CN104011569A - 光学层叠膜、红外遮蔽膜及红外遮蔽体 - Google Patents

光学层叠膜、红外遮蔽膜及红外遮蔽体 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种膜柔软性及膜面均匀性优异、规定的波长区域的光的透过率高、其它的规定的波长区域的遮蔽性优异的光学层叠膜、红外遮蔽膜、红外遮蔽膜的制造方法、及设有该红外遮蔽膜的红外遮蔽体。所述光学层叠膜的特征在于,在基材上具有至少一个由高折射率层和含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇的低折射率层构成的单元。

Description

光学层叠膜、红外遮蔽膜及红外遮蔽体
技术领域
本发明涉及光学层叠膜、红外遮蔽膜及红外遮蔽体。
背景技术
近年来,对节能对策的关心提高,从减少对空调设备施加的负荷等的观点考虑,对安装于建筑物、车辆的窗玻璃来遮断太阳光的热线的透过的红外遮蔽膜的期望不断提高。
作为红外遮蔽膜的形成方法,主要提出有使用蒸镀法、溅射法等的干式制膜法形成包含交替层叠了高折射率层和低折射率层的构成的层叠体单元的方法。但是,干式制膜法存在如下等的课题:用于形成的真空装置等大型,制造成本变高,也难以大面积化,而且作为基材限定于耐热性原材料。
近年来,正在积极进行代替具有如上所述的课题的干式制膜法而使用湿式涂布法来形成红外遮蔽膜的方法的研究(专利文献1~3)。
例如,在专利文献1中公开有通过使用了棒涂机的湿式涂布方式在基材上涂布使含有金属氧化物等金属化合物微粒的热固化型有机硅树脂、紫外线固化型丙烯酸类树脂等分散于有机溶剂中了的高折射率层涂布液来形成透明层叠体的方法。另外,在专利文献2中公开有通过使用了棒涂机的湿式涂布方式在基材上涂布由金红石型氧化钛、杂环系氮化合物(例如吡啶)、紫外线固化型粘结剂及有机溶剂构成的高折射率用涂布液来形成透明层叠体的方法。在专利文献3中公开有使用球状金红石型氧化钛粒子的甲醇分散浆料和甲醇二氧化硅溶胶来进行交替层叠的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平8-110401号公报
专利文献2:日本特开2004-123766号公报
专利文献3:日本特开2003-266577号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在专利文献1及专利文献2中所公开的方法中,由于折射率层用涂布液(例如、低折射率层用涂布液)的介质主要由有机溶剂形成,因此在折射率层形成及干燥时使大量的有机溶剂飞散,存在环境上的课题。进而,在该方法中,由于使用紫外线固化型丙烯酸类树脂,因此存在得到的膜因紫外线而固化,形成柔软性不足的涂膜物性这样的问题。
另外,在专利文献3中所记载的方法中,由于使用金属氧化物来形成低折射率层,因此存在得到的膜脆,进而因在粒子界面产生的空隙而导致雾度高这样的课题。
因此,本发明是鉴于上述课题而完成的,其目的在于,提供一种光学层叠膜,所述光学层叠膜是具有至少1个由高折射率层和含有金属氧化物粒子的低折射率层构成的单元的光学层叠膜,其中,所述光学层叠膜的膜柔软性及膜面均匀性优异,规定的波长区域的透光率高,其它的规定的波长区域的光的遮蔽性优异。另外,作为其它的目的,其目的在于,提供一种红外遮蔽膜、红外遮蔽膜的制造方法及设有该红外遮蔽膜的红外遮蔽体。
另外,本发明的其它的目的在于,提供一种可使用水系的折射率用涂布液来制造、为大面积且可以以低成本提供的光学层叠膜的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题进行了潜心研究,结果判明,通过采用下述构成,可实现本发明的目的。
即,本发明涉及一种光学层叠膜,其特征在于,在基材上具有至少1个由高折射率层和含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇的低折射率层构成的单元。
具体实施方式
根据本发明,可提供一种膜柔软性及膜面均匀性优异、规定的波长区域的透光率高、其它的规定的波长区域的光的遮蔽性优异的光学层叠膜。另外,根据本发明,可提供一种红外遮蔽膜、红外遮蔽膜的制造方法、及设有该红外遮蔽膜的红外遮蔽体。
以下,对用于实施本发明的方式详细地进行说明。
如上所述,本发明人鉴于上述课题进行了潜心研究。其结果,令人吃惊的是,发现:通过含有高折射率层和含有第1金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇的低折射率层的光学层叠膜,可解决上述课题,以至完成了本发明。
即,本发明人等发现,在基材上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元的光学层叠膜中,上述低折射率层的至少1层含有金属氧化物粒子和硅烷醇改性聚乙烯醇,由此可实现制造成本廉价、可大面积化、膜柔软性及膜面均匀性优异、规定的波长区域的透光率高、其它的规定的波长区域的光的遮蔽性优异的光学层叠膜,以至完成了本发明。
上述的本发明的构成所产生的作用效果的发挥机制可如下推测。
即,本发明作为对象的光学层叠膜,通常可通过如下以高生产率制造:使用能够形成高折射率层和低折射率层的各自的涂布液,以至少各1层、优选交替层叠而成为多层构成地涂布由各涂布液形成的单元。而且,在使用水系涂布液的情况下,需要通过使高折射率层和低折射率层的各层的涂布液成分尽可能不混杂而确保对于各层所设计的折射率。因此,重要的是:抑制金属氧化物粒子在涂布了各涂布液的高折射率层和低折射率层的界面处进行扩散而引起的层间混合。
与此相对,在本发明涉及的光学层叠膜中,在低折射率层的至少1层含有金属氧化物粒子和硅烷醇改性聚乙烯醇的方面具有特征。认为:起因于本发明的构成而强地形成金属氧化物粒子和硅烷醇改性聚乙烯醇的氢键网络,由此抑制高折射率层和低折射率层的层间混合,实现其它的规定的波长区域的光的遮断特性(优选为红外遮蔽特性),膜的柔软性及雾度也变得良好。另外,在低折射率层和高折射率层两者中使用了硅烷醇改性聚乙烯醇的情况下,雾度进一步变得良好,膜的透明性变高,故更优选。
下面,对本发明的光学层叠膜、红外遮蔽膜的构成要素、及用于实施本发明的方式等进行详细的说明。
本发明的光学层叠膜,在基材上具有至少一个由高折射率层和含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇的低折射率层构成的单元。
[光学层叠膜]
本方式的光学层叠膜,含有基材和至少反射规定的波长区域的光的反射层。在此,反射层具有层叠了的多个折射率层,该折射率层的至少1层具有与相邻的折射率层不同的折射率。一般而言,折射率层优选含有至少一个由低折射率层和高折射率层构成的层叠体(单元),具有将低折射率层和高折射率层交替层叠了的交替层叠体的方式。需要说明的是,本说明书中,将相对于另一方折射率高的折射率层称为高折射率层,将相对于另一方折射率低的折射率层称为低折射率层。
在本说明书中,“高折射率层”及“低折射率层”这样的术语是指在将相邻的2层的折射率差比较的情况下,将折射率高的折射率层设为高折射率层,将低的折射率层设为低折射率层。因此,“高折射率层”及“低折射率层”这样的术语在构成光学层叠膜的各折射率层中,在着眼于相邻的2个折射率层的情况下,包含各折射率层具有相同的折射率的方式以外的所有方式。
光学层叠膜具有将包含紫外光、红外光等的光进行反射的反射层,但优选的是,优选为具有至少主要将红外光进行反射的反射层的红外遮蔽膜。即,根据本发明的优选的样态,提供一种红外遮蔽膜,其为具有基材和至少反射光的反射层的红外遮蔽膜,其中,上述反射层具有层叠了的多个折射率层,上述折射率层的至少1个具有与相邻的折射率层不同的折射率,一个上述折射率层含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇。因此,以下,也有时将这些称为“光学层叠膜”或“红外遮蔽膜”。另外,以下对红外遮蔽膜进行说明,但也可适用于光学层叠膜。
[红外遮蔽膜]
根据本发明,提供膜柔软性及膜面均匀性优异、可见光透过率高、红外遮蔽性优异的红外遮蔽膜。
本方式的红外遮蔽膜,含有基材和至少一个由低折射率层和高折射率层构成的单元。另外,本发明的红外遮蔽膜,优选为具有将低折射率层和高折射率层交替层叠了的交替层叠体的方式。
在本发明中,红外遮蔽膜含有至少一个由折射率不同的两个层、即高折射率层和低折射率层构成的单元,高折射率层和低折射率层可如下考虑。例如在高折射率层和低折射率层分别含有金属氧化物粒子的情况下,有时低折射率层中所含的金属氧化物粒子(以下,称为“第1金属氧化物粒子”。)和高折射率层中所含的金属氧化物粒子(以下,称为“第2金属氧化物粒子”。)在两个层的界面处混合、形成含有第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的层。此时,根据第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的存在比来视作低折射率层或高折射率层。具体而言,所谓低折射率层是指相对于第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的合计质量、以50~100质量%含有第1金属氧化物粒子的层。所谓高折射率层是指相对于第1金属氧化物粒子和第2金属氧化物粒子的合计质量、以超过50质量%且100质量%以下含有第2金属氧化物粒子的层。需要说明的是,折射率层中所含的金属氧化物粒子的种类及量,可通过能量分散型X射线分光法(EDX)来分析。或者,可对层叠膜中的膜厚方向的金属氧化物浓度分布进行测定、根据其组成、可视作高折射率层或低折射率层。层叠膜的金属氧化物浓度分布,可以使用溅射法从表面向深度方向进行蚀刻,使用XPS表面分析装置而将最表面设为0nm,以0.5nm/min的速度进行溅射,测定原子组成比,由此进行观测。另外,在低折射率成分或高折射率成分中不含金属氧化物粒子、仅由有机粘结剂形成的层叠体中,也同样地通过有机粘结剂浓度分布,例如测定膜厚方向的碳浓度而由此确认混合区域的存在,进而,通过利用EDX测定其组成,可以将通过溅射而蚀刻了的各层视作高折射率层或低折射率层。作为XPS表面分析装置,没有特别限定,可以使用任何种类,使用了VG科技公司制ESCALAB-200R。X射线阳极使用Mg,以输出600W(加速电压15kV、放出电流40mA)进行测定。
一般而言,在红外遮蔽膜中,从能够以少的层数提高红外反射率的观点考虑,优选高地设计低折射率层和高折射率层的折射率之差。在本方式中,在由低折射率层及高折射率层构成的单元的至少一个中,相邻的低折射率层和高折射率层的折射率差优选为0.1以上,更优选为0.3以上,进一步优选为0.35以上,特别优选为0.4以上。在红外遮蔽膜具有多个高折射率层及低折射率层的单元的情况下,全部单元中的高折射率层和低折射率层的折射率差优选在上述优选的范围内。但是,关于最表层、最下层,也可以为上述优选的范围外的构成。另外,在本方式的红外遮蔽膜中,低折射率层的优选的折射率为1.10~1.60,更优选为1.30~1.50。另外,高折射率层的优选的折射率为1.80~2.50,更优选为1.90~2.20。
