CN104379350A - 阴图制版平版印刷版前体 - Google Patents

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Abstract

阴图制版平版印刷版前体，包含阴图制版可成像层和直接安置在该阴图制版可成像层上的最外层水溶性覆盖层。该最外层水溶性覆盖层包含：（1）一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂，和（2）分散在其中的有机蜡粒子。如由干燥的最外层水溶性覆盖层的扫描电子显微镜法测定的那样，该有机蜡粒子具有至少0.05μm和最多且包括0.7μm的平均最大尺寸。可用的有机蜡粒子包括氟化或非氟化的烃蜡粒子。

Description

阴图制版平版印刷版前体
发明领域
本发明涉及包含独特的水溶性覆盖层的阴图制版平版印刷版前体，该水溶性覆盖层包含烃蜡粒子。本发明还涉及使用预打样（off-press）处理（显影）由本发明的平版印刷版前体制造平版印刷版的方法。
 
发明背景
在常规或“湿法”平版印刷中，吸油墨区域（称为图像区）在亲水性表面上生成。当该表面用水润湿并施加油墨时，该亲水性区域保留水并排斥油墨，吸油墨区域接收油墨并排斥水。油墨转移到在其上重现该图像的材料表面上。例如，该油墨可以首先转移到中间橡皮布（intermediate blanket）上，该橡皮布随后将油墨转移到在其上重现该图像的材料表面上。
可用于制备平版印刷版的可成像元件通常包含一个或多个施加在基板的亲水性表面上的可成像层。该可成像层包括一种或多种可以分散在适当粘合剂中的辐射敏感性组分。或者，该辐射敏感性组分也可以是粘合剂材料。在成像后，可成像层的成像区域或未成像区域通过适当的显影剂除去，显露下方的基板的亲水性表面。如果除去成像区域，该元件被称为阳图制版的。相反，如果除去未成像区域，该元件被称为阴图制版的。在各种情况下，保留的可成像层区域（即图像区域）是吸油墨性，通过显影过程暴露的亲水性表面的区域接收水和水性溶液，通常为润版液，并排斥油墨。
直接数字或热成像因其对环境光的稳定性已经在印刷行业中变得越来越重要。用于制备平版印刷版的可成像元件已经设计为对热或红外辐射敏感并可以使用热敏头或更通常使用红外激光二极管来曝光，其图像响应于来自计算机制版机中图像的数字拷贝的信号。这种“计算机直接制版”技术已经普遍取代了其中使用掩模成像该元件的先前的技术。
如在例如以下文献中所述，在阴图制版平版印刷版前体中使用各种辐射敏感组合物：美国专利6,309,792（Hauck等人）、6,893,797（Munnelly等人）、6,727,281（Tao等人）、6,899,994（Huang等人）和7,429,445（Munnelly等人）、美国专利申请公开2002/0168494（Nagata等人）、2003/0118939（West等人）和EP公开1,079,276A2（Lifka等人）和1,449,650A2（Goto等人）。
在成像后，将阴图制版平版印刷版前体显影（加工）以除去可成像层的未成像（未曝光）区域。通常，平版印刷版前体设计为具有安置在阴图制版光敏感性可成像层上的水溶性顶涂层或水溶性不透氧阻隔层。该顶涂层用于通过确保更高的可成像层敏感性来改善成像过程中的高聚合速率。
此类平版印刷版前体在制成后通常以几十或几百块单独前体的堆叠的形式运输。通常在单独的前体之间插入衬纸以防止成像表面的划痕。但是，尽管存在衬纸，水溶性顶涂层表面仍会在运输或处理过程中（例如当在自动上版机中除去该衬纸时）被刮伤，在刮擦区域中留下灵敏性的损失。
美国专利申请公开2010/0151385（Ray等人）描述了以堆叠形式提供的阴图制版平版印刷版前体。各前体具有干涂层重量低于1克/平方米的顶涂层，使得可以在堆叠中省略衬纸。大粒子（1-6 μm）相对于顶涂层厚度或干涂层重量（<1克/平方米）是任选的。
美国专利申请公开2007/0231739（Koizumi）描述了阴图制版平版印刷版前体，其中保护性顶涂层含有规定比例的有机树脂微细颗粒和云母粒子。有机树脂微细颗粒优选为2-15 μm。
美国专利申请公开2007/0231740（Yanaka等人）描述了其中顶涂层包含有机填料粒子的阴图制版平版印刷版。类似地，JP 2008-276167（Yanaka等人）描述了使用衬纸分隔的平版印刷版前体的堆叠。各前体具有包含涂有二氧化硅的有机树脂粒子的顶涂层。这些公开均描述了优选1-20 μm、更优选2-15 μm和任选3-10 μm的填料粒子。
EP 1,865,380（Endo）描述了在顶涂层中具有二氧化硅涂布的聚合物粒子的类似平版印刷版前体，该粒子的平均直径为1-30 μm或甚至更小为2-15 μm。
美国专利5,563,023（Kangas等人）描述了具有保护性覆盖层的光可成像元件，所述保护性覆盖层可以含有有机聚合物珠粒以提供抗粘连性，该聚合物珠粒的粒度为0.75-75 μm。
引用的出版物具有共同的特征，即使用相对于膜厚度较大的有机粒子以便当平版印刷版前体一个接一个地叠置时保持一定的空间而无需在前体之间插入衬纸。如美国专利申请公开2007/0231739（上述）中所述，描述的大的有机粒子对改善耐擦伤性无效。
需要具有基于自由基的阴图制版成像化学的改善的平版印刷版前体，其表现出改善的外层耐擦伤性，并可以在处理机中处理而产生减少的残渣（sludge）。
 
发明概述
本发明提供一种阴图制版平版印刷版前体，包含：
基板，
安置在该基板上的阴图制版可成像层，该阴图制版可成像层包含可自由基聚合的组分、能够在暴露于成像辐射时生成自由基的引发剂组合物、辐射吸收剂和聚合粘合剂，以及
直接安置在该阴图制版可成像层上的最外层水溶性覆盖层，该最外层水溶性覆盖层包含：（1）一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂，和（2）以最外层水溶性覆盖层总重量的至少1.3重量%和最多且包括60重量%的量分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的烃蜡粒子，
其中，如由干燥的最外层水溶性覆盖层的扫描电子显微镜法测定的那样，该烃蜡粒子具有至少0.05 μm和最多且包括0.7 μm的平均最大尺寸。
此外，本发明提供了用于制备平版印刷版的方法，包括：
依图像曝光本发明的阴图制版平版印刷版前体以形成在该阴图制版可成像层中具有曝光区域和未曝光区域的成像前体，和
预打样处理该成像前体以去除该阴图制版可成像层中的未曝光区域，由此制备平版印刷版。
在一些实施方案中，用于该方法的本发明的阴图制版平版印刷版前体对红外辐射敏感，并使用激光器进行依图像曝光以提供在至少700 nm和最多且包括1400 nm的λmax下的成像能量。
该方法还可以进一步包括：
在该处理后，在没有任何后处理步骤如后处理固化、水洗或涂胶步骤的情况下将该平版印刷版安装到印刷机上。
当使用既能除去阴图制版可成像层的未曝光区域又能在处理过的前体印刷表面上提供保护性涂层的处理溶液进行该工艺处理时这是特别有用的。
例如，本发明的方法可以通过使用既能除去阴图制版可成像层的未曝光区域又能在处理过的前体印刷表面上提供保护性涂层的处理溶液的处理来进行，并且
该方法进一步包括在该处理后在没有任何后处理步骤的情况下将该平版印刷版安装到印刷机上。
但是在其它实施方案中，使用具有至少3和最多且包括12的pH并包含至少一种选自非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、亲水性成膜聚合物和除了非离子型或阴离子型表面活性剂之外的中性带电亲水性化合物的化合物的处理溶液进行该处理。
在一些实施方案中，在成像的平版印刷版前体的处理后对所得平版印刷版进行冲洗或涂胶，并干燥该平版印刷版，并任选在该处理步骤前预热该成像前体。
本发明提供一种能够以减少的处理器残渣（或处理器污染）获得改善的显影（处理）容量的阴图制版平版印刷版前体。用非常薄的最外层水溶性覆盖层实现这些优点，所述最外层水溶性覆盖层包含特定的成膜水溶性聚合物粘合剂与尺寸相当小的烃蜡粒子的干覆层。本发明提供了以非常小的烃蜡粒子提供耐擦伤性并同时提高处理器的清洁度的优点。令人惊讶的是，非常小的烃蜡粒子将能够提供这两种优点。
特别地，采用本文中所述水溶性覆盖层的性质的独特组合实现这些优点。
 
发明详述
定义
如本文中用于限定该激光雕刻组合物、制剂和层的各种组分那样，除非另行说明，单数形式“一个”、“一种”或“该”意在包括一种或多种该组分（即包括复数指代）。
没有在本申请中明确定义的术语要理解为具有本领域技术人员通常接受的含义。如果术语的解释使其在上下文中无意义基本无意义，该术语的定义应取自标准词典。
本文中规定的各个范围中数值的使用除非令有明确说明均被认为是近似值，如同所述范围的最小值和最大值均冠以词语“大约”那样。以这种方式，高于或低于所述范围的微小变化可用于实现与范围中的值相同的结果。此外，这些范围的公开均旨在作为包含最小值与最大值之间的每一个值的连续范围。
除非上下文另有说明，当在本文中使用时，术语“平版印刷版前体”、“前体”、“阴图制版平版印刷版前体”均指本发明的实施方案。
术语“载体”在本文中用于指含铝材料（网、片、箔或其它形式），该材料随后经处理以制备“基板”，基板指的是在其上涂布各个层的亲水性制品。
除非另有说明，百分数指的是组合物或层的干重量百分比或溶液的%固体。
本文中所用的术语“辐射吸收剂”指的是特定波长的辐射敏感的化合物，并可以在安置该化合物的层中将光子转化为热。
本文中所用的术语“红外”指的是具有至少700 nm和更高的λmax的辐射。在大多数情况下，术语“红外”用来指电磁波谱的“近红外”区域，该区域在本文中定义为至少700 nm和最多且包括1400 nm。
术语“有机蜡”指的是在接近环境温度下为“塑性”或延展性并且在高于45℃的温度下特性熔融以提供低粘度液体的化学化合物。有机蜡通常不溶于水，但是可溶于有机非极性溶剂。有机蜡可以是合成制备，或天然存在，兵包括但不限于动物蜡、植物蜡和石油衍生蜡。天然存在的蜡通常包含脂肪酸和长链醇，而合成蜡通常为不具有官能团的长链烃类，但是其也可以包括氟代烃类。
为了说明与聚合物相关的任何术语的定义，应参照International Union of Pure and Applied Chemistry（“IUPAC”）出版的“Glossary of Basic Terms in Polymer Science”, Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311 (1996)。但是任何本文中明确阐述的定义应视为占主导地位。
除非另有说明，术语“聚合物”和“聚合的”指的是包括低聚物的高分子量和低分子量聚合物，并包括均聚物和共聚物。
术语“共聚物”指的是沿聚合物骨架以随机次序衍生自两种或多种不同单体的聚合物。也就是说，它们包含具有不同化学结构的重复单元。
术语“骨架”指的是多个侧基连接于其上的聚合物中的原子链。此类骨架的一个实例是获自一种或多种烯属不饱和可聚合单体的聚合反应的“全碳”骨架。但是，其它骨架可能包括杂原子，其中该聚合物通过缩合反应或某些其它方法形成。
 
