JP2002267356A - 遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法 - Google Patents
遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法Info
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- JP2002267356A JP2002267356A JP2001116107A JP2001116107A JP2002267356A JP 2002267356 A JP2002267356 A JP 2002267356A JP 2001116107 A JP2001116107 A JP 2001116107A JP 2001116107 A JP2001116107 A JP 2001116107A JP 2002267356 A JP2002267356 A JP 2002267356A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】遠赤外線をプリント基板に塗布されたレジスト
インクに放射させた状態でその表面からレジストインク
中の溶剤を大気に迅速に排出させることによって、プリ
ント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な
配線パターンに断線を生じることを防止できる。 【解決手段】金属表面を備える遠赤外線放射層から波長
約３〜約６ミクロンの遠赤外線をプリント基板に放射す
る。この被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように
該基板に向けて加圧媒体を吹き付ける。
インクに放射させた状態でその表面からレジストインク
中の溶剤を大気に迅速に排出させることによって、プリ
ント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な
配線パターンに断線を生じることを防止できる。 【解決手段】金属表面を備える遠赤外線放射層から波長
約３〜約６ミクロンの遠赤外線をプリント基板に放射す
る。この被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように
該基板に向けて加圧媒体を吹き付ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は遠赤外線を利用してプリ
ント基板に塗布されたレジストインクや塗料等を乾燥す
るための遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方
法に関する。
ント基板に塗布されたレジストインクや塗料等を乾燥す
るための遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来において遠赤外線を利用した乾燥装
置は知られている。乾燥装置は、レジストインクを塗布
したプリント基板等の乾燥に使用されている。特に、こ
の乾燥装置が、プリント基板作製の前工程で使用される
場合、熱源に遠赤外線を利用しているために、プリント
基板の表面は短時間に高温に昇温する。その結果、プリ
ント基板に塗布されたレジストインク内の溶剤が、大気
に排出される前にその表面が硬化するために、レジスト
インク内の溶剤が、大気に排出されないでインク中に残
存する。溶剤がレジストインク中に残存していると、プ
リント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細
な配線パターンに断線を生じる。
置は知られている。乾燥装置は、レジストインクを塗布
したプリント基板等の乾燥に使用されている。特に、こ
の乾燥装置が、プリント基板作製の前工程で使用される
場合、熱源に遠赤外線を利用しているために、プリント
基板の表面は短時間に高温に昇温する。その結果、プリ
ント基板に塗布されたレジストインク内の溶剤が、大気
に排出される前にその表面が硬化するために、レジスト
インク内の溶剤が、大気に排出されないでインク中に残
存する。溶剤がレジストインク中に残存していると、プ
リント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細
な配線パターンに断線を生じる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するためになされたもので、本発明の目的は、遠
赤外線をプリント基板に塗布されたレジストインクに放
射させた状態でその表面からレジストインク中の溶剤を
大気に迅速に排出させることによって、プリント基板の
後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な配線パター
ンに断線を生じることを防止できる遠赤外線乾燥装置、
乾燥装置構成体及び乾燥方法を提供することにある。
を解決するためになされたもので、本発明の目的は、遠
赤外線をプリント基板に塗布されたレジストインクに放
射させた状態でその表面からレジストインク中の溶剤を
大気に迅速に排出させることによって、プリント基板の
後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な配線パター
ンに断線を生じることを防止できる遠赤外線乾燥装置、
乾燥装置構成体及び乾燥方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る遠赤外線
乾燥装置は、金属表面を備える遠赤外線放射層から被乾
燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当す
る波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するための
遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するため
の放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物
体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾燥
処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記被
乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に向
けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置と
を備える。
乾燥装置は、金属表面を備える遠赤外線放射層から被乾
燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当す
る波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するための
遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するため
の放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物
体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾燥
処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記被
乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に向
けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置と
を備える。
【０００５】請求項２に係る遠赤外線乾燥装置は、金属
表面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布
された材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６
ミクロンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体
と、遠赤外線を所定の時間放射するための放射時間可変
手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離
を可変するための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を
調節するための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が
約１８０℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を
吹き付けるための加圧媒体吹付け装置と、前記被乾燥物
体基板の両端を挟持して該基板を搬送するための搬送装
置とを備える。
表面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布
された材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６
ミクロンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体
と、遠赤外線を所定の時間放射するための放射時間可変
手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離
を可変するための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を
調節するための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が
約１８０℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を
吹き付けるための加圧媒体吹付け装置と、前記被乾燥物
体基板の両端を挟持して該基板を搬送するための搬送装
置とを備える。
【０００６】請求項３に係る遠赤外線乾燥装置は、金属
表面を備える遠赤外線放射層から乾燥処理室内の被乾燥
物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当する
波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するための遠
赤外線放射体と、前記被乾燥物体温度が約１８０℃以下
になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付けるため
の加圧媒体吹付け装置と、乾燥処理室内の温風を再度処
理室に循環させる温風循環路と、乾燥処理室内の温風を
大気に排出するための排気路と、前記被乾燥物体基板を
搬送するための搬送装置と、該搬送装置は、被乾燥物に
遠赤外線が放射された時にそれから排出される溶剤等を
吸い込むことができるように載置されたメッシュベルト
と、上面に多数の細孔を備えている媒体吸い込み用箱体
とを備え、前記箱体は、乾燥処理室外に配設された大気
吸い込み用箱体と、乾燥処理室内に配設された温風吸い
込み用箱体とを備える。
表面を備える遠赤外線放射層から乾燥処理室内の被乾燥
物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当する
波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するための遠
赤外線放射体と、前記被乾燥物体温度が約１８０℃以下
になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付けるため
の加圧媒体吹付け装置と、乾燥処理室内の温風を再度処
理室に循環させる温風循環路と、乾燥処理室内の温風を
大気に排出するための排気路と、前記被乾燥物体基板を
搬送するための搬送装置と、該搬送装置は、被乾燥物に
遠赤外線が放射された時にそれから排出される溶剤等を
吸い込むことができるように載置されたメッシュベルト
と、上面に多数の細孔を備えている媒体吸い込み用箱体
とを備え、前記箱体は、乾燥処理室外に配設された大気
吸い込み用箱体と、乾燥処理室内に配設された温風吸い
込み用箱体とを備える。
【０００７】請求項４に係る遠赤外線乾燥装置は、請求
項１、２又は３記載の遠赤外線乾燥装置において前記加
圧媒体吹付け装置が、複数のスリット孔ノズルを備える
ことを特徴とする。
項１、２又は３記載の遠赤外線乾燥装置において前記加
圧媒体吹付け装置が、複数のスリット孔ノズルを備える
ことを特徴とする。
【０００８】請求項５に係る遠赤外線乾燥装置は、請求
項４記載の遠赤外線乾燥装置において前記加圧媒体吹付
け装置が、複数のスリット孔ノズルから前記被乾燥物体
基板の表面温度にほぼ等しい温風を吹き付けることを特
徴とする。
項４記載の遠赤外線乾燥装置において前記加圧媒体吹付
け装置が、複数のスリット孔ノズルから前記被乾燥物体
基板の表面温度にほぼ等しい温風を吹き付けることを特
徴とする。
【０００９】請求項６に係る乾燥装置構成体は、金属表
面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布さ
れた材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミ
クロンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、
遠赤外線を所定の時間放射するための放射時間可変手段
と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離を可
変するための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を調節
するための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が約１
８０℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き
付けるための加圧媒体吹付け装置とを備える遠赤外線乾
燥装置と、前記被乾燥物体基板に前記遠赤外線を放射し
た後に該被乾燥物体基板に塗布された材料に紫外線を照
射するための紫外線照射装置とを備える。
面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布さ
れた材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミ
クロンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、
遠赤外線を所定の時間放射するための放射時間可変手段
と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離を可
変するための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を調節
するための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が約１
８０℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き