特定波长区域的反射率由相邻的2层的折射率差和层叠数确定,折射率之差越大,越能够以少的层数得到相同的反射率。关于该折射率差和需要的层数,可以使用市售的光学设计软件来计算。例如,为了得到红外反射率90%以上,如果折射率差小于0.1,则需要200层以上的层叠,不仅生产率降低,而且层叠界面处的散射变大,透明性降低,另外,没有故障地制造也变得非常困难。从反射率的提高和减少层数这样的观点考虑,折射率差没有上限,但实质上1.4左右为界限。
进而,作为本方式的红外遮蔽膜的光学特性,优选JIS R3106-1998所示的可见光区域的透过率为50%以上,优选为75%以上,更优选为85%以上,另外,优选在波长900nm~1400nm的区域具有反射率超过50%的区域。
本方式的红外遮蔽膜,只要具有在基材上含有至少一个由高折射率层和低折射率层构成的单元的构成即可。作为优选的高折射率层及低折射率层的层数,从上述的观点考虑,作为总层数的范围,为100层以下、即50单元以下,更优选为40层(20单元)以下,进一步优选为20层(10单元)以下。另外,本发明的红外遮蔽膜只要为层叠了至少一个上述单元的构成即可,例如也可以为层叠膜的最表层、最下层均为高折射率层或低折射率层的层叠膜。作为本发明的红外遮蔽膜,优选与基材相邻的最下层为低折射率层、最表层也为低折射率层的层构成。
本方式的红外遮蔽膜的整体的厚度,优选为12μm~315μm,更优选为15μm~200μm,进一步优选为20μm~100μm。另外,低折射率层的每1层的厚度优选为20~800nm,更优选为50~350nm。另一方面,高折射率层的每1层的厚度优选为20~800nm,更优选为50~350nm。
在本方式的红外遮蔽膜中,优选多个高折射率层中至少1层与其它层的厚度不同(全部的高折射率层不为相同的厚度)或多个低折射率层中至少1层的厚度不同(全部的低折射率层不为相同的厚度)。通过该构成,除可进一步提高与基材的密合性及涂布性外,也容易扩大或缩小进行反射的波长区域。
在此,构成反射层的折射率层中,与基材最近或者相接的最下层的折射率层,优选相对于最下层以外的折射率层(其它的折射率层)的平均厚度具有4~15倍的厚度。通过如此增厚最下层,可提高与基材的密合性,可实现良好的涂布性。在此,作为最下层的厚度相对于其它的折射率层的厚度(平均厚度:总厚/层数)的比例[=(最下层的厚度(nm))/(其它的折射率层的厚度(nm))],优选为4~15倍,更优选5~12倍。通过该构成,可进一步提高与基材的密合性及涂布性。另外,最下层具有一定的强度、同时可抑制涂布条纹等的产生。其结果,可防止红外遮蔽膜向基体的贴合的问题、裂纹的产生,也可以抑制红外遮蔽膜的可见光透过性及红外遮蔽性的降低。需要说明的是,所谓“其它的折射率层”,是指位于基材的设有最下层侧的最下层以外的全部的折射率层。因此,在与设有最下层的侧相反的侧形成了折射率层的情况下(在基材的两面形成了折射率层的情况下),设为该相反侧的折射率层不包含在“其它的折射率层”中。由于是最下层的厚度(膜厚)与构成反射层的其它的折射率层的平均厚度(平均膜厚)进行比较,因此有时其它的折射率层中包含比最下层厚的层。
红外遮蔽膜,出于附加进一步的功能的目的,可以在基材的下方或与基材相反侧的最表面层上具有一个以上导电性层、防静电层、气体阻隔层、易粘接层(粘接层)、防污层、除臭层、流滴层、易滑层、硬涂层、耐磨性层、防反射层、电磁波遮蔽层、紫外线吸收层、红外线吸收层、印刷层、荧光发光层、全息层、剥离层、压敏粘合层、粘接层、本发明的高折射率层及低折射率层以外的红外线阻断层(金属层、液晶层)、着色层(可见光线吸收层)、夹层玻璃中所利用的中间膜层等功能层。
接着,对本发明的红外遮蔽膜中的高折射率层及低折射率层的基本的构成概要进行说明。
[低折射率层]
本发明涉及的低折射率层,含有第1金属氧化物粒子和硅烷醇改性聚乙烯醇。另外,在本发明中,低折射率层优选含有粘结剂树脂,进而,也可以含有保护剂、固化剂、乳液树脂、各种其它的添加剂。
[硅烷醇改性聚乙烯醇]
作为本发明的低折射率层中所使用的硅烷醇改性聚乙烯醇,没有特别限制,可以为用公知的方法合成了的物质,也可以为市售品。作为硅烷醇改性聚乙烯醇的聚合度,通常为300~2,500,优选为500~1,700。另外,作为聚合度,也优选将上述聚合度的数值范围的任一下限值或后述的实施例中采用的聚合度的数值的任一者设为下限、将后述的实施例中采用的聚合度的数值的任一者设为上限的数值范围,也优选将上述聚合度的数值范围的任一上限值或后述的实施例中采用的聚合度的数值的任一者设为上限、将后述的实施例中采用的聚合度的数值的任一者设为下限的数值范围。如果聚合度为300以上,则涂敷层的强度高,如果为2,500以下,则涂布液的粘度不会变得过高,具有工序适应性,故优选。作为硅烷醇改性聚乙烯醇的改性率,通常为0.01~5mol%,优选为0.1~1mol%。如果改性率低于0.01mol%,则有时耐水性变差,如果超过5mol%,则有时与水的溶解性变差。其中,从耐划伤性、光泽痕迹的观点考虑,优选皂化度优选为95摩尔%以上、更优选为95.0~99.5摩尔%的硅烷醇改性聚乙烯醇。
硅烷醇改性聚乙烯醇的含量,相对于低折射率层的总固体成分100质量%,优选为3~40质量%,更优选为5~30质量%,特别优选为10~25质量%。如果为3质量%以上,则固定(セット)性变得良好,因此膜不易紊乱,雾度变得良好,如果为40质量%以下,则液体的稳定性良好而优选。
[第1金属氧化物粒子]
作为本发明的低折射率层中所使用的第1金属氧化物粒子,例如可以举出:氧化锌、合成非晶质二氧化硅、胶态二氧化硅等的二氧化硅、氧化铝、胶态氧化铝。在本发明中,为了调整折射率,第1金属氧化物可以为1种,也可以并用2种以上。
在本发明涉及的低折射率层中,作为第1金属氧化物粒子,优选使用二氧化硅,特别优选使用胶态二氧化硅。
本发明的低折射率层中所含的第1金属氧化物粒子(优选为二氧化硅),优选其平均粒径(个数平均)为3~100nm,更优选为3~50nm。
需要说明的是,本说明书中,金属氧化物微粒的平均粒径(个数平均),可用电子显微镜观察粒子本身或者在折射率层的剖面、表面出现的粒子,测定1,000个任意粒子的粒径,作为简单平均值(个数平均)求出。在此各个粒子的粒径,用假定了与其投影面积相等的圆时的直径来表示。
本发明中所使用的胶态二氧化硅,通过对硅酸钠的利用酸等的复分解、在离子交换树脂层中通过而得到的二氧化硅溶胶进行加热熟化而得到,例如为日本特开昭57-14091号公报、日本特开昭60-219083号公报、日本特开昭60-219084号公报、日本特开昭61-20792号公报、日本特开昭61-188183号公报、日本特开昭63-17807号公报、日本特开平4-93284号公报、日本特开平5-278324号公报、日本特开平6-92011号公报、日本特开平6-183134号公报、日本特开平6-297830号公报、日本特开平7-81214号公报、日本特开平7-101142号公报、日本特开平7-179029号公报、日本特开平7-137431号公报、及国际公开第94/26530号小册子等中所记载的胶态二氧化硅。
这样的胶态二氧化硅可以使用合成品,也可以使用市售品。作为市售品,可以举出:由日产化学工业(株)出售的スノーテックス系列(スノーテックスOS、OXS、S、OS、20、30、40、O、N、C等)。
胶态二氧化硅可以为对其表面进行了阳离子改性的物质,另外,也可以为用Al、Ca、Mg或Ba等进行了处理的物质。
低折射率层中的第1金属氧化物粒子的含量,相对于低折射率层的总固体成分100质量%,优选为20~75质量%,更优选为30~70质量%,进一步优选为35~69质量%,特别优选为40~68质量%。如果为20质量%以上,则可得到期望的折射率,如果为75质量%以下,则涂布性变得良好,优选。
在本发明的低折射率层中,第1金属氧化物粒子和硅烷醇改性聚乙烯醇,只要在多个存在的高折射率层的至少1层中含有即可。
[粘结剂树脂]
在本发明涉及的红外遮蔽膜中,低折射率层也可以含有硅烷醇改性聚乙烯醇以外的粘结剂树脂。作为粘结剂树脂,优选水溶性粘结剂树脂。是因为通过并用水溶性粘结剂树脂,可制作稳定的涂布液。
在本发明的低折射率层中,通过并用硅烷醇改性聚乙烯醇和粘结剂树脂(优选为未改性聚乙烯醇),低折射率层用涂布液的液体稳定性优异,其结果,涂布性优异,故优选。
需要说明的是,本说明书中,所谓粘结剂树脂,是指为金属氧化物粒子、硅烷醇改性聚乙烯醇等的被分散物的分散介质、且质均分子量为1,000~200,000(优选为3,000~60,000)的高分子化合物。另外,本发明中所谓的水溶性粘结剂树脂,是指在水溶性高分子化合物最溶解的温度下使其以0.5质量%的浓度溶解水时、用G2玻璃过滤器(最大细孔40~50μm)过滤的情况下所过滤分离的不溶物的质量为添加了的该水溶性高分子化合物的50质量%以内的水溶性高分子化合物(以下,也简称为“水溶性高分子”。)。
在以下,首先,对在本方式涉及的红外遮蔽膜中、在低折射率层的至少1层中作为粘结剂树脂而优选使用的聚乙烯醇进行说明。
本发明中优选使用的聚乙烯醇中,除对聚乙酸乙烯酯进行水解而得到的通常的聚乙烯醇(未改性聚乙烯醇)以外,也包含对末端进行了阳离子改性的聚乙烯醇、具有阴离子性基团的阴离子改性聚乙烯醇等的改性聚乙烯醇。
对乙酸乙烯酯进行水解而得到的聚乙烯醇(未改性聚乙烯醇)的平均聚合度优选为500~5,000,更优选为1,000~5,000,特别优选使用1,500~5,000的聚乙烯醇,最优选使用2,000~4,000的聚乙烯醇。即,作为本发明的优选的方式,低折射率层进一步含有聚合度为1500~5000的未改性聚乙烯醇。是因为如果未改性聚乙烯醇的聚合度为1,500以上,则涂布膜的柔软性良好,如果为5,000以下,则涂布液稳定。进而,如果聚合度为2000以上,则涂布膜没有裂纹,雾度良好,优选。另外,皂化度优选70~100摩尔%,特别优选80~99.5摩尔%。
作为阳离子改性聚乙烯醇,例如为:如日本特开昭61-10483号公报中所记载那样的在上述聚乙烯醇的主链或侧链中具有伯~叔氨基、季铵基的聚乙烯醇,通过对具有阳离子性基团的烯属不饱和单体和乙酸乙烯酯的共聚物进行皂化来得到。
作为具有阳离子性基团的烯属不饱和单体,例如可以举出:三甲基-(2-丙烯酰氨基-2,2-二甲基乙基)氯化铵、三甲基-(3-丙烯酰氨基-3,3-二甲基丙基)氯化铵、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基-2-甲基咪唑、N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺、羟乙基三甲基氯化铵、三甲基-(2-甲基丙烯酰氨基丙基)氯化铵、N-(1,1-二甲基-3-二甲基氨基丙基)丙烯酰胺等。阳离子改性聚乙烯醇的含阳离子改性基团单体的比率,相对于乙酸乙烯酯为0.1~10摩尔%,优选为0.2~5摩尔%。
