JP6282639B2 - ネガ型平版印刷版原版 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 130
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 73
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 104
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 69
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 65
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 51
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 21
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 20
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims description 20
- 239000002492 water-soluble polymer binding agent Substances 0.000 claims description 19
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 15
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims description 9
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 claims description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 claims description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 167
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 99
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 52
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 50
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 50
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 47
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 20
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 16
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 11
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical class [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 8
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 7
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 6
- 239000006099 infrared radiation absorber Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 4
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 4
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000567769 Isurus oxyrinchus Species 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical group C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Chemical group C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSLINXQJWRKPET-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyloxepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCOC1=O KSLINXQJWRKPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 4-formylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- VEUHPWRDBGGGBU-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.I.I.I Chemical compound OB(O)O.I.I.I VEUHPWRDBGGGBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 2
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 2
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- PSXVVEFTUBMHJR-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxoisoindol-2-yl) benzoate Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)N1OC(=O)C1=CC=CC=C1 PSXVVEFTUBMHJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHBVXHIVWULVNF-UHFFFAOYSA-N (4-fluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=C(F)C=C1 PHBVXHIVWULVNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-O 1H-indol-1-ium Chemical compound C1=CC=C2[NH2+]C=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1-(2,4,5-triphenylimidazol-2-yl)imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(N2C(=C(N=C2C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)N=C1C1=CC=CC=C1 GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHGCHYOFZGPCNY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1C(O)=O GHGCHYOFZGPCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVAOBEYIJJPYNL-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-sulfonaphthalen-2-yl)methyl]naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC2=CC=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=C1CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1S(O)(=O)=O LVAOBEYIJJPYNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAUQSLQBXVAPPU-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methylsulfanyl]-5-[(6e)-2-[(e)-2-(1,3,3-trimethylindol-1-ium-2-yl)ethenyl]-6-[(2e)-2-(1,3,3-trimethylindol-2-ylidene)ethylidene]cyclohexen-1-yl]sulfanyl-1,3,4-thiadiazole Chemical compound CC1(C)C2=CC=CC=C2N(C)\C1=C\C=C1/CCCC(\C=C\C=2C(C3=CC=CC=C3[N+]=2C)(C)C)=C1SC(S1)=NN=C1SCC1=CC=C(C=C)C=C1 MAUQSLQBXVAPPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical group OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical class CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- VLJQDHDVZJXNQL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(oxomethylidene)benzenesulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)N=C=O)C=C1 VLJQDHDVZJXNQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPDAVTSOEQEGMS-UHFFFAOYSA-N 9,10-dihydroanthracene Chemical class C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3CC2=C1 WPDAVTSOEQEGMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 241000372033 Andromeda Species 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXBUDEYZZBHQBC-UHFFFAOYSA-N CC(O)=O.CC(O)=O.NC1=CC=CC=C1 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.NC1=CC=CC=C1 WXBUDEYZZBHQBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 241001301450 Crocidium multicaule Species 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical class OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018936 Vitellaria paradoxa Nutrition 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFKJQIJFRMRSKM-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(trifluoromethyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 HFKJQIJFRMRSKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBKMWFYVHYZAI-UHFFFAOYSA-N [Al].[Cu].[Zn] Chemical compound [Al].[Cu].[Zn] MUBKMWFYVHYZAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940022682 acetone Drugs 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012164 animal wax Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004646 arylidenes Chemical group 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- XOYZYOURGXJJOC-UHFFFAOYSA-N bis(2-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1C(C)(C)C XOYZYOURGXJJOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N but-3-enamide Chemical