付けるための加圧媒体吹付け装置とを備える遠赤外線乾
燥装置と、前記被乾燥物体基板に前記遠赤外線を放射し
た後に該被乾燥物体基板に塗布された材料に紫外線を照
射するための紫外線照射装置とを備える。
【００１０】請求項７に係る乾燥装置構成体は、金属表
面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された
材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロ
ンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、遠赤
外線を所定の時間放射するための放射時間可変手段と、
前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離を可変す
るための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を調節する
ための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が約１８０
℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付け
るための加圧媒体吹付け装置とを備える遠赤外線乾燥装
置と、前記被乾燥物体に前記遠赤外線を放射した後に該
被乾燥物体に紫外線を照射するための紫外線照射装置
と、前記被乾燥物体の両端を挟持して該基板を搬送する
ための搬送装置とを備える。
面を備える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された
材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロ
ンの遠赤外線を放射するための遠赤外線放射体と、遠赤
外線を所定の時間放射するための放射時間可変手段と、
前記遠赤外線放射体と被乾燥物体基板との距離を可変す
るための距離可変手段と、乾燥処理室内温度を調節する
ための温度調節手段と、前記被乾燥物体温度が約１８０
℃以下になるように該基板に向けて加圧媒体を吹き付け
るための加圧媒体吹付け装置とを備える遠赤外線乾燥装
置と、前記被乾燥物体に前記遠赤外線を放射した後に該
被乾燥物体に紫外線を照射するための紫外線照射装置
と、前記被乾燥物体の両端を挟持して該基板を搬送する
ための搬送装置とを備える。
【００１１】請求項８に係る乾燥装置構成体は、請求項
６又は７記載の乾燥装置構成体において前記紫外線照射
装置が、前記遠赤外線乾燥装置から搬送される約１８０
℃〜約２５０℃の被乾燥物体に２００ｍＪ／ｃｍ２以
上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ
２の紫外線を照射してなることを特徴とする。
６又は７記載の乾燥装置構成体において前記紫外線照射
装置が、前記遠赤外線乾燥装置から搬送される約１８０
℃〜約２５０℃の被乾燥物体に２００ｍＪ／ｃｍ２以
上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ
２の紫外線を照射してなることを特徴とする。
【００１２】請求項９に係る乾燥方法は、金属表面を備
える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された材料の
もつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロンの遠
赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が約１８
０℃以下になるように前記被乾燥物体に向けて加圧媒体
を吹き付ける工程と；を備える。
える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された材料の
もつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロンの遠
赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が約１８
０℃以下になるように前記被乾燥物体に向けて加圧媒体
を吹き付ける工程と；を備える。
【００１３】請求項１０に係る乾燥方法は、金属表面を
備える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された材料
のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロンの
遠赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が約１
８０℃以下になるように前記被乾燥物体に向けて加圧媒
体を吹き付ける工程と；前記被乾燥物体基板に前記遠赤
外線を放射した後に該被乾燥物体に塗布された材料に２
００ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２
〜８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程と；を備
える。
備える遠赤外線放射層から被乾燥物体に塗布された材料
のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロンの
遠赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が約１
８０℃以下になるように前記被乾燥物体に向けて加圧媒
体を吹き付ける工程と；前記被乾燥物体基板に前記遠赤
外線を放射した後に該被乾燥物体に塗布された材料に２
００ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２
〜８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程と；を備
える。
【００１４】請求項１１に係る乾燥方法は、金属表面を
備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布された
材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロ
ンの遠赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が
約１８０℃以下になるように前記被乾燥物体基板の表面
温度にほぼ等しい温度の加圧媒体を吹き付ける工程と；
前記被乾燥物体基板に前記遠赤外線を放射した後の約１
８０℃〜約２５０℃の該被乾燥物体に塗布された材料に
２００ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ
２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程と；を
備える。
備える遠赤外線放射層から被乾燥物体基板に塗布された
材料のもつ最大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロ
ンの遠赤外線を放射する工程と；前記被乾燥物体温度が
約１８０℃以下になるように前記被乾燥物体基板の表面
温度にほぼ等しい温度の加圧媒体を吹き付ける工程と；
前記被乾燥物体基板に前記遠赤外線を放射した後の約１
８０℃〜約２５０℃の該被乾燥物体に塗布された材料に
２００ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ
２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する工程と；を