对阴离子改性聚乙烯醇而言,例如可以举出:如日本特开平1-206088号公报中所记载那样的具有阴离子性基团的聚乙烯醇、如日本特开昭61-237681号公报及日本特开昭63-307979号公报中所记载那样的乙烯醇和具有水溶性基团的乙烯基化合物的共聚物及如日本特开平7-285265号公报中所记载那样的具有水溶性基团的改性聚乙烯醇。
另外,作为非离子改性聚乙烯醇,例如可以举出:如日本特开平7-9758号公报中所记载那样的将聚环氧烷烃基团加成于乙烯醇的一部分了的聚乙烯醇衍生物、如日本特开平8-25795号公报中所记载那样的具有疏水性基团的乙烯基化合物和乙烯醇的嵌段共聚物等。聚乙烯醇也可以并用聚合度、改性的种类不同等的二种以上。
在本发明中,粘结剂树脂,相对于低折射率层的总固体成分100质量%,优选以5.0~50质量%的范围含有,更优选10质量~40质量%,进一步优选14~30质量%。如果水溶性高分子小于5.0质量%,则在涂布了折射率层后的干燥时,膜面紊乱而透明性变差的倾向变大。另一方面,如果含量为50质量%以下,则相对的金属氧化物的含量适当,容易增大高折射率层和低折射率层的折射率差。
[保护剂]
在本发明的一实施方式中,低折射率层优选含有至少2种水溶性树脂。此时,优选至少1种被覆(也称为保护)第1金属氧化物粒子,另1种作为粘结剂树脂来发挥作用。以下,对被覆(保护)第1金属氧化物粒子的水溶性树脂进行说明。需要说明的是,该水溶性树脂具有用于容易使金属氧化物粒子分散于溶剂的作用,以下,称为“保护剂”。
作为保护剂,优选聚合度为100~700、更优选为200~500的水溶性树脂,从将金属氧化物微粒稳定化的观点考虑,优选。另外,从吸附性的观点考虑,优选聚乙烯醇,但从透明性及稳定化的观点考虑,进一步优选为改性聚乙烯醇。进而,聚乙烯醇的皂化度,优选为95摩尔%以上、更优选为98~99.5摩尔%时,对粒子的吸附性强,优选。对于聚乙烯醇,在粘结剂树脂中进行了说明,因此省略。
在本发明中,保护剂,相对于金属氧化物粒子100质量%,优选以0.1~30质量%的范围含有,更优选0.5质量~20质量%,进一步优选1~10质量%。通过在上述范围含有保护剂,低折射率层用涂布液的液体稳定性优异、涂布性稳定,故优选。
[固化剂]
本发明的低折射率层,也可以含有固化剂。是因为固化剂可以与硅烷醇改性聚乙烯醇反应而形成氢键的网络。另外,在使用聚乙烯醇作为粘结剂树脂的情况下,可特别发挥其效果。
在本发明中,作为可以与硅烷醇改性聚乙烯醇及/或聚乙烯醇(未改性聚乙烯醇)一同使用的固化剂,只要与聚乙烯醇引起固化反应就没有特别限制,优选选自由硼酸、硼酸盐、及硼砂构成的组。除硼酸、硼酸盐、及硼砂以外还可以使用公知的物质,一般而言为具有可与聚乙烯醇反应的基团的化合物或者促进聚乙烯醇所具有的不同的基团彼此的反应这样的化合物,可适宜选择使用。作为固化剂的具体例,例如可以举出:环氧系固化剂(二缩水甘油基乙基醚、乙二醇二缩水甘油基醚、1,4-丁二醇二缩水甘油基醚、1,6-二缩水甘油基环己烷、N,N-二缩水甘油基-4-缩水甘油氧基苯胺、山梨糖醇多缩水甘油基醚、甘油多缩水甘油基醚等)、醛系固化剂(甲醛、乙二醛等)、活性卤素系固化剂(2,4-二氯-4-羟基-1,3,5-均三嗪等)、活性乙烯基系化合物(1,3,5-三丙烯酰基-六氢-均三嗪、双乙烯基磺酰基甲基醚等)、铝明矾等。
所谓硼酸或硼酸盐,是指以硼原子为中心原子的含氧酸及其盐,具体而言,可以举出:原硼酸、二硼酸、偏硼酸、四硼酸、五硼酸及八硼酸及它们的盐。
所谓硼砂,为由Na2B4O5(OH)4·8H2O(四硼酸钠Na2B4O7的十水合物)所示的矿物。
作为固化剂的具有硼原子的硼酸、硼酸盐、及硼砂,可以为单独的水溶液,另外,也可以混合2种以上而使用。特别优选为硼酸和硼砂的混合水溶液。
硼酸和硼砂的水溶液,可以分别仅以较稀水溶液添加,但可以通过混合两者而形成浓的水溶液,可以对涂布液进行浓缩。另外,具有可以将添加的水溶液的pH较自由地进行控制的优点。
在本发明中,使用硼酸及其盐以及/或硼砂,为了得到本发明的效果,优选。即,在本发明中,低折射率层或高折射率层的至少1层优选含有选自由硼酸、硼酸盐、及硼砂构成的组中的至少1种以上的硼化合物。认为在使用了硼酸及其盐以及/或硼砂的情况下,金属氧化物粒子和作为水溶性粘结剂树脂的聚乙烯醇的OH基形成氢键网络,作为其结果,高折射率层和低折射率层的层间混合受到抑制、实现优选的红外遮蔽特性。特别是在使用了用涂布机涂布高折射率层和低折射率层的多层叠层后、暂时将涂膜的膜面温度冷却至15℃左右后、使膜面干燥的固定系涂布工艺的情况下,可以更优选地表现出效果。
上述固化剂的总使用量,每硅烷醇改性聚乙烯醇1g优选1~600mg,更优选100~600mg。需要说明的是,在使用了聚乙烯醇作为粘结剂树脂的情况下,固化剂以相对于硅烷醇改性聚乙烯醇和粘结剂树脂(聚乙烯醇)的合计量的量来使用。
[乳液树脂]
本发明的低折射率层,也可以进一步含有乳液树脂。通过含有乳液树脂,膜的柔软性变高,对玻璃的贴附等的加工性变好。
所谓乳液树脂,为在水系介质中微细的、例如平均粒径为0.01~2.0μm左右的树脂粒子以乳液状态分散的树脂,使用具有羟基的高分子分散剂对油溶性的单体进行乳液聚合来得到。未发现由于使用的分散剂的种类、得到的乳液树脂的聚合物成分基本不同。作为乳液的聚合时所使用的分散剂,例如除烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、二乙胺、乙二胺、季铵盐这样的低分子的分散剂以外,可以举出:聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯月桂酸醚、羟乙基纤维素、聚乙烯基吡咯烷酮这样的高分子分散剂。如果使用具有羟基的高分子分散剂来进行乳液聚合,则推定在微细的微粒的至少表面存在羟基,与使用其它的分散剂聚合了的乳液树脂相比,乳液的化学、物理性质不同。
所谓含有羟基的高分子分散剂,为重均分子量10000以上的高分子的分散剂,在侧链或末端取代有羟基,可以例如举出:用聚丙烯酸钠、聚丙烯酰胺这样的丙烯酸系的高分子将丙烯酸2-乙基己酯共聚而成的物质、聚乙二醇、聚丙二醇这样的聚醚、聚乙烯醇等,特别优选聚乙烯醇。
作为高分子分散剂而使用的聚乙烯醇,除水解聚乙酸乙烯酯而得到的通常的聚乙烯醇以外,也包含阳离子改性的聚乙烯醇、具有羧基之类的阴离子性基团的阴离子改性聚乙烯醇、具有甲硅烷基的甲硅烷基改性聚乙烯醇等的改性聚乙烯醇。对聚乙烯醇而言,平均聚合度高时抑制形成墨吸收层时的裂纹的产生的效果大,但如果平均聚合度为5000以内,则乳液树脂的粘度不高、在制造时容易操作。因此,平均聚合度优选300~5000,更优选1500~5000,特别优选3000~4500。聚乙烯醇的皂化度优选70~100摩尔%,更优选80~99.5摩尔%。
作为用上述的高分子分散剂进行乳液聚合的树脂,可以举出:丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基系化合物、苯乙烯系化合物这样的乙烯系单体、丁二烯、异戊二烯这样的二烯系化合物的均聚物或共聚物,可以举出例如丙烯酸系树脂、苯乙烯-丁二烯系树脂、乙烯-乙酸乙烯酯系树脂等。
[其它的添加剂]
此外,低折射率层例如也可以含有日本特开昭57-74193号公报、日本特开昭57-87988号公报及日本特开昭62-261476号公报中记载的紫外线吸收剂、日本特开昭57-74192号公报、日本特开昭57-87989号公报、日本特开昭60-72785号公报、日本特开昭61-146591号公报、日本特开平1-95091号公报及日本特开平3-13376号公报等中所记载的防褪色剂、阴离子、阳离子或非离子的各种表面活性剂、日本特开昭59-42993号公报、日本特开昭59-52689号公报、日本特开昭62-280069号公报、日本特开昭61-242871号公报及日本特开平4-219266号公报等中所记载的荧光增白剂、硫酸、磷酸、乙酸、柠檬酸、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾等的pH调节剂、消泡剂、二乙二醇等的润滑剂、防腐剂、防静电剂、消光剂等的公知的各种添加剂。
[高折射率层]
在本发明中,高折射率层优选含有第2金属氧化物粒子或粘结剂树脂,更优选含有第2金属氧化物粒子及粘结剂树脂。另外,在本发明中,高折射率层也可以进一步含有保护剂、固化剂、乳液树脂、各种其它的添加剂。
另外,在本发明中,高折射率层优选含有硅烷醇改性聚乙烯醇。高折射率层和低折射率层中所使用的硅烷醇改性聚乙烯醇可以相同,也可以不同,但如果在高折射率层和低折射率层这两层中使用硅烷醇改性聚乙烯醇,则雾度变得良好,膜的透明性上升,故优选。另外,如果在两层中含有相同的硅烷醇改性聚乙烯醇,则涂布性变得良好,故优选。需要说明的是,在高折射率层中可含有的硅烷醇改性聚乙烯醇,可应用与低折射率层同样的。
在高折射率层中含有硅烷醇改性聚乙烯醇的情况下,其含量,相对于高折射率层的总固体成分100质量%,优选为1~40质量%,更优选为2~30质量%,特别优选为3~25质量%。如果为1质量%以上,则固定性变得良好,因此膜不易紊乱,雾度变得良好,如果为40质量%以下,则液体的稳定性良好,优选。
[第2金属氧化物粒子]
本发明的高折射率层,优选含有第2金属氧化物粒子。在高折射率层中可含有的第2金属氧化物粒子,优选为与低折射率层不同的金属氧化物粒子。
作为本发明涉及的高折射率层中可使用的金属氧化物粒子,例如可以举出:氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、胶态氧化铝、氧化铌、氧化铕、锆石。在本发明中,为了调整折射率,第2金属氧化物可以为1种,也可以并用2种以上。
在本发明中,为了形成透明且折射率更高的高折射率层,高折射率层优选含有氧化钛、氧化锆等的具有高折射率的金属氧化物粒子、即氧化钛粒子、氧化锆粒子。另外,作为氧化钛粒子,可以为金红石型(正方晶形)或锐钛矿型的任意的氧化钛,但高折射率层优选含有金红石型(正方晶形)氧化钛粒子。另外,更优选含有体积平均粒径为100nm以下的金红石型(正方晶形)氧化钛粒子。另外,也可以混合多种氧化钛粒子。
另外,低折射率层中所含的第1金属氧化物粒子和高折射率层中所含的第2金属氧化物粒子,优选形成为离子性一致的状态(即,电荷为相同符号)。是因为例如在同时叠层涂布的情况下如果离子性不同、则在界面发生反应、形成凝聚物、雾度变差。作为使离子性一致的方法,例如在低折射率层中使用二氧化硅(阴离子)、高折射率层中使用氧化钛(阳离子)的情况下,可以用铝等对二氧化硅进行处理而阳离子化、或者如后所述用含硅的水合氧化物对氧化钛进行处理而阴离子化。
本发明的高折射率层中所含的第2金属氧化物粒子,优选其平均粒径(个数平均)为3~100nm,更优选为3~50nm。
作为高折射率层中的金属氧化物粒子的含量,相对于高折射率层的总固体成分100质量%,优选为15~85质量%,更优选为20~80质量%,进一步优选为30~75质量%。通过设为上述范围,可以形成红外遮蔽性良好的层。