基板
该基板通常具有比成像一侧上施加的可成像层更亲水的亲水性表面。该基板包含由常规用于制备可成像元件如平版印刷版的任何材料组成的载体。其通常为片材、薄膜或箔（或网辐）的形式，并且是牢固的、稳定的和柔性的，并能耐受使用条件下的尺寸变化，使得色彩记录将套色成全彩色图像。通常，该载体可以是任何自支持材料，包括聚合物膜（如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜）、玻璃、陶瓷、金属片或箔，或刚性纸张（包括涂有树脂的纸张和镀金属的纸张）或任意这些材料的层压（例如铝箔层压到聚酯膜上）。金属载体包括铝、铜、锌、钛及其合金的片或箔。
聚合物膜载体可以在一个或两个平坦表面上用“胶层”改性以提高亲水性，纸张载体可以类似地涂布以提高平面性。胶层材料的实例包括但不限于烷氧基硅烷、氨基-丙基三乙氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和环氧官能聚合物，以及用于卤化银照相软片中使用的常规亲水性胶层材料（如明胶和其它天然存在的与合成的亲水性胶体与乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物）。
一种可用的基板由铝载体组成，其可以使用本领域已知的技术处理，包括通过物理（机械）磨版、电化学磨版或化学磨版进行的某些类型的粗糙化，通常随后进行酸阳极化。该铝载体可以通过物理或电化学磨版粗糙化，并随后使用磷酸或硫酸及常规程序阳极化。可用的亲水性平版印刷基板是电化学磨版并经硫酸或磷酸阳极化的铝载体，其提供用于平版印刷的亲水性表面。
铝载体的硫酸阳极化通常提供至少1.5 g/m2和最多且包括5 g/m2和更通常至少3 g/m2和最多且包括4.3 g/m2的表面上的氧化物重量（覆盖层）。 磷酸阳极化通常提供至少1.5 g/m2和最多且包括5 g/m2和更通常至少1 g/m2和最多且包括3 g/m2的表面上的氧化物重量。
通过用例如硅酸盐、糊精、氟化锆钙、六氟硅酸、聚(乙烯基膦酸)（PVPA）、乙烯基膦酸共聚物、聚[(甲基)丙烯酸]或丙烯酸共聚物后处理该铝载体以形成中间层，由此提高亲水性。此外，该铝载体可以用进一步含有无机氟化物（PF）的磷酸盐溶液处理。铝载体可以采用已知方法电化学磨版、硫酸阳极化并用PVPA或PF处理以改善表面亲水性。
基板还包含磨版和硫酸阳极化的含铝载体，所述载体已经用碱性或酸性扩孔溶液处理以令其外表面具有柱状孔隙，使得在其最外表面处的柱状孔隙的直径为该柱状孔隙平均直径的至少90%。该基板可以进一步包含直接安置在磨版的、硫酸阳极化并处理过的含铝载体上的亲水性层，并且该亲水性层包含具有羧酸侧链的未交联的亲水性聚合物。此类基板的其它细节和提供它们的方法在共同未决且共同转让的美国系列号13/221,936（2011年8月31日由Hayashi提交）中提供。
该基板的厚度可以变化，但是应足以承受来自印刷的磨损，并且足够薄以包裹印刷版。可用实施方案包括具有至少100 μm和最多且包括700 μm的厚度的处理过的铝箔。
该基板的背侧可以涂有抗静电剂、增滑层或雾面层以改善该前体的操作和“感觉”。
 
