JP2001336878A

JP2001336878A - 乾燥装置及び乾燥方法

Info

Publication number: JP2001336878A
Application number: JP2000197282A
Authority: JP
Inventors: Sho Suzuki; ▲しょう▼ 鈴木
Original assignee: MISUZU KK; MISUZU SAW Manufacturing; Daito Seiki KK
Current assignee: MISUZU KK; MISUZU SAW Manufacturing; Daito Seiki KK
Priority date: 2000-05-29
Filing date: 2000-05-29
Publication date: 2001-12-07

Abstract

(57)【要約】【課題】最適な波長の遠赤外線及び最適な照射量の紫外
線を被乾燥物体に有効的に、及び効率的に被乾燥物体に
放射することができ、よって、被乾燥物体の種類や厚さ
にかかわずに被乾燥物体を変形することなく、歩留り良
くかつ乾燥に要する時間を短縮する。【解決手段】乾燥装置は、遠赤外線放射装置と、紫外線
照射装置を備える。遠赤外線放射装置において、遠赤外
線放射体は、搬送路を挟んで上下側の位置にそれぞれ複
数個配設され、かつ互いにずらして設けられる。遠赤外
線放射装置の乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時
間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾
燥物体との距離を制御して被乾燥物体の表面温度を約１
８０℃〜約２５０℃に設定めるする。被乾燥物体は、紫
外線照射装置に入る前に約８０℃〜約１８０℃に冷却さ
れる。紫外線照射体から照射される紫外線の照射量は、
約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約３００ｍＪ／
ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、遠赤外線及び紫外線
を利用して被乾燥物体を乾燥する乾燥装置及び乾燥方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来において、遠赤外線及び紫外線を利
用した乾燥装置は知られている。特に、被乾燥物体がア
クリル樹脂を塗布したエポキシ樹脂からなる薄膜基板で
ある場合、被乾燥物体の最適な波長をもつ遠赤外線で乾
燥すると、被乾燥物体が高温になり、樹脂が焼け、また
基板が変形をする等の問題を生じていた。そのために、
最大吸光度に相当する波長より波長帯域を長波長側にず
らして放射しているために、乾燥に時間がかかり、しか
も品質に問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の問題点
を解決するためになされたもので、最適な波長の遠赤外
線及び最適な照射量の紫外線を被乾燥物体に有効的に、
及び効率的に被乾燥物体に放射することにより、被乾燥
物体の種類や厚さにかかわずに被乾燥物体を変形するこ
となく、歩留り良くかつ乾燥に要する時間を短縮するこ
とができる乾燥装置及び乾燥方法を提供することを目的
とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の乾燥装
置は、被乾燥物体を搬送するための搬送路体と；前記搬
送路を挟んで上側及び又は下側の位置にそれぞれ複数個
配設された遠赤外線放射体と；被乾燥物体と前記遠赤外
線放射体との距離を可変するための昇降装置と；前記遠
赤外線から放射される遠赤外線によって被乾燥物体を乾
燥させるための乾燥室と；前記遠赤外線放射体から発生
する熱によって昇温される温風を循環するための温風循
環経路と；乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、
遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物
体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面
温度を約１８０℃〜約２５０℃するための制御装置と、
を備える遠赤外線放射装置を有する。

【０００５】請求項２に記載の乾燥装置は、被乾燥物体
を搬送するための搬送路体と；前記搬送路を挟んで上側
及び又は下側の位置にそれぞれ複数個配設された遠赤外
線放射体と、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離
を可変するための昇降装置と、前記遠赤外線から放射さ
れる遠赤外線によって被乾燥物体を乾燥させるための乾
燥室と、前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇
温される温風を循環するための温風循環経路と、乾燥室
内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の
表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御
して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を約１８０℃
〜約２５０℃するための制御装置と、を備える遠赤外線
放射装置と；前記遠赤外線の放射された前記被乾燥物体
に紫外線を照射するための紫外線照射体と、該紫外線照
射体から照射される紫外線の照射量は、約２００ｍＪ／
ｃｍ^２以上、好ましくは約３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８０
０ｍＪ／ｃｍ^２であり、を備える紫外線照射装置と；を
備える。

