２は槽内底部に配置されているヒーター３によ
り略８０″Ｃ以上に加熱されて蒸発し、水蒸気４が得ら
れるが、ヒーター３だけによる水蒸気は常圧煮沸下では
１００＠ｃ以上には上昇しない、しかも水自身の蒸発熱
が５３２Ｋｃａｌ／ｋｇ　（ａｔｌｏｏ。

Ｃ）と高いため、水蒸気発生効率が悪く、洗浄物表面で
の凝縮量が少ない。更に、空気中への拡散により、水蒸
気密度も低いため、従来からも水の煮沸による蒸気洗浄
及び乾燥は不充分である。しかしながら、この水２に上
記超音波発生器１により液中に高周波超音波が照射され
ると、鉛直上方に向う液体中の超音波は自由表面（液面
）での音の２倍の振動数の表面波の網目を作り、振幅が
増すと山が砕けて霧となり水２が霧化され蒸発が促進さ
れる。また、液滴の大きさは振動数に逆比例して小さ（
なる。この加熱された水蒸気４は槽の上部に設けられた
排気口５より図示せぬ回収器側に送られて回収される。

上記構成よりなる装置の作用について説明する。

まず、水２がヒーター３で略８０”ｃ以上に加温されて
、超音波発生器１が励振され高周波の超音波が液中に照
射されると、この超音波の作用により水２の蒸発が促進
（″ｎ化促進）されて高密度の水蒸気４が得られる。こ
の状態で洗浄物を■工程から■工程に移動させて蒸気洗
浄を行い、この工程終了後＠工程に洗浄物を移動させて
乾燥させる。この乾燥後は◎工程の位置から系外に移動
させる。

上記洗浄工程において、ヒーターのみで水２を加温して
煮沸状態とすることができるが、高周波の超音波を併用
することによって略３乃至５倍程度の水蒸気密度を得る
ことができる。

第２図は第１図の実施例を更に具体化した実施例を示す
図である。第１図と路間−の構成及び機能を有するもの
については同じ符号を用いて説明する。

第２図に示す洗浄装置は、装置最下部に所定の高さまで
水２が満たされた冷却槽６が設けられている。この冷却
槽６の内周には冷却コイル８が配設されている。この冷
却コイル８により水２は冷却される。前記冷却槽６と並
列に蒸気発生槽７が配置されている。この蒸気発生槽７
の槽内には所定の高さまで水２が満たされており、この
水２は槽内下部に配設されたヒーター３により略８０’
Ｃ以上に加温される。この蒸気発生槽７の最下部には超
音波発生器１が取付けられている。この超音波発生器１
から発生する高周波超音波振動により水２の蒸発が霧化
促進されて高密度の水蒸気が得られる。また、前記冷却
を曹６の上方の装置周面には再加熱ヒーター９が取付け
られている。この再加熱ヒーター９は、水蒸気を槽内で
更に加熱して過熱水蒸気４ａとするためのものである。

この過熱水蒸気４ａが充満する室の上部には槽内シャッ
ター１０が設けられている。この槽内シャッター１０は
装置系外、すなわち連通された冷却槽６及び過熱水蒸気
４ａが満たされる室と直交する方向に突出して一体に形
成されたシャッターボックス１１内をシリンダー等の図
示せぬ駆動手段により往復する。このシリンダーの作動
による槽内シャッター１０の開閉動作により過熱水蒸気
４ａが充満する領域が密閉状態となるように構成されて
いる。この槽内シャッター１０が第２図に示すように閉
じていると、過熱水蒸気４ａは加圧される。したがって
、この状態で再加熱ヒーター９を併用作動させると過熱
水蒸気４ａはほぼ１２０ａ乃至１５０”ｃ程度まで昇温
され、洗浄物も同様に昇温される。前記シャッターボッ
クス１１の上部には排気口５が設けられており、この排
気口５から過熱水蒸気４ａは図示せぬ回収器側へ送られ
て回収される。この排気口５の更に上部には補助ヒータ
ー１２が取付けられている。この補助ヒーター１２は水
の蒸発により洗浄物から熱が奪われるのを防ぐため再加
熱乾燥を行うためのものである。

