JP2002210920A - 乾燥装置および乾燥方法 - Google Patents

乾燥装置および乾燥方法

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JP2002210920A
JP2002210920A JP2001007527A JP2001007527A JP2002210920A JP 2002210920 A JP2002210920 A JP 2002210920A JP 2001007527 A JP2001007527 A JP 2001007527A JP 2001007527 A JP2001007527 A JP 2001007527A JP 2002210920 A JP2002210920 A JP 2002210920A
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drying
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undried
aqueous
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JP2001007527A
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English (en)
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Yoshihiro Serikawa
嘉寛 芹川
Koichi Hotta
幸一 堀田
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、基材上に水性皮膜組成物により形成
されている未乾燥状態の皮膜を、皮張りの発生がなく、
効率よく乾燥できるようにした乾燥装置および乾燥方法
の提供を目的とする。 【解決手段】基材上に水性皮膜組成物により形成されて
いる未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付けながら、
基材の皮膜の形成されていない面からは皮膜に向けて超
音波を照射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、印刷用紙、化粧板
用化粧紙等の基材上に、印刷工程あるいは塗布工程等の
工程で水性印刷インキや水性塗液等の皮膜形成用水性組
成物(以下、本明細書においては単に水性皮膜組成物と
いう)により形成した未乾燥状態のインキ皮膜や塗布皮
膜等の皮膜を効率よく乾燥できるようにした乾燥装置お
よび乾燥方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、走行するウェブ状あるいはシ
ート状の基材に水性皮膜組成物により形成された未乾燥
状態の皮膜の乾燥には、ヤンキーシリンダー方式、カウ
ンターフロー方式、熱風噴射方式、エアースルー方式、
赤外線照射方式、マイクロ波照射方式、紫外線硬化方
式、電子線硬化方式等の種々の乾燥方式が採用されてい
る。
【0003】この中で、基材上の水性皮膜組成物からな
る未乾燥状態の皮膜を加熱によって行う方式としては、
熱風吹き付け方式、ドラム加熱方式、赤外線加熱方式等
の方式がある。
【0004】しかし、基材上の水性皮膜組成物からなる
未乾燥状態の皮膜中の水の蒸発潜熱は有機溶剤と比較す
ると大きいため、有機溶剤系の印刷インキや塗液等から
なる皮膜の乾燥と較べ、上記した加熱方式による乾燥に
おいては、その乾燥温度をより高くしたり、乾燥経路を
より長くする必要があった。
【0005】しかし、乾燥温度を高くすると、水性皮膜
組成物からなる皮膜中の水の拡散速度よりも皮膜表面で
の水の蒸発速度が大きくなり、皮膜内部に水分が存在し
ながら表面皮膜が形成されるため、内部水分の皮膜表面
への拡散が妨げられることになる。これが皮張りと呼ば
れる問題である。この皮張りにより、乾燥速度が著しく
低下することになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点を解決するためになされたものであり、基材上に
水性皮膜組成物により形成されている未乾燥状態の皮膜
を、皮張りの発生がなく、効率よく乾燥できるようにし
た乾燥装置および乾燥方法の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の目的を
達成するためになされたものであり、請求項1に記載の
乾燥装置は、基材上に皮膜形成用水性組成物により形成
されている未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付ける
ための熱風吹き付け装置と、基材の皮膜が形成されてい
ない面に接してあるいは近傍に位置し、基材側から皮膜
に向けて超音波を照射するための超音波発生装置とを少
なくとも具備することを特徴とする。
【0008】また、請求項2に記載の乾燥方法は、基材
上に皮膜形成用水性組成物により形成されている未乾燥
状態の皮膜に対して熱風を吹き付けながら、基材の皮膜
が形成されていない面からは皮膜に向けて超音波を照射
することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照にして説明する。
【0010】図1は印刷機20とこれに付設されている
本発明の乾燥装置1の概略説明図である。印刷機20で
は巻き出部21から供給されてきた基材22上に印刷部
23で印刷が行われ、インキ皮膜(皮膜)24が形成さ
れる。このインキ皮膜24は水性印刷インキからなり、
まだ未乾燥状態である。
【0011】1は、印刷機20で基材22上に施された
水性印刷インキよりなる未乾燥状態のインキ皮膜24を
乾燥するための乾燥装置であり、基材22上の未乾燥状
態のインキ皮膜24に対して熱風を吹き付けるための熱
風吹き付け装置2と、基材のインキ皮膜が形成されてい
ない面に接して位置し、基材側から未乾燥状態のインキ
皮膜に向けて超音波を照射するための超音波発生装置6
とを少なくとも具備している。
【0012】熱風吹き付け装置2は送風する空気を浄化
するためのフィルター装置3と空気を送り込むためのブ
ロアー4と乾燥対象物に吹き付ける空気を加熱するため
の加熱ヒーター5等からなり、図示の乾燥装置1におい
ては4セットが設置されている。
【0013】一方、超音波発生装置6は、電圧が印加さ
れると超音波振動を発生する振動子7と、この振動子7
が発する超音波振動の振幅を機械的に拡大するホーン8
からなる振動発生部9と、ホーン8の先端にボトル等で
締結されている振動板11等からなり、印刷機20から
送り出されてくる基材22の未乾燥状態のインキ皮膜2
4が形成されていない面に接するように設置してある。
【0014】図示の乾燥装置1においては、この超音波
発生装置6も前記した熱風吹き出し装置2と同様、4セ
ット設置されている。また、これらの超音波発生装置6
の設置は、熱風吹き出し装置2のそれぞれに対して若干
基材22の供給側に近くなるように設置してある。即
ち、それぞれの熱風吹き出し装置2からの熱風によるイ
ンキ皮膜24の乾燥に先行して、超音波が未乾燥状態の
インキ皮膜24に照射され、乾燥工程中における未乾燥
状態のインキ皮膜24の積極的な拡散が行われるように
してある。図示の例では、超音波発生装置6が基材22
の未乾燥状態のインキ皮膜24が形成されていない面に
接して位置するように配置してあるが、この超音波発生
装置6の配置のはこれに限定されるものではなく、前記
した基材面の近傍に配置してもよい。要するに、この超
音波発生装置6はそこから照射される超音波により未乾
燥状態のインキ皮膜24の積極的な拡散が行われるよう
な位置に配置すればよい。
【0015】15は基材22の巻き取り部であり、乾燥
装置1で乾燥が完了し、表面に乾燥したインキ皮膜26
が設けられた基材22を巻き取るようになっている。
【0016】本発明の乾燥装置は以上のような構成であ
るが、次にこの乾燥装置を用いた乾燥方法につき説明す
る。
【0017】印刷機20で未乾燥状態の水性印刷インキ
よりなるインキ皮膜(印刷画像)24が施された基材2
2が乾燥装置1内に搬送されてくると、インキ皮膜24
に対して熱風吹き付け装置2からの熱風の吹き付けと、
インキ皮膜24が施されていない基材面の近傍から未乾
燥状態のインキ皮膜24に向けての超音波の照射が超音
波発生装置6からなされ、蒸発乾燥が開始される。
【0018】蒸発乾燥における乾燥促進手段が従前のよ
うに加熱および/または熱風のみの場合は、蒸発が進む
とインキ皮膜の溶質の濃度が上がり、粘度が増加し、内
部での拡散が十分に行われなくなり、蒸発速度が遅くな
ってしまう。そして、これがさらに進むと、前述したよ
うな皮張り現象が発生することになる。
【0019】これに対して、本発明に係る乾燥方法は超
音波の照射を併用し、未乾燥状態のインキ皮膜内部の拡
散を促進しながら蒸発乾燥を進めるため、乾燥工程の中
盤または終盤におけるインキ皮膜内部での拡散の不十分
さに起因する濃度勾配の増加が抑制され、乾燥速度が飛
躍的に向上すると共に、皮張り現象の発生もなくなる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 <実施例1>坪量90g/m2のクラフト紙に、水性塗
液(東洋インキ製造社製、VAQシリーズ)によりヒラ
ノテクシード社製のリップコータを使用して塗布量
120g/m2にて均一な水性塗液の塗布皮膜を形成し
た。次に、未乾燥状態の塗布皮膜の形成されたクラフト
紙を乾燥装置内に搬送し、乾燥を行った。乾燥に際して
は、120℃に加熱した熱風を50m3/minの風量
で未乾燥状態の塗布皮膜に吹き付ける共に、搬送されて
くるクラフト紙の塗布皮膜が形成されていない面から超
音波発生装置により20MHzの周波数の超音波を照射
した。この時のクラフト紙の搬送速度は90m/min
であり、乾燥を終了して乾燥機を出てくるまでの時間は
24秒であった。また、乾燥装置ならびに印刷機は温度
25℃、湿度40%の環境に置かれていた。乾燥装置か
ら送出されてきたクラフト紙上の塗布皮膜の水分量と外
観観察の結果を表1に示す。
【0021】<実施例2>坪量12g/m2のグラビア
印刷用紙に水性グラビアインキ(東洋インキ製造社製、
アクアエコール224)によりグラビア印刷機を使用し
てグラビア印刷を行った。未乾燥状態でのインキ皮膜の
平均膜厚は2μmであった。次に、未乾燥状態のインキ
皮膜の形成されたグラビア印刷用紙を乾燥装置に搬送
し、乾燥を行った。乾燥に際しては、80℃に加熱した
熱風を80m3/minの風量で未乾燥状態のインキ皮
膜に吹き付ける共に、搬送されてくる印刷用紙のインキ
皮膜が形成されていない面から超音波発生装置により3
0MHzの周波数の超音波を照射した。この時の印刷用
紙の搬送速度は200m/minであり、乾燥を終了し
て乾燥機を出てくるまでの時間は0.6秒であった。ま
た、乾燥装置ならびに印刷機は温度25℃、湿度40%
の環境に置かれていた。乾燥装置から送出されてきた印
刷用紙上のインキ皮膜の水分量と外観観察の結果を表1
に示す。
【0022】<比較例1>超音波発生装置による超音波
の照射はせず、その他は実施例1と同様の条件にて水性
塗液からなる塗布皮膜の乾燥を行った。乾燥を終了した
クラフト紙上の塗布皮膜の水分量と外観観察の結果を表
1に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【発明の効果】本発明は、以上に説明したように、未乾
燥状態の水性皮膜組成物からなる皮膜に対して基材の前
記皮膜の形成されていない面から超音波を照射し、皮膜
を積極的に拡散させつつ熱風を吹き付けることにより乾
燥を行うため、乾燥効率が向上すると共に、皮張りが発
生することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】印刷機とこれに付設の本発明の乾燥装置の概略
説明図である。
【符号の説明】
1・・・乾燥装置 2・・・熱風吹き付け装置 3・・・フィルター装置 4・・・ブロアー 5・・・加熱ヒーター 6・・・超音波発生装置 7・・・振動子 8・・・ホーン 11・・振動板 20・・印刷機 22・・基材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基材上に皮膜形成用水性組成物により形成
    されている未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付ける
    ための熱風吹き付け装置と、基材の皮膜が形成されてい
    ない面に接してあるいは近傍に位置し、基材側から皮膜
    に向けて超音波を照射するための超音波発生装置とを少
    なくとも具備することを特徴とする乾燥装置。
  2. 【請求項2】基材上に皮膜形成用水性組成物により形成
    されている未乾燥状態の皮膜に対して熱風を吹き付けな
    がら、基材の皮膜が形成されていない面からは皮膜に向
    けて超音波を照射することを特徴とする乾燥方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7674300B2 (en) 2006-12-28 2010-03-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
US7740666B2 (en) 2006-12-28 2010-06-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
US8182552B2 (en) 2006-12-28 2012-05-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
CN102501587A (zh) * 2011-11-23 2012-06-20 贵州劲嘉新型包装材料有限公司 带超声波干燥装置的凹印机
US8632613B2 (en) 2007-12-27 2014-01-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for applying one or more treatment agents to a textile web
CN104859291A (zh) * 2015-04-13 2015-08-26 京东方科技集团股份有限公司 一种干燥装置及其干燥方法
JP2019124429A (ja) * 2018-01-19 2019-07-25 トヨタ自動車株式会社 高圧タンクの乾燥方法
JP2020114658A (ja) * 2019-01-18 2020-07-30 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置およびその制御方法
US11521650B2 (en) 2019-03-29 2022-12-06 Sony Corporation Magnetic recording medium having a controlled dimensional variation
CN115540506A (zh) * 2021-04-29 2022-12-30 杭州日能科技有限公司 一种基于超声波的纺织品脱水装置及其脱水方法
CN117920504A (zh) * 2024-03-19 2024-04-26 山东旭辉玻璃科技有限公司 一种玻璃喷漆烘干装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7740666B2 (en) 2006-12-28 2010-06-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
US8182552B2 (en) 2006-12-28 2012-05-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
US7674300B2 (en) 2006-12-28 2010-03-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for dyeing a textile web
US8632613B2 (en) 2007-12-27 2014-01-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Process for applying one or more treatment agents to a textile web
CN102501587A (zh) * 2011-11-23 2012-06-20 贵州劲嘉新型包装材料有限公司 带超声波干燥装置的凹印机
US10549551B2 (en) 2015-04-13 2020-02-04 Boe Technology Group Co., Ltd. Drying device and drying method using the same
CN104859291A (zh) * 2015-04-13 2015-08-26 京东方科技集团股份有限公司 一种干燥装置及其干燥方法
JP2019124429A (ja) * 2018-01-19 2019-07-25 トヨタ自動車株式会社 高圧タンクの乾燥方法
JP2020114658A (ja) * 2019-01-18 2020-07-30 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置およびその制御方法
US11521650B2 (en) 2019-03-29 2022-12-06 Sony Corporation Magnetic recording medium having a controlled dimensional variation
CN115540506A (zh) * 2021-04-29 2022-12-30 杭州日能科技有限公司 一种基于超声波的纺织品脱水装置及其脱水方法
CN115540506B (zh) * 2021-04-29 2024-02-27 杭州日能科技有限公司 一种基于超声波的纺织品脱水装置及其脱水方法
CN117920504A (zh) * 2024-03-19 2024-04-26 山东旭辉玻璃科技有限公司 一种玻璃喷漆烘干装置
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