【０００６】請求項３に記載の乾燥装置は、被乾燥物体
を搬送するための搬送路と；前記搬送路を挟んで上側及
び又は下側の位置にそれぞれ複数個配設された遠赤外線
放射体と、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離を
可変するための昇降装置と、前記遠赤外線から放射され
る遠赤外線によって被乾燥物体を乾燥させるための乾燥
室と、前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇温
される温風を循環するための温風循環経路と、乾燥室内
の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表
面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御し
て前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を約１８０℃〜
約２５０℃するための制御装置と、前記乾燥室の出口に
乾燥室内の熱風を大気へ放出することを防止するための
遮閉手段と、を備える遠赤外線放射装置と；前記遠赤外
線放射体から遠赤外線が放射された前記被乾燥物体に紫
外線を照射するための紫外線照射体と、該紫外線照射体
から照射される紫外線の照射量は、約２００ｍＪ／ｃｍ
^２以上、好ましくは約３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍ
Ｊ／ｃｍ^２であり、を備える紫外線照射装置と；前記遠
赤外線放射装置と前記紫外線照射装置との間に配設さ
れ、前記遠赤外線の放射によって加熱された被乾燥物体
を冷却するための冷却装置と、該被乾燥物体の温度は、
該紫外線照射装置に入る時、約８０℃〜約１８０℃、好
ましくは約１００℃〜約１３０℃である；を備える。

【０００７】請求項４に記載の乾燥装置は、被乾燥物体
を搬送するための搬送路と；遠赤外線放射体と、前記遠
赤外線放射体から放射される遠赤外線によって被乾燥物
体を乾燥させるための乾燥室と、被乾燥物体の一方側に
配設される反射板と他方側に配設される断熱材と、該反
射板は、遠赤外線放射体と対向して配設され、被乾燥物
体と前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降
装置と、前記遠赤外線放射体から発生する熱によって昇
温される温風を循環するための温風循環経路と、乾燥室
内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の
表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御
して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を約１８０℃
〜約２５０℃するための制御装置と、を備える遠赤外線
放射装置と；前記遠赤外線放射体から遠赤外線が放射さ
れた前記被乾燥物体に紫外線を照射するための紫外線照
射体と、該紫外線照射体から照射される紫外線の照射量
は、約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約３００ｍ
Ｊ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２であり、を備える紫
外線照射装置と；を備える。

【０００８】請求項５に記載の乾燥装置は、前記上側に
配設されている前記遠赤外線放射体の位置と、下側に配
設されている前記遠赤外線放射体の位置とは、互いにづ
れていることを特徴とする。

【０００９】請求項６に記載の乾燥装置は、前記紫外線
照射体が、複数個配設されていることを特徴とする。

【００１０】請求項７に記載の乾燥装置は、前記紫外線
照射体が、前記搬送路の上側及び又は下側に配設されて
いることを特徴とする。

【００１１】請求項８に記載の乾燥装置は、前記上側に
配設されている前記紫外線照射体の位置と、下側に配設
されている前記紫外線照射体の位置とは、互いにづれて
いることを特徴とする。

【００１２】請求項９に記載の乾燥装置は、被乾燥物体
と前記紫外線照射体との距離を可変するための昇降装置
をさらに備えることを特徴とする。

【００１３】請求項１０に記載の乾燥装置は、温風を前
記乾燥室に向けてダウンフローするためのプレナム室を
備えることを特徴とする。

【００１４】請求項１１に記載の乾燥装置は、前記遠赤
外線放射装置を複数台配設してなり、各遠赤外線放射装
置における乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、
遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物
体との距離をそれぞれ独立して制御してなることを特徴
とする。