阴图制版可成像层
本发明的实施方案可以通过向适当的基板上适当地施加如下所述阴图制版辐射敏感组合物以形成阴图制版辐射敏感可成像层来形成，所述阴图制版辐射敏感可成像层包含可自由基聚合的组分、辐射吸收剂（如红外辐射吸收剂）、能够在暴露于成像辐射时生成自由基的引发剂组合物和聚合粘合剂。通常仅存在单一的包含该辐射敏感组合物的阴图制版可成像层，但是该层并非前体中的最外层。如下文中更详细描述的那样，最外层水溶性覆盖层（也称为顶涂层）安置在一个或多个阴图制版可成像层上。
阴图制版平版印刷版前体的许多细节描述在例如EP专利公开770,494A1（Vermeersch等人）、924,570A1（Fujimaki等人）、1,063,103A1（Uesugi）、EP 1,182,033A1（Fujimako等人）、EP 1,342,568A1（Vermeersch等人）、EP 1,449,650A1（Goto）和EP 1,614,539A1（Vermeersch等人）、美国专利4,511,645（Koike等人）、6,027,857（Teng）、6,309,792（Hauck等人）、6,569,603（Furukawa等人）、6,899,994（Huang等人）、7,045,271（Tao等人）、7,049,046（Tao等人）、7,261,998（Hayashi等人）、7,279,255（Tao等人）、7,285,372（Baumann等人）、7,291,438（Sakurai等人）、7,326,521（Tao等人）、7,332,253（Tao等人）、7,442,486（Baumann等人）、7,452,638（Yu等人）、7,524,614（Tao等人）、7,560,221（Timpe等人）、7,574,959（Baumann等人）、7,615,323（Shrehmel等人）和7,672,241（Munnelly等人）以及美国专利申请公开2003/0064318（Huang等人）、2004/0265736（Aoshima等人）、2005/0266349（Van Damme等人）和2006/0019200（Vermeersch等人）中。其他阴图制版组合物和元件描述在例如美国专利6,232,038（Takasaki）、6,627,380（Saito等人）、6,514,657（Sakurai等人）、6,808,857（Miyamoto等人）和美国专利公开2009/0092923（Hayashi）中。本发明的前体的范围不限于这些教导。
用于此类前体的辐射敏感组合物和阴图制版可成像层通常可以包含一种或多种促进显影能力的成像前体聚合粘合剂。此类聚合粘合剂包括但不限于通常不交联且通常具有成膜性质（可溶解在涂布溶剂中）的那些，但是其它聚合粘合剂可以至少部分以离散粒子（未团聚）形式存在。此类聚合粘合剂可以以平均粒度为至少10 nm和最多且包括500 nm，通常至少100 nm和最多且包括450 nm并且通常均匀分布在该层中的离散粒子形式存在。该颗粒状聚合粘合剂在室温下以离散粒子形式存在于例如含水分散体中。此类聚合粘合剂通常具有通过凝胶渗透色谱法测得的至少5,000和通常至少20,000并且最多且包括1,000,000、或至少30,000并且最多且包括200,000的数均分子量（Mn）。
可用的颗粒状聚合粘合剂通常包括聚合物的聚合乳液或分散体，所述聚合物具有疏水性骨架，聚(环氧烷)侧链（例如至少10个亚烷基二醇单元）、任选氰基或苯基侧基、或这两种类型的侧链或侧基直接或间接地连接到该骨架上，该聚合物描述在例如美国专利6,582,882（Pappas等人）、6,899,994（Huang等人）、7,005,234（Hoshi等人）和7,368,215（Munnelly等人）以及美国专利申请公开2005/0003285（Hayashi等人）中。更具体而言，此类聚合粘合剂包括但不限于具有疏水性和亲水性链段的接枝共聚物，具有聚环氧乙烷（PEO）链段的嵌段和接枝共聚物，在以随机方式排列以形成聚合物骨架的重复单元中具有聚(环氧烷)链段和氰基基团的聚合物，以及具有各种亲水性基团如羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨基乙基、氨基丙基、羧甲基、磺基或对本领域技术人员显而易见的其它基团的各种亲水性聚合粘合剂。
可选地，该颗粒状聚合粘合剂可以具有包含多个（至少两个）氨基甲酸酯部分的骨架。此类聚合粘合剂通常具有通过凝胶渗透色谱法测得的至少2,000和通常至少100,000并且最多且包括500,000，或至少100,000并且最多且包括300,000的数均分子量（Mn）。
其它可用的聚合粘合剂是分布（通常是均匀分布）在整个可成像层中的颗粒状聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物。这些杂化物各自具有至少50,000和最多且包括500,000的数均分子量（Mn），并且该粒子具有至少10 nm和最多且包括10,000 nm（通常至少30 nm和最多且包括500 nm，或至少30 nm和最多且包括150 nm）的平均粒度。这些杂化物在性质上可以是“芳族”或“脂族”的，取决于它们制造中使用的具体反应物。也可以使用两种或多种聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物的粒子的共混物。一些聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物可以以分散体形式购自Air Products and Chemicals, Inc.（Allentown, PA），例如作为Hybridur? 540、560、570、580、870、878、880聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物粒子的聚合物分散体。这些分散体通常包括在合适的含水介质中的至少30%的聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物粒子固体，所述含水介质还可以包含市售表面活性剂、消泡剂、分散剂、抗腐蚀剂以及任选的颜料和水混溶性有机溶剂。
再其它可用聚合粘合剂可以是均匀的，即成膜的、非颗粒状的或可溶解在涂布溶剂中的。此类聚合粘合剂包括但不限于(甲基)丙烯酸和酸酯树脂[如(甲基)丙烯酸酯]、聚乙烯醇缩醛、酚醛树脂、衍生自苯乙烯、N-取代环状酰亚胺或马来酸酐的聚合物，如在EP 1,182,033A1（Fujimaki等人）及美国专利6,309,792（Hauck等人）、6,352,812（Shimazu等人）、6,569,603（Furukawa等人）和6,893,797（Munnelly等人）中描述的那些。同样可用的是美国专利7,175,949（Tao等人）中描述的乙烯基咔唑聚合物，以及如美国专利7,279,255（Tao等人）中所述的具有侧乙烯基的聚合物。可用的是以无规方式和以颗粒状形式衍生自聚乙二醇甲基丙烯酸酯/丙烯腈/苯乙烯单体的无规共聚物，衍生自羧基苯基甲基丙烯酰胺/丙烯腈/-甲基丙烯酰胺/N-苯基马来酰亚胺的溶解的无规共聚物、衍生自聚乙二醇甲基丙烯酸酯/丙烯腈/乙烯基咔唑/苯乙烯/-甲基丙烯酸的无规共聚物、衍生自N-苯基马来酰亚胺/甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸的无规共聚物、衍生自氨基甲酸酯-丙烯酸系中间体A（对甲苯磺酰基异氰酸酯和甲基丙烯酸羟乙酯的反应产物）/丙烯腈/N-苯基马来酰亚胺的无规共聚物，以及衍生自N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺/-甲基丙烯酸/丙烯腈/n-苯基马来酰亚胺的无规共聚物。“无规”共聚物指的是该术语的常规用途，即，衍生自该单体的聚合物骨架中的结构单元以随机次序排列，与嵌段共聚物不同，尽管两个或多个相同结构单元可以偶然在一条链中。
该聚合粘合剂可以选自任何碱性溶液可溶性（或可分散性）的酸值为至少20毫当量KOH/克聚合物和最多且包括400毫当量KOH/克聚合物的聚合物。下述聚合粘合剂可以以这种方式使用，但是这并非穷举名单：
I. 如美国专利7,326,521（Tao等人）中所述的通过以下物质的组合或混合物的聚合形成的成膜聚合物：（a）(甲基)丙烯腈，（b）(甲基)丙烯酸的聚(环氧烷)酯，以及任选的（c）(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯及其衍生物，和(甲基)丙烯酰胺。这一类别中的一些特别有用的聚合粘结剂衍生自一种或多种(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯及其衍生物、乙烯基咔唑和聚(环氧烷)(甲基)丙烯酸酯。
II. 具有侧基烯丙酯基团的成膜聚合物，如美国专利7,332,253（Tao等人）中所述。此类聚合物还可以包括侧基氰基，或具有衍生自多种其它单体的重复单元，如所述专利的第8栏第31行至第10栏第3行中所述。
III. 具有全碳骨架的成膜聚合物，其中构成全碳骨架的碳原子中的至少40摩尔%和最多且包括100摩尔%（通常至少40和最多且包括50摩尔%）是叔碳原子，并且全碳骨架中其余的碳原子是非叔碳原子。此类聚合粘合剂的更多细节描述在美国专利申请公开2008-0280229（Tao等人）中。
IV. 具有一个或多个连接到聚合物骨架的烯属不饱和侧基（反应性乙烯基）的成膜聚合粘合剂。此类反应性基团能够在自由基的存在下发生聚合或交联。该侧基可以用碳-碳直接键连接到聚合物骨架，或者通过没有特殊限制的连接基团连接到聚合物骨架。反应性乙烯基可以被至少一个卤素原子、羧基、硝基、氰基、酰胺基或烷基、芳基、烷氧基或芳氧基，特别是一个或多个烷基取代。在一些实施方案中，如美国专利6,569,603（Furukawa等人）中所述，该反应性基团通过亚苯基连接到聚合物骨架上。其它可用的聚合粘合剂具有侧基形式的乙烯基，描述在例如EP 1,182,033A1（Fujimaki等人）以及美国专利4,874,686（Urabe等人）、7,729,255（Tao等人）、6,916,595（Fujimaki等人）和7,041,416（Wakata等人）中。
V. 如美国专利申请公开2009-0142695（Baumann等人）中所述，成膜聚合粘合剂可以具有1H-四唑侧基。
VI. 其它可用的聚合粘合剂可以是成膜的或以离散粒子形式存在，并且包括但不限于(甲基)丙烯酸和酸酯树脂[如(甲基)丙烯酸酯类]、聚乙烯醇缩醛类、酚醛树脂类、衍生自苯乙烯、N-取代的环状酰亚胺类或马来酸酐类的聚合物，如EP 1,182,033（上述）以及美国专利6,309,792（Hauck等人）、6,352,812（Shimazu等人）、6,569,603（上述）和6,893,797（Munnelly等人）中所述那些。还可用的是美国专利7,175,949（Tao等人）中描述的乙烯基咔唑聚合物。其它可用的聚合粘合剂是遍布可成像层分布（通常是均匀的）的颗粒状聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)杂化物。这些杂化物各自具有通过凝胶渗透色谱法测定的至少50,000和最多且包括500,000的分子量（Mn），并且该粒子具有至少10 nm和最多且包括10,000 nm（通常至少30 nm和最多且包括500 nm）的平均粒度。
全部聚合粘合剂通常以干燥层总重量的至少5重量%和最多且包括70重量%、或通常至少40重量%和最多且包括70重量%的量存在于该阴图制版可成像层中。
该辐射敏感组合物（和阴图制版可成像层）包含一种或多种可自由基聚合的组分，各组分含有一个或多个可以采用自由基引发聚合的可自由基聚合基团。例如，此类可自由基聚合组分可以含有一种或多种具有一个或多个可加成聚合的烯属不饱和基团、可交联烯属不饱和基团、可开环聚合基团、叠氮基、芳基重氮盐基团、芳基重氮磺酸盐基团或其组合的可自由基聚合单体或低聚物。类似地，也可以使用具有这种可自由基聚合基团的可交联聚合物。可以使用低聚物或预聚物，如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯以及不饱和聚酯树脂。在一些实施方式中，可自由基聚合组分包含羧基。
可自由基聚合的组分包括具有多个可聚合基团的脲聚氨酯(甲基)丙烯酸酯或聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。例如，可自由基聚合组份可以通过令基于六亚甲基二异氰酸酯的DESMODUR? N100脂族聚异氰酸酯树脂（Bayer Corp., Milford, Conn.）与羟乙基丙烯酸酯和三丙烯酸季戊四酯反应来制备。可用的可自由基聚合化合物包括可获自Kowa American的NK Ester A-DPH（六丙烯酸二季戊四酯）和可获自Sartomer Company, Inc的Sartomer 399（五丙烯酸二季戊四酯）、Sartomer 355（二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯）、Sartomer 295（四丙烯酸季戊四酯）和Sartomer 415[乙氧基化(20)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯]。
许多其它可自由基聚合的组分是本领域技术人员已知的并描述在重要文献中，包括：Photoreactive Polymers: The Science and Technology of Resists, A Reiser, Wiley, New York, 1989, 第102-177页；B.M. Monroe，Radiation Curing: Science and Technology, S.P. Pappas编辑, Plenum, New York, 1992, 第399-440页；和“Polymer Imaging”, A.B. Cohen和P. Walker, Imaging Processes and Material, J.M. Sturge等人(编辑), Van Nostrand Reinhold, New York, 1989, 第226-262页。例如，可用的可自由基聚合的组分还描述在EP 1,182,033A1（Fujimaki等人）（从第[0170]段开始）和美国专利6,309,792（Hauck等人）、6,569,603（Furukawa）和6,893,797（Munnelly等人）中。其它可用的可自由基聚合的组分包括美国专利申请公开2009/0142695（Baumann等人）中描述的那些，所述可自由基聚合组分包括1H-四唑基。
除上述可自由基聚合的组分之外或代替上述可自由基聚合的组分，该辐射敏感组合物可以包含包括连接到骨架上的侧链的聚合材料，该侧链包括一个或多个可以响应引发剂组合物（下述）产生的自由基而聚合（交联）的可自由基聚合基团（如烯属不饱和基团）。每个分子可以具有至少两条此类侧链。该自由基可聚合基团（或烯属不饱和基团）可以是连接到该聚合物骨架上的脂族或芳族丙烯酸酯侧链的一部分。通常，每个分子具有至少2个和最多且包括20个此类基团。
此类可自由基聚合聚合物还可以包含亲水性基团，包括但不限于羧基、磺基或磷酸基，所述基团直接连接到骨架上，或作为除可自由基聚合侧链之外的侧链的一部分连接到骨架上。
该辐射敏感组合物（阴图制版可成像层）还包括引发剂组合物，该引发剂组合物包括一种或多种能够在该组合物曝光于成像辐射后生成足以引发所有各种可自由基聚合组分的聚合反应的自由基的引发剂。该引发剂组合物通常响应例如红外光谱区中的电磁辐射，所述红外光谱区符合至少700 nm和最多且包括1400 nm的宽光谱范围，并通常响应至少700 nm和最多且包括1250 nm的辐射。或者，该引发剂组合物可能响应于至少250nm和至多且包括450 nm并通常为至少300和最多且包括450 nm的紫色区中的曝光辐射。
更通常地，该引发剂组合物包含一种或多种电子受体和能够给与电子、氢原子或烃基的一种或多种共引发剂。
通常，适于辐射敏感组合物的引发剂组合物包含包括但不限于以下种类的引发剂：芳族磺酰卤化物、三卤甲基砜、酰亚胺（如N-苯甲酰氧邻苯二甲酰亚胺）、重氮磺酸酯、9,10-二氢化蒽衍生物、具有至少2个羧基且其中至少一个羧基结合到芳基部分的氮、氧或硫原子上的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸（如苯胺二乙酸及其衍生物，和描述在West等人的美国专利5,629,354中的其它“共引发剂”）、肟醚和肟酯（如衍生自苯偶姻的那些）、α-羟基或α-氨基乙酰苯、三卤甲基-芳基砜、安息香醚和酯、过氧化物（如过氧化苯甲酰）、氢过氧化物（如枯基过氧化氢）、偶氮化合物（如偶氮二异丁腈）、如美国专利4,565,769（Dueber等人）中描述的2,4,5-三芳基咪唑基二聚物（又称为六芳基二咪唑，或“HABI”）、三卤甲基取代的三嗪、含硼化合物（如四芳基硼酸盐和烷基三芳基硼酸盐）和如美国专利6,562,543（Ogata等人）中描述的那些的有机硼酸盐，以及鎓盐（如铵盐、二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐、芳基重氮鎓盐和N-烷氧基吡啶鎓盐）。
六芳基二咪唑、鎓化合物和硫醇化合物以及其两种或多种的混合物是所需的共引发剂或自由基生成剂，尤其是六芳基二咪唑及其与硫醇化合物的混合物是有用的。合适的六芳基二咪唑还描述在美国专利4,565,769（Dueber等人）和3,445,232（Shirey）中，并可以根据已知方法制备，如三芳基咪唑的氧化二聚。
可用于IR辐射敏感组合物的引发剂组合物包括鎓化合物（盐），包括铵、鋶、碘鎓和鏻化合物。可用的碘鎓阳离子在本领域是公知的，包括但不限于美国专利申请公开2002/0068241（Oohashi等人）、WO 2004/101280（Munnelly等人）以及美国专利5,086,086（Brown-Wensley等人）、5,965,319（Kobayashi)和6,051,366（Baumann等人）。例如，可用的碘鎓阳离子包括带正电荷的碘鎓、(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-部分和合适的带负电荷的抗衡离子。
由此，碘鎓阳离子可以作为一种或多种碘鎓盐的一部分提供，碘鎓阳离子可以作为含有适宜的含硼阴离子的碘鎓硼酸盐提供，特别是与花青红外辐射敏感染料组合。例如，碘鎓阳离子和含硼阴离子可以作为取代或未取代的二芳基碘鎓盐的一部分提供，所述二芳基碘鎓盐是美国专利7,524,614（Tao等人）的栏6-8中描述的结构（I）与（II）的组合。
可用的IR辐射敏感引发剂组合物可以包含一种或多种二芳基碘鎓硼酸盐化合物。可用于本发明的代表性碘鎓硼酸盐化合物包括但不限于：4-辛氧基-苯基苯基碘鎓四苯基硼酸盐、[4-[(2-羟基十四烷基)-氧基]苯基]苯基碘鎓四苯基硼酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4’-己基苯基碘鎓四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4’-环己基苯基碘鎓四苯基硼酸盐、双(叔丁基苯基)碘鎓四(五氟苯基)硼酸盐、4-己基苯基-苯基碘鎓四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4’-环己基-苯基碘鎓正丁基三苯基硼酸盐、4-环己基苯基-苯基碘鎓四苯基硼酸盐、2-甲基-4-叔丁基苯基-4’-甲基苯基碘鎓四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4’-戊基苯基碘鎓四[3,5-双(三氟甲基)苯基]硼酸盐、4-甲氧基苯基-4’-环己基-苯基碘鎓四(五氟苯基)硼酸盐、4-甲基苯基-4’-十二烷基苯基碘鎓四(4-氟苯基)硼酸盐、双(十二烷基苯基)-碘鎓四(五氟苯基)-硼酸盐和双(4-叔丁基苯基)碘鎓四(1-咪唑基)硼酸盐。可用化合物包括双(4-叔丁基苯基)-碘鎓四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4’-己基苯基碘鎓四苯基硼酸盐、2-甲基-4-叔丁基苯基-4’-甲基苯基碘鎓四苯基硼酸盐和4-甲基苯基-4’-环己基苯基碘鎓四苯基硼酸盐。这些化合物的两种或多种的混合物也可用于该引发剂组合物。美国专利8,043,787（Hauck等人）。
由此，在一些实施方案中，能够在暴露于成像辐射时生成自由基的引发剂组合物包含二芳基碘鎓阳离子和含硼阴离子，其中该二芳基碘鎓阳离子由以下结构（I）表示：
（I）
其中R和R’独立地代表卤素、硝基、烷基、芳基、环烷基、烷氧基、芳氧基、链烯基、链炔基、烷基氨基、二烷基亚胺基、烷基酰胺基、芳基酰胺基、羰基、羧基、磺酰基、硫代烷基或硫代芳基，或两个或多个R和R’基团可以结合以形成与各自的苯基稠合的碳环或杂环，并且n和m独立地为0或1至5的整数。m和n的和为1至6。
含硼阴离子由以下结构（II）表示：
B-(R1)(R2)(R3)(R4)
（II）
其中R1、R2、R3和R4独立地代表烷基、芳基、链烯基、链炔基、环烷基或杂环基，或者R1、R2、R3和R4的两个或多个可以连接在一起形成具有硼原子的杂环环，此类环具有最多7个碳、氮、氧或氮原子。在一些实施方案中，所有R1、R2、R3和R4是相同或不同的取代或未取代的芳基，如取代或未取代的苯基，或更可能所有这些基团是未取代的苯基。
阴图制版可成像层中引发剂组合物的量对本领域技术人员显而易见，并取决于待使用的特定辐射敏感组合物。
该阴图制版可成像层包含辐射敏感成像组合物，该组合物包括一种或多种辐射吸收剂（如红外辐射吸收剂）或一种或多种UV感光剂。一种或多种红外辐射吸收剂或UV感光剂的总量是阴图制版可成像层全部固体的至少1重量%和最多且包括30重量%、或通常至少5重量%和最多且包括20重量%。
在一些实施方案中，当自由基生成化合物是UV辐射敏感（即至少150 nm和最多且包括475 nm）时，该辐射敏感组合物含有UV感光剂，由此促进光致聚合。在其它实施方案中，使辐射敏感组合物对至少375 nm和最多且包括475 nm范围内的“紫色”辐射敏感。可用于此类组合物的敏化剂包括某些吡喃鎓（pyrilium）和硫代吡喃鎓染料和3-香豆素酮。用于此类光谱敏感性的一些其它有用的敏化剂描述在例如描述了可用的双噁唑衍生物及类似物的美国专利6,908,726（Korionoff等人）和WO 2004/074929（Baumann等人）中，并还描述在美国专利申请公开2006/0063101和2006/0234155（均为Baumann等人）中。
其它可用的敏化剂是具有WO 2006/053689（Strehmel等人）中所定义的结构（I）单元的低聚或聚合化合物，其具有在两个杂原子之间提供共轭π-体系的适宜的芳族或杂芳族单元。
另外的可用的“紫色”-可见辐射感光剂是WO 2004/074929（Baumann等人）中描述的化合物。这些化合物包括包含与所述芳族杂环基团共轭的至少一个碳-碳双键的用间隔基部分连接的相同或不同的芳族杂环基团，并且由所述公开的式（I）更详细地表示。
可用于紫光区敏化的其它感光剂是2,4,5-三芳基噁唑衍生物，如WO 2004/074930（Baumann等人）中所述。这些化合物可以单独使用或者与如上所述的共引发剂一起使用。可用的2,4,5-三芳基噁唑衍生物可以由结构G-(Ar1)3表示，其中Ar1是在环中具有6至12个碳原子的相同或不同的取代或未取代的碳环芳基，G是呋喃或噁唑环，或者结构G-(Ar1)2，其中G是噁二唑环。Ar1基团可以被一个或更多个卤素、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的芳基、氨基（伯、仲或叔）或取代或未取代的烷氧基或芳氧基取代。由此，该芳基可以分别被一个或更多个R'1至R'3基团取代，所述R'1至R'3基团独立地为氢或具有1至20个碳原子的取代或未取代的烷基（如甲基、乙基、异丙基、正己基、苄基和甲氧基甲基）、在环中具有6至10个碳原子的取代或未取代的碳环芳基（如苯基、萘基、4-甲氧苯基和3-甲基苯基）、在环中具有5至10个碳原子的取代或未取代的环烷基、α-N(R'4)(R'5)基团、或-OR'6基团，其中R'4至R'6独立地代表如上定义的取代或未取代的烷基或芳基。R'1至R'3的至少一个是-N(R'4)(R'5)基团，其中R'4和R'5是相同或不同的烷基。可用于各Ar1基团的取代基包括相同或不同的伯、仲和叔胺。
另一类有用的紫光辐射感光剂包括结构Ar1-G-Ar2代表的化合物，其中Ar1和Ar2是在环中具有6至12个碳原子的相同或不同的取代或未取代的芳基，或者Ar2可以是亚芳基-G-Ar1或亚芳基-G-Ar2基团，G是呋喃、噁唑或噁二唑环。Ar1与以上定义相同，并且Ar2可以是与Ar1相同或不同的芳基。“亚芳基”可以是对Ar1定义的芳基中的任意芳基，但是除去了氢原子以赋予其二价性质。
一些可用的红外辐射吸收化合物对红外辐射（通常为至少700和最多且包括1400 nm）和可见辐射（通常为至少450和最多且包括700 nm）均敏感。这些化合物也具有四芳基戊二烯发色团。此类发色团通常包括在链中具有5个碳原子的戊二烯连接基团，两个取代或未取代的芳基在该连接基团的各末端处与其相连。这些芳基可以被相同或不同的叔胺基团取代。该戊二烯连接基团也可以被一个或多个取代基取代以代替氢原子，或两个或多个氢原子可以被原子替换以便在连接基团中形成环，只要在该链中存在替代性的碳-碳单键和碳-碳双键。此类化合物的其它细节提供在美国专利7,429,445（Munnelly等人）中。
其它可用的红外辐射吸收剂包括但不限于偶氮染料、方酸（squarilium）染料、croconate染料、三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、oxonol染料、oxazolium染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚花青染料、吲哚三羰花青染料、氧杂三羰花青染料、硫代花青染料、硫代三羰花青染料、隐花青染料、萘酞花青染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)聚甲川染料、氧化吲哚嗪染料、吡喃鎓染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亚胺染料、甲川染料、芳基甲川染料、方酸菁（squarine）染料、噁唑染料、croconine染料、卟啉染料，以及前述染料类别的任意取代或离子形式。合适的染料还描述在美国专利5,208,135（Patel等人）、6,153,356（Urano等人）、6,264,920（Achilefu等人）、6,309,792（Hauck等人）、6,569,603（如上所述）、6,787,281（Tao等人）、7,135,271（Kawaushi等人）和EP 1,182,033A2（如上所述）。红外辐射吸收N-烷基硫酸盐花青染料例如描述在美国专利7,018,775（Tao）中。一类合适的花青染料的概述由WO 2004/101280（Munnelly等人）的段落[0026]中的化学式显示。
除了低分子量IR吸收染料之外，具有键合到聚合物上的IR染料发色团的IR吸收染料也可以使用。此外，也可以使用IR染料阳离子，也就是说，该阳离子是与在侧链中包含羧基、磺基、磷基（phospho）或膦酰基（phosphono）基团的聚合物发生离子相互作用的染料盐的IR吸收部分。
近红外吸收的花青染料也是可用的，并描述在例如美国专利6,309,792（Hauck等人）、6,264,920（Achilefu等人）、6,153,356（Urano等人）和5,496,903（Watanabe等人）中。合适的染料可以使用常规方法与原材料来形成，或获自各种商业来源，所述商业来源包括American Dye Source（Baie D’Urfe, Quebec, Canada）和FEW Chemicals（Germany）。用于近红外二极管激光束的其它可用染料描述在美国专利4,973,572（DeBoer）中。
可用的IR-辐射敏感组合物描述在例如美国专利7,452,638（Yu等人）以及美国专利申请公开2008/0254387（Yu等人）、2008/0311520（Yu等人）、2009/0263746（Ray等人）和2010/0021844（Yu等人）中。
由此，该辐射吸收剂可以是红外辐射吸收剂，该阴图制版可成像层对红外辐射敏感。
该可成像层还可以包含分子量为至少200和最多且包括4000的聚(亚烷基二醇)或其醚或酯。该可成像层可以以该可成像层总干重量的最多且包括20重量%的量进一步包含聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯基咪唑)或聚酯。
添加至可成像层的附加添加剂包括颜色显影剂或酸性化合物。颜色显影剂意在包括单体酚类化合物、有机酸或其金属盐、邻羟基苯甲酸酯、酸性粘土和例如描述在美国专利申请公开2005/0170282（Inno等人）中的其它化合物。可成像层还可以包括多种任选的化合物，包括但不限于：分散剂、湿润剂、抗微生物剂、增塑剂、用于涂布性能或其它性质的表面活性剂、增粘剂、pH调节剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂、显影助剂、流变改性剂或其组合，或者通常用于平版印刷领域的任何其它附加物，其量为常规量。可成像层还任选包含如美国专利7,429,445（Munnelly等人）中所述的分子量通常大于250的磷酸酯(甲基)丙烯酸酯。
 