備える。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の遠赤外線乾燥装
置、乾燥装置構成体及び乾燥方法の一実施例を添付図面
を参照して詳述する。図１は、乾燥装置構成体を構成す
る遠赤外線乾燥装置を示す正面図、図２は、２ブースを
連続して設置した遠赤外線乾燥装置を示す側面図であ
る。
置、乾燥装置構成体及び乾燥方法の一実施例を添付図面
を参照して詳述する。図１は、乾燥装置構成体を構成す
る遠赤外線乾燥装置を示す正面図、図２は、２ブースを
連続して設置した遠赤外線乾燥装置を示す側面図であ
る。
【００１６】被乾燥物体は、レジストインクを塗布した
プリント基板を使用しているが、プリント基板以外にも
の塗料を塗布した基板等種々の製品のも適用できる。
プリント基板を使用しているが、プリント基板以外にも
の塗料を塗布した基板等種々の製品のも適用できる。
【００１７】一般に、波長と遠赤外線放射体の表面温度
とは関連し、また遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離
によって被乾燥物体の表面温度は可変する。そして、波
長の短いほど遠赤外線放射体の表面温度は高くなる。例
えば、波長；３．５８〜６．４６μｍの範囲において、
遠赤外線放射体の表面温度は、約５４０℃〜約１７０℃
になる。
とは関連し、また遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離
によって被乾燥物体の表面温度は可変する。そして、波
長の短いほど遠赤外線放射体の表面温度は高くなる。例
えば、波長；３．５８〜６．４６μｍの範囲において、
遠赤外線放射体の表面温度は、約５４０℃〜約１７０℃
になる。
【００１８】遠赤外線放射体の出力を３４０ワット、遠
赤外線放射体の表面温度を５４０℃、波長；３．５８μ
ｍの遠赤外線放射体を使用し、遠赤外線放射体と被乾燥
物体との距離を可変する。被乾燥物体の基板に０．６ｍ
ｍ厚さのアルミニウム板を使用した場合、前記距離が、
５０〜１５０ｍｍにおいて、被乾燥物体の表面温度は、
約１５０℃〜約７０℃となる。
赤外線放射体の表面温度を５４０℃、波長；３．５８μ
ｍの遠赤外線放射体を使用し、遠赤外線放射体と被乾燥
物体との距離を可変する。被乾燥物体の基板に０．６ｍ
ｍ厚さのアルミニウム板を使用した場合、前記距離が、
５０〜１５０ｍｍにおいて、被乾燥物体の表面温度は、
約１５０℃〜約７０℃となる。
【００１９】かくして、遠赤外線を放射する金属板表面
の温度を可変して被乾燥物体の乾燥にとって最適な遠赤
外線を放射するための遠赤外線波長帯域を設定し、前記
遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して被乾燥
物体の表面温度を所定の温度に設し、この後、前記遠赤
外線放射体から被乾燥物体に前記設定された波長の遠赤
外線を放射する。
の温度を可変して被乾燥物体の乾燥にとって最適な遠赤
外線を放射するための遠赤外線波長帯域を設定し、前記
遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して被乾燥
物体の表面温度を所定の温度に設し、この後、前記遠赤
外線放射体から被乾燥物体に前記設定された波長の遠赤
外線を放射する。
【００２０】ここで使用される前記遠赤外線放射体は、
所定の曲率半径Ｒの凸面形状を有するほぼ円形状のアル
ミニウム又はステンレス等の金属板に遠赤外線放射層を
備え構成される。そして、遠赤外線放射体は、被乾燥物
体の基板に塗布された樹脂材料のもつ最大吸光度に相当
する波長；約３〜約６μｍの遠赤外線を放射する。
所定の曲率半径Ｒの凸面形状を有するほぼ円形状のアル
ミニウム又はステンレス等の金属板に遠赤外線放射層を
備え構成される。そして、遠赤外線放射体は、被乾燥物
体の基板に塗布された樹脂材料のもつ最大吸光度に相当
する波長；約３〜約６μｍの遠赤外線を放射する。
【００２１】図１において、遠赤外線乾燥装置１０は、
２つの乾燥処理室１２を備え、該乾燥処理室１２毎にプ
レナム室１２を備える。各プレナム室は、プリント基板
に向けて加圧の媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付装
置１４と、遠赤外線放射体１６とを取り付けている。遠
赤外線放射装置１０は、乾燥処理室１８と、遠赤外線放
射体と前記基板との距離を高さ方向に可変するための位
置可変装置２０と、温風循環路２２と、乾燥室内のプリ
ント基板を搬送するための搬送装置２４を備える。な
お、前記遠赤外線放射体１６、プレナム室１２及び加圧
媒体吹付装置１４は、前記搬送路の上方に配置される。
搬送路の下側は、周囲を断熱材で囲んで構成される温風
保温室２６を備える。
２つの乾燥処理室１２を備え、該乾燥処理室１２毎にプ
レナム室１２を備える。各プレナム室は、プリント基板
に向けて加圧の媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付装
置１４と、遠赤外線放射体１６とを取り付けている。遠
赤外線放射装置１０は、乾燥処理室１８と、遠赤外線放
射体と前記基板との距離を高さ方向に可変するための位
置可変装置２０と、温風循環路２２と、乾燥室内のプリ
ント基板を搬送するための搬送装置２４を備える。な
お、前記遠赤外線放射体１６、プレナム室１２及び加圧
媒体吹付装置１４は、前記搬送路の上方に配置される。
搬送路の下側は、周囲を断熱材で囲んで構成される温風
保温室２６を備える。
【００２２】なお、前記搬送路の下側に配置した遠赤外
線放射体に代えてステンレス製の反射板を配設してもよ
い。さらに、該反射板は、その表面に遠赤外線を放射す
る遠赤外線放射層を設けることが好ましい。また、前記
搬送装置の上側に配置した遠赤外線放射体に代えてステ
ンレス製の反射板を配設し、そして下側に遠赤外線放射
体を設けてもよい。
線放射体に代えてステンレス製の反射板を配設してもよ
い。さらに、該反射板は、その表面に遠赤外線を放射す
る遠赤外線放射層を設けることが好ましい。また、前記
搬送装置の上側に配置した遠赤外線放射体に代えてステ
ンレス製の反射板を配設し、そして下側に遠赤外線放射
体を設けてもよい。
【００２３】前記加圧媒体吹付装置１４は、プリント基
板の温度が１８０℃以下になるようにプリント基板に向
けて加圧媒体である加圧温風を吹付ける機能を有する。
該吹付け装置は、赤外線放射体を千鳥状に配列した６０
０ｍｍ×１０００ｍｍの取付体において該赤外線放射体
間に配設される。該吹付け装置は、径約１から２ｍｍの
ノズルである。かくして、前記プレナム室に溜まった温
風は、ここで整流され、そしてプレナム室内の温風は、
前記ノズルを通る際に、温風は加圧されて加圧温風とし
て基板に吹き出される。
板の温度が１８０℃以下になるようにプリント基板に向
けて加圧媒体である加圧温風を吹付ける機能を有する。
該吹付け装置は、赤外線放射体を千鳥状に配列した６０
０ｍｍ×１０００ｍｍの取付体において該赤外線放射体
間に配設される。該吹付け装置は、径約１から２ｍｍの
ノズルである。かくして、前記プレナム室に溜まった温
風は、ここで整流され、そしてプレナム室内の温風は、
前記ノズルを通る際に、温風は加圧されて加圧温風とし
て基板に吹き出される。
【００２４】温風循環路２２は、温風再供給路２８、大
気空気供給口３０と温風排出路３２とを備える。搬送路
は、各乾燥処理室毎に温風を循環するために温風を吸い
込むための温風再供給用開口２９と乾燥処理室内の温風
を大気に排出するために温風を吸い込むための温風排出
用開口３３を備える。そして、乾燥処理室の温度が、所
