WO2012053270A1 - 真空ポンプ - Google Patents

真空ポンプ Download PDF

Info

Publication number
WO2012053270A1
WO2012053270A1 PCT/JP2011/067329 JP2011067329W WO2012053270A1 WO 2012053270 A1 WO2012053270 A1 WO 2012053270A1 JP 2011067329 W JP2011067329 W JP 2011067329W WO 2012053270 A1 WO2012053270 A1 WO 2012053270A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
plate
vacuum
vacuum pump
atmosphere
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/067329
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
ウルリヒ シュローダー
エドゥアルド カラスコ
ブノワ ヘンリー
Original Assignee
エドワーズ株式会社
ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エドワーズ株式会社, ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク filed Critical エドワーズ株式会社
Priority to KR1020137006323A priority Critical patent/KR101848528B1/ko
Priority to EP11834112.2A priority patent/EP2631486B1/en
Priority to CN201180048764.2A priority patent/CN103228923B/zh
Priority to JP2012539632A priority patent/JP5778166B2/ja
Priority to US13/877,523 priority patent/US9267392B2/en
Publication of WO2012053270A1 publication Critical patent/WO2012053270A1/ja

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01DNON-POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, e.g. STEAM TURBINES
    • F01D25/00Component parts, details, or accessories, not provided for in, or of interest apart from, other groups
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/042Turbomolecular vacuum pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D25/00Pumping installations or systems
    • F04D25/02Units comprising pumps and their driving means
    • F04D25/06Units comprising pumps and their driving means the pump being electrically driven
    • F04D25/068Mechanical details of the pump control unit
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D25/00Pumping installations or systems
    • F04D25/02Units comprising pumps and their driving means
    • F04D25/06Units comprising pumps and their driving means the pump being electrically driven
    • F04D25/0693Details or arrangements of the wiring
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/58Cooling; Heating; Diminishing heat transfer
    • F04D29/5813Cooling the control unit