作为本发明的氧化钛粒子,优选使用对水系的氧化钛溶胶的表面进行改性而形成为可分散于有机溶剂等的状态的粒子。
作为水系的氧化钛溶胶的制备方法,例如可参照日本特开昭63-17221号公报、日本特开平7-819号公报、日本特开平9-165218号公报、日本特开平11-43327号公报、日本特开昭63-17221号公报等中所记载的事项。
在使用氧化钛粒子作为第2金属氧化物粒子的情况下,对于氧化钛粒子的其它的制造方法,例如可以参考“酸化チタンー物性と応用技術”清野学p255~258(2000年)技報堂出版株式会社、或WO2007/039953号说明书的段落编号0011~0023中记载的工序(2)的方法。
所谓利用上述工序(2)的制造方法,包含在将二氧化钛水合物用选自由碱金属的氢氧化物或碱土金属的氢氧化物构成的组中的至少1种碱性化合物进行处理的工序(1)之后、将得到的二氧化钛分散物用含羧酸基化合物及无机酸进行处理的工序(2)。
另外,本发明的第2金属氧化物粒子,优选将氧化钛粒子用含硅的水合氧化物被覆了的核壳粒子的方式。作为核壳粒子,为如下结构:作为核的部分的氧化钛粒子的体积平均粒径优选为超过1nm且低于30nm,更优选为4nm以上且低于30nm,由包含含硅的水合氧化物的壳以相对于成为核的氧化钛100质量%、含硅的水合氧化物的被覆量以SiO2计为3~30质量%地将该氧化钛粒子的表面被覆而成的结构。在本发明中,通过含有核壳粒子作为第2金属氧化物粒子,通过壳层的含硅的水合氧化物和粘结剂树脂的相互作用,发挥将高折射率层和低折射率层的层间混合进行抑制的效果。
本说明书中的含硅的水合氧化物,可以为无机硅化合物的水合物、有机硅化合物的水解物及/或缩合物中的任一种,为了得到本申请的发明效果,更优选具有硅烷醇基。因此,在本发明中,作为第2金属氧化物粒子,优选为将氧化钛粒子进行了二氧化硅改性的二氧化硅改性(硅烷醇改性)氧化钛粒子。
氧化钛的含硅的水和化合物的被覆量,相对于氧化钛100质量%为3~30质量%,优选为3~10质量%,更优选为3~8质量%。是因为如果被覆量为30质量%以下,则可得到高折射率层的期望的折射率化,如果被覆量为3%以上,则可稳定地形成粒子。
另外,作为本发明的第2金属氧化物粒子,也可以使用通过公知的方法而制造了的核壳粒子。例如可以举出通过以下的(i)~(iv)的方法而制造了的核壳粒子:(i)将含有氧化钛粒子的水溶液加热水解、或在含有氧化钛粒子的水溶液添加碱、进行中和,得到平均粒径为1~30nm的氧化钛后,以摩尔比来表示则氧化钛粒子/无机酸为1/0.5~1/2的范围地在50℃以上且该浆料的沸点以下的温度下对混合了上述氧化钛粒子和无机酸而成的浆料进行加热处理,然后在得到的含有氧化钛粒子的浆料中添加硅的化合物(例如硅酸钠水溶液),使硅的含水氧化物在氧化钛粒子的表面析出而进行表面处理,接着,从得到的表面处理了的氧化钛粒子的浆料中除去杂质的方法(日本特开平10-158015号);(ii)通过常法将在用一元酸或其盐对含水氧化钛等的氧化钛进行解胶处理而得到的酸性范围的pH下稳定的氧化钛溶胶和作为分散稳定化剂的烷基硅酸酯进行混合、进行中性化的方法(日本特开2000-053421号);(iii)将过氧化氢及金属锡一边保持为2~3的H2O2/Sn摩尔比一边同时或交替地添加至钛盐(例如四氯化钛)等的混合物水溶液,生成含有钛的碱性盐水溶液,在50~100℃的温度下保持该碱性盐水溶液0.1~100小时,生成含有氧化钛的复合物胶体的凝聚体,接着,除去该凝聚体浆料中的电解质,制造含有氧化钛的复合物胶体粒子的稳定的水性溶胶。另一方面,制备含有硅酸盐(例如硅酸钠水溶液)等的水溶液、除去存在于水溶液中的阳离子,由此制造含有二氧化硅的复合物胶体粒子的稳定的水性溶胶。将换算为金属氧化物TiO2为100质量份的得到的含有氧化钛的复合物水性溶胶和换算为金属氧化物SiO2为2~100质量份的得到的含有二氧化硅的复合物水性溶胶进行混合,除去阴离子后,在80℃下加热熟化1小时的方法(日本特开2000-063119号);(iv)在含水钛酸的凝胶或溶胶中加入过氧化氢而溶解含水钛酸,在得到的过氧钛酸水溶液中添加硅化合物等,进行加热,得到包含采用金红石型结构的复合固溶体氧化物的核粒子的分散液,接着,在该核粒子的分散液中添加硅化合物等后,进行加热,在核粒子表面形成被覆层,得到分散了复合氧化物粒子的溶胶,再进行加热的方法(日本特开2000-204301号);(v)在对含水氧化钛解胶而得到的氧化钛的水溶胶中添加作为稳定剂的选自有机烷氧基硅烷(R1nSiX4-n)或过氧化氢及脂肪族或者芳香族羟基羧酸的化合物,将溶液的pH调节为3以上且低于9,使其熟化后,进行脱盐处理的方法(日本特开4550753号)。
本发明涉及的核壳粒子,可以为用含硅的水合氧化物被覆作为核的氧化钛粒子的整个表面的粒子,另外,也可以为用含硅的水合氧化物被覆作为核的氧化钛粒子的表面的一部分的粒子。
[粘结剂树脂]
在本发明的红外遮蔽膜中,高折射率层优选含有粘结剂树脂,更优选含有水溶性粘结剂树脂。是因为通过使用水溶性粘结剂树脂可制作稳定的涂布液。而且,高折射率层的至少1层中优选含有聚乙烯醇作为粘结剂树脂。需要说明的是,高折射率层和低折射率层中所使用的水溶性粘结剂树脂可以相同,也可以不同。
对于高折射率层中所使用的粘结剂树脂,也可应用与低折射率层同样的树脂,因此,在此省略。
高折射率层中的粘结剂树脂的含量,相对于高折射率层的总固体成分100质量%,优选为3~70质量%,更优选为5~60质量%,进一步优选为10~50质量%,特别优选为15~45质量%。
[保护剂]
在本发明的一实施方式中,高折射率层优选含有至少2种水溶性树脂。此时,优选至少1种被覆(也称为保护)第2金属氧化物粒子,另1种作为粘结剂树脂发挥作用。关于被覆第2金属氧化物粒子的水溶性树脂,称为“保护剂”。
作为保护剂,可使用与低折射率层中说明的物质同样的物质。
在本发明中,保护剂优选相对于金属氧化物粒子100质量%以0.1~30质量%的范围含有,更优选0.5质量~20质量%,进一步优选1~10质量%。通过在上述范围含有保护剂,高折射率层用涂布液的液体稳定性优异,涂布性稳定,故优选。
[固化剂]
本发明的高折射率层也可以含有固化剂。这是因为在使用聚乙烯醇作为粘结剂树脂的情况下,固化剂可以与聚乙烯醇反应而形成氢键的网络。另外,关于高折射率层中所使用的固化剂,可应用与低折射率层同样的物质,因此在此省略。
高折射率层中的固化剂的总使用量优选相对于聚乙烯醇1g为1~600mg,更优选100~600mg。另外,在使用硅烷醇改性聚乙烯醇的情况下,固化剂以相对于硅烷醇改性聚乙烯醇和粘结剂树脂(聚乙烯醇)的合计量的量使用。
[乳液树脂、其它的添加剂]
本发明的高折射率层也可以含有乳液树脂、其它的添加剂。另外,关于高折射率层中所使用的乳液树脂、其它的添加剂,可应用与低折射率层同样的物质,因此,在此省略。
[基材]
作为本发明的红外遮蔽膜中所使用的基材,只要为由透明的有机材料形成的基材就没有特别限定。
作为这样的基材,例如可以举出:由甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯、聚苯乙烯(PS)、芳香族聚酰胺、聚醚醚酮、聚砜、聚醚砜、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等树脂构成的膜、以及将上述树脂层叠二层以上而成的树脂膜等。从成本、获得的容易性的方面考虑,可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等。
基材的厚度优选5~200μm左右,进一步优选为15~150μm。基材可以重叠2片以上,此时,基材的种类可以相同,也可以不同。
另外,对基材而言,作为JIS R3106-1998所示的可见光区域的透过率,优选为85%以上,特别优选为90%以上。通过基材为上述透过率以上,在使制成红外遮蔽膜时的JIS R3106-1998所示的可见光区域的透过率为50%以上这样的方面有利,是优选的。
另外,使用上述树脂等的基材可以为未拉伸膜,也可以为拉伸膜。从提高强度、抑制热膨胀的方面考虑,优选拉伸膜。
基材可通过现有公知的一般的方法制造。例如可以通过利用挤出机熔融作为材料的树脂,通过环状模头、T模头挤出并骤冷,制造实质上无定形且未取向的未拉伸的基材。另外,可以通过利用单轴拉伸、拉幅机式逐次双轴拉伸、拉幅机式同时双轴拉伸、管式同时双轴拉伸等公知的方法沿基材的流动(纵轴)方向、或与基材的流动方向垂直(横轴)的方向拉伸未拉伸的基材来制造拉伸基材。此时的拉伸倍率可以根据作为基材的原材料的树脂适宜选择,纵轴方向及横轴方向分别优选2~10倍。
另外,从尺寸稳定性的方面考虑,基材可以进行松弛处理、离线热处理。松弛处理优选在上述聚酯膜的拉伸制膜工序中的热固定后直到横拉伸的拉幅机内或离开拉幅机后的卷绕的工序中进行。松弛处理优选在处理温度80~200℃下进行,更优选处理温度为100~180℃。另外,长度方向、宽度方向均优选在松弛率0.1~10%的范围内进行,更优选在松弛率2~6%的范围进行处理。松弛处理了的基材通过实施下述的离线热处理使耐热性提高,进而,尺寸稳定性变得良好。
基材优选在制膜过程中在单面或两面在线涂布底涂层涂布液。在本发明中,将制膜工序中的底涂涂布称为在线底涂。作为对本发明有用的底涂层涂布液中使用的树脂,可以举出:聚酯树脂、丙烯酸改性聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸类树脂、乙烯基树脂、偏二氯乙烯树脂、聚乙烯亚胺亚乙烯基树脂、聚乙烯亚胺树脂、聚乙烯醇树脂、改性聚乙烯醇树脂及明胶等,可以优选使用任一者。也可以在这些底涂层中加入现有公知的添加剂。而且,上述的底涂层可以通过辊涂、凹版涂布、刀涂、浸涂、喷涂等公知的方法涂布。作为上述的底涂层的涂布量,优选0.01~2g/m2(干燥状态)左右。
[红外遮蔽膜的制造方法]
本发明的红外遮蔽膜的制造方法没有特别限制,只要可在基材上形成至少一个由高折射率层和低折射率层构成的单元就可以使用任何方法。
在本发明的红外遮蔽膜的制造方法中,在基材上层叠由高折射率层和低折射率层构成的单元而形成,例如交替涂布高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液并干燥而形成层叠体。即,可通过含有将含有金属氧化物粒子、硅烷醇改性聚乙烯醇、粘结剂树脂和水系溶剂的低折射率层用涂布液和含有粘结剂树脂和水系溶剂的高折射率层用涂布液涂布于基材的工序和将涂布有涂布液的上述基材干燥的工序的红外遮蔽膜的制造方法来得到。
具体而言,优选交替涂布高折射率层和低折射率层并干燥而形成层叠体。具体而言,可举出以下的方式;(1)在基材上涂布高折射率层用涂布液并干燥而形成高折射率层后,涂布低折射率层用涂布液并干燥而形成低折射率层,形成红外遮蔽膜的方法;(2)在基材上涂布低折射率层用涂布液并干燥而形成低折射率层后,涂布高折射率层用涂布液并干燥而形成高折射率层,形成红外遮蔽膜的方法;(3)在基材上交替逐次叠层涂布高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液后进行干燥,形成含有高折射率层、及低折射率层的红外遮蔽膜的方法;(4)在基材上同时叠层涂布高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液并干燥,形成含有高折射率层、及低折射率层的红外遮蔽膜的方法等。其中,优选为更简便的制造工序的上述(4)的方法。
(涂布液的制备方法)
首先,对高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的制备方法进行说明。
高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的制备方法没有特别限制,例如可以举出:添加金属氧化物粒子、粘结剂树脂(在低折射率层用涂布液的情况下,含有改性聚乙烯醇,在高折射率层用涂布液的情况下,有时含有改性聚乙烯醇)、及根据需要添加的其它的添加剂,进行搅拌混合的方法。此时,各成分的添加顺序也没有特别限制,可以一边搅拌一边依次添加各成分进行混合,也可以一边搅拌一边一次添加进行混合。可根据需要进一步使用溶剂制备成适当的粘度。
另外,第2金属氧化物粒子优选在制备涂布液之前,使用另行制备成分散液的状态的物质。即,优选使用添加体积平均粒径为100nm以下的金红石型的氧化钛并分散而制备的水系的高折射率层用涂布液来形成高折射率层。进而,在本发明中,更优选通过上述的方法使用添加用含硅的水合氧化物被覆而成的氧化钛粒子并分散而制备的水系的高折射率层涂布液来形成高折射率层。在使用分散液的情况下,只要在各层中以成为任意的浓度的方式适宜添加分散液即可。
用于制备高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的溶剂没有特别限制,优选水、有机溶剂、或其混合溶剂。
作为上述有机溶剂,例如可以举出:甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇类、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等酯类、二乙基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等醚类、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类、丙酮、甲基乙基酮、乙酰丙酮、环己酮等酮类等。这些有机溶剂可以单独使用或混合2种以上而使用。从环境方面、操作的简便性等考虑,作为涂布液的溶剂,特别优选水或水和甲醇、乙醇、或者乙酸乙酯的混合溶剂,更优选水。
另外,作为低折射率层用涂布液及高折射率层用涂布液,从可在涂布后使涂膜固定而抑制层间的混合这样的方面考虑,优选使用以聚乙烯醇等水溶性树脂和水或者在水中含有水溶性有机溶剂的水系溶剂作为主要成分的水系涂布液。
高折射率层用涂布液中的粘结剂树脂的浓度优选为0.5~10质量%。另外,高折射率层用涂布液中的金属氧化物粒子的浓度优选为1~50质量%。
低折射率层用涂布液中的粘结剂树脂的浓度优选为0.5~10质量%。另外,低折射率层用涂布液中的金属氧化物粒子的浓度优选为1~50质量%。低折射率层用涂布液中的改性聚乙烯醇的浓度优选为0.1~10质量%。
作为进行同时叠层涂布时的高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液的粘度,在使用滑动珠涂布方式的情况下,45℃下的粘度优选5~100mPa·s的范围,进一步优选为10~50mPa·s的范围。另外,在使用幕涂方式的情况下,45℃下的粘度优选5~1200mPa·s的范围,进一步优选为25~500mPa·s的范围。
另外,作为涂布液的15℃下的粘度,优选100mPa·s以上,更优选100~30,000mPa·s,进一步优选为3,000~30,000mPa·s,最优选为10,000~30,000mPa·s。
作为涂布及干燥方法,优选将高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液加温至30℃以上,进行涂布,然后,将形成的涂膜的温度暂时冷却至1~15℃,在10℃以上干燥,更优选作为干燥条件,在湿球温度5~50℃、膜面温度10~50℃的范围的条件下进行。另外,从所形成的涂膜均匀性的观点考虑,作为刚涂布后的冷却方式,优选以水平固定方式进行。
作为涂布方式,例如可优选使用辊涂法、棒涂法、气刀涂布法、喷涂法、幕涂法、或者美国专利第2,761,419号、美国专利第2,761,791号公报中记载的使用料斗的滑动珠涂布方法、挤出涂布法等。
(涂布及干燥方法)
涂布及干燥方法的条件没有特别限制,例如在逐次涂布法的情况下,首先,在基材上涂布加温为30~60℃的高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的任一者、干燥而形成层后,将另一者的涂布液涂布在该层上、干燥而形成层叠膜前体(单元)。接着,用上述方法逐次涂布为了表现出期望的红外遮蔽性能而需要的单元数、干燥进行层叠而得到层叠膜前体。在干燥时,优选在30℃以上对形成了的涂膜进行干燥。例如优选在湿球温度5~50℃、膜面温度30~100℃(优选为10~50℃)的范围进行干燥,例如吹40~60℃的暖风1~5秒来进行干燥。作为干燥方法,可使用暖风干燥、红外干燥、微波干燥。另外,与以单一工艺的干燥相比,优选多级工艺的干燥,更优选设为等速干燥部的温度<减速干燥部的温度。此时的等速干燥部的温度范围优选设为30~60℃、减速干燥部的温度范围优选设为50~100℃。
另外,进行同时叠层涂布的情况下的涂布及干燥方法的条件,优选:将高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液加温至30~60℃,在基材上进行了高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的同时叠层涂布后,将形成了的涂膜的温度优选暂时冷却(固定)至1~15℃,然后在10℃以上进行干燥。更优选的干燥条件为湿球温度5~50℃、膜面温度10~50℃的范围的条件。例如吹80℃的暖风1~5秒来进行干燥。另外,作为刚涂布后的冷却方式,从形成了的涂膜的均匀性提高的观点考虑,优先以水平固定方式进行。
在此,所谓的上述固定,是指通过向涂膜吹冷风等来降低温度等的手段,提高涂膜组合物的粘度、使各层间及各层内的物质的流动性降低或凝胶化的工序。将从表面向涂布膜吹冷风而将手指推压至涂布膜的表面时对手指没有任何发粘的状态定义为固定结束的状态。
从涂布了的时刻开始到吹冷风而使固定结束为止的时间(固定时间),优选为5分钟以内,更优选为2分钟以内。另外,下限的时间没有特别限定,但优选采用45秒以上的时间。如果固定时间过短,则担心层中的成分的混合不充分。另一方面,如果固定时间过长,则恐怕进行金属氧化物微粒的层间扩散、高折射率层和低折射率层的折射率差变得不充分。需要说明的是,如果迅速地引起高折射率层和低折射率层之间的中间层的高弹性化,则也可以不设置进行固定的工序。
固定时间的调整,可以通过调整水溶性高分子(粘结剂树脂)的浓度、金属氧化物粒子的浓度、或添加明胶、果胶、琼脂、卡拉胶、结冷胶等的各种公知的凝胶化剂等其它的成分来调整。
冷风的温度,优选为0~25℃,更优选为5~10℃。另外,涂膜暴露于冷风的时间,也取决于涂膜的输送速度,但优选为10~360秒,更优选为10~300秒,进一步优选为10~120秒。
高折射率层用涂布液及低折射率层用涂布液的涂布厚,只要以成为上述所示那样的优选的干燥时的厚度地进行涂布即可。
[红外遮蔽体]
通过本发明提供的红外遮蔽膜,可以应用于范围广阔的领域。例如,主要出于提高耐候性的目的而作为贴合于建筑物的室外的窗、车窗等长时间暴露于太阳光的设备、赋予红外遮蔽效果的红外遮蔽膜等的窗贴用膜、农业用塑料大棚用膜等来使用。
特别是本发明涉及的红外遮蔽膜,适于直接或经由粘接剂而贴合于玻璃或替代玻璃的树脂等的基体的部件。
即,根据本发明的进一步的又一方式,也提供在基体的至少一面设有本发明涉及的红外遮蔽膜(光学层叠膜)的红外遮蔽体。
作为上述基体的具体的例子,例如可以举出:玻璃、聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、丙烯酸类树脂、聚烯烃树脂、聚醚树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚硫醚树脂、不饱和聚酯树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、苯二甲酸二烯丙酯树脂、聚酰亚胺树脂、氨基甲酸酯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇树脂、苯乙烯树脂、氯乙烯树脂、金属板、陶瓷等。树脂的种类,可以为热塑性树脂、热固性树脂、电离放射线固化性树脂中的任一者,也可以组合使用2种以上这些树脂。本发明中可使用的基体,可以用挤出成形、压延成形、注射成形、中空成形、压缩成形等公知的方法来制造。基体的厚度没有特别限制,但通常为0.1mm~5cm。
使红外遮蔽膜和基体贴合的粘接层或压敏粘合层,优选在日光(热线)入射面侧设置红外遮蔽膜。另外,如果将本发明涉及的红外遮蔽膜夹持在窗玻璃和基体之间,则可自水分等的周围的气体进行密封,耐久性优异,故优选。即使将本发明涉及的红外遮蔽膜设置在室外、车的外侧(外贴用)也具有环境耐久性,优选。
作为可应用于本发明的粘接剂,可以使用以光固性或者热固性的树脂作为主要成分的粘接剂。
粘接剂优选对于紫外线具有耐久性,优选丙烯酸系压敏粘合剂或有机硅系压敏粘合剂。进而,从压敏粘合特性、成本的观点考虑,优选丙烯酸系压敏粘合剂。特别是从剥离强度的控制容易的方面考虑,在丙烯酸系压敏粘合剂中,优选溶剂系。在使用溶液聚合聚合物作为丙烯酸溶剂系压敏粘合剂的情况下,作为其单体,可以使用公知的单体。
另外,也可以使用作为夹层玻璃的中间层而使用的聚乙烯醇缩丁醛系树脂或者乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系树脂。具体而言为可塑性聚乙烯醇缩丁醛(积水化学工业公司制、三菱モンサント公司制等)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(杜邦公司制、武田药品工业公司制、デュラミン)、改性乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(东ソー公司制、メルセンG)等。需要说明的是,粘接层中也可以适宜添加配合紫外线吸收剂、抗氧化剂、防静电剂、热稳定剂、润滑剂、填充剂、着色、粘接调整剂等。
红外遮蔽膜或红外遮蔽体的绝热性能、日光辐射热遮蔽性能,通常可以通过依据JIS R3209-1998(多层玻璃)、JIS R3106-1998(平板玻璃类的透过率·反射率·放射率·日光辐射热取得率的试验方法)、JIS R3107-1998(平板玻璃类的热阻及建筑物中的热导率的计算方法)的方法求出。
对日光辐射透过率、日光辐射反射率、放射率、可见光透过率的测定而言,(1)使用波长(300~2500nm)的分光测光器、测定各种单板玻璃的分光透过率、分光反射率。另外,使用波长5.5~50μm的分光测定器来测定放射率。需要说明的是,浮法平板玻璃、抛光平板玻璃、压花平板玻璃、热线吸收平板玻璃的放射率使用既定值。(2)日光辐射透过率、日光辐射反射率、日光辐射吸收率、修正放射率的算出,依据JIS R3106-1998算出日光辐射透过率、日光辐射反射率、日光辐射吸收率、垂直放射率。关于修正放射率,通过将JIS R3107-1998所示的系数乘以垂直放射率而求出。对绝热性、日光辐射热遮蔽性的算出而言,(1)使用厚度的测定值、修正放射率,依据JIS R3209-1998而算出多层玻璃的热阻。其中,在中空层超过2mm的情况下,依据JISR3107-1998求出中空层的气体热导。(2)绝热性:在多层玻璃的热阻加上热传导阻力,以导热阻力而求出。(3)日光辐射热遮蔽性:通过JIS R3106-1998求出日光辐射热取得率,由1减去而算出。
实施例
下面,举出实施例对本发明具体地进行说明,但本发明并不限定于这些实施例。需要说明的是,在实施例中,使用“份”或“%”的表示,但只要没有特别说明,则表示“质量份”或“质量%”。
《红外遮蔽膜的制作》
[实施例1]
(低折射率层用涂布液L1的制备)
·二氧化硅水系分散液的制备
在胶态二氧化硅(粒径(体积平均)4~6nm、日产化学公司制;スノーテックスOXS)的10质量%水溶液650份中分别混合了聚乙烯醇(皂化度:98.0~99.0mol%、聚合度:300、PVA103、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液30份、硼酸的3.0质量%水溶液150份后,用纯水制成1000份,制备氧化硅分散液L1。
接着,将上述分散液L1加热至45℃,进行搅拌,同时依次添加了硅烷醇改性聚乙烯醇(聚乙烯醇的皂化度:98~99%、聚合度:1700、PVA-R1130、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液760份后,添加阴离子性表面活性剂(日油制ラピゾールA30)的1质量%水溶液40份,制备低折射率层用涂布液L1。
(高折射率层用涂布液H1的制备)
在使二氧化钛水合物悬浮于水的水性悬浮液(TiO2浓度100g/L)10L(升)中,在搅拌下添加氢氧化钠水溶液(浓度10摩尔/L)30L,升温至90℃,熟化了5小时后,用盐酸进行中和、过滤、水洗。需要说明的是,在上述反应(处理)中,二氧化钛水合物使用依据公知的方法对硫酸钛水溶液进行热水解而得到的物质。
使碱处理钛化合物悬浮于纯水以使得达到TiO2浓度20g/L,在搅拌下相对于TiO2量加入0.4摩尔%的柠檬酸,升温。在液温达到95℃时,加入浓盐酸以使得达到盐酸浓度30g/L,维持液温,且搅拌3小时。
对得到的氧化钛溶胶水系分散液的pH及ζ电位进行测定,结果pH为1.4、ζ电位为+40mV。进而,通过マルバーン公司制ゼータサイザーナノ进行粒径测定,结果体积平均粒径为35nm、单分散度为16%。
在含有体积平均粒径10nm的金红石型氧化钛粒子的20.0质量%氧化钛溶胶水系分散液1kg中添加了纯水1kg。
·硅酸水溶液的制备
制备SiO2浓度为2.0质量%的硅酸水溶液。
·二氧化硅改性氧化钛粒子的制备
在上述的10.0质量%氧化钛溶胶水系分散液0.5kg中加入纯水2kg后,加热至90℃。然后,缓慢添加2.0质量%的硅酸水溶液1.3kg,接着,将得到的分散液在高压釜中、在175℃下进行18小时加热处理,再进行浓缩,得到为具有金红石型结构的氧化钛、被覆层为SiO2的20质量%的二氧化硅改性氧化钛粒子的溶胶水分散液。
混合上述得到的20.0质量%的二氧化硅改性氧化钛粒子的溶胶水系分散液28.9份、1.92质量%的柠檬酸水溶液10.5份、10质量%的聚乙烯醇(PVA103、クラレ公司制)水溶液2.0份和3质量%的硼酸水溶液9.0份,制备二氧化硅改性氧化钛粒子分散液H1。
接着,搅拌氧化钛分散液H1,同时在纯水16.3份中添加4.0质量%的聚乙烯醇(皂化度:87.0~89.0mol%、聚合度:3500、PVA235、クラレ公司制)水溶液41.9份。进而,添加阴离子性表面活性剂(日油制ラピゾールA30)的1质量%水溶液0.5份、最后用纯水制成150份,制备高折射率层用涂布液H1。
(试样1的制作)
使用可9层叠层涂布的滑动料斗涂布装置,将上述得到的低折射率层用涂布液L1及高折射率层用涂布液H1保温在45℃,同时在加温为45℃的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东洋纺制A4300:两面易粘接层)上以最下层和最上层设为低折射率层,其以外分别交替地以低折射率层的各层在干燥时的膜厚为150nm、高折射率层的各层在干燥时的膜厚为150nm地进行合计9层的同时叠层涂布。
刚涂布后,吹5℃的冷风而使其固定。此时,直到即使用手指触碰表面对手指也不会有任何附着的时间(固定时间)为5分钟。
固定结束后,吹80℃的暖风而使其干燥,制作包含9层的叠层涂布品。
在上述9层叠层涂布品上进一步进行2次9层叠层涂布,制作合计包含27层的试样1。
[实施例2]
(试样2的制作)
将硅烷醇改性聚乙烯醇(PVA-R1130、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液变更为304份,添加聚乙烯醇(PVA235、クラレ公司制)4.0质量%水溶液456份,除此以外,与低折射率层用涂布液L1同样地制备低折射率层用涂布液L2。
使用低折射率层用涂布液L2代替低折射率层用涂布液L1,除此以外,与试样1同样地制作试样2。
[实施例3]
(试样3的制作)
将4.0质量%的聚乙烯醇(PVA235、クラレ公司制)水溶液变更为34份,添加硅烷醇改性聚乙烯醇(PVA-R1130、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液7.9份,除此以外,与高折射率层用涂布液H1同样地制备高折射率层用涂布液H3。
使用高折射率层用涂布液H3代替高折射率层用涂布液H1,除此以外,与试样2同样地制作试样3。
[实施例4]
(试样4的制作)
将硅烷醇改性聚乙烯醇(PVA-R1130、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液变更为152份、将聚乙烯醇(PVA235;クラレ制)的4.0质量%水溶液变更为608份进行添加,除此以外,与低折射率层用涂布液L2同样地制备低折射率层用涂布液L4。
使用低折射率层用涂布液L4代替低折射率层用涂布液L2,除此以外,与试样2同样地制作试样4。
[实施例5]
(试样5的制作)
将聚乙烯醇(PVA235、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液456份变更为聚乙烯醇(PVA217、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液456份,除此以外,与低折射率层用涂布液L2同样地制备低折射率层用涂布液L5。
使用低折射率层用涂布液L5代替低折射率层用涂布液L2,除此以外,与试样2同样地制作试样5。
[实施例6]
(试样6的制作)
未添加硼酸水溶液,除此以外,与低折射率层用涂布液L2同样地制备低折射率层用涂布液L6。
使用低折射率层用涂布液L6代替低折射率层用涂布液L2,除此以外,与试样2同样地制作试样6。
[实施例7]
(试样7的制作)
将20.0质量%的二氧化硅改性氧化钛粒子溶胶28.9份变更为30质量%的氧化锆粒子水性溶胶(粒径(体积平均)6nm、Nanouse ZR-30BF;日产化学工业(株)制)19.3份,除此以外,与高折射率层用涂布液H1同样地制备高折射率层用涂布液H7。
使用高折射率层用涂布液H7代替高折射率层用涂布液H1,除此以外,与试样2同样地制作试样7。
[实施例8]
(试样8的制作)
将聚乙烯醇(PVA235、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液456份变更为聚乙烯醇(皂化度:87.0~89.0mol%、聚合度:1000、PVA210、クラレ公司制)的4.0质量%水溶液456份,除此以外,与低折射率层用涂布液L2同样地制备低折射率层用涂布液L8。
使用低折射率层用涂布液L8代替低折射率层用涂布液L2,除此以外,与试样2同样地制作试样8。
[比较例1]
(试样9的制作)
将硅烷醇改性聚乙烯醇全部变更为聚乙烯醇(PVA235、クラレ公司制),除此以外,与低折射率层用涂布液L1同样地制备低折射率层用涂布液L9。
使用低折射率层用涂布液L9代替低折射率层用涂布液L1,除此以外,与试样1同样地制作试样9。
[实施例9]
(试样10的制作)
在实施例2中,以最下层的干燥时的膜厚为1800nm地进行涂布,除此以外,与实施例2同样地制作试样10。
[实施例10]
(试样11的制作)
在实施例2中,以最下层的干燥时的膜厚为750nm地进行涂布,除此以外,与实施例2同样地制作试样11。
[实施例11]
(试样12的制作)
将实施例2中使用的高折射率层用涂布液H1的金红石型氧化钛粒子变更为锐钛矿型氧化钛(タイノックA-6多木化学株式会社制),除此以外,与实施例2同样地制作试样12。
[实施例12]
(试样13的制作)
将实施例2中使用的低折射率层用涂布液L2的硅烷醇改性聚乙烯醇(PVA-R1130)变更为其它的硅烷醇改性聚乙烯醇(聚乙烯醇的聚合度:500、皂化度:98.6摩尔%、R-2105、クラレ公司制),除此以外,与实施例2(试样2)同样地制作试样13。
[实施例13]
(试样14的制作)
在实施例3中,将低折射率层用涂布液L2的硅烷醇改性聚乙烯醇(PVA-R1130)变更为其它的硅烷醇改性聚乙烯醇(聚乙烯醇的聚合度:500、皂化度:98.6摩尔%、R-2105、クラレ公司制),除此以外,与实施例3(试样3)同样地制作试样14。
《红外遮蔽膜的评价》
对于上述中使用了的各个低折射率层用涂布液和上述中制作了的各红外遮蔽膜,进行下述的性能评价。
(各层的单膜折射率的测定)
制作在基材上分别以单层涂设了测定折射率的对象层(高折射率层、低折射率层)的样品,依据下述的方法求出各高折射率层及低折射率层的折射率。
使用U-4000型(日立制作所公司制)作为分光光度仪,对各样品的测定侧的背面进行了粗面化处理后,用黑色的喷雾进行光吸收处理而防止在背面的光的反射,由在5度正反射的条件下可见光区域(400nm~700nm)的反射率的测定结果求出折射率。
依据上述方法测定各层的折射率,结果,确认到试样1~14的高折射率层、低折射率层的折射率差均为0.3以上。
(可见光透过率及红外透过率的测定)
使用上述分光光度仪(使用积分球、日立制作所公司制、U-4000型)测定红外遮蔽膜试样1~14的300nm~2000nm的区域中的透过率。可见光透过率使用550nm处的透过率的值,红外透过率使用1200nm处的透过率的值。
(膜面均匀性(雾度值)的测定)
对于雾度值而言,通过雾度计(日本电色工业公司制、NDH2000)对红外遮蔽膜试样1~14进行测定,如下述进行评价。
[化学式1]
1%以下  ◎
超过1%~1.5%以下  ○
超过1.5%~2%以下  △
超过2%  ×
(膜柔软性的测定)
将红外遮蔽膜试样1~14切成150mm×200mm的大小,投入80℃及120℃的烘箱中10分钟,目视评价膜面的状态。
[化学式2]
○:在120℃下未发现裂纹
△:在80℃下未发现裂纹,但在120℃下在一部分中发现裂纹
×:在80℃下发现裂纹
(涂布液稳定性)
将上述得到的各个低折射率层用涂布液在50℃下放置5小时,评价每小时的粘度变化。
[化学式3]
○:粘度变化为5mPa·s以下
△:粘度变化为超过5mPa·s~10mPa·s以下
(密合性评价)
观察将红外遮蔽膜试样1~14在25℃、0.2%中性洗涤剂液中保持了规定期间后的膜的状态,评价密合性。
[化学式4]
○:即使经过7天后也未观察到膜剥离
△:经过3天后,在一部分中观察到膜剥离
×:经过1天后,在一部分中观察到膜剥离
[表1]
作为红外遮断膜,优选可见光透过率高、且红外透过率低,进而,更优选涂膜具有柔软性、涂膜表面均匀。由表1中所示的结果可知,本发明涉及的红外遮断膜试样的1~8(实施例1~8),与比较例1的试样9相比,具有更高的可见光透过率及更有效的红外遮断性。进而,可知,涂膜的柔软性、涂膜的表面均匀性也优异。
另外,由本发明涉及的红外遮断膜试样的10及11(实施例9及10)的结果可知,通过相对于其它的折射率层的厚度(平均厚度)来增厚最下层的厚度,膜面均匀性和密合性等优异。
《红外遮蔽体的制作》
[实施例14]
[红外遮蔽体101~108的制作]
将实施例1~8中制作的试样1~8的红外遮蔽膜分别用丙烯酸类粘接剂粘接在厚度5mm、20cm×20cm的透明丙烯酸类树脂板上,制作红外遮蔽体101~108。
《红外遮蔽体的评价》
上述中制作了的本发明的红外遮蔽体101~108,尽管红外遮蔽体的尺寸大,但可容易地利用,另外,通过利用本发明的红外遮蔽膜,可确认到优异的红外遮蔽性。
另外,本申请基于2011年12月12日所申请的日本专利申请第2011-271500号,其公开内容通过参照作为整体被引用。

Claims (9)

1.一种光学层叠膜,其特征在于,在基材上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元,所述低折射率层含有金属氧化物粒子及硅烷醇改性聚乙烯醇。
2.根据权利要求1所述的光学层叠膜,其中,所述硅烷醇改性聚乙烯醇的含量相对于低折射率层的总固体成分100质量%为10~25质量%。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠膜,其中,与基材最近的最下层的折射率层相对于其它的折射率层的平均厚度具有5~12倍的厚度。
4.根据权利要求1~3的任一项所述的光学层叠膜,其中,所述高折射率层含有金红石型氧化钛。
5.根据权利要求1~4的任一项所述的光学层叠膜,其中,所述高折射率层含有硅烷醇改性聚乙烯醇。
6.根据权利要求1~5的任一项所述的光学层叠膜,其中,所述低折射率层还含有聚合度为1500~5000的未改性聚乙烯醇。
7.根据权利要求1~6的任一项所述的光学层叠膜,其中,所述低折射率层或所述高折射率层的至少1层含有选自由硼酸、硼酸盐及硼砂构成的组中的至少1种以上的硼化合物。
8.一种光学层叠膜的制造方法,其包含:
将低折射率层用涂布液和高折射率层用涂布液涂布于基材的工序,所述低折射率层用涂布液含有金属氧化物粒子、硅烷醇改性聚乙烯醇、粘结剂树脂和水系溶剂,所述高折射率层用涂布液含有粘结剂树脂和水系溶剂;和
将涂布了涂布液的所述基材进行干燥的工序。
9.一种红外遮蔽体,其在基体的至少一面设有权利要求1~7的任一项所述的光学层叠膜、或通过权利要求8所述的制造方法而得到的光学层叠膜。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106216197A (zh) * 2015-06-02 2016-12-14 柯尼卡美能达株式会社 光学膜的制造方法
CN108369303A (zh) * 2015-12-25 2018-08-03 柯尼卡美能达株式会社 光学反射膜
CN108885288A (zh) * 2016-03-31 2018-11-23 柯尼卡美能达株式会社 光学反射膜
CN110476091A (zh) * 2017-03-28 2019-11-19 富士胶片株式会社 高折射率膜及光学干涉膜

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014069507A1 (ja) * 2012-11-02 2016-09-08 コニカミノルタ株式会社 光学反射フィルム、赤外遮蔽フィルムおよびその製造方法
US20160054492A1 (en) * 2013-03-29 2016-02-25 Konica Minolta, Inc. Laminated glass
CN104838344B (zh) * 2013-07-11 2018-01-12 株式会社爱发科 触摸面板、触摸面板的制造方法、光学薄膜基板及其制造方法
WO2015056752A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 コニカミノルタ株式会社 赤外遮蔽フィルムおよびこれを用いた赤外遮蔽体および熱線反射合わせガラス
DE102013226281A1 (de) 2013-12-17 2015-06-18 Henkel Ag & Co. Kgaa Mildes kosmetisches Reinigungsmittel
JP6122216B2 (ja) 2014-05-01 2017-04-26 株式会社アルバック タッチパネル及びその製造方法、並びに、表示装置及びその製造方法
JP2016057537A (ja) * 2014-09-11 2016-04-21 コニカミノルタ株式会社 光学反射フィルム、その製造方法およびそれを用いる光学反射体
KR101588630B1 (ko) * 2014-10-17 2016-01-27 (주)대한솔루션 열 차단 기능을 가진 자동차용 헤드라이닝 및 그 제조방법
CN107430228B (zh) * 2015-03-20 2020-03-03 柯尼卡美能达株式会社 光学薄膜以及光学薄膜的制造方法
US10359550B2 (en) * 2016-08-31 2019-07-23 Efx Energy Technologies, Llc Multi-layered reflective insulation system
CN113755105A (zh) * 2020-06-06 2021-12-07 深圳市和龙电子有限公司 一种高透光率柔性粘性光滑曲面覆盖膜
JPWO2023042840A1 (zh) * 2021-09-16 2023-03-23
JPWO2023042838A1 (zh) * 2021-09-16 2023-03-23

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007111940A (ja) * 2005-10-19 2007-05-10 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 近赤外線吸収材料
US7371786B2 (en) * 2001-09-04 2008-05-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Coating composition, coating formed therefrom, anti-reflection coating, anti-reflection film, and image display device
JP2009086659A (ja) * 2007-09-13 2009-04-23 Mitsubishi Chemicals Corp 熱線遮蔽膜及びその積層体
CN101501533A (zh) * 2006-07-28 2009-08-05 依福德成像瑞士有限公司 用于光学用途的挠性材料

Family Cites Families (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA557259A (en) 1955-02-23 1958-05-13 Canadian Kodak Co. Limited Multiple layer hopper for multiply coating a web
JPS5714091A (en) 1980-06-30 1982-01-25 Ricoh Co Ltd Recording medium for ink jet recording
JPS5787988A (en) 1980-11-21 1982-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ink jet recording paper
JPS5787989A (en) 1980-11-21 1982-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ink jet recording paper
JPS5774193A (en) 1980-10-28 1982-05-10 Fuji Photo Film Co Ltd Ink jet recording picture forming method
JPS5774192A (en) 1980-10-28 1982-05-10 Fuji Photo Film Co Ltd Ink jet recording picture forming method
JPS5942993A (ja) 1982-09-03 1984-03-09 Canon Inc インクジエツト記録方法
JPS5952689A (ja) 1982-09-17 1984-03-27 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録用シート
JPS6072785A (ja) 1983-09-30 1985-04-24 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd インクジェット記録用紙