compound NC(=O)CC=C ABBZJHFBQXYTLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229940105329 carboxymethylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- CEJANLKHJMMNQB-UHFFFAOYSA-M cryptocyanin Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CC)C=CC1=CC=CC1=CC=[N+](CC)C2=CC=CC=C12 CEJANLKHJMMNQB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- DLTISZOGPVEGJT-UHFFFAOYSA-L disodium;4-dodecyl-3-phenoxybenzene-1,2-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C(S([O-])(=O)=O)=C1OC1=CC=CC=C1 DLTISZOGPVEGJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N ethenyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC=C BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYQYHJRSHHYEIG-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;urea Chemical compound NC(N)=O.CCOC(N)=O OYQYHJRSHHYEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-O hydron;1,3-oxazole Chemical compound C1=COC=[NH+]1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229920003063 hydroxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940031574 hydroxymethyl cellulose Drugs 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N indole-3-acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CNC2=C1 SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006025 oxidative dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012169 petroleum derived wax Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- KTNLYTNKBOKXRW-UHFFFAOYSA-N phenyliodanium Chemical compound [IH+]C1=CC=CC=C1 KTNLYTNKBOKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012165 plant wax Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 239000002534 radiation-sensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M sodium;2-[methyl-[(z)-octadec-9-enyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN(C)CCS([O-])(=O)=O AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- CYFLXLSBHQBMFT-UHFFFAOYSA-N sulfamoxole Chemical group O1C(C)=C(C)N=C1NS(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 CYFLXLSBHQBMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 1
- 238000007651 thermal printing Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
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- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/10—Developable by an acidic solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
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Description
基板と、
基板上に配置されたネガ型画像形成性層であって、フリーラジカル重合性成分、画像化放射光に露光するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、放射光吸収剤、及び、ポリマーバインダーを含むネガ型画像形成性層と、
ネガ型画像形成性層の直ぐ上に配置されている最外水溶性オーバーコート層であって、(1)1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー、及び(2)総最外水溶性オーバーコート層重量基準で少なくとも1.3重量%及び最大で60重量%の量の、1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー中に分散した炭化水素ワックス粒子を含む最外水溶性オーバーコート層と
を含むネガ型平版印刷版原版であって、
炭化水素ワックス粒子が乾燥最外水溶性オーバーコート層の走査型電子顕微鏡写真から測定される、少なくとも0.05μm及び最大で0.7μmの平均最大寸法を有するネガ型平版印刷版原版を提供する。
本発明のネガ型平版印刷版原版を画像様露光して、ネガ型画像形成性層中に露光領域及び非露光領域を有する画像化原版を形成する工程と、
画像化原版をオフプレス処理して、ネガ型画像形成性層中の非露光領域を除去して、平版印刷版を調製する工程と
を含む方法を提供する。