【００１５】請求項１２に記載の乾燥装置は、前記被乾
燥物体はプリント基板であることを特徴とする。

【００１６】請求項１３に記載の乾燥方法は、被乾燥物
体に遠赤外線を放射する工程と；乾燥室内の温度、遠赤
外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤
外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室
内の被乾燥物体の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃に
制御する工程と；前記遠赤外線の放射された被乾燥物体
を約８０℃〜約１８０℃、好ましくは約１００℃〜約１
３０℃に冷却する工程と；前記冷却された被乾燥物体に
照射量約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約３００
ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射す
る工程と；を備える。

【００１７】請求項１４に記載の乾燥方法は、被乾燥物
体に遠赤外線を放射する工程と；乾燥室内の温度、遠赤
外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤
外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室
内の被乾燥物体の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃に
制御する工程と；前記遠赤外線の放射された被乾燥物体
を約８０℃〜約１８０℃、好ましくは約１００℃〜約１
３０℃に冷却する工程と；前記冷却された被乾燥物体に
照射量約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約３００
ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射す
る工程と；前記紫外線を照射した被乾燥物体を冷却する
工程と；を備える。

【００１８】請求項１５に記載の乾燥方法は、前記遠赤
外線の放射された被乾燥物体の冷却工程を強制冷却又は
自然冷却によって行うことを特徴とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明に係る乾燥装置の実施例を
添付図面を参照して以下に説明する。被乾燥物体は、ア
ルミニウム等の金属板やアクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂等の合成樹脂基板とその上に塗布
されたフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等
の合成樹脂層、銅ペースト、銀ペースト、ハンダ、イン
ク等とから構成される。以下は、基板上にレジスト、イ
ンクを塗布してなる厚さ約０．１〜０．６ｍｍのプリン
ト基板を乾燥する場合を説明するが、該プリント基板の
乾燥に限定されるものではない。また、乾燥は、加温を
含む。

【００２０】一般に、波長と遠赤外線放射体の表面温度
とは関連し、また遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離
によって被乾燥物体の表面温度は可変する。図１は、波
長と遠赤外線放射体の表面温度の関係を示す。該図に示
されているように波長の短いほど遠赤外線放射体の表面
温度は高くなる。すなわち、該図より、波長；３．５８
〜６．４６μｍの範囲において、遠赤外線放射体の表面
温度は、約５４０℃〜約１７０℃になる。

【００２１】図２は、遠赤外線放射体の出力を３４０ワ
ット、遠赤外線放射体の表面温度を５４０℃、波長；
３．５８μｍの遠赤外線放射体を使用し、遠赤外線放射
体と被乾燥物体との距離を可変することにより得られる
被乾燥物体の表面温度を示す。なお、被乾燥物体の基板
は、０．６ｍｍ厚さのアルミニウム板を使用した。該図
より前記距離が、５０〜１５０ｍｍにおいて、被乾燥物
体の表面温度は、約１５０℃〜約７０℃となる。

【００２２】かくして、遠赤外線を放射する金属板表面
の温度を可変して被乾燥物体の乾燥にとって最適な遠赤
外線を放射するための遠赤外線波長帯域を設定する。前
記遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離を制御して被乾
燥物体の表面温度を所定の温度に設定する。この後、前
記遠赤外線放射体から被乾燥物体に前記設定された波長
の遠赤外線を放射する。前記遠赤外線放射体から生じた
熱を利用した温風を温風循環閉経路内に通して被乾燥物
体に供給する。

【００２３】本実施例において、遠赤外線放射体の波
長；４．２〜４．６μｍ、遠赤外線放射体と被乾燥物体
との距離；９０ｍｍ〜１２０ｍｍに制御して被乾燥物体
の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃にした。

【００２４】ここで使用される前記遠赤外線放射体１
は、図３に示されるように所定の曲率半径Ｒの凸面形状
を有するほぼ円形状のアルミニウム又はステンレス等の
金属板２に遠赤外線放射層３を備え、該金属板をコイル
等の加熱装置４で所定の温度に加熱するように構成され
る。遠赤外線放射体は、被乾燥物体の基板に塗布された
樹脂材料のもつ最大吸光度に相当する波長；約３〜約６
μｍの遠赤外線を放射する。また、前記金属板が、熱に
より変形しないように保持し及び又は所定の形状を形成
するように保持／形成部５を有する保持／形成板６を配
設している。さらに、コイル４と金属板２及びコイル４
と保持／形成板６との間には絶縁板８を備える。符号７
は、ソケットであり、符号９はリード線である。

【００２５】本発明に係る乾燥装置は、遠赤外線放射装
置と紫外線照射装置とを備える。図４は、遠赤外線放射
装置１０の正面図である。該図に示すように、遠赤外線
放射装置１０は、被乾燥物体１１を乾燥するための乾燥
室１２と、被乾燥物体を搬送するため乾燥室内に長手方
向に延出して設けられ、かつ平面搬送路を形成する搬送
路体１３と、搬送路体の上側及び又は下側に所定の間隔
をもって複数個配設した遠赤外線放射体１５と、前記遠
赤外線放射体を取り付けた枠体１４、と、遠赤外線放射
体から発生した熱を含む温風を循環路１６を介して乾燥
室へ供給するための温風循環経路１７と、循環路１６か
ら導入される温風を乾燥室へ向けてダウンフローさせる
ためのプレナム室１８と、プレナム室１８からの温風を
搬送路体１３へ向けて噴出するために複数個配設された
遠赤外線放射体１５の所定の間隔に設けられた温風噴出
口２３と、温風の一部を大気に排出する排気路１９とを
備える。なお、遠赤外線放射装置１０の枠体は、断熱材
で作られる。

【００２６】なお、前記搬送路体の下側に配置した遠赤
外線放射体に代えてステンレス製の反射板を配設しても
よい。さらに、該反射板は、その表面に遠赤外線を放射
する遠赤外線放射層を設けることが好ましい。また、前
記搬送路体の上側に配置した遠赤外線放射体に代えてス
テンレス製の反射板を配設し、そして下側に遠赤外線放
射体を設けてもよい。

【００２７】遠赤外線放射体１５は、前記搬送路体の上
側及び下側に所定の間隔をもって複数個配設されてい
る。この場合、上側の遠赤外線放射体１５の位置と下側
の遠赤外線放射体１５の位置とはずれて配置されること
が好ましい。より好ましくは、上側の噴出装置２３の位
置に対向する位置に下側の遠赤外線放射体１５が配設さ
れる。

【００２８】前記遠赤外線放射体を取り付けた枠体及び
プレナム室１８は、昇降手段である駆動装置２０に取付
られ、そして昇降手段よって一体的に上下方向に１０〜
３００ｍｍの範囲で移動にすることができる。この移動
によって、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離は
可変される。一方、枠体及びプレナム室との間隔は一定
に保持される。

【００２９】前記乾燥室内の温度は、常に所定の温度に
なるように制御される。すなわち、乾燥室内の温度が、
所定の温度より上昇すると排気路１９に設けられている
調節弁２１が開く。そして乾燥装置内を循環する温風の
一部は大気に放出され、その結果循環する温風の温度は
下がる。このように、前記乾燥室内で遠赤外線放射体の
発熱によって生じた温風の温度は調節弁２１によって温
度調節され、乾燥室内は常に所定の温度の温風が供給さ
れる。

【００３０】前記遠赤外線放射体で発生した温風は、前
記乾燥室１２からその下方に設けられた循環ブロワー２
２によって装置内を循環する。すなわち、温風は、乾燥
室１２から循環路１６を通って乾燥室の上方に配設され
たプレナム室１８に導入される。なお、前記乾燥室は、
被乾燥物体を収納する空間によって構成される。

【００３１】図５は、他の遠赤外線放射装置を示す正面
図である。該図に示される遠赤外線放射装置４０におい
て、遠赤外線放射装置の枠体４２は、断熱材で作られて
いる。枠体の側壁の一部４３はメンテナンス用に取り外
し可能に作られている。該枠体内に配設されている乾燥
室３２は、反射板４４と断熱板４６とを備える囲ぎょう
体４８によって囲ぎょうされている。なお、該反射板
は、遠赤外線放射体１５に対向する側に遠赤外線を放射
する遠赤外線放射層を設けることが好ましい。