Definitions

  • the present invention relates to a vacuum pump, and more particularly to a vacuum pump in which substrate wiring is simple and the substrate can be easily cooled.
  • a vacuum pump is generally used for evacuating the chamber.
  • a turbo molecular pump which is one of the vacuum pumps, is used frequently from the viewpoints of particularly low residual gas and easy maintenance.
  • the turbo molecular pump not only evacuates the chamber, but also exhausts these process gases from the chamber. Also used.
  • This turbo molecular pump is composed of a pump body and a control device for controlling the pump body.
  • the pump body and the control device are usually connected by a cable and a connector plug mechanism.
  • a method for reducing the number of pins of the connector connector plug of the pump main body and the control device and simplifying the substrate wiring there is known a method of arranging the motor and magnetic bearing control substrate on the vacuum side as in Patent Document 1. .
  • control board is arranged on the vacuum side in this way, there is a risk that the electrolytic solution in the electrolytic capacitor, which is one of the electronic elements necessary for control, may burst.
  • the male connector 1 is arranged at the lower part of the pump body 310, while the female connector 3 is arranged at the upper part of the control device 320.
  • the pump body 310 and the control device 320 are integrated by connecting the connectors.
  • the male and female connectors on the pump side and the control device side may be reversed.
  • the connectors 1 and 3 have a vacuum seal structure with high confidentiality and need to be drip-proof, and the pump body 310 and the controller 320 need to be cooled respectively. Further, two plates for separating the pump main body 310 and the control device 320 from each other are required, ie, the bottom plate plate 5 on the pump main body 310 side and the upper plate 7 on the control device 320 side. Further, the back-side terminal pins 9 and 11 of the connectors 1 and 3 have solder cups 13 necessary for soldering with cables as shown in FIG. For this reason, the cost was high.
  • the present invention has been made in view of such conventional problems, and an object of the present invention is to provide a vacuum pump in which substrate wiring is simple and the substrate can be easily cooled.
  • the present invention (Claim 1) is attached with a vacuum pump main body having a plate on the bottom surface, a control unit having the plate as a part of the housing, and leaving exposed portions on both surfaces through the plate.
  • a second substrate disposed in the air atmosphere inside the control unit.
  • the plate, the first substrate, and the second substrate were integrated through pins. For this reason, the structure of a vacuum pump can be simplified. For example, only one plate can be disposed between the pump body and the control unit. Since the structure is integrated, it is not necessary to perform wiring work between the substrates again.
  • the first substrate is arranged on the vacuum side, it is not necessary to provide the wiring of the electromagnet and the sensor to the outside, and the wiring between the first substrate and the second substrate can be reduced as much as possible. Further, since solder can be attached between the periphery of the pin and the substrate, a pin without a solder cup can be selected. For this reason, manufacturing cost can be held down.
  • the present invention (Claim 2) is characterized in that an electrolytic capacitor is attached to the second substrate.
  • Electrolytic capacitors cannot be placed in a vacuum due to problems such as rupture. Therefore, it was decided to attach to the second substrate.
  • the electrolytic capacitor is preferably attached at a position close to the pins on the substrate. As a result, the supply voltage can be stabilized in the same manner as when installed on the vacuum side.
  • a water-cooled tube is provided in the base portion of the vacuum pump body.
  • the first substrate on the vacuum side and the second substrate on the atmosphere side can be cooled at once by cooling the plate with a water-cooled tube. Therefore, the structure can be simplified.
  • a sealing member is provided between the plate and the base portion and between the plate and the wall of the casing of the control unit.
  • the configuration of the vacuum pump can be simplified.
  • the first substrate can be disposed on the vacuum side, and an electronic element that is difficult to place in the vacuum can be provided on the second substrate on the atmosphere side.
  • the wiring between the first substrate and the second substrate can be reduced as much as possible.
  • Terminal structure Diagram showing how the pins are soldered to the board Diagram showing another way to simplify board wiring
  • FIG. 1 shows a configuration diagram of an embodiment of the present invention.
  • a turbo molecular pump 10 has a pump main body 100 and a control unit 200 integrated with a single aluminum plate 201 interposed therebetween.
  • the plate 201 serves as both the bottom surface of the pump body 100 and the top surface of the control unit 200.
  • the plate 201 can be composed of two sheets.
  • An intake port 101 is formed at the upper end of the cylindrical outer cylinder 127 of the pump body 100.
  • a rotating body 103 On the inner side of the outer cylinder 127, there is provided a rotating body 103 in which a plurality of rotating blades 102a, 102b, 102c,... By turbine blades for sucking and exhausting gas are formed radially and in multiple stages.
  • a rotor shaft 113 is attached to the center of the rotating body 103, and the rotor shaft 113 is levitated and supported in the air by a so-called 5-axis control magnetic bearing.
  • the upper radial electromagnet 104 In the upper radial electromagnet 104, four electromagnets are arranged in pairs in the radial coordinate axis of the rotor shaft 113 and orthogonal to each other.
  • An upper radial sensor 107 composed of four electromagnets is provided adjacent to and corresponding to the upper radial electromagnet 104.
  • the upper radial direction sensor 107 is configured to detect the radial displacement of the rotating body 103 and send it to the control device 300 described later.
  • excitation of the upper radial electromagnet 104 is controlled through a compensation circuit having a PID adjustment function based on the displacement signal detected by the upper radial sensor 107, and the upper radial position of the rotor shaft 113 is determined. adjust.
  • the rotor shaft 113 is formed of a high permeability material (such as iron) and is attracted by the magnetic force of the upper radial electromagnet 104. Such adjustment is performed independently in the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • the lower radial electromagnet 105 and the lower radial sensor 108 are arranged in the same manner as the upper radial electromagnet 104 and the upper radial sensor 107, and the lower radial position of the rotor shaft 113 is set to the upper radial position. It is adjusted in the same way.
  • axial electromagnets 106A and 106B are arranged with a disk-shaped metal disk 111 provided at the lower part of the rotor shaft 113 sandwiched vertically.
  • the metal disk 111 is made of a high permeability material such as iron.
  • An axial sensor 109 is provided to detect the axial displacement of the rotor shaft 113, and the axial displacement signal is sent to the control device 300.
  • the excitation of the axial electromagnets 106A and 106B is controlled via a compensation circuit having a PID adjustment function of the control device 300 based on the axial displacement signal.
  • the axial electromagnet 106A and the axial electromagnet 106B attract the metal disk 111 upward and downward by magnetic force.
  • control device 300 appropriately adjusts the magnetic force exerted by the axial electromagnets 106A and 106B on the metal disk 111, causes the rotor shaft 113 to magnetically float in the axial direction, and holds the rotor shaft 113 in a non-contact manner. ing.
  • the motor 121 includes a plurality of magnetic poles arranged circumferentially so as to surround the rotor shaft 113. Each magnetic pole is controlled by the control device 300 so as to rotationally drive the rotor shaft 113 through an electromagnetic force acting between the rotor shaft 113 and the magnetic pole.