JPH0641226B2 (ja) 1984-06-27 1994-06-01 キヤノン株式会社 カラーインクジェット記録方法
JPS60219083A (ja) 1984-04-16 1985-11-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジエツト用記録媒体
JPS60219084A (ja) 1984-04-16 1985-11-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジエツト用記録媒体
JPS6120792A (ja) 1984-07-09 1986-01-29 Copal Co Ltd リボンカセツト
JPS61146591A (ja) 1984-12-20 1986-07-04 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録用紙
JPS61188183A (ja) 1985-02-15 1986-08-21 Canon Inc 被記録材
JPS61237681A (ja) 1985-04-15 1986-10-22 Teijin Ltd 記録シ−ト
JPS61242871A (ja) 1985-04-22 1986-10-29 Canon Inc 被記録材
JPS62261476A (ja) 1986-05-08 1987-11-13 Canon Inc 被記録材およびそれを用いた記録方法
JPS62280069A (ja) 1986-05-30 1987-12-04 Canon Inc 被記録材
JPS6317221A (ja) 1986-07-03 1988-01-25 Taki Chem Co Ltd 結晶質酸化チタンゾル及びその製造方法
JPH0745363B2 (ja) 1986-07-11 1995-05-17 三菱瓦斯化学株式会社 作物増収および植物生長促進剤
JPS63307979A (ja) 1987-06-10 1988-12-15 Fuji Photo Film Co Ltd インクジエツト記録用シ−ト
JP2750433B2 (ja) 1988-02-12 1998-05-13 日本合成化学工業株式会社 インクジェット記録用紙
JP2762379B2 (ja) 1990-08-09 1998-06-04 大日精化工業株式会社 記録媒体
JPH04219266A (ja) 1990-11-30 1992-08-10 Oji Paper Co Ltd インクジェット記録用紙
JPH05278324A (ja) 1992-04-04 1993-10-26 Toray Ind Inc 記録シート
JP3198164B2 (ja) 1992-09-09 2001-08-13 三菱製紙株式会社 インクジェット記録用シート
JPH06183134A (ja) 1992-12-16 1994-07-05 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録シート
JP4018161B2 (ja) 1993-02-10 2007-12-05 石原産業株式会社 光触媒用酸化チタンの製造方法およびそれを用いた有害物質の除去方法
JP2818353B2 (ja) 1993-04-13 1998-10-30 帝人株式会社 記録シート
DE69413179T2 (de) 1993-05-13 1999-03-11 Mitsubishi Paper Mills Ltd Tintenstrahl-aufzeichnungsblatt
JP3841362B2 (ja) 1993-05-21 2006-11-01 三菱製紙株式会社 インクジェット記録シート
JPH079758A (ja) 1993-06-23 1995-01-13 Canon Inc 記録媒体及びこれを用いたインクジェット記録方法
JPH0781214A (ja) 1993-07-21 1995-03-28 Toray Ind Inc 記録シート
JPH07137431A (ja) 1993-11-15 1995-05-30 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録シート
JPH07179029A (ja) 1993-12-24 1995-07-18 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録シート
JPH07285265A (ja) 1994-04-18 1995-10-31 Sekisui Chem Co Ltd 水性インク用記録材
JP3109960B2 (ja) 1994-07-18 2000-11-20 キヤノン株式会社 記録媒体及びこれを用いた画像形成方法
JPH08110401A (ja) 1994-10-07 1996-04-30 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明高屈折率皮膜及び透明積層体
DE19543204C2 (de) 1995-11-20 1997-09-18 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von nanodispersem Titandioxid und seine Verwendung
JP3524342B2 (ja) 1996-08-30 2004-05-10 昭和電工株式会社 薄膜形成用二酸化チタンゾル及び薄膜
JP3898792B2 (ja) 1996-10-02 2007-03-28 石原産業株式会社 表面処理された酸化チタンゾルの製造方法
JP3609262B2 (ja) 1998-08-07 2005-01-12 石原産業株式会社 酸化チタンゾルおよびその製造方法
JP4171850B2 (ja) 1998-08-10 2008-10-29 日産化学工業株式会社 変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合ゾル及びその製造方法
JP3982933B2 (ja) 1999-01-14 2007-09-26 触媒化成工業株式会社 被膜形成用塗布液および合成樹脂製レンズ
US6791649B1 (en) * 1999-09-28 2004-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
JP2003266577A (ja) * 2002-03-14 2003-09-24 Toto Ltd 熱線遮断材
JP2004123766A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Toto Ltd コーティング用組成物
JP2005129437A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Canon Inc 非水電解質二次電池用電極構造体及びその製造方法、前記電極構造体を備えた非水電解質二次電池及びその製造方法
BRPI0616570A2 (pt) 2005-09-30 2011-06-21 Sakai Chemical Industry Co partìcula fina de dióxido de titánio rutila processo de produção e composições compreendendo as mesmas
JP4550753B2 (ja) 2006-03-17 2010-09-22 テイカ株式会社 表面処理された酸化チタンゾルの製造法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7371786B2 (en) * 2001-09-04 2008-05-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Coating composition, coating formed therefrom, anti-reflection coating, anti-reflection film, and image display device
JP2007111940A (ja) * 2005-10-19 2007-05-10 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 近赤外線吸収材料
CN101501533A (zh) * 2006-07-28 2009-08-05 依福德成像瑞士有限公司 用于光学用途的挠性材料
JP2009086659A (ja) * 2007-09-13 2009-04-23 Mitsubishi Chemicals Corp 熱線遮蔽膜及びその積層体

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106216197A (zh) * 2015-06-02 2016-12-14 柯尼卡美能达株式会社 光学膜的制造方法
CN108369303A (zh) * 2015-12-25 2018-08-03 柯尼卡美能达株式会社 光学反射膜
CN108369303B (zh) * 2015-12-25 2020-10-09 柯尼卡美能达株式会社 光学反射膜
US10962695B2 (en) 2015-12-25 2021-03-30 Konica Minolta, Inc. Optical reflection film
CN108885288A (zh) * 2016-03-31 2018-11-23 柯尼卡美能达株式会社 光学反射膜
CN110476091A (zh) * 2017-03-28 2019-11-19 富士胶片株式会社 高折射率膜及光学干涉膜

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Publication number Publication date
US20140320956A1 (en) 2014-10-30
JP6083386B2 (ja) 2017-02-22
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EP2793061A1 (en) 2014-10-22
WO2013089066A1 (ja) 2013-06-20
CN104011569B (zh) 2017-09-22
EP2793061A4 (en) 2015-09-16
US9519081B2 (en) 2016-12-13

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