【００３２】該乾燥室は、被乾燥物体を搬送する搬送ベ
ルト１３を長手方向に配設している。そして、該被乾燥
物体に向けて搬送ベルト１３の上方に配設されている複
数の遠赤外線放射体１５から遠赤外線が放射される。遠
赤外線放射体から発生する熱によって乾燥室内の空気
は、温風となり、そして前記囲ぎょう体の外側を循環す
る。なお、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との距離
は、昇降装置（図示せず）によって可変される。

【００３３】前記囲ぎょう体を構成している反射板４４
は、搬送ベルトの下側に配設されている。一方、断熱板
４６は、搬送ベルトの上側及び左右の両側に配設されて
いる。乾燥室内を循環している温風を大気に放出するた
めの第１排気ダクト５０と、前記乾燥室内で被乾燥物体
から出る気化した溶剤等を大気に放出するための第２排
気ダクト５２とを配設する。

【００３４】図６は、複数台の遠赤外線放射装置を配設
してなる遠赤外線放射装置の概略断面図である。ここ
で、上述と同じ装置には同じ番号を付ける。該図におい
て、各遠赤外線放射装置における乾燥室内の温度、遠赤
外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤
外線放射体と被乾燥物体との距離は、それぞれ独立して
制御される。

【００３５】前記乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射
時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被
乾燥物体との距離の少なくとも１つは各遠赤外線放射装
置において異なって設定され、又は全て同じに設定され
る。また、前記遠赤外線放射装置内の温度は、搬送入り
口側で最も低く設定される。これらの制御は、１つの遠
赤外線放射装置に取付られた制御装置により行われる。
また、各遠赤外線放射装置の電圧または電流の制御は、
電圧制御素子や電流制御素子を使用して行われ、消費電
力を少なくすることができる。

【００３６】図７は、本発明に係る乾燥装置の構成図で
ある。該図において、乾燥装置６０は、遠赤外線放射装
置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、遠赤外線放射装置１０Ｃ
の後に配設され、遠赤外線放射の後工程に紫外線を照射
するための紫外線照射装置６２を備える。各遠赤外線放
射装置は、上述した構成を使用する。なお、遠赤外線放
射装置は３台に限らずに１台又は複数台配置してもよ
い。この場合、紫外線照射装置に隣接する遠赤外線放射
装置１０Ｃは、その出口側に遠赤外線放射熱が紫外線照
射装置に伝わることを防止するために例えば、エアーカ
ーテン等の断熱装置を設けることが好ましい。

【００３７】また、図８は、本発明に係る乾燥装置のさ
らに他の構成図である。該図において、乾燥装置７０
は、遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、遠赤
外線放射装置１０Ａの前に配設され、遠赤外線放射の前
工程に紫外線照射体６２を配置する構成をとることもで
きる。遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃは、上
述の遠赤外線放射装置を使用する。

【００３８】一方、図９は、本発明に係る乾燥装置のさ
らに他の構成図である。該図において、乾燥装置８０
は、遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、該遠
赤外線放射装置１０Ａの前に配設されたマイクロ波発生
装置８２とを備える。ここでは、被乾燥物体に遠赤外線
を放射する前にマイクロ波を照射する。マイクロ波の照
射は、被乾燥物体が水分を多く含む場合に適用される。
そして、マイクロ波の照射時間は、被乾燥物体の水分量
によって調節される。

【００３９】また、図１０は、本発明に係る乾燥装置の
さらに他の構成図である。該図において、乾燥装置９０
は、遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、該遠
赤外線放射装置１０Ａの前に配設された予備加熱装置９
２とを備える。遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０
Ｃは、上述の遠赤外線放射装置を使用する。さらに、遠
赤外線放射装置１０Ｃの後に配設され、遠赤外線放射の
後工程に紫外線を照射するための紫外線照射装置６２を
備える。