  • a plurality of stationary blades 123a, 123b, 123c,... are arranged with a small gap from the rotor blades 102a, 102b, 102c,.
  • the rotor blades 102a, 102b, 102c,... are each inclined at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the rotor shaft 113 in order to transfer exhaust gas molecules downward by collision.
  • the fixed blades 123 are also formed so as to be inclined at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the rotor shaft 113, and are arranged alternately with the stages of the rotary blades 102 toward the inside of the outer cylinder 127. ing. And one end of the fixed wing
  • the fixed blade spacer 125 is a ring-shaped member, and is made of, for example, a metal such as aluminum, iron, stainless steel, copper, or an alloy containing these metals as a component.
  • the outer cylinder 127 is fixed to the outer periphery of the fixed blade spacer 125 with a slight gap.
  • a base portion 129 is disposed at the bottom of the outer cylinder 127, and a threaded spacer 131 is disposed between the lower portion of the fixed blade spacer 125 and the base portion 129.
  • An exhaust port 133 is formed below the threaded spacer 131 in the base portion 129 and communicates with the outside.
  • the threaded spacer 131 is a cylindrical member made of metal such as aluminum, copper, stainless steel, iron, or an alloy containing these metals as a component, and a plurality of spiral thread grooves 131a are formed on the inner peripheral surface thereof. It is marked.
  • the direction of the spiral of the thread groove 131 a is a direction in which molecules of the exhaust gas move toward the exhaust port 133 when the molecules of the exhaust gas move in the rotation direction of the rotating body 103.
  • a rotating blade 102d is suspended from the lowermost part of the rotating body 103 following the rotating blades 102a, 102b, 102c.
  • the outer peripheral surface of the rotating blade 102d is cylindrical and protrudes toward the inner peripheral surface of the threaded spacer 131, and is adjacent to the inner peripheral surface of the threaded spacer 131 with a predetermined gap. Yes.
  • the base portion 129 is a disk-like member that constitutes the base portion of the turbo molecular pump 10, and is generally made of a metal such as iron, aluminum, or stainless steel.
  • the base part 129 physically holds the turbo molecular pump 10 and also has a function of a heat conduction path, a metal having rigidity such as iron, aluminum and copper and high thermal conductivity is used. Is desirable.
  • Exhaust gas sucked from the intake port 101 passes between the rotary blade 102 and the fixed blade 123 and is transferred to the base portion 129. At this time, the temperature of the rotor blades 102 rises due to frictional heat generated when the exhaust gas contacts or collides with the rotor blades 102, conduction or radiation of heat generated by the motor 121, etc. It is transmitted to the fixed wing 123 side by conduction with gas molecules of the exhaust gas.
  • the fixed blade spacers 125 are joined to each other at the outer peripheral portion, and heat received by the fixed blades 123 from the rotor blades 102, frictional heat generated when exhaust gas contacts or collides with the fixed blades 123, etc. This is transmitted to the attached spacer 131.
  • the exhaust gas transferred to the threaded spacer 131 is sent to the exhaust port 133 while being guided by the screw groove 131a.
  • the gas sucked from the intake port 101 enters the electrical component side including the motor 121, the lower radial electromagnet 105, the lower radial sensor 108, the upper radial electromagnet 104, the upper radial sensor 107, and the like.
  • the electrical component is covered with a stator column 122, and the interior of the electrical component is maintained at a predetermined pressure with a purge gas.
  • the electronic components constituting the control device 300 are separately stored in the bottom space 301 on the pump main body 100 side formed between the plate 201 and the base 129 and the control unit 200.
  • the inside of the bottom space 301 is a vacuum atmosphere
  • the inside of the control unit 200 is an air atmosphere.
  • a hole is provided in a part of the plate 201, and a body part 205 of a terminal 210 as shown in FIG.
  • the terminal 210 has a cylindrical body 205 protruding from the upper surface of a substantially rectangular plate-shaped bottom part 203, and a large number of pins 207 pass through the substantially rectangular plate-shaped bottom part 203 and the body 205. It is attached.
  • the upper part of the pin 207 is exposed above the plate 201 and passes through the small hole 212 of the AMB control board 209.
  • the upper part of the pin 207 is soldered to the AMB control board 209 at the small hole 212 portion of the AMB control board 209 as shown in FIG.
  • the pins 207 and each electronic component on the AMB control board 209 are electrically connected through the soldered portions.
  • the lower part of the pin 207 is exposed below the plate 201 and penetrates the atmosphere side connection substrate 211.
  • the lower part of the pin 207 is soldered to the atmosphere-side connection board 211 at a small hole 212 portion of the atmosphere-side connection board 211 as shown in FIG.
  • Electronic components that mainly control the motor 121 are mounted on the atmosphere-side connection substrate 211.
  • the pin 207 and each electronic component on the atmosphere side connection substrate 211 are electrically connected via the soldered portion.
  • an electrolytic capacitor 213 is disposed near the pin 207 on the atmosphere side connection substrate 211 with the element facing the plate 201 side.
  • a heat sink 215 is disposed between the atmosphere side connection substrate 211 and the plate 201.
  • An O-ring 221 is embedded between the plate 201 and the base 129 around the bottom space 301, and an O-ring 223 is embedded between the plate 201 and the wall 225 that forms the casing of the control unit 200 to prevent drip. It has a specification structure.
  • the plate 201 can be cooled via the base portion 129.
  • a plate 201 is disposed so as to close the opening of the casing on the pump body 100 side, and the plate 201 has a substrate unit structure that also serves as the casing on the control unit 200 side.
  • the AMB control board 209 and the atmosphere side connection board 211 are directly soldered and integrated with the pins 207 of the terminals 210 fixedly penetrating the plate 201. Accordingly, only one plate 201 is required between the pump body 100 and the control unit 200.
  • the casing portion and the seal structure can be simply configured, unlike the conventional independent casing and seal structure.
  • the expensive drip-proof connector 1, 3 is not required, and it can be configured with an inexpensive terminal 210.
  • the same water cooling pipe 149 can be used for a plurality of cooling objects, and the cooling structure can be simplified.
  • solder 231 is attached to the pins 207 around the body of the pins 207 with respect to the substrates 209 and 211, those without solder cups can be selected. For this reason, an expensive pin with a solder cup is not used, and the manufacturing cost can be suppressed.
  • the AMB control board 209 is disposed in the bottom space 301 on the vacuum side, and an electronic element that is difficult to be placed in a vacuum is provided on the atmosphere side connection board 211. Since the AMB control board 209, the plate 201, and the atmosphere side connection board 211 are integrated into one structure via the pins 207, it is not necessary to perform wiring work between the boards again.
  • the electrolytic capacitor 213 for stabilizing the supply voltage of the magnetic bearing is preferably installed as close as possible to the control electronic component on the AMB control board 209. However, it cannot be placed in a vacuum due to the above-mentioned problems such as rupture. Therefore, the electrolytic capacitor 213 is placed near the pin 207 of the atmosphere side connection substrate 211. As a result, the supply voltage could be stabilized in the same manner as when installed on the vacuum side.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