後処理硬化、水すすぎ又はガム化(gumming)工程等のいかなる後処理工程もなしで、処理後に平版印刷版を印刷機に載せる工程
を更に含むことができる。
特に指示しない限り、レーザー彫刻可能な(laser−engraveable)組成物、配合物及び層の種々の成分を定義するために本明細書で使用される場合、単数形「a」、「an」及び「the」は、成分の1つ又は複数を含む(すなわち、複数指示対象を含む)ことを意図している。
基板は、一般的に親水性表面、又は少なくとも画像化側に塗布される画像形成性層よりも親水性である表面を有する。基板は、平版印刷版等の画像形成性要素を調製するために慣用的に使用されている任意の材料で構成され得る支持体を含む。これは通常、シート、膜、箔(又はウェブ)の形態であり、色記録がフルカラー画像を登録するように使用条件下で強く、安定で、可撓性且つ寸法変化抵抗性である。典型的には、支持体は、ポリマー膜(ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー及びポリスチレン膜等)、ガラス、セラミック、金属シート若しくは箔、又は薄板紙(樹脂塗工紙及び金属化紙を含む)、あるいはこれらの材料のいずれかの積層(ポリエステル膜上へのアルミ箔の積層等)を含む任意の自己支持材料であり得る。金属支持体には、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又は箔が含まれる。
本発明の実施形態は、以下に記載されるネガ型放射光感受性組成物を適当な基板に適切に塗布して、フリーラジカル重合性成分、放射光吸収剤(赤外線放射吸収剤等)、画像化放射に露光するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、及びポリマーバインダーを含むネガ型放射光感受性画像形成性層を形成することによって形成することができる。一般的には、放射光感受性組成物を含むただ1つのネガ型画像形成性層が存在するが、これは原版で最外層ではない。以下により詳細に記載されるように、最外水溶性オーバーコート層(トップコートとしても知られている)が1つ又は複数のネガ型画像形成性層上に配置される。
I.例えば、米国特許第7326521号明細書(Taoら)に記載されている、(a)(メタ)アクリロニトリルと、(b)(メタ)アクリル酸のポリ(アルキレンオキシド)エステルと、場合により(c)(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレートエステル、スチレン及びその誘導体、並びに(メタ)アクリルアミドとの組み合わせ又は混合物の重合により形成される膜形成ポリマー。このクラスのいくつかの特に有用なポリマーバインダーは、1種又は複数の(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレートエステル、スチレン及びその誘導体、ビニルカルバゾール、並びにポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートから得られる。
II.米国特許第7332253号明細書(Taoら)に記載されているペンダントアリルエステル基を有する膜形成ポリマー。このようなポリマーは、ペンダントシアノ基を含むこともできる、又は言及する特許の8段、31行〜10段、3行に記載されている種々の他のモノマーから得られる繰り返し単位を有することもできる。
III.全炭素骨格を形成する炭素原子の少なくとも40mol%及び最大で100mol%(典型的には少なくとも40及び最大で50mol%)が三級炭素原子であり、全炭素骨格中の残りの炭素原子が非三級炭素原子である、全炭素骨格を有する膜形成ポリマー。このようなポリマーバインダーのさらなる詳細は、米国特許出願公開第2008−0280229号明細書(Taoら)にある。
IV.ポリマー骨格に結合した1個又は複数のエチレン性不飽和ペンダント基(反応性ビニル基)を有する膜形成性ポリマーバインダー。このような反応基は、フリーラジカルの存在下で重合又は架橋を受けることができる。ペンダント基は、炭素−炭素直接結合により又は特に限定されない結合基を通してポリマー骨格に直接結合することができる。反応性ビニル基は、少なくとも1個のハロゲン原子、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、又はアルキル、アリール、アルコキシ若しくはアリールオキシ基、特に1個又は複数のアルキル基で置換され得る。いくつかの実施形態では、反応性ビニル基は、例えば、米国特許第6569603号明細書(Furukawaら)に記載されているようにフェニレン基を通してポリマー骨格に結合している。他の有用なポリマーバインダーは、例えば、欧州特許第1182033A1号明細書(Fujimakiら)並びに米国特許第4874686号明細書(Urabeら)、第7729255号明細書(Taoら)、第6916595号明細書(Fujimakiら)及び第7041416号明細書(Wakataら)に記載されているペンダント基中のビニル基を有する。
V.米国特許出願公開第2009−0142695号明細書(Baumannら)に記載されているペンダント1H−テトラゾール基を有することができる膜形成ポリマーバインダー。
VI.更に他の有用なポリマーバインダーは、膜形成性である又は離散粒子として存在することができ、これらには、それだけに限らないが、(メタ)アクリル酸及び酸エステル樹脂[(メタ)アクリレート等]、ポリビニルアセタール、フェノール樹脂、スチレン、N−置換環状イミド又は無水マレイン酸から得られるポリマー、例えば、欧州特許第1182033号明細書(上記)並びに米国特許第6309792号明細書(Hauckら)、第6352812号明細書(Shimazuら)、第6569603号明細書(上記)及び第6893797号明細書(Munnellyら)に記載されているものが含まれる。米国特許第7175949号明細書(Taoら)に記載されているビニルカルバゾールポリマーも有用である。他の有用なポリマーバインダーは、画像形成性層の全体にわたって(通常は均一に)分布している粒子状ポリ(ウレタン−アクリル)ハイブリッドである。これらのハイブリッドの各々は少なくとも50000及び最大で500000の数平均分子量(Mn)を有し、粒子はゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される少なくとも10nm及び最大で10000nm(典型的には少なくとも30nm及び最大で500nm)の平均粒径を有する。
により表される。mとnの和は1〜6となり得る。
B−(R1)(R2)(R3)(R4) (II)
(式中、R1、R2、R3及びR4は独立に、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又は複素環基を表す、又はR1、R2、R3及びR4の2つ以上が結合してホウ素原子を有する複素環を形成してもよく、前記環は最大で7個の炭素、窒素、酸素又は窒素原子を有する)