【００４０】図１１は、本発明に係る乾燥装置のさらに
他の構成図である。該図において、乾燥装置２００は、
遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、冷却手段
９４と、紫外線照射装置６２とを備える。かくして、被
乾燥物体が、遠赤外線放射装置１０Ｃから出て紫外線照
射装置６２に入る時、被乾燥物体の表面温度は約１８０
℃〜約８０℃、好ましくは約１３０℃〜約１００℃にな
っていることが好ましい。よって、紫外線照射装置の前
方、すなわち遠赤外線放射装置１０Ｃと紫外線照射装置
６２との間に冷却手段９４を設置する。

【００４１】図１２は、本発明に係る乾燥装置のさらに
他の構成図である。該図において、乾燥装置３００は、
遠赤外線放射装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃと、冷却手段
９４と、紫外線照射装置６２と、冷却装置９４とを備え
る。被乾燥物体が、紫外線照射装置から出てくる時、プ
リント基板にような薄厚の被乾燥物体の表面は高温度に
なっているため、反りをもって出てくる。この反りをな
くすために、紫外線照射装置から出て来た被乾燥物体の
温度を下げることが要求される。そこで、紫外線照射装
置の後方に冷却装置９６を設置する。

【００４２】前記冷却手段９４は、遠赤外線放射装置１
０Ｃと紫外線照射装置６２との間の距離を約５００ｍｍ
にして被乾燥物体の温度を自然に冷却させてなること、
又は電気的クーラである。一方、前記冷却装置９６は、
電気的クーラである。

【００４３】上述の紫外線照射装置６２の構成は図１３
及び図１４に示される。紫外線照射装置の光源１００
は、メタハライドランプ、水銀ランプである。なお、
ここで使用した光源はの波長は、３６５ｎｍを使用し
た。光源１００は、光源からの光を反射するためのコー
ルドミラー１０２を備える。紫外線の照射時間は、約１
０秒、照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは
３００ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２である。紫外
線の照射量が、２００ｍＪ／ｃｍ^２以下の時、被乾燥物
体の表面に塗布されている樹脂やインクが剥がれたり、
気泡が発生するので好ましくない。

【００４４】紫外線照射装置は、搬送方向に複数個、好
ましくは２個の紫外線照射光源１００を並設する。又は
搬送路を介して上下に紫外線照射光源１００の位置をず
らして配設される。すなわち、搬送速度が、早くなる
と、１個の紫外線照射光源では十分に被乾燥物表面を照
射するすることができないためである。また、紫外線照
射光源は上下に移動することができる。

【００４５】

【発明の効果】以上のように本発明に係る乾燥装置及び
乾燥方法は、最適な波長の遠赤外線及び最適な照射量の
紫外線を被乾燥物体に有効的に、及び効率的に被乾燥物
体に放射することができ、よって、被乾燥物体の種類や
厚さにかかわずに被乾燥物体を変形することなく、歩留
り良くかつ乾燥に要する時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、被乾燥物体の表面温度と被乾燥物体と
遠赤外線放射体との距離との関係を示す図である。