 基板配線が簡単で、基板の冷却が容易な真空ポンプを提供する。 ポンプ本体100側のケーシングの開口を塞ぐようにプレート201を配設し、このプレート201が制御ユニット200側のケーシングをも兼ねる基板ユニット構造とした。プレート201に貫通固定された端子210のピン207に対しAMB制御基板209と大気側接続基板211とを直接ハンダ付けして一体化している。従って、ケーシング部分及びシール構造を簡素に構成できる。このため、高価な防滴コネクタ1、3を必要とせず、安価な端子210で防滴構造を構成することができる。そして、このプレート201の冷却を通して真空側のAMB制御基板209と大気側の大気側接続基板211上にそれぞれ搭載された電子部品を一度に冷却できる。

Description

真空ポンプ
 本発明は真空ポンプに係わり、特に基板配線が簡単で、基板の冷却が容易な真空ポンプに関する。
 近年のエレクトロニクスの発展に伴い、メモリや集積回路といった半導体の需要が急激に増大している。
 これらの半導体は、きわめて純度の高い半導体基板に不純物をドープして電気的性質を与えたり、エッチングにより半導体基板上に微細な回路を形成したりなどして製造される。
 そして、これらの作業は空気中の塵等による影響を避けるため高真空状態のチャンバ内で行われる必要がある。このチャンバの排気には、一般に真空ポンプが用いられているが、特に残留ガスが少なく、保守が容易等の点から真空ポンプの中の一つであるターボ分子ポンプが多用されている。
 また、半導体の製造工程では、さまざまなプロセスガスを半導体の基板に作用させる工程が数多くあり、ターボ分子ポンプはチャンバ内を真空にするのみならず、これらのプロセスガスをチャンバ内から排気するのにも使用される。
 このターボ分子ポンプは、ポンプ本体とそのポンプ本体を制御する制御装置とからなる。ポンプ本体と制御装置との間は、通常、ケーブルとコネクタプラグ機構とで接続される。このポンプ本体と制御装置の接続コネクタプラグのピン数を減らし、基板配線を簡略化する方法として、特許文献1のようなモータ及び磁気軸受の制御基板を真空側に配置する方法が知られている。
特表2007‐508492号公報
 しかしながら、このように制御基板を真空側に配置した場合、制御に必要な電子素子の一つである電解コンデンサは、中の電解液が破裂してしまう恐れがあった。
 また、発熱する電子素子などは、真空中に設置した場合、真空中における熱伝導が熱輻射のみとなり蓄熱が起こり易く、故障につながる可能性があった。更に、ポンプ使用条件によっては、腐食性ガスなどに晒されるため、基板はモールドなどの耐腐食対策をする必要があり、それも蓄熱を引き起こし、電子素子の異常過熱につながる恐れがあった。
 また、同様に基板配線を簡略化する別方法として、図4のように、ポンプ本体310の下部に雄コネクタ1を配設し、一方、制御装置320の上部に雌コネクタ3を配設し、コネクタ同士を接続することで、ポンプ本体310と制御装置320とを一体化させる構造が存在する。但し、このとき、ポンプ側と制御装置側のコネクタの雌雄は逆であってもよい。
 しかしながら、この場合、コネクタ1、3は機密性が高い真空シール構造で、防滴仕様とされる必要があり、また、ポンプ本体310と制御装置320とをそれぞれ冷却させる必要があった。更に、ポンプ本体310と制御装置320とをそれぞれ仕切るためのプレートもポンプ本体310側の底板プレート5と制御装置320側の上板プレート7の2枚が必要であった。更に、コネクタ1、3の裏側端子ピン9、11はそれぞれ図5に示すようなケーブルとのハンダ付けに必要なソルダカップ13を有していた。このため、コスト高になっていた。
 本発明はこのような従来の課題に鑑みてなされたもので、基板配線が簡単で、基板の冷却が容易な真空ポンプを提供することを目的とする。
 このため本発明(請求項1)は、底面にプレートを有する真空ポンプ本体と、該プレートを筐体の一部とする制御ユニットと、前記プレートを貫通して両面に露出部分を残しつつ取り付けられた複数のピンと、該ピンの前記真空ポンプ本体側の露出部分に取り付けられ前記真空ポンプ本体内部の真空雰囲気中に配設される第1の基板と、前記ピンの前記制御ユニット側の露出部分に取り付けられ前記制御ユニット内部の大気雰囲気中に配設される第2の基板とを備えて構成した。
 プレート、第1の基板及び第2の基板とをピンを介して一体化した。このため、真空ポンプの構成を簡素化できる。例えば、プレートはポンプ本体と制御ユニットとの間に一枚のみ配設とされることも可能である。一体化された一つの構造体とされているため、改めて基板同士の間で配線作業を行う必要はない。
 第1の基板を真空側に配置し、真空中に置くことが難しい電子素子を大気側の第2の基板に設けることが可能である。第1の基板を真空側に配置したことで、電磁石とセンサの配線を外部に出す必要がなくなり、第1の基板と第2の基板間に渡る配線を極力少なくできる。また、ピンの胴回りと基板間にハンダを付けることが可能なので、ピンにはソルダカップなしのものを選定できる。このため、製造コストを抑えることができる。
 また、本発明(請求項2)は、前記第2の基板に電解コンデンサが取り付けられたことを特徴とする。
 電解コンデンサは、破裂等の問題から真空中には置けない。そのため第2の基板に取り付けることにした。なお、この電解コンデンサは基板上のピンに近い位置に取り付けられるのが望ましい。その結果、真空側に設置したときと同様に供給電圧を安定化させることができる。
 更に、本発明(請求項3)は、前記真空ポンプ本体のベース部に水冷管を備えて構成した。
 水冷管によりプレートの冷却を通して真空側の第1の基板と大気側の第2の基板を一度に冷却できる。従って、構造を簡素化できる。
 更に、本発明(請求項4)は、前記プレートと前記ベース部との間及び該プレートと前記制御ユニットの筐体の壁との間にシール部材を備えて構成した。
 ポンプ本体と制御ユニットとは一体化しシール部材を備えたので、従来のようにそれぞれ独立したケーシングとシール構造とする必要はなくなる。このため、ケーシング部分及びシール構造を簡素に構成できる。また、従来のように、高価な防滴コネクタを必要とせず、安価なコネクタを使用することができる。
 以上説明したように本発明(請求項1)によれば、プレート、第1の基板及び第2の基板をピンを介して一体化したので、真空ポンプの構成を簡素化できる。第1の基板を真空側に配置し、真空中に置くことが難しい電子素子を大気側の第2の基板に設けることが可能である。第1の基板を真空側に配置したことで、第1の基板と第2の基板間に渡る配線を極力少なくできる。
本発明の実施形態の構成図 端子構造 基板に対しピンをハンダ付けした様子を示す図 基板配線を簡略化する別方法を示す図 ソルダカップを有するピンの様子を示す図