により表される。いくつかの実施形態では、R1、R2、R3及びR4の全てが置換又は未置換フェニル基等の、同じ若しくは異なる置換又は未置換アリール基である、あるいはよりもっともらしくは、これらの基の全てが未置換フェニル基である。
原版は、1つ又は複数のネガ型画像形成性層の上に配置された最外水溶性オーバーコート層(時々、「酸素不透過性トップコート」又は「酸素障壁層」としても知られている)を有する。水溶性オーバーコートは、原版の最外層である。このような最外水溶性オーバーコート層は、少なくとも70%のけん化度、又は少なくとも75%若しくは少なくとも90%のけん化度さえ有するポリ(ビニルアルコール)等の1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダーを含む。
上記ネガ型放射光感受性組成物をコーティング液体中の溶液又は分散液として、スピンコーティング、ナイフコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、スロットコーティング、バーコーティング、ワイヤロッドコーティング、ローラーコーティング又は押出ホッパーコーティング等の任意の適当な装置及び手順を使用して基板に塗布することができる。放射光感受性組成物を、適当な支持体上に噴霧することによって塗布することもできる。典型的には、放射光感受性組成物を塗布し、乾燥させてネガ型画像形成性層を形成する。
使用中、平版印刷版原版を、放射光感受性組成物中に存在する放射光吸収剤に応じた露光放射の適当な光源に露光させて、少なくとも150nm及び最大で475nm(「UV」若しくは「紫」)又は少なくとも700nm及び最大で1400nmの赤外線の波長である特定の感度を得る。いくつかの実施形態では、UV若しくは「紫」放射光に感受性のネガ型平版印刷版原版では少なくとも350nm及び最大で450nmの範囲内のλmax、又はネガ型平版印刷版原版が赤外線放射に感受性である場合には適当なエネルギー源を使用して少なくとも700nm及び最大で1400nmの範囲内のλmaxを有する放射光を使用して、画像様露光を行う。
画像化後、画像化ネガ型平版印刷版原版を、本明細書に記載されて適当な処理溶液を使用して、例えば、水又は以下に記載される処理溶液を使用して「オフプレス」処理することができる。このような処理を、画像化ネガ型画像形成性層及び最外水溶性オーバーコート層の非露光領域を除去して、基板の親水性表面を明らかにするのに十分であるが、有意な量の硬化していない露光領域を除去するほど十分に長くはない時間、画像化ネガ型原版に行う。明らかになった親水性基板表面はインクをはじくが、露光領域はインクを受容する。したがって、除去される予定の非露光領域は、残る予定の領域よりも容易に処理溶液中に除去、溶解又は分散するので、処理溶液に「可溶性」又は「除去可能」である。「可溶性」という用語は「分散性」も意味する。
1.基板と、
基板上に配置されたネガ型画像形成性層であって、フリーラジカル重合性成分、画像化放射に露光するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、放射光吸収剤、及びポリマーバインダーを含むネガ型画像形成性層と、
ネガ型画像形成性層の直ぐ上に配置されている最外水溶性オーバーコート層であって、(1)存在する1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー、及び(2)総最外水溶性オーバーコート層重量基準で少なくとも1.3重量%及び最大で60重量%の量の、1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー中に分散した有機ワックス粒子を含む最外水溶性オーバーコート層と
を含むネガ型平版印刷版原版であって、
有機ワックス粒子が乾燥最外水溶性オーバーコート層の走査型電子顕微鏡写真から測定される、少なくとも0.05μm及び最大で0.7μmの平均最大寸法を有するネガ型平版印刷版原版。
2.有機ワックス粒子が少なくとも100℃及び最高で180℃の融点を有する、実施形態1の原版。
3.有機ワックス粒子がフッ化又は非フッ化炭化水素ワックス粒子である、実施形態1又は2の原版。
4.有機ワックス粒子がフッ化又は非フッ化ポリオレフィンを含む、実施形態1から3のいずれかの原版。
5.最外水溶性オーバーコート層が少なくとも0.1g/m2〜0.9g/m2の乾燥コーティング被覆度で存在する、実施形態1から4のいずれかの原版。
6.最外水溶性オーバーコート層の乾燥コーティング被覆度(g/m2)と有機ワックス粒子の平均最大寸法(μm)の比が1.1を超える、実施形態1から5のいずれかの原版。
7.有機ワックス粒子が総最外水溶性オーバーコート層重量基準で少なくとも2重量%及び最大で50重量%の量で1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー中に分散しており、且つ最外水溶性オーバーコート層の乾燥コーティング被覆度(g/m2)と有機ワックス粒子の平均最大寸法(μm)の比が1.3:1を超える、実施形態1から6のいずれかの原版。
8.最外水溶性オーバーコート層中の有機ワックス粒子の乾燥被覆度が少なくとも0.001g/m2及び最大で0.4g/m2である、実施形態1から7のいずれかの原版。
9.最外水溶性オーバーコート層中の有機ワックス粒子の乾燥被覆度が少なくとも0.006g/m2及び最大で0.03g/m2である、実施形態1から8のいずれかの原版。
10.炭化水素ワックス粒子が少なくとも0.15μm及び最大で0.6μmの平均最大寸法を有する、実施形態1から9のいずれかの原版。
11.1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダーが少なくとも70%のけん化度を有するポリ(ビニルアルコール)を含む、実施形態1から10のいずれかの原版。
12.1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダーがカルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル、ホスホン酸及びリン酸エステル基からなる群から選択される酸基で修飾された少なくとも1種の修飾ポリ(ビニルアルコール)を含む、実施形態1から11のいずれかの原版。
13.最外水溶性オーバーコート層が少なくとも0.15g/m2及び最大で0.4g/m2の乾燥コーティング被覆度で存在する、実施形態1から12のいずれかの原版。
14.放射光吸収剤が赤外線放射吸収剤であり、ネガ型画像形成性層が赤外線放射に感受性である、実施形態1から13のいずれかの原版。
15.画像化放射に露光するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物がジアリールヨードニウムカチオン及びホウ素含有アニオンを含み、ジアリールヨードニウムカチオンが以下の構造(I):