上記構成よりなる本発明の作用について第２図を用いて
詳細に説明する。

まず、他工程で洗浄された洗浄物は第２図に示す■工程
から■工程に図示せぬ搬送手段により搬送される。この
■工程で洗浄物は冷却槽６により冷却される。この冷却
された洗浄物は◎工程に引き上げられて蒸気発生槽７及
び超音波発生器１により発生され、再加熱ヒーター９に
より生成された高密度の過熱水蒸気４ａにより蒸気洗浄
される。この蒸気洗浄は洗浄物と過熱水蒸気４ａの温度
差により過熱水蒸気４ａが凝縮されて洗浄される。この
時、槽内シャッター１０は図示せぬシリンダーが作動し
て閉じている。すなわち、洗浄物が■工程及び◎工程の
時は閉じている。この槽内シャッター１０により槽内は
加圧されるので、過熱水蒸気４ａの温度は上昇する。更
に、再加熱ヒーター９により過熱水蒸気４ａの温度は１
．２０’乃至１５０’ｃ程度まで昇温され、洗浄物も同
温度まで昇温される。この蒸気洗浄後、■工程から槽内
シャッター１０を開けて■工程に移す。この■工程では
補助ヒーター１２により洗浄物から熱を奪われるのを防
ぎ洗浄物を乾燥処理する。この乾燥処理後、■工程に洗
浄物を移動して系外に搬送する。

なお、本実施例では、補助ヒーター１２を設けるように
しているが、洗浄物の形状が薄いもの等ではなく洗浄物
自身の熱容量が大きいものであれば設けなくてもよい。

また、本実施例では水蒸気発生は高周波超音波照射を併
用しながら加熱して発生するようにしているが、スプレ
ー等を用いて噴霧することにより霧を発生させるように
してもよい。

また、本実施例では水を用いているが、水にアルコール
またはケトンのような浸水性の揮発性の溶剤を混合した
ものを用いるようにしてもよい。

［発明の効果コ以上説明したように本発明によれば、 ■高周波の超音波発生器を用いているので水の蒸発を霧
化促進させ、高亨度の水蒸気を得ることができる効果が
ある。

■また、本発明はフロン、トリエタン等の有機溶剤を用
いずに水を用いて蒸気洗浄及び乾燥処理することができ
るので、人体への悪影響、オゾン層の破壊、大気汚染、
地下水汚染等の環境汚染を招くことがないので人体に悪
影響を及ぼすことがない。また、装置全体の構成も簡略
化できるのでコストも低減され優れた効果を発揮できる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の洗浄装置の構成を示す図、第２図は第
１図の洗浄装置の具体的適用例を示す図である。 ■・・・超音波発生器、２・・・水、３・・・ヒーター
、４・・・水蒸気、４ａ・・・過熱水蒸気、５・・・排
気口、６・・・冷却槽、７・・・蒸気発生槽、８・・・
冷却コイル、９・・・再加熱ヒーター　１０・・・槽内
シャッター　１１・・・シャッターボックス、１２・・
・補助ヒーター

Claims

【特許請求の範囲】

（１）加熱手段と、霧を発生させる霧発生手段とを有す
る水蒸気発生手段であって、前記加熱手段による加熱に
加えて前記霧発生手段による霧発生により水蒸気発生を
促進させるようにしたことを特徴とする洗浄乾燥方法。
（２）前記霧発生手段は加熱された水をスプレーによっ
て霧化するようにしたことを特徴とする請求項１記載の
洗浄乾燥方法。
（３）前記霧発生手段は１００ＫＨｚ以上の超音波であ
ることを特徴とする請求項１記載の洗浄乾燥方法。
（４）加熱手段と、霧を発生する霧発生手段とを有する
水蒸気発生手段と、槽内の所定位置に前記水蒸気発生手
段により槽内に発生された水蒸気を一定空間内に密閉で
きる開閉手段とを備えたことを特徴とする洗浄乾燥装置
。
（５）加熱手段と、霧を発生する霧発生手段とを有する
水蒸気発生手段と、槽内の所定位置に前記水蒸気発生手
段により槽内に発生された水蒸気を一定空間内に密閉で
きる開閉手段と、該開閉手段により密閉された水蒸気を
加熱可能な再加熱手段を備えたことを特徴とする洗浄乾
燥装置。