 以下、本発明の実施形態について説明する。本発明の実施形態の構成図を図1に示す。図1において、ターボ分子ポンプ10は、ポンプ本体100と制御ユニット200とが一枚のアルミ製のプレート201を挟んで一体化されている。
 このプレート201は、ポンプ本体100の底面と制御ユニット200の上面とを兼ねている。但し、プレート201は2枚で構成等されることも可能である。
 ポンプ本体100の円筒状の外筒127の上端には吸気口101が形成されている。外筒127の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードによる複数の回転翼102a、102b、102c・・・を周部に放射状かつ多段に形成した回転体103を備える。
 この回転体103の中心にはロータ軸113が取り付けられており、このロータ軸113は、例えば、いわゆる5軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。
 上側径方向電磁石104は、4個の電磁石が、ロータ軸113の径方向の座標軸であって互いに直交するX軸とY軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石104に近接かつ対応されて4個の電磁石からなる上側径方向センサ107が備えられている。この上側径方向センサ107は回転体103の径方向変位を検出し、後述する制御装置300に送るように構成されている。
 制御装置300においては、上側径方向センサ107が検出した変位信号に基づき、PID調節機能を有する補償回路を介して上側径方向電磁石104の励磁を制御し、ロータ軸113の上側の径方向位置を調整する。
 ロータ軸113は、高透磁率材(鉄など)などにより形成され、上側径方向電磁石104の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、X軸方向とY軸方向とにそれぞれ独立して行われる。
 また、下側径方向電磁石105及び下側径方向センサ108が、上側径方向電磁石104及び上側径方向センサ107と同様に配置され、ロータ軸113の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。
 更に、軸方向電磁石106A、106Bが、ロータ軸113の下部に備えた円板状の金属ディスク111を上下に挟んで配置されている。金属ディスク111は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸113の軸方向変位を検出するために軸方向センサ109が備えられ、その軸方向変位信号が制御装置300に送られるように構成されている。
 そして、軸方向電磁石106A、106Bは、この軸方向変位信号に基づき制御装置300のPID調節機能を有する補償回路を介して励磁制御されるようになっている。軸方向電磁石106Aと軸方向電磁石106Bは、磁力により金属ディスク111をそれぞれ上方と下方とに吸引する。
 このように、制御装置300は、この軸方向電磁石106A、106Bが金属ディスク111に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸113を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。
 モータ121は、ロータ軸113を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸113との間に作用する電磁力を介してロータ軸113を回転駆動するように、制御装置300によって制御されている。
 回転翼102a、102b、102c・・・とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼123a、123b、123c・・・が配設されている。回転翼102a、102b、102c・・・は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。
 また、固定翼123も、同様にロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒127の内方に向けて回転翼102の段と互い違いに配設されている。
 そして、固定翼123の一端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ125a、125b、125c・・・の間に嵌挿された状態で支持されている。
 固定翼スペーサ125はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。
 固定翼スペーサ125の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒127が固定されている。外筒127の底部にはベース部129が配設され、固定翼スペーサ125の下部とベース部129の間にはネジ付きスペーサ131が配設されている。そして、ベース部129中のネジ付きスペーサ131の下部には排気口133が形成され、外部に連通されている。
 ネジ付きスペーサ131は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝131aが複数条刻設されている。
 ネジ溝131aの螺旋の方向は、回転体103の回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口133の方へ移送される方向である。
 回転体103の回転翼102a、102b、102c・・・に続く最下部には回転翼102dが垂下されている。この回転翼102dの外周面は、円筒状で、かつネジ付きスペーサ131の内周面に向かって張り出されており、このネジ付きスペーサ131の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。
 ベース部129は、ターボ分子ポンプ10の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。
 ベース部129はターボ分子ポンプ10を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。
 かかる構成において、回転翼102がモータ121により駆動されてロータ軸113と共に回転すると、回転翼102と固定翼123の作用により、吸気口101を通じてチャンバからの排気ガスが吸気される。
 吸気口101から吸気された排気ガスは、回転翼102と固定翼123の間を通り、ベース部129へ移送される。このとき、排気ガスが回転翼102に接触又は衝突する際に生ずる摩擦熱や、モータ121で発生した熱の伝導や輻射などにより、回転翼102の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は排気ガスの気体分子等による伝導により固定翼123側に伝達される。