最外层水溶性覆盖层
该前体具有安置在一个或多个阴图制版可成像层上的最外层水溶性覆盖层（有时也称为“不透氧顶涂层”或“氧阻隔层”）。该水溶性覆盖层是该前体的最外层。此类水溶性-最外层水溶性覆盖层包含一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂，如具有至少70%、或至少75%、或甚至至少90%的皂化度的聚(乙烯醇)。
此外，一种或多种酸改性的聚(乙烯醇)可以用作该最外层水溶性覆盖层中的成膜水溶性聚合粘合剂。至少一种改性聚(乙烯醇)可以用酸性基团改性，所述酸性基团选自羧酸、磺酸、硫酸酯、膦酸和磷酸酯基团。
此类材料的实例包括但不限于磺酸改性的聚(乙烯醇)、羧酸改性的聚(乙烯醇)和季铵盐改性的聚(乙烯醇)，或其组合。酸改性的聚(乙烯醇)的具体商品实例包括可获自Kuraray的SD1000，和可获自Nippon Gohsei的Gohsefimer K-210、Gohseran L-3266和Gohseran CKS-50。
该最外层水溶性覆盖层可以例如以至少2重量%和最多且包括38重量%的量进一步包含一种或多种并非聚(乙烯醇)的其它成膜水溶性聚合物，此类第二成膜水溶性聚合物包括聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯亚胺)、聚(乙烯基咪唑)、聚(乙烯基己内酯)或衍生自乙烯基吡咯烷酮、乙烯亚胺、乙烯基己内酯和乙烯基咪唑以及乙烯基乙酰胺的两种或多种的无规共聚物。
可选地，该最外层水溶性覆盖层可以主要用一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂构成，所述聚合粘合剂例如聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯亚胺)、聚(乙烯基咪唑)和来自乙烯基吡咯烷酮、乙烯亚胺和乙烯基咪唑的两种或多种的无规共聚物，以及此类聚合物的混合物。该最外层水溶性覆盖层制剂还可以包括阳离子型、阴离子型和非离子型润湿剂或表面活性剂、流动改进剂或增稠剂、消泡剂、着色剂和杀微生物剂。关于此类附加物的细节提供在WO 99/06890（Pappas等人）中。
最外层水溶性覆盖层的干涂层覆盖度（以克/平方米为单位）对有机蜡粒子的平均最大尺寸（以微米为单位）的比大于1.1:1，通常大于1.3:1。
该最外层水溶性覆盖层还包含分散（通常为均匀地）在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的有机蜡粒子。这些有机蜡粒子通常以至少0.001 g/m2和最多且包括0.4 g/m2的干覆盖度，或通常以至少0.006 g/m2和最多且包括0.1 g/m2、或至少0.006 g/m2和最多且包括0.03 g/m2的干覆盖度存在。该有机蜡粒子可以以最外层水溶性覆盖层总重量的至少1.3重量%和最多且包括60重量%、或通常至少2重量%和最多且包括50重量%的量分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中。
这些烃蜡粒子通常具有使用干燥的最外层水溶性覆盖层的扫描电子显微镜（SEM）图像测定的至少0.05 μm和最多且包括0.7 μm、和通常至少0.15 μm和最多且包括0.6 μm的平均最大尺寸（例如如果通常为球形的话为平均直径，或等效圆直径，ECD）。
此外，该烃蜡粒子通常具有至少100℃和最多且包括180℃，和通常至少115℃和最多且包括150℃的熔融温度。
由此，这些有机蜡粒子可以包含氟化或非氟化烃类，包括但不限于氟化或非氟化的聚烯烃，如低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯或其混合物。高密度和低密度聚乙烯蜡粒子和聚四氟乙烯是特别有用的。
可用的有机蜡粒子可以使用如WO96/010599（Soler）中所述的已知方法制备。一些可用的氟化或非氟化烃蜡粒子也可以购自许多商业来源如Mitsui Chemical Inc.或Münzing Liquid Technologies GmbH。
该最外层水溶性覆盖层通常以至少0.1 g/m2和小于0.9 g/m2的干涂层覆盖度、通常以至少0.15 g/m2和最多且包括0.4 g/m2的干涂层覆盖度存在。
例如，水溶性覆盖层中一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂与该烃蜡粒子的总干覆盖度为小于或等于0.8 g/m2，或至少0.15 g/m2至和包括0.4 g/m2。
在许多实施方案中，阴图制版可成像层的干平均厚度对最外层水溶性覆盖层的干平均厚度的比为0.5:1至40:1。各层的干平均厚度可以通过以下方法确定：在多个规定区域中顺序除去水溶性覆盖层和阴图制版可成像层并使用重量分析法来评价干平均厚度。
在一些实施方案中，该最外层水溶性覆盖层基本上由一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂——其至少一种是酸改性的聚(乙烯醇)或具有至少70%的皂化度的聚(乙烯醇)，和分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的聚乙烯蜡粒子或聚四氟乙烯蜡粒子组成。
 
阴图制版平版印刷版前体
上述阴图制版辐射敏感组合物可以以涂布液体中的溶液或分散体形式使用任何合适的设备与方法施加到基板上，所述方法如旋转涂布、刮刀涂布、凹版涂布、口型涂布、缝式涂布（slot coating）、棒涂布、绕线棒涂布、辊涂布或挤出料斗涂布。该辐射敏感组合物还可以通过喷涂到适当载体上来施加。通常，施加并干燥该辐射敏感组合物以形成阴图制版可成像层。
此类制造方法的详述是混合在合适的有机溶剂或其混合物[如甲基乙基酮（2-丁酮）、甲醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、异丙醇、丙酮、γ-丁内酯、正丙醇、四氢呋喃及本领域熟知的其它溶剂，以及其混合物]中混合成像化学所需的各种组分，将所得溶液施加到基板上，在合适的干燥条件下通过蒸发除去溶剂。一些代表性的涂布溶剂和可成像层配方描述在下面的发明实施例中。在适当干燥后，该阴图制版可成像层的涂层重量通常为至少0.1 g/m2和最多且包括5 g/m2，或至少0.5 g/m2和最多且包括3.5 g/m2。
在阴图制版可成像层下还可以存在层以提高显影能力或充当绝热层。
合适的最外层水溶性覆盖层制剂可以以适当的方式施加到干燥的阴图制版可成像层，通常采用含水溶剂，并随后如下所述干燥。
一旦各个层已经在基板上施加并干燥，可以将该阴图制版平版印刷版前体封装在不透水材料中，所述材料基本抑制了湿气传递出入该元件并且是“热调节的”，如美国专利7,175,969（上述）中所述。
该平版印刷版前体可以在本领域已知的合适的包装与容器中以前体的堆叠形式储存和运输。
 
