WO2019013261A1 - 表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス - Google Patents

表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス Download PDF

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inorganic nitride
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modified inorganic
nitride
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誠一 人見
慶太 高橋
林　直之
林　大介
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to surface modified inorganic nitrides, compositions, thermally conductive materials, and devices with thermally conductive layers.
  • Patent Document 1 discloses "high thermal conductivity composite particles characterized by including aluminum nitride particles and an organic coating layer containing an organic compound having a mesogenic group chemically bonded to the surface of the aluminum nitride particles". ([Claim 1]).
  • an inorganic nitride mixed with an organic substance such as a resin binder a further improvement of the affinity of the inorganic nitride to the organic substance is required.
  • an inorganic nitride such as boron nitride
  • improvement of the dispersibility of the inorganic nitride in the organic substance is desired from the viewpoint of further improvement of the thermal conductivity.
  • the present inventors prepare a surface-modified inorganic nitride obtained by treating the surface of boron nitride with reference to Patent Document 1, mix the surface-modified inorganic nitride with an organic substance, and prepare a thermally conductive material to obtain an organic substance. As a result of evaluating the dispersibility of the surface modified inorganic nitride in it, it was confirmed that the dispersibility is insufficient and that further improvement is necessary.
  • this invention makes it a subject to provide the surface modification inorganic nitride which is excellent in dispersibility. Moreover, this invention makes it a subject to provide the composition containing the said surface modification inorganic nitride, a heat conductive material, and a device with a heat conductive layer.
  • a surface-modified inorganic nitride comprising an inorganic nitride and a compound represented by the general formula (1) described later adsorbed on the surface of the inorganic nitride.
  • the above compounds are aldehyde group, hydroxyl group, carboxylic acid group, isocyanate group, isothiocyanate group, cyanate group, acyl azide group, succinimide group, sulfonyl chloride group, carboxylic acid chloride group, onium group, carbonate group, aryl Halide group, carbodiimide group, acid anhydride group, phosphonic acid group, phosphinic acid group, phosphoric acid group, phosphoric acid ester group, phosphoric acid group, sulfonic acid group, halogen atom, halogenated alkyl group, nitrile group, nitro group, imido ester group, A specific functional group selected from the group consisting of alkoxycarbonyl group, alk
  • the above-mentioned compound has one or more specific functional groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, an acid anhydride group, a thiol group, a carboxylic acid group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group
  • the surface modified inorganic nitride as described in 2 [4] The surface modified inorganic nitride according to [2] or [3], wherein the compound has two or more of the specific functional groups.
  • any one of [2] to [4], in the general formula (1) described later, at least one of Z is an aryl group or a heterocyclic group having a substituent containing the above-mentioned specific functional group
  • [6] The surface-modified inorganic nitride as described in any one of [1] to [5], wherein in the general formula (1) described later, X is a benzene ring group.
  • X is a benzene ring group.
  • a composition comprising the surface modified inorganic nitride as described in any one of [1] to [10] and a polymerizable monomer.
  • a thermally conductive material comprising the surface modified inorganic nitride as described in any of [1] to [10].
  • the thermally conductive material according to [14] which is in the form of a sheet.
  • a device with a thermally conductive layer comprising: a device; and a thermally conductive layer containing the thermally conductive material according to [14] or [15] disposed on the device.
  • a surface-modified inorganic nitride excellent in dispersibility can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a composition containing the surface modified inorganic nitride, a thermally conductive material, and a device with a thermally conductive layer.
  • the ultraviolet visible absorption spectrum of the compound C-5 containing solution before and behind boron nitride addition is shown.
  • the ultraviolet visible absorption spectrum of the compound C-23 containing solution before and behind boron nitride addition is shown.
  • the ultraviolet visible absorption spectrum of the compound C-46 containing solution before and behind boron nitride addition is shown.
  • the ultraviolet visible absorption spectrum of the compound C-51 containing solution before and behind boron nitride addition is shown.
  • a numerical range represented using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as the lower limit value and the upper limit value.
  • the description of "(meth) acryloyl group” represents the meaning of "any one or both of an acryloyl group and a methacryloyl group”.
  • an oxiranyl group is a functional group also called an epoxy group, and, for example, two adjacent carbon atoms of a saturated hydrocarbon ring group are linked via an oxo group (-O-) to form an oxirane ring Groups and the like are also included in the oxiranyl group.
  • the acid anhydride group is a substituent obtained by removing any hydrogen atom from an acid anhydride such as maleic anhydride, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride and trimellitic anhydride. Good.
  • surface-modified inorganic nitride means an inorganic nitride that is surface-modified with a compound represented by the general formula (1) described below (hereinafter, also referred to as “specific compound”).
  • surface modification means a state in which a specific compound described later is adsorbed on at least a part of the inorganic nitride surface. Although the form of adsorption is not particularly limited, it is preferably in a bound state.
  • the surface modification also includes a state in which an organic group (for example, a cationic group) obtained by partial detachment of a specific compound is bonded to the surface of the inorganic nitride.
  • the bond may be any bond such as covalent bond, coordinate bond, ionic bond, hydrogen bond, van der Waals bond, and metal bond.
  • the surface modification may be such as to form a monolayer on at least part of the inorganic nitride surface. In the present specification, the surface modification may be only a part of the inorganic nitride surface or the whole.
  • the type of substituent, the position of the substituent, and the number of substituents in the case of “may have a substituent” are not particularly limited.
  • the number of substituents may be, for example, one or two or more.
  • Examples of the substituent include monovalent nonmetal atomic groups other than hydrogen atoms, and can be selected from, for example, the following substituent group T.
  • Substituent group T halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, thiol group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N -Alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group , N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group
  • the surface modified inorganic nitride of the present invention includes an inorganic nitride and a specific compound described later adsorbed on the surface of the inorganic nitride.
  • the surface modified inorganic nitride of the present invention is a surface modified inorganic nitride formed by modifying the surface of the inorganic nitride with a specific compound described later.
  • the specific compound mentioned later is used as a surface modifier of inorganic nitride.
  • the dispersibility of the obtained surface modified inorganic nitride is improved.
  • the thermal conductivity of the material containing the surface modified inorganic nitride is improved.
  • the dispersibility of the inorganic nitride is excellent (that is, the bias of the inorganic nitride in the cured product is suppressed).
  • the thermal conductivity of the cured product as a whole is excellent. Furthermore, in the case where the composition containing the surface-modified inorganic nitride contains a polymerizable monomer, the specific compound has a specific radial structure in the molecule, whereby the surface-modified inorganic nitride obtained orients the polymerizable monomer. It is also considered to have a function to As a result, it is considered that the polymerizable monomer or the cured product thereof is oriented (vertical orientation) on the surface modified inorganic nitride surface, and the oriented component intervenes between the surface modified inorganic nitrides. It is presumed that this further improves the thermal conductivity between the surface modified inorganic nitrides, and further improves the thermal conductivity of the entire material.
  • inorganic nitride The type of inorganic nitride is not particularly limited.
  • examples of inorganic nitrides include boron nitride (BN), carbon nitride (C 3 N 4 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), gallium nitride (GaN), indium nitride (InN), aluminum nitride (AlN), Chromium nitride (Cr 2 N), copper nitride (Cu 3 N), iron nitride (Fe 4 N or Fe 3 N), lanthanum nitride (LaN), lithium nitride (Li 3 N), magnesium nitride (Mg 3 N 2 ) Molybdenum nitride (Mo 2 N), niobium nitride (NbN), tantalum nitride (TaN), titanium nitride (TiN), tungsten nitride (W
  • the above inorganic nitrides may be used alone or in combination of two or more.
  • the inorganic nitride preferably contains at least one selected from the group consisting of a boron atom, an aluminum atom, and a silicon atom in that the thermal conductivity of the obtained surface modified inorganic nitride is more excellent. More specifically, the inorganic nitride is preferably aluminum nitride, boron nitride or silicon nitride, more preferably boron nitride or aluminum nitride, and still more preferably boron nitride.
  • the shape of the inorganic nitride is not particularly limited, and examples thereof include particles, films, and plates.
  • examples of the shape of the particles include rice grains, spheres, cubes, spindles, scaly, aggregates, and irregular shapes.
  • the size of the inorganic nitride is not particularly limited, but the average particle diameter of the inorganic nitride is preferably 500 ⁇ m or less, more preferably 300 ⁇ m or less, and still more preferably 200 ⁇ m or less, in that the dispersibility of the surface modified inorganic nitride is more excellent. .
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more, and more preferably 100 nm or more in terms of handleability.
  • 100 inorganic nitrides are randomly selected using an electron microscope, and the particle diameter (long diameter) of each inorganic nitride is measured, and they are arithmetically averaged. Ask. In addition, when using a commercial item, you may use a catalog value.
  • the compound (specific compound) represented by General formula (1) is a component which adsorb
  • specific compounds will be described. In the following description, conditions suitable for the specific compound are based on the point that the dispersibility of the surface-modified inorganic nitride is excellent unless otherwise noted.
  • X represents a benzene ring group or a heterocyclic group which may have a substituent. That is, X represents a benzene ring group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the heterocyclic group is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic heterocyclic groups and aromatic heterocyclic groups. In addition, as an aliphatic heterocyclic group, 5 membered ring group, 6 membered ring group, or 7 membered ring group, or its fused ring group is mentioned.
  • an aromatic heterocyclic group 5-membered ring group, 6-membered ring group, or 7-membered ring group or its condensed ring group is mentioned.
  • ring groups other than heterocyclic groups such as a benzene ring group, may be contained.
  • a specific example of the said aliphatic heterocyclic group For example, an oxolane ring group, an oxane ring group, a piperidine ring group, and a piperazine ring group etc. are mentioned.
  • the carbon number of the aromatic heterocyclic group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20.
  • Specific examples of the above-mentioned aromatic heterocyclic group are not particularly limited, but furan ring group, thiophene ring group, pyrrole ring group, oxazole ring group, isoxazole ring group, oxadiazole ring group, thiazole ring group, isothiazole ring group Group, thiadiazole ring group, imidazole ring group, pyrazole ring group, triazole ring group, furazan ring group, tetrazole ring group, pyridine ring group, pyridazine ring group, pyrimidine ring group, pyrazine ring group, triazine ring group, tetrazine ring group,
  • the heterocyclic group represented by X is preferably an aromatic heterocyclic group.
  • X is preferably a benzene ring group or a triazine ring group.
  • the substituent preferably contains a specific functional group described later.
  • n represents an integer of 3 to 6, and in X, n groups represented by [-(L 1 ) m -Z] are bonded.
  • the group represented by [-(L 1 ) m -Z] is a group directly bonded to X.
  • R N represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent.
  • the carbon number of the arylene group represented by L 1 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and still more preferably 6.
  • the arylene group is preferably a phenylene group.
  • the arylene group is particularly restricted at the position where it is bonded to an adjacent group (including the case where two groups of X, L 1 and Z, both of which are L 1 ) It may be bonded at any position of ortho position, meta position and para position, and is preferably bonded at para position.
  • the arylene group may or may not have a substituent, and preferably does not have a substituent.
  • the substituent preferably contains a specific functional group described later.
  • L 1 When L 1 is an ester group, the carbon atom in the ester group is preferably present on the side of X. When L 1 is a thioester group, the sulfur atom in the thioester group is preferably present on the X side.
  • the unsaturated hydrocarbon group represented by L 1 may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
  • the carbon number of the unsaturated hydrocarbon group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, still more preferably 2 to 3, and particularly preferably 2. However, the number of carbon atoms contained in the substituent that the unsaturated hydrocarbon group may have is not included in the number of carbon atoms.
  • the unsaturated hydrocarbon group may or may not have a substituent, and preferably has no substituent.
  • the substituent preferably contains a specific functional group.
  • R N of -NR N- represented by L 1 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent
  • R N is a carbon number which may have a substituent It is preferably an alkyl group of 1 to 10, more preferably an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent, and an alkyl of 1 to 3 carbon atoms which may have a substituent It is preferably a group.
  • the alkyl group may be linear or branched and may have a cyclic structure.
  • R N is preferably a hydrogen atom.
  • m represents an integer of 0 or more.
  • m is preferably an integer of 0 to 10, more preferably an integer of 0 to 5, further preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably an integer of 1 to 2.
  • Z is directly bonded to X.
  • L 1 has an arylene group which may have a substituent, an ester group, an ether group, a thioester group, a thioether group, a carbonyl group, -NR N- , an azo group, or a substituent.
  • it is an unsaturated hydrocarbon group which may be substituted, and it may be an arylene group which may have a substituent, an ester group, an ether group, a carbonyl group or an unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent. It is more preferably an ester group, an ether group, a carbonyl group, or an unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent.
  • m 2
  • [-(L 1 ) m -Z] is [-L 1 -L 1 -Z]
  • L 1 bonded to X is an arylene group which may have a substituent Is preferred.
  • L 1 to be bound to Z is an ester group, an ether group, a thioester group, a thioether group, a carbonyl group, -NR N- , an azo group, or an unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent. It is preferable that it is an ester group or an unsaturated hydrocarbon group which may have a substituent.
  • m is larger than 2
  • a plurality of L 1 present in [-(L 1 ) m -Z] may be the same or different, but it is preferable that the L 1 bonded to each other be different.
  • -(L 1 ) m- is preferably a group represented by general formula (Lq). That is, the group represented by [-(L 1 ) m -Z] is preferably a group represented by [-L a -Z].
  • Z represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. That is, Z represents an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent.
  • the carbon number of the aryl group represented by Z is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6.
  • a phenyl group, a naphthyl group, and anthracenyl group etc. are mentioned, for example.
  • a heterocyclic group represented by Z the heterocyclic group which above-mentioned X may become is mentioned similarly.
  • the heterocyclic group represented by Z preferably exhibits aromaticity.
  • Z is preferably an aryl group, more preferably a phenyl group or an anthracenyl group, and still more preferably a phenyl group. It is also preferable that Z has a substituent, and it is more preferable that the substituent contains a specific functional group described later.
  • the number of substituents which one Z has is preferably 0 to 5, more preferably 0 to 2, and still more preferably 1 to 2. It is preferable that at least one of the plurality of Z's have a substituent containing a specific functional group.
  • the specific compound preferably has a total of one or more, more preferably two or more, and even more preferably three or more specific functional groups contained in a plurality of substituents of Z. There is no particular limitation on the upper limit of the total number of the specific functional groups contained in the plurality of substituents of Z which the specific compound has, but 15 or less is preferable, 10 or less is more preferable, and 8 or less is still more preferable.
  • n represents an integer of 3 to 6.
  • Each group of multiple [-(L 1 ) m -Z] may be the same or different. That is, in the general formula (1), is m the presence of a plurality may be the same or different, L 1 that there are a plurality in the case where L 1 there are a plurality may be the same or different, the Z presence of a plurality of identical But it may be different. It is also preferred that the plurality of m's be identical to each other. In addition, it is preferable that each of a plurality of m represent an integer of 1 or more, and it is also preferable that each of m represent an integer of 2 or more.
  • any two or more [-(L 1 ) m -Z] have the same configuration except for the substituent that Z has, and it is also preferable that any configuration is also the same including the substituent that Z has. . n is preferably 3 or 6.
  • a group which can be (L 1 ) m or Z is present in [-(L 1 ) m -Z]
  • the group is (L 1 ) m .
  • [-(L 1 ) m -Z] is [-benzene ring group-benzene ring group-halogen atom]
  • the benzene ring group on the left side is (L 1 ) m and not Z.
  • the specific compound represented by General formula (1) has 4 or more of benzene ring groups.
  • the specific compound have a structure of triphenylbenzene.
  • the specific compound represented by General formula (1) has a total of 4 or more of a benzene ring group and a triazine ring group. In this case, for example, it is also preferable that X be a triazine ring group.
  • the specific compound preferably has one or more specific functional groups, and more preferably two or more.
  • a hydroxyl group, an amino group, an acid anhydride group, a thiol group, a carboxylic acid group, an acryloyl group, a methacryloyl group or a vinyl group is preferable.
  • the above hydroxyl group intends a group in which an -OH group is directly bonded to a carbon atom. Further, the -OH group present in the form contained in the carboxylic acid group (-COOH) is not a hydroxyl group.
  • the above acyl azide group intends a group represented by the following structure.
  • * represents a bonding position.
  • the counter anion (Z ⁇ ) of the acyl azide group is not particularly limited, and examples include halogen ions.
  • succinimide group oxetanyl group and maleimide group each represent a group formed by removing one hydrogen atom at an arbitrary position from a compound represented by the following formula.
  • the onium group means a group having an onium salt structure.
  • the onium salt is a compound produced by coordination of a compound having an electron pair not involved in a chemical bond with another cation form compound by the electron pair.
  • the onium salt contains a cation and an anion.
  • the onium salt structure is not particularly limited. For example, ammonium salt structure, pyridinium salt structure, imidazolium salt structure, pyrrolidinium salt structure, piperidinium salt structure, triethylenediamine salt structure, phosphonium salt structure, sulfonium salt structure, and thiopyrylium salt Structure etc. are mentioned.
  • the kind of anion used as a counter is not specifically limited, A well-known anion is used.
  • the valence of the anion is also not particularly limited, and examples thereof include mono- to tri-valent, and mono- to divalent is preferable. Among them, a group having an ammonium salt structure represented by the following general formula (A1) is also preferable as the onium group.
  • R 1A to R 3A each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group (including any of linear, branched and cyclic groups).
  • the carbon number in the alkyl group is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • M - represents an anion. * Represents a bonding position.
  • the alkyl group may further have a substituent (for example, substituent group T).
  • the aryl halide group is not particularly limited as long as it is a group in which one or more halogen atoms are substituted to an aromatic ring group.
  • the aromatic ring group may be any of a single ring structure and a multiple ring structure, and is preferably a phenyl group.
  • a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned as a halogen atom, A fluorine atom is preferable.
  • the aryl halide group may further have a substituent (for example, substituent group T). Specific examples of the aryl halide group include fluorophenyl group, perfluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, and iodophenyl group.
  • R ⁇ B > a hydrogen atom or monovalent organic group is mentioned.
  • any one or more of R B represents a monovalent organic group.
  • monovalent organic groups include alkyl groups (including linear, branched and cyclic groups).
  • the carbon number in the alkyl group is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may further have a substituent (for example, substituent group T).
  • the halogenated alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a group in which an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is substituted with one or more halogen atoms.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group (including any of linear, branched and cyclic) is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • a halogen atom a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, A fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom is preferable.
  • the halogenated alkyl group may further have a substituent (for example, substituent group T).
  • R C include a hydrogen atom and an alkyl group (including any of linear, branched and cyclic).
  • the carbon number in the alkyl group is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may further have a substituent (for example, substituent group T).
  • the imido ester group may have an onium salt structure by coordination of an electron pair not involved in the chemical bond of the imine nitrogen with another cation (for example, hydrogen ion).
  • alkoxy silyl group Although it does not specifically limit as said alkoxy silyl group, For example, group represented with the following general formula (A2) is mentioned.
  • each R D independently represents an alkyl group (including any of linear, branched and cyclic groups). * Represents a bonding position.
  • the carbon number of the alkyl group represented by R D is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. Specific examples include trimethytoxysilyl and triethoxysilyl groups.
  • the alkyl group may further have a substituent (for example, substituent group T).
  • the amino group is not particularly limited, and may be any of primary, secondary and tertiary.
  • -N (R E ) 2 R E is each independently a hydrogen atom or an alkyl group (including any of linear, branched and cyclic).
  • the carbon number in the alkyl group is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group further has a substituent (for example, Substituent group T).
  • the alkoxycarbonyl group is not particularly limited as long as it is a group represented by —CO—O—R f .
  • the above R f represents an alkyl group (including any of linear, branched and cyclic).
  • the carbon number of the alkyl group represented by R f is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • the plurality of specific functional groups may be the same or different.
  • the position at which the specific functional group is present is not particularly limited.
  • the specific functional group may be contained in the substituent of X in the general formula (1), and it is an arylene group or an unsaturated hydrocarbon group. It may be contained in the substituent of L 1 and may be contained in the substituent of Z.
  • the specific functional group may be bonded to a group other than the specific functional group to form one substituent.
  • two or more specific functional groups may be contained in one substituent.
  • Lx 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group is not particularly limited, and may be, for example, any one or a combination of two or more selected from the group consisting of -O-, -CO-, -NH- and a divalent hydrocarbon group. Represents a divalent linking group.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear.
  • the carbon number thereof is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4.
  • Lx 1 is a single bond, -AL-, -O-, -O-CO-, -O-AL-, -AL-CO-, -O-AL-O-, -O-CO-AL-, -CO-O-AL-, -AL-NH-CO-, -O-AL-O-AL-, -CO-O-AL-O- or -O-AL-O-Ar- is preferable.
  • the above AL represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (the number of carbon atoms is preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4).
  • Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (preferably a phenylene group).
  • L x 1 is "-O-AL-O-Ar-"
  • Ar in "-O-AL-O-Ar-” is bonded to Q x.
  • Qx represents a monovalent specific functional group.
  • Ly 1 represents a divalent linking group containing a carbodiimide group, a carbonate group, or an imidoester group.
  • the divalent linking group represented by Ly 1 may contain a carbodiimide group, a carbonate group, or an imidoester group, and may be a combination with another linking group.
  • Other linking groups include alkylene groups.
  • Ly 1 may be -alkylene-Ly 3 -alkylene-.
  • Ly 3 represents a carbodiimide group, a carbonate group or an imidoester group.
  • the above Qy represents a monovalent organic group.
  • the monovalent organic group represented by Qy is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group.
  • the carbon number in the alkyl group is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • s represents an integer of 2 to 3. s is preferably 2.
  • Lz 1 represents a group which the above Lx 1 can represent, and preferred conditions are also the same.
  • Plural Lz 2 independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group is not particularly limited. For example, any one or more selected from the group consisting of -O-, -CO-, -NH-, and a divalent hydrocarbon group may be used in combination And a divalent linking group.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear.
  • the carbon number thereof is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4.
  • Lz 2 is a single bond, -AL-, -O-, -O-CO-, -O-AL-, -AL-CO-, -O-AL-O-, -O-CO-AL-, -CO-O-AL-, -AL-NH-CO-, -O-AL-O-AL-, -CO-O-AL-O-, -O-AL-O-Ar-, or -O -Ar- is preferred.
  • the above AL represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (the number of carbon atoms is preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4).
  • Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (preferably a phenylene group).
  • Sz represents a (s + 1) -valent linking group.
  • a (s + 1) -valent aromatic ring group is preferable.
  • the aromatic ring group may be an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group, and is preferably a benzene ring group or a triazine ring group.
  • Qz represents a monovalent specific functional group.
  • a plurality of Qz's each independently represent a group that the above Qx can represent, and the same applies to preferable conditions.
  • L a and Z are as described above.
  • a plurality of L a can be the same or different.
  • the plurality of Z may be the same or different.
  • R a represents a hydrogen atom, a monovalent specific functional group, or -L a -Z.
  • L a and Z are as described above.
  • the compound represented by the general formula (2) is represented by six -L a -Z Have the following groups.
  • the compound represented by the general formula (2) has a triazine ring.
  • L a the definition of L a are as described above.
  • a plurality of L a can be the same or different.
  • Ar each independently represents an aryl group.
  • Preferred embodiments of the aryl group include the aryl group represented by Z.
  • Each R b independently represents a substituent containing a specific substituent.
  • the definition of the specific substituent is as described above.
  • a substituent containing a specific substituent a group represented by General Formula (Rx), a group represented by General Formula (Ry), or a group represented by General Formula (Rz) is preferable.
  • p independently represents an integer of 0 to 5; p is preferably 0-2.
  • the embodiment 1 in which two ps are 0 and one p is 1 or the embodiment 2 in which all three ps are 1 are preferable.
  • R c represents a hydrogen atom, a monovalent specific functional group, or -L a -Ar- (R b ) p .
  • L a , Ar, R b and p are as described above.
  • the molecular weight of the specific compound is preferably 300 or more, and more preferably 350 or more, from the viewpoint that the dispersibility of the surface modified inorganic nitride is excellent. Moreover, from the point which is excellent in solubility, 3000 or less is preferable and, as for the molecular weight of the said specific compound, 2000 or less is more preferable. Specific compounds can be synthesized according to known methods.
  • the method for producing the surface modified inorganic nitride is not particularly limited, and examples thereof include a method having a step of bringing the inorganic nitride into contact with a specific compound.
  • the contact of the inorganic nitride with the specific compound is performed, for example, by stirring a solution containing the inorganic nitride and the specific compound.
  • an organic solvent is preferable.
  • the organic solvent include ethyl acetate, methyl ethyl ketone, dichloromethane and tetrahydrofuran.
  • the solution may contain other components such as polymerizable monomers described later. In this case, the obtained mixture can also be used as a composition described later.
  • the mixing ratio of the inorganic nitride to the specific compound may be determined in consideration of the structure and surface area of the inorganic nitride, and the molecular structure such as the aspect ratio of the molecule of the specific compound.
  • the stirring conditions are not particularly limited.
  • the specific compound is surface modified the inorganic nitride.
  • the specific compound preferably forms a bond such as a hydrogen bond with an inorganic nitride to achieve surface modification.
  • the shape of the surface modified inorganic nitride is not particularly limited, and examples thereof include particles, films and plates.
  • the mass ratio of the specific compound to the inorganic nitride (the mass of the specific compound / the mass of the inorganic nitride) in the surface modified inorganic nitride is not particularly limited, but the above-mentioned is superior in the dispersibility of the surface modified inorganic nitride
  • the mass ratio is preferably 0.0001 to 0.5, and more preferably 0.0005 to 0.1.
  • the specific compound may be adsorbed to the inorganic nitride surface, and another surface modifier may be adsorbed to the inorganic nitride surface. That is, the surface modified inorganic nitride may contain an inorganic nitride, a specific compound adsorbed on the surface of the inorganic nitride, and other surface modifiers.
  • the surface modified inorganic nitride has improved dispersibility in various materials. By utilizing this, the surface modified inorganic nitride can be mixed with other materials and applied as a composition to various applications.
  • the content of the surface-modified inorganic nitride in the composition is not particularly limited, and the optimum content is appropriately selected according to the application of the composition.
  • the content of the surface modified inorganic nitride is, for example, 0.01 to 95% by mass with respect to the total solid content in the composition, and among them, the surface modified in that the characteristics of the surface modified inorganic nitride appear more
  • the content of the inorganic nitride is preferably 20 to 95% by mass, more preferably 30 to 90% by mass, and still more preferably 40 to 85% by mass, with respect to the total solid content in the composition.
  • the composition may contain one or more surface modified inorganic nitrides.
  • the composition may contain materials other than the surface-modified inorganic nitride, and examples thereof include a polymerizable monomer, a curing agent, a curing accelerator, and a polymerization initiator.
  • materials other than the surface-modified inorganic nitride include a polymerizable monomer, a curing agent, a curing accelerator, and a polymerization initiator.
  • the polymerizable monomer is a compound which is cured by a predetermined treatment such as heat or light.
  • the polymerizable monomer has a polymerizable group.
  • the type of the polymerizable group is not particularly limited, and may be a known polymerizable group. From the viewpoint of reactivity, a functional group capable of addition polymerization reaction is preferable, and a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring polymerizable group is preferred. More preferable.
  • the polymerizable group examples include acryloyl group, methacryloyl group, oxiranyl group, vinyl group, maleimide group, styryl group, allyl group, oxetanyl group and the like.
  • the hydrogen atom in each said group may be substituted by other substituents, such as a halogen atom.
  • the polymerizable group is preferably a group selected from the group consisting of an acryloyl group, a methacryloyl group, an oxiranyl group, and a vinyl group from the viewpoint of reactivity.
  • the number of polymerizable groups contained in the polymerizable monomer is not particularly limited, but is preferably 2 or more, and 3 or more, in that the heat resistance of a cured product obtained by curing the composition is more excellent. It is more preferable that The upper limit is not particularly limited, but is often 8 or less.
  • the type of the polymerizable monomer is not particularly limited, and known polymerizable monomers can be used.
  • an epoxy resin monomer and an acrylic resin monomer described in paragraph 0028 of Japanese Patent No. 4118691 an epoxy compound described in paragraphs 0006 to 0011 of JP2008-13759A, and a paragraph 0032 of JP2013-227451A.
  • the epoxy resin mixture described in to 0100 and the like can be mentioned.
  • bisphenol A diglycidyl ether resin monomer, and bisphenol F diglycidyl ether resin monomer can also be used.
  • the content of the polymerizable monomer in the composition is not particularly limited, and an optimum content is appropriately selected according to the application of the composition. Among them, the content of the polymerizable monomer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, and still more preferably 20 to 60% by mass, with respect to the total solid content in the composition.
  • the composition may contain one or more polymerizable monomers.
  • the polymerizable monomer preferably exhibits liquid crystallinity. That is, the polymerizable monomer is preferably a liquid crystal compound. In other words, it is preferably a liquid crystal compound having a polymerizable group. Moreover, it is also preferable that the hardened
  • the polymerizable monomer or the cured product thereof preferably exhibits liquid crystallinity. That is, the polymerizable monomer or the cured product thereof is preferably a liquid crystal component.
  • the polymerizable monomer may be any of a rod-like liquid crystal compound and a discotic liquid crystal compound. That is, the polymerizable monomer may be any of a rod-like liquid crystal compound having a polymerizable group and a discotic liquid crystal compound having a polymerizable group.
  • the compound represented by the general formula (1) and the discotic liquid crystal compound are different compounds, and the compound corresponding to the general formula (1) is not included in the discotic liquid crystal compound.
  • the rod-like liquid crystal compound and the discotic liquid crystal compound will be described in detail.
  • Rod-like liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano substituted phenyl pyrimidines, alkoxy substituted phenyl pyrimidines, Phenyldioxanes, tolanes, and alkenylcyclohexyl benzonitriles can be mentioned. Not only low molecular weight liquid crystal compounds as described above, but also high molecular weight liquid crystal compounds can be used.
  • the high molecular weight liquid crystal compound is a high molecular weight compound obtained by polymerizing a rod-like liquid crystal compound having a low molecular weight reactive group.
  • the rod-shaped liquid crystal compound represented by the following general formula (XXI) is mentioned.
  • Q 1 and Q 2 are each independently a polymerizable group
  • L 111 , L 112 , L 113 and L 114 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • Each of A 111 and A 112 independently represents a divalent linking group (spacer group) having 1 to 20 carbon atoms.
  • M represents a mesogenic group.
  • the definition of the polymerizable group is as described above.
  • at least one of Q 1 and Q 2 is an acryloyl group, a methacryloyl group, or an oxiranyl group, and more preferably an acryloyl group, a methacryloyl group, or an oxiranyl group.
  • Examples of the divalent linking group represented by L 111 , L 112 , L 113 and L 114 include -O-, -S-, -CO-, -NR 112- , -CO-O- and -O.
  • R 112 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • a 111 and A 112 represent a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the divalent linking group may contain heteroatoms such as non-adjacent oxygen and sulfur atoms.
  • an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenylene group, or an alkynylene group is preferable, and an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable. It is also preferable that the above-mentioned alkylene group, alkenylene group or alkynylene group has an ester group.
  • the divalent linking group is preferably linear, and the divalent linking group may have a substituent, and as the substituent, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, Or a bromine atom), a cyano group, a methyl group and an ethyl group.
  • a halogen atom a fluorine atom, a chlorine atom, Or a bromine atom
  • cyano group a methyl group and an ethyl group.
  • Examples of the mesogenic group represented by M include known mesogenic groups. Among them, groups represented by the following general formula (XXII) are preferable.
  • W 1 and W 2 each independently represent a divalent cyclic alkylene group, a divalent cyclic alkenylene group, an arylene group, or a divalent heterocyclic group.
  • L 115 represents a single bond or a divalent linking group.
  • n represents an integer of 1 to 4;
  • W 1 and W 2 for example, 1,4-cyclohexenediyl, 1,4-cyclohexanediyl, 1,4-phenylene, pyrimidine-2,5-diyl, pyridine-2,5-diyl, 1,3, 4-thiadiazole-2,5-diyl, 1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl, naphthalene-1,5-diyl, thiophene-2,5-diyl, And pyridazine-3,6-diyl.
  • 1,4-cyclohexanediyl it may be either a trans isomer or a cis isomer or a mixture of any proportion. Among them, the trans form is preferred. W 1 and W 2 may each have a substituent.
  • substituents examples include the groups exemplified in the above-mentioned Substituent Group T, and more specifically, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom), a cyano group, a carbon
  • 1-10 alkyl groups for example, methyl group, ethyl group and propyl group etc.
  • alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms eg methoxy group and ethoxy group etc.
  • 1 to 10 carbon atoms Acyl group (eg, formyl group and acetyl group etc.), alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group etc.), acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms (eg, Acetyloxy group, and propionyloxy group etc.), a nitro group, a trifluoromethyl group,
  • divalent linking group represented by L 111 to L 114 described above can be given as the divalent linking group represented by L 115 , and examples thereof include, for example, —CO—O— and —O—CO— And -CH 2 -O- and -O-CH 2- .
  • skeletons of the basic skeleton of the mesogen group represented by the above general formula (XXII) are exemplified below.
  • the above substituents may be substituted on these.
  • the compounds represented by formula (XXI) can be synthesized with reference to the method described in JP-A-11-513019 (WO 97/00600).
  • the rod-like liquid crystal compound may be a monomer having a mesogenic group described in JP-A-11-323162 and JP-A-4118691.
  • the discotic liquid crystal compound at least partially has a discotic structure.
  • the discoid structure has at least an aromatic ring. Therefore, the discotic liquid crystal compound can form a columnar structure by the formation of the stacking structure by the ⁇ - ⁇ interaction between molecules.
  • Angew. Chem. Int. Ed. examples thereof include a triphenylene structure described in 2012, 51, 7990-7993 and JP-A-7-306317, and a trisubstituted benzene structure described in JP-A2007-2220 and JP-A-2010-244038.
  • a thermally conductive material exhibiting high thermal conductivity can be obtained.
  • the rod-like liquid crystal compound can conduct heat only linearly (one-dimensionally)
  • the discotic liquid crystal compound can conduct heat planarly (two-dimensionally) in the normal direction, so heat conduction It is thought that the number of paths increases and the thermal conductivity improves. Further, by using a discotic liquid crystal compound, the heat resistance of the cured product of the composition is improved.
  • the discotic liquid crystal compound preferably has three or more polymerizable groups.
  • the cured product of the composition containing the discotic liquid crystal compound having three or more polymerizable groups tends to have a high glass transition temperature and a high heat resistance.
  • Disc-like liquid crystal compounds tend to have three or more polymerizable groups without affecting the properties of the mesogen moiety, as compared to rod-like liquid crystal compounds.
  • the number of polymerizable groups in the discotic liquid crystal compound is preferably 8 or less, more preferably 6 or less.
  • the polymerizable group is preferably an acryloyl group, a methacryloyl group or an oxiranyl group.
  • the discotic liquid crystal compound is preferably a compound represented by the following general formula (XI) or a compound represented by the following general formula (XII).
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent * -X 11 -L 11 -P 11 or * -X 12 -Y 12 , and * represents triphenylene 2 or more of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 represent * -X 11 -L 11 -P 11 and X 11 and X 11 represent a bonding position with a ring.
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 be * -X 11 -L 11 -P 11 .
  • any one or more of R 11 and R 12 , any one or more of R 13 and R 14 , and any one or more of R 15 and R 16 are * -X 11 -L 11 -P 11
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are all * -X 11 -L 11 -P 11 , more preferably R 11 , R 12
  • R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are all the same * -X 11 -L 11 -P 11 .
  • L 11 represents a divalent linking group or a single bond linking X 11 and P 11 .
  • the alkylene group having 1 to 10 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, and a hexylene group.
  • Examples of the arylene group having 6 to 20 carbon atoms include 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-naphthylene group, 1,5-naphthylene group, and anthracenylene group.
  • a 1,4-phenylene group is preferred.
  • the alkylene group and the arylene group may each have a substituent.
  • a substituent the group illustrated by the above-mentioned substituent group T is mentioned, for example.
  • the number of substituents is preferably 1 to 3, and more preferably 1.
  • the substitution position of the substituent is not particularly limited.
  • a halogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • the alkylene group and the arylene group be unsubstituted.
  • the alkylene group is preferably unsubstituted.
  • P 11 represents a polymerizable group.
  • the definition of the polymerizable group is as described above.
  • P 11 is preferably an acryloyl group, a methacryloyl group or an oxiranyl group.
  • L 11 preferably includes an arylene group, and the arylene group is preferably bonded to P 11 .
  • Y 12 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • Represents a group substituted with C ( O) O—.
  • Y 12 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or one or two in a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the hydrogen atom present in the group represented by Y 12 may be substituted by a halogen atom.
  • linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms examples include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl groups. , N-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1,1-dimethylpropyl group, n-hexyl group, isohexyl group, linear or branched heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group And dodecyl groups.
  • the carbon number of the cyclic alkyl group is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and preferably 20 or less, more preferably 10 or less, still more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less.
  • Examples of cyclic alkyl groups include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, and cyclooctyl group.
  • Y 12 a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkylene oxide group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and a linear group having 1 to 12 carbon atoms is preferable.
  • a linear or branched alkyl group, or an ethylene oxide group or a propylene oxide group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable.
  • R 17, R 18 and all R 19 is, * - X 211 - (Z 21 -X 212) is preferably n21 -L 21 -P 21. More preferably, R 17 , R 18 and R 19 are all the same * -X 211- (Z 21 -X 212 ) n 21 -L 21 -P 21 .
  • Z 21 and Z 22 each independently represent a 5- or 6-membered aromatic group or a 5- or 6-membered non-aromatic group, and examples thereof include a 1,4-phenylene group, 1, and 2. Examples thereof include a 3-phenylene group and a divalent heterocyclic group.
  • the aromatic group and the nonaromatic group may have a substituent.
  • substituents include the groups exemplified in the above-mentioned substituent group T.
  • the number of substituents is preferably one or two, more preferably one.
  • the substitution position of the substituent is not particularly limited.
  • a substituent a halogen atom or a methyl group is preferable.
  • a halogen atom a chlorine atom or a fluorine atom is preferable. It is also preferable that the said aromatic group and non-aromatic group are unsubstituted.
  • Examples of the divalent heterocyclic ring include the following heterocyclic rings.
  • a 41 and A 42 each independently represent a methine group or a nitrogen atom
  • X 4 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group or an imino group. At least one of A 41 and A 42 is preferably a nitrogen atom, and more preferably both are nitrogen atoms. In addition, X 4 is preferably an oxygen atom.
  • L 21 represents a divalent linking group or a single bond linking X 212 and P 21 and has the same meaning as L 11 in General Formula (XI).
  • the group which consists of an alkylene group or these combination is preferable.
  • P 21 represents a polymerizable group.
  • the definition of the polymerizable group is as described above.
  • P 21 is preferably an acryloyl group, a methacryloyl group or an oxiranyl group.
  • Y 22 each independently represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 20 carbon atoms
  • n 21 and n 22 each independently represent an integer of 0 to 3, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 2 or 3.
  • the compound represented by the general formula (XI) or the general formula (XII) has a hydrogen bonding functional group in that the stacking is enhanced by reducing the electron density and the column aggregate is easily formed. It is preferably a compound.
  • Specific examples of the compound represented by the general formula (XI) and the compound represented by the general formula (XII) include the following compounds.
  • the example whose oxiranyl group and oxetanyl group in the compound mentioned below are acryloyl or methacryloyl group is also preferable.
  • the compounds represented by the general formula (XI) can be prepared by the methods described in JP-A-7-306317, JP-A-7-281028, JP-A-2005-156822, and JP-A-2006-301614. It can be synthesized in a similar manner.
  • the compound represented by the general formula (XII) can be synthesized according to the methods described in JP-A-2010-244038, JP-A-2006-76992 and JP-A-2007-2220.
  • the composition may further contain a curing agent.
  • the type of curing agent is not particularly limited, as long as it is a compound capable of curing the above-mentioned polymerizable monomer.
  • the curing agent is preferably a compound having a functional group selected from the group consisting of a hydroxy group, an amino group, a thiol group, an isocyanate group, a carboxy group, a (meth) acryloyl group, and a carboxylic acid anhydride group.
  • the compound is more preferably a compound having a functional group selected from the group consisting of a group, a (meth) acryloyl group, an amino group, and a thiol group.
  • the curing agent preferably has two or more of the above functional groups, and more preferably two or three.
  • curing agents examples include amine curing agents, phenol curing agents, guanidine curing agents, imidazole curing agents, naphthol curing agents, acrylic curing agents, acid anhydride curing agents, active ester curing agents, Examples include benzoxazine-based curing agents and cyanate ester-based curing agents. Among them, acrylic curing agents, phenolic curing agents, or amine curing agents are preferable. Examples of amine curing agents include 4,4'-diaminodiphenylmethane. Examples of acrylic curing agents include ethoxylated (3) trimethylolpropane triacrylate. As a phenol type hardening agent, a biphenyl aralkyl type phenol resin is mentioned, for example.
  • the content of the curing agent in the composition is not particularly limited, but it is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 1 to 30% by mass, with respect to the total solid content in the composition.
  • the composition may further contain a curing accelerator.
  • the type of curing accelerator is not limited, and, for example, triphenylphosphine, 2-ethyl-4-methylimidazole, boron trifluoride amine complex, 1-benzyl-2-methylimidazole, and JP-A-2012-67225.
  • the hardening accelerator as described in paragraph 0052 of is mentioned.
  • the content of the curing accelerator in the composition is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the total solid content in the composition.
  • the composition may further contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator When the specific compound or the polymerizable monomer has a (meth) acryloyl group, the composition preferably contains an azo polymerization initiator. Further, as a preferable example, polymerization described in paragraph 0062 of JP-A-2010-125782 and paragraph 0054 of JP-A-2015-052710 can be mentioned.
  • the content of the polymerization initiator in the composition is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content in the composition.
  • the composition may further contain a solvent.
  • a solvent is not particularly limited, and an organic solvent is preferred. Examples of the organic solvent include ethyl acetate, methyl ethyl ketone, dichloromethane, and tetrahydrofuran.
  • the method for producing the composition is not particularly limited, and a known method can be adopted.
  • the composition can be produced by mixing the various components described above (surface modified inorganic nitride, polymerizable monomer and the like) by a known method. When mixing, various components may be mixed at once or may be mixed one by one. Further, as described above, when producing the surface modified inorganic nitride, the composition may be produced by collectively mixing the inorganic nitride, the specific compound, and the other additives.
  • the curing method of the composition is not particularly limited, and an optimal method is appropriately selected depending on the type of the polymerizable monomer.
  • the curing method may be, for example, a heat curing reaction or a light curing reaction, and a heat curing reaction is preferable.
  • the heating temperature in the case of a thermosetting reaction is not specifically limited.
  • the temperature may be appropriately selected in the range of 50 to 200 ° C.
  • the curing reaction is preferably carried out on a sheet-like composition.
  • the composition may be applied, and the resulting coating film may be cured. At that time, pressing may be performed.
  • the curing reaction may be a semi-curing reaction. That is, the obtained cured product may be in a so-called B-stage state (semi-cured state). After placing the above-mentioned semi-cured cured product in contact with the device etc., the adhesive property between the layer containing the thermally conductive material which is the cured product and the device can be increased by further curing by heating etc. improves.
  • the surface modified inorganic nitride and the composition can be applied to various applications. For example, it can be applied to various fields as a pigment, a catalyst, an electrode material, a semiconductor material, a heat conducting material, and a lubricant. That is, the material containing the surface modified inorganic nitride can be applied to various applications.
  • the shape of the material containing a surface modification inorganic nitride is not specifically limited, For example, a sheet form may be sufficient.
  • the surface modified inorganic nitride and the composition are preferably used to form a heat conductive material or a lubricant.
  • this preferred application will be described in detail.
  • the heat transfer material of the present invention comprises a surface modified inorganic nitride.
  • the heat conductive material may contain components other than the surface modified inorganic nitride, and examples thereof include a binder.
  • a binder the binder formed by hardening
  • the thermally conductive material can be made by curing the composition described above. That is, the composition can be used to form a thermally conductive material.
  • "high thermal conductivity composite material” (CMC publication, Yutaka Takezawa) can be referred.
  • the heat conductive material only needs to contain a surface modified inorganic nitride, and the method of manufacturing the heat conductive material is not limited to the embodiment using the composition.
  • the heat conductive material is a material excellent in heat conductivity, and can be used as a heat dissipation material such as a heat dissipation sheet. For example, it can be used for heat dissipation applications of various devices such as power semiconductor devices. More specifically, heat generation from the device can be efficiently dissipated by the heat conduction layer by arranging a heat conduction layer containing the above-mentioned heat conduction material on the device to produce a device with a heat conduction layer.
  • the shape of the heat conductive material is not particularly limited, and may be formed into various shapes depending on the application.
  • the heat transfer material is preferably in the form of a sheet.
  • the heat conductive material may be in a completely cured state or in a semi-cured state (the above-described B-stage state). As described above, if a heat conductive material in a semi-hardened state is disposed on the device, heat treatment may be performed to form a heat conductive layer with excellent adhesion on the device.
  • the surface modified inorganic nitride can be suitably used for producing a lubricant. That is, as an application of the surface modified inorganic nitride, a lubricant containing the surface modified inorganic nitride can be mentioned.
  • the lubricant can be prepared by mixing grease (low molecular weight monomer, polymer resin) or the like with the surface modified inorganic nitride. A well-known material can be used as grease.
  • boron nitride is preferably mentioned as the inorganic nitride in the surface modified inorganic nitride. Boron nitride is known to itself exhibit lubricity in a high temperature region.
  • Alizarin is a compound well known to bind to zinc oxide to modify the surface of zinc oxide (Japanese Patent No. 5479175). 12 mg of alizarin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., catalog number 015-01151) was dissolved in 300 mL of methyl ethyl ketone, and the absorbance at a wavelength of 427 nm was measured using a visible absorption spectrum (measuring device: UV-3100 PC manufactured by Shimadzu Corporation) . Furthermore, zinc oxide microparticles (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. make 264-00365) prepared separately were added to this solution (25 mL), and it lightly stirred.
  • the resulting solution supernatant was filtered using a 0.45 micron filter (Ministart RC15 from Sartorius).
  • the absorbance of the obtained filtrate was measured in the same manner as described above.
  • the absorbance of the solution after addition of the zinc oxide microparticles was 27.6% with respect to the absorbance of the solution before the addition of the zinc oxide microparticles. From the obtained results, it was found that the presence or absence of the surface modification of the inorganic nitride of the compound and the degree thereof can be determined from the decrease in absorbance by conducting the comparison of the absorbance as described above.
  • the UV-visible absorption spectrum of the filtrate was measured using the obtained filtrate in the same manner as described above to determine the absorbance Y at the absorption maximum wavelength.
  • the results of the UV-visible absorption spectrum are shown in FIG.
  • the ratio of the absorbance Y at the absorption maximum wavelength of the filtrate obtained by adding boron nitride to the absorbance X at the absorption maximum wavelength of the solution before adding boron nitride (remaining ratio (%)) Calculated.
  • Table 1 The results are shown in Table 1.
  • A-1 A mixture of bisphenol F diglycidyl ether resin and bisphenol A diglycidyl ether resin, epoxy equivalent: 165.7 g / eq, total chlorine: 0.008% by weight, viscosity: 2,340 mPa ⁇ s, Nippon Steel Sumikin Chemical Co., Ltd. Made.
  • solvent MEK (methyl ethyl ketone) was used as a solvent.
  • VAm-110 oil-soluble azo polymerization initiator, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • PPh 3 triphenylphosphine
  • Inorganic nitride As inorganic nitride, SGPS (boron nitride, average particle diameter 12 ⁇ m, manufactured by Denka Co., Ltd.) was used.
  • Example 1 The various components shown in Table 2 below are mixed in the order of a polymerizable monomer, MEK (methyl ethyl ketone), a curing agent, a surface modifier (a compound represented by the general formula (1)), and a polymerization initiator, and then inorganic The nitride was added.
  • Composition 1 was obtained by treating the resulting mixture with a rotation and revolution mixer (manufactured by THINKY, Awatori Neritaro ARE-310) for 5 minutes. The final solid content of Composition 1 was adjusted with MEK so as to have the solid concentration shown in Table 2 (described in the “solvent” column).
  • the composition 1 is applied on a release surface of a polyester film (NP-100A PANAC, film thickness 100 ⁇ m) to a film thickness of about 600 ⁇ m, and left under air for 1 hour The coating film 1 was obtained by doing.
  • the coated film surface of the coated film 1 is covered with another polyester film and cured by vacuum heat press (hot plate temperature 130 ° C., vacuum degree ⁇ 1 kPa, pressure 12 MPa, processing time 5 hours) To obtain a resin sheet.
  • the polyester films on both sides of the resin sheet were peeled off to obtain a thermally conductive sheet 1 having an average film thickness of 350 ⁇ m.
  • the dispersion evaluation was performed using the heat conductive sheet 1. Specifically, the film thickness of the heat conductive sheet 1 was measured at any five positions, the standard deviation of the measurement variation was determined, and evaluation was made according to the following criteria. When the standard deviation is small (in other words, when the variation in film thickness is small), it indicates that the surface modified inorganic nitride is well dispersed. On the other hand, when the standard deviation is large (in other words, when the variation in film thickness is large), this means that aggregation or the like occurs in the cured product and surface irregularities are generated, that is, the dispersibility of the surface modified inorganic nitride is inferior. Show that. The film thickness measurement was performed using "Eye Phase Mobile 1u" manufactured by Eye Phase.
  • Thermal Conductivity evaluation was performed using the thermally conductive sheet 1.
  • the measurement of thermal conductivity was performed by the following method, and thermal conductivity was evaluated according to the following criteria.
  • Measurement of Thermal Conductivity (W / m ⁇ K) (1)
  • the thermal diffusivity in the thickness direction of the thermally conductive sheet 1 was measured using “Eye Phase Mobile 1 u” manufactured by Eye Phase.
  • the specific gravity of the thermally conductive sheet 1 was measured by the Archimedes method (using a “solid specific gravity measurement kit”) using a balance “XS 204” manufactured by METTLER TOLEDO.
  • the specific heat of the thermally conductive sheet 1 at 25 ° C. was determined using “DSC 320/6200” manufactured by Seiko Instruments Inc. under a temperature rising condition of 10 ° C./min.
  • the thermal conductivity of the thermally conductive sheet 1 was calculated by multiplying the obtained thermal diffusivity by specific gravity and specific heat.
  • (numerical values) described in the various component column means the content (% by mass) of the various components with respect to the total solid content in the composition.
  • film thickness (micrometer)” described in Table 2 means the average film thickness of a heat conductive sheet.
  • X described in Table 2 shows the structure of X in the case where a specific compound is applied to General Formula (1).
  • M described in Table 2 shows the value of m in, when a specific compound is applied to General formula (1).
  • “L 1 ” described in Table 2 indicates a group of L 1 when the specific compound is applied to the general formula (1). In the general formula (1), L 1 which is present in plural types as a result that m is 2 or more will be described starting from a group close to X.
  • C-32 a plurality of "-(L 1 ) m- " in the general formula (1) have the same configuration.
  • N described in Table 2 shows the value of n in, when a specific compound is applied to General formula (1).
  • the "specific functional group” described in Table 2 means a typical specific functional group that the compound has.
  • the surface modified inorganic nitride of the present invention is excellent in dispersibility.
  • the thermally conductive sheet produced using the surface modified inorganic nitride of the present invention was also excellent in thermal conductivity.
  • the specific compound is more excellent in dispersibility when it has a specific functional group (comparison of Example 53 with other Examples). It was confirmed that the specific compound is more excellent in dispersibility when having a plurality of specific functional groups (comparison of Example 15 and Example 16).

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Abstract

本発明は、分散性に優れる表面修飾無機窒化物を提供する。また、上記表面修飾無機窒化物を含む組成物、熱伝導材料、及び、熱伝導層付きデバイスを提供する。本発明の表面修飾無機窒化物は、無機窒化物と、無機窒化物表面上に吸着した下記一般式（１）で表される化合物とを含む。

Description

表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス
　本発明は、表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、及び、熱伝導層付きデバイスに関する。
　無機窒化物の応用範囲を広げるために、その表面を修飾する方法が提案されている。
　例えば、特許文献１に、「窒化アルミニウム粒子と、窒化アルミニウム粒子の表面に化学的に結合したメソゲン基を有する有機化合物を含む有機被覆層とを含むことを特徴とする高熱伝導複合粒子」が開示されている（［請求項１］）。
特開２０１１－２３６３７６号公報
　一方で、無機窒化物を樹脂バインダー等の有機物と混合して使用する場合、無機窒化物の有機物に対する親和性のより一層の向上が求められている。例えば、窒化ホウ素等の無機窒化物を有機物と混合して熱伝導材料として用いる場合、熱伝導性のより一層の向上の点から、有機物中での無機窒化物の分散性の向上が望まれている。無機窒化物の分散性向上のためには、無機窒化物の表面を改質することが必要とされている。
　本発明者らは、特許文献１を参照して窒化ホウ素の表面を処理した表面修飾無機窒化物を用意し、この表面修飾無機窒化物を有機物と混合して熱伝導材料を作製して、有機物中での表面修飾無機窒化物の分散性を評価したところ、分散性が不十分であり、更なる改善が必要であることが確認された。
　そこで、本発明は、分散性に優れる表面修飾無機窒化物を提供することを課題とする。
　また、本発明は、上記表面修飾無機窒化物を含む組成物、熱伝導材料、及び、熱伝導層付きデバイスを提供することを課題とする。
　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の化合物で表面処理をした無機窒化物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
　〔１〕　無機窒化物と、上記無機窒化物表面上に吸着した後述する一般式（１）で表される化合物とを含む、表面修飾無機窒化物。
　〔２〕　上記化合物が、アルデヒド基、水酸基、カルボン酸基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、アシルアジド基、コハク酸イミド基、スルホニルクロリド基、カルボン酸クロリド基、オニウム基、カーボネート基、アリールハライド基、カルボジイミド基、酸無水物基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、スルホン酸基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトリル基、ニトロ基、イミドエステル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシシリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキセタニル基、ビニル基、アルキニル基、マレイミド基、チオール基、アミノ基、オキシラニル基、及び、シリル基からなる群より選ばれる特定官能基を１個以上有する、〔１〕に記載の表面修飾無機窒化物。
　〔３〕　上記化合物が、水酸基、アミノ基、酸無水物基、チオール基、カルボン酸基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及び、ビニル基からなる群より選ばれる特定官能基を１個以上有する、〔２〕に記載の表面修飾無機窒化物。
　〔４〕　上記化合物が、上記特定官能基を２個以上有する、〔２〕又は〔３〕に記載の表面修飾無機窒化物。
　〔５〕　後述する一般式（１）中、Ｚのうち少なくとも１個が、上記特定官能基を含む置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基である、〔２〕～〔４〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物。
　〔６〕　後述する一般式（１）中、Ｘが、ベンゼン環基である、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物。
　〔７〕　上記化合物が、ベンゼン環基を４個以上有する、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物。
　〔８〕　後述する一般式（１）中、複数存在するｍが、いずれも１以上の整数を表す、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物。
　〔９〕　上記無機窒化物が、窒化ホウ素及び窒化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種である、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物。
　〔１０〕　上記無機窒化物が、窒化ホウ素である、〔９〕に記載の表面修飾無機窒化物。
　〔１１〕　〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物と、重合性モノマーとを含む、組成物。
　〔１２〕　上記重合性モノマー又はその硬化物が、液晶性を示す、〔１１〕に記載の組成物。
　〔１３〕　熱伝導材料を形成するために用いられる、〔１１〕又は〔１２〕に記載の組成物。
　〔１４〕　〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の表面修飾無機窒化物を含む、熱伝導材料。
　〔１５〕　シート状である、〔１４〕に記載の熱伝導材料。
　〔１６〕　デバイスと、上記デバイス上に配置された〔１４〕又は〔１５〕に記載の熱伝導材料を含む熱伝導層とを有する、熱伝導層付きデバイス。
　本発明によれば、分散性に優れる表面修飾無機窒化物を提供することができる。
　また、本発明によれば、上記表面修飾無機窒化物を含む組成物、熱伝導材料、及び、熱伝導層付きデバイスを提供することができる。
窒化ホウ素添加前後の化合物Ｃ－５含有溶液の紫外可視吸収スペクトルを示す。 窒化ホウ素添加前後の化合物Ｃ－２３含有溶液の紫外可視吸収スペクトルを示す。 窒化ホウ素添加前後の化合物Ｃ－４６含有溶液の紫外可視吸収スペクトルを示す。 窒化ホウ素添加前後の化合物Ｃ－５１含有溶液の紫外可視吸収スペクトルを示す。
　以下、本発明の表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、及び、熱伝導層付きデバイスについて詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、「（メタ）アクリロイル基」との記載は、「アクリロイル基及びメタクリロイル基のいずれか一方又は双方」の意味を表す。
　本明細書において、オキシラニル基はエポキシ基とも呼ばれる官能基であり、例えば、飽和炭化水素環基の隣接する炭素原子２個がオキソ基（－Ｏ－）により結合してオキシラン環を形成している基等もオキシラニル基に含む。
　本明細書において、酸無水物基は、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、及び、無水トリメリット酸等の酸無水物から任意の水素原子を除いて得られる置換基であればよい。
　本明細書において「表面修飾無機窒化物」は、後述する一般式（１）で表される化合物（以下、「特定化合物」ともいう）で表面修飾されている無機窒化物を意味する。
　本明細書において、「表面修飾」とは、無機窒化物表面の少なくとも一部に後述する特定化合物が吸着している状態を意味する。吸着の形態は特に限定されないが、結合している状態が好ましい。なお、表面修飾は、特定化合物の一部が脱離して得られる有機基（例えば、カチオン性基）が無機窒化物表面に結合している状態も含む。結合は、共有結合、配位結合、イオン結合、水素結合、ファンデルワールス結合、及び、金属結合等、いずれの結合であってもよい。表面修飾は、無機窒化物表面の少なくとも一部に単分子膜を形成するようになされていてもよい。
　なお、本明細書において、表面修飾は、無機窒化物表面の一部のみであっても、全体であってもよい。
　本明細書において、「置換基を有してもよい」という場合の置換基の種類、置換基の位置、及び、置換基の数は特に限定されない。置換基の数は例えば、１個、又は２個以上であってもよい。置換基の例としては水素原子を除く１価の非金属原子団を挙げられ、例えば、以下の置換基群Ｔから選択できる。
　置換基群Ｔ：ハロゲン原子（－Ｆ、－Ｂｒ、－Ｃｌ、－Ｉ）、水酸基、アルコキシ基、アリーロキシ基、チオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ－アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、Ｎ－アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジアリールアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ－アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ－アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ－アルキルアシルアミノ基、Ｎ－アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキルウレイド基、Ｎ’－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリールウレイド基、Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキル－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキル－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アリール－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリール－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリール－Ｎ－アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アリール－Ｎ－アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アリール－Ｎ－アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシ基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ－アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルカルバモイル基、Ｎ－アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールカルバモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ－アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ－アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ－アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基、Ｎ－アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールスルファモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールスルファモイル基、Ｎ－アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ－アルキルスルホニルスルファモイル基（－ＳＯ２ＮＨＳＯ２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アリールスルホニルスルファモイル基（－ＳＯ２ＮＨＳＯ２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アルキルスルホニルカルバモイル基（－ＣＯＮＨＳＯ２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アリールスルホニルカルバモイル基（－ＣＯＮＨＳＯ２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（－Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）３）、アリーロキシシリル基（－Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）３）、ヒドロキシシリル基（－Ｓｉ（ＯＨ）３）及びその共役塩基基、ホスホノ基（－ＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（－ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノ基（－ＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノ基（－ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（－ＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（－ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルキル基、複素環基、オキシラニル基、アルケニル基及びアルキニル基。
　また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、又は置換している基と結合して環を形成してもよい。
〔表面修飾無機窒化物〕
　本発明の表面修飾無機窒化物は、無機窒化物と、上記無機窒化物表面上に吸着した後述する特定化合物とを含む。言い換えれば、本発明の表面修飾無機窒化物は、無機窒化物の表面を後述する特定化合物で修飾してなる表面修飾無機窒化物である。
　本発明の表面修飾無機窒化物においては、無機窒化物の表面修飾剤として、後述する特定化合物を用いる。特定化合物が無機窒化物の表面に吸着することにより、得られる表面修飾無機窒化物の分散性が向上する。
　この結果として、例えば、表面修飾無機窒化物を含む材料の熱伝導性が向上される。具体的には、例えば、上記表面修飾無機窒化物を含む組成物から得られる硬化物においては、無機窒化物の分散性が優れることにより（つまり、硬化物中における無機窒化物の偏りが抑制されていることにより）、硬化物全体としての熱伝導性が優れると推測される。更に、上記表面修飾無機窒化物を含む組成物が重合性モノマーを含む場合において、特定化合物は分子中に特定の放射状構造を有することにより、得られる表面修飾無機窒化物は、重合性モノマーを配向させる機能も有すると考えられる。この結果として、表面修飾無機窒化物表面上で重合性モノマー又はその硬化物が配向（垂直配向）され、表面修飾無機窒化物同士の間に配向した成分が介在する形となると考えられる。これにより表面修飾無機窒化物間での熱伝導性がより向上し、材料全体の熱伝導性がより向上すると推測される。
　以下、表面修飾無機窒化物に含まれる成分について詳述し、その後、表面修飾無機窒化物の製造方法及びその用途等について詳述する。
＜無機窒化物＞
　無機窒化物の種類は特に限定されない。
　無機窒化物の例としては、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化炭素（Ｃ３Ｎ４）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、窒化インジウム（ＩｎＮ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化クロム（Ｃｒ２Ｎ）、窒化銅（Ｃｕ３Ｎ）、窒化鉄（Ｆｅ４Ｎ又はＦｅ３Ｎ）、窒化ランタン（ＬａＮ）、窒化リチウム（Ｌｉ３Ｎ）、窒化マグネシウム（Ｍｇ３Ｎ２）、窒化モリブデン（Ｍｏ２Ｎ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化タングステン（Ｗ２Ｎ、ＷＮ２、又は、ＷＮ）、窒化イットリウム（ＹＮ）、及び、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）等が挙げられる。
　上記の無機窒化物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
　無機窒化物は、得られる表面修飾無機窒化物の熱伝導性がより優れる点で、ホウ素原子、アルミニウム原子、及び、珪素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。より具体的には、無機窒化物は、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、又は、窒化ケイ素であるのが好ましく、窒化ホウ素又は窒化アルミニウムであるのがより好ましく、窒化ホウ素であるのが更に好ましい。
　無機窒化物の形状は特に限定されず、粒子状、フィルム状、及び、板状等が挙げられる。無機窒化物が粒子状の場合、粒子の形状は、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、鱗片状、凝集状、及び、不定形状等が挙げられる。
　無機窒化物の大きさは特に限定されないが、表面修飾無機窒化物の分散性がより優れる点で、無機窒化物の平均粒径は５００μｍ以下が好ましく、３００μｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下が更に好ましい。下限は特に限定されないが、取り扱い性の点で、１０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
　上記平均粒径の測定方法としては、電子顕微鏡を用いて、１００個の無機窒化物を無作為に選択して、それぞれの無機窒化物の粒径（長径）を測定し、それらを算術平均して求める。なお、市販品を用いる場合、カタログ値を用いてもよい。
＜一般式（１）で表される化合物＞
　一般式（１）で表される化合物（特定化合物）は、上述したように、無機窒化物表面に吸着する成分である。以下、特定化合物について説明する。
　以下の説明中、特定化合物について好適とする条件は、特筆無き限り、表面修飾無機窒化物の分散性が優れる点に基づく。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　一般式（１）中、Ｘは、置換基を有してもよい、ベンゼン環基又はヘテロ環基を表す。つまり、Ｘは、置換基を有してもよいベンゼン環基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基を表す。
　上記ヘテロ環基としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。なお、脂肪族ヘテロ環基としては、５員環基、６員環基、若しくは、７員環基、又は、その縮合環基が挙げられる。また、芳香族ヘテロ環基としては、５員環基、６員環基、若しくは、７員環基、又は、その縮合環基が挙げられる。
　なお、上記縮合環基においては、ベンゼン環基等のヘテロ環基以外の環基が含まれていてもよい。
　上記脂肪族ヘテロ環基の具体例としては、特に限定されないが、例えば、オキソラン環基、オキサン環基、ピぺリジン環基、及び、ピペラジン環基等が挙げられる。
　上記芳香族ヘテロ環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。芳香族ヘテロ環基の炭素数は特に限定されないが、３～２０が好ましい。
　上記芳香族ヘテロ環基の具体例としては特に限定されないが、フラン環基、チオフェン環基、ピロール環基、オキサゾール環基、イソオキサゾール環基、オキサジアゾール環基、チアゾール環基、イソチアゾール環基、チアジアゾール環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、トリアゾール環基、フラザン環基、テトラゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、テトラジン環基、ベンゾフラン環基、イソベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、インドール環基、インドリン環基、イソインドール環基、ベンゾオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、キノリン環基、イソキノリン環基、シンノリン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、ジベンゾフラン環基、ジベンゾチオフェン環基、カルバゾール環基、アクリジン環基、フェナントリジン環基、フェナントロリン環基、フェナジン環基、ナフチリジン環基、プリン環基、及び、プテリジン環基等が挙げられる。
　Ｘで表されるヘテロ環基は、芳香族ヘテロ環基であるのが好ましい。
　中でも、Ｘは、ベンゼン環基又はトリアジン環基であるのが好ましい。
　Ｘが置換基を有する場合、置換基は後述する特定官能基を含むのが好ましい。
　一般式（１）中、ｎは３～６の整数を表し、Ｘには、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］で表される基がｎ個結合している。
　一般式（１）中、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］で表される基は、Ｘと直接結合する基である。
　複数存在し得るＬ１は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリーレン基、エステル基（－ＣＯ－Ｏ－）、エーテル基（－Ｏ－）、チオエステル基（－ＳＯ－Ｏ－）、チオエーテル基（－Ｓ－）、カルボニル基（－ＣＯ－）、－ＮＲＮ－、アゾ基（－Ｎ＝Ｎ－）、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基を表す。
　なお、ＲＮは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～１０の有機基を表す。
　Ｌ１で表されるアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１０がより好ましく、６が更に好ましい。中でも、アリーレン基は、フェニレン基であるのが好ましい。
　上記アリーレン基がフェニレン基の場合、隣接する基（Ｘ、Ｌ１、及び、Ｚのうちの２個の基で、２個の基が共にＬ１の場合を含む）と結合する位置に特に制限はなく、オルト位、メタ位、及び、パラ位のいずれの位置で結合していてもよく、パラ位で結合しているのが好ましい。上記アリーレン基は置換基を有しても有さなくてもよく、有さないのが好ましい。上記アリーレン基が置換基を有する場合、置換基は後述する特定官能基を含むのが好ましい。
　Ｌ１がエステル基の場合、エステル基中の炭素原子はＸの側に存在することが好ましい。Ｌ１がチオエステル基の場合、チオエステル基中の硫黄原子はＸの側に存在することが好ましい。
　Ｌ１で表される不飽和炭化水素基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環状構造を有してもよい。不飽和炭化水素基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～５がより好ましく、２～３が更に好ましく、２が特に好ましい。ただし、上記炭素数に、上記不飽和炭化水素基が有し得る置換基に含まれる炭素原子の数は含まない。上記不飽和炭化水素基が有する不飽和結合は、二重結合（－Ｃ＝Ｃ－）でも、三重結合（－Ｃ≡Ｃ－）でもよい。上記不飽和炭化水素基は置換基を有しても有さなくてもよく、有さないのが好ましい。上記不飽和炭化水素基が置換基を有する場合、置換基は特定官能基を含むのが好ましい。
　Ｌ１で表される－ＮＲＮ－のＲＮが、置換基を有していてもよい炭素数１～１０の有機基である場合、ＲＮは置換基を有していてもよい炭素数１～１０アルキル基であるのが好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１～５のアルキル基であるのが好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１～３のアルキル基であるのが好ましい。上記アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環状構造を有してもよい。ＲＮは水素原子が好ましい。
　ｍは０以上の整数を表す。ｍは、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましく、０～２の整数が更に好ましく、１～２の整数が特に好ましい。
　ｍが０の場合、ＺはＸと直接結合する。
　ｍが１の場合、Ｌ１は、置換基を有してもよいアリーレン基、エステル基、エーテル基、チオエステル基、チオエーテル基、カルボニル基、－ＮＲＮ－、アゾ基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基であるのが好ましく、置換基を有してもよいアリーレン基、エステル基、エーテル基、カルボニル基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基であるのがより好ましく、エステル基、エーテル基、カルボニル基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基であるのが更に好ましい。
　ｍが２の場合、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］は［－Ｌ１－Ｌ１－Ｚ］であり、Ｘと結合するＬ１は、置換基を有してもよいアリーレン基であるのが好ましい。この場合、Ｚと結合するＬ１は、エステル基、エーテル基、チオエステル基、チオエーテル基、カルボニル基、－ＮＲＮ－、アゾ基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基であるのが好ましく、エステル基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基であるのがより好ましい。
　ｍが２よりも大きい場合、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］中に複数存在するＬ１は同一でも異なっていてもよいが、互いに結合するＬ１同士は異なっているのが好ましい。
　一般式（１）中の－（Ｌ１）ｍ－は、一般式（Ｌｑ）で表される基であることが好ましい。つまり、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］で表される基は、［－Ｌａ－Ｚ］で表される基であることが好ましい。
　一般式（Ｌｑ）　－Ｌａ－
　Ｌａは、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、フェニレン基、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、－フェニレン基－ＣＯＯ－、又は、－フェニレン基－Ｃ≡Ｃ－を表す。
　Ｚは、置換基を有してもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。つまり、Ｚは、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基を表す。
　Ｚで表されるアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６が更に好ましい。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及び、アントラセニル基等が挙げられる。
　Ｚで表されるヘテロ環基としては、上述のＸがなり得るヘテロ環基が同様に挙げられる。また、Ｚで表されるヘテロ環基は芳香族性を示すのが好ましい。
　中でも、Ｚは、アリール基であるのが好ましく、フェニル基又はアントラセニル基であるのがより好ましく、フェニル基であるのが更に好ましい。
　Ｚは、置換基を有することも好ましく、上記置換基が後述する特定官能基を含むのがより好ましい。１個のＺが有する置換基の数は、０～５が好ましく、０～２がより好ましく、１～２が更に好ましい。
　複数存在するＺのうち少なくとも１個が、特定官能基を含む置換基を有することが好ましい。
　特定化合物は、複数存在するＺの置換基に含まれる特定官能基を、合計で、１個以上有するのが好ましく、２個以上有するのがより好ましく、３個以上有するのが更に好ましい。
　特定化合物が有する、複数存在するＺの置換基に含まれる特定官能基の合計数の上限に特に制限はないが、１５個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下が更に好ましい。
　上述の通り、一般式（１）中、ｎは３～６の整数を表す。複数の［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］の各基は、同一でも異なっていてもよい。
　つまり、一般式（１）中、複数存在するｍは同一でも異なっていてもよく、Ｌ１が複数存在する場合において複数存在するＬ１は同一でも異なっていてもよく、複数存在するＺは同一でも異なっていてもよい。
　複数存在するｍは、いずれも同一であることも好ましい。また、複数存在するｍが、いずれも１以上の整数を表すことが好ましく、いずれも２以上の整数を表すことも好ましい。
　複数存在する［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］は、Ｚが有する置換基以外いずれの構成も同一であることも好ましく、Ｚが有する置換基も含めていずれの構成も同一であることも好ましい。
　ｎは、３又は６であるのが好ましい。
　［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］中に、（Ｌ１）ｍでもＺでもあり得る基が存在する場合、その基は（Ｌ１）ｍであるものとする。例えば、［－（Ｌ１）ｍ－Ｚ］が、[－ベンゼン環基－ベンゼン環基－ハロゲン原子]である場合、左側のベンゼン環基は（Ｌ１）ｍであって、Ｚではない。より具体的には、上記の場合、「ｍ＝１、Ｌ１はフェニレン基（アリーレン基）、かつ、Ｚは置換基としてはハロゲン原子を有するフェニル基（アリール基）」であって、「ｍ＝０、かつ、Ｚは置換基としてアリールハライド基を有するフェニル基（アリール基）」ではない。
　また、一般式（１）で表される特定化合物は、ベンゼン環基を４個以上有するのが好ましい。例えば、特定化合物は、トリフェニルベンゼンの構造を有することも好ましい。
　また、一般式（１）で表される特定化合物が、ベンゼン環基とトリアジン環基とを合計４個以上有するのも好ましい。この場合、例えば、Ｘがトリアジン環基であるのも好ましい。
（特定官能基）
　特定化合物は、特定官能基を１個以上有するのが好ましく、２個以上有するのがより好ましい。
　特定官能基とは、アルデヒド基（－ＣＨＯ）、水酸基（－ＯＨ）、カルボン酸基（－ＣＯＯＨ）、イソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）、イソチオシアネート基（－Ｎ＝Ｃ＝Ｓ）、シアネート基（－Ｏ－ＣＮ）、アシルアジド基、コハク酸イミド基、スルホニルクロリド基（－ＳＯ２Ｃｌ）、カルボン酸クロリド基（－ＣＯＣｌ）、オニウム基、カーボネート基（－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－）、アリールハライド基、カルボジイミド基（－Ｎ＝Ｃ＝Ｎ－）、酸無水物基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）２）、ホスフィン酸基（－ＨＰＯ（ＯＨ））、リン酸基（－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２）、リン酸エステル基（－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲＢ）２）、スルホン酸基（－ＳＯ３Ｈ）、ハロゲン原子（Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、及びＩ原子）、ハロゲン化アルキル基、ニトリル基（－ＣＮ）、ニトロ基（－ＮＯ２）、イミドエステル基（－Ｃ（＝ＮＲＣ）－Ｏ－）、アルコキシカルボニル基、アルコキシシリル基、アクリロイル基（－ＣＯＣＨ２＝ＣＨ２）、メタクリロイル基（－ＣＯＣＨ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）、オキセタニル基、ビニル基（－ＣＨ＝ＣＨ２）、アルキニル基（アルキンから水素原子を１個除いた基。例えば、エチニル基、及びプロパ－２－イン－１－イル基等が含まれる。）、マレイミド基、チオール基（－ＳＨ）、アミノ基、オキシラニル基、及び、シリル基からなる群より選ばれる基である。
　中でも、特定官能基としては、水酸基、アミノ基、酸無水物基、チオール基、カルボン酸基、アクリロイル基、メタクリロイル基、又は、ビニル基が好ましい。
　上記水酸基は、－ＯＨ基が直接炭素原子に結合している基を意図する。また、カルボン酸基（－ＣＯＯＨ）に含まれる形態で存在する－ＯＨ基は、水酸基ではないものとする。
　上記アシルアジド基は、下記構造により表される基を意図する。なお、式中の＊は結合位置を表す。アシルアジド基のカウンターアニオン（Ｚ－）は特に限定されず、例えばハロゲンイオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　上記コハク酸イミド基、オキセタニル基、及び、マレイミド基は、それぞれ下記式より表される化合物から、任意の位置の水素原子を１個除いて形成される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　また、上記オニウム基とは、オニウム塩構造を有する基を意味する。オニウム塩とは、化学結合に関与しない電子対を有する化合物が、その電子対によって、他の陽イオン形の化合物と配位結合して生ずる化合物である。通常、オニウム塩は、カチオンとアニオンとを含む。
　オニウム塩構造としては特に限定されないが、例えば、アンモニウム塩構造、ピリジニウム塩構造、イミダゾリウム塩構造、ピロリジニウム塩構造、ピペリジニウム塩構造、トリエチレンジアミン塩構造、ホスホニウム塩構造、スルホニウム塩構造、及び、チオピリリウム塩構造等が挙げられる。なお、カウンターとなるアニオンの種類は特に限定されず、公知のアニオンが用いられる。アニオンの価数も特に限定されず、例えば、１～３価が挙げられ、１～２価が好ましい。
　オニウム基としては、中でも、下記一般式（Ａ１）で表されるアンモニウム塩構造を有する基も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（Ａ１）中、Ｒ１Ａ～Ｒ３Ａは、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）を表す。アルキル基中の炭素数は、例えば１～１０であり、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。Ｍ－は、アニオンを表す。＊は、結合位置を表す。なお、アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　上記アリールハライド基としては、芳香環基にハロゲン原子が１個以上置換した基であれば特に限定されない。上記芳香環基としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよいが、フェニル基が好ましい。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。なお、アリールハライド基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　アリールハライド基としては、具体的には、フルオロフェニル基、パーフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、及び、ヨードフェニル基等が挙げられる。
　上記リン酸エステル基としては、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲＢ）２で表される基であれば特に限定されない。上記ＲＢとしては、水素原子又は１価の有機基が挙げられる。ただし、ＲＢのいずれか１個以上は１価の有機基を表す。１価の有機基としては、例えば、アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）が挙げられる。アルキル基中の炭素数は、例えば１～１０であり、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　上記ハロゲン化アルキル基としては特に限定されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキル基にハロゲン原子が１個以上置換した基が挙げられる。上記アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、又は、臭素原子が好ましい。なお、ハロゲン化アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　上記イミドエステル基としては、－Ｃ（＝ＮＲＣ）－Ｏ－で表される基であれば特に限定されない。上記ＲＣとしては、例えば、水素原子、及び、アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）が挙げられる。アルキル基中の炭素数は、例えば１～１０であり、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　なお、イミドエステル基は、イミン窒素の化学結合に関与しない電子対が他の陽イオン（例えば、水素イオン）と配位結合することによりオニウム塩構造となっていてもよい。
　上記アルコキシシリル基としては特に限定されないが、例えば、下記一般式（Ａ２）で表される基が挙げられる。
　一般式（Ａ２）：　＊－Ｓｉ（ＯＲＤ）３
　一般式（Ａ２）中、ＲＤは、それぞれ独立して、アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）を表す。＊は、結合位置を表す。
　ＲＤで表されるアルキル基の炭素数としては、例えば、１～１０が挙げられ、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
　具体的には、トリメチトキシシリル基及びトリエトキシシリル基等が挙げられる。
　なお、アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。
　上記アミノ基としては特に限定されず、１級、２級、及び、３級のいずれであってもよい。具体的には、－Ｎ（ＲＥ）２（ＲＥは、それぞれ独立して、水素原子、又は、アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）が挙げられる。アルキル基中の炭素数は、例えば１～１０であり、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。なお、アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔ）を有していてもよい。）で表されるアミノ基が挙げられる。
　上記アルコキシカルボニル基としては、－ＣＯ－Ｏ－Ｒｆで表される基であれば特に限定されない。上記Ｒｆは、アルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれも含む。）を表す。
　Ｒｆで表されるアルキル基の炭素数としては、例えば、１～１０が挙げられ、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
　特定化合物が、複数の特定官能基を有する場合、複数の特定官能基は同一でも異なっていてもよい。
　特定官能基が存在する位置は特に制限されず、例えば、特定官能基は一般式（１）中のＸの置換基に含まれていてもよく、アリーレン基又は不飽和炭化水素基である場合のＬ１の置換基に含まれていてもよく、Ｚの置換基に含まれていてもよい。
　なお、特定官能基は、特定官能基以外の基と結合して、１個の置換基を形成してもよい。
　また、特定官能基は１個の置換基中に複数含まれていてもよい。
　特定官能基を含む置換基としては、一般式（Ｒｘ）で表される基、一般式（Ｒｙ）で表される基、又は、一般式(Ｒｚ)で表される基が好ましい。
　一般式（Ｒｘ）　－Ｌｘ１－Ｑｘ
　一般式（Ｒｙ）　－Ｌｙ１－Ｑｙ
　一般式（Ｒｚ）　－Ｌｚ１－Ｓｚ－（Ｌｚ２－Ｑｚ）ｓ
　一般式（Ｒｘ）中、Ｌｘ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
　２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＨ－、２価の炭化水素基からなる群より選ばれるいずれか１種又は２種以上を組み合わせた２価の連結基を表す。
　上記２価の炭化水素基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔで例示された基）を有していてもよい。
　上記２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基（例：－ＣＨ＝ＣＨ－）、アルキニレン基（例：－Ｃ≡Ｃ－）、及び、アリーレン基（例：フェニレン基）が挙げられる。上記アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよいが直鎖状が好ましい。また、その炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。
　Ｌｘ１としては、単結合、－ＡＬ－、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－、－ＡＬ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－ＡＬ－、－ＣＯ－Ｏ－ＡＬ－、－ＡＬ－ＮＨ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－ＡＬ－、－ＣＯ－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－、又は、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－Ａｒ－が好ましい。
　上記ＡＬは、炭素数１～１０のアルキレン基（炭素数は、１～６が好ましく、１～４がより好ましい。）を表す。
　上記Ａｒは、炭素数６～２０アリーレン基（フェニレン基が好ましい）を表す。なお、Ｌｘ１が「－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－Ａｒ－」である場合、「－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－Ａｒ－」中のＡｒはＱｘと結合する。
　Ｑｘは、１価の特定官能基を表す。具体的には、アルデヒド基、水酸基、カルボン酸基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、アシルアジド基、コハク酸イミド基、スルホニルクロリド基、カルボン酸クロリド基、オニウム基、アリールハライド基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基、スルホン酸基、リン酸エステル基、ハロゲン原子、酸無水物基、ハロゲン化アルキル基、ニトリル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシシリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキセタニル基、ビニル基、アルキニル基、マレイミド基、チオール基、アミノ基、オキシラニル基、及び、シリル基が挙げられる。
　一般式（Ｒｙ）中、Ｌｙ１は、カルボジイミド基、カーボネート基、又は、イミドエステル基を含む２価の連結基を表す。Ｌｙ１で表される２価の連結基は、カルボジイミド基、カーボネート基、又は、イミドエステル基を含んでいればよく、他の連結基との組み合わせでもよい。他の連結基としては、アルキレン基が挙げられる。例えば、Ｌｙ１は、－アルキレン基－Ｌｙ３－アルキレン基－であってもよい。Ｌｙ３は、カルボジイミド基、カーボネート基、又は、イミドエステル基を表す。
　上記Ｑｙは、１価の有機基を表す。上記Ｑｙで表される１価の有機基としては、特に限定されず、例えば、アルキル基が挙げられる。アルキル基中の炭素数は、例えば１～１０であり、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
　一般式（Ｒｚ）中、ｓは２～３の整数を表す。ｓは、２が好ましい。
　Ｌｚ１は、上記Ｌｘ１が表し得る基を表し、好ましい条件も同様である。
　複数存在するＬｚ２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
　２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＨ－、及び、２価の炭化水素基からなる群より選ばれるいずれか１種又は２種以上を組み合わせた２価の連結基を表す。
　上記２価の炭化水素基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔで例示された基）を有していてもよい。
　上記２価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基（例：－ＣＨ＝ＣＨ－）、アルキニレン基（例：－Ｃ≡Ｃ－）、及び、アリーレン基（例：フェニレン基）が挙げられる。上記アルキレン基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれであってもよいが直鎖状が好ましい。また、その炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。
　Ｌｚ２としては、単結合、－ＡＬ－、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－、－ＡＬ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－ＡＬ－、－ＣＯ－Ｏ－ＡＬ－、－ＡＬ－ＮＨ－ＣＯ－、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－ＡＬ－、－ＣＯ－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－、－Ｏ－ＡＬ－Ｏ－Ａｒ－、又は、－Ｏ－Ａｒ－が好ましい。
　上記ＡＬは、炭素数１～１０のアルキレン基（炭素数は、１～６が好ましく、１～４がより好ましい。）を表す。
　上記Ａｒは、炭素数６～２０アリーレン基（フェニレン基が好ましい）を表す。
　Ｓｚは、（ｓ＋１）価の連結基を表す。
　Ｓｚとしては、（ｓ＋１）価の芳香環基が好ましい。上記芳香環基は芳香族炭化水素環基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、ベンゼン環基又はトリアジン環基が好ましい。
　Ｑｚは、１価の特定官能基を表す。
　複数存在するＱｚは、それぞれ独立に、上記Ｑｘが表し得る基を表し、好ましい条件も同様である。
（一般式（２）で表される化合物）
　特定化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　一般式（２）中、Ｌａ及びＺの定義は、上述した通りである。なお、複数のＬａは、同一であっても、異なっていてもよい。複数のＺは、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｔは、それぞれ独立に、－ＣＲａ＝、又は、－Ｎ＝を表す。Ｒａは、水素原子、１価の特定官能基、又は、－Ｌａ－Ｚを表す。Ｌａ及びＺの定義は、上述した通りである。
　例えば、全てのＴが－ＣＲａ＝であり、かつ、全てのＲａが－Ｌａ－Ｚである場合、一般式（２）で表される化合物は６個の－Ｌａ－Ｚで表される基を有する。
　また、全てのＴが－Ｎ＝である場合、一般式（２）で表される化合物はトリアジン環を有する。
（一般式（３）で表される化合物）
　一般式（２）で表される化合物としては、一般式（３）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　一般式（３）中、Ｌａの定義は、上述した通りである。なお、複数のＬａは、同一であっても、異なっていてもよい。
　Ａｒは、それぞれ独立に、アリール基を表す。アリール基の好適態様としては、Ｚで表されるアリール基が挙げられる。
　Ｒｂは、それぞれ独立に、特定置換基を含む置換基を表す。特定置換基の定義は、上述した通りである。また、特定置換基を含む置換基としては、一般式（Ｒｘ）で表される基、一般式（Ｒｙ）で表される基、又は、一般式（Ｒｚ）で表される基が好ましい。
　ｐは、それぞれ独立に、０～５の整数を表す。ｐは、０～２が好ましい。中でも、一般式（３）中の３つのｐのうち、２つのｐが０で、かつ、１つのｐが１である態様１、又は、３つのｐが全て１である態様２が好ましい。
　一般式（３）中、Ｔ１は、それぞれ独立に、－ＣＲｃ＝、又は、－Ｎ＝を表す。Ｒｃは、水素原子、１価の特定官能基、又は－Ｌａ－Ａｒ－（Ｒｂ）ｐを表す。Ｌａ、Ａｒ、Ｒｂ及びｐの定義は、上述した通りである。
　上記特定化合物の分子量は、表面修飾無機窒化物の分散性により優れる点から、３００以上が好ましく、３５０以上がより好ましい。また、上記特定化合物の分子量は、溶解度に優れる点から、３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましい。
　特定化合物は、公知の方法に従って合成できる。
＜表面修飾無機窒化物の製造方法＞
　表面修飾無機窒化物の製造方法は特に限定されず、例えば、無機窒化物と特定化合物とを接触させる工程を有する方法が挙げられる。
　無機窒化物と特定化合物との接触は、例えば、無機窒化物及び特定化合物を含む溶液を攪拌することにより実施される。
　上記溶液の溶媒の種類は特に限定されないが、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、及び、テトラヒドロフランが挙げられる。
　上記溶液は、後述の重合性モノマー等のその他の成分を含んでいてもよい。この場合、得られた混合物は、後述する組成物として用いることもできる。
　無機窒化物と特定化合物との混合比は、無機窒化物の構造及び表面積、並びに、特定化合物の分子のアスペクト比等の分子構造を考慮して決定すればよい。
　攪拌条件（攪拌回転数、温度条件）は特に限定されない。
＜表面修飾無機窒化物＞
　表面修飾無機窒化物において、特定化合物は、無機窒化物を表面修飾している。特定化合物は、無機窒化物と水素結合等の結合を形成し、表面修飾を達成していることが好ましい。
　表面修飾無機窒化物の形状は特に限定されず、例えば、粒子状、フィルム状、及び、板状が挙げられる。
　表面修飾無機窒化物中における特定化合物と無機窒化物との質量比（特定化合物の質量／無機窒化物の質量）は特に限定されないが、表面修飾無機窒化物の分散性がより優れる点で、上記質量比は０．０００１～０．５が好ましく、０．０００５～０．１がより好ましい。
　表面修飾無機窒化物では特定化合物が無機窒化物表面に吸着していればよく、他の表面修飾剤が無機窒化物表面に吸着していてもよい。つまり、表面修飾無機窒化物は、無機窒化物と、無機窒化物表面上に吸着した特定化合物、及び、他の表面修飾剤とを含んでいてもよい。
〔組成物〕
　上記表面修飾無機窒化物は、各種材料への分散性が改善されている。これを利用して、表面修飾無機窒化物は、他の材料と混合して、組成物として様々な用途に適用できる。
　組成物中における表面修飾無機窒化物の含有量は特に限定されず、組成物の用途に応じて適宜最適な含有量が選択される。表面修飾無機窒化物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、例えば、０．０１～９５質量％であり、中でも、表面修飾無機窒化物の特性がより現れる点で、表面修飾無機窒化物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、２０～９５質量％が好ましく、３０～９０質量％がより好ましく、４０～８５質量％が更に好ましい。
　組成物は、表面修飾無機窒化物を１種含んでいても、２種以上含んでいてもよい。
　組成物には、上述したように、表面修飾無機窒化物以外の材料が含まれていてもよく、例えば、重合性モノマー、硬化剤、硬化促進剤、及び、重合開始剤等が挙げられる。
　以下、各種成分について詳述する。
＜重合性モノマー＞
　重合性モノマーは、熱又は光等の所定の処理によって硬化する化合物である。
　重合性モノマーは、重合性基を有する。
　重合性基の種類は特に制限されず、公知の重合性基が挙げられ、反応性の点から、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基又は環重合性基がより好ましい。重合性基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシラニル基、ビニル基、マレイミド基、スチリル基、アリル基、及び、オキセタニル基等が挙げられる。なお、上記各基中の水素原子は、ハロゲン原子等他の置換基で置換されていてもよい。重合性基は、中でも、反応性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシラニル基、及び、ビニル基からなる群より選ばれる基であることが好ましい。
　なお、重合性モノマーに含まれる重合性基の数は特に限定されないが、組成物を硬化して得られる硬化物の耐熱性がより優れる点で、２個以上であることが好ましく、３個以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが、８個以下の場合が多い。
　重合性モノマーの種類は特に限定されず、公知の重合性モノマーを用いることができる。例えば、特許第４１１８６９１号の段落００２８に記載のエポキシ樹脂モノマー及びアクリル樹脂モノマー、特開２００８－１３７５９号公報の段落０００６～００１１に記載のエポキシ化合物、並びに、特開２０１３－２２７４５１号公報の段落００３２～０１００に記載のエポキシ樹脂混合物等が挙げられる。
　具体例として、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル樹脂モノマー、及び、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル樹脂モノマー等も用いることができる。
　組成物中における重合性モノマーの含有量は特に限定されず、組成物の用途に応じて適宜最適な含有量が選ばれる。中でも、重合性モノマーの含有量は、組成物中の全固形分に対して、１０～９０質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましい。
　組成物は、重合性モノマーを１種含んでいても、２種以上含んでいてもよい。
　重合性モノマーは、液晶性を示すことが好ましい。つまり、重合性モノマーが、液晶化合物であることが好ましい。言い換えれば、重合性基を有する液晶化合物であることが好ましい。
　また、重合性モノマーの硬化物が液晶性を示すことも好ましい。なお、重合性モノマーの硬化物とは、重合性モノマー自体を硬化させて得られる硬化物を意図し、上述した表面修飾無機窒化物は含まれない。なお、上記硬化物を得る際には、必要に応じて、後述する硬化剤を用いてもよい。
　以上のように、重合性モノマー又はその硬化物は、液晶性を示すことが好ましい。つまり、重合性モノマー又はその硬化物は、液晶成分であることが好ましい。
　重合性モノマーは、棒状液晶化合物及び円盤状液晶化合物のいずれであってもよい。つまり、重合性モノマーは、重合性基を有する棒状液晶化合物及び重合性基を有する円盤状液晶化合物のいずれであってもよい。
　なお、一般式（１）で表される化合物と円盤状液晶化合物とは異なる化合物であり、一般式（１）に該当する化合物は円盤状液晶化合物には含まれない。
　以下、棒状液晶化合物及び円盤状液晶化合物について詳述する。
（棒状液晶化合物）
　棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及び、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。以上のような低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。上記高分子液晶化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶化合物が重合した高分子化合物である。
　好ましい棒状液晶化合物としては、下記一般式（ＸＸＩ）で表される棒状液晶化合物が挙げられる。
　一般式（ＸＸＩ）：Ｑ１－Ｌ１１１－Ａ１１１－Ｌ１１３－Ｍ－Ｌ１１４－Ａ１１２－Ｌ１１２－Ｑ２
　式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に、重合性基であり、Ｌ１１１、Ｌ１１２、Ｌ１１３、及び、Ｌ１１４はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１１１及びＡ１１２はそれぞれ独立に、炭素数１～２０の２価の連結基（スペーサ基）を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
　なお、重合性基の定義は、上述の通りである。
　Ｑ１及びＱ２の少なくとも１個はアクリロイル基、メタクリロイル基、又は、オキシラニル基であることが好ましく、いずれもアクリロイル基、メタクリロイル基、又は、オキシラニル基であることがより好ましい。
　Ｌ１１１、Ｌ１１２、Ｌ１１３、及び、Ｌ１１４で表される２価の連結基としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＮＲ１１２－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＨ２－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯ－Ｏ－、及び、－ＮＲ１１２－ＣＯ－ＮＲ１１２－からなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ１１２は炭素数１～７のアルキル基又は水素原子である。
　Ａ１１１及びＡ１１２は、炭素数１～２０の２価の連結基を表す。２価の連結基は、隣接していない酸素原子及び硫黄原子などのヘテロ原子を含んでいてもよい。中でも、炭素数１～１２のアルキレン基、アルケニレン基、又は、アルキニレン基が好ましく、炭素数１～１２のアルキレン基がより好ましい。上記、アルキレン基、アルケニレン基、又は、アルキニレン基がエステル基を有しているのも好ましい。
　２価の連結基は直鎖状であることが好ましく、また、上記２価の連結基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、又は、臭素原子）、シアノ基、メチル基、及び、エチル基が挙げられる。
　Ｍで表されるメソゲン基としては、公知のメソゲン基が挙げられる。中でも、下記一般式（ＸＸＩＩ）で表される基が好ましい。
　一般式（ＸＸＩＩ）：－（Ｗ１－Ｌ１１５）ｎ－Ｗ２－
　式中、Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、２価の環状アルキレン基、２価の環状アルケニレン基、アリーレン基、又は、２価のヘテロ環基を表す。Ｌ１１５は、単結合又は２価の連結基を表す。ｎは、１～４の整数を表す。
　Ｗ１及びＷ２としては、例えば、１，４－シクロヘキセンジイル、１，４－シクロヘキサンジイル、１，４－フェニレン、ピリミジン－２，５－ジイル、ピリジン－２，５－ジイル、１，３，４－チアジアゾール－２，５－ジイル、１，３，４－オキサジアゾール－２，５－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、ナフタレン－１，５－ジイル、チオフェン－２，５－ジイル、及び、ピリダジン－３，６－ジイルが挙げられる。１，４－シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体のどちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。中でも、トランス体が好ましい。
　Ｗ１及びＷ２は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられ、より具体的には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子）、シアノ基、炭素数１～１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、及び、プロピル基等）、炭素数１～１０のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、及び、エトキシ基等）、炭素数１～１０のアシル基（例えば、ホルミル基、及び、アセチル基等）、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、及び、エトキシカルボニル基等）、炭素数１～１０のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、及び、プロピオニルオキシ基等）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、及び、ジフルオロメチル基等が挙げられる。
　Ｌ１１５で表される２価の連結基としては、上述したＬ１１１～Ｌ１１４で表される２価の連結基の具体例が挙げられ、例えば、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＨ２－Ｏ－、及び、－Ｏ－ＣＨ２－が挙げられる。
　上記一般式（ＸＸＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましい骨格を、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　なお、一般式（ＸＸＩ）で表される化合物は、特表平１１－５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法を参照して合成できる。
　棒状液晶化合物は、特開平１１－３２３１６２号公報及び特許４１１８６９１号に記載のメソゲン基を有するモノマーであってもよい。
（円盤状液晶化合物）
　円盤状液晶化合物は、少なくとも部分的に円盤状構造を有する。円盤状構造は、少なくとも芳香族環を有する。そのため、円盤状液晶化合物は、分子間のπ－π相互作用によるスタッキング構造の形成により柱状構造を形成しうる。
　円盤状構造として、具体的には、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．　Ｅｄ．　２０１２，　５１，　７９９０－７９９３及び特開平７－３０６３１７号公報に記載のトリフェニレン構造、並びに、特開２００７－２２２０号公報及び特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の３置換ベンゼン構造等が挙げられる。
　中でも、重合性モノマーとして円盤状液晶化合物を用いることにより、高い熱伝導性を示す熱伝導材料が得られる。その理由としては、棒状液晶化合物が直線的（一次元的）にしか熱伝導できないのに対して、円盤状液晶化合物は法線方向に平面的（二次元的）に熱伝導できるため、熱伝導パスが増え、熱伝導率が向上する、と考えられる。
　また、円盤状液晶化合物を用いることにより、組成物の硬化物の耐熱性が向上する。
　円盤状液晶化合物は、３個以上の重合性基を有することが好ましい。３個以上の重合性基を有する円盤状液晶化合物を含む組成物の硬化物はガラス転移温度が高く、耐熱性が高い傾向がある。円盤状液晶化合物は棒状液晶化合物と比較して、メソゲン部分の特性に影響を与えることなく３個以上の重合性基を有しやすい。円盤状液晶化合物が有する重合性基の数は８個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。重合性基はアクリロイル基、メタクリロイル基、又は、オキシラニル基であることが好ましい。
　円盤状液晶化合物としては、以下の一般式（ＸＩ）で表される化合物又は一般式（ＸＩＩ）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及び、Ｒ１６はそれぞれ独立に＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１又は＊－Ｘ１２－Ｙ１２を表し、＊はトリフェニレン環との結合位置を表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及び、Ｒ１６のうち２個以上は＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１であり、Ｘ１１及びＸ１２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｓ－、－Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、又は、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｓ－を表し、Ｌ１１は２価の連結基又は単結合を表し、Ｐ１１は重合性基を表し、Ｙ１２は、水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基において１個又は２個以上のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基を表す。
　Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及び、Ｒ１６は３個以上が＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１であることが好ましい。中でも、Ｒ１１及びＲ１２のいずれか１個以上、Ｒ１３及びＲ１４のいずれか１個以上、並びに、Ｒ１５及びＲ１６のいずれか１個以上が＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１であることがより好ましく、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及び、Ｒ１６が全て＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１であることが更に好ましく、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及び、Ｒ１６が全て同一の＊－Ｘ１１－Ｌ１１－Ｐ１１であることが特に好ましい。
　Ｘ１１及びＸ１２としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましく、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－がより好ましく、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が更に好ましい。
　Ｌ１１は、Ｘ１１とＰ１１とを連結する２価の連結基又は単結合を表す。２価の連結基としては、－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、炭素数１～１０（好ましくは炭素数１～８、より好ましくは炭素数１～６）のアルキレン基、炭素数６～２０（好ましくは炭素数６～１４、より好ましくは炭素数６～１０）のアリーレン基、又は、これらの組み合わせからなる基等が挙げられる。
　炭素数１～１０のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、及び、ヘキシレン基等が挙げられる。
　炭素数６～２０のアリーレン基としては、例えば、１，４－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、及び、アントラセニレン基等が挙げられ、１，４－フェニレン基が好ましい。
　上記アルキレン基及び上記アリーレン基は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられる。置換基の数は１～３個が好ましく、１個がより好ましい。置換基の置換位置は特に限定されない。置換基としては、ハロゲン原子又は炭素数１～３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アルキレン基及びアリーレン基は無置換であることも好ましい。特にアルキレン基は無置換であることが好ましい。
　Ｐ１１は、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述の通りである。
　Ｐ１１はアクリロイル基、メタクリロイル基、又は、オキシラニル基であることが好ましい。
　なお、Ｐ１１がヒドロキシ基であるとき、Ｌ１１はアリーレン基を含み、このアリーレン基はＰ１１と結合していることが好ましい。
　Ｙ１２は、水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基において１個又は２個以上のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基を表す。
　Ｙ１２が炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基において１個又は２個以上のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基の場合、Ｙ１２が表す基に存在する水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。
　炭素数１～２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、直鎖状又は分岐鎖状のヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、及び、ドデシル基が挙げられる。
　環状のアルキル基の炭素数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下が更に好ましく、６以下が特に好ましい。環状のアルキル基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及び、シクロオクチル基が挙げられる。
　Ｙ１２としては、水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０のアルキレンオキシド基が好ましく、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～２０のエチレンオキシド基若しくはプロピレンオキシド基がより好ましい。
　上記一般式（ＸＩ）で表される化合物の具体例については、特開平７－２８１０２８号公報の段落００２８～００３６、特開平７－３０６３１７号公報、特開２００５－１５６８２２号公報の段落００１６～００１８、特開２００６－３０１６１４号公報の段落００６７～００７２、及び、液晶便覧（平成１２年丸善株式会社発刊）３３０頁～３３３頁に記載の例を参照できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式中、Ａ２、Ａ３、及び、Ａ４はそれぞれ独立に－ＣＨ＝又は－Ｎ＝を表し、Ｒ１７、Ｒ１８、及び、Ｒ１９はそれぞれ独立に、＊－Ｘ２１１－（Ｚ２１－Ｘ２１２）ｎ２１－Ｌ２１－Ｐ２１又は＊－Ｘ２１１－（Ｚ２２－Ｘ２２２）ｎ２２－Ｙ２２を表し、＊は中心環との結合位置を表し、Ｒ１７、Ｒ１８、及び、Ｒ１９のうち２個以上は＊－Ｘ２１１－（Ｚ２１－Ｘ２１２）ｎ２１－Ｌ２１－Ｐ２１であり、Ｘ２１１、Ｘ２１２、及び、Ｘ２２２はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｓ－、－Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、又は、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｓ－を表し、Ｚ２１及びＺ２２はそれぞれ独立に、５員環若しくは６員環の芳香族基、又は、５員環若しくは６員環の非芳香族基を表し、Ｌ２１は、Ｘ２１２とＰ２１とを連結する２価の連結基又は単結合を表し、Ｐ２１は重合性基を表し、Ｙ２２は水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは、環状のアルキル基において１個又は２個以上のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基を表し、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、０～３の整数を表し、ｎ２１及びｎ２２が２以上の場合の複数個あるＺ２１－Ｘ２１２及びＺ２２－Ｘ２２２は同一でも異なっていてもよい。
　Ｒ１７、Ｒ１８、及び、Ｒ１９は全て、＊－Ｘ２１１－（Ｚ２１－Ｘ２１２）ｎ２１－Ｌ２１－Ｐ２１であることが好ましい。Ｒ１７、Ｒ１８、及び、Ｒ１９は全て同一の＊－Ｘ２１１－（Ｚ２１－Ｘ２１２）ｎ２１－Ｌ２１－Ｐ２１であることがより好ましい。
　Ｘ２１１、Ｘ２１２、及び、Ｘ２２２としては、単結合、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－が好ましい。
　Ｚ２１及びＺ２２はそれぞれ独立に、５員環若しくは６員環の芳香族基、又は、５員環若しくは６員環の非芳香族基を表し、例えば、１，４－フェニレン基、１，３－フェニレン基、及び、２価の複素環基等が挙げられる。
　上記芳香族基及び非芳香族基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられる。置換基の数は１個又は２個が好ましく、１個がより好ましい。置換基の置換位置は特に限定されない。置換基としては、ハロゲン原子又はメチル基が好ましい。ハロゲン原子としては塩素原子又はフッ素原子が好ましい。上記芳香族基及び非芳香族基は無置換であることも好ましい。
　２価の複素環としては、例えば、以下の複素環が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式中、＊はＸ２１１に結合する側の部位を示し、＊＊はＸ２１２（又はＸ２２２）に結合する側の部位を示し；Ａ４１及びＡ４２はそれぞれ独立にメチン基又は窒素原子を表し；Ｘ４は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、又は、イミノ基を表す。
　Ａ４１及びＡ４２は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。また、Ｘ４は酸素原子であることが好ましい。
　Ｌ２１は、Ｘ２１２とＰ２１とを連結する２価の連結基又は単結合を表し、一般式（ＸＩ）におけるＬ１１と同義である。Ｌ２１としては、－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、炭素数１～１０（好ましくは炭素数１～８、より好ましくは炭素数１～６）のアルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる基が好ましい。
　Ｐ２１は、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述の通りである。
　Ｐ２１は、アクリロイル基、メタクリロイル基、又は、オキシラニル基であることが好ましい。
　Ｙ２２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキル基、又は、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状、若しくは環状のアルキル基において１個又は２個以上のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ３）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－で置換された基を表し、一般式（ＸＩ）におけるＹ１２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、０～３の整数を表し、１～３の整数が好ましく、２又は３がより好ましい。
　一般式（ＸＩＩ）で表される化合物の詳細及び具体例については、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～００７７の記載を参照でき、その内容は本明細書に組み込まれる。
　電子密度を減らすことでスタッキングを強くし、カラム状集合体を形成しやすくなるという点で、一般式（ＸＩ）又は一般式（ＸＩＩ）で表される化合物としては、水素結合性官能基を有する化合物であることが好ましい。
　水素結合性官能基としては、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｓ－、及び、ＳＣ（＝Ｏ）ＮＨ－等が挙げられる。
　一般式（ＸＩ）で表される化合物、及び、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物として特に好ましい具体例としては以下の化合物が挙げられる。なお、以下に挙げられる化合物におけるオキシラニル基及びオキセタニル基が、アクリロイル又はメタクリロイル基である例も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　一般式（ＸＩ）で表される化合物は、特開平７－３０６３１７号公報、特開平７－２８１０２８号公報、特開２００５－１５６８２２号公報、及び、特開２００６－３０１６１４号公報に記載の方法に準じて合成できる。
　一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、特開２０１０－２４４０３８号公報、特開２００６－７６９９２号公報、及び、特開２００７－２２２０号公報に記載の方法に準じて合成できる。
＜その他の成分＞
（硬化剤）
　組成物は、更に、硬化剤を含有してもよい。
　硬化剤の種類は特に限定されず、上述した重合性モノマーを硬化し得る化合物であればよい。硬化剤としては、ヒドロキシ基、アミノ基、チオール基、イソシアネート基、カルボキシ基、（メタ）アクリロイル基、及び、無水カルボン酸基からなる群より選ばれる官能基を有する化合物であることが好ましく、ヒドロキシ基、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、及び、チオール基からなる群より選ばれる官能基を有する化合物であることがより好ましい。
　硬化剤は、上記官能基を２個以上有することが好ましく、２個又は３個有することがより好ましい。
　硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、グアニジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、ナフトール系硬化剤、アクリル系硬化剤、酸無水物系硬化剤、活性エステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、及び、シアネートエステル系硬化剤等が挙げられる。中でも、アクリル系硬化剤、フェノール系硬化剤、又は、アミン系硬化剤が好ましい。アミン系硬化剤としては、例えば、４，４’－ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。アクリル系硬化剤としては、例えば、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレートが挙げられる。フェノール系硬化剤としては、例えば、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂が挙げられる。
　組成物中における硬化剤の含有量は特に限定されないが、組成物中の全固形分に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
（硬化促進剤）
　組成物は、更に、硬化促進剤を含有してもよい。
　硬化促進剤の種類は限定されず、例えば、トリフェニルホスフィン、２－エチル－４－メチルイミダゾール、三フッ化ホウ素アミン錯体、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、及び、特開２０１２－６７２２５号公報の段落００５２に記載の硬化促進剤が挙げられる。
　組成物中における硬化促進剤の含有量は特に限定されないが、組成物中の全固形分に対して、０．１～２０質量％が好ましい。
（重合開始剤）
　組成物は、更に、重合開始剤を含有してもよい。
　また、特定化合物又は重合性モノマーが（メタ）アクリロイル基を有する場合には、組成物はアゾ系重合開始剤を含むことが好ましい。また、好適な例として特開２０１０－１２５７８２の段落００６２及び特開２０１５－０５２７１０の段落００５４に記載の重合が挙げられる。
　組成物中における重合開始剤の含有量は特に限定されないが、組成物中の全固形分に対して、０．１～５０質量％が好ましい。
（溶媒）
　組成物は、更に、溶媒を含有してもよい。
　溶媒の種類は特に限定されず、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、及び、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
＜組成物の製造方法＞
　組成物の製造方法は特に限定されず、公知の方法を採用でき、例えば、上述した各種成分（表面修飾無機窒化物及び重合性モノマー等）を公知の方法で混合することにより製造できる。混合する際には、各種成分を一括で混合しても、順次混合してもよい。
　また、上述したように、表面修飾無機窒化物を製造する際に、無機窒化物、特定化合物、及び、その他の添加剤を一括して混合して、組成物を製造してもよい。
＜組成物の硬化方法＞
　組成物の硬化方法は特に限定されず、重合性モノマーの種類によって適宜最適な方法が選ばれる。硬化方法は、例えば、熱硬化反応であっても、光硬化反応であってもよく、熱硬化反応が好ましい。
　熱硬化反応の際の加熱温度は特に限定されない。例えば、５０～２００℃の範囲で適宜選択すればよい。また、熱硬化反応を行う際には、温度の異なる加熱処理を複数回にわたって実施してもよい。
　なお、硬化反応は、シート状とした組成物に対して実施することが好ましい。具体的には、例えば、組成物を塗布し、得られた塗膜に対して硬化反応を実施すればよい。その際、プレス加工を行ってもよい。
　また、硬化反応は、半硬化反応であってもよい。つまり、得られる硬化物が、いわゆるＢステージ状態（半硬化状態）であってもよい。
　上記のような半硬化させた硬化物をデバイス等に接触するように配置した後、更に加熱等によって本硬化させることにより、硬化物である熱伝導材料を含む層とデバイスとの接着性がより向上する。
＜用途＞
　上記表面修飾無機窒化物及び上記組成物は、種々の用途に適用できる。例えば、顔料、触媒、電極材料、半導体材料、熱伝導材料、及び、潤滑剤等として様々な分野に応用できる。つまり、上記表面修飾無機窒化物を含む材料は、種々の用途に適用できる。なお、表面修飾無機窒化物を含む材料の形状は特に限定されず、例えば、シート状であってもよい。
　中でも、上記表面修飾無機窒化物及び上記組成物は、熱伝導材料又は潤滑剤を形成するために用いることが好ましい。
　以下、この好適用途に関して詳述する。
（熱伝導材料）
　本発明の熱伝導材料は、表面修飾無機窒化物を含む。
　熱伝導材料中には、表面修飾無機窒化物以外の成分が含まれていてもよく、例えば、バインダーが挙げられる。なお、バインダーとしては、上述した重合性モノマーが硬化して形成されるバインダーが挙げられる。
　熱伝導材料は、上述した組成物を硬化して作製できる。つまり、上記組成物は、熱伝導材料を形成するために用いることができる。なお、硬化反応を含む熱伝導材料の作製方法については、「高熱伝導性コンポジット材料」（シーエムシー出版、竹澤由高著）を参照できる。
　なお、上記熱伝導材料には表面修飾無機窒化物が含まれていればよく、その製造方法は上記組成物を用いる態様には限定されない。
　熱伝導材料は、熱伝導性に優れる材料であり、放熱シート等の放熱材料として用いることができる。例えば、パワー半導体デバイス等の各種デバイスの放熱用途に用いることができる。より具体的には、デバイス上に上記熱伝導材料を含む熱伝導層を配置して熱伝導層付きデバイスを作製することにより、デバイスからの発熱を効率的に熱伝導層で放熱できる。
　熱伝導材料の形状は特に限定されず、用途に応じて、様々な形状に成形されていてもよい。典型的には、熱伝導材料は、シート状であることが好ましい。
　なお、上記熱伝導材料は、完全に硬化した状態であってもよく、半硬化状態（上述したＢステージ状態）であってもよい。上述したように、半硬化状態の熱伝導材料であればデバイス上に配置した後、加熱処理を施すことにより、デバイス上に接着性に優れた熱伝導層を形成できる。
（潤滑剤）
　上記表面修飾無機窒化物は、潤滑剤の作製に好適に使用できる。つまり、表面修飾無機窒化物の用途として、表面修飾無機窒化物を含む潤滑剤が挙げられる。
　潤滑剤は、グリース（低分子モノマー、高分子樹脂）等と表面修飾無機窒化物とを混合することにより作製できる。グリースとしては、公知の材料を用いることができる。
　潤滑剤を作製する際には、表面修飾無機窒化物中の無機窒化物としては、窒化ホウ素が好ましく挙げられる。窒化ホウ素は、高温領域でそのもの自身が潤滑性を示すことが知られているからである。
　以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきではない。
〔実験系の確立〕
　アリザリンは、酸化亜鉛と結合して酸化亜鉛表面を修飾することがよく知られている化合物である（特許５４７９１７５号）。アリザリン（和光純薬社製、カタログ番号０１５－０１１５１）１２ｍｇをメチルエチルケトン３００ｍＬに溶解させて、この溶液の可視吸収スペクトル（測定装置：島津製作所製ＵＶ－３１００ＰＣ）を用いて波長４２７ｎｍの吸光度を測定した。更に、この溶液（２５ｍＬ）に、別に用意した酸化亜鉛微粒子（和光純薬社製、２６４－００３６５）を添加して、軽く攪拌した。約５分後、得られた溶液の上澄み液を０．４５ミクロンフィルター（ザルトリウス社製Ｍｉｎｉｓａｒｔ　ＲＣ１５）を使用してフィルターろ過した。得られたろ液について、上記と同様に吸光度を測定した。その結果、酸化亜鉛微粒子添加前の溶液の吸光度に対して、酸化亜鉛微粒子添加後の溶液の吸光度が２７．６％であった。得られた結果から、上記のような吸光度の比較を行うことにより、吸光度の減少分から化合物の無機窒化物の表面修飾の有無、及び、その程度を決定できることが分かった。
（無機窒化物への吸着試験）
　下記化合物Ｃ－５（１０ｍｇ）をアセトニトリル（１００ｍＬ）に溶解し、さらに１／１０に希釈することにより溶液を得た。得られた溶液の紫外可視吸収スペクトル（測定装置：島津製作所製ＵＶ－３１００ＰＣ）を測定し、吸収極大波長での吸光度Ｘを求めた。
　次に、上記溶液（２０ｍＬ）にデンカ株式会社製窒化ホウ素「ＳＧＰＳ」（０．５ｇ）を添加し数秒間撹拌した。撹拌後、得られた溶液の上澄み液をフィルターろ過した。得られたろ液を用いて、上記と同様に、ろ液の紫外可視吸収スペクトル（測定装置：島津製作所製ＵＶ－３１００ＰＣ）を測定し、吸収極大波長での吸光度Ｙを求めた。紫外可視吸収スペクトルの結果を図１に示す。
　次いで、窒化ホウ素を添加する前の溶液の吸収極大波長での吸光度Ｘに対する、窒化ホウ素を添加して得られた上記ろ液の吸収極大波長での吸光度Ｙの割合（残存率（％））を算出した。残存率（％）が小さいほど、窒化ホウ素への吸着に優れることを意味する。結果を表１に示す。
　さらに、化合物Ｃ－５以外にも、下記に示す各化合物を用い、上記と同様の手順に従って、窒化ホウ素の添加後の吸光度の残存率（％）を算出した。各結果を下記表１にまとめて示す。
　また、以下の化合物を用いた場合の紫外可視吸収スペクトルの結果を図２～４にそれぞれ示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
　上記表１の結果から分かるように、表１に示す各化合物を用いた場合、いずれも吸光度の減少が確認された。この結果より、表１に示す各化合物は、窒化ホウ素の表面に吸着することが確認された。なお、後述する実施例で用いられる化合物Ｃ－１～Ｃ－５１のうち、表１に示す化合物以外の化合物を用いた場合においても吸光度の減少が確認された。この結果より、後述する実施例で用いられる化合物Ｃ－１～Ｃ－５１のうち、表１に示す化合物以外の化合物についても、窒化ホウ素の表面に吸着することが確認された。
〔組成物の調製及び評価〕
＜各種成分＞
　以下に、実施例及び比較例で使用する各種成分を示す。
（重合性モノマー）
　重合性モノマーとして、下記Ａ－１～Ａ－４で表される化合物を用いた。
　Ａ－１：ビスフェノールＦジグリシジルエーテル樹脂とビスフェノールＡジグリシジルエーテル樹脂の混合物、エポキシ当量：１６５．７ｇ／ｅｑ、全塩素：０．００８重量％、粘度：２，３４０ｍＰａ・ｓ、新日鉄住金化学社製。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
（硬化剤）
　硬化剤として、下記Ｂ－１～Ｂ－３で表される化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
（溶剤）
　溶剤として、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）を用いた。
（重合開始剤）
　重合開始剤として、ＶＡｍ－１１０（油溶性アゾ重合開始剤、和光純薬（株）社製）を用いた。
（硬化促進剤）
　硬化促進剤として、ＰＰｈ３（トリフェニルホスフィン）を用いた。
（無機窒化物）
　無機窒化物として、ＳＧＰＳ（窒化ホウ素、平均粒径１２μｍ、デンカ（株）社製）を用いた。
（表面修飾剤）
　表面修飾剤として、下記Ｃ－１～Ｃ－５２で表される化合物を用いた。
　なお、下記一覧中、「Ｍｅ」はメチル基を表し、「Ｅｔ」はエチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
（比較用表面修飾剤）
　比較用表面修飾剤として、下記Ｄ－１～Ｄ－４で表される化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
＜実施例１＞
　下記表２に示す各種成分を、重合性モノマー、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、硬化剤、表面修飾剤（一般式（１）で表される化合物）、及び、重合開始剤の順で混合した後、無機窒化物を添加した。得られた混合物を自転公転ミキサー（ＴＨＩＮＫＹ社製、あわとり練太郎ＡＲＥ－３１０）で５分間処理することで組成物１を得た。なお、組成物１の最終的な固形分は、表２に記載された固形分濃度（「溶媒」欄内に記載）になるよう、ＭＥＫで調整した。
　次に、アプリケーターを用いて、ポリエステルフィルム（ＮＰ－１００Ａ　パナック社製、膜厚１００μｍ）の離型面上に膜厚が約６００μｍになるように組成物１を塗布し、空気下で１時間放置することで塗膜１を得た。
　次に、塗膜１の塗膜面を別のポリエステルフィルムで覆い、真空熱プレス（熱板温度１３０℃、真空度≦１ｋＰａ、圧力１２ＭＰａ、処理時間５時間）で処理することで塗膜を硬化し、樹脂シートを得た。樹脂シートの両面にあるポリエステルフィルムを剥がし、平均膜厚３５０μｍの熱伝導性シート１を得た。
（評価）
　得られた熱伝導性シート１に対し、下記の評価を実施した。
　［１］分散性評価
　分散性評価は、熱伝導性シート１を用いて実施した。具体的には、熱伝導性シート１の膜厚を任意の５か所の位置において測定し、その測定ばらつきについて標準偏差を求め、下記の基準に従って評価した。標準偏差が小さい場合（言い換えると膜厚のばらつきが小さい場合）、表面修飾無機窒化物が良好に分散していることを示す。一方、標準偏差が大きい場合（言い換えると膜厚のばらつきが大きい場合）、硬化物中において凝集等が発生し表面凹凸が生じていることを意味し、つまり表面修飾無機窒化物の分散性が劣っていることを示す。
　膜厚測定は、アイフェイズ社製の「アイフェイズ・モバイル１ｕ」を用いて実施した。
（評価基準）
　「Ａ」：標準偏差が５μｍ未満
　「Ｂ」：標準偏差が５μｍ以上１０μｍ未満
　「Ｃ」：標準偏差が１０μｍ以上３０μｍ未満
　「Ｄ」：標準偏差が３０μｍ以上
　結果を表２に示す。
　［２］熱伝導性評価
　熱伝導性評価は、熱伝導性シート１を用いて実施した。熱伝導率の測定は下記の方法で行い、下記の基準に従って熱伝導性を評価した。
・熱伝導率（Ｗ／ｍ・Ｋ）の測定
（１）アイフェイズ社製の「アイフェイズ・モバイル１ｕ」を用いて、熱伝導性シート１の厚み方向の熱拡散率を測定した。
（２）メトラー・トレド社製の天秤「ＸＳ２０４」を用いて、熱伝導性シート１の比重をアルキメデス法（「固体比重測定キット」使用）で測定した。
（３）セイコーインスツル社製の「ＤＳＣ３２０／６２００」を用い、１０℃／分の昇温条件の下、２５℃における熱伝導性シート１の比熱を求めた。
（４）得られた熱拡散率に比重及び比熱を乗じることで、熱伝導性シート１の熱伝導率を算出した。
（評価基準）
　「Ａ」：　１５Ｗ／ｍ・Ｋ以上
　「Ｂ」：　１２Ｗ／ｍ・Ｋ以上１５Ｗ／ｍ・Ｋ未満
　「Ｃ」：　９Ｗ／ｍ・Ｋ以上１２Ｗ／ｍ・Ｋ未満
　「Ｄ」：　９Ｗ／ｍ・Ｋ未満
　結果を表２に示す。
＜実施例２～５６、比較例１～４＞
　実施例１と同様の手順により、下記表２に示す実施例及び比較例の各組成物を得た。なお、組成物の最終的な固形分は、表２に記載された固形分濃度（「溶媒」欄内に記載）になるよう、ＭＥＫで調整した。
　また、得られた各組成物から熱伝導性シート２～５６、比較用熱伝導性シート１～４を作製し、実施例１と同様の評価試験を実施した。結果を表２に示す。
　表２において、各種成分欄に記載される（数値）は、組成物中の全固形分に対する各種成分の含有量（質量％）を意味する。
　また、表２中に記載される「膜厚（μｍ）」は、熱伝導性シートの平均膜厚を意味する。
　表２中に記載される「Ｘ」は、特定化合物を一般式（１）に当てはめた場合におけるＸの構造を示す。
　表２中に記載される「ｍ」は、特定化合物を一般式（１）に当てはめた場合におけるｍの値を示す。
　表２中に記載される「Ｌ１」は、特定化合物を一般式（１）に当てはめた場合におけるＬ１の基を示す。なお、一般式（１）においてｍが２以上である結果として複数種類存在するＬ１は、Ｘに近い基から記載する。
　なお、Ｃ－３２を除く特定化合物は、一般式（１）における複数の「－（Ｌ１）ｍ－」は同じ構成を有する。
　Ｃ－３２は、３個存在するうちの１個の「－（Ｌ１）ｍ－」のみ、フェニレン基及びカルボニル基からなり、他の「－（Ｌ１）ｍ－」についてはｍ＝０である。
　表２中に記載される「ｎ」は、特定化合物を一般式（１）に当てはめた場合におけるｎの値を示す。
　表２中に記載される「特定官能基」は、化合物が有する代表的な特定官能基を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
　上記表に示すように、本発明の表面修飾無機窒化物は、分散性に優れることが確認された。このように表面修飾無機窒化物の分散性が優れる結果、本発明の表面修飾無機窒化物を用いて作製された熱伝導性シートは熱伝導性にも優れていた。
　また、特定化合物は、特定官能基を有している場合に、より分散性が優れることが確認された（実施例５３と他の実施例の比較）。
　特定化合物は、複数の特定官能基を有している場合に、より分散性が優れることが確認された（実施例１５と実施例１６の比較）。
　特定化合物は、特定官能基として水酸基を有している場合に、より分散性が優れることが確認された（実施例１６と、実施例８、１１、１２、１８～２０、２２～２４、２６、及び、２９の比較）。
　一般式（１）における、全てのｍが１以上の場合、特定化合物は、より分散性が優れる傾向があることが確認された（実施例３９～４５、４７～５０、５４、及び、５６の結果）。
　実施例４６、５７～６０の結果より、一般式（１）におけるＸがトリアジン環である場合も、特定化合物は分散性が優れることが確認された。

Claims (16)

  1. 　無機窒化物と、前記無機窒化物表面上に吸着した下記一般式（１）で表される化合物とを含む、表面修飾無機窒化物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　一般式（１）中、ｍは、０以上の整数を表し、ｍが０の場合、ＺはＸと直接結合する。ｎは３～６の整数を表す。Ｘは、置換基を有してもよい、ベンゼン環基又はヘテロ環基を表す。Ｌ１は、置換基を有してもよいアリーレン基、エステル基、エーテル基、チオエステル基、チオエーテル基、カルボニル基、－ＮＲＮ－、アゾ基、又は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基を表す。Ｚは、置換基を有してもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。複数存在するｍは、同一でも異なっていてもよい。Ｌ１が複数存在する場合、複数存在するＬ１は同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺは、同一でも異なっていてもよい。ＲＮは、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～１０の有機基を表す。
  2. 　前記化合物が、アルデヒド基、水酸基、カルボン酸基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、アシルアジド基、コハク酸イミド基、スルホニルクロリド基、カルボン酸クロリド基、オニウム基、カーボネート基、アリールハライド基、カルボジイミド基、酸無水物基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、スルホン酸基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトリル基、ニトロ基、イミドエステル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシシリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキセタニル基、ビニル基、アルキニル基、マレイミド基、チオール基、アミノ基、オキシラニル基、及び、シリル基からなる群より選ばれる特定官能基を１個以上有する、請求項１に記載の表面修飾無機窒化物。
  3. 　前記化合物が、水酸基、アミノ基、酸無水物基、チオール基、カルボン酸基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及び、ビニル基からなる群より選ばれる特定官能基を１個以上有する、請求項２に記載の表面修飾無機窒化物。
  4. 　前記化合物が、前記特定官能基を２個以上有する、請求項２又は３に記載の表面修飾無機窒化物。
  5. 　Ｚのうち少なくとも１個が、前記特定官能基を含む置換基を有する、アリール基又はヘテロ環基である、請求項２～４のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物。
  6. 　Ｘが、ベンゼン環基である、請求項１～５のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物。
  7. 　前記化合物が、ベンゼン環基を４個以上有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物。
  8. 　複数存在するｍが、いずれも１以上の整数を表す、請求項１～７のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物。
  9. 　前記無機窒化物が、窒化ホウ素及び窒化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物。
  10. 　前記無機窒化物が、窒化ホウ素である、請求項９に記載の表面修飾無機窒化物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物と、重合性モノマーとを含む、組成物。
  12. 　前記重合性モノマー又はその硬化物が、液晶性を示す、請求項１１に記載の組成物。
  13. 　熱伝導材料を形成するために用いられる、請求項１１又は１２に記載の組成物。
  14. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の表面修飾無機窒化物を含む、熱伝導材料。
  15. 　シート状である、請求項１４に記載の熱伝導材料。
  16. 　デバイスと、前記デバイス上に配置された請求項１４又は１５に記載の熱伝導材料を含む熱伝導層とを有する、熱伝導層付きデバイス。
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