により表され、
ホウ素含有アニオンが、以下の構造(II):
B−(R1)(R2)(R3)(R4) (II)
(式中、R1、R2、R3及びR4は独立に、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又は複素環基を表す、又はR1、R2、R3及びR4の2つ以上が結合してホウ素原子を有する複素環を形成してもよく、前記環は最大で7個の炭素、窒素、酸素又は窒素原子を有する)
により表される、実施形態1から14のいずれかの原版。
16.ホウ素含有アニオンが同じ置換又は未置換フェニル基を表すR1、R2、R3及びR4を含み、mとnの和が1〜6である、実施形態15の原版。
17.最外水溶性オーバーコート層が、その少なくとも1種が酸修飾ポリ(ビニルアルコール)又は少なくとも70%のけん化度を有するポリ(ビニルアルコール)である、1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダーと、ポリエチレンワックス粒子又はポリテトラフルオロエチレンワックス粒子とから本質的になる、実施形態1から16のいずれかの原版。
18.平版印刷版を調製する方法であって、
実施形態1から17のいずれかのネガ型平版印刷版原版を画像様に露光して、ネガ型画像形成性層中に露光領域及び非露光領域を有する画像化原版を形成する工程と、
画像化原版をオフプレス処理して、ネガ型画像形成性層中の非露光領域を除去して、平版印刷版を調製する工程と
を含む方法。
19.ネガ型平版印刷版原版が赤外線放射に感受性であり、画像様露光が少なくとも700nm及び最大で1400nmのλmaxの画像化エネルギーを提供するレーザーを使用して行われる、実施形態18の方法。
20.いかなる後処理工程もなしで、処理後に平版印刷版を印刷機に載せる工程を更に含む、実施形態18から19の方法。
21.少なくとも3及び最大で12のpHを有し、非イオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、親水性膜形成ポリマー、及び非イオン又はアニオン界面活性剤以外の中性電荷親水性化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含む処理溶液を使用して処理する工程を含む、実施形態18から20のいずれかの方法。
22.ネガ型画像形成性層の非露光領域の除去と処理した原版印刷面上への保護コーティングの提供の両方を行う処理溶液を使用して処理する工程を含み、
いかなる後処理工程もなしで、処理後に平版印刷版を印刷機に載せる工程を含む、実施形態18から21のいずれかの方法。
23.平版印刷版をすすぐ又はガム化する工程と、
平版印刷版を乾燥させる工程と、
場合により処理工程前に画像化原版を予熱する工程と
を更に含む実施形態18、19及び21のいずれかの方法。
本発明にしたがって、1.34gのHybridur(登録商標)580、0.44gのポリマーA、2.94gのオリゴマーA、0.12gのCD9053、1.68gのPig951、0.22gのIB05、0.06gのIR染料A及び0.12gのByk(登録商標)307を、2.03gのBLO、7.89gのMEK、7.20gのDowanol(登録商標)PM(2−メトキシプロパノール)及び0.25gの水の混合物に溶解又は分散させることによって、ネガ型画像形成性層配合物を調製した。各平版印刷版原版について、このネガ型画像形成性層配合物を、ポリ(ビニルリン酸)で後処理した電気化学的粒化及び陽極酸化アルミニウム基板に塗布して、約0.9g/m2の画像形成性層の乾燥コーティング重量を得た。
本発明にしたがって、最外水溶性オーバーコート層(同じ配合)の乾燥被覆度を0.4g/m2に増加させたことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。
1.80gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10、0.52gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む水溶性オーバーコート層配合物を画像形成性層に塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、別のネガ型平版印刷版原版を調製した。
本発明にしたがって、1.60gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10、1.05gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、別のネガ型平版印刷版原版を調製した。
本発明にしたがって、0.99gのSD1000、0.09gのLutensol(登録商標)TO10、2.70gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、別のネガ型平版印刷版原版を調製した。
本発明にしたがって、0.09gのLutensol(登録商標)TO10、5.32gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、別のネガ型平版印刷版原版を調製した。
本発明にしたがって、1.98gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10、0.05gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。
本発明にしたがって、1.95gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10、0.13gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。
2.01gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.2g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。したがって、最外水溶性オーバーコート層は、ワックス粒子を含有していな且つた。
水溶性オーバーコートの乾燥被覆度を1g/m2としたことを除いて、比較実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この最外水溶性オーバーコート層も、ワックス粒子を含有していな且つた。
本発明にしたがって、乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を0.08g/m2としたことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。