成像条件
在使用过程中，将该平版印刷版前体暴露于适当的曝光辐射源（这取决于存在于辐射敏感组合物中的辐射吸收剂）以提供在至少150 nm和最多且包括475 nm（“UV”或“紫光”）或至少700 nm和最多且包括1400 nm的红外的波长处的特定敏感性。在一些实施方案中，当该阴图制版平版印刷版前体对UV或“紫光”辐射敏感时，使用具有至少350 nm和最多且包括450 nm的范围内的λmax的辐射进行依图像曝光，或者当该阴图制版平版印刷版前体对红外辐射敏感时，使用具有至少700 nm和最多且包括1400 nm的范围内的λmax的辐射进行依图像曝光。
例如，可以使用来自产生红外辐射的激光器（或此类激光器的阵列）的成像或曝光辐射进行成像。如果需要的话，还可以同时使用在多个波长下的成像辐射进行成像。用于曝光该平版印刷版前体的激光器通常是二极管激光器，因为二极管激光器系统的可靠性和低维护性，但是也可以使用其它激光器如气态激光器或固态激光器。激光器成像的功率、强度和曝光时间的组合将对本领域技术人员来说是显而易见的。
成像设备可以配置为平台记录机或配置为转鼓记录机，该平版印刷版前体安装到转鼓的内或外圆柱形表面上。可用的成像设备的一个实例可以以Kodak? Trendsetter制版机的型号获自Eastman Kodak Company，其含有发射830 nm波长的近红外辐射的激光二极管。其它合适的成像源包括在1064 nm波长下运行的Crescent 42T Platesetter（可获自Gerber Scientific, Chicago, IL）和在810 nm波长下运行的Screen PlateRite 4300系列或8600系列制版机（可获自Screen USA, Chicago, IL）。
红外辐射成像通常在至少30 mJ/cm2和最多且包括500 mJ/cm2，并通常为至少50 mJ/cm2和最多且包括300 mJ/cm2的成像能量下进行，取决于前体中可成像层的敏感性。采用这些制版机，任何成像参数，如Magnus 800制版机（Eastman Kodak Company）的“表面深度”参数或PlateRite 4300制版机（Dainippon Screen Company）的“焦点”参数通过观察逐步成像过程中曝光区域与未曝光区域之间对比度的差异来确定。通过使用如逐步成像的平版印刷版前体，可以缩短印程，获得的印刷品也可用于确定此类成像参数。
可用的UV和“紫光”成像设备包括Prosetter（来自Heidelberger Druckmaschinen, Germany）、Luxel V-8（来自FUJI, Japan）、Python (Highwater, UK）、MakoNews、Mako 2、Mako 4huo Mako 8（来自ECRM, US）、Micra（来自Screen, Japan）、Polaris and Advantage（来自AGFA, Belgium）、Laserjet（来自Krause, Germany）和Andromeda? A750M（来自Lithotech, Germany）激光照排机。
通常使用至少0.01 mJ/cm2和最多且包括0.5 mJ/cm2、和通常至少0.02 mJ/cm2和最多且包括大约0.1 mJ/cm2的能量进行在光谱的UV至可见区域中，特别是UV区域（例如至少150 nm和最多且包括475 nm）中的成像辐射。合意的是例如在至少0.5 kW/cm2和最多且包括50 kW/cm2，以及通常至少5 kW/cm2和最多且包括30 kW/cm2的能量密度下使该UV/可见辐射敏感的可成像元件成像，取决于能量源（紫色激光器或准分子源）。
虽然在本发明的实践中期望使用激光成像，可以通过以依图像方式提供热能的任何其它方式提供热成像。例如，可以在例如美国专利5,488,025（Martin等人）中描述的所谓“热敏印刷”的方法中使用温阻头（热印刷头）实现该成像。热印刷头是市售的（例如Fujitsu Thermal Head FTP-040 MCS001和TDK Thermal Head F415 HH7-1089）。
 
