WO2010070918A1 - アブレーション層、感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法 - Google Patents

アブレーション層、感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法 Download PDF

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WO2010070918A1
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photosensitive resin
mass
layer
ablation layer
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磯知里
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旭化成イーマテリアルズ株式会社
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

Definitions

  • the present invention relates to an ablation layer constituting a photosensitive resin constituent for letterpress printing, a photosensitive resin constituent comprising the ablation layer, and a method for producing a relief printing plate using the photosensitive resin constituent.
  • CTP Computer To Plate
  • a layer that can be ablated by infrared rays is provided on the photosensitive resin composition layer, and the ablation layer corresponding to a desired image is removed by irradiating laser light. It forms a transmission part of actinic rays corresponding to the negative.
  • a material layer for example, see Patent Document 2 containing an infrared absorbing material in a predetermined binder, or a thin layer made of a metal having an infrared absorbing property (for example, Patent Document 3). See.) Is known.
  • the photosensitive resin structure having an infrared ablation layer For example, a flexographic printing plate in which an infrared ablation layer, a barrier layer, and a photosensitive resin composition layer are laminated in this order has been proposed (see, for example, Patent Document 4).
  • a photosensitive resin constituent for flexographic printing of a type that is developed with water a structure in which a water-insoluble polyamide or the like is used for an infrared ablation layer has been proposed (for example, see Patent Document 5).
  • the proposal about the ablation layer containing polyvinyl alcohol is also made
  • the conventionally proposed photosensitive resin structure having an infrared ablation layer has the following drawbacks.
  • the manufacturing process of the printing plate is increased and complicated. Furthermore, depending on the material of the barrier layer, peeling occurs at the interface with the infrared ablation layer. Further, since the barrier layer is not ablated, there are problems such as poor oxygen permeability and a thick formed image. The problem of thickening of the image is caused by the radical polymerization of the curing mechanism of the photosensitive resin constituent for flexographic printing. Since radicals generated during polymerization are deactivated by oxygen, the progress of curing tends to be slow in the vicinity of the plate surface in contact with air.
  • the CTP plate in which the negative surface or the like does not need to be in close contact and the outermost surface of the plate is in contact with air, hardening of details is suppressed as compared with the analog plate that requires the negative.
  • the CTP plate makes it possible to form finer images than the analog plate by utilizing the effect of suppressing the curing caused by oxygen inhibition.
  • the contact between the resin and oxygen is suppressed if the barrier layer is provided, radical deactivation is prevented, curing proceeds smoothly, and the effect of suppressing curing due to oxygen cannot be obtained. Therefore, the so-called formed image becomes fat.
  • the developer is contaminated by the accumulation of undissolved substances in the aqueous developer, and the frequency of developer exchange must be increased inevitably. There is a problem. Moreover, when the residue of the ablation layer accumulates in the aqueous developer, there are problems such as redeposition to the photosensitive resin composition layer and clogging in the developing device. Furthermore, there is a problem that the adhesion between the photosensitive resin composition layer and the ablation layer is not sufficient, and the ablation layer peels off during the operation.
  • the photosensitive resin composition layer and the ablation layer have practically sufficient adhesion, and (1) even if the attached cover film is peeled off in a high humidity environment. Wrinkles due to moisture absorption do not occur, and (2) what has been removed with the developer can be easily dissolved and dispersed in the developer, effectively preventing washing residue from remaining, and (3) infrared rays It aims at providing the manufacturing method of the relief printing plate using the ablation layer for the photosensitive resin which can be processed, the photosensitive resin structure which comprises the said ablation layer, and the said photosensitive resin structure.
  • the present invention is as follows.
  • An ablation layer for a photosensitive resin for letterpress printing which is a layer that can be processed by infrared rays and contains an anionic polymer.
  • a photosensitive resin composition for letterpress printing comprising:
  • an ablation layer capable of effectively preventing the residue and re-adhesion of cleaning residue, and capable of being processed by infrared rays, a photosensitive resin structure having the ablation layer, and a relief printing plate using the photosensitive resin structurecan be provided.
  • the present embodiment a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail.
  • this invention is not limited to the following description, It can implement by changing variously within the range of the summary.
  • the ablation layer of this embodiment is an ablation layer that constitutes a photosensitive resin constituent for producing a relief printing plate, which will be described later, can be processed (drawn) by infrared rays, and contains an anionic polymer.
  • the ablation layer is a photosensitive resin composition for producing a relief printing plate, which will be described later, and is laminated on the photosensitive resin composition layer with a predetermined protective layer as required.
  • the ablation layer is usually protected from the outside air and scratches by covering the surface opposite to the photosensitive resin composition layer with a predetermined cover film. Infrared processing (drawing) is performed with the cover film peeled off. In this case, in order to prevent generation of moisture wrinkles and to achieve good cleaning properties in the development process, which is a subsequent process, The ablation layer is assumed to contain an anionic polymer.
  • the ablation layer of this embodiment contains a polymer containing an ester bond in the side chain having a saponification degree of 90% or less. It is preferable.
  • an ablation layer constituting the photosensitive resin constituent is drawn with infrared rays, and then a pattern is formed on the photosensitive resin composition layer.
  • the pattern formation on the photosensitive resin composition layer is usually performed through an exposure process, a development process, and a post-exposure process.
  • an adhesive layer, a photosensitive resin composition layer, an ablation layer, and a cover film are sequentially laminated on a dimensional stability support (base film: for example, polyethylene terephthalate (PET) film).
  • base film for example, polyethylene terephthalate (PET) film
  • the ablation layer in the present embodiment contains an anionic polymer, thereby having excellent wrinkle resistance, enabling uniform dissolution / dispersion in the developer in the development processing step, and cleaning properties. It will be excellent.
  • An anionic polymer refers to a polymer having an anionic polar functional group.
  • a resin that is insoluble in neutral water or has a water absorption of 20% or less is preferable.
  • the number average molecular weight of the anionic polymer is not particularly limited, but is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5000 to 80,000, and still more preferably 5000 to 30,000.
  • the number average molecular weight of the anionic polymer can be calculated by performing measurement in terms of polystyrene using a gel permeation chromatography (GPC) method.
  • GPC gel permeation chromatography
  • anionic polymer examples include acrylic resins, styrene resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, polyamide resins, polyacetal resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyphenylene sulfide resins.
  • copolymers of these resins are also included.
  • the said polymer may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
  • anionic polar functional group of the anionic polymer examples include a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, and a phenolic hydroxyl group. From the viewpoint of handling and availability, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and phenol. Preferred is a hydroxyl group. Moreover, a sulfonic acid group is preferable from the viewpoint of suppression of moisture absorption wrinkles and resin adhesion. In the present embodiment, the hydroxyl group is not included in the anionic polar functional group.
  • the content of the anionic polar functional group in the anionic polymer is preferably 1% by mass or more from the viewpoint of ensuring good detergency, and is preferably 80% by mass or less from the viewpoint of suppressing moisture absorption wrinkles.
  • the range is more preferably 5% by mass to 60% by mass, and further preferably 7% by mass to 40% by mass.
  • the anionic polymer contained in the ablation layer is preferably a modified polyolefin resin, more preferably a copolymer of an unsaturated conjugated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound, and still more preferably an ethylene-acrylic acid copolymer.
  • An ethylene-methacrylic acid copolymer is even more preferred, and an ethylene-acrylic acid copolymer is even more preferred.
  • the polar functional group of the anionic polymer is a carboxylic acid group.
  • the ablation layer preferably contains a polymer containing an ester bond in the side chain having a saponification degree of 90% or less within a range where wrinkle resistance can be maintained in addition to the various anionic polymers.
  • the saponification degree in the polymer containing an ester bond in the side chain having a saponification degree of 0% or more and 90% or less is preferably 0% or more and 80% or less, more preferably 0% or more and 75% or less, and further preferably 0%. It is 70% or less.
  • “saponification” generally refers to a reaction in which an ester is hydrolyzed with an alkali to produce an alcohol and a carboxylic acid.
  • the degree of saponification is a value obtained by subtracting the residual ester group (mol%) from 100. Say.
  • polystyrene resin examples include polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl acetate (saponified product is polyvinyl alcohol), and a polyvinyl ester copolymer such as ethylene-vinyl acetate copolymer, Examples thereof include, but are not limited to, cellulose fatty acid ester compounds such as cellulose acetate.
  • the content of the polymer containing an ester bond in the side chain having a saponification degree of 90% or less is not particularly limited, but is preferably 0.1 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the anionic polymer. 5 mass parts or more and 300 mass parts or less are more preferable, and 1 mass part or more and 100 mass parts or less are more preferable.
  • the film thickness of the ablation layer is preferably 0.1 ⁇ m or more from the viewpoint of securing light shielding properties against ultraviolet rays in the step of performing an exposure process on the photosensitive resin structure described later. On the other hand, when the thickness of the ablation layer exceeds 20 ⁇ m, the ablation property deteriorates.
  • the ablation layer preferably contains an infrared absorber.
  • an infrared absorber a simple substance or a compound having a strong absorption characteristic for a wavelength in the range of 750 nm to 20000 nm is usually used. Examples thereof include inorganic pigments such as carbon black, graphite, iron oxide, chromium oxide and copper chromite, and pigments such as phthalocyanine and substituted phthalocyanine derivatives, cyanine dyes, merocyanine dyes and polymethine dyes, and metal thiolate dyes.
  • carbon black can be used in a wide range of particle diameters of 13 nm to 200 nm, and the smaller the particle diameter, the higher the sensitivity to infrared rays, which is preferable. It is preferable to add the above-described infrared absorber within a range that ensures sensitivity that can be removed by the used laser beam when processing (drawing) the ablation layer. Specifically, the addition amount is preferably 10 to 80% by mass with respect to the total mass of the ablation layer.
  • the ablation layer preferably contains a non-infrared shielding material.
  • a non-infrared shielding material a material that reflects or absorbs ultraviolet light can be used.
  • an ultraviolet absorber, carbon black, graphite and the like are suitable.
  • the addition amount of the non-infrared shielding material is preferably such that the optical density of the ablation layer is 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the optical density can be measured using a D200-II transmission densitometer (manufactured by GretagMacbeth).
  • the optical density is so-called visual sensation (ISO visual), and the light to be measured is in the wavelength region of about 400 to 750 nm.
  • carbon black having a function as an infrared absorber and a function as a non-infrared shielding substance is particularly preferable.
  • additives such as a plasticizer, an antistatic agent, a release agent, and an adhesive force adjusting agent may be added to the ablation layer as necessary, as long as the performance is not impaired.
  • the ablation layer of the present embodiment is preferably one that can be removed using an aqueous developer and / or a solvent-based developer.
  • An aqueous developer is a water-soluble cleaning solution.
  • the aqueous developer usually contains a surfactant and an alkali builder (pH adjuster).
  • the surfactant include an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant.
  • the alkali builder may be either an organic material or an inorganic material, but is preferably one that can be adjusted to pH 9 or higher. In order to improve the cleaning effect, it is also useful to add an organic solvent that can be mixed with water, such as an alkyl glycol ether, as a penetrant.
  • a conventionally known material can be used as the solvent-based developer.
  • esters such as heptyl acetate and 3-methoxybutyl acetate
  • petroleum fractions such as toluene and decalin
  • alcohols such as propanol, butanol and pentanol
  • chlorinated organic solvents such as tetrachloroethylene. The thing which was done is mentioned.
  • the ablation layer in this embodiment contains, for example, the anionic polymer described above on a predetermined film (a cover film (typically a film thickness of 50 to 250 ⁇ m) constituting a photosensitive resin constituent pair for a relief printing plate).
  • the composition solution for forming an ablation layer to be formed can be formed by applying a drying treatment so that the thickness after drying becomes 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the solvent for the solution of the composition for forming the ablation layer include water, ethanol, isopropanol, ethoxyethanol, toluene, ethyl acetate, and tetrahydrofuran.
  • various surfactants, antifoaming agents, leveling agents, penetrating agents and the like may be blended in order to improve the coatability with the cover film.
  • the surface to be coated in advance On the other hand, you may perform a mold release process.
  • the photosensitive resin construct of this embodiment is a support, a photosensitive resin composition layer disposed on the support, and a photosensitive resin composition layer disposed on the photosensitive resin composition layer, as described above. And an ablation layer.
  • the photosensitive resin composition layer contains a photosensitive resin, and conventionally known materials can be used as the photosensitive resin.
  • any of the photosensitive resins proposed in Japanese Patent No. 3508788, Japanese Patent Publication No. 58-33884, Japanese Patent No. 2940006, Japanese Patent No. 2985655, and the like can be used.
  • the photosensitive resin composition is not particularly limited as long as it can be cured by irradiation with ultraviolet rays and an uncured portion can be removed by a developer, but the photosensitive resin composition is generally a photosensitive resin component. , A polymerizable monomer component, a photopolymerization initiator, and a stabilizer.
  • the photosensitive resin component greatly affects the final physical properties of the relief printing plate.
  • the photosensitive resin include polyurethane, polyvinyl alcohol, polyester resin, nylon resin, and resin (binder polymer) in which a polar group-containing polymer and a hydrophobic polymer are mixed and dispersed. Applicable.
  • a resin system in which a polar group-containing polymer and a hydrophobic polymer are mixed and dispersed is preferable in order to obtain excellent durability with respect to the intended relief printing plate and to form a high-definition printing plate. Is a highly versatile and useful resin system.
  • polar group containing polymer and hydrophobic polymer which comprise the resin system which mixed and disperse
  • the polar group-containing polymer include water-soluble and water-dispersible copolymers containing hydrophilic groups such as carboxyl groups, amino groups, hydroxyl groups, phosphoric acid groups, sulfonic acid groups, or salts thereof.
  • carboxyl group-containing NBR and carboxyl group-containing SBR described in Japanese Patent No. 2128098, Japanese Patent Laid-Open Nos.
  • hydrophobic polymer examples include a polymer obtained by polymerizing a conjugated diene hydrocarbon, or a copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene hydrocarbon and a monoolefin unsaturated compound.
  • the polymerizable monomer is not particularly limited, and examples thereof include an ester compound of an ethylenically unsaturated acid and an alcohol, and the literature “Photocuring Technology Data Book (published by Technonet)” etc.
  • the described compounds are applicable. Specifically, hexyl (meth) acrylate, nonane (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethyl, 2-butylpropanediol (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate, (meth) acrylic acid dimer, ECH-modified allyl acrylate, benzyl acrylate, caprolactone (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) ) Acrylate, is
  • photopolymerization initiator those described in documents such as “Photocuring Technology Data Book (published by Technonet)”, “Ultraviolet Curing System (published by General Technology Center)” and the like can be used.
  • the stabilizer examples include phenols such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol, hydroquinone, p-methoxyphenol, catechol, t-butylcatechol, ⁇ -naphthol, phenothiazine, pyridine, and nitrobenzene. M-dinitrobenzene, chloranil, thiazine dyes and the like.
  • blend additives such as a plasticizer, a polymerization inhibitor, a dye, a ultraviolet absorber, an ozone-resistant agent, with the photosensitive resin composition layer as needed.
  • the plasticizer include liquid 1,2 (or 1,4) -polybutadiene, 1,2 (or 1,4) -polyisoprene, or terminal modified products thereof, hydrocarbon oils such as naphthene oil and paraffin oil.
  • the dye a material generally used for coloring can be used.
  • the ultraviolet absorber include benzotriazole-based, triazine-based, and benzophenone-based ultraviolet absorbers.
  • Antiozonants include anti-aging agents such as dibenzyl ether, dihydroquinoline, diphenylamine, phenylenediamine, and mercaptobenzimidazole, waxes, and the like.
  • the photosensitive resin structure in this embodiment it is good also as a structure which has arrange
  • the first and second protective layers may be formed of the same material or different materials.