定の温度以上になると、乾燥処理室の温風は、温風排出
路３２から排気ブロア３４により大気に放出されると共
に、大気空気供給口３０から大気の空気が、フィルター
を通してゴミ等を除去してダクトヒータ３６で所定の温
度に調節されて温風循環用ブロア３８で再度温風供給路
２８内に導入される。ここで、ダクトヒータ３６で加熱
された空気は、温風供給路２８に設けられた吸気弁４０
より吸引されて温風供給路２８内に導入される。
気空気供給口３０と温風排出路３２とを備える。搬送路
は、各乾燥処理室毎に温風を循環するために温風を吸い
込むための温風再供給用開口２９と乾燥処理室内の温風
を大気に排出するために温風を吸い込むための温風排出
用開口３３を備える。そして、乾燥処理室の温度が、所
定の温度以上になると、乾燥処理室の温風は、温風排出
路３２から排気ブロア３４により大気に放出されると共
に、大気空気供給口３０から大気の空気が、フィルター
を通してゴミ等を除去してダクトヒータ３６で所定の温
度に調節されて温風循環用ブロア３８で再度温風供給路
２８内に導入される。ここで、ダクトヒータ３６で加熱
された空気は、温風供給路２８に設けられた吸気弁４０
より吸引されて温風供給路２８内に導入される。
【００２５】該図において、各乾燥処理室毎に温風を循
環するために温風を吸い込むための１つの温風再供給用
開口２９と乾燥処理室内の温風を大気に排出するために
温風を吸い込むための２つの温風排出用開口３３を備え
る。そして、各乾燥処理室に設けられた２つの温風循環
路用開口３３から吸い込まれた温風は、各乾燥処理室に
設けられた温風排出路３２を通して大気に排出される。
一方、各乾燥処理室に設けられた１つの温風循環路用開
口２９から吸い込まれた温風は、隣接する乾燥処理室に
共通に設けられた温風循環路２８を通して２つの前記プ
レナム室１２に導入される。一方、乾燥室内の温風の温
度が所定の温度以上になると温風排出路３２の排出口に
設けられた開閉弁４２を開いて乾燥室内の温風を大気に
排出する。
環するために温風を吸い込むための１つの温風再供給用
開口２９と乾燥処理室内の温風を大気に排出するために
温風を吸い込むための２つの温風排出用開口３３を備え
る。そして、各乾燥処理室に設けられた２つの温風循環
路用開口３３から吸い込まれた温風は、各乾燥処理室に
設けられた温風排出路３２を通して大気に排出される。
一方、各乾燥処理室に設けられた１つの温風循環路用開
口２９から吸い込まれた温風は、隣接する乾燥処理室に
共通に設けられた温風循環路２８を通して２つの前記プ
レナム室１２に導入される。一方、乾燥室内の温風の温
度が所定の温度以上になると温風排出路３２の排出口に
設けられた開閉弁４２を開いて乾燥室内の温風を大気に
排出する。
【００２６】ここで、図３は、プリント基板表面の長手
方向の温度分布を示す。該図において、プリント基板表
面の温度分布は、入口側と出口側の両側を除いて炉内の
長手方向内部の温度分布ほぼ均一の約８０℃を示してい
ることがわかる。該図において、温度分布の測定は、炉
の幅方向に所定の間隔をもって左側、中央及び右側に設
置した３本の温度センサーによって測定した。プリント
基板表面の温度分布をほぼ均一の約８０℃に設定するた
めに、前記ノズルからはプリント基板表面温度にほぼ等
しい温風；約８０℃の温風が吹き出される。
方向の温度分布を示す。該図において、プリント基板表
面の温度分布は、入口側と出口側の両側を除いて炉内の
長手方向内部の温度分布ほぼ均一の約８０℃を示してい
ることがわかる。該図において、温度分布の測定は、炉
の幅方向に所定の間隔をもって左側、中央及び右側に設
置した３本の温度センサーによって測定した。プリント
基板表面の温度分布をほぼ均一の約８０℃に設定するた
めに、前記ノズルからはプリント基板表面温度にほぼ等
しい温風；約８０℃の温風が吹き出される。
【００２７】該図の温度分布の得られる遠赤外線乾燥装
置内の条件は以下の通りである。ポリカーボネート製基
板に銀ペーストを塗布したプリント基板を使用した。遠
赤外線放射炉は、連続配置の２つのブースを使用した。
第１ブース及び第２ブースの各遠赤外線放射体の乾面温
度；３５０℃、各炉内温度；５５℃、６５℃、各放射距
離；９０ｍｍ、放射時間；４０秒、吹き付け温風ガス温
度約８０℃である。
置内の条件は以下の通りである。ポリカーボネート製基
板に銀ペーストを塗布したプリント基板を使用した。遠
赤外線放射炉は、連続配置の２つのブースを使用した。
第１ブース及び第２ブースの各遠赤外線放射体の乾面温
度；３５０℃、各炉内温度；５５℃、６５℃、各放射距
離；９０ｍｍ、放射時間；４０秒、吹き付け温風ガス温
度約８０℃である。
【００２８】なお、上記の条件は、被乾燥物体により異
なる。しかし、吹き付け温風ガス温度は、被乾燥物体の
レジストインク、塗料、ペースト中の溶剤をその表面が
硬化する前に大気中に除去するには、被乾燥物体の温度
が１８０℃以下になることが必要である。そのために、
上述したようにプリント基板表面温度にほぼ等しい温風
が吹き付けられる。吹き出しの温度は、温度センサーで
検知される。検知の結果、吹き出しの温度が、所定の温
度より低い場合、前記ヒータでの供給温度は昇温され、
一方吹き出し温度が、所定の温度より高い場合、前記ヒ
ータの加熱温度は低温に制御される。
なる。しかし、吹き付け温風ガス温度は、被乾燥物体の
レジストインク、塗料、ペースト中の溶剤をその表面が
硬化する前に大気中に除去するには、被乾燥物体の温度
が１８０℃以下になることが必要である。そのために、
上述したようにプリント基板表面温度にほぼ等しい温風
が吹き付けられる。吹き出しの温度は、温度センサーで
検知される。検知の結果、吹き出しの温度が、所定の温
度より低い場合、前記ヒータでの供給温度は昇温され、
一方吹き出し温度が、所定の温度より高い場合、前記ヒ
ータの加熱温度は低温に制御される。
【００２９】さらに、図４は、プレナム室及び図５は、
加圧媒体吹付装置の他の構成を示す。該図において、プ
レナム室１２は、直方体のチャンバーであり、底面の内
側に微細な孔を多数設けた鋼板を張って構成される。プ
レナム室１２は、その側面に循環する温風を吸い込むた
めの温風吸い込みダクト４５を取り付けている。そし
て、遠赤外線放射体１６は、その底面に取り付けられた
取り付け枠体４６に設置される。取り付け枠体４６は、
遠赤外線放射体１６を吊るすための吊り用板４８をその
内部に配設している。取り付け枠体４６は、台形形状を
有して前記底面に所定の間隔をもって設置されている。
隣接する取り付け枠体の間隔は、約２ｍｍであり、よっ
てノズルは、径約２ｍｍの開口を形成する。そして隣接
する取り付け枠体の間に加圧媒体吹付装置１４であるノ
ズルが配設されて前記取り付け枠体に固着されている。
ノズルの上面は前記鋼板の微細な孔と連通し、プレナム
室の温風が該ノズルの開口を通して乾燥処理室１８に噴
出される。
加圧媒体吹付装置の他の構成を示す。該図において、プ
レナム室１２は、直方体のチャンバーであり、底面の内
側に微細な孔を多数設けた鋼板を張って構成される。プ
レナム室１２は、その側面に循環する温風を吸い込むた
めの温風吸い込みダクト４５を取り付けている。そし
て、遠赤外線放射体１６は、その底面に取り付けられた
取り付け枠体４６に設置される。取り付け枠体４６は、
遠赤外線放射体１６を吊るすための吊り用板４８をその
内部に配設している。取り付け枠体４６は、台形形状を
有して前記底面に所定の間隔をもって設置されている。
隣接する取り付け枠体の間隔は、約２ｍｍであり、よっ
てノズルは、径約２ｍｍの開口を形成する。そして隣接
する取り付け枠体の間に加圧媒体吹付装置１４であるノ
ズルが配設されて前記取り付け枠体に固着されている。