显影和印刷
在成像后，成像的阴图制版平版印刷版前体可以使用本文中所述的合适的处理溶液（例如使用水或如下所述的处理溶液）“预打样”处理。对成像的阴图制版前体进行此类处理一段足以去除成像的阴图制版可成像层的未曝光区域和最外层水溶性覆盖层的时间以暴露该基板的亲水性表面，但是不会长到足以去除显著量的已经硬化的曝光区域。暴露的亲水性基板表面排斥墨水，而曝光区域接受墨水。由此，待去除的未曝光区域在加工溶液中是“可溶”或“可去除”的，因为它们比要保留的区域更容易去除、溶解或分散在其中。属于“可溶”也意味着“可分散”。
预打样显影可以使用称为“手动”显影、“浸置”显影或用自动显影设备的处理（处理器）来实现。在“手动”显影的情况下，通过用充分浸透适当的处理溶液（下述）的海绵或棉垫擦拭整个成像前体并接着用水冲洗来进行显影。“浸置”显影包括将成像前体在搅拌下浸渍在含有适当的处理溶液的槽或盘中至少10秒和最多且包括60秒（尤其是至少20秒和最多且包括40秒）并随后用水冲洗，可以用或不用海绵或棉垫擦拭。使用自动显影设备是公知的，通常包括将显影剂或处理溶液泵送到显影槽中或通过喷嘴喷射显影剂或处理溶液。成像前体以适当的方式与显影剂接触。该设备还可以包括适当的擦拭机构（例如刷或辊）和适当数量的输送辊。某些显影设备包括激光照射装置，并且该设备分为成像部分和显影部分。
可以使用含水碱性显影剂和含有机溶剂的显影剂或处理溶液。一些可用的显影剂溶液例如描述在美国专利7,507,526（Miller等人）和7,316,894（Miller等人）中。显影剂溶液通常包括表面活性剂、螯合剂（如乙二胺四乙酸的盐）、有机溶剂（如苄醇）和碱性组分（如无机偏硅酸盐、有机偏硅酸盐、氢氧化物和碳酸氢盐）。
可用的碱性含水显影剂溶液包括3000 Developer、9000 Developer、GOLDSTAR Developer、GREENSTAR Developer、ThermalPro Developer、PROTHERM Developer、MX1813 Developer和MX1710 Developer（均可获自Eastman Kodak Company）。
含有机溶剂的显影剂通常是与水混溶的一种或多种有机溶剂的单相处理溶液。可用的有机溶剂包括酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物[如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)]、苄醇、乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的酸的酯，以及乙二醇、二乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。该有机溶剂通常以显影剂总重量的至少0.5重量%和最高15重量%的量存在。含有机溶剂的显影剂的pH可以是中性的、碱性的或略微酸性的（例如pH为5），并通常该pH为碱性的。代表性的含有机溶剂显影剂包括ND-1 Developer、Developer 980、Developer 1080、2合1 Developer、955 Developer、D29 Developer（下述）和956 Developer（均可获自Eastman Kodak Company）。
在本发明的方法的一些可用实施方案中，用于显影的处理溶液具有至少3和最多且包括12或更小的pH值，通常该pH值为至少6和最多且包括12，或至少7.5和最多且包括11.5。此外，该处理溶液可以进一步包含至少一种选自非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、除非离子型或阴离子型表面活性剂之外的中性带电亲水性化合物、以及亲水性成膜聚合物的化合物。存在亲水性成膜聚合物（如下所述）特别可用于某些显影溶液。此类处理溶液还可以包含一种或多种链烷醇胺、有机溶剂、有机膦酸或多羧酸或盐。
在一些情况下，含水处理溶液可用于通过去除阴图制版可成像层的未曝光区域来显影该成像前体，并还可用于在整个成像和显影（处理的）的前体印刷表面上提供保护层或涂层。在这方面，碱性水溶液的行为有些类似于胶水，其能够保护（或“涂胶”）印刷版上的平版印刷图像免受污染或破坏（例如氧化、指印、灰尘或划痕）。此类处理溶液通常具有大于2和最高大约11的pH值，并通常为大约6至大约11，或大约6至大约10.5，如使用适当量的酸或碱调节的那样。该含水处理溶液通常包含沸点低于300℃（通常为至少50℃）的有机胺、成膜的亲水性聚合物，和任选阴离子型或非离子型表面活性剂。该碱性水溶液的pH值可以通过加入适当量的碱性组分来调节，所述碱性组分例如碱金属硅酸盐（包括偏硅酸盐）、碱金属氢氧化物（如氢氧化钠和氢氧化钾）以及季铵氢氧化物。自来水可用于补充钙溶液并通常占该溶液的至少45和最多且包括98重量%。
在此类处理后，可以将该平版印刷版安装到印刷机上而不进行任何后处理步骤，如冲洗、涂胶或后处理固化或UV处理。
可用的有机胺是相对挥发性的有机伯胺、仲胺和叔胺，其包括但不限于链烷醇胺（包括环烷基胺）、碳环芳族胺和杂环胺，其以至少0.1重量%和通常最多且包括50重量%的总量存在。可用的胺是单-、二-和三链烷醇胺，如单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺和单正丙醇胺或这些化合物的组合。
一种或多种成膜水溶性或亲水性化合物可以以至少0.25重量%和最多30重量%且通常为至少1重量%和最多且包括15重量%的量存在于该处理溶液中。可用的这种类型的亲水性化合物的实例包括并非非离子型或阴离子型表面活性剂的亲水性聚合物和非聚合的亲水性化合物（分子量小于1,000）。可用的非聚合和聚合的亲水性化合物包括但不限于阿拉伯树胶、支链淀粉、纤维素衍生物（如羟甲基纤维素、羧甲基纤维素、羧乙基纤维素以及甲基纤维素）、淀粉衍生物[如（环）糊精、淀粉酯、糊精、羧甲基淀粉和乙酰化淀粉]、聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、多羟基化合物[如多糖类、糖醇如山梨糖醇、肌醇、(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酰胺的均聚物和共聚物]、乙烯基甲基醚和马来酸酐的共聚物、乙酸乙烯酯和马来酸酐的共聚物、苯乙烯和马来酸酐的共聚物、以及具有具备羧基、磺基或磷酸基团或其盐的重复单元的共聚物。可用的亲水性化合物包括阿拉伯树胶、（环）糊精、多糖、糖醇或具有衍生自(甲基)丙烯酸的重复单元的均聚物或共聚物。
该含水处理溶液任选以至少0.25重量%和最多且包括50重量%，并通常为至少0.25重量%和最多且包括30重量%的量包含一种或多种阴离子型、两性或非离子型非离子型表面活性剂（或全部）。虽然如果需要的话可以存在任选组分（如非离子型表面活性剂），通常是包含一种或多种阴离子型表面活性剂。可用的阴离子型表面活性剂包括具有羧酸、磺酸或膦酸基团（或其盐）的那些。具有磺酸（或其盐）基团的阴离子型表面活性剂是特别有用的。例如，此类阴离子型表面活性剂可以包括脂肪酸的盐、松香酸盐、羟基烷基磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、烷基二苯基氧化物二磺酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚的盐、N-甲基-N-油基牛磺酸钠、单酰胺N-烷基磺基琥珀酸二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛脂油、脂族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯的盐、脂族单甘油酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物和萘磺酸盐福尔马林缩合物。烷基二苯基氧化物二磺酸盐（如十二烷基苯氧基苯二磺酸钠）、烷基化萘磺酸、磺酸化烷基二苯基氧化物以及亚甲基二萘磺酸特别可用作主要阴离子型表面活性剂。此类表面活性剂可以获自如McCutcheon’s Emulsifiers & Detergents, 2007版中所述的各供应商。
用于本发明的碱性水溶液的附加任选组分包括消泡剂、缓冲剂、杀微生物剂、络合剂和少量的水混溶性有机溶剂，如苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物、苄醇、乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的酸的酯、残渣抑制剂（如滤光染料和自由基抑制剂）、芳香剂、防蚀剂和染料。
该处理溶液（或显影剂）可以通过擦拭、喷雾、喷射、浸渍、浸没、狭缝涂布（例如参见Maruyama等人的美国专利6,478,483的图1和2）或逆向辊涂布（如Kurui等人的美国专利5,887,214的图4中所述）或通过用处理溶液擦拭外层或用辊、浸渍的垫或涂施器接触外层来施加到成像前体上。例如，成像前体可以用处理溶液涂刷，或处理溶液可以倾倒到成像表面上，或使用例如EP 1,788,431A2（上述）的[0124]和美国专利6,992,688（Shimazu等人）中所述的喷嘴系统以足以去除未曝光区域的力喷涂该成像表面。如上所述，成像前体可以浸没在处理溶液中并用手或用设备摩擦。为了帮助去除背侧涂层，毛刷辊或其它机械部件可以在处理过程中与该背侧涂层接触放置。或者，该处理溶液可以使用足够的力用喷杆喷。
该处理溶液还可以在具有至少一个用于在施加处理溶液的同时摩擦或刷洗成像前体的辊的合适的设备中在处理单元（或工作站）中施加。残余处理溶液可以去除（例如使用刮墨刀或轧辊）或留在所得平版印刷版上而不经任何冲洗步骤。过量的处理溶液可以收集在罐中并多次使用，并且在需要的时候从储罐中进行补充。处理溶液补充液可以具有与用于加工的溶液相同的浓度，或以浓缩形式提供并在适当时候用水稀释。
在一些实施方案中，成像的平版印刷版前体可以如上所述处理，但是在安装到印刷机上之前，所得平版印刷版可以通过以下方法进一步处理：用水、水溶液或其它合适溶液冲洗，涂胶或干燥，或这些程序的任意组合。此外，此类成像前体可以在该处理步骤之前预热。
在预打样显影后，所得平版印刷版可以具有或不具有覆盖的情况下进行后烘烤，或散光式暴露于UV或可见辐射。或者，可以进行覆盖式UV或可见辐射曝光，而不进行后烘烤操作。
在一些实施方案中，不存在显影后冲洗或涂胶，但是该平版印刷版可以在没有这些常见步骤的情况下用于印刷。
可以通过将成像并显影的平版印刷版放置在合适的印刷机上来进行印刷。该平版印刷版通常使用合适的夹具或其它固定装置固定在印刷板中。一旦平版印刷版固定在印刷机中，通过向该平版印刷版的印刷表面施加平版印刷油墨和润版液来进行印刷。润版液被成像和处理步骤所显露的亲水性基板表面吸收，墨水被吸油墨性外部可成像层的残留未曝光区域吸收。墨水随后转印到合适的接收材料（如布、纸张、金属、玻璃或塑料）以便在其上提供所需的图像印迹。如果需要的话，可以使用中间“橡皮布”辊以便将墨水由平版印刷版转印到接收材料（例如纸张片材）。如果需要的话，可以使用常规清洗手段在压印之间清洗该平版印刷版。
本发明提供至少下列实施方案及其组合，但是如本领域技术人员由本公开的教导可以意识到，特征的其它组合也被认为在本发明内：
1．阴图制版平版印刷版前体，包含：
基板，
安置在该基板上的阴图制版可成像层，该阴图制版可成像层包含可自由基聚合的组分、在暴露于成像辐射时能够生成自由基的引发剂组合物、辐射吸收剂和聚合粘合剂，以及
直接安置在该阴图制版可成像层上的最外层水溶性覆盖层，该最外层水溶性覆盖层包含：（1）存在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂，和（2）以最外层水溶性覆盖层总重量的至少1.3重量%和最多且包括60重量%的量分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的有机蜡粒子，
其中，如由干燥的最外层水溶性覆盖层的扫描电子显微镜法测定的那样，该有机蜡粒子具有至少0.05 μm和最多且包括0.7 μm的平均最大尺寸。
2．实施方案1的前体，其中该有机蜡粒子具有至少100℃和最多且包括180℃的熔融温度。
3．实施方案1或2的前体，其中该有机蜡粒子是氟化或非氟化的烃蜡粒子。
4．实施方案1至3任意项的前体，其中该有机蜡粒子包含氟化或非氟化的聚烯烃。
5．实施方案1至4任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层以至少0.1 g/m2至和包括0.9 g/m2的干涂层覆盖度存在。
6．实施方案1至5任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层的干涂层覆盖度（以g/m2为单位）对该有机蜡粒子的平均最大尺寸（以μm为单位）的比大于1.1。
7．实施方案1至6任意项的前体，其中该有机蜡粒子可以以最外层水溶性覆盖层总重量的至少2重量%和最多且包括50重量%的量分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中，并且该最外层水溶性覆盖层的干涂层覆盖度（以g/m2为单位）对该有机蜡粒子的平均最大尺寸（以μm为单位）的比大于1.3:1。
8．实施方案1至7任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层中的有机蜡粒子的干覆盖度为至少0.001 g/m2和最多且包括0.4 g/m2。
9．实施方案1至8任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层中的有机蜡粒子的干覆盖度为至少0.006 g/m2和最多且包括0.03 g/m2。
10．实施方案1至9任意项的前体，其中该烃蜡粒子具有至少0.15 μm和最多且包括0.6 μm的平均最大尺寸。
11．实施方案1至10任意项的前体，其中该一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂包含具有至少70%的皂化度的聚(乙烯醇)。
12．实施方案1至11任意项的前体，其中该一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂包含至少一种用酸性基团改性的改性聚(乙烯醇)，所述酸性基团选自羧酸、磺酸、硫酸酯、膦酸和磷酸酯基团。
13．实施方案1至12任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层以至少0.15 g/m2和最多且包括0.4 g/m2的干涂层覆盖度存在。
14．实施方案1至13任意项的前体，其中该辐射吸收剂是红外辐射吸收剂，并且该阴图制版可成像层对红外辐射敏感。
15．实施方案1至14任意项的前体，其中该在暴露于成像辐射时能够生成自由基的引发剂组合物包含二芳基碘鎓阳离子和含硼阴离子，其中该二芳基碘鎓阳离子由以下结构（I）表示：
（I）
其中R和R’独立地代表卤素、硝基、烷基、芳基、环烷基、烷氧基、芳氧基、链烯基、链炔基、烷基氨基、二烷基亚胺基、烷基酰胺基、芳基酰胺基、羰基、羧基、磺酰基、硫代烷基或硫代芳基，或两个或多个R和R’基团可以结合以形成与各自的苯基稠合的碳环或杂环，并且n和m独立地为0或1至5的整数，并且
含硼阴离子由以下结构（II）表示：
B-(R1)(R2)(R3)(R4)
(II)
 其中R1、R2、R3和R4独立地代表烷基、芳基、链烯基、链炔基、环烷基或杂环基，或者R1、R2、R3和R4的两个或多个可以连接在一起形成具有硼原子的杂环环，此类环具有最多7个碳、氮、氧或氮原子。
16．实施方案15的前体，其中该含硼阴离子包含代表相同的取代或未取代的苯基的R1、R2、R3和R4，并且m和n的和为1至6。
17．实施方案1至16任意项的前体，其中该最外层水溶性覆盖层基本上由一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂——其至少一种是酸改性的聚(乙烯醇)或具有至少70%的皂化度的聚(乙烯醇)，和分散在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的聚乙烯蜡粒子或聚四氟乙烯蜡粒子组成。
18．用于制备平版印刷版的方法，包括：
依图像曝光实施方案1至17任意项的阴图制版平版印刷版前体以形成在该阴图制版可成像层中具有曝光区域和未曝光区域的成像前体，和
该成像前体预打样处理以去除该阴图制版可成像层中的未曝光区域，由此制备平版印刷版。
19．实施方案18的方法，其中该阴图制版平版印刷版前体对红外辐射敏感，并且使用激光器以提供在至少700 nm和最多且包括1400 nm的λmax下的辐射能量进行该依图像曝光。
20．实施方案18至19的方法，进一步包括：
在该处理后在没有任何后处理步骤的情况下将该平版印刷版安装到印刷机上。
21．实施方案18至20的方法，包括：
使用具有至少3和最多且包括12的pH并包含选自非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、亲水性成膜聚合物和除了非离子型或阴离子型表面活性剂之外的中性带电亲水性化合物的至少一种化合物的处理溶液进行该处理。
22．实施方案18至21的方法，包括：
使用既能除去阴图制版可成像层的未曝光区域又能在处理过的前体印刷表面上提供保护性涂层的处理溶液的处理来进行该处理，和
包括在该处理后在没有任何后处理步骤的情况下将该平版印刷版安装到印刷机上。
23．实施方案18、19和21任意项的方法，进一步包括：
对所得平版印刷版进行冲洗或涂胶，和
干燥该平版印刷版，和
任选在该处理步骤前预热该成像前体。
实施例
提供下列实施例以阐述本发明的实施，并非意味着以任何方式进行限制。实施例中使用的组分与材料如下：
Aerosil? W630是可获自Evonik的氧化铝粒子（140 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
Aerosil? W1836是可获自Evonik的二氧化硅粒子（300 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
BLO代表γ-丁内酯。
Byk? 307是可获自Byk Chemie的聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷。
CD9053是可获自Sartomer的助粘剂。
CS10 PS-720是可获自Microbeads的聚苯乙烯粒子（10 μm平均最大尺寸；平均粒径）的含水分散体。
Dowanol? PM是可获自Dow Chemical的丙二醇甲基醚。
Emulan? TO 40是可获自BASF的非离子型表面活性剂。
Hybridur? 580是可获自Air Products and Chemicals的氨基甲酸酯-丙烯酸系杂化聚合物分散体。
IB05代表双(4-叔丁基苯基)碘鎓四苯基硼酸盐。
KlebosolTM 50R50是可获自AZ Electronic Materials的二氧化硅（50 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
LUBA-print VP 499/A是可获自Münzing Liquid Technologies GmbH的蜡粒子（由聚乙烯组成；150 nm平均最大尺寸或平均粒径）的PE分散体。
LUBA-print VP5500是可获自Münzing Liquid Technologies GmbH的蜡粒子（由聚乙烯组成；280 nm平均最大尺寸或平均粒径）的分散体。
LUBA-print 138/E是可获自Münzing Liquid Technologies GmbH的蜡粒子（由聚四氟乙烯组成；200 nm平均最大尺寸或平均粒径）的分散体。
Lutensol? TO10是可获自BASF的乙氧基化C13醇。
MEK代表甲基乙基酮。
Naxan? ABL是可获自Nease Co的阴离子型表面活性剂。
Nanobyk? 3810是可获自Byk Chemie的氧化铈（10 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
Nanobyk? 3840是可获自Byk Chemie的氧化锌（40 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
Pig951是含有9重量%的铜酞菁和1重量%的聚(乙烯基缩醛)粘合剂的在丙二醇单甲基醚中的分散体，所述粘合剂含有39.9摩尔%的乙烯基醇重复单元、1.2摩尔%的乙酸乙烯酯重复单元、15.4摩尔%的来自乙醛的缩醛基团、36.1摩尔%的来自丁醛的缩醛基团和7.4摩尔%的来自4-甲酰基苯甲酸的缩醛基团。
聚合物A是通过以20/40/20/20摩尔比提供的甲基丙烯酸、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸苄酯和异丙基丙烯酰胺的无规聚合反应形成的共聚物，并且聚合物A具有87的酸值。
PMMA粒子分散体A是根据标准文献方法通过甲基丙烯酸甲酯的聚合反应获得的PMMA粒子（350 nm平均最大尺寸或平均粒径）的含水分散体。
SD1000是获自Kuraray的羧酸改性的聚(乙烯醇)。
SDY-70代表获自Eastman Kodak Company的交联聚苯乙烯粒子（6 μm平均最大尺寸或平均粒径）。
IR染料A是1,3,3-三甲基-2-(2-[3-[2-(1,3,3-三甲基-1,3-二氢-亚吲哚-2-基)-亚乙基]-2-[5-(4-乙烯基-苄硫烷基)-[1,3,4]噻二唑-2-基硫烷基]-环己-1-烯基]-乙烯基)-3H-氯化吲哚鎓。
SorbidexTM 200是可获自Cerestar的糖糖浆。
低聚物A是可获自Sigma Aldrich的双季戊四醇五丙烯酸酯。
 