  • the material for forming the first and second protective layers include acrylic resins, styrene resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, polyamide resins, polyacetal resins, polycarbonate resins, Polyester resin, polyphenylene sulfide resin, polysulfone resin, polyether ketone resin, polyimide resin, fluorine resin, silicon resin, urethane resin, urea resin, melamine resin, guanamine resin, epoxy resin, Phenolic resins, cellulose resins and the like can be mentioned, but those that dissolve and disperse in the developer used (water developer or solvent developer) are preferred from the viewpoint of preventing the residue of the cleaning residue.
  • the film thickness of the first and second protective layers is preferably 0.1 ⁇ m or more in order to exhibit a practically sufficient protective function, and is preferably 20 ⁇ m or less from the viewpoint of image reproducibility.
  • the first protective layer is on the photosensitive resin composition layer
  • the second protective layer is on the ablation layer
  • the thickness after drying is 0 using the above-described protective layer forming solution.
  • a predetermined cover film (film thickness of 50 to 250 ⁇ m) is formed so as to be 1 to 20 ⁇ m.
  • the second protective layer is formed using a solution of the composition for forming an ablation layer so that the thickness after drying becomes 0.1 to 20 ⁇ m. Further, if necessary, a solution of the composition for forming the first protective layer is formed on the ablation layer so as to have a thickness of 0.1 to 20 ⁇ m.
  • a laminate comprising 1 to 3 layers obtained on the predetermined cover film thus obtained is laminated on the photosensitive resin composition to obtain a photosensitive resin construct.
  • the manufacturing method is not limited to this example.
  • Examples of the solvent for the solution of the composition for forming the first and second protective layers include water, ethanol, isopropanol, ethoxyethanol, toluene, ethyl acetate, and tetrahydrofuran.
  • various surfactants, antifoaming agents, leveling agents, penetrating agents, and the like may be blended in the solution of the composition for forming the protective layer.
  • a release treatment is performed on the surface to be coated in advance. You may give it.
  • As the cover film polyethylene, polypropylene, polystyrene and other materials can be used, but a polyethylene terephthalate film (PET film) is preferable from the viewpoint of dimensional stability, heat resistance, and mechanical performance.
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • the support (base film) constituting the photosensitive resin constituting body of the present embodiment for example, a polyester film in which an adhesive layer is laminated on a dimensionally stable polyester film can be applied.
  • the easily-adhesive coating film may be laminated
  • the adhesive include an adhesive having a polyester structure described in JP-A No. 2001-264959, an adhesive having a polyurethane structure, an actinic ray curable type, and a thermosetting described in Japanese Patent No. 3830959. Mold adhesives can be used.
  • the thickness of the photosensitive resin structure in the present embodiment is not particularly limited, but may be, for example, 0.5 mm to 10 mm.
  • the photosensitive resin structure of the present embodiment is formed by, for example, forming an ablation layer on a cover film, and closely adhering the ablation layer forming surface side and the photosensitive resin composition layer side laminated on the support, It can be manufactured by laminating.
  • a solid photosensitive resin composition called a flexographic CTP
  • a photosensitive resin layered on a polyethylene terephthalate support provided with an antihalation effect if necessary.
  • stacking the film which comprises the layer which has a laser ablation function on the adhesive resin composition layer is mentioned.
  • the method for producing a relief printing plate includes a support, a photosensitive resin composition layer disposed on the support, and an ablation layer disposed on the photosensitive resin composition layer. And a pattern drawing by irradiating the ablation layer with infrared rays on the support side, that is, the surface side not provided with the photosensitive resin composition layer.
  • a conventional irradiation unit can be used.
  • ultraviolet rays ultraviolet rays having a wavelength of 150 to 500 nm can be used, and in particular, ultraviolet rays having a wavelength of 300 to 400 nm can be preferably used.
  • the light source a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, or the like can be used.
  • This step of irradiating with ultraviolet rays may be performed before the pattern drawing step on the ablation layer or after the pattern drawing step.
  • the cover film is first peeled off. Thereafter, the ablation layer is irradiated with a pattern of infrared rays to form a mask on the photosensitive resin layer.
  • suitable infrared lasers include ND / YAG lasers (eg, 1064 nm) or diode lasers (eg, 830 nm).
  • a laser system suitable for the CTP plate making technique is commercially available. For example, a diode laser system CDI Spark (ESKO GRAPHICS) can be used. This laser system includes a rotating cylindrical drum holding a printing original, an IR laser irradiation device, and a layout computer, and image information is directly transmitted from the layout computer to the laser device.
  • Step of removing the ablation layer and the unexposed photosensitive resin composition layer with a developer a conventionally known method can be applied. Specifically, the photosensitive resin structure is exposed as described above, and then immersed in a developer (cleaning solution), and the unexposed portion is dissolved or scraped off with a brush or the like. A method of dissolving or scraping off an unexposed portion with a brush or the like after applying is used.
  • any conventionally known developer can be used as the aqueous developer. It is assumed that the developer contains a surfactant as an active ingredient.
  • the surfactant include an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant. These may be used singly or in combination of two or more.
  • the anionic surfactant include sulfate ester salts, higher alcohol sulfate esters, higher alkyl ether sulfate esters, sulfated olefins, alkylbenzene sulfonates, ⁇ -olefin sulfonates, phosphate ester salts, dithiophosphates. Examples include salts.
  • amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants and betaine type amphoteric surfactants.
  • Nonionic surfactants include, for example, higher alcohol ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adducts, higher alkylamine ethylene oxide adducts, fatty acid amide ethylenes.
  • Polyethylene glycol surfactants such as oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, glycerol fatty acid esters, pentaerythritol fatty acid esters, sorbitol and sorbitan fatty acid esters, polyhydric alcohol alkyl esters, alkanolamine fatty acid amides, etc. And polyhydric alcohol surfactants.
  • an organic solvent that can be mixed with water such as an alkyl glycol ether is used in order to improve detergency and penetration of the silicon compound into the plate.
  • Adding as a penetrant is a useful method.
  • the penetrant can be selected depending on the composition of the photosensitive resin composition layer to be washed. Examples thereof include mono- or polyethylene glycol ether type nonionic penetrants such as dibutyl diglycol ether.
  • the developer may contain a pH adjuster called an alkali builder as another component.
  • an alkali builder either an organic material or an inorganic material may be used, but those capable of adjusting the pH to 9 or more are preferable. Examples thereof include sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and sodium oxalate.
  • the amount of the surfactant is usually from 1 to 50 parts by weight, preferably from 3 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the developer.
  • the penetrant is usually used in the range of 0.2 to 20 parts by mass and preferably in the range of 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the developer.
  • the alkali builder is usually used in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the developer.
  • solvents can be used as well.
  • esters such as heptyl acetate and 3-methoxybutyl acetate
  • petroleum fractions such as toluene and decalin
  • chlorinated organic solvents such as tetrachloroethylene
  • alcohols such as propanol, butanol, and pentaanol.
  • -Mixtures of rutiles it is preferable to use a 3: 1 mixture (weight ratio) of tetrachloroethylene and butanol and hydrocarbons as the cleaning liquid.
  • the anionic functional group content was measured only for those having no manufacturer value.
  • a nuclear magnetic resonance apparatus “Avance600” (trade name) manufactured by Bruker Biospin Co., Ltd. is used, 13C (150 MHz, quantitative mode) is measured, and a molar ratio is obtained by calculation from the carbon number derived from the functional group. , Converted to mass%.
  • the halftone dot ratio (rendered area ratio) after drawing is 90% or more. Less than 90% was evaluated as ⁇ , and smaller than that as ⁇ .
  • the dot ratio was measured using a D200-II transmission densitometer mode 4 (manufactured by GretagMacbeth).
  • Company-made cello tape (registered trademark) CT-15, width 15 mm) was applied in two rows so as to overlap each other by about 5 mm, and then the adhesive tape was peeled off in the direction in which the ablation layer and the photosensitive resin composition layer were peeled off, Evaluation was made according to the following criteria.
  • the saponification degree of a polymer having ester bond in the side chain was measured by the following method. First, about 1 g of a sample was taken and weighed correctly to the order of 1 mg in an Erlenmeyer flask. 100 mL of water and a phenolphthalein solution (a solution of 1 g of phenolphthalein dissolved in 90 mL of ethanol and 100 mL of water) were added thereto, and the sample was completely dissolved at 90 ° C. or higher while stirring with heating. .
  • a phenolphthalein solution a solution of 1 g of phenolphthalein dissolved in 90 mL of ethanol and 100 mL of water
  • the saponification degree was calculated according to the following formula using the values obtained by the method described above.
  • the amount of samples actually used, the calculated degree of saponification, etc. are shown in Table 1 below.
  • X1 ((M2 / 1000) ⁇ (ab) ⁇ f ⁇ D / (S ⁇ P / 100)) ⁇ 100: (1)
  • X2 M1 * X1 / (n * M2-B * X1): (2)
  • H 100 ⁇ X2: (3)
  • X2 Residual acetate group (mol%)
  • Degree of saponification (mol%) a: Amount of specified solution used (mL)
  • b Amount of specified liquid used in blank test (mL)
  • f Factor of specified solution
  • D Concentration of specified solution S: Amount of sample collected (g)
  • P Pure content of sample (%) (39.7% for LW-200, 49.7% for
  • GL-05 Polyvinyl alcohol (made by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) KM-11: Polyvinyl alcohol (made by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) KP-08R: Polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) LW-200: Polyvinyl alcohol aqueous solution (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) JMR-10L: Polyvinyl alcohol (trade name, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) A50-Z5N: Polyvinyl acetate ethanol solution (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) L-20: Cellulose acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., trade name)
  • Support (2-1-1) Support A 624 g of neopentyl glycol, 93 g of ethylene glycol, 485 g of sebacic acid, and 382 g of isophthalic acid were subjected to a condensation reaction in an air atmosphere at a reaction temperature of 180 ° C. and a reduced pressure of 10 mmHg for 6 hours. Thereafter, 87 g of tolylene diisocyanate was added and further reacted at 80 ° C. for 5 hours to obtain a polyol. The number average molecular weight of the polyol thus obtained was measured by gel permeation chromatography and found to be about 32,000 in terms of polystyrene.
  • Polyol 100 parts by mass 2-hydroxypropyl methacrylate: 2 parts by mass Trimethylolpropane (1 mol) tolylene diisocyanate (3 mol) adduct: 17 parts by mass “Varifast Yellow” (manufactured by Oriental Kasei, trade name): 5 parts by mass Ethyl acetate: 300 parts by mass These were mixed to obtain a uniform solution.
  • Photosensitive resin composition layer A photosensitive resin composition described below was prepared as a material for forming the photosensitive resin composition layer.
  • the latex produced as described above was adjusted to pH 7 with sodium hydroxide, and then unreacted substances were removed by steam stripping to finally obtain a hydrophilic polymer aqueous solution with a solid content concentration of 40%. This was dried at 60 ° C. to obtain a hydrophilic copolymer as a polymer component.
  • Obtained hydrophilic copolymer 30 parts by mass Styrene-butadiene-styrene block copolymer “KX-405” (manufactured by KRATON, trade name): 25 parts by mass Liquid polybutadiene “LIR305” (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as a plasticizer , Trade name, vinyl content 8 mol%, viscosity at 30 ° C., 40 Pa ⁇ s): 30 parts by mass Hexamethylene dimethacrylate as polymerizable monomer: 2 parts by mass 2-butyl-2-ethylpropanediol diacrylate: 8 parts by mass 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone as a photopolymerization initiator: 2 parts by mass 2,6-di-t-butyl-p-cresol as a polymerization inhibitor: 0.3 part by mass A kneader at 130 ° C. Was uniformly kneaded to obtain
  • Hydrophilic copolymer obtained as described above 65 parts by mass Styrene-butadiene-styrene block copolymer “KT-65” (trade name “Califlex TR”, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.): 35 parts by mass Plasticity Liquid polybutadiene “B-1000” (trade name “Nisso PB” manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) as an agent: 50 parts by mass 2,6-di-t-butyl-p-cresol (BHT): 2 parts by mass as a polymerization inhibitor In a stage where the above materials are kneaded at 150 ° C.
  • 1,6-hexanediol diacrylate as a polymerizable monomer 10 parts by mass 1,6-hexanediol dimethacrylate: 5 parts by mass
  • Benzoin methyl ether as a photopolymerization initiator 1 part by mass Methyl hydroquinone as a polymerization inhibitor: 0.02
  • a part by mass was added and further kneading was performed to obtain a photosensitive resin composition B-2.
  • Terminal amino group-containing acrylonitrile-butadiene oligomer (Hycar ATBNX 1300 ⁇ 16 Ube Industries, Ltd.): a solution prepared by dissolving 55.3 parts by mass in 100 parts by mass of methyl ethyl ketone in a container different from the 1 L flask. Was added to the 1 L flask with stirring at room temperature to obtain a polymer solution. The obtained polymer solution was dried under reduced pressure to remove tetrahydrofuran and methyl ethyl ketone to obtain a polymer having a number average molecular weight of 21,000.
  • Hydrophilic copolymer 10 parts by mass Chlorinated polyethylene as a hydrophobic polymer (“H-135”, manufactured by Osaka Soda Co., Ltd.): 45 parts by mass Styrene-butadiene rubber (“SBR1507”, Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
  • Product 15 parts by weight Butadiene oligoacrylate (“PB-A”, Kyoeisha Yushi Co., Ltd.) as a polymerizable monomer: 28.5 parts by weight Benzyldimethylketanol (“Irgacure 651”, Ciba Geigy Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator )): 1 part by mass Hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor: 0.5 part by mass is dissolved and dispersed in 40 parts by mass of toluene and 10 parts by mass of water, kneaded at 105 ° C. using a heating kneader, and photosensitive.
  • Photosensitive resin composition B-4 Water: 100 parts by mass Sodium dodecylbenzenesulfonate: 0.2 parts by mass Polyoxyethylene nonylphenyl ether: 3 parts by mass Potassium persulfate: 0.3 parts by mass t-Dodecyl mercaptan: 0.2 parts by mass Methyl methacrylate: 29 parts by mass Part Methacrylic acid: 1 part by weight Butadiene: 70 parts by weight are mixed and reacted at 50 ° C. for 20 hours, water-dispersed latex rubber having a number average particle size of 140 nm, a glass transition temperature of ⁇ 52 ° C., and a solid content concentration of 50.5%. (A) was obtained.
  • water-dispersed latex rubber (a): 33.6 parts by mass (17 parts by mass as a solid content), Water-dispersed latex rubber (b): 14.5 parts by mass (8 parts by mass as solid content)
  • Phenoxy polyethylene glycol acrylate 16 parts by mass
  • Polycondensate of glycerin polyether polyol, succinic anhydride, and 2-hydroxyethyl acrylate 14 parts by mass was mixed in advance and the water was evaporated in a dryer heated to 120 ° C. for 2 hours to obtain component (c) Got.
  • polybutadiene rubber as a plasticizer 20 parts by mass (“Nipol” 1220L manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
  • Nitrile rubber as a hydrophobic polymer 20 parts by mass (“Nipol” 1042 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
  • a lab kneader mill manufactured by Toshin Co., Ltd. having a capacity of 200 mL heated to 140 ° C. Thereafter, the component (c) prepared as described above was put into the lab kneader mill and kneaded for 10 minutes.
  • benzyl dimethyl ketal as a photopolymerization initiator: 1 part by mass Dioctyl phthalate as a plasticizer: 2 parts by mass Hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor: 0.1 part by mass was added and kneaded for 5 minutes to form a photosensitive resin composition.
  • a product B-4 was obtained.
  • Laminate 1 A photosensitive resin composition of a plate-like photosensitive resin plate EF (trade name: AWP, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) is applied to the support A and an anti-adhesion film (a silicone release material is applied) using a 120 ° C. hot press machine. The film 1 was heated and pressed and molded to a thickness of 1.14 mm to obtain a laminate 1 of a support, a photosensitive resin composition layer, and an adhesive film.
  • AWP plate-like photosensitive resin plate EF
  • an anti-adhesion film a silicone release material is applied
  • Laminate 4 Using the photosensitive resin composition (B-2) produced as described above, using a hot press machine at 120 ° C., the support A and an anti-adhesion film (PET film coated with a silicon release agent) ) And heated and pressed to form a thickness of 1.14 mm to obtain a laminate 4 of a support, a photosensitive resin composition layer, and an anti-adhesion film.
  • the photosensitive resin composition (B-2) produced as described above, using a hot press machine at 120 ° C., the support A and an anti-adhesion film (PET film coated with a silicon release agent) ) And heated and pressed to form a thickness of 1.14 mm to obtain a laminate 4 of a support, a photosensitive resin composition layer, and an anti-adhesion film.
  • Laminate 5 Using the photosensitive resin composition (B-3) produced as described above, using a hot press at 120 ° C., the support A and an anti-adhesion film (PET film coated with a silicone release agent) ) And heated and pressed to form a thickness of 1.14 mm to obtain a laminate 5 of a support, a photosensitive resin composition layer, and an anti-adhesion film.
  • the photosensitive resin composition (B-3) produced as described above, using a hot press at 120 ° C., the support A and an anti-adhesion film (PET film coated with a silicone release agent) ) And heated and pressed to form a thickness of 1.14 mm to obtain a laminate 5 of a support, a photosensitive resin composition layer, and an anti-adhesion film.
  • Ethylene-acrylic acid copolymer “SG-2000” which is an anionic polymer having a carboxylic acid group as an anionic polar functional group (manufactured by Lead City Co., Ltd., trade name, 20 mass% aqueous solution, water absorption rate 1.2%, Carboxylic acid content 14% by mass) 10 parts by mass, carbon black “BONJET CW-2” (trade name, 20% by mass aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), parting agent “KF-351” (Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd., trade name) 0.05 parts by mass, 30 parts by mass of water, and 15 parts by mass of ethanol were mixed to obtain a coating solution for forming an ablation layer.
  • SG-2000 which is an anionic polymer having a carboxylic acid group as an anionic polar functional group (manufactured by Lead City Co., Ltd., trade name, 20 mass% aqueous solution, water absorption rate 1.2%
  • This ablation layer forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m as a cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and a drying process is performed at 90 ° C. for 2 minutes.
  • a laminate of the ablation layer and the cover film was obtained.
  • the anti-adhesion film of the laminate 1 produced in the above (2-3-1) was peeled off.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film obtained above was laminated so that the ablation layer was in contact with the photosensitive resin layer, and a photosensitive resin structure for evaluation was produced.
  • Ethylene-acrylic acid copolymer “SG-2000” (trade name, 20% by mass aqueous solution, water absorption rate 1.2%, carboxylic acid content 14% by mass) 10 parts by mass as an anionic polymer , 5 parts by weight of carbon black “BONJET CW-2” (Orient Chemical Industries, trade name, 20% by weight aqueous solution), Sumikaflex “900HL” (ethylene-vinyl acetate copolymer, manufactured by Sumika Temtex Co., Ltd.) , Trade name) 0.5 parts by mass, release agent “KF-351” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) 0.1 parts by mass, water 30 parts by mass, ethanol 15 parts by mass, and ablation layer A forming coating solution was obtained.
  • This ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m to be a cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is subjected to a drying treatment so that the ablation layer and the cover are coated.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in (2-3-1) by the same method as in Example 1 above, and the photosensitivity for evaluation was used.
  • a resin structure was produced. Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • Example 2 since the anblation layer contains an anionic polymer, the ablation layer is free from wrinkles due to moisture absorption, and has good workability by infrared rays. It was developable with an aqueous processing solution, and there was almost no re-adhesion of debris in the ablation layer, and a very good evaluation was obtained in practical use.
  • Example 3 Ethylene-acrylic acid copolymer “Nucleel N5130H” which is an anionic polymer having a carboxylic acid group as an anionic polar functional group (manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name, 25 mass% aqueous solution, water absorption 1.5 %, Carboxylic acid content 20% by mass (manufacturer measured value) 8 parts by mass, carbon black “BONJET CW-2” (trade name, 20% by mass aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Industries Ltd.) 5 parts by mass, release agent “KF-351” (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.05 parts by mass, water 30 parts by mass, and ethanol 15 parts by mass were mixed to obtain a coating solution for forming an ablation layer.
  • an anionic polymer having a carboxylic acid group as an anionic polar functional group manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name,
  • the ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for the cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is dried to give the ablation layer and the cover.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in (2-3-1) by the same method as in Example 1 above, and the photosensitivity for evaluation was used.
  • a resin structure was produced.
  • Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • Example 3 since the anblation layer contains an anionic polymer, the ablation layer is free from wrinkles due to moisture absorption and has good workability by infrared rays. It was developable with an aqueous processing solution, and there was almost no re-adhesion of debris in the ablation layer, and a very good evaluation was obtained in practical use.
  • Example 4 Ethylene-acrylic acid copolymer “SG-2000” (trade name, 20% by mass aqueous solution, water absorption rate 1.2%, carboxylic acid content 14% by mass) 8 parts by mass as an anionic polymer Polyvinyl alcohol “GL-05” (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name, saponification degree 87.4%, viscosity 4.8 to 5.8 mPa ⁇ s, 10% by mass aqueous solution), 4 parts by mass, carbon black 5 parts by weight of “BONJET CW-2” (trade name, 20% by weight aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), 0.05 part by weight of release agent “KF-351” (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Then, 30 parts by mass of water and 15 parts by mass of ethanol were mixed to obtain a coating solution for forming an ablation layer.
  • GL-05 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry
  • the ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for the cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is dried to give the ablation layer and the cover.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in the above (2-3-1) by the same method as in Example 1, and a photosensitive resin for evaluation was used.
  • a construct was made. Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • Example 4 since the anblation layer contains an anionic polymer, the ablation layer is free from wrinkles due to moisture absorption, and has good workability by infrared rays. Development was possible with an aqueous processing solution, and there was almost no re-adhesion of debris in the ablation layer, and a very good evaluation was obtained in practical use.
  • Example 5 An anionic polymer having a carboxylic acid group as an anionic polar functional group, an ethylene-methacrylic acid copolymer “Nucrel N2060” (manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name, 27 mass% aqueous solution, water absorption 1.5 %, Carboxylic acid content 20% by mass (manufacturer measured value) 7 parts by mass, polyvinyl alcohol “GL-05” (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name, saponification degree 87.4%, viscosity 4.8) ⁇ 5.8 mPa ⁇ s, 10% by weight aqueous solution) 1 part by weight, carbon black “BONJET CW-2” (trade name, 20% by weight aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Industries Ltd.), release agent “KF- 351 "(manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) 0.05 parts by
  • a liquid was obtained.
  • the ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for the cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is dried to give the ablation layer and the cover.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in the above (2-3-1) by the same method as in Example 1, and a photosensitive resin for evaluation was used.
  • a construct was made. Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • Example 5 since the anblation layer contains an anionic polymer, the ablation layer is free from wrinkles due to moisture absorption and has good workability by infrared rays. Development was possible with an aqueous processing solution, and there was almost no redeposition of debris in the ablation layer, and a very good evaluation was obtained in practical use.
  • Example 6 The anti-adhesion film of laminate 2 produced in (2-3-2) above was peeled off. Thereafter, the laminate of the ablation layer and the cover film obtained by the same method as described in Example 2 was laminated by bringing the ablation layer into contact with the photosensitive resin layer, and a photosensitive resin structure for evaluation was obtained. The body was made. It was laminated at room temperature for moisture absorption wrinkle evaluation and actinic ray processability evaluation, and laminated at 150 ° C. for evaluation of detergency, and a photosensitive resin structure for evaluation was prepared. Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • Example 6 since the anblation layer contains an anionic polymer, the ablation layer has no wrinkles due to moisture absorption, and has good workability by infrared rays. Development was possible with a solvent-based processing solution, and there was almost no re-adhesion of debris in the ablation layer.
  • the ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for the cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is dried to give the ablation layer and the cover.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in the above (2-3-1) by the same method as in Example 1, and a photosensitive resin for evaluation was used. A construct was made. Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained.
  • the ablation layer-forming coating solution is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for the cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and is dried to give the ablation layer and the cover.
  • a laminate with a film was obtained.
  • the laminate of the ablation layer and the cover film thus produced was laminated on the laminate 1 produced in the above (2-3-1) by the same method as in Example 1, and a photosensitive resin for evaluation was used.
  • a construct was made.
  • Table 2 below shows the evaluation results (c) to (f) for the photosensitive resin structural body thus obtained. As is apparent from Table 2, in Comparative Example 2, the ablation layer was free from wrinkles due to moisture absorption, and the processability to infrared rays was ensured.
  • Example 7 Ethylene-acrylic acid copolymer “SG-2000” which is an anionic polymer (manufactured by Lead City Co., Ltd., trade name, 20 mass% aqueous solution, water absorption 1.2%, carboxylic acid content 14 mass%): 8 mass As a polymer having an ester bond in the side chain, polyvinyl alcohol “GL-05” (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name, saponification degree 87.4%, viscosity 4.8 to 5.8 mPa ⁇ s 5 Mass% aqueous solution: 8 parts by mass Carbon black “BONJET CW-2” (trade name, 20% by mass aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.): 7.5 parts by mass Sumikaflex “900HL” (ethylene- Vinyl acetate copolymer, manufactured by Sumika Temtex Co., Ltd., trade name): 0.3 part by weight Release agent “KF-351” (trade name, manufactured by
  • the coating solution for forming the ablation layer thus obtained is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m to be a cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, and subjected to a drying treatment.
  • a cover film (a laminate of a cover film and an ablation layer) on which an ablation layer was formed was produced.
  • the photosensitive resin structural body for evaluation was produced as follows. After removing the anti-adhesion film of the photosensitive resin laminate with the anti-adhesion film cut to 11 cm ⁇ 16 cm, the cover film with an ablation layer was laminated so that the ablation layer was in close contact with the photosensitive resin.
  • the cover film was placed on a hot plate heated to 100 ° C. so as to be in contact with the heating surface, and heated at a load of 2 kg for 2 minutes. Thereafter, it was cooled for 2 minutes (cooling water was circulated through the cooling press, the cover film was placed in contact with the cooling surface, and cooled at a load of 2 kg for 2 minutes) to produce a photosensitive resin structure for evaluation.
  • Example 8 In preparation of a coating solution for forming an ablation layer, a polyvinyl alcohol “KM-11” as a polymer having an ester bond in a side chain was used instead of a 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol “GL-05”: 8 parts by mass (Japan) 8 parts by mass of a 5% by mass aqueous solution having a trade name, a saponification degree of 79.2%, and a viscosity of 11.7 to 14.3 mPa ⁇ s, manufactured by Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. was used. Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 9 In preparation of a coating solution for forming an ablation layer, a polyvinyl alcohol “KP-08R” (Japan) was used as a polymer having an ester bond in the side chain, instead of a 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol “GL-05”: 8 parts by mass. 8 parts by mass of a 5% by weight aqueous solution having a trade name, a saponification degree of 73.3%, and a viscosity of 6 to 8 mPa ⁇ s, manufactured by Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. was used. Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 10 In the preparation of a coating solution for forming an ablation layer, instead of a 5% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol “GL-05”, an aqueous polyvinyl alcohol solution “LW-200” as a polymer having an ester bond in the side chain (Nippon Synthetic Chemical Industry) 1 part by mass of an aqueous solution having a trade name, a saponification degree of 48.5%, a viscosity of 500 to 2000 mPa ⁇ s, and a polymer concentration of 39.7% by mass) was used. Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 11 In the preparation of the coating solution for forming the ablation layer, the polyvinyl alcohol “GL-05” was replaced with 5 mass% aqueous solution: 8 parts by mass, and polyvinyl alcohol “JMR-10L” as a polymer having an ester bond in the side chain (Japan) 8 mass parts of 5 mass% aqueous solution of a product made from a vinyl acetate Poval Co., Ltd. brand name, saponification degree 36.3%) was used. Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 12 In the preparation of the coating solution for forming the ablation layer, Sumikaflex “900HL” (ethylene-vinyl acetate copolymer, trade name, manufactured by Sumika Temtex Co., Ltd.), which is an adhesive strength modifier, was not added. Other conditions were the same as in [Example 8] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Sumikaflex “900HL” ethylene-vinyl acetate copolymer, trade name, manufactured by Sumika Temtex Co., Ltd.
  • Example 13 In the preparation of the coating solution for forming the ablation layer, the anionic polymer ethylene-acrylic acid copolymer “SG-2000”: instead of 8 parts by mass, the anionic polymer ethylene-acrylic acid copolymer was used.
  • "Primacol 5990I” (trade name, 20% by mass aqueous solution, water absorption rate 1.6%, carboxylic acid content 20% by mass, manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.): 8.5 parts by mass, and adhesive strength adjustment
  • the agent Sumikaflex “900HL” was not added.
  • Other conditions were the same as in [Example 9] above, and a photosensitive resin component was prepared and evaluated.
  • Example 14 The laminated body 4 was used as a laminated body of a support body, the photosensitive resin composition layer, and the adhesion prevention film. Other conditions were the same as in [Example 8] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 15 The laminated body 5 was used as a laminated body of a support body, the photosensitive resin composition layer, and the adhesion prevention film. Other conditions were the same as in [Example 8] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 16 The laminated body 6 was used as a laminated body of a support body, the photosensitive resin composition layer, and the adhesion prevention film. Other conditions were the same as in [Example 8] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 17 As an anionic polymer having a phenolic hydroxyl group as an anionic polar functional group, a phenol-formaldehyde addition condensate (resole) “PR-50607B” (Sumitomo Bakelite Co., Ltd., trade name “Sumilite Resin”, 70% by mass aqueous solution, Water absorption 0%, phenolic hydroxyl group content 14% by mass): 2.6 parts by mass As a polymer containing an ester bond in the side chain, polyvinyl acetate “A50-Z5N” (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name) “Gosenil”, saponification degree 0.2%, 49.7 mass% ethanol solution): 0.8 mass carbon black “TB-8100 BLACK” (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., trade name: 12.5 mass%) Solution): 12 parts by weight Release agent “KF-351” (trade name, manufactured by Shin-Etsu
  • the coating solution for forming the ablation layer thus obtained was used as a cover film having a release PET film “MRV100” having a thickness of about 100 ⁇ m (trade name “DIAFOIL” manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.). ) was subjected to coating so that the thickness after drying was 3 ⁇ m, and was subjected to heat treatment at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a laminate of an ablation layer and a cover film.
  • Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin component was produced and evaluated.
  • Example 18 Instead of polyvinyl acetate “A50-Z5N”, 0.4 part by mass of cellulose acetate “L-20” (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., saponification degree 21.8%) as a polymer having an ester bond in the side chain used. Other conditions were the same as in [Example 17] above, and a photosensitive resin component was prepared and evaluated. Measurement of the degree of saponification of cellulose acetate “L-20” was carried out in order to obtain a completely homogeneous solution. About 1 g of a sample was taken and accurately weighed to the order of 1 mg in an Erlenmeyer flask.
  • Example 19 Isoprene-isoprene sulfonic acid copolymer “CS1201” (trade name “DYNAFLOW” manufactured by JSR Corporation, a 15 mass% aqueous solution, water absorption 15%, an anionic polymer having a sulfonic acid group as an anionic polar functional group, Sulphonic acid content 23 mass%): 12 mass parts Carbon black “BONJET CW-2” (trade name, 20 mass% aqueous solution, manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.): 7.5 mass parts Release agent “KF-351” (Trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 0.05 parts by mass Water: 20 parts by mass Ethanol: 12 parts by mass was mixed to obtain a coating solution for forming an ablation layer. Other conditions were the same as in [Example 7] above, and a photosensitive resin laminate was prepared and evaluated.