ノズルの上面は前記鋼板の微細な孔と連通し、プレナム
室の温風が該ノズルの開口を通して乾燥処理室１８に噴
出される。
【００３０】前記搬送装置２４は、搬送路の両側に設け
られた対のチェーンから構成される。チェーンの幅は、
プリント基板の幅に対応して幅可変機構（図示せず）に
より可変される。そして、プリント基板は、上下一対に
配設されたチェーンに挟持されて前記炉の長手方向に搬
送される。この搬送装置を使用することによりプリント
基板の熱による反り等を防ぐことができる。また、前記
搬送装置は、以下に記載の図６に示されるように、メッ
シュベルト５２を両端に配設したローラを回転駆動する
ことにより長手方向に回動させて構成される。被乾燥物
は、遠赤外線が放射された時にそれから排出される溶剤
等をメッシュを通して排気用箱体５４内に吸い込むこと
ができるように前記メッシュベルト上に載置される。
られた対のチェーンから構成される。チェーンの幅は、
プリント基板の幅に対応して幅可変機構（図示せず）に
より可変される。そして、プリント基板は、上下一対に
配設されたチェーンに挟持されて前記炉の長手方向に搬
送される。この搬送装置を使用することによりプリント
基板の熱による反り等を防ぐことができる。また、前記
搬送装置は、以下に記載の図６に示されるように、メッ
シュベルト５２を両端に配設したローラを回転駆動する
ことにより長手方向に回動させて構成される。被乾燥物
は、遠赤外線が放射された時にそれから排出される溶剤
等をメッシュを通して排気用箱体５４内に吸い込むこと
ができるように前記メッシュベルト上に載置される。
【００３１】図６は、温風循環路の他の構成を示す概略
図である。該図において、上述したプレナム１２室は、
独立して２つ配設されている。そして、排気用箱体５４
は、メッシュベルト５２の直下に配設されている。排気
用箱体５４は、被乾燥物が、該乾燥装置に出入りする搬
送路の入口前方と出口後方、及び該乾燥装置内に２つそ
れぞれ独立した箱体５４、５６、５８、６０として配設
され、かつそれら箱体は、上面に多数の細孔６２を備え
ている。入口前方の該箱体５４と出口後方の該箱体６０
は、その下面にそれぞれ前方及び後方空気吸い込み口６
４を備える。また、乾燥装置内に配設された２つの該箱
体は、その下面に第１排気用吸い込み口６６及び第１循
環用吸い込み口６８、並びに第２排気用吸い込み口７０
及び第２循環用吸い込み口７２を備える。すなわち、搬
送路の前方から順に前方空気吸い込み口６４、第１排気
用吸い込み口６６、第１循環用吸い込み口６８、第２排
気用吸い込み口７０、第２循環用吸い込み口７２、後方
空気用吸い込み口６４が配置されている。
図である。該図において、上述したプレナム１２室は、
独立して２つ配設されている。そして、排気用箱体５４
は、メッシュベルト５２の直下に配設されている。排気
用箱体５４は、被乾燥物が、該乾燥装置に出入りする搬
送路の入口前方と出口後方、及び該乾燥装置内に２つそ
れぞれ独立した箱体５４、５６、５８、６０として配設
され、かつそれら箱体は、上面に多数の細孔６２を備え
ている。入口前方の該箱体５４と出口後方の該箱体６０
は、その下面にそれぞれ前方及び後方空気吸い込み口６
４を備える。また、乾燥装置内に配設された２つの該箱
体は、その下面に第１排気用吸い込み口６６及び第１循
環用吸い込み口６８、並びに第２排気用吸い込み口７０
及び第２循環用吸い込み口７２を備える。すなわち、搬
送路の前方から順に前方空気吸い込み口６４、第１排気
用吸い込み口６６、第１循環用吸い込み口６８、第２排
気用吸い込み口７０、第２循環用吸い込み口７２、後方
空気用吸い込み口６４が配置されている。
【００３２】上記構成によれば、プリント基板等の被乾
燥物が、該乾燥装置の入り口で搬送装置であるメッシュ
ベルト上に載置されると、前方空気吸い込み口６４上に
載置されたプリント基板は吸引されてメッシュベルト上
に固定される。一方、プリント基板が前方空気吸い込み
口６４上に載置されない個所の大気の空気及び前記第１
排気用吸い込み口６６から取り込まれた乾燥処理室内の
温風は、それぞれの排気路３２に設置された排気ブロア
３４によって該乾燥装置の外部に取り付けられた排気通
路から大気に排出される。同様に、プリント基板が前方
空気吸い込み口６４上に載置されない個所の大気の空気
及び第２排気用吸い込み口７０から取り込まれた乾燥処
理室内の温風は、それぞれの排気路に設置された循環ブ
ロア３４によって該乾燥装置の外部に取り付けられた排
気通路から大気に排出される。また、第１循環用吸い込
み口６８並びに第２循環用吸い込み口７２から取り込ま
れた温風は、それぞれの温風供給路２８を通って該乾燥
装置の各々のプレナム室１２に導入される。ここで、温
風供給路は、乾燥処理室の温度が所定の温度以上に上昇
した時に、大気からの空気を導入するための大気空気吸
入口３０を備えるダクトヒータ−３６を配設し、そして
加温されてプレナム室に導入される。
燥物が、該乾燥装置の入り口で搬送装置であるメッシュ
ベルト上に載置されると、前方空気吸い込み口６４上に
載置されたプリント基板は吸引されてメッシュベルト上
に固定される。一方、プリント基板が前方空気吸い込み
口６４上に載置されない個所の大気の空気及び前記第１
排気用吸い込み口６６から取り込まれた乾燥処理室内の
温風は、それぞれの排気路３２に設置された排気ブロア
３４によって該乾燥装置の外部に取り付けられた排気通
路から大気に排出される。同様に、プリント基板が前方
空気吸い込み口６４上に載置されない個所の大気の空気
及び第２排気用吸い込み口７０から取り込まれた乾燥処
理室内の温風は、それぞれの排気路に設置された循環ブ
ロア３４によって該乾燥装置の外部に取り付けられた排
気通路から大気に排出される。また、第１循環用吸い込
み口６８並びに第２循環用吸い込み口７２から取り込ま
れた温風は、それぞれの温風供給路２８を通って該乾燥
装置の各々のプレナム室１２に導入される。ここで、温
風供給路は、乾燥処理室の温度が所定の温度以上に上昇
した時に、大気からの空気を導入するための大気空気吸
入口３０を備えるダクトヒータ−３６を配設し、そして
加温されてプレナム室に導入される。
【００３３】さらに、図７は、乾燥装置構成体の構成図
である。該図において、乾燥装置構成体８０は、遠赤外
線乾燥装置１０、１０と紫外線照射装置９０とを備え
る。そして、遠赤外線乾燥装置１０、１０で処理された
プリント基板は、紫外線照射装置９０に入る。紫外線照
射装置９０に入る前のプリント基板の温度は、約１８０
℃〜約２５０℃であることが好ましい。遠赤外線放射装
置は、１ブースから構成してもよいし、複数のブースか
ら構成してもよい。この好ましくは、連続して配置され
た２から３つのブースから構成される。ここで、紫外線
照射装置からの紫外線照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以
上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ
２である。
である。該図において、乾燥装置構成体８０は、遠赤外
線乾燥装置１０、１０と紫外線照射装置９０とを備え
る。そして、遠赤外線乾燥装置１０、１０で処理された
プリント基板は、紫外線照射装置９０に入る。紫外線照
射装置９０に入る前のプリント基板の温度は、約１８０
℃〜約２５０℃であることが好ましい。遠赤外線放射装
置は、１ブースから構成してもよいし、複数のブースか
ら構成してもよい。この好ましくは、連続して配置され
た２から３つのブースから構成される。ここで、紫外線
照射装置からの紫外線照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以
上、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ
２である。
【００３４】
【発明の効果】本発明係る遠赤外線乾燥装置、乾燥装置
構成体及び乾燥方法によれば、遠赤外線をプリント基板
に塗布されたレジストインクに放射させた状態でその表
面からレジストインク中の溶剤を大気に迅速に排出させ
ることによって、プリント基板の後工程で行われるリソ
グラフィ工程で微細な配線パターンに断線を生じること
を防止できる。
構成体及び乾燥方法によれば、遠赤外線をプリント基板
に塗布されたレジストインクに放射させた状態でその表
面からレジストインク中の溶剤を大気に迅速に排出させ
ることによって、プリント基板の後工程で行われるリソ
グラフィ工程で微細な配線パターンに断線を生じること
を防止できる。
【図１】図１は、本発明に係る遠赤外線乾燥装置を示す
正面図である。
正面図である。
【図２】図２は、本発明に係る遠赤外線乾燥装置を２ブ
ースを連続して設置した状態を示す側面図である。
ースを連続して設置した状態を示す側面図である。
【図３】図３は、プリント基板表面の長手方向の温度分
布を示すグラフ図である。
布を示すグラフ図である。
【図４】図４は、他のプレナム室を示す概略図である。
【図５】図５は、他の加圧媒体吹付装置示す概略図であ
る。
る。
【図６】図６は、他の温風循環路を示す概略図である。
【図７】図７は、本発明に係る遠赤外線乾燥装置と紫外
線照射装置とを備える乾燥装置構成体を示す構成図であ
る。
線照射装置とを備える乾燥装置構成体を示す構成図であ
る。
１０；遠赤外線乾燥装置 １２；プレナム室 １４；加圧媒体吹付け装置 １６；遠赤外線放体 １８；乾燥処理室 ２０；位置可変装置 ２２；温風循環路 ２４；搬送装置 ２６；温風保温室 ２８；温風再供給路 ２９；温風再供給用開口 ３０；大気空気供給路 ３２；温風排出路 ３３；温風排出用開口 ３４；排気ブロア ３６；ダクトヒータ ４０；吸気弁 ４２；排気弁 ４４；穿孔鋼板 ４５；温風吸い込みダクト ４６；遠赤外線取り付け枠体 ５２；メッシュベルト ５４、５６、５８、６０；排気用箱体 ６４；大気空気吸込口 ６６；第１排気用吸込口 ６８；第１循環用吸込口 ７０；第２排気用吸込口 ７２；第２循環用吸込口 ８０；乾燥装置構成体 ９０；紫外線照射装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０１ Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｚ 3/06 3/06 Ｅ Ｆターム(参考） 2H097 BB02 CA11 LA09 3L113 AA02 AB02 AB06 AC08 AC10 AC36 AC45 AC46 AC48 AC51 AC67 AC83 BA34 CA04 CA08 CB05 CB06 CB22 CB24 CB39 DA04 DA25 5E339 AB01 BC01 CC01 CD01 CE12 CE15 CF15 DD04 DD05 EE04 EE05 FF02 FF03 FF10 GG02
Claims (11)
- 【請求項１】 金属表面を備える遠赤外線放射層から被
乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当
する波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するため
の遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するた
めの放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥
物体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾
燥処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記
被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に
向けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置
とを備える遠赤外線乾燥装置。 - 【請求項２】 金属表面を備える遠赤外線放射層から被
乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当
する波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するため
の遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するた
めの放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥
物体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾
燥処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記
被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に
向けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置
と、前記被乾燥物体基板の両端を挟持して該基板を搬送
するための搬送装置とを備える遠赤外線乾燥装置。 - 【請求項３】 金属表面を備える遠赤外線放射層から乾
燥処理室内の被乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最
大吸光度に相当する波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線
を放射するための遠赤外線放射体と、前記被乾燥物体温
度が約１８０℃以下になるように該基板に向けて加圧媒
体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置と、乾燥処理
室内の温風を再度処理室に循環させる温風循環路と、乾
燥処理室内の温風を大気に排出するための排気路と、前
記被乾燥物体基板を搬送するための搬送装置と、該搬送
装置は、被乾燥物に遠赤外線が放射された時にそれから
排出される溶剤等を吸い込むことができるように載置さ
れたメッシュベルトと、上面に多数の細孔を備えている
媒体吸い込み用箱体とを備え、前記箱体は、乾燥処理室
外に配設された大気吸い込み用箱体と、乾燥処理室内に
配設された温風吸い込み用箱体とを備える遠赤外線乾燥
装置。 - 【請求項４】 前記加圧媒体吹付け装置は、複数のスリ
ット孔ノズルを備えることを特徴とする請求項１、２又
は３記載の遠赤外線乾燥装置。 - 【請求項５】 前記加圧媒体吹付け装置は、複数のスリ
ット孔ノズルから前記被乾燥物体基板の表面温度にほぼ
等しい温風を吹き付けることを特徴とする請求項４記載
の遠赤外線乾燥装置。 - 【請求項６】 金属表面を備える遠赤外線放射層から被
乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当
する波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するため
の遠赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するた
めの放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥
物体基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾
燥処理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記
被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に
向けて加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置
とを備える遠赤外線乾燥装置と、前記被乾燥物体基板に
前記遠赤外線を放射した後に該被乾燥物体基板に塗布さ
れた材料に紫外線を照射するための紫外線照射装置とを
備える乾燥装置構成体。 - 【請求項７】 金属表面を備える遠赤外線放射層から被
乾燥物体に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当する
波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射するための遠
赤外線放射体と、遠赤外線を所定の時間放射するための
放射時間可変手段と、前記遠赤外線放射体と被乾燥物体
基板との距離を可変するための距離可変手段と、乾燥処
理室内温度を調節するための温度調節手段と、前記被乾
燥物体温度が約１８０℃以下になるように該基板に向け
て加圧媒体を吹き付けるための加圧媒体吹付け装置とを
備える遠赤外線乾燥装置と、前記被乾燥物体に前記遠赤
外線を放射した後に該被乾燥物体に紫外線を照射するた
めの紫外線照射装置と、前記被乾燥物体の両端を挟持し
て該基板を搬送するための搬送装置とを備える乾燥装置
構成体。 - 【請求項８】 前記紫外線照射装置は、前記遠赤外線乾
燥装置から搬送される約１８０℃〜約２５０℃の被乾燥
物体に２００ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは３００ｍＪ
／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してなる
ことを特徴とする請求項６又は７記載の乾燥装置構成
体。 - 【請求項９】 金属表面を備える遠赤外線放射層から被
乾燥物体に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当する
波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射する工程と；
前記被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように前記
被乾燥物体に向けて加圧媒体を吹き付ける工程と；を備
える乾燥方法。 - 【請求項１０】 金属表面を備える遠赤外線放射層から
被乾燥物体に塗布された材料のもつ最大吸光度に相当す
る波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射する工程
と；前記被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるように
前記被乾燥物体に向けて加圧媒体を吹き付ける工程と；
前記被乾燥物体基板に前記遠赤外線を放射した後に該被
乾燥物体に塗布された材料に２００ｍＪ／ｃｍ２以上、
好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の
紫外線を照射する工程と；を備える乾燥方法。 - 【請求項１１】 金属表面を備える遠赤外線放射層から
被乾燥物体基板に塗布された材料のもつ最大吸光度に相
当する波長約３〜約６ミクロンの遠赤外線を放射する工
程と；前記被乾燥物体温度が約１８０℃以下になるよう
に前記被乾燥物体基板の表面温度にほぼ等しい温度の加
圧媒体を吹き付ける工程と；前記被乾燥物体基板に前記
遠赤外線を放射した後の約１８０℃〜約２５０℃の該被
乾燥物体に塗布された材料に２００ｍＪ／ｃｍ２以上、
好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２の
紫外線を照射する工程と；を備える乾燥方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001116107A JP2002267356A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法 |
| CN 02106500 CN1374494A (zh) | 2001-03-12 | 2002-03-01 | 远红外线干燥装置、干燥装置构成体及干燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001116107A JP2002267356A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP2001116107A Pending JP2002267356A (ja) | 2001-03-12 | 2001-03-12 | 遠赤外線乾燥装置、乾燥装置構成体及び乾燥方法 |
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|---|---|
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| CN (1) | CN1374494A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006162177A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Negishi Seisakusho:Kk | 防爆型乾燥装置 |
| JP2006226629A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Negishi Seisakusho:Kk | 輻射乾燥装置 |
| JP2006292328A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
| JP2008291952A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Daido Metal Co Ltd | 樹脂被覆摺動部材の製造方法 |
| JP2009122358A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Orion Mach Co Ltd | 板状部材の温度調整装置 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008291952A (ja) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Daido Metal Co Ltd | 樹脂被覆摺動部材の製造方法 |
| JP2009122358A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Orion Mach Co Ltd | 板状部材の温度調整装置 |
| JP2012027047A (ja) * | 2010-05-21 | 2012-02-09 | Asahi Kogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
| JP2011248381A (ja) * | 2011-08-29 | 2011-12-08 | Asahikogyosha Co Ltd | ガラス基板温調用ノズル構造 |
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