JP3163239B2 - プリント基板の表面水除去装置 - Google Patents
プリント基板の表面水除去装置Info
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/227—Drying of printed circuits
Description
水除去装置は、プリント基板の表面(プリント基板の外
面及びそれに開口されているスルーホールを含む)に付
着している水(表面付着水)を除去して、プリント基板
を乾燥させるためのものである。
リント基板の水洗い洗浄工程、洗浄後の乾燥工程があ
る。プリント基板を乾燥するには、従来は、図4に示す
ような熱風乾燥や、図5に示すようなスピン乾燥を行な
うのが一般的であった。図4の熱風乾燥はコンベアDで
搬送されるプリント基板Aに40〜100℃の乾燥した
熱風を吹きかけて同基板Aに付着している水分を蒸発さ
せるものであり、図5に示すスピン乾燥はプリント基板
Aを高速回転する回転板Cの上にセットして高速回転さ
せ、遠心力でプリント基板Aに付着している水を吹き飛
ばすものである。
ては、水が乾燥した跡に水のシミが残るという問題があ
った。また図5のスピン乾燥においては、図6(a)
(b)に示すようにプリント基板Aの孔B内や凹凸部に
ある水が飛ばされにくく、完全な乾燥が難しいという問
題があった。さらにプリント基板Aを回転板Cにセット
しなければならないため、流れ作業の一環として乾燥を
行なうことができなかった。
場合、例えば生花の場合には熱風乾燥すると生花が傷ん
だり、弱ったりし易いため熱風乾燥は不適当であり、ス
ピン乾燥は剛体以外の乾燥には不適当であるといった固
有の問題があった。
ことなく、プリント基板の表面付着水を短時間で除去し
て乾燥させるプリント基板の表面水除去装置を提供する
ことにある。
プリント基板の表面水除去装置は、乾燥室3と、プリン
ト基板2を搬送して乾燥室3内を通過する搬送体1と、
搬送体1により搬送さ れるプリント基板2に20KHZ
〜100KHZ の音波を当てて、プリント基板2の表
面に付着している水(表面水)を振動させて除去するス
ピーカ12とを備え、搬送体1は20KHZ 〜100
KHZ の音波が通過可能であり、スピーカ12は乾燥
室3内における搬送体1の上下に配置されて、スピーカ
12から発生された20KHZ 〜100KHZ の音波
をプリント基板2の上下から当てることができるように
したものである。
面水除去装置は、請求項1記載のプリント基板の表面水
除去装置において、スピーカ12が拡音用のホーン13
を備えたものである。
面水除去装置は、請求項1又は請求項2記載のプリント
基板の表面水除去装置が、乾燥室3内に遠赤外線発生器
5をも備えたものである。
面水除去装置は、請求項1乃至請求項3のいずれかに記
載のプリント基板の表面水除去装置が、乾燥室3に除湿
器6をも備えたものである。
除去装置の第1の実施形態を図1に基づいて説明する。
図1における搬送体1はプリント基板2を搬送するもの
である。図1における乾燥室3は前記搬送体1により搬
送されるプリント基板2を搬送体1上において乾燥させ
るためのものである。
ルトコンベア等の各種装置を用いることができるが、ベ
ルトコンベアを用いる場合は下方の音波が遮断されない
ようにする必要がある。例えばコンベアのベルトを音波
が通過できる材料で構成するとか、コンベアをローラコ
ンベアにする。ローラコンベアの場合は、ローラとロー
ラの間に音波発生器4のスピーカ12を配置すればよ
い。
室3には搬送体1によりプリント基板2が搬入される搬
入口10と、搬送体1によりプリント基板2が搬出され
る搬出口11とが形成されている。従って、これら搬入
口10や搬出口11において多少の空気の出入りはあ
る。
した水を除去するための音波発生器4と、遠赤外線発生
器5と、プリント基板2から除去されて乾燥室3内に漂
う水分を、乾燥室3内から取り除く除湿器6とが設けら
れている。前記音波発生器4は、スピーカ12で発生し
た1kw以下の音波(周波数20KHz〜100KH
z)を、細長の放射口を有するホーン13で搬送体1の
幅方向に拡げて出力することができるようにしてある。
この音波発生器4は搬送体1の上方と下方に夫々設けて
あり、上方の音波発生器4のスピーカ12から出力され
る音波はプリント基板2の上面側の水滴を活性化して除
去し、下方の音波発生器4のスピーカ12から出力され
る音波はプリント基板2の下面側の水滴を活性化して除
去し、プリント基板2の表面の水を除去する。この場
合、図2(a)の様にプリント基板2のスルーホール内
に残留している水滴や、図2(b)の様にプリント基板
2の凹凸部分に付着している水滴等も吹き飛ばして除去
することができる。
0μm程度の波長帯の遠赤外線を発するランプである。
この遠赤外線発生器5はプリント基板2に付着している
水を加熱して蒸発させる。遠赤外線はプリント基板2に
付着している水に直接作用してこれを加熱するため、熱
風乾燥よりも素早く水を蒸発することができ、プリント
基板2の表面の孔内や凹凸部にある水も除去することが
できる。なお、遠赤外線発生器5としては現在各種のも
のが開発されており、例えば特願昭61−23929号
の遠赤外線放射用の粉末を用いた遠赤外線発生器、等を
利用することができる。
的に排気し、外部の乾燥した空気を取り込んで乾燥室3
内の湿度を例えば30%以下に保つものである。この場
合、外部空気はエアコンなどにより湿度30%以下に保
たれているものとする。なお除湿器6が空気中に含まれ
る水分を直接除去できるものであれば、外気の湿度はコ
ントロールしなくてもよい。
発生器5の位置は図示されている位置に限られない。乾
燥するプリント基板2の形状、搬送体1の構造、乾燥室
3の構造、その他の諸条件により、適当な位置に配置す
ることができる。
用例を以下に説明する。プリント基板2を搬送体1に載
せて搬送し、乾燥室3内に送り込む。乾燥室3内では音
波発生器4のスピーカ12から20KHZ 〜100K
HZ の音波が発生され、遠赤外線発生器5から遠赤外
線が発生され、除湿器6により乾燥室3内の空気が除湿
されている。搬送体1により乾燥室3内に送り込まれた
プリント基板2は、その表面に付着している水滴等が、
上下2つのスピーカ12から出力される音波で活性化さ
れて小さな水滴或いは霧となって吹き飛ばされ(振るい
落され)、また遠赤外線発生器5の遠赤外線で加熱され
て蒸発される。ここで吹き飛ばされた水及び蒸発された
水は除湿器6により乾燥室3の外部へと排気される。そ
して乾燥室3からは乾燥されたプリント基板2が搬出さ
れる。
プリント基板2に20KHZ 〜100KHZ の音波と
遠赤外線を照射して、プリント基板2に付着している水
を除去するが、本発明ではプリント基板2に20KHZ
〜100KHZ の音波のみを当てて水分を除去しても
よい。20KHZ 〜100KHZ の音波のみで乾燥す
る場合は図1の乾燥装置の遠赤外線発生器5は不要とな
る。
表面水除去装置は次のような効果がある。1.スピーカから出力される音波が20KHZ 〜10
0KHZ であるため、その空気振動によりプリント基
板の表面に付着している水を振動させて除去することが
できる。また、プリント基板のスルーホール内に付着し
ている水も確実に除去することができ、プリント基板に
凹凸があっても水を確実に除去することができる。 2.搬送体1が20KHZ 〜100KHZ の音波を通
過可能なものであるため、スピーカ12から発生された
20KHZ 〜100KHZ の音波が搬送体1の上下に
貫通することができ、音波がプリント基板2の全体に行
きわたり、プリント基板2の表面水が効率よく除去され
る。 3.スピーカ12が搬送体1の上下に配置されているた
め、プリント基板2の水分が上下から振動され、プリン
ト基板2の表面の水分は勿論のこと、スルーホール内の
水も容易に除去することができる。また、表面形状が複
雑なプリント基板の水も容易に除去することができる。 4.20KHZ 〜100KHZ の音波による水の除去
は、プリント基板に付着している水を振動させて吹き飛
ばして(振るい落して)行なわれるため、乾燥後にプリ
ント基板の表面に水のシミが残らない。このため、水の
シミが残っては困るプリント基板の水分除去に適する。 5.搬送体によりプリント基板を搬送しながら水の除去
を行なうことができるため、各種プリント基 板製造ライ
ン、その他のシステムの一部として組み込むことが容易
である。 6.搬送体によりプリント基板を搬送しながら水の除去
を行なうことができるため、各種プリント基 板製造ライ
ン、その他のシステムの一部として組み込むことが容易
である。 7.熱を使用せず、20KHZ 〜100KHZ の音波
の振動により水を除去するため、熱が一切伴わず、熱に
弱いプリント基板の表面水でも、プリント基板を変形さ
せたり、損傷させたりすることなく確実に除去すること
ができる。
面水除去装置は次のような効果があ る。 1.スピーカが拡音用のホーンを備えているので、スピ
ーカから出力される音波が広い範囲に拡散され、プリン
ト基板の広範囲 に音波が当たり、効率の良い水分除去が
可能となる。
面水除去装置は次のような効果がある。 1.乾燥室内に遠赤外線発生器をも備えているので、遠
赤外線発生器から発生される遠赤外線が プリント基板の
表面に付着している水に作用し、プリント基板の周囲の
雰囲気温度を殆ど高温にすることなく水を除去すること
ができるため、プリント基板を高温雰囲気中において乾
燥させる熱風乾燥と異なり、熱に弱いものでも安全に水
を除去することができる。2. 20KHZ 〜100KHZ の音波と遠赤外線を組
み合わせて使用することにより、プリント基板を速やか
に乾燥することができ、大量のプリント基板の水分除去
に適する。 3.遠赤外線による乾燥はプリント基板の 表面に孔や凹
凸があっても水を確実に除去することができる。
面水除去装置は次のような効果がある。 1.乾燥室に除湿器をも備えているので、乾燥室内が除
湿されて水分が乾燥し易くなり、音波や遠赤外線による
乾燥効率が向上する。
施形態を示す概略図。
除去装置による水の乾燥の様子を示した説明図。
超音波発生器の斜視図。
る問題点を示した説明図。
Claims (4)
- 【請求項1】乾燥室(3)と、プリント基板(2)を搬
送して乾燥室(3)内を通過する搬送体(1)と、搬送
体(1)により搬送されるプリント基板(2)に20K
Hz〜100KHzの音波を当てて、プリント基板(2)
の表面に付着している水を振動させて除去するスピーカ
(12)とを備え、搬送体(1)は20KHz〜100
KHz音波が通過可能であり、スピーカ(12)は乾燥
室(3)内における搬送体(1)の上下に配置されて、
スピーカ(12)から発生された20KHz〜100K
Hzの音波をプリント基板(2)の上下から当てること
ができることを特徴とするプリント基板の表面水除去装
置。 - 【請求項2】請求項1記載のプリント基板の表面水除去
装置において、スピーカ(12)が、拡音用のホーン
(13)を備えたことを特徴とするプリント基板の表面
水除去装置。 - 【請求項3】請求項1又は請求項2記載のプリント基板
の表面水除去装置が、乾燥室(3)内に遠赤外線発生器
(5)をも備えたことを特徴とするプリント基板の表面
水除去装置。 - 【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
プリント基板の表面水除去装置が、乾燥室3に除湿器
(6)をも備えたことを特徴とするプリント基板の表面
水除去装置。
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JP29184695A JP3163239B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プリント基板の表面水除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP29184695A JP3163239B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プリント基板の表面水除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH09113132A JPH09113132A (ja) | 1997-05-02 |
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Family
ID=17774179
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP29184695A Expired - Fee Related JP3163239B2 (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プリント基板の表面水除去装置 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011211235A (ja) * | 2004-11-12 | 2011-10-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP7177974B2 (ja) | 2019-02-26 | 2022-11-25 | Toa株式会社 | 音響滴下除去装置及び音響滴下除去方法 |
EP4358656A1 (en) * | 2022-10-18 | 2024-04-24 | AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Apparatus for processing component carrier structures in a clean room environment |
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CN107606915A (zh) * | 2017-10-25 | 2018-01-19 | 吕明芳 | 热风循环连续式烘干炉 |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP29184695A patent/JP3163239B2/ja not_active Expired - Fee Related
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