 固定翼スペーサ125は、外周部で互いに接合しており、固定翼123が回転翼102から受け取った熱や排気ガスが固定翼123に接触又は衝突する際に生ずる摩擦熱などを外筒127やネジ付きスペーサ131へと伝達する。
 ネジ付きスペーサ131に移送されてきた排気ガスは、ネジ溝131aに案内されつつ排気口133へと送られる。
 また、吸気口101から吸引されたガスがモータ121、下側径方向電磁石105、下側径方向センサ108、上側径方向電磁石104、上側径方向センサ107などで構成される電装部側に侵入することのないよう、電装部は周囲をステータコラム122で覆われ、この電装部内はパージガスにて所定圧に保たれている。
 次に制御装置300の構成について説明する。制御装置300を構成する電子部品は、プレート201とベース129の間に形成されたポンプ本体100側の底部空間301と制御ユニット200とに分離して格納されている。底部空間301内は真空雰囲気であり、制御ユニット200内は大気雰囲気である。
 そして、このプレート201の一部には穴が配設されており、この穴には図2に示すような端子210の胴部205が貫通固定されている。端子210は、略四角形の板状底面部203の上面に円柱状の胴部205が突設されており、この略四角形の板状底面部203及び胴部205を貫通して多数のピン207が取り付けられている。
 ピン207の上部はプレート201より上側に露出され、AMB制御基板209の小穴212を貫通している。AMB制御基板209に対してピン207の上部はAMB制御基板209の小穴212部分で図3に示すようにハンダ付けされている。AMB制御基板209上には磁気軸受を制御する電子部品が搭載されている。
 そして、このハンダ付けされた箇所を介してピン207とAMB制御基板209上の各電子部品とは電気的に接続されている。
 一方、ピン207の下部はプレート201より下側に露出され、大気側接続基板211を貫通している。大気側接続基板211に対してピン207の下部は大気側接続基板211の小穴212部分で図3に示すようにハンダ付けされている。大気側接続基板211上には主にモータ121を制御する電子部品が搭載されている。そして、このハンダ付けされた箇所を介してピン207と大気側接続基板211上の各電子部品とは電気的に接続されている。
 また、大気側接続基板211上のピン207の近くには電解コンデンサ213が素子をプレート201側に向けて配設されている。大気側接続基板211とプレート201の間にはヒートシンク215が配設されている。この結果、AMB制御基板209、プレート201及び大気側接続基板211は一体化された一つの構造体とされている。
 そして、更に、一部の磁気軸受制御用以外及びモータ制御用以外の電子部品は底部制御基板217、219に搭載されている。但し、用途によって厳格に基板を配置するのではなく、電解コンデンサ213を除く各電子部品を適宜真空中のAMB制御基板209上に搭載する等してもよい。
 プレート201とベース129の間には底部空間301回りにOリング221が埋めこまれ、プレート201と制御ユニット200の筐体を形成する壁225の間にはOリング223が埋めこまれて防滴仕様構造となっている。
 また、水冷管をベース部129におけるプレート201の近くに配設(図1中の水冷管149)することで、ベース部129を介してこのプレート201を冷却できる。
 次に、制御装置300の作用を説明する。
 ポンプ本体100側のケーシングの開口を塞ぐようにプレート201を配設し、このプレート201が制御ユニット200側のケーシングをも兼ねる基板ユニット構造とした。プレート201に貫通固定された端子210のピン207に対しAMB制御基板209と大気側接続基板211とを直接ハンダ付けして一体化している。従って、プレート201はポンプ本体100と制御ユニット200との間に一枚の配設で済む。
 また、ポンプ本体100と制御ユニット200とは一体化したので、従来のようにそれぞれ独立したケーシングとシール構造とするのとは違い、ケーシング部分及びシール構造を簡素に構成できる。このため、従来の図4のように、高価な防滴コネクタ1、3を必要とせず、安価な端子210で構成することができる。
 そして、水冷管149によるプレート201の冷却を通して、真空側のAMB制御基板209と大気側の大気側接続基板211上にそれぞれ搭載された電子部品を一度に冷却できる。従って、同一の水冷管149を複数の冷却対象に使え冷却構造を簡素化できる。
 また、ピン207には図3に示すように基板209、211に対しピン207の胴回りにハンダ231を付けるので、ソルダカップなしのものを選定できる。このため、高価なソルダカップ付きのピンを使用することがなくなり、製造コストを抑えることができる。
 更に、AMB制御基板209を真空側である底部空間301に配置し、真空中に置くことが難しい電子素子を大気側接続基板211上に設けた。AMB制御基板209、プレート201及び大気側接続基板211はピン207を介して一体化された一つの構造体とされているため、改めて基板同士の間で配線作業を行う必要はない。
 そして、磁気軸受を制御する電子部品は、真空側である底部空間301に配設したため、電磁石とセンサの配線を外部に出す必要がなくなり、AMB制御基板209と大気側接続基板211間に渡る配線やピン207の本数を極力少なくできる。
 更に、磁気軸受の供給電圧を安定化させるための電解コンデンサ213は、なるべくAMB制御基板209上の制御用電子部品の近くに設置した方がよい。しかしながら、上述した破裂等の問題から真空中には置けない。そのため、電解コンデンサ213は大気側接続基板211のピン207の近くに置くこととした。その結果、真空側に設置したときと同様に供給電圧を安定化させることができた。
 10 ターボ分子ポンプ
 13 ソルダカップ
100 ポンプ本体
102 回転翼
104 上側径方向電磁石
105 下側径方向電磁石
106A、B 軸方向電磁石
107 上側径方向センサ
108 下側径方向センサ
109 軸方向センサ
111 金属ディスク
113 ロータ軸
121 モータ
122 ステータコラム
123 固定翼
125 固定翼スペーサ
127 外筒
129 ベース
131 スペーサ
133 排気口
149 水冷管
200 制御ユニット
201 プレート
203 略四角形の板状底面部
205 胴部
207 ピン
208 支持部材
209 AMB制御基板
210 端子
211 大気側接続基板
212 小穴
213 電解コンデンサ
215 ヒートシンク
221、223 Oリング
300 制御装置
301 底部空間

Claims (4)

  1.  底面にプレート(201)を有する真空ポンプ本体(100)と、
    該プレート(201)を筐体の一部とする制御ユニット(200)と、
    前記プレート(201)を貫通して両面に露出部分を残しつつ取り付けられた複数のピン(207)と、
    該ピン(207)の前記真空ポンプ本体(100)側の露出部分に取り付けられ前記真空ポンプ本体(100)内部の真空雰囲気中に配設される第1の基板(209)と、
    前記ピン(207)の前記制御ユニット(200)側の露出部分に取り付けられ前記制御ユニット(200)内部の大気雰囲気中に配設される第2の基板(211)とを備えたことを特徴とする真空ポンプ。
  2.  前記第2の基板(211)に電解コンデンサ(213)が取り付けられたことを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ。
  3.  前記真空ポンプ本体(100)のベース部(129)に水冷管(149)を備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の真空ポンプ。
  4.  前記プレート(201)と前記ベース部(129)との間及び該プレート(201)と前記制御ユニット(200)の筐体の壁との間にシール部材(221、223)を備えたことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の真空ポンプ。
PCT/JP2011/067329 2010-10-19 2011-07-28 真空ポンプ WO2012053270A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020137006323A KR101848528B1 (ko) 2010-10-19 2011-07-28 진공 펌프
EP11834112.2A EP2631486B1 (en) 2010-10-19 2011-07-28 Vacuum pump
CN201180048764.2A CN103228923B (zh) 2010-10-19 2011-07-28 真空泵
JP2012539632A JP5778166B2 (ja) 2010-10-19 2011-07-28 真空ポンプ
US13/877,523 US9267392B2 (en) 2010-10-19 2011-07-28 Vacuum pump

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010234771 2010-10-19
JP2010-234771 2010-10-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012053270A1 true WO2012053270A1 (ja) 2012-04-26

Family

ID=45974995

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/067329 WO2012053270A1 (ja) 2010-10-19 2011-07-28 真空ポンプ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9267392B2 (ja)
EP (1) EP2631486B1 (ja)
JP (1) JP5778166B2 (ja)
KR (1) KR101848528B1 (ja)
CN (1) CN103228923B (ja)
WO (1) WO2012053270A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018141375A (ja) * 2017-02-27 2018-09-13 株式会社島津製作所 電源一体型真空ポンプ
WO2019229863A1 (ja) 2018-05-30 2019-12-05 エドワーズ株式会社 真空ポンプとその冷却部品
WO2020195944A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5353838B2 (ja) * 2010-07-07 2013-11-27 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP5511915B2 (ja) 2012-08-28 2014-06-04 株式会社大阪真空機器製作所 分子ポンプ
JP6069981B2 (ja) * 2012-09-10 2017-02-01 株式会社島津製作所 ターボ分子ポンプ
JP6449551B2 (ja) * 2014-03-12 2019-01-09 エドワーズ株式会社 真空ポンプの制御装置とこれを備えた真空ポンプ
JP6427963B2 (ja) * 2014-06-03 2018-11-28 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP6753759B2 (ja) * 2016-10-21 2020-09-09 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置
JP6884553B2 (ja) * 2016-11-04 2021-06-09 エドワーズ株式会社 真空ポンプ制御装置及び真空ポンプ、並びに真空ポンプ制御装置の組立方法
JP6934298B2 (ja) 2016-12-16 2021-09-15 エドワーズ株式会社 真空ポンプおよび真空ポンプに備わる制御装置
JP6912196B2 (ja) * 2016-12-28 2021-08-04 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプに適用されるコネクタ、制御装置
JP2018145803A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 エドワーズ株式会社 制御装置、該制御装置に搭載された基板、及び該制御装置が適用された真空ポンプ
JP6916413B2 (ja) * 2017-04-25 2021-08-11 株式会社島津製作所 電源一体型真空ポンプ
JP7022265B2 (ja) * 2017-10-25 2022-02-18 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP7087418B2 (ja) * 2018-02-02 2022-06-21 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP7088688B2 (ja) * 2018-02-16 2022-06-21 エドワーズ株式会社 真空ポンプと真空ポンプの制御装置
JP7096006B2 (ja) * 2018-02-16 2022-07-05 エドワーズ株式会社 真空ポンプと真空ポンプの制御装置
US20220025889A1 (en) * 2018-12-11 2022-01-27 Industrie Saleri Italo S.P.A. Pump group comprising two command modules
JP7124787B2 (ja) 2019-04-17 2022-08-24 株式会社島津製作所 電源一体型真空ポンプ
GB2616264A (en) * 2022-03-01 2023-09-06 Edwards Ltd Electrical feedthrough, vacuum apparatus and method for assembly

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04104196U (ja) * 1991-01-29 1992-09-08 日本フエローフルイデイクス株式会社 磁気軸受式ターボ分子ポンプ
JPH10159786A (ja) * 1996-11-28 1998-06-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ターボ分子ポンプ
JPH11173293A (ja) * 1997-12-10 1999-06-29 Ebara Corp ターボ分子ポンプ装置
JP2007278278A (ja) * 2006-04-07 2007-10-25 Pfeiffer Vacuum Gmbh 駆動装置を有する真空ポンプ
CA2695506A1 (en) * 2007-08-30 2009-03-05 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Current feedthrough for a vacuum pump