間紙による60回の摩擦及び300gの付加おもりで1分間プライノメーター(plynometer)を使用して、ネガ型平版印刷版原版の各々の試料を引っ掻き試験に供した。原版をKodak(登録商標)Trendsetter 800II Quantumプレートセッター(830nm)に置き、830nmのIRレーザーを使用して40mJ/cm2で露光した。
平版印刷版原版の各々の試料を、105mJ/cm2でKodak(登録商標)Trendsetter 800II Quantumプレートセッター(830nm)を使用して銀ハーフトーン膜(UGRAグレースケール)下で画像化し、上記現像液中で現像すると、現像後に残っている画像形成性層のグレースケール工程の数が、平版印刷版原版の感度を表した。
平版印刷版原版の各々を、Eastman Kodak Company製のW860SPプロトタイプ処理装置における完全充填試験(サイクル試験)に供した。現像液体積は5lであり、サイクル体積は75m2であった。処理装置を、ローラー及びタンク壁上の残留物について目視検査し、1(残留物なし)〜3(高い残留物)で格付けした。サイクルの最後で、進入ローラーの滑りやすさを評価し、1(輸送に問題なし)〜3(輸送に相当な問題あり)で格付けした。
LUBA−print 499/A粒子をAerosil(登録商標)W630粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の無機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をAerosil(登録商標)W1836粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の無機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をKlebosol(商標)50R50粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の無機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をNanobyk(登録商標)3810粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の無機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をNanobyk(登録商標)3840粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の無機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をPMMA粒子分散液Aに置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の有機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をSDY−70粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の有機粒子を含有していた。
LUBA−print 499/A粒子をCS10 PS−720粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の有機粒子を含有していた。
本発明にしたがって、LUBA−print 499/A粒子をLUBA−print 138/E粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の有機粒子を含有していた。
本発明にしたがって、LUBA−print 499/A粒子をLUBA−print VP5500粒子に置換したことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。したがって、この水溶性オーバーコート層は、最外水溶性オーバーコート層の総固形分基準で5重量%の有機粒子を含有していた。
本発明にしたがって、1.95gのSD1000、0.08gのLutensol(登録商標)TO10、0.13gのLUBA−print VP499/Aワックス分散液及び50gの水を含む配合物からの水溶性オーバーコート層を塗布して0.6g/m2の乾燥最外水溶性オーバーコート層被覆度を得たことを除いて、発明実施例1に記載されているのと同じ様式で、ネガ型平版印刷版原版を調製した。
Claims (9)
- 基板と、
前記基板上に配置されたネガ型画像形成性層であって、フリーラジカル重合性成分、画像化放射光に露光するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、放射光吸収剤、及び、ポリマーバインダーを含むネガ型画像形成性層と、
前記ネガ型画像形成性層上に直接配置されている最外水溶性オーバーコート層であって、(1)存在する1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー、及び、(2)総最外水溶性オーバーコート層重量基準で少なくとも1.3重量%及び最大で60重量%の量の、前記1種又は複数の膜形成水溶性ポリマーバインダー中に分散した有機ワックス粒子を含む最外水溶性オーバーコート層と
を含むネガ型平版印刷版原版であって、
前記有機ワックス粒子が前記乾燥最外水溶性オーバーコート層の走査型電子顕微鏡写真から測定される、少なくとも0.05μm及び最大で0.7μmの平均最大寸法を有し、
前記有機ワックス粒子がフッ化又は非フッ化炭化水素ワックス粒子であり、
前記最外水溶性オーバーコート層が少なくとも0.1g/m2〜0.9g/m2の乾燥コーティング被覆度で存在する
ネガ型平版印刷版原版。 - 前記有機ワックス粒子が少なくとも100℃及び最高で180℃の融点を有する、請求項1に記載の原版。
- 前記最外水溶性オーバーコート層の前記乾燥コーティング被覆度(g/m2)/前記有機ワックス粒子の前記平均最大寸法(μm)が1.1/1を超える、請求項1又は2に記載の原版。
- 前記最外水溶性オーバーコート層中の前記有機ワックス粒子の前記乾燥被覆度が少なくとも0.001g/m2及び最大で0.4g/m2である、請求項1乃至3のいずれかに記載の原版。
- 前記有機ワックス粒子が少なくとも0.15μm及び最大で0.6μmの平均最大寸法を有する、請求項1乃至4のいずれかに記載の原版。
- 前記最外水溶性オーバーコート層が少なくとも0.15g/m2及び最大で0.4g/m2の乾燥コーティング被覆度で存在する、請求項1乃至5のいずれかに記載の原版。
- 前記放射光吸収剤が赤外線放射吸収剤であり、前記ネガ型画像形成性層が赤外線放射に感受性である、請求項1乃至6のいずれかに記載の原版。
- 平版印刷版を調製する方法であって、
請求項1乃至7のいずれかに記載のネガ型平版印刷版原版を画像様露光して、前記ネガ型画像形成性層中に露光領域及び非露光領域を有する画像化原版を形成する工程と、
前記画像化原版をオフプレス処理して、前記ネガ型画像形成性層中の前記非露光領域を除去して、平版印刷版を調製する工程と