【図２】図２は、被乾燥物体の表面温度と遠赤外線放射
体の波長との関係を示す図である。

【図３】図３は、遠赤外線放射体を示す概略断面図であ
る。

【図４】図４は、本発明に係る遠赤外線放射装置を示す
正面図である。

【図５】図５は、本発明に係る他の遠赤外線放射装置を
示す正面図である。

【図６】図６は、本発明に係る乾燥装置を示す概略図で
ある。

【図７】図７は、本発明に係る乾燥装置を示す構成図で
ある。

【図８】図８は、本発明に係る他の乾燥装置を示す構成
図である。

【図９】図９は、本発明に係るさらに他の乾燥装置を示
す構成図である。

【図１０】図１０は、本発明に係るさらに他の乾燥装置
を示す構成図である。

【図１１】図１１は、本発明に係るさらに他の乾燥装置
を示す構成図である。

【図１２】図１２は、本発明に係るさらに他の乾燥装置
を示す構成図である。

【図１３】図１３は、本発明に係る紫外線照射装置を示
す要部概略図である。

【図１４】図１４は、本発明に係る他の紫外線照射装置
を示す要部概略図である。

【符号の説明】

１、１５；遠赤外線放射体１０、１０Ａ、１０Ｂ，１０Ｃ；遠赤外線放射装置１１；被乾燥物１２；乾燥室１３；搬送路体１６；循環路１７；温風循環路経路１８；プレナム室１９；排気路２０；昇降手段２３；温風噴出口４４；反射板６０、７０、８０、９０、２００、３００；乾燥装置６２；紫外線照射装置８２；マイクロ波発生装置９２；予備加熱装置９４；冷却手段９６；冷却装置１００；紫外線光源

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被乾燥物体を搬送するための搬送路体
と；前記搬送路を挟んで上側及び又は下側の位置にそれ
ぞれ複数個配設された遠赤外線放射体と；被乾燥物体と
前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置
と；前記遠赤外線から放射される遠赤外線によって被乾
燥物体を乾燥させるための乾燥室と；前記遠赤外線放射
体から発生する熱によって昇温される温風を循環するた
めの温風循環経路と；乾燥室内の温度、遠赤外線放射の
放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体
と被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥
物体の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃するための制
御装置と、を備える遠赤外線放射装置を有する乾燥装
置。
【請求項２】被乾燥物体を搬送するための搬送路体
と；前記搬送路を挟んで上側及び又は下側の位置にそれ
ぞれ複数個配設された遠赤外線放射体と、被乾燥物体と
前記遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置
と、前記遠赤外線から放射される遠赤外線によって被乾
燥物体を乾燥させるための乾燥室と、前記遠赤外線放射
体から発生する熱によって昇温される温風を循環するた
めの温風循環経路と、乾燥室内の温度、遠赤外線放射の
放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体
と被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥
物体の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃するための制
御装置と、を備える遠赤外線放射装置と；前記遠赤外線
の放射された前記被乾燥物体に紫外線を照射するための
紫外線照射体と、該紫外線照射体から照射される紫外線
の照射量は、約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約
３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２であり、を
備える紫外線照射装置と；を備える乾燥装置。
【請求項３】被乾燥物体を搬送するための搬送路と；
前記搬送路を挟んで上側及び又は下側の位置にそれぞれ
複数個配設された遠赤外線放射体と、被乾燥物体と前記
遠赤外線放射体との距離を可変するための昇降装置と；
前記遠赤外線から放射される遠赤外線によって被乾燥物
体を乾燥させるための乾燥室と、前記遠赤外線放射体か
ら発生する熱によって昇温される温風を循環するための
温風循環経路と、乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射
時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被
乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物体
の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃するための制御装
置と、前記乾燥室の出口に乾燥室内の熱風を大気へ放出
することを防止するための遮閉手段と、を備える遠赤外
線放射装置と；前記遠赤外線放射体から遠赤外線が放射
された前記被乾燥物体に紫外線を照射するための紫外線
照射体と、該紫外線照射体から照射される紫外線の照射
量は、約２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、好ましくは約３００
ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／ｃｍ^２であり、を備える
紫外線照射装置と；前記遠赤外線放射装置と前記紫外線
照射装置との間に配設され、前記遠赤外線の放射によっ
て加熱された被乾燥物体を冷却するための冷却手段と、
該被乾燥物体の温度は、該紫外線照射装置に入る時、約
８０℃〜約１８０℃、好ましくは約１００℃〜約１３０
℃である；を備える乾燥装置。
【請求項４】被乾燥物体を搬送するための搬送路と；
遠赤外線放射体と、前記遠赤外線放射体から放射される
遠赤外線によって被乾燥物体を乾燥させるための乾燥室
と、被乾燥物体の一方側に配設される反射板と他方側に
配設される断熱材と、該反射板は、遠赤外線放射体と対
向して配設され、被乾燥物体と前記遠赤外線放射体との
距離を可変するための昇降装置と、前記遠赤外線放射体
から発生する熱によって昇温される温風を循環するため
の温風循環経路と、乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放
射時間、遠赤外線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と
被乾燥物体との距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物
体の表面温度を約１８０℃〜約２５０℃するための制御
装置と、を備える遠赤外線放射装置と；前記遠赤外線放
射体から遠赤外線が放射された前記被乾燥物体に紫外線
を照射するための紫外線照射体と、該紫外線照射体から
照射される紫外線の照射量は、約２００ｍＪ／ｃｍ^２以
上、好ましくは約３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ／
ｃｍ^２であり、を備える紫外線照射装置と；を備える乾
燥装置。
【請求項５】該上側に配設されている前記遠赤外線放射
体の位置と、下側に配設されている前記遠赤外線放射体
の位置とは、互いにづれていることを特徴とする請求項
１、２、３又は４記載の乾燥装置。
【請求項６】前記紫外線照射体は、複数個配設されて
いることを特徴とする請求項２、３又は４記載の乾燥装
置。
【請求項７】前記紫外線照射体は、前記搬送路の上側
及び又は下側に配設されていることを特徴とする請求項
６記載の乾燥装置。
【請求項８】該上側に配設されている前記紫外線照射体
の位置と、下側に配設されている前記紫外線照射体の位
置とは、互いにづれていることを特徴とする請求項７記
載の乾燥装置。
【請求項９】被乾燥物体と前記紫外線照射体との距離を
可変するための昇降装置をさらに備えることを特徴とす
る請求項２、３又は４記載の乾燥装置。
【請求項１０】温風を前記乾燥室に向けてダウンフロー
するためのプレナム室を備えることを特徴とする請求項
１、２又は３記載の乾燥装置。
【請求項１１】前記遠赤外線放射装置を複数台配設し
てなり、各遠赤外線放射装置における乾燥室内の温度、
遠赤外線放射の放射時間、遠赤外線放射体の表面温度、
遠赤外線放射体と被乾燥物体との距離をそれぞれ独立し
て制御してなることを特徴とする請求項１、２、３又は
４記載の乾燥装置。
【請求項１２】前記被乾燥物体はプリント基板である
ことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の乾燥装
置。
【請求項１３】被乾燥物体に遠赤外線を放射する工程
と；乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外
線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との
距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を
約１８０℃〜約２５０℃に制御する工程と；前記遠赤外
線の放射された被乾燥物体を約８０℃〜約１８０℃、好
ましくは約１００℃〜約１３０℃に冷却する工程と；前
記冷却された被乾燥物体に照射量約２００ｍＪ／ｃｍ^２
以上、好ましくは約３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ
／ｃｍ^２の紫外線を照射する工程と；を備える乾燥方
法。
【請求項１４】被乾燥物体に遠赤外線を放射する工程
と；乾燥室内の温度、遠赤外線放射の放射時間、遠赤外
線放射体の表面温度、遠赤外線放射体と被乾燥物体との
距離を制御して前記乾燥室内の被乾燥物体の表面温度を
約１８０℃〜約２５０℃に制御する工程と；前記遠赤外
線の放射された被乾燥物体を約８０℃〜約１８０℃、好
ましくは約１００℃〜約１３０℃に冷却する工程と；前
記冷却された被乾燥物体に照射量約２００ｍＪ／ｃｍ^２
以上、好ましくは約３００ｍＪ／ｃｍ^２〜約８００ｍＪ
／ｃｍ^２の紫外線を照射する工程と；前記紫外線を照射
した被乾燥物体を冷却する工程と；を備える乾燥方法。
【請求項１５】前記遠赤外線の放射された被乾燥物体の
冷却工程を強制冷却又は自然冷却によって行うことを特
徴とする請求項１３又は１４記載の乾燥方法。