发明实施例1：
通过以下方法根据本发明制备阴图制版可成像层制剂：在2.03克BLO、7.89克MEK、7.20克Dowanol? PM（2-甲氧基丙醇）和0.25克水的混合物中溶解或分散1.34克Hybridur? 580、0.44克聚合物A、2.94克低聚物A、0.12克CD9053、1.68克Pig951、0.22克IB05、0.06克IR染料A和0.12克Byk? 307。对各平版印刷版前体，将该阴图制版可成像层制剂施加到已经用聚(乙烯基磷酸)后处理过的电化学粒化并阳极化的铝基板上以提供大约0.9 g/m2的可成像层的干涂层重量。
在干燥的可成像层上，通过施加包含1.90克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、0.26克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的制剂形成水溶性覆盖层，并干燥以提供0.2 g/m2的最外层水溶性覆盖层覆盖度。
 
发明实施例2：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了最外层水溶性覆盖层（相同制剂）的干覆盖度提高至0.4 g/m2。
 
发明实施例3：
以与发明实施例1中所述相同的方式制备另一阴图制版平版印刷版前体，除了将包含1.80克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、0.52克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的水溶性覆盖层制剂施加到可成像层上以提供0.2 g/m2的干最外层水溶性外涂层覆盖度。
发明实施例4：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备另一阴图制版平版印刷版前体，除了由包含1.60克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、1.05克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的干最外层水溶性覆盖层覆盖度。
 
发明实施例5：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备另一阴图制版平版印刷版前体，除了由包含0.99克SD1000、0.09克Lutensol? TO10、2.70克LUBA-print VP499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的最外层水溶性覆盖层干覆盖度。
对比例1：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备另一阴图制版平版印刷版前体，除了由包含0.09克Lutensol? TO10、5.32克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的最外层水溶性覆盖层干覆盖度。
对比例2：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了由包含1.98克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、0.05克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的最外层水溶性覆盖层干覆盖度。
发明实施例6：
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了由包含1.95克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、0.13克LUBA-print VP 499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的最外层水溶性覆盖层干覆盖度。
对比例3:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备阴图制版平版印刷版前体，除了由包含2.01克SD1000、0.08克Lutensol? TO10和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.2 g/m2的水溶性覆盖层干覆盖度。由此，该最外层水溶性覆盖层不含有蜡粒子。
对比例4:
以与对比实施例1中所述相同的方式制备阴图制版平版印刷版前体，除了水溶性覆盖层的干覆盖度为1 g/m2。由此，该最外层水溶性覆盖层也不含有蜡粒子。
 
发明实施例7:
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了最外层水溶性覆盖层干覆盖度为0.08 g/m2。
对各个阴图制版平版印刷版前体进行下列评估：
评价划痕敏感性：
使用plynometer用衬纸和300克附加重量经1分钟以60次擦拭对各个阴图制版平版印刷版前体的样品施以刮擦试验。该前体放置在Kodak? Trendsetter 800 II Quantum制版机（830 nm）上并使用830 nm IR激光器在40 mJ/cm2下曝光。
在包含7.14克苯氧基乙醇、1.71克二乙醇胺、7.14克Emulan? TO40、4.76克SorbidexTM 200、1克Naxan? ABL和67.15克水的显影液中显影后，对所得成像和显影的平版印刷版目测检查成像区域中的划痕。目测检查评级为1（无划痕）至3（许多划痕）。
 
前体感光度评价：
各平版印刷版前体样品在银色半色调膜（UGRA灰度）下使用Kodak? Trendsetter 800 II Quantum制版机（830 nm）在105 mJ/cm2下成像，在上述显影液中显影，显影后残留可成像层的灰度步骤的数量代表该平版印刷版前体的感光度。
处理器清洁度评价：
在来自Eastman Kodak Company的W860SP原型处理器中对各平版印刷版前体施以完全负载试验（循环测试）。显影液体积为5升，循环量为75 m2。目测检查该处理器的辊和罐壁上的残留物并评级为1（无残留物）至3（高残留物）。在循环结束时，评价入口辊的清洁度并评级为1（无运输问题）至3（严重的运输问题）。
在下表I中提供了各发明实施例和对比例的细节以及评估数据。
表I
这些结果表明，当以本发明的量在该层中包含合适的烃蜡粒子时，即使以低的最外层水溶性覆盖层覆盖度也可以实现良好的划痕敏感性，并且对前体感光度没有不利影响。采用更高的最外层水溶性覆盖层干覆盖度可以实现一定的划痕敏感性，但是更高的覆盖度导致不合意的低下的处理器清洁度和通过处理器的运输问题。
 
对比例5：
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被Aerosil? W630粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的无机粒子。
 
对比例6：
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被Aerosil? W1836粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的无机粒子。
 
对比例7:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被KlebosolTM 50R50粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的无机粒子。
 
对比例8:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被Nanobyk? 3810粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的无机粒子。
 
对比例9:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被Nanobyk? 3840粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的无机粒子。
 
对比例10:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被该PMMA粒子分散体A取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的有机粒子。
 
对比例11:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被SDY-70粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的有机粒子。
 
对比例12:
以与发明实施例1中所述相同的方式制备阴图制版平版印刷版前体，除了LUBA-print 499/A粒子被CS10 PS-720粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的有机粒子。
 
发明实施例8:
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了 LUBA-print 499/A粒子被LUBA-print 138/E粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的有机粒子。
 
发明实施例9:
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了 LUBA-print 499/A粒子被LUBA-print VP5500粒子取代。由此，该水溶性覆盖层含有最外层水溶性覆盖层固体总含量的5重量%的有机粒子。
 
发明实施例10:
以与发明实施例1中所述相同的方式根据本发明制备阴图制版平版印刷版前体，除了由包含1.95克SD1000、0.08克Lutensol? TO10、0.13克LUBA-print VP499/A蜡分散体和50克水的制剂施加水溶性覆盖层以提供0.6 g/m2的最外层水溶性覆盖层干覆盖度。
  
表II

Claims (23)

1.阴图制版平版印刷版前体，其包含：
基板，
安置在所述基板上的阴图制版可成像层，所述阴图制版可成像层包含可自由基聚合的组分、在暴露于成像辐射时能够生成自由基的引发剂组合物、辐射吸收剂和聚合粘合剂，以及
直接安置在所述阴图制版可成像层上的最外层水溶性覆盖层，所述最外层水溶性覆盖层包含：（1）存在一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂，和（2）基于所述最外层水溶性覆盖层总重量以至少1.3重量%和最多且包括60重量%的量分散在所述一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中的有机蜡粒子，
其中，如由干燥的最外层水溶性覆盖层的扫描电子显微镜法测定的那样，所述有机蜡粒子具有至少0.05 μm和最多且包括0.7 μm的平均最大尺寸。
2.权利要求1所述的前体，其中所述有机蜡粒子具有至少100℃和高达且包括180℃的熔融温度。
3.权利要求1所述的前体，其中所述有机蜡粒子是氟化或非氟化的烃蜡粒子。
4.权利要求1所述的前体，其中所述有机蜡粒子包含氟化或非氟化的聚烯烃。
5.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层以至少0.1 g/m2至和包括0.9 g/m2的干涂层覆盖度存在。
6.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层的干涂层覆盖度（以g/m2为单位）对所述有机蜡粒子的平均最大尺寸（以μm为单位）的比大于1.1:1。
7.权利要求1所述的前体，其中所述有机蜡粒子可以以最外层水溶性覆盖层总重量的至少2重量%和最多且包括50重量%的量分散在所述一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂中，并且所述最外层水溶性覆盖层的干涂层覆盖度（以g/m2为单位）对所述有机蜡粒子的平均最大尺寸（以μm为单位）的比大于1.3:1。
8.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层中的所述有机蜡粒子的干覆盖度为至少0.001 g/m2和最多且包括0.4 g/m2。
9.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层中的所述有机蜡粒子的干覆盖度为至少0.006 g/m2和最多且包括0.03 g/m2。
10.权利要求1所述的前体，其中所述烃蜡粒子具有至少0.15 μm和最多且包括0.6 μm的平均最大尺寸。
11.权利要求1所述的前体，其中所述一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂包含具有至少70%的皂化度的聚(乙烯醇)。
12.权利要求1所述的前体，其中所述一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂包含至少一种用酸性基团改性的改性聚(乙烯醇)，，所述酸性基团选自羧酸、磺酸、硫酸酯、膦酸和磷酸酯基团。
13.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层以至少0.15 g/m2和最多且包括0.4 g/m2的干涂层覆盖度存在。
14.权利要求1所述的前体，其中所述辐射吸收剂是红外辐射吸收剂，并且所述阴图制版可成像层对红外辐射敏感。
15.权利要求1所述的前体，其中在暴露于成像辐射时能够生成自由基的所述引发剂组合物包含二芳基碘鎓阳离子和含硼阴离子，其中所述二芳基碘鎓阳离子由以下结构（I）表示：
（I）
其中R和R’独立地代表卤素、硝基、烷基、芳基、环烷基、烷氧基、芳氧基、链烯基、链炔基、烷基氨基、二烷基亚胺基、烷基酰胺基、芳基酰胺基、羰基、羧基、磺酰基、硫代烷基或硫代芳基，或两个或多个R和R’基团可以结合以形成与各自的苯基稠合的碳环或杂环，并且n和m独立地为0或1至5的整数，并且
含硼阴离子由以下结构（II）表示：
B-(R1)(R2)(R3)(R4)
(II)
其中R1、R2、R3和R4独立地代表烷基、芳基、链烯基、链炔基、环烷基或杂环基，或者R1、R2、R3和R4的两个或多个可以连接在一起形成具有硼原子的杂环环，此类环具有最多7个碳、氮、氧或氮原子。
16.权利要求15所述的前体，其中所述含硼阴离子包含代表相同的取代或未取代的苯基的R1、R2、R3和R4，并且m和n的和为1至6。
17.权利要求1所述的前体，其中所述最外层水溶性覆盖层基本上由所述一种或多种成膜水溶性聚合粘合剂和聚乙烯蜡粒子或聚四氟乙烯蜡粒子组成，至少一种所述成膜水溶性聚合粘合剂是酸改性的聚(乙烯醇)或具有至少70%的皂化度的聚(乙烯醇)，。
18.用于制备平版印刷版的方法，其包括：
将权利要求1所述的阴图制版平版印刷版前体依图像曝光以形成在所述阴图制版可成像层中具有曝光区域和未曝光区域的成像前体，和
处理所述成像前体预打样以去除所述阴图制版可成像层中的所述未曝光区域，由此制备平版印刷版。
19.权利要求18所述的方法，其中所述阴图制版平版印刷版前体对红外辐射敏感，并且使用激光器以提供在至少700 nm和最多且包括1400 nm的λmax下的成像能量进行所述依图像曝光。
20.权利要求18所述的方法，其进一步包括：
在所述处理后在没有任何后处理步骤的情况下将所述平版印刷版安装到印刷机上。
21.权利要求18所述的方法，包括：
使用具有至少3和最多且包括12的pH并包含选自非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、亲水性成膜聚合物和除了非离子型或阴离子型表面活性剂之外的中性带电亲水性化合物的至少一种化合物的处理溶液进行所述处理。
22.权利要求18所述的方法，其包括：
使用既能除去阴图制版可成像层的未曝光区域又能在处理过的前体印刷表面上提供保护性涂层的处理溶液的处理，和
还包括在所述处理后在没有任何后处理步骤的情况下将所述平版印刷版安装到印刷机上。
23.权利要求18所述的方法，其进一步包括：
对所得平版印刷版进行冲洗或涂胶，和
干燥所述平版印刷版，和
任选地在所述处理步骤前预热所述成像前体。
CN201380027911.7A 2012-05-29 2013-05-28 阴图制版平版印刷版前体和制备平版印刷版的方法 Active CN104379350B (zh)

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CN104379350A true CN104379350A (zh) 2015-02-25
CN104379350B CN104379350B (zh) 2017-02-08

Family

ID=49670646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201380027911.7A Active CN104379350B (zh) 2012-05-29 2013-05-28 阴图制版平版印刷版前体和制备平版印刷版的方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8679726B2 (zh)
EP (1) EP2855153B1 (zh)
JP (1) JP6282639B2 (zh)
CN (1) CN104379350B (zh)
WO (1) WO2014062244A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112512826A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512824A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512827A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9063423B2 (en) * 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
US9417524B1 (en) 2015-03-10 2016-08-16 Eastman Kodak Company Infrared radiation-sensitive lithographic printing plate precursors
US20170217149A1 (en) 2016-01-28 2017-08-03 Eastman Kodak Company Negatively-working lithographic printing plate precursor and method
US20180157176A1 (en) 2016-12-02 2018-06-07 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and use
CN110121680B (zh) 2017-01-04 2022-10-04 伊斯曼柯达公司 阴图制版平版印刷版前体和用途
US10828884B2 (en) 2017-03-02 2020-11-10 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and method of use
WO2019044566A1 (ja) 2017-08-31 2019-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
CN111051074B (zh) 2017-08-31 2022-08-16 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
EP3674096B1 (en) * 2017-09-29 2023-03-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate fabrication method
JP6896112B2 (ja) 2018-01-31 2021-06-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN111655503B (zh) 2018-01-31 2022-05-03 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法
US20200096865A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and color-forming composition
CN113382870B (zh) * 2019-01-31 2023-10-31 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
US20210078350A1 (en) 2019-09-17 2021-03-18 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US11117412B2 (en) 2019-10-01 2021-09-14 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and method of use
EP3815900A1 (en) 2019-10-31 2021-05-05 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles
CN112976859B (zh) * 2019-12-16 2023-03-10 乐凯华光印刷科技有限公司 一种阴图平印版前体及阴图平印版
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates
US11714354B2 (en) 2020-03-25 2023-08-01 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
EP4159457A4 (en) * 2020-05-29 2023-10-04 FUJIFILM Corporation LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR WITH DEVELOPMENT ON THE PRINTING PRESS, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRODUCTION PROCESS AND LITHOGRAPHIC PRINTING PROCESS
EP4255737A1 (en) 2020-12-04 2023-10-11 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and method of use
EP4263231A1 (en) 2020-12-17 2023-10-25 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and method of use
EP4035897A1 (en) 2021-01-28 2022-08-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
WO2022212032A1 (en) 2021-04-01 2022-10-06 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
EP4101830A1 (en) 2021-06-10 2022-12-14 FEW Chemicals GmbH Novel diaryliodonium salt mixtures as low molecular weight photoinitiators with minimized crystallization behavior and elevated solubility
EP4129682A1 (en) 2021-08-05 2023-02-08 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0643656A (ja) * 1992-04-07 1994-02-18 Mitsubishi Kasei Corp レーザー用感光材料
EP1630611A2 (en) * 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1629975A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
CN101086621A (zh) * 2006-06-09 2007-12-12 富士胶片株式会社 平版印刷版原版以及平版印刷版原版层叠体
EP1840656B1 (en) * 2006-03-31 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Polymerizable negative planographic printing plate precursor, stack of planographic printing plate precursors, and method of producing polymerizable negative planographic printing plate precursor
CN102953047A (zh) * 2011-08-17 2013-03-06 东京毅力科创株式会社 成膜装置

Family Cites Families (104)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3445232A (en) 1965-10-21 1969-05-20 Horizons Research Inc Photography
US4072528A (en) 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
US4072527A (en) 1972-09-27 1978-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements
JPS5946643A (ja) 1982-09-09 1984-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US4565769A (en) 1984-11-21 1986-01-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric sensitizers for photopolymer composition
US5086086A (en) 1987-08-28 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-induced curable compositions
US4973572A (en) 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JP2520686B2 (ja) 1988-03-18 1996-07-31 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷板
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
JP3321288B2 (ja) 1994-04-25 2002-09-03 日本ペイント株式会社 近赤外光重合性組成物
DE4418645C1 (de) 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
DE4435404A1 (de) 1994-10-04 1996-04-11 Henkel Kgaa Verfahren zur Herstellung stabilisierter wäßriger Polyolefinwachs-Dispersionen
US5563023A (en) 1994-11-02 1996-10-08 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Photoimageable elements
US5629354A (en) 1995-02-28 1997-05-13 Eastman Kodak Company Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator
US5910395A (en) 1995-04-27 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
US5488025A (en) 1995-06-07 1996-01-30 Eastman Kodak Company Dye-receiving element containing elastomeric beads in overcoat layer for thermal dye transfer
EP0770494B1 (en) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithographic printing plate involving on press development
JP3645362B2 (ja) 1996-07-22 2005-05-11 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
EP0828189B1 (en) 1996-08-14 2004-11-10 Mitsubishi Paper Mills, Ltd. Apparatus for processing photosensitive material
DE19639897A1 (de) 1996-09-27 1998-04-02 Sun Chemical Corp Wasserlösliche und sauerstoffsperrende Polymerschichten und deren Verwendung für lichtempfindliche Materialien
EP0849090A3 (en) 1996-12-19 1998-07-01 Agfa-Gevaert N.V. Thermosensitive imaging element for the preparation of lithographic printing plates with improved transporting properties
US5856051A (en) * 1997-07-23 1999-01-05 Eastman Kodak Company Water-resistant protective overcoat for AgX photographic system
DE19732902A1 (de) 1997-07-30 1999-02-04 Sun Chemical Corp Deckschicht für lichtempfindliche Materialien umfassend ein (1-Vinylimidazol)-Polymer oder -Copolymer
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
CO4960662A1 (es) 1997-08-28 2000-09-25 Novartis Ag Ciertos acidos 5-alquil-2-arilaminofenilaceticos y sus derivados
JP3770436B2 (ja) 1997-12-15 2006-04-26 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US6352812B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6153356A (en) 1998-08-17 2000-11-28 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition, photopolymerizable lithographic printing plate and process for forming an image
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
JP2000147780A (ja) 1998-11-06 2000-05-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性材料
JP2001011694A (ja) 1999-06-25 2001-01-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理方法
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6478483B2 (en) 1999-12-20 2002-11-12 Mitsubishi Paper Mills Limited Apparatus for processing photosensitive material
US6180087B1 (en) 2000-01-18 2001-01-30 Mallinckrodt Inc. Tunable indocyanine dyes for biomedical applications
JP3654422B2 (ja) 2000-01-31 2005-06-02 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
US6309792B1 (en) 2000-02-18 2001-10-30 Kodak Polychrome Graphics Llc IR-sensitive composition and use thereof for the preparation of printing plate precursors
JP4469927B2 (ja) 2000-05-23 2010-06-02 Ｄｉｃ株式会社 感光性組成物およびこれを用いた平版印刷版原版、画像形成方法
JP2002040631A (ja) 2000-07-19 2002-02-06 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 平版印刷版用感光性組成物および感光性平版印刷版
DE60128602T2 (de) 2000-08-21 2008-01-31 Fujifilm Corp. Bildaufzeichnungsmaterial
US6824946B2 (en) 2000-10-03 2004-11-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
JP2002139833A (ja) 2000-11-02 2002-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および感光感熱記録材料
US7184401B2 (en) 2001-02-05 2007-02-27 Interdigital Technology Corporation Link-aware transmission control protocol
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6582882B2 (en) 2001-04-04 2003-06-24 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising graft polymer
US7049046B2 (en) 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US7045271B2 (en) 2004-05-10 2006-05-16 Eastman Kodak Company On press developable imageable element
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US20030118939A1 (en) 2001-11-09 2003-06-26 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. High speed negative working thermal printing plates
JP2002341536A (ja) 2001-05-21 2002-11-27 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
JP3878451B2 (ja) 2001-10-22 2007-02-07 富士フイルムホールディングス株式会社 感光性樹脂転写材料、画像形成方法、カラーフィルターとその製造方法、フォトマスクとその製造方法
EP1586448B1 (en) 2002-03-06 2007-12-12 Agfa Graphics N.V. Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
JP2003287878A (ja) 2002-03-28 2003-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷版原版積層体
US6787281B2 (en) 2002-05-24 2004-09-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
DE10255667B4 (de) 2002-11-28 2006-05-11 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
DE10307453B4 (de) 2003-02-21 2005-07-21 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Oxazol-Derivate enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente
JP2004252285A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
DE10307451A1 (de) 2003-02-21 2004-09-16 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente
US6908726B2 (en) 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US7368215B2 (en) 2003-05-12 2008-05-06 Eastman Kodak Company On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system
WO2004114019A1 (ja) 2003-06-18 2004-12-29 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6992688B2 (en) 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP4248345B2 (ja) 2003-09-01 2009-04-02 富士フイルム株式会社 感光性組成物
US7078162B2 (en) 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
DE10356847B4 (de) 2003-12-05 2005-10-06 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente
US7018775B2 (en) 2003-12-15 2006-03-28 Eastman Kodak Company Infrared absorbing N-alkylsulfate cyanine compounds
DE102004003143A1 (de) 2004-01-21 2005-08-18 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen mit mercapto-funktionalisierten, radikalisch polymerisierbaren Monomeren
EP1717024A1 (en) 2004-01-23 2006-11-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4101780B2 (ja) 2004-03-22 2008-06-18 株式会社日立国際電気 信号伝送方法および信号伝送装置
ATE533089T1 (de) 2004-05-19 2011-11-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer fotopolymer- druckplatte
EP1614539B1 (en) 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE102004055733B3 (de) 2004-11-18 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Lithographie-Druckplattenvorläufer mit oligomeren oder polymeren Sensibilisatoren
JP4792261B2 (ja) * 2005-02-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷方法
JP4574506B2 (ja) 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
JP5090631B2 (ja) 2005-05-12 2012-12-05 イーストマン コダック カンパニー 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版
CA2612712C (en) 2005-07-08 2010-10-19 Mitsui Chemicals, Inc. Lithographic printing plate precursor
ATE422066T1 (de) 2005-11-18 2009-02-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
US7279255B2 (en) 2006-02-07 2007-10-09 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7175949B1 (en) 2006-02-17 2007-02-13 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
DE602007006084D1 (de) 2006-03-10 2010-06-10 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und Stapel davon
JP2007245690A (ja) 2006-03-20 2007-09-27 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 平版印刷版原版、平版印刷版原版の製造方法及び印刷方法
JP2007272143A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその積層体
JPWO2007123031A1 (ja) 2006-04-20 2009-09-03 コニカミノルタエムジー株式会社 印刷版材料
US7524614B2 (en) 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7175969B1 (en) 2006-07-18 2007-02-13 Eastman Kodak Company Method of preparing negative-working radiation-sensitive elements
US7332253B1 (en) 2006-07-27 2008-02-19 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7326521B1 (en) 2006-08-31 2008-02-05 Eastman Kodak Company Method of imaging and developing negative-working elements
US7452638B2 (en) 2006-09-18 2008-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP2008080644A (ja) 2006-09-27 2008-04-10 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその製造方法
US7429445B1 (en) 2007-03-07 2008-09-30 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
JP2008276167A (ja) 2007-03-30 2008-11-13 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
US20080254387A1 (en) 2007-04-13 2008-10-16 Jianfei Yu Negative-working imageable elements and methods of use
US7732118B2 (en) 2007-05-10 2010-06-08 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
US7858292B2 (en) 2007-12-04 2010-12-28 Eastman Kodak Company Imageable elements with components having 1H-tetrazole groups
US8043787B2 (en) 2008-03-14 2011-10-25 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance
US20090263746A1 (en) 2008-04-17 2009-10-22 Ray Kevin B Method of making lithographic printing plates with simple processing
US20100021844A1 (en) 2008-07-22 2010-01-28 Jianfei Yu Negative-working imageable elements and method of use
US20100151385A1 (en) 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0643656A (ja) * 1992-04-07 1994-02-18 Mitsubishi Kasei Corp レーザー用感光材料
EP1630611A2 (en) * 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1629975A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate
EP1840656B1 (en) * 2006-03-31 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Polymerizable negative planographic printing plate precursor, stack of planographic printing plate precursors, and method of producing polymerizable negative planographic printing plate precursor
CN101086621A (zh) * 2006-06-09 2007-12-12 富士胶片株式会社 平版印刷版原版以及平版印刷版原版层叠体
CN102953047A (zh) * 2011-08-17 2013-03-06 东京毅力科创株式会社 成膜装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112512826A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512824A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512827A (zh) * 2018-07-30 2021-03-16 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512826B (zh) * 2018-07-30 2022-10-21 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512827B (zh) * 2018-07-30 2022-10-21 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
CN112512824B (zh) * 2018-07-30 2022-10-25 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法

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