を含む方法。 - 前記オフプレス処理後に前記平版印刷版を印刷機に載せる工程を更に含む、請求項8に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/482,151 | 2012-05-29 | ||
US13/482,151 US8679726B2 (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Negative-working lithographic printing plate precursors |
PCT/US2013/042813 WO2014062244A1 (en) | 2012-05-29 | 2013-05-28 | Negative-working lithographic printing plate precursors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015519610A JP2015519610A (ja) | 2015-07-09 |
JP6282639B2 true JP6282639B2 (ja) | 2018-02-21 |
Family
ID=49670646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015515105A Active JP6282639B2 (ja) | 2012-05-29 | 2013-05-28 | ネガ型平版印刷版原版 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8679726B2 (ja) |
EP (1) | EP2855153B1 (ja) |
JP (1) | JP6282639B2 (ja) |
CN (1) | CN104379350B (ja) |
WO (1) | WO2014062244A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9063423B2 (en) * | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and use |
US9417524B1 (en) | 2015-03-10 | 2016-08-16 | Eastman Kodak Company | Infrared radiation-sensitive lithographic printing plate precursors |
US20170217149A1 (en) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | Eastman Kodak Company | Negatively-working lithographic printing plate precursor and method |
US20180157176A1 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and use |
WO2018128830A1 (en) | 2017-01-04 | 2018-07-12 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor and use |
US10828884B2 (en) | 2017-03-02 | 2020-11-10 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
WO2019044483A1 (ja) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
EP3656575B1 (en) | 2017-08-31 | 2022-09-07 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate original plate, method for fabricating lithographic printing plate, and lithographic printing method |
WO2019064974A1 (ja) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
JPWO2019150788A1 (ja) | 2018-01-31 | 2021-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
JP6896112B2 (ja) | 2018-01-31 | 2021-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
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US8383319B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
JP5696619B2 (ja) * | 2011-08-17 | 2015-04-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
-
2012
- 2012-05-29 US US13/482,151 patent/US8679726B2/en active Active
-
2013
- 2013-05-28 WO PCT/US2013/042813 patent/WO2014062244A1/en active Application Filing
- 2013-05-28 EP EP13828954.1A patent/EP2855153B1/en active Active
- 2013-05-28 CN CN201380027911.7A patent/CN104379350B/zh active Active
- 2013-05-28 JP JP2015515105A patent/JP6282639B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130323643A1 (en) | 2013-12-05 |
WO2014062244A1 (en) | 2014-04-24 |
EP2855153B1 (en) | 2016-09-07 |
CN104379350A (zh) | 2015-02-25 |
JP2015519610A (ja) | 2015-07-09 |
CN104379350B (zh) | 2017-02-08 |
EP2855153A1 (en) | 2015-04-08 |
US8679726B2 (en) | 2014-03-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |