WO2014199932A1 - 組成物ならびにそれを用いたミクロ相分離構造膜およびミクロ相分離構造膜の製造方法 - Google Patents

組成物ならびにそれを用いたミクロ相分離構造膜およびミクロ相分離構造膜の製造方法 Download PDF

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general formula
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cyclic
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佳明 ▲高▼田
慶太 高橋
渉 馬島
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富士フイルム株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate

Definitions

  • the present invention relates to a composition, a microphase-separated structure film using the composition, and a method for producing the same. More specifically, a novel composition containing a liquid crystal block copolymer and a reactive liquid crystal compound, and a high-performance material such as an optical / electronic functional material (for example, a brightness enhancement film), an energy-related material, a surface modifying material, or a patterned media. Manufactured using the above composition with controlled orientation useful as a density recording material, various nanofilters (permeation membranes, ultrafiltration membranes, nanoreactors), anisotropic ion conducting membranes, anisotropic conducting membranes, etc.
  • the present invention relates to a microphase separation structure membrane and a manufacturing method thereof.
  • Patent Documents 1 and 2 a block copolymer in which a hydrophilic polymer component (A) and a hydrophobic polymer component (B) are linked by a covalent bond, and the molecular weight distribution of A and B is ⁇ 1.3. Certain block copolymers have been described.
  • Patent Document 2 a self-supporting polymer thin film made of a block copolymer formed by covalently bonding a hydrophilic polymer component and a hydrophobic polymer component having a crosslinkable structure, wherein the self-supporting polymer thin film is A self-supporting polymer thin film having a cylinder made of the hydrophilic polymer component oriented in a certain direction in the film and having the hydrophobic polymer component crosslinked is described.
  • the methods described in these documents were epoch-making in that a microphase-separated structure can be produced in about several minutes.
  • a hydrophilic compound is synthesized by atom transfer radical polymerization (hereinafter abbreviated as ATRP) with a liquid crystalline monomer after synthesizing a hydrophilic macroinitiator in Patent Document 1, for example.
  • ATRP atom transfer radical polymerization
  • a block copolymer in which hydrophobic portions are linked is obtained.
  • patent document 2 after obtaining the living polymerization part only by a hydrophobic part by ATRP, the terminal is modified and finally the hydrophilic part is produced by polymer reaction.
  • the formed microphase-separated structure film described in Patent Document 1 has a problem in that the structure cannot be fixed, the cylinder is bent, and a defect is generated and a domain is formed. .
  • Patent Document 2 the cylinder structure is fixed by cross-linking the hydrophobic polymer component, but the problem that defects still occur has not been solved.
  • Non-Patent Document 2 the generation of defects is suppressed by adding a low-molecular liquid crystal, but the cylinder structure cannot be fixed.
  • a microphase-separated structure film is produced using a block copolymer, but none of the two problems of fixing the structure and suppressing defects are solved at the same time.
  • the block copolymer described in Patent Document 1 does not contain a crosslinkable group in the hydrophobic polymer component, the structure cannot be fixed and the liquid crystal block copolymer is used alone. A defect occurs and a domain occurs.
  • a crosslinkable group is introduced into the block copolymer described in Patent Document 2
  • the structure can be fixed, but since the liquid crystalline block copolymer is used alone, defects are generated and domains are generated. .
  • Non-Patent Document 2 a microphase-separated structure film having a large domain size is suppressed by adding low-molecular liquid crystal to a liquid crystalline block copolymer, but the structure is fixed because there is no crosslinkable group. It was not possible.
  • the problem to be solved by the present invention is a composition that can form and fix a cylinder structure with few defects and a large domain size, and can economically produce a microphase-separated structure film excellent in industrial processability. Is to provide.
  • a component having a mesogenic side chain as a hydrophobic polymer component, a liquid crystalline block copolymer having a hydrophilic polymer component, and a specific
  • a reactive liquid crystal compound having a mesogenic group of the structure is used in combination, it is possible to form and fix a cylinder structure with few defects and a large domain size, and to economically manufacture a microphase-separated structure film with excellent industrial processability It has been found that a composition that can be provided can be provided.
  • a polymer component (A) containing an alkylene oxide chain and a polymer component (B) containing an alkylene chain having 2 to 20 carbon atoms are bonded directly or through a linking group by a covalent bond, and the polymer component (B ) A liquid crystalline block copolymer having mesogenic side chains of 6 to 50 carbon atoms,
  • a composition comprising a reactive liquid crystal compound represented by the following general formula (T) or (X):
  • T) Cy T1 ⁇ (L T1 ⁇ Cy T2 ⁇ L T2 ⁇ Q) t
  • Q is a reactive group
  • L T1 and L T2 are each independently a single bond or a divalent linking group
  • Cy T1 is a t-valent cyclic group
  • Cy T2 is T is an integer of 1 to 6.
  • a plurality of L T1 -Cy T2 -L T2 -Q may be the same or different.
  • Formula (X) Q 1 -L 1 -Cy 1 -L 2- (Cy 2 -L 3 ) n -Cy 3 -L 4 -Q 2 (In General Formula (X), at least one of Q 1 and Q 2 is a reactive group, Q 1 and Q 2 that are not reactive groups represent substituents, and L 1 and L 4 are each independently two.
  • L 1 and L 4 includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group, Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 are each independently a divalent cyclic group, and n is 0, 1, 2, or 3.
  • the reactive liquid crystal compound is preferably represented by the following general formula (T ′) or (Y).
  • T ′ Cy T1 ⁇ (L T1 ⁇ Cy T2 ⁇ L T2 ⁇ Q) t
  • Q is a reactive group selected from the following group (B)
  • L T1 and L T2 are each independently a single bond or a divalent linking group
  • Cy T1 is A t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the cyclic structure group (C)
  • Cy T2 is a divalent cyclic group
  • t is an integer of 1 to 6.
  • Ring structure group (C) (In the cyclic structure group (C), each cyclic structure has any of the rings constituting the cyclic structure each independently having t bonds for binding to LT1, and any of the cyclic structures constitutes the cyclic structure.
  • the ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • General formula (Y) (In General Formula (Y), at least one of Q 1 and Q 2 is a reactive group selected from the following group (B), and Q 1 and Q 2 that are not reactive groups represent a substituent, and L 1 and L 4 are each independently a divalent linking group, at least one of L 1 and L 4 includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond Or a divalent linking group selected from the following group (A), wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group , N is 0, 1, 2, or 3.) Group (A) (In the group (A), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubsti
  • the reactive liquid crystal compound is preferably represented by the following general formula (U) or (Z).
  • General formula (U) (In the general formula (U), Q is a reactive group selected from the group (B ′), R T1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and L T1 and L T2 are each independently a divalent linking group selected from the following group (A) or a divalent linking group containing a hetero atom, and Cy T1 is selected from the following cyclic structure group (C ′): A t-valent cyclic group containing a cyclic structure, wherein t is an integer of 1 to 6.
  • Cyclic structure group (C ') (In cyclic structure group (C '), each annular structure, one in which any ring has to configure each independently a cyclic structure t book binding hand for bonding with L T1, constitute a cyclic structure These rings may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • General formula (Z) (In General Formula (Z), Q 1 and Q 2 are each independently a reactive group selected from the following group (B ′), L 1 and L 4 are each independently a divalent linking group, At least one of L 1 and L 4 includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group selected from the following group (A ′) R 1 ,
  • RT is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group
  • R T1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group
  • L T1 is a divalent linking group selected from the following group (A ′′):
  • L T2A is a divalent linking group selected from the following group (A ′′) or a divalent linking group containing a hetero atom, and includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms
  • Cy T1 is a t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the following cyclic structure group (C ′′), and t is an integer of 1 to 6.
  • each cyclic structure has t bonds for bonding to L T1 and any of the rings constituting the cyclic structure independently has a cyclic structure.
  • Any ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • General formula (Z ') (In general formula (Z ′), R ′ and R ′′ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and L 2 and L 3 are each independently selected from the following group (A ′′): L 1A and L 4A are each independently a divalent linking group, and at least one of L 1A and L 4A includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the molecular weight of the reactive liquid crystal compound is preferably less than 3000.
  • the polymer component (B) of the liquid crystalline block copolymer has a structure represented by the following general formula (1). Is preferred.
  • m represents an integer of 1 to 500
  • L 12 represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a metallocenylene group, —CO—N (R 101 ) —, — CO—O—, —SO 2 —N (R 102 ) —, —SO 2 —O—, —N (R 103 ) —CO—N (R 104 ) —, —SO 2 —, —SO—, —S —, —O—, —CO—, —N (R 105 ) —, and a linking group having 0 to 100 carbon atoms constituted by combining one or more heterylene groups (R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or un
  • R 4 is a hydrogen atom
  • R 5 represents an oxetanyl group, an epoxy group, an acrylate group, a methacrylate group, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted alkoxy group
  • M represents Represents a mesogenic group having 6 to 50 carbon atoms, provided that m repeating units may be the same or different from each other.
  • M in the polymer component (B) of the liquid crystalline block copolymer is divalent represented by the following general formula (2) or general formula (3). It is preferable that the coupling group is included.
  • the liquid crystalline block copolymer preferably has a number average molecular weight Mn of 3000 to 100,000.
  • Mw / Mn of the liquid crystalline block copolymer is 1.5 or less (Mw Represents the weight average molecular weight of the liquid crystalline block copolymer, and Mn represents the number average molecular weight of the liquid crystalline block copolymer).
  • the composition according to any one of [1] to [10] preferably further contains an initiator.
  • [12] including a step of promoting the phase separation of the composition according to any one of [1] to [11] on a support by heat, light, solvent vapor, or an electric field to form a microphase separation structure.
  • a method for producing a microphase-separated structure film which is characterized.
  • composition that can form and fix a cylinder structure with few defects and a large domain size, and can economically produce a microphase-separated structure film excellent in industrial processability. Can do.
  • FIG. 1 is an AFM photograph (phase image) of the microphase-separated structure film A of Comparative Example 1 manufactured as an example of the microphase-separated structure film of the present invention.
  • FIG. 2 is an AFM photograph (phase image) of the microphase-separated structure film A of Example 1.
  • FIG. 3 is an AFM photograph (phase image) of the microphase-separated structure film A of Comparative Example 2 manufactured as another example of the microphase-separated structure film of the present invention.
  • FIG. 4 is an AFM photograph (phase image) of the microphase separation structure film A of Example 2.
  • FIG. 5 is a cross-sectional TEM observation photograph of the microphase separation structure film B of Example 2 manufactured as another example of the microphase separation structure film of the present invention.
  • FIG. 6 is a cross-sectional TEM observation photograph of the microphase-separated structure film B of Comparative Example 21.
  • FIG. 7 is a cross-sectional TEM observation photograph of the microphase separation structure film
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • (meth) acrylate is used in the meaning containing both acrylate and methacrylate.
  • composition In the composition of the present invention, the polymer component (A) containing an alkylene oxide chain and the polymer component (B) containing an alkylene chain having 2 to 20 carbon atoms are bonded by a covalent bond directly or through a linking group, and
  • the polymer component (B) includes a liquid crystalline block copolymer having a mesogenic side chain having 6 to 50 carbon atoms and a reactive liquid crystal compound represented by the following general formula (T) or (X) .
  • L 1 and L 4 includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group, Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 are each independently a divalent cyclic group, and n is 0, 1, 2, or 3.
  • the composition having such a structure can form and fix a cylinder structure with few defects and a large domain size, and can economically produce a microphase-separated structure film excellent in industrial processability.
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X) it is possible to obtain an effect that the obtained cylinder structure can be hardened without breaking.
  • the hardness of such a cylinder structure can relatively evaluate the strength of the cylinder hardness of the microphase-separated structure film depending on whether the cylinder structure can be observed by cross-sectional TEM observation.
  • the domain size of the microphase-separated structure film can be relatively evaluated by comparing the maximum domain size in the surface AFM image.
  • the liquid crystal block copolymer is sometimes called an amphiphilic liquid crystal block copolymer.
  • the polymer component (A) is a hydrophilic polymer
  • the polymer component (B) is a hydrophobic polymer.
  • the composition of this invention contains the reactive liquid crystal compound represented by the said general formula (T) or (X).
  • the composition of the present invention includes at least one of the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (T) and the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X), and may include both. Only one may be included.
  • (i) a preferred embodiment of the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X) and (ii) a preferred embodiment of the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (T) will be described in this order. To do.
  • Reactive liquid crystal compound represented by general formula (X) The aspect in which the composition of this invention contains the reactive liquid crystal compound represented by the following general formula (X) is demonstrated.
  • L 1 and L 4 includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group, Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 are each independently a divalent cyclic group, and n is 0, 1, 2, or 3.
  • the reactive group is preferably a polymerizable group, and the polymerization reaction of the polymerizable group is preferably addition polymerization (including ring-opening polymerization) or condensation polymerization.
  • the reactive group is preferably a functional group capable of addition polymerization reaction or condensation polymerization reaction.
  • the reactive group is preferably a reactive group selected from the following group (B).
  • the reactive group is more preferably a reactive group selected from the following group (B ′) among the reactive groups selected from the group (B).
  • an oxetanyl group, an epoxy group, an acrylate group, and a methacrylate group are more preferable.
  • at least one of Q 1 and Q 2 is It is particularly preferred that When one of Q 1 and Q 2 represents a reactive group, the other one may represent a reactive group or a substituent that is not a reactive group.
  • the substituent is not particularly limited, but may be a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl Group, an alkoxy group which may have a substituent, a substituted or unsubstituted aryl group, and a cyano group, preferably an alkyl group or an alkoxy group which may have a substituent.
  • an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms more particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, More particularly preferred is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the other one when one of Q 1 and Q 2 represents a reactive group, the other one preferably represents a reactive group, more preferably an oxetanyl group, an epoxy group, an acrylate group, or a methacrylate group, and Q 1 and Both of Q 2 It is more particularly preferred that both are acrylate groups.
  • L 1 and L 4 are each independently a divalent linking group, and at least one of L 1 and L 4 includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms.
  • L 1 and L 4 each independently comprise —O—, —S—, —CO—, —NR—, —C ⁇ N—, a divalent chain group, a divalent cyclic group, and combinations thereof.
  • a divalent linking group selected from the group is preferred.
  • the above R contained in L 1 and L 4 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • the example of the bivalent coupling group which consists of a combination is shown below.
  • L-1 —CO—O—divalent chain group —O— L-2: —CO—O—divalent chain group —O—CO— L-3: —CO—O—divalent chain group —O—CO—O— L-4: —CO—O—divalent chain group—O—divalent cyclic group— L-5: —CO—O—divalent chain group —O—divalent cyclic group —CO—O— L-6: —CO—O—divalent chain group —O—divalent cyclic group —O—CO— L-7: —CO—O—Divalent chain group—O—Divalent cyclic group—Divalent chain group— L-8: —CO—O—divalent chain group—O—divalent cyclic group—divalent chain group —CO—O— L-9: —CO—CO—O—Divalent chain group—O—Divalent cyclic group—Divalent chain group— L-9: —CO—O
  • alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group and a substituted alkenylene group are preferred, and an alkylene group and an alkenylene group are more preferred.
  • the alkylene group may have a branch, but is preferably a straight chain.
  • the alkylene group preferably has 2 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 16 carbon atoms, and most preferably 5 to 15 carbon atoms.
  • the total number of carbon atoms of all alkylene groups contained in the divalent linking group represented by L 1 and L 4 is preferably in the above range.
  • a divalent chain group in L-1 to L-22 When a plurality of are included, the total carbon number of the divalent chain group which is an alkylene group is preferably within the above range.
  • the total number of carbon atoms of each alkylene group is preferably 2 to 20, and preferably 3 to 18 It is preferably 4 to 16, more preferably 5 to 15.
  • the alkylene part of the substituted alkylene group is the same as the above alkylene group.
  • the substituent include a halogen atom.
  • the alkenylene group may have a branch.
  • the alkenylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and most preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkylene part of the substituted alkylene group is the same as the above alkylene group.
  • Examples of the substituent include a halogen atom.
  • the alkynylene group may have a branch.
  • the alkynylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, and most preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkynylene part of the substituted alkynylene group is the same as the above alkynylene group. Examples of the substituent include a halogen atom.
  • divalent chain group examples include ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, 2-methyl-tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, octamethylene, 2-butenylene, 2-butynylene and the like.
  • the definition and examples of the divalent cyclic group are the same as those of Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 described later.
  • L 1 and L 4 are preferably each independently L-1, L-2 or L-23, more preferably L-1 or L-2, and particularly preferably L-1.
  • L 1 and L 4 are —CO—O—L 1A — and —CO—O, respectively. It is preferably represented by -L 4A- , and L 1A and L 4A each independently represent a divalent linking group. However, at least one of L 1A and L 4A contains at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the preferred ranges of L 1A and L 4A are ranges in which —CO—O— and —CO—O— are excluded from the preferred ranges of L 1 and L 4 , respectively.
  • L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 2 or L 3 is preferably a divalent linking group selected from the following group (A).
  • Group (A) (In the group (A), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • the R in the group (A) is preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom, and methyl.
  • L 2 and L 3 are preferably each independently a single bond or a divalent linking group represented by the following group (A ′).
  • Group (A ') (In the group (A ′), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • the preferable range of R included in the group (A ′) is the same as the preferable range of R included in the group (A). More preferably, L 2 and L 3 are each independently a divalent linking group represented by the following group (A ′′).
  • R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the preferable range of R included in the group (A ′′) is the same as the preferable range of R included in the group (A). It is particularly preferred that L 2 and L 3 are each independently —COO— or —OCO—. L 2 is more preferably —COO—, and L 3 is particularly preferably —OCO—.
  • n is 0, 1, 2, or 3.
  • two L 3 may be the same or different, and two Cy 2 may be the same or different.
  • n is preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 are each independently a divalent cyclic group.
  • the ring contained in the cyclic group is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring, or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.
  • the ring contained in the cyclic group may be a condensed ring. However, it is more preferably a monocycle than a condensed ring.
  • the ring contained in the cyclic group may be any of an aromatic ring, an aliphatic ring, and a heterocyclic ring.
  • Examples of the aromatic ring include a benzene ring and a naphthalene ring.
  • Examples of the aliphatic ring include a cyclohexane ring.
  • Examples of the heterocyclic ring include a pyridine ring and a pyrimidine ring.
  • As the cyclic group having a benzene ring 1,4-phenylene is preferable.
  • As the cyclic group having a naphthalene ring naphthalene-1,5-diyl and naphthalene-2,6-diyl are preferable.
  • the cyclic group having a cyclohexane ring is preferably 1,4-cyclohexylene.
  • the cyclic group having a pyridine ring is preferably pyridine-2,5-diyl.
  • the cyclic group having a pyrimidine ring is preferably pyrimidine-2,5-diyl.
  • the cyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X) is preferably represented by the following general formula (Y).
  • General formula (Y) (In General Formula (Y), at least one of Q 1 and Q 2 is a reactive group selected from the following group (B), and Q 1 and Q 2 that are not reactive groups represent a substituent, and L 1 and L 4 are each independently a divalent linking group, at least one of L 1 and L 4 includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond Or a divalent linking group selected from the following group (A), wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group , N is 0, 1, 2, or 3.)
  • Group (A) (In the group (A), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted
  • R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (Y) are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 1 , R 2 and R 3 are each Four each of R 1 , R 2 and R 3 are included in the substituted benzene ring.
  • the preferred range of R 1 , R 2 and R 3 is the same as the preferred range of the substituent that the divalent cyclic group represented by Cy 1 , Cy 2 and Cy 3 may have in general formula (X). .
  • R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (Y) are each independently a hydrogen atom.
  • the preferable range of the other group in the general formula (Y) is the same as the preferable range of the group of the same name in the description of the general formula (X).
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X) is preferably represented by the following general formula (Z).
  • General formula (Z) (In General Formula (Z), Q 1 and Q 2 are each independently a reactive group selected from the following group (B ′), L 1 and L 4 are each independently a divalent linking group, At least one of L 1 and L 4 includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, and L 2 and L 3 are each independently a single bond or a divalent linking group selected from the following group (A ′)
  • R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and n is 0, 1, 2, or 3.
  • Group (A ') (In the group (A ′), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • the preferable range of each group in the general formula (Z) is the same as the preferable range of the group of the same name in the description of the general formula (Y).
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (X) is preferably represented by the following general formula (Z ′).
  • General formula (Z ') (In General Formula (Z ′), R ′ and R ′′ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and L 2 and L 3 are each independently represented by the following group (A ′′):
  • L 1A and L 4A are each independently a divalent linking group, and at least one of L 1A and L 4A includes an alkylene group having at least 2 to 20 carbon atoms, R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • Group (A '') (In the group (A ′′), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • R ′ and R ′′ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group, It is more preferably a group, and particularly preferably a hydrogen atom.
  • the preferable range of the other group in the general formula (Z ′) is the same as the preferable range of the group having the same name in the description of the general formula (X) or the description of the general formula (Y).
  • Reactive liquid crystal compound represented by general formula (T) The aspect in which the composition of this invention contains the reactive liquid crystal compound represented by the following general formula (T) is demonstrated.
  • General formula (T) Cy T1 ⁇ (L T1 ⁇ Cy T2 ⁇ L T2 ⁇ Q) t (In General Formula (T), Q is a reactive group, L T1 and L T2 are each independently a single bond or a divalent linking group, Cy T1 is a t-valent cyclic group, and Cy T2 is T is an integer of 1 to 6. When t is 2 to 6, a plurality of L T1 -Cy T2 -L T2 -Q may be the same or different. )
  • Q is a reactive group, and a preferable range of Q is the same as the preferable range of the reactive group represented by Q 1 or Q 2 in the general formula (X).
  • L T1 is a single bond or a divalent linking group, and a preferable range of L T1 is the same as the preferable range of L 2 in the general formula (X).
  • L T2 is a single bond or a divalent linking group, and a preferable range of L T2 is the same as the preferable range of L 4 in the general formula (X).
  • L T2 is the left Cy T2, in the case where the right side is attached to Q, preferably represented by -L T2A -O-CO-, L T2A the group in the general formula (X) (A '') Or a divalent linking group containing a hetero atom, and at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the preferable range of L T2A is the same as the preferable range of L 4A in the general formula (X) except for the preferable range of the alkylene group having 2 to 20 carbon atoms which L T2A has.
  • the alkylene group having 2 to 20 carbon atoms that LT 2A has is preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and an alkylene group having 3 to 5 carbon atoms. Particularly preferred is a group.
  • the alkylene group having 2 to 20 carbon atoms which LT2A has may be branched but is preferably a straight chain.
  • Cy T1 is a t-valent cyclic group, and the ring contained in the cyclic group is preferably a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a 7-membered ring. It is more preferably a member ring, and most preferably a 6-member ring.
  • the ring contained in the cyclic group may be a single ring or a condensed ring. However, a condensed ring is more preferable than a single ring.
  • the ring contained in the cyclic group may be any of an aromatic ring, an aliphatic ring, and a heterocyclic ring.
  • Examples of the aromatic ring include a cyclic structure selected from the cyclic structure group (C) described later.
  • Examples of the aliphatic ring include a cyclohexane ring.
  • Examples of the heterocyclic ring include a pyridine ring and a pyrimidine ring.
  • Cy T1 is preferably an aromatic ring, and more preferably a t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the following cyclic structure group (C).
  • Ring structure group (C) In the cyclic structure group (C), each cyclic structure has any of the rings constituting the cyclic structure each independently having t bonds for binding to LT1, and any of the cyclic structures constitutes the cyclic structure.
  • the ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the substituent which any ring constituting the cyclic structure may have is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, It is more preferably an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
  • Cy T1 is more preferably a t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the following cyclic structure group (C ′).
  • Cyclic structure group (C ') (In cyclic structure group (C '), each annular structure, one in which any ring has to configure each independently a cyclic structure t book binding hand for bonding with L T1, constitute a cyclic structure These rings may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • the preferred range of the substituent that any ring constituting the cyclic structure may have is any ring constituting the cyclic structure in the cyclic structure group (C). It is the same as the preferable range of the substituent which may have.
  • Cy T1 is more preferably a t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the following cyclic structure group (C ′′).
  • Ring structure group (C '') In the cyclic structure group (C ′′), each cyclic structure has t bonds for bonding to L T1 and any of the rings constituting the cyclic structure independently has a cyclic structure. Any ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the preferred range of the substituent that any ring constituting the cyclic structure may have is any of the cyclic structures in the cyclic structure group (C).
  • Cy T1 is particularly preferably a t-valent cyclic group including a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenalene ring, and a triphenylene ring, and more preferably a t-valent cyclic group including a triphenylene ring.
  • t is an integer of 1 to 6.
  • t is 2 to 6, a plurality of L T1 -Cy T2 -L T2 -Q may be the same or different.
  • t is preferably from 2 to 6, more preferably from 3 to 6, particularly preferably from 4 to 6, and even more preferably 6.
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (T) is preferably represented by the following general formula (T ′).
  • General formula (T ′) Cy T1 ⁇ (L T1 ⁇ Cy T2 ⁇ L T2 ⁇ Q) t (In General Formula (T ′), Q is a reactive group selected from the following group (B), L T1 and L T2 are each independently a single bond or a divalent linking group, and Cy T1 is A t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the cyclic structure group (C), Cy T2 is a divalent cyclic group, and t is an integer of 1 to 6.
  • Ring structure group (C) (In the cyclic structure group (C), each cyclic structure has any of the rings constituting the cyclic structure each independently having t bonds for binding to LT1, and any of the cyclic structures constitutes the cyclic structure.
  • the ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (T) is preferably represented by the following general formula (U).
  • General formula (U) (In the general formula (U), Q is a reactive group selected from the group (B ′), R T1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and L T1 and L T2 are each independently a divalent linking group selected from the following group (A) or a divalent linking group containing a hetero atom, and Cy T1 is selected from the following cyclic structure group (C ′): A t-valent cyclic group containing a cyclic structure, wherein t is an integer of 1 to 6.
  • Cyclic structure group (C ') (In cyclic structure group (C '), each annular structure, one in which any ring has to configure each independently a cyclic structure t book binding hand for bonding with L T1, constitute a cyclic structure These rings may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • Group (A ') (In the group (A ′), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • Group (B ') The general formula The preferred range of Cy T1, L T1, Cy T2 , L T2, Q and t in (U) is, Cy T1, L T1, Cy T2, L T2, Q and in
  • the reactive liquid crystal compound represented by the general formula (T) is preferably represented by the following general formula (U ′).
  • General formula (U ') (In the general formula (U ′), RT is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R T1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, L T1 is a divalent linking group selected from the following group (A ′′): L T2A is a divalent linking group selected from the following group (A ′′) or a divalent linking group containing a hetero atom, and includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, Cy T1 is a t-valent cyclic group containing a cyclic structure selected from the following cyclic structure group (C ′′), and t is an integer of 1 to 6.
  • each cyclic structure has t bonds for bonding to L T1 and any of the rings constituting the cyclic structure independently has a cyclic structure.
  • Any ring may have a substituent such as a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • Group (A '') (In the group (A ′′), R represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.)
  • the general formula (U ') Cy T1, L T1 in, Cy T2, L T2A, preferred ranges of Q and t, Cy T1, L T1, Cy T2 in the description of the general formula (T), L T2A, Q , R ′′ and t are the same as the preferred ranges.
  • the preferable range of RT in the general formula (U ′) is the same as the preferable range of R ′′ in the description of the general formula (Z ′).
  • the molecular weight of the reactive liquid crystal compound is preferably less than 3000, more preferably less than 2000, and particularly preferably 1000 to 300.
  • the polymer component (A) containing an alkylene oxide chain and the polymer component (B) containing an alkylene chain having 2 to 20 carbon atoms are bonded by a covalent bond directly or via a linking group
  • the polymer component (B) includes a liquid crystalline block copolymer having a mesogenic side chain having 6 to 50 carbon atoms.
  • the polymer component (A) includes an alkylene oxide chain.
  • alkylene oxide chain include polyalkyleneoxy structures such as poly (ethylene oxide) and poly (propylene oxide), poly (vinyl alcohol), poly (acrylic acid), poly (methacrylic acid), poly (acrylamide), and oligo (ethylene oxide). ), Crown ether, cryptand or poly (methacrylate) or poly (acrylate) having a sugar chain in the side chain, more preferably a polyalkyleneoxy structure, and particularly preferably poly (ethylene oxide). .
  • n is preferably 1 to 500, more preferably 3 to 250, and particularly preferably 5 to 200.
  • the said polymer component (B) may couple
  • the degree of polymerization of the polymer component (A) is from 100 to 100,000, preferably from 1,000 to 50,000, and most preferably from 2,000 to 10,000, from the viewpoint of controlling the size of the microphase separation structure.
  • the polymer component (A) may be formed by polymerizing a hydrophilic monomer component.
  • a hydrophilic monomer component A well-known hydrophilic monomer component can be used.
  • the hydrophilic monomer component include compounds in which methacrylic acid and acrylic acid and a compound obtained by alkylating one end of a polyol compound are linked by an ester bond.
  • a compound obtained by alkyl etherifying one end of a polyol compound is obtained by etherifying a polyol compound described below with an alkyl compound having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, more preferably methyl. Etherified (carbon number 1).
  • polyol compound examples include polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, aliphatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule, and fat having two or more hydroxyl groups in the molecule. Cyclic hydrocarbons, unsaturated hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule, and the like are used. These polyols can be used alone or in combination of two or more.
  • polyether polyol examples include aliphatic polyether polyols, alicyclic polyether polyols, and aromatic polyether polyols.
  • aliphatic polyether polyol for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyheptamethylene glycol, polydecamethylene glycol, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolpropane, and Ethylene oxide addition triol of trimethylolpropane, propylene oxide addition triol of trimethylolpropane, ethylene oxide and propylene oxide addition triol of trimethylolpropane, ethylene oxide addition tetraol of pentaerythritol, ethylene oxide addition hexaol of dipentaerythritol, etc.
  • Polyhydric alcohol such as alkylene oxide addition polyol , Or two or more types of ionic-polymerizable cyclic compounds by ring-opening polymerization polyether polyols obtained can be mentioned.
  • Examples of the ion-polymerizable cyclic compound include ethylene oxide, propylene oxide, butene-1-oxide, isobutene oxide, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dioxane, trioxane, tetraoxane, and cyclohexene.
  • Examples include cyclic ethers.
  • Specific combinations of the two or more types of ion-polymerizable cyclic compounds include tetrahydrofuran and ethylene oxide, tetrahydrofuran and propylene oxide, tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, ethylene oxide and propylene oxide, butene-1- Examples thereof include oxide and ethylene oxide, tetrahydrofuran, butene-1-oxide, and ethylene oxide.
  • a polyether polyol obtained by ring-opening copolymerization of the above ion-polymerizable cyclic compound with a cyclic imine such as ethyleneimine, a cyclic lactone acid such as ⁇ -propiolactone or glycolic acid lactide, or dimethylcyclopolysiloxane can also be used.
  • Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A alkylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide addition diol, 1,4-cyclohexanediol alkylene oxide addition diol, and the like.
  • aromatic polyether polyol examples include alkylene oxide addition diol of bisphenol A, alkylene oxide addition diol of bisphenol F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthohydroquinone, alkylene oxide addition diol of anthrahydroquinone, etc. It is done.
  • polyether polyol for example, as an aliphatic polyether polyol, PTMG650, PTMG1000, PTMG2000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), PPG1000, EXCENOL1020, EXCENOL2020, EXCENOL3020, EXCENOL4020 (above, Asahi Glass Co., Ltd.) )), PEG1000, Unisafe DC1100, Unisafe DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 (above, manufactured by NOF Corporation), PPTG1000, PPTG2000, PPTG4000, PTG400, PTG650, PTG2000, PTG3000, PTGL1000, PTGL2000 (above, Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), PPG400, PBG400, Z-300 -4, Z-3001-5, PBG2000, PBG2000B (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), TMP
  • the polyester polyol is obtained by reacting a polyhydric alcohol and a polybasic acid.
  • a polyhydric alcohol ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, 2,2-diethyl 1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, glycerin, trimethyl
  • polyester polyols examples include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, sebacic acid and the like.
  • examples of commercially available products of these polyester polyols include Kurapol P1010, Kurapol P2010, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like.
  • polycarbonate polyol examples include polycarbonate diols represented by the following general formula (i).
  • R 1 represents an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a (poly) ethylene glycol residue, a (poly) propylene glycol residue or a (poly) tetramethylene glycol residue, and m is 1 An integer in the range of ⁇ 30.
  • R 1 in the general formula (i) include residues obtained by removing both terminal hydroxyl groups from the following compounds, that is, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6 -Hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, di Examples thereof include residues obtained by removing a hydroxyl group from propylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol and the like.
  • polycarbonate polyols Commercial products of these polycarbonate polyols include DN-980, DN-981, DN-982, DN-983 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), PC-8000 (manufactured by PPG), PNOC1000, PNOC2000, PMC100, PMC2000 (above, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), Plaxel CD-205, CD-208, CD-210, CD-220, CD-205PL, CD-208PL, CD-210PL, CD-220PL, CD-205HL, CD-208HL, CD-210HL, CD-220HL, CD-210T, CD-221T (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like can be used.
  • polycaprolactone polyol examples include ⁇ -caprolactone such as ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neo
  • polycaprolactone diols obtained by addition reaction with diols such as pentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol.
  • Plaxel 205, 205AL, 212, 212AL, 220, 220AL manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and 1,7-heptanediol.
  • Examples of the alicyclic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, dimethylol such as dicyclopentadiene. Compound, tricyclodecane dimethanol and the like.
  • Examples of the unsaturated hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include hydroxy-terminated polybutadiene and hydroxy-terminated polyisoprene.
  • examples of polyols other than the above include ⁇ -methyl- ⁇ -valerolactone diol, castor oil-modified diol, terminal diol compound of polydimethylsiloxane, polydimethylsiloxane carbitol-modified diol, and the like.
  • These polyol compounds preferably have a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000, particularly preferably 1,000 to 9000.
  • the mass average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) by dissolving a part of the polymer in tetrahydrofuran (THF).
  • GPC gel permeation chromatography
  • THF tetrahydrofuran
  • the mass average molecular weight in the present invention is a value using polystyrene as a standard substance.
  • polyethylene glycol monomethyl ether is polyethylene glycol monomethyl ether, and its number average molecular weight is from 100 to 10,000, preferably from 200 to 5,000, most preferably from 300 to 1,000.
  • the polymer component (B) includes an alkylene chain having 2 to 20 carbon atoms and has a mesogenic side chain having 6 to 50 carbon atoms.
  • the polymer component (B) for example, poly (methacrylate), poly (acrylate), poly (styrene), vinyl polymer having 6 to 50 carbon mesogen side chains, respectively, etc.
  • poly ((meth) acrylate) having a mesogenic side chain having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and a polymer component derived from a polymerizable rod-like liquid crystal compound described later is more preferable.
  • the polymer component (B) may further include poly (methacrylate), poly (acrylate), poly (styrene), vinyl polymer, etc. each having a long alkyl side chain or a hydrophobic side chain.
  • the long-chain alkyl side chain means an alkyl side chain having preferably 6 to 22 carbon atoms.
  • Examples of the hydrophobic side chain include an aliphatic side chain.
  • the mesogen side chain having 6 to 50 carbon atoms is more preferably a mesogen side chain having 6 to 40 carbon atoms, and particularly preferably a mesogen side chain having 6 to 30 carbon atoms.
  • “Mesogenic group” includes a group capable of forming the core of a liquid crystal compound, and examples of the compound having a mesogenic group include a liquid crystalline compound and a mesogenic group, but does not form a liquid crystal. Liquid crystalline compounds are also included. The mesogenic group will be further described. In the present invention, the mesogenic group is a group showing a main skeleton of liquid crystal molecules that contribute to liquid crystal formation.
  • the liquid crystal molecules exhibit liquid crystallinity that is an intermediate state (mesophase) between a crystalline state and an isotropic liquid state.
  • the mesogenic group is not particularly limited.
  • “Flushage Kristall in Table II” VEB Deutsche Verlag fur Grundstoff Industrie, Leipzig, published in 1984
  • a residue of a thermotropic liquid crystal is preferable, and a residue of a rod-like liquid crystal and a discotic liquid crystal is more preferable.
  • a liquid crystal residue showing a nematic phase and a smectic A phase is more preferable, and in a discotic liquid crystal, a liquid crystal residue showing a discotic nematic phase is more preferable.
  • Preferred examples of the residue of the discotic liquid crystal include benzene, triphenylene, truxene, trioxatruxene, anthraquinone, phthalocyanine or porphyrin, macrocyclene, bis (1,3-diketone) copper complex, tetraarylbipyranylidene, Tetrathiafulvalene and inositol are included.
  • the main skeleton of the liquid crystal molecules that contribute to the formation of a rigid liquid crystal is —Cy 1 -L 2 — (Cy 2 -L 3) n -Cy 3 -L 4 - is preferably a group represented by.
  • the mesogenic group is preferably a group represented by -Cy 1 -L 2- (Cy 2 -L 3 ) n -Cy 3 -L 4-in the general formula (X),
  • the more preferable range of the group represented by the above -Cy 1 -L 2- (Cy 2 -L 3 ) n -Cy 3 -L 4- is the same as the preferable range of each group in the general formula (X).
  • the polymer component (B) of the liquid crystalline block copolymer preferably has a structure represented by the following general formula (1).
  • General formula (1) (In the general formula (1), m represents an integer of 1 to 500, and L 12 represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a metallocenylene group, —CO—N (R 101 ) —, — CO—O—, —SO 2 —N (R 102 ) —, —SO 2 —O—, —N (R 103 ) —CO—N (R 104 ) —, —SO 2 —, —SO—, —S —, —O—, —CO—, —N (R 105 ) —, and a linking group having 0 to 100 carbon atoms constituted by combining one or more heterylene groups (R 101 , R 102 , R 103 ,
  • R 4 is a hydrogen atom
  • R 5 represents an oxetanyl group, an epoxy group, an acrylate group, a methacrylate group, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted alkoxy group
  • M represents Represents a mesogenic group having 6 to 50 carbon atoms, provided that m repeating units may be the same or different from each other.
  • m is preferably 3 to 200, more preferably 5 to 150, and particularly preferably 10 to 100.
  • L 12 represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a metal direylene group, —CO—N (R 101 ) —, —CO—O—, —SO 2 —N.
  • (R 102 ) —, —SO 2 —O—, —N (R 103 ) —CO—N (R 104 ) —, —SO 2 —, —SO—, —S—, —O—, —CO—, —N (R 105 ) — represents a linking group having 0 to 100 carbon atoms constituted by combining one or more heterylene groups (R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 each represents Independently, it represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, provided that L 12 includes at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, wherein in the general formula (1), L 12 Is preferably an alkylene group ( 2-20 carbon atoms, such as methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene), arylene groups (6-26 carbon
  • L 12 contains at least an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the alkylene group contained in L 12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 5 to 15 carbon atoms.
  • R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , and R 105 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • One or more linking groups represented by L 11 and L 12 may be present, and a plurality (preferably two) of the linking groups may be bonded to form a ring.
  • each R 4 is preferably independently a hydrogen atom or a methyl group from the viewpoint of versatility, and more preferably a hydrogen atom.
  • M is preferably a mesogenic group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably a mesogenic group having 6 to 40 carbon atoms, and a mesogenic group having 6 to 30 carbon atoms. Particularly preferred.
  • M in the polymer component (B) of the liquid crystalline block copolymer contains a divalent linking group represented by the following general formula (2) or general formula (3). Is preferred.
  • General formula (2) General formula (3) (In General Formulas (2) and (3), Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group.)
  • the preferred range of Ar 1 and Ar 2 is the same as the preferred range of Cy 1 , Cy 2 or Cy 3 in the general formula (X).
  • a more preferable range of the mesogenic group represented by M is the same as the preferable range of the above-mentioned —Cy 1 -L 2 — (Cy 2 -L 3 ) n —Cy 3 -L 4 — in the general formula (X).
  • R 5 represents an oxetanyl group, an epoxy group, an acrylate group, a methacrylate group, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted alkoxy group, and an oxetanyl group.
  • An epoxy group, an acrylate group, and a methacrylate group are preferable, an acrylate group and a methacrylate group are more preferable, and an acrylate group is particularly preferable.
  • the polymer component (B) is preferably formed by polymerizing a hydrophobic monomer component.
  • a hydrophobic monomer component A well-known hydrophobic monomer component can be used.
  • the hydrophobic monomer component is preferably a liquid crystalline monomer from the viewpoint of low volatility and easy production of a microphase-separated structure film described later.
  • the reaction rate of living polymerization can be increased by performing polymerization in a liquid crystal field.
  • the phase separation structure is fixed by crosslinking or polymerizing the residual monomer component after living polymerization in the step of fixing the phase separation structure described later. Can be made easier. That is, in the liquid crystalline block copolymer, it is preferable that in the polymer component (B), the mesogen side chain has at least one reactive group in one mesogen side chain.
  • the preferred range of the reactive group is the same as the preferred range of the reactive group represented by Q 1 and Q 2 in the general formula (X).
  • a rod-like liquid crystal compound is more preferable.
  • the remaining monomer component or polymer such as an initiator-derived polymer
  • the liquid crystal monomer remains and the fluidity is increased, so that a beautiful cylindrical microphase separation structure free from defects can be formed.
  • rod-like liquid crystal compounds examples include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines, Phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.
  • high-molecular liquid crystalline molecules can also be used.
  • a polymerizable rod-like liquid crystal compound that can fix the orientation of the rod-like liquid crystal compound by polymerization is more preferable.
  • the polymerizable rod-like liquid crystal compound is preferably a compound represented by the above general formula (X) and a compound represented by the following general formula (V), and a compound represented by the above general formula (X). Is more preferable.
  • M 1 and M 2 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a halogen, —SCN, —CF 3 , a nitro group, or Q 1 is represented, but at least one of M 1 and M 2 represents a group other than Q 1 .
  • Q 1 , L 1 , L 2 , L 3 , L 4 , Cy 1 , Cy 2 , Cy 3 and n are synonymous with the group represented by the general formula (X).
  • P and q are 0 or 1.
  • M 1 and M 2 do not represent Q 1 , it is preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a cyano group, more preferably a carbon number It is preferably an alkyl group of 1 to 4 or a phenyl group, and p and q are preferably 0.
  • the compound represented by the general formula (V) are not limited to these examples.
  • the compound represented with the said general formula (V) also has a compound in common with the example of the reactive liquid crystal compound represented with the said general formula (X).
  • one of the compounds having two or more acrylic groups and methacrylic groups may potentially contain a polymerizable group. That is, since a reactive group can be expressed by the chemical reaction described in EP2130817 from the following compounds, a potential reaction occurs after one of the compounds having two or more acrylic groups and methacrylic groups is used for living polymerization. A portion having a reactive group may be treated by a chemical reaction to generate a reactive group.
  • the reactive liquid crystal compounds 1 and 2 are described without any distinction and are regarded as synonymous in the present invention.
  • the degree of polymerization of the hydrophobic polymer component (B) is from 300 to 300,000, preferably from 3,000 to 150,000, and most preferably from 6,000 to 30,000, from the viewpoint of controlling the size of the microphase-separated structure. is there.
  • the polymer component (A) and the polymer component (B) may be directly bonded or may be bonded via a linking group.
  • the connecting portion of the polymer component (A) and the polymer component (B) may have a divalent linking group.
  • the other divalent linking group represents a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the functional group described below, and is not particularly limited, but is preferably an alkylene group (having 1 to 20, for example, methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene), arylene groups (having 6 to 26 carbon atoms, such as phenylene, naphthylene), alkenylene groups (having 2 to 20 carbon atoms, such as ethenylene, propenylene), alkynylene groups (having 2 carbon atoms) To 20, for example, ethynylene, propynylene), metallocenylene groups (for example, ferrocene), —CO—N (R 101 ) —, —CO—O—, —SO 2 —N (R 102 ) —, —SO 2 —O
  • an oxycarbonyl group, a carbonyloxy group, a carbonyl group, an alkylene group, and the combination of these groups are preferable, and the combination of an oxycarbonyl group, an oxycarbonyl group, and an alkylene group is more preferable.
  • the alkylene group used as the other divalent linking group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and an ethylene group (—CH 2 CH 2 —). Is particularly preferred.
  • the liquid crystalline block copolymer preferably has a copolymerization ratio (number average molecular weight ratio) of the polymer component (A) and the hydrophobic polymer component (B) of 65:35 to 1:99, 55 : 45 to 5:95 is more preferable, and 45:55 to 10:90 is particularly preferable.
  • the number average molecular weight Mn of the liquid crystalline block copolymer is preferably 3000 to 100,000, more preferably 3000 to 50000, and particularly preferably 3000 to 30000.
  • the ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight Mw and the number average molecular weight Mn exceeds 1.3, the residual monomer repairs defects in the phase separation structure, and the residual macro RAFT agent is This is preferable from the viewpoint of controlling the size of the phase separation structure.
  • Mw / Mn is preferably 1.5 or less from the viewpoint of stably forming a microphase separation structure, more preferably 1.3 or less, and particularly preferably 1.25 or less. Preferably, it is 1.2 or less and more particularly preferable.
  • the number average molecular weight Mn of the block copolymer, the polymer component (A), the polymer component (B) and the like employs a value measured by the following method.
  • the polymer was dissolved in THF, and a high-speed GPC (HLC-8220GPC) manufactured by Tosoh was used.
  • the number average molecular weight Mn was calculated in terms of polystyrene.
  • the value measured with the following method is employ
  • the polymer was dissolved in THF, and a high-speed GPC (HLC-8220GPC) manufactured by Tosoh was used.
  • the weight average molecular weight Mw was calculated in terms of polystyrene.
  • the liquid crystalline block copolymer may be a living polymer in a solution or a living polymer on a support.
  • a method for living polymerization of the liquid crystalline block copolymer it is more preferable to carry out the following steps (1) and (2).
  • the monomer-containing composition at least one of a monomer-containing composition containing a hydrophilic polymer component and a hydrophobic monomer component and a monomer-containing composition containing a hydrophilic monomer component and a hydrophobic polymer component are prepared.
  • Step (2) Living polymerization of the monomer-containing composition to obtain a block copolymer in which a hydrophilic polymer component and a hydrophobic polymer component are linked by a covalent bond.
  • a method for producing a block copolymer is as follows. It is particularly preferable to carry out the steps (1 ′) and (2).
  • (1 ′) Step of preparing a monomer-containing composition comprising a hydrophilic polymer component and a hydrophobic monomer component as the monomer-containing composition
  • (2) Living polymerization of the monomer-containing composition to form a hydrophilic polymer component and a hydrophobic polymer For obtaining a block copolymer in which a functional polymer component is covalently linked
  • a support body used for the manufacturing method of a liquid crystalline block copolymer A glass substrate, a metal support body, or a resin film may be sufficient.
  • the monomer-containing composition contains a monomer component such as a hydrophobic monomer component or a hydrophilic monomer component used for living polymerization.
  • the said monomer containing composition may also contain another component as needed.
  • a hydrophilic monomer component or a hydrophobic monomer component may be used, but it is preferable to use a hydrophobic monomer component from the viewpoint of easily producing a microphase separation structure film described later.
  • any solvent that can be used in the monomer-containing composition can be used as long as it does not inhibit the reaction.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene
  • aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane and decane
  • cyclohexane methylcyclohexane and decahydronaphthalene.
  • Alicyclic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride and tetrachloroethylene, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n Alcohol solvents such as butanol, sec-butanol and tert-butanol, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and esters such as ethyl acetate, butyl acetate and dimethyl phthalate System solvent, dimethyl ether, diethyl ether, and di -n- amyl ether, diphenyl ether, ether solvents such as tetrahydrofuran and anisole, dimethyl sulfoxide, N- dimethylformamide, dioxane or the like.
  • chlorinated hydrocarbon solvents
  • suspension polymerization and emulsion polymerization can be performed using water as a solvent.
  • solvents may be used alone or in admixture of two or more.
  • the reaction liquid becomes a homogeneous phase by using these solvents, but a plurality of non-uniform phases may be used.
  • the initiator used in the method for producing the liquid crystalline block copolymer is not particularly limited, but the method for producing the liquid crystalline block copolymer is abbreviated as ATRP, reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT). More preferred are polymerization and living anionic polymerization.
  • ATRP reversible addition-fragmentation chain transfer
  • RAFT reversible addition-fragmentation chain transfer
  • RAFT agent used by RAFT polymerization
  • a well-known RAFT agent can be used.
  • Macromolecules, 2006, 39, 4953. Can be mentioned.
  • RAFT agent a commercially available RAFT agent may be used.
  • 4-cyano-4-[(dodecylsulfanyl-thiocarbonyl) sulfanyl] pentanoic acid or 2-cyano-2-propylbenzodithioate is used as a low molecular weight RAFT agent. (Both manufactured by Aldrich).
  • ATRP As a preferable aspect of ATRP, specifically, for example, Matyjazewski et al., Chem. Rev. 101, 2921 (2001), WO96 / 30421, WO97 / 18247, WO98 / 01480, WO98 / 40415, WO00 / 15695, or Sawamoto et al., Chem. Rev. 101, 3689 (2001), JP-A-8-411117, JP-A-9-208616, JP-A 2000-264914, JP-A 2001-316410, JP-A 2002-80523, JP No. 2004-307872 and the like.
  • the initiator used for ATRP is not particularly limited, and examples thereof include organic halides and sulfonyl halide compounds.
  • carbon-carbon double bonds or carbon atoms present at the ⁇ -position of carbon-oxygen double bonds A structure in which a halogen bond or a plurality of halogen atoms are added on one carbon atom is suitable as the initiator structure.
  • a carbon-halogen bond present at the ⁇ -position of the carbon-carbon double bond, or a structure in which a plurality of halogens are added on one carbon atom can be used as the initiator structure.
  • the initiator used for ATRP is preferably a macroinitiator containing a hydrophilic unit, more preferably a macroinitiator containing a polyalkyleneoxy structure, from the viewpoint of facilitating production of a microphase separation structure membrane.
  • the polyalkyleneoxy structure is not particularly limited, but the alkyleneoxy group is preferably an alkyleneoxy group having 1 to 1000 carbon atoms, more preferably an alkyleneoxy group having 10 to 400 carbon atoms, Particularly preferred is a group.
  • the number of repeating units of the alkyleneoxy structure is not particularly limited, but is preferably 1 to 500, more preferably 3 to 250, and particularly preferably 5 to 200.
  • a commercially available initiator for ATRP may be used.
  • examples of the initiator for low molecular weight ATRP include ethyl- ⁇ -bromoisobutyrate (manufactured by Aldrich).
  • the ATRP initiator that is a macroinitiator may be produced by synthesis.
  • the amount of the ATRP initiator added is preferably 1 to 60% by mass, more preferably 5 to 55% by mass, and more preferably 10 to 45% by mass with respect to the monomer component. % Is particularly preferred.
  • ligand Macromolecules, 2006, 39, 4953.
  • the ligands described in (1) can be preferably used. 2,2′-bipyridine, N, N, N ′, N ′′, N ′′ -pentamethyldiethylenetriamine, 1,1,4,7,10,10-hexamethyltriethylenetetramine, N, N, N ′ , N′-tetrakis (2-pyridylmethyl) ethylenediamine and tris [2- (dimethylamino) ethyl] amine are particularly preferred.
  • the addition amount of the ligand is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, with respect to the monomer component. 10% by mass is particularly preferable.
  • the method for producing a liquid crystalline living polymer is not particularly limited as a polymerization catalyst for ATRP.
  • transition metal complex used as a polymerization catalyst of ATRP is a metal complex which uses a periodic table group 7, 8, 9, 10, or 11 element as a central metal. More preferable examples include a complex of zero-valent copper, monovalent copper, divalent ruthenium, divalent iron, or divalent nickel. Of these, a copper complex is preferable. Specific examples of monovalent copper compounds include cuprous chloride, cuprous bromide, cuprous iodide, cuprous cyanide, cuprous oxide, cuprous perchlorate, etc. is there.
  • a copper compound 2,2′-bipyridyl or a derivative thereof, 1,10-phenanthroline or a derivative thereof, or tetramethylethylenediamine, pentamethyldiethylenetriamine or hexamethyltris (2-aminoethyl) amine is used to increase the catalytic activity.
  • Polyamines such as are added as ligands.
  • a tristriphenylphosphine complex of divalent ruthenium chloride (RuCl 2 (PPh 3 ) 3 ) is also suitable as a catalyst.
  • RuCl 2 (PPh 3 ) 3 is also suitable as a catalyst.
  • an aluminum alkoxide is added as an activator.
  • a divalent iron bistriphenylphosphine complex FeCl 2 (PPh 3 ) 2
  • a divalent nickel bistriphenylphosphine complex NiCl 2 (PPh 3 ) 2
  • a divalent nickel bistributylphosphine A complex NiBr 2 (PBu 3 ) 2
  • the simple substance of the transition metal used as the polymerization catalyst for ATRP is not particularly limited, but is preferably a metal belonging to Group 7, 8, 9, 10, or 11 of the periodic table. Further preferred are copper, ruthenium, iron or nickel. Of these, copper is preferable.
  • the polymerization conditions and polymerization method are not particularly limited as long as living polymerization can be performed, and bulk polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk / suspension polymerization, and the like can be applied. .
  • the reaction temperature may be any temperature as long as the polymerization reaction proceeds, and is not uniform depending on the desired degree of polymerization of the polymer and the type and amount of the polymerization initiator and solvent used. ° C.
  • the living polymerization reaction in the step of living polymerizing the monomer-containing composition can be carried out under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure depending on circumstances.
  • the polymerization reaction is preferably carried out under a flow of an inert gas such as nitrogen or argon, more preferably under a flow of nitrogen gas, particularly when the initiator is a low molecular weight initiator.
  • an inert gas such as nitrogen or argon
  • the flow conditions of the inert gas may be, for example, 0.001 to 50 L / min.
  • the composition of the present invention preferably contains 30 to 90% by mass of the liquid crystalline block copolymer and 10 to 70% by mass of the reactive liquid crystal compound. More preferably, the composition of the present invention contains 40 to 80% by mass of the liquid crystalline block copolymer and 20 to 60% by mass of the reactive liquid crystal compound. The composition of the present invention preferably contains 50 to 80% by mass of the liquid crystalline block copolymer and more preferably 20 to 50% by mass of the reactive liquid crystal compound.
  • the amount of the reactive liquid crystal compound to be added is equal to or more than the lower limit of the above preferable range, defects can be suppressed and curing is also likely to proceed, which is preferable. Conversely, when the amount of the reactive liquid crystal compound is not more than the upper limit of the above preferred range, it is difficult to inhibit the formation of the cylinder structure when forming the microphase separation, which is preferable.
  • solvent examples include the same solvents as those that can be used for the monomer-containing composition in the method for producing a liquid crystalline block copolymer.
  • composition of the present invention preferably further contains an initiator. It is preferable to use a radical polymerization initiator that is a thermal polymerization initiator.
  • radical polymerization initiator A commercially available radical polymerization initiator can be used as the radical polymerization initiator. V-70, V-60 (AIBN), V-40, V-65, V-601, V-59, V-30, V-501 and the like manufactured by Wako Pure Chemical Industries are preferred, and AIBN is particularly preferred.
  • the amount of radical polymerization initiator added is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, based on the monomer component. The content is particularly preferably 0.2 to 1% by mass.
  • Photopolymerization initiator When forming a microphase-separated structure film using the composition of the present invention, it is preferable to add a photopolymerization initiator using the reactive liquid crystal compound as the monomer component. When the micro phase separation structure film is formed, the phase separation structure can be easily fixed by using the reactive liquid crystal compound and the photopolymerization initiator in combination. There is no restriction
  • the amount of the photopolymerization initiator added is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the monomer component. 0.2 to 1% by mass is particularly preferable.
  • additives may be added to the composition of the present invention.
  • additives include additives that can be used in combination with the reactive liquid crystal compounds (polymerizable rod-shaped liquid crystal compounds) described in, for example, Liquid Crystal Handbook, Liquid Crystal Handbook Editorial Committee, Maruzen Co., Ltd. Can be mentioned.
  • the composition of this invention is a composition for formation of a micro phase-separation structure film.
  • the liquid crystalline block copolymer reaction mixture is once taken out and purified, then the composition of the present invention is prepared, and this composition is used as a substrate (or support). It is common to form a phase separation structure by coating.
  • the method for producing a microphase-separated structure film according to the first aspect of the present invention includes the step of (3) forming a microphase-separated structure by external stimulation of the composition of the present invention on the support.
  • Examples of a method of external stimulation to the composition of the present invention for forming a microphase separation structure include a method of promoting phase separation by heat, light, solvent vapor, and electric field (voltage). A method of promoting phase separation by heating is preferred.
  • the method for producing a microphase-separated structure membrane according to the second aspect of the present invention comprises (3′-1) a step of preparing the composition of the present invention dissolved in a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer. (3′-2) a step of applying the composition of the present invention to the surface of the support, and (3′-3) a step of evaporating the solvent to form a microphase-separated structure film of the composition of the present invention. It is characterized by having.
  • the manufacturing method of the microphase-separated structure film of the first aspect and the manufacturing method of the microphase-separated structure film of the second aspect will be described in order.
  • composition of the present invention prior to the step of applying the composition of the present invention on the support, surface modification or guides (rubbing, etc.) or the like (rubbing, etc.) may or may not be performed on the support. It is preferable not to perform from the viewpoint of shortening.
  • the composition of the present invention can form a microphase separation structure described later without surface modification or guide to the support, and a clean cylindrical microphase without defects even without surface modification or guide to the support. A separation structure can be formed.
  • the method for producing a microphase-separated structure membrane according to the first aspect of the present invention comprises the step (3) of heating the composition of the present invention on the support to form a microphase-separated structure. It is preferably ⁇ 1000 seconds, more preferably 10 to 800 seconds, and particularly preferably 30 to 600 seconds.
  • the method for producing a microphase-separated structure membrane according to the first aspect of the present invention comprises the step (3) of heating the composition of the present invention on the support to form a microphase-separated structure.
  • the temperature is preferably 40 to 250 ° C, more preferably 50 ° C to 200 ° C, and still more preferably 60 ° C to 190 ° C.
  • a heating method in the said (3) process A well-known method can be used, For example, the said support body is mounted on a hotplate, the method of heating the said monomer containing composition with the said support body, etc. Can be mentioned.
  • the temperature is finally lowered to the start temperature (irradiation temperature of active radiation) of the step (4) described later.
  • the rate of temperature decrease from the start of heating to the UV irradiation temperature is preferably 1 to 100 ° C./min, more preferably 5 to 80 ° C./min, and particularly preferably 10 to 50 ° C./min. .
  • the method for producing a microphase-separated structure membrane according to the second aspect of the present invention comprises (3′-1) a step of preparing the composition of the present invention dissolved in a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer. (3′-2) a step of applying the composition of the present invention to the surface of the support, and (3′-3) a step of evaporating the solvent to form a microphase-separated structure film of the composition of the present invention.
  • a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer.
  • 3′-2 a step of applying the composition of the present invention to the surface of the support
  • (3′-3) a step of evaporating the solvent to form a microphase-separated structure film of the composition of the present invention.
  • the step of preparing the composition of the present invention dissolved in a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer is not particularly limited, and is obtained by living polymerization on a support.
  • the block copolymer may be dissolved in a solvent, and mixed with the reactive liquid crystal compound represented by the above general formula (X) using the block copolymer obtained by living polymerization in solution.
  • the composition of the present invention may be prepared.
  • the solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer is not particularly limited. Among the solvents used in the method for producing the liquid crystalline block copolymer, a solvent capable of dissolving the liquid crystalline block copolymer is used. Can be used.
  • aromatic hydrocarbon solvents are preferable, and xylene is more preferable.
  • living polymerization in a solution methods described in JP-A Nos. 2004-1224088, 2010-275349, 2010-116463, 2010-116466, and the like can be used.
  • the reaction temperature is set to 40 to 300 ° C. using an oil bath or the like, and the living polymerization time in the solution is set to 5 to 20 hours. It is preferably carried out under an inert gas flow.
  • the step (3′-2) for applying the composition of the present invention to the surface of the support is not particularly limited, and a method similar to the coating method in the step of living polymerizing the monomer-containing composition on the support,
  • the methods described in JP-A No. 2004-124088, JP-A 2010-275349, JP-A 2010-116463, JP-A 2010-116466, and the like can be used.
  • the block copolymer reaction mixture obtained by living polymerization in the solution is once taken out from the solution and purified, and then mixed with the reactive liquid crystal compound represented by the above general formula (X). You may prepare the composition of invention as a coating liquid.
  • the (3′-3) step of evaporating the solvent to form a microphase-separated structure film of the composition of the present invention is not particularly limited, and JP-A Nos. 2004-124088 and 2010-275349.
  • the methods described in JP 2010-116463 A, JP 2010-116466 A, and the like can be used.
  • the method for producing a microphase separation structure membrane of the present invention further comprises (4) a step of immobilizing the microphase separation structure by crosslinking or polymerizing the composition of the present invention having the microphase separation structure on the support. It is preferable to include. There is no particular limitation on the method of fixing the microphase separation structure by crosslinking or polymerizing the composition of the present invention having the microphase separation structure on the support, but the method having the microphase separation structure is not limited.
  • the composition of the invention is irradiated with actinic radiation, more preferably UV irradiation.
  • the step of immobilizing the microphase separation structure film irradiates the microphase separation structure film with UV while cutting a wavelength of 300 nm or less to immobilize the structure. It is preferable from the standpoint that the microphase separation structure (cylinder structure thereof) can be fixed by decomposing the initiator and polymerizing the reactive liquid crystal compound while not adversely affecting the ester bond of the mesogenic group. .
  • the wavelength to be cut out of the irradiated UV is more preferably 340 nm or less.
  • the method for producing a microphase separation structure membrane of the present invention comprises (4) activity of a step of immobilizing the microphase separation structure by crosslinking or polymerizing the composition of the present invention having the microphase separation structure on the support.
  • the irradiation temperature of radiation is preferably 40 to 200 ° C, more preferably 50 ° C to 200 ° C, and still more preferably 60 ° C to 200 ° C.
  • the irradiation of the active radiation is preferably from 50 ⁇ 2000mJ / cm 2, is preferably 100 ⁇ 1500mJ / cm 2, 200 ⁇ 1000mJ / cm 2 It is particularly preferred that There is no restriction
  • the method for producing a microphase separation structure membrane of the present invention preferably includes a step of peeling the microphase separation structure membrane from the support.
  • the microphase-separated structure film of the present invention contains the composition of the present invention or a crosslinked polymer thereof, or is produced by the method for producing a microphase-separated structure film of the present invention.
  • AFM atomic force microscope
  • Such a microphase-separated structure membrane of the present invention has good storage stability.
  • the microphase separation structure film obtained by the method for producing a microphase separation structure film of the present invention is formed on a substrate, but may be used after peeling from the substrate.
  • the thickness of the microphase separation structure film is preferably 1 to 2000 nm. Although the more preferable thickness of the microphase-separated structure membrane varies depending on the application, it is more preferably 1 to 500 nm, for example.
  • the microphase separation structure film is preferably a cylinder type microphase separation structure film.
  • the cylinder type micro phase separation structure membrane refers to a membrane in which a large number of cylinders to which the hydrophilic polymer component is fixed are arranged in a plane, and the cylinders are preferably arranged at equal intervals.
  • the height of each cylinder is preferably 1 to 2000 nm, and more preferably 1 to 500 nm.
  • the diameter of each cylinder is preferably 1 to 1000 nm, and more preferably 1 to 200 nm.
  • the microphase-separated structure film obtained by the method for producing a microphase-separated structure film of the present invention is a high-density recording such as an optical / electronic functional material (for example, a brightness enhancement film), an energy-related material, a surface modifying material, and a patterned medium Microphase separation consisting of controlled-oriented block copolymers useful as materials, various nanofilters (permeation membranes, ultrafiltration membranes, nanoreactors), anisotropic ion conductive membranes, anisotropic conductive films, etc. It is a structural film.
  • an optical / electronic functional material for example, a brightness enhancement film
  • an energy-related material for example, a brightness enhancement film
  • a surface modifying material for example, a patterned medium
  • Microphase separation consisting of controlled-oriented block copolymers useful as materials, various nanofilters (permeation membranes, ultrafiltration membranes, nanoreactors), anisotropic ion conductive membranes, anisotropic conductive films
  • microphase separation structure membrane can also be used as a porous structure by removing the cylinder structure portion.
  • Porous structures obtained from microphase separation structure membranes are anisotropic, such as polymer electrolytes for fuel cells, ion exchange resins, thin films for microreactors, protein separation membranes, organic zeolites, and templates for various pillars. It can be used as a conductive ion conductive material.
  • Such a microphase-separated structure film can also introduce another substance by removing the cylinder structure portion.
  • Mw represents a weight average molecular weight
  • Mn represents a number average molecular weight
  • Hydrophilic macroinitiator I-1 30 g of commercially available poly (ethylene glycol) methyl ether (Mn5000, manufactured by Aldrich) and 0.81 g of N, N′-dimethylaminopyridine were dissolved in 180 ml of methylene chloride, and 2-bromoisolacsan bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1 .52 g was dissolved in 20 ml of methylene chloride and then added dropwise at room temperature, followed by heating at 40 ° C. and stirring for 48 hours.
  • Mn5000 poly (ethylene glycol) methyl ether
  • 2-bromoisolacsan bromide manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • Liquid crystalline monomers M-1 to M-3 were synthesized according to the synthesis method described below. As a representative example, a synthesis scheme of the liquid crystalline monomer M-1 is shown below. Liquid crystalline monomers M-2 and M-3 can also be synthesized by a similar method.
  • Triphenylphosphine 60 mmol, 16 g was added to a toluene solution (50 ml) of b-3 (50 mmol, 11 g), and the mixture was stirred at 120 ° C. for 2.5 hours. The solid was filtered off with suction and washed with toluene to obtain 22 g of white solid b-4 (yield 90%).
  • t-butoxypotassium 90 mmol, 10 g
  • Methacrylic acid chloride (2 mmol, 0.2 ml) was added dropwise to a DMAc solution (20 ml) of trans-b-5 (1.1 mmol, 0.5 g), and the mixture was stirred at room temperature for 23 hours. Thereafter, water (50 ml) was added at 0 ° C., and the solid was subjected to suction filtration and washed with methanol to obtain 0.6 g (yield 86%) of a white solid M-4.
  • Liquid crystalline monomer M-5 was synthesized by the synthesis method described in JP-A-2008-127336. Liquid crystalline monomer M-5
  • Liquid crystalline monomer M-8 was synthesized according to the synthesis method described below. Liquid crystalline monomer M-8
  • Liquid crystalline monomer M-9 was synthesized by the synthesis method described in Transactions of Materials Research Society of Japan, 28 [3], 553-556 (2003). Liquid crystalline monomer M-9
  • Hydrophilic macroinitiator I-1 (0.1032 g), liquid crystalline monomer M-1 (1.0174 g), N, N, N ′, N ′′, N ′′ -pentamethyldiethylenetriamine (PMDETA) (0. 0208 g) and copper (I) bromide (0.0172 g) were dissolved in 5 ml of anisole. Nitrogen flow was started and the oil bath was heated and stirred at 80 ° C for 7 hours. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature, treated with alumina, washed with 200 ml of THF, filtered and concentrated.
  • Reactive liquid crystal compounds B-1 described in JP 2010-84032 A, JP 2009-286976 A, JP 2009-186785 A, JP 2009-184974 A, and JP 2009-86260 A Reactive liquid crystal compound B-1 described in p85 of JP-T-2001-521538 was prepared according to these publications.
  • Reactive liquid crystal compound B-8 was synthesized by the method described in JP-A-7-306317.
  • a low-molecular liquid crystal compound used in the comparative example a low-molecular liquid crystal compound C-1 having the following structure was obtained by purchasing from SIGMA-ALDRICH. Low molecular liquid crystal compound C-1
  • Example 1 ⁇ Preparation of composition (coating solution)> Liquid crystal block copolymer A-1 (37.5 mg), reactive liquid crystal compound B-1 (12.5 mg) and initiator D-1 (1 mg) having the following structure were weighed and dissolved in 950 ⁇ L of toluene. Then, a filter (Myrex FH 0.45 ⁇ m, ⁇ 13 mm, syringe 2 ml) was filtered to prepare a coating solution Y-1. The obtained coating solution Y-1 was used as the composition of Example 1. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 1 except that no reactive liquid crystal compound B-1 was added was used as the composition of Comparative Example 1.
  • Example 1 After holding at temperature for 1 minute, 350 mJ / cm 2 of UV was irradiated while cutting a wavelength of 340 nm or less with a UV irradiation apparatus (EXECURE 3000 manufactured by HOYA) to fix the structure.
  • the obtained coating film was designated as microphase separation structure film A of Example 1 and Comparative Example 1.
  • FIG. 1 shows an AFM (phase) image of the microphase-separated structure film A of Comparative Example 1 (using the composition of Comparative Example 1 containing only the liquid crystalline block copolymer A-1 (before addition of the reactive liquid crystal compound)). It was.
  • An AFM (phase) image of the microphase-separated structure film A of Example 1 (using the composition of Example 1 after addition of liquid crystal block copolymer A-1 + reactive liquid crystal compound B-1 (25 wt%)) It is shown in FIG.
  • Example 2 Liquid crystal block copolymer A-1 ′ (22.5 mg), reactive liquid crystal compound B-1 (7.5 mg), initiator D-1 (1.2 mg) were weighed and dissolved in 970 ⁇ L of toluene. Then, the coating solution Y-2 was prepared by filtration through a filter (Myrex FH 0.45 ⁇ m, ⁇ 13 mm, syringe 2 ml). The obtained coating solution Y-2 was used as the composition of Example 2. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 2 except that no reactive liquid crystal compound B-1 was added was used as the composition of Comparative Example 2.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 2 and Comparative Example 2 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase-separated structure films A and B of Example 2 and Comparative Example 2 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • FIG. 3 shows an AFM (phase) image of the microphase-separated structure film A of Comparative Example 2 (using the composition of Comparative Example 2 containing only the liquid crystalline block copolymer A-1 ′ (before addition of the reactive liquid crystal compound)). Indicated.
  • Microphase-separated structure film A of Example 2 liquid crystal block copolymer A-1 ′ + reactive liquid crystal compound B-1 (25 wt%) added, composition of Example 2 after UV (340 nm or less cut) irradiation) AFM (phase) image is shown in FIG.
  • the microphase-separated structure film B of Example 2 liquid crystal block copolymer A-1 ′ + reactive liquid crystal compound B-1 (25 wt%) added, composition of Example 2 after UV (340 nm or less cut) irradiation)
  • the results of cross-sectional TEM observation are shown in FIG.
  • Example 3 Liquid crystal block copolymer A-1 ′ (18 mg), reactive liquid crystal compound B-1 (12 mg) and initiator D-1 (1.2 mg) were weighed and dissolved in 970 ⁇ L of toluene, and then the filter (My Lexto FH 0.45 ⁇ m, ⁇ 13 mm, syringe 2 ml) was filtered to prepare coating solution Y-3. The obtained coating solution Y-3 was used as the composition of Example 3. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 3 except that no reactive liquid crystal compound B-1 was added was used as the composition of Comparative Example 3.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 3 and Comparative Example 3 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase-separated structure films A and B of Example 3 and Comparative Example 3 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 4 Liquid crystal block copolymer A-1 ′ (15 mg), reactive liquid crystal compound B-1 (15 mg), initiator D-1 (1.2 mg) were weighed and dissolved in 970 ⁇ L of toluene, and then the filter (My Lexto FH 0.45 ⁇ m, ⁇ 13 mm, syringe 2 ml) was filtered to prepare coating solution Y-4. The obtained coating solution Y-4 was used as the composition of Example 4. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 4 except that no reactive liquid crystal compound B-1 was added was used as the composition of Comparative Example 4.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1, respectively, except that the compositions of Example 4 and Comparative Example 4 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 4 and Comparative Example 4 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 5 A coating solution Y-5 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-2. The obtained coating solution Y-5 was used as the composition of Example 5. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 5 except that no reactive liquid crystal compound B-2 was added was used as the composition of Comparative Example 5.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1, respectively, except that the compositions of Example 5 and Comparative Example 5 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 5 and Comparative Example 5 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 6 Comparative Example 6
  • a coating solution Y-6 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-3.
  • the obtained coating solution Y-6 was used as the composition of Example 6.
  • a coating solution prepared in the same manner as in Example 6 except that the reactive liquid crystal compound B-3 was not added was used as the composition of Comparative Example 6.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 6 and Comparative Example 6 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase-separated structure films A and B of Example 6 and Comparative Example 6 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 7, Comparative Example 7 Coating solution Y-7 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-4. The obtained coating solution Y-7 was used as the composition of Example 7. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 7 except that the reactive liquid crystal compound B-4 was not added was used as the composition of Comparative Example 7.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 7 and Comparative Example 7 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 7 and Comparative Example 7 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 8 Coating solution Y-8 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-5. The obtained coating solution Y-8 was used as the composition of Example 8. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 8 except that no reactive liquid crystal compound B-5 was added was used as the composition of Comparative Example 8.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 8 and Comparative Example 8 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 8 and Comparative Example 8 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 9, Comparative Example 9 A coating solution Y-9 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-6. The obtained coating solution Y-9 was used as the composition of Example 9. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 9 except that the reactive liquid crystal compound B-6 was not added was used as the composition of Comparative Example 9.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1, respectively, except that the compositions of Example 9 and Comparative Example 9 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 9 and Comparative Example 9 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 10, comparative example 10 A coating solution Y-10 was prepared in the same manner as in Example 2, except that B-1 in Example 2 was replaced with B-7. The obtained coating solution Y-10 was used as the composition of Example 10. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 10 except that the reactive liquid crystal compound B-7 was not added was used as the composition of Comparative Example 10.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 10 and Comparative Example 10 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 10 and Comparative Example 10 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 11, comparative example 11 A coating solution Y-11 was prepared in the same manner as in Example 2 except that A-1 ′ in Example 2 was replaced with A-2. The obtained coating solution Y-11 was used as the composition of Example 11. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 11 except that the reactive liquid crystal compound B-1 was not added was used as the composition of Comparative Example 11.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 11 and Comparative Example 11 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the micro phase separation structure films A and B of Example 11 and Comparative Example 11 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 12 A coating solution Y-12 was prepared in the same manner as in Example 2 except that A-1 ′ in Example 2 was replaced with A-5. The obtained coating solution Y-12 was used as the composition of Example 12. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 12 except that the reactive liquid crystal compound B-1 was not added was used as the composition of Comparative Example 12.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 12 and Comparative Example 12 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 12 and Comparative Example 12 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 13 comparative example 13
  • the coating solution Y-2 prepared in Example 2 was used in Example 13 as the coating solution Y-13.
  • Example 2 and Comparative Example 2 the same procedure as in Example 2 and Comparative Example 2 was used except that a cut filter (manufactured by Asahi Spectroscope) with a wavelength of 365 nm or less was used instead of using a cut filter with a cut of 340 nm or less.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 13 and Comparative Example 13 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 14 comparative example 14
  • the coating solution Y-2 prepared in Example 2 was used in Example 14 as the coating solution Y-14.
  • Example 2 and Comparative Example 2 the same procedure as in Example 2 and Comparative Example 2 was used except that a cut filter (manufactured by Asahi Spectroscope) having a wavelength of 405 nm or less was used instead of using a cut filter having a wavelength of 340 nm or less.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 14 and Comparative Example 14 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 15, Comparative Example 15 A coating solution Y-15 was prepared in the same manner as in Example 2 except that B-1 in Example 2 was replaced with B-8. The obtained coating solution Y-15 was used as the composition of Example 15. On the other hand, a coating solution prepared in the same manner as in Example 15 except that the reactive liquid crystal compound B-8 was not added was used as the composition of Comparative Example 15.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Example 15 and Comparative Example 15 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase separation structure films A and B of Example 15 and Comparative Example 15 were formed and evaluated. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 16 to 19 Coating solutions Y-16 to 19 were prepared in the same manner as in Example 2, except that the addition amount of B-1 in Example 2 was replaced with the addition amount shown in Table 1 below from 25% by mass.
  • the obtained coating solutions Y-16 to 19 were used as compositions of Examples 16 to 19.
  • coating solutions prepared in the same manner as in Examples 16 to 19 except that the reactive liquid crystal compound B-1 was not added were used as compositions of Comparative Examples 16 to 19.
  • Example 1 and Comparative Example 1 Example 1 and Comparative Example 1 were used except that the compositions of Examples 16 to 19 and Comparative Examples 16 to 19 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase-separated structure films A and B of Examples 16 to 19 and Comparative Examples 16 to 19 were formed and evaluated. However, in Examples 18 and 19, cross-sectional TEM observation was not performed. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • Comparative Example 20 and Comparative Example 22 described later are comparative examples for examining the performance of the low-molecular liquid crystal compound C-1 described in this document. is there.
  • a coating solution prepared in the same manner as in Comparative Example 20 except that the low-molecular liquid crystal compound C-1 was not added was used as the composition of Comparative Example 20 ′.
  • the obtained coating film was designated as microphase separation structure film A of Comparative Example 20 and Comparative Example 20 ′. Further, using the obtained microphase-separated structure film A of Comparative Example 20 and Comparative Example 20 ′, defect suppression evaluation, AFM observation, and immobilization evaluation were performed in the same manner as in Example 1. On the other hand, the microphase-separated structure film B of Comparative Example 20 and Comparative Example 20 ′ was produced on a PET substrate in the same manner as in Example 1 except that the compositions of Comparative Example 20 and Comparative Example 20 ′ were used, TEM observation was performed. The obtained results are shown in Table 1 below.
  • a coating solution Y-22 was prepared in the same manner as in Comparative Example 20, except that A-9 in Comparative Example 20 was replaced with A-1 ′. The obtained coating solution Y-22 was used as the composition of Comparative Example 22.
  • a coating solution Y-21 prepared in the same manner as in Comparative Example 22 except that no reactive liquid crystal compound B-1 was added was used as the composition of Comparative Example 21.
  • Example 1 and Comparative Example 1 were the same as Example 1 and Comparative Example 1 except that the compositions of Comparative Example 21 and Comparative Example 22 were used instead of the compositions of Example 1 and Comparative Example 1.
  • the microphase-separated structure films A and B of Comparative Example 21 and Comparative Example 22 were formed and evaluated. The results are shown in Table 1 below.
  • FIG. 7 shows the result of cross-sectional TEM observation.
  • the composition of each example can form and fix a cylinder structure with few defects and a large domain size, and a micro phase separation structure membrane excellent in industrial processability is economically rational. It was found that it can be manufactured automatically.
  • the cylinder structure by TEM observation could not be confirmed due to insufficient film strength.
  • the cylinder structure by TEM observation could not be confirmed as shown in the cross-sectional TEM image of FIG.
  • the cylinder structure by TEM observation could not be confirmed.
  • liquid crystalline block copolymer A-1 liquid crystalline block copolymer A-1
  • the liquid crystalline block copolymer alone of Comparative Example 1 had an unclear structure. It was found that a cylinder structure could be formed by using the composition of Example 1 to which the liquid crystalline compound (B-1) was added.
  • the molecular weight distribution of the liquid crystalline block copolymer forming the cylinder structure is limited to 1.3 or less, but in the composition of the present invention, the liquid crystalline block copolymer alone is not used.
  • the addition of the reactive liquid crystal compound can form the cylinder structure, that is, the molecular weight distribution of the liquid crystalline block copolymer that can form the cylinder structure can be expanded.

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Abstract

アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ）及び炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ）が直接または連結基を介して共有結合によって結合し、前記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する液晶性ブロック共重合体と、一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含む組成物（Ｑ１及びＱ２のうち一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基；Ｌ１及びＬ４は二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち一方は炭素数２～２０のアルキレン基を含む；Ｌ２及びＬ３は単結合又は特定の二価の連結基；Ｃｙ１、Ｃｙ２及びＣｙ３は二価の環状基；ｎは０～３の整数）は、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができる。

Description

組成物ならびにそれを用いたミクロ相分離構造膜およびミクロ相分離構造膜の製造方法
　本発明は組成物ならびにそれを用いたミクロ相分離構造膜およびその製造方法に関する。より詳しくは、液晶性ブロック共重合体および反応性液晶化合物を含む新規な組成物と、光・電子機能材料（例えば輝度向上膜）、エネルギー関連材料、表面修飾材料、パターンドメディアのような高密度記録材料、種々のナノフィルター（透過膜、限外ろ過膜、ナノリアクター）、異方性イオン伝導膜、異方性導電膜、等として有用な配向の制御された上記組成物を用いて製造されたミクロ相分離構造膜およびその製造方法に関する。
　ミクロ相分離構造を作製する方法としてリビング重合により製造したブロック共重合体を用い、得られた相分離構造の固定化をする方法が知られている。
　従来、ミクロ相分離構造を作製するには高温・長時間（２００℃、５時間程度）必要としていた。これに対し、ブロック共重合体が相分離で形成するナノスケールのヘキサゴナルシリンダー構造の配向を、「両親媒性」と「液晶」を導入することで制御した例が知られている（非特許文献１、特許文献１、２）。具体的には、特許文献１では、親水性ポリマー成分（Ａ）と疎水性ポリマー成分（Ｂ）が共有結合によって連結されたブロック共重合体で、Ａ及びＢの分子量分布が≦１．３であるブロック共重合体が記載されている。特許文献２では、親水性ポリマー成分と、架橋可能な構造を有する疎水性ポリマー成分とが共有結合してなるブロック共重合体からなる自立性高分子薄膜であって、上記自立性高分子薄膜がその膜中に一定方向に配向した上記親水性ポリマー成分からなるシリンダーを有しており、上記疎水性ポリマー成分が架橋している自立性高分子薄膜が記載されている。これらの文献に記載の方法はミクロ相分離構造を、数分程度で作製することができるようになった点で画期的であった。必要な化合物の合成は、例えば特許文献１では、親水的なマクロ開始剤を合成した後に、液晶性モノマーとの原子移動ラジカル重合（Ａｔｏｍ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒａｄｉｃａｌ　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ、以下、ＡＴＲＰと略する）により親水部－疎水部が連結されたブロック共重合体を得ている。また、特許文献２では、疎水部のみをＡＴＲＰによりリビング重合部分を得たのちに、末端を修飾し、最後に高分子反応により親水部を作製している。
　しかし、特許文献１に記載された形成されたミクロ相分離構造膜は、構造を固定化できずシリンダーが屈曲してしまうことおよび欠陥が発生しドメインが形成されてしまうことが課題となっていた。
　特許文献２では、疎水性ポリマー成分を架橋させることで、シリンダー構造を固定化したが、依然として、欠陥が発生してしまう課題は解決されていない。
　また、非特許文献２では、低分子液晶を添加することで、欠陥の発生を抑制しているが、シリンダー構造を固定化することは達成できていない。
特開２００４－１２４０８８号公報 特開２０１０－２７５３４９号公報 特開２０１０－１１６４６３号公報
液晶、２００９年、第１３巻（第４号）、２５０頁、山田武、吉田博久、彌田智一 Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，　Ｊａｐａｎ　ｖｏｌ．５９，　Ｎｏ．１（２０１０），　８５７
　これらの文献に記載の方法では、ブロック共重合体を用いてミクロ相分離構造膜を作製しているが、構造の固定化および欠陥の抑制の二つの課題を同時に解決したものはなかった。
　例えば、特許文献１に記載のブロック共重合体には、疎水性ポリマー成分に架橋性基が入っていないため、構造の固定化をすることができず、さらに液晶性ブロックコポリマー単独であるため、欠陥が発生しドメインが生じてしまう。また、特許文献２に記載のブロック共重合体には、架橋性基が導入されているため、構造を固定化できるが、液晶性ブロックコポリマー単独であるため、欠陥が発生しドメインが生じてしまう。非特許文献２では、液晶性ブロックコポリマーに低分子液晶を添加することで、欠陥を抑制しドメインサイズの大きなミクロ相分離構造膜を作製しているが、架橋性基がないために構造を固定化できなかった。
　本発明の解決しようとする課題は、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができる組成物を提供することである。
　上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、疎水性ポリマー成分としてメソゲン側鎖を有する成分と、親水性ポリマー成分を有する液晶性ブロック共重合体と、特定の構造のメソゲン基を有する反応性液晶化合物を併用すると、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができる組成物を提供できることを見出した。
　上記の課題を解決するための手段である本発明は以下のとおりである。
［１］　アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ）および炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ）が直接または連結基を介して共有結合によって結合し、かつ、上記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する液晶性ブロック共重合体と、
　下記一般式（Ｔ）または（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含むことを特徴とする組成物。
一般式（Ｔ）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
（一般式（Ｔ）中、Ｑは反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１はｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
一般式（Ｘ）　Ｑ１－Ｌ１－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－Ｑ２
（一般式（Ｘ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
［２］　［１］に記載の組成物は、上記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｔ’）または（Ｙ）で表されることが好ましい。
一般式（Ｔ’）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
（一般式（Ｔ’）中、Ｑは下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （環状構造群（Ｃ）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
一般式（Ｙ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （一般式（Ｙ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
群（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （上記群（Ａ）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
群（Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 ［３］　［１］または［２］に記載の組成物は、液晶性ブロック共重合体を３０～９０質量％含有し、反応性液晶化合物を１０～７０質量％含有することが好ましい。
［４］　［１］～［３］のいずれかに記載の組成物は、上記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ）または（Ｚ）で表されることが好ましい。
一般式（Ｕ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （一般式（Ｕ）中、Ｑは群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に下記群（Ａ）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （環状構造群（Ｃ’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
一般式（Ｚ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （一般式（Ｚ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に下記群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ’）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
群（Ａ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （上記群（Ａ’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
群（Ｂ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 ［５］　［１］～［４］のいずれかに記載の組成物は、上記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ’）または（Ｚ’）で表されることが好ましい。
一般式（Ｕ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （一般式（Ｕ’）中、ＲＴは水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、
ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、
ＬＴ１は下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基であり、
ＬＴ２Ａは下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であって、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、
ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （環状構造群（Ｃ’’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
一般式（Ｚ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （一般式（Ｚ’）中、Ｒ’およびＲ’’はそれぞれ独立に水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａはそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａのうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基である。）
群（Ａ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （上記群（Ａ’’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
［６］　［１］～［５］のいずれかに記載の組成物は、上記反応性液晶化合物の分子量が３０００未満であることが好ましい。
［７］　［１］～［６］のいずれかに記載の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の上記ポリマー成分（Ｂ）が、下記一般式（１）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （一般式（１）中、ｍは１～５００の整数を表し、Ｌ１２は単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニンレン基、メタロセニレン基、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下の連結基を表し（Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。ただし、Ｌ１２は少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。）、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ５はオキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｍは炭素数６～５０のメソゲン基を表す。但し、ｍ個の繰り返し単位は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
［８］　［７］に記載の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の上記ポリマー成分（Ｂ）中のＭが、下記一般式（２）または一般式（３）で表される２価の連結基を含むことが好ましい。
一般式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 一般式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （一般式（２）および（３）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に置換または無置換のアリーレン基を表す。）
［９］　［１］～［８］のいずれかに記載の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の数平均分子量Ｍｎが３０００～１０００００であることが好ましい。
［１０］　［１］～［９］のいずれかに記載の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．５以下であることを特徴とすることが好ましい（Ｍｗは液晶性ブロック共重合体の重量平均分子量を表し、Ｍｎは液晶性ブロック共重合体の数平均分子量を表す）。
［１１］　［１］～［１０］のいずれかに記載の組成物は、さらに開始剤を含むことが好ましい。
［１２］　［１］～［１１］のいずれかに記載の組成物を支持体上で熱、光、溶媒蒸気または電場により相分離を促進させ、ミクロ相分離構造を形成する工程を含むことを特徴とするミクロ相分離構造膜の製造方法。
［１３］　［１］～［１１］のいずれかに記載の組成物を溶解可能な溶媒に溶解させ、溶液を調製する工程と、
　上記組成物溶液を支持体表面に塗布する工程と、
　上記溶媒を蒸発させて上記組成物のミクロ相分離構造膜を形成する工程と、
　上記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程を有することを特徴とするミクロ相分離構造膜の製造方法。
［１４］　［１３］に記載のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程が、上記ミクロ相分離構造膜に３００ｎｍ以下の波長をカットしながらＵＶを照射し、構造を固定化する工程であることが好ましい。
［１５］　［１］～［１１］のいずれかに記載の組成物またはその架橋重合体を含有すること、あるいは、［１２］～［１４］のいずれかに記載のミクロ相分離構造膜の製造方法で製造されたことを特徴とするミクロ相分離構造膜。
　本発明によれば、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができる組成物を提供することができる。
図１は、本発明のミクロ相分離構造膜の一例として製造した、比較例１のミクロ相分離構造膜ＡのＡＦＭ写真（位相像）である。 図２は、実施例１のミクロ相分離構造膜ＡのＡＦＭ写真（位相像）である。 図３は、本発明のミクロ相分離構造膜の他の一例として製造した、比較例２のミクロ相分離構造膜ＡのＡＦＭ写真（位相像）である。 図４は、実施例２のミクロ相分離構造膜ＡのＡＦＭ写真（位相像）である。 図５は、本発明のミクロ相分離構造膜の他の一例として製造した、実施例２のミクロ相分離構造膜Ｂの断面ＴＥＭ観察写真である。 図６は、比較例２１のミクロ相分離構造膜Ｂの断面ＴＥＭ観察写真である。 図７は、比較例２２のミクロ相分離構造膜Ｂの断面ＴＥＭ観察写真である。
　以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は「～」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの両方を含む意味で使われる。
［組成物］
　本発明の組成物は、アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ）および炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ）が直接または連結基を介して共有結合によって結合し、かつ、上記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する液晶性ブロック共重合体と、下記一般式（Ｔ）または（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含むことを特徴とする。
一般式（Ｔ）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
（一般式（Ｔ）中、Ｑは反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１はｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
一般式（Ｘ）　Ｑ１－Ｌ１－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－Ｑ２
（一般式（Ｘ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
　このような構成とした組成物は、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができる。いかなる理論に拘泥するものでもないが、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を添加することによって、得られるシリンダー構造を崩さずに硬くすることができるという作用が得られることに起因して、シリンダー構造を固定化し、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜が得られたと考えられる。なお、このようなシリンダー構造の硬度は、断面ＴＥＭ観察にて、シリンダー構造が観察できるかどうかによってミクロ相分離構造膜のシリンダー硬度の強度を相対的に評価することができる。
　また、ミクロ相分離構造膜のドメインサイズは、表面ＡＦＭ画像にて最大のドメインサイズを比較することによって相対的に評価することができる。
　上記液晶性ブロック共重合体は、両親媒性・液晶ブロックコポリマーと呼ばれることもある。
　なお、ポリマー成分（Ａ）は親水性ポリマーであり、ポリマー成分（Ｂ）は疎水性ポリマーである。
　以下、本発明の組成物の好ましい態様について、順に説明する。
＜反応性液晶化合物＞
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｔ）または（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含む。本発明の組成物は、上記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物および上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物のうち、少なくとも一方を含み、両方を含んでもよく、一方のみを含んでもよい。
　以下において、（ｉ）上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物の好ましい態様と、（ｉｉ）上記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物の好ましい態様について、この順に説明する。
（ｉ）　一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物
　本発明の組成物が、下記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含む態様について説明する。
一般式（Ｘ）　Ｑ１－Ｌ１－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－Ｑ２
（一般式（Ｘ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
　上記一般式（Ｘ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表す。反応性基は重合性基であることが好ましく、上記重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、反応性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。
　上記反応性基は下記群（Ｂ）から選択される反応性基であることが好ましい。
群（Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　上記反応性基は、上記群（Ｂ）から選択される反応性基の中でも、下記群（Ｂ’）から選択される反応性基であることがより好ましい。
群（Ｂ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　これらの反応性基の中でも、オキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基がより好ましい。
　さらに、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方が
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 のいずれかであることが特に好ましい。
　Ｑ１およびＱ２の一方が反応性基を表すときの他の一方は、反応性基または反応性基ではない置換基を表してもよい。
　Ｑ１およびＱ２の一方が反応性基を表すときの他の一方が反応性基ではない置換基を表す場合、この置換基としては特に制限はないが、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基、シアノ基であることが好ましく、より好ましくはアルキル基、もしくは、置換基を有していてもよいアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１～２０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基であり、より特に好ましくは炭素数１～４のアルキル基または炭素数１～４のアルコキシ基であり、さらにより特に好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。
　これらの中でもＱ１およびＱ２の一方が反応性基を表すときの他の一方は、反応性基を表すことが好ましく、オキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基がより好ましく、Ｑ１およびＱ２の両方が
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 であることがより特に好ましく、両方がアクリレート基であることがさらにより特に好ましい。
　上記一般式（Ｘ）中、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－Ｃ＝Ｎ－、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。Ｌ１およびＬ４に含まれる上記Ｒは炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子である。
　組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がＱ（Ｑ１またはＱ２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ１またはＣｙ３）に結合する。
Ｌ－１：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－
Ｌ－２：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－３：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－４：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－
Ｌ－５：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－６：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－７：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－
Ｌ－８：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－９：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－１０：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－
Ｌ－１１：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－１２：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－１３：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－二価の鎖状基－
Ｌ－１４：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－二価の鎖状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－１５：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－二価の環状基－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－１６：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－
Ｌ－１７：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－１８：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－１９：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－
Ｌ－２０：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－ＣＯ－Ｏ－
Ｌ－２１：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－二価の環状基－二価の鎖状基－Ｏ－ＣＯ－
Ｌ－２２：－二価の鎖状基－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－
Ｌ－２３：－ＣＯ－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－二価の鎖状基－Ｏ－
　二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
　アルキレン基は、分岐を有していてもよいが、直鎖であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は２～２０であることが好ましく、３乃至１８であることが好ましく、４乃至１６であることがさらに好ましく、５乃至１５であることが最も好ましい。Ｌ１およびＬ４が表す二価の連結基中に含まれるすべてのアルキレン基の炭素数の合計が上記範囲であることが好ましく、例えばＬ－１～Ｌ－２２中に二価の鎖状基が複数含まれる場合はアルキレン基である二価の鎖状基の合計の炭素数が上記範囲であることが好ましい。例えば、Ｌ１およびＬ４がいずれもアルキレン基を１つずつ、合計２つ有する場合は、各アルキレン基の炭素数の合計が、２～２０であることが好ましく、３乃至１８であることが好ましく、４乃至１６であることがさらに好ましく、５乃至１５であることが最も好ましい。
　置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
　アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることがもっとも好ましい。
　置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
　アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることがもっとも好ましい。
　置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
　二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、２－メチル－テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２－ブテニレン、２－ブチニレンなどが上げられる。
　二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３の定義および例と同様である。
　Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立にＬ－１、Ｌ－２またはＬ－２３であることが好ましく、Ｌ－１またはＬ－２であることがより好ましく、Ｌ－１であることが特に好ましい。
　また、左側がＱ（Ｑ１またはＱ２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ１またはＣｙ３）に結合する場合において、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ－ＣＯ－Ｏ－Ｌ１Ａ－および－ＣＯ－Ｏ－Ｌ４Ａ－で表されることが好ましく、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａはそれぞれ独立に二価の連結基を表す。ただし、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａのうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。
　上記Ｌ１ＡおよびＬ４Ａの好ましい範囲は、Ｌ１およびＬ４の好ましい範囲からそれぞれ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－を除外した範囲である。
　上記一般式（Ｘ）中、Ｌ２またはＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。Ｌ２またはＬ３が表す二価の連結基としては、下記群（Ａ）から選択される二価の連結基が好ましい。
群（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 （上記群（Ａ）中、Ｒは水素原子または置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
　上記群（Ａ）に含まれる上記Ｒは炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子であることが好ましく、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
　Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ’）で表される二価の連結基であることが好ましい。
群（Ａ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 （上記群（Ａ’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
　上記群（Ａ’）に含まれる上記Ｒの好ましい範囲は、上記群（Ａ）に含まれる上記Ｒの好ましい範囲と同様である。
　Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に下記群（Ａ’’）で表される二価の連結基であることがより好ましい。
群（Ａ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 （上記群（Ａ’’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
上記群（Ａ’’）に含まれる上記Ｒの好ましい範囲は、上記群（Ａ）に含まれる上記Ｒの好ましい範囲と同様である。
　Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－であることが特に好ましい。Ｌ２は－ＣＯＯ－であることがより特に好ましく、Ｌ３は－ＯＣＯ－であることがより特に好ましい。
　上記一般式（Ｘ）において、ｎは０、１、２、または３である。ｎが２または３の場合、二つのＬ３は同じであっても異なっていてもよく、二つのＣｙ２も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。
　上記一般式（Ｘ）において、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
　環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
　環状基に含まれる環は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
　環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
　ベンゼン環を有する環状基としては、１，４－フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン－１，５－ジイルおよびナフタレン－２，６－ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４－シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン－２，５－ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン－２，５－ジイルが好ましい。
　環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアシルアミノ基が含まれる。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｙ）で表されることが好ましい。
一般式（Ｙ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 （一般式（Ｙ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
群（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 （上記群（Ａ）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
群（Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　上記一般式（Ｙ）におけるＲ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が置換しているベンゼン環に４個ずつ含まれる。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）においてＣｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３が表す二価の環状基の有してもよい置換基の好ましい範囲と同様である。上記一般式（Ｙ）におけるＲ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子であることがより好ましい。
　上記一般式（Ｙ）におけるその他の基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）の説明における同名の基の好ましい範囲と同様である。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｚ）で表されることが好ましい。
一般式（Ｚ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 （一般式（Ｚ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に下記群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ’）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である。）
群（Ａ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （上記群（Ａ’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
群（Ｂ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　上記一般式（Ｚ）における各基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｙ）の説明における同名の基の好ましい範囲と同様である。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｚ’）で表されることが好ましい。
一般式（Ｚ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 （一般式（Ｚ’）中、Ｒ’およびＲ’’はそれぞれ独立に水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に下記群（Ａ’’）で表される二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａはそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａのうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基である。）
群（Ａ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （上記群（Ａ’’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
　上記一般式（Ｚ’）中、Ｒ’およびＲ’’はそれぞれ独立に水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、水素原子または無置換のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　上記一般式（Ｚ’）におけるその他の基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）の説明または上記一般式（Ｙ）の説明における同名の基の好ましい範囲と同様である。
（ｉｉ）　一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物
　本発明の組成物が、下記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物を含む態様について説明する。
一般式（Ｔ）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
（一般式（Ｔ）中、Ｑは反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１はｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６のとき、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
　上記一般式（Ｔ）中、Ｑは反応性基であり、Ｑの好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）におけるＱ１またはＱ２が表す反応性基の好ましい範囲と同様である。
　上記一般式（Ｔ）中、ＬＴ１は単結合または二価の連結基であり、ＬＴ１の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）におけるＬ２の好ましい範囲と同様である。
　上記一般式（Ｔ）中、ＬＴ２は単結合または二価の連結基であり、ＬＴ２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）におけるＬ４の好ましい範囲と同様である。
　ＬＴ２は左側がＣｙＴ２に、右側がＱに結合する場合において、－ＬＴ２Ａ－Ｏ－ＣＯ－で表されることが好ましく、ＬＴ２Ａは上記一般式（Ｘ）における群（Ａ’’）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であって、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。ＬＴ２Ａの好ましい範囲は、ＬＴ２Ａの有する炭素数２～２０のアルキレン基の好ましい範囲を除いて、上記一般式（Ｘ）における上記Ｌ４Ａの好ましい範囲と同様である。ＬＴ２Ａの有する炭素数２～２０のアルキレン基は、炭素数２～１０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～６のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数３～５のアルキレン基であることが特に好ましい。ＬＴ２Ａの有する炭素数２～２０のアルキレン基は、分岐を有していてもよいが、直鎖であることが好ましい。
　上記一般式（Ｔ）中、ＣｙＴ１はｔ価の環状基であり、環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
　環状基に含まれる環は、単環であっても縮合環であってもよい。ただし、単環よりも縮合環であることがより好ましい。
　環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、後述の環状構造群（Ｃ）から選択される環状構造が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
　ＣｙＴ１は芳香族環であることが好ましく、下記環状構造群（Ｃ）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であることがより好ましい。
環状構造群（Ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （環状構造群（Ｃ）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
　上記環状構造群（Ｃ）中、環状構造を構成するいずれかの環が有していてもよい置換基は、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であることが好ましく、炭素原子数が１から７のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数１から４のアルキル基であることが特に好ましく、メチル基、エチル基であることがより特に好ましい。
　上記環状構造群（Ｃ）中、環状構造を構成するいずれかの環は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手以外、置換基を有さないことが最も好ましい。
　ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であることがより好ましい。
環状構造群（Ｃ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 （環状構造群（Ｃ’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
　上記環状構造群（Ｃ’）における、環状構造を構成するいずれかの環が有していてもよい置換基の好ましい範囲は、上記環状構造群（Ｃ）における環状構造を構成するいずれかの環が有していてもよい置換基の好ましい範囲と同様である。
　ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であることがより好ましい。
環状構造群（Ｃ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （環状構造群（Ｃ’’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
　上記環状構造群（Ｃ’’）における、環状構造を構成するいずれかの環が有していてもよい置換基の好ましい範囲は、上記環状構造群（Ｃ）における環状構造を構成するいずれかの環が有していてもよい置換基の好ましい範囲と同様である。
　ＣｙＴ１はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナレン環、トリフェニレン環を含むｔ価の環状基であることが特に好ましく、トリフェニレン環を含むｔ価の環状基であることがより特に好ましい。
　上記一般式（Ｔ）において、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。ｔは２～６であることが好ましく、３～６であることがより好ましく、４～６であることが特に好ましく、６であることがより特に好ましい。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｔ’）で表されることが好ましい。
一般式（Ｔ’）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
（一般式（Ｔ’）中、Ｑは下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 （環状構造群（Ｃ）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
群（Ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 　上記一般式（Ｔ’）におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２、Ｑおよびｔの好ましい範囲は、上記一般式（Ｔ）の説明におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２、Ｑおよびｔの好ましい範囲と同様である。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ）で表されることが好ましい。
一般式（Ｕ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 （一般式（Ｕ）中、Ｑは群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に下記群（Ａ）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 （環状構造群（Ｃ’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
群（Ａ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 （上記群（Ａ’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
群（Ｂ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 　上記一般式（Ｕ）におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２、Ｑおよびｔの好ましい範囲は、上記一般式（Ｔ）の説明におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２、Ｑおよびｔの好ましい範囲と同様である。
　本発明の組成物は、上記一般式（Ｔ）で表される反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ’）で表されることが好ましい。
一般式（Ｕ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 （一般式（Ｕ’）中、ＲＴは水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、
ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、
ＬＴ１は下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基であり、
ＬＴ２Ａは下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であって、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、
ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい。）
環状構造群（Ｃ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 （環状構造群（Ｃ’’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基などの置換基を有していてもよい。）
群（Ａ’’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 （上記群（Ａ’’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
　上記一般式（Ｕ’）におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２Ａ、Ｑおよびｔの好ましい範囲は、上記一般式（Ｔ）の説明におけるＣｙＴ１、ＬＴ１、ＣｙＴ２、ＬＴ２Ａ、Ｑ、Ｒ’’およびｔの好ましい範囲と同様である。
　上記一般式（Ｕ’）におけるＲＴの好ましい範囲は、上記一般式（Ｚ’）の説明におけるＲ’’の好ましい範囲と同様である。
　以下に、上記一般式（Ｔ）または（Ｘ）で表される反応性液晶化合物の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
（分子量）
　上記反応性液晶化合物の分子量は３０００未満であることが好ましく、２０００未満であることがより好ましく、１０００～３００であることが特に好ましい。
＜液晶性ブロック共重合体＞
　本発明の組成物は、アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ）および炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ）が直接または連結基を介して共有結合によって結合し、かつ、上記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する液晶性ブロック共重合体を含む。
（アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ））
　上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ａ）が、アルキレンオキサイド鎖を含む。アルキレンオキサイド鎖としては、例えばポリ（エチレンオキシド）、ポリ（プロピレンオキシド）などのポリアルキレンオキシ構造、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（アクリルアミド）、オリゴ（エチレンオキシド）やクラウンエーテルやクリプタンド又は糖鎖を側鎖に有するポリ（メタクリレート）又はポリ（アクリレート）を含むことが好ましく、ポリアルキレンオキシ構造を含むことがより好ましく、ポリ（エチレンオキシド）を含むことが特に好ましい。ポリ（エチレンオキシド）構造の繰り返し単位数をｎとすると、ｎは１～５００であることが好ましく、３～２５０であることがより好ましく、５～２００であることが特に好ましい。
　また、上記ポリマー成分（Ｂ）が、連結基を介して上記ポリマー成分（Ａ）と結合してもよい。
　ポリマー成分（Ａ）の重合度は、ミクロ相分離構造のサイズ制御の観点から、数平均分子量が１００～１０００００であり、１０００～５００００であることが好ましく、最も好ましくは２０００～１００００である。
　上記ポリマー成分（Ａ）は、親水性モノマー成分を重合して形成されてなるものであってもよい。上記親水性モノマー成分としては特に制限はなく、公知の親水性モノマー成分を用いることができる。
　上記親水性モノマー成分としては、メタクリル酸及びアクリル酸と、ポリオール化合物の片末端をアルキルエーテル化した化合物が、エステル結合で連結された化合物を挙げることができる。
　「ポリオール化合物の片末端をアルキルエーテル化した化合物」とは下記に記載するポリオール化合物を炭素数１～１０のアルキル化合物でエーテル化したものであり、好ましくは炭素数１～５、より好ましくはメチルエーテル化（炭素数１）したものである。
（ｉ）ポリオール化合物
　ポリオール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、分子中に２個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素、分子中に２個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素、分子中に２個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素等が用いられる。これらのポリオールは単独で用いることも、２種類以上併用することもできる。
　上記ポリエーテルポリオールとしては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールを挙げることができる。
　ここで、脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、およびトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイドとプロピレンオキサイド付加トリオール、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加テトラオール、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加ヘキサオール等のアルキレンオキサイド付加ポリオール等の多価アルコール、あるいは２種類以上のイオン重合性環状化合物を開環重合させて得られるポリエーテルポリオール等が挙げられる。
　なお、イオン重合性環状化合物としては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン－１－オキシド、イソブテンオキシド、３，３－ビス（クロロメチル）オキセタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステル等の環状エーテル類が挙げられる。上記二種類以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合わせとしては、テトラヒドロフランとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラヒドロフランと２－メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロフランと３－メチルテトラヒドロフラン、エチレンオキシドとプロピレンオキシド、ブテン－１－オキシドとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとブテン－１－オキシドとエチレンオキシド等を挙げることができる。
　また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン等の環状イミン類、β－プロピオラクトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、あるいはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルポリオールを使用することもできる。
　脂環式ポリエーテルポリオールとしては、例えば水添ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのアルキレンオキシド付加ジオール、１，４－シクロヘキサンジオールのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
　芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えばビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加ジオール、ビスフェノールＦのアルキレンオキシド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
　上記ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えば脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、ＰＴＭＧ６５０、ＰＴＭＧ１０００、ＰＴＭＧ２０００（以上、三菱化学（株）製）、ＰＰＧ１０００、ＥＸＣＥＮＯＬ１０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＣＥＮＯＬ４０２０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＥＧ１０００、ユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂（株）製）、ＰＰＴＧ１０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ４０００、ＰＴＧ４００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧＬ１０００、ＰＴＧＬ２０００（以上、保土谷化学工業（株）製）、ＰＰＧ４００、ＰＢＧ４００、Ｚ－３００１－４、Ｚ－３００１－５、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ２０００Ｂ（以上、第一工業製薬（株）製）、ＴＭＰ３０、ＰＮＴ４グリコール、ＥＤＡ　Ｐ４、ＥＤＡ　Ｐ８（以上、日本乳化剤（株）製）、クオドロール（旭電化（株）製）が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールとしてはユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００、ＤＢ４００（以上、日本油脂（株）製）等を挙げることができる。
　また、上記ポリエステルポリオールは、多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる。ここで、多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，２－ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、１，９－ノナンジオール、２－メチル－１，８－オクタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのエチレンオキシドとプロピレンオキシドの付加体、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、アルキレンオキシド付加ポリオール等が挙げられる。また、多塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。これらのポリエステルポリオールの市販品としては、クラポールＰ１０１０、クラポールＰ２０１０、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ－Ａ、ＰＫＡ－Ａ２、ＰＮＡ－２０００（以上、（株）クラレ製）等を使用することができる。
　また、上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば下記一般式（ｉ）で示されるポリカーボネートジオールが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
　一般式（ｉ）中、Ｒ1は、炭素数２～２０のアルキレン基、（ポリ）エチレングリコール残基、（ポリ）プロピレングリコール残基または（ポリ）テトラメチレングリコール残基を示し、ｍは１～３０の範囲の整数である。
　一般式（ｉ）中のＲ1の具体例としては、次の化合物から両末端水酸基を除いた残基、すなわち１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６－ヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１、７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等から水酸基を除いた残基が挙げられる。これらのポリカーボネートポリオールの市販品としては、ＤＮ－９８０、ＤＮ－９８１、ＤＮ－９８２、ＤＮ－９８３（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、ＰＣ－８０００（ＰＰＧ社製）、ＰＮＯＣ１０００、ＰＮＯＣ２０００、ＰＭＣ１００、ＰＭＣ２０００（以上、（株）クラレ製）、プラクセル　ＣＤ－２０５、ＣＤ－２０８、ＣＤ－２１０、ＣＤ－２２０、ＣＤ－２０５ＰＬ、ＣＤ－２０８ＰＬ、ＣＤ－２１０ＰＬ、ＣＤ－２２０ＰＬ、ＣＤ－２０５ＨＬ、ＣＤ－２０８ＨＬ、ＣＤ－２１０ＨＬ、ＣＤ－２２０ＨＬ、ＣＤ－２１０Ｔ、ＣＤ－２２１Ｔ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等を使用することができる。
　上記ポリカプロラクトンポリオールとしては、εーカプロラクトンを例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２－ポリブチレングリコール、１，６－ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，４－ブタンジオール等のジオールに付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。これらの市販品としては、プラクセル　２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業（株）製）等を使用することができる。
　分子中に２個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１、７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、２－メチル－１，８－オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられる。
　分子中に２個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素としては、例えば１，４－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，２－ビス（ヒドロキシエチル）シクロヘキサン、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
　分子中に２個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素としては、例えばヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端ポリイソプレン等が挙げられる。
　さらにまた、上記以外のポリオールとしては、例えばβ－メチル－δ－バレロラクトンジオール、ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。
　これらのポリオール化合物の好ましい質量平均分子量は１０００～１００００、特に好ましくは１０００～９０００である。質量平均分子量は、ポリマーの一部をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される値とする。本発明における質量平均分子量は、ポリスチレンを標準物質とした値である。
　最も好ましくは、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルであり、その数平均分子量は１００～１００００であり、好ましくは２００～５０００であり、最も好ましくは３００～１０００である。
（炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ））
　上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数２～２０のアルキレン鎖を含み、炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する。
　上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ｂ）としては、例えば、炭素数６～５０のメソゲン側鎖をそれぞれ有するポリ（メタクリレート）、ポリ（アクリレート）、ポリ（スチレン）、ビニルポリマー等が挙げられるが、炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有するポリ（（メタ）アクリレート）であることが好ましく、後述する重合性棒状液晶化合物由来のポリマー成分を含むことがより好ましい。
　なお、上記ポリマー成分（Ｂ）として、長鎖アルキル側鎖又は疎水性側鎖をそれぞれ有するポリ（メタクリレート）、ポリ（アクリレート）、ポリ（スチレン）、ビニルポリマー等をさらに含んでいてもよい。長鎖アルキル側鎖とは、炭素数が好ましくは６～２２個のアルキル側鎖を意味する。疎水性側鎖としては、例えば脂肪族側鎖等が挙げられる。
　炭素数６～５０のメソゲン側鎖は、炭素数６～４０のメソゲン側鎖であることがより好ましく、炭素数６～３０のメソゲン側鎖であることが特に好ましい。「メソゲン基」は、液晶化合物のコア部を形成し得る基を含み、メソゲン基を有する化合物の例には、液晶性化合物が含まれるとともに、メソゲン基を有するが、液晶形成をしない、即ち非液晶性化合物、も含まれる。メソゲン基についてさらに説明する。本発明において、メソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。上記メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ　Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ　ｉｎ　Ｔａｂｅｌｌｅｎ　ＩＩ」（ＶＥＢ　Ｄｅｕｔｓｃｈｅ　Ｖｅｒｌａｇ　ｆｕｒ　Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、及び、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。好ましくは、サーモトロピック液晶の残基であり、さらに好ましくは、棒状液晶及びディスコティック液晶の残基である。棒状液晶ではネマティック相及びスメクティックＡ相を示す液晶の残基がより好ましく、ディスコティック液晶ではディスコティックネマティック相を示す液晶の残基がより好ましい。
　ディスコティック液晶の残基の好ましい例には、ベンゼン、トリフェニレン、トルキセン、トリオキサトルキセン、アントラキノン、フタロシアニン又はポリフィリン、マクロサイクレン、ビス（１，３－ジケトン）銅錯体、テトラアリールビピラニリデン、テトラチアフルバレン、及びイノシトールが含まれる。
　棒状液晶の残基、即ち、棒状液晶のメソゲン基あるいはコア部と呼ばれる剛直な液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格としては、上記一般式（Ｘ）中の－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－で表される基であることが好ましい。
　これらの中でも上記メソゲン基としては、上記一般式（Ｘ）中の－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－で表される基であることが好ましく、上記－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－で表される基のより好ましい範囲は上記一般式（Ｘ）における各基の好ましい範囲と同様である。
　本発明の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の上記ポリマー成分（Ｂ）が、下記一般式（１）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 （一般式（１）中、ｍは１～５００の整数を表し、Ｌ１２は単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニンレン基、メタロセニレン基、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下の連結基を表し（Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。ただし、Ｌ１２は少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。）、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ５はオキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｍは炭素数６～５０のメソゲン基を表す。但し、ｍ個の繰り返し単位は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
　一般式（１）中、ｍは３～２００であることが好ましく、５～１５０であることがより好ましく、１０～１００であることが特に好ましい。
　一般式（１）中、Ｌ１２は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニンレン基、メタロセニレン基、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下の連結基を表し（Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。ただし、Ｌ１２は少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。一般式（１）中、Ｌ１２は好ましくはアルキレン基（炭素数２～２０、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アリーレン基（炭素数６～２６、例えばフェニレン、ナフチレン）、アルケニレン基（炭素数２～２０、例えばエテニレン、プロペニレン）、アルキニンレン基（炭素数２～２０、例えばエチニレン、プロピニレン）、メタロセニレン基（例えばフェロセン）、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基（炭素数１～２６、例えば６－クロロ－１，３，５－トリアジル－２，４－ジイル基、ピリミジン－２，４－ジイル基）を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下、好ましくは１以上２０以下の連結基を表す。
　ただし、Ｌ１２は少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む。Ｌ１２が含むアルキレン基の炭素数は３～１８であることが好ましく、４～１６であることがより好ましく、５～１５であることが特に好ましい。
　上記、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。また、Ｌ１１、Ｌ１２で表される連結基は、１つ以上複数個存在していてもよく、複数個（好ましくは２つ）が結合して環を形成してもよい。
　一般式（１）中、Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であることが汎用性の観点から好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　一般式（１）中、Ｍは炭素数６～５０のメソゲン基であることが好ましく、炭素数６～４０のメソゲン基であることがより好ましく、炭素数６～３０のメソゲン基であることが特に好ましい。
　本発明の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体の上記ポリマー成分（Ｂ）中のＭが、下記一般式（２）または一般式（３）で表される２価の連結基を含むことが好ましい。
一般式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 一般式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 （一般式（２）および（３）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に置換または無置換のアリーレン基を表す。）
　Ａｒ１およびＡｒ２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）中の上記Ｃｙ１、Ｃｙ２またはＣｙ３の好ましい範囲と同様である。
　Ｍが表すメソゲン基のより好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）中の上記－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－の好ましい範囲と同様である。
　一般式（１）中、Ｒ５はオキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、オキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基であることが好ましく、アクリレート基、メタクリレート基であることがより好ましく、アクリレート基であることが特に好ましい。
　上記ポリマー成分（Ｂ）は、疎水性モノマー成分を重合して形成されてなることが好ましい。上記疎水性モノマー成分としては特に制限はなく、公知の疎水性モノマー成分を用いることができる。上記疎水性モノマー成分は液晶性モノマーであることが、揮散性が低い観点や、後述するミクロ相分離構造膜を製造しやすい観点から好ましい。いかなる理論に拘泥するものでもないが、液晶性モノマーを用いる場合、リビング重合後の残存モノマー成分が相分離配向を促進できることができる。
　また、液晶場での重合とすることで、リビング重合の反応速度を速くすることもできる。
　上記液晶性モノマーの中でも反応性液晶化合物を用いることが好ましい。いかなる理論に拘泥するものでもないが、反応性液晶化合物を用いる場合、リビング重合後の残存モノマー成分を、後述する相分離構造を固定化する工程で架橋または重合させることによって、相分離構造を固定化しやすくすることができる。すなわち、上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ｂ）中、上記メソゲン側鎖が、上記メソゲン側鎖１本の中に少なくとも１個の反応性基を有することが好ましい。上記反応性基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｘ）中の上記Ｑ１およびＱ２が表す反応性基の好ましい範囲と同様である。
　上記液晶性モノマーの中でも棒状液晶化合物であることがより好ましい。支持体上でリビング重合する際に、残存するモノマー成分もしくはポリマー（開始剤由来のポリマーなど）がミクロ相分離構造の形成に不利に作用することが予想された。しかし特定の棒状液晶化合物を液晶性モノマーとして使用した場合には、液晶モノマーが残存し、流動性が高まるため欠陥のない綺麗なシリンダー型ミクロ相分離構造を形成することができる。
－棒状液晶化合物－
　棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
　上記棒状液晶化合物の中でも、棒状液晶化合物を重合によって配向を固定することができる重合性棒状液晶化合物であることがより好ましい。
　重合性棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.　Ｃｈｅｍ．，　１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、ＷＯ９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号、同６－１６６１６号、同７－１１０４６９号、同１１－８００８１号、および特願２００１－６４６２７号（特開２００１－３２８９７３号公報）、特開２００４－１２３５９７９号公報、Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｒｅｓｅａｃｈ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ，　２８［３］，　５５３－５５６（２００３）、特開２００８－１２７３３６号公報、特開２０１０－１１６４６３号公報などに記載の化合物、ならびに、後述の一般式（Ｘ）にて表される化合物および後述の一般式（Ｖ）で表される化合物などを用いることができる。
　また、重合性棒状液晶化合物として好ましくは、上記一般式（Ｘ）にて表される化合物および後述の一般式（Ｖ）で表される化合物であり、上記一般式（Ｘ）で表される化合物がより好ましい。
　また、棒状液晶化合物としては、下記一般式（Ｖ）で表される化合物も好ましい。
一般式（Ｖ）
　Ｍ１－（Ｌ１）ｐ－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－（Ｌ４）ｑ－Ｍ２
　一般式（Ｖ）中、Ｍ１、および、Ｍ２はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ハロゲン、－ＳＣＮ、－ＣＦ３、ニトロ基、または、Ｑ１を表すが、Ｍ１、および、Ｍ２の少なくとも一つは、Ｑ１以外の基を表す。
　ただし、Ｑ１、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｃｙ１、Ｃｙ２、Ｃｙ３およびｎは上記一般式（Ｘ）で表される基と同義である。また、ｐおよびｑは０、または１である。
　Ｍ１、および、Ｍ２が、Ｑ１を表さない場合、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、シアノ基であることが好ましく、より好ましくは、炭素数１～４のアルキル基、もしくは、フェニル基であり、ｐおよびｑは０であることが好ましい。
　なお、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物と上記一般式（Ｖ）で表される化合物を混合して用いてもよい。また、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物と、一般式（Ｖ）で表される化合物の混合物中における、上記一般式（Ｖ）で表される化合物の好ましい混合比率としては、０．１％～４０％であり、より好ましくは、１％～３０％であり、更に好ましくは、５％～２０％である。
　上記一般式（Ｖ）で表される化合物の好ましい例は、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、上記一般式（Ｖ）で表される化合物は、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物の例と共通する化合物もある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　また本発明に用いることができる反応性液晶化合物のうち二つ以上のアクリル基及びメタクリル基を有する化合物は、そのうち一つが潜在的に重合性基を内在していても構わない。すなわち以下のような化合物からＥＰ２１３０８１７記載の化学反応により反応性基を発現させることができるため、二つ以上のアクリル基及びメタクリル基を有する化合物の一方をリビング重合に用いた後に、潜在的に反応性基を内在している部分を化学反応により処理して反応性基を発生させてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
　本発明中の各一般式では上記反応性液晶化合物１及び２をなんら区別なく記載しており、本発明中では同義とみなしている。
　上記疎水性ポリマー成分（Ｂ）の重合度は、ミクロ相分離構造のサイズ制御の観点から、数平均分子量が３００～３０００００であり、３０００～１５００００であることが好ましく、最も好ましくは６０００～３００００である。
（連結基および全体構造）
　上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ａ）および上記ポリマー成分（Ｂ）が直接結合していても、連結基を介して結合していてもよい。
　上記ポリマー成分（Ａ）および上記ポリマー成分（Ｂ）の連結部は、２価の連結基を有していてもよい。上記その他の２価の連結基としては、下記に記載する官能基から水素原子を２つ除去してなる２価の連結基を表し、特に限定は無いが、好ましくはアルキレン基（炭素数１～２０、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アリーレン基（炭素数６～２６、例えばフェニレン、ナフチレン）、アルケニレン基（炭素数２～２０、例えばエテニレン、プロペニレン）、アルキニンレン基（炭素数２～２０、例えばエチニレン、プロピニレン）、メタロセニレン基（例えばフェロセン）、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基（炭素数１～２６、例えば６－クロロ－１，３，５－トリアジル－２，４－ジイル基、ピリミジン－２，４－ジイル基）を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下、好ましくは１以上２０以下の連結基を表す。上記その他の２価の連結基としては、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニル基、アルキレン基およびこれらの基の組み合わせが好ましく、オキシカルボニル基、オキシカルボニル基とアルキレン基の組み合わせがより好ましい。上記その他の２価の連結基として用いられるアルキレン基は炭素数１～３０であることが好ましく、炭素数１～１５であることがより好ましく、エチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２－）であることが特に好ましい。
（共重合割合）
　上記液晶性ブロック共重合体は、上記ポリマー成分（Ａ）および上記疎水性ポリマー成分（Ｂ）の共重合割合（数平均分子量比）は、６５：３５～１：９９であることが好ましく、５５：４５～５：９５であることがより好ましく、４５：５５～１０：９０であることが特に好ましい。
（分子量）
　上記液晶性ブロック共重合体の数平均分子量Ｍｎが３０００～１０００００であることが好ましく、３０００～５００００であることがより好ましく、３０００～３００００であることが特に好ましい。
　上記液晶性ブロック共重合体は、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎの比Ｍｗ／Ｍｎが１．３を超えることが、残存モノマーが相分離構造の欠陥を補修する点、残存マクロＲＡＦＴ剤が相分離構造のサイズを制御する点からは好ましい。
　一方、Ｍｗ／Ｍｎが１．５以下であることが、ミクロ相分離構造を安定的に形成させる観点からは好ましく、１．３以下であることがより好ましく、１．２５以下であることが特に好ましく、１．２以下であることがより特に好ましい。
　本明細書中、ブロック共重合体、ポリマー成分（Ａ）、ポリマー成分（Ｂ）などの数平均分子量Ｍｎは、以下の方法で測定した値を採用する。
　ポリマーをＴＨＦに溶解させ、東ソー製高速ＧＰＣ（ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ）を用いて行った。数平均分子量Ｍｎはポリスチレン換算で計算した。
　また、本明細書中、ブロック共重合体、ポリマー成分（Ａ）、ポリマー成分（Ｂ）などの重量平均分子量Ｍｗは、以下の方法で測定した値を採用する。
　ポリマーをＴＨＦに溶解させ、東ソー製高速ＧＰＣ（ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ）を用いて行った。重量平均分子量Ｍｗはポリスチレン換算で計算した。
（液晶性ブロック共重合体の製造方法）
　上記液晶性ブロック共重合体は、溶液中でリビング重合されてなるものでも、支持体上でリビング重合されてなるものでもよい。
　上記液晶性ブロック共重合体をリビング重合する方法としては、下記（１）および（２）の工程を、実施することがより好ましい。
（１）上記モノマー含有組成物として、親水性ポリマー成分および疎水性モノマー成分を含むモノマー含有組成物、ならびに、親水性モノマー成分および疎水性ポリマー成分を含むモノマー含有組成物のうち少なくとも一方を調製する工程
（２）上記モノマー含有組成物をリビング重合させて、親水性ポリマー成分と疎水性ポリマー成分とが共有結合にて連結されたブロック共重合体を得る工程
　ブロック共重合体の製造方法は、下記（１’）および（２）の工程を、実施することが特に好ましい。
（１’）上記モノマー含有組成物として、親水性ポリマー成分および疎水性モノマー成分を含むモノマー含有組成物を調製する工程
（２）上記モノマー含有組成物をリビング重合させて、親水性ポリマー成分と疎水性ポリマー成分とが共有結合にて連結されたブロック共重合体を得る工程
　液晶性ブロック共重合体の製造方法に用いられる支持体としては特に制限はなく、ガラス基板であっても、金属性の支持体であっても、樹脂フィルムであってもよい。
　液晶性ブロック共重合体の製造方法では、上記モノマー含有組成物中にリビング重合に供する疎水性モノマー成分または親水性モノマー成分などのモノマー成分を含む。なお、上記モノマー含有組成物は必要に応じて他の成分を含んでもよい。
　上記モノマー成分としては、親水性モノマー成分を用いても、疎水性モノマー成分を用いてもよいが、後述するミクロ相分離構造膜を製造しやすい観点から疎水性モノマー成分を用いることが好ましい。
　液晶性ブロック共重合体の製造方法において、上記モノマー含有組成物に使用できる溶媒としては、反応を阻害しないものであればいずれでも使用することができる。
　具体的には、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナンおよびデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンおよびデカヒドロナフタレンのような脂環族炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素およびテトラクロルエチレン等の塩素化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノールおよびｔｅｒｔ－ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルおよびジメチルフタレート等のエステル系溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ－ｎ－アミルエーテル、ジフェニルエーテル、テトラヒドロフランおよびアニソールのようなエーテル系溶媒、ジメチルスルホキシド、Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジオキサン等を挙げることができる。
　また、水を溶媒として、懸濁重合、乳化重合することもできる。これらの溶媒は、単独でもまたは２種以上を混合して使用してもよい。また、これらの溶媒の使用によって、反応液が均一相となることが好ましいが、不均一な複数の相となっても構わない。
　液晶性ブロック共重合体の製造方法に用いられる開始剤は特に制限はないが、液晶性ブロック共重合体の製造方法は、上記リビング重合が、ＡＴＲＰ、可逆的付加開裂連鎖移動（ＲＡＦＴと略すことがある）重合、リビングアニオン重合であることがより好ましい。
－ＲＡＦＴ剤－
　ＲＡＦＴ重合で用いられるＲＡＦＴ剤としては、特に制限はなく、公知のＲＡＦＴ剤を用いることができる。例えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、２００６、３９、４９５３．に記載のものなどを挙げることができる。
　本発明では市販のＲＡＦＴ剤を用いてもよく、例えば、低分子ＲＡＦＴ剤として４－シアノ－４－［（ドデシルスルファニル－チオカルボニル）スルファニル］ペンタノイック酸や、２－シアノ－２－プロピルベンゾジチオエート（いずれもアルドリッチ社製）などを挙げることができる。また、マクロＲＡＦＴ剤として、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（４－シアノ－４－ペンタノエート　ドデシル　トリチオカーボネートや、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（４－シアノ－４－（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル）ペンタノエート（いずれもアルドリッチ社製）などを挙げることができる。
　ＡＴＲＰの好ましい態様としては、具体的には、例えば、Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　１０１，　２９２１　（２００１）、ＷＯ９６／３０４２１号公報、ＷＯ９７／１８２４７号公報、ＷＯ９８／０１４８０号公報、ＷＯ９８／４０４１５号公報、ＷＯ００／１５６７９５号公報、あるいは澤本ら、Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　１０１，　３６８９　（２００１）、特開平８－４１１１７号公報、特開平９－２０８６１６号公報、特開２０００－２６４９１４号公報、特開２００１－３１６４１０号公報、特開２００２－８０５２３号公報、特開２００４－３０７８７２号公報などが挙げられる。
－ＡＴＲＰに用いられる開始剤－
　ＡＴＲＰに用いられる開始剤としては、特に制限はなく、例えば有機ハロゲン化物やハロゲン化スルホニル化合物が挙げられるが、特に炭素－炭素二重結合または炭素－酸素二重結合のα位に存在する炭素－ハロゲン結合、あるいは一つの炭素原子上に複数のハロゲンが付加した構造が開始剤構造として好適である。炭素－炭素二重結合のα位に存在する炭素－ハロゲン結合、あるいは一つの炭素原子上に複数のハロゲンが付加した構造を開始剤構造として利用することができる。
　ＡＴＲＰに用いられる開始剤は、ミクロ相分離構造膜を製造しやすくする観点からは、親水性ユニットを含むマクロ開始剤であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ構造を含むマクロ開始剤であることがより好ましい。
　上記ポリアルキレンオキシ構造としては特に制限はないが、アルキレンオキシ基が炭素数１～１０００のアルキレンオキシ基であることが好ましく、炭素数１０～４００のアルキレンオキシ基であることがより好ましく、エチレンオキシ基であることが特に好ましい。
　上記ポリアルキレンオキシ構造中、アルキレンオキシ構造の繰り返し単位数は特に制限はないが、１～５００であることが好ましく、３～２５０であることがより好ましく、５～２００であることが特に好ましい。
　本発明では市販のＡＴＲＰ用開始剤を用いてもよく、例えば、低分子ＡＴＲＰ用開始剤としてエチル－α－ブロモイソブチレート（アルドリッチ社製）などを挙げることができる。
　一方、マクロ開始剤であるＡＴＲＰ用開始剤は、合成により製造してもよい。マクロ開始剤であるＡＴＲＰ用開始剤としては、例えば、以下のものを用いることができるが、本発明は以下の具体例によって制限されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 （ｎ＝１７１）
　上記モノマー組成物中、上記ＡＴＲＰ用開始剤の添加量は、上記モノマー成分に対して、１～６０質量％であることが好ましく、５～５５質量％であることがより好ましく、１０～４５質量％であることが特に好ましい。
　配位子としては、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、２００６、３９、４９５３．に記載の配位子を好適に使用することができる。
　２，２’－ビピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’－ペンタメチルジエチレントリアミン、１，１，４，７，１０，１０－ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（２－ピリジルメチル）エチレンジアミン、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミンを用いることが特に好ましい。
　上記モノマー組成物中、配位子の添加量は、上記モノマー成分に対して、０．１～４０質量％であることが好ましく、０．５～２０質量％であることがより好ましく、１～１０質量％であることが特に好ましい。
－重合触媒－
　液晶性リビング重合体の製造方法は、ＡＴＲＰの重合触媒としては特に制限はない。
　ＡＴＲＰの重合触媒として用いられる遷移金属錯体としては特に限定されないが、好ましくは周期律表第７族、８族、９族、１０族、または１１族元素を中心金属とする金属錯体である。更に好ましいものとして、０価の銅、１価の銅、２価のルテニウム、２価の鉄又は２価のニッケルの錯体が挙げられる。なかでも、銅の錯体が好ましい。１価の銅化合物を具体的に例示するならば、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、過塩素酸第一銅等である。銅化合物を用いる場合、触媒活性を高めるために２，２′－ビピリジル若しくはその誘導体、１，１０－フェナントロリン若しくはその誘導体、又はテトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン若しくはヘキサメチルトリス（２－アミノエチル）アミン等のポリアミン等が配位子として添加される。また、２価の塩化ルテニウムのトリストリフェニルホスフィン錯体（ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３）も触媒として好適である。ルテニウム化合物を触媒として用いる場合は、活性化剤としてアルミニウムアルコキシド類が添加される。更に、２価の鉄のビストリフェニルホスフィン錯体（ＦｅＣｌ２（ＰＰｈ３）２）、２価のニッケルのビストリフェニルホスフィン錯体（ＮｉＣｌ２（ＰＰｈ３）２）、及び、２価のニッケルのビストリブチルホスフィン錯体（ＮｉＢｒ２（ＰＢｕ３）２）も、触媒として好適である。
　ＡＴＲＰの重合触媒として用いられる遷移金属の単体としては特に限定されないが、好ましくは周期律表第７族、８族、９族、１０族、または１１族元素の金属である。更に好ましいものとして、銅、ルテニウム、鉄又はニッケルが挙げられる。なかでも、銅が好ましい。
　液晶性ブロック共重合体の製造方法において、リビング重合ができる限りは重合条件や重合方法は特に限定されず、塊状重合、懸濁重合、乳化重合、塊状・懸濁重合などを適用することができる。
　反応温度は重合反応が進行する温度であればいずれでも構わず、所望する重合体の重合度、使用する重合開始剤および溶媒の種類や量によって一様ではないが、通常、－１００℃～２５０℃である。
　上記モノマー含有組成物をリビング重合させる工程でのリビング重合反応は場合によって減圧、常圧または加圧のいずれでも実施できる。
　また、上記重合反応は、特に開始剤が低分子開始剤であるときは窒素やアルゴン等の不活性ガスのフロー下で行うことが好ましく、窒素ガスのフロー下で行うことがより好ましい。不活性ガスのフロー条件としては特に制限はないが、例えば、０．００１～５０Ｌ／ｍｉｎとすることができる。
＜液晶性ブロック共重合体と反応性液晶化合物の混合割合＞
　本発明の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体を３０～９０質量％含有し、上記反応性液晶化合物を１０～７０質量％含有することが好ましい。
　本発明の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体を４０～８０質量％含有し、上記反応性液晶化合物を２０～６０質量％含有することがより好ましい。
　本発明の組成物は、上記液晶性ブロック共重合体を５０～８０質量％含有し、上記反応性液晶化合物を２０～５０質量％含有することがより好ましい。
　添加する反応性液晶化合物の量が上記の好ましい範囲の下限値以上である場合、欠陥を抑制でき、さらに硬化も進行しやすく、好ましい。
　逆に、反応性液晶化合物の量が上記の好ましい範囲の上限値以下である場合、ミクロ相分離の形成の際、シリンダー構造の形成を阻害しにくくなり、好ましい。
＜溶媒＞
　本発明の組成物が含んでいてもよい溶媒としては、上記液晶性ブロック共重合体の製造方法において、上記モノマー含有組成物に使用できる溶媒と同様のものを挙げることができる。
＜開始剤＞
　本発明の組成物は、さらに開始剤を含むことが好ましい。
　ラジカル重合開始剤は、熱重合開始剤であるものを用いることが好ましい。
（ラジカル重合開始剤）
　ラジカル重合開始剤としては市販のラジカル重合開始剤を用いることが可能である。和光純薬製Ｖ－７０、Ｖ－６０（ＡＩＢＮ）、Ｖ－４０、Ｖ－６５、Ｖ－６０１、Ｖ－５９、Ｖ－３０、Ｖ－５０１などが好ましく、ＡＩＢＮを用いることが特に好ましい。
　本発明の組成物中、ラジカル重合開始剤の添加量は、上記モノマー成分に対して、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～５質量％であることがより好ましく、０．２～１質量％であることが特に好ましい。
（光重合開始剤）
　本発明の組成物を用いてミクロ相分離構造膜を形成する場合は、上記モノマー成分として上記反応性液晶化合物を用いて、さらに光重合開始剤を添加することが好ましい。ミクロ相分離構造膜を形成するときに、上記反応性液晶化合物と光重合開始剤を併用することで、相分離構造を容易に固定することができる。上記光重合開始剤としては、特に制限はなく、市販の光重合開始剤を用いることができる。
　上記光重合開始剤としては、例えば、以下のものを用いることができるが、本発明は以下の具体例によって制限されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
　本発明の組成物中、上記光重合開始剤の添加量は、上記モノマー成分に対して、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～５質量％であることがより好ましく、０．２～１質量％であることが特に好ましい。
＜その他の添加剤＞
　本発明の組成物には、その他の添加剤を添加してもよい。その他の添加剤としては、例えば、液晶便覧、液晶便覧編集委員会編、丸善株式会社に記載されているような上記反応性液晶化合物（重合性棒状液晶化合物）に併用することができる添加剤などを挙げることができる。
＜用途＞
　本発明の組成物の用途としては特に制限はないが、本発明の組成物はミクロ相分離構造膜の形成用の組成物であることが好ましい。
　本発明の組成物を機能材料として用いるためには、液晶性ブロック共重合体反応混合物を一旦取り出し精製した後に、本発明の組成物を調製し、この組成物を基材（または支持体）に塗布して相分離構造を形成させるのが一般的である。
［ミクロ相分離構造膜の製造方法］
＜ミクロ相分離構造を形成する工程＞
　本発明の第一の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法は、（３）本発明の組成物を上記支持体上で外部刺激により、ミクロ相分離構造を形成する工程を含むことを特徴とする。ミクロ相分離構造を形成するための、本発明の組成物への外部刺激の方法としては、熱・光・溶媒蒸気・電場（電圧）により相分離を促進するなどの方法を挙げることができ、加熱により相分離を促進する方法が好ましい。
　本発明の第二の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法は、（３’－１）上記液晶性ブロック共重合体を溶解可能な溶媒に溶解された本発明の組成物を調製する工程と、（３’－２）本発明の組成物を支持体表面に塗布する工程と、（３’－３）上記溶媒を蒸発させて上記本発明の組成物のミクロ相分離構造膜を形成する工程を有することを特徴とする。
　以下、第一の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法および第二の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法について、順に説明する。
　なお、本発明の組成物を上記支持体上に適用する工程の前に、上記支持体への表面修飾やガイドなど（ラビングなど）を行っても、行わなくてもよいが、製造コストおよび工程の短縮化の観点から、行わないことが好ましい。本発明の組成物は、支持体への表面修飾やガイドなしで、後述のミクロ相分離構造を形成することができ、支持体への表面修飾やガイドなしでも欠陥のない綺麗なシリンダー型ミクロ相分離構造を形成することができる。
－第一の態様－
（反応時間）
　本発明の第一の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記（３）本発明の組成物を上記支持体上で加熱して、ミクロ相分離構造を形成する工程の時間は、５～１０００秒であることが好ましく、１０～８００秒であることがより好ましく、３０～６００秒であることが特に好ましい。
（反応温度）
　本発明の第一の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記（３）本発明の組成物を上記支持体上で加熱して、ミクロ相分離構造を形成する工程の加熱開始温度が４０～２５０℃であることが好ましく、より好ましくは５０℃～２００℃であり、更に好ましくは６０℃～１９０℃である。
　上記（３）工程における加熱方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができ、例えば上記支持体をホットプレート上に載せて、上記モノマー含有組成物を上記支持体ごと加熱する方法などを挙げることができる。
　なお、加熱開始後は、最終的に後述する（４）工程の開始温度（活性放射線の照射温度）まで降温することが好ましい。加熱開始後からＵＶ照射温度までの降温速度は、１～１００℃／分であることが好ましく、５～８０℃／分であることがより好ましく、１０～５０℃／分であることが特に好ましい。
－第二の態様－
　本発明の第二の態様のミクロ相分離構造膜の製造方法は、（３’－１）上記液晶性ブロック共重合体を溶解可能な溶媒に溶解された本発明の組成物を調製する工程と、（３’－２）本発明の組成物を支持体表面に塗布する工程と、（３’－３）上記溶媒を蒸発させて本発明の組成物のミクロ相分離構造膜を形成する工程を有する。
　上記（３’－１）上記液晶性ブロック共重合体を溶解可能な溶媒に溶解された本発明の組成物を調製する工程としては特に制限はなく、支持体上でリビング重合して得られたブロック共重合体を用いて溶媒に溶解させてもよく、溶液中でリビング重合して得られたブロック共重合体を用いて、上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物と混合して、本発明の組成物を調製してもよい。上記液晶性ブロック共重合体を溶解可能な溶媒としては特に制限はないが、上記液晶性ブロック共重合体の製造方法において用いられる溶媒の内、上記液晶性ブロック共重合体を溶解可能な溶媒を用いることができる。その中でも、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、キシレンがより好ましい。
　溶液中でのリビング重合については、特開２００４－１２４０８８号公報、特開２０１０－２７５３４９号公報、特開２０１０－１１６４６３号公報、特開２０１０－１１６４６６号公報などに記載の方法を用いることができる。上記液晶性ブロック共重合体を溶液中でのリビング重合により製造する場合は、オイルバスなどを用いて反応温度を例えば４０～３００℃とし、溶液中でリビング重合させる時間を例えば５～２０時間とし、不活性ガスのフロー下で行うことが好ましい。
　上記（３’－２）本発明の組成物を支持体表面に塗布する工程としては特に制限はなく、上記支持体上で上記モノマー含有組成物をリビング重合させる工程における塗布方法と同様の方法や、特開２００４－１２４０８８号公報、特開２０１０－２７５３４９号公報、特開２０１０－１１６４６３号公報、特開２０１０－１１６４６６号公報などに記載の方法を用いることができる。
　また、溶液中でリビング重合して得られたブロック共重合体反応混合物を溶液中から一旦取り出し精製してから、あらためて上記一般式（Ｘ）で表される反応性液晶化合物と混合して、本発明の組成物を塗布液として調製してもよい。
　上記（３’－３）上記溶媒を蒸発させて本発明の組成物のミクロ相分離構造膜を形成する工程としては特に制限はなく、特開２００４－１２４０８８号公報、特開２０１０－２７５３４９号公報、特開２０１０－１１６４６３号公報、特開２０１０－１１６４６６号公報などに記載の方法を用いることができる。
＜ミクロ相分離構造を固定化させる工程＞
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法は、さらに（４）上記ミクロ相分離構造を有する本発明の組成物を上記支持体上で架橋または重合させてミクロ相分離構造を固定化させる工程を含むことが好ましい。
　上記ミクロ相分離構造を有する本発明の組成物を上記支持体上で架橋または重合させてミクロ相分離構造を固定化させる工程の方法としては特に制限はないが、上記ミクロ相分離構造を有する本発明の組成物への活性放射線の照射であることが好ましく、ＵＶ照射であることがより好ましい。
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程が、上記ミクロ相分離構造膜に３００ｎｍ以下の波長をカットしながらＵＶを照射し、構造を固定化する工程であることが、メソゲン基のエステル結合に悪影響を与えないようにしつつ、開始剤を分解させ反応性液晶化合物を重合させて、ミクロ相分離構造（のシリンダー構造）を固定できる観点から好ましい。上記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程において、照射するＵＶのうちカットする波長は３４０ｎｍ以下とすることがより好ましい。
（活性放射線の照射）
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法は、（４）上記ミクロ相分離構造を有する本発明の組成物を上記支持体上で架橋または重合させてミクロ相分離構造を固定化させる工程の活性放射線の照射温度は、４０～２００℃であることが好ましく、より好ましくは５０℃～２００℃であり、更に好ましくは６０℃～２００℃である。
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記活性放射線の照射が、５０～２０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、２００～１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが特に好ましい。
　上記（４）工程における活性放射線の照射装置としては特に制限はなく、公知の装置を用いることができ、例えばＨＯＹＡ社製　ＥＸＥＣＵＲＥ３０００などを挙げることができる。
　なお、活性放射線の照射後は、最終的に室温まで放冷してミクロ相分離構造膜を得ることが好ましい。
＜ミクロ相分離構造膜を剥ぎ取る工程＞
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法は、上記ミクロ相分離構造膜を、上記支持体から剥ぎ取る工程を含むことが好ましい。
　上記ミクロ相分離構造膜を、上記支持体から剥ぎ取る方法としては特に制限はない。
［ミクロ相分離構造膜］
　本発明のミクロ相分離構造膜は、本発明の組成物またはその架橋重合体を含有すること、あるいは、本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法で製造されたことを特徴とする。ここで、本明細書中、原子間力顕微鏡（ＡＦＭとも言う）で観察した場合に、ラメラ構造やシリンダー構造が確認できたときは「ミクロ相分離構造」を有していることとみなす。このような本発明のミクロ相分離構造膜は、保存安定性が良好である。
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法で得られるミクロ相分離構造膜は、基板上に形成されるが、基板から剥離して用いてもよい。
　上記ミクロ相分離構造膜の厚みが、１～２０００ｎｍであることが好ましい。用途によって上記ミクロ相分離構造膜のより好ましい厚みは異なるが、例えば１～５００ｎｍであることがより好ましい。
　上記ミクロ相分離構造膜は、シリンダー型ミクロ相分離構造膜であることが好ましい。シリンダー型ミクロ相分離構造膜とは、上記親水性ポリマー成分が固定されたシリンダーが、面内に多数並んでいる膜のことを言い、各シリンダーは等間隔で整列していることが好ましい。各シリンダーの高さは、１～２０００ｎｍであることが好ましく、１～５００ｎｍであることがより好ましい。各シリンダーの直径は、１～１０００ｎｍであることが好ましく、１～２００ｎｍであることがより好ましい。
（用途）
　本発明のミクロ相分離構造膜の製造方法で得られるミクロ相分離構造膜は、光・電子機能材料（例えば輝度向上膜）、エネルギー関連材料、表面修飾材料、パターンドメディアのような高密度記録材料、種々のナノフィルター（透過膜、限外ろ過膜、ナノリアクター）、異方性イオン伝導膜、異方性導電膜、等として有用な配向の制御されたブロック共重合体からなるミクロ相分離構造膜である。
　このようなミクロ相分離構造膜は、シリンダー構造部分を除去することにより、多孔質構造体として用いることもできる。ミクロ相分離構造膜から得られる多孔質構造体は、燃料電池用高分子電解質、イオン交換樹脂、マイクロリアクター用薄膜、蛋白質の分離膜、有機ゼオライトや種々のピラー用高配向用テンプレートなどの異方性イオン伝導材料として利用できる。
　このようなミクロ相分離構造膜は、シリンダー構造部分を除去して、別の物質を導入することもできる。
　以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
　まず、各実施例および比較例で使用した材料およびその調製方法を以下に示す。
　ここで本明細書中、Ｍｗとは重量平均分子量を、Ｍｎとは数平均分子量を表す。
＜親水性マクロ開始剤Ｉ－１の合成方法＞
（親水性マクロ開始剤Ｉ－１）
　市販のポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（Ｍｎ５０００、アルドリッチ社製）３０ｇ、Ｎ，Ｎ’－ジメチルアミノピリジン０．８１ｇを塩化メチレン１８０ｍｌに溶解させ、２－ブロモイソラクサンブロミド（東京化成社製）１．５２ｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解させた後に室温で滴下し、４０℃で加熱環流して４８時間攪拌した。
　１規定の塩酸水溶液、０．５規定の炭酸水素ナトリウム水溶液、１規定の塩酸水溶液の順番に分液操作を施し、硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエーテルで再結晶した。
　目的とするＡＴＲＰ親水性マクロ開始剤Ｉ－１を２２ｇ（分子量Ｍｗ８０００、Ｍｎ７７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０４：ＧＰＣポリスチレン換算）を得た。
親水性マクロ開始剤Ｉ－１（ＡＴＲＰ用）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 （ＧＰＣからｎ＝１７１と計算できる）
＜液晶性モノマーＭ－１～Ｍ－３の合成方法＞
（モノマー合成例）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
　以下に記載の合成法に従い、液晶性モノマーＭ－１～Ｍ－３を合成した。
　代表例として、液晶性モノマーＭ－１の合成スキームを以下に示した。液晶性モノマーＭ－２およびＭ－３も類似の方法で、合成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
　１１－ブロモウンデカノール（５８ｍｍｏｌ，　１５ｇ）のジメチルアセトアミド（以下、ＤＭＡｃ）溶液（２０ｍｌ）に、４－ヒドロキシ安息香酸エチル（５８ｍｍｏｌ，　１０ｇ）と炭酸カリウム（１２６ｍｍｏｌ，　１７．４ｇ）を加え、１００℃で２．５時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、水（１００ｍｌ）を加え、固体を吸引濾過した。水でかけ洗いし、粗体ｃ－１を得た。
　粗体ｃ－１に、水酸化カリウム（２００ｍｍｏｌ，　１１ｇ）の水溶液（１００ｍｌ）を加え、１１０℃で３．５時間撹拌した。その後、室温まで冷却後、ｐＨ＝１になるまで塩酸を加え、固体を吸引濾過し、水で洗浄した。アセトニトリル（以下、ＡＲ （１５０ｍｌ））を加え、１００℃で加熱しながら１５分間撹拌した後、室温まで冷却した。固体を吸引濾過し、白色固体ｃ－２を１５ｇ（２ステップ収率８２％）得た。
　ｃ－２（４８ｍｍｏｌ，　１５ｇ）のＤＭＡｃ溶液（１００ｍｌ）に、メタクリル酸クロリド（７１．６ｍｍｏｌ，　７．５ｇ）を滴下し、室温で、５時間撹拌した。その後、０℃下、水（２００ｍｌ）を加え、固体を吸引濾過し、ＡＲ（１００ｍｌ）を加え、撹拌・洗浄した後、吸引濾過し、白色の固体ｃ－３を１１ｇ（収率６４％）得た。
　０℃下、ｃ－３（３０ｍｍｏｌ，　１１ｇ）のアセトン溶液（１００ｍｌ）に、ニトロベンゼンを数滴加えた後、メタンスルホン酸クロリド（３３ｍｍｏｌ，　３．８ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＰＥＡ（３５ｍｍｏｌ，　４．５ｇ））を滴下し、１時間撹拌した。その後、４－ブチルフェノール（３３ｍｍｏｌ，　５ｇ）を滴下し、ジブチルヒドロキシトルエン（以下、ＢＨＴ（１さじ））とＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（以下、ＤＭＡＰ（１さじ））を加え、ＤＩＰＥＡ（３５ｍｍｏｌ，　４．５ｇ））を滴下し、室温で４時間撹拌した。水（５０ｍｌ）を加え、０℃で冷却しながら３０分撹拌し、固体を吸引濾過した。ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１でカラムクロマトグラフィーにより精製し、減圧濃縮後、メタノールを加え、固体を吸引濾過することで、Ｍ－１を９ｇ（収率５９％）得た。
＜液晶性モノマーＭ－４の合成方法＞
　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　４４　（２０１１）　７６４５に記載の合成方法により液晶性モノマーＭ－４を合成した。液晶性モノマーＭ－４の合成手順の詳細を以下に示した。
液晶性モノマーＭ－４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　１１－ブロモウンデカノール（８０ｍｍｏｌ，　２０ｇ）のＤＭＡｃ溶液（５０ｍｌ）に、４－ヒドロキシベンズアルデヒド（８０ｍｍｏｌ，　１０ｇ）と炭酸カリウム（１７２ｍｍｏｌ，　２３．８ｇ）を加え、９０℃で３．５時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、水（２５０ｍｌ）を加え、固体を吸引濾過した。ＴＨＦ（５００ｍｌ）に溶解させた後、硫酸マグネシウムで乾燥・濾過し、濾液を減圧濃縮した。ヘキサン（３００ｍｌ）を加え、析出した固体を減圧濾過で回収し、白色固体ｂ－１を２１ｇ（収率８８％）得た。
　４－ブチルベンズアルデヒド（６２ｍｍｏｌ，　１０ｇ）のＴＨＦ溶液（１００ｍｌ）に、水素化ホウ素ナトリウム（７４ｍｍｏｌ，　２．８ｇ）を６回に分けて加え、室温で３時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチル（１００ｍｌ）で希釈し、水（１００ｍｌ）で分液した後、硫酸マグネシウムで乾燥・濾過し、濾液を減圧濃縮することで、無色の液体ｂ－２を１２ｇ（収率＞９９％）得た。
　－４０℃下、ｂ－２（６２ｍｍｏｌ，　１２ｇ）の塩化メチレン溶液（５０ｍｌ）に、三臭化リン（１Ｍ塩化メチレン溶液，　６２ｍｍｏｌ，　６２ｍｌ）を滴下した。０℃にて、３０分撹拌後、炭酸水素ナトリウム（０．５Ｎ）・ブラインで分液した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥・濾過し、濾液を減圧濃縮した。ヘキサンカラムで精製し、無色の液体ｂ－３を１１ｇ（収率８３％）得た。
　ｂ－３（５０ｍｍｏｌ，　１１ｇ）のトルエン溶液（５０ｍｌ）に、トリフェニルホスフィン（６０ｍｍｏｌ，　１６ｇ）を加え、１２０℃で２．５時間撹拌した。固体を吸引濾過し、トルエンで洗浄し、白色固体ｂ－４を２２ｇ（収率９０％）得た。
　０℃下、ｂ－１（４４ｍｍｏｌ，　１３ｇ）とｂ－４（４４ｍｍｏｌ，　２２ｇ）のＴＨＦ溶液（２００ｍｌ）に、ｔ－ブトキシカリウム（９０ｍｍｏｌ，　１０ｇ）を加え、室温で、３．５時間撹拌した。その後、０℃下で、メタノール（５０ｍｌ）を添加し、酢酸エチルで希釈した。ブラインで分液した後、硫酸マグネシウムで乾燥・濾過し、濾液を減圧濃縮した。粗生成物をヘキサン／酢酸エチル＝３／１でカラムクロマトグラフィーにより精製することで、ｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物のｂ－５を得た。室温で、ヘキサンを加え、固体を吸引濾過することで、白色の固体ｔｒａｎｓ－ｂ－５を０．５ｇ（収率３％）得た。
　ｔｒａｎｓ－ｂ－５（１．１ｍｍｏｌ，　０．５ｇ）のＤＭＡｃ溶液（２０ｍｌ）に、メタクリル酸クロリド（２ｍｍｏｌ，　０．２ｍｌ）を滴下し、室温で、２３時間撹拌した。その後、０℃下、水（５０ｍｌ）を加え、固体を吸引濾過し、メタノールで洗浄することで、白色の固体Ｍ－４を０．６ｇ（収率８６％）得た。
＜液晶性モノマーＭ－５の合成方法＞
　特開２００８－１２７３３６号公報に記載の合成法により液晶性モノマーＭ－５を合成した。
液晶性モノマーＭ－５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
＜液晶性モノマーＭ－６の合成方法＞
　特開２００８－１２７３３６号公報の実施例４に記載の合成法において、用いるカルボン酸化合物１０の置換基の鎖長を変更した以外は同様の合成法により液晶性モノマーＭ－６を合成した。
液晶性モノマーＭ－６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
＜液晶性モノマーＭ－７の合成方法＞
　特開２０１０－１１６４６３号公報に記載の合成法に基づいて、液晶性モノマーＭ－７を合成した。
液晶性モノマーＭ－７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
＜液晶性モノマーＭ－８の合成方法＞
　以下に記載の合成法に従い、液晶性モノマーＭ－８を合成した。
液晶性モノマーＭ－８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
　メタンスルホニルクロリド（３３．０ｍｍｏｌ,２．６ｍＬ）のＴＨＦ溶液（１７ｍＬ）にヒドロキノンモノメチルエーテル（３７ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、ａ－１（３１．５ｍｍｏｌ，８．３３ｇ）とＤＩＰＥＡ（３３．０ｍｍｏｌ,５．７５ｍＬ）のＴＨＦ溶液（１６ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、ＤＩＰＥＡ（３３．０ｍｍｏｌ,５．７５ｍＬ)、ｂ－１のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）、ＤＭＡＰ（スパチュラ一杯）を加えた。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去しｃ－１の粗生成物を得た。
　アルデヒドｃ－１のアセトニトリル溶液（６７ｍＬ）に対し、亜塩素酸ナトリウム（４２．０ｍｍｏｌ，３．８０ｇ）の水溶液（３２ｍＬ）、リン酸二水素ナトリウム二水和物（６．０ｍｍｏｌ，０．９４ｇ）の水溶液（８．２ｍＬ）、過酸化水素水（４．０ｍＬ）を加え、室温で１２時間撹拌した。１Ｎ　塩酸水溶液を１００ｍＬ加えた後に、ろ過した。残渣をメタノールで少量のＡＲで洗浄することにより、カルボン酸ｄ－１を定量的に得た。
　メタンスルホニルクロリド（６．０ｍｍｏｌ，０．４６ｍＬ）のＴＨＦ溶液（３ｍＬ）にヒドロキノンモノメチルエーテル（７ｍｇ）を加え、内温を－５℃まで冷却した。そこに、カルボン酸ｄ－１（５．５　ｍｍｏｌ，２．１ｇ）とＤＩＰＥＡ（６．０ｍｍｏｌ，１．１ｍＬ）のＴＨＦ溶液（６ｍＬ）を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。－５℃で３０分撹拌した後、ＤＩＰＥＡ（６．０ｍｍｏｌ，１．１ｍＬ）、４－エチルフェノールであるｅ－１（５．０ｍｍｏｌ,０．８２ｇ）のＴＨＦ溶液（４ｍＬ）、ＤＭＡＰ（スパチュラ一杯）を加えた。その後、室温で２時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去しモノマーＭ－８の粗生成物を得た。酢酸エチルとメタノールで再結晶を行い、モノマーＭ－８を７８％の収率で得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．２（ｔ，３Ｈ）、１．８－２．０（ｍ，４Ｈ）,　２．６（ｄ，２Ｈ），　４．１－４．３（ｍ，４Ｈ）,　５．８（ｄ，１Ｈ）,　６．１（ｄｄ，１Ｈ），　６．４（ｄ，１Ｈ）,　６．９－７．０（ｍ，２Ｈ）,　７．１－７．２（ｍ，２Ｈ），　７．２－７．３（ｍ，２Ｈ），　７．３－７．４（ｍ，２Ｈ）,　８．１－８．２（ｍ，２Ｈ）,　８．２－８．３（ｍ，２Ｈ）
＜液晶性モノマーＭ－９の合成方法＞
　Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｒｅｓｅａｃｈ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ，　２８［３］，　５５３－５５６（２００３）に記載の合成方法により液晶性モノマーＭ－９を合成した。
液晶性モノマーＭ－９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－１の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、液晶性モノマーＭ－１（１．０１７４ｇ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’－ペンタメチルジエチレントリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・７時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－１を０．３ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ４６５００、Ｍｎ３４２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３６であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－１’の合成方法＞
　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－１（０．７６３０ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・３時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－１’を０．２ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ３２５００、Ｍｎ２６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－２の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－２（０．５６４８ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・７時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－２を０．０５ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ２４６００、Ｍｎ１９５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２６であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－３の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－３（０．６２０９ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・７時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－３を０．０６ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ２３４００、Ｍｎ１９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２３であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－４の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－４（０．４９０７ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・３時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－４を０．１ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ、Ｍｎ、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２２であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－５の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－５（０．６７６７ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をキシレン５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・１２時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－５を０．３ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ１７９００、Ｍｎ１４４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２４であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－６の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 　親水性マクロ開始剤Ａ－３（０．１０３ｇ）、液晶性モノマーＢ－３（０．６５８ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・１２時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、ヘキサン２００ｍｌに反応溶液を添加して、濾過した。さらに得られたポリマーをヘキサン／酢酸エチル＝２０ｍｌ／３０ｍｌに懸濁して、１時間後に濾過した。ブロック共重合体Ａ－６を０．４５ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ２６８００、Ｍｎ２０５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３１であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－７の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－７（０．７７２９ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・３時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－７を０．０４ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ２４７００、Ｍｎ２２３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１１であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－８の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－８（０．４８８５ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をキシレン５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・３時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－８を０．０５ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ１８７００、Ｍｎ１５５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２１であった。
＜液晶性ブロック共重合体Ａ－９の合成方法＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 　親水性マクロ開始剤Ｉ－１（０．１０３２ｇ）、モノマーＭ－９（０．４９２ｇ）、ＰＭＤＥＴＡ（０．０２０８ｇ）、臭化銅(Ｉ)（０．０１７２ｇ）をアニソール５ｍｌに溶解させた。窒素フローを開始し、オイルバス８０℃・７時間加熱攪拌した。その後、室温まで放冷し、アルミナ処理した後にＴＨＦ２００ｍｌにて洗浄し、濾過・濃縮した。さらに得られたポリマーをヘキサン２５０ｍｌに懸濁・濾過して、液晶性ブロック共重合体Ａ－９を０．０７ｇ得た。ＧＰＣの分析結果からＭｗ２２５００、Ｍｎ１９９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１３であった。
＜反応性液晶化合物の調製＞
　特開２０１０－８４０３２号公報、特開２００９－２８６９７６号公報、特開２００９－１８６７８５号公報、特開２００９－１８４９７４号公報および特開２００９－８６２６０号公報に記載の反応性液晶化合物Ｂ－１と、特表２００１－５２１５３８のｐ８５に記載の反応性液晶化合物Ｂ－１をこれらの公報にしたがって調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
　また、以下の反応性液晶化合物Ｂ－３～Ｂ－７として、上記にて合成した液晶性モノマーＭ－９、Ｍ－８、Ｍ－５～Ｍ－７をそれぞれ用いた。
　反応性液晶化合物Ｂ－８は、特開平７－３０６３１７号公報に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　また、比較例で用いる低分子液晶化合物として、下記構造の低分子液晶化合物Ｃ－１をＳＩＧＭＡ－ＡＬＤＲＩＣＨから購入することによって入手した。
低分子液晶化合物Ｃ－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
［実施例１、比較例１］
＜組成物（塗布溶液）の調製＞
　液晶性ブロック共重合体Ａ－１（３７．５ｍｇ）、反応性液晶化合物Ｂ－１（１２．５ｍｇ）、下記構造の開始剤Ｄ－１（１ｍｇ）を秤量し、トルエン９５０μＬに溶解させた後に、フィルター（マイレクストＦＨ　０．４５μｍ、φ１３ｍｍ、シリンジ２ｍｌ）濾過して塗布溶液Ｙ－１を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１を、実施例１の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例１と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１の組成物とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
＜ガラス基板上でのミクロ相分離構造膜の製造・欠陥抑制評価・ＡＦＭ観察＞
（スピンコート）
　ガラス基板上（２Ｘ２．５ｃｍ角）に上記にてそれぞれ調製した実施例１および比較例１の組成物（塗布溶液）をエッペンドルフを用いて３５μｌ塗布して、スピンコーター（ＭＩＫＡＳＡ社製　ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ１Ｈ－Ｄ７）を用いて１５００回転／分、３０秒間回転させてスピンコートした。
　上記ガラス基板を、下記条件にてホットプレート（ＰＭＣ社製　ＤＡＴＡＰＬＡＴＥ）上で、１４０℃で１分間保持した後、１４０℃からＵＶ照射温度８０℃まで－１０℃／分で降温させて、ＵＶ照射温度で１分間保持した後、ＵＶ照射装置（ＨＯＹＡ社製　ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）にて３５０ｍＪ／ｃｍ２のＵＶを３４０ｎｍ以下の波長をカットしながら照射し、構造を固定化した。得られた塗布膜を、実施例１および比較例１のミクロ相分離構造膜Ａとした。
（欠陥抑制評価）
　以下の方法および評価基準にしたがって、実施例１および比較例１のミクロ相分離構造膜ＡのＡＦＭ観察での欠陥抑制の評価を行った。そのうち、実施例１のミクロ相分離構造膜Ａの評価結果のみを、下記表１にまとめた。
　上記アニール処理後のガラス基板表面を、ＡＦＭにて位相像を観察した。
　欠陥抑制では、ＡＦＭにて５００ｎｍ×５００ｎｍの位相像を観察した。反応性液晶化合物の添加前後で、最大のグレインサイズが視野面積の３０％以上変化した場合はＡ、１０％以上変化した場合はＢ、５％以上変化した場合はＣ、５％未満はＤとした。
（ＡＦＭ観察）
　上記アニール処理後のガラス基板表面を、ＡＦＭにて相分離構造の位相像を観察した。
　比較例１のミクロ相分離構造膜Ａ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１のみ（反応性液晶化合物添加前）の比較例１の組成物を使用）のＡＦＭ（位相）像を図１に示した。
　実施例１のミクロ相分離構造膜Ａ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１＋反応性液晶化合物Ｂ－１添加後（２５ｗｔ％）の実施例１の組成物を使用）のＡＦＭ（位相）像を図２に示した。
＜ガラス基板上でのミクロ相分離構造膜の製造・固定化評価＞
（Ｒｔｈ測定・膜厚測定）
　欠陥抑制評価に用いた実施例１および比較例１のミクロ相分離構造膜Ａについて、シリンダー構造固定化の確認方法として、ミューラーマトリックスでのＲｔｈ測定を実施した。硬化させたサンプルを、ミューラーマトリックスポラリメーター（アクソメトリックス社製）にて波長５５０ｎｍでＵＶ照射前後でのＲｔｈを測定した。さらに、干渉膜厚計（ＢＷ－Ａ５０１－ＬＶ１５０／ＧＳ、株式会社ニコン社製）にて、サンプルの膜厚を算出した。その後、膜厚１００ｎｍあたりのＲｔｈの値を算出した。
　固定化では、ＵＶ照射前後でＲｔｈの変化が５％以内の場合はＡ、１０％以内の場合はＢ、１５％以内の場合はＣ、１５％以上の場合はＤとした。
　そのうち、実施例１のミクロ相分離構造膜Ａの評価結果のみを、下記表１にまとめた。
＜ＰＥＴ基板上でのミクロ相分離構造膜の製造・断面ＴＥＭ観察＞
　実施例１および比較例１の組成物をそれぞれガラス基板上にスピンコートする代わりに、ＰＥＴ基板（コスモシャインＡ４１００、東洋紡社製）にスピンコートした以外はガラス基板上でのブロック共重合体の製造と同様にして、ＰＥＴ基板上にミクロ相分離構造膜を形成した。ＰＥＴ基板上に作製したサンプルを、実施例１および比較例１のミクロ相分離構造膜Ｂとした。ミクロトーム切削した断面をオスミウムで染色した後、ＴＥＭ観察にて断面構造を観察した。
　断面ＴＥＭ観察にてシリンダー構造が確認できたものはＡ、確認できないものはＤとした。
　そのうち、実施例１のミクロ相分離構造膜Ｂの評価結果のみを、下記表１にまとめた。
［実施例２、比較例２］
　液晶性ブロック共重合体Ａ－１’（２２．５ｍｇ）、反応性液晶化合物Ｂ－１（７．５ｍｇ）、開始剤Ｄ－１（１．２ｍｇ）を秤量し、トルエン９７０μＬに溶解させた後に、フィルター（マイレクストＦＨ　０．４５μｍ、φ１３ｍｍ、シリンジ２ｍｌ）濾過して塗布溶液Ｙ－２を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－２を、実施例２の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例２と同様にして調製した塗布溶液を、比較例２の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例２および比較例２の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例２および比較例２のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
　比較例２のミクロ相分離構造膜Ａ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１’のみ（反応性液晶化合物添加前）の比較例２の組成物を使用）のＡＦＭ（位相）像を図３に示した。
　実施例２のミクロ相分離構造膜Ａ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１’＋反応性液晶化合物Ｂ－１（２５ｗｔ％）添加、ＵＶ（３４０ｎｍ以下カット）照射後の実施例２の組成物を使用）のＡＦＭ（位相）像を図４に示した。
　さらに実施例２のミクロ相分離構造膜Ｂ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１’＋反応性液晶化合物Ｂ－１（２５ｗｔ％）添加、ＵＶ（３４０ｎｍ以下カット）照射後の実施例２の組成物を使用）断面ＴＥＭ観察を行った結果を図５に示した。
［実施例３、比較例３］
　液晶性ブロック共重合体Ａ－１’（１８ｍｇ）、反応性液晶化合物Ｂ－１（１２ｍｇ）、開始剤Ｄ－１（１．２ｍｇ）を秤量し、トルエン９７０μＬに溶解させた後に、フィルター（マイレクストＦＨ　０．４５μｍ、φ１３ｍｍ、シリンジ２ｍｌ）濾過して塗布溶液Ｙ－３を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－３を、実施例３の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例３と同様にして調製した塗布溶液を、比較例３の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例３および比較例３の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例３および比較例３のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例４、比較例４］
液晶性ブロック共重合体Ａ－１’（１５ｍｇ）、反応性液晶化合物Ｂ－１（１５ｍｇ）、開始剤Ｄ－１（１．２ｍｇ）を秤量し、トルエン９７０μＬに溶解させた後に、フィルター（マイレクストＦＨ　０．４５μｍ、φ１３ｍｍ、シリンジ２ｍｌ）濾過して塗布溶液Ｙ－４を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－４を、実施例４の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例４と同様にして調製した塗布溶液を、比較例４の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例４および比較例４の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例４および比較例４のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例５、比較例５］
　実施例２のＢ－１をＢ－２に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－５を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－５を、実施例５の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－２を添加しない以外は実施例５と同様にして調製した塗布溶液を、比較例５の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例５および比較例５の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例５および比較例５のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例６、比較例６］
　実施例２のＢ－１をＢ－３に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－６を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－６を、実施例６の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－３を添加しない以外は実施例６と同様にして調製した塗布溶液を、比較例６の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例６および比較例６の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例６および比較例６のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例７、比較例７］
　実施例２のＢ－１をＢ－４に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－７を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－７を、実施例７の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－４を添加しない以外は実施例７と同様にして調製した塗布溶液を、比較例７の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例７および比較例７の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例７および比較例７のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例８、比較例８］
　実施例２のＢ－１をＢ－５に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－８を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－８を、実施例８の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－５を添加しない以外は実施例８と同様にして調製した塗布溶液を、比較例８の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例８および比較例８の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例８および比較例８のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例９、比較例９］
　実施例２のＢ－１をＢ－６に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－９を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－９を、実施例９の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－６を添加しない以外は実施例９と同様にして調製した塗布溶液を、比較例９の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例９および比較例９の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例９および比較例９のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１０、比較例１０］
　実施例２のＢ－１をＢ－７に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－１０を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１０を、実施例１０の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－７を添加しない以外は実施例１０と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１０の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例１０および比較例１０の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例１０および比較例１０のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１１、比較例１１］
　実施例２のＡ－１’をＡ－２に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－１１を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１１を、実施例１１の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例１１と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１１の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例１１および比較例１１の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例１１および比較例１１のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１２、比較例１２］
　実施例２のＡ－１’をＡ－５に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－１２を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１２を、実施例１２の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例１２と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１２の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例１２および比較例１２の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例１２および比較例１２のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１３、比較例１３］
　実施例２で調製した塗布溶液Ｙ－２を、塗布溶液Ｙ－１３として実施例１３で用いた。
　実施例２および比較例２において、３４０ｎｍ以下をカットしたカットフィルターを用いる代わりに波長３６５ｎｍ以下をカットしたカットフィルター（朝日分光社製）を用いた以外は実施例２および比較例２と同様にして、実施例１３および比較例１３のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１４、比較例１４］
　実施例２で調製した塗布溶液Ｙ－２を、塗布溶液Ｙ－１４として実施例１４で用いた。
　実施例２および比較例２において、３４０ｎｍ以下をカットしたカットフィルターを用いる代わりに波長４０５ｎｍ以下をカットしたカットフィルター（朝日分光社製）を用いた以外は実施例２および比較例２と同様にして、実施例１４および比較例１４のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１５、比較例１５］
　実施例２のＢ－１をＢ－８に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－１５を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１５を、実施例１５の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－８を添加しない以外は実施例１５と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１５の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例１５および比較例１５の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例１５および比較例１５のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。得られた結果を下記表１に記載した。
［実施例１６～１９、比較例１６～１９］
　実施例２のＢ－１の添加量を２５質量％から下記表１に記載の添加量に置き換えた以外は実施例２と同様にして、塗布溶液Ｙ－１６～１９を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－１６～１９を、実施例１６～１９の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は実施例１６～１９と同様にして調製した塗布溶液を、比較例１６～１９の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、実施例１６～１９および比較例１６～１９の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、実施例１６～１９および比較例１６～１９のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。但し、実施例１８および１９では、断面ＴＥＭ観察を行わなかった。得られた結果を下記表１に記載した。
［比較例２０］
　表１に示すように、上記にて調製した液晶性ブロック共重合体Ａ－９（２２．５ｍｇ）、上記にて調製した下記構造の低分子液晶化合物Ｃ－１（７．５ｍｇ）を秤量し、トルエン９７０μＬに溶解させた後に、フィルター（マイレクストＦＨ　０．４５μｍ、φ１３ｍｍ、シリンジ２ｍｌ）濾過して塗布溶液Ｙ－２０を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－２０を、比較例２０の組成物とした。
　なお、低分子液晶化合物Ｃ－１は、Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，　Ｊａｐａｎ　ｖｏｌ．５９，　Ｎｏ．１（２０１０），　８５７に記載の非反応性の液晶化合物であり、比較例２０および後述の比較例２２はこの文献に記載の低分子液晶化合物Ｃ－１の性能を検討するための比較例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 　一方、低分子液晶化合物Ｃ－１を添加しない以外は比較例２０と同様にして調製した塗布溶液を、比較例２０’の組成物とした。
＜ガラス基板上でのミクロ相分離構造膜の製造・欠陥抑制評価・ＡＦＭ観察・固定化評価＞
（スピンコート）
　上記比較例２０および比較例２０’の組成物（塗布溶液）をガラス基板にスピンコートした後、１４０℃で１分間保持した。さらに、１４０℃からＵＶ照射温度１０５℃まで－１０℃／分で降温させて、１０５℃で１分間保持した後、ＵＶ照射装置（ＨＯＹＡ社製　ＥＸＥＣＵＲＥ３０００）にて３５０ｍＪ／ｃｍ２でＵＶカットせずにＵＶ硬化させた後、室温まで放冷した。得られた塗布膜を、比較例２０および比較例２０’のミクロ相分離構造膜Ａとした。
　また、得られた比較例２０および比較例２０’のミクロ相分離構造膜Ａを用い、実施例１と同様に欠陥抑制評価・ＡＦＭ観察・固定化評価を行った。
　一方、比較例２０および比較例２０’の組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、ＰＥＴ基板上で比較例２０および比較例２０’のミクロ相分離構造膜Ｂを製造し、断面ＴＥＭ観察を行った。
　得られた結果を下記表１に記載した。
［比較例２１、２２］
　比較例２０のＡ－９をＡ－１’に置き換えた以外は比較例２０と同様にして、塗布溶液Ｙ－２２を調液した。得られた塗布溶液Ｙ－２２を、比較例２２の組成物とした。
　一方、反応性液晶化合物Ｂ－１を添加しない以外は比較例２２と同様にして調製した塗布溶液Ｙ－２１を、比較例２１の組成物とした。
　実施例１および比較例１において、実施例１および比較例１の組成物の代わりに、比較例２１および比較例２２の組成物を用いた以外は実施例１および比較例１とそれぞれ同様にして、比較例２１および比較例２２のミクロ相分離構造膜ＡおよびＢを製膜し、評価した。その結果を下記表１に記載した。
　比較例２１のミクロ相分離構造膜Ｂ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１’のみ（反応性液晶化合物添加前）の比較例２１の組成物を使用）の断面ＴＥＭ観察を行った結果を図６に示した。
　比較例２２のミクロ相分離構造膜Ｂ（液晶性ブロック共重合体Ａ－１’＋低分子液晶化合物Ｃ－１（２５ｗｔ％）添加、ＵＶ（ＵＶカットなし）照射後の比較例２２の組成物を使用）の断面ＴＥＭ観察を行った結果を図７に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000103
　上記表１および図１～図７より、各実施例の組成物は、欠陥が少なくドメインサイズの大きなシリンダー構造を形成および固定化でき、工業的加工性に優れたミクロ相分離構造膜を経済合理的に製造することができることがわかった。
　反応性液晶化合物を添加しない比較例２１の場合、膜の強度不足のためＴＥＭ観察によるシリンダー構造を確認できなかった。また、本発明の範囲外である低分子液晶化合物Ｃ－１を添加した比較例２２の場合、図７の断面ＴＥＭ像に示したとおり、ＴＥＭ観察によるシリンダー構造を確認できなかった。本発明の範囲外である低分子液晶化合物Ｃ－１を添加した比較例２０の場合も同様にＴＥＭ観察によるシリンダー構造を確認できなかった。
　さらに、分子量分布が１．３６の液晶性ブロック共重合体（液晶性ブロック共重合体Ａ－１）の場合、比較例１の液晶性ブロック共重合体単独では不明瞭な構造だったが、反応性液晶化合物（Ｂ－１）を添加した実施例１の組成物とすることで、シリンダー構造を形成できたことがわかった。特開２００４－１２４０８８号公報では、シリンダー構造を形成する液晶性ブロック共重合体の分子量分布を１．３以下に限定していたが、本発明の組成物では、液晶性ブロック共重合体単独ではシリンダー構造を形成できないような分子量分布の場合でも、反応性液晶化合物を添加することでシリンダー構造を形成でき、すなわちシリンダー構造を形成できる液晶性ブロック共重合体の分子量分布を拡大できることもわかった。

Claims (15)

  1. 　アルキレンオキサイド鎖を含むポリマー成分（Ａ）および炭素数２～２０のアルキレン鎖を含むポリマー成分（Ｂ）が直接または連結基を介して共有結合によって結合し、かつ、前記ポリマー成分（Ｂ）が炭素数６～５０のメソゲン側鎖を有する液晶性ブロック共重合体と、
    　下記一般式（Ｔ）または（Ｘ）で表される反応性液晶化合物を含むことを特徴とする組成物；
    一般式（Ｔ）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
    一般式（Ｔ）中、Ｑは反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１はｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい；
    一般式（Ｘ）　Ｑ１－Ｌ１－Ｃｙ１－Ｌ２－（Ｃｙ２－Ｌ３）ｎ－Ｃｙ３－Ｌ４－Ｑ２
    一般式（Ｘ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１、２、または３である。ｎが２または３の時、複数あるＣｙ２－Ｌ３は同じであっても異なっていてもよい。
  2. 　前記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｔ’）または（Ｙ）で表されることを特徴とする請求項１に記載の組成物；
    一般式（Ｔ’）　ＣｙＴ１－（ＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑ）ｔ
    一般式（Ｔ’）中、Ｑは下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ＣｙＴ２は二価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい；
    環状構造群（Ｃ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     環状構造群（Ｃ）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換基を有していてもよい；
    一般式（Ｙ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     一般式（Ｙ）中、Ｑ１およびＱ２のうち少なくとも一方は下記群（Ｂ）から選択される反応性基であり、反応性基ではないＱ１およびＱ２は置換基を表し、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である；
    群（Ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     上記群（Ａ）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す；
    群（Ｂ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
  3. 　前記液晶性ブロック共重合体を３０～９０質量％含有し、
    　前記反応性液晶化合物を１０～７０質量％含有することを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
  4. 　前記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ）または（Ｚ）で表されることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の組成物；
    一般式（Ｕ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     一般式（Ｕ）中、Ｑは群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ＬＴ１およびＬＴ２はそれぞれ独立に下記群（Ａ）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であり、ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい；
    環状構造群（Ｃ’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     環状構造群（Ｃ’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換基を有していてもよい；
    一般式（Ｚ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     一般式（Ｚ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に下記群（Ｂ’）から選択される反応性基であり、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１およびＬ４のうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または下記群（Ａ’）から選択される二価の連結基であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、ｎは０、１、２、または３である；
    群（Ａ’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     上記群（Ａ’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す；
    群（Ｂ’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
  5. 　前記反応性液晶化合物が、下記一般式（Ｕ’）または（Ｚ’）で表されることを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の組成物；
    一般式（Ｕ’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     一般式（Ｕ’）中、ＲＴは水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、
    ＲＴ１は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、
    ＬＴ１は下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基であり、
    ＬＴ２Ａは下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基またはヘテロ原子を含む二価の連結基であって、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、
    ＣｙＴ１は下記環状構造群（Ｃ’’）から選択される環状構造を含むｔ価の環状基であり、ｔは１～６の整数である。ｔが２～６の時、複数あるＬＴ１－ＣｙＴ２－ＬＴ２－Ｑは同じであっても異なっていてもよい；
    環状構造群（Ｃ’’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     環状構造群（Ｃ’’）中、各環状構造は、ＬＴ１と結合するためのｔ本の結合手をそれぞれ独立に環状構造を構成するいずれかの環が有し、環状構造を構成するいずれかの環が置換基を有していてもよい；
    一般式（Ｚ’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     一般式（Ｚ’）中、Ｒ’およびＲ’’はそれぞれ独立に水素原子あるいは置換または無置換のアルキル基であり、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に下記群（Ａ’’）から選択される二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａはそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ１ＡおよびＬ４Ａのうち少なくとも一方は、少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含み、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基である；
    群（Ａ’’）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     上記群（Ａ’’）中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。
  6. 　前記反応性液晶化合物の分子量が３０００未満であることを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物。
  7. 　前記液晶性ブロック共重合体の前記ポリマー成分（Ｂ）が、下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物；
    一般式（１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     一般式（１）中、ｍは１～５００の整数を表し、Ｌ１２は単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニンレン基、メタロセニレン基、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０１）－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＳＯ２－Ｎ（Ｒ１０２）－、－ＳＯ２－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０３）－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１０４）－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｎ（Ｒ１０５）－、ヘテリレン基を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０～１００以下の連結基を表し；Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。ただし、Ｌ１２は少なくとも炭素数２～２０のアルキレン基を含む；Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ５はオキセタニル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｍは炭素数６～５０のメソゲン基を表す。但し、ｍ個の繰り返し単位は互いに同一であっても異なっていてもよい；
  8. 　前記液晶性ブロック共重合体の前記ポリマー成分（Ｂ）中のＭが、下記一般式（２）または一般式（３）で表される２価の連結基を含むことを特徴とする請求項７に記載の組成物；
    一般式（２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     一般式（３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     一般式（２）および（３）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に置換または無置換のアリーレン基を表す。
  9. 　前記液晶性ブロック共重合体の数平均分子量Ｍｎが３０００～１０００００であることを特徴とする請求項１～８のいずれか一項に記載の組成物。
  10. 　前記液晶性ブロック共重合体の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．５以下であることを特徴とする請求項１～９のいずれか一項に記載の組成物；
    Ｍｗは液晶性ブロック共重合体の重量平均分子量を表し、Ｍｎは液晶性ブロック共重合体の数平均分子量を表す。
  11. 　さらに開始剤を含むことを特徴とする請求項１～１０のいずれか一項に記載の組成物。
  12. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載の組成物を支持体上で熱、光、溶媒蒸気または電場により相分離を促進させ、ミクロ相分離構造を形成する工程を含むことを特徴とするミクロ相分離構造膜の製造方法。
  13. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載の組成物を溶解可能な溶媒に溶解させ、溶液を調製する工程と、
    　前記組成物溶液を支持体表面に塗布する工程と、
    　前記溶媒を蒸発させて前記組成物のミクロ相分離構造膜を形成する工程と、
    　前記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程を有することを特徴とするミクロ相分離構造膜の製造方法。
  14. 　前記ミクロ相分離構造膜を固定化する工程が、前記ミクロ相分離構造膜に３００ｎｍ以下の波長をカットしながらＵＶを照射し、構造を固定化する工程であることを特徴とする請求項１３に記載のミクロ相分離構造膜の製造方法。
  15. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載の組成物またはその架橋重合体を含有すること、あるいは、請求項１２～１４のいずれか一項に記載のミクロ相分離構造膜の製造方法で製造されたことを特徴とするミクロ相分離構造膜。
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