  • the coating solution for forming an ablation layer obtained as described above is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m for a cover film so that the film thickness after drying becomes 3 ⁇ m, and a drying treatment is performed.
  • a cover film on which an ablation layer was formed that is, a laminate of the cover film and the ablation layer was produced.
  • the laminate of the cover film and the ablation layer was laminated so that the photosensitive resin layer and the ablation layer were in contact with each other by removing the anti-adhesion film of the laminate 1 prepared in (2-3-1) above.
  • a photosensitive resin composition was prepared.
  • the coating solution for forming the ablation layer thus obtained is coated on a PET film having a thickness of about 100 ⁇ m to be a cover film so that the film thickness after drying is 3 ⁇ m, followed by drying treatment.
  • a cover film (a laminate of a cover film and an ablation layer) on which an ablation layer was formed was produced.
  • This cover film and ablation layer laminate was evaluated by removing the anti-adhesion film from the laminate 1 produced in (2-3-1) above, and laminating the photosensitive resin layer and the ablation layer in contact with each other.
  • a photosensitive resin constituent for use was prepared.
  • the ablation layer includes an anionic polymer and a polymer having an ester bond in the side chain and a saponification degree of 0% or more and 90% or less. Because it is contained, the ablation layer does not generate wrinkles due to moisture absorption, the adhesiveness between the photosensitive resin composition layer and the ablation layer is sufficiently high for practical use, the workability by infrared rays is good, and the aqueous treatment Development was possible with a liquid, and there was almost no re-adhesion of debris in the ablation layer, and a very good evaluation was obtained in practical use.
  • Comparative Example 3 the ablation layer did not generate wrinkles due to moisture absorption, and the processability to infrared rays was ensured. Further, although development with an aqueous processing solution was possible, since a styrene-butadiene-styrene copolymer was used in place of the anionic polymer for the ablation layer, reattachment of the ablation layer to the residue plate surface could not be prevented. In Comparative Example 4, since an anionic polymer was not included in the ablation layer, moisture wrinkles were generated, and sufficient resin adhesion was not obtained.
  • the ablation layer of the present invention is suitable for use as a photosensitive resin for letterpress printing, and has industrial applicability in general commercial printing fields such as films, labels, and cartons.

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Abstract

　赤外線により加工可能な層であり、アニオン性ポリマーを含有する凸版印刷用感光性樹脂用のアブレーション層を具備する感光性樹脂構成体を用い、前記アブレーション層に赤外線を照射してパターン描画し、前記感光性樹脂層に紫外線を照射してパターン露光し、現像液により前記アブレーション層及び未露光の感光性樹脂層を除去し、凸版印刷版を製造する。

Description

アブレーション層、感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法
　本発明は、凸版印刷用の感光性樹脂構成体を構成するアブレーション層、当該アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法に関する。
　従来から、フレキソ印刷用にはゴム版が用いられてきたが、近年においては、これに代わり、熱可塑性エラストマーをベースポリマーとした種々のフレキソ印刷用の感光性樹脂構成体が提案されている。
　このようなフレキソ印刷用の感光性樹脂構成体を構成する材料としては、溶液現像型、溶剤現像型及び水又は水系現像液で現像する型の、感光性エラストマー組成物が知られており、種々の感光性エラストマー組成物が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
　このようなフレキソ印刷用の感光性樹脂構成体の製造技術については、フレキソ製版におけるＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｔｏ　Ｐｌａｔｅ）技術が発達している。
　このフレキソ用ＣＴＰ技術は、例えば、感光性樹脂組成物層の上に、赤外線によりアブレーション可能な層を設けておき、レーザー光を照射することにより、所望の画像に相当するアブレーション層を除去し、ネガにあたる活性光線の透過部分を形成させるものである。
　このようなアブレーション層としては、赤外線吸収性の材料を所定のバインダー中に含有させた材料層（例えば、特許文献２参照。）や、赤外線吸収性を有する金属による薄層（例えば、特許文献３参照。）が知られている。
　赤外線アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体の具体例としては、下記のようなものが提案されている。
　例えば、赤外線アブレーション層、バリア層、感光性樹脂組成物層がこの順に積層されているフレキソ印刷版が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
　また、水で現像するタイプのフレキソ印刷用の感光性樹脂構成体としては、赤外線アブレーション層に、水に不溶性のポリアミド等を用いたものが提案されている（例えば、特許文献５参照。）。
　さらには、ポリビニルアルコールを含有するアブレーション層についての提案もなされている（例えば、特許文献６参照。）。
特公昭５９－２９８４９号公報 特開平１１－１５３８６５公報 特開２００４－１６３９２５公報 特表平１０－５０９２５４公報 特許第２９１６４０８号公報 特開２０００－５６４４７号公報
　しかしながら、従来提案されている赤外線アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体には、下記のような欠点がある。
　特許文献４に開示されている感光性樹脂構成体は、バリア層を有しているため、印刷版の製造工程が増えて複雑になる。さらには、バリア層の材質によっては赤外線アブレーション層との界面に剥がれを生じる。また、バリア層はアブレーションされないため、酸素の透過性が悪く、形成画像が太ったりする等の問題がある。
　この画像が太る問題は、フレキソ印刷用感光性樹脂構成体の硬化メカニズムがラジカル重合によることに起因している。
　重合時に発生するラジカルは、酸素により失活するため、空気に触れている版表面付近では、硬化の進行が遅くなる傾向がある。ゆえに、ネガ等を密着させる必要が無く版の最表面が空気に触れているＣＴＰ版では、ネガを必要とするアナログ版に比べて細部の硬化が抑制されることになる。ＣＴＰ版においては、このような酸素阻害による硬化抑制効果を利用して、アナログ版よりも細かい画像形成を可能としているのである。
　一方において、バリア層を有していると樹脂と酸素との接触が抑制されるため、ラジカルの失活が妨げられ硬化が円滑に進行し、酸素による硬化抑制効果が得られないため、かえって画像の精細さは劣ることになり、いわゆる形成画像が太った状態となる。
　特許文献５に記載されている技術によると、水系現像液中に未溶解物が蓄積していくことにより現像液が汚染され、必然的に現像液交換の頻度を高くしなければならないという実用上の問題がある。
　また、アブレーション層のカスが水系現像液中に蓄積していくと、感光性樹脂組成物層に再付着したり、現像装置内でつまりが生じたりする等の問題がある。
　さらに、感光性樹脂組成物層とアブレーション層との密着力が十分ではなく、作業中にアブレーション層の剥がれが生じる等の問題がある。
　特許文献６に記載されている技術によると、アナログ版の保護膜同様、アブレーション層上に積層されているカバーフィルムを剥離した後、急激な吸湿が起きるため、アブレーション層にシワが発生し、表面に凹凸が生じてしまうため、レーザーの焦点を合わせにくくなり、描画画像の鮮明さが劣化し、版品質が低下するという問題がある。
　そこで本発明においては、感光性樹脂組成物層とアブレーション層とが実用上十分な密着力を有しており、（１）高湿度環境下で、貼着されているカバーフィルムを剥離しても、吸湿によるシワが発生せず、（２）現像液で除去したものを現像液中に容易に溶解・分散させることができ、洗浄カスの残存を効果的に防止でき、しかも（３）赤外線で加工可能な感光性樹脂用のアブレーション層、当該アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法を提供することを目的とする。
　上述した従来技術の課題を解決するべく鋭意研究を行った結果、赤外線により加工可能な層であり、アニオン性ポリマーを含有する凸版印刷版用感光性樹脂用のアブレーション層、当該アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体が上記の目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち本発明は下記の通りである。
〔１〕
　赤外線により加工可能な層であり、アニオン性ポリマーを含有する凸版印刷用感光性樹脂用のアブレーション層。
〔２〕
　前記アブレージョン層が、側鎖にエステル結合を有し、ケン化度が０％以上９０％以下であるポリマーを、さらに含有する前記〔１〕に記載のアブレーション層。
〔３〕
　水系現像液により除去可能である前記〔１〕又は〔２〕に記載のアブレーション層。
〔４〕
　溶剤系現像液により除去可能である前記〔１〕又は〔２〕に記載のアブレーション層。
〔５〕
　赤外線吸収剤としてカーボンブラックが含有されている前記〔１〕乃至〔４〕のいずれか一に記載のアブレーション層。
〔６〕
　支持体と、
　当該支持体の上に配設される感光性樹脂層と、
　当該感光性樹脂層の上に配設される、前記〔１〕乃至〔５〕のいずれか一に記載のアブレーション層と、
を含む凸版印刷用の感光性樹脂構成体。
〔７〕
　凸版印刷版の製造方法であって、
　支持体と、前記支持体の上に配設される感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の上に配設される前記〔１〕乃至〔５〕のいずれか一に記載のアブレーション層とを含む凸版印刷用の感光性樹脂構成体に対し、前記支持体側から紫外線照射する工程と、
　前記アブレーション層に赤外線を照射してパターン描画する工程と、
　前記感光性樹脂層に紫外線を照射してパターン露光する工程と、
　現像液により前記アブレーション層及び未露光の感光性樹脂層を除去する工程と、
を、有する凸版印刷版の製造方法。
　本発明によれば、高湿度環境下で、アブレーション層に貼着されているカバーフィルムを剥離しても、吸湿によるシワが発生せず、現像液で除去したものを容易に溶解・分散させることができ、洗浄カスの残存や再付着を効果的に防止でき、しかも赤外線で加工可能なアブレーション層、当該アブレーション層を具備する感光性樹脂構成体、当該感光性樹脂構成体を用いた凸版印刷版の製造方法を提供できる。
　以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」と言う。）について、詳細に説明する。
　なお、本発明は以下の記載に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。
〔アブレーション層〕
　本実施形態のアブレーション層は、後述する凸版印刷版作製用の感光性樹脂構成体を構成するアブレーション層であり、赤外線により加工（描画）可能であり、アニオン性ポリマーを含有する。
　アブレーション層は、後述する凸版印刷版作製用の感光性樹脂構成体において、感光性樹脂組成物層上に、必要に応じて所定の保護層を介して積層形成されるものである。
　アブレーション層は、通常、感光性樹脂組成物層側とは反対側の面が、所定のカバーフィルムによって覆われることで、外気や傷から保護されている。
　赤外線による加工（描画）は、前記カバーフィルムを剥離して行うが、この際に吸湿シワの発生を防止し、かつ後工程である現像工程において良好な洗浄性を実現するべく、本実施形態のアブレーション層は、アニオン性ポリマーを含有しているものとする。
　アニオン性ポリマーを含有することにより、従来問題とされていた吸湿シワの発生及び洗浄性の問題の解決を図り、しかも現像工程においては版面へのアブレーション層カスの再付着をも回避することができる。
　さらに、感光性樹脂組成物層や保護層との密着性を高めるべく、本実施形態のアブレーション層においては、ケン化度が９０％以下である側鎖にエステル結合を含むポリマーが含有されていることが好ましい。
　凸版印刷版を作製するために、感光性樹脂構成体を構成するアブレーション層を赤外線により描画した後、感光性樹脂組成物層に対するパターン形成が行われる。
　感光性樹脂組成物層に対するパターン形成は、通常、露光工程、現像工程及び後露光工程を経て行われる。
　一般的には、寸法安定性を有する支持体（ベースフィルム：例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）に、接着層、感光性樹脂組成物層、アブレーション層、カバーフィルム（例えばＰＥＴフィルム）が順次積層された構成の感光性樹脂構成体に対し、上記各工程が行われて凸版印刷版を作製する。
　本実施形態におけるアブレーション層は、アニオン性ポリマーを含有しており、これにより、優れたシワ耐性を有し、現像処理工程において現像液への均一な溶解・分散が可能なものとなり、洗浄性が優れたものとなる。
　アニオン性ポリマーとは、アニオン性極性官能基を有するポリマーをいう。
　特に、中性の水に不溶又は吸水率が２０％以下である樹脂が好ましい。
　アニオン性ポリマーの数平均分子量については特に限定されないが、３０００～１０万であることが好ましく、５０００～８万がより好ましく、５０００～３万がさらに好ましい。
　アニオン性ポリマーの数平均分子量は、ゲルパーメーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法を用いて、ポリスチレン換算で測定を行い、算出できる。
　アニオン性ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、グアナミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられ、さらにはこれらの樹脂の共重合体等も挙げられる。
　上記ポリマーは単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　アニオン性ポリマーのアニオン性極性官能基としては、リン酸基、スルホン酸基、カルボン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられるが、取扱・入手性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基が好ましい。また、吸湿シワの抑制および樹脂密着力の観点から、スルホン酸基が好ましい。
　なお、本実施形態においては、水酸基は、アニオン性極性官能基には含まれない。
　アニオン性ポリマーにおけるアニオン性極性官能基の含有量は、良好な洗浄性を確保する観点から１質量％以上が好ましく、吸湿シワの抑制を図る観点から８０質量％以下とすることが好ましい。より好ましくは５質量％～６０質量％、さらに好ましくは７質量％～４０質量％の範囲である。
　アブレーション層に含有されているアニオン性ポリマーとしては、変性ポリオレフィン系樹脂が好ましく、不飽和共役カルボン酸とエチレン性不飽和化合物との共重合体がより好ましく、エチレン－アクリル酸共重合体がさらに好ましく、エチレン－メタクリル酸共重合体がさらにより好ましく、エチレン－アクリル酸共重合体がよりさらに好ましい。この場合、アニオン性ポリマーの極性官能基は、カルボン酸基である。
　アブレーション層には、上述したように、上記各種アニオン性ポリマーに加えて耐シワ性を維持可能な範囲で、ケン化度が９０％以下の側鎖にエステル結合を含むポリマーを含有することが好ましい。
　従来、アブレーション層やアナログ版の保護膜としてポリビニルアルコールを使用する技術が知られているが、この場合、急激な吸湿によるシワの発生を防ぐために、水溶性が低く結晶化度の高い、高ケン化度のポリビニルアルコールを使用することが当業者の間では通常とされていた。
　この慣例にとらわれることなく鋭意検討した結果、アブレーション層が前記アニオン性ポリマーに加えてケン化度が０％以上９０％以下の側鎖にエステル結合を含むポリマーを含有するものとしたことにより、シワの発生が防止でき、かつ、隣接する感光性樹脂組成物層や保護層との密着力の向上が図られ、剥がれや破れを効果的に防止できる。
　上記ケン化度が０％以上９０％以下の側鎖にエステル結合を含むポリマーにおけるケン化度は、好ましくは０％以上８０％以下、より好ましくは０％以上７５％以下、さらに好ましくは０％以上７０％以下である。
　ここで、「ケン化」とは、一般に、アルカリによりエステルを加水分解してアルコールとカルボン酸を生成する反応をいい、ケン化度は残存エステル基（ｍｏｌ％）を１００から差し引いた値のことをいう。
　上記側鎖にエステル結合を含むポリマーとしては、例えば、ポリ酢酸ビニルや、部分ケン化ポリ酢酸ビニル（ケン化物はポリビニルアルコール）や、エチレン－酢酸ビニル共重合体などのポリビニルエステル系共重合体や、酢酸セルロースなどのセルロース脂肪酸エステル系化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　ケン化度が９０％以下の側鎖にエステル結合を含むポリマーの含有量は特に制限されないが、前記アニオン性ポリマー１００質量部に対して０．１質量部以上５００質量部以下が好ましく、０．５質量部以上３００質量部以下がより好ましく、１質量部以上１００質量部以下がさらに好ましい。
　アブレーション層の膜厚は、後述する感光性樹脂構成体に対して露光処理を行う工程の際、紫外線に対する遮光性を確保する観点から、０．１μｍ以上であることが好ましい。
　一方、アブレーション層の膜厚が２０μｍを超えると、アブレーション性が劣化するため、０．１～２０μｍであることが好ましく、０．５～１５μｍがより好ましく、１～１０μｍがさらに好ましい。
　アブレーション層には赤外線吸収剤を含有させることが好ましい。
　赤外線吸収剤としては、通常７５０ｎｍ～２００００ｎｍの範囲の波長に強い吸収特性を有する単体又は化合物が用いられる。
　例えば、カーボンブラック、グラファイト、酸化鉄、酸化クロム、亜クロム酸銅等の無機顔料や、フタロシアニン及び置換フタロシアニン誘導体、シアニン染料、メロシアン染料及びポリメチン染料、金属チオレート染料等の色素類が挙げられる。
　特に、カーボンブラックは、粒径が１３ｎｍ～２００ｎｍの広い範囲で使用可能であり、粒径が小さいほど赤外線に対する感度が高くなるため好ましい。
　上述した赤外線吸収剤は、アブレーション層を加工（描画）する際の、使用レーザー光線による除去が可能な感度を確保する範囲内で添加することが好ましい。具体的には、アブレーション層の全質量に対し、１０～８０質量％の添加量とすることが好ましい。
　アブレーション層には、非赤外線の遮蔽物質を含有させることが好ましい。
　非赤外線の遮蔽物質としては、紫外光線を反射又は吸収する物質が使用できる。例えば、紫外線吸収剤、カーボンブラック、グラファイト等が好適である。
　非赤外線の遮蔽物質の添加量は、アブレーション層の光学濃度が２以上となる量であることが好ましく、光学濃度が３以上となる量であることがより好ましい。
　光学濃度は、Ｄ２００－ＩＩ透過濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いて測定できる。また、光学濃度はいわゆる視感（ＩＳＯ　ｖｉｓｕａｌ）であり、測定対象の光は４００～７５０ｎｍ程度の波長領域である。
　また、カーボンブラックのように、赤外線吸収剤としての機能と非赤外線の遮蔽物質としての機能を兼ね備えたものが特に好ましい。
　アブレーション層には、その他必要に応じて、性能を損なわない範囲で、従来公知の添加剤、例えば、可塑剤、帯電防止剤、離型剤、接着力調整剤等を添加してもよい。
　本実施形態のアブレーション層は、水系現像液及び／又は溶剤系現像液を用いて除去できるものであることが好ましい。
　水系現像液とは、水溶性の洗浄液である。
　水系現像液には、通常界面活性剤やアルカリビルダー（ｐＨ調整剤）が含有されている。
　界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が挙げられる。アルカリビルダーとしては、有機材料、無機材料のいずれでもよいが、ｐＨ９以上に調製できるものが好ましい。
　また、洗浄効果の向上を図るため、例えばアルキルグリコールエーテルのような、水と混合可能な有機溶剤を浸透剤として添加することも有用である。
　溶剤系現像液としては、従来公知の材料を使用できる。例えば、ヘプチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート等のエステル類、石油留分、トルエン、デカリン等の炭化水素類やテトラクロルエチレン等の塩素系有機溶剤にプロパノール、ブタノール、ペンタノール等のアルコール類を混合したものが挙げられる。
〔アブレーション層の形成方法〕
　本実施形態におけるアブレーション層は、例えば、所定のフィルム（凸版印刷版用の感光性樹脂構成対を構成するカバーフィルム（通常５０～２５０μｍの膜厚））の上に、上述したアニオン性ポリマーを含有するアブレーション層形成用の組成物の溶液を、乾燥後の厚さが、０．１μｍ～２０μｍになるように塗布し、乾燥処理を施すことにより形成できる。
　アブレーション層形成用の組成物の溶液用溶媒としては、例えば、水、エタノール、イソプロパノール、エトキシエタノール、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
　アブレーション層形成用の組成物の溶液には、カバーフィルムとの塗工性を向上させるために、種々の界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、浸透剤等を配合してもよい。
　また、後述する感光性樹脂構成体として使用する際の、カバーフィルムの良好な剥離性を確保するために、アブレーション層形成用の組成物の溶液を塗工する前段階として、予め被塗工面に対し、離型処理を施してもよい。
〔感光性樹脂構成体〕
　本実施形態の感光性樹脂構成体は、支持体と、前記支持体の上に配設される感光性樹脂組成物層と、前記感光性樹脂組成物層の上に配設される、上述したアブレーション層とを含む構成を有している。
　（感光性樹脂組成物層）
　感光性樹脂組成物層は、感光性樹脂を含有しており、感光性樹脂としては、従来公知の材料を使用できる。
　例えば、特許第３５０８７８８号公報、特公昭５８－３３８８４号公報、特許第２９４０００６号公報、特許第２９８５６５５号公報等に提案されている感光性樹脂をいずれも使用できる。
　感光性樹脂組成物は、紫外線の照射により硬化し、現像液によって未硬化部分を除去できるものであれば、特に限定されるものではないが、感光性樹脂組成物は、一般に、感光性樹脂成分、重合性モノマー成分、光重合開始剤及び安定剤から構成されている。
　特に、感光性樹脂成分は、最終的に目的とする凸版印刷版の物性に大きく影響する。感光性樹脂としては、例えば、ポリウレタン系、ポリビニルアルコール系、ポリエステル樹脂系、ナイロン系樹脂系、極性基含有ポリマーと疎水性ポリマーとを混合・分散させた樹脂系（バインダーポリマー）等が、いずれも適用可能である。
　特に、極性基含有ポリマーと疎水性ポリマーとを混合・分散させた樹脂系が、目的とする凸版印刷版に関して優れた耐久性が得られ、高精細な版面を形成するために好ましく、印刷工程においても汎用性が高く、有用な樹脂系である。
　上記極性基含有ポリマーと疎水性ポリマーとを混合・分散させた樹脂系を構成する極性基含有ポリマー、疎水性ポリマーとしては、下記のようなものが挙げられる。
　極性基含有ポリマーとしては、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、リン酸基、スルホン酸基等の親水性基又はそれらの塩を含有する水溶性や水分散性共重合体が挙げられる。
　具体的には、特許第２１２８０９８号公報に記載されているカルボキシル基含有ＮＢＲ、カルボキシル基含有ＳＢＲ、特開平５－７７０５号、特開昭６１－１２８２４３号、特開平６－１９４８３７号及び特開平７－１３４４１１号の各公報等に記載されているカルボキシル基を含有する脂肪族共役ジエンの重合体、特開平９－１５８６０号公報に記載されているリン酸基又はカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物の乳化重合体、特開平３－２０６４５６号公報記載されているスルホン酸基含有のポリウレタン、特開２００２－１６２７３１号公報に記載されているカルボキシル基含有ブタジエンラテックス等が挙げられる。これらの極性基含有ポリマーは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　疎水性ポリマーとしては、共役ジエン系炭化水素を重合して得られる重合体、又は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合物を重合して得られる共重合体が挙げられる。具体的には、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、クロロプレン重合体、スチレン－ブタジエン共重合体、スチレン－ブタジエン－スチレン共重合体、スチレン－イソプレン共重合体、スチレン－イソプレン－スチレン共重合体、スチレン－クロロプレン共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン共重合体、アクリロニトリル－イソプレン共重合体、メタクリル酸メチル－ブタジエン共重合体、メタクリル酸メチル－イソプレン共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体、アクリロニトリル－イソプレン－スチレン共重合体等が挙げられる。これらの疎水性ポリマーは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　上記重合性モノマーについては、特に制限されるものではなく、例えば、エチレン性不飽和酸とアルコール類とのエステル化合物等が挙げられ、文献「光硬化技術データブック（テクノネット社発行）」等に記載された化合物が適用できる。
　具体的には、ヘキシル（メタ）アクリレート、ノナン（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２－エチル、２－ブチルプロパンジオール（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、（メタ）アクリル酸ダイマー、ＥＣＨ変性アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の直鎖、分岐、環状の単官能モノマー；又はヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、２－エチル、２－ブチルプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の直鎖、分岐、環状の多官能モノマー等が挙げられる。
　また、ジオクチルフマレート等のアルコールとフマル酸とのエステル、又はラウリルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のＮ置換マレイミド誘導体等が挙げられる。
　上記光重合開始剤としては、文献「光硬化技術データブック（テクノネット社発行）」、「紫外線硬化システム（総合技術センター発行）」等に記載されたものが使用できる。
　具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α－メチロールベンゾイン、α－メチロールベンゾインメチルエーテル、ベンジルメチルケタール、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニルケトン、ベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、ビスアシルフォスフィンオキサイド、α－メトキシベンゾインメチルエーテル、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２－メチル－１－［４－メチルチオ］フェニル、２－モルフォリノプロパン－１－オン、チオキサントン、ベンジル、アンスラキノン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　上記安定剤としては、例えば、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ヒドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、カテコール、ｔ－ブチルカテコール、β－ナフトール等のフェノール類や、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ｍ－ジニトロベンゼン、クロラニル、チアジン染料等が挙げられる。
　また、感光性樹脂組成物層には、その他必要に応じて、可塑剤、重合禁止剤、染料、紫外線吸収剤、耐オゾン剤等の添加剤を配合してもよい。
　可塑剤としては、液状１，２（又は１，４）－ポリブタジエン、１，２（又は１，４）－ポリイソプレン、又はこれらの末端変性品、ナフテン油、パラフィン油等の炭化水素油等が挙げられる。
　染料としては、一般的に着色用として汎用されている材料を用いることができる。
　紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系等紫外線吸収剤が挙げられる。
　耐オゾン剤としては、ジベンジルエーテル、ジヒドロキノリン系、ジフェニルアミン系、フェニレンジアミン系、メルカプトベンゾイミダゾール系等の老化防止剤やワックス等が挙げられる。
　（保護層）
　本実施形態における感光性樹脂構成体においては、上述した感光性樹脂組成物層とアブレーション層との間に、第１の保護層を配設した構成としてもよい。これによりアブレーション層を加工（描画）後、上層が除去された感光性樹脂組成物層の表面を保護される効果が得られる。
　また、アブレーション層の上層として、第２の保護層をさらに配設した構成としてもよい。　
　すなわち、カバーフィルムとアブレーション層との間に第２の保護層を配設した構成としてもよい。これにより、カバーフィルムを剥離した後、アブレーション層の急激な吸湿を回避できる効果や、アブレーション層への傷や破れを防止する効果が得られる。
　第１及び第２の保護層は、同一の材料により形成してもよく、異なる材料により形成してもよい。
　第１及び第２の保護層の形成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、グアナミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられるが、洗浄カスの残存を防止する観点から、使用する現像液（水現像液、又は溶剤現像液）に溶解、分散するものが好ましい。
　第１及び第２の保護層の膜厚は、実用上十分な保護機能を発揮するために、０．１μｍ以上が好ましく、また、画像再現性の観点から、２０μｍ以下とすることが好ましい。
　第１の保護層は感光性樹脂組成物層上に、第２の保護層はアブレーション層の上に、それぞれ上述した保護層形成用の組成物の溶液を用いて、乾燥後の厚さが０．１～２０μｍになるように、所定のカバーフィルム（５０～２５０μｍの膜厚）を用いて形成する。
　具体的には、所定のカバーフィルム上に、必要に応じて第２の保護層形成用の組成物の溶液を用いて、乾燥後の厚さが０．１～２０μｍとなるように形成し、その後、第２の保護層上に、アブレーション層形成用の組成物の溶液を用いて、乾燥後の厚さが０．１～２０μｍとなるように形成する。
　さらに必要に応じて、第１の保護層形成用の組成物の溶液を、アブレーション層の上に、厚さが０．１～２０μｍとなるように形成する。
　このようにして得られた所定のカバーフィルム上に得られた１～３層からなる積層体を、感光性樹脂組成物の上に積層することで、感光性樹脂構成体が得られる、なお、製造方法はこの例に限定されない。
　第１及び第２の保護層形成用の組成物の溶液用の溶媒としては、例えば、水、エタノール、イソプロパノール、エトキシエタノール、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
　保護層形成用の組成物の溶液には、塗工性を向上させるために、種々の界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、浸透剤等を配合してもよい。
　また、感光性樹脂版として使用する際の、良好な剥離性を確保するために、保護層形成用の組成物の溶液を塗工する前段階として、予め被塗工面に対し、離型処理を施してもよい。
　なお、カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンその他の材料が使用できるが、寸法安定性や耐熱性、機械的性能の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好適である。
　（支持体：ベースフィルム）
　本実施形態の感光性樹脂構成体を構成する支持体（ベースフィルム）としては、例えば、寸法安定なポリエステルフィルムに接着剤層が積層されたポリエステルフィルムが適用できる。
　なお、ポリエステルフィルムと接着剤層の間には、易接着性塗膜が積層されていてもよい。
　接着剤としては、例えば特開２００１－２６４９５９号公報に記載されているポリエステル構造を有する接着剤、ポリウレタン構造を有する接着剤、特許第３８３０９５９号明細書に記載されている活性光線硬化型、熱硬化型の接着剤等が使用できる。
　本実施形態における感光性樹脂構成体の厚みは、特に制限されるものではないが、例えば、０．５ｍｍ～１０ｍｍとすることができる。
〔感光性樹脂構成体の製造方法〕
　本実施形態の感光性樹脂構成体は、例えば、カバーフィルム上にアブレーション層を形成し、このアブレーション層形成面側と、支持体上に積層形成した感光性樹脂組成物層側とを密着させ、積層させることにより製造できる。
　具体的には、フレキソＣＴＰと称されるデジタル版で固体状の感光性樹脂組成物の場合には、ポリエチレンテレフタレート支持体（必要に応じてアンチハレーション効果を付与されたもの）に積層形成した感光性樹脂組成物層に、レーザーアブレーション機能を有する層を具備するフィルムを密着積層させることにより、板状に成形した構成例が挙げられる。
〔凸版印刷版の製造方法〕
　本実施形態における凸版印刷版の製造方法は、支持体と、前記支持体の上に配設される感光性樹脂組成物層と、前記感光性樹脂組成物層の上に配設されるアブレーション層とを含む凸版印刷用の感光性樹脂構成体に対し、前記支持体側、すなわち感光性樹脂組成物層を備えない面側から紫外線照射する工程と、前記アブレーション層に赤外線を照射してパターン描画する工程と、前記感光性樹脂組成物層に紫外線を照射してパターン露光する工程と、現像液により前記アブレーション層及び未露光の感光性樹脂組成物層を除去する工程とを有する。
　すなわち、アブレーション層に赤外線照射によるパターン描画した後に、紫外線照射を行い、感光性樹脂組成物層にパターン露光を行う。続いて現像処理を行い、アブレーション層と未露光の感光性樹脂組成物層を洗浄除去し、パターンを形成する。
　その後、必要に応じて後露光処理を行い、感光性樹脂組成物層の硬化物による版（凸版印刷版）が得られる。
　なお、この版の表面をシリコン化合物及び／又はフッ素化合物を含有する液と接触させてもよい。
　（支持体側から紫外線照射する工程）
　支持体側から紫外線照射する工程においては、慣用の照射ユニットを使用して行うことができる。
　紫外線としては、波長１５０～５００ｎｍの紫外線を使用でき、特に３００～４００ｎｍの紫外線を好ましく使用できる。
　光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用できる。
　なお、この紫外線照射する工程は、アブレーション層へのパターン描画の工程の前に行ってもよく、パターン描画の工程の後に行ってもよい。
　（アブレーション層に赤外線照射してパターン描画する工程）
　感光性樹脂構成体がカバーフィルムを有している場合には、まずカバーフィルムを剥離する。
　その後、アブレーション層に赤外線をパターン照射して、感光性樹脂層上にマスクを形成する。
　好適な赤外線レーザーの例としては、ＮＤ／ＹＡＧレーザー（例えば、１０６４ｎｍ）又はダイオードレーザー（例えば、８３０ｎｍ）が挙げられる。
　ＣＴＰ製版技術に適当なレーザーシステムは市販されており、例えば、ダイオードレーザーシステムＣＤＩ　Ｓｐａｒｋ（ＥＳＫＯ　ＧＲＡＰＨＩＣＳ社）を使用できる。
　このレーザーシステムは、印刷原版を保持する回転円筒ドラム、ＩＲレーザーの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザー装置に直接送信される。
　（感光性樹脂組成物層に紫外線を照射してパターン露光する工程）
　上記のように、パターン描画した後、感光性樹脂組成物層にマスクを介して紫外線を全面照射する。
　これは、版をレーザーシリンダに取り付けた状態で行うことができるが、一般的には版をレーザー装置から取り外し、慣用の照射ユニットを用いて照射する。
　照射ユニットは、支持体側からの紫外線照射で用いたものと同様のユニットを使用できる。
　（現像液によりアブレーション層及び未露光の感光性樹脂組成物層を除去する工程）
　この現像工程においては、従来公知の方法を適用できる。
　具体的には、上記のように感光性樹脂構成体を露光し、その後、現像液（洗浄液）に浸漬し、ブラシ等により未露光部分を溶解又は掻き落とす方式、スプレー等により版面に洗浄液を降りかけた後、ブラシ等により未露光部分を溶解又は掻き落とす方式等が挙げられる。
　現像液のうち、水系現像液としては、従来公知のものをいずれも使用できる。
　現像液には、有効成分として界面活性剤が含有されているものとする。
　界面活性剤とは、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　アニオン系界面活性剤としては、例えば、硫酸エステル塩、高級アルコール硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化オレフィン、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、α－オレフィンスルフォン酸塩、リン酸エステル塩、ジチオリン酸エステル塩等が挙げられる。
　両性界面活性剤としては、例えば、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤としては、例えば、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型界面活性剤やグリセロール脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ソルビトール、およびソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエステル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等の多価アルコール型界面活性剤等が挙げられる。
　現像液中には、上記各種界面活性剤に加え、洗浄性の向上及びシリコン系化合物の版内への浸透性を向上させるために、例えばアルキルグリコールエーテルのような水と混合可能な有機溶剤を浸透剤として添加することは有用な方法である。
　浸透剤は、洗浄する感光性樹脂組成物層の組成により選択できる。例えば、ジブチルジグリコールエーテル等のモノ又はポリエチレングリコールエーテル型非イオン浸透剤等が挙げられる。
　現像液には、その他の成分として、アルカリビルダーと称されるｐＨ調整剤を含有させてもよい。
　アルカリビルダーとしては、有機材料、無機材料のいずれでもよいが、ｐＨを９以上に調整できるものが好ましい。例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、琥珀酸ナトリウム等が挙げられる。
　現像液中に含有させる界面活性剤、浸透剤、アルカリビルダーの量については、特に制限されるものではない。
　界面活性剤の量は、通常、現像液１００質量部に対して１質量部～５０質量部であり、３質量部～２０質量部であることが好ましい。
　浸透剤は、通常、現像液の１００質量部に対して、０．２質量部以上２０質量部以下の範囲で用いられ、０．２質量部以上１０質量部以下の範囲であることが好ましい。
　アルカリビルダーは、通常、現像液の１００質量部に対して、０．１～１０質量部の範囲で用いられる。
　これらの成分の量が、上記範囲よりも少ない場合には、現像に要する時間が長すぎる等の不都合が生じ、上記範囲よりも大きい場合にはコストの観点で好ましくない。
　現像液のうち、溶剤系現像液についても、同様に公知のものを使用できる。
　例えば、ヘプチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート等のエステル類、石油留分、トルエン、デカリン等の炭化水素類やテトラクロルエチレン等の塩素系有機溶剤にプロパノール、ブタノ－ル、ペンタノ－ル等のアルコ－ル類を混合したものが挙げられる。
　特に、テトラクロロエチレンとブタノールとの３：１混合物（重量比）、炭化水素類を洗浄液として用いることは好適である。
　以下、具体的な実施例及び比較例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔（１）実施例、比較例において用いた測定方法及び評価方法〕
（ａ）アニオン性ポリマーの吸水率
　測定対象のポリマーを、膜厚７５μｍのフィルム状に形成し、４０℃・湿度０．１％以下で７日以上乾燥させた重量を測定し（ｘ）、４０℃・湿度８０％で７日以上経時させ、吸湿させた時の重量を測定した（ｙ）。
　吸水率Ａ（％）を下記式により算出した。
　吸水率Ａ（％）は　Ａ＝１００×（ｙ－ｘ）／ｘ
（ｂ）アニオン性ポリマーのアニオン性官能基含有量
　アニオン性官能基含有量は、メーカー値の提示のないもののみ測定した。
　測定方法としては、Ｂｒｕｋｅｒ　Ｂｉｏｓｐｉｎ株式会社製の核磁気共鳴装置「Ａｖａｎｃｅ６００」（商品名）を使用し、１３Ｃ（１５０ＭＨｚ、定量モード）を測定し、官能基由来の炭素数よりモル比を計算によって求め、質量％へと変換した。
（ｃ）耐吸湿シワ発生試験
　耐吸湿シワは、シワ耐久性として、下記の方法により評価した。
　１０ｃｍ×１５ｃｍの大きさに切り出した凸版印刷版作製用の感光性樹脂構成体を、５０℃・湿度１％以下の環境で２４時間以上放置した。その後、乾燥状態のまま室温になるまで冷却した。
　その後、実施例１～６、比較例１、２においては、２５℃の環境下、湿度を８０％に保ち、３分を限度にシワ発生の有無を目視にて確認した。シワが発生しなかったものを○、発生したものを×とした。
　一方、比較例７～１９、比較例３、４においては、温度２５℃、湿度９０％の環境下で３分間静置したとき、シワが発生しなかったもの：◎、温度２５℃、湿度８０％の環境下で３分間静置したとき、シワが発生しなかったもの：○、温度２５℃、湿度８０％の環境下で３分間静置したとき、シワが発生したもの：×とした。
（ｄ）アブレーション層の赤外線加工性の評価
　紫外線露光機「ＪＥ－Ａ２－ＳＳ」（日本電子精機社製、商品名）を用いて、感光性樹脂構成体の支持体側から６０秒間露光を行った。
　その後、アブレーション層の上層であるカバーフィルムを剥離し、ＣＤＩ　Ｓｐａｒｋ４２６０（ＥＳＫＯ　ＧＲＡＰＨＩＣ社製、商品名）の回転ドラムに、支持体側を接触させて装着し、出力１８．２Ｗ、２００ｒｐｍの回転数で、ベタ画像（１ｃｍ×２ｃｍ）と、１％、２％、３％、５％（１３３線／インチ）（各１ｃｍ×１ｃｍ）の網点をアブレーション層へＦｉｂｅｒレーザー（波長１０７０ｎｍ）を使用して描画した（解像度２５４０ｄｐｉ）。
　アブレーション層ラミネート前の支持体上の感光性樹脂組成物層でゼロ点調整をした時の、描画後のベタ部の網点率（描画された面積率）が９０％以上を◎、８０％以上９０％未満を○、それより小さいものを×として評価した。
　なお、網点率は、Ｄ２００－ＩＩ透過濃度計のモード４（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いて測定した。
（ｅ）洗浄性の評価
　感光性樹脂構成体を、紫外線露光機「ＪＥ－Ａ２－ＳＳ」（日本電子精機社製、商品名）を用いて、支持体側から６０秒間露光した。
　その後、前記（ｄ）に従いアブレーション層の赤外線加工をし、前記露光機（照度１０ｍＷ）で１２分間露光した。
　次に、界面活性剤として、炭素数１２～１４の第二級アルコールのエチレンオキシド５モル付加物である「レオコールＳＣ－８０」（ライオン株式会社、商品名、ＨＬＢ１２．７）５質量部、浸透剤としてジブチルジエチレングリコール１質量部及び炭酸ナトリウム０．４質量部を含有する水系現像剤を用いて、４０℃で平型洗浄機（ロボ電子製）により洗浄をした。洗浄時間１分で、アブレーション層の除去状況を確認した後、さらに１９分間洗浄を行い、合計２０分とした。
　その後、６０℃、１５分間の乾燥を行い、ケミカルランプ及び殺菌灯を用いて、後露光処理を行った。
　上述した洗浄過程により、アブレーション層が洗浄時間１分で均一に除去できたものを◎、通常洗浄時間（２０分）で除去できたものを○、ムラが残り均一に除去できなかったものを×、として評価した。
（ｆ）アブレーション層のカスの版面への再付着の評価
　上記（ｅ）に記載した工程により現像処理を行った後の、感光性樹脂層のパターン形成面に、アブレーション層のカス（長径１００μｍ以上）が、１０ｃｍ×１０ｃｍあたり５個以上付着しているものを×、付着数が５個未満のものを○として評価した。
（ｇ）樹脂密着力の評価
　後述する実施例７～１９、比較例３、４に対して樹脂密着力の評価を行った。
　まず、１１ｃｍ×１６ｃｍにカットした粘着防止フィルム付きの感光性樹脂積層体の粘着防止フィルムを除去した後、アブレーション層付きカバーフィルムを、アブレーション層が感光性樹脂組成物層と密着するようにしてラミネートした。
　その後、１００℃に加熱したホットプレートにカバーフィルムが加熱面に接するようにして載せ、２ｋｇの加重で２分間加熱した。
　その後、２分間冷却し（冷却用プレス機に冷却水を循環させ、カバーフィルムが冷却面に接するようにして載せ、加重２ｋｇで２分間冷却）、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　次に、上記１１ｃｍ×１６ｃｍの評価用の感光性樹脂構成体から、２．５４ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出した感光性樹脂構成体のカバーフィルムを剥離した後、アブレーション層に粘着テープ（ニチバン株式会社製セロテープ（登録商標）ＣＴ－１５、幅１５ｍｍ）を互いが約５ｍｍ重なるように２列に貼り付け、その後、粘着テープをアブレーション層と感光性樹脂組成物層とが剥離する方向に剥がし、下記の基準により評価した。
　感光性樹脂組成物層の破壊が起きたもの：◎
　樹脂破壊は起きないが引っ張り強度が１００ｇ／ｉｎｃｈ以上のもの：○
　樹脂破壊が起きず、なおかつ引っ張り強度が１００ｇ／ｉｎｃｈ未満のもの：×
　なお、引っ張り試験は、粘着テープ側を１８０°の方向へ剥離し、Ａｕｔｏｇｒａｐｈ　ＡＧＳ－１００Ｇ（島津製作所製）を使用し、クロスヘッドスピード５０ｍｍ／ｍｉｎで測定した。
（ｈ）側鎖にエステル結合を有するポリマーのケン化度の測定
　側鎖にエステル結合を有するポリマーのケン化度は、以下の方法で測定した。
　先ず、試料を約１ｇ採取し、三角フラスコに１ｍｇの桁まで正しく量り採った。
　そこに水１００ｍＬと、フェノールフタレイン溶液（フェノールフタレイン１ｇをエタノール９０ｍＬに溶解し、水で１００ｍＬにした溶液）を３滴加え、加熱攪拌しながら、９０℃以上で試料を完全に溶解させた。
　室温まで放冷後、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液２５．００ｍＬをビュレットにて加え、十分に混合した後、室温で２時間以上保持した。
　なお、推定ケン化度が７０％未満のものに関しては、ケン化反応を促進させるため、水酸化ナトリウム溶液を加えた後に６０℃で１時間以上攪拌し、その後、室温まで放冷し、２時間以上保持した。
　次に、前記三角フラスコに、０．５ｍｏｌ／Ｌ硫酸１５．００ｍＬをビュレットにて加え、十分に混合した。
　これを、規定液として０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液で微紅色になるまで滴定した。
　空試験として、試料を加えないで上記の操作を行った。
　上述した方法で得られた値を用い、下記の式に従い、ケン化度を算出した。
　実際に使用した試料の量、算出したケン化度等は、下記表１に示す。
Ｘ１＝（（Ｍ２／１０００）×（ａ－ｂ）×ｆ×Ｄ／（Ｓ×Ｐ／１００））×１００：（１）
Ｘ２＝Ｍ１×Ｘ１／（ｎ×Ｍ２－Ｂ×Ｘ１）：（２）
Ｈ＝１００－Ｘ２　：（３）
　Ｘ１：残存酢酸基に相当する酢酸量（％）
　Ｘ２：残存酢酸基（ｍｏｌ％）
　Ｈ：ケン化度（ｍｏｌ％）
　ａ：規定液の使用量（ｍＬ）
　ｂ：空試験での規定液の使用量（ｍＬ）
　ｆ：規定液のファクター
　Ｄ：規定液の濃度　Ｓ：試料の採取量（ｇ）
　Ｐ：試料の純分（％）（ＬＷ－２００は３９．７％、Ａ５０－Ｚ５Ｎは４９．７％、その他は９９．０％）
Ｍ１：完全ケン化物の繰り返し単位当たりの分子量
　Ｍ２：側鎖のエステル結合を加水分解することにより生じるカルボン酸の分子量
　ｎ：完全ケン化物の繰り返し単位当たりの官能基（水酸基）数
　Ｂ：Ｘ１とＸ２との間に成立する下記の関係式から得られる数値
Ｘ１＝（Ｘ２×Ｍ２×ｎ／（Ｍ３×Ｘ２＋Ｍ１×（１００－Ｘ２）））×１００：（４）
　Ｍ３：完全エステル化物の繰り返し単位当たりの分子量
　上記式（４）を変形すると次式となる。
Ｘ２＝Ｍ１×Ｘ１／（ｎ×Ｍ２－（Ｍ３－Ｍ１）／１００×Ｘ１）：（５）
　式（２）、式（５）より、Ｂは以下の式で表される。
　Ｂ＝（Ｍ３－Ｍ１）／１００
　なお、実施例で用いた規定液である０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液のファクターｆは、下記の方法により算出した。
　定量分析用標準物質のアミド硫酸（関東化学社製　純度９９．９質量％）を、約２．５ｇ、コニカルビーカー２００ｍＬに０．１ｍｇの桁まで正しく量り採り、水２５ｍＬを加えて溶解した後、指示薬としてブロモチモールブルー溶液３滴を加え、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液で滴定した。終点は、液の色が黄色から青みの緑に変わる点とした。
　ｆ＝ｍ／（０．０４８５４５×Ｖ）×（Ａ／１００）
　ｍ：量り採った硫酸アミドの質量（２．５１２５ｇ）
　Ａ：アミド硫酸の純度（９９．９質量％）
　Ｖ：滴定に要した０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液の体積（５２．６５ｍＬ）
　０．０４８５４５：０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液１ｍＬに相当するアミド硫酸の質量（ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記表１中の、側鎖にエステル結合を有するポリマーを下記に示す。
　ＧＬ－０５：ポリビニルアルコール（日本合成化学工業株式会社製、商品名）
　ＫＭ－１１：ポリビニルアルコール（日本合成化学工業株式会社製、商品名）
　ＫＰ－０８Ｒ：ポリビニルアルコール（日本合成化学工業株式会社製、商品名）
　ＬＷ－２００：ポリビニルアルコール水溶液（日本合成化学工業株式会社製、商品名）
　ＪＭＲ－１０Ｌ：ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ポバール株式会社製、商品名）
　Ａ５０－Ｚ５Ｎ：ポリ酢酸ビニルエタノール溶液（日本合成化学工業株式会社製、商品名）
　Ｌ－２０：酢酸セルロース（ダイセル化学工業株式会社製、商品名）
〔（２）支持体と感光性樹脂組成物層との積層体の製造方法〕
（２－１）支持体
　（２－１－１）支持体Ａ
　ネオペンチルグリコール６２４ｇ、エチレングリコール９３ｇ、セバシン酸４８５ｇ、イソフタル酸３８２ｇを、空気雰囲気中、反応温度１８０℃、１０ｍｍＨｇの減圧下で、６時間縮合反応させた。
　その後、８７ｇのトリレンジイソシアネートを加えて、さらに８０℃で５時間反応させ、ポリオールを得た。
　このようにして得られたポリオールの数平均分子量をゲルパーメーションクロマトグラフィ法で測定したところ、ポリスチレン換算で約３２０００であった。
　上記ポリオール：１００質量部
　２－ヒドロキシプロピルメタクリレート：２質量部
　トリメチロールプロパン（１モル）のトリレンジイソシアネート（３モル）付加物：１７質量部
　「バリファストイエロー」（オリエンタル化成製、商品名）：５質量部
　酢酸エチル：３００質量部
　これらを混合し、均一な溶液を得た。
　次に、１２５μｍの膜厚のＰＥＴフィルム「Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製、商品名）上に、乾燥後の塗布量が１０～１４ｇ／ｍ２となるように、ナイフコーターを用いて上記溶液を塗布した。
　これを８０℃で２分間乾燥させ、次に４０℃雰囲気で３日間放置してウレタン系接着剤層を具備する支持体Ａを得た。
　（２－１－２）支持体Ｂ
　「タフプレン９１２」（旭化成ケミカルズ製　商品名　スチレン含有量４０質量％）：１００質量部
　トリメチロールプロパン（１モル）トリレンジイソシアネート（３モル）付加物：４質量部
　「バリファストイエロー」（オリエンタル化成製　商品名）：５質量部
　酢酸エチル：２６２．５質量部
　テトラヒドロフラン：２６２．５質量部
　酢酸セロソルブ：１７５質量部
　これらを混合し、均一な溶液を得た。
　次に、１２５μｍの膜厚のＰＥＴフィルム「Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製、商品名）上に、乾燥後の塗布量が１０～１４ｇ／ｍ２となるように、ナイフコーターを用いて上記溶液を塗布した。
　これを、８０℃で２分間乾燥させ、熱可塑性エラストマーを含有する接着剤層を具備する支持体Ｂを得た。
（２－２）感光性樹脂組成物層
　感光性樹脂組成物層形成用の材料として、後述する感光性樹脂組成物を作製した。
　（２－２－１）感光性樹脂組成物Ｂ－１
　攪拌装置と温度調整用ジャケットとを取り付けた耐圧反応容器に、水１２５質量部、及び乳化剤（α－スルフォ（１－ノニルフェノキシ）メチル－２－（２－プロペニルオキシ）エトキシ－ポリ（オキシ－１，２－エタンジイル）のアンモニウム塩「アデカリアソープ」（旭電化工業製、商品名）３質量部を初期仕込みとした。
　前記耐熱反応容器の内温を、重合温度８０℃まで昇温後、アクリル酸２質量部、メタクリル酸５質量部、ブタジエン６０質量部、スチレン１０質量部、ブチルアクリレート２３質量部、ｔ－ドデシルメルカプタン２質量部からなる油性混合液と、水２８質量部、ペルオキソ二硫酸ナトリウム１．２質量部、乳化剤アデカリアソープ１質量部からなる水溶液をそれぞれ一定流速で５時間、及び６時間かけて添加した。
　その後、１時間保って重合を完了した後、冷却し、ラテックスを得た。
　上述のようにして生成したラテックスを、水酸化ナトリウムでｐＨ７に調製した後、スチームストリッピングで未反応物を除去し、最終的に固形分濃度４０％で親水性重合体水溶液を得た。
　これを６０℃で乾燥し、ポリマー成分としての親水性共重合体を得た。
　得られた親水性共重合体：３０質量部
　スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体「ＫＸ－４０５」（ＫＲＡＴＯＮ製、商品名）：２５質量部
　可塑剤として液状ポリブタジエン「ＬＩＲ３０５」（株式会社クラレ製、商品名、ビニル含有量８ｍｏｌ％、３０℃での粘度４０Ｐａ・ｓ）：３０質量部
　重合性モノマーとしてヘキサメチレンジメタクリレート：２質量部
　２－ブチル－２－エチルプロパンジオールジアクリレート：８質量部
　光重合開始剤として２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン：２質量部
　重合禁止剤として２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール：０．３質量部
　上記材料を、１３０℃のニーダーを用いて均一に混練して、感光性樹脂組成物Ｂ－１を得た。
　（２－２－２）感光性樹脂組成物Ｂ－２
　ブタジエン：６０質量部
　メチルアクリレート：９質量部
　燐酸エチレンメタクリレート：２０質量部
　スチレン：１０質量部
　ジビニルベンゼン：１質量部
　ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム：４質量部
　過硫酸カリウム：０．３質量部
　ｔ－ドデシルメルカプタン：０．４質量部
　水：２００質量部
　上記材料を、内容量１０リットルのオートクレーブ中で混合し、５０℃で重合を行い、重合転化率が９５％に達した時点で停止剤を転化して反応を停止し、水冷してエマルジョンを得た。
　このエマルジョンを凍結凝固し、クラムを分離し、水洗を行った後、６０℃で真空乾燥してポリマー成分としての親水性共重合体を得た。
　上述のようにして得られた親水性共重合体：６５質量部
　スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体「ＫＴ－６５」（シェル化学社製、商標名「カリフレックスＴＲ」）：３５質量部
　可塑剤として液状ポリブタジエン「Ｂ－１０００」（日本曹達社製、商標名「ニッソーＰＢ」）：５０質量部
　重合禁止剤として２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール（ＢＨＴ）：２質量部
　上記材料をニーダーにより１５０℃で混練し、均一に混練された段階で、
　重合性モノマーとして１，６－ヘキサンジオールジアクリレート：１０質量部
　１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート：５質量部
　光重合開始剤としてベンゾインメチルエーテル：１質量部
　重合禁止剤としてメチルハイドロキノン：０．０２質量部
を添加して、さらに混練を行い、感光性樹脂組成物Ｂ－２を得た。
　（２－２－３）感光性樹脂組成物Ｂ－３
　ヘキサメチレンジイソシアネート：２１．８質量部
　ジメチロールプロピオン酸：１５．４質量部
　ポリテトラメチレングリコール（ＰＧ－１００日本ポリウレタン工業（株）製）：７．６質量部
　ジラウリン酸ジ－ｎ－ブチルスズ：１．０質量部
を、テトラヒドロフラン３００質量部に溶解した溶液を、撹拌機の付いた１Ｌフラスコに入れ、撹拌を続けながらフラスコを６５℃に加熱し、３時間反応を行った。
　上記１Ｌフラスコとは別の容器で、末端アミノ基含有アクリロニトリル・ブタジエンオリゴマー（Ｈｙｃａｒ　ＡＴＢＮＸ　１３００×１６　宇部興産（株）製）：５５．３質量部を、メチルエチルケトン１００質量部に溶解して調製した溶液を、上記の１Ｌフラスコ内に室温下で撹拌しながら添加し、ポリマー溶液を得た。
　得られたポリマー溶液を減圧乾燥してテトラヒドロフラン、メチルエチルケトンを除去し、数平均分子量が２１，０００のポリマーを得た。
　次に、前記ポリマー１００質量部を、メチルエチルケトン１００質量部に溶解した溶液に、水酸化リチウム４．８質量部をメチルアルコール１００質量部に溶解した溶液を、室温下で撹拌しながら添加し、さらに３０分間撹拌することによってポリマー成分としての親水性共重合体を得た。
　上記親水性共重合体：１０質量部
　疎水性ポリマーとして塩素化ポリエチレン（「Ｈ－１３５」、大阪曹達（株）製）：４５質量部
　スチレン・ブタジエンゴム（「ＳＢＲ１５０７」、日本合成ゴム（株）製）：１５質量部
　重合性モノマーとしてブタジエンオリゴアクリレート（「ＰＢ－Ａ」、共栄社油脂（株））：２８．５質量部
　光重合開始剤としてベンジルジメチルケタノール（「イルガキュア６５１」、チバガイギー（株）製）：１質量部
　重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル：０．５質量部
を、トルエン４０質量部、水１０質量部に溶解、分散させ、加熱ニーダーを用いて１０５℃で混練し、感光性樹脂組成物Ｂ－３を得た。
　（２－２－４）感光性樹脂組成物Ｂ－４
　水：１００質量部
　ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム：０．２質量部
　ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル：３質量部
　過硫酸カリ：０．３質量部
　ｔ－ドデシルメルカプタン：０．２質量部
　メチルメタクリレート：２９質量部
　メタクリル酸：１質量部
　ブタジエン：７０質量部
を、混合し、５０℃で２０時間反応させ、数平均粒子径１４０ｎｍ、ガラス転移温度－５２℃、固形分濃度５０．５％の水分散ラテックスゴム（ａ）を得た。
　水：６５質量部
　不均化ロジン酸カリウム：１．３質量部
　オレイン酸カリウム：１．７質量部
　アルキルスルホン酸ナトリウム：１．５質量部
　ｔ－ドデシルメルカプタン：０．０５質量部
　パラメンタンヒドロペルオキシド：０．１質量部
　硫酸鉄：０．００３質量部
　エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩：０．００６質量部
　ナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート：０．００５質量部
　硫酸カリウム：１．２質量部
　ブタジエン：１００質量部
を使用し、重合温度５℃の低温重合により反応させ、数平均粒子径３５０ｎｍ、固形分濃度５５％の水分散ラテックスゴム（ｂ）を得た。
　重合転換率は約６０％であった。
　まず、水分散ラテックスゴム（ａ）：３３．６質量部（固形分として１７質量部）、
　水分散ラテックスゴム（ｂ）：１４．５質量部（固形分として８質量部）、
　フェノキシポリエチレングリコールアクリレート：１６質量部、
　グリセリンポリエーテルポリオールと無水コハク酸と２－ヒドロキシエチルアクリレートとの重縮合物：１４質量部
を、予め混合して、１２０℃に加熱した乾燥機で２時間水分を蒸発させて、成分（ｃ）を得た。
　一方、可塑剤としてポリブタジエンゴム：２０質量部（日本ゼオン社製“Ｎｉｐｏｌ”１２２０Ｌ）、
　疎水性ポリマーとしてニトリルゴム：２０質量部（日本ゼオン社製“Ｎｉｐｏｌ”１０４２）、
を、１４０℃に加熱した２００ｍＬの容量を持つラボニーダーミル（（株）トーシン社製）で１０分間混練した。
　その後、上述のようにして作製した成分（ｃ）を、前記ラボニーダーミル中に投入し、１０分間混練した。
　さらに、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール：１質量部
　可塑剤としてジオクチルフタレート：２質量部
　重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル：０．１質量部を投入して、５分間混練し、感光性樹脂組成物Ｂ－４を得た。
（２－３）支持体と感光性樹脂組成物層との積層体
　（２－３－１）積層体１
　板状感光性樹脂版ＥＦ（旭化成ケミカルズ製　商標名ＡＷＰ）の感光性樹脂組成物を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ａと粘着防止フィルム（シリコン系剥離材が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして、１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と粘着フィルムとの積層体１を得た。
　（２－３－２）積層体２
　板状感光性樹脂版ＳＨ（旭化成ケミカルズ製　商標名ＡＦＰ）の感光性樹脂組成物を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ｂと粘着防止フィルム（シリコン系剥離剤が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして、１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体２を得た。
　（２－３－３）積層体３
　上述のようにして作製した感光性樹脂組成物（Ｂ－１）を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ａと、粘着防止フィルム（シリコン系剥離剤が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体３を得た。
　（２－３－４）積層体４
　上述のようにして作製した感光性樹脂組成物（Ｂ－２）を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ａと、粘着防止フィルム（シリコン系剥離剤が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と、粘着防止フィルムとの積層体４を得た。
　（２－３－５）積層体５
　上述のようにして作製した感光性樹脂組成物（Ｂ－３）を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ａと、粘着防止フィルム（シリコン系剥離剤が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体５を得た。
　（２－３－６）積層体６
　上述のようにして作製した感光性樹脂組成物（Ｂ－４）を、１２０℃の熱プレス機を使用して、上記支持体Ａと、粘着防止フィルム（シリコン系剥離剤が塗布されたＰＥＴフィルム）との間に投入し、加熱プレスして１．１４ｍｍの厚さに成形し、支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体６を得た。
〔実施例１〕
　アニオン性極性官能基としてカルボン酸基を有するアニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ＳＧ－２０００」（株式会社鉛市製、商品名、２０質量％水溶液、吸水率１．２％、カルボン酸含有量１４質量％）１０質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．０５質量部、水３０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルムとなる約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、９０℃で２分間の乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　続いて、上記（２－３－１）で作製した積層体１の粘着防止フィルムを剥離した。
　その後、上記で得られたアブレーション層とカバーフィルムとの積層体に、アブレーション層が感光性樹脂層に接するようにしてラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　なお、上記（ｃ）耐吸湿シワ評価用、上記（ｄ）赤外線加工性評価用には室温で、また上記（ｅ）洗浄性の評価用、上記（ｆ）アブレーション層のカスの版面への再付着の評価用には１５０℃にてラミネートして、それぞれ、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、実施例１においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーを含有させているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔実施例２〕
　アニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ＳＧ－２０００」（株式会社鉛市製、商品名、２０質量％水溶液、吸水率１．２％、カルボン酸含有量１４質量％）１０質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、スミカフレックス「９００ＨＬ」（エチレン－酢酸ビニル共重合体、住化テムテックス株式会社製、商品名）０．５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．１質量部、水３０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルムとなる約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により、上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　下記表２から明らかなように、実施例２においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーが含有されているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔実施例３〕
　アニオン性極性官能基としてカルボン酸基を有するアニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ニュクレルＮ５１３０Ｈ」（三井・デュポンポリケミカル株式会社製、商品名、２５質量％水溶液、吸水率１．５％、カルボン酸含有量２０質量％（メーカー測定値））８質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．０５質量部、水３０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により、上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　下記表２から明らかなように、実施例３においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーが含有されているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔実施例４〕
　アニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ＳＧ－２０００」（株式会社鉛市製、商品名、２０質量％水溶液、吸水率１．２％、カルボン酸含有量１４質量％）８質量部、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度８７．４％、粘度４．８～５．８ｍＰａ・ｓ、１０質量％水溶液）４質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．０５質量部、水３０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、実施例４においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーが含有されているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔実施例５〕
　アニオン性極性官能基としてカルボン酸基を有するアニオン性ポリマーであるエチレン－メタクリル酸共重合体「ニュクレルＮ２０６０」（三井・デュポンポリケミカル株式会社製、商品名、２７質量％水溶液、吸水率１．５％、カルボン酸含有量２０質量％（メーカー測定値））７質量部、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度８７．４％、粘度４．８～５．８ｍＰａ・ｓ、１０質量％水溶液）１質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．０５質量部、水３０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、実施例５においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーが含有されているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔実施例６〕
　上記（２－３－２）で作製した積層体２の粘着防止フィルムを剥離した。
　その後、実施例２に記載された方法と同様の方法で得られたアブレーション層とカバーフィルムとの積層体に、アブレーション層が感光性樹脂層に接触させてラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　なお、耐吸湿シワ評価用、活性光線加工性評価用には室温で、また洗浄性評価用には１５０℃にてラミネートして、それぞれ、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、実施例６においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーが含有されているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線による加工性が良好であり、また、溶剤系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
〔比較例１〕
　ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度８７．４％、粘度４．８～５．８ｍＰａ・ｓ（測定方法ＪＩＳ　Ｋ６７２６）、１０質量％水溶液）２０質量部、カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）５質量部、離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）０．０５質量部、水２０質量部、エタノール１５質量部を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、比較例１においては、赤外線に対する加工性は確保されているが、アブレーション層にアニオン性ポリマーに替えてポリビニルアルコールを用いたため、吸湿によるシワの発生があった。一方において、水系処理液での現像が可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、かかる点においては良好な評価が得られた。
〔比較例２〕
　スチレン－ブタジエン－スチレン共重合ポリマー「タフプレンＡ」（旭化成ケミカルズ株式会社製、商品名、スチレン含有量４０質量％）５質量部、カーボンブラック「＃３０」（三井化学製、粒子径３０ｎｍ）５質量部をニーダーで混練し、トルエン／酢酸エチル＝１／９の混合溶液に溶解、分散させて、５質量％の均一な液を調合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムとの積層体を得た。
　このようにして作製したアブレーション層とカバーフィルムとの積層体を、上記実施例１と同様の方法により上記（２－３－１）で作製した積層体１にラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｆ）の各評価結果を下記表２に示した。
　表２から明らかなように、比較例２においては、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線に対する加工性は確保されていた。また、水系処理液による現像は可能であったが、アブレーション層にアニオン性ポリマーに替えてスチレン－ブタジエン－スチレン共重合ポリマーを用いたため、アブレーション層のカスの版面に対する再付着が防止できなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
〔実施例７〕
　アニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ＳＧ－２０００」（株式会社鉛市製、商品名、２０質量％水溶液、吸水率１．２％、カルボン酸含有量１４質量％）：８質量部
　側鎖にエステル結合を有するポリマーとして、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度８７．４％、粘度４．８～５．８ｍＰａ・ｓの５質量％水溶液：８質量部
　カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）：７．５質量部
　接着力調整剤としてスミカフレックス「９００ＨＬ」（エチレン－酢酸ビニル共重合体、住化テムテックス株式会社製、商品名）：０．３質量部
　離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）：０．０５質量部
　水：２０質量部
　エタノール：１５質量部
を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このようにして得られたアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルムとなる約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層が形成されたカバーフィルム（カバーフィルムとアブレーション層との積層体）を作製した。
　上記（２－１－１）で作製した支持体Ａと、上記（２－３－３）で作製した積層体３とから、粘着防止フィルムを除去した後、上記で得られたカバーフィルムとアブレーション層との積層体とを、アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するようにラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　なお、上記（ｃ）耐吸湿シワ評価用、（ｄ）赤外線加工性評価用には室温で、また（ｅ）洗浄性評価用、（ｆ）アブレーション層のカスの版面への再付着の評価用には、１５０℃にてラミネートして、それぞれ、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　また、上記（ｇ）の樹脂密着力の評価については、下記のようにして評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　１１ｃｍ×１６ｃｍにカットした粘着防止フィルム付きの感光性樹脂積層体の粘着防止フィルムを除去した後、アブレーション層付きカバーフィルムを、アブレーション層が感光性樹脂と密着するようにしてラミネートした。その後、１００℃に加熱したホットプレートにカバーフィルムが加熱面に接するようにして載せ、２ｋｇの加重で２分間加熱した。その後、２分間冷却し（冷却用プレス機に冷却水を循環させ、カバーフィルムが冷却面に接するようにして載せ、加重２ｋｇで２分間冷却）、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして得られた実施例７の感光性樹脂構成体に対する上記（ｃ）～（ｇ）の各評価結果を下記表３に示した。
〔実施例８〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」の５質量％水溶液：８質量部に替えて、側鎖にエステル結合を有するポリマーとしてポリビニルアルコール「ＫＭ－１１」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度７９．２％、粘度１１．７～１４．３ｍＰａ・ｓ）の５質量％水溶液：８質量部を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例９〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」の５質量％水溶液：８質量部に替えて、側鎖にエステル結合を有するポリマーとしてポリビニルアルコール「ＫＰ－０８Ｒ」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度７３．３％、粘度６～８ｍＰａ・ｓ）の５質量％水溶液：８質量部を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１０〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」の５質量％水溶液に替えて、側鎖にエステル結合を有するポリマーとしてポリビニルアルコール水溶液「ＬＷ－２００」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度４８．５％、粘度５００～２０００ｍＰａ・ｓ、ポリマー濃度３９．７質量％の水溶液）を１質量部使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１１〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」の５質量％水溶液：８質量部に替えて、側鎖にエステル結合を有するポリマーとしてポリビニルアルコール「ＪＭＲ－１０Ｌ」（日本酢ビ・ポバール株式会社製、商品名、ケン化度３６．３％）の５質量％水溶液：８質量部を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１２〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、接着力調整剤であるスミカフレックス「９００ＨＬ」（エチレン－酢酸ビニル共重合体、住化テムテックス株式会社製、商品名）を添加しなかった。
　その他の条件は、上記〔実施例８〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１３〕
　アブレーション層形成用の塗工溶液の作製において、アニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体「ＳＧ－２０００」：８質量部に替えて、アニオン性ポリマーであるエチレン－アクリル酸共重合体を「プリマコール５９９０Ｉ」（ダウケミカル日本株式会社製　商品名、２０質量％水溶液、吸水率１．６％、カルボン酸含有量２０質量％）：８．５質量部を使用し、また、接着力調整剤であるスミカフレックス「９００ＨＬ」を添加しなかった。
　その他の条件は、上記〔実施例９〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１４〕
　支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体として積層体４を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例８〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１５〕
　支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体として積層体５を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例８〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１６〕
　支持体と感光性樹脂組成物層と粘着防止フィルムとの積層体として積層体６を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例８〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
〔実施例１７〕
　アニオン性極性官能基としてフェノール性水酸基を有するアニオン性ポリマーとして、フェノール－ホルムアルデヒドの付加縮合体（レゾール）「ＰＲ－５０６０７Ｂ」（住友ベークライト株式会社、商標名「スミライトレジン」、７０質量％水溶液、吸水率０％、フェノール性水酸基含有量１４質量％）：２．６質量部
　側鎖にエステル結合を含有するポリマーとして、ポリ酢酸ビニル「Ａ５０－Ｚ５Ｎ」（日本合成化学工業株式会社製、商標名「ゴーセニール」、ケン化度０．２％、４９．７質量％エタノール溶液）：０．８質量部
カーボンブラック「ＴＢ－８１００　ＢＬＡＣＫ」（東洋インキ製造株式会社製、商品名、１２．５質量％溶液）：１２質量部
　離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）：０．０５質量部
　テトラヒドロフラン：１５質量部
　酢酸エチル：７質量部
　酢酸セロソルブ：３質量部
を、混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このようにして得られたアブレーション層形成用の塗工液を、カバーフィルムとなる約１００μｍの厚さの離型ＰＥＴフィルム「ＭＲＶ１００」（三菱樹脂株式会社製、商標名「ダイアホイル」（ＤＩＡＦＯＩＬ））の離型処理面に、乾燥後の厚さが３μｍとなるようにコーティングし、１００℃で３分間加熱処理を施して、アブレーション層とカバーフィルムの積層体を得た。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
なお、ポリ酢酸ビニル「Ａ５０－Ｚ５Ｎ」のケン化度の測定には、完全に均一な溶液とするために、試料を約１ｇ採取し、三角フラスコに１ｍｇの桁まで正しく量り採った後、そこに水１００ｍＬと、フェノールフタレイン溶液（フェノールフタレイン１ｇをエタノール９０ｍＬに溶解し、水で１００ｍＬにした溶液）を３滴加え、加熱攪拌しながら、９０℃以上で試料を完全に溶解させる操作に替えて、試料約２ｇを採取し三角フラスコに１ｍｇの桁まで正しく量り採った後、エタノール２５ｍＬ、水２５ｍＬ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、フェノールフタレイン溶液を加えて、攪拌しながら、試料を完全に溶解させる操作を行った。それ以降は、上述の方法（ｈ）と同様にして測定を行った。
〔実施例１８〕
　ポリ酢酸ビニル「Ａ５０－Ｚ５Ｎ」に代えて、側鎖にエステル結合を有するポリマーとして酢酸セルロース「Ｌ－２０」（ダイセル化学工業株式会社製、ケン化度２１．８％）０．４質量部を使用した。
　その他の条件は、上記〔実施例１７〕と同様にして感光性樹脂構成体を作製し、評価を行った。
　酢酸セルロース「Ｌ－２０」のケン化度の測定は、完全に均一な溶液とするために、試料を約１ｇ採取し、三角フラスコに１ｍｇの桁まで正しく量り採った後、そこに水１００ｍＬと、フェノールフタレイン溶液（フェノールフタレイン１ｇをエタノール９０ｍＬに溶解し、水で１００ｍＬにした溶液）を３滴加え、加熱攪拌しながら、９０℃以上で試料を完全に溶解させ、室温まで放冷後、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液２５．００ｍＬをビュレットにて加え、十分に混合した後、室温で２時間以上保持する操作に替えて、試料を約１ｇ採取し、三角フラスコに１ｍｇの桁まで正しく量り採った後、ＴＨＦ５０ｍＬとフェノールフタレイン溶液３滴を加えて、室温で攪拌しながら、完全に溶解させ、０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液２５．００ｍＬをビュレットにて加え、さらに水を４０ｍＬ加えて十分に攪拌した後、室温で２時間以上保持する操作を行った。それ以降は、上述の方法（ｈ）と同様にして測定を行った。
〔実施例１９〕
　アニオン性極性官能基としてスルホン酸基を有するアニオン性ポリマーである、イソプレン－イソプレンスルホン酸共重合体「ＣＳ１２０１」（ＪＳＲ株式会社製、商標名「ＤＹＮＡＦＬＯＷ」、１５質量％水溶液、吸水率１５％、スルホン酸含有量２３質量％）：１２質量部
　カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）：７．５質量部
　離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）：０．０５質量部
　水：２０質量部
　エタノール：１２質量部
を混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　その他の条件は、上記〔実施例７〕と同様にして感光性樹脂積層体を作製し、評価を行った。
〔比較例３〕
　スチレン－ブタジエン－スチレン共重合ポリマー「タフプレンＡ」（旭化成ケミカルズ株式会社製、商品名、スチレン含有量４０質量％）：５質量部
　カーボンブラック「＃３０」（三井化学製、粒子径３０ｎｍ）：５質量部
　これらを、ニーダーで混練し、トルエン／酢酸エチル＝１／９の混合溶液に溶解、分散させて、５質量％の均一な液を調合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　上記のようにして得られたアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルム用の約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層が形成されたカバーフィルム、すなわちカバーフィルムとアブレーション層の積層体を作製した。
　このカバーフィルムとアブレーション層の積層体を、上記（２－３－１）で作製した積層体１の粘着防止フィルムを除去し、感光性樹脂層とアブレーション層とが接するようにラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
〔比較例４〕
　側鎖にエステル結合を有するポリマーとして、ポリビニルアルコール「ＧＬ－０５」（日本合成化学工業株式会社製、商品名、ケン化度８７．４％、粘度４．８～５．８ｍＰａ・ｓの１０質量％水溶液：２０質量部
　カーボンブラック「ＢＯＮＪＥＴ　ＣＷ－２」（オリエント化学工業株式会社製、商品名、２０質量％水溶液）：５質量部
　離型剤「ＫＦ－３５１」（信越化学工業株式会社製、商品名）：０．０５質量部
　水：２０質量部
　エタノール：１５質量部
を、混合し、アブレーション層形成用の塗工溶液を得た。
　このようにして得られたアブレーション層形成用の塗工溶液を、カバーフィルムとなる約１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム状に、乾燥後の膜厚が、３μｍとなるようにコーティングし、乾燥処理を施して、アブレーション層が形成されたカバーフィルム（カバーフィルムとアブレーション層との積層体）を作製した。
　このカバーフィルムとアブレーション層との積層体を、上記（２－３－１）で作製した積層体１の粘着防止フィルムを除去し、感光性樹脂層とアブレーション層とが接するようにラミネートし、評価用の感光性樹脂構成体を作製した。
　このようにして作製した実施例７～１９及び比較例３、４で得られた感光性樹脂構成体に対し、上記（ｃ）～（ｇ）の各評価を行い、評価結果を下記表３に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３中に示す記号は、下記の材料を示す。
　ＳＧ－２０００：エチレン－アクリル酸共重合体
　プリマコール５９９０Ｉ：エチレン－アクリル酸共重合体
　ＰＲ－５０６０７Ｂ：フェノール－ホルムアルデヒドの付加縮合体
　ＣＳ１２０１：イソプレン－イソプレンスルホン酸共重合体
　タフプレンＡ：スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体
　ＧＬ－０５：ポリビニルアルコール
　　　（日本合成化学工業株式会社製、ケン化度８７．４％）
　ＫＭ－１１：ポリビニルアルコール
　　　（日本合成化学工業株式会社製、ケン化度７９．２％）
　ＫＰ－０８Ｒ：ポリビニルアルコール
　　　（日本合成化学工業株式会社製、ケン化度７３．３％）
　ＬＷ－２００：ポリビニルアルコール水溶液
　　　（日本合成化学工業株式会社製、ケン化度４８．５％、ポリマー濃度３９．６％の水溶液）
　ＪＭＲ－１０Ｌ：ポリビニルアルコール
　　　（日本酢ビ・ポバール株式会社製、ケン化度３６．３％）
　Ａ５０－Ｚ５Ｎ：ポリ酢酸ビニル
　　　（日本合成化学工業株式会社製、ケン化度０．２％、４９．７質量％エタノール溶液）
　Ｌ－２０：酢酸セルロース
　　　（ダイセル化学工業株式会社製、ケン化度２１．８％）
　上記表３から明らかなように、実施例７～１９においては、アブレーション層に、アニオン性ポリマーと、側鎖にエステル結合を有し、ケン化度が０％以上９０％以下であるポリマーとを含有させているため、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、実用上十分に感光性樹脂組成物層とアブレーション層との密着性が高く、赤外線による加工性が良好であり、また、水系処理液で現像可能であり、アブレーション層のカスの再付着はほとんど皆無であり、実用上きわめて良好な評価が得られた。
　一方、比較例３においては、アブレーション層は吸湿によるシワの発生が無く、赤外線に対する加工性は確保されていた。また、水系処理液による現像は可能であったが、アブレーション層にアニオン性ポリマーに替えてスチレン－ブタジエン－スチレン共重合ポリマーを用いたため、アブレーション層のカスの版面に対する再付着が防止できなかった。
　比較例４においては、アブレーション層にアニオン性ポリマーを含有させなかったため、吸湿シワが発生し、また十分な樹脂密着力が得られなかった。
　本出願は、２００８年１２月１８日に日本国特許庁へ出願された、日本特許出願（特願２００８－３２１９４５）、２００９年１１月１８日に日本国特許庁に出願された、日本特許出願（特願２００９－２６３２４１）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　本発明のアブレーション層は、凸版印刷用感光性樹脂の用途に適し、フィルム・ラベル・カートン等の一般商業印刷分野において、産業上の利用可能性がある。
 
 

Claims (7)

  1. 　赤外線により加工可能な層であり、アニオン性ポリマーを含有する凸版印刷用感光性樹脂用のアブレーション層。
  2. 　前記アブレージョン層が、側鎖にエステル結合を有し、ケン化度が０％以上９０％以下であるポリマーを、さらに含有する請求項１に記載のアブレーション層。
  3. 　水系現像液により除去可能である請求項１又は２に記載のアブレーション層。
  4. 　溶剤系現像液により除去可能である請求項１又は２に記載のアブレーション層。
  5. 　赤外線吸収剤としてカーボンブラックが含有されている請求項１乃至４のいずれか一項に記載のアブレーション層。
  6. 　支持体と、
    　当該支持体の上に配設される感光性樹脂層と、
    　当該感光性樹脂層の上に配設される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のアブレーション層と、
    を、含む凸版印刷用の感光性樹脂構成体。
  7. 　凸版印刷版の製造方法であって、
    　支持体と、前記支持体の上に配設される感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の上に配設される請求項１乃至５のいずれか一項に記載のアブレーション層とを含む凸版印刷用の感光性樹脂構成体に対し、前記支持体側から紫外線照射する工程と、
    　前記アブレーション層に赤外線を照射してパターン描画する工程と、
    　前記感光性樹脂層に紫外線を照射してパターン露光する工程と、
    　現像液により前記アブレーション層及び未露光の感光性樹脂層を除去する工程と、
    を、有する凸版印刷版の製造方法。 
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