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2119857A1 (de) * 1971-04-23 1972-11-02 Leybold-Heraeus GmbH & Co KG, 5000 Köln Einrichtung zur Ölversorgung von Lagerstellen
DE4237971B4 (de) * 1992-11-11 2004-05-06 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Vakuumpumpe mit Wandler
IT1288737B1 (it) 1996-10-08 1998-09-24 Varian Spa Dispositivo di pompaggio da vuoto.
US6316768B1 (en) 1997-03-14 2001-11-13 Leco Corporation Printed circuit boards as insulated components for a time of flight mass spectrometer
EP1036951B1 (en) 1997-12-02 2009-02-25 Ebara Corporation Magnetic bearing device and turbo-molecular pump device
JP2002276587A (ja) * 2001-03-19 2002-09-25 Boc Edwards Technologies Ltd ターボ分子ポンプ
US6896764B2 (en) * 2001-11-28 2005-05-24 Tokyo Electron Limited Vacuum processing apparatus and control method thereof
JP2003269367A (ja) 2002-03-13 2003-09-25 Boc Edwards Technologies Ltd 真空ポンプ
JP2003287463A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Boc Edwards Technologies Ltd 放射温度測定装置及び該放射温度測定装置を搭載したターボ分子ポンプ
JP4238039B2 (ja) * 2003-01-22 2009-03-11 カルソニックカンセイ株式会社 ウォーターポンプ
TW591738B (en) * 2003-05-09 2004-06-11 Au Optronics Corp Substrate carrying apparatus
US7300261B2 (en) * 2003-07-18 2007-11-27 Applied Materials, Inc. Vibration damper with nested turbo molecular pump
JP2006194083A (ja) * 2003-09-16 2006-07-27 Boc Edwards Kk ロータ軸と回転体との固定構造及び該固定構造を有するターボ分子ポンプ
FR2861142B1 (fr) 2003-10-16 2006-02-03 Mecanique Magnetique Sa Pompe a vide turbo moleculaire
JP4464695B2 (ja) * 2004-01-21 2010-05-19 キヤノンアネルバ株式会社 基板処理装置
JP3744522B2 (ja) * 2004-03-11 2006-02-15 松下電器産業株式会社 電動圧縮機
US7679915B2 (en) * 2004-09-17 2010-03-16 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Motor control apparatus and method of assembling motor control apparatus
KR20060062944A (ko) * 2004-12-06 2006-06-12 삼성전자주식회사 진공압 발생 장치 및 이를 갖는 박막 가공 장치
JP4661278B2 (ja) 2005-03-10 2011-03-30 株式会社島津製作所 ターボ分子ポンプ
JP2006344503A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Boc Edwards Kk 端子構造及び真空ポンプ
JP5350598B2 (ja) * 2007-03-28 2013-11-27 東京エレクトロン株式会社 排気ポンプ、連通管、排気システム及び基板処理装置
US8221098B2 (en) * 2009-03-09 2012-07-17 Honeywell International Inc. Radial turbomolecular pump with electrostatically levitated rotor
JP5218220B2 (ja) * 2009-03-31 2013-06-26 株式会社島津製作所 ターボ分子ポンプ装置およびその制御装置
JP5782378B2 (ja) * 2009-08-21 2015-09-24 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP5353838B2 (ja) * 2010-07-07 2013-11-27 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP5744044B2 (ja) * 2010-10-19 2015-07-01 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
EP2650544B1 (en) * 2010-12-10 2020-06-03 Edwards Japan Limited Vacuum pump
JP5865596B2 (ja) * 2011-03-25 2016-02-17 東京エレクトロン株式会社 粒子捕捉ユニット、該粒子捕捉ユニットの製造方法及び基板処理装置
JP5673497B2 (ja) * 2011-11-08 2015-02-18 株式会社島津製作所 一体型ターボ分子ポンプ
JP5511915B2 (ja) * 2012-08-28 2014-06-04 株式会社大阪真空機器製作所 分子ポンプ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04104196U (ja) * 1991-01-29 1992-09-08 日本フエローフルイデイクス株式会社 磁気軸受式ターボ分子ポンプ
JPH10159786A (ja) * 1996-11-28 1998-06-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ターボ分子ポンプ
JPH11173293A (ja) * 1997-12-10 1999-06-29 Ebara Corp ターボ分子ポンプ装置
JP2007278278A (ja) * 2006-04-07 2007-10-25 Pfeiffer Vacuum Gmbh 駆動装置を有する真空ポンプ
CA2695506A1 (en) * 2007-08-30 2009-03-05 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Current feedthrough for a vacuum pump

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2631486A4 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018141375A (ja) * 2017-02-27 2018-09-13 株式会社島津製作所 電源一体型真空ポンプ
US11162510B2 (en) 2017-02-27 2021-11-02 Shimadzu Corporation Power source-integrated vacuum pump
WO2019229863A1 (ja) 2018-05-30 2019-12-05 エドワーズ株式会社 真空ポンプとその冷却部品
KR20210016517A (ko) 2018-05-30 2021-02-16 에드워즈 가부시키가이샤 진공 펌프와 그 냉각 부품
US11204042B2 (en) 2018-05-30 2021-12-21 Edwards Japan Limited Vacuum pump and cooling component thereof
WO2020195944A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置
JP2020165313A (ja) * 2019-03-28 2020-10-08 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置
JP7244328B2 (ja) 2019-03-28 2023-03-22 エドワーズ株式会社 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP2631486B1 (en) 2015-09-23
CN103228923A (zh) 2013-07-31
KR20130138200A (ko) 2013-12-18
US20130189089A1 (en) 2013-07-25
JP5778166B2 (ja) 2015-09-16
KR101848528B1 (ko) 2018-04-12
EP2631486A1 (en) 2013-08-28
CN103228923B (zh) 2016-09-21
JPWO2012053270A1 (ja) 2014-02-24
EP2631486A4 (en) 2014-04-30
US9267392B2 (en) 2016-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5778166B2 (ja) 真空ポンプ
JP5744044B2 (ja) 真空ポンプ
JP2006344503A (ja) 端子構造及び真空ポンプ
KR102167207B1 (ko) 진공 펌프
CN109790846B (zh) 真空泵及应用于该真空泵的防水构造、控制装置
JP5255752B2 (ja) ターボ分子ポンプ
JP6912196B2 (ja) 真空ポンプ及び該真空ポンプに適用されるコネクタ、制御装置
WO2020195944A1 (ja) 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置
JP7048214B2 (ja) 制御装置、該制御装置に搭載された基板、及び該制御装置が適用された真空ポンプ
WO2018159213A1 (ja) 制御装置、該制御装置に搭載された基板、及び該制御装置が適用された真空ポンプ

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11834112

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2012539632

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20137006323

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13877523

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011834112

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE