WO2017208525A1 - ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム - Google Patents

ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム Download PDF

Info

Publication number
WO2017208525A1
WO2017208525A1 PCT/JP2017/006583 JP2017006583W WO2017208525A1 WO 2017208525 A1 WO2017208525 A1 WO 2017208525A1 JP 2017006583 W JP2017006583 W JP 2017006583W WO 2017208525 A1 WO2017208525 A1 WO 2017208525A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
bonding
rotation
bonded
work holder
points
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/006583
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
裕次 駒木野
穂隆 山口
秀紀 吉野
Original Assignee
株式会社カイジョー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社カイジョー filed Critical 株式会社カイジョー
Priority to CN201780004015.7A priority Critical patent/CN108352335B/zh
Priority to US15/776,639 priority patent/US11173567B2/en
Priority to KR1020187014135A priority patent/KR102144376B1/ko
Publication of WO2017208525A1 publication Critical patent/WO2017208525A1/ja
Priority to US16/847,005 priority patent/US11273515B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/10Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating making use of vibrations, e.g. ultrasonic welding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/26Auxiliary equipment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67103Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/40Semiconductor devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/78001Calibration means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/78251Means for applying energy, e.g. heating means in the lower part of the bonding apparatus, e.g. in the apparatus chuck
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78343Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure by ultrasonic vibrations
    • H01L2224/78347Piezoelectric transducers
    • H01L2224/78349Piezoelectric transducers in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the capillary or wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78343Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure by ultrasonic vibrations
    • H01L2224/78353Ultrasonic horns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/788Means for moving parts
    • H01L2224/78801Lower part of the bonding apparatus, e.g. XY table
    • H01L2224/78802Rotational mechanism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/788Means for moving parts
    • H01L2224/78801Lower part of the bonding apparatus, e.g. XY table
    • H01L2224/78802Rotational mechanism
    • H01L2224/78803Pivoting mechanism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/78981Apparatus chuck
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/852Applying energy for connecting
    • H01L2224/85201Compression bonding
    • H01L2224/85205Ultrasonic bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/859Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector involving monitoring, e.g. feedback loop
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors

Definitions

  • the present invention relates to a bonding apparatus, a bonding method, and a bonding control program for bonding parts to be bonded having three or more surfaces in different directions using bonding wires.
  • the first bonding point and the second bonding point are mutually Located on a parallel plane.
  • the first bonding point and the second bonding point may be located on a plane perpendicular to each other. Bonding was not possible with the device.
  • the first bonding is performed by holding the semiconductor element on a stage and performing first bonding.
  • An assembly apparatus capable of performing second bonding by rotating the stage 90 degrees after bonding is disclosed. As a result, even if the second bonding surface is substantially orthogonal to the first bonding surface, the first bonding surface and the second bonding surface can be bonded by rotating the stage by 90 degrees, so that mass production of semiconductor elements is possible. Can be achieved.
  • Patent Document 2 discloses a wire bonding apparatus that performs reattachment / removal of a workpiece when performing a plurality of wire bondings between pads and leads on surfaces perpendicular to each other.
  • the capillary is lifted after the wire is first bonded on the surface parallel to the stage by the capillary, and then the stage is rotated 90 degrees around the axis parallel to the stage passing through the inversion center of the stage.
  • the second bonding is performed on the surface perpendicular to the workpiece stage by the capillary.
  • the capillary is raised and stopped so that the lower end of the capillary is located near the inversion center. Thereafter, the stage is reversely rotated 90 degrees about an axis parallel to the stage passing through the inversion center, and returned to the original position.
  • the stage is rotated by a predetermined angle while the work is in a horizontal state around the axis perpendicular to the stage, and the predetermined position on the work is positioned below the capillary by the rotation. Bond direction.
  • the workpiece when performing vertical bonding on both surfaces of the workpiece as in a flat filter, the workpiece is rotated 180 degrees horizontally by the stage after the vertical bonding on one surface is completed, and the vertical bonding is performed on the opposite surface. be able to.
  • Patent Document 3 discloses a method for connecting each sample in a light emitting diode array unit in which a surface light emitting diode array is mounted vertically or substantially perpendicularly to a base surface on which a driving IC or the like is mounted by wire bonding.
  • a mounting apparatus for a light emitting diode array unit comprising: a rotation mechanism for rotating the sample stage 90 degrees about the longitudinal direction; and a mechanism for moving the stage in two directions perpendicular to the rotation axis in order to adjust the position of the rotation axis Is disclosed.
  • Patent Document 4 discloses a method and apparatus relating to a three-axis sensor chip package.
  • a sensor package includes a base, a first sensor die attached to the base, and a plurality of metal pads electrically coupled to the first active sensor circuit and the first active sensor circuit.
  • a second sensor die attached to the base has a second active sensor circuit disposed on the first surface of the second sensor die and a second surface of the second sensor die.
  • a second plurality of metal pads electrically coupled to the two active sensor circuits.
  • the second sensor die is positioned so that the second active sensor circuit is oriented orthogonal to the first active sensor circuit and is perpendicular to the base.
  • the second surface of the second sensor die is adjacent to the first surface and is angled with respect to the plane of the first surface.
  • the triaxial sensor chip package is coupled by wire bonding interconnecting the first plurality of metal pads of the first sensor die with the second plurality of metal pads of the second sensor die.
  • Patent Documents 1 to 4 are based on the premise that the height positions of a plurality of bonding locations of the parts to be bonded are aligned at the same height position.
  • the movement distance of the bonding means with respect to the bonding location is set to a common movement distance.
  • a semiconductor laser chip may have a plurality of bonding points having different heights disposed on three or more surfaces of the chip, and a plurality of bonding points having different heights disposed on the three or more surfaces. It is desired to develop a bonding apparatus capable of effectively performing a bonding process with a bonding means without complicating the mechanism of the bonding apparatus.
  • an object of the present invention is to provide a reference for bonded parts in order to meet the demand for effective bonding processing with bonding means without complicating the mechanism of the bonding apparatus at a plurality of bonding locations having different heights.
  • An object of the present invention is to provide a bonding apparatus that performs a bonding process on a plurality of bonding points having different distances to the (origin) position without changing the moving distance of the bonding means.
  • a bonding apparatus includes a bonding means for bonding to a plurality of bonding points of a part to be bonded, a work holder that holds the part to be bonded on a mounting surface and has a reference posture facing the bonding means.
  • a bonding stage having a rotation mechanism that rotates the work holder around the rotation axis from the reference posture, and a control unit that controls the rotation of the work holder, and the bonding means is in the reference posture. It is provided so as to be movable with respect to the mounting surface of the work holder, and has a reference position serving as a movement reference for the bonding means in the moving direction, and the parts to be bonded are attached to the plurality of bonding points.
  • Bonding points having different separation distances from the reference position are included, and the control unit controls the rotation of the work holder according to the difference in the separation distances of the bonding points, thereby The difference between the separation distances of the bonding points is corrected.
  • the rotation mechanism unit of the bonding apparatus is configured to be capable of rotating the work holder in the reference posture in the forward and reverse directions around the rotation axis.
  • the bonding stage of the bonding apparatus includes a heat plate on which the part to be bonded can be mounted, and a heat block capable of heating the heat plate.
  • a distance correction means for moving the component to be bonded to or away from the reference position.
  • heat plate and the heat block of the bonding apparatus according to the present invention are divided and configured.
  • the bonding apparatus further includes an ultrasonic wave generation unit capable of applying an ultrasonic vibration in the bonding unit, and the torque for suppressing the vibration caused by the ultrasonic wave generation unit is rotated. It has a torque generating means to be applied to the shaft.
  • the component to be bonded of the bonding apparatus according to the present invention is provided in the vicinity of the rotating shaft of the bonding stage.
  • the rotation mechanism portion of the bonding stage of the bonding apparatus is configured to be positioned below the rotation shaft, and the upper portion is configured so that the bonding head as the bonding means enters the bonding surface. Further, the movable range of the bonding head is widened.
  • a bonding method in which bonding is performed by bonding means on a bonding point of a part to be bonded placed on a work holder placement surface of a bonding stage so that the work holder faces the bonding means.
  • a reference position that is rotatable around a rotation axis from a reference posture and that the bonding means is movable with respect to the mounting surface of the work holder in the reference posture and serves as a reference for movement of the bonding means in the moving direction.
  • the bonding points include a plurality of bonding points with different separation distances from the reference position along the moving direction in a state where the parts to be bonded are held by a work holder in a reference posture. And the difference in the separation distance between the bonding points. Flip by controlling the rotation of the workpiece holder, and correcting a difference of the distance of said plurality of bonding points.
  • the bonding control program according to the present invention is the bonding control program for controlling the bonding process by the bonding means to the bonding point of the part to be bonded placed on the work holder placement surface of the bonding stage. It can be rotated around a rotation axis from a reference posture facing directly to the bonding means, and the bonding means is provided so as to be movable with respect to a mounting surface of the work holder in the reference posture. A plurality of bonding points having different separation distances from the reference position along the moving direction in a state where the component is held by the work holder in the reference posture are included, and the bonding means moves on the moving direction of the bonding means.
  • the base serving as a movement reference for the bonding means A function of setting a position, and a function of correcting the difference of the separation distances of the plurality of bonding points by controlling the rotation of the work holder in accordance with the difference of the separation distances of the bonding points. It is made to perform.
  • the bonding stage is rotated around the rotation axis to correct the separation distance of the bonding portion of the bonded component with respect to the bonding means, whereby the reference (origin) position of the bonded component is corrected.
  • the bonding process can be performed on a plurality of bonding locations having different separation distances without changing the moving distance of the bonding means.
  • the bonding stage rotates around the rotation axis, it is expected that the posture of the bonding stage with respect to the bonding means becomes a problem when the bonding process is performed. Therefore, according to the present invention, it is possible to stabilize the bonding posture by applying a torque to the bonding stage using a rotating mechanism for rotating the bonding stage.
  • the present invention by adopting a simple mechanism of rotating the bonding stage without changing the moving distance of the bonding means, a plurality of different heights can be obtained without complicating the mechanism of the bonding apparatus.
  • a plurality of bonding locations having different heights are disposed on three or more surfaces of the chip, they are disposed on these three or more surfaces. Bonding processing can be effectively performed at a plurality of bonding locations having different heights.
  • the bonding head provided with the rotation mechanism is positioned as low as possible so that the bonding head is positioned above the bonding head.
  • the movable range of the bonding head can be widened so that it can enter the bonding surface.
  • the work holder can be rotated around the rotation axis from the reference posture facing the bonding means, and the bonding means is provided to be movable with respect to the mounting surface of the work holder in the reference posture.
  • a reference position serving as a movement reference for the bonding means is set in the direction.
  • a direction in which the bonding means moves in the vertical direction (Z direction) is assumed.
  • the bonding points include a plurality of bonding points having different separation distances from the reference position along the moving direction in a state where the parts to be bonded are held by a work holder in a reference posture.
  • the difference in the separation distances of the plurality of bonding points is corrected by controlling the rotation of the work holder in accordance with the difference in the separation distances of the bonding points.
  • the bonding position refers to a bonding point having a different separation distance from the reference position along the moving direction in a state where the part to be bonded is held by the work holder in the reference posture.
  • distance described in FIGS. 5, 6, 8, 10, 13, 14, 15, and 17 means “separation distance”.
  • a bonding apparatus that bonds three or more surfaces to be bonded in different directions of the bonding surface moves not only the bonding head but also the stage side, so that the bonding position is stable. Desired. For this reason, it is necessary to position the mounting position of the part to be bonded in the vicinity of the rotation axis and to suppress vibration of the rotation mechanism.
  • the bonding apparatus of the present invention can perform stable bonding by applying a large torque to the rotating shaft to stabilize the rotating mechanism and suppress vibration. For this reason, it becomes possible to position the mounting position of the part to be bonded in the vicinity of the rotation axis and to suppress the vibration of the rotation mechanism unit.
  • FIG. 15 is a diagram showing a continuation of the flowchart showing the bonding operation shown in FIG. 14.
  • FIG. 17 It is a figure which shows the positional relationship of the bonding point of the to-be-bonded components and the bonding tool in the wire bonding operation
  • the present invention controls the rotation of the work holder in accordance with the difference in the separation distance of the bonding position with respect to the bonding component of the bonding head as a bonding means, thereby reducing the difference in the separation distance of the bonding position with respect to a plurality of bonding points of the bonding head. It is possible to correct and perform bonding.
  • the rotation mechanism unit 70 (shown in FIG. 3) is such that the relative position of the bonding surface with respect to the bonding tool in a part to be bonded such as a semiconductor laser package having three or more bonding surfaces in different directions is located immediately above the bonding tool. When the distance on the bonding surface is different, the difference in the separation distance between the bonding positions is corrected so that bonding can be performed. Thereby, bonding of a semiconductor laser package or the like having three or more bonding surfaces in different directions can be performed, and productivity can be greatly improved.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a wire bonding apparatus as a bonding apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the control unit and drive unit of the wire bonding apparatus as the bonding apparatus of the present invention, and
  • FIG. 3 shows the bonding stage (bonding rotation stage) of the wire bonding apparatus as the bonding apparatus of the present invention.
  • FIG. 4 is a block diagram illustrating a configuration of a control unit and a drive unit of the rotation mechanism unit. As shown in FIGS.
  • the wire bonding apparatus 1 includes a bonding head 3 and an XY as a positioning unit that mounts the bonding head 3 and moves it two-dimensionally in the X direction and / or the Y direction.
  • a stage 18 and a bonding stage (bonding rotation stage) 50 on which a bonding component 44 mounted with a semiconductor laser chip or the like is mounted and a bonding operation is performed by the bonding tool 6 are provided.
  • the control unit and the drive unit of the wire bonding apparatus 1 include a control unit 20 including a computer 21, an XY axis control unit 35, a Z axis control unit 36, and a rotation axis control unit 37, and XY.
  • the XY axis control unit 35 designates the XY axis position control designation signal of the XY stage 18, the Z axis control unit 36 designates the Z axis position control designation signal of the bonding head 3, and the rotation axis control.
  • the unit 37 generates a command signal for rotation control of the rotating shaft of the bonding stage (bonding rotary stage) 50 and outputs it to the drive unit 39. Since the bonding stage 50 is configured to be able to perform bonding work by rotating a part to be bonded, in the following description, the bonding stage 50 will be described as the bonding rotation stage 50.
  • a bonding head 3 as a bonding means includes an ultrasonic transducer (not shown), an ultrasonic horn 5 having a capillary 6 as a bonding tool 6 at one end, and the other connected to a support shaft (not shown).
  • the ultrasonic transducer, the ultrasonic horn 5 and the drive circuit (not shown) constitute an ultrasonic generation means.
  • the motor for driving the bonding arm 4 is not limited to a linear motor, and may be another type of motor.
  • the bonding head 3 grips the wire 40, and is fixed to the bonding arm 4, and a clamp 7 (holding means) that moves up and down and interlocks with the capillary 6. It has.
  • a tension clamp 8 (shown in FIG. 2) is provided that blows air onto the wire 40 extending in the vertical direction via the capillary 6 and the clamp 7 to apply tension.
  • the tension clamp 8 positioned on the clamp 7 is fixed to the bonding head 3 without interlocking with the capillary 6.
  • the opening / closing mechanism of the clamp 7 that holds the wire 40 and the tension clamp 8 are controlled by the control unit 20 via the drive unit 39.
  • the bonding head 3 has a discharge electrode 17 for melting the wire 40 by discharge to form a ball at the tip of the capillary 6.
  • the control unit 20 includes a computer 21 having a CPU (not shown), a memory 22, and an input / output unit (not shown).
  • the CPU of the computer 21 stores a program stored in the memory 22. This is executed to control the bonding apparatus 1.
  • the memory 22 of the computer 21 can store data and the like in addition to programs.
  • the memory 22 of the computer 21 stores a bonding control program for controlling the bonding process by the bonding means to the bonding points of the parts to be bonded mounted on the work holder mounting surface of the bonding stage.
  • the work holder 52 can rotate around the rotation axis from a reference posture in which the work holder 52 faces the bonding means, and the bonding means moves relative to the mounting surface of the work holder 52 in the reference posture.
  • the bonding points include a plurality of bonding points having different separation distances from the reference position along the moving direction in a state where the part to be bonded is held by the work holder in the reference posture.
  • the work holder Based on the included configuration, the work holder according to the function of setting the reference position as a movement reference of the bonding means in the movement direction of the bonding means and the difference in the separation distance of the bonding points
  • a device for correcting the difference in the separation distance of the plurality of bonding points by controlling the rotation of the plurality of bonding points Is a program for executing the door to the computer.
  • This bonding control program is stored in the memory 22, and the CPU of the computer 21 reads out the bonding control program stored in the memory 22, thereby controlling the operation of the bonding apparatus of the present invention and controlling the bonding apparatus.
  • the bonding method of the present invention is executed.
  • an external input device 34 such as a keyboard is connected to the computer 21, and the vertical movement amount of the capillary 6 input via the external input device 34, the coordinates of the XY axes of the bonding points on the XY stage 18, the workpiece
  • the rotation data of the rotation mechanism 70 of the holder 52 is stored in the memory 22.
  • the bonding point refers to a position where an electrode, a terminal, or the like is to be bonded.
  • the position of the capillary 6 in bonding is indicated by the distance in the Z-axis (vertical) direction from the origin position of the capillary 6.
  • the origin position of the capillary 6 means the position of the capillary 6 when the origin is detected by the encoder.
  • the position of the capillary 6 when the ball located at the tip of the capillary 6 contacts the bonding point corresponds to the vertical distance from the origin position of the capillary 6 at the time of contact.
  • the origin position of the capillary 6 is set in advance. In the following description, the origin position of the capillary 6 is referred to as an origin o. Further, the origin position of the capillary 6 may be set differently for different surfaces of the parts to be bonded.
  • an area in the XYZ axes where the bonding tool 6 such as the capillary 6 can be moved and bonded is referred to as a bondable area.
  • the region on the XY axis where bonding is possible is defined by the movable range of the XY stage 18, and the region on the Z axis where bonding is possible is defined by the movable range of the bonding tool 6. Therefore, as will be described later, the bonding apparatus according to the present invention has a wide movable range of the bonding tool 6 so that bonding to a bonded component having three or more bonding surfaces in different directions can be easily performed. Has been.
  • FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of the bonding rotary stage of the wire bonding apparatus as the bonding apparatus of the present invention.
  • the bonding rotary stage 50 includes a work holder 52 that holds and heats the component 44 to be bonded and a work holder 52 on which the component 44 to be bonded is placed at the position of the component 44 to be bonded.
  • 3 has a rotating mechanism 70 (shown on the right side shown in FIG. 3) that rotates to the front side or the back side, and a slide mechanism (not shown) that holds and releases the workpiece 44 of the work holder 52. ing.
  • the work holder 52 is provided below the heat plate 53, the heat plate 53 for placing and heating the component to be bonded 44, the heat block 54 for heating the heat plate 53, the heat insulating part 57 for blocking heat, and the heat insulating part 57. And a support portion 58 that supports the heat block 54 and the like, and a work presser 65 that holds the component 44 to be bonded.
  • the heat plate 53 according to the present invention and the heat block 54 that heats the heat plate 53 are configured separately. By dividing the heat plate 53, the heat plate 53 can be replaced.
  • the heat plate 53 mounts the component to be bonded 44 as a mounting surface, and heats the component to be bonded 44 with heat from the heat block 54.
  • the heat plate 53 has a surface that is in close contact with the lower part of the component to be bonded 44 so as to efficiently transmit heat to the component to be bonded 44. Bonding is performed by placing the part to be bonded 44 on the heat plate 53.
  • the heat plate 53 has distance correction means for correcting the bonding positions of the parts to be bonded having different distances so as to approach or separate from the distance positions where the bonding head 3 as a bonding means can be bonded.
  • the distance correction means of the heat plate 53 separates the bonding positions in the Z-axis direction so that the bonding distances of the bonding parts of the bonding parts are the bonding distances that can be bonded by the bonding head 3 for each bonding part.
  • the bonding process can be carried out without changing the moving distance of the bonding means for a plurality of bonding points having different distances from the reference (origin) position of the part to be bonded.
  • the heat plate 53 can be provided with a suction hole for vacuum suction for sucking and fixing the component 44 to be bonded.
  • the heat plate 53 according to the present invention is configured to be divided from the heat block 54 and, for example, is replaced with a heat plate 53 having a different thickness according to the height of the electrode of the component 44 to be bonded. Further, a mechanism for changing the height position of the surface of the heat plate 53 may be provided to automatically adjust the position.
  • a heat block 54 is provided below the heat plate 53.
  • the heat block 54 has a built-in heater, and the heater is controlled so that the temperature of the heat block 54 is detected by a temperature detection sensor and the heat block 54 maintains a predetermined temperature.
  • suction holes for vacuum suction inside the heat block 54.
  • the suction hole of the heat block 54 and the suction hole of the heat plate 53 are connected, and a metal tube 55 for vacuum suction piping is provided on the side surface of the heat block 54 to perform vacuum suction.
  • a heat insulating portion 57 made of a heat insulating material is provided in the lower part of the heat block 54.
  • the heat insulating part 57 blocks heat so that heat from the heat block 54 is not transmitted to the lower part.
  • a support portion 58 is provided on the lower surface of the heat insulating portion 57.
  • the support part 58 provided at the lower part of the heat insulating part 57 supports the heat plate 53, the heat block 54 and the heat insulating part 57 located at the upper part.
  • support members 60 connected by springs such as elastic bodies are provided at both left and right ends of the support portion 58.
  • Support members 60 positioned at both left and right ends of the support portion 58 are rotatably attached to a swing member 73 having a U shape of the rotation mechanism portion 70.
  • the end portions of a pair of work pressers 65 provided on the left and right sides are fixed to the upper end surface of the support member 60.
  • the support member 60 rotates about a portion attached to the swing member 73 by a slide mechanism (not shown) as a support shaft, and the upper end moves to the left and right.
  • the work retainer 65 is slid to the left and right to be fixed so as to press the part to be bonded 44 on the heat plate 53, or the fixation is released.
  • the work presser 65 may be moved up and down by moving up and down instead of moving the support member 60 left and right.
  • the work retainer 65 moves upward to release the pressed part 44 to be bonded, and the work retainer 65 moves from top to bottom so that a part or side of the surface of the part 44 to be bonded is pressed and fixed. To do.
  • the rotation mechanism unit 70 of the bonding rotation stage 50 is formed of a swing member 73 that is a substantially U-shaped rod-shaped member, and has rotation shafts 74 (shafts) at both ends of the swing member 73. . Further, a flat plate (not shown) for coupling and holding the work holder 52 is provided in the vicinity of the center position of the swing member 73 having a substantially U shape and a rod-like member.
  • Rotating shafts 74 at both ends of the swing member 73 are attached to side plates 90 provided on the left and right via bearings 77. Further, the rotation shafts 74 at both ends are provided such that a virtual line (center line) connecting the centers of the rotation shafts 74 is parallel to the X-axis direction (or Y-axis direction) of the XY stage 18.
  • both ends of the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 are supported by the bearings 77 attached to the outside of the left and right side plates 90 and are rotatable.
  • the heat plate 53, the heat block 54, the heat insulation part 57, and the support part 58 provided in the work holder 52 are integrally coupled in the vertical direction and attached to the rotation mechanism part 70.
  • the work holder 52 is coupled and fixed via the support portion 58 and the flat plate of the swing member 73 having a substantially U shape of the rotation mechanism portion 70 and having a rod shape.
  • the rotation of the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 causes the work holder 52 fixed to the flat plate of the swing member 73 near the center of the substantially U shape to rotate.
  • the space above the rotation shaft 74 is widely opened, so that the movable range of the bonding head is increased. It becomes the composition which becomes wide. As a result, bonding can be easily performed to a part to be bonded having three or more bonding surfaces in different directions.
  • the rotation mechanism unit 70 sets the work holder 52 on which the component 44 to be bonded is placed in front of the center of the position of the component 44 to be bonded, and the forward direction (F direction) thereafter. Alternatively, it rotates in the reverse direction (hereinafter referred to as “R direction”), and can rotate continuously from 0 degree to 180 degrees. Note that the time when the rotation mechanism unit 70 rotates in the F direction is set to 0 degree to 90 degrees, and the time when the rotation mechanism unit 70 rotates in the R direction is set to 0 degree to -90 degrees.
  • the component 44 to be bonded is bonded to the bonding rotary stage so that the rotation center of the rotation shaft 74 in the rotation mechanism unit 70 is located within the range from the bottom surface of the component 44 to be bonded to the separation distance of the bonding position of the bonding surface.
  • the bonding point whose position is determined by the rotation is positioned in the bondable region so as to be in the vicinity of the 50 rotation shafts 74.
  • the rotation mechanism unit 70 in the bonding rotation stage 50 is rotationally driven by a motor 85 via gears 80, 81, and 82.
  • a gear 80 which is 32 spur gears in the present invention, is fixed to the rotation shaft of the motor 85, and the rotation of the motor 85 is rotated via a gear (spur gear) attached to three parallel shafts.
  • the rotary shaft 74 is driven to rotate.
  • the gear ratio of each gear for transmitting the rotation of the motor 85 to the rotation shaft 74 is set so that the gear ratio between the gear 80 and the gear 82 of the motor 85 is increased, and the gear 81 of the second shaft, 90 in the present invention, is set.
  • the gear ratio between the spur gear and the third-axis gear 82 which is 110 spur gears in the present invention, is 1 or more (the gear ratio between the gear 80 and the gear 82 of the present invention is 1: 3.4). Is set.
  • the intermediate gear 81 is for power transmission, and the gear ratio is set by the ratio of the gear 80 and the gear 82.
  • the third-axis gear 82 is fixed to one rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70.
  • the motor 85 rotates
  • the second-axis gear 81 rotates
  • the second-axis gear 81 rotates.
  • Is transmitted to the third-axis gear 82 and the third-axis gear 82 rotates to drive the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 to rotate.
  • the third-axis gear 82 attached to the rotating shaft 74 does not need to have a tooth surface with a central angle of 360 degrees, and has, for example, a tooth surface with a central angle of 200 degrees.
  • the motor 85 has high torque and can be rotated at high speed.
  • the gear 80 attached to the rotation shaft of the motor 85 is rotated, and a rotational force is applied to the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 through the gears 81 and 82 having different gear ratios, and the rotation is driven with a large torque. .
  • the motor 85 has a high holding force by generating a large torque with the gear 80, the gear 81, and the gear 82, vibration generated in the rotation mechanism unit 70 due to the rotation stop of the motor 85 can be suppressed.
  • the motor 85, the gear 80, the gear 81, the gear 82, and the rotation mechanism unit 70 constitute torque generating means.
  • the motor 85 is preferably a step (pulse) motor 85 that can control the rotation speed, rotation angle, and the like.
  • the motor 85 is not limited to the step (pulse) motor 85 and may be another motor 85.
  • the bonding apparatus has torque generating means for applying a large torque to the rotating shaft 74 of the rotating mechanism unit 70, and suppresses vibration during rotation of the work holder by the torque generating means. Bonds to the parts to be bonded.
  • the three-axis gear ratio including the gear 80 of the motor 85 and the resolution of the motor 85 (per pulse)
  • the motor 85 is rotated by the number of pulses obtained from the rotation angle.
  • a signal (origin signal) indicating a horizontal state in which the rotation mechanism unit 70 is in the reference posture is detected by a sensor attached to the side plate 90 of the bonding rotation stage 50. For example, when the rotation mechanism unit 70 is in the horizontal state in the reference posture, an “ON” signal is output from the sensor.
  • the rotation axis control unit 37 that controls the motor 85 determines the rotation direction and the number of pulses so as to rotate the rotation mechanism unit 70 at a predetermined angle with reference to the origin signal.
  • the reference posture is set to the horizontal state.
  • the reference posture is not limited to the horizontal state, and may be an inclined posture in which the horizontal posture is broken.
  • a limit signal is output from the sensor.
  • the rotation of the motor 85 is stopped by the limit signal so that the rotation mechanism unit 70 does not rotate beyond 0 to 180 degrees ( ⁇ 90 degrees to 0 degrees, 0 degrees to 90 degrees).
  • the rotation mechanism unit 70 of the bonding rotary stage 50 mounts the work holder 52 including the heat plate 53, the heat block 54, and the work holder 65 on which the component 44 to be bonded is placed, and the rotation shaft 74 is centered. In addition, it can be rotated from 0 degrees to 180 degrees ( ⁇ 90 degrees) when viewed from the right side.
  • the rotation mechanism unit 70 can rotate the work holder 52 on which the part 44 to be bonded 44 is placed around the rotation shaft 74 from 0 to more than 180 degrees in terms of structure. In order to prevent interference with the bonding tool 6 and the like, the rotation is controlled from 0 degrees to 180 degrees ( ⁇ 90 degrees).
  • General-purpose bonding equipment does not change the attitude of the bonding stage, so even if the distance in the height direction of the bonding position of the part to be bonded to the bonding stage is different, the bonding stage should be adjusted as a reference.
  • the bonding position separation distance is set based on the bonding stage as in a general-purpose bonding apparatus. It is difficult to adjust.
  • the bonding apparatus 1 is configured so that the bonding target component 44 having bonding points on the plane that is the reference posture and the surface that is perpendicular to the plane does not change the moving distance of the bonding tool 6. Rotation is performed by the unit 70 to perform bonding.
  • the present invention rotates the rotating mechanism portion 70 of the bonding stage (bonding rotation stage) so that bonding can be performed to the bonded components having three or more bonding surfaces in different directions. Bonding is performed by correcting the difference in the separation distance between the bonding positions of the components.
  • the bonding rotary stage 50 shown in FIG. 3 has a slide mechanism (not shown) for driving a claw-shaped work presser 65 that holds the workpiece 44 mounted on the heat plate 53 from the left and right.
  • the slide mechanism slides the support member 60 that supports the work presser 65 left and right to move the work presser 65.
  • This slide mechanism operates independently of the rotation mechanism unit 70 and is fixed to the housing of the bonding rotation stage 50.
  • the slide mechanism is composed of a cylinder or the like, and moves the work retainer 65 to the left and right by a signal from the drive unit 39.
  • the part to be bonded 44 to be bonded by the bonding apparatus 1 according to the present invention is a semiconductor laser package or the like having three or more surfaces in different directions.
  • a semiconductor laser package that emits laser light has a structure in which a semiconductor laser chip is mounted on a pedestal of the package, electrodes and the like of the semiconductor laser chip and lead terminals are connected by wires and covered with a cap.
  • oscillation light is emitted from the side surface of the semiconductor laser chip.
  • the semiconductor laser chip is mounted on the side surface of the support portion.
  • One electrode of the semiconductor laser chip is provided on the surface of the semiconductor laser chip. For this reason, each of the three or more surfaces in different directions of the semiconductor laser chip is rotated to separate the bonding positions of the parts to be bonded. The difference is corrected and bonding is performed.
  • the part to be bonded 44 is not limited to a semiconductor laser package having three or more bonding surfaces in different directions.
  • the bonding distance between the bonding positions in the same surface is the same, different, or mixed. Also good.
  • the wire bonding apparatus as the bonding apparatus 1 has the XY stage 18 movable in the X-axis and Y-axis directions, and the bonding tool 6 mounted on the XY stage 18 and movable in the Z-axis direction.
  • the bonding head 3 includes a bonding rotary stage 50 that includes a rotation shaft 74 parallel to the X axis (or Y axis) of the XY stage 18 and includes a rotation mechanism unit 70 that rotates the component 44 to be bonded. .
  • the wire bonding apparatus as the bonding apparatus 1 has a bonding position information input unit 30 for inputting a bonding position of a part to be bonded.
  • the bonding position information input unit 30 inputs the position coordinates of the XY axis and the Z axis by teaching by an operator or the like.
  • the wire bonding apparatus further includes a rotation stage angle rotation information input unit 31 for inputting the rotation angle of the rotation shaft of the rotation mechanism unit 70.
  • the rotation stage angle rotation information input unit 31 inputs a rotation angle including the rotation direction of the part to be bonded at the time of bonding. That is, the rotation angle for correcting the difference between the separation distances of a plurality of bonding positions in the plane of the bonding point is input.
  • the bonding position (bonding point) in the plane is the X-axis and Y-axis position coordinates on the XY stage 18, the Z-axis position coordinates on the bonding tool 6, and the rotation angle of the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70. Specified by.
  • the position data for each bonding point is stored in the memory 22 of the control unit 20.
  • the control unit 20 reads position data stored in the memory 22 and outputs rotation angle data to the rotation axis control unit 37 during bonding.
  • the rotation axis control unit 37 controls the drive unit 39 so that the motor 85 performs a predetermined rotation operation.
  • the rotation of the motor 85 is transmitted to the rotation shaft 74 through the gears 80, 81, and 82, and the rotation shaft 74 rotates. Since the gear ratio between the gear 80 attached to the rotation shaft of the motor 85 and the gear 82 that drives the rotation shaft 74 is a large value, applying a large torque to the rotation shaft 74 stabilizes the rotation mechanism unit, Stable bonding can be performed while suppressing vibration. For this reason, it becomes possible to position the mounting position of the part to be bonded in the vicinity of the rotation axis and to suppress the vibration of the rotation mechanism unit.
  • FIG. 5 is a flowchart showing a teaching operation of a bonding apparatus for bonding parts to be bonded having electrodes with different separation distances of bonding positions in the first surface.
  • FIG. 6 is a flowchart showing a bonding operation of a bonding apparatus for bonding components to be bonded having electrodes having different distances of bonding positions in the first surface.
  • FIG. 7 is a diagram showing the positional relationship between the bonding points of the parts to be bonded and the bonding tool in the teaching and bonding operations shown in FIGS. 7 is an enlarged view showing the positional relationship between the part to be bonded 44 near the work holder 52 and the bonding tool 6.
  • FIG. 7 is a diagram showing the positional relationship between the bonding points of the parts to be bonded and the bonding tool in the teaching and bonding operations shown in FIGS. 7 is an enlarged view showing the positional relationship between the part to be bonded 44 near the work holder 52 and the bonding tool 6.
  • the X, Y position data of the rotation center of the bonding rotary stage 50 and the distance data of the Z axis are inputted, and the data is stored in the memory (step S1 shown in FIG. 5).
  • the rotation center data of the bonding rotary stage 50 is used to calculate a new bonding position associated with the rotation for correcting the difference in the separation distance between the bonding positions.
  • the input is performed when the bonding apparatus is started up.
  • a semiconductor laser package 44 as a part to be bonded on which a semiconductor laser chip 45 is mounted is placed on a heat plate 53 of a work holder 52.
  • the work holder 52 includes a heat plate 53, a heat block 54, a heat insulating portion 57, and a support portion 58.
  • FIG. 7A shows a state in which the semiconductor laser chip 45 is mounted and the semiconductor laser package 44 having leads (not shown) underneath is placed on the heat plate 53.
  • the bonding surface has three surfaces in different directions, and each surface is defined as a first surface BS1, a second surface BS2, and a third surface BS3.
  • bonding points a, b, c, and d are located on the first surface BS1 (step S2 shown in FIG. 5).
  • the X and Y position data of the bonding points a and b and the distance data La and Lb of the Z axis are input.
  • the distance data La refers to the distance between the origin o, which is the origin position of the capillary 6 (reference position), and the bonding point a.
  • the distance data Lb refers to the distance between the origin o and the bonding point b.
  • step S4 information on the rotation direction and rotation angle ⁇ a for correcting the difference in the separation distance of the bonding position is acquired from the distance data La and Lb of the bonding points a and b in accordance with the difference in the separation distance of the bonding position. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ a are stored in the memory (step S4 shown in FIG. 5).
  • the X and Y position data of the bonding points c and d and the Z axis distance data Lc and Ld are input.
  • the distance data Lc is the distance from the origin o to the bonding point c
  • the distance data Ld is the distance from the origin o to the bonding point d.
  • the X and Y position data of the bonding points c and d and the Z axis distance data Lc and Ld are stored in the memory (step S5 shown in FIG. 5).
  • step S6 information on the rotation direction and rotation angle ⁇ b for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position from the distance data Lc and Ld of the bonding points c and d is acquired.
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ b are stored in the memory (step S6 shown in FIG. 5).
  • step S6 information on the rotation direction and rotation angle for correcting the difference of the separation distance of a bonding position from the distance data of a bonding point at the time of teaching operation.
  • Information on the direction and rotation angle may be acquired. Thus, when teaching is performed, information on the rotation direction and rotation angle is acquired, and the distance is corrected.
  • the bonding of the first surface BS1 shown in FIG. the information on the rotation direction and the rotation angle stored in the memory is read by teaching, and the bonding process is performed based on the information.
  • position data of bonding points a, b, c, and d and Z-axis distance data are read from the memory (step S10 shown in FIG. 6).
  • data on the rotation direction and rotation angle ⁇ a at the bonding points a and b is read from the memory (step S11 shown in FIG. 6).
  • the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 is rotated in the F direction at the read rotation angle ⁇ a.
  • the distances and positions of the bonding points a and b after rotation are corrected, and bonding between the bonding points a and b is performed (step S13 shown in FIG. 6).
  • the correction of the distance is a fine adjustment of the distance accompanying the rotation of the bonding point, and is similarly executed in the bonding process described below.
  • step S14 data of the rotation direction and rotation angle ⁇ b at the bonding points c and d is read from the memory (step S14 shown in FIG. 6).
  • the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit 70 is rotated in the R direction at the read rotation angle ⁇ b.
  • step S16 The distance and position of the bonding points c and d after rotation are corrected, and bonding between the bonding points c and d is performed (step S16 shown in FIG. 6).
  • the bonding points a, b, c, and d of the first surface BS1 in the semiconductor laser package 44 are bonded.
  • the distance is changed as the rotation axis is rotated, so that the distance correction, which is a fine adjustment, is executed.
  • FIG. 8 is a flowchart showing teaching and bonding operations of a part to be bonded having electrodes with different separation distances of bonding positions in the second surface.
  • FIG. 9 is a diagram showing the positional relationship between the bonding points of the parts to be bonded and the bonding tool in the teaching and bonding operations shown in FIG.
  • the bonding points e and f are the side surfaces of the semiconductor laser chip 45.
  • the second surfaces BS2 of the bonding points e and f of the semiconductor laser package 44 are positioned horizontally.
  • the distance data Le is the distance from the origin o to the bonding point e
  • the distance data Lf is the distance from the origin o to the bonding point f.
  • step S22 information on the rotation direction and the rotation angle ⁇ c for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position is obtained from the distance data Le and Lf of the bonding points e and f. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ c are stored in the memory (step S22 shown in FIG. 8). Note that the teaching operation is performed only once in the case of the same semiconductor laser package 44.
  • step S23 position data of bonding points e and f and Z-axis distance data Le and Lf are read from the memory (step S23 shown in FIG. 8). Further, data of the rotation direction and rotation angle ⁇ c at the bonding points e and f are read from the memory (step S24 shown in FIG. 8).
  • the rotation shaft 74 of the rotation mechanism unit is rotated in the F direction at the read rotation angle ⁇ c.
  • FIG. 10 is a flowchart showing teaching and bonding operations of a part to be bonded having electrodes with different separation distances of bonding positions in the third plane.
  • FIG. 11 is a diagram showing the positional relationship between the bonding points of the parts to be bonded and the bonding tool in the teaching and bonding operations shown in FIG.
  • the semiconductor laser package 44 is moved in the F direction by the rotation mechanism unit 70.
  • the teaching operation is performed by rotating 90 degrees (90 degrees) (step S30 shown in FIG. 10).
  • the third surface BS3 of the bonding points g and h is positioned horizontally.
  • the X and Y position data of the bonding points g and h and the Z axis distance data Lg and Lh are inputted and stored in the memory (step S31 shown in FIG. 10).
  • the distance data Lg is the distance from the origin o to the bonding point g
  • the distance data Lh is the distance from the origin o to the bonding point h.
  • step S32 information on the rotation direction and the rotation angle ⁇ d for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position is obtained from the distance data Lg and Lh of the bonding points g and h. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ d are stored in the memory (step S32 shown in FIG. 10). Note that the teaching operation is performed only once in the case of the same semiconductor laser package 44.
  • step S33 position data of bonding points g and h and distance data Lg and Lh on the Z axis are read from the memory. Further, data of the rotation direction and the rotation angle ⁇ d at the bonding points g and h is read from the memory (step S34 shown in FIG. 10).
  • step S35 Lh (step S35 shown in FIG. 10). Correction of the distance and position of the bonding points g and h after the rotation is executed, and bonding between the bonding points g and h is performed (step S36 shown in FIG. 10).
  • the bonding points g and h of the third surface BS3 in the semiconductor laser package 44 are bonded.
  • the conventional bonding apparatus rotates only in the back side (R direction) of the bonding apparatus, but the bonding apparatus of the present invention can rotate the work holder to the front side (F direction) up to 90 degrees. Therefore, bonding to the three surfaces is possible with the component 44 to be bonded placed on the heat plate 53.
  • FIG. 12 is a diagram for explaining the correction of the difference in the separation distance between the bonding positions of the parts to be bonded having different separation distances between the bonding positions.
  • the part to be bonded has terminals a, b, c, and d having different bonding positions on one surface BS1.
  • the bonding positions of the terminals a, b, c, and d by teaching, that is, the X-axis and Y-axis position data and the Z-axis distance data are input by the bonding position information input unit 30, and the data is stored in the memory.
  • the distance data of the terminals a, b, c, and d are La, Lb, Lc, and Ld.
  • the distance data La is the distance from the origin o to the terminal a
  • the distance data Lb is the distance from the origin o to the terminal b
  • the distance data Lc is the distance from the origin o to the terminal c
  • the distance data Ld is from the origin o. This is the distance between terminals d.
  • information on the rotation direction and rotation angle ⁇ a for correcting the difference in the separation distance of the bonding position is acquired from the distance data La and Lb of the bonding points a and b in accordance with the difference in the separation distance of the bonding position.
  • information on the rotation direction and the rotation angle ⁇ b for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position from the distance data Lc and Ld of the bonding points c and d is acquired.
  • the acquired rotation direction and rotation angles ⁇ a and ⁇ b are stored in the memory.
  • the rotation shaft of the rotation mechanism unit is rotated at the rotation angle ⁇ a read from the memory.
  • the rotation shaft of the rotation mechanism unit is rotated at the rotation angle ⁇ b read from the memory.
  • the bonding points a, b, c, and d of the first surface BS1 in the semiconductor laser package 44 are bonded.
  • the bonding apparatus controls the rotation of the work holder in accordance with the difference in the separation distance between the bonding positions with respect to the parts to be bonded that have different bonding positions at a plurality of bonding points in the plane. Therefore, in order to correct the difference in the separation distance of the bonding position with respect to a plurality of bonding points, the moving distance of the bonding means is not changed for a plurality of bonding points having different distances to the reference (origin) position of the part to be bonded.
  • the bonding process can be performed and the movable range of the bonding tool can be narrowed to improve the bonding accuracy.
  • FIG. 13 is a flowchart showing a teaching operation of a wire bonding apparatus for wire bonding a part to be bonded having a bonding surface on a plane and a surface perpendicular to the plane in a reference posture
  • FIG. 14 is a reference posture.
  • FIG. 15 is a flowchart showing a bonding operation of a wire bonding apparatus for wire bonding a bonding target having a bonding surface on a flat surface and a surface perpendicular to the plane in a horizontal state
  • FIG. 15 is a flowchart showing the bonding operation shown in FIG.
  • FIG. 16 is a diagram showing the positional relationship between the bonding point of the part to be bonded and the bonding tool in the wire bonding operation shown in FIGS.
  • the component to be bonded (semiconductor laser package) 44 has three surfaces BS1, BS2, and BS3 in different directions of bonding surfaces, and BS1 includes bonding points a, b, c, d, the bonding point a and the bonding point b are connected by a wire or the like, and the bonding point c and the bonding point d are connected by a wire or the like.
  • BS2 has bonding points e and f, the bonding point e and the bonding point f are connected by a wire or the like, and BS3 has bonding points g and h, and the bonding point g and the bonding point h. Are connected with a wire or the like.
  • the semiconductor laser package 44 as a part to be bonded is placed on the heat plate 53, the work holder is operated, and the semiconductor laser package 44 is moved. Fix it.
  • the rotation axis is rotated 90 degrees in the R direction so that BS2 of the part to be bonded 44 is in a horizontal state (step S40 shown in FIG. 13).
  • the X and Y position data of the bonding points e and f located on the BS 2 and the Z axis distance data Le and Lf are input and stored in the memory (step S41 shown in FIG. 13).
  • the distance data Le is the distance from the origin o to the bonding point e
  • the distance data Lf is the distance from the origin o to the bonding point f.
  • the information of the rotation direction and the rotation angle ⁇ c for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position is acquired from the distance data Le and Lf of the bonding points e and f.
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ c are stored in the memory (step S42 shown in FIG. 13).
  • the rotation axis is rotated 180 degrees in the F direction so that BS3 of the part to be bonded 44 is in a horizontal state (step S43 shown in FIG. 13).
  • the X and Y position data of the bonding points g and h located on the BS 3 and the Z axis distance data Lg and Lh are inputted and stored in the memory (step S44 shown in FIG. 13).
  • the distance data Lg is the distance from the origin o to the bonding point g
  • the distance data Lh is the distance from the origin o to the bonding point h.
  • step S45 information on the rotation direction and the rotation angle ⁇ d for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position is obtained from the distance data Lg and Lh of the bonding points g and h. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ d are stored in the memory (step S45 shown in FIG. 13).
  • the rotating shaft is rotated 90 degrees in the R direction so that BS1 of the part to be bonded 44 is in the horizontal state as the reference posture (step S46 shown in FIG. 13).
  • the X and Y position data of the bonding points a, b, c and d located on the BS 1 and the Z axis distance data La, Lb, Lc and Ld are inputted and stored in the memory (step S47 shown in FIG. 13).
  • the distance data La, Lb, Lc, and Ld of each bonding point refers to the distance between the bonding points from the origin o.
  • step S48 information on the rotation direction and rotation angle ⁇ a for correcting the difference in the separation distance of the bonding position is acquired from the distance data La and Lb of the bonding points a and b in accordance with the difference in the separation distance of the bonding position. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ a are stored in the memory (step S48 shown in FIG. 13).
  • step S49 information on the rotation direction and rotation angle ⁇ b for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position from the distance data Lc and Ld of the bonding points c and d is acquired.
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ b are stored in the memory (step S49 shown in FIG. 13).
  • the teaching operation for wire bonding a part to be bonded having a bonding surface on a flat surface and a surface perpendicular to the flat surface in the reference posture state is completed.
  • the teaching operation is performed only once for the same part to be bonded.
  • the bonding operation will be described.
  • the semiconductor laser package 44 as the part to be bonded 44 is placed on the heat plate 53, the work holder is operated, and the semiconductor laser package 44 is fixed.
  • the position data of the bonding points a, b, c, d, e, f, g, h and the Z-axis distance data are read from the memory (step S60 shown in FIG. 14). Further, data of the rotation direction and rotation angle ⁇ c at the bonding points e and f is read from the memory (step S61 shown in FIG. 14).
  • the rotation axis of the rotation mechanism section is rotated (90- ⁇ c) degrees in the R direction at the read rotation angle ⁇ c.
  • step S64 shown in FIG. 14 the rotation direction and rotation angle ⁇ d data at the bonding points g and h are read from the memory (step S64 shown in FIG. 14).
  • the rotation axis is rotated in the F direction by (180 ⁇ ( ⁇ c + ⁇ d)) degrees at the read rotation angle ⁇ d.
  • step S67 data of the rotation direction and rotation angle ⁇ a at the bonding points a and b is read from the memory (step S67 shown in FIG. 14).
  • the rotation axis is rotated in the R direction (90 ⁇ d ⁇ a) degrees at the read rotation angle ⁇ a.
  • step S70 the data of the rotation direction and the rotation angle ⁇ b at the bonding points c and d are read from the memory (step S70 shown in FIG. 15).
  • the rotation axis is rotated in the R direction by ( ⁇ b + ⁇ a) degrees (not shown) at the read rotation angle ⁇ b.
  • the bonding point a, the bonding point b, the bonding point c, and the bonding point d of BS1 are connected by a wire or the like.
  • the bonding point e and the bonding point f of BS2 are connected by a wire or the like
  • the bonding point g and BS3 of BS3 are connected by a wire or the like.
  • the order of bonding is not limited. For example, in-plane bonding is performed so that position data is read and position data does not cause interference with a bonded wire or the like in the in-plane bonding. Is determined. For example, based on the bonding position, the path along the straight line between two points to be bonded, the height of the wire in the loop formation, etc., the interference area in bonding is determined so that other bonding points are not affected. The order of bonding may be determined.
  • FIG. 17 is a flowchart showing teaching and bonding operations of a bonded component having a bonding surface inclined with respect to the reference posture state
  • FIG. 18 is a bonding point and bonding of the bonded component in the bonding operation shown in FIG. It is a figure which shows the positional relationship with a tool.
  • bonding points x and y having different bonding positions are arranged on the surface BS4, and the surface of the bonding point y has an inclined surface.
  • the rotation axis is adjusted so that the BS 4 is in the reference posture (step S80 shown in FIG. 17).
  • the X and Y position data of the bonding points x and y and the Z axis distance data Lx and Ly are input and stored in the memory (step S81 shown in FIG. 17).
  • the distance data Lx is the distance between the origin o and the bonding point x
  • the distance data Ly is the distance between the origin o and the bonding point y.
  • step S82 information on the rotation direction and the rotation angle ⁇ x for correcting the difference in the separation distance of the bonding position according to the difference in the separation distance of the bonding position is obtained from the distance data Lx and Ly of the bonding points x and y. .
  • the acquired rotation direction and rotation angle ⁇ x are stored in the memory (step S82 shown in FIG. 17). This completes the teaching operation.
  • the bonding operation will be described.
  • the semiconductor laser package 44 as the part to be bonded 44 is placed on the heat plate 53, the work holder is operated, and the semiconductor laser package 44 is fixed.
  • step S83 The position data of the bonding points x and y and the distance data Lx and Ly of the Z axis are read from the memory (step S83 shown in FIG. 17).
  • step S84 the rotation direction and rotation angle ⁇ x data at the bonding points x and y are read from the memory (step S84 shown in FIG. 17).
  • the bonding apparatus of the present invention is not limited to a wire bonding apparatus, and can be applied to, for example, a die bonder for mounting tics on a package, a bump bonder for forming bumps on a bonding surface, and the like.
  • the bonding process can be carried out without changing the moving distance of the bonding means for a plurality of bonding locations having different distances to each other.
  • the bonding stage rotates around the rotation axis, it is expected that the posture of the bonding stage with respect to the bonding means becomes a problem when the bonding process is performed. Therefore, according to the present invention, it is possible to stabilize the bonding posture by applying a torque to the bonding stage using a rotating mechanism for rotating the bonding stage.
  • the bonded component is horizontally bonded after bonding one opposing surface. Then, the operator re-installed the machine after rotating 180 degrees, and the reversing mechanism was rotated to bond the other facing surface. According to the present invention, it is not necessary to perform re-installation for bonding the other facing surface by an operator in bonding of a part to be bonded having a bonding surface on a flat surface and a surface perpendicular to the flat surface. Can be improved and productivity can be increased. That is, according to the present invention, unlike the case where the conventional bonding apparatus is remounted, it is not necessary to pay attention to interference with the already bonded portion, and uniform bonding accuracy can be achieved.
  • a bonding apparatus for bonding a part to be bonded having three or more surfaces in different directions of bonding surfaces is different from a conventional bonding apparatus in that not only the bonding head but also the stage side is moved relatively.
  • the stability of the bonding position is required. For this reason, it is necessary to position the mounting position of the part to be bonded in the vicinity of the rotation axis and to suppress vibration of the rotation mechanism.
  • the bonding apparatus of the present invention can perform stable bonding by applying a large torque to the rotating shaft to stabilize the rotating mechanism and suppress vibration. For this reason, it becomes possible to position the mounting position of the part to be bonded in the vicinity of the rotation axis and to suppress the vibration of the rotation mechanism unit.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)

Abstract

被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施する。 ボンディング手段と、ワークホルダと、前記ワークホルダを回転させる回転機構部とを有するボンディングステージと、前記ワークホルダの回転を制御する制御部と、を備え、前記ボンディング手段は、基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けられるとともに、移動方向上に基準位置を有しており、複数のボンディング点には、被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なったボンディング点が含まれており、前記制御部は、前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する。

Description

ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム
 本発明は、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品をワイヤ等を用いてボンディングするボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラムに関する。
 従来、ボンディング装置として金線、銅などからなるワイヤを用いて第1ボンディング点となるICチップ上の電極(パッド)と、第2ボンディング点となるリードとを接続するワイヤボンディング装置が知られている。
 第1ボンディング点としてのICチップのパッドと、第2ボンディング点として、例えば金属からなるリードフレームのリードとをワイヤで接合するワイヤボンディング装置において、第1ボンディング点と第2ボンディング点とは、互いに平行な平面上に位置している。一方、半導体レーザ、平板型フィルタ、3軸センサ等のパッケージでは、第1ボンディング点と第2ボンディング点とは、互いに垂直な平面上に位置している場合があり、これにより、従来のワイヤボンディング装置ではボンディングを行うことができなかった。
 特許文献1は、第1ボンディング面と第1ボンディング面のほぼ直交する第2ボンディング面を有するレーザダイオード等の半導体素子の組立において、半導体素子をステージに保持して第1ボンディングを行い、第1ボンディング後にステージを90度回転して第2ボンディングを行うことが可能な組立装置が開示されている。これにより、第1ボンディング面に第2ボンディング面がほぼ直交していても、ステージを90度回転することにより、第1ボンディング面と第2ボンディング面とのボンディングが可能となり、半導体素子の量産化を図ることができる。
 また、特許文献2は、互いに垂直な面上にあるパッドとリード間のワイヤボンディングを複数本行う際、ワークの再脱着なしに行うワイヤボンディング装置が開示されている。特許文献2によれば、キャピラリによりワイヤをステージに平行な面上に第1ボンディングした後にキャピラリを上昇させ、次に、ステージの反転中心を通るステージに平行な軸を中心にステージを90度回転させ、回転後にキャピラリによりワイヤをワークのステージに垂直な面上に第2ボンディングを行う。第2ボンディング後にキャピラリを上昇させて、キャピラリの下端が反転中心の近辺に位置するように停止させる。その後、反転中心を通るステージに平行な軸を中心にステージを90度逆回転させて、元の位置に戻す。
 次に、ステージに垂直な軸を中心としてワークが水平状態でステージを所定の角度だけ回転させて、回転によりワーク上の所定の位置がキャピラリの下側に位置させるようにして、反対面の垂直方向のボンディングを行う。
 これにより、平板型フィルタのようにワークの両面に垂直方向のボンディングを行う場合、片面の垂直方向ボンディング終了後、ステージによってワークが水平状態で180度回転し、反対面の垂直方向のボンディングを行うことができる。
 また、特許文献3は、駆動用IC等を実装する基面に対して、垂直もしくは略垂直に面発光型発光ダイオードアレイを実装した発光ダイオードアレイユニットにおける各サンプル間をワイヤボンディングで接続するために、サンプルステージが長手方向を軸に90度回転する回転機構と、回転軸の位置を調整するために回転軸に垂直な二つの方向にステージを移動する機構とを有する発光ダイオードアレイユニットの実装装置が開示されている。
 また、特許文献4は、3軸センサ・チップパッケージに関する方法及び装置が開示されている。特許文献4によれば、センサパッケージは、ベースと、ベースに取り付けられた第1のセンサダイが、第1のアクティブセンサ回路および第1のアクティブセンサ回路に電気的に結合された複数の金属パッドとを備える。また、ベースに取り付けられた第2のセンサダイは、第2のセンサダイにおける第1の表面の上に配置された第2のアクティブセンサ回路と、第2のセンサダイにおける第2の表面の上に、第2のアクティブセンサ回路と電気的に結合された第2の複数の金属パッドとを備える。第2のアクティブセンサ回路は、第1のアクティブセンサ回路に対して直交に方位付けされ、ベースに垂直であるように、第2のセンサダイが配置される。第2のセンサダイにおける第2の表面は、第1の表面に隣接し、第1の表面の面に対して角度がつけられている。3軸センサ・チップパッケージは、第1のセンサダイの第1の複数の金属パッドを第2のセンサダイの第2の複数の金属パッドと相互接続するワイヤボンディングで結合されている。
特開昭59-101845号公報 特開平8-8287号公報 特開平7-186442号公報 特開2012-237751号公報
 上述したように、特許文献1乃至特許文献4に開示されている発明は、被ボンディング部品の複数のボンディング箇所の高さ位置が同一高さ位置で揃っていることを前提としており、それに伴って前記ボンディング箇所に対するボンディング手段の移動距離を共通の移動距離に設定している。
 最近、半導体レーザなどのチップが開発されており、この種の半導体レーザのチップにおいては、ボンディング箇所の高さが異なっている。この種の半導体レーザのボンディング箇所に特許文献1乃至特許文献4に開示された既設のボンディング装置でボンディング処理を実行した場合には、高さの異なる複数のボンディング箇所に対してボンディング手段の移動ストロークが共通に設定されているため、ボンディング箇所の高さによっては、ボンディング手段によるボンディング処理が実行できないことになる。このため、半導体レーザなどのチップにボンディング処理を有効に実施できるボンディング装置の開発が望まれている。
 さらに、半導体レーザのチップは、高さの異なる複数のボンディング箇所がチップの3面以上に配置されている場合があり、この3面以上の面に配置された高さの異なる複数のボンディング箇所にボンディング装置の機構を複雑化することなく、ボンディング手段でボンディング処理を有効に実施できるボンディング装置の開発が望まれている。
 そこで、本発明の目的は、高さの異なる複数のボンディング箇所にボンディング装置の機構を複雑化することなく、ボンディング手段でボンディング処理を有効に実施するという要求に応えるために、被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施するボンディング装置を提供することにある。
 本発明に係るボンディング装置は、被ボンディング部品の複数のボンディング点にボンディングを行うボンディング手段と、前記被ボンディング部品を載置面で保持するとともに、前記ボンディング手段と正対する基準姿勢を有するワークホルダと、前記ワークホルダを前記基準姿勢から回転軸周りに回転させる回転機構部とを有するボンディングステージと、前記ワークホルダの回転を制御する制御部と、を備え、前記ボンディング手段は、前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けられるとともに、当該移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる基準位置を有しており、前記複数のボンディング点には、前記被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なったボンディング点が含まれており、前記制御部は、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正することを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置の前記回転機構部は、前記基準姿勢にあるワークホルダを前記回転軸周りに正逆方向に回転可能に構成されていることを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置の前記ボンディングステージは、前記被ボンディング部品を装着可能なヒートプレートと、該ヒートプレートを加熱することが可能なヒートブロックとを有しており、前記ヒートプレートは、被ボンディング部品が前記基準姿勢のワークホルダにされた状態で、前記被ボンディング部品を前記基準位置に接近または離反させる距離補正手段を有することを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置の前記ヒートプレートと前記ヒートブロックとは、分割されて構成されたことを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置は、超音波振動を印加させることが可能な超音波発生手段を前記ボンディング手段に有し、前記超音波発生手段で引き起こされる振動を抑制するためのトルクを前記回転軸に付与するトルク発生手段を有することを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置の前記被ボンディング部品は、前記ボンディングステージの前記回転軸近傍に設けられてなることを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング装置の前記ボンディングステージの回転機構部は、前記回転軸よりも下方に位置するよう構成し、上方は前記ボンディング手段としてのボンディングヘッドがボンディング面内に進入するようにして、前記ボンディングヘッドの可動範囲を広くする構成としたことを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング方法は、ボンディングステージのワークホルダの載置面に載置した被ボンディング部品のボンディング点にボンディング手段でボンディングを行うボンディング方法において、前記ワークホルダを前記ボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能とし、前記ボンディング手段を前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けるとともに、当該移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる基準位置を設定し、前記ボンディング点には、前記被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれており、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正することを特徴とする。
 また、本発明に係るボンディング制御プログラムは、ボンディングステージのワークホルダの載置面に載置した被ボンディング部品のボンディング点へのボンディング手段によるボンディング処理を制御するボンディング制御プログラムにおいて、前記ワークホルダが前記ボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能であり、前記ボンディング手段が前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けられ、前記ボンディング点には、前記被ボンディング部品が前記基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれており、前記ボンディング手段の移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる前記基準位置を設定する機能と、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する機能と、をコンピュータに実行させることを特徴とする。
 以上のように、本発明によれば、回転軸の周りにボンディングステージを回転させて、ボンディング手段に対する被ボンディング部品のボンディング箇所の離間距離を補正することにより、被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する離間距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施することができる。
 本発明においては、ボンディングステージが回転軸の周りを回転するため、ボンディング手段でボンディング処理をする際に、ボンディングステージのボンディング手段に対する姿勢が問題となることが予想される。そこで、本発明によれば、ボンディングステージを回転させるための回転機構を利用して、ボンディングステージにトルクを付与してボンディングの姿勢を安定させることができる。
 さらに、本発明においては、ボンディング手段の移動距離を変更せずに、ボンディングステージを回転させるという簡素な機構を採用することにより、ボンディング装置の機構を複雑化することなく、高さの異なる複数のボンディング箇所にボンディング処理を実施することができるばかりでなく、高さの異なる複数のボンディング箇所がチップの3面以上に配置されている場合であっても、この3面以上の面に配置された高さの異なる複数のボンディング箇所にボンディング処理を有効に実施できる。
 また、従来は、基準姿勢である水平状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品のボンディングでは、一方の対向する面のボンディングを行った後に、被ボンディング部品を水平に180度回転した状態に作業者が再設置し、反転機構を回転して他方の対向する面のボンディングを行っていた。本発明によれば、平面と平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品のボンディングで、他方の対向する面のボンディングを行うための作業者による再設置が不要となり、作業効率が向上し、生産性を高めることができる。すなわち、本発明は、被ボンディング部品を180度回転した状態でボンディングを行うことができるようにするため、回転機構部を備えるボンディングステージを可能な限り下方に位置させることにより、ボンディングヘッドがその上方からボンディング面内に進入することができるようにして、ボンディングヘッドの可動範囲を広くする構成としたものである。こうすることによって、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品であって、面内にボンディングをするボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品に対して、可動範囲の広いボンディングヘッドによって容易にボンディングを行うことができる。
 本発明においては、ワークホルダをボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能とし、前記ボンディング手段を前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けるとともに、当該移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる基準位置を設定している。前記ボンディング手段の移動方向としては、ボンディング手段が鉛直方向(Z方向)に移動する方向を想定している。
 本発明では、前記ボンディング点に、前記被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれていることを前提とし、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正している。
 従って、本発明でボンディング位置とは、被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での移動方向に沿った基準位置からの離間距離が異なったボンディング点のことをいう。また、図5、図6、図8、図10、図13、図14、図15及び図17中に記載の「距離」とは、「離間距離」を意味するものとする。
 また、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置は、従来のボンディング装置と異なり、ボンディングヘッドのみならず、ステージ側も相対的に移動させるため、ボンディング位置の安定が求められる。このため、被ボンディング部品の装着位置を回転軸付近に位置させると共に、回転機構部の振動を抑制する必要がある。本発明のボンディング装置は、回転軸に大きなトルクを付与することによって、回転機構部を安定させ、振動も抑制して安定したボンディングを行うことができる。このため、被ボンディング部品の装着位置を回転軸付近に位置させると共に、回転機構部の振動を抑制することが可能となる。
本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置の構成を示す斜視図である。 本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置の制御部、駆動部の構成を示すブロック図である。 本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置のボンディングステージの構成を示す斜視図である。 回転機構部の制御部、駆動部の構成を示すブロック図である。 第1の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置のティーチング動作を示すフローチャートである。 第1の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置のボンディング動作を示すフローチャートである。 図5、図6に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。 第2の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディング動作を示すフローチャートである。 図8に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。 第3の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディング動作を示すフローチャートである。 図10に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。 ボンディング位置の距離が異なる被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差分の補正について説明する図である。 基準姿勢である水平状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品をワイヤボンディングするワイヤボンディング装置のティーチング動作を示すフローチャートである。 基準姿勢である水平状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品をワイヤボンディングするワイヤボンディング装置のボンディング動作を示すフローチャートである。 図14に示すボンディング動作を示すフローチャートの続きを示す図である。 図13、14に示すワイヤボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。 基準姿勢にあって且つ傾斜したボンディング面を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディングの動作を示すフローチャートである。 図17に示すボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。
 以下、図面を参照して、本発明によるボンディング装置及びボンディング方法を実施するための形態について説明する。なお、以下の説明では、ボンディング装置としてワイヤを用いて被ボンディング部品の電極とリードとを接続するワイヤボンディング装置を用いて説明する。
 本発明は、ボンディング手段としてのボンディングヘッドのボンディング部品に対するボンディング位置の離間距離の差に応じてワークホルダの回転を制御することにより、ボンディングヘッドの複数のボンディング点に対するボンディング位置の離間距離の差分を補正して、ボンディングを行うことを可能としたものである。また、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する半導体レーザパッケージ等の被ボンディング部品におけるボンディングツールに対するボンディング面の相対位置が、ボンディングツールの直上に位置するように回転機構部70(図3に示す)を制御し、ボンディング面上の距離が異なる場合に、ボンディング位置の離間距離の差分を補正してボンディングすることができるようにしたものである。これにより、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する半導体レーザパッケージ等のボンディングが可能となり、生産性を大幅に向上することができる。
 以下、本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置の構成を図1乃至図4を用いて説明する。図1は、本発明によるボンディング装置としてのワイヤボンディング装置の構成を示す斜視図である。図2は、本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置の制御部、駆動部の構成を示すブロック図、図3は、本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置のボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)の構成を示す斜視図、図4は、回転機構部の制御部、駆動部の構成を示すブロック図である。図1及び図2に示すように、ワイヤボンディング装置1は、ボンディングヘッド3と、ボンディングヘッド3を搭載してX方向及び/又はY方向に二次元的に移動して位置決めする位置決め手段としてのXYステージ18と、半導体レーザチップ等をマウントした被ボンディング部品44を載置してボンディングツール6によりボンディング作業を行うボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)50とを有している。また、図2に示すように、ワイヤボンディング装置1の制御部、駆動部は、コンピュータ21、XY軸制御部35、Z軸制御部36及び回転軸制御部37とを含むコントロールユニット20と、XY軸制御部35、Z軸制御部36及び回転軸制御部37からの指令信号に応じてXYステージ18、ボンディングヘッド3、及びボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)50の各モータに駆動信号を発する駆動ユニット39とからなる。なお、コンピュータ21からの制御によって、XY軸制御部35はXYステージ18のXY軸の位置制御の指定信号、Z軸制御部36はボンディングヘッド3のZ軸の位置制御の指定信号、回転軸制御部37はボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)50の回転軸の回転制御の指令信号を、それぞれ生成して駆動ユニット39に出力する。なお、ボンディングステージ50は、被ボンディング部品を回転させてボンディング作業を行うことが可能に構成されているため、以下の説明では、ボンディングステージ50をボンディング回転ステージ50と記して説明する。
 ボンディング手段としてのボンディングヘッド3は、超音波振動子(図示せず)と、一方の先端にボンディングツール6としてのキャピラリ6を有する超音波ホーン5と、他方が支軸(図示せず)に結合されているボンディングアーム4と、キャピラリ6の位置を検出する位置検出手段としてのエンコーダ(図示せず)と、ボンディングアーム4を支軸を中心として上下に駆動するリニアモータ(図示せず)と、を有する。なお、超音波振動子と超音波ホーン5、駆動回路(図示せず)とで超音波発生手段を構成する。また、ボンディングアーム4を駆動するモータは、リニアモータに限定するものではなく、他の種類のモータであってもよい。
 また、図1及び図2に示すように、ボンディングヘッド3は、ワイヤ40の把持を行い、ボンディングアーム4に固定されてキャピラリ6と連動して上下移動及び開閉機構を行うクランプ7(把持手段)を備えている。また、キャピラリ6とクランプ7とを介して垂直方向に伸びたワイヤ40にエアーを吹き上げてテンションを与えるテンションクランプ8(図2に示す)を有している。クランプ7上に位置するテンションクランプ8は、クランプ7と異なり、キャピラリ6と連動することなく、ボンディングヘッド3に固定されている。ワイヤ40の把持を行うクランプ7の開閉機構及びテンションクランプ8は、コントロールユニット20によって駆動ユニット39を介して制御される。
 また、図2に示すように、ボンディングヘッド3は、放電によってワイヤ40を溶融してキャピラリ6の先端にボールを形成するための放電電極17を有している。
 図2に示すように、コントロールユニット20は、図示しないCPU、メモリ22、図示しない入出力部等を有するコンピュータ21を内蔵しており、コンピュータ21のCPUは、メモリ22に記憶されているプログラムを実行してボンディング装置1の制御を行う。なお、コンピュータ21のメモリ22は、プログラムの他にデータ等の記憶をすることも可能となっている。
 コンピュータ21のメモリ22には、ボンディングステージのワークホルダの載置面に載置した被ボンディング部品のボンディング点へのボンディング手段によるボンディング処理を制御するボンディング制御プログラムが記憶されている。本発明に係るボンディング制御プログラムは、ワークホルダ52がボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能であり、前記ボンディング手段が前記基準姿勢にあるワークホルダ52の載置面に対して移動可能に設けられ、ボンディング点には、前記被ボンディング部品が前記基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれている構成を前提として、前記ボンディング手段の移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる前記基準位置を設定する機能と、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する機能とをコンピュータに実行させるためのプログラムである。このボンディング制御プログラムがメモリ22に記憶されており、コンピュータ21のCPUはメモリ22に記憶されたボンディング制御プログラムを読み出すことにより、本発明のボンディング装置の動作を制御し、且つボンディング装置を制御すことにより、本発明のボンディング方法を実行する。
 また、コンピュータ21には、キーボード等の外部入力装置34が接続されており、外部入力装置34を介して入力されるキャピラリ6の上下移動量、XYステージ18におけるボンディング点のXY軸の座標、ワークホルダ52の回転機構部70の回転データ等をメモリ22に記憶するようになっている。なお、ボンディング点とは電極、端子等のボンディングをすべき位置をいう。
 ボンディングにおけるキャピラリ6の位置は、キャピラリ6の原点位置からのZ軸(垂直)方向における距離で示される。なお、キャピラリ6の原点位置とは、エンコーダにより原点が検出されているときのキャピラリ6の位置をいう。例えば、キャピラリ6の先端に位置するボールが、ボンディング点に当接したときのキャピラリ6の位置は、当接時のキャピラリ6の原点位置からの垂直方向の距離に相当する。なお、キャピラリ6の原点位置は、前もって設定しておくようにする。なお、以後の説明でキャピラリ6の原点位置を原点oと記す。また、被ボンディング部品の異なる面に対して、キャピラリ6の原点位置を異なるように設定してもよい。
 また、キャピラリ6等のボンディングツール6が可動してボンディングが可能なXYZ軸における領域をボンディング可能領域という。ボンディングが可能なXY軸における領域は、XYステージ18の可動範囲で規定され、ボンディングが可能なZ軸における領域は、ボンディングツール6の可動範囲で規定される。しかして、本発明によるボンディング装置は、後述するように、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品へのボンディングが容易に行うことができるように、ボンディングツール6の可動範囲が広く規定されている。
 以下に、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品を載置してボンディングを行うボンディング回転ステージの構成について図1及び図3を用いて説明する。図3は、本発明のボンディング装置としてのワイヤボンディング装置のボンディング回転ステージの構成を示す斜視図である。
 図1及び図3に示すように、ボンディング回転ステージ50は、被ボンディング部品44を保持、加熱するワークホルダ52と、被ボンディング部品44を載置したワークホルダ52を被ボンディング部品44の位置を中心に正面手前又は奥側に回転する回転機構部70(図3に示す右側に図示)と、ワークホルダ52の被ボンディング部品44の保持、解除を行うスライド機構部(図示せず)とを有している。
 ワークホルダ52は、被ボンディング部品44を載置して加熱するヒートプレート53と、ヒートプレート53を加熱するヒートブロック54と、熱を遮断する断熱部57と、断熱部57の下部に設けられて、ヒートブロック54等を支持する支持部58と、被ボンディング部品44を保持するワーク押え65と、を備えている。なお、本発明によるヒートプレート53と、ヒートプレート53を加熱するヒートブロック54とは、分割して構成されている。ヒートプレート53が分割されることによって、ヒートプレート53が交換可能となっている。
 ヒートプレート53は、載置面として被ボンディング部品44を載置して、ヒートブロック54からの熱で被ボンディング部品44を加熱する。ヒートプレート53は、被ボンディング部品44に効率的に熱を伝えるように、被ボンディング部品44の下部と密着する表面が形成されている。ボンディングは、ヒートプレート53上に被ボンディング部品44を載置して行われる。ヒートプレート53は、距離が異なる被ボンディング部品のボンディング位置を、ボンディング手段としてのボンディングヘッド3によるボンディング可能な距離位置に接近または離反させる補正をする距離補正手段を有している。すなわち、ヒートプレート53の距離補正手段は、被ボンディング部品毎に被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離が、ボンディングヘッド3によるボンディング可能な距離位置になるように、Z軸方向にボンディング位置の離間距離を補正するため、その結果として、被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施することができる。
 また、必要に応じてヒートプレート53に、被ボンディング部品44を吸着固定するための真空吸着用の吸着孔を設けることも可能である。
 また、本発明によるヒートプレート53は、ヒートブロック54と分割して構成されており、例えば、被ボンディング部品44の電極の高さに応じて、厚さが異なるヒートプレート53に代えるようにする。また、ヒートプレート53の表面の高さ位置を可変する機構を設けて、自動で調整するようにしてもよい。
 ヒートプレート53の下部には、ヒートブロック54が設けられている。ヒートブロック54にはヒータが内蔵されており、温度検出センサでヒートブロック54の温度を検出して、ヒートブロック54が所定の温度を維持するようにヒータが制御されている。
 また、ヒートブロック54の内部に、真空吸着用の吸着孔を設けることも可能である。ヒートブロック54の吸着孔とヒートプレート53の吸着孔とを接続し、ヒートブロック54の側面に真空吸着配管用の金属チューブ55を設けて、真空吸着を行うようにするとよい。ボンディング時に被ボンディング部品44の背面をヒートプレート53で吸着することにより、被ボンディング部品44をヒートプレート53に密着、固定することができる。
 ヒートブロック54の下部には、断熱材からなる断熱部57が設けられている。断熱部57は、ヒートブロック54からの熱が下部に伝わらないように熱を遮断する。
 更に、断熱部57の下部の面には支持部58が設けられている。断熱部57の下部に設けられた支持部58は、上部に位置するヒートプレート53、ヒートブロック54及び断熱部57を支持している。
 また、支持部58の左右両端には、弾性体等のバネで結合された支持部材60が設けられている。支持部58の左右両端に位置する支持部材60は、回転機構部70のU字形状を成すスイング部材73に回転可能に取り付けられている。
 支持部材60の上部の端面には、左右に設けられている1対のワーク押え65の端部が固定されている。支持部材60は、スライド機構部(図示せず)によってスイング部材73に取り付けられている箇所を支軸として回転し、上部の先端が左右に移動する。ワーク押え65は、左右にスライドして、ヒートプレート53上の被ボンディング部品44を押さえるようにして固定したり、固定を解放したりする。
 なお、支持部材60の左右の移動に代えて上下に移動して、ワーク押え65を上下に移動するようにしてもよい。ワーク押え65が上に移動して被ボンディング部品44の押さえを解放し、ワーク押え65が上から下に移動することにより、被ボンディング部品44の表面の一部又は側面を押さえて固定するようにする。
 次に、ボンディング回転ステージ50の回転機構部70について説明する。図3に示すように、回転機構部70は、全体が略U字形状を有し棒状の部材なるスイング部材73で形成され、スイング部材73の両端に回転軸74(シャフト)を有している。また、略U字形状を有し棒状の部材なるスイング部材73の中央位置付近には、ワークホルダ52を結合、保持するための平板(図示せず)が設けられている。
 スイング部材73の両端の回転軸74は、軸受77を介して左右に設けられた側板90に取り付けられている。また、両端の回転軸74は、回転軸74の中心を結ぶ仮想線(中心線)がXYステージ18のX軸方向(若しくはY軸方向)と平行を成すように設けられている。
 これにより、回転機構部70の回転軸74の両端は、左右の側板90の外側に取り付けられた軸受77により支えられて、回転可能となっている。
 ワークホルダ52に設けられているヒートプレート53、ヒートブロック54、断熱部57及び支持部58は、垂直方向に一体に結合して回転機構部70に取り付けられている。即ち、ワークホルダ52は、回転機構部70の略U字形状を有し棒状の部材なるスイング部材73の平板と支持部58を介して結合固定されている。
 これにより、回転機構部70が回転することにより、ワークホルダ52と共に、支持部材60、ワーク押え65も同時に回転する。
 このように、回転機構部70の回転軸74が回転することにより、略U字形状の中心付近のスイング部材73の平板に固定されているワークホルダ52が回転する。このように、回転機構部70の構成部品が回転軸74の下方側に位置するように構成することによって、回転軸74の上方側の空間が広く開放されることによって、ボンディングヘッドの可動範囲が広くなるような構成となっている。それによって、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品に対して、ボンディングを容易に行うことができるようになっている。
 図1及び図3に示すように、回転機構部70は、被ボンディング部品44を載置したワークホルダ52を被ボンディング部品44の位置を中心に正面手前、以後正方向(F方向)とする、又は奥側、以後逆方向(R方向)とする、に回転し、連続して0度から180度まで回転可能となっている。なお、回転機構部70がF方向に回転するときを0度から90度とし、R方向に回転するときを0度から-90度とする。
 また、回転機構部70における回転軸74の回転中心が、被ボンディング部品44の底面からボンディング面のボンディング位置の離間距離までの範囲内に位置するようにして、被ボンディング部品44が、ボンディング回転ステージ50の回転軸74の近傍となるようにして、回転により位置が決まるボンディング点をボンディング可能領域に位置するようにする。
 図3に示すように、ボンディング回転ステージ50における回転機構部70は、ギア80、81、82を介してモータ85によって回転駆動される。
 モータ85の回転軸にはギア80、本発明では32枚の平歯車が固定されており、モータ85の回転が、並列な3軸に取り付けられたギア(平歯車)を介して回転機構部70の回転軸74を回転するように駆動する。モータ85の回転を回転軸74に伝達する各ギアのギア比は、モータ85のギア80とギア82とのギア比が大きくなるように設定され、2軸目のギア81、本発明では90枚の平歯車と3軸目のギア82、本発明では110枚の平歯車とのギア比が1以上(本発明のギア80とギア82とのギア比は1:3.4)となるように設定されている。これにより、モータ85の回転分解能に対する回転軸74の回転角度が小さいため、回転機構部70を高分解能の角度で回転させることができる。なお、中間のギア81は、動力伝達用であり、ギア比は、ギア80とギア82の比で設定される。
 また、3軸目のギア82は、回転機構部70の一方の回転軸74に固定されており、モータ85が回転することにより、2軸目のギア81が回転し、2軸目のギア81の回転力が3軸目のギア82に伝達されて3軸目のギア82が回転して、回転機構部70の回転軸74を回転するように駆動する。なお、回転軸74に取り付けられた3軸目のギア82は、中心角360度の歯面を持つ必要がなく、例えば、中心角200度の歯面を持つようにする。
 モータ85は、高トルクを有し、高速回転が可能となっている。モータ85の回転軸に取り付けられたギア80を回転し、異なるギア比を有するギア81、82を介して、回転機構部70の回転軸74に対して回転力を付与し大トルクで回転駆動する。
 また、モータ85は、ギア80、ギア81、ギア82とによって、大トルクを発生することによって高保持力を有するため、モータ85の回転停止による回転機構部70で発生する振動を押さえることができる。なお、モータ85は、ギア80、ギア81、ギア82、回転機構部70は、トルク発生手段を構成する。
 モータ85は、回転数、回転角度等を制御できるステップ(パルス)モータ85が望ましい。なお、モータ85は、ステップ(パルス)モータ85に限定するものではなく、他のモータ85であってもよい。
 このように、本発明によるボンディング装置は、回転機構部70の回転軸74に対して大トルクを付与するトルク発生手段を有し、該トルク発生手段によってワークホルダの回転時の振動を抑制して被ボンディング部品へのボンディングを行う。
 次に、ボンディング回転ステージ50における回転機構部70のモータ85の制御について説明する。
 回転機構部70を所定の角度に回転させるには、例えば、モータ85としてステップモータを使用した場合には、モータ85のギア80を含む3軸のギア比とモータ85の分解能(1パルス当たりの回転角度)から求められたパルス数でモータ85を回転させる。また、回転機構部70が基準姿勢である水平状態を示す信号(原点信号)は、スイング部材73の位置をボンディング回転ステージ50の側板90に取り付けたセンサで検出する。例えば、回転機構部70が基準姿勢である水平状態のときには、センサから“ON”信号が出力される。モータ85の制御を行う回転軸制御部37は、原点信号を基準として、回転機構部70を所定の角度に回転させるように、回転方向、パルス数を決定する。なお、以下では、基準姿勢を水平状態に設定して説明するが、基準姿勢は水平状態に限られるものではなく、水平姿勢が崩れた傾斜姿勢であってもよいものである。
 また、回転機構部70の回転軸74が、0度から180度(-90度から0度、0度から90度)まで回転したときに、センサからリミット信号が出力される。回転機構部70が0度から180度(-90度から0度、0度から90度)を超えて回転しないように、リミット信号によりモータ85の回転を停止するようにする。
 これにより、ボンディング回転ステージ50の回転機構部70は、被ボンディング部品44を載置したヒートプレート53、ヒートブロック54及びワーク押え65から構成されるワークホルダ52を搭載して、回転軸74を中心に右側面視で0度から180度(±90度)まで回転可能となっている。
 なお、回転機構部70は、被ボンディング部品44を載置したワークホルダ52を、回転軸74を中心に構造上0度から180度を超えて回転することが可能であるが、ボンディングアーム4、ボンディングツール6との干渉等を防止するために、0度から180度(±90度)まで回転可能に制御される。
 汎用のボンディング装置では、ボンディングステージの姿勢が変更されることがないため、被ボンディング部品におけるボンディング位置のボンディングステージに対する高さ方向での距離が異なっている場合でも、ボンディングステージを基準として調整することが可能であるが、本発明においては、3面以上のボンディング面にボンディング位置の離間距離が異なるボンディング箇所が存在するため、汎用のボンディング装置のようにボンディングステージを基準としてボンディング位置の離間距離を調整することは困難である。
 そこで、本発明におけるボンディング装置1は、基準姿勢である平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング点を有する被ボンディング部品44を、ボンディングツール6の移動距離を変更することなく、回転機構部70によって回転してボンディングを行う。
 しかして、本発明は、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品に対してボンディングを行うことができるように、ボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)の回転機構部70を回転させて被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差分を補正してボンディングを行う。
 また、図3に示すボンディング回転ステージ50は、ヒートプレート53に載置した被ボンディング部品44を左右から保持する爪状のワーク押え65を駆動するスライド機構(図示せず)を有している。スライド機構は、ワーク押え65を支持する支持部材60を左右にスライドしてワーク押え65を移動するようにする。このスライド機構は、回転機構部70とは独立して動作し、ボンディング回転ステージ50の筐体に固定されている。スライド機構はシリンダ等で構成されており、駆動ユニット39からの信号によりワーク押え65を左右に移動させる。
 本発明によるボンディング装置1がボンディングする被ボンディング部品44は、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する半導体レーザパッケージ等である。レーザ光を発光する半導体レーザパッケージは、パッケージの台座上に半導体レーザチップを実装し、半導体レーザチップの電極等とリード端子とをワイヤボンディングしてワイヤで接続し、キャップを被せた構成である。半導体レーザパッケージは、発振光が半導体レーザチップの側面から発光する。このため、発振光を垂直方向に取り出すために、半導体レーザチップを支持部の側面にマウントする。半導体レーザチップの一方の電極は、半導体レーザチップの表面に設けられており、このため、半導体レーザチップの異なる方向に3面以上有する面のそれぞれを回転して被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差分を補正して、ボンディングを行う。
 また、被ボンディング部品44は、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する半導体レーザパッケージに限らず、例えば、同一面内でボンディング位置の離間距離が同一であったり異なったり、混在したものであってもよい。
 以上述べたように、ボンディング装置1としてのワイヤボンディング装置は、X軸及びY軸方向に移動可能なXYステージ18と、XYステージ18に搭載されてZ軸方向に移動可能なボンディングツール6を有するボンディングヘッド3と、XYステージ18のX軸(若しくはY軸)に平行な回転軸74を有し、被ボンディング部品44を回転する回転機構部70を有するボンディング回転ステージ50と、を有している。これにより、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品、同一面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品に対してボンディングすることが可能となる。
 また、図4に示すように、ボンディング装置1としてのワイヤボンディング装置は、被ボンディング部品のボンディング位置を入力するボンディング位置情報入力部30を有している。ボンディング位置情報入力部30は、オペレータによるティーチング等でXY軸及びZ軸の位置座標を入力する。ワイヤボンディング装置は、更に、回転機構部70の回転軸の回転角を入力する回転ステージ角回転情報入力部31を有している。回転ステージ角回転情報入力部31は、ボンディング時に被ボンディング部品の回転方向を含む回転角を入力する。すなわち、ボンディング点の面内の複数のボンディング位置の離間距離の差分を補正する回転角を入力する。これにより、面内のボンディングする位置(ボンディング点)は、XYステージ18におけるX軸、Y軸の位置座標、ボンディングツール6におけるZ軸の位置座標と回転機構部70の回転軸74の回転角とによって指定される。これらのボンディング点毎の位置データは、コントロールユニット20のメモリ22に記憶される。
 また、図4に示すように、コントロールユニット20は、ボンディング時に、メモリ22に記憶されている位置データを読み出して、回転軸制御部37に回転角のデータを出力する。回転軸制御部37は、モータ85が所定の回転動作を行うように駆動ユニット39を制御する。モータ85の回転は、ギア80、81、82を介して、回転軸74に伝達されて、回転軸74が回転する。モータ85の回転軸に取り付けられたギア80と回転軸74を駆動するギア82とのギア比は大きな値であるため、回転軸74に大きなトルクを付与することによって、回転機構部を安定させ、振動も抑制して安定したボンディングを行うことができる。このため、被ボンディング部品の装着位置を回転軸付近に位置させると共に、回転機構部の振動を抑制することが可能となる。
 次に、本発明によるボンディング装置によるボンディング動作におけるボンディング回転ステージの回転機構部の回転に伴う被ボンディング部品とボンディングツールとの位置関係をついて図5、図6及び図7を用いて説明する。
 図5は、第1の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置のティーチング動作を示すフローチャートである。
 図6は、第1の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置のボンディング動作を示すフローチャートである。
 図7は、図5、図6に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。なお、図7における一点鎖線で示す円は、ワークホルダ52付近の被ボンディング部品44とボンディングツール6との位置関係を示す拡大図である。
 図5に示すように、最初に、ボンディング回転ステージ50の回転中心のX、Y位置データ、Z軸の距離データの入力を行って、データをメモリに記憶する(図5に示すステップS1)。ボンディング回転ステージ50の回転中心のデータは、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための回転に伴う新たなボンディング位置を算出するために用いるものであり、ボンディング回転ステージ50の回転中心のデータの入力は、ボンディング装置の立ち上げ時等に行うようにする。
 図7(a)に示すように、半導体レーザチップ45をマウントした被ボンディング部品としての半導体レーザパッケージ44をワークホルダ52のヒートプレート53に載置する。なお、ワークホルダ52は、ヒートプレート53、ヒートブロック54、断熱部57及び支持部58を有している。
 図7(a)は、半導体レーザチップ45をマウントし、下部にリード(図示せず)を有する半導体レーザパッケージ44をヒートプレート53に載置した状態を示す。図7(a)に示すように、ボンディング面が異なる方向に3面を有しており、それぞれの面を第1の面BS1、第2の面BS2、第3の面BS3とする。XYステージ18を基準姿勢にした状態で、第1の面BS1にはボンディング点a、b、c、dが位置している(図5に示すステップS2)。
 次に、図7(a)に示すように、ボンディング点a、bのX、Y位置データ、Z軸の距離データLa、Lbの入力を行う。距離データLaとは、キャピラリ6の原点位置(基準位置とする。)である原点oからボンディング点a間の距離をいう。距離データLbは、原点oからボンディング点b間の距離をいう。距離データの入力後、ボンディング点aのX、Y位置データ、Z軸の距離データLa、Lbをメモリに記憶する(図5に示すステップS3)。
 次に、ボンディング点a、bの距離データLa、Lbからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θaの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θaをメモリに記憶する(図5に示すステップS4)。
 次に、ボンディング点c、dのX、Y位置データ、Z軸の距離データLc、Ldの入力を行う。距離データLcは、原点oからボンディング点c間の距離、距離データLdは、原点oからボンディング点d間の距離をいう。距離データを入力後、ボンディング点c、dのX、Y位置データ、Z軸の距離データLc、Ldをメモリに記憶する(図5に示すステップS5)。
 次に、ボンディング点c、dの距離データLc、Ldからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θbの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θbをメモリに記憶する(図5に示すステップS6)。なお、ティーチング動作時にボンディング点の距離データからボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角の情報を取得する実施形態について述べたが、ボンディング時にボンディング点の距離データから回転方向、回転角の情報を取得するようにしてもよい。このように、ティーチングを行う際には、回転方向、回転角の情報を取得して、距離の補正を行う。
 次に、図7(a)に示す第1の面BS1のボンディングについて説明する。ボンディングは、ティーチングでメモリに記憶された回転方向、回転角の情報等を読み出して、その情報に基づいてボンディング処理を行う。最初に、メモリからボンディング点a、b、c、dの位置データ、Z軸の距離データを読み出す(図6に示すステップS10)。更に、メモリからボンディング点a、bにおける回転方向、回転角θaのデータを読み出す(図6に示すステップS11)。
 次に、読み出した回転角θaで回転機構部70の回転軸74をF方向に回転させる。このとき、ボンディング点aの距離データは、La’=Lbである(図6に示すステップS12)。
 図7(b)に示すように、回転後のボンディング点a、bの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点a、b間のボンディングを行う(図6に示すステップS13)。なお、距離の補正は、ボンディング点の回転に伴う距離の微調整を行うものであり、以下に示すボンディング処理においても同様に実行される。
 次に、メモリからボンディング点c、dにおける回転方向、回転角θbのデータを読み出す(図6に示すステップS14)。
 次に、読み出した回転角θbで回転機構部70の回転軸74をR方向に回転させる。このとき、ボンディング点dの距離データは、Ld’=Lcである(図6に示すステップS15)。
 回転後のボンディング点c、dの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点c、d間のボンディングを行う(図6に示すステップS16)。以上により、半導体レーザパッケージ44における第1の面BS1のボンディング点a、b、c、dのボンディングが行われる。このように、回転軸の回転に伴って、距離が変化するため微調整である距離の補正を実行する。
 なお、以下に説明するティーチング動作、ボンディング動作においても、ティーチングを行う際には、回転方向、回転角の情報を取得して、距離の補正を行う。また、ボンディングは、ティーチングでメモリに記憶された回転方向、回転角の情報等を読み出して、その情報に基づいてボンディング処理を行う。
 次に、ボンディング点が半導体レーザチップ45の第2の面に位置している場合のボンディング動作について図8及び図9を用いて説明する。図8は、第2の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディング動作を示すフローチャートである。図9は、図8に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。
 例えば、ボンディング点が図9(a)に示す第2の面BS2のときには、ボンディング点e、fが半導体レーザチップ45の側面であるため、半導体レーザパッケージ44を矢印で示すように、回転機構部70の回転軸74を、R方向に90度(θ=-90度)回転させてティーチング動作を行う(図8に示すステップS20)。
 このとき、回転軸74は、半導体レーザパッケージ44の底面とヒートプレート53の表面とが接する位置を回転中心75として回転する。図9(a)に示すように、ワークホルダ52が90度回転することにより半導体レーザパッケージ44のボンディング点e、fの第2の面BS2が水平に位置する。その後、ボンディング点e、fのX、Y位置データ、Z軸の距離データLe、Lfを入力し、メモリに記憶する(図8に示すステップS21)。距離データLeは、原点oからボンディング点e間の距離、距離データLfは、原点oからボンディング点f間の距離をいう。
 次に、ボンディング点e、fの距離データLe、Lfからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θcの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θcをメモリに記憶する(図8に示すステップS22)。なお、ティーチング動作は、同一の半導体レーザパッケージ44の場合には、1回のみ行う。
 次に、図9(a)に示す第2の面BS2のボンディングについて説明する。最初に、メモリからボンディング点e、fの位置データ、Z軸の距離データLe、Lfを読み出す(図8に示すステップS23)。更に、メモリからボンディング点e、fにおける回転方向、回転角θcのデータを読み出す(図8に示すステップS24)。
 次に、図9(b)に示すように、読み出した回転角θcで回転機構部の回転軸74をF方向に回転させる。このとき、ボンディング点eの距離データは、Le’=Lf(図8に示すステップS25)。回転後のボンディング点e、fの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点e、f間のボンディングを行う(図8に示すステップS26)。
 以上により、半導体レーザパッケージ44における第2の面BS2のボンディング点e、fのボンディングが行われる。
 次に、ボンディング点が半導体レーザチップ45の第3の面に位置している場合のボンディング動作について図10及び図11を用いて説明する。図10は、第3の面内にボンディング位置の離間距離が異なる電極を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディング動作を示すフローチャートである。図11は、図10に示すティーチング、ボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。
 図11(a)に示すように、第3の面BS3のボンディング点g、hが半導体レーザチップ45の側面に位置している場合には、半導体レーザパッケージ44を回転機構部70によりF方向に90度(90度)回転させてティーチング動作を行う(図10に示すステップS30)。
 図11(a)に示すように、ワークホルダ52がθ=90度回転することによりボンディング点g、hの第3の面BS3が水平に位置する。その後、ボンディング点g、hのX、Y位置データ、Z軸の距離データLg、Lhを入力し、メモリに記憶する(図10に示すステップS31)。距離データLgは、原点oからボンディング点g間の距離、距離データLhは、原点oからボンディング点h間の距離をいう。
 次に、ボンディング点g、hの距離データLg、Lhからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θdの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θdをメモリに記憶する(図10に示すステップS32)。なお、ティーチング動作は、同一の半導体レーザパッケージ44の場合には、1回のみ行う。
 次に、図11(a)に示す第3の面B32のボンディングについて説明する。最初に、メモリからボンディング点g、hの位置データ、Z軸の距離データLg、Lhを読み出す(図10に示すステップS33)。更に、メモリからボンディング点g、hにおける回転方向、回転角θdのデータを読み出す(図10に示すステップS34)。
 次に、図11(b)に示すように、読み出した回転角θdで回転機構部の回転軸74をR方向に回転させる。このとき、ボンディング点eの距離データは、Lg’=Lhである(図10に示すステップS35)。回転後のボンディング点g、hの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点g、h間のボンディングを行う(図10に示すステップS36)。
 以上により、半導体レーザパッケージ44における第3の面BS3のボンディング点g、hのボンディングが行われる。
 本発明のボンディング装置は、F方向に0度から90度(θ=90度)まで回転したときのワークホルダ52の表面の高さが、ボンディング可能領域におけるボンディングツール6の最下降点でのボンディングアーム4の面までの高さ未満となるように設定しているため、ボンディングツール6のボンディング可能領域内で、ワークホルダ52とボンディングアーム4とが干渉しないようになっている。既に説明したように、本発明によるボンディング装置の回転機構部70の構成部品は、回転軸74の下方側に位置する構成となっている。そのため、ボンディングヘッド3の可動範囲が広くなっている。
 従来のボンディング装置は、ボンディング装置の奥側のみ(R方向)に回転するようになっていたが、本発明のボンディング装置は、ワークホルダを手前側(F方向)に90度まで回転させることができるため、被ボンディング部品44をヒートプレート53へ載置したまま、3面へのボンディングが可能である。
 以下に、図12を用いて面内にボンディング位置の離間距離が異なるボンディング点を有する被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差分を補正してボンディングするボンディング装置について述べる。図12は、ボンディング位置の離間距離が異なる被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差分の補正について説明する図である。
 図12(a)に示すように、例えば、被ボンディング部品は、1つの面BS1にボンディング位置の離間距離が異なる端子a、b、c、dを有している。最初に、ティーチングによって端子a、b、c、dのボンディング位置、即ち、ボンディング位置情報入力部30によりX軸、Y軸の位置データ、Z軸の距離データを入力し、メモリにデータを記憶する。図12(b)に示すように、端子a、b、c、dの距離データをLa、Lb、Lc、Ldとする。距離データLaは、原点oから端子a間の距離、距離データLbは、原点oから端子b間の距離、距離データLcは、原点oから端子c間の距離、距離データLdは、原点oから端子d間の距離をいう。なお、端子b、cは、同一チップ上に位置し、Lb=Lcとする。
 次に、ボンディング点a、bの距離データLa、Lbからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θaの情報を取得する。また、ボンディング点c、dの距離データLc、Ldからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θbの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θa、θbをメモリに記憶する。
 図12(c)に示すように、メモリから読み出した回転角θaで回転機構部の回転軸を回転させる。このとき、ボンディング点aの距離データは、La’=Lbである。回転後のボンディング点a、bの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点a、b間のボンディングを行う。
 次に、図12(d)に示すように、メモリから読み出した回転角θbで回転機構部の回転軸を回転させる。このとき、ボンディング点dの距離データは、Ld’=Lcである。回転後のボンディング点c、dの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点c、d間のボンディングを行う。
 このとき、図12(d)に示すように、Lc=Ld’=Lb=La’となり、Z軸の距離が異なる被ボンディング部品のボンディング位置の離間距離の差に応じて補正される。このように、図12(d)に示す第1の面BS1におけるボンディング点a、b、c、dのボンディング位置の離間距離は、同一となるように補正される。
 以上により、半導体レーザパッケージ44における第1の面BS1のボンディング点a、b、c、dのボンディングが行われる。
 このように、本発明のボンディング装置は、面内に複数のボンディング点のボンディング位置が異なる距離を有する被ボンディング部品に対して、ボンディング位置の離間距離の差に応じてワークホルダの回転を制御することにより、複数のボンディング点に対するボンディング位置の離間距離の差分を補正するため、被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施することができるとともに、ボンディングツールの可動範囲を狭くボンディングの精度を向上させることができる。
 次に、本発明のボンディング装置によるボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品のボンディングについて、図13乃至図16を参照してワイヤボンディングを行う例を説明する。
 図13は、基準姿勢の状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品をワイヤボンディングするワイヤボンディング装置のティーチング動作を示すフローチャート、図14は、基準姿勢である水平状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品をワイヤボンディングするワイヤボンディング装置のボンディング動作を示すフローチャート、図15は、図14に示すボンディング動作を示すフローチャートの続きを示す図であり、図16は、図13、14、15に示すワイヤボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。
 図16(a)に示すように、被ボンディング部品(半導体レーザパッケージ)44は、ボンディング面が異なる方向に3面BS1、BS2、BS3を有しており、BS1には、ボンディング点a、b、c、dを有し、ボンディング点aとボンディング点bとをワイヤ等で接続し、ボンディング点cとボンディング点dとをワイヤ等で接続する。また、BS2には、ボンディング点e、fを有し、ボンディング点eとボンディング点fとをワイヤ等で接続し、BS3には、ボンディング点g、hを有し、ボンディング点gとボンディング点hとをワイヤ等で接続するようにする。
 最初に、ティーチングをおこなうために、図16(a)に示すように、被ボンディング部品としての半導体レーザパッケージ44をヒートプレート53に載置して、ワーク押えを動作させて、半導体レーザパッケージ44を固定する。
 図16(b)に示すように、被ボンディング部品44のBS2が水平状態となるように回転軸をR方向に90度回転する(図13に示すステップS40)。BS2上に位置するボンディング点e、fのX、Y位置データ、Z軸の距離データLe、Lfを入力して、メモリに記憶する(図13に示すステップS41)。距離データLeは、原点oからボンディング点e間の距離、距離データLfは、原点oからボンディング点f間の距離をいう。
 ボンディング点e、fの距離データLe、Lfからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θcの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θcをメモリに記憶する(図13に示すステップS42)。
 次に、図16(c)に示すように、被ボンディング部品44のBS3が水平状態となるように回転軸をF方向に180度回転させる(図13に示すステップS43)。BS3上に位置するボンディング点ボンディング点g、hのX、Y位置データ、Z軸の距離データLg、Lhを入力して、メモリに記憶する(図13に示すステップS44)。距離データLgは、原点oからボンディング点g間の距離、距離データLhは、原点oからボンディング点h間の距離をいう。
 次に、ボンディング点g、hの距離データLg、Lhからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θdの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θdをメモリに記憶する(図13に示すステップS45)。
 次に、図16(d)に示すように、被ボンディング部品44のBS1が基準姿勢である水平状態となるように、回転軸をR方向に90度回転させる(図13に示すステップS46)。BS1上に位置するボンディング点a、b、c、dのX、Y位置データ、Z軸の距離データLa、Lb、Lc、Ldを入力して、メモリに記憶する(図13に示すステップS47)。なお、各ボンディング点の距離データLa、Lb、Lc、Ldは、原点oから各ボンディング点間の距離をいう。
 次に、ボンディング点a、bの距離データLa、Lbからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θaの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θaをメモリに記憶する(図13に示すステップS48)。
 次に、ボンディング点c、dの距離データLc、Ldからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θbの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θbをメモリに記憶する(図13に示すステップS49)。
 以上により、基準姿勢の状態で平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品をワイヤボンディングするためのティーチング動作を終了する。ティーチング動作は、同一の被ボンディング部品に対して1回のみ行う。
 次に、ボンディング動作について説明する。ボンディングに際して、被ボンディング部品44としての半導体レーザパッケージ44をヒートプレート53に載置して、ワーク押えを動作させて、半導体レーザパッケージ44を固定する。
 最初に、メモリからボンディング点a、b、c、d、e、f、g、hの位置データ、Z軸の距離データを読み出す(図14に示すステップS60)。更に、メモリからボンディング点e、fにおける回転方向、回転角θcのデータを読み出す(図14に示すステップS61)。
 図16(e)に示すように、読み出した回転角θcで回転機構部の回転軸をR方向に(90-θc)度回転する。このとき、ボンディング点eの距離データは、Le’=Lfである(図14に示すステップS62)。回転後のボンディング点e、fの距離、位置の補正を実行して、第2の面BS2のボンディング点e、f間のボンディングを行う(図14に示すステップS63)。
 次に、メモリからボンディング点g、hにおける回転方向、回転角θdのデータを読み出す(図14に示すステップS64)。
 図16(f)に示すように、読み出した回転角θdで回転軸をF方向に(180-(θc+θd))度回転する。このとき、ボンディング点eの距離データは、Lg’=Lhである(図14に示すステップS65)。回転後のボンディング点g、hの距離、位置の補正を実行して、第3の面BS3におけるボンディング点g、h間のボンディングを行う(図14に示すステップS66)。
 次に、メモリからボンディング点a、bにおける回転方向、回転角θaのデータを読み出す(図14に示すステップS67)。
 図16(g)に示すように、読み出した回転角θaで回転軸をR方向に(90-θd-θa)度回転する。このとき、ボンディング点aの距離データは、La’=Lbである(図15に示すステップS68)。回転後のボンディング点a、bの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点a、b間のボンディングを行う(図15に示すステップS69)。
 次に、メモリからボンディング点c、dにおける回転方向、回転角θbのデータを読み出す(図15に示すステップS70)。
 読み出した回転角θbで回転軸をR方向に(θb+θa)度回転する(図示せず)。このとき、ボンディング点dの距離データは、Ld’=Lcである(図15に示すステップS71)。回転後のボンディング点c、dの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点c、d間のボンディングを行う(図15に示すステップS72)。
 以上により、ボンディング面が異なる方向に3面BS1、BS2、BS3を有する被ボンディング部品44は、BS1のボンディング点aとボンディング点b及びボンディング点cとボンディング点dとがワイヤ等で接続される。また、BS2のボンディング点eとボンディング点fとをワイヤ等で接続され、BS3のボンディング点gとボンディング点hとがワイヤ等で接続される。
 なお、ボンディングの順番は、限定されるものではなく、例えば、位置データを読み出して位置データから、面内でのボンディングでボンディング済みのワイヤ等との干渉が発生しないように、面内でのボンディングの順番を決定するものである。例えば、ボンディング位置、ボンディングする2点間の直線での経路、ループ形成でのワイヤの高さ等を基に、ボンディングでの干渉領域を決定して、他のボンディング点が影響を受けないように、ボンディングする順番を決定するようにしてもよい。
 次に、ヒートプレート53が基準姿勢の状態で、基準姿勢に対してボンディング面が傾斜した面を有する被ボンディング部品のボンディングの動作について図17及び図18を用いて説明する。
 図17は、基準姿勢の状態に対して傾斜したボンディング面を有する被ボンディング部品のティーチング、ボンディングの動作を示すフローチャート、図18は、図17に示すボンディングの動作における被ボンディング部品のボンディング点とボンディングツールとの位置関係を示す図である。
 図18(a)に示すように、面BS4には、ボンディング位置の離間距離が異なるボンディング点x、yが配され、ボンディング点yの表面は、傾斜した面を有している。
 図18(a)に示すように、BS4が基準姿勢の状態となるように回転軸を調整する(図17に示すステップS80)。次に、ボンディング点x、yのX、Yの位置データ、Z軸の距離データLx、Lyを入力して、メモリに記憶する(図17に示すステップS81)。距離データLxは、原点oからボンディング点x間の距離、距離データLyは、原点oからボンディング点y間の距離をいう。
 次に、ボンディング点x、yの距離データLx、Lyからボンディング位置の離間距離の差に応じて、ボンディング位置の離間距離の差分を補正するための、回転方向、回転角θxの情報を取得する。取得した回転方向、回転角θxをメモリに記憶する(図17に示すステップS82)。以上でティーチング動作を終了する。
 次に、ボンディング動作について説明する。ボンディングに際して、被ボンディング部品44としての半導体レーザパッケージ44をヒートプレート53に載置して、ワーク押えを動作させて、半導体レーザパッケージ44を固定する。
 メモリからボンディング点x、yの位置データ、Z軸の距離データLx、Lyを読み出す(図17に示すステップS83)。
 次に、メモリからボンディング点x、yにおける回転方向、回転角θxのデータを読み出す(図17に示すステップS84)。
 次に、読み出した回転角θxで回転軸74をF方向に回転する。このとき、ボンディング点eの距離データは、Ly’=Lxとなる(図17に示すステップS85)。回転後のボンディング点x、yの距離、位置の補正を実行して、ボンディング点x、y間のボンディングを行う(図17に示すステップS86)。
 また、図18(c)に示すように、他のボンディング点についてもボンディングを行う(図17に示すステップS87)。
 以上により、基準姿勢に対してボンディング面が傾斜した面を有する被ボンディング部品についてもボンディング距離の差分を補正して、同一距離でボンディングを行うことが可能である。
 本発明のボンディング装置は、ワイヤボンディング装置に限定するものではなく、例えば、パッケージにチックをマウントするダイボンダ、ボンディング面にバンプを形成するバンプボンダ等にも適用することができる。
 以上述べたように、本発明によれば、回転軸の周りにボンディングステージを回転させて、ボンディング手段に対する被ボンディング部品のボンディング箇所の距離を補正することにより、被ボンディング部品の基準(原点)位置に対する距離が異なる複数のボンディング箇所に対して、ボンディング手段の移動距離を変更せずにボンディング処理を実施することができる。
 本発明においては、ボンディングステージが回転軸の周りに回転するため、ボンディング手段でボンディング処理をする際に、ボンディングステージのボンディング手段に対する姿勢が問題となることが予想される。そこで、本発明によれば、ボンディングステージを回転させるための回転機構を利用して、ボンディングステージにトルクを付与してボンディングの姿勢を安定させることができる。
 従来は、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品のボンディングでは、ステージを回転させる反転機構と、ステージに垂直な軸を中心として回転させる回転機構が必要であった。本発明によれば、被ボンディング部品の向きを変えるための、ステージに垂直な軸を中心として回転させる回転機構が不要となり、ステージの構成を単純化できる。また、本発明によるボンディング装置の回転機構部70の構成部品は、回転軸74の下方側に位置する構成となっている。そのため、ボンディングヘッド3の可動範囲が広くなっている。
 また、従来は、基準姿勢の状態の平面と該平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品のボンディングでは、一方の対向する面のボンディングを行った後に、被ボンディング部品を水平に180度回転した状態に作業者が再設置し、反転機構を回転して他方の対向する面のボンディングを行っていた。本発明によれば、平面と平面に垂直な対向する面とにボンディング面を有する被ボンディング部品のボンディングで、作業者による他方の対向する面のボンディングを行うための再設置が不要となり、作業効率が向上し、生産性を高めることができる。すなわち、本発明によれば、従来のボンディング装置が再載置した場合のように、既にボンディングされた部位への干渉などの注意を払う必要がなく、均一なボンディング精度を達成することができる。
 また、本発明によれば、ボンディング面が異なる方向に3面以上有する被ボンディング部品をボンディングするボンディング装置は、従来のボンディング装置と異なり、ボンディングヘッドのみならず、ステージ側も相対的に移動させるため、ボンディング位置の安定が求められる。このため、被ボンディング部品の装着位置を回転軸付近に位置させると共に、回転機構部の振動を抑制する必要がある。本発明のボンディング装置は、回転軸に大きなトルクを付与することによって、回転機構部を安定させ、振動も抑制して安定したボンディングを行うことができる。このため、被ボンディング部品の装着位置を回転軸付近に位置させると共に、回転機構部の振動を抑制することが可能となる。
 この発明は、その本質的特性から逸脱することなく数多くの形式のものとして具体化することができる。よって、上述した実施形態は専ら説明上のものであり、本発明を制限するものではないことは言うまでもない。
1     ボンディング装置(ワイヤボンディング装置)
3     ボンディングヘッド
4     ボンディングアーム
5     超音波ホーン
6     ボンディングツール(キャピラリ)
7     クランプ(把持手段)
8     テンションクランプ
17    放電電極
18    XYステージ
20    コントロールユニット
21    コンピュータ
22    メモリ
30    ボンディング位置情報入力部
31    回転ステージ角回転情報入力部
34    外部入力装置
35    XY軸制御部
36    Z軸制御部
37    回転軸制御部
39    駆動ユニット
40    ワイヤ
41    ボール
44    被ボンディング部品(半導体レーザパッケージ)
45    半導体レーザチップ
47    リード
50    ボンディングステージ(ボンディング回転ステージ)
52    ワークホルダ
53    ヒートプレート
54    ヒートブロック(加熱手段)
55    真空吸着配管用の金属チューブ
57    断熱部
58    支持部
60    支持部材
65    ワーク押え
70    回転機構部
73    スイング部材
74    回転軸
75    回転中心
77    軸受
80、81、82  ギア
85    モータ
90    側板

Claims (9)

  1.  被ボンディング部品の複数のボンディング点にボンディングを行うボンディング手段と、
     前記被ボンディング部品を載置面で保持するとともに、前記ボンディング手段と正対する基準姿勢を有するワークホルダと、前記ワークホルダを前記基準姿勢から回転軸周りに回転させる回転機構部とを有するボンディングステージと、
     前記ワークホルダの回転を制御する制御部と、を備え、
     前記ボンディング手段は、前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けられるとともに、当該移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる基準位置を有しており、
     前記複数のボンディング点には、前記被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なったボンディング点が含まれており、
     前記制御部は、前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する
    ことを特徴とするボンディング装置。
  2.  前記回転機構部は、前記基準姿勢にあるワークホルダを前記回転軸周りに正逆方向に回転可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  3.  前記ボンディングステージは、前記被ボンディング部品を装着可能なヒートプレートと、該ヒートプレートを加熱することが可能なヒートブロックとを有しており、
     前記ヒートプレートは、被ボンディング部品が前記基準姿勢のワークホルダに載置された状態で、前記被ボンディング部品を前記基準位置に接近または離反させる距離補正手段を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  4.  前記ヒートプレートと前記ヒートブロックとは、分割されて構成されたことを特徴とする請求項3に記載のボンディング装置。
  5.  超音波振動を印加させることが可能な超音波発生手段を前記ボンディング手段に有し、
     前記超音波発生手段で引き起こされる振動を抑制するためのトルクを前記回転軸に付与するトルク発生手段を有することを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  6.  前記被ボンディング部品は、前記ボンディングステージの前記回転軸近傍に設けられてなることを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  7.  前記ボンディングステージの回転機構部は、前記回転軸よりも下方に位置するよう構成し、上方は前記ボンディング手段としてのボンディングヘッドがボンディング面内に進入するようにして、前記ボンディングヘッドの可動範囲を広くする構成としたことを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  8.  ボンディングステージのワークホルダの載置面に載置した被ボンディング部品のボンディング点にボンディング手段でボンディングを行うボンディング方法において、
     前記ワークホルダを前記ボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能とし、前記ボンディング手段を前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けるとともに、当該移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる基準位置を設定し、
     前記ボンディング点には、前記被ボンディング部品が基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれており、
     前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する
    ことを特徴とするボンディング方法。
  9.  ボンディングステージのワークホルダの載置面に載置した被ボンディング部品のボンディング点へのボンディング手段によるボンディング処理を制御するボンディング制御プログラムにおいて、
     前記ワークホルダが前記ボンディング手段と正対する基準姿勢から回転軸周りに回転可能であり、前記ボンディング手段が前記基準姿勢にあるワークホルダの載置面に対して移動可能に設けられ、前記ボンディング点には、前記被ボンディング部品が前記基準姿勢にあるワークホルダに保持された状態での前記移動方向に沿った前記基準位置からの離間距離が異なった複数のボンディング点が含まれており、
     前記ボンディング手段の移動方向上に前記ボンディング手段の移動基準となる前記基準位置を設定する機能と、
     前記各ボンディング点の前記離間距離の差に応じて前記ワークホルダの回転を制御することにより、前記複数のボンディング点の前記離間距離の差分を補正する機能と、
     をコンピュータに実行させることを特徴とするボンディング制御プログラム。
PCT/JP2017/006583 2016-06-02 2017-02-22 ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム WO2017208525A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201780004015.7A CN108352335B (zh) 2016-06-02 2017-02-22 接合装置,接合方法及接合控制程序
US15/776,639 US11173567B2 (en) 2016-06-02 2017-02-22 Bonding apparatus with rotating bonding stage
KR1020187014135A KR102144376B1 (ko) 2016-06-02 2017-02-22 본딩 장치, 본딩 방법, 및 본딩 제어 프로그램
US16/847,005 US11273515B2 (en) 2016-06-02 2020-04-13 Bonding process with rotating bonding stage

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-110973 2016-06-02
JP2016110973A JP6316340B2 (ja) 2016-06-02 2016-06-02 ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/776,639 A-371-Of-International US11173567B2 (en) 2016-06-02 2017-02-22 Bonding apparatus with rotating bonding stage
US16/847,005 Division US11273515B2 (en) 2016-06-02 2020-04-13 Bonding process with rotating bonding stage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017208525A1 true WO2017208525A1 (ja) 2017-12-07

Family

ID=60478229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/006583 WO2017208525A1 (ja) 2016-06-02 2017-02-22 ボンディング装置、ボンディング方法及びボンディング制御プログラム

Country Status (6)

Country Link
US (2) US11173567B2 (ja)
JP (1) JP6316340B2 (ja)
KR (1) KR102144376B1 (ja)
CN (1) CN108352335B (ja)
TW (1) TWI614820B (ja)
WO (1) WO2017208525A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11289445B2 (en) * 2018-12-24 2022-03-29 Asm Technology Singapore Pte Ltd Die bonder incorporating rotatable adhesive dispenser head
CN112400221B (zh) 2019-06-17 2024-03-15 株式会社海上 引线接合方法以及引线接合装置
CN112770619B (zh) * 2021-01-05 2022-07-12 北京华迅通信技术有限公司 一种5g射频前端的组装设备及其组装方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088287A (ja) * 1994-06-22 1996-01-12 Nec Corp ワイヤーボンディング装置及び方法
JP2001267674A (ja) * 2000-03-14 2001-09-28 Sharp Corp 半導体レーザ装置およびそのワイヤボンディング方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2348062A (en) * 1942-12-23 1944-05-02 Ransome Machinery Company Welding positioner and manipulator
JPS59101845A (ja) 1982-12-03 1984-06-12 Nec Corp 半導体素子の組立装置
US4541062A (en) * 1983-04-26 1985-09-10 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Method of interlockingly controlling a robot and positioner
US4890579A (en) * 1985-10-17 1990-01-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Timed primate roto-positioner
US4759073A (en) * 1985-11-15 1988-07-19 Kulicke & Soffa Industries, Inc. Bonding apparatus with means and method for automatic calibration using pattern recognition
JPS62150838A (ja) * 1985-12-25 1987-07-04 Hitachi Ltd 検出方法および装置
JPH0421674Y2 (ja) * 1986-09-30 1992-05-18
US4826069A (en) * 1988-03-21 1989-05-02 Asm Assembly Automation, Ltd. Work chuck for wire bonder and method
JPH088275B2 (ja) * 1988-07-06 1996-01-29 富士通株式会社 立体形ワイヤボンディング配線装置
US5242103A (en) * 1992-12-07 1993-09-07 Motorola, Inc. Pivotal wire bonding stage and method of use
JPH06342830A (ja) * 1993-06-02 1994-12-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd ワイヤボンディング方法とその装置
JP3178567B2 (ja) * 1993-07-16 2001-06-18 株式会社カイジョー ワイヤボンディング装置及びその方法
JPH07186442A (ja) 1993-12-24 1995-07-25 Ricoh Co Ltd 発光ダイオードアレイユニットとその実装方法及び装置
US5465899A (en) * 1994-10-14 1995-11-14 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for fine pitch wire bonding using a shaved capillary
TW587296B (en) * 1998-10-28 2004-05-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Working method and apparatus
JP2000232124A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Tokai Rika Co Ltd 電子部品搭載装置、ワイヤ・ボンディング装置、及びワイヤ・ボンディング方法
US6347733B1 (en) * 2000-04-04 2002-02-19 Hickey, Ii Edward J. Worker piece positioner for use with industrial robot
US6808102B1 (en) * 2000-08-28 2004-10-26 Asm Assembly Automation Ltd. Wire-bonding apparatus with improved XY-table orientation
JP4535235B2 (ja) * 2004-02-20 2010-09-01 株式会社新川 ワイヤボンディング装置
WO2006015156A1 (en) * 2004-07-29 2006-02-09 Elliott Company Positioning device for the fabrication of compressor impellers
JP2006341283A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Fanuc Ltd アーク溶接用ポジショナ及びアーク溶接ロボットシステム
US7772045B1 (en) * 2006-10-24 2010-08-10 Randy Wayne Bindrup Wire bond method for angularly disposed conductive pads and a device made from the method
JP4343985B2 (ja) * 2008-01-24 2009-10-14 株式会社新川 ボンディング装置及びボンディング装置のボンディングステージ高さ調整方法
KR100967526B1 (ko) * 2008-04-25 2010-07-05 에스티에스반도체통신 주식회사 광폭 리드 프레임을 위한 반도체 패키지 제조 장치 및 이를이용한 반도체 패키지 제조 방법
JP4314313B1 (ja) * 2008-06-30 2009-08-12 株式会社新川 ボンディング装置
JP4625858B2 (ja) * 2008-09-10 2011-02-02 株式会社カイジョー ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム
US8099184B2 (en) * 2009-04-13 2012-01-17 Rimrock Automation, Inc. Load compensation for robotic applications
JP5721469B2 (ja) * 2011-02-28 2015-05-20 富士機械製造株式会社 部品実装方法および部品実装装置
US8316552B1 (en) * 2011-05-05 2012-11-27 Honeywell International Inc. Systems and methods for three-axis sensor chip packages
JP5164230B1 (ja) * 2011-09-28 2013-03-21 株式会社カイジョー ボンディング装置
KR20130083225A (ko) * 2012-01-12 2013-07-22 삼성전기주식회사 틸트 보정 장치 및 이를 이용한 접합 방법
JP5583179B2 (ja) * 2012-08-03 2014-09-03 株式会社カイジョー ボンディング装置
DE102012107785A1 (de) * 2012-08-23 2014-02-27 Chiron-Werke Gmbh & Co. Kg Werkstückwechsler
JP6510838B2 (ja) * 2015-03-11 2019-05-08 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法
JP6470088B2 (ja) * 2015-04-02 2019-02-13 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088287A (ja) * 1994-06-22 1996-01-12 Nec Corp ワイヤーボンディング装置及び方法
JP2001267674A (ja) * 2000-03-14 2001-09-28 Sharp Corp 半導体レーザ装置およびそのワイヤボンディング方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108352335B (zh) 2021-07-13
TW201743386A (zh) 2017-12-16
US11273515B2 (en) 2022-03-15
CN108352335A (zh) 2018-07-31
KR20180072755A (ko) 2018-06-29
US20200238433A1 (en) 2020-07-30
JP2017216417A (ja) 2017-12-07
US20180326531A1 (en) 2018-11-15
TWI614820B (zh) 2018-02-11
JP6316340B2 (ja) 2018-04-25
US11173567B2 (en) 2021-11-16
KR102144376B1 (ko) 2020-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104701198B (zh) 确定和调节半导体元件结合相关平行度级别的系统和方法
US11273515B2 (en) Bonding process with rotating bonding stage
JP2008509574A (ja) ワイヤーボンディング機械のためのボンドヘッド連結アセンブリ
TW201637107A (zh) 接合半導體元件的系統及方法
US5251805A (en) Wire bonding method and apparatus
EP1094500A2 (en) Bonding apparatus and bonding method
KR102336342B1 (ko) 반도체 소자를 본딩하기 위한 시스템과 방법
JP3537890B2 (ja) ワイヤボンディング方法とその装置
US7353976B2 (en) Wire bonder
JP6644921B1 (ja) 半田平坦化装置、ダイボンダ、半田平坦化方法、及びボンディング方法
WO2021235269A1 (ja) ボンディング装置及びボンディングヘッド調整方法
JP4308444B2 (ja) 部品接合装置
JP5753805B2 (ja) 実装装置およびその制御方法
JP2004273507A (ja) ワイヤボンディング装置
JP2890922B2 (ja) ボンダのxyテーブル装置
JP3590336B2 (ja) 傾き調節機構およびそれを用いた部品実装ヘッドの平行度調整機構
JP2023060534A (ja) 電子部品接合装置
JP2550905B2 (ja) ワイヤボンディング装置
JPH06252223A (ja) ワイヤボンディング方法とその装置
JPS6119109B2 (ja)
JP2001308136A (ja) ワイヤボンディング装置及びそれに用いるサーボ調整方法
JPS6038870B2 (ja) 半導体装置のワイヤボンデイング方法
JP2001085461A (ja) 半導体装置の製造方法及びその装置
JPH02248059A (ja) ボンディング装置
JPH08181161A (ja) ボンディング装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15776639

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187014135

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17